TW202013084A - 曝光裝置 - Google Patents

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Abstract

本發明的課題在於容易地提升曝光裝置中的二維的圖案的曝光精度。本發明的解決手段的曝光裝置係具備有發光部、微透鏡陣列部以及感測器部。發光部係具有用以發出光線之複數個發光區域。微透鏡陣列部係具有有效區域以及非有效區域。有效區域係包含有：複數個微透鏡，係分別位於複數個發光區域各者所發出的光線的路徑上。非有效區域係位於有效區域的外側，並包含有調整用標記。感測器部係具有沿著第一方向排列的複數個受光元件以及沿著第二方向排列的複數個受光元件。感測器部係可在從發光部所發出且通過非有效區域中之包含有調整用標記的區域之光線的路徑上輸出調整用光點與調整用標記之間的相對性的位置關係的訊號，該調整用光點係從複數個發光區域中的調整用發光區域發出並形成有照射至非有效區域之光線。

Description

曝光裝置
本發明係有關於一種曝光裝置。
於專利文獻1、2中記載有一種曝光裝置，係將藉由空間調變所形成的圖案(pattern)光線照射至感光材料，藉此使感光材料以所期望的二維的圖案曝光。該曝光裝置係藉由微鏡裝置(DMD；micro mirror device)將從光源輸出的光線予以空間調變並形成圖案光線。該圖案光線係藉由光學系統成像至感光材料上。
在此，光學系統係例如包含有：第一成像光學系統，係將藉由DMD所形成的圖案光線予以成像；微透鏡陣列(MLA；micro lens array)，係排列於第一成像光學系統的成像面；以及第二成像光學系統，係將已通過MLA的光線成像至感光材料上。MLA係具備有複數個微透鏡(micro lens)，係以與DMD的微鏡(micro mirror)各者對應之方式排列成二維狀。換言之，從DMD射入至MLA的圖案光線的複數個像素與MLA的複數個微鏡係需要分別一對一地對應。因此，例如DMD以及MLA係在被調整過DMD與MLA之間的相對性的位置後被各種保持構件等固定。
然而，在DMD以及MLA的固定後，例如會有因為與周圍的溫度(亦稱為環境溫度)的變化相應之保持構件的熱膨脹、DMD以及MLA的固定時所產生的殘留應力的經時性的開放以及振動等導致DMD與MLA之間的相對性的位置偏移的情形。在此種情形中，例如會有本來應射入至相鄰的微透鏡的光束(beam)的一部分射入至原本光束不會射入的微透鏡導致消光比降低之情形。亦即，會有使感光材料以期望的二維的圖案曝光之精度(亦稱為曝光精度)降低之情形。
相對於此，例如在專利文獻2的技術中，以與圖案光線的角落的縱方向兩個以及橫方向兩個之合計四個像素對應之方式，使用具有在工作台(stage)的感光材料附近配置成格子狀的四個光二極體(photo diode)之四分割檢測器來檢測DMD與MLA之間的相對性的位置的偏移量。具體而言，例如檢測被DMD的微鏡反射的光束以及與該光束對應的微透鏡之間的偏移量。換言之，檢測光束的偏移量。接著，例如依據使用四分割檢測器所檢測的光束的偏移量進行MLA的位置調整，藉此消除DMD與MLA之間的相對性的位置的偏移。 [先前技術文獻] [專利文獻]
專利文獻1：日本特開2004-335692號公報。 專利文獻2：日本特開2004-296531號公報。
[發明所欲解決之課題]
此外，在上述專利文獻2的技術中，例如為了檢測光束的偏移量(X方向的偏移量ΔX、Y方向的偏移量ΔY以及旋轉方向的偏移量θz)，將四分割檢測器配置於工作台上的曝光區域的四個角落中的兩處。並且，在該兩處中以與從DMD射入至MLA之圖案光線的四個像素對應之方式配置四分割檢測器的四個光二極體。
然而，從DMD發出並通過MLA的兩個角落之四個像素分量的光束係通過第二成像光學系統並投影至工作台上。因此，需要因應該第二成像光學系統所具有的倍率誤差以及收差等之製造上的誤差的大小在工作台上的兩處中進行四個光二極體的定位。而且，隨著曝光所為的描繪圖案的解析度的上升，MLA中的微透鏡的間距(pitch)變小，在工作台上的兩處中的四個光二極體的定位中進一步地要求非常精細的精度。此外，例如在曝光裝置搭載有複數個曝光頭之情形中，需要因應曝光頭的數量進行四分割檢測器的位置對準。因此，在製造曝光裝置時，會有位置對準所需的繁雜的工序增大之虞。
此外，在工作台上設置四分割檢測器之構成中，會有工作台的構造變得複雜之虞。在此，例如考量假設將四分割檢測器設置於與配置有感光材料的工作台不同的其他的可動工作台且該其他的可動工作台可相對於曝光區域***以及退出之情形時，亦對該其他的可動工作台要求與對於四分割檢測器所要求的非常精細的定位精度對應之移動精度以及定位精度。因此，會有曝光裝置的製造變得更為困難之虞。
因此，本發明的目的在於提供一種可容易地提升二維的圖案的曝光精度之曝光裝置。 [用以解決課題的手段]
本發明為了解決上述課題，第一態樣的曝光裝置係具備有發光部、微透鏡陣列部以及感測器部。前述發光部係具有用以分別發出光線之複數個發光區域。前述微透鏡陣列部係具有有效區域以及非有效區域。前述有效區域係包含有：複數個微透鏡，係分別位於複數個前述發光區域各者所發出的光線的路徑上。前述非有效區域係在與複數個前述微透鏡的光軸垂直的方向中位於前述有效區域的外側，並包含有調整用標記。前述感測器部係具有處於沿著第一方向排列的狀態之複數個受光元件以及處於沿著與前述第一方向交叉的第二方向排列的狀態之複數個受光元件。前述感測器部係可在從前述發光部所發出且通過前述非有效區域中之包含有前述調整用標記的區域之光線的路徑上輸出調整用光點與前述調整用標記之間的相對性的位置關係的訊號，前述調整用光點係從複數個前述發光區域中的調整用發光區域發出並形成有照射至前述非有效區域之光線。
第二態樣的曝光裝置係如第一態樣所記載之曝光裝置，其中前述微透鏡陣列部係包含有：微透鏡陣列，係複數個前述微透鏡處於一體性地構成的狀態；前述微透鏡陣列係包含有前述非有效區域。
第三態樣的曝光裝置係如第一態樣或第二態樣所記載之曝光裝置，其中前述微透鏡陣列部係具有：第一調整用標記以及第二調整用標記，係分別包含於前述非有效區域；前述感測器部係可輸出第一調整用光點與前述第一調整用標記之間的第一相對性的位置關係的訊號，並可輸出第二調整用光點與前述第二調整用標記之間的第二相對性的位置關係的訊號，前述第一調整用光點係從複數個前述發光區域中的第一調整用發光區域所發出且形成有照射至前述非有效區域的光線，前述第二調整用光點係從複數個前述發光區域中的第二調整用發光區域所發出且形成有照射至前述非有效區域的光線。
第四態樣的曝光裝置係如第一態樣至第三態樣中任一態樣所記載之曝光裝置，其中前述感測器部係包含有：區域感測器，係具有處於二維性地排列的狀態的複數個受光元件。
第五態樣的曝光裝置係如第一態樣至第四態樣中任一態樣所記載之曝光裝置，其中前述調整用標記係具有：圖案，係用以遮蔽前述調整用光點的一部分之已朝向前述感測器部之光線的通過。
第六態樣的曝光裝置係如第一態樣至第五態樣中任一態樣所記載之曝光裝置，其中進一步具備有：驅動部，係可使前述發光部以及前述微透鏡陣列部之中的至少一者的可動部移動；以及控制部，係因應前述相對性的位置關係的訊號藉由前述驅動部使前述至少一者的可動部移動，藉此調整複數個前述發光部與複數個前述微透鏡之間的相對性的位置關係。 [發明功效]
依據第一態樣的曝光裝置，例如獲得微透鏡陣列部中的調整用光點與調整用標記之間的相對性的位置關係的資訊，並因應該相對性的位置關係使發光部以及微透鏡陣列部的至少一者移動，藉此能降低發光部與微透鏡陣列部之間的相對性的位置的偏移。因此，例如即使在微透鏡陣列部與曝光對象物之間存在有可能會產生倍率誤差以及收差等製造上的誤差之成像光學系統之情形中，亦不會被成像光學系統中的倍率誤差以及收差等製造上的誤差影響，而能獲得發光部與微透鏡陣列部之間的相對性的位置關係的資訊。藉此，例如能降低感測器部所要求的位置對準的精度。結果，例如能容易地提升曝光裝置中的二維的圖案的曝光精度。
依據第二態樣的曝光裝置，例如由於複數個微透鏡與調整用標記位於微透鏡陣列，因此複數個微透鏡與調整用標記的位置對準係容易。結果，例如能提升曝光裝置中的二維的圖案的曝光精度。
依據第三態樣的曝光裝置，例如因應兩處的調整用光點與調整用標記之間的相對性的位置關係的資訊使發光部以及微透鏡陣列部的至少一者移動，藉此能降低亦包含有複數個發光區域與複數個微透鏡的旋轉方向之相對性的位置的偏移。結果，例如能提升曝光裝置中的二維的圖案的曝光精度。
依據第四態樣的曝光裝置，例如使用具有區域感測器之感測器部，藉此無論調整用光點與調整用標記的偏離的方向為何皆能取得調整用光點與調整用標記之間的相對性的位置關係的訊號。結果，例如能容易地提升曝光裝置中的二維的圖案的曝光精度。此外，例如在存在有用以掌握被複數個曝光頭照射的複數個圖案光線之間的相對性的位置關係的計測用的感測器之情形中，將該計測器用的感測器兼用為感測器部，因此能降低曝光裝置的大型化以及複雜化。
依據第五態樣的曝光裝置，例如能以一次拍攝來實現已捕捉到調整用光點之影像的取得以及已捕捉到調整用標記之影像的取得，該調整用光點係可辨識與調整用光點的基準位置對應的位置，該調整用標記係可辨識與調整用標記的基準位置對應的位置。藉此，例如感測器部係能迅速地取得調整用光點與調整用標記之間的相對性的位置關係的訊號。結果，能迅速地提升曝光裝置中的二維的圖案的曝光精度。此外，例如為了藉由感測器部獲得已捕捉到可辨識與調整用標記的基準位置對應的位置之調整用標記之影像的訊號，曝光裝置亦可不具備有發光部以外之用以照射調整用標記之照明。藉此，例如能降低曝光裝置的大型化以及複雜化。
依據第六態樣的曝光裝置，例如能因應調整用光點與調整用標記之間的相對性的位置關係的資訊，自動地降低複數個發光區域與複數個微透鏡之間的相對性的位置的偏移。藉此，例如即使在不熟悉曝光裝置的調整作業的操作員使用曝光裝置之情形中，亦能降低複數個發光區域與複數個微透鏡之間的相對性的位置的偏移。結果，例如能容易地提升曝光裝置中的二維的圖案的曝光精度。
