TW398039B - Apparatus and method of separating sample and substrate fabrication method - Google Patents

Description

經濟部中央標牟局貝工消费合作社印«. A7 B7_五、發明説明（彳) 發明領域 本發明有關一種分離一樣本之裝置及方法，及一基體 製造方法，詳言之*有關一種分離一具有一內部脆弱結構 的樣本的裝置及方法，以及使用該分離裝置的基體製造方 法》 習知技術的敘述 已知一種具有一SOI ( Silicon On Insulator，在絕緣 體上之矽）結構的基體，其爲在一絕緣層，上具有一單晶 S i層的基體。使用此S 0 I基體的裝置具有許多優點， 其無法由原始S i基體所達成。優點之舉例如下· (1 )由於電介質分離容易，積體程度可被增加。 (2 )幅射阻抗可被增加。 (3 )由於雜散電容小，裝置的工作速度可被增加。 (4)無需施以井步驟。 (5 )可防止閂鎖。 (6 )完全空乏場效電晶體可由薄膜格式而被形成。 由於S 0 I結構具有以上個種優點，在近幾十年來在 其形成方法上已有廣泛的硏究。 SOI 技術中的一種，爲 SOS ( Silicon On Sapphire ，碟上砂）技術，其中S i被以CVD ( Chemical Vapor Deposition化學蒸氣沈積）在一單晶磷基體上作六角延生， 該技術已習知多年。此種S 0 S技術目前被公認爲最成熟 的S 0 I技術。但是，由於例如大置的結晶缺陷係由以在 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 本纸張尺度速用中國国家標準（CNS ) A4規格（210X297公羹） -4- 經濟部中央橾準局負工消费合作社印掣 A7 __B7_ 五、發明説明（2 ) S i層及形成混合在S i層中的磷基體的底層磷基體的 S i層及其下磷基體，鋁間的格狀誤配所產生，基體的昂 貴，以及其難以獲得一大面積，使其未被實際運用。 在SOS技術之後出現一種S IMOX ( Separation by ion Iuplanted Oxygen *由離子佈植氧達成分分雔）技術β 此S I MO S技術的個種方法被嚐試以，例如，降低結晶 缺陷及製造成本。例子之一爲藉由將氧離子植入一基體而 埋藏氧化物層的方法，及以夾在其間的一氧化物膜將兩晶 圓黏合並在氧化物膜下降由一對晶圔拋光或蝕刻而留下一 薄單晶S i層。另一例子爲一種方法，其中氫離子被由其 上形成有一氧化物膜的一 S i基體的表面植入至一預定深 度，所得的基體被黏合至另一基體，且另一基體藉由一熱 處堙或類似者作剝除以使在氧化物膜留有一層薄單晶S i 層。 在日本專利公開案第5 — 2 1 3 3 8號中揭示一種新 式S 0 I技術。在此技術中，一藉由在具有一多孔層的一 單晶半導體基體上形成一非多孔單晶層而得的第一基體經 由一絕緣層（S i 〇2)被黏合至一第二基體，且該二基體 被自多孔層分離以將非單晶層傳送至第二基體。此技術之 優點爲在S 0 I層中的結晶缺陷密度可被減少，S 0 I餍 具有高表面平坦性，無需昂貴的特殊製造裝置，以及具有 約數百A至：L Ομιη厚的SO I膜的SO I基體可由相同 的製造裝置而被製出。 再者，在日本專利公開案第7 — 3 0 2 8 8 9號中揭 本紙張ΛΑΑ财8111家科（CNS ) A4«UM 210X297公釐)Ζ " (請先閱讀背面之注f項再填寫本頁) 裝. 訂 A7 B7 Μ濟部中央標準扃負工消费含作社印«. 五、發明说明（3 ) 示另一技術。其中，在上述的第一及第二基體被黏合後， 第一基體在不被破壞的情形下被自第二基體分離，且所分 離的基體藉由將表面平滑化而重用以再度形成一多孔層。 由於第一基體可被經濟地使用，此技術具有大量降低製造 成本及減化製造程度的優點· 但是在以上的技術中，當兩個已黏合基體被分離時， 其必需避免對基體的損害以及防止製造裝置及類似者受到 由p子產生所引起的污染。 發明槪要 本發明在考慮以上情形之下，其目的爲提供一裝置及 —方法適用於將諸如一基體的樣本分離的裝置及方法，構 成該分離裝置的組件，及使用該分離裝置的基體製造方法 〇 一種依照本發明的樣本分離裝置係一種用於分離具有 —內部脆弱結構的樣本的分離裝置，其特徵爲包含一噴酒 單元用以噴灑一液體或氣體的噴劑，及一導引單元用以將 噴灑單元的液體或氣體噴劑集中於樣本的脆弱結構，其中 該樣本被自脆弱結構分離。 在上述的分離裝置中，導引單元宜將噴灑自噴灑單元 的液體或氣體噴劑藉由減少噴劑的寬度至一預定寬度而集 中至樣本的脆弱結構。 在上述分離裝置中，宜使導引單元具有一用以減少噴 灌自噴灑單元的液體或氣體噴劑的寬度的孔，且該孔的入 n n ^^1 H· ί I \1 / * (請先Η-讀背面之注意寧項再填寫本頁 訂- 本紙ft尺度適用中•國家橾準（CNS ) Α4规格（210X297公釐） -6- A7 B7 經濟部中央橾準局負工消Ϊ0作社印*. 五、發明说明U ) 口的寬度較噴灑自噴溷單元的液體或氣體噴劑的寬度爲大 〇 在上述的分離裝置中，宜使將被分離的樣本具有一向 脆弱結構的外部暴露部份凹陷的槽，且該孔的出口之寬度 教該槽的寬度爲小· 在上述分離裝置中，將被分離的樣本宜具有一向該脆 弱結構的外部暴露部份凹陷的槽。 在上述分離裝置中，該槽宜具有一實質V形截面》 上述分離裝置宜進一步包含一調整機構用以調整導引 單元及樣本間的位置關係。 在上述分離裝置中，調整機構宜藉由移動導引單元調 整導引單元及樣本間的位置關係。 上述分離裝置宜進一步包含一調整機構用以調整導引 單元及樣本間的位置關係，及調整單元調整導引單元及樣 本間的位置關係以將導引單元噴灑入槽中的液體或氣體噴 劑集中。 在上述分離裝置中，調整機構宜藉由移動導引單元調 整導引單元及樣本間的位置關係* 上述分離裝置宜進一步包含一用以支持樣本的支持機 構。 在上述分離裝置中，樣本的脆弱結構宜被自一實質平 坦平面分離.，且支持機構支持該樣本以將噴灌經導引單元 的液體或氨體噴劑以脆弱結構的平面方向傳送。 