TW201943818A - 附相位差層之偏光板及有機el顯示裝置 - Google Patents
附相位差層之偏光板及有機el顯示裝置Info
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Abstract
本發明提供一種抑制高溫環境下相位差層產生龜裂之附相位差層之偏光板。本發明之附相位差層之偏光板依序具有偏光板、第1相位差層、黏著劑層、及第2相位差層,第1相位差層及第2相位差層包含液晶化合物,構成黏著劑層之黏著劑相對於100重量份之基礎聚合物包含0.05重量份以上之異氰酸酯交聯劑。
Description
本發明係關於一種附相位差層之偏光板及有機EL(Electroluminescence,電致發光)顯示裝置。
近年,隨著薄型顯示器之普及,提出搭載有機EL面板之圖像顯示裝置(有機EL顯示裝置)。有機EL面板具有反射性較高之金屬層,易產生外界光反射及背景之映入等問題。對此,已知藉由將附相位差層之偏光板(圓偏光板)設置於視認側來防止該等問題。然而,於使用藉由黏著劑貼合包含液晶化合物之2層相位差層而成之積層體作為此種附相位差層之偏光板之相位差層之情形時,存在於高溫環境下相位差層產生龜裂之情形。
[先前技術文獻]
[專利文獻]
[先前技術文獻]
[專利文獻]
[專利文獻1]日本專利第3325560號公報
[發明所欲解決之問題]
本發明係為了解決上述先前之問題而完成者,其主要目的在於提供一種抑制高溫環境下相位差層產生龜裂之附相位差層之偏光板、及使用此種附相位差層之偏光板之有機EL顯示裝置。
[解決問題之技術手段]
[解決問題之技術手段]
本發明之附相位差層之偏光板依序具有偏光板、第1相位差層、黏著劑層、及第2相位差層,上述第1相位差層及上述第2相位差層包含液晶化合物,且構成上述黏著劑層之黏著劑相對於100重量份之基礎聚合物包含0.05重量份以上之異氰酸酯交聯劑。
於1個實施形態中,上述基礎聚合物係(甲基)丙烯酸系聚合物。
於1個實施形態中,上述基礎聚合物含有含羧基之單體作為單體成分。
於1個實施形態中,構成上述黏著劑層之黏著劑進而包含紫外線吸收劑。
於1個實施形態中,上述紫外線吸收劑於分子結構中具有0個~3個羥基。
於1個實施形態中,構成上述黏著劑層之黏著劑進而包含吸收光譜之最大吸收波長存在於380 nm~430 nm之波長區域之色素化合物。
根據本發明之另一態樣,提供一種有機EL顯示裝置。該有機EL顯示裝置具有上述附相位差層之偏光板。
[發明之效果]
於1個實施形態中,上述基礎聚合物係(甲基)丙烯酸系聚合物。
於1個實施形態中,上述基礎聚合物含有含羧基之單體作為單體成分。
於1個實施形態中,構成上述黏著劑層之黏著劑進而包含紫外線吸收劑。
於1個實施形態中,上述紫外線吸收劑於分子結構中具有0個~3個羥基。
於1個實施形態中,構成上述黏著劑層之黏著劑進而包含吸收光譜之最大吸收波長存在於380 nm~430 nm之波長區域之色素化合物。
根據本發明之另一態樣,提供一種有機EL顯示裝置。該有機EL顯示裝置具有上述附相位差層之偏光板。
[發明之效果]
根據本發明,藉由使構成配置於2個相位差層之間之黏著劑層的黏著劑相對於100重量份之基礎聚合物包含0.05重量份以上之異氰酸酯交聯劑,可實現抑制高溫環境下相位差層產生龜裂之附相位差層之偏光板。
以下,就本發明之實施形態加以說明,然而,本發明並未限定於該等實施形態。
A.附相位差層之偏光板
圖1係本發明之1個實施形態之附相位差層之偏光板之概略剖視圖。如圖1所示,附相位差層之偏光板100依序具有偏光板10、第1相位差層20、黏著劑層30、及第2相位差層40。即,第1相位差層20與第2相位差層40經由黏著劑層30積層。第1相位差層20及第2相位差層40包含液晶化合物而構成。構成黏著劑層30之黏著劑相對於100重量份之基礎聚合物包含0.05重量份以上之異氰酸酯交聯劑。藉此,可抑制高溫環境下第1相位差層20及/或第2相位差層30產生龜裂。於第2相位差層40之與黏著劑層30之相反側可積層有另一黏著劑層50。藉此,易貼合於例如有機EL面板。
圖1係本發明之1個實施形態之附相位差層之偏光板之概略剖視圖。如圖1所示,附相位差層之偏光板100依序具有偏光板10、第1相位差層20、黏著劑層30、及第2相位差層40。即,第1相位差層20與第2相位差層40經由黏著劑層30積層。第1相位差層20及第2相位差層40包含液晶化合物而構成。構成黏著劑層30之黏著劑相對於100重量份之基礎聚合物包含0.05重量份以上之異氰酸酯交聯劑。藉此,可抑制高溫環境下第1相位差層20及/或第2相位差層30產生龜裂。於第2相位差層40之與黏著劑層30之相反側可積層有另一黏著劑層50。藉此,易貼合於例如有機EL面板。
上述黏著劑之基礎聚合物較佳為(甲基)丙烯酸系聚合物。上述黏著劑之基礎聚合物較佳為含有含羧基之單體作為單體成分。於1個實施形態中,構成黏著劑層30之黏著劑進而包含紫外線吸收劑。於該情形時,紫外線吸收劑較佳為於分子結構中具有0個~3個羥基。又,於1個實施形態中,構成黏著劑層30之黏著劑進而包含吸收光譜之最大吸收波長存在於380 nm~430 nm之波長區域之色素化合物。藉由上述之構成,可賦予黏著劑層30紫外線吸收功能,藉此,可抑制將附相位差層之偏光板用於有機EL顯示裝置之情形時之有機EL元件之劣化。
以下,對構成附相位差層之偏光板100之各層詳細地進行說明。
B.偏光板
偏光板10代表性而言具有偏光元件、配置於偏光元件之一側之第1保護層、及配置於偏光元件之另一側之第2保護層。代表性而言,偏光元件為吸收型偏光元件。第1保護層及第2保護層之中一者可省略。
偏光板10代表性而言具有偏光元件、配置於偏光元件之一側之第1保護層、及配置於偏光元件之另一側之第2保護層。代表性而言,偏光元件為吸收型偏光元件。第1保護層及第2保護層之中一者可省略。
B-1.偏光元件
作為偏光元件,可採用任意適當之偏光元件。例如,形成偏光元件之樹脂膜可為單層之樹脂膜,亦可為兩層以上之積層體。
作為偏光元件,可採用任意適當之偏光元件。例如,形成偏光元件之樹脂膜可為單層之樹脂膜,亦可為兩層以上之積層體。
作為包含單層之樹脂膜之偏光元件之具體例,可列舉對聚乙烯醇(PVA)系膜、部分縮甲醛化PVA系膜、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物系部分皂化膜等親水性高分子膜利用碘或二色性染料等二色性物質實施染色處理及延伸處理而成者、PVA之脫水處理物或聚氯乙烯之脫氯化氫處理物等多烯系配向膜等。自光學特性優異之點而言,較佳為使用將PVA系膜藉由碘染色並單軸延伸而得之偏光元件。
上述利用碘之染色例如可藉由將PVA系膜浸漬於碘水溶液而進行。上述單軸延伸之延伸倍率較佳為3~7倍。延伸可於染色處理後進行,亦可一面染色一面進行。又,亦可延伸後染色。視需要對PVA系膜實施膨潤處理、交聯處理、洗淨處理、乾燥處理等。例如,藉由於染色前將PVA系膜浸漬於水進行水洗,不僅可洗淨PVA系膜表面之污漬或抗黏連劑,亦可使PVA系膜膨潤,防止染色不均等。
