TW295680B

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Publication number: TW295680B
Application number: TW085100156A
Authority: TW
Original assignee: Tokyo Electron Co Ltd
Priority date: 1994-12-27
Filing date: 1996-01-08
Publication date: 1997-01-11
Also published as: KR960024699A; US6033475A; KR100196047B1

Description

295680 A7 B7 五、發明説明（1 ) 〔產業上之利用領域〕本發明係關於光阻處理裝置及光阻處理方法，關於在形成於例如半導體晶園之表面的光阻層供應顯像液施以顯像的顯像處理裝置及顯像處理方法。〔以往之技術〕在半導體裝置之製造中，在作爲被處理體之半導體晶圃塗布光阻，使用光刻技術而將電路圖案轉印在光阻，將此藉顯像處理來形成電路。在該顯像處理中，一般採用將顯像液從顯像液供應噴嘴供應於作爲被處理體之半導體晶圓上，並將顯像液藉其表面張力盛滿液而保持所定時間，實行電路圖案之顯像的方式。近幾年，從均勻地供應顯示液之觀點上，作爲這種方式，採用例如使用將多數噴嘴孔配列在直線上的顯像液供應噴嘴，從該噴嘴一面滲出顯像液一面低速旋轉半導體晶圓而將顯像液推廣至整體半導體晶圓的葉片型。經濟部中央標準局員工消費合作社印製 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 然而，在採用這種方式時，因一般採用將槽內之顯像液藉氮氣體向噴嘴壓送之方法，因此在將顯像液裝滿於半導體晶園上時有發生氣泡之問題。若存在這種氣泡時，貝IJ 產生顯像液未被供應之部分，結果會產生非顯像部分。〔發明欲解決之問題〕爲了解決這種問題，以往提案以減壓狀態脫泡顯像液本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐）經濟部中央標準局員工消費合作杜印製 A7 B7 五、發明説明（2) 之方法（日本專利公報資開昭6 2 — 3 7 9 2 3號），或使用破泡劑消失顯像液中之氣泡的方法（日本專利公報特開昭 61 — 259523 號）。然而，在記載於上述之實開昭6 2 — 3 7 9 2 3號公報的以減壓狀態施以脫胞之方法，藉蒸發顯像液中之水使顯像液之濃度變化。又，隨最近之電路圖案之微細化，光阻被更高性能亦即被髙解像度化，而在以往不會有問題之微細氣泡也導致顯像不良，在上述之以往脫氣方法無法充分地除去微細氣泡。本發明係鑑於上述事項而創作者，而其目的係在於提供一種不變化處理液之濃度而可除去其中之氣泡的光阻處理裝S及光阻處理方法。在此，所謂氣泡係乃包括液中之溶存氣體及流通顯像液之管中的氣體之雙方者。又，在此，所謂光阻處理乃包括光阻塗布及顯像處理者。另一目的係在於提供一種不變化處理液之澳度可除去其中之氣泡，且不會產生在顯像高解像度用光阻時成爲問題之微細氣泡而以高精度可實行光阻處理的光阻處理裝置及光阻處理方法。〔解決發明所用之手段〕. 本發明係提供一種光阻處理裝置，係屬於在被處理體供應處理液而實行光阻處理的光阻處理裝置，其特徵爲：具備在被處理體供應處理液的處理液供應噴嘴，及在該處本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 裝· 訂經濟部中央標準局員工消費合作社印製 A7 B7 五、發明説明（3) 理液供應噴嘴送出處理液的處理液送出手段，及設於該處理液送出手段與處理液供應噴嘴之間的處理液流路，及設於該處理液流路之中途且脫氣處理液的處理液脫氣機構：處理液脫氣機構係具有密閉容器，及在密閉容器內導入處理液的導入口，及具有設於密閉容器內之氣液分離機能的構件，及藉排氣密閉容器內，經由具有氣液分離功能的構件脫氣處理液而從處理液分離氣體的排氣手段，及藉具有氣液分離功能的構件將氣體被分離之處理液向處理供應噴嘴送出的送出口等。在本發明中，作爲處理液脫氣機構係具有密閉容器，及在密閉容器內導入處理液的導入口，及從密閉容器向上述處理液供應噴嘴送出處理液的送出口，及在上述密閉容器內全面設於上述導入口與上述送出口，具有流通上述處理液之氣液分離功能的複數管狀構件，及藉排密閉容器內，經由其壁部脫氣流通上述複數管狀構件之處理液，而從處理液分離氣體的排氣手段：從上述送出口被送出氣體被分離的處理液者也可以。在本發明中，作爲處理液脫氣機構係三重地配設多孔質材料所製（例如平均孔徑爲0. 2〜0. 8#m之聚四氟乙烯所製）之最小徑的第1管，及中間徑的第2管，及非多孔質材料所製之最大徑的第3管所構成；在上述第1 管之內側設有內側排氣手段，在上述第2管與上述第3管之間設有外側排氣手段，液流通形成在第1管與第2管之間的通路內者也可以。本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐)~. ρ . — (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) •裝. 訂經濟部中央標準局員工消費合作社印製 A7 B7 五、發明説明（4) 本發明係提供一種光阻處理方法，係屬於在被處理體供應處理液而實行光阻處理的光阻處理方法，其特徴爲：具備經由具有氣液分離功能之構件排氣處理液而從處理液分離氣體的過程，及將藉具有上述氣液分離功能之構件氣體被分離之處理液送出至處理液供應喷嘴的過程，及將該處理液從處理液供應噴嘴供應至被處理體的過程等。