以下依據圖式說明本發明的各個實施形態。在圖式中對具有同樣的構成以及功能的部分附上相同的元件符號，並在以下的說明中省略重複說明。圖式係示意性地顯示，各個圖中的各種構造的尺寸以及位置關係等並未精確地描繪。於圖1至圖3、圖5至圖7、圖9、圖12中的(a)、(b)以及圖16中的(a)至圖17中的(b)附上右手系統的XYZ座標系統。在該XYZ座標系統中，將曝光裝置10的主掃描方向作為Y軸方向，將曝光裝置10的副掃描方向作為X軸方向，將與X軸方向以及Y軸方向的兩個方向正交的垂直方向作為Z軸方向。具體而言，將重力方向(鉛直方向)作為－Z方向。
(1)第一實施形態 圖1係用以顯示第一實施形態的曝光裝置10的概略性的構成的一例之側視圖。圖2係用以顯示第一實施形態的曝光裝置10的概略性的構成的一例之俯視圖。
曝光裝置10係直接描繪型的描繪裝置，且為用以對處理對象物照射已因應CAD(computer-aided design；電腦輔助設計)資料等進行過空間調變的圖案光線(描繪光線)並將圖案(例如電路圖案)予以曝光(描繪)之裝置(亦稱為圖案曝光裝置)。作為處理對象物，例如採用形成有阻劑(resist)等感光材料的層之基板W的上表面(感光材料的層的上表面)等。更具體而言，作為在曝光裝置10中的處理對象物之基板W係例如包括半導體基板、印刷基板、液晶顯示裝置等所具備的彩色濾光片(color filter)用基板、液晶顯示裝置或者電漿顯示裝置等所具備的平板顯示器(flat panel display)用玻璃基板、磁碟用基板、光碟用基板以及太陽電池面板用基板等。在以下的說明中，將基板W設定成長方形狀的基板。
曝光裝置10係例如具備有基台15以及支撐框16。支撐框16係例如位於基台15上，且具有處於將基台15沿著X軸方向橫跨的狀態之門狀的形狀。此外，曝光裝置10係例如具備有工作台4、工作台驅動機構5、工作台位置計測器6、曝光部8以及控制部9。
(工作台4) 工作台4係用以保持基板W之部分。工作台4係例如位於基台15上。具體而言，工作台4係例如具有平板狀的外形。在此情形中，工作台4係例如能保持以水平的姿勢載置於平坦的上表面上的基板W。在此，例如只要於工作台4的上表面存在有複數個吸引孔(未圖示)，則工作台4即能藉由於這些複數個吸引孔形成負壓(吸引壓力)以已固定的狀態將基板W保持於工作台4的上表面。
(工作台驅動機構5) 工作台驅動機構5係例如能使工作台4相對於基台15移動。工作台驅動機構5係例如位於基台15上。工作台驅動機構5係例如具有旋轉機構51、支撐板52以及副掃描機構53。旋轉機構51係例如能使工作台4於旋轉方向(繞著Z軸的旋轉方向(θ方向))旋轉。支撐板52係例如經由旋轉機構51支撐工作台4。副掃描機構53係例如能使支撐板52於副掃描方向(X軸方向)移動。此外，工作台驅動機構5係例如具有基座板54以及主掃描機構55。基座板54係例如經由副掃描機構53支撐支撐板52。主掃描機構55係例如能使基座板54於主掃描方向(Y軸方向)移動。
具體而言，旋轉機構51係例如通過工作台4的上表面(載置有基板W之被載置面)的中心，並能以與該被載置面垂直的假想的旋轉軸A作為中心使工作台4旋轉。作為旋轉機構51的構成，例如能採用包含有旋轉軸部511以及旋轉驅動部(例如旋轉馬達)512之構成。在此情形中，旋轉軸部511係處於沿著鉛直方向(Z軸方向)延伸的狀態。旋轉軸部511的上端係例如處於被固定於工作台4的背面側的狀態。旋轉驅動部512係例如處於以旋轉自如之方式保持旋轉軸部511的下端的狀態，並能使旋轉軸部511旋轉。依據此種構成，例如工作台4能因應旋轉驅動部512所為之旋轉軸部511的旋轉而在水平面內以旋轉軸A作為中心旋轉。在此，例如亦可藉由對後述的圖案資料960施予仿射轉換(affine transformation)等公知的旋轉校正從而進行旋轉方向的位置對準等，以取代旋轉機構51。
副掃描機構53係例如具有線性馬達(linear motor)531以及一對導引構件532。線性馬達531係例如具有：移動件，係以安裝於支撐板52的下表面的狀態位於支撐板52的下表面；以及固定件，係以敷設於基座板54的上表面的狀態位於基座板54的上表面。一對導引構件532係例如以沿著副掃描方向彼此平行的狀態敷設於基座板54的上表面的狀態位於基座板54的上表面。在此，例如滾珠軸承(ball bearing)係位於各個導引構件532與支撐板52之間。該滾珠軸承係例如能一邊相對於導引構件532滑動一邊沿著該導引構件532的長度方向(副掃描方向)移動。因此，支撐板52係處於經由滾珠軸承被一對導引構件532支撐的狀態。藉此，例如當使線性馬達531動作時，支撐板52係能一邊被一對導引構件532導引一邊沿著副掃描方向順暢地移動。
主掃描機構55係例如具有線性馬達551以及一對導引構件552。線性馬達551係例如具有：移動件，係處於安裝於基座板54的下表面的狀態；以及固定件，係處於敷設於基台15上的狀態。一對導引構件552係例如處於沿著主掃描方向彼此平行地敷設於基台15的上表面的狀態。在此，各個導引構件552係應用能將例如作為機械要素構件的LM導引組件(註冊商標)，該機械要素構件係使用「滾動件(rolling)」導引機械的直線運動部。此外，當例如空氣軸承(air bearing)位於各個導引構件552與基座板54之間時，基座板54係以未接觸到導引構件552的狀態被支撐。若採用此種構成，例如當使線性馬達551動作時，基座板54係能一邊被一對導引構件552導引一邊沿著主掃描方向以不會產生摩擦之方式順暢地移動。
(工作台位置計測部6) 工作台位置計測部6係例如能計測工作台4的位置。作為工作台位置計測部6，例如能採用干擾式的雷射測長器。干擾式的雷射測長器係例如能從工作台4的外部朝工作台4射出雷光並接收該雷射光的反射光，且依據該反射光與射出光之間的干擾計測工作台4的位置(具體而言為沿著主掃描方向的Y方向的位置)。在此，例如亦可使用線性標度尺(linear scale)來取代雷射測長器。
(曝光部8) 曝光部8係例如能形成圖案光線並將該圖案光線照射至基板W。曝光部8係例如具有複數個曝光單元800以及感測器部850。圖3係用以顯示第一實施形態的曝光單元800以及感測器部850的構成之概略立體圖。圖4係用以顯示第一實施形態的曝光頭82以及感測器部850的構成之概略側視圖。在圖4中省略鏡子(mirror)825，空間光線調變器820、第一成像光學系統822、微透鏡陣列部(亦稱為MLA部)824、第二成像光學系統826以及感測器部850係排列於同一個光軸上。曝光部8係例如具有圖3中分別所示的複數台(例如九台)曝光單元800。在此，例如曝光部8中的曝光單元800的台數亦可非為九台，而是亦可為一台以上。各個曝光單元800係例如具有曝光頭82，並被支撐框16支撐。在此，支撐框16係例如分別包含有排列於X軸方向的複數個曝光頭82，並以支撐排列於Y軸方向的複數個(例如兩個)曝光頭82的排列的狀態設置(參照圖2以及圖9)。
(光源部80) 光源部80係例如能產生成為曝光部8照射至基板W的圖案光線的基礎之光線。例如，各個曝光單元800亦可具有一個光源部80，或者複數個曝光單元800亦可具有一個光源部80。光源部80係例如具有雷射振盪器以及照明光學系統。雷射振盪器係能接收來自雷射驅動部的驅動訊號並輸出雷射光。照明光學系統係能將從雷射振盪器輸出的光線(點波束(spot beam))設定成強度分布均一的光線。從光源部80輸出的光線係被輸入至曝光頭82。在此，例如亦可採用下述構成：從一個光源部80輸出的雷射光係被分割成複數個雷射光並被輸入至複數個曝光頭82。
(曝光頭82) 曝光頭82係例如具有空間光線調變器820、第一成像光學系統822、MLA部824、鏡子825以及第二成像光學系統826。此外，曝光頭82亦可例如具有測定器84。在第一實施形態中，例如圖3所示，空間光線調變器820、第一成像光學系統822以及MLA部824係位於支撐框16的＋Z方向側。此外，例如第二成像光學系統826以及測定器84係位於支撐框16的＋Y方向側。此種曝光頭82係例如以被收容於第一收容箱(未圖示)的狀態配置。在此情形中，第一收容箱係以在支撐框16的＋Z方向側中於＋Y方向延伸且在支撐框16的＋Y方向側中於－Z方向延伸的狀態配置。光源部80係例如位於第二收容箱802內，該第二收容箱802係以被固定於第一收容箱的＋Z方向側的狀態配置。在此，例如從光源部80朝－Z方向輸出的光線係被鏡子804反射並射入至空間光線調變器820。
此外，在第一實施形態中，如圖3所示，空間光線調變器820、第一成像光學系統822以及MLA部824係位於沿著第一成像光學系統822的光軸822p(參照圖5)的一直線上。在此，如圖3所示，通過第一成像光學系統822以及MLA部824的圖案光線係朝＋Y方向前進並照射至鏡子825且反射至－Z方向。該經過反射的圖案光線係射入至第二成像光學系統826。因此，例如曝光頭82所含有的構成中的一部分的構成係位於沿著Y軸向的一直線上，而其他的一部分的構成係位於沿著Z軸方向的一直線上。換言之，例如曝光頭82所含有的複數個構成係排列於L字狀的路徑上。藉此，例如與曝光頭82所含有的複數個構成位於沿著Z軸方向的一直線上之情形相比，能降低Z軸方向中的曝光頭82的高度。結果，例如能降低曝光裝置10的高度，能提升曝光裝置10的設置的自由度。
(空間光線調變器820) 空間光線調變器820係具有數位反射元件(DMD；digital mirror device)。該數位反射元件係例如能使射入光線中之有助於圖案的描繪之必要光線與無助於圖案的描繪之不要光線朝彼此不同的方向反射，藉此將射入光線予以空間調變。能應用空間調變元件作為數位反射元件，該空間條件元件係以多個(1920個×1080個)的微鏡M1於記憶體單元上排列成矩陣狀的狀態配置。各個微鏡M1係例如構成一邊約10µm的正方形狀的一個像素。數位反射元件係在從微鏡M1之側俯視觀看時具有例如約20mm×10mm的矩形狀的外形。在數位反射元件中，例如依據來自控制部9的控制訊號將數位訊號寫入至記憶體單元，微鏡M1的各者係將對角線作為中心傾斜成需要的角度。藉此，形成已因應數位訊號的圖案光線。換言之，空間光線調變器820係例如為具有複數個微鏡M1之部分(亦稱為發光部)，該複數個微鏡M1係作為用以藉由從光源部80射入的光線的反射而分別發出光線之複數個區域(亦稱為發光區域)。