作為使用積層體而得之偏光元件之具體例,可列舉使用樹脂基材與積層於該樹脂基材之PVA系樹脂層(PVA系樹脂膜)之積層體、或者樹脂基材與塗佈形成於該樹脂基材之PVA系樹脂層之積層體而得之偏光元件。使用樹脂基材與塗佈形成於該樹脂基材之PVA系樹脂層之積層體而得之偏光元件例如可藉由以下而製得:將PVA系樹脂溶液塗佈於樹脂基材,使其乾燥而於樹脂基材上形成PVA系樹脂層,獲得樹脂基材與PVA系樹脂層之積層體;將該積層體延伸及染色,將PVA系樹脂層製成偏光元件。於本實施形態中,代表性而言,延伸包括將積層體浸漬於硼酸水溶液中進行延伸。進而,延伸可視需要進而包括於硼酸水溶液中之延伸前將積層體於高溫(例如,95℃以上)下空中延伸。所得之樹脂基材/偏光元件之積層體可直接使用(即,可將樹脂基材作為偏光元件之保護層),亦可自樹脂基材/偏光元件之積層體剝離樹脂基材,視目的於該剝離面積層任意適當之保護層後使用。此種偏光元件之製造方法之詳細內容例如記載於日本專利特開2012-73580號公報。該公報之整體之記載引用至本說明書中作為參考。
偏光元件之厚度例如為1 μm~35 μm。於1個實施形態中,偏光元件之厚度較佳為1 μm~15 μm,進而較佳為3 μm~10 μm,尤其較佳為3 μm~8 μm。若偏光元件之厚度於此種範圍內,則可良好地抑制加熱時之捲曲,並且,可獲得良好之加熱時之外觀耐久性。
B-2.保護層
第1及第2保護層由可用作保護偏光元件之膜之任意適當之保護膜所形成。作為該保護膜之主成分之材料之具體例,可列舉三乙醯纖維素(TAC)等纖維素系樹脂、或聚酯系、聚乙烯醇系、聚碳酸酯系、聚醯胺系、聚醯亞胺系、聚醚碸系、聚碸系、聚苯乙烯系、聚降冰片烯系、聚烯烴系、(甲基)丙烯酸系、乙酸酯系等透明樹脂等。又,亦可列舉(甲基)丙烯酸系、胺基甲酸酯系、(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯系、環氧系、矽酮系等熱硬化型樹脂或紫外線硬化型樹脂等。除此以外,例如,亦可列舉矽氧烷系聚合物等玻璃質系聚合物。又,亦可使用日本專利特開2001-343529號公報(WO01/37007)中所記載之聚合物膜。作為該膜之材料,例如,可使用含有側鏈具有經取代或未經取代之亞胺基之熱塑性樹脂、以及側鏈具有經取代或未經取代之苯基及腈基之熱塑性樹脂之樹脂組合物,例如可列舉具有包含異丁烯及N-甲基順丁烯二醯亞胺之交替共聚物、以及丙烯腈-苯乙烯共聚物之樹脂組合物。該聚合物膜例如可為上述樹脂組合物之擠出成形物。
第1及第2保護層由可用作保護偏光元件之膜之任意適當之保護膜所形成。作為該保護膜之主成分之材料之具體例,可列舉三乙醯纖維素(TAC)等纖維素系樹脂、或聚酯系、聚乙烯醇系、聚碳酸酯系、聚醯胺系、聚醯亞胺系、聚醚碸系、聚碸系、聚苯乙烯系、聚降冰片烯系、聚烯烴系、(甲基)丙烯酸系、乙酸酯系等透明樹脂等。又,亦可列舉(甲基)丙烯酸系、胺基甲酸酯系、(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯系、環氧系、矽酮系等熱硬化型樹脂或紫外線硬化型樹脂等。除此以外,例如,亦可列舉矽氧烷系聚合物等玻璃質系聚合物。又,亦可使用日本專利特開2001-343529號公報(WO01/37007)中所記載之聚合物膜。作為該膜之材料,例如,可使用含有側鏈具有經取代或未經取代之亞胺基之熱塑性樹脂、以及側鏈具有經取代或未經取代之苯基及腈基之熱塑性樹脂之樹脂組合物,例如可列舉具有包含異丁烯及N-甲基順丁烯二醯亞胺之交替共聚物、以及丙烯腈-苯乙烯共聚物之樹脂組合物。該聚合物膜例如可為上述樹脂組合物之擠出成形物。
保護膜之厚度較佳為10 μm~100 μm。保護膜可經由接著層(具體而言,接著劑層、黏著劑層)積層於偏光元件,亦可密接(不經由接著層)積層於偏光元件。接著劑層由任意適當之接著劑所形成。作為接著劑,例如可列舉以聚乙烯醇系樹脂為主成分之水溶性接著劑。以聚乙烯醇系樹脂為主成分之水溶性接著劑較佳為可進而含有金屬化合物膠體。金屬化合物膠體可為金屬化合物微粒子分散於分散介質中而成者,可為由於微粒子之同種電荷之相互排斥而靜電穩定、從而永久具有穩定性者。形成金屬化合物膠體之微粒子之平均粒徑只要不對偏光特性等光學特性產生不良影響,便可為任意適當之值。較佳為1 nm~100 nm,進而較佳為1 nm~50 nm。其原因在於:可使微粒子均勻分散於接著劑層中,確保接著性,且可抑制裂點。再者,「裂點」係指於偏光元件與保護膜之界面產生之局部之凹凸缺陷。黏著劑層包含任意適當之黏著劑。
C.相位差層
如上所述,第1及第2相位差層包含液晶化合物而構成。代表性而言,第1及第2相位差層可包括含有液晶化合物之液晶性組合物之配向固化層。於本說明書中,「配向固化層」係指液晶化合物於層內向特定方向配向且其配向狀態固定之層。液晶化合物之配向固化層可藉由以下形成:對特定基材之表面實施配向處理,於該表面塗敷包含液晶化合物之塗敷液,使該液晶化合物向與上述配向處理對應之方向配向,固定該配向狀態。於1個實施形態中,基材為任意適當之樹脂膜,形成於該基材上之配向固化層可轉印於構成附相位差層之偏光板之其他層之表面。液晶化合物之具體例及配向固化層之形成方法之詳細內容記載於日本專利特開2006-163343號公報。該公報之記載引用至本說明書中作為參考。
如上所述,第1及第2相位差層包含液晶化合物而構成。代表性而言,第1及第2相位差層可包括含有液晶化合物之液晶性組合物之配向固化層。於本說明書中,「配向固化層」係指液晶化合物於層內向特定方向配向且其配向狀態固定之層。液晶化合物之配向固化層可藉由以下形成:對特定基材之表面實施配向處理,於該表面塗敷包含液晶化合物之塗敷液,使該液晶化合物向與上述配向處理對應之方向配向,固定該配向狀態。於1個實施形態中,基材為任意適當之樹脂膜,形成於該基材上之配向固化層可轉印於構成附相位差層之偏光板之其他層之表面。液晶化合物之具體例及配向固化層之形成方法之詳細內容記載於日本專利特開2006-163343號公報。該公報之記載引用至本說明書中作為參考。
於1個實施形態中,第1相位差層之面內相位差Re(550)較佳為200 nm~300 nm,第2相位差層之面內相位差Re(550)較佳為100 nm~150 nm。因此,於該情形時,第1相位差層可作為λ/2板發揮功能,第2相位差層可作為λ/4板發揮功能。偏光元件之吸收軸與第1相位差層之遲相軸所成之角度較佳為5°~25°,尤其較佳為約15°。偏光元件之吸收軸與第2相位差層之遲相軸所成之角度較佳為65°~85°,尤其較佳為約75°。於另一實施形態中,第1相位差層之面內相位差Re(550)較佳為120 nm~160 nm,第2相位差層滿足折射率橢球為nz>nx=ny之關係。因此,於該情形時,第1相位差層可作為λ/4板發揮功能,第2相位差層可作為所謂正C板發揮功能。偏光元件之吸收軸與第1相位差層之遲相軸所成之角度較佳為39°~51°,尤其較佳為約45°。
C-1.第1相位差層
於1個實施形態中,第1相位差層可包括含有實質上垂直配向之圓盤型液晶化合物的液晶性組合物之配向固化層。於本說明書中,「圓盤型液晶化合物」係指分子結構中具有圓板狀之液晶原基、於該液晶原基藉由醚鍵或酯鍵呈放射狀鍵結有2~8條側鏈者。第1相位差層之厚度可以可獲得所期望之面內相位差之方式設定,較佳為1 μm~20 μm,更佳為1 μm~12 μm。上述含有圓盤型液晶化合物之液晶性組合物若為包含圓盤型液晶化合物、表現液晶性者,則並無特別限制。上述液晶性組合物中之圓盤型液晶化合物之含量相對於液晶性組合物之總固形物成分100重量份,較佳為40重量份以上且未達100重量份。作為包括上述含有實質上垂直配向之圓盤型液晶化合物之液晶性組合物之配向固化層之相位差膜,可藉由日本專利特開2001-56411號公報中所記載之方法獲得。