依照本發明的光阻處理裝置及光阻處理方法，因經由具有氣液分離功能之構件排氣處理液，因此處理液本體係不被排出而僅其中之氣體被分離。故儘量不變化處理液之濃度即可除去其中之氣泡（氣體成分）。又，依照本發明的光阻處理裝e及光阻處理方法，因在具有氣體分離功能之複數管狀構件內流通處理液，藉經由其壁部排氣處理液而從處理液分離氣體成分，因此氣體成分被排出之表面積變大而可極有效率地從處理液僅除去氣體成分。故不變化處理液之濃度而可除去其中之溶存氣體，且不會產生在顯像高解像度之光阻時成爲問題之微細氣泡而以高精度可實行光阻處理。亦即，在以往僅以減壓狀態脫氣之方法，無法完全地脫氣至處理液內部，處理液與被處理體相撞時則殘存在處理液中之氣體成爲微細氣泡而附著於被處理體，或在使用破泡劑來消失處理液中之氣泡之方法時也無法完全地脫氣處理液，而殘留之氣體成分形微細氣泡，惟在本發明，因經由具有氣液分離功能之複數管狀體即可有效率地僅除去氣體，因此，不變化處理液濃度即可大致完全地防止微細氣泡之發生。本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐）~ η (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 裝. 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 A7 B7 五、發明説明（5 ) 又，在本發明之光阻處理裝置中，處理液脫氣機構係以具有三重構造之多孔質管所構成時，因處理液係流通多孔質管間，可從管之內側與外側同時地可脫氣，因此即使單獨且通路爲短管，也可用高效率施行脫氣。結果，可將脫氣機構成爲小型化，而且可提高處理之均匀化，也可提高良品率。又，因將具有三重構造之多孔質管的第1管（最內層 )與第2管（中間層）形成蛇管構造，因可擴大脫氣用管與處理液之接觸面稹，因此可更提高脫氣效率。如此，在此時，通液路徑（亦即脫氣路徑）之略水平方向剖面具有略相同面積，亦即配置第1管與第2管使蛇管之山部與山部，谷部與谷部彼此間之簡距可對準，而可確保穩定之流路，亦即可防止流量之紊流，成爲可穩定地供應處理液。又，因具有平均孔徑0. 2〜0. 8之聚四氟乙烯所製之多孔質管係具有優異之耐液壓性，因此將該多孔質管使用作爲第1管及第2管，可提高用以提高脫氣效率的液比（隔脫氣膜的液測與眞空側之間的壓力差）。〔實施例〕以下，參照圖式具體地說明本發明之實施例。第1圖係表示組裝本發明之顯像處理裝e的基板之塗布。顯像處理裝置的概略圖。該塗布•顯像處理裝置主要由裝載•卸載部9 4 ，第1處理部9 5，第2處理部9 6 及曝光裝置9 3所構成。第1圖中7 1係裝載•卸載部本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X 297公釐） (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 裝- 訂1· 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 A7 B7 五、發明説明（6) 9 4之托架台。在該托架台7 1載置有收容處理前之被處理體之複數枚基板的托架C1及收容處理後之基板的托架 C2。在裝載•卸載部9 4載®有從托架C 1及C2之開口部實行基板之搬入•搬出的鑷子7 2。在第1及第2處理部之中央部分別配設有基板運送用之主臂7 3，7 4。在第1處理部9 5與第2處理部9 6之間載置有交貨台 7 5 〇在主臂7 3之運送路兩側配置有刷子洗淨裝置8 1，噴射水洗部8 2，塗布裝置8 3，黏著處理部8 4及冷卻處理部8 5，在主臂7 4之運送路兩側配置有加熱處理部 8 6及顯像處理部8 7。又，在第2處理部9 6與曝光裝置9 3之間配設鑷子9 1及交貨台9 2。在具有上述構成之塗布·顯像處理裝置，收容在卡匣 C 1內之未處理基板，係藉鑷子7 2被取出之後，交接至主臂7 3，運送至刷子洗淨部8 1內。在該刷子洗淨部 8 1內被刷子洗淨之基板，係視需要繼續在噴射水洗淨部 8 2內藉高壓噴水被洗淨。然後，基板係在黏著處理部 8 4施以疏水化處理，而在冷卻處理部8 5被冷卻之後，在塗布裝置8 5塗布形成光阻膜（亦即感光膜）。然後，在曝光裝置9 3施以曝光處理而在光阻膜轉印所定之圖案。之後，曝光後之基板係運送至顯像處理部8 7內，藉處理液脫氣機構3 0 0被脫氣的顯像液而被顯像之後，經洗濯液洗掉顯像液，藉此結束顯像處理。第2圖係表示本發明的顯像處理裝置之一實施例的模本紙張尺度適用中國國家榇準（CNS ) A4規格（210X297公釐） (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 裝. 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 295680 五、發明説明（7) 式圖。第2圖中1係表示槽。在槽1儲存有顯像液2，在槽1經由配管4連接有儲藏例如氮氣體等之壓送氣體的氣體鋼瓶3。在槽1內之顯像液2漏溃有配管5之端部，而在配管5之中途依次設有中間槽6及處理液脫氣機構7。槽1內之顯像液2係氣體鋼瓶3內之壓送氣體（例如氮氣體）經由配管4供應至槽1，通過配管5向噴嘴12壓送 0 在處理液脫氣機構7之下游側，配管5係分成配管 5 a與配管5 b，在各配管，至噴嘴1 2爲止分別依次設有流量錶8a，8b，過濾器9a，9b，水套1 Oa， 1 Ob，氣動閥1 1 a，1 lb，而在噴嘴1 2經由這些兩條配管由兩處導入顯像液。 —方面，顯像部1 3係具備吸附保持基板（例如半導體晶園）的夾頭4及旋轉夾頭1 4的馬達1 5，及圍繞保持在夾頭1 4之半導體晶圓W的盖部1 6。在上述中間槽6之外側設有例如靜電容察覺器所成之限鄭開關6 a及空載察覺器6 b，來自這些之信號輸出至未予圖示之控制器，而控制顯像液之液面位®。流通配管 5 a，5 b之顯像液之係藉流量計8 a，8 b控制流置，又藉過濾器9 a，9 b除去不純物等。又在水套1 〇 a， 1 0 b循環被調整溫度之水，藉此，控制流通配管5 a， 5 b之顯像液2之溫度。如此被處理之顯像液2係被送至噴嘴1 2，從噴嘴 1 2供應至夾頭1 4上的半導體晶圓W上而資行顯像處理本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -10 - ---------{ 批衣II (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂1· 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 A7 B7 _ 五、發明説明（8) 〇以下說明喷嘴。該噴嘴1 2係如第3圊及沿其IV — IV 線之剖面圚之第4圖所示，具有由側壁2 1及底壁2 2所規定的顯像液收容室2 3。收容室2 3之上部開口係藉蓋構件2 4予以封閉，而蓋構件2 4與側壁2 1之間係以襯墊2 5施以封閉。在盖構件2 4之兩處設有顯像液供應口 2 7，經配管5 a及5 b所送來之顯像液2經由兩個供應口 2 7供應至顯像液收容室2 3內，而被收容在其中。在底壁2 2沿著其長度方向形成有複數液吐出孔2 8，由該液吐出孔2 8顯像液2供應至半導體晶片W上。該噴嘴 12之水平方向的長度係與半導體晶圓W之直徑大致一致 0 實際上，在將顯像液2從該噴嘴12供應至半導體晶圆W時，如第5圖所示，將噴嘴1 2位在晶圓W之中央上方，一面從液吐出孔2 8將顯像液吐出至半導體晶圓W上一面藉馬達1 5將半導體晶圚W施以1/2旋轉。由此，所定厚度之顯像液2盛滿液在半導體晶圓W上。又，在該顯像液之盛滿液時，吐出顯像液之前，吐出純水而在光阻膜上形成純水之液膜較理想。如此，藉事先形成純水之液膜，可緩和因吐出顯像液對光阻膜之影響，例如可緩和初衝擊。結果，可減少起因於初衝擊等之缺陷 0 以下，說明處理液脫氣機構7。第6圖係表示處理液脫氣機構7之一例子的剖面圆。該處理液脫氣機構7係具本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐）_ ,, _ (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 裝· :—訂 1 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 A7 B7 五、發明説明（9) 備密閉容器3 1 ，及在密閉容器3 1內導入處理液2的導入口 3 2 ，及從密閉容器3 1送出處理液的送出口 3 3 ，及水平地隔開容器內而設於密閉容器3 1內之導入口 3 2 及送出口 3 3之上方的具有氣液分離功能的隔開構件3 4 ，及連接於密閉容器之上壁的排氣管3 5，及經由排氣管 3 5而排氣容器3 1內所用的眞空泵3 6。具有氣液分離功能的隔開構件3 4係與通常之多孔質體不相同，爲具有氣體可通過而液體不能通過之性質的所謂非多孔質體。作爲這種材料，係有聚四氟乙烯（ PTFE)，聚乙烯，聚碳酸酯等。藉眞空泵3 6被動作而排氣容器3 1內時，則從導入口 3 2導入至容器3 1之隔開構件3 4下之部分的顯像液，係經由具有氣液分離功能之隔開構件3 4被脫氣，而含有在該中之氣體被分離。氣體被分離之顯像液2係從送出口 3 3向噴嘴1 2送出。在設置這種處理液脫氣機構時，因經由有氣液分離功能之隔開構件而脫氣顯像液，因此不除去顯像液本體而僅可除去氣體。故不變化顯像液之澳度而可脫氣顯像液。又如上述未除去顯像液，可更强力地施以眞空脫氣，而可減少比以往所殘留之氣體量，可減低微細氣泡附著於作爲被處理體的半導體晶圓之比率。以下，參照第7圓說明的更進步的處理液脫氣機構之例子。在該例子，具有導入與第6圇同樣之顯像液2的導入口 3 2，及具備將此送出之送出口 3 3的密閉容器3 1 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐）_ _ (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 裝· —訂 1 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 A7 B7 五、發明説明（w ，與第6圖之機構同樣，具有排氣管3 5及眞空泵3 6。在該例子，代替隔開構件3 4，具備從導入口 3 2至送出口 3 3的複數管構件。該管構件3 8係具有與上述之隔開構件3 4同樣的氣液分離功能之材料。例如以P T F E所構成。藉動作眞空泵3 6而容器3 1內被排氣時，則流通管構件3 8之顯像液係經由其壁部被脫氣，而含有於其中之氣體被分離。氣Μ被分離之顯像液2係從送出口 3 3向噴嘴1 2送出。設置這種顯像液脫氣機構時，因在具有氣液分離功能之複數管構件3 8流通顯像液，經由其壁部排氣顯像液而從處理液分離氣體成分，因此可增大氣體被排出之表面稹以極優異效率可從處理液僅除去氣體成分。故不變化處理液之漉度下當然可除去其中之氣體成分，而且不會產生在顯像高解像度用光阻時成爲問題之微細氣泡而以高精度可實行顯像處理。