圖5係用以顯示第一實施形態的曝光頭82中的第一單元850的構成的一例之概略側視圖。如圖5所示，第一單元850係例如具有基準部850b、空間光線調變器820、第一基座部820b、MLA部824以及第二基座部824b。
基準部850b係例如為成為用以構成第一單元850之各部的位置的基準之部分。在第一實施形態中，於基準部850b包含有支撐框16或者固定於支撐框16之其他的構件。亦可於其他的構件包含有例如上面說明過的第一收容箱等。在此，在存在有用以將第二透鏡12L(參照圖4)以及MLA部824以可於光軸方向(Y軸方向)移動的方式保持之透鏡移動部之情形中，亦可於基準部850b包含有透鏡移動部。
第一基座部820b係例如處於連結至基準部850b的狀態且處於保持空間光線調變器820的狀態。當在圖5的例子中朝－X方向側面觀看時，第一基座部820b係處於從基準部850b朝與鉛直方向相反的＋Z方向(亦稱成上方向)延伸的狀態。此外，空間光線調變器820係在基準部850b的上方中處於被第一基座部820b單側保持的狀態(亦稱為懸臂狀態)。藉此，例如能謀求第一基座部820b的小型化以及減少構件，並能降低曝光頭82的高度。第一基座部820b例如亦可為處於被固定於基準部850b的狀態之各種構件，或亦可為處於與基準部850b一體性地構成的狀態。
此外，第一基座部820b係例如亦可以可變更空間光線調變器820相對於基準部850b的相對性的位置之方式保持空間光線調變器820。在此情形中，第一基座部820b係例如具有第一驅動部820d，該第一驅動部820d係可使空間光線調變器820作為可移動的部分(亦稱為可動部)移動。第一驅動部820d係例如包含有用以使空間光線調變器820沿著X軸方向並進移動之機構(亦稱為並進機構)、用以使空間光線調變器820沿著Z軸方向並進移動之並進機構以及用以使空間光線調變器820以沿著Y軸方向的光軸822p作為中心旋轉移動之機構(亦稱為旋轉機構)。並進機構係例如由具有下述構件的構成等所實現：線性導引件(linear guide)；以及滾珠螺桿(ball screw)等直線動作機構，係可將六角扳手等所賦予的旋轉力轉換成直線動作成分的力量；或者步進馬達(stepping motor)，係因應電性訊號的賦予自動地產生直線動作成分的力量；或者壓電元件。旋轉機構係例如由具有下述構件的構成等所實現：旋轉軸；軸承；以及可將滾珠螺桿等直線動作機構所賦予的直線動作成分的力量轉換成旋轉力之機構；或者旋轉馬達，係因應電性訊號的賦予自動地產生旋轉力。作為用以將直線動作成分轉換成旋轉成分之方式，能例舉例如齒條(rack)及平齒輪(spur wheel)方式或者連桿(link)機構方式等。藉由具有此種構成之第一驅動部820d，例如能調整空間光線調變器820與MLA部824之間的相對性的位置關係。
(第一成像光學系統822) 第一成像光學系統822係具有第一鏡筒8220以及第二鏡筒8222。如圖4所示，第一鏡筒8220係處於保持第一透鏡10L的狀態。第二鏡筒8222係處於保持第二透鏡12L的狀態。第一透鏡10L以及第二透鏡12L係位於藉由空間光線調變器820所形成的圖案光線的路徑上。如圖5中的(a)所示，例如第一成像光學系統822的光軸822p係位於沿著Y軸方向的位置。在此，第一透鏡10L係例如能將從空間光線調變器820的各個微鏡M1輸出的圖案光線統整成沿著Y軸方向的平行光並導引至第二透鏡12L。第一透鏡10L係例如亦可由一個透鏡所構成，亦可由複數個透鏡所構成。第二透鏡12L係例如為像側遠心(image side telecentric)的透鏡，能將來自第一透鏡10L的圖案光線在與第二透鏡12L的光軸822p平行的狀態下導引至MLA部824。在此，將擴大光學系統應用於第一成像光學系統822，該擴大光學系統係例如以超過一倍的橫倍率(例如約兩倍)將空間光線調變器820所形成的圖案光線予以成像。在此情形中，例如第二透鏡12L的半徑係變成比第一透鏡10L的半徑還大。第一鏡筒8220以及第二鏡筒8222係例如在直接地固定於支撐框16的狀態或者經由其他的構件間接地固定於支撐框16的狀態下設置。亦可於其他的構件包含有例如上述說明的第一收容箱等。
(微透鏡陣列部(MLA部)824) MLA部824係具有微透鏡陣列(亦稱為MLA)824a。該MLA824a係具有複數個微透鏡ML1。在第一實施形態的MLA824a中以複數個微透鏡ML1一體性地構成的狀態配置。複數個微透鏡ML1係例如以與空間光線調變器820中之作為複數個發光區域的複數個微鏡M1對應之方式排列成矩陣狀的狀態配置。在第一實施形態中，在X軸方向以及Z軸方向的各個方向中，複數個微透鏡ML1係以預先設定的預定的間距配置。此外，微透鏡ML1係位於空間光線調變器820中之作為複數個發光區域的複數個微鏡M1各者所發出的光線的路徑上。藉此，於複數個微透鏡ML1的各者形成有微鏡M1所發出的光束的一像素分量的點。
如圖5所示，第二基座部824b係處於保持MLA部824的狀態。該第二基座部824b係例如以連結至基準部850b的狀態配置。當在圖5的例子中朝－X方向側面觀看時，第二基座部824b係處於從基準部850b朝與鉛直方向相反的＋Z方向(亦稱成上方向)延伸的狀態。此外，MLA部824係在基準部850b的上方中處於被第二基座部824b單側保持的狀態(亦稱為懸臂狀態)。藉此，例如能謀求第二基座部824b的小型化以及減少構件，並能降低曝光頭82的高度。第二基座部824b例如亦可為處於被固定於基準部850b的狀態之各種構件，或亦可為處於與基準部850b一體性地構成的狀態。
此外，第二基座部824b係例如亦可以可變更MLA部824相對於基準部850b的相對性的位置之方式保持MLA部824。在此情形中，第二基座部824b係例如具有第二驅動部824d，該第二驅動部824d係可使MLA部824作為可動部移動。第二驅動部824d係例如包含有用以使MLA部824沿著X軸方向並進移動之並進機構、用以使MLA部824沿著Z軸方向並進移動之並進機構以及用以使MLA部824以沿著Y軸方向的光軸822p作為中心旋轉移動之旋轉機構。並進機構係例如由具有下述構件的構成等所實現：線性導引件；以及滾珠螺桿等直線動作機構，係可將六角扳手等所賦予的旋轉力轉換成直線動作成分的力量；或者步進馬達，係因應電性訊號的賦予自動地產生直線動作成分的力量；或者壓電元件。旋轉機構係例如由具有下述構件的構成等所實現：旋轉軸；軸承；以及可將滾珠螺桿等直線動作機構所賦予的直線動作成分的力量轉換成旋轉力之機構；或者旋轉馬達，係因應電性訊號的賦予自動地產生旋轉力。藉由具有此種構成之第二驅動部824d，例如能調整空間光線調變器820與MLA部824之間的相對性的位置關係。
圖6中的(a)係用以顯示第一實施形態的MLA部824的構成的一例之概略前視圖。如圖6中的(a)所示，MLA部824係例如具有：區域(亦稱為有效區域)Ar1，係包含有複數個微透鏡ML1；以及區域(亦稱為非有效區域)Ar2，係在與複數個微透鏡ML1的光軸垂直的方向中位於有效區域Ar1的外側。有效區域Ar1係例如為MLA部824中之利用於照射至基板W的圖案光線的形成之區域。各個微透鏡ML1係例如具有與第一成像光學系統822的光軸822p平行的光軸。在此，空間光線調變器820係具有與MLA部824中之有效區域Ar1所含有的複數個微透鏡ML1相同數量以上的微鏡M1。在此，有效區域Ar1中的複數個微透鏡ML1係將來自DMD的複數個微鏡M1的光線聚光，藉此形成由複數個光的點(亦稱為聚光點)所構成的點陣列(spot array)824SA。在此，點陣列824SA中的聚光點的排列以及間距係與MLA824a中的複數個微透鏡ML1的排列以及間距對應。在第一實施形態中，例如第一成像光學系統822係為了將空間光線調變器820所形成的約20mm×10mm的圖案光線放大成約兩倍，故MLA824a係形成影像尺寸約40mm×20mm的點陣列824SA。在此，由於來自DMD的各個微鏡M1的光線係被有效區域Ar1的微透鏡ML1聚光，因此連結來自各個微鏡M1的光線之一個像素分量的點的尺寸係被縮窄且保持成較小。因此，投影至基板W的影像(DMD影像)的鮮銳度係可保持成較高。
此外，在第一實施形態中，空間光線調變器820係除了具有與有效區域Ar1的複數個微透鏡ML1對應的複數個微鏡M1以外，亦具有作為調整用的發光區域(亦稱為調整用發光區域)之一個以上的微鏡(亦稱為調整用微鏡)M1r(參照圖5)。調整用微鏡M1r係能將調整用微鏡M1r中的反射所發出的光線照射至MLA部824的非有效區域Ar2。藉此，從調整用微鏡M1r所發出且照射至非有效區域Ar2的光線係能形成一個像素分量的調整用的光的點(亦稱為調整用光點)S1r(參照圖7)。
此外，如圖6中的(a)所示，MLA部824係在非有效區域Ar2中具有調整用的標記(亦稱為調整用標記)Mk1。換言之，非有效區域Ar2係包含有調整用標記Mk1。在此，例如只要複數個微透鏡ML1與調整用標記Mk1位於MLA部824，複數個微透鏡ML1與調整用標記Mk1之間的位置對準就會容易。在第一實施形態中，於非有效區域Ar2中的有效區域Ar1的四個角落的附近分別存在有調整用標記Mk1。換言之，存在有四個調整用標記Mk1。在圖6中的(a)的例子中，四個調整用標記Mk1係包含有第一調整用標記Mk1a、第二調整用標記Mk1b、第三調整用標記Mk1c以及第四調整用標記Mk1d。第一調整用標記Mk1a係位於有效區域Ar1中的＋Z方向之側且位於＋X方向之側的角落附近。第二調整用標記Mk1b係位於有效區域Ar1中的＋Z方向之側且位於－X方向之側的角落附近。第三調整用標記Mk1c係位於有效區域Ar1中的－Z方向之側且位於－X方向之側的角落附近。第四調整用標記Mk1d係位於有效區域Ar1中的－Z方向之側且位於＋X方向之側的角落附近。在MLA部824具有四個調整用標記Mk1之情形中，空間光線調變器820係具有四個調整用微鏡M1r。