在上述分離裝置中•支持單元宜包含一旋轉機構用以 ----------二裝-- {請先聞讀背面之注f項再填寫本頁) 訂 本纸張尺度適用中國國家糅準（CNS ) A4规格（210X297公釐） 經濟部中央樣隼局貝工消费合作社印簟 A7 _B7五、發明说明（5 ) 將樣本繞著一以與脆弱結構的平面實質垂直的方向設置的 軸旋轉，且在旋轉該樣本時支持該樣本。 在上述分離裝置中，導引單元宜設於一用以支持該樣 本的支持單元中。 在上述分離裝置中，支持單元宜包含兩個固持單元用 以藉由自樣本的兩側甜夾樣本，且導引單元由該兩固持單 元的相對部份間的一間隙所形成· 在上述分離裝置中，該兩個固持單元的相對部份中宜 形成傾斜表面，且該相對傾斜表面將自噴灑單元噴灌的液 體或氣體噴劑藉由將噴劑的寬度減爲一預定宽度而集中至 樣本的脆弱結構。 在上述分離裝置中，將被分離的樣本宜具有一碟形狀 ，該兩固持單元的相對部份形成圓形緣，且該樣本被固持 於該緣的內側。 在上述分離裝置中，固持單元宜將樣本固持以藉由液 體或氣體的壓力將樣本包覆* 在上述分離裝置中，支持機構宜包含一固持單元用以 固持一基體作爲一將被分離的樣本· 在上述分離裝置中，該兩個固持單元宜爲用以一基體 以做爲將被分離的固持單元。 在上述分離裝置中，基體宜具有一多孔層做爲一脆弱 結構。 ， 依照本發明的導引裝置爲一液體或氣體導引裝置，其 被應用於藉由噴灑一液體或氣體噴劑而分離一具有一內部 本紙張;υΐϋ 用中 ( CNS 21GX297 公嫠)Z ^ n 1^1 »n n - -- n - IN —i K I— ai^ .ΗΜ-·«ΛΚ (請先sif背面之注意事項再填寫本頁) M濟部中夾標率局負工消费合作社印*. A7 B7_五、發明説明（β ) 脆弱結構的方法，其特徵爲包含一導引單元用以將一噴灌 自噴灑單元的液體或氣體噴劑集中至樣本的脆弱結構。 在上述導引脆弱結構中，導引單元宜藉由將噴劑的寬 度減爲一預定寬度而將噴灌自噴灑單元的液體或氣體噴劑 集中至樣本的脆弱結構。 在上述導引裝置中，宜使導引單元具有一用以減少噴 灑自噴灑單元的液體或氣體噴劑的寬度的孔*且該孔的入 口的寬度較噴灑自噴灑單元的液體或氣髖噴劑的寬度爲大 〇 在上述的導引裝置中，宜使將被分離的樣本具有一向 脆弱結構的外部暴露部份凹陷的槽，且該孔的出口之寬度 教該槽的寬度爲小。 在上述導引裝置中，將被分離的樣本宜具有一向該脆 弱結構的外部暴露部份凹陷的槽。 在上述導引裝置中，該槽宜具有一實質V形截面。 在上述導引裝置宜進一步包含一連接單元用以與一樣 本分離裝置連接，該裝置包含噴灑單元及一固持機構用以 固持該樣本，及一調整機構用以調整導引單元及樣本間的 位置關係。 依照本發明的一樣本支持裝置爲一應用於藉由噴灌液 體或氣體噴劑而分離具有內部脆弱結構的樣本的方法的樣 本支持裝置《，其特徴爲包含兩個固持單元用以藉由鉗夾樣 本的兩側以固持該樣本，其中用以將噴灑自一噴灑單元的 液體或氣體噴劑集中至樣本的脆弱結構的一導引單元係由 <請先聞讀背面之注意事項再填寫本頁) 裝· 訂 本纸張尺度逍用中國國家揉準（CNS M4洗格（2丨0X297公釐） -9 - 經濟部中央標準局貝工消费合作社印隶 A7 B7_五、發明说明（7 ) 兩固持單元的相對部份間的間隙所形成。 在上述支持裝置中，該兩個周持單元的相對部份中宜 形成傾斜表面，且該相對傾斜表面將自噴灌單元噴灑的液 體或氣體噴劑藉由將噴劑的寬度減爲一預定寬度而集中至 樣本的脆弱結構。 在上述支持裝置中，將被分離的樣本宜具有一碟形狀 ，該兩固持單元的相對部份形成圆形緣，且該樣本被固持 於該緣的內側。 在上述支持裝置中，固持單元宜將樣本固持以藉由液 體或氣體的壓力將樣本包覆。 在上述支持裝置中，將被分離的樣本宜具有一向脆弱 結構的一外部暴露部份的一槽。 在上述支持裝置中*該槽宜具有實質V形截面。 在上述支持裝置中，將被支持的樣本宜爲一基體· 在上述支持裝置中，基體宜具有一多孔層作爲一脆弱 結構。 依照本發明的一樣本分離方法之特徵爲利用上述分離 裝置將一樣本自一脆弱結構分離· 在上述的分離方法中，宜使用水做爲噴灑自噴灑單元 的液體。 依照本發明的一基體分離方法爲一分離方法，其中藉 由：將一具有其上實質形成有一多孔層及非多孔層的一表 面的第一基體的非多孔餍與一第二基體黏合而形成的一基 體叠層被自多孔層分離，其特徴爲上述分離裝置被用於該 —n^i I I In - 1 m V m amm 1_1 I I— f-.·. {請先閲讀背面之注再填寫本頁) 本纸張尺度遑用中國國家揉率（〇邮>六4規格（2丨〇父297公漦> -10- 經濟部中央揉隼局貝工消费合作社印装 A7 B7 _五、發明説明<8 ) 分離過程中· 依照本發明的一基髏製造方法爲一基體製造方法，包 含將一第一基體，其具有一其上實質形成有一多孔層及非 多孔層的表面，與一第二基體黏合之步揉•及將該經黏合 的基體叠層自多孔餍分離的步驟，其特徵爲上述分離裝置 被使用於該分離步驟中。 依照本發明的另一分離裝置爲一分離裝置用以分離一 具有內部脆弱結構的板狀樣本，其特徵爲包含一支持機構 用以支持該板狀樣本，及一噴溷單元用以將液體或氣體噴 劑噴灑至由支持機構所支持的板狀樣本的脆弱結構上，其 中該支持機構支持該板狀樣本以便藉射至板狀樣本的液體 或氣體噴劑的壓力將板狀樣本的周邊包圍。 本發明的其它目的，功效及優點在參照所附圖式由以 下本發明的實施例的詳細敘述後將變得更爲淸楚。 圖式的簡要敘述 圖1 A至1 E爲依步驟順序解釋依照本發明的較佳實 施例的一 S 0 I基體的製造方法之圈； 圖2爲顯示依本發明的較佳實施例的分離裝置的備置 之略圖的截面圖； 圖3至5爲顯示一導引單元，一噴嘴，及一經黏合的 基體叠層之放大圖； 圖6爲顯示黏合介面自噴嘴的中央脫離的情形之圖； 圖7爲顯示導引單元的另—截面之圖： (請先Μ请背面之注意事項再填寫本頁) 本紙ft尺度逍用中國國家揉率（CNS ) Α4洗格（2】0Χ297公釐） •11 五、發明説明（9 ) 經濟部中央標準局属工消费合作杜印製 圖8爲顯示導引單元的另一截面之圖； 圖9至11爲顯示依照第二備蠹的分離裝置的導引單 元的配置略圖之圖； 圖12爲顯示依照第三備置的分雔裝置的導引單元的 配置略圔之圖； 圖1 3A及1 3 B爲簡要顯示作用在具有V形槽之基 體叠層之力與作用在具有V形槽的經黏合基體叠層上之力 間之差異的圖》 主要元件對照表 10、10'、10'、10·"第一基體 11 單晶矽基體 12、 12，、 12， 多孔矽層 13 非多孔單晶矽層 14 單晶矽層 15 絕緣層 20 第二基體 10 0. 