由具有這種效果之觀點，具有氣液分離功能之管構件 3 8係細小且支數愈多較理想，內徑lirim以下，支數 1 0 0支以上較理想。使用如第1 1 A圇及第1 1B圖所示之管構件3 9也可以。亦即，在表示於第1 1圖之例子，係代替隔開構件 3 4，具備在從導入口 3 2至送出口 3 3之剖面具有複數突出部的管構件3 9。該管構件3 9係具有與上述隔開構件3 4同樣之氣液分離功能的材料，例如以PTEF之多本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X 297公釐） 13 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) -裝· 經濟部中央標準局員工消費合作杜印製 A7 B7 五、發明説明（1 孔質體所構成。藉形成這種構成，與上述管構件3 8 (平坦之管材）相比較更增加脫氣膜面稹，以高效率可實行氣體成分之除法。又，第6、7、1 1圚之處理液脫氣機構係均可有效地除去壓送氣體以外之其他不純物氣體。因此可防止產生不期望之反應，並可防止膠化等。使用具備表示於第7圖之處理液脫氣機構的顯像處理裝置，及以往之顯像處理裝置，實際在塗布高解像度光阻之8英吋晶圓上施以顯像處理，觀察顯像缺陷之結果，在以往之裝置時，以對應於晶園之最初有噴嘴位置之部分作爲中心有數十個顯像缺陷，而在具備第7圖之脫氣設備之實施例的顯像處理裝置，完全未發生顯像缺陷。由此確認本發明之效果。又，在上述例中，處理液脫氣機構設在中間槽6與流量計8a，8b之間，惟並不被限定在該位置，設在過減器9 a，9 b之下游側。例如第8圖所示，設在水套 1 Oa，1 Ob與氣動閥1 1 a，1 lb之間也可以（在圖中，以參照記號7a，7b表示）。如此，因處理液脫氣機構設在過濾器之下游側，而在通過過濾器時可捕捉大氣泡，故予測可提高脫氣能力。又，噴嘴也不被限定於上述構造者，也可爲第9圖所示之流束噴嘴4 2，或如第1 0圖所示在噴嘴本體4 3設有複數噴嘴4 4之多噴嘴型也可以。此均一面旋轉作爲被處理體之半導體晶圃W，一面直線地移動噴嘴。本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210 X 297公釐）_ 1 & (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 裝_ 訂經濟部中央標隼局員工消費合作社印製 A7 B7 五、發明説明（θ 在使用流速噴嘴及多噴嘴時，則在以往之顯像裝置容易發生微細氣泡，惟使用本發明之處理液脫氣機構，可大致完全地防止發生微細氣泡，即使顯像高解像度之光阻時也可實質上避免顯像缺陷。附帶地說，使用流束噴嘴藉以往之顯像處理裝置顯像晶圓上之高解像度光阻之結果，觀察到數百個之顯像缺陷，在以採用第7圖之脫氣機構之顯像處理裝置時完全未發生缺陷。又，使用多噴嘴藉由以往之顯像處理裝置顯像晶園上之高解像度光阻之結果，觀察一萬個以上之顯像缺陷，惟以採用第7圖之脫氣機構之顯像處理裝置顯像時，則顯像缺陷係約十數個。本發明之顯像處理方法的處理液脫氣機構之脫氣條件係考慮減壓力，光阻之種類，脫氣時間，顯像液澳度等適當地選擇較理想。例如若以過高減壓力實行脫氣時，則顯像液在環境溫度以下開始沸騰而水蒸氣化，水分會通過膜，而提高顯像液之濃度。此時，亦即提高減壓力時，如第 12圚所示，顯像處理成爲不穗定，如第12圖所示，產生線宽度狹窄之現象。又，如第1 3、1 4圖所示，藉光阻之種類（Χ，Υ，Ζ)，脫氣時間及減壓力，可知顯像液澳度（第1 3圖）或最低曝光時間（Eth)會變化。在上述實施例，作爲被處理體表示使用半導體晶圓之例子，惟並不被限定於此，例如也可以爲液晶顯示基板。其他，在不超越本發明之要旨之範圍內可作各種變形。本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（ 210X297公釐）_ 15 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 裝·

、1T 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 A7 ___B7 五、發明説明（1孑 (實施例2 ) 第1 5圊係表示本發明的顯像處理裝置之其他例子的概略樽成圖。該顯像處理裝置係主要由顯像液供應系統 1 〇 0，顯像處理部2 0 0及脫氣機構3 0 0所構成。如第1 5圖所示，顯像液供應系統1 0 0係由：儲存有顯像液的槽1 0 2，及測定顯像液之流置的流置計1 0 3，及過濾顯像液的過濾器1 0 4，及調節顯像液之溫度的溫度調節器1 0 5，及除去顯像液中之微細氣泡的脫氣機構 3 0 0，及閥1 0 6所構成。儲存在槽1 0 2內之顯像液係藉氮氣髏之壓力被推出，經流量計1 0 3，過濾器 1 0 4，溫度調節器1 0 5，而在脫氣機構3 0 0被脫氣之後，經閥1 0 6供應至顯像處理部2 0 0。第1 6圖係表示顯像處理部之概略圖。圖中2 0 2係表示上面開口，以垂直軸爲中心旋轉自如之旋轉蓋部。在該旋轉盖部2 0 2之上面開口部2 Ο 2A，設有開閉該開口部2 Ο 2A所用的蓋體2 0 4。在上述旋轉蓋部2 0 2 之底面中央部形成有開口部2 0 2 B，在開口緣連接有旋轉上述旋轉蓋部2 0 2所用的旋轉領環2 0 2 C之上綠。又在該實施例中，旋轉蓋部2 0 2及蓋體2 0 4係形成旋轉容器者。