此外，例如針對四個調整用標記Mk1各者，從四個調整用微鏡M1r中之對應的調整用微鏡M1r發出並照射至非有效區域Ar2的光線係形成調整用光點S1r。具體而言，例如針對第一調整用標記Mk1a，從作為第一調整用發光區域的第一調整用微鏡M1r發出並照射至非有效區域Ar2的光線係形成第一調整用光點S1r。針對第二調整用標記Mk1b，從作為第二調整用發光區域的第二調整用微鏡M1r發出並照射至非有效區域Ar2的光線係形成第二調整用光點S1r。針對第三調整用標記Mk1c，從第三調整用微鏡M1r發出並照射至非有效區域Ar2的光線係形成第三調整用光點S1r。針對第四調整用標記Mk1d，從第四調整用微鏡M1r發出並照射至非有效區域Ar2的光線係形成第四調整用光點S1r。各個調整用標記Mk1係位於藉由非有效區域Ar2中的調整用微鏡M1r形成調整用光點之區域或者該區域的附近。
調整用標記Mk1係例如具有光線的透過狀態與非有效區域Ar2中的周圍的部分不同之性質。具體而言，調整用標記Mk1係應用例如將用以遮住位於MLA部824的表面部等之光線的透過之膜(亦稱為遮光膜)等。遮光膜係應用例如具有遮光性之金屬製或者樹脂製的薄膜。在此，例如在遮光膜應用金屬製的薄膜之情形時，藉由濺鍍等各種成膜法容易地實現遮光膜的薄膜化，且藉由各種成膜法以及蝕刻等容易地實現遮光膜的形狀的圖案化(patterning)。金屬製的薄膜的素材係應用鉻、鎳或者鋁等。再者，遮光膜亦可位於有效區域Ar1中的複數個微透鏡ML1以外的部分，亦可位於各個微透鏡ML1中之沿著外周部分的區域。在此情形中，例如在沿著光軸822p的＋Y方向俯視觀看MLA部824時，以圍繞各個微透鏡ML1之方式配置遮光膜。
圖6中的(b)係用以顯示第一實施形態的MLA部824中的調整用標記Mk1的構成的一例之概略前視圖。如圖6中的(b)所示，在第一實施形態中調整用標記Mk1係例如具有遮光膜的圖案Pt1。在圖6中的(b)的例子中，圖案Pt1係處於形成未存在有遮光膜的四個部分(亦稱為窗部)W1的狀態。各個窗部W1係例如具有與一個像素分量的調整用光點S1r對應的形狀以及尺寸。各個窗部W1係例如具有正方形狀的形狀。四個窗部W1係在以兩個窗部W1沿著X軸方向排列且兩個窗部W1沿著Z軸方向排列之方式排列成矩陣狀的狀態配置。藉此，圖案Pt1係包含有位於四個窗部W1之間的十字狀的部分(亦稱為十字部)。在此，四個窗部W1係在有效區域Ar1中將排列成矩陣狀的複數個微透鏡ML1的位置作為基準且在X軸方向以及Z軸方向各者中存在於偏移預定的間距的一半分量的矩陣狀的位置。
圖7係用以顯示第一實施形態的調整用標記Mk1以及調整用光點S1r的一例之概略前視圖。在採用圖6中的(b)所示的調整用標記Mk1之情形中，如圖7所示，調整用標記Mk1所具有的圖案Pt1係能遮蔽調整用光點S1r的一部分之已朝向感測器部850之光線的通過。此外，在此，例如在未產生空間光線調變器820與MLA部824之間的相對性的位置的偏移(亦稱為位置偏移)的狀態下，調整用光點S1r的第一基準位置Cn1與圖案Pt1的第二基準位置Cn2係一致。在此，例如採用調整用光點S1r的中心位置作為第一基準位置Cn1，採用圖案Pt1的十字部的中心位置作為第二基準位置Cn2。此外，在已產生空間光線調變器820與MLA部824之間的相對性的位置偏移的狀態下，因應空間光線調變器820與MLA部824之間的相對性的位置偏移，第一基準位置Cn1與第二基準位置Cn2係偏移。
(第二成像光學系統826) 第二成像光學系統826係例如位於從MLA部824中的複數個微透鏡ML1射出之光線的路徑上。第二成像光學系統826係例如具有第一鏡筒8260以及第二鏡筒8262。第一鏡筒8260係例如處於保持第一透鏡20L的狀態。第二鏡筒8262係例如處於保持第二透鏡22L的狀態。第一透鏡20L以及第二透鏡22L係例如處於在Z軸方向隔著需要的間隔並固定於支撐框16的狀態。更具體而言，第一鏡筒8260以及第二鏡筒8262係例如藉由連結構件一體性地連結，且這些第一鏡筒8260以及第二鏡筒8262的鏡筒間的間隔係維持成一定。作為連結構件，例如採用用以收容第一鏡筒8260以及第二鏡筒8262之框體。第一透鏡20L係可由一個透鏡所構成，亦可由複數個透鏡所構成。
第二成像光學系統826係例如作成兩側遠心。例如，當第二成像光學系統826的像側作成遠心時，即使基板W的感光材料的位置於圖案光線的光軸方向偏移時，圖案光線的影像的大小亦成為一定，而可以高精度曝光。在此，例如當第二成像光學系統826的物體側亦作成遠心時，即使假設第一成像光學系統822的第二透鏡12L以及MLA部824可於光軸方向移動，亦可在維持第二成像光學系統826的像側中的圖案光線的影像的大小的狀態下直接進行基板W的感光材料的曝光。
於第二成像光學系統826的第二透鏡22L例如應用放大光學系統，該放大光學系統係以超過一倍的橫倍率(例如約三倍)將圖案光線予以放大並成像。此時，第二透鏡22L的半徑係比第一透鏡20L的半徑還大。因此，例如點陣列824SA係藉由第二成像光學系統826被放大成約三倍而變成約120mm×60mm的大小，且被投影至基板W的感光材料的上表面(亦稱為感光材料面)。該感光材料面係被曝光頭82投影圖案光線之面(亦稱為投影面)FL1。
(曝光頭82所為之圖案光線的投影) 依據具有上述構成的第一實施形態的曝光頭82，藉由作為空間光線調變器820的DMD所形成的圖案光線係經由第一成像光學系統822、MLA部824以及第二成像光學系統826投影至基板W。接著，藉由DMD所形成之圖案光線係隨著主掃描機構55所為之工作台4的移動，藉由以主掃描機構55的編碼器訊號為基礎所作成的重置脈波(reset pulse)連續性地被變更。藉此，圖案光線係被照射至基板W的感光材料面(投影面FL1)並形成有條紋(stripe)狀的影像(參照圖9)。
在此，例如亦可存在有透鏡移動部，該透鏡移動部係用以將第一成像光學系統822的第二透鏡12L以及MLA部824可移動地保持於光軸方向(在此為Y軸方向)。該透鏡移動部係例如可構成為具備有移動板、一對導軌(guide rail)以及移動驅動部。例如，一對導軌係例如位於支撐框16上。移動板係例如為形成為矩形的板狀之構件，且位於導軌上。第二鏡筒8222以及MLA部824係例如以在Y軸方向隔著需要的間隔固定於移動板的上表面的狀態配置。此時，例如移動板係接受來自移動驅動部的驅動力，可一邊被一對導軌導引一邊沿著Y軸方向移動。藉此，第二透鏡12L以及MLA部824係能於接近第一透鏡10L之方向(－Y方向)以及遠離第一透鏡10L之方向(＋Y方向)移動。移動驅動部係例如由線性馬達式或者滾珠螺桿式的驅動部等所構成。該移動驅動部係例如能依據來自控制部9的控制訊號使移動板移動。
如此，例如第二透鏡12L以及MLA部824只要能於光軸方向(Y軸方向)移動，則亦可如圖3所示存在有測定器84。測定器84係能測定曝光頭82與作為基板W的表面的感光材料面(投影面FL1)之間的離開距離。測定器84係例如能配置於第二鏡筒8262的下端部、從第二成像光學系統826離開的位置或者支撐框16上。測定器84係例如具有：照射器840，係將雷射光照射至基板W；以及受光器842，係接收被基板W反射的雷射光。照射器840係例如沿著相對於基板W的表面之法線方法(在此為Z軸方向)以預定的角度傾斜的軸對基板W的上表面照射雷射光。受光器842係例如具有於Z軸方向延伸的線感測器(line sensor)，並能在該線感測器上檢測在基板W的表面反射的雷射光的射入位置。藉此，例如能測定曝光頭82與基板W的感光材料面(投影面FL1)之間的離開距離。控制部9係能因應測定器84所檢測的離開距離的訊號調整曝光頭82所輸出的圖案光線的光軸方向中的成像位置(焦距位置)。在此情形中，例如控制部9係對透鏡移動部輸出控制訊號並使移動板移動，藉此能使第二鏡筒8222的第二透鏡12L以及MLA部824沿著Y軸方向移動。
在此，例如當測定器84接近基板W的感光材料面(投影面FL1)中之被第二成像光學系統826輸出的圖案光線照射的位置時，能在即將曝光之前或者與曝光大致同時地測定基板W的感光材料面(投影面FL1)的高度的變動。此時，例如控制部9能依據測定結果調整圖案光線的焦距位置。此外，亦可在曝光前預先測定基板W的感光材料面(投影面FL1)的各部分的高度，且控制部9係在曝光頭82針對每個部分曝光之時間點(timing)調整對焦位置。
(感測器部850) 感測器部850係例如具有光學系統851以及感測器852。光學系統851以及感測器852係例如以能位於從空間光線調變器820發出且已通過MLA部824的非有效區域Ar2中之包含有調整用標記Mk1之區域的光線的路徑上之方式配置。具體而言，例如圖3以及圖4所示，將在曝光頭82對基板W照射圖案光線時被曝光頭82投影圖案光線之投影面FL1所在的面作為假想基準面之情形中，感測器部850係能夾著假想基準面位於與曝光頭82相反側。感測器部850係例如能在基台15上以工作台4從曝光部8的正下方退避的狀態位於曝光頭82的正下方之方式配置。感測器部850係例如在可沿著基台15的上表面移動的狀態被基台15保持。感測器部850係例如具有下述構成：藉由線性馬達、線性導引件以及板的組合等，而可沿著基台15的上表面分別於X軸方向以及Y軸方向移動。
光學系統851係例如具有對物透鏡以及成像透鏡等。對物透鏡係例如應用具有適當的倍率之透鏡。成像透鏡係例如能將從被拍攝體經由對物透鏡射入的光線成像至感測器852。在第一實施形態中，光學系統851係例如能將從MLA部824的非有效區域Ar2發出的光線成像至感測器852的受光面上。感測器852係例如應用區域感測器等。區域感測器係例如具有處於沿著作為第一方向的X軸方向排列的狀態之複數個受光元件以及處於沿著與第一方向交叉且作為第二方向的Y軸方向排列的狀態之複數個受光元件。區域感測器係例如應用CCD(Charge Coupled Device；電荷耦合元件)等拍攝元件。區域感測器中的第一方向與第二方向亦可不正交，而是具有以不同的角度(例如60°等)交叉之關係。換言之，區域感測器亦可具有例如處於二維地排列的狀態之複數個受光元件。此外，感測器部850亦可具有例如仿真性地排列於光學系統851的光軸上之照明部(亦稱為同軸照明部)853。藉此，例如感測器部850係能一邊藉由同軸照明部853照明被拍攝體一邊高精度地拍攝位於暗處的被拍攝體(調整用標記Mk1等)。同軸照明部853係例如應用作為光源之雷射發光二極體、準直透鏡(collimated lens)以及半鏡(half mirror)等。