於1個實施形態中,第1相位差層可包括含有實質上垂直配向之圓盤型液晶化合物的液晶性組合物之配向固化層。於本說明書中,「圓盤型液晶化合物」係指分子結構中具有圓板狀之液晶原基、於該液晶原基藉由醚鍵或酯鍵呈放射狀鍵結有2~8條側鏈者。第1相位差層之厚度可以可獲得所期望之面內相位差之方式設定,較佳為1 μm~20 μm,更佳為1 μm~12 μm。上述含有圓盤型液晶化合物之液晶性組合物若為包含圓盤型液晶化合物、表現液晶性者,則並無特別限制。上述液晶性組合物中之圓盤型液晶化合物之含量相對於液晶性組合物之總固形物成分100重量份,較佳為40重量份以上且未達100重量份。作為包括上述含有實質上垂直配向之圓盤型液晶化合物之液晶性組合物之配向固化層之相位差膜,可藉由日本專利特開2001-56411號公報中所記載之方法獲得。
於另一實施形態中,第1相位差層可包含棒狀之液晶化合物以排列於相位差層之遲相軸方向之狀態配向(水平配向)之配向固化層。作為液晶化合物,例如可列舉液晶相為向列相之液晶化合物(向列液晶)。作為此種液晶化合物,例如可使用液晶聚合物或液晶單體。液晶化合物之液晶性之表現機制為向液性或向熱性均可。於液晶化合物為液晶單體之情形時,該液晶單體較佳為聚合性單體及交聯性單體。其原因在於:藉由使液晶單體聚合或交聯,可固定液晶單體之配向狀態。作為上述液晶單體,可採用任意適當之液晶單體。例如,可使用日本專利特表2002-533742(WO00/37585)、EP358208(US5211877)、EP66137(US4388453)、WO93/22397、EP0261712、DE19504224、DE4408171、及GB2280445等中所記載之聚合性液晶原基化合物等。作為此種聚合性液晶原基化合物之具體例,例如可列舉BASF公司之商品名LC242、Merck公司之商品名E7、Wacker-Chem公司之商品名LC-Sillicon-CC3767。第1相位差層之厚度可以可獲得所期望之面內相位差之方式設定,較佳為1 μm~10 μm,更佳為1 μm~6 μm。
C-2.第2相位差層
可作為λ/4板發揮功能之第2相位差層可藉由就第1相位差層於上述C-1項中所說明之材料及方法形成。
可作為λ/4板發揮功能之第2相位差層可藉由就第1相位差層於上述C-1項中所說明之材料及方法形成。
可作為正C板發揮功能之第2相位差層只要滿足折射率橢球為nz>nx=ny之關係,便可包含任意適當之液晶化合物。此種液晶化合物之詳細內容記載於日本專利第4186980號公報及日本專利第6055569號公報。該公報之記載引用至本說明書中作為參考。於1個實施形態中,第2相位差層可包含由下述化學式(I)(式中之數字65及35表示單體單元之莫耳%,為了方便以嵌段聚合物表示:重量平均分子量5000)所表示之側鏈型液晶聚合物、及表現向列液晶相之聚合性液晶。
[化1]
D.黏著劑層
如上所述,黏著劑相對於100重量份之基礎聚合物包含0.05重量份以上之異氰酸酯交聯劑,較佳為進而包含紫外線吸收劑及/或色素化合物。
如上所述,黏著劑相對於100重量份之基礎聚合物包含0.05重量份以上之異氰酸酯交聯劑,較佳為進而包含紫外線吸收劑及/或色素化合物。
黏著劑層之厚度例如為2 μm~50 μm,較佳為5 μm~30 μm。黏著劑層之凝膠分率較佳為40%~95%,更佳為50%~95%,進而較佳為65%~93%,尤其較佳為80%~93%,最佳為85~93%。於黏著劑層之凝膠分率較小之情形時,存在凝集力不佳、加工性或處理性出現問題之情形。又,自防止糊劑凹痕等外觀缺陷之觀點而言,剛形成黏著劑層後之凝膠分率較佳為60%以上,更佳為63%以上,進而較佳為66%以上,尤其較佳為70%以上。
D-1.基礎聚合物
作為基礎聚合物,只要可發揮所需之接著性及黏著性,則可採用任意適當之聚合物。作為基礎聚合物之具體例,可列舉(甲基)丙烯酸系聚合物、橡膠系聚合物等。較佳為基礎聚合物係(甲基)丙烯酸系聚合物。
作為基礎聚合物,只要可發揮所需之接著性及黏著性,則可採用任意適當之聚合物。作為基礎聚合物之具體例,可列舉(甲基)丙烯酸系聚合物、橡膠系聚合物等。較佳為基礎聚合物係(甲基)丙烯酸系聚合物。
(甲基)丙烯酸系聚合物作為單體單元含有(甲基)丙烯酸烷基酯作為主成分。作為(甲基)丙烯酸烷基酯,可列舉直鏈狀或支鏈狀之酯末端具有碳數1~24之烷基者。(甲基)丙烯酸烷基酯可單獨使用1種,或將2種以上組合使用。再者,「(甲基)丙烯酸烷基酯」係指丙烯酸烷基酯及/或甲基丙烯酸烷基酯。
酯末端具有碳數1~24之烷基之(甲基)丙烯酸烷基酯相對於形成(甲基)丙烯酸系聚合物之單官能性單體成分之總量,較佳為40重量%以上,更佳為50重量%以上,進而較佳為60重量%以上。
上述單體成分可包含除(甲基)丙烯酸烷基酯以外之共聚單體作為單官能性單體成分。共聚單體可用作單體成分中之(甲基)丙烯酸烷基酯之剩餘部分。作為共聚單體,例如可包括含環狀氮之單體。作為上述含環狀氮之單體,可並無特別限制地使用具有(甲基)丙烯醯基或乙烯基等具有不飽和雙鍵之聚合性之官能基、且具有環狀氮結構者。環狀氮結構較佳為環狀結構內具有氮原子者。含環狀氮之單體之含量相對於形成(甲基)丙烯酸系聚合物之單官能性單體成分之總量,較佳為0.5~50重量%,更佳為0.5~40重量%,進而更佳為0.5~30重量%。
形成(甲基)丙烯酸系聚合物之單體成分可包含其他含官能基之單體。作為此種單體,例如可列舉含羧基之單體、具有環狀醚基之單體。於含有含羧基之單體之情形時,含量較佳為0.05~10重量%,更佳為0.1~8重量%,進而較佳為0.2~6重量%。藉由含有含羧基之單體,可將黏著劑層之凝膠分率設為較佳範圍內之值,其結果,可抑制相位差層產生龜裂。
又,上述單體成分可含有含羥基之單體。作為含羥基之單體,可並無特別限制地使用具有(甲基)丙烯醯基或乙烯基等具有不飽和雙鍵之聚合性之官能基、且具有羥基者。自提高接著力、凝集力之點而言,上述含羥基之單體之含量相對於形成(甲基)丙烯酸系聚合物之單官能性單體成分之總量,較佳為0.08重量%以上,更佳為0.3重量%以上,進而較佳為1重量%以上。另一方面,含羥基之單體之含量之上限相對於形成(甲基)丙烯酸系聚合物之單官能性單體成分之總量,較佳為30重量%,更佳為27重量%,進而較佳為25重量%。若含羥基之單體變得過多,則存在黏著劑層變硬、接著力降低之情形,而且存在黏著劑之黏度變得過高之情形。
為了調整黏著劑之凝集力,形成(甲基)丙烯酸系聚合物之單體成分除上述之單官能性單體以外,可視需要含有任意適當之多官能性單體。
(甲基)丙烯酸系聚合物通常使用重量平均分子量於50萬~300萬之範圍內者。若考慮到耐久性、特別是耐熱性,較佳為使用重量平均分子量為70萬~270萬者。進而較佳為80萬~250萬。若重量平均分子量小於50萬,則耐熱性之方面欠佳。又,若重量平均分子量變得大於300萬,則為了調整至適合塗敷之黏度而需要大量之稀釋溶劑,成本提高,故欠佳。再者,重量平均分子量係指藉由GPC(Gel Permeation Chromatography,凝膠滲透層析法)測定、藉由聚苯乙烯換算所算出之值。
