TW201807124A - 附黏著劑層之單面保護偏光薄膜之製造方法 - Google Patents

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Abstract

本發明涉及一種附黏著劑層之單面保護偏光薄膜之製造方法，所述單面保護偏光薄膜係僅於偏光件之單面具有保護薄膜者，且該偏光件的厚度為10μm以下並具有特定光學特性，而所述附黏著劑層之單面保護偏光薄膜是從單面保護偏光薄膜的偏光件側起依序具有透明樹脂層及黏著劑層者；該製造方法係藉由實施下述步驟(1)及步驟(2)形成透明樹脂層後實施步驟(3)形成黏著劑層來進行：步驟(1)，其係一邊輸送前述單面保護偏光薄膜一邊在前述單面保護偏光薄膜之偏光件側塗覆含樹脂成分或硬化性成分之塗覆液，且該硬化性成分可構成樹脂層；步驟(2)，其係於前述塗覆步驟(1)後將前述塗覆液固化或硬化；步驟(3)，其係於不將所得之附透明樹脂層之單面保護偏光薄膜捲取成卷狀下，在前述透明樹脂層形成黏著劑層。即便在使用了薄型之單面保護薄膜的情況下，仍可穩定形成透明樹脂層再形成黏著劑層。

Description

附黏著劑層之單面保護偏光薄膜之製造方法
本發明涉及附黏著劑層之單面保護偏光薄膜之製造方法。由前述製造方法所得之附黏著劑層之單面保護偏光薄膜，可單獨或將其積層成為光學薄膜，來形成液晶顯示裝置(LCD)、有機EL顯示裝置等影像顯示裝置。
液晶顯示裝置於時鐘、行動電話、PDA、筆記型電腦、電腦用顯示器、DVD播放器、TV等用途上的市場正急速地擴張。液晶顯示裝置是經由液晶之切換(Switching)使偏光狀態可視化，基於其顯示原理會使用偏光件。
作為偏光件，因具有高穿透率、高偏光度，故碘系偏光件最普遍廣為使用，其係例如令聚乙烯醇吸附碘並延伸而成之結構。這種偏光件具有機械性強度極端薄弱、且會因熱或水分而收縮致使偏光機能顯著降低的缺點。因此，所製得之偏光件是立即與已塗覆有接著劑之保護薄膜透過接著劑相貼合而作成偏光薄膜來使用。
在將前述偏光薄膜貼附於液晶單元等時，通常會使用黏著劑。又，由於具有可瞬間固定偏光薄膜、以及不需要乾燥步驟即令偏光薄膜固著等優點，黏著劑是作為黏著劑層預先設置於偏光薄膜的單面。亦即，在偏光薄膜的貼著方面，通常使用附黏著劑層之偏光薄膜。
另一方面，液晶顯示裝置等影像顯示裝置已朝薄型化發展，在偏光薄膜方面亦正要求薄型化。因此，針對偏光件的薄型化亦正進行中(專利文獻1)。又，可藉由使用單面保護偏光薄膜來進行薄型化，其僅於偏光件單側設置保護薄膜，另一側未設置保護薄膜。相較於偏光件兩面均設保護薄膜的兩面保護偏光薄膜，所述單面保護偏光薄膜由於少了一層保護薄膜故薄型化可圖。
另一方面，單面保護偏光薄膜對前述熱衝撃的耐久性並不足夠，故有人提出在偏光件側設置保護層(透明樹脂層)(專利文獻2、3)。
先前技術文獻 專利文獻 專利文獻1：日本專利第4751481號說明書 專利文獻2：日本專利公開案第2010-009027號公報 專利文獻3：日本專利公開案第2013-160775號公報
發明欲解決之課題 專利文獻2及3是藉由使用僅於偏光件單面具有保護薄膜的單面保護偏光薄膜來謀求薄型化，同時另一方面藉由設置保護層來抑制因使用單面保護偏光薄膜而產生的朝偏光件吸收軸方向之貫通裂紋的發生(在熱衝撃(例如於-30℃與80℃之溫度條件往返的熱震試驗)的嚴苛環境下因偏光件收縮應力的變化而在偏光件之吸收軸方向整體性出現的裂紋)。又，專利文獻2和3記載，在對單面保護偏光薄膜形成保護層(透明樹脂層)時，可藉由各種塗覆方式施用其形成材料。
另一方面，如上所述，薄型化的發展也發生在偏光件上。在偏光薄膜或附黏著劑層之偏光薄膜所用偏光件作成薄型的情況時(例如作成厚度10μm以下時)，偏光件的收縮應力變化會變小。因此，已了解到，若利用薄型化偏光件，則能夠抑制前述貫通裂紋的發生。
然而，前述貫通裂紋的發生已受到抑制的單面保護偏光薄膜、或使用其之附黏著劑層之偏光薄膜中，在如專利文獻1般控制光學特性並將偏光件作成薄型的情況時(例如，作成厚度10μm以下時)，單面保護偏光薄膜或使用了該薄膜之附黏著劑層之偏光薄膜在負荷機械衝撃的時候(包括偏光件側有凸折所致負荷的情形)，已知在偏光件吸收軸方向會局部出現極細的細縫(以下亦稱為奈米細縫)。前述奈米細縫的產生係與偏光薄膜的尺寸無關此亦為已知。再者，亦已知在使用偏光件兩面具有保護薄膜的雙面保護偏光薄膜的情況時，前述奈米細縫並未發生。又，已知偏光件發生貫通裂紋的情形時，由於貫通裂紋周邊的應力被解放，貫通裂紋並不會鄰接而生，但奈米細縫除了單獨產生外亦鄰接而生。又已知，貫通裂紋具有朝向已產生裂紋之偏光件吸收軸方向延伸的行進性，但奈米細縫則無前述行進性。如此可知，前述奈米細縫，是在貫通裂紋的發生已受到抑制的單面保護偏光薄膜之偏光件經薄化且光學特性已控制在所欲範圍的情形下產生的新課題，和以往所知之前述貫通裂紋是由不同的現象產生的課題。
又，由於前述奈米細縫極細，故在一般環境下無法檢出。因此，即便設若偏光件已有奈米細縫發生，單面保護偏光薄膜及使用了該薄膜之附黏著劑層偏光薄膜的漏光所致缺陷，要僅憑一眼即予以確認仍是困難的。亦即，通常單面保護偏光薄膜是製成長條薄膜狀而以自動光學檢査來檢查缺陷，但要以該缺陷檢査來將奈米細縫檢出為缺陷則有困難。亦已知前述奈米細縫所致缺陷在單面保護偏光薄膜或附黏著劑層之偏光薄膜貼合於影像顯示面板的玻璃基板等再置於加熱環境下時，奈米細縫會往橫向擴展，因而變得能夠檢出(例如，前述漏光之有無)。
是以，對於偏光件厚度10μm以下的單面保護偏光薄膜或使用了該薄膜的附黏著劑層之偏光薄膜而言，期望要先抑制的不僅止於貫通裂紋，還有奈米細縫的發生。
然而，於使用了薄型的單面保護偏光薄膜的情況下，在由保護層(透明樹脂層)之塗覆液形成了透明樹脂層後，會例如為了促進硬化並獲得調控成所欲膜厚的透明樹脂層而暫時先將附透明樹脂層之單面保護偏光薄膜捲取成卷狀，當欲再次輸出已捲取之前述附透明樹脂層之單面保護偏光薄膜以轉送至下個步驟之黏著劑層形成步驟時，附透明樹脂層之單面保護偏光薄膜會在輸出時因為結塊(經捲取之薄膜彼此密著)而有偏光件局部帶有應力的狀況。因此所得附透明樹脂層之單面保護偏光薄膜的卷狀物會提高發生奈米細縫的風險，或往下個步驟的輸出變得困難。另一方面，形成透明樹脂層後，若在透明樹脂層上貼附有表面保護薄膜的情況下進行捲繞，就能避免透明樹脂層造成的結塊，但由於在剝離表面保護薄膜時會讓偏光件局部帶有應力，故發生奈米細縫的風險會升高。
本發明之目的在於提供一種附黏著劑層之單面保護偏光薄膜之製造方法，其即便在使用了薄型之單面保護薄膜的情況下，仍可穩定形成透明樹脂層再形成黏著劑層，並同時可抑制奈米細縫的發生。
用以解決課題之手段 經本案發明人等精心探究，結果發現可藉由下述附黏著劑層之單面保護偏光薄膜之製造方法來解決上述課題，而終至完成本發明。
即本發明涉及一種附黏著劑層之單面保護偏光薄膜之製造方法，所述單面保護偏光薄膜係僅於偏光件之單面具有保護薄膜者，而所述附黏著劑層之單面保護偏光薄膜係從單面保護偏光薄膜的偏光件側起依序具有透明樹脂層及黏著劑層，該製造方法之特徵在於： 前述偏光件含有聚乙烯醇系樹脂，且厚度在10μm以下，並且構造成其以單體穿透率T及偏光度P表示的光學特性滿足下式之條件： P＞-(100.929T-42.4 -1)×100(惟T＜42.3)，或者 P≧99.9(惟T≧42.3)； 前述透明樹脂層及黏著劑層的形成係藉由實施下述步驟(1)及步驟(2)形成透明樹脂層後實施步驟(3)形成黏著劑層來進行： 步驟(1)，其係一邊輸送前述單面保護偏光薄膜一邊在前述單面保護偏光薄膜之偏光件側塗覆含樹脂成分或硬化性成分之塗覆液，且該硬化性成分係可構成樹脂層； 步驟(2)，其係於前述塗覆步驟(1)後將前述塗覆液固化或硬化； 步驟(3)，其係於不將所得之附透明樹脂層之單面保護偏光薄膜捲取成卷狀下，在前述透明樹脂層形成黏著劑層。
前述附黏著劑層之單面保護偏光薄膜之製造方法中，在前述步驟(2)後且前述步驟(3)之前可具有步驟(4)，係在輸送線中測定透明樹脂層的膜厚。前述步驟(4)可利用在光源前端使用偏光元件的光學干渉方式來進行。
前述附黏著劑層之單面保護偏光薄膜之製造方法中，可使用含有已溶解或分散於水中之樹脂成分的塗覆液作為前述步驟(1)的塗覆液，並於步驟(2)經由固化而形成透明樹脂層。前述含樹脂成分之塗覆液宜為含有聚乙烯醇系樹脂的水溶液。
前述附黏著劑層之單面保護偏光薄膜之製造方法中，前述步驟(1)的塗覆液在25℃下的黏度宜為1000mPa∙s以下。