感測器部850係例如可在從空間光線調變器820所發出且通過MLA部824的非有效區域Ar2中之包含有調整用標記Mk1的區域之光線的路徑上輸出調整用光點S1r與MLA部824的調整用標記Mk1之間的相對性的位置關係的訊號，該調整用光點S1r係從空間光線調變器820中的複數個微鏡M1中的調整用微鏡M1r發出並形成有照射至非有效區域Ar2之光線。
在此，例如設定下述情形：感測器部850係在光束從調整用微鏡M1r照射至非有效區域Ar2時拍攝調整用光點S1r，而在光束未從調整用微鏡M1r照射至非有效區域Ar2時拍攝調整用標記Mk1。在此情形中，感測器部850係能輸出已捕捉到包含有第一基準位置Cn1的調整用光點S1r之第一影像的訊號以及已捕捉到包含有第二基準位置Cn2的調整用標記Mk1之第二影像的訊號。第一影像中的調整用光點S1r的位置與第二影像中的調整用標記Mk1的位置之間的相對性的關係係與調整用光點S1r與調整用標記Mk1之間的相對性的位置關係對應。因此，感測器部850係能藉由第一影像的訊號的輸出以及第二影像的訊號的輸出而輸出調整用光點S1r與調整用標記Mk1之間的相對性的位置關係的訊號。
在第一實施形態中，感測器部850係可沿著基台15上移動至能拍攝各個調整用標記Mk1之位置，且於MLA部824存在有四個調整用標記Mk1。因此，例如感測器部850係能輸出第一調整用光點S1r與第一調整用標記Mk1a之間的相對性的位置關係(亦稱為第一相對性的位置關係)的訊號。感測器部850係能輸出第二調整用光點S1r與第二調整用標記Mk1b之間的相對性的位置關係(亦稱為第二相對性的位置關係)的訊號。感測器部850係能輸出第三調整用光點S1r與第三調整用標記Mk1c之間的相對性的位置關係(亦稱為第三相對性的位置關係)的訊號。感測器部850係能輸出第四調整用光點S1r與第四調整用標記Mk1d之間的相對性的位置關係(亦稱為第四相對性的位置關係)的訊號。
如此，曝光裝置10係例如能藉由感測器部850獲得MLA部824中的調整用光點S1r與調整用標記Mk1之間的相對性的位置關係的資訊。因此，曝光裝置10係例如能不受位於MLA部824與基板W的感光材料之間的第二成像光學系統826中的倍率誤差以及收差等製造上的誤差之影響地獲得空間光線調變器820與MLA部824之間的相對性的位置關係的資訊。藉此，例如能降低感測器部850所要求的位置對準的精度。此外，例如因應MLA部824中的調整用光點S1r與調整用標記Mk1之間的相對性的位置關係的資訊使空間光線調變器820以及MLA部824的至少一者移動，藉此能降低空間光線調變器820與MLA部824之間的相對性的位置偏移。此外，例如即使存在第二成像光學系統826中的倍率誤差以及收差，感測器部850只要能相對於複數個曝光頭82相對性地移動，則感測器部850亦能捕捉MLA部824中的調整用光點S1r與調整用標記Mk1之間的相對性的位置關係。結果，例如能容易地提升曝光裝置10中的二維的圖案的曝光精度。
在此，設想例如調整用光點S1r的尺寸為約60µm×60µm且調整用標記Mk1的十字部的線寬為約6µm之情形。在此情形中，例如當第一基準位置Cn1與第二基準位置Cn2一致時，從感測器部850之側觀看的調整用光點S1r係藉由十字部的存在而在各個窗部W1中具有約27µm×27µm×的尺寸。在此，設想例如下述的感測器部850：對物透鏡的倍率為20倍，區域感測器的受光面的尺寸為8.4mm×7.0mm，受光元件的排列間距為3.45µm。此時，在感測器部850中，MLA部824中的觀察視野係變成420µm×350µm，在拍攝所能獲得的影像的一個像素中所捕捉到的MLA部824中的微小部分的尺寸係變成約0.173µm×0.173µm。亦即，感測器部850的解析度係變成0.173µm。因此，在感測器部850所為之拍攝所能獲得的影像中，以充分的精度捕捉到調整用光點S1r與調整用標記Mk1之間的相對性的位置關係的資訊。此外，在此例如假設即使因為第二成像光學系統826的倍率誤差以及收差等從感測器部850之側觀看時調整用光點S1r伸縮數十µm，感測器部850亦能藉由寬的觀察視野容易地獲得已捕捉到調整用光點S1r的影像。因此，無須感測器部850的高精度的繁雜的位置對準。
此外，例如具有區域感測器的感測器部850係不論調整用光點S1r與調整用標記Mk1之間的偏移的方向為何皆能取得調整用光點S1r與調整用標記Mk1之間的相對性的位置關係的訊號。結果，例如能在曝光裝置10中容易地提升二維的圖案的曝光精度。
此外，例如設想下述情形：在曝光裝置10具有複數個曝光頭82之情形中，曝光裝置10係具有用以計測各個曝光頭82照射至投影面FL1之圖案光線的位置與工作台4之間的相對性的位置關係的感測器(亦稱為計測用感測器)。依據該計測用感測器，能掌握被複數個曝光頭82照射的複數個圖案光線的相對性的位置關係。在此，例如計測用感測器亦可越過附有圖形(chart)且透明的玻璃板拍攝複數個曝光頭82。在此情形中，例如只要將計測用感測器兼用為感測器部850，即能降低曝光裝置10的大型化以及複雜化。結果，能降低曝光裝置10的製造成本的增大。
(控制部9) 圖8係用以顯示第一實施形態的曝光裝置10的匯流排配線的一例之方塊圖。控制部9係具有中央運算單元(亦即CPU(Central Processing Unit；中央處理器))90、讀取專用記憶體(亦即ROM(Read Only Memory；唯讀記憶體))92、RAM(Random Access Memory；隨機存取記憶體)94以及記憶部96。CPU90係具有作為運算電路的功能。RAM94係具有作為CPU90的暫時性的工作區域的功能。記憶部96係應用非揮發性的記錄媒體。
控制部9係例如經由匯流排配線、網路線路或者序列通訊線路等分別與旋轉機構51、副掃描機構53、主掃描機構55、光源部80(例如光源驅動器)、空間光線調變器820、測定器84以及感測器部850等曝光裝置10的構成要素連接，並控制各種構成要素的動作。這些構成要素亦可例如包含有透鏡移動部，該透鏡移動部係以可於光軸方向(Y軸方向)移動的方式保持第二透鏡12L以及MLA部824。
CPU90係一邊讀取一邊執行儲存於ROM92內的程式920，藉此進行針對儲存於RAM94或者記憶部96的各種資料的運算。控制部9係例如具有一般的電腦的構成。描繪控制部900以及位置關係辨識部910係藉由CPU90依循程式920而動作所實現的功能性的要素。這些要素的一部分或者全部亦可例如由邏輯電路等而實現。在此，例如描繪控制部900係控制連接於控制部9的各種構成要素的動作，藉此能對基板W的上表面照射圖案光線(描繪光線)。位置關係辨識部910係例如能依據感測器部850所為之拍攝所能獲得的影像的訊號，針對MLA部824的各個調整用標記Mk1辨識與調整用光點S1r之間的相對性的位置。
記憶部96係例如記憶用以顯示應描繪於基板W上的圖案之圖案資料960。圖案資料960係例如應用已將CAD軟體等所作成的向量形式的資料展開成光域(raster)形式的資料之影像資料。控制部9係例如依據圖案資料960控制空間光線調變器820的DMD，藉此能調變從曝光頭82輸出的光束。在曝光裝置10中，例如能依據從主掃描機構55的線性馬達551輸送而來的線性標度尺訊號生成調變的重置脈波。能藉由依據該重置脈波所動作之空間光線調變器820的DMD從各個曝光頭82輸出已因應基板W的位置調變過的圖案光線。在第一實施形態中，圖案資料960係例如可為用以顯示單一個影像(用以顯示應形成於基板W的全面的圖案之影像)之資料，亦可為用以個別地顯示單一個影像中之各個曝光頭82進行描繪的部分的影像之資料。
於控制部9連接有例如顯示部980以及操作部982。顯示部980係例如應用一般的CRT(cathode ray tube；陰極射線管)螢幕或者液晶顯示器等，該顯示部980係可顯示各種資料的影像。在此，顯示部980係例如能可視性地顯示針對MLA部824的各個調整用標記Mk1之與調整用光點S1r之間的相對性的位置關係的資料作為位置關係辨識部910中的辨識結果。操作部982係例如由各種按鈕、各種按鍵、滑鼠以及觸控面板中的至少任一者所構成，且在操作者對曝光裝置10輸入各種指令時***作。例如，在操作部982包含有觸控面板之情形中，操作部982亦可具有顯示部980的功能的一部分或者全部。
圖9係用以顯示正在進行圖案曝光的複數個曝光頭82的一例之概略立體圖。如圖9所示，複數個曝光頭82係例如以沿著複數行(column)(在此為兩行)並排列成直線狀的狀態配置。此時，第二行的曝光頭82係例如在副掃描方向(X軸方向)中位於鄰接的第一行的兩個曝光頭82之間。換言之，複數個曝光頭82係以排列成交錯狀的狀態配置。各個曝光頭82的曝光區域82R係具有沿著主掃描方向(Y軸方向)的短邊之矩形狀。隨著工作台4朝向Y軸方向移動，於基板W的感光材料形成有針對各個曝光頭82的帶狀的被曝光區域8R。在此，如上所述，例如當複數個曝光頭82具有交錯狀的排列等之相互偏移的排列，則帶狀的被曝光區域8R係可無間隙地排列於X軸方向。當以帶狀的被曝光區域8R無間隙地配置於X軸方向之方式構成時，由於無須使工作台4於副掃描方向(X軸方向)移動，因此無須副掃描機構53。複數個曝光頭82的配置並未限定於圖9所示的例子。例如亦可以產生曝光區域82R的長邊的長度的自然數倍的間隙之方式於鄰接的被曝光區域8R之間配置有複數個曝光頭82。在此情形中，曝光裝置10係例如一邊於X軸方向錯開曝光區域82R的長邊的長度分量一邊進行複數次Y軸方向的主掃描，藉此能無間隙地將複數個帶狀的被曝光區域8R形成於基板W的感光材料。