作為(甲基)丙烯酸系聚合物之製造方法,可採用溶液聚合、紫外線(UV)聚合等輻射聚合、塊狀聚合、乳化聚合等各種自由基聚合等任意適當之方法。又,所得之(甲基)丙烯酸系聚合物為無規共聚物、嵌段共聚物、接枝共聚物等之任一均可。
於藉由自由基聚合製造(甲基)丙烯酸系聚合物之情形時,可於單體成分中適當添加自由基聚合所用之聚合起始劑、鏈轉移劑、乳化劑等進行聚合。自由基聚合所用之聚合起始劑、鏈轉移劑、乳化劑等並未特別限定,可適當選擇使用。再者,(甲基)丙烯酸系聚合物之重量平均分子量可藉由聚合起始劑、鏈轉移劑之使用量、反應條件控制,根據該等之種類適當調整其使用量。
於藉由輻射聚合製造(甲基)丙烯酸系聚合物之情形時,可藉由向單體成分照射電子束、紫外線(UV)等放射線使其聚合而進行製造。該等之中,較佳為紫外線聚合。於進行紫外線聚合時,自可縮短聚合時間之優點等而言,較佳為使單體成分含有光聚合起始劑。
作為光聚合起始劑,並未特別限定,較佳為於400 nm以上之波長下具有吸收帶之光聚合起始劑。作為此種光聚合起始劑,可列舉雙(2,4,6-三甲基苯甲醯基)-苯基氧化膦(BASF公司製,製品名「Irgacure 819」)、2,4,6-三甲基苯甲醯基-二苯基-氧化膦(BASF公司製,「LUCIRIN TPO」)等。
光聚合起始劑可含有於未達400 nm之波長下具有吸收帶之光聚合起始劑。作為此種光聚合起始劑,只要為藉由紫外線產生自由基而開始光聚合且於未達400 nm之波長下具有吸收帶者,則並未特別限制,通常所用之光聚合起始劑均可較佳地使用。例如,可使用安息香醚系光聚合起始劑、苯乙酮系光聚合起始劑、α-酮醇系光聚合起始劑、光活性肟系光聚合起始劑、安息香系光聚合起始劑、苯偶醯系光聚合起始劑、二苯甲酮系光聚合起始劑、縮酮系光聚合起始劑、9-氧硫 系光聚合起始劑、醯基氧化膦系光聚合起始劑等。
D-2.異氰酸酯交聯劑
於黏著劑中,異氰酸酯交聯劑相對於100重量份之基礎聚合物之含量較佳為0.1重量份~12重量份。異氰酸酯交聯劑相對於100重量份之基礎聚合物之含量之下限較佳為0.5重量份,進而較佳為1重量份,尤其較佳為2重量份。藉此,可有效抑制高溫環境下相位差層產生龜裂。又,異氰酸酯交聯劑相對於100重量份之基礎聚合物之含量之上限較佳為8重量份,更佳為5重量份。藉此,可抑制黏著劑層之白濁化。
於黏著劑中,異氰酸酯交聯劑相對於100重量份之基礎聚合物之含量較佳為0.1重量份~12重量份。異氰酸酯交聯劑相對於100重量份之基礎聚合物之含量之下限較佳為0.5重量份,進而較佳為1重量份,尤其較佳為2重量份。藉此,可有效抑制高溫環境下相位差層產生龜裂。又,異氰酸酯交聯劑相對於100重量份之基礎聚合物之含量之上限較佳為8重量份,更佳為5重量份。藉此,可抑制黏著劑層之白濁化。
異氰酸酯交聯劑係指1分子中具有2個以上異氰酸基(包含藉由封端劑或多倍體化等暫時保護異氰酸基之異氰酸酯再生型官能基)之化合物。作為異氰酸酯交聯劑,可列舉甲苯二異氰酸酯、二甲苯二異氰酸酯等芳香族異氰酸酯;異佛爾酮二異氰酸酯等脂環族異氰酸酯;六亞甲基二異氰酸酯等脂肪族異氰酸酯等。較佳為甲苯二異氰酸酯。其原因在於可提高黏著劑層之凝膠分率。
更具體而言,例如可列舉伸丁基二異氰酸酯、六亞甲基二異氰酸酯等低級脂肪族聚異氰酸酯類;伸環戊基二異氰酸酯、環己二異氰酸酯、異佛爾酮二異氰酸酯等脂環族異氰酸酯類;2,4-甲苯二異氰酸酯、4,4'-二苯基甲烷二異氰酸酯、二甲苯二異氰酸酯、聚亞甲基聚苯基異氰酸酯等芳香族二異氰酸酯類;三羥甲基丙烷/甲苯二異氰酸酯三聚物加成物(Nippon Polyurethane Industry股份有限公司製,製品名「Coronate L」)、三羥甲基丙烷/六亞甲基二異氰酸酯三聚物加成物(Nippon Polyurethane Industry股份有限公司製,製品名「Coronate HL」)、六亞甲基二異氰酸酯之異氰尿酸酯體(Nippon Polyurethane Industry股份有限公司製,製品名「Coronate HX」)等異氰酸酯加成物;二甲苯二異氰酸酯之三羥甲基丙烷加成物(三井化學股份有限公司製,製品名「D110N」)、六亞甲基二異氰酸酯之三羥甲基丙烷加成物(三井化學股份有限公司製,製品名「D160N」);聚醚聚異氰酸酯、聚酯聚異氰酸酯、以及該等與各種多元醇之加成物;藉由異氰尿酸酯鍵、縮二脲鍵、脲基甲酸酯鍵等而多官能化之聚異氰酸酯等。
D-3.紫外線吸收劑
作為紫外線吸收劑,可使用任意適當之紫外線吸收劑。紫外線吸收劑較佳為分子結構中具有0個~3個羥基。具體而言,可列舉三系紫外線吸收劑、苯并***系紫外線吸收劑、二苯甲酮系紫外線吸收劑、氧基二苯甲酮系紫外線吸收劑、水楊酸酯系紫外線吸收劑、氰基丙烯酸酯系紫外線吸收劑等,該等可單獨使用1種,或將2種以上組合使用。該等之中,較佳為三系紫外線吸收劑、苯并***系紫外線吸收劑,由於對用於形成丙烯酸系黏著劑組合物之單體之溶解性良好,且於波長380 nm附近之紫外線吸收能力較高,故較佳為選自由1分子中具有2個以下羥基之三系紫外線吸收劑、及1分子中具有1個苯并***骨架之苯并***系紫外線吸收劑所組成之群中之至少1種紫外線吸收劑。紫外線吸收劑可單獨使用,亦可將2種以上混合使用。
作為紫外線吸收劑,可使用任意適當之紫外線吸收劑。紫外線吸收劑較佳為分子結構中具有0個~3個羥基。具體而言,可列舉三系紫外線吸收劑、苯并***系紫外線吸收劑、二苯甲酮系紫外線吸收劑、氧基二苯甲酮系紫外線吸收劑、水楊酸酯系紫外線吸收劑、氰基丙烯酸酯系紫外線吸收劑等,該等可單獨使用1種,或將2種以上組合使用。該等之中,較佳為三系紫外線吸收劑、苯并***系紫外線吸收劑,由於對用於形成丙烯酸系黏著劑組合物之單體之溶解性良好,且於波長380 nm附近之紫外線吸收能力較高,故較佳為選自由1分子中具有2個以下羥基之三系紫外線吸收劑、及1分子中具有1個苯并***骨架之苯并***系紫外線吸收劑所組成之群中之至少1種紫外線吸收劑。紫外線吸收劑可單獨使用,亦可將2種以上混合使用。
紫外線吸收劑之含量相對於100重量份之基礎聚合物,較佳為0.1~20重量份,更佳為0.1~10重量份,進而較佳為0.1~5重量份,尤其較佳為0.5~3重量份。
紫外線吸收劑之吸收光譜之最大吸收波長較佳為存在於300 nm~400 nm之波長區域,更佳為存在於320 nm~380 nm之波長區域。最大吸收波長可使用紫外可見分光光度計測定。
作為紫外線吸收劑物,可較佳地使用市售者,可列舉Tinosorb S(BASF公司製)、SeeSorb 106(Shipro Kasei股份有限公司製)等。
D-4.色素化合物
如上所述,色素化合物之吸收光譜之最大吸收波長存在於380 nm~430 nm之波長區域。色素化合物之吸收光譜之最大吸收波長較佳為存在於380 nm~420 nm之波長區域。藉由將此種色素化合物與紫外線吸收劑組合使用,可充分吸收不影響有機EL元件之發光之區域(波長380 nm~430 nm)之光,且使有機EL元件之發光區域(長於430 nm之波長側)可充分透過。
如上所述,色素化合物之吸收光譜之最大吸收波長存在於380 nm~430 nm之波長區域。色素化合物之吸收光譜之最大吸收波長較佳為存在於380 nm~420 nm之波長區域。藉由將此種色素化合物與紫外線吸收劑組合使用,可充分吸收不影響有機EL元件之發光之區域(波長380 nm~430 nm)之光,且使有機EL元件之發光區域(長於430 nm之波長側)可充分透過。