在上述旋轉蓋部2 0 2內，設有以上述垂直軸爲中心旋轉自如的旋轉載置台，成爲例如自旋夾頭2 0 6，以周緣部背面藉〇型環等之封閉構件2 0 8封閉旋轉蓋部 2 0 2底面之開口部2 Ο 2B °該自旋夾頭2 0 6係安裝本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210><297公釐）_ ~ (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 裝_ 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 A7 B7 五、發明説明（l4) 於藉例如氣動缸等之昇降機構212昇降之昇降軸214 頂部。又，上述昇降軸2 1 4係經由檢槽軸承2 1 6 ,從動帶輪2 1 8及驅動皮帶2 2 0連接於驅動帶輪2 2 2，藉自旋馬達2 2 4將旋轉驅動力附與昇降軸2 1 4 ，可旋轉上述自旋夾頭2 0 6。同樣地，上述旋轉領環2 0 2 C係經由從動帶輪 2 2 6及驅動皮帶2 2 8連接共用之驅動帶輪2 3 0。驅動帶輪2 2 2與驅動帶輪2 3 0係配設於共通軸2 3 2，藉共用之自旋馬達2 2 4附與旋轉驅動力，上述自旋夾頭 2 0 6與旋轉領環2 0 2C (因此包括旋轉蓋部2 0 2之旋轉容器）同步地旋轉。上述自旋夾頭2 0 6係於上面部具備眞空夾頭（未予圖示），具有夾住例如LCD基板（液晶顯示用之玻璃基板）的被處理體2 3 4之功能。又，眞空夾頭係經由形成於昇降軸214內之未予圖示之眞空通路而連接於外部之眞空裝置。又，在上述羞體2 0 4之中心部，用以供應顯像液所用之噴嘴2 3 6經由軸承2 3 8，裝設於上述蓋體2 0 4 成爲可相對地旋轉在上述旋轉夾頭2 0 2之旋轉軸之周圍。因此，藉下述之脫氣機構3 0 0被脫氣之顯像液係經由閥1 0 6而從上述噴嘴2 3 6僅所定置供應於被載置在上述自旋轉夾頭2 0 6上的被處理體2 3 4表面。在上述旋轉蓋部2 0 2外側，排洩蓋部2 5 0固定設於未予圖示之固定部成爲圍繞旋轉蓋部2 0 2之狀態。該本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（ 210X297公釐）_ 17 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 裝. 訂1. 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 A7 B7 五、發明説明（1马排洩蓋部2 5 0係具備將從設於旋轉盖部2 0 2之底部外緣及側部的排液孔2 5 2 A、2 5 2 B所排出之排液排出至外部的排洩孔2 5 4 ，及向徑方向內側折彎的排氣路徑 2 5 6，及連通於該排氣路徑2 5 6而連接於未予圖示之排氣裝置的排氣口 2 5 8。又，上述排氣路徑2 5 6係形成可通過比上述排洩孔2 5 4較高位置，構成排液不會蔓延至上述排氣口5 8。上述盖體2 0 4係如第1 8圖所示，構成插裝於藉昇降部2 4 0昇降之臂2 4 2 ，藉臂2 4 2之昇降可開閉旋轉蓋部2 0 2之上面開口部2 0 2A。爲了被處理體 2 3 4之搬入•搬出用另外設有運送臂2 4 4 ，自旋夾頭 2 0 0與被處理之運送臂2 4 4之間的被處理體2 3 4之交接，係蓋體2 0 4上昇而開放上面開口部2 0 2A時，自旋夾頭2 0 6藉昇降手段2 1 2從旋轉蓋部2 0 2之上面上昇，臂2 4 4在比被夾住在自旋夾頭2 0 6的被處理體2 0 6下面較低位準下進入至自旋夾頭2 0 6側。以下，一面參照第1 7圖，一面說明脫氣機構3 0 0 之一例子、如第1 7圖所示，脫氣機構3 0 0係主要由岐管部3 0 2與脫氣管部3 0 4，岐管3 0 2與脫氣管部 3 0 4係經由卡合部3 0 6裝卸自如地連接，可容易地更換因長期間之使用而產生阻塞等之脫氣管。脫氣管部3 0 4係具有可撓之三重管構造。該三重管構造係由具有可撓性之多孔質材料之最小徑的第1管 3 0 8 ，及中間徑的第2管3 1 0 ，及具有可撓性之非多

本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210X 297公釐）_ IQ (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 裝. 訂經濟部中央標準局員工消費合作社印製 295680 五、發明説明（l6) 孔質材料所製之最大徑的第3管312所構成。如上述，因第1〜第3管3 0 8、3 1 0、3 1 2係均由有可撓性之材料所構成，因此隨配置場所而可自由撓曲，具有高設計之自由度。第1管3 0 8與第2管3 1 0係具有構成節矩大致一致的蛇管構造，各該管之山部與山部，谷部與谷部彼此間成對向地定位，在這些管間形成有顯像液流通路徑3 1 4 。因此，由第1管3 0 8外側與第2管3 1 0內側所圍繞之顯像液流通路徑3 1 4之略水平方向剖面，亦即以管之中心軸作爲垂線之剖面的面稹，在蛇管部分也具有大略相同面稹，故顯像液係順利地流通，防止流量之紊亂，成爲可穂定地供應。在本實施例中，即使具有相同長度之流通行程，也可更增大管之表面積，因此可更擴大第1及第2 管3 0 8、3 1 0與顯像液之間的接觸，而採用蛇管構造，惟本發明係並不被限定於這種實施例，也可配置僅管狀地構成的第1及第2管。又，在第1管3 0 8之內側形成中空之第1脫氣路徑 3 1 6 ，在第2管與第3管3 1 2之間，形成有管狀之第 2脫氣路徑3 1 8。