1 0 0 ^ 分離裝置 401 支持基座 4 0 2 馬達 403、 408 旋轉馬達 4 0 4., 4 0 4 ^ 基座固持器 405、407 軸承 4 0 6. 4 0 6 ^ 基座固持器 (請先S*讀背面之注意事項再填寫本頁) 本紙張尺度逍用中國_家摞準（CNS ) A4*l格（210X297公t ) -12- B7五、發明説明（10 ) 409 壓縮彈簧 410 活塞桿 4 11 氣缸 412 定位軸 4 12a 槽 4 13 軸承 4 14 軸承 經濟部中央標準局貝工演费合作社印裂 4 1 5 、4 1 5 / 、4 1 4 1 7 馬達 4 1 8 噴嘴 4 1 9 泵 4 2 0 黏合基 體叠層 4 2 0 a 基體 4 2 0 b 多孔層 4 2 0 c 基體 4 2 0 d V形槽 4 3 0 噴劑 4 0 4 a 導引表 面 4 0 4 b 圖形槽 4 0 6 a 導引表 面 4 0 6 b 圓形槽 4 1 5 、、a、 4 15 a 、 4 1 5 b、 4 15 b ' • 導引單元 415c、 415c' 4 15a" 孔 15b" 射出開口 15c" 孔 (請先Μ讀背面之注意事項再填寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家標率（（：1^)厶4規格（2丨0父297公釐） -13- A7 B7 «濟部中央棣準局貝工消费合作杜印掣 五、發明説明（H ) 415d、 415d/、 415d， 射出開口 較佳實施例之詳細敘述 本發明的一較佳實施例將參照所附圖式被敘述於下。 圖1A至1E爲依步驟解釋依照本發明的一較佳實施 例的S 0 I基體的製造方法之圖， 在圖1 A中所示的步騍中，製備一單晶矽基體1 1， 且多孔矽層12藉由例如陽極化方式被形成於該單晶矽基 體11的表面上。結果，在如圖1B所示的步驟中，一非 多孔單晶矽層1 3藉由外延生長被形成於多孔矽層1 2上 。結果，一第一基體1 0被形成。 在圖1 C中所示的步驟中，一第二基體2 0藉由在一 單晶矽層1 4的表面上形成一絕緣層（例如一S i 〇2層） 而被備製。第一基體1 0及第二基體2 0在室溫下接觸使 非多孔單晶矽層1 3及絕緣層1 5互相相對•此後，第一 及第二基體1 0及2 0藉由陽極化，施壓，加熱或組合這 這些方式而加以黏合*藉著這些程序，非多孔單晶矽層 13及絕緣層15被緊密黏合·應注意絕緣層15可如上 述地被形成於任一單晶矽層1 4上，非多孔單晶矽層1 3 上及兩者上。亦即，當第一及第二基體被相互接觸時僅需 取得圖1 C中所示的狀態。 在圖1D中所示的步騍中，該兩黏合基體被自多孔矽 層1 2分離。所得的第二基體（1 0# + 20)側具有一 包括多孔矽層1 2〃 /單晶矽層1 3/絕緣靥χ 5/單晶 (讀先閱讀背面之注$項再填寫本頁) 裝. 訂 本纸張尺度逍用中國國家揉準（CNS ) Α4Λ格（2丨0X297公羡） •14· Α7 Β7 鯉濟部中央標準扃貝工消费合作社印簟 五、發明説明（12 ) 砂層1 4之結構。另一方面，第一基髏（1 〇 β )側在單 晶層基體1 1上具有一多孔層1 2 — · 分離後的第一基體（1 0 >)被當成單晶矽基體1 1 重新使用以藉由移除殘餘多孔矽層1 2 —並在所需要之表 面做楊化處理以形成第一基體（10)。 在圖1 Ε中所示的黏合後基體被分離的步驟中，在第 二基體（1 0’ + 2 0)的表面上的多孔層1 2，被選擇 性地除去。其結果爲一具有包括單晶矽層1 3/絕緣層 1 5/單晶矽基體1 4之叠層結構的基體，亦結具有一 S 0 I結構。 在圖1 D中所示的步驟中，亦即在將兩黏合基體（以 下稱爲黏合基體叠層）分離的步驟中，此實施例使用一分 離裝置用以將兩基體藉由選擇性地將高壓液體或氣體噴灑 在分離區上而自一作爲分離蓝的一多孔政層分離。 〔分離裝置的第一備置〕 圖2爲顯示依照本發明的較佳實施例的分離裝置的槪 略備置的截面圖。此分離裝置使用一水噴劑方法。一般而 言，水噴劑方法噴灑一高速、高壓流至一物體上以達成例 如將一塗覆膜自表面移除，或淸洗表面之處理水噴劑 "9第一冊，第一部，第4頁）。 此分離裝置以基體叠層的平面方向噴涵一高速、高壓 的液體或氣體流於一黏合基體叠餍的一多孔層（分離區） 上，使選擇性地將多孔層打散並將基體叠層自多孔層分離 —--------/Ά— <請先閱ir背面之注f項再填寫本頁 訂· 本纸張尺度適用中國國家揉準（CNS ) A4规格（2丨OX297公 -15- A7 B7 經濟部中央樣準局貝工消费合作社印«. 五、發明説明（13 ) 。在以下的敘述中，此流將被稱爲一~噴劑# ，且形成此 噴劑的液體或氣體將被稱爲一^噴劑媒體'•噴劑媒體可 爲水，如酒精之有機溶劑，如氟酸或氮酸之酸、氫化之 鹼，或如空氣、氮氣、碳酸氣、稀有氣體或蝕刻氣體之氣 體。 分離裝置10 0具有包括其空夾頭的基體固持器 404及406。這些固持器404及406藉由自兩側 鉗夾黏合基體叠層4 2 0而固持一黏合基體叠層4 2 0。 該黏合基體疊層4 2 0具有一多孔層4 2 0 b作爲一內部 脆弱結構。該分離裝置1 0 0將黏合基體疊層4 2 0自多 孔層420b分離爲兩基體420a及420c。在此分 離裝置1 0 0中，黏合基體叠層4 2 0被設定以使基體 4 2 0 a對應於圖1中的第一基體（1 〇 >)且基體 4 20c對應於圚1中的第二基體（1〇# + 20)。 基體固持器4 0 4被連接至經由一軸承4 0 5由一支 持基座4 0 1所可旋轉軸向支持的旋轉軸4 0 3的一端》 該旋轉軸4 0 3的另一端被連接至一馬達4 0 2的旋轉軸 。