(空間光線調變器與MLA部之間的相對性的位置的辨識) 圖10中的(a)至圖11中的(b)係用以說明位置關係辨識部910所為之空間光線調變器820與MLA部824之間的相對性的位置關係的辨識方法之圖。圖10中的(a)係顯示以感測器部850所為之拍攝經由第一實施形態的第一調整用標記Mk1a捕捉到第一調整用光點S1r的影像Im1a。圖10中的(b)係顯示已捕捉到第一實施形態的第一調整用標記Mk1a的影像Im2a。圖11中的(a)係用以顯示以感測器部850所為之拍攝經由第一實施形態的第二調整用標記Mk1b捕捉到第二調整用光點S1r的影像Im1b。圖11中的(b)係顯示已捕捉到第一實施形態的第二調整用標記Mk1b的影像Im2b。
例如，感測器部850係拍攝藉由第一調整用微鏡M1r對MLA部824的第一調整用標記Mk1a照射光束所形成的第一調整用光點S1r，藉此能取得影像Im1a。此時，同軸照明部853亦可不照明MLA部824。另一方面，例如感測器部850係不進行空間光線調變器820對MLA部824照射光束，而是在藉由同軸照明部853照明第一調整用標記Mk1a的狀態下拍攝第一調整用標記Mk1a，藉此能取得影像Im2a。此外，例如感測器部850係拍攝藉由第二調整用微鏡M1r對MLA部824的第二調整用標記Mk1b照射光束所形成的第二調整用光點S1r，藉此能取得影像Im1b。此時，同軸照明部853亦可不照明MLA部824。另一方面，例如感測器部850係不進行空間光線調變器820對MLA部824照射光束，而是在藉由同軸照明部853照明第二調整用標記Mk1b的狀態下拍攝第二調整用標記Mk1b，藉此能取得影像Im2b。
在此，位置關係辨識部910係例如能從影像Im1a以及影像Im2a辨識第一調整用光點S1r與第一調整用標記Mk1a之間的第一相對性的位置關係。此外，位置關係辨識部910係例如能從影像Im1b與影像Im2b辨識第二調整用光點S1r與第二調整用標記Mk1b之間的第二相對性的位置關係。
具體而言，例如能針對影像Im1a獲得與第一調整用光點S1r的第一基準位置Cn1對應之位置(亦稱為第一A對應基準位置)Cn1a的座標(Xa、Ya)。在此，例如能在影像Im1a中使用圖案匹配(pattern matching)等影像處理檢測已捕捉到第一調整用光點S1r之區域的四個角部C1a、C2a、C3a、C4a並算出四個角部C1a、C2a、C3a、C4a的座標的平均，藉此獲得座標(Xa、Ya)。此外，例如能針對影像Im2a獲得與第一調整用標記Mk1a的第二基準位置Cn2對應之位置(亦稱為第二A對應基準位置)Cn2a的座標(XAa、YAa)。在此，例如能在影像Im2a中使用圖案匹配等影像處理檢測與第二基準位置Cn2對應之第二A對應基準位置Cn2a，藉此獲得座標(XAa、YAa)。此外，能辨識與第一基準位置Cn1對應之第一A對應基準位置Cn1a的座標(Xa、Ya)以及與第二基準位置Cn2對應之第二A對應基準位置Cn2a的座標(XAa、YAa)之間的偏移。座標(Xa、Ya)與座標(XAa、YAa)之間的偏移係與第一調整用光點S1r與第一調整用標記Mk1a之間的第一相對性的位置關係對應。在此，例如影像上的座標的偏移亦可被轉換成實際空間中的第一調整用光點S1r與第一調整用標記Mk1a之間的第一相對性的位置關係。
此外，例如能針對影像Im1b獲得與第二調整用光點S1r的第一基準位置Cn1對應之位置(亦稱為第一B對應基準位置)Cn1b的座標(Xb、Yb)。在此，例如能在影像Im1b中使用圖案匹配等影像處理檢測已捕捉到第二調整用光點S1r之區域的四個角部C1b、C2b、C3b、C4b並算出四個角部C1b、C2b、C3b、C4b的座標的平均，藉此獲得座標(Xb、Yb)。此外，例如能針對影像Im2b獲得與第二調整用標記Mk1b的第二基準位置Cn2對應之位置(亦稱為第二B對應基準位置)Cn2b的座標(XAb、YAb)。在此，例如能在影像Im2b中使用圖案匹配等影像處理檢測與第二基準位置Cn2對應之第二B對應基準位置Cn2b，藉此獲得座標(XAb、YAb)。此外，能辨識與第一基準位置Cn1對應之第一B對應基準位置Cn1b的座標(Xb、Yb)以及與第二基準位置Cn2對應之第二B對應基準位置Cn2b的座標(XAb、YAb)之間的偏移。座標(Xb、Yb)與座標(XAb、YAb)之間的偏移係與第二調整用光點S1r與第二調整用標記Mk1b之間的第二相對性的位置關係對應。在此，例如影像上的座標的偏移亦可被轉換成實際空間中的第二調整用光點S1r與第二調整用標記Mk1b之間的第二相對性的位置關係。
在第一實施形態中，如上所述，位置關係辨識部910係例如辨識第一相對性的位置關係以及第二相對性的位置關係，藉此能辨識空間光線調變器820與MLA部824之間的相對性的位置關係。
(空間光線調變器與MLA部之間的相對性的位置偏移的降低) 例如，交互地進行感測器部850所為之拍攝以及位置關係辨識部910所為之空間光線調變器820與MLA部824之間的相對性的位置關係的辨識以及空間光線調變器820與MLA部824之間的相對性的位置關係的調整，藉此降低空間光線調變器820與MLA部824之間的相對性的位置偏移。
在圖10中的(a)以及圖10中的(b)的例子中，第一調整用光點S1r係相對於第一調整用標記Mk1a於－Z方向(下方向)偏移。另一方面，在圖11中的(a)以及圖11中的(b)的例子中，第二調整用光點S1r係相對於第二調整用標記Mk1b於＋Z方向(上方向)偏移。因此，在從圖10中的(a)至圖11中的(b)的例子中，從空間光線調變器820朝MLA部824照射的圖案光線係以MLA部824為基準於將沿著Y軸方向的第一成像光學系統822的光軸822p作為中心的旋轉方向偏移。換言之，空間光線調變器820與MLA部824係具有在將光軸822p作為中心的旋轉方向中相對性地偏移之位置關係。
在此種情形中，例如能藉由第一驅動部820d所為之空間光線調變器820的旋轉移動以及第二驅動部824d所為之MLA部824的旋轉移動的至少一者降低將光軸822p作為中心的旋轉方向中的空間光線調變器820與MLA部824之間的相對性的位置偏移。在此，例如將光軸822p作為中心的旋轉方向中的空間光線調變器820與MLA部824之間的相對性的位置偏移係以(Ya－YAa)與(Yb－YAb)之間的差變小之方式變小。此外，只要(Ya－YAa)＝(Yb－YAb)的關係成立，則變成不會有將光軸822p作為中心的旋轉方向中的空間光線調變器820與MLA部824之間的相對性的位置偏移的狀態。
在第一實施形態中，如上所述，例如感測器部850係輸出兩處以上的調整用光點S1r與調整用標記Mk1之間的相對性的位置關係的訊號。因此，位置關係辨識部910係能辨識亦包含有空間光線調變器820與MLA部824之間的旋轉方向之相對性的位置偏移。藉此，可因應位置關係辨識部910所辨識且亦包含有空間光線調變器820與MLA部824之間的旋轉方向之相對性的位置偏移，降低空間光線調變器820與MLA部824之間的相對性的位置偏移。結果，例如能提升曝光裝置10中的二維的圖案的曝光精度。
此外，例如能藉由第一驅動部820d所為之沿著空間光線調變器820的X軸方向之並進移動以及第二驅動部824d所為之沿著MLA部824的X軸方向之並進移動的至少一者來降低X軸方向中的空間光線調變器820與MLA部824之間的相對性的位置偏移。在此，例如X軸方向中的空間光線調變器820與MLA部824之間的相對性的位置偏移係以Xa與XAa之間的差以及Xb與XAb之間的差變小之方式變小。此外，當Xa＝XAa以及Xb＝XAb的關係成立時，則變成不會有X軸方向中的空間光線調變器820與MLA部824之間的相對性的位置偏移的狀態。
此外，例如能藉由第一驅動部820d所為之沿著空間光線調變器820的Z軸方向之並進移動以及第二驅動部824d所為之沿著MLA部824的Z軸方向之並進移動的至少一者來降低Z軸方向中的空間光線調變器820與MLA部824之間的相對性的位置偏移。在此，例如Z軸方向中的空間光線調變器820與MLA部824之間的相對性的位置偏移係以Ya與YAa之間的差以及Yb與YAb之間的差變小之方式變小。此外，當Ya＝YAa以及Yb＝YAb的關係成立時，則變成不會有Z軸方向中的空間光線調變器820與MLA部824之間的相對性的位置偏移的狀態。
(第一實施形態的彙整) 如上所述，依據第一態樣的曝光裝置10，例如獲得MLA部824中的調整用光點S1r與調整用標記Mk1之間的相對性的位置關係的資訊，並因應該相對性的位置關係的資訊使空間光線調變器820以及MLA部824的至少一者移動，藉此能降低空間光線調變器820與MLA部824之間的相對性的位置偏移。因此，例如即使在MLA部824與曝光對象物之間存在有可能會產生倍率誤差以及收差等製造上的誤差之第二成像光學系統826之情形中，亦不會被第二成像光學系統826中的倍率誤差以及收差等製造上的誤差影響，而能獲得空間光線調變器820與MLA部824之間的相對性的位置關係的資訊。藉此，例如能降低感測器部850所要求的位置對準的精度。結果，例如能容易地提升曝光裝置10中的二維的圖案的曝光精度。
(2)其他實施形態 本發明並未限定於第一實施形態，可在未逸離本發明的精神之範圍內進行各種變更以及改良等。
(2-1)第二實施形態 在上述第一實施形態中，例如MLA部824亦可具有MLA824a以及用以保持MLA824a之透鏡保持部824h。圖12中的(a)係用以顯示第二實施形態的第一單元850的構成的一例之構略側視圖。圖12中的(b)係用以顯示第二實施形態的MLA部824的構成的一例之概略前視圖。在圖12中的(a)以及圖12中的(b)的例子中，透鏡保持部824h係框狀的部分，沿著圍繞MLA824a中之以圍繞有效區域Ar1之方式配置的外周部。透鏡保持部824h的素材亦可應用例如鋁、不鏽鋼、黄銅以及銅等熱傳導性優異的金屬，或者亦可應用玻璃等透明的素材。
在此，在透鏡保持部824h的素材為透明之情形中，由遮光膜的圖案Pt1所構成的調整用標記Mk1亦可位於透鏡保持部824h中之接近MLA824a之部分。在此情形中，透鏡保持部824h中之接近MLA824a之部分亦可視為非有效區域Ar2。相對於此，例如只要複數個微透鏡ML1與調整用標記Mk1位於MLA824a，則複數個微透鏡ML1與調整用標記Mk1之間的位置對準係容易。結果，例如能提升曝光裝置10中的二維的圖案的曝光精度。