前述附黏著劑層之單面保護偏光薄膜之製造方法中，前述偏光件宜含有相對於偏光件總量為20重量%以下之硼酸。
前述附黏著劑層之單面保護偏光薄膜之製造方法中，亦可於前述黏著劑層積層分離件(separator)來使用。設有分離件的附黏著劑層之單面保護偏光薄膜可作成捲繞物。
發明效果 由本發明之製造方法所獲得的附黏著劑層之單面保護偏光薄膜，係使用厚度10μm以下之偏光件而呈薄型化。又，相較於偏光件厚度高的情形，前述厚度10μm以下的薄型偏光件由於熱衝撃加諸於偏光件的收縮應力變化較小，故能夠抑制貫通裂紋的發生。
但另一方面，具有所欲光學特性的薄型偏光件，會容易在偏光件出現奈米細縫。奈米細縫被認為是在要將黏著劑層設置於單面保護偏光薄膜上的附黏著劑層之偏光薄膜製造步驟中、以及已製出附黏著劑層之偏光薄膜後的各種步驟之中，當前述單面保護偏光薄膜、或使用了該偏光薄膜的附黏著劑層之偏光薄膜承受機械衝撃之時所產生，並推測是由與熱衝撃所致之貫通裂紋不同的機制所產生。又，在附黏著劑層之單面保護偏光薄膜貼合於影像顯示面板的玻璃基板等上再置於加熱環境下的情形時，奈米細縫會往橫向擴大，而變得能夠檢測出前述奈米細縫所致缺陷(例如，是否有前述之漏光)。
由本發明之製造方法所得之附黏著劑層之單面保護偏光薄膜，係藉由在偏光件之另一面(沒有保護薄膜的面)設置透明樹脂層而可抑制前述奈米細縫的發生。
依據本發明之製造方法，在經由步驟(1)及步驟(2)而在使用了薄型偏光件的單面保護薄膜上形成透明樹脂層後，並不進行「將所得之附透明樹脂層之單面保護偏光薄膜暫時捲取成卷狀，並將已捲取之前述附透明樹脂層之單面保護偏光薄膜再次輸出」這樣的步驟，而是將其轉送至步驟(3)，於前述透明樹脂層上形成黏著劑層。如此，本發明之製造方法由於沒有捲取附透明樹脂層之單面保護偏光薄膜的步驟及輸出步驟，故不會使附透明樹脂層之單面保護偏光薄膜因結塊導致之奈米細縫發生風險提高，而可連續且穩定地製造附黏著劑層之單面保護偏光薄膜。
又，本發明之製造方法中，在前述步驟(2)後且前述步驟(3)之前可設步驟(4)，對附透明樹脂層之單面保護偏光薄膜測定透明樹脂層的膜厚。利用前述步驟(4)，即便不將附透明樹脂層之單面保護偏光薄膜捲取成卷狀，仍可穩定地測定透明樹脂層的膜厚，並進行管理以使透明樹脂層呈所欲之膜厚。結果，由於不需要離線進行膜厚管理的確認，故生產性會提高。
以下，一邊參照圖1一邊說明本發明之附黏著劑層單面保護偏光薄膜之製造方法的步驟(1)至步驟(3)。
於塗覆步驟(1)，將塗覆液2´塗覆於正在進行輸送的單面保護偏光薄膜1。單面保護偏光薄膜1係僅於偏光件10之單面具有保護薄膜20，而以偏光件10/保護薄膜20的結構表示。圖1中，前述塗覆液2´係以已(直接)塗覆在單面保護偏光薄膜1之偏光件上的狀態表示。此外，前述單面保護偏光薄膜1通常以5~50m/分輸送為佳，進而以10~40m/分輸送為佳。於固化或硬化步驟(2)，由前述塗覆液2´形成透明樹脂層2，獲得附透明樹脂層之單面保護偏光薄膜A。接著實施步驟(3)，在不將附透明樹脂層之單面保護偏光薄膜A捲取成卷狀下，於前述透明樹脂層2形成黏著劑層3，製造附黏著劑層之單面保護偏光薄膜B。
又如圖1所示，本發明之製造方法中，在前述步驟(2)後且實施前述步驟(3)之前，可具有步驟(4)，其係於輸送線中測定透明樹脂層的膜厚。前述步驟(4)可如圖2所示般，在光源40與單面保護偏光薄膜之間使用偏光素子41並利用光學干渉方式來進行。將光源40設置成使其垂直於附透明樹脂層之單面保護偏光薄膜A之透明樹脂層2側的形式。在光源40與附透明樹脂層之單面保護偏光薄膜A之間使用偏光素子41，以使光源40與附透明樹脂層之單面保護偏光薄膜A的偏光件10呈吸收軸垂直相交狀態，利用光學干渉方式測定透明樹脂層2的厚度。
又，雖未圖示，惟可在本發明附黏著劑層之單面保護偏光薄膜B的黏著劑層設置分離件。又，可在本發明附黏著劑層之單面保護偏光薄膜B的保護薄膜20側設置表面保護薄膜。至少具有分離件的附黏著劑層之單面保護偏光薄膜(進一步為具有表面保護薄膜者)可作成捲繞物來使用，適用在例如從捲繞物輸出附黏著劑層之偏光薄膜並利用分離件輸送，且隔著黏著劑層將其貼合於影像顯示面板表面的方式(亦稱「卷材至面板方式」，代表性如日本專利第4406043號說明書)，可連續地製造影像顯示裝置。
圖3是對比生成於偏光件之奈米細縫a與貫通裂紋b的概念圖。圖3(A)顯示生成於偏光件10的奈米細縫a；而圖3(B)顯示生成於偏光件10的貫通裂紋b。奈米細縫a是因機械衝撃而產生，於偏光件10之吸收軸方向局部性地出現，奈米細縫a雖無法在最初發生時即予以確認，但能夠在熱環境下(例如80℃或60℃下90%RH)利用往橫向的擴大來確認。此外，吾人認為奈米細縫a並不具有沿偏光件吸收軸方向延伸的行進性。又，吾人認為前述奈米細縫a的生成無關乎偏光薄膜的尺寸。而奈米細縫a除了單獨生成外，也有鄰接而生者。另一方面，貫通裂紋b是因熱衝撃(例如，熱震試驗)而生。貫通裂紋有沿著已生成裂紋之偏光件的吸收軸方向延伸的行進性。在貫通裂紋b出現後，其周邊應力會被釋放，故貫通裂紋並不會鄰接而生。
＜步驟(1)＞ ≪單面保護偏光薄膜≫ 前述單面保護偏光薄膜，係使用僅於薄型偏光件單面具有保護薄膜之物。又單面保護偏光薄膜的厚度(總厚度)宜為60μm以下。即便是這樣的薄型單面保護薄膜，依據本發明之製造方法亦能形成膜厚穩定的透明樹脂層。前述單面保護偏光薄膜的厚度可進一步使用55μm以下者。另一方面，從輸送性的觀點看來，薄型單面保護薄膜的厚度宜為20μm以上，更宜為25μm以上。
《偏光件》 本發明係使用厚度10μm以下的偏光件。偏光件的厚度，從薄型化及抑制貫通裂紋發生的觀點來看宜為8μm以下，更宜為7μm以下，更宜為6μm以下。另一方面，偏光件的厚度宜為2μm以上，更宜為3μm以上。這樣的薄型偏光件，厚度參差少、可見度(visibility)優良且尺寸變化又低，故對熱衝撃的耐久性優良。
偏光件係採用使用了聚乙烯醇系樹脂之物。作為偏光件，可舉如使聚乙烯醇系薄膜、部分縮甲醛化聚乙烯醇系薄膜、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物系部分皂化薄膜等親水性高分子薄膜吸附碘或二色性染料等二色性材料並加以單軸延伸者，以及聚乙烯醇之脫水處理物或聚氯乙烯之脫鹽酸處理物等聚烯系配向薄膜等。其等之中，又以由聚乙烯醇系薄膜與碘等二色性物質所構成之偏光件為宜。
將聚乙烯醇系薄膜以碘染色再單軸延伸而成之偏光件舉例來說可以下述方式製作：將聚乙烯醇薄膜浸漬到碘之水溶液藉此染色，再延伸到原長之3~7倍。亦可因應需求將其浸漬於硼酸或可含硫酸鋅、氯化鋅等的碘化鉀等水溶液中。進一步亦可視需要在染色前將聚乙烯醇系薄膜浸漬於水中進行水洗。藉由水洗聚乙烯醇系薄膜，可洗淨聚乙烯醇系薄膜表面的污垢及抗結塊劑，除此之外也有使聚乙烯醇系薄膜膨潤從而防止染色參差等不均缺陷的效果。延伸可於以碘染色後進行，亦可一邊染色一邊延伸，復亦可於延伸後以碘染色。亦可於硼酸或碘化鉀等水溶液中或水浴中進行延伸。
就延伸穩定性或光學耐久性而言，偏光件宜含有硼酸。又，偏光件所含硼酸的含量，從抑制貫通裂紋的發生及抑制擴張的觀點來看，宜相對於偏光件總量為20重量%以下，更宜為18重量%以下，更宜為16重量%以下。另一方面，從偏光件的延伸穩定性或光學耐久性之觀點來看，相對於偏光件總量之硼酸含量宜為10重量%以上，進而宜為12重量%以上。
作為薄型偏光件，代表性地可舉如日本專利第4751486號說明書、日本專利第4751481號說明書、日本專利第4815544號說明書、日本專利第5048120號說明書、國際公開第2014/077599號說明書、國際公開第2014/077636號說明書等所記載的薄型偏光件，或由其等所記載之製造方法獲得的薄型偏光件。
前述偏光件，係構造成其以單體穿透率T及偏光度P表示之光學特性滿足下式之條件：P＞-(100.929T-42.4 -1)×100(惟T＜42.3)；或P≧99.9(惟T≧42.3)。經構造成滿足前述條件的偏光件，會毫無疑問地具有在使用了大型顯示元件之液晶電視用顯示器方面所需要的性能。具體上為對比度1000：1以上且最大輝度500cd/m2 以上。其他用途方面，則例如可貼合於有機EL顯示裝置之觀視側。