上述第1管3 0 8與上述第2管 310，係由平均孔徑爲〇. 2〜0. 8ym之聚回氯乙烯所製的多孔質管所構成。又，在本實施例，係使用氯乙烯作爲多孔質材料，惟此乃聚四氯乙烯係可由較簡單之軋製，延伸工程得到高精度之多孔質。然而，作爲構成第1 及第2管之材料，並不被限定於聚四氯乙烯，也可使用市本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X 297公釐） --------{装— (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂1. -19 - 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 A7 B7___ 五、發明説明（面所販賣之各種多孔質材料。在上述實施例中，使用平均孔徑爲〇· 2〜0. 8 # m之聚四氟乙烯所製之多孔質管。若平均孔徑過大，則確認爲了提高脫氣效率而施加高液壓時，管容易變形，而無法得到充分之耐液壓性之趨勢。若平均孔徑過小，則確認通氣性被妨礙，而無法得到充分之脫氣之趙勢。考慮這些時，平均孔徑0. 2〜0. 8之範圍較適當。對此，配設於最外側之第3管312係由具有可撓性惟不須要通氣，而在脫氣時具有不變形之强度的非多孔質之材料，例如PTFE以外之聚氯乙烯（PVC)，不銹鋼（SUS)，丙烯樹脂，四氯乙烯一全氟烷氧基乙烯共聚體（PFA)等之氣體不透過性之材料所構成。以下，說明岐管部3 0 2之構成。如圓示在岐管 3 0 2形成有流通顯像液的第1路徑3 2 0，及分別獨立地所構成的第2及第3路徑3 2 2、3 2 4，在岐管 3 0 2之其中一方的側部設有第1接頭3 2 6。該第1接頭3 2 6係用以連接上述第1路徑3 2 0與連通於未予圖示之顯像槽的PFA管3 2 8所用者。在岐管部3 0 2之中央下方，設有第2接頭3 3 0。該第2接頭3 3 0係用以連接未予圖示之排氣手段的例如眞空吸引裝置與上述第2路徑3 2 2所用者。該第2路徑 3 2 2係連通於形成在上述脫氣管部3 0 4之第1管 3 0 8內側的第1脫氣路徑3 1 6者，藉該第2路徑 322施以排氣，因此藉排氣第1脫氣路徑3 1 6內，即本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（ 210X297公釐）_ (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 裝· 訂 A7 B7 五、發明説明（1今可從內側脫氣流通形成在第1管3 0 8外側的顯像液流通路徑3 1 4內之顯像液而除去顯像液中之氣泡。在岐管3 0 2之另一方側設有第3接頭3 2 2。該第 3接頭3 3 2係用以連接未予圖示之排氣手段與上述第3 路徑3 2 4所用者。該第3路徑3 2 4係連通於形成在上述脫氣管部3 0 4之第2管3 1 0與第3管3 1 2之間的第2脫氣路徑3 1 8者，藉該第3路徑3 2 4施以排氣，因此藉排氣第2脫氣路徑3 1 8內，即可從外側脫氣流通形成在第2管310內側的顯像液流通路徑314內之顯像液。經濟部中央標準局員工消費合作社印製 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 如上所述，依照本發明的顯像處理裝置之脫氣機構，因從實質上形成圓筒狀流通路徑之內側與外側的兩側可同時地脫氣流通脫氣管內之顯像液等之處理液，因此，與以往之脫氣機構相比較可提高脫氣效率。又，在圖示之實施例中，表示經由單一岐管部3 0 2，將顯像液送至脫氣管部3 0 4而且從脫氣管部3 0 4施行排氣之構成，惟本發明係並不被限定於這種構成。例如也可另外構成供應顯像液之岐管部與施行排氣之岐管部，或構成從複數處施行排氣之構成也可以。又，岐管部3 0 2也設在表示於第1 7 圖之脫氣管3 0 4之另一端側，而也可從兩端排氣。以下，說明表示於第1 5圖之整體顯像處理裝®之動作。首先，如第1 8圖所示，從旋轉蓋部2 0 2上昇蓋體 2 0 4並予以打開，上昇自旋夾頭2 0 6並將例如LCD 基板之被處理體2 3 4從運送臂2 4 4交給自旋夾頭本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X 297公釐）_ - 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 A7 B7 五、發明説明（l9) 2 0 6，眞空吸附在自旋夾頭2 0 6。之後，下降自旋夾頭2 0 6並將自旋夾頭2 0 6密接於旋轉羞部2 0 2之底部。在該狀態下，將氮氣體供應至槽1 0 2，藉該氣體壓力將顯像液供應至顯像液供應系統1 0 0。被送出之顯像液係在流置計1 0 3控制流量，經過濾器1 0 4被過濾，又在溫度調節手段1 0 5調整在最適當之溫度之後，送進脫氣機構3 0 0。在脫氣機構3 0 0，如第1 7圚所示，顯像液係一面蛇行第1管3 0 8與第2管3 1 0之間一面流通之期間，從內側與外側之兩側有效率地被脫氣，而除去顯像液中之氣泡。如上所述，藉脫氣機構3 0 0被脫氣之顯像液係經由閥1 0 6，從被處理體2 3 4上方之噴嘴2 3 6藉從被處理體之中央部以噴嘴等之供應方式滴下所定量（參照第 1 9 圇）° 之後，驅動馬達2 2 4，則藉皮帶2 2 0、2 2 8，旋轉領環2 0 2 C與昇降軸2 1 4以相同轉速底速旋轉。結果，旋轉蓋部2 0 2與自旋夾頭2 0 6以相同轉速同步地旋轉，被處理體2 3 4上之顯像液藉離心力被放大而覆蓋被處理體2 3 4之表面，藉此施行被處理體之顯像處理。