因此，由基體固持器4 0 4之真空吸附所固持的黏合基 體叠層4 2 0由馬達4 0 2所產生的固持力所固持·在該 黏合基體叠層4 2 0的多孔層中，馬達4 0 2以依照來自 一控制器（未顯示）的指令之指定固持速度將旋轉軸 4 0 3固持、。 基體固持器4 0 6被連接至經由一軸承4 0 7由支持 基座4 0 1所可旋轉地軸向支持的一旋轉軸4 0 8之一端 I.-------'装 — (讀先§背面之注$項再填J5本頁 訂 本纸張尺度遑用中國國家糅準（CNS } A4規格（210X297公瘦} -16- 經濟部中央梂準局工消費合作社印装 A7 * ______B7__五、發明説明（14 ) 。一壓縮彈簧4 0 8被接附於旋轉軸4 0 8的另一端上· 因此，壓縮彈簧4 0 9將黏合基體叠層4 2 0 a偏置向其 中基體4 2 0 a及4 2 0 c被互相分離的一方向（x軸方 向）上。結果，當黏合基體叠層4 2 0由來自噴嘴4 1 8 的噴劑分離爲基體420a及420c時，420a以X 軸方向自基體420c被移開。 當黏合基體叠層4 2 0被維持未分離時，旋轉軸 4 0 3旋轉力經由基體疊層4 2 0被傳送至基體固持 406。結果，旋轉軸403，基體固持器404，黏合 基體叠層420，基體固持器406，旋轉軸408，及 壓縮彈簧4 0 9—體旋轉。當黏合基體*層4 2 0被分離 爲二基體時，旋轉軸408的旋轉停止。 —氣缸4 1 1被連接至旋轉軸4 0 8的後端（以X軸 方向當黏合基體叠層420由基體固持器404及 4 0 6所固持時，此氣缸4 1 1的一活塞桿4 1 0以一壓 縮彈簧4 0 9被壓縮的方向（如圖2中所示的狀況）推送 旋轉軸4 0 8的後端•當基體固持器4 0 4及4 0 6以真 空夾頭將黏合基體疊層4 2 0固持後，氣缸4 1 1收納（ 移動）該活塞桿（以X軸方向）以進行分離基體叠層 4 2 0的程序。亦即，當黏合基體叠層4 2 0被設定於基 體固持器4 0 4及4 0 6之間時氣缸推送活塞桿4 1 0 , 而當設定完成時其收納活塞桿4 1 0。 爲將黏合基體叠層4 2 0設定在此分離裝置1 0 〇中 ，黏合基體叠層4 2 0被置於由支持基座4 0 1所軸向支 ^紙張>^14财目目*：鮮（CNS > A4胁（21GX297公釐)~17 (請先B9讀背面之注^.項再填寫本頁) /裝. 訂 A7 B7 經濟部中央梂準局貝工消费合作社印¾ 五、發明説明（15 ) 持中的一定位軸4 1 2的一槽4 1 2 a中，以便由軸承4 1 3及4 1 4所旋轉。此後，活塞桿4 1 0如上述地被推 送以將基體旋轉器4 0 6抵靠於黏合基體®層4 2 0上。 在此狀態（如圖2所示）下，基《I固持器4 0 4及 4 0 6的真空夾頭被運作· 宜在y軸方向上設置兩定位軸41 2。若爲此狀況， 則黏合基體《層420在X、 y、 z軸上三方向的位置僅 可藉由設置黏合基體叠層4 2 0於兩定位軸4 1 2而被界 定。如此有利於手動地設定黏合基體叠層4 2 0 ·再者， 若一運送機械人被使用，則此運送機械人的備置可被簡化 〇 爲了將經分離基體移除，在分離完成後基體4 2 0 a 被以X軸方向移動且兩基體被自對方移開後，這兩個基體 由，例如運送機械人所固持》然後，基體固持器4 0 4及 4 0 6的真空夾頭的吸附放釋放。 在黏合基體叠層4 2 0被設定後，一控制器（未顯示 )定位一導引單元415以使導引單元415的射出開口 被定位於黏合基體叠層4 2 0的黏合界面之上·導引單元 4 1 5被連接至鬆散插於支持基座4 0 1中的支持桿 4 16上以便在X軸方向上爲可動的。導引單元4 1 5的 位置由一馬達417被精密地調整。 在黏合基體4 2 0的分離的過程中，一泵4 1 9壓縮 並供應一噴劑媒體（例如水）至噴嘴4 1 8，且噴嘴 4 1 8向導引單元4 1 5的噴射開口噴灌—高速、高壓噴 ---------裝丨- (請先W讀背面之注意事項再填寫本頁 訂 本纸張尺度適用中國國家揉率（CNS ) A4規格（210X297公釐） -18 - 經濟部中央標準局貝工消费合作社印* A7 _B7五、發明说明（|6 ) 劑。 由於導引單元4 1 5的射出開口被定位於黏合基體叠 層4 2 0的黏合界面之上，自導引單元4 1 5的射出開口 射出的噴劑被集中地打在黏合基體叠層4 2 0的黏合界面 上。 、 圖3至5爲導引單元，噴嘴及黏合基體叠層的放大圖 。導引單元4 1 5具有一自射入開口 4 1 5 a向射出開口 4 1 5 .b逐漸變窄的孔4 1 5 c。此孔4 1 5 c校正噴灑 自噴嘴4 1 δ而打在黏合基體叠層4 2 0上的噴劑的位置 〇圖6爲顯示黏合界面及噴嘴4 1 8的中心點互相分開的 狀況。即使在圖6所示的狀況中，噴灑自噴嘴4 1 8的噴 劑4 3 0撞擊孔4 1 5 c的牆面，且此撞擊校正噴劑 4 3 0的方向。在此校正狀態中的噴劑4 3 0被自射出開 口 4 1 5b射出。亦即，由於導引單元4 1 5被使用，僅 需控制噴嘴418使其被定位於導引單元415的射入開 口 4 1 5 a之上•應注意噴劑的動能因與孔4 1 5 c的牆 面之撞擊而減小，所以在控制泵4 1 9時應考慮此減少· 黏合基體*層4 2 0宜具有一在基體叠層的周圍表面 向黏合界面凹陷的V形槽420d。此V形槽420d可 藉由使用經削角的基體作爲構成第一基體（圖1中之1 0 )的單晶矽基體以及構成第二基體（圖1中之2 0 )的單 晶矽基體而被輕易地形成。V形槽4 2 0 d容許噴劑 4 3 0有效地打黏合基體叠層4 2 0上。 圖1 3A及1 3B爲槪略顯示作用在一具有V形槽的 本紙張尺度適用中國國家揉準（CNS ) A4規格（,210X297公釐） 17 ---------袭------1T------- j (請先sli背面之注意Ϋ項再填寫本頁) M濟部中央梯準局貝工消费合作杜印*. A7 _B7五、發明説明心） 黏合基體疊層上之力及作用在不具有V形槽的黏合基體叠 層上之力的差異的圖•圚13A顯示具有V形槽420d 的黏合基體*層。