作為前述薄型偏光件，在包含以積層體狀態進行延伸之步驟與染色步驟的製法中，就可高倍率延伸並可提升偏光性能此點而言，宜為如日本專利第4751486號說明書、日本專利第4751481號說明書、日本專利第4815544號說明書所記載般包含於硼酸水溶液中進行延伸之步驟的製法所得者，尤其宜為經由日本專利第4751481號說明書、日本專利4815544號說明書所記載之包含於硼酸水溶液中延伸前進行輔助性空中延伸步驟的製法所獲得者。該等薄型偏光膜，可藉由包含將聚乙烯基醇系樹脂(以下亦稱為PVA系樹脂)層與延伸用樹脂基材在積層體的狀態下延伸之步驟與染色步驟的製法來獲得。若為此種製法，則即便PVA系樹脂層很薄，仍可藉由以延伸用樹脂基材支撐而在不發生延伸所致斷裂等不良情況下進行延伸。
《保護薄膜》 作為構成上述保護薄膜之材料，宜為透明性、機械強度、熱穩定性、水分阻斷性、等向性等方面優異者。可舉如：聚對苯二甲酸乙二酯及聚萘二甲酸乙二酯等聚酯系聚合物；二醋酸纖維素及三醋酸纖維素等纖維素系聚合物；聚甲基丙烯酸甲酯等丙烯醯系聚合物；聚苯乙烯及丙烯腈-苯乙烯共聚物(AS樹脂)等苯乙烯系聚合物；以及聚碳酸酯系聚合物等。又，亦可舉如下述聚合物作為形成上述保護薄膜之聚合物之例：聚乙烯、聚丙烯、具有環狀系乃至降莰烯結構之聚烯烴、如乙烯-丙烯共聚物之聚烯烴系聚合物、氯化乙烯系聚合物、尼龍及芳香族聚醯胺等醯胺系聚合物、醯亞胺系聚合物、碸系聚合物、聚醚碸系聚合物、聚醚醚酮系聚合物、聚伸苯硫系聚合物、乙烯醇系聚合物、氯化亞乙烯系聚合物、乙烯縮丁醛系聚合物、芳酯系聚合物、聚甲醛系聚合物、環氧系聚合物或上述聚合物之摻合物等。該等保護薄膜通常是經由接著劑層貼合於偏光件上。
此外，保護薄膜中亦可含有1種類以上的任意適當添加劑。作為添加劑，可舉例如紫外線吸收劑、抗氧化劑、潤滑劑、塑化劑、離型劑、著色防止劑、難燃劑、核劑、抗靜電劑、顔料、著色劑等。保護薄膜中上述熱可塑性樹脂的含量宜為50~100質量%，而較佳為50~99質量%，更佳為60~98質量%，尤佳為70~97質量%。保護薄膜中上述熱可塑性樹脂的含量為50質量%以下時，可能會有熱可塑性樹脂原具有之高透明性等無法充分展現的狀況。
前述保護薄膜亦可使用相位差薄膜、增亮薄膜、擴散薄膜等。作為相位差薄膜，可舉如具有正面相位差40nm以上及/或厚度方向相位差80nm以上之相位差者。正面相位差通常控制在40~200nm的範圍，而厚度方向相位差通常控制在80~300nm的範圍。使用相位差薄膜作為保護薄膜時，由於該相位差薄膜亦發揮作為偏光件保護薄膜的機能，故能謀求薄型化。
作為相位差薄膜，可舉如將熱可塑性樹脂薄膜作單軸或雙軸延伸處理而成的複折射性薄膜。上述延伸的溫度、延伸倍率等，可依相位差値、薄膜材料及厚度來作適當設定。
前述保護薄膜的厚度可適當設定，但一般而言，從諸如強度或操作性等作業性以及薄層性等觀點來看係以2~200μm為佳，進而以3~100μm為佳。特別是在將單面保護偏光薄膜的厚度(總厚度)調整成60μm以下的情況下，前述保護薄膜(預先形成薄膜時)的厚度就輸送性而言係以低於15~60μm為佳，進而以20~55μm為佳。另一方面，前述保護薄膜(經由塗佈硬化而形成時)的厚度就輸送性而言係以3~50μm為佳，進而以5~40μm為佳。前述保護薄膜可使用多片或多層。
前述保護薄膜之不與偏光件接著之面，可設置硬塗層、抗反射層、防黏層、擴散層及抗眩層等機能層。此外，上述硬質層、抗反射層、抗黏層、擴散層及抗眩層等機能層除了可設在保護薄膜本身以外，亦可與保護薄膜分設而另為其他個體。
＜中介層＞ 前述保護薄膜與偏光件可隔著接著劑層、黏著劑層、底塗層(primer)等中介層來積層。此時，理想的是利用中介層使兩者毫無空氣間隙地積層。再者，偏光件1與保護薄膜2之中介層並未顯示於圖1。
接著劑層係由接著劑所形成。接著劑的種類並無特別限制，可使用各式各樣的種類。前述接著劑層只要是光學上為透明即可，並無特別限制，可使用水系、溶劑系、熱熔膠系、活性能量線硬化型等各種形態之物作為接著劑，惟理想的是水系接著劑或活性能量線硬化型接著劑。
就水系接著劑而言，可例示如異氰酸酯系接著劑、聚乙烯醇系接著劑、明膠系接著劑、乙烯基系乳膠系、水系聚酯等。水系接著劑通常係以水溶液所構成之接著劑的形式使用，通常含有0.5~60重量%之固體成分。
活性能量線硬化型接著劑，是以電子束、紫外線(自由基硬化型、陽離子硬化型)等活性能量線來進行硬化的接著劑，可使用例如電子束硬化型、紫外線硬化型的態樣。活性能量線硬化型接著劑可使用例如光自由基硬化型接著劑。在將光自由基硬化型的活性能量線硬化型接著劑作為紫外線硬化型來使用時，該接著劑含有自由基聚合性化合物及光聚合引發劑。
接著劑的塗覆方式，是依接著劑的黏度及目標厚度來作適當選擇。塗覆方式例可舉例如：逆轉式塗佈機、凹版塗佈機(直接、逆轉或平版)、棒逆轉式塗佈機、輥塗佈機、鑄模塗佈機、棒塗佈機、刮棒式塗佈機等。此外在塗覆方面可適當使用浸漬法等方式。
又，前述接著劑之塗覆在使用水系接著劑等時，宜以使最終形成之接著劑層厚度呈30~300nm的方式進行。前述接著劑層的厚度，更佳為60~150nm。另一方面，使用活性能量線硬化型接著劑時，宜以使前述接著劑層的厚度為0.2~20μm的方式進行。
此外，在積層偏光件與保護薄膜時，可在保護薄膜與接著劑層之間設置易接著層。易接著層舉例來說，可由具有下述骨架的各種樹脂來形成：聚酯骨架、聚醚骨架、聚碳酸酯骨架、聚胺甲酸酯骨架、聚矽氧系、聚醯胺骨架、聚醯亞胺骨架、聚乙烯醇骨架等。該等聚合物樹脂可單獨使用1種，或組合2種以上來使用。又，在易接著層的形成方面亦可加入其他添加劑。具體而言，可進一步使用黏著賦予劑、紫外線吸收劑、抗氧化劑、耐熱穩定劑等穩定劑等等。
易接著層通常是預先設在保護薄膜上，並利用接著劑層將該保護薄膜之易接著層側與偏光件積層。易接著層的形成，是藉由將易接著層的形成材以習知技術塗覆在保護薄膜上並進行乾燥來實施。易接著層的形成材通常會調製成溶液，其係在考量乾燥後的厚度、塗覆之圓滑性等而稀釋成適當濃度。易接著層乾燥後的厚度，宜為0.01~5μm，更宜為0.02~2μm，更宜為0.05~1μm。此外，易接著層可設置多層，惟此情形時仍宜使易接著層的總厚度在上述範圍內。
黏著劑層係由黏著劑形成。黏著劑方面可使用各種黏著劑，可舉例如橡膠系黏著劑、丙烯酸系黏著劑、矽氧烷系黏著劑、胺甲酸酯系黏著劑、乙烯基烷基醚系黏著劑、聚乙烯基吡咯啶酮系黏著劑、聚丙烯醯胺系黏著劑、纖維素系黏著劑等。可因應前述黏著劑的種類來選擇黏著性基底聚合物。前述黏著劑中，就光學透明性優異、展現適當的濕潤性、凝聚性及接著性等黏著特性並且耐候性及耐熱性等優異此點來看，以使用丙烯酸系黏著劑為佳。
底塗層(底漆層)是為了使偏光件與保護薄膜的密著性提升而形成。構成底漆層的材料，只要是對基材薄膜與聚乙烯醇系樹脂層兩者發揮一定程度的強密著力的材料即可，並無特別限定。例如，可使用透明性、熱穩定性、延伸性等優良的熱可塑性樹脂等等。作為熱可塑性樹脂，可舉例如丙烯醯系樹脂、聚烯烴系樹脂、聚酯系樹脂、聚乙烯醇系樹脂、或其等之混合物。
《塗覆液》 塗覆液係含有樹脂成分、或可構成樹脂層的硬化性成分。利用該塗覆液來形成透明樹脂層。
又，作為前述塗覆液的塗覆液形態只要是呈現液狀者即可沒有特別限制，可為水系、水分散系、溶劑系、無溶劑任一者。
前述塗覆液中，低黏度的塗覆液會易於浸透偏光件的損傷部故較為有利。前述黏度於25℃下的測値宜為2000mPa∙s以下，更宜為1000mPa∙s以下，更宜為500mPa∙s以下，更宜為100mPa∙s以下。
前述塗覆液對單面保護偏光薄膜(偏光件側)的塗覆，宜以使步驟(2)後所形成之透明樹脂層厚度為0.2μm以上的方式進行。前述透明樹脂層的厚度宜為0.5μm以上，更宜為0.7μm以上。另一方面，若透明樹脂層的厚度變得過厚，光學可靠度與耐水性就會降低，因此透明樹脂層的厚度宜為3μm以下，更宜為低於3μm，更宜為2μm以下。
前述透明樹脂層的形成材料可舉例如聚酯系樹脂、聚醚系樹脂、聚碳酸酯系樹脂、聚胺甲酸酯系樹脂、矽氧烷系樹脂、聚醯胺系樹脂、聚醯亞胺系樹脂、PVA系樹脂、丙烯酸系樹脂、環氧系樹脂、異氰酸酯系樹脂等。該等樹脂材料可單獨使用1種，或組合2種以上來使用，其等當中以選自於由聚胺甲酸酯系樹脂、PVA系樹脂、丙烯酸系樹脂、環氧系樹脂所構成群組中之1種以上的樹脂為佳，並以PVA系樹脂、丙烯酸系樹脂較佳。