色素化合物之半值寬較佳為80 nm以下,更佳為5 nm~70 nm,進而較佳為10 nm~60 nm。藉此,可充分吸收不影響有機EL元件之發光之區域之光,並且使長於430 nm之波長側之光可充分透過。色素化合物之半值寬可使用紫外可見分光光度計(Hitachi High-Tech Science股份有限公司製,製品名「U-4100」),於以下之測定條件下自色素化合物之溶液之透過吸光光譜測定。代表性而言,自以最大吸收波長之吸光度為1.0之方式調整濃度而測定之分光光譜,將作為峰值之50%之2點間之波長之間距(半峰全幅值)設為該色素化合物之半值寬。
(測定條件)
溶劑:甲苯或氯仿
池:石英池
光程長度:10 mm
(測定條件)
溶劑:甲苯或氯仿
池:石英池
光程長度:10 mm
作為色素化合物,只要為吸收光譜之最大吸收波長存在於上述波長區域之化合物即可,其結構等並未特別限定。作為色素化合物,例如可列舉有機系色素化合物或無機系色素化合物,該等之中,自維持基礎聚合物等對樹脂成分之分散性及透明性之觀點而言,較佳為有機系色素化合物。
作為有機系色素化合物,可列舉甲亞胺系化合物、吲哚系化合物、肉桂酸系化合物、嘧啶系化合物、卟啉系化合物、聚次甲基化合物等。
作為有機色素化合物,可較佳地使用市售者,具體而言,作為吲哚系化合物,可列舉BONASORB UA3911(Orient Chemical Industries股份有限公司製,吸收光譜之最大吸收波長:398 nm,半值寬:48 nm)、BONASORB UA3912(Orient Chemical Industries股份有限公司製,吸收光譜之最大吸收波長:386 nm,半值寬:53 nm),作為肉桂酸系化合物,可列舉SOM-5-0106(Orient Chemical Industries股份有限公司製,吸收光譜之最大吸收波長:416 nm,半值寬:50 nm),作為嘧啶系化合物,可列舉FDB-009(山田化學工業股份有限公司製,吸收光譜之最大吸收波長:394 nm,半值寬:43 nm),作為卟啉系化合物,可列舉FDB-001(山田化學工業股份有限公司製,吸收光譜之最大吸收波長:420 nm,半值寬:14 nm),作為聚次甲基化合物,可列舉DAA247(山田化學工業股份有限公司製,吸收光譜之最大吸收波長:389 nm,半值寬:49.5 nm),等等。
D-5.其他成分
黏著劑組合物可視需要包含矽烷偶合劑、抗氧化劑、抗老化劑、塑化劑等其他成分。作為抗氧化劑,例如可列舉酚系、磷系、硫系、胺系之抗氧化劑。作為矽烷偶合劑,例如可列舉3-縮水甘油氧基丙基三甲氧基矽烷等含環氧基之矽烷偶合劑、3-胺基丙基三甲氧基矽烷等含胺基之矽烷偶合劑、3-丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷等含(甲基)丙烯酸基之矽烷偶合劑、3-異氰酸基丙基三乙氧基矽烷等含異氰酸基之矽烷偶合劑、含乙醯乙醯基之矽烷偶合劑。
黏著劑組合物可視需要包含矽烷偶合劑、抗氧化劑、抗老化劑、塑化劑等其他成分。作為抗氧化劑,例如可列舉酚系、磷系、硫系、胺系之抗氧化劑。作為矽烷偶合劑,例如可列舉3-縮水甘油氧基丙基三甲氧基矽烷等含環氧基之矽烷偶合劑、3-胺基丙基三甲氧基矽烷等含胺基之矽烷偶合劑、3-丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷等含(甲基)丙烯酸基之矽烷偶合劑、3-異氰酸基丙基三乙氧基矽烷等含異氰酸基之矽烷偶合劑、含乙醯乙醯基之矽烷偶合劑。
E.有機EL顯示裝置
上述A至D項中所記載之附相位差層之偏光板可用於圖像顯示裝置。因此,本發明亦包含使用此種光學積層體之圖像顯示裝置。作為圖像顯示裝置之代表例,可列舉液晶顯示裝置、有機電致發光(EL)顯示裝置。本發明之實施形態之圖像顯示裝置(有機EL顯示裝置)具備上述A項至D項中所記載之光學積層體。
[實施例]
上述A至D項中所記載之附相位差層之偏光板可用於圖像顯示裝置。因此,本發明亦包含使用此種光學積層體之圖像顯示裝置。作為圖像顯示裝置之代表例,可列舉液晶顯示裝置、有機電致發光(EL)顯示裝置。本發明之實施形態之圖像顯示裝置(有機EL顯示裝置)具備上述A項至D項中所記載之光學積層體。
[實施例]
以下,藉由實施例對本發明進行具體說明,但本發明並不受該等實施例限定。再者,各特性之測定方法如下。
(1)厚度
使用干涉膜厚計(大塚電子股份有限公司製,MCPD2000)對相位差層之厚度進行測定。又,使用數位式測微計(Anritsu股份有限公司製,KC-351C)對除相位差層以外之層之厚度進行測定。
(2)相位差值
藉由自動雙折射測定裝置(王子計測機器股份有限公司製,自動雙折射計KOBRA-WPR)測量相位差層之折射率nx、ny及nz,算出面內相位差Re及厚度方向相位差Rth。
(3)黏著劑層之透過率
剝離實施例及比較例中所得之各黏著劑層之隔離膜,將黏著劑層安裝於測定用治具,使用分光光度計(Hitachi High-Technologies股份有限公司製,製品名「U4100」)進行測定。透過率係測定波長300 nm~450 nm之範圍內之透過率。
(4)黏著劑層之凝膠分率
取0.2 g之實施例及比較例中所得之各黏著劑層(黏著劑組合物),包裹於預先測定重量之氟樹脂(日東電工股份有限公司製,製品名「TEMISH NTF-1122」,重量:Wa),綁緊不使黏著劑洩漏後,測定重量(Wb),放入樣品瓶。加入40 cc之乙酸乙酯放置7天。其後,取出氟樹脂,於鋁杯上於130℃下乾燥2小時,測定包含樣品之氟樹脂之重量(Wc),藉由下式(I)求出凝膠分率。
式(I):凝膠分率=(Wc-Wa)/(Wb-Wa)×100(重量%)
凝膠分率之測定係於形成黏著劑層後,於室溫(23℃)下放置1周後進行。
(1)厚度
使用干涉膜厚計(大塚電子股份有限公司製,MCPD2000)對相位差層之厚度進行測定。又,使用數位式測微計(Anritsu股份有限公司製,KC-351C)對除相位差層以外之層之厚度進行測定。
(2)相位差值
藉由自動雙折射測定裝置(王子計測機器股份有限公司製,自動雙折射計KOBRA-WPR)測量相位差層之折射率nx、ny及nz,算出面內相位差Re及厚度方向相位差Rth。
(3)黏著劑層之透過率
剝離實施例及比較例中所得之各黏著劑層之隔離膜,將黏著劑層安裝於測定用治具,使用分光光度計(Hitachi High-Technologies股份有限公司製,製品名「U4100」)進行測定。透過率係測定波長300 nm~450 nm之範圍內之透過率。
(4)黏著劑層之凝膠分率
取0.2 g之實施例及比較例中所得之各黏著劑層(黏著劑組合物),包裹於預先測定重量之氟樹脂(日東電工股份有限公司製,製品名「TEMISH NTF-1122」,重量:Wa),綁緊不使黏著劑洩漏後,測定重量(Wb),放入樣品瓶。加入40 cc之乙酸乙酯放置7天。其後,取出氟樹脂,於鋁杯上於130℃下乾燥2小時,測定包含樣品之氟樹脂之重量(Wc),藉由下式(I)求出凝膠分率。
式(I):凝膠分率=(Wc-Wa)/(Wb-Wa)×100(重量%)
凝膠分率之測定係於形成黏著劑層後,於室溫(23℃)下放置1周後進行。
<製造例1>
(偏光板之製作)
對於厚度為30 μm之聚乙烯醇膜(Kuraray製,製品名「PE3000」)之長卷,一面藉由輥延伸機以長度方向變成5.9倍之方式於長度方向單軸延伸,一面同時實施膨潤、染色、交聯、洗淨處理,最後實施乾燥處理,藉此製作厚度為12 μm之偏光元件。