然後，一面高速旋轉，一面供應洗濯液，洗掉顯像液而結束顯像處理。在這種處理時，藉離心力所吹散之剩餘的顯像液係經由設於旋轉蓋部2 0 2之底部外緣及側部的排液孔 2 5 2A、2 5 2B排出至排洩蓋部2 5 0內，而由設於本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐）_ π (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 裝· A7 B7 五、發明説明（2q) 排洩羞部2 5 0底部之排洩口 2 5 4排出口 2 5 4排出至外部。上述實施例之各部之構造，形狀等係一例子而可施行各種變更及修正。例如上述實施例係列舉在L C D基板塗布顯像液之裝置加以說明，惟本發明係對於半導體晶園等之其他被處理體塗布例如塗布液之各種處理液的裝置也可適用。又在上述實施例中，說明作顯像裝置2 0 0之構成可同時地旋轉旋轉盖部2 0 2與被處理體2 3 4的蓋部旋轉式者，惟也可以蓋部係固定而被處理體旋轉的旋轉式所構成。如此，依照本實施例因處理液係流通三重構造地所構成的多孔質管之中間部，可從脫氣用管之內側與外側同時地脫氣，因此即使爲單獨且路徑短之短，也可以高效率地施行脫氣。結果，可將脫氣機構形成小型，而且可提高處理之均匀化，也可提高良品率。經濟部中央標準局員工消費合作社印製 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 又，上述實施例1及2係可適當地組合加以實施。又，在上述實施例中，說明作爲處理液使用顯像液之情形，惟本發明係也可適用於處理液爲光阻液之情形。在此時，因在光阻液未含有揮發性液體，故藉脫氣也可調整光阻液之澳度或粘度。如上所述，依照本發明，因經由具有氣液分離功能之構件排氣處理液，因此不排出處理液本體而僅分離其中之氣體成分。故提供一種不變化處理液之澳度下可除去其中之氣泡的光阻處理裝S及光阻處理方法。本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐）—23 - A7 ____ B7 五、發明説明（21) 又，依照本發明，因在具有氣體分離功能之複數管狀構件內流通處理液，藉經由其壁部排氣處理液而從處理液分離氣體成分，因此氣體成分被排出之表面稹變大而可極有效率地從處理液僅除去氣體成分。故不變化處理液之濃而可除去其中之溶存氣體，且不會產生在顯像高解像度之光阻時成爲問題之微細氣泡而以高精度可實行光阻處理的光阻處理裝置及光阻處理之方法。〔圓式之簡單說明〕第1圖係表示組裝本發明的顯像處理裝e之塗布·顯像處理裝置的概略圖。第2圖及第8圖係表示本發明之顯像處理裝置的模式圚0 第3圖係表示使用於表示在第2圖的顯像處理裝置之噴嘴之構造的剖面圖。第4圖係表示沿著表示於第3圖之噴嘴之IV — IV線的剖面圖。經濟部中央標準局員工消費合作社印製 --------{裝-- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 第5圖係表示用以說明噴嘴之顯像液供應動作所用的圚式。第6圖及第7圖係表示使用在表示於第2圖的顯像處理裝置之處理液脫氣機構之一例子的剖面圚。第1 1 A圖係表示使用於表示在第2圖的顯像處理裝置之處理液脫氣機構之其他例子的剖面圖。第1 1 B圚係表示沿著表示於第1 1 A圖的處理液脫本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） 24 A7 Β7 五、發明説明（2与氣機構之X I B — X I B線的剖面圇。第1 2圖係表示使用於本發明的顯像處理裝置之處理液脫氣機構之脫氣時間與線宽之間的關係圖表。第1 3圖係表示使用於本發明的顯像處理裝置之處理液脫氣機構之脫氣時間與顯像液濃度之間的關係圖表。第1 4圖係表示使用於本發明的顯像處理裝置之處理液脫氣機構之脫氣時間與最低曝光時間之間的關係圇表。第1 5圖及第1 6圖係表示本發明的顯像液脫氣機構部分的放大圖。第1 7圖係表示本發明的顯像處理裝置之處理液脫氣機構部分的放大圖。第1 8圚係表示用以說明本發明的顯像處理裝置之蓋體之開閉及被處理體之交接所用的圚式。第1 9圖係表示用以說明本發明的顯像處理裝置之作用所用的圖式。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 裝- 經濟部中央標準局員工消費合作社印製本紙張尺度適用中國國家標準-(CNS) Μ規格（ 210X 297公釐）_ &

Claims

六、申請專利範圍 1 . 一種光阻處理裝置，係屬於在被處理體供應處理液而實行光阻處理的光阻處理裝e，其特徵爲：具備在被處理體供應處理液的處理液供應噴嘴，及在該處理液供應噴嘴送出處理液的處理液送出手段，及設於該處理液送出手段與處理液供應噴嘴之間的處理液流路，及設於該處理液流路之中途且脫氣處理液的處理液脫氣機構等。 2. 如申請專利範圍第1項所述之裝置，其中，上述處理液脫氣機構係具有：密閉容器，及在密閉容器內導入處理液的導入口，及具有設於密閉容器內之氣液分離機能的構件，及藉排氣密閉容器內，經由具有氣液分離功能的構件脫氣氣處理液而從處理液分離氣體的排氣手段，及經濟部中央標準局員工消費合作社印製 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 藉具有氣液分離功能的構件將氣體被分離之處理液向處理供應噴嘴送出的送出口等。 3. 