TW201806051A - 探針機台及探針機台的操作方法 - Google Patents
探針機台及探針機台的操作方法 Download PDFInfo
- Publication number
- TW201806051A TW201806051A TW106110149A TW106110149A TW201806051A TW 201806051 A TW201806051 A TW 201806051A TW 106110149 A TW106110149 A TW 106110149A TW 106110149 A TW106110149 A TW 106110149A TW 201806051 A TW201806051 A TW 201806051A
- Authority
- TW
- Taiwan
- Prior art keywords
- probe
- height
- position detection
- detection camera
- detector
- Prior art date
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01R—MEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
- G01R31/00—Arrangements for testing electric properties; Arrangements for locating electric faults; Arrangements for electrical testing characterised by what is being tested not provided for elsewhere
- G01R31/28—Testing of electronic circuits, e.g. by signal tracer
- G01R31/2851—Testing of integrated circuits [IC]
- G01R31/2886—Features relating to contacting the IC under test, e.g. probe heads; chucks
- G01R31/2891—Features relating to contacting the IC under test, e.g. probe heads; chucks related to sensing or controlling of force, position, temperature
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01R—MEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
- G01R1/00—Details of instruments or arrangements of the types included in groups G01R5/00 - G01R13/00 and G01R31/00
- G01R1/02—General constructional details
- G01R1/06—Measuring leads; Measuring probes
- G01R1/067—Measuring probes
- G01R1/06794—Devices for sensing when probes are in contact, or in position to contact, with measured object
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01R—MEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
- G01R1/00—Details of instruments or arrangements of the types included in groups G01R5/00 - G01R13/00 and G01R31/00
- G01R1/02—General constructional details
- G01R1/06—Measuring leads; Measuring probes
- G01R1/067—Measuring probes
- G01R1/073—Multiple probes
- G01R1/07307—Multiple probes with individual probe elements, e.g. needles, cantilever beams or bump contacts, fixed in relation to each other, e.g. bed of nails fixture or probe card
- G01R1/07342—Multiple probes with individual probe elements, e.g. needles, cantilever beams or bump contacts, fixed in relation to each other, e.g. bed of nails fixture or probe card the body of the probe being at an angle other than perpendicular to test object, e.g. probe card
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01R—MEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
- G01R31/00—Arrangements for testing electric properties; Arrangements for locating electric faults; Arrangements for electrical testing characterised by what is being tested not provided for elsewhere
- G01R31/28—Testing of electronic circuits, e.g. by signal tracer
- G01R31/282—Testing of electronic circuits specially adapted for particular applications not provided for elsewhere
- G01R31/2831—Testing of materials or semi-finished products, e.g. semiconductor wafers or substrates