前述塗覆液，宜為含有已溶解或分散於水中之樹脂成分的塗覆液。已溶解或分散於水中之樹脂成分，是指在常溫(25℃)下已溶解於水中的樹脂、使可溶於水之樹脂溶解於水系溶劑而成之物。塗覆液若是水系或水分散系，就可藉著偏光件表面膨潤而使前述塗覆液浸滲至損傷部，故為有利。亦即，塗覆液若是水系或水分散系，就能部分減輕構成偏光件之該損傷部周邊之聚乙烯醇分子的定向性，同時可降低該損傷部周邊之硼酸含量，因此即使透明樹脂層之厚度小(例如低於3μm、甚或更佳的2μm以下)，仍可有效抑制該損傷部的擴大。
可溶解或分散於水中之樹脂成分的代表例，可舉例如聚乙烯醇系樹脂、聚(甲基)丙烯酸、聚丙烯醯胺、羥甲基化三聚氰胺樹脂、羥甲基化脲樹脂、可溶酚醛型酚樹脂、聚環氧乙烷、羧甲基纖維素等。其等可單獨使用、亦可組合多個來使用。前述樹脂成分理想上係使用聚乙烯醇系樹脂、聚(甲基)丙烯酸、羥甲基化三聚氰胺。從與構成偏光件之聚乙烯醇系樹脂間的密著性此觀點來看，前述樹脂成分尤以聚乙烯醇系樹脂為宜。以下就使用了聚乙烯醇系樹脂的情形予以說明。
透明樹脂層宜由含有聚乙烯醇系樹脂之形成材所形成。形成透明樹脂層之聚乙烯醇系樹脂只要是「聚乙烯醇系樹脂」即可，無論是與偏光件所含有之聚乙烯醇系樹脂相同或相異均可。
前述聚乙烯醇系樹脂可舉例如聚乙烯醇。聚乙烯醇是藉由將聚乙酸乙烯酯皂化而得。又，聚乙烯醇系樹脂可舉如乙酸乙烯酯與具共聚性之單體的共聚物之皂化物。前述具共聚性之單體為乙烯時，係獲得乙烯-乙烯醇共聚物。又，前述具共聚性之單體可列舉如順丁烯二酸(酐)、延胡索酸、巴豆酸、衣康酸、(甲基)丙烯酸等不飽和羧酸及其酯類、乙烯、丙烯等α-烯烴、(甲基)丙烯磺酸(鈉)、磺酸鈉(單烷基蘋果酸酯)、二磺酸鈉烷基蘋果酸酯、N-羥甲基丙烯醯胺、丙烯醯胺烷基磺酸鹼金屬鹽、N-乙烯基吡咯啶酮、N-乙烯基吡咯啶酮衍生物等。此等聚乙烯醇系樹脂可單獨使用一種或併用二種以上。
前述聚乙烯醇系樹脂之皂化度舉例來說可使用95莫耳%以上者，但從滿足耐濕熱性及耐水性之觀點來看，皂化度宜為99莫耳%以上，更宜為99.7莫耳%以上。皂化度是表示可因皂化而轉換成乙烯醇單元的單元中實際上皂化成乙烯醇單元的單元比率，殘基為乙烯酯單元。皂化度可依據JIS K 6726-1994求出。
前述聚乙烯醇系樹脂的平均聚合度可使用例如500以上之物，惟由滿足耐濕熱性及耐水性的觀點來看，平均聚合度宜為1000以上，更宜為1500以上，更宜為2000以上。聚乙烯醇系樹脂的平均聚合度係以JIS-K6726為準進行測定。
又前述聚乙烯醇系樹脂可使用：在前述聚乙烯醇或其共聚物的側鏈上具有親水性官能基的改質聚乙烯醇系樹脂。前述親水性官能基，可舉例如乙醯乙醯基、羰基等。其他方面，可使用將聚乙烯醇系樹脂進行縮醛化、胺甲酸乙酯化、醚化、接枝化、磷酸酯化等而成的改質聚乙烯醇。
透明樹脂層或形成材(固體成分)中的聚乙烯醇系樹脂比率，宜為80重量%以上，更宜為90重量%以上，更宜為95重量%以上。
前述塗覆液，係經調製以作成已將前述聚乙烯醇系樹脂溶解於溶劑中的溶液。作為溶劑，可舉例如水、二甲基亞碸、二甲基甲醯胺、二甲基乙醯胺-N-甲基吡咯啶酮、各種二醇類、三羥甲基丙烷等多價醇類、乙二胺、二乙烯三胺等胺類。其等可單獨使用，或組合二種以上來使用。其等之中，宜採用使用了水為溶劑的水溶液。前述形成材(例如水溶液)之中，前述聚乙烯醇系樹脂的濃度雖無特別限制，但若考量塗佈性及存放穩定性等，係為0.1~15重量%，較佳為0.5~10重量%。
此外，前述塗覆液(例如水溶液)中，作為添加劑可舉例如可塑劑、界面活性劑等。可塑劑可舉例如乙二醇及丙三醇等多元醇。界面活性劑可舉例如非離子性界面活性劑。此外亦可搭配矽烷偶合劑、鈦偶合劑等偶合劑、各種黏著賦與劑、紫外線吸收劑、抗氧化劑、耐熱穩定劑、耐水解穩定劑等穩定劑等等。
前述塗覆液的塗佈，宜以使乾燥後厚度在0.2μm以上的方式實施。塗佈操作沒有特別限制，可以採用任意的適當方法。例如可採用凹版塗佈法(直接,逆轉或平版)、輥塗法、旋塗法、線棒塗佈法、浸塗法、模具塗佈法、淋幕式塗佈法、噴塗法、刮刀式塗佈法(逗形刮刀式塗佈法等)等各種手段。
接著，就前述透明樹脂層的形成，針對使用含可構成樹脂之硬化性成分的塗覆液時的狀況予以說明。硬化性成分可大致區分為電子束硬化型、紫外線硬化型、可見光線硬化型等活性能量線硬化型以及熱硬化型。再者，紫外線硬化型和可見光線硬化型，係可區分為自由基聚合硬化型與陽離子聚合硬化型。本發明中，將波長範圍10nm~低於380nm之活性能量線記為紫外線、將波長範圍380nm~800nm之活性能量線記為可見光線。前述自由基聚合硬化型的硬化性成分可作為熱硬化型的硬化性成分來使用。
《自由基聚合硬化型形成材》 前述硬化性成分可舉例如自由基聚合性化合物。自由基聚合性化合物可舉如具有(甲基)丙烯醯基、乙烯基等碳-碳雙鍵自由基聚合性官能基的化合物。該等硬化性成分可使用單官能自由基聚合性化合物或雙官能以上之多官能自由基聚合性化合物中任一種。又，該等自由基聚合性化合物可單獨使用1種，或者組合2種以上使用。作為該等自由基聚合性化合物，舉例來說，以具有(甲基)丙烯醯基之化合物為合宜。此外，本發明中，所謂(甲基)丙烯醯基意指丙烯醯基及/或甲基丙烯醯基，以下「(甲基)」同義。
《單官能自由基聚合性化合物》 單官能自由基聚合性化合物，可舉例如具有(甲基)丙烯醯胺基的(甲基)丙烯醯胺衍生物。(甲基)丙烯醯胺衍生物，在確保與偏光件之密著性上、還有就聚合速度快且生產性優良此點而言都甚為理想。作為(甲基)丙烯醯胺衍生物之具體例，可舉例如N-甲基(甲基)丙烯醯胺、N,N-二甲基(甲基)丙烯醯胺、N,N-二乙基(甲基)丙烯醯胺、N-異丙基(甲基)丙烯醯胺、N-丁基(甲基)丙烯醯胺、N-己基(甲基)丙烯醯胺等含N-烷基的(甲基)丙烯醯胺衍生物；N-羥甲基(甲基)丙烯醯胺、N-羥乙基(甲基)丙烯醯胺、N-羥甲基-N-丙烷(甲基)丙烯醯胺等含N-羥烷基的(甲基)丙烯醯胺衍生物；胺甲基(甲基)丙烯醯胺、胺乙基(甲基)丙烯醯胺等含N-胺烷基的(甲基)丙烯醯胺衍生物；N-甲氧基甲基丙烯醯胺、N-乙氧基甲基丙烯醯胺等含N-烷氧基的(甲基)丙烯醯胺衍生物；氫硫基甲基(甲基)丙烯醯胺、氫硫基乙基(甲基)丙烯醯胺等含N-氫硫基烷基的(甲基)丙烯醯胺衍生物等等。又，(甲基)丙烯醯胺基之氮原子形成了雜環的含雜環之(甲基)丙烯醯胺衍生物，可舉例如N-丙烯醯基嗎福啉、N-丙烯醯基哌啶、N-甲基丙烯醯基哌啶、N-丙烯醯基吡咯啶等。
於前述(甲基)丙烯醯胺衍生物當中，若從與偏光件的密著性此點來看，則亦宜為含有N-羥烷基之(甲基)丙烯醯胺衍生物，特別是宜為N-羥乙基(甲基)丙烯醯胺。
此外，單官能自由基聚合性化合物可舉例如具有(甲基)丙烯醯氧基之各種(甲基)丙烯酸衍生物。具體而言，可舉例如(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸正丙酯、(甲基)丙烯酸異丙酯、2-甲基-2-硝基丙基(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸異丁酯、(甲基)丙烯酸第二丁酯、(甲基)丙烯酸第三丁酯、(甲基)丙烯酸正戊酯、(甲基)丙烯酸第三戊酯、3-戊基(甲基)丙烯酸酯、2,2-二甲基丁基(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸正己酯、(甲基)丙烯酸十六烷酯、(甲基)丙烯酸正辛酯、2-乙基己基(甲基)丙烯酸酯、4-甲基-2-丙基戊基(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸正十八烷酯等(甲基)丙烯酸(碳數1-20)烷基酯類。
又，前述(甲基)丙烯酸衍生物可舉例如：環己基(甲基)丙烯酸酯、環戊基(甲基)丙烯酸酯等環烷基(甲基)丙烯酸酯； 苄基(甲基)丙烯酸酯等芳烷基(甲基)丙烯酸酯； 2-異莰基(甲基)丙烯酸酯、2-降莰基甲基(甲基)丙烯酸酯、5-降莰烯-2-基-甲基(甲基)丙烯酸酯、3-甲基-2-降莰基甲基(甲基)丙烯酸酯、二環戊烯基(甲基)丙烯酸酯、二環戊烯基氧基乙基(甲基)丙烯酸酯、二環戊烷基(甲基)丙烯酸酯等多環式(甲基)丙烯酸酯； 2-甲氧基乙基(甲基)丙烯酸酯、2-乙氧基乙基(甲基)丙烯酸酯、2-甲氧基甲氧基乙基(甲基)丙烯酸酯、3-甲氧基丁基(甲基)丙烯酸酯、乙基卡必醇(甲基)丙烯酸酯、苯氧基乙基(甲基)丙烯酸酯、烷基苯氧基聚乙二醇(甲基)丙烯酸酯等含有烷氧基或苯氧基之(甲基)丙烯酸酯等等。