自圖1 3 B顯示不具有V形槽的黏合基 體《層。當V形槽被形成時，噴劑力作用在黏合基體叠層 4 2 0被分離的方向上，其以箭號1及a >所表示。當無 V形槽被形成時，該力作用於黏合基體叠層4 2 0被自兩 側向內壓縮的方向上，其以箭號b及b >所表示。若爲此 情形，力不易作用於黏合基體叠層4 2 0被分離的方向上 ，直到多孔唐4 2 0 b的周圍表面（暴霣部份）分離且一 V形或U形槽在此分離部份形成。所以，當V形槽被形成 時，黏合基體更易被分離。 當黏合基體叠層的周圍表面被一薄膜覆蓋時，V形槽 4 2 0 d亦可有效地工作。亦即，由於V形槽容許力作用 於黏合基體叠層被分離的方向上，薄膜藉著力有效地分離 〇 打在黏合基體叠層4 2 0上的噴劑選擇性地將作爲一 分離區的多孔層4 2 0 b分離以便分離該黏合基體叠層 4 2 0且幾乎不對其它部份造成損害。此係因爲多孔層 420b (圖1C中之多孔層12)與單晶矽基體（基體 420a的表面，以及圖1C中的單晶矽基體11)以及 與多孔層4 2 0 b接觸的絕緣層（基體4 2 0 C的表面， 以及圖1C中的絕緣層13)相較下具有非常脆弱的結構 〇 射入開口 4 1 5 a的形狀如圖3至5中所示的矩形’ n 1— 1 n I - - ί s I -- — 1 I —a— an (請先S1*背面之注$項再填寫本頁) 本纸伕尺度逍用中國國家梂率（CNS ) A4规格（210X297公釐） -20- 經濟部中央標準扃貝工消费合作社印簟 A7 , ____B7 __ 五、發明説明（|8 ) 亦可爲其它形狀·亦即，射入開口 4 1 5 a的形狀僅決定 於可會噴灑自噴嘴4 1 8的噴劑導入孔4 1 5 c即可* 射出開口 4 1 5 b的形狀宜爲一延伸於黏合基體叠層 4 2 0的平面方向（y軸方向）上的狹窄矩形，因爲分離 區爲直線形。同時，沿黏合基體叠層4 2 0的軸方向（X 軸方向）的射出開口 4 1 5 b的寬度t j宜較形成於黏合 基體叠層4 2 0中的V形槽4 2 0 d的寬度爲小·此係因 爲噴劑可被變窄並集中入V形槽4 2 0 d (圖1 3A)而 因此可被有效地使用。 再者，馬達4 1 7宜被控制以使用在黏合基體叠層 420的軸方向（X軸方向）上的射出開口 41 5b的中 心大致與分離區，亦即黏合基體叠層4 2 0的多孔層 420b，的中央對齊。結果，射出自射出開口 415b 的噴劑可被有效地利用》 再者，如圖4中所示，面對著黏合基體叠層4 2 0的 導引單元4 1 5的表面宜具有對應於黏合基體叠層4 2 0 的弧度的形狀。此容許射出自射出開口 4 1 5 b的噴劑被 有地利用· 導引單元4 1 5的孔的截面形狀不限於契形，諸如上 述之孔4 1 5 c，藉由在導引單元4 1 5的一組件上貫切 一孔而得。圖7及8爲顯示導引單元的截面形狀之其它例 子之圖β 此分離裝置1 0 0具有以下之優點’因爲該裝置使用 一噴劑的分離黏合基體*層。 本紙張尺及逋用中國國家橾準{ CNS ) Α4洗格（210Χ297公釐) …„ ~ I - I I - - 1 - - 1 ' ...... - -I - -I----I *ίτ -/ί (請先《讀背面之注意事項再填寫本賨) 鍾濟部中夬揉準局真工消费合作社印裝 A7 _B7五、發明説明) (1 )由於液體或氣體（噴劑媒體）被用以分離基體 ，所分離的基體表面的損傷小。 (2)無大量的粒子被產生或散佈》 (3 )作用在與所分離表面垂直的方向上之力具有高 度平面均一性。 (4 )分離程序可被迅速執行。 (5 )具有大面積的黏合基體叠層可被容易地分離* 因爲噴劑媒體（例如水）藉由分離程序可容易地進入形成 於相對的分離表面之間的間隙中。 (6 )可容易地，同步地處理大量的基體叠層。 (7 )由於噴劑的控制的高度自由性（例如，壓力及 直徑），可處理各種不同的黏合基體叠層。 (8 )由於不需熱處理或類似者，可在一般環境（亦 即常溫及常壓）下進行處理。 應注意當噴劑分離方法被使用時，一其中噴灑自噴嘴 的噴劑直接打在黏合基體叠層上的配置（以下稱之爲直接 型配置）亦爲有效。本發明並不排除此種配置β但是’此 分離裝置1 0 0包括用以調整噴滙苜噴嘴的噴劑打在黏合 基體叠層上之位置的導引單元4 1 5。因此’該裝置在以 下幾點中較直接型分離裝置爲優異。 (9 )可採用一較低精密性驅動機構以作爲用以調整 —噴嘴的位潭之驅動機構或作爲用以調整一基體固持器的 位置的驅動機構。結果，可能簡化分離裝置的整體配置並 降低分離裝置的成本。 本紙張尺度適用t國國家揉率（CNS } A4*l格（210XW7公1 ) (請先聞常背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部中央揉準局貞工消费合作社印St A7 ___B7 五、發明説明^ ) 詳言之，在噴劑分離方法中，需精確地設定噴酒自噴 嘴的噴劑打在黏合基體叠層上之位置*例如，當一種一般 用途的水噴劑裝置被改裝使用時，噴劑的直徑通常爲 0 . 1至0 . 3mm，其足夠小以分離一黏合基體叠層。 因此，滿意的定位精確度可藉由增加噴嘴的驅動機構或黏 合基體叠層的驅動機構的精確性而取得。但是，當一高精 確度驅動機構被使用作噴嘴或基體固持器的驅動機構時， 分離裝置的配置被複雜化，且分離成本提高。另一方面， 在此分離裝瘇1 0 0中，簡單且小巧的導引單元4 1 5將 噴劑對齊黏合基體叠層》因此，必需使用一高精密度驅動 機構作爲噴嘴的驅動機構或基體叠層固持器的驅動機構· (10)分離處理可較使用一直接型分離裝置時更迅 速地達成。 詳言之，當一分離裝置使用一般型噴嘴時，可能增加 噴劑的流率，以作爲增加分離處理速度的手段。爲增加噴 劑的流率，可採用增加噴劑的直徑之方法或增加噴劑的速 度之方法。但是，在前一方法中，若噴劑的直徑超過黏合 基體叠層的V形槽的寬度時，幾乎無法達成流率的增加· 再者，會發生諸如黏合基體叠層的顫動的問題•此增加黏 合基體叠層被損壞的可能性。 另一方面，本發明的分離裝置1 0 0可增加噴劑的流 率，同時限制在黏合基體叠層的軸方向上的噴劑的寬度。 