具體而言,膨潤處理係一面藉由20℃之純水進行處理,一面延伸為2.2倍。接著,染色處理係一面以所製作之偏光膜之透過率為45.0%之方式於碘濃度經調整之碘與碘化鉀之重量比為1:7之30℃之水溶液中進行處理,一面延伸為1.4倍。進而,交聯處理採用2個階段之交聯處理,第1階段之交聯處理係一面於40℃之溶解有硼酸及碘化鉀之水溶液中進行處理,一面延伸為1.2倍。第1階段之交聯處理之水溶液之硼酸含量設為5.0重量%,碘化鉀含量設為3.0重量%。第2階段之交聯處理一面於65℃之溶解有硼酸及碘化鉀之水溶液中進行處理,一面延伸為1.6倍。第2階段之交聯處理之水溶液之硼酸含量設為4.3重量%,碘化鉀含量設為5.0重量%。又,洗淨處理藉由20℃之碘化鉀水溶液進行處理。洗淨處理之水溶液之碘化鉀含量設為2.6重量%。最後,乾燥處理係於70℃下乾燥5分鐘,獲得偏光元件。
於所得之偏光元件之雙面分別經由聚乙烯醇系接著劑貼合Konica Minolta股份有限公司製之TAC膜(製品名:KC2UA,厚度:25 μm)及於該TAC膜之單面具有HC(Hard Coating,硬塗層)層之HC-TAC膜(厚度:32 μm),獲得偏光元件之雙面貼合有保護膜之偏光板1。
(偏光板之製作)
對於厚度為30 μm之聚乙烯醇膜(Kuraray製,製品名「PE3000」)之長卷,一面藉由輥延伸機以長度方向變成5.9倍之方式於長度方向單軸延伸,一面同時實施膨潤、染色、交聯、洗淨處理,最後實施乾燥處理,藉此製作厚度為12 μm之偏光元件。
具體而言,膨潤處理係一面藉由20℃之純水進行處理,一面延伸為2.2倍。接著,染色處理係一面以所製作之偏光膜之透過率為45.0%之方式於碘濃度經調整之碘與碘化鉀之重量比為1:7之30℃之水溶液中進行處理,一面延伸為1.4倍。進而,交聯處理採用2個階段之交聯處理,第1階段之交聯處理係一面於40℃之溶解有硼酸及碘化鉀之水溶液中進行處理,一面延伸為1.2倍。第1階段之交聯處理之水溶液之硼酸含量設為5.0重量%,碘化鉀含量設為3.0重量%。第2階段之交聯處理一面於65℃之溶解有硼酸及碘化鉀之水溶液中進行處理,一面延伸為1.6倍。第2階段之交聯處理之水溶液之硼酸含量設為4.3重量%,碘化鉀含量設為5.0重量%。又,洗淨處理藉由20℃之碘化鉀水溶液進行處理。洗淨處理之水溶液之碘化鉀含量設為2.6重量%。最後,乾燥處理係於70℃下乾燥5分鐘,獲得偏光元件。
於所得之偏光元件之雙面分別經由聚乙烯醇系接著劑貼合Konica Minolta股份有限公司製之TAC膜(製品名:KC2UA,厚度:25 μm)及於該TAC膜之單面具有HC(Hard Coating,硬塗層)層之HC-TAC膜(厚度:32 μm),獲得偏光元件之雙面貼合有保護膜之偏光板1。
<製造例2>
(相位差層A之製作)
將10 g之表現向列液晶相之聚合性液晶(BASF公司製,製品名「PaliocolorLC242」,由下述式所表示)、及3 g之針對該聚合性液晶化合物之光聚合起始劑(Ciba Specialty Chemicals公司製,製品名「Irgacure 907」)溶解於40 g甲苯中,製備液晶組合物(塗敷液)。
[化2]
使用摩擦布摩擦聚對苯二甲酸乙二酯(PET)膜(厚度38 μm)之表面,實施配向處理。配向處理之條件係摩擦次數(摩擦輥個數)為1、摩擦輥半徑r為76.89 mm、摩擦輥轉速nr為1500 rpm、膜搬送速度v為83 mm/sec,摩擦強度RS及壓入量M於如表1所示之5種條件(a)~(e)下進行。
(相位差層A之製作)
將10 g之表現向列液晶相之聚合性液晶(BASF公司製,製品名「PaliocolorLC242」,由下述式所表示)、及3 g之針對該聚合性液晶化合物之光聚合起始劑(Ciba Specialty Chemicals公司製,製品名「Irgacure 907」)溶解於40 g甲苯中,製備液晶組合物(塗敷液)。
[化2]
使用摩擦布摩擦聚對苯二甲酸乙二酯(PET)膜(厚度38 μm)之表面,實施配向處理。配向處理之條件係摩擦次數(摩擦輥個數)為1、摩擦輥半徑r為76.89 mm、摩擦輥轉速nr為1500 rpm、膜搬送速度v為83 mm/sec,摩擦強度RS及壓入量M於如表1所示之5種條件(a)~(e)下進行。
[表1]
配向處理之方向設為與偏光板貼附時相對於偏光元件之吸收軸之方向自視認側觀察為-75°方向。於該配向處理表面藉由棒式塗佈機塗敷上述塗敷液,於90℃下加熱乾燥2分鐘,藉此,使液晶化合物配向。於條件(a)~(c)下液晶化合物之配向狀態非常良好。於條件(d)及(e)下液晶化合物之配向產生少量混亂,不過為實用上不存在問題之水準。使用金屬鹵化物燈向如此形成之液晶層照射1 mJ/cm2
之光,使該液晶層硬化,藉此於PET膜上形成相位差層A。相位差層A之厚度為2 μm,面內相位差Re為270 nm。進而,相位差層A具有nx>ny=nz之折射率分佈。
<製造例3>
(相位差層B之製作)
使用摩擦布摩擦聚對苯二甲酸乙二酯(PET)膜(厚度38 μm)表面,實施配向處理。配向處理之方向設為與偏光板貼附時相對於偏光元件之吸收軸之方向自視認側觀察為-15°方向。於該配向處理表面塗敷與上述相同之液晶塗敷液,與上述相同地使液晶配向並硬化,於PET膜上形成相位差層B。相位差層B之厚度為1.2 μm,面內相位差Re為140 nm。進而,相位差層B具有nx>ny=nz之折射率分佈。
(相位差層B之製作)
使用摩擦布摩擦聚對苯二甲酸乙二酯(PET)膜(厚度38 μm)表面,實施配向處理。配向處理之方向設為與偏光板貼附時相對於偏光元件之吸收軸之方向自視認側觀察為-15°方向。於該配向處理表面塗敷與上述相同之液晶塗敷液,與上述相同地使液晶配向並硬化,於PET膜上形成相位差層B。相位差層B之厚度為1.2 μm,面內相位差Re為140 nm。進而,相位差層B具有nx>ny=nz之折射率分佈。
[實施例1]
1.黏著劑層之製作
<(甲基)丙烯酸系聚合物(1)之製備>
於具備冷卻管、氮氣導入管、溫度計及攪拌裝置之反應容器中隨乙酸乙酯加入丙烯酸丁酯99份、丙烯酸4-羥丁酯1.0份及2,2'-偶氮二異丁腈0.3份,於氮氣氣流下、於60℃下反應4小時後,於其反應液中添加乙酸乙酯,獲得含有重量平均分子量為160萬之丙烯酸系聚合物之溶液(固形物成分濃度30%)。
<黏著劑組合物之製備>
將上述丙烯酸系聚合物作為基礎聚合物,對每100份之丙烯酸系聚合物溶液之固形物成分調配0.3份之過氧化苯甲醯(日本油脂股份有限公司製,製品名「Nyper BMT」)、0.1份之三羥甲基丙烷二甲苯二異氰酸酯(三井化學股份有限公司製,製品名「Takenate D110N」)、及0.2份之矽烷偶合劑(綜研化學股份有限公司製,製品名「A-100」,含乙醯乙醯基之矽烷偶合劑),獲得黏著劑組合物A(溶液)。
<黏著劑層之製作>
將上述黏著劑組合物A塗敷於包含藉由矽酮系剝離劑進行過表面處理之聚酯膜之隔離膜,於155℃下加熱處理3分鐘,藉此獲得厚度為20 μm之黏著劑層。
2.附相位差層之偏光板之製作
將上述之偏光板之TAC膜面與相位差層A以偏光板之吸收軸與相位差層A之遲相軸之角度成為75°之方式經由紫外線硬化型接著劑貼合。其次,將相位差層A與相位差層B以偏光板之吸收軸與相位差層B之遲相軸之角度成為15°之方式經由上述黏著劑層貼合,藉此獲得附相位差層之偏光板。