又，前述(甲基)丙烯酸衍生物可舉如2-羥乙基(甲基)丙烯酸酯、2-羥丙基(甲基)丙烯酸酯、3-羥丙基(甲基)丙烯酸酯、2-羥丁基(甲基)丙烯酸酯、4-羥丁基(甲基)丙烯酸酯、6-羥己基(甲基)丙烯酸酯、8-羥辛基(甲基)丙烯酸酯、10-羥癸基(甲基)丙烯酸酯、12-羥月桂基(甲基)丙烯酸酯等羥烷基(甲基)丙烯酸酯或[4-(羥甲基)環己基]甲基丙烯酸酯、環己烷二甲醇單(甲基)丙烯酸酯、2-羥基-3-苯氧基丙基(甲基)丙烯酸酯等含羥基之(甲基)丙烯酸酯； 環氧丙基(甲基)丙烯酸酯、4-羥丁基(甲基)丙烯酸酯環氧丙基醚等含環氧基之(甲基)丙烯酸酯； 2,2,2-三氟乙基(甲基)丙烯酸酯、2,2,2-三氟乙基乙基(甲基)丙烯酸酯、四氟丙基(甲基)丙烯酸酯、六氟丙基(甲基)丙烯酸酯、八氟戊基(甲基)丙烯酸酯、十七氟癸基(甲基)丙烯酸酯、3-氯-2-羥丙基(甲基)丙烯酸酯等含有鹵素之(甲基)丙烯酸酯； 二甲基胺基乙基(甲基)丙烯酸酯等烷基胺基烷基(甲基)丙烯酸酯； 3-氧呾基甲基(甲基)丙烯酸酯、3-甲基氧呾基甲基(甲基)丙烯酸酯、3-乙基氧呾基甲基(甲基)丙烯酸酯、3-丁基氧呾基甲基(甲基)丙烯酸酯、3-己基氧呾基甲基(甲基)丙烯酸酯等含氧呾基(甲基)丙烯酸酯； 四氫呋喃甲基(甲基)丙烯酸酯、丁內酯(甲基)丙烯酸酯等具有雜環的(甲基)丙烯酸酯，或羥三甲基乙酸新戊二醇(甲基)丙烯酸加成物、p-苯基酚(甲基)丙烯酸酯等等。
又，單官能自由基聚合性化合物可舉如(甲基)丙烯酸、丙烯酸羧乙酯、丙烯酸羧戊酯、伊康酸、馬來酸、延胡索酸、巴豆酸、異巴豆酸等含羧基之單體。
又，作為單官能自由基聚合性化合物，可舉例如N-乙烯基吡咯啶酮、N-乙烯基-ε-己內醯胺、甲基乙烯基吡咯啶酮等內醯胺系乙烯基單體；乙烯基吡啶、乙烯基哌啶酮、乙烯基嘧啶、乙烯基哌、乙烯基吡、乙烯基吡咯、乙烯基咪唑、乙烯基唑、乙烯基嗎福啉等具有含氮雜環之乙烯系單體等等。
又，作為單官能自由基聚合性化合物，可使用具有活性亞甲基之自由基聚合性化合物。具有活性亞甲基之自由基聚合性化合物是在末端或分子中具有(甲基)丙烯醯基等活性雙鍵基且具有活性亞甲基之化合物。作為活性亞甲基，可舉例如乙醯乙醯基、烷氧丙二醯基、或氰乙醯基等。前述活性亞甲基係以乙醯乙醯基為佳。舉例言之，具有活性亞甲基之自由基聚合性化合物之具體例可舉如2-乙醯乙醯氧基乙基(甲基)丙烯酸酯、2-乙醯乙醯氧基丙基(甲基)丙烯酸酯、2-乙醯乙醯氧基-1-甲基乙基(甲基)丙烯酸酯等乙醯乙醯氧基烷基(甲基)丙烯酸酯；2-乙氧基丙二醯基氧基乙基(甲基)丙烯酸酯、2-氰基乙醯氧基乙基(甲基)丙烯酸酯、N-(2-氰基乙醯氧基乙基)丙烯醯胺、N-(2-丙醯基乙醯氧基丁基)丙烯醯胺、N-(4-乙醯乙醯氧基甲基苄基)丙烯醯胺、N-(2-乙醯乙醯基胺基乙基)丙烯醯胺等。具有活性亞甲基之自由基聚合性化合物是以乙醯乙醯氧基烷基(甲基)丙烯酸酯為佳。
《多官能自由基聚合性化合物》 又，作為雙官能以上的多官能自由基聚合性化合物，可舉例如三丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、四乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,9-壬二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,10-癸二醇二丙烯酸酯、2-乙基-2-丁基丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、雙酚A二(甲基)丙烯酸酯、雙酚A環氧乙烷加成物二(甲基)丙烯酸酯、雙酚A環氧丙烷加成物二(甲基)丙烯酸酯、雙酚A二環氧丙醚二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、三環癸烷二甲醇二(甲基)丙烯酸酯、環狀三羥甲基丙烷甲縮醛(甲基)丙烯酸酯、二㗁二醇二(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、新戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、新戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、EO改性二甘油四(甲基)丙烯酸酯等(甲基)丙烯酸與多元醇的酯化物、9,9-雙[4-(2-(甲基)丙烯醯氧基乙氧基)苯基]茀。具體例可舉如ARONIX M-220、M-306(東亞合成公司製)、LIGHT ACRYLATE 1,9ND-A(共榮社化學公司製)、LIGHT ACRYLATE DGE-4A(共榮社化學公司製)、LIGHT ACRYLATE DCP-A(共榮社化學公司製)、SR-531(Sartomer公司製)、CD-536(Sartomer公司製)等。又，依需要可舉如各種環氧(甲基)丙烯酸酯、胺基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯、聚酯(甲基)丙烯酸酯或各種(甲基)丙烯酸酯系單體等。
若由兼顧與偏光件之密著性及光學耐久性之觀點來看，則自由基聚合性化合物宜併用單官能自由基聚合性化合物與多官能自由基聚合性化合物。一般來說宜以下述比例併用：相對於100重量%的自由基聚合性化合物，併用3~80重量%之單官能自由基聚合性化合物與20~97重量%多官能自由基聚合性化合物。
《自由基聚合硬化性形成材的態樣》 自由基聚合硬化型形成材，可作為活性能量線硬化型或熱硬化型的形成材來使用。在活性能量線使用電子束等的情形時，該活性能量線硬化型形成材毋須含有光聚合引發劑；但在活性能量線使用紫外線或可見光線的情形時，則宜含有光聚合引發劑。另一方面，在將前述硬化性成分作為熱硬化性成分來使用時，該形成材宜含有熱聚合引發劑。
《光聚合引發劑》 在使用自由基聚合性化合物時，光聚合引發劑可依據活性能量線來作適當選擇。在藉由紫外線或可見光線使其硬化的情形下，係使用以紫外線或可見光線裂解的光聚合引發劑。作為前述光聚合引發劑，可舉例如二苯基乙二酮(benzil)、二苯基酮、苯甲醯基苯甲酸、3,3’-二甲基-4-甲氧基二苯基酮等二苯基酮系化合物；4-(2-羥基乙氧基)苯基(2-羥基-2-丙基)酮、α-羥基-α,α’-二甲基苯乙酮、2-甲基-2-羥基苯丙酮、α-羥基環己基苯基酮等芳香族酮化合物；甲氧基苯乙酮、2,2-二甲氧基-2-苯基苯乙酮、2,2-二乙氧基苯乙酮、2-甲基-1-[4-(甲硫基)-苯基]-2-嗎福啉-1-丙酮等苯乙酮系化合物；苯偶姻甲醚、苯偶姻***、苯偶姻異丙醚、苯偶姻丁醚、茴香偶姻甲醚等的苯偶姻醚系化合物；苄基二甲縮酮等芳香族縮酮系化合物；2-萘磺醯氯等芳香族磺醯氯系化合物；1-苯酮-1,1-丙二酮-2-(鄰乙氧基羰基)肟等的光活性肟系化合物；9-氧硫(thioxanthone)、2-氯-9-氧硫、2-甲硫基酮、2,4-二甲硫基酮、異丙基-9-氧硫、2,4-二氯-9-氧硫、2,4-二乙基-9-氧硫、2,4-二異丙基-9-氧硫、十二基-9-氧硫等9-氧硫系化合物；樟腦醌；鹵化酮；醯基氧化膦；醯基膦酸酯等。
相對於100重量份之硬化性成分(自由基聚合性化合物)總量，前述光聚合引發劑之摻混量為20重量份以下。光聚合引發劑之摻混量宜為0.01~20重量份，更宜為0.05~10重量份，更宜為0.1~5重量份。
又，使用含有自由基聚合性化合物之可見光線硬化型來作為硬化性成分時，尤宜使用對380nm以上之光有高感度之光聚合引發劑。對380nm以上之光線有高感度的光聚合引發劑係於後詳述。
作為前述光聚合引發劑，宜單獨使用下列通式(1)所示化合物、或併用通式(1)所示化合物與後述之對380nm以上光線有高感度的光聚合引發劑， [化學式1](式中，R1 及R2 顯示-H、-CH2 CH3 、-iPr或Cl，R1 及R2 可為相同或相異)。在使用通式(1)所示化合物時，密著性會優於單獨使用對380nm以上光線有高感度之光聚合引發劑。通式(1)所示化合物當中，尤佳的是R1 及R2 為-CH2 CH3 時的二乙基-9-氧硫。相對於100重量份之硬化性成分的總量，該形成材中一般式(1)所示化合物之組成比率以0.1~5重量份為佳，0.5~4重量份較佳，而0.9~3重量份更佳。
又宜因應需要而添加聚合引發助劑。聚合引發助劑可舉如三乙胺、二乙胺、N-甲基二乙醇胺、乙醇胺、4-二甲胺苯甲酸、4-二甲胺苯甲酸甲酯、4-二甲胺苯甲酸乙酯、4-二甲胺苯甲酸異戊酯等，尤宜為4-二甲胺苯甲酸乙酯。使用聚合起始助劑時，其添加量相對於100重量份之硬化性成分總量，通常為0~5重量份，並以0~4重量份為佳，0~3重量份為最佳。