因此，黏合基體叠層分離處理的速度可被增加。 本紙張尺度適用中國國家標率（CNS ) A4规格< 210X297公釐） I m n I n ϋ n n Λ I n m n n、,T (讀先閱讀背而之注意事項再填蹿本頁) -23 - A7 _B7 五、發明説明h ) 〔分離裝置的第二配置〕 {請先§背面之注意事項再填寫本頁) 此分離裝置係藉由改善依照第一配置的分離裝置的導 引單元的結構而得的。本配置的其餘配置與第一配置相同 。圖9至11爲大略顯示依照第二配置的分離裝置的導引 單元的結構的圖。 依照本配置的導引單元4 1 5 #在相對一黏合基體叠 層4 2 0的一表面上具有一射出槽4 1 5 d ·此射出槽 4 1 5 d有效地自黏合基體叠層4 2 0側徑溢流出地射出 噴劑媒體（亦即，諸如水之液體）。 〔分離裝置的第三配置〕 在依照本配置的分離裝置中，一導引單元及基體固持 器被一體形成以省去將黏合基體叠層與導引單元對齊的需 要。 圖1 2爲大略顯示依照本配置的分離裝置的配置之截 面圖。在與依照第一配置的分離裝置中相同的圚號在第三 配置中代表相同的部件，且其詳細敘述被省略。 經濟部中央揉準局負工消费合作社印裂 此分離裝置1 0 0 ^包括一在碟狀基體固持器 404 >及406 —的圓形環中的—噴劑導引單元。亦即 ，基體固持器404 ―及406 /分別具有導引表面 404a及406 a，其露出一當黏合基體叠層420被 如圖1 2中所示地鉗夾時形成在黏合基體叠層4 2 0的周 圍表面內的一V形槽4 2 〇 d。一由這些導引表面4 0 4 a及4 0 6 a所界定的間隙具有與上述之孔4 1 5 c相同 本紙張尺度逍用中國國家標隼（CNS ) A4ft格（210X297公釐） -24- A7 B7 經濟部中央標準局貝工消费合作社印*. 五、發明説明k ) 功能’亦即，將噴灑自噴嘴的噴劑打在黏合基體叠層 420的V形槽420d上。導引表面404a及406 a形成於碟狀基體固持器的整個周圍上。導引表面4 0 4 a及4 0 6 a而作用爲一用以射出該所打出的噴劑媒體的 —射出開口。 圓形槽4 0 4 b及4 0 6 b分別被形成於基體固持器 404 >及406 /的表面上，其面向黏合基體叠層 4 2 0。當分離力由於噴劑的衝打而自黏合基體叠層 4 2 0的內部作用至外部時，圓形槽4 0 4 b及4 0 6 b 容許黏合基體叠層4 2 0以截面方向開（彎曲）爲兩基體 ，及使噴劑媒體有效地被射出。 爲將黏合基體叠層4 2 0設定在分離裝置1 0 0 >中 ，黏合基體叠層4 2 0被運送機械人或類似者以兩互相分 離的基體固持器404>及406>，亦即，以所一所收 納的氣缸4 1 1的活塞桿4 1 0，被基體固持404 /的 吸附表面堆擠，且基體固持器4 0 4 /的一真空夾頭*** 作。然後，活塞桿4 1 0被氣缸4 1 1所推擠以將基體固 持器4 0 6 /的吸附表面對黏合基體叠層4 2 0推擠•在 此狀況下，基體固持器4 0 6 >的真空夾頭被運作。結果 ，活塞桿410被收納在氣缸411中以啓動分離處理· 分離處理藉由黏合基體叠層4 2 0被一馬達4 0 2所 旋轉時自噴嘴4 1 8噴灑一噴劑而實施》當分離處理完成 時，如同在依照第一配置的分離裝置1 0 0的情況中一樣 ，一基體4 2 0 a以X軸方向由壓縮彈簧4 0 9的作用而 (讀先Μ讀背面之注意事項再填寫本頁 裝· 訂 本纸張尺度適用中國國家樣率（CNS ) Α4規格（2丨0〆297公釐） -25- A7 B7 M濟部中央梯準局貝工消费合作杜印«. 五、發明説明) 被移動且自一基體4 0 2 c分離· 爲了將完全分離的基體移走，兩基髋由例如運送機械 人的吸附所固持，且由基體固持器404 #及406 ~的 真空夾頭的吸附被釋放。 在此分離裝置1 0 0 /中，僅藉由黏合基體叠層 4 2 0設定於基體固持404 “及406 ~之間，噴涵噴 嘴4 1 8的噴劑打在黏合基體叠層4 2 0的位置被與分離 區（多孔層）對齊。如此消除用以調整導引單元的位置的 機構（例如，在第一配置中的馬達4 1 7及控制機構）。 因此，裝置的配置可被簡化。 以下將參照圖1 A至1 E，敘述作爲前述分離裝置之 應用的一 S 0 I基體的製造方法。 〔第一應用〕 一種單晶矽基體1 1，配置有一 1)或11型單晶矽基體 具有625〔#m〕的厚度，直徑5〔英吋〕，及 〇.01 〔Qcm〕的特定電阻。此單晶矽基體11被浸 在一 HF溶劑中，且被陽極化以形成一厚度1 〇〔 及孔洞率15%(圖1A)的多孔層。陽極化條件如下： 電流密度：7〔mA/cm2〕 陽極溶劑：HF : H2O : c2H5〇H= l : 1 : 1 驅動機構時間：11 〔分鐘〕

--------择I. V, (請先《讀背面之注意事項再填寫本X 訂 本纸張尺度遑用中國國家樑率（CNS } A4«l格（210X297公釐） •26- A7 B7 經濟部中央標準局—工消费合作杜印氧 五、發明说明έ4 ) 所得基體在一充氣環境下被加熱至4 0 0〔乞〕且氧 化達一小時》結果’多孔矽層1 2的孔隙的內壁被覆蓋以 —熱氧化膜。結果’―〇 . 3μπι厚度的單晶矽層13藉 由CVD被外延生長多孔矽層12上（圓1Β) »外延生 長的條件如下。 來源氣體：S i Η 4 載子氣體：Η 2 溫度：8' 5 0 〔 t〕 壓力：lxl0_2〔托爾〕 生長率：3 . 3〔nm/秒〕 再者，一 5 0 0 - mm厚約S i 〇2層1 5被形成於此 單晶矽層（外延矽層）13上。一其上形成有一 5 0 0 mm厚的S i 〇2層1 5的單晶矽基體1 4被備置，且該二 S i 〇2層在室溫下被安排接觸。此後，一熱處理在溫度 7 0 0〔°C〕之下被實施達兩小時以黏合該兩基體（圖 1C)。 所得的黏合基體叠層依照上述的第三配置被設定在分 離裝置1 0 0 z上，且分離處理藉由裝置（圖1 〇 )被實 施（圖1D)。在此處理中，純水被用作噴劑媒體，噴劑 的直徑被設爲0 . 2〔mm〕，且噴灑的水壓被放爲 2500〔kg f/cm2〕。