1.黏著劑層之製作
<(甲基)丙烯酸系聚合物(1)之製備>
於具備冷卻管、氮氣導入管、溫度計及攪拌裝置之反應容器中隨乙酸乙酯加入丙烯酸丁酯99份、丙烯酸4-羥丁酯1.0份及2,2'-偶氮二異丁腈0.3份,於氮氣氣流下、於60℃下反應4小時後,於其反應液中添加乙酸乙酯,獲得含有重量平均分子量為160萬之丙烯酸系聚合物之溶液(固形物成分濃度30%)。
<黏著劑組合物之製備>
將上述丙烯酸系聚合物作為基礎聚合物,對每100份之丙烯酸系聚合物溶液之固形物成分調配0.3份之過氧化苯甲醯(日本油脂股份有限公司製,製品名「Nyper BMT」)、0.1份之三羥甲基丙烷二甲苯二異氰酸酯(三井化學股份有限公司製,製品名「Takenate D110N」)、及0.2份之矽烷偶合劑(綜研化學股份有限公司製,製品名「A-100」,含乙醯乙醯基之矽烷偶合劑),獲得黏著劑組合物A(溶液)。
<黏著劑層之製作>
將上述黏著劑組合物A塗敷於包含藉由矽酮系剝離劑進行過表面處理之聚酯膜之隔離膜,於155℃下加熱處理3分鐘,藉此獲得厚度為20 μm之黏著劑層。
2.附相位差層之偏光板之製作
將上述之偏光板之TAC膜面與相位差層A以偏光板之吸收軸與相位差層A之遲相軸之角度成為75°之方式經由紫外線硬化型接著劑貼合。其次,將相位差層A與相位差層B以偏光板之吸收軸與相位差層B之遲相軸之角度成為15°之方式經由上述黏著劑層貼合,藉此獲得附相位差層之偏光板。
[實施例2]
添加2重量份(固形物成分重量)之2,4-雙-[{4-(4-乙基己氧基)-4-羥基}-苯基]-6-(4-甲氧基苯基)-1,3,5-三(BASF日本公司製,製品名「Tinosorb S」,表1中之「a1」)作為紫外線吸收劑,除此以外,與實施例1同樣地獲得黏著劑組合物B。
使用上述黏著劑組合物B,除此以外,與實施例1同樣地獲得黏著劑層及附相位差層之偏光板。
添加2重量份(固形物成分重量)之2,4-雙-[{4-(4-乙基己氧基)-4-羥基}-苯基]-6-(4-甲氧基苯基)-1,3,5-三(BASF日本公司製,製品名「Tinosorb S」,表1中之「a1」)作為紫外線吸收劑,除此以外,與實施例1同樣地獲得黏著劑組合物B。
使用上述黏著劑組合物B,除此以外,與實施例1同樣地獲得黏著劑層及附相位差層之偏光板。
[實施例3]
將三羥甲基丙烷二甲苯二異氰酸酯之添加量設為相對於丙烯酸系聚合物溶液之固形物成分100份為0.5份,除此以外,與實施例2同樣地獲得黏著劑組合物C。
使用上述黏著劑組合物C,除此以外,與實施例1同樣地獲得黏著劑層及附相位差層之偏光板。
將三羥甲基丙烷二甲苯二異氰酸酯之添加量設為相對於丙烯酸系聚合物溶液之固形物成分100份為0.5份,除此以外,與實施例2同樣地獲得黏著劑組合物C。
使用上述黏著劑組合物C,除此以外,與實施例1同樣地獲得黏著劑層及附相位差層之偏光板。
[實施例4]
添加2重量份(固形物成分重量)之2,2',4,4'-四羥基二苯甲酮(Shipro Kasei股份有限公司製,製品名「SeeSorb106」,表1中之「a2」)代替紫外線吸收劑a1作為紫外線吸收劑,除此以外,與實施例3同樣地獲得黏著劑組合物D。
使用上述黏著劑組合物D,除此以外,與實施例1同樣地獲得黏著劑層及附相位差層之偏光板。
添加2重量份(固形物成分重量)之2,2',4,4'-四羥基二苯甲酮(Shipro Kasei股份有限公司製,製品名「SeeSorb106」,表1中之「a2」)代替紫外線吸收劑a1作為紫外線吸收劑,除此以外,與實施例3同樣地獲得黏著劑組合物D。
使用上述黏著劑組合物D,除此以外,與實施例1同樣地獲得黏著劑層及附相位差層之偏光板。
[實施例5]
將紫外線吸收劑a1之添加量設為3重量份,並且添加3重量份(固形物成分重量)之嘧啶系化合物(山田化學工業股份有限公司製,製品名「FDB-009」,表1中之「b1」)作為色素化合物,除此以外,與實施例3同樣地獲得黏著劑組合物E。
使用上述黏著劑組合物E,除此以外,與實施例1同樣地獲得黏著劑層及附相位差層之偏光板。
將紫外線吸收劑a1之添加量設為3重量份,並且添加3重量份(固形物成分重量)之嘧啶系化合物(山田化學工業股份有限公司製,製品名「FDB-009」,表1中之「b1」)作為色素化合物,除此以外,與實施例3同樣地獲得黏著劑組合物E。
使用上述黏著劑組合物E,除此以外,與實施例1同樣地獲得黏著劑層及附相位差層之偏光板。
[實施例6]
將紫外線吸收劑a2之添加量設為3重量份,並且添加2重量份(固形物成分重量)之吲哚系化合物(Orient Chemical Industries股份有限公司製,製品名「BONASORB UA3912」,表1中之「b3」)作為色素化合物,除此以外,與實施例4同樣地獲得黏著劑組合物F。
使用上述黏著劑組合物F,除此以外,與實施例1同樣地獲得黏著劑層及附相位差層之偏光板。
將紫外線吸收劑a2之添加量設為3重量份,並且添加2重量份(固形物成分重量)之吲哚系化合物(Orient Chemical Industries股份有限公司製,製品名「BONASORB UA3912」,表1中之「b3」)作為色素化合物,除此以外,與實施例4同樣地獲得黏著劑組合物F。
使用上述黏著劑組合物F,除此以外,與實施例1同樣地獲得黏著劑層及附相位差層之偏光板。
[實施例7]
於具備冷卻管、氮氣導入管、溫度計及攪拌裝置之反應容器中隨乙酸乙酯相對於100份之單體(固形物成分)加入丙烯酸丁酯95份、丙烯酸4.9份、丙烯酸2-羥乙酯0.1份、及二過氧化苯甲醯0.3份,於氮氣氣流下、於60℃下反應7小時後,於其反應液中添加乙酸乙酯,獲得含有重量平均分子量為220萬之丙烯酸系聚合物之溶液(固形物成分濃度30重量%)。
將上述丙烯酸系聚合物作為基礎聚合物,對每100份之丙烯酸系聚合物溶液之固形物成分調配0.5份之三羥甲基丙烷甲苯二異氰酸酯(Nippon Polyurethane股份有限公司製,製品名「Coronate L」)、0.075份之γ-縮水甘油氧基丙基甲氧基矽烷(信越化學工業股份有限公司製,製品名「KBM-403」)、及3重量份之紫外線吸收劑a1,獲得黏著劑組合物G。
使用上述黏著劑組合物G,除此以外,與實施例1同樣地獲得黏著劑層及附相位差層之偏光板。
於具備冷卻管、氮氣導入管、溫度計及攪拌裝置之反應容器中隨乙酸乙酯相對於100份之單體(固形物成分)加入丙烯酸丁酯95份、丙烯酸4.9份、丙烯酸2-羥乙酯0.1份、及二過氧化苯甲醯0.3份,於氮氣氣流下、於60℃下反應7小時後,於其反應液中添加乙酸乙酯,獲得含有重量平均分子量為220萬之丙烯酸系聚合物之溶液(固形物成分濃度30重量%)。
將上述丙烯酸系聚合物作為基礎聚合物,對每100份之丙烯酸系聚合物溶液之固形物成分調配0.5份之三羥甲基丙烷甲苯二異氰酸酯(Nippon Polyurethane股份有限公司製,製品名「Coronate L」)、0.075份之γ-縮水甘油氧基丙基甲氧基矽烷(信越化學工業股份有限公司製,製品名「KBM-403」)、及3重量份之紫外線吸收劑a1,獲得黏著劑組合物G。
使用上述黏著劑組合物G,除此以外,與實施例1同樣地獲得黏著劑層及附相位差層之偏光板。
[實施例8]