又，因應需要可併用周知之光聚合引發劑。有UV吸收能的保護薄膜不會穿透380nm以下的光線，因此光聚合引發劑方面，宜使用對380nm以上之光線有高感度的光聚合引發劑。具體而言，可舉如2-甲基-1-(4-甲硫基苯基)-2-嗎福啉-1-丙酮、2-苄基-2-二甲胺基-1-(4-嗎福啉苯基)-1-丁酮、2-(二甲胺基)-2-[(4-甲基苯基)甲基]-1-[4-(4-嗎福啉基)苯基]-1-丁酮、2,4,6-三甲基苯甲醯基-二苯基-膦氧化物、雙(2,4,6-三甲基苯甲醯基)-苯基膦氧化物、雙(η5-2,4-環戊二烯-1-基)-雙(2,6-二氟-3-(1H-吡咯-1-基)-苯基)鈦等。
尤其，光聚合引發劑除了通式(1)的光聚合引發劑以外，宜進一步使用下述通式(2)所示化合物： [化學式2](式中，R3 、R4 及R5 表示-H、-CH3 、-CH2 CH3 、-iPr或Cl，且R3 、R4 及R5 可相同或相異)。通式(2)所示化合物可適合使用亦有市售品的2-甲基-1-(4-甲硫基苯基)-2-嗎福啉-1-丙酮(商品名：IRGACURE907，製造者：BASF)。除此之外，2-苄基-2-二甲胺基-1-(4-嗎福啉苯基)- 1-丁酮(商品名：IRGACURE369，製造者：BASF)、2-(二甲胺基)-2-[(4-甲基苯基)甲基]-1-[4-(4-嗎福啉基)苯基]-1-丁酮(商品名：IRGACURE379，製造者：BASF)由於感度高，因此較為理想。
《熱聚合引發劑》 熱聚合引發劑以不是利用熱裂解來引發聚合者為佳。舉例言之，熱聚合引發劑宜為10小時半衰期溫度為65℃以上者，更宜為75~90℃。此外，所謂半衰期是表示聚合引發劑分解速度的指標，其係指聚合引發劑之殘留量變成一半為止的時間。關於用以於任意時間達半衰期之分解溫度或於任意溫度下之半衰期時間是揭示於製造商目錄等之中，例如揭示於日本油脂股份有限公司之「有機過氧化物型錄第9版(2003年5月)」等。
熱聚合引發劑可舉例如過氧化月桂醯(10小時半衰期溫度：64℃)、過氧化苯甲醯(10小時半衰期溫度：73℃)、1,1-雙(三級丁基過氧)-3,3,5-三甲基環己烷(10小時半衰期溫度：90℃)、二(2-乙基己基)過氧化二碳酸酯(10小時半衰期溫度：49℃)、二(4-三級丁基環己基)過氧化二碳酸酯、二-二級丁基過氧二碳酸酯(10小時半衰期溫度：51℃)、三級丁基過氧新癸酸酯(10小時半衰期溫度：48℃)、三級己基過氧三甲基乙酸酯、三級丁基過氧三甲基乙酸酯、二月桂醯過氧化物(10小時半衰期溫度：64℃)、二-正辛醯過氧化物、1,1,3,3-四甲基丁基過氧-2-乙基己酸酯(10小時半衰期溫度：66℃)、二(4-甲基苯甲醯)過氧化物、二苯甲醯過氧化物(10小時半衰期溫度：73℃)、三級丁基過氧異丁酯(10小時半衰期溫度：81℃)、1,1-二(三級己基過氧)環己烷等有機系過氧化物。
又，熱聚合引發劑可舉例如：2,2’-偶氮雙異丁腈(10小時半衰期溫度：67℃)、2,2’-偶氮雙(2-甲基丁腈)(10小時半衰期溫度：67℃)、1,1-偶氮雙-環己-1-腈(10小時半衰期溫度：87℃)等偶氮系化合物。
相對於100重量份之硬化性成分(自由基聚合性化合物)總量，熱聚合引發劑之摻混量為0.01~20重量份。熱聚合引發劑之摻混量更宜為0.05~10重量份，進而是0.1~3重量份。
《陽離子聚合硬化型形成材》 陽離子聚合硬化型形成材之硬化性成分可舉如具有環氧基或氧雜環丁烷基之化合物。具有環氧基之化合物只要是分子內具有至少2個環氧基，則無特殊之限制，可使用一般已知的各種硬化性環氧化合物。較佳之環氧化合物，可舉例如：分子內具有至少2個環氧基與至少1個芳香環之化合物(芳香族系環氧化合物)、或分子內具有至少2個環氧基，且其中至少1個構成脂環式環之相鄰2個碳原子之間所形成的化合物(脂環式環氧化合物)等。
《光陽離子聚合引發劑》 陽離子聚合硬化型形成材之硬化性成分含有以上說明之環氧化合物及氧呾化合物，因該等均藉由陽離子聚合硬化，故摻合光陽離子聚合起始劑。該光陽離子聚合引發劑藉由可見光線、紫外線、X射線、電子束等活性能量線之照射，產生陽離子物質或路易士酸，引發環氧基與氧環丁基的聚合反應。
硬化型形成材(塗覆液)的塗覆方式，係依該硬化型形成材的黏度及目標厚度來作適當選擇。塗覆方式之例，可舉例如逆轉式塗佈機、凹版塗佈機(直接、逆轉或平版)、棒逆轉式塗佈機、輥塗佈機、鑄模塗佈機、棒塗佈機、刮棒式塗佈機等。此外在塗覆方面可適當使用浸漬法等方式。
＜步驟(2)＞ 步驟(2)中，係藉由實施「在前述塗覆步驟(1)後將前述塗覆液固化或硬化」的步驟(2)，以形成透明樹脂層。
在前述透明樹脂層之形成上，係於塗覆含有前述樹脂成分之塗覆液後，將該樹脂成分應其種類進行固化。含有前述樹脂成分之塗覆液是將前述樹脂成分溶解於溶劑而成的溶液、或分散於溶劑而成的分散液，舉例而言，可作為水系溶液、水分散系分散液、或溶劑系溶液來使用。前述固化係指藉由自前述塗覆液中除去溶劑來形成樹脂層。例如，以前述樹脂成分為聚乙烯醇系樹脂的情況而言，前述塗覆液可作為水溶液來使用，並藉由加熱等來施行固化。又，在前述樹脂成分為水溶性丙烯酸系時也可同樣施行固化。
乾燥溫度通常宜為60~200℃，更宜為70~120℃。乾燥時間宜為10~1800秒，更宜為20~600秒。
另一方面，在前述透明樹脂層之形成上，在塗覆含有可構成樹脂之硬化性成分的塗覆液後，因應該硬化性成分之種類，進行可令該硬化性成分形成樹脂的硬化作業。含有可構成前述樹脂之硬化性成分的塗覆液，若前述硬化性成分呈塗覆液形式則可使用無溶劑系。此外，前述塗覆液可採用已將前述硬化性成分溶解於溶劑之溶液。再者，在前述硬化性成分呈塗覆液形式之情況下，亦可作成溶液來使用。前述溶劑可因應所使用之硬化性成分來作適當選擇。例如在使用可形成丙烯酸系樹脂之丙烯酸系單體來作為前述硬化性成分時、或使用可形成環氧樹脂之環氧系單體來作為前述硬化性成分時，可對含有前述硬化性成分之塗覆液施行利用活性能量線照射(紫外線照射)等的硬化作業。
在利用前述硬化型形成材(塗覆液)形成透明樹脂層方面，是藉由在偏光件的面塗覆硬化型形成材再進行硬化來進行。
偏光件亦可在塗覆上述硬化型形成材前進行表面改質處理。具體的處理方式可舉如利用電暈處理、電漿處理、皂化處理之處理方式等。
＜形成材的硬化＞ 前述硬化型形成材，可作成活性能量線硬化型形成材或熱硬化型形成材來使用。於活性能量線硬化型形成材中，可於電子束硬化型、紫外線硬化型、可見光線硬化型之態樣來使用。若由生產性之觀點來看，則前述硬化型形成材的態樣為活性能量線硬化型形成材優於熱硬化型形成材；再者，若由生產性之觀點來看，則宜以可見光線硬化型形成材為活性能量線硬化型形成材。
《活性能量線硬化型》 就活性能量線硬化型形成材而言，是將活性能量線硬化型形成材塗覆於偏光件後，照射活性能量線(電子束、紫外線、可見光線等)，並使活性能量線硬化型形成材硬化而形成透明樹脂層。活性能量線(電子束、紫外線、可見光線等)之照射方向可從任意之適當方向進行照射。而宜為從透明樹脂層側照射。
《電子束硬化型》 在電子束硬化型方面，電子束的照射條件只要是可使前述活性能量線硬化型形成材硬化的條件即可，可採用任意的適當條件。舉例來說，照射電子束時，加速電壓宜為5kV~300kV，而更佳為10kV~250kV。當加速電壓小於5kV時，就會有電子束無法抵達透明樹脂層最深處而變成硬化不足之虞；而若加速電壓大於300kV，則會有通過試料的滲透力過強而對保護薄膜或偏光件造成損害之虞。照射線量為5~100kGy，較佳為10~75kGy。照射線量低於5kGy時，接著劑會硬化不足；超過100kGy時，會對保護薄膜或偏光件造成傷害，使得機械強度降低或產生黃變，無法獲得預定之光學特性。
電子束的照射通常是在惰性氣體中進行，若有必要亦可在大氣中或者在導入些許氧氣的條件下進行。
《紫外線硬化型、可見光線硬化型》 本發明之偏光薄膜之製造方法中，活性能量線宜使用包含有波長範圍380nm~450nm之可見光線者，尤其使用波長範圍380nm~450nm之可見光線的照射量最多之活性能量線。作為本發明之活性能量線，宜為封入鎵之金屬鹵素燈、發出波長範圍380~440nm之LED光源。或者，可使用低壓水銀燈、中壓水銀燈、高壓水銀燈、超高壓水銀燈、白熱燈泡、氙燈、鹵素燈、碳弧燈、金屬鹵素燈、螢光燈、鎢絲燈、鎵燈、準分子雷射或太陽光等包含紫外線與可見光線之光源，亦可用帶通濾波器將波長比380nm短之紫外線遮蔽來使用。