同時，爲檢査分離裝置 1 0 0 <的功能，當噴嘴的位置被刻意地稍微自黏合界面 (請先Mi*·背面4?注$項再填寫本頁) '裝· 訂 本紙張尺度逍用中國國家樣準（仁阳）八4規格（2丨0父297公釐） -27- 經濟部中央標率局貝工消费合作社印«. A7 * _B7 五、發明説明έ5 ) 的正上方移開的同時分離處理被實施。黏合基體叠層在其 被旋轉一次時被分離，且兩基體藉由屋縮彈簧的作用被互 相隔開。被分離的基體上無損壞，破損及缺陷發生· 該二分離的基體被自分離裝置1 0 0 <移除，且在表 面上的多孔矽層被選擇性地以 HF/HN〇3/CH3COOH基的蝕刻溶液蝕刻•由於 單晶矽的蝕刻率非常低，多孔矽層下方的單晶矽層實際上 可忽略。可能藉由此蝕刻處理形成一具有一厚約0 . 2# m的單晶矽磨1 3在S i 〇2膜1 5上的一SO I基體（圖 1 E )。 在完成的S 0 I基體的表面上，亦即，單晶矽層1 5 的表面上，無缺陷被發現。同時，當該段單晶矽層1 5以 傳輸電子顯微鏡觀察時，無晶體缺陷被發現，且保有高晶 體性》 應注意即使當在圖1 B所示的步驟之後無S i 〇2膜被 形成於單晶矽層（外延層）13的表面上時亦可形成高品 質S 0 I基體。 其上形成有多孔矽層的基體（單晶矽層基體11)可 藉由將多孔矽層自表面移除以及將表面極化而被當作第一 基體重複使用。爲如上所述地將多孔矽層被自其上移除的 基體當作第一基體重複使用，宜將周邊削角。 〔第二應用〕 在此應用中，依照第一及第二配置的分離裝置1 0 0 本紙張尺度適用中國國家梯率（CNS ) A4規格（2丨0X297公釐) ^ — (請先Μ讀背面之注意事項再填寫本頁) 裝· 訂 經濟部中央標準局貝工消费合作社印*. A7 B7 五、發明説明) 在第一應用的分離裝置中替代依照第三配置的分離裝置 1 Ο Ο z ·在此用途中，純水被用作一噴劑媒體，噴劑的 直徑被設定爲1 . 0〔mm〕，且噴灑水壓被設爲8 5 0 〔kgf/cm2〕。同時，黏合基體叠層的V形槽的寬度 被設爲0 . 6 2 5〔mm〕，且導引單元的射出開口的寬 度被設爲0 . 625〔mm〕。 雖然一具有較黏合基體叠層的V形槽的寬度爲大的直 徑的噴劑被如上述地使用，由於噴劑的寬度導引單元限制 ，噴劑有效地被打在黏合基體的V形槽內。結果，黏合基 體疊層被迅速地分離· 再者，完成的S 0 I基體與在第一應用中所製造的 S 0 I基體一樣好。 適於製造一 S 0 I基體的分離裝置已利用本發明的較 佳實施例進行敘述。但是，依照本發明的分離裝置可被用 以分離或切割其它構件。 被分離的構件宜具有諸如多孔層的脆弱分離區。 本發明可抑制對分離表面的損害及降低對裝置或樣本 的污染》 同時，本發明可製造高品質基體。 雖然已利用特定實施例敘述其技術思想之特徵，本發 明並不限定於敘述於這些實施例中的內容。亦即，本發明 可在不脫離後述於所附的申請專利範圍中的技術思想的範 圍下作變更設計。 本紙張又度逍用中國國家揉率（CNS ) A4規格（2丨0X297公羞） •ϋ ^^1 ·ϋ m HI —Βϋ ·1 I (請先M讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂

Claims (1)

1. 經濟部中央橾车局貝工消费合作社印装 ___ 六、申請專利範園 1·一種用以分離具有一內部脆弱結構的樣本的分離 裝置，包含： 一噴灝單元用以噴濯一液«或氣體：及 —導引單元用以將噴灑自該喷湩單元的液體或氣體噴 劑集中至該樣本的該脆弱結構，呈使該脆弱結構被自該脆 弱結構分離· 2 ·如申請專利範困第1項中所述的裝置，其中該導 引單元藉由減少噴劑的宽度至一預定宽度以將噴灑自該噴 .灌單元的液體或氣髏噴劑集中至該樣本的脆弱結構· 3 .如申請專利範圍第1項中所述的裝置，其中該導 引單元具有一孔用以減少噴灑自該噴灑單元的液髏或氣體 噴劑的寬度，且該孔的入口的宽度較噴灑自該噴灌單元的 液體或氣體噴劑的寬度爲大· 4 ·如申請專利範圍第3項中所述的裝置，其中該將 被分離的樣本具有一向該脆弱結構的外部暴露部份凹陷的 —槽，且該孔的出口的寬度較該槽的寬.度爲小》 5.如申請專利範圍第1項中所述的裝置，其中該將 被分離的樣本具有一向該脆弱結構的外部暴露部分凹陷的 一槽。 6 .如申請專利範圔第5項中所述的裝置，其中該槽 具有一大致爲V形的截面· 7 .如声請專利範圔第1項中所述的裝置，進一步包 含一調整機構用以調整該導引單元及該樣本間的位置關係 本纸永尺度速用中«•家揉準（CNS ) A4规格（210X297公釐） {讀先S讀背面之注意事項再填寫本賈> 订 B8 C8 D8 經濟部中央揉準局工消费合作社印«. 六、申請專利範圍 8 .如申請專利範圍第7項中所述的裝置，其中該調 $機構藉由移動該導引單元以調整該導引單元與該樣本間 的位置關係》 9 .如申請專利範圍第5項中所述的裝置，進一步包 含一調整機構用以調整該導引單元及該樣本間的位置關係 贅 其中該調整單元調整該導引單元及該樣本間的位置關 係以將噴灑經該導引單元的液體或氣體噴劑集中至該槽內 〇 1 0 .如申請專利範圍第9項中所述的裝置，其中該 調整機構藉由移動該導引單元調整該導引單元及該樣本間 的位置關係。 1 1 .如申請專利範圍第1項中所述的裝置，進一步 包含一用以支持該樣本的支持機構。 1 2 ·如申請專利範圍第1 1項中所述的裝置，其中 該將分離的樣本的脆弱結構形成一大致扁平的平面，且該 支持機構支持該樣本而以該脆弱結構的平面方向傳送噴酒 經該導引單元的液體或氣體噴劑。 1 3 ·如申請專利範圔第1 2項中所述的裝置，其中 該支持機構包含一旋轉機構用以對該樣本對以大致設置於 與該脆弱結構的平面垂直的方向上的軸作旋轉，且在旋轉 該樣本的同時支持該樣本。 1 4 .如申請專利範圍第1項中所述的裝置，其中該 導引單元被設置於一支持單元中以支持該樣本· <請先閏讀背面之注ί項再填寫本頁) 订 本紙張尺度逋用中國國家樣率（CNS ) Α4规格（210X297公釐） • 31 - 經濟部中央揉率局貝工硝费合作社印氧 B8 C8 •____D8六、申請專利範園 1 5 .