如申請專利範園第2項所述之裝β，其中，上述具有氣液分離功能的構件係具有氣體可通過而液體不通過之性質的非多孔質體者。 4 ·如申請專利範圍第3項所述之裝置，其中，上述非多孔質體係由聚四氟乙烯，聚乙烯及聚碳酸酯所構成之群所選擇之一種材料者。本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公楚) ~ 26 ~ ABCD 經濟部中央標準局員工消費合作社印製、申請專利範圍 5_如申請專利範園第1項所述之裝置，其中，上述處理液脫氣機構係具有：密閉容器，及在密閉容器內導入處理液的導入口，及從密閉容器向上述處理液供應噴嘴送出處理液的送出口，及在上述密閉容器內全面設於上述導入口與上述送出口，具有流通上述處理液之氣液分離功能的複數管狀構件，及藉排氣密閉容器內，經由其壁部脫氣流通上述複數管狀構件之處理液，而從處理液分離氣體的排氣手段：從上述送出口被送出氣餅被分離的處理液者。 6 .如申請專利範圍第5項所述之裝置，其中，上述複數之管狀構件係具有1mm以下之內徑者。 7. 如申請專利範圍第5項所述之裝置，其中，上述複數之管狀構件係1 0 0支以上者。 8. 如申請專利範園第1項所述之裝置，其中，上述處理液脫氣機構係具有：密閉容器，及在密閉容器內導入處理液的導入口，及從密閉容器向上述處理液供應噴嘴送出處理液的送出口，及在上述密閉容器內全面設於上述導入口與上述送出口，沿著具有流通上述處理液之氣液分離功能之管軸方向所本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210X297公釐） _ 27 _ (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) t T ABCD 經濟部中央標準局員工消費合作社印製六、申請專利範圍形成之具有複數突出部的管狀構件，及藉排氣密閉容器內，經由其壁部脫氣流通複數管狀構件之處理液，而從處理液分離氣體的排氣手段；從上述送出口被送出氣體被分離的處理液者。 9.如申請專利範圍第8項所述之裝置，其中，上述管狀構件係由多孔質體所構件者。 1 0.如申請專利範圍第1項所述之裝置，其中，上述處理液脫氣機構，係具有：具有第1徑，由多孔質材料所製的第1管，及具有比第1徑大之第2徑，由多孔質材料所製的第2 管，及具有比第2徑大之第3徑，由非多孔質材料所製的第 3管，及設於上述第1管內側的內側排氣手段，及設於上述第2管與上述第3管之間的外側排氣手段：處理液流通在形成於上述第1管與上述第2管之間的路徑內者。 1 1.如申請專利範園第1 0項所述之裝置，其中，上述多孔質材料之平均孔徑爲0. 2〜0. 8#m者。 12. 如申請專利範困第10項所述之裝置，其中，上述多孔質材料爲聚四氟乙烯或甲基戊烯樹脂者。 13. 如申請專利範圍第10項所述之裝置，其中，上述非多孔質材料係由聚四氟乙烯，聚氯乙烯，不銹鋼，丙烯樹脂及四氟乙烯一全氟烷氧基乙烯共聚體所構成之群 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) T 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210X297公釐） -28 · ABCD 經濟部中央標準局員工消費合作社印製六、申請專利範圍所選擇的材料者。 1 4 .如申請專利範園第1項所述之裝置，其中，上述處理液供應噴嘴係流束噴嘴或多噴嘴者。 1 5 . —種光阻處理方法，係屬於在被處理體供應處理液而實行光阻處理的光阻處理方法，其特徵爲：具備經由具有氣液分離功能之構件排氣處理液而從處理液分離氣體的過程，及將藉具有上述氣液分離功能之構件氣體被分離之處理液送出至處理液供應噴嘴的過程，及將該處理液從處理液供應噴嘴供應至被處理體的過程等。 1 6.如申請專利範圍第1 5項所述之方法，其中，在從處理液分離氣體時，考慮由減壓力，光阻之種類，脫氣時間，及顯像液澳度所構成之群所選擇之至少一種來設定排氣之條件者。 1 7 .如申請專利範圍第1 5項所述之方法，其中，具備在將處理液從處理液供應噴嘴供應於被處理體之過程前，將純水從處理液供應噴嘴供應於被處理體的過程者。 1 8 . —種光阻處理方法，係屬於在被處理體供應處理液而實行光阻處理的光阻處理方法，其特徵爲：具備在具有氣液分離功能的複數管狀構件的流通處理液的過程，及藉將流通上述管狀體內之處理液經由其壁部予以排氣而從上述處理液分離氣體的過程，及 ....................一裝 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁)

本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210X297公釐) -29 - A8 B8 C8 D8 六、申請專利範圍藉上述管狀構件將氣體被分離之處理液送出至處理液供應喷嘴的過程，及將該處理液從處理液供應噴嘴供應至被處理體的過程等。 1 9 ·如申請專利範圍第1 8項所述之方法，其中，在從處理液分離氣體時，考慮由減壓力，光阻之種類，脫氣時間，及顯像液濃度所構成之群所選擇之至少一種來設定排氣之條件者。 2 0 .如申請專利範園第1 8項所述之方法，其中，具備在將處理液從處理液供應噴嘴供應於被處理體之過程前，將純水從處理液供應噴嘴供應於被處理體的過程者。 (請先閲讀背面之注意事項再塡寫本頁) -裝訂線經濟部中央標準局員工消費合作杜印製本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210X297公釐） _ 30 _