添加3重量份(固形物成分重量)之色素化合物b1,除此以外,與實施例7同樣地獲得黏著劑組合物H。
使用上述黏著劑組合物H,除此以外,與實施例1同樣地獲得黏著劑層及附相位差層之偏光板。
添加3重量份(固形物成分重量)之色素化合物b1,除此以外,與實施例7同樣地獲得黏著劑組合物H。
使用上述黏著劑組合物H,除此以外,與實施例1同樣地獲得黏著劑層及附相位差層之偏光板。
[實施例9]
添加3重量份(固形物成分重量)之色素化合物b3,除此以外,與實施例7同樣地獲得黏著劑組合物I。
使用上述黏著劑組合物I,除此以外,與實施例1同樣地獲得黏著劑層及附相位差層之偏光板。
添加3重量份(固形物成分重量)之色素化合物b3,除此以外,與實施例7同樣地獲得黏著劑組合物I。
使用上述黏著劑組合物I,除此以外,與實施例1同樣地獲得黏著劑層及附相位差層之偏光板。
[實施例10]
添加3重量份(固形物成分重量)之聚次甲基化合物(山田化學工業股份有限公司製,製品名「DAA247」,表1中之「b2」)作為色素化合物,除此以外,與實施例7同樣地獲得黏著劑組合物J。
使用上述黏著劑組合物J,除此以外,與實施例1同樣地獲得黏著劑層及附相位差層之偏光板。
添加3重量份(固形物成分重量)之聚次甲基化合物(山田化學工業股份有限公司製,製品名「DAA247」,表1中之「b2」)作為色素化合物,除此以外,與實施例7同樣地獲得黏著劑組合物J。
使用上述黏著劑組合物J,除此以外,與實施例1同樣地獲得黏著劑層及附相位差層之偏光板。
[實施例11]
將三羥甲基丙烷甲苯二異氰酸酯之添加量設為相對於丙烯酸系聚合物溶液之固形物成分100份為0.8份,除此以外,與實施例10同樣地獲得黏著劑組合物K。
使用上述黏著劑組合物K,除此以外,與實施例1同樣地獲得黏著劑層及附相位差層之偏光板。
將三羥甲基丙烷甲苯二異氰酸酯之添加量設為相對於丙烯酸系聚合物溶液之固形物成分100份為0.8份,除此以外,與實施例10同樣地獲得黏著劑組合物K。
使用上述黏著劑組合物K,除此以外,與實施例1同樣地獲得黏著劑層及附相位差層之偏光板。
[實施例12]
將三羥甲基丙烷甲苯二異氰酸酯之添加量設為相對於丙烯酸系聚合物溶液之固形物成分100份為2.5份,除此以外,與實施例10同樣地獲得黏著劑組合物L。
使用上述黏著劑組合物L,除此以外,與實施例1同樣地獲得黏著劑層及附相位差層之偏光板。
將三羥甲基丙烷甲苯二異氰酸酯之添加量設為相對於丙烯酸系聚合物溶液之固形物成分100份為2.5份,除此以外,與實施例10同樣地獲得黏著劑組合物L。
使用上述黏著劑組合物L,除此以外,與實施例1同樣地獲得黏著劑層及附相位差層之偏光板。
[實施例13]
將三羥甲基丙烷甲苯二異氰酸酯之添加量設為相對於丙烯酸系聚合物溶液之固形物成分100份為10份,除此以外,與實施例10同樣地獲得黏著劑組合物M。
使用上述黏著劑組合物M,除此以外,與實施例1同樣地獲得黏著劑層及附相位差層之偏光板。
將三羥甲基丙烷甲苯二異氰酸酯之添加量設為相對於丙烯酸系聚合物溶液之固形物成分100份為10份,除此以外,與實施例10同樣地獲得黏著劑組合物M。
使用上述黏著劑組合物M,除此以外,與實施例1同樣地獲得黏著劑層及附相位差層之偏光板。
[比較例1]
將三羥甲基丙烷二甲苯二異氰酸酯之添加量設為相對於丙烯酸系聚合物溶液之固形物成分100份為0.02份,除此以外,與實施例2同樣地獲得黏著劑組合物N。
使用上述黏著劑組合物N,除此以外,與實施例1同樣地獲得黏著劑層及附相位差層之偏光板。
將三羥甲基丙烷二甲苯二異氰酸酯之添加量設為相對於丙烯酸系聚合物溶液之固形物成分100份為0.02份,除此以外,與實施例2同樣地獲得黏著劑組合物N。
使用上述黏著劑組合物N,除此以外,與實施例1同樣地獲得黏著劑層及附相位差層之偏光板。
(評價)
對實施例及比較例中所得之附相位差層之偏光板進行下述評價。將結果表示於表2。
<耐熱性>
將附相位差層之偏光板裁剪成120 mm×60 mm之尺寸,經由實施例1中所用之黏著劑將相位差層B側之面貼合於玻璃,製成試驗樣品。將該試驗樣品投入85℃之烘箱保管500小時後,藉由光學顯微鏡確認相位差層有無龜裂。
根據以下之基準對耐熱性進行評價。
◎◎・・・於相位差層未產生龜裂。
◎・・・僅於相位差層之一部分產生以貼合異物為起點之龜裂。
○・・・於相位差層之一部分產生龜裂,但為目視無法視認之水準。
Δ・・・於相位差層之一部分產生龜裂,為目視可確認之水準。
×・・・於相位差層之整個面產生大量龜裂。
對實施例及比較例中所得之附相位差層之偏光板進行下述評價。將結果表示於表2。
<耐熱性>
將附相位差層之偏光板裁剪成120 mm×60 mm之尺寸,經由實施例1中所用之黏著劑將相位差層B側之面貼合於玻璃,製成試驗樣品。將該試驗樣品投入85℃之烘箱保管500小時後,藉由光學顯微鏡確認相位差層有無龜裂。
根據以下之基準對耐熱性進行評價。
◎◎・・・於相位差層未產生龜裂。
◎・・・僅於相位差層之一部分產生以貼合異物為起點之龜裂。
○・・・於相位差層之一部分產生龜裂,但為目視無法視認之水準。
Δ・・・於相位差層之一部分產生龜裂,為目視可確認之水準。
×・・・於相位差層之整個面產生大量龜裂。
[表2]
根據表2明顯可知,實施例之附相位差層之偏光板之相位差層之龜裂得到抑制。又,包含紫外線吸收劑作為黏著劑組合物之實施例2~13之紫外線吸收特性優異,其中,進而包含色素化合物之實施例5~6及8~13之紫外線吸收特性特別優異。
[產業上之可利用性]
[產業上之可利用性]
本發明之光學積層體可較佳地用於有機EL顯示裝置等圖像顯示裝置。
10‧‧‧偏光板
20‧‧‧第1相位差層
30‧‧‧黏著劑層
40‧‧‧第2相位差層
50‧‧‧黏著劑層
100‧‧‧附相位差層之偏光板
圖1係本發明之1個實施形態之附相位差層之偏光板之概略剖視圖。
Claims (10)
- 一種附相位差層之偏光板,其依序具有偏光板、第1相位差層、黏著劑層、及第2相位差層, 上述第1相位差層及上述第2相位差層包含液晶化合物,且 構成上述黏著劑層之黏著劑相對於100重量份之基礎聚合物包含0.05重量份以上之異氰酸酯交聯劑。
- 如請求項1之附相位差層之偏光板,其中上述基礎聚合物係(甲基)丙烯酸系聚合物。
- 如請求項1之附相位差層之偏光板,其中上述基礎聚合物含有含羧基之單體作為單體成分。
- 如請求項2之附相位差層之偏光板,其中上述基礎聚合物含有含羧基之單體作為單體成分。
- 如請求項1至4中任一項之附相位差層之偏光板,其中構成上述黏著劑層之黏著劑進而包含紫外線吸收劑。
- 如請求項5之附相位差層之偏光板,其中上述紫外線吸收劑於分子結構中具有0個~3個羥基。
- 如請求項1至4中任一項之附相位差層之偏光板,其中構成上述黏著劑層之黏著劑進而包含吸收光譜之最大吸收波長存在於380 nm~430 nm之波長區域之色素化合物。
- 如請求項5之附相位差層之偏光板,其中構成上述黏著劑層之黏著劑進而包含吸收光譜之最大吸收波長存在於380 nm~430 nm之波長區域之色素化合物。
- 如請求項6之附相位差層之偏光板,其中構成上述黏著劑層之黏著劑進而包含吸收光譜之最大吸收波長存在於380 nm~430 nm之波長區域之色素化合物。
- 一種有機EL顯示裝置,其具有如請求項1至9中任一項之附相位差層之偏光板。
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