(2-2)第三實施形態 在上述各個實施形態中，例如亦可藉由控制部9的控制自動地調整空間光線調變器820與MLA部824之間的相對性的位置關係的調整。
圖13係用以顯示第三實施形態的曝光裝置的匯流排配線之方塊圖。圖13的方塊圖係以上述各個實施形態的方塊圖(圖8)作為基礎，於連接至控制部9之曝光裝置10的構成要素加上驅動部860，並於藉由CPU90依循程式920而動作所實現之功能性的要素加上位置調整部911。
驅動部860係例如包含有第一驅動部820d以及第二驅動部824d中的至少一者。藉此，驅動部860係例如能使空間光線調變器820以及MLA部824中的至少一者的可動部移動。包含有位置關係辨識部910與位置調整部911之控制部9係例如能因應從感測器部850輸出的空間光線調變器820與MLA部824之間的相對性的位置關係的訊號，藉由驅動部860使空間光線調變器820以及MLA部824中的至少一者的可動部移動。藉此，控制部9係例如能調整空間光線調變器820與MLA部824之間的相對性的位置關係。
在此，位置調整部911係例如依據位置關係辨識部910所辨識的空間光線調變器820與MLA部824之間的相對性的位置關係的資訊控制驅動部860的動作，藉此能調整空間光線調變器820與MLA部824之間的相對性的位置關係。在此，例如能因應調整用光點S1r與調整用標記Mk1之間的相對性的位置關係的資訊自動地降低空間光線調變器820與MLA部824之間的相對係的位置偏移。只要採用此種構成，例如即使為不熟悉曝光裝置10的使用之操作者，亦能降低空間光線調變器820與複數個MLA部824之間的相對性的位置偏移。結果，例如能容易地提升曝光裝置10中的二維的圖案的曝光精度。
圖14以及圖15係用以顯示第三實施形態的曝光裝置10中之針對用以降低空間光線調變器820與MLA部824之間的相對性的位置偏移的動作(亦稱為位置調整動作)之動作流程的一例之流程圖。於圖14的流程圖顯示有位置調整動作的主要的動作流程。於圖15的流程圖顯示有圖14的步驟Sp1、步驟Sp8以及步驟Sp12中的感測器部850所為之用以取得空間光線調變器820與MLA部824之間的相對性的位置關係的訊號之動作的動作流程。位置調整動作係例如在響應曝光裝置10中之藉由操作者對於操作部982的操作並因應所輸入的預定的指定而開始，且藉由控制部9的控制而執行。
在圖14的步驟Sp1中，感測器部850係取得空間光線調變器820與MLA部824之間的相對性的位置關係的訊號。在步驟Sp1中，執行圖15的步驟Sp11至步驟Sp16的動作流程。在此，為了方便說明，列舉針對一個曝光頭82取得空間光線調變器820與MLA部824之間的相對性的位置關係的訊號之處理進行說明。
在步驟Sp11中，控制部9係將用以顯示感測器部850的拍攝對象為第k號(k為自然數)的調整用標記Mk1之數值k設定成1。在步驟Sp12中，藉由控制部9的控制，感測器部850係移動至用以拍攝第k號的調整用標記Mk1之位置。在步驟Sp13中，感測器部850係拍攝第k號的調整用光點(例如第k調整用光點)S1r。此時，感測器部850係朝控制部9輸出已捕捉到第k號的調整用光點S1r之影像的訊號。在步驟Sp14中，感測器部850係拍攝第k號的調整用標記(例如第k調整用標記)Mk1。此時，感測器部850係朝控制部9輸出已捕捉到第k號的調整用標記Mk1之影像的訊號。在步驟Sp15中，控制部9係判定數值k是否已經到達至用以顯示拍攝對象的調整用標記Mk1的個數之數值n(n為自然數)。在圖6中的(a)以及圖12中的(b)的例子中，控制部9係例如能因應已與操作者對於操作部982的操作響應之輸入將數值n設定成2至4的任意的數字。在步驟Sp15中，當數值k未到達至數值n時，在步驟Sp16中控制部9係對數值k加上1並返回至步驟Sp12。接著，當第n次反復從步驟Sp12至步驟Sp16的處理時，數值k到達至數值n，結束圖15的動作流程。
在圖14的步驟Sp2中，位置關係辨識部910係依據在先前的步驟Sp13以及步驟Sp14中的拍攝所獲得的影像之訊號，算出將光軸822p作為中心的旋轉方向中的空間光線調變器820與MLA部824之間的位置偏移。在此，所算出的旋轉方向中的位置偏移係例如以角度來表示。
在步驟Sp3中，位置關係辨識部910係判定在步驟Sp2所算出的旋轉方向中的位置偏移是否在預先設定的容許範圍內。在此，當旋轉方向中的位置偏移不在容許範圍內時，前進至步驟Sp4。容許範圍係例如能由角度等來規定。
在步驟Sp4中，位置調整部911係因應在步驟Sp2所算出的旋轉方向中的位置偏移，藉由驅動部860使空間光線調變器820以及MLA部824的至少一者的移動部在將光軸822p作為中心的旋轉方向中移動。當結束步驟Sp4的動作時，返回至步驟Sp1。亦即，反復步驟Sp1至步驟Sp4的動作直至結束旋轉方向中的位置偏移的調整為止。接著，在步驟Sp3中，當判定成旋轉方向中的位置偏移為容許範圍內時，前進至步驟Sp5。藉此，結束旋轉方向中的位置偏移的調整。
在步驟Sp5中，位置關係辨識部910係依據先前的步驟Sp13以及步驟Sp14中的拍攝所獲得的影像的訊號，算出X軸方向中的空間光線調變器820與MLA部824之間的位置偏移。在此，所算出的X軸方向中的位置偏移例如係可為實際空間中的位置偏移，亦可為影像上的位置偏移。
在步驟Sp6中，位置關係辨識部910係判定步驟Sp5所算出的X軸方向中的位置偏移是否在預先設定的容許範圍內。在此，當X軸方向中的位置偏移不在容許範圍內時，前進至步驟Sp7。容許範圍係例如由影像上的像素數或者實際空間中的距離等所規定。
在步驟Sp7中，位置調整部911係因應在步驟Sp5所算出的X軸方向中的位置偏移，藉由驅動部860使空間光線調變器820以及MLA部824的至少一者的移動部在X軸方向中移動。當步驟Sp7的動作結束時，前進至步驟Sp8。
在步驟Sp8中，與步驟Sp1同樣地，感測器部850係取得空間光線調變器820與MLA部824之間的相對性的位置關係的訊號。在步驟Sp8中，執行圖15的動作流程後，返回至步驟Sp5。亦即，反復步驟Sp5至步驟Sp8的動作直至X軸方向中的位置偏移的調整結束為止。接著，在步驟Sp6中，當判定成X軸方向中的位置偏移為容許範圍內時，前進至步驟Sp9。藉此，結束X軸方向中的位置偏移的調整。
在步驟Sp9中，位置關係辨識部910係依據先前的步驟Sp13以及步驟Sp14中的拍攝所獲得的影像的訊號，算出Z軸方向中的空間光線調變器820與MLA部824之間的位置偏移。在此，所算出的Z軸方向中的位置偏移例如係可為實際空間中的位置偏移，亦可為影像上的位置偏移。
在步驟Sp10中，位置關係辨識部910係判定步驟Sp9所算出的Z軸方向中的位置偏移是否在預先設定的容許範圍內。在此，當Z軸方向中的位置偏移不在容許範圍內時，前進至步驟Sp11。容許範圍係例如由影像上的像素數或者實際空間中的距離等所規定。
在步驟Sp11中，位置調整部911係因應在步驟Sp9所算出的Z軸方向中的位置偏移，藉由驅動部860使空間光線調變器820以及MLA部824的至少一者的移動部在Z軸方向中移動。當步驟Sp11的動作結束時，前進至步驟Sp12。
在步驟Sp12中，與步驟Sp1同樣地，感測器部850係取得空間光線調變器820與MLA部824之間的相對性的位置關係的訊號。在步驟Sp12中，執行圖15的動作流程後，返回至步驟Sp9。亦即，反復步驟Sp9至步驟Sp12的動作直至Z軸方向中的位置偏移的調整結束為止。接著，在步驟Sp10中，當判定成Z軸方向中的位置偏移為容許範圍內時，結束Z軸方向中的位置偏移的調整並結束位置調整動作的動作流程。
(2-3)其他 在上述各個實施形態中，例如在不存在空間光線調變器820與MLA部824之間的相對性的位置偏移之情形中，調整用標記Mk1的第二基準位置Cn2與調整用光點S1r的第一基準位置Cn1無需一致，只要相對性的位置關係明確則亦可不一致。
在上述各個實施形態中，例如只要在感測器部850的拍攝所獲得之已捕捉到調整用標記Mk1之影像中可辨識調整用標記Mk1中之與第二基準位置Cn2對應之位置，且在感測器部850的拍攝所獲得之已捕捉到調整用光點S1r之影像中可辨識調整用光點S1r中之與第一基準位置Cn1對應之位置，則調整用標記Mk1的形狀亦可為任何形狀。
圖16中的(a)係用以顯示調整用標記Mk1的變異的一例之概略前視圖。圖16中的(b)係用以顯示調整用標記Mk1的變異的一例與調整用光點S1r之概略前視圖。如圖16中的(a)以及圖16中的(b)所示，調整用標記Mk1亦可不具有四個窗部W1，而是具有存在有遮光膜的圖案Pt1所形成的十字部之構成。
圖17中的(a)係用以顯示調整用標記Mk1的變異的另一例之概略前視圖。圖17中的(b)係用以顯示調整用標記Mk1的變異的另一例與調整用光點S1r之概略前視圖。如圖17中的(a)以及圖17中的(b)所示，調整用標記Mk1亦可具有存在有一個大的窗部W1的圖案Pt1，該一個大的窗部W1係包含形成有調整用光點S1r之區域。
在上述各個實施形態中，MLA部824所具有的調整用標記Mk1的個數亦可為一個。即使採用此種構成，亦能例如降低X軸方向以及Z軸方向各者中的空間光線調變器820與MLA部824之間的相對性的位置偏移。
在上述各個實施形態中，例如只要MLA部824所具有的調整用標記Mk1的個數為三個以上的較多的個數，則即使存在有第二成像光學系統826的收差等亦能更精度佳地降低空間光線調變器820與MLA部824之間的相對性的位置偏移。