如申請專利範圍第1 4項中所述的裝置，其中 該支持單元包含兩個用以藉由自其兩側鉗夾該樣本以固持 該樣本的固持單元，且該導引單元係由介於該兩固持單元 的相對部份間的間隙所形成。 1 6 .如申請專利範圍第1 5項中所述的裝置，其中 在該兩個固持單元的相對部份中形成有傾斜表面，且該相 對的傾斜表面藉由減少噴劑的寬度至一預定寬度而將噴灑 自該噴灑單元的液髖或氣體噴劑集中至該樣本的該脆弱結 構上。 1 7 .如申請專利範圍第1 6項中所述的裝置，其中 該將被分離的樣本爲一類碟形，該兩固持單元的相對部份 形成一圓形環，且該樣本被固持在環的內側。 1 8 .如申請專利範圍第1 5項中所述的裝置，其中 該固持單元固持該樣本以藉由液體或氣體的壓力彎曲該樣 本。 1 9 .如申請專利範圍第1 1項中所述的裝置，其中 該支持機構包含一固持單元用以固持一作爲將被分離的樣 本的基體。 2 0 .如申請專利範圍第1 5項中所述的裝置，其中 該兩固持單元爲用以固持作爲將被分離的樣本的基體的固 持單元。 2 1 .如申請專利範圍第1 9項中所述的裝置，其中 該基體具有一作爲脆弱結構的多孔層· 2 2 .—種被應用於藉由噴灑一液體或氣體噴劑以分 {請先Η讀背面之注$項具4寫本頁> 订 r· 本纸張尺度適用中•國家樣率（CNS Μ4Λ格（210X297公釐） • 32 - 經濟部中夬標準局貝工消费合作.冰印*. AS BS C8 __D8六、申請專利範園 離一具有內部脆弱結構的樣本的方法的液體或氣體導引裝 置，其特徵爲包含： 一導引單元用以將噴灑自一噴瀾單元的液體或氣體噴 劑集中至該樣本的該脆弱結構·， 2 3 .如申請專利範圍第2 2項中所述的裝置•其中 該導引單元藉由減少噴劑的寬度至一預定寬度以將噴灑自 該噴灑單元的液體或氣體噴劑集中至該樣本的脆弱結構。 2 4 .如申請專利範圍第2 2項中所述的裝置，其中 該導引單元具有一孔用以減少噴灑自該噴灌單元的液體或 氣體噴劑的寬度，且該孔的入口的寬度較噴灑自該噴灑單 元的液體或氣體噴劑的寬度爲大。 2 5 .如申請專利範圍第2 4項中所述的裝置，其中 該將被分離的樣本具有一向該脆弱結構的外部暴霣部份凹 陷的一槽，且該孔的出.口的寬度較該槽的寬度爲小· 2 6 .如申請專利範圍第2 2項中所述的裝置，其中 該將被分離的樣本具有一向該脆弱結構的外部暴露部分凹 陷的一槽。 2 7 .如申請專利範圍第2 6項中所述的裝置，其中 該槽具有一大致爲V形的截面· 2 8 .如申請專利範圍第2 2項中所述的裝置，進一 步包含： 一連接.單元用以連接—具有該噴灌單元及一用以固持 該樣本的固持機構的樣本分離裝置；及 —調整噴劑用以調整該導引單元及該樣本間的位置關 {請先《讀背面之注$項再«寫本霣> 訂 -W. 本紙張尺度逍用中國國家橾率（CNS ) A4规格（210X297公釐） -33- At BS C8 — _ D8 六、申請專利範团 係》 29·—種被應用於藉由噴灌—液體或氣體噴劑以分 離—具有內部脆弱結構的樣本的方法的樣本支持裝置，包 #兩固持單元用以藉由自其兩側鉗夾該樣本以固持該樣本 〇 其中用以將噴灑自一噴灑單元的液體或氣體噴劑集中 S該樣本的脆弱結構上的導引單元係藉由該兩固持單元的 相對部份間的一間隙而被形成。 3 0 .如申請專利範圍第2 9項中所述的裝置，其中 在該兩個固持單元的相對部份中形成有傾斜表面，且該相 對的傾斜表面藉由減少噴劑的寬度至一預定寬度而將噴灑 自該噴灑單元的液體或氣體噴劑集中至該樣本的該脆弱結 構上8 3 1 ·如申請專利範圍第3 0項中所述的裝置，其中 該將被分離的樣本爲一類碟形，該兩固持單元的相對部份 形成一圓形環，且該樣本被固持在環的內側· 3 2 .如申請專利範圍第2 9項中所述的裝置，其中 該固持單元固持該樣本以藉由液體或氣體的壓力彎曲該樣 本。 3 3 .如申請專利範圍第2 9項中所述的裝置，其中 該支持機構包含一固持單元用以固持—作爲將被分離的樣 本的基體。 3 4 .如申請專利範圍第3 3項中所述的裝置，其中 該槽具有一大致爲V形之截面· 本紙依尺度逍用中國«家#率（CNS ) A4规格（210X297公釐） (請先U讀背面之注意事項再填寫本頁 裝- 訂 鐘濟部中央楳率局ec工诮费合作社印*. s 央 樣 率 局 X 、消 費 合 作 社 印 % 、申請專利範固 AS B8 C8 08 3 5 .如申請專利範困第2 9項中所述的裝置，其中 一·將被支持的樣本爲一基髄。 3 6 ·如申請專利範圍第3 5項中所述的裝置，其中 該基體具有一作爲脆弱結構的多孔層· 3 7 . —種分離方法，其中一基體藉由使用依照申請 專利範圍第1項的裝置被自一脆弱結構分離： 3 8 .如申請專利範圍第3 7項中所述的方法，其中 水被用作將被噴灑自該噴灌單元的液髏❶ 3 9 . —種分離方法，其中一藉由將一非多孔層的第 —基體與一第二基體黏合而形成之—基體叠層，該第—基 體具有一其上形成有一多孔層及該非多孔層的一表面，該 基體叠層被自該多孔層分離，其中依照申請專利範圍第1 項的裝置被使用於此分離作業中· 4 0 種基體製造方法包含以下步驟：將一具有其 上有一多孔層及該非多孔層被序列形成的表面的第一基體 黏合至第二基體，及將該黏合基體叠層自該多孔層分離， 其中依照申請專利範圍第1項的裝置被使用於此分離步驟 中。 41.一種分離裝置用以分離具有一內部脆弱結構的 板狀樣本，包含·· —支持機構用以支持該板狀樣本；及 一噴灑岸元用以將一液體或氣體噴劑噴酒在由該支持 機構所支持的該板狀樣本的該脆弱結構上， 其中該支持機構支持該板狀樣本以藉由射入該板狀樣 (讀先聞讀背面之注$項再填寫本頁> ，裝. 訂· 本紙張尺度逋用中國國家揲準（CNS ) A4規格（210X297公瘦） -35- A8 B8 C8 D8 經濟部中央梂準局βζ工消.*-合作社印«. 申請專利範園 本中的液體或氣體的屋力將該板狀樣本的周邊彎曲 --------- 裝------订------M--------- (請先《讀背面之注f項再填寫本貰) -36- 本紙張尺度逋用中國困家揉率（CNS ) Α4规格（210X297公釐）