《熱硬化型》 另一方面，熱硬化型形成材是利用加熱而藉由熱聚合引發劑引發聚合，而形成硬化物層。加熱溫度可按照熱聚合引發劑來設定，但為60~200℃，且宜為80~150℃。
＜步驟(3)＞ 接下來實施步驟(3)，在不將步驟(2)所得附透明樹脂層之單面保護偏光薄膜捲取成卷狀下，於前述透明樹脂層形成黏著劑層，而可製造出附黏著劑層之偏光薄膜。可在附黏著劑層之偏光薄膜的黏著劑層設置分離件。
＜黏著劑層＞ 黏著劑層之形成方面可使用適當的黏著劑，就其種類並無特別限制。作為黏著劑，可舉如橡膠系黏著劑、丙烯醯系黏著劑、聚矽氧系黏著劑、胺甲酸乙酯系黏著劑、乙烯基烷基醚系黏著劑、聚乙烯醇系黏著劑、聚乙烯吡咯啶酮系黏著劑、聚丙烯醯胺系黏著劑、纖維素系黏著劑等。
該等黏著劑中，又適宜使用光學透明性佳、展現適當濕潤性、凝集性及接著性之黏著特性且耐候性及耐熱性等優異者。就顯示此種特徵者，以使用丙烯酸系黏著劑為佳。
就形成黏著劑層之方法而言，例如可藉由下述方法來製作：將前述黏著劑塗佈於經剝離處理的分離件等，將聚合溶劑等乾燥去除而形成黏著劑層後，轉印至偏光件的方法；或將前述黏著劑塗佈於偏光件，乾燥去除聚合溶劑等而於偏光件形成黏著劑層的方法等。此外，在塗佈黏著劑時，亦可適當增添聚合溶劑以外的一種以上溶劑。
宜使用聚矽氧剝離襯材作為經剝離處理的分離件。於此種襯材上塗佈本發明之黏著劑並使其乾燥而形成黏著劑層的步驟中，可因應目的而採用適宜且適切的方法來作為使黏著劑乾燥之方法。較佳是使用將上述塗佈膜過熱乾燥之方法。加熱乾燥溫度宜為40℃~200℃，更佳為50℃~180℃，尤佳為70℃~170℃。可藉由將加熱溫度設成上述範圍，而獲得具有優異黏著特性的黏著劑。
乾燥時間可採用適當適切的時間。上述乾燥時間宜為5秒~20分鐘，更佳為5秒~10分鐘，尤佳為10秒~5分鐘。
黏著劑層之形成方法可使用各種方法。具體上，可舉例如輥塗法、接觸上膠輥塗佈法、凹版塗佈法、反向塗佈法、輥刷法、噴塗法、浸漬輥塗法、棒塗法、刀塗法、氣刀塗佈法、淋幕式塗佈法、唇模塗佈法、利用鑄模塗佈機等之擠壓塗佈法等等方法。
黏著劑層的厚度並無特別限制，例如1~100μm左右。宜為2~50μm，較佳為2~40μm，更佳為5~35μm。
前述黏著劑層露出時，在供實際使用前，亦可用經剝離處理之片材(分離件)來保護黏著劑層。
作為分離件的構成材料，可舉例如聚乙烯、聚丙烯、聚對苯二甲酸乙二酯、聚酯薄膜等塑膠薄膜；紙、布、不織布等多孔質材料；網狀物、發泡片材、金屬箔、及其等之層合體等適當的薄片物等等，惟從表面平滑性優良此點來看，宜採用塑膠薄膜。
作為該塑膠薄膜，只要是得以保護前述黏著劑層的薄膜即無特別限定，可舉例如聚乙烯薄膜、聚丙烯薄膜、聚丁烯薄膜、聚丁二烯薄膜、聚甲基戊烯薄膜、聚氯乙烯薄膜、氯乙烯共聚物薄膜、聚對苯二甲酸乙二酯薄膜、聚對苯二甲酸丁二酯薄膜、聚胺甲酸乙酯薄膜、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物薄膜等。
前述分離件的厚度一般為5~200μm，並宜為5~100μm左右。亦可視需要對前述分離件進行利用聚矽氧系、氟系、長鏈烷基系或脂肪酸醯胺系離型劑、氧化矽粉等的離型及防污處理，及塗佈型、捏合型、蒸鍍型等抗靜電處理。尤其，藉由對前述分離件之表面適當實施聚矽氧處理、長鏈烷基處理、氟處理等剝離處理，可更為提高自前述黏著劑層之剝離性。
＜表面保護薄膜＞ 可在本發明之偏光薄膜(包括單面保護偏光薄膜、附黏著劑層之偏光薄膜)設置表面保護薄膜。表面保護薄膜通常具有基材薄膜及黏著劑層，並透過該黏著劑層來保護偏光件。
表面保護薄膜的基材薄膜，從檢査性及管理性等觀點來看，係選擇具有等向性或近似等向性的薄膜材料。該薄膜材料可舉例如聚對苯二甲酸乙二酯薄膜等聚酯系樹脂、纖維素系樹脂、乙酸酯系樹脂、聚醚碸系樹脂、聚碳酸酯系樹脂、聚醯胺系樹脂、聚醯亞胺系樹脂、聚烯烴系樹脂、丙烯醯系樹脂般透明的聚合物。其等之中又以聚酯系樹脂為宜。基材薄膜亦可使用1種或2種以上之薄膜材料的層合體，復亦可使用前述薄膜的延伸物。基材薄膜的厚度，通常為500μm以下，宜為10~200μm。
可適當選擇並使用以(甲基)丙烯醯系聚合物、聚矽氧系聚合物、聚酯、聚胺甲酸酯、聚醯胺、聚醚、氟系及橡膠系等聚合物作為基底聚合物的黏著劑，作為形成表面保護薄膜之黏著劑層的黏著劑。從透明性、耐候性、耐熱性等觀點來看，宜為以丙烯酸系聚合物作為基底聚合物的丙烯酸系黏著劑。黏著劑層的厚度(乾燥膜厚)，係因應所需黏著力來決定。通常為1~100μm左右，並宜為5~50μm。
此外，表面保護薄膜中，可在基材薄膜之設有黏著劑層之面的相反面，利用聚矽氧處理、長鏈烷基處理、氟處理等低接著性材料來設置剝離處理層。
＜其他光學層＞ 本發明之附黏著劑層之單面保護偏光薄膜在實際使用時，可作成與其他光學層積層而成的光學薄膜來使用。該光學層並無特別限定，可使用1層或2層以上之諸如反射板及半穿透板、相位差板(包含1/2及1/4等波長板)、視角補償薄膜等用於形成液晶顯示裝置等的光學層。尤佳的是於本發明之附黏著劑層之單面保護偏光薄膜上再積層反射板或半穿透反射板而成的反射型偏光薄膜或半穿透型偏光薄膜、於偏光薄膜上再積層相位差板而成的橢圓偏光薄膜或圓偏光薄膜、於偏光薄膜上再積層視角補償薄膜而成的廣視角偏光薄膜、或於偏光薄膜上再積層增亮薄膜而成的偏光薄膜。
於本發明之附黏著劑層之單面保護偏光薄膜積層了上述光學層而成之光學薄膜，亦可在液晶顯示裝置等之製造過程中以依序各別積層之方式形成，但預先積層成光學薄膜者在品質安定性與組裝作業等方面較具優勢，有改善液晶顯示裝置等之製程的優點。可使用黏著劑層等適當的接著手段進行積層。上述附黏著劑層之單面保護偏光薄膜或其他光學薄膜在接著時，其等之光學軸可因應作為目的之相位差特性等製成適當的配置角度。
本發明之附黏著劑層之單面保護偏光薄膜或光學薄膜可適宜使用在液晶顯示裝置等各種裝置之形成等。液晶顯示裝置的形成可依循習知來進行。即，液晶顯示裝置一般而言是經由將液晶元件、附黏著劑層之單面偏光薄膜或光學薄膜以及視需要之照明系統等結構零件適當組裝並安裝驅動電路等來形成，在本發明中，除使用來自本發明的本發明之附黏著劑層之單面保護偏光薄膜或光學薄膜此點之外未特別受限，可依習知為準。液晶單元方面亦可使用例如IPS型、VA型等等任意類型等任意類型，惟以IPS型尤為適宜。
可形成在液晶元件的單側或兩側配置有本發明之附黏著劑層之單面保護偏光薄膜或光學薄膜的液晶顯示裝置、或是照明系統使用背光或反射板者等適當的液晶顯示裝置。此情形時，本發明之附黏著劑層之單面保護偏光薄膜或光學薄膜可設置在液晶元件的單側或兩側。於兩側配置本發明之附黏著劑層之單面保護偏光薄膜或光學薄膜時，其等可為相同亦可相異。此外，在形成液晶顯示裝置時，可以將例如擴散板、抗眩層、抗反射膜、保護板、稜鏡陣列、透鏡陣列片材、光擴散板、背光等適當的零件在適當位置配置1層或2層以上。
實施例 以下，列舉實施例來說明本發明，惟本發明不受限於以下所示之實施例。此外，各例中的份及%均為重量基準。以下沒有特別規定的室溫放置條件皆為23℃ 65%RH。
＜單面保護偏光薄膜＞ (偏光件的製作) 於吸水率0.75%、Tg75℃之非晶質異苯二甲酸-共聚-聚對苯二甲酸乙二酯(IPA-共聚-PET)薄膜(厚度：100μm)基材的單面上，施加電暈處理，在該電暈處理面上於25℃下塗佈以9：1之比含有聚乙烯醇(聚合度4200，皂化度99.2莫耳%)及乙醯乙醯基改質PVA(聚合度1200，乙醯乙醯基改質度4.6%，皂化度99.0莫耳%以上，日本合成化學工業公司製，商品名「Gohsefimer Z200」)的水溶液並乾燥，形成厚度11μm的PVA系樹脂層，製作積層體。 將所得的積層體，在120℃烘箱內在周速相異的輥筒間以縱方向(縱向)2.0倍地進行自由端單軸延伸(空中輔助延伸處理)。 接著，將積層體於液溫30℃的不溶化浴(相對於100重量份水，摻混4重量份硼酸而得的硼酸水溶液)中浸漬30秒(不溶化處理)。 接著，於液溫30℃的染色浴中，一邊進行浸漬一邊調整碘濃度及浸漬時間以使偏光板達所欲的穿透率。在本實施例中是使其於相對於100重量份水摻混0.2重量份碘並摻混1.0重量份碘化鉀所得碘水溶液中浸漬60秒(染色處理)。 接著，使其於液溫30℃的交聯浴(相對於100重量份水，摻混3重量份碘化鉀並摻混3重量份硼酸而獲得之硼酸水溶液)中浸漬30秒(交聯處理)。 然後，一邊使積層體浸漬於液溫70℃的硼酸水溶液(相對於100重量份水，摻混4重量份硼酸並摻混5重量份碘化鉀而獲得之水溶液)，一邊在周速相異的輥筒間進行單軸延伸以使縱方向(縱向)總延伸倍率達5.5倍(水中延伸處理)。 然後，將積層體浸漬於液溫30℃的洗淨浴(相對於100重量份水摻混4重量份碘化鉀而獲得之水溶液)中(洗淨處理)。 經由上述，獲得含厚度5μm偏光件的光學薄膜積層體。