在上述各個實施形態中，例如圖6中的(b)以及圖16中的(a)所示，只要調整用標記Mk1具有用以遮蔽調整用光點S1r的一部分之已朝向感測器部850之光線的通過之圖案Pt1，則感測器部850係能以一次拍攝來實現已捕捉到調整用光點S1r以及調整用標記Mk1之影像的取得以及輸出，該調整用光點S1r以及調整用標記Mk1係可辨識與第一基準位置Cn1對應的位置且可辨識與第二基準位置Cn2對應的位置。例如，當調整用光點S1r的光量未過度時，則如圖10中的(a)以及圖11中的(a)所示能在已捕捉到調整用光點S1r之影像中鮮明地捕捉已遮蔽調整用光點S1r之遮光膜的圖案Pt1的十字部的影像。此時，變成可從已捕捉到調整用光點S1r之影像辨識調整用光點S1r中之已捕捉到第一基準位置Cn1之位置以及調整用標記Mk1中之已捕捉到第二基準位置Cn2之位置的狀態。藉此，例如感測器部850係能迅速地取得調整用光點S1r與調整用標記Mk1之間的相對性的位置關係的訊號。結果，能迅速地提升曝光裝置10中的二維的圖案的曝光精度。此外，例如為了藉由感測器部850獲得已捕捉到可辨識調整用標記Mk1中之與第二基準位置Cn2對應的位置之調整用標記Mk1之影像的訊號，曝光裝置10亦可不具備有空間光線調變器820以外之如同軸照明部853般之用以照射調整用標記Mk1之照明部。藉此，例如能降低曝光裝置10的大型化以及複雜化。
此外，在此種情形中，例如亦可不藉由位置關係辨識部910辨識MLA部824中的調整用光點S1r與調整用標記Mk1之間的相對性的位置關係。例如，亦可一邊藉由感測器部850隨時取得已捕捉到調整用光點S1r與調整用標記Mk1之影像的訊號，一邊使顯示部980可視性地輸出該影像的訊號。此時，操作者能一邊觀看顯示部980一邊驅動第一驅動部820d以及第二驅動部824d中的至少一者，藉此能降低空間光線調變器820與MLA部824之間的相對性的位置偏移。
在上述各個實施形態中，例如感測器部850亦可取代區域感測器地包含具有處於沿著第一方向(例如X軸方向)排列的狀態的複數個受光元件之線感測器以及具有處於與第一方向交叉的第二方向(例如Y軸方向)排列的狀態的複數個受光元件之線感測器。在此情形中，例如亦能針對第一方向取得調整用光點S1r與調整用標記Mk1之間的相對性的位置關係，並能針對第二方向取得調整用光點S1r與調整用標記Mk1之間的相對性的位置關係。
例如，在上述各個實施形態中，例如亦可於基台15上存在有兩個以上的感測器部850。
例如，在上述各個實施形態中，複數個發光區域並未限定於如DMD的微鏡M1般之藉由光線的反射發出光線的形態，亦可為藉由自發光等其他形態發出光線的形態。在此，例如作為發光部的空間光線調變器820亦可針對來自光源部的射入光線中之有助於圖案的描繪之必要光線與無助於圖案的描繪之不要光線切換透過以及遮蔽，藉此將射入光線作為空間調變。在此情形中，例如於光源部應用進行自發光之背光等。於空間光線調變器820應用例如可切換複數個區域中的光線的透過與遮蔽之透過型的液晶等。在此種構成中，透過型的液晶係作為具有複數個發光區域的發光部而發揮作用，該複數個發光區域係藉由從作為光源部的背光所射入的光線的透過而發別發出光線。
在上述各個實施形態中，例如曝光裝置10亦可應用下述裝置：對金屬粉體照射圖案光線，並以具有期望的形狀之方式將金屬粉體穩固，藉此形成三維造形物。
當然，在未矛盾的範圍內亦可適當地組合用以分別構成上述各個實施形態以及各種變化例之全部或者一部分。
4:工作台 5:工作台驅動機構 6:工作台位置計測器 8:曝光部 8R:被曝光區域 9:控制部 10:曝光裝置 10L、20L:第一透鏡 12L、22L:第二透鏡 15:基台 16:支撐框 51:旋轉機構 52:支撐板 53:副掃描機構 54:基座板 55:主掃描機構 80:光源部 82:曝光頭 82R:曝光區域 84:測定器 90:CPU(中央運算單元) 92:ROM(讀取專用記憶體) 94:RAM 96:記憶部 511:旋轉軸部 512:旋轉驅動部 531、551:線性馬達 532、552:導引構件 800:曝光單元 802:第二收容箱 804、825:鏡子 820:空間光線調變器 820b:第一基座部 820d:第一驅動部 822:第一成像光學系統 822p:光軸 824:微透鏡陣列部(MLA部) 824a:微透鏡陣列(MLA) 824b:第二基座部 824d:第二驅動部 824h:透鏡保持部 824SA:點陣列 826:第二成像光學系統 840:照射器 842:受光器 850:感測器部 850b:基準部 851:光學系統 852:感測器 853:照明部(同軸照明部) 860:驅動部 900:描繪控制部 910:位置關係辨識部 911:位置調整部 920:程式 960:圖案資料 980:顯示部 982:操作部 8220、8260:第一鏡筒 8222、8262:第二鏡筒 A:旋轉軸 Ar1:有效區域 Ar2:非有效區域 C1a、C1b、C2a、C2b、C3a、C3b、C4a、C4b:角部 Cn1:第一基準位置 Cn1a:第一A對應基準位置(位置) Cn1b:第一B對應基準位置(位置) Cn2:第二基準位置 Cn2a:第二A對應基準位置 Cn2b:第二B對應基準位置 FL1:投影面 Im1a、Im1b、Im2a、Im2b:影像 M1:微鏡 M1r:調整用微鏡 ML1:微透鏡 Mk1:調整用標記 Mk1a:第一調整用標記 Mk1b:第二調整用標記 Mk1c:第三調整用標記 Mk1d:第四調整用標記 Pt1:圖案 S1r:調整用光點 Xa、XAa、XAb、Xb、Ya、YAa、YAb、Yb:座標 W:基板 W1:部分(窗部)
圖1係用以顯示各個實施形態的曝光裝置的一例之側視圖。 圖2係用以顯示各個實施形態的曝光裝置的一例之俯視圖。 圖3係用以顯示各個實施形態的曝光單元以及感測器部的構成的一例之概略立體圖。 圖4係用以顯示各個實施形態的曝光頭以及感測器部的構成的一例之概略側視圖。 圖5係用以顯示第一實施形態的第一單元的構成的一例之概略側視圖。 圖6中的(a)係用以顯示第一實施形態的微透鏡陣列部的構成的一例之概略前視圖；圖6中的(b)係用以顯示第一實施形態的微透鏡陣列部中的調整用標記的構成的一例之概略前視圖。 圖7係用以顯示第一實施形態的調整用標記以及調整用光點的一例之構略前視圖。 圖8係用以顯示第一實施形態的曝光裝置的匯流排(bus)配線的一例之方塊圖。 圖9係用以顯示正在進行圖案曝光之複數個曝光頭的一例之構略立體圖。 圖10中的(a)以及圖10中的(b)係用以說明空間光線調變器與MLA部之間的相對性的位置關係的辨識方法之圖。 圖11中的(a)以及圖11中的(b)係用以說明空間光線調變器與MLA部之間的相對性的位置關係的辨識方法之圖。 圖12中的(a)係用以顯示第二實施形態的第一單元的構成的一例之概略側視圖，圖12中的(b)係用以顯示第二實施形態的微透鏡陣列部的構成的一例之概略前視圖。 圖13係用以顯示第三實施形態的曝光裝置的匯流排配線的一例之方塊圖。 圖14係用以顯示針對第三實施形態的曝光裝置中的位置調整動作的動作流程的一例之流程圖。 圖15係用以顯示針對第三實施形態的曝光裝置中的位置調整動作的動作流程的一例之流程圖。 圖16中的(a)係用以顯示調整用標記的變異(variation)的一例之概略前視圖，圖16中的(b)係用以顯示調整用標記的變異的一例與調整用光點的一例之概略前視圖。 圖17中的(a)係用以顯示調整用標記的變異的另一例之概略前視圖，圖17中的(b)係用以顯示調整用標記的變異的另一例與調整用光點的另一例之概略前視圖。
16:支撐框
80:光源部
82:曝光頭
84:測定器
800:曝光單元
802:第二收容箱
804、825:鏡子
820:空間光線調變器
822:第一成像光學系統
824:微透鏡陣列部(MLA部)
824a:微透鏡陣列(MLA)
826:第二成像光學系統
840:照射器
842:受光器
850:感測器部
851:光學系統
852:感測器
8220、8260:第一鏡筒
8222、8262:第二鏡筒
ML1:微透鏡
Mk1:調整用標記

Claims (6)

  1. 一種曝光裝置，係具備有： 發光部，係具有用以分別發出光線之複數個發光區域； 微透鏡陣列部，係具有有效區域以及非有效區域，前述有效區域係包含有分別位於複數個前述發光區域各者所發出的光線的路徑上之複數個微透鏡，前述非有效區域係在與複數個前述微透鏡的光軸垂直的方向中位於前述有效區域的外側並包含有調整用標記；以及 感測器部，係具有處於沿著第一方向排列的狀態之複數個受光元件以及處於沿著與前述第一方向交叉的第二方向排列的狀態之複數個受光元件； 前述感測器部係可在從前述發光部所發出且通過前述非有效區域中之包含有前述調整用標記的區域之光線的路徑上輸出調整用光點與前述調整用標記之間的相對性的位置關係的訊號，前述調整用光點係從複數個前述發光區域中的調整用發光區域發出並形成有照射至前述非有效區域之光線。
  2. 如請求項1所記載之曝光裝置，其中前述微透鏡陣列部係包含有：微透鏡陣列，係複數個前述微透鏡處於一體性地構成的狀態； 前述微透鏡陣列係包含有前述非有效區域。
  3. 如請求項1所記載之曝光裝置，其中前述微透鏡陣列部係具有：第一調整用標記以及第二調整用標記，係分別包含於前述非有效區域； 前述感測器部係可輸出第一調整用光點與前述第一調整用標記之間的第一相對性的位置關係的訊號，並可輸出第二調整用光點與前述第二調整用標記之間的第二相對性的位置關係的訊號，前述第一調整用光點係從複數個前述發光區域中的第一調整用發光區域所發出且形成有照射至前述非有效區域的光線，前述第二調整用光點係從複數個前述發光區域中的第二調整用發光區域所發出且形成有照射至前述非有效區域的光線。
  4. 如請求項1所記載之曝光裝置，其中前述感測器部係包含有：區域感測器，係具有處於二維性地排列的狀態的複數個受光元件。
  5. 如請求項1所記載之曝光裝置，其中前述調整用標記係具有：圖案，係用以遮蔽前述調整用光點的一部分之已朝向前述感測器部之光線的通過。
  6. 如請求項1所記載之曝光裝置，其中進一步具備有：驅動部，係可使前述發光部以及前述微透鏡陣列部之中的至少一者的可動部移動；以及 控制部，係因應前述相對性的位置關係的訊號藉由前述驅動部使前述至少一者的可動部移動，藉此調整複數個前述發光部與複數個前述微透鏡之間的相對性的位置關係。
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