(保護薄膜的製作) 保護薄膜：在厚度40μm具有內酯環構造的(甲基)丙烯酸樹脂薄膜之易接著處理面施以電暈處理而使用。
(適用於保護薄膜之接著劑的製作) 將N-羥乙基丙烯醯胺(HEAA)40重量份、丙烯醯基嗎福林(ACMO)60重量份與光起始劑「IRGACURE　819」(BASF公司製)3重量份摻混，調製紫外線硬化型接著劑。
(單面保護偏光薄膜的製作) 在上述光學薄膜積層體之偏光件的表面上，一邊將上述紫外線硬化型接著劑以使硬化後接著劑層厚度達0.5μm的方式塗佈，一邊貼合上述保護薄膜，然後照射作為活性能量線的紫外線使接著劑硬化。紫外線的照射，是使用鎵封入金屬鹵素燈，照射裝置：Fusion UV Systems,Inc公司製的Light　HAMMER10，燈泡：V燈泡，峰照度：1600mW/cm2，累積照射量1000/mJ/cm2(波長380~440nm)，而紫外線的照度是使用Solatell公司製的Sola-Check系統來測定。接著，將非晶性PET基材剝離，製作使用了薄型偏光件的單面保護偏光薄膜(總厚度45.5μm)。所得單面保護偏光薄膜之光學特性為單體穿透率42.8%、偏光度99.99%。
＜單體穿透率T及偏光度P＞ 使用附積分球之分光穿透率測定器(村上色彩技術研究所之Dot-3c)，測定所得單面保護偏光薄膜的單體穿透率T及偏光度P。 此外，偏光度P係藉由將2片相同的偏光薄膜以兩者的穿透軸呈平行重疊之情況下的穿透率(平行穿透率：Tp)及以兩者的穿透軸呈正交重疊之情況下的穿透率(正交穿透率：Tc)適用於下式而求得者。偏光度P(%)＝｛(Tp-Tc)/(Tp＋Tc)｝1/2 ×100 各穿透率是將透過Glan-Taylor稜鏡偏光件獲得之完全偏振光設為100%，並以藉由JIS Z8701之2度視野角(C光源)進行視感度補償之Y值所示者。
(透明樹脂層之形成材：塗覆液) 將聚合度2500、皂化度99.7莫耳%的聚乙烯醇樹脂溶解於純水，調製固體成分濃度4重量%、黏度60mPa∙s的水溶液(塗覆液)。
(丙烯酸系聚合物的調製) 在配有攪拌葉片、溫度計、氮氣導入管、冷卻器的4口燒瓶中投入含有99份丙烯酸丁酯及1份丙烯酸4-羥丁酯的單體混合物。並相對於100份之前述單體混合物(固體成分)，將作為聚合引發劑之2,2´-偶氮雙異丁腈0.1份與乙酸乙酯一起投入，一邊緩緩攪拌一邊導入氮氣來作氮取代後，將燒瓶內的液溫維持在60℃左右進行7小時的聚合反應。之後，於所得反應液中加入乙酸乙酯，調製出固體成分已調整成濃度30%且重量平均分子量140萬之丙烯酸系聚合物溶液。
(黏著劑組成物的調製) 對100份之上述丙烯酸系聚合物溶液之固體成分，摻混三羥甲基丙烷伸二甲苯基二異氰酸酯(三井化學公司製：TAKENATE D110N)0.1份、二苯甲醯基過氧化物0.3份、與γ-環氧丙氧基丙基甲氧基矽烷(信越化學工業公司製：KBM-403)0.075份，調製丙烯酸系黏著劑溶液。
(黏著劑層之形成) 接著，以噴注式刮刀塗佈機將上述丙烯酸系黏著劑溶液均勻塗佈在經聚矽氧系剝離劑處理之聚對酞酸乙二酯薄膜(分離薄膜)表面，並以155℃之空氣循環式恒溫烘箱乾燥2分鐘，於分離薄膜之表面形成厚度20μm之黏著劑層。
實施例1 ＜附透明樹脂層之單面保護偏光薄膜的製作＞ 在以20m/分鐘輸送之上述單面保護偏光薄膜的偏光件面(未設保護薄膜之偏光件面)上，使用塗覆裝置(具體上為凹版塗佈機)塗佈透明樹脂層的形成材(塗覆液)以使其乾燥後厚度成為1μm，然後進行85℃下30秒的熱風乾燥，製作出附透明樹脂層之單面保護偏光薄膜。
(附黏著劑層之偏光薄膜的製作) 接著，在不將上述所得附透明樹脂層之單面保護偏光薄膜捲取成卷狀下，接著(具體而言為18秒後)在前述透明樹脂層上貼合上述離型片材(分離件)中已形成於剝離處理面的黏著劑層，製作附黏著劑層之偏光薄膜。之後，將附黏著劑層之偏光薄膜捲取，作成卷狀物。
於實施例中，在製造出附透明樹脂層之單面保護偏光薄膜後而在貼合黏著劑層前的製造線中，使用裝置測定透明樹脂層的膜厚 (測定膜厚之裝置：光學分光器：Ocean optics公司製USB2000＋，光源：HL-2000，光纖：ZFQ-12796(200μm反射纖維)，偏光元件：上述所得之單面保護偏光薄膜)。測定條件方面，測定波長：450nm~800nm，透明樹脂層折射率：1.51。實施例所得透明樹脂層的膜厚為1.0±0.1μm，相當穩定。
比較例1 以和實施例相同方式製作附透明樹脂層之單面保護偏光薄膜，將其捲取作成卷狀物。然後嘗試從附透明樹脂層之單面保護偏光薄膜的卷狀物輸出，但由於卷狀物發生結塊而無法進行輸出。
比較例2 以和實施例相同方式製作附透明樹脂層之單面保護偏光薄膜，將其附上分離件進行捲取而作成卷狀物。然後嘗試從附透明樹脂層之單面保護偏光薄膜的卷狀物輸出，但由於透明樹脂層與分離件的密著性弱而在輸送時發生搓皺推擠，故一經輸送就發生破裂。
實施例發生奈米細縫的風險低，反之，比較例發生奈米細縫的風險高。
1‧‧‧單面保護偏光薄膜
10‧‧‧偏光件
20‧‧‧保護薄膜
2´‧‧‧塗覆液
2‧‧‧透明樹脂層
3‧‧‧黏著劑層
40‧‧‧光源
41‧‧‧偏光件
A‧‧‧附透明樹脂層之單面保護偏光薄膜
B‧‧‧附黏著劑層之單面保護偏光薄膜
圖1是顯示本發明製造方法相關實施形態之一例的概念圖。 圖2是顯示本發明製造方法中步驟(4)相關實施形態之一例的概念圖。 圖3(A)-(B)為對比生成於偏光件之奈米細縫與貫通裂紋的概念圖之一例。
1‧‧‧單面保護偏光薄膜
10‧‧‧偏光件
20‧‧‧保護薄膜
2′‧‧‧塗覆液
2‧‧‧透明樹脂層
3‧‧‧黏著劑層
A‧‧‧附透明樹脂層之單面保護偏光薄膜
B‧‧‧附黏著劑層之單面保護偏光薄膜

Claims (9)

  1. 一種附黏著劑層之單面保護偏光薄膜之製造方法，所述單面保護偏光薄膜係僅於偏光件之單面具有保護薄膜者，而所述附黏著劑層之單面保護偏光薄膜係從單面保護偏光薄膜的偏光件側起依序具有透明樹脂層及黏著劑層者，該製造方法之特徵在於： 前述偏光件含有聚乙烯醇系樹脂，且厚度在10μm以下，並且構造成其以單體穿透率T及偏光度P表示的光學特性滿足下式之條件： P＞-(100.929T-42.4 -1)×100(惟T＜42.3)，或者 P≧99.9(惟T≧42.3)； 前述透明樹脂層及黏著劑層的形成係藉由實施下述步驟(1)及步驟(2)形成透明樹脂層後實施下述步驟(3)形成黏著劑層來進行： 步驟(1)，其係一邊輸送前述單面保護偏光薄膜一邊在前述單面保護偏光薄膜之偏光件側塗覆含樹脂成分或硬化性成分之塗覆液，且該硬化性成分可構成樹脂層； 步驟(2)，其係於前述塗覆步驟(1)後將前述塗覆液固化或硬化； 步驟(3)，其係於不將所得之附透明樹脂層之單面保護偏光薄膜捲取成卷狀下，在前述透明樹脂層形成黏著劑層。
  2. 如請求項1之附黏著劑層之單面保護偏光薄膜之製造方法，其於前述步驟(2)後且前述步驟(3)前具有步驟(4)，係在輸送線中測定透明樹脂層的膜厚。
  3. 如請求項2之附黏著劑層之單面保護偏光薄膜之製造方法，其中前述步驟(4)是利用在光源前端使用偏光元件的光學干渉方式來進行。
  4. 如請求項1至3中任一項之附黏著劑層之單面保護偏光薄膜之製造方法，其中前述步驟(1)的塗覆液含有已溶解或分散於水中的樹脂成分，並經由在步驟(2)中進行固化而形成透明樹脂層。
  5. 如請求項4之附黏著劑層之單面保護偏光薄膜之製造方法，其中前述含樹脂成分的塗覆液是含有聚乙烯醇系樹脂的水溶液。
  6. 如請求項1至5中任一項之附黏著劑層之單面保護偏光薄膜之製造方法，其中前述步驟(1)的塗覆液在25℃下的黏度為1000mPa∙s以下。
  7. 如請求項1至6中任一項之附黏著劑層之單面保護偏光薄膜之製造方法，其中前述偏光件含有相對於偏光件總量為20重量%以下之硼酸。
  8. 如請求項1至7中任一項之附黏著劑層之單面保護偏光薄膜之製造方法，其中前述黏著劑層上積層有分離件。
  9. 如請求項8之附黏著劑層之單面保護偏光薄膜之製造方法，其係將附黏著劑層之單面保護偏光薄膜作成捲繞物。
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