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
Abstract
提供一種防止探針與探針位置檢測相機衝撞之探針機台及探針機台的操作方法。
一種探針機台10,係使探針25接觸於晶圓W的電極以進行檢查之探針機台10,其具備:探針位置檢測相機18,為進行晶圓的電極與探針25之相對的對位而檢測探針25的前端位置;探針高度檢測器20,與探針位置檢測相機18分開設置,檢測從作為探針位置檢測相機18的高度基準之基準面算起之探針的前端的高度;及第1高度調整機構21,依據探針高度檢測器20的檢測結果,改變從基準面算起之探針位置檢測相機18之高度。
Description
本發明係有關一種進行被形成於半導體晶圓上的複數個晶片的電氣檢查之探針機台及其操作方法。
半導體製程中,於切割步驟藉由切割裝置將固定於切割框之圓板狀半導體晶圓切開分成複數個晶片(die)。在此切割步驟之前或之後進行檢查各晶片電氣特性之晶圓測試步驟,在此晶圓測試步驟中有使用探針機台。
在探針機台的晶圓測試步驟中,有必要使設於探針機台的探針卡的針(探針)的前端與晶圓正確地接觸。因此,作為在探針機台的晶圓測試步驟之前段階,有必要高精度檢測探針的前端與探針卡之相對的位置關係。
作為此種技術,例如,提案有專利文獻1及專利文獻2所載的技術。
就專利文獻1所載的技術而言,記載一種藉由將探針卡的探針從下方用顯微鏡(探針位置檢測相機)拍攝以
檢測探針之技術。專利文獻1所載的技術中,探針位置檢測相機係於Z軸方向升降驅動,使探針位置檢測相機的焦點對準探針的前端,進行探針的前端的位置之檢測。
就專利文獻2所載的技術而言,記載一種藉由以相機(探針位置檢測相機)檢測複數部位的探針的前端、檢測各探針的前端的高度而檢測探針卡的傾斜之技術。
專利文獻1 日本專利特開2004-39752號公報
專利文獻2 日本專利特開2007-71824號公報
然而,就專利文獻1所記載的技術而言,在使探針位置檢測相機沿著Z軸方向上升時,因作業員的錯誤或輸錯資料等使探針位置檢測相機上升過度,而有發生探針與探針位置檢測相機衝撞之虞。
例如,於交換探針卡後用探針位置檢測相機檢測探針的前端之情況,由於探針的長度或位置因探針卡之交換而改變,故有發生探針位置檢測相機與探針衝撞之情況。此外,探針卡係因應晶片及測定目的而存在各種的種類,而有探針卡之種類一改變,探針的長度就會改變之情況。
又例如,雖由作業員(或使用者)對探針機台輸入構成資料或種類參數等之資訊,而使用其資訊使探針位置檢測相機上升,但有輸錯其資訊之情形。當資訊誤輸入時,導致依據其錯誤的資訊使探針位置檢測相機沿著Z軸方向上升,而有探針與探針位置檢測相機衝撞的情形。
又,在專利文獻2所記載的技術亦同樣有所謂探針與探針位置檢測相機發生衝撞之虞的問題。而且,探針的前端因為是利用探針位置檢測相機檢測,故需要探針位置檢測相機迄至對焦於探針的前端為止的時間,具有所謂探針機台的總處理量(through-put)降低之問題。
本發明係有鑑於此種情事而完成者,其目的在於提供一種防止探針與探針位置檢測相機衝撞的探針機台及探針機台的操作方法。
為達成上述目的,本發明的一態樣之探針機台,係使探針接觸於晶圓的電極以進行檢查之探針機台,其具備:探針位置檢測相機,為了進行晶圓的電極與探針之相對的對位而檢測探針的前端位置;探針高度檢測器,與探針位置檢測相機分開設置,檢測從作為探針位置檢測相機的高度基準之基準面算起之探針的前端的高度;及第1高度調整機構,依據探針高度檢測器的檢測結果,改變從基準面算起之探針位置檢測相機之高度。
依據本態樣,利用與探針位置檢測相機分開設置之探針高度檢測器檢測探針的前端的高度,依據所檢測之探針的前端的高度,利用第1高度調整機構改變探針位置檢測相機的高度。因此,由於本態樣即使是探針卡被調換或所輸入之資訊(構成資料、種類參數)有誤,仍會利用探針高度檢測器進行探針的前端的高度之測定,故探針的前端的高度被正確地檢測,可防止發生探針位置檢測相機與探針衝撞。
較佳為,探針高度檢測器係接觸型檢測器,其具有與探針的前端接觸之接觸面,檢測探針的前端接觸於接觸面時之接觸面的高度作為探針的前端的高度。
依據本態樣,探針高度檢測器係具有接觸面且使接觸面接觸探針的前端,藉以檢測探針的前端的高度,故能更正確地快速檢測探針的前端的高度。
較佳為,探針高度檢測器具有檢測探針的前端朝向接觸面之接觸的線性可變差動變壓器。
依據本態樣,可提升探針的前端對接觸面接觸的檢測精度。其結果,可提升從基準面算起之探針的前端的高度之測定精度。又,可精度佳地檢測伴隨於探針的前端朝向接觸面之接觸的接觸面之移動量(推入量)及伴隨於接觸的推壓力。
較佳為,探針高度檢測器係與探針位置檢測相機一體設置,探針高度檢測器之接觸面的高度,係設於比探針位置檢測相機的物鏡端部的高度還高的位置。
依據本態樣,因為探針高度檢測器係與探針位置檢測相機一體設置,所以探針高度檢測器係藉由探針位置檢測相機的高度調整機構改變高度。藉此,本態樣係無需另外設置探針高度檢測器的高度調整機構,能減少高度調整機構數量以實現簡化高度調整機構之控制及簡化探針機台的製造。
又,依據本態樣,因為探針高度檢測器之接觸面的高度係設於比探針位置檢測相機的高度還高的位置,所以在探針的前端衝撞探針位置檢測相機之前會接觸探針高度檢測器,故可防止發生探針位置檢測相機與探針的前端衝撞。
較佳為,探針高度檢測器的接觸面,係設於比在探針位置檢測相機的高度再加上探針位置檢測相機的作業距離(working-distance)後的高度還低的位置。
依據本態樣,探針高度檢測器之接觸面的高度係設置於比在探針位置檢測相機的高度再加上探針位置檢測相機的作業距離後之高度還低的位置。因此,本態樣為,
在探針位置檢測相機檢測探針的前端時,防止探針高度檢測器接觸探針的前端而妨礙探針位置檢測相機之檢測動作。
較佳為,探針高度檢測器係與探針位置檢測相機獨立地設置,且更具備改變從基準面算起之探針高度檢測器的高度之第2高度調整機構。
依據本態樣,探針高度檢測器係與探針位置檢測相機獨立地設置,且具備使探針高度檢測器的高度改變之高度調整機構。因此,本態樣中,探針高度檢測器與探針位置檢測相機是獨立地調整高度,故能效率佳地檢測探針的前端的高度。
較佳為,前述探針高度檢測器為接觸型,且探針機台更具備依據利用前述探針高度檢測器進行之複數次的檢測結果,檢測設於探針機台的探針卡的傾斜之控制部。此外,較佳為,探針高度檢測器係具有與探針的前端接觸之接觸面且以前述探針的前端接觸接觸面時之接觸面的高度作為探針的前端的高度作檢測,對從作為探針的前端的高度之基準的基準面算起之探針的前端的高度作複數次檢測。
較佳為,探針高度檢測器係具有與探針的前端接觸的接觸面及檢測探針的前端接觸接觸面之線性可變差動
變壓器,以探針的前端接觸於接觸面時之接觸面的高度作為探針的前端的高度檢測。
本發明其他態樣之探針機台的操作方法,係使探針接觸於晶圓的電極以進行檢查之探針機台的操作方法,包含:使用與探針位置檢測相機分開設置的探針高度檢測器,檢測從作為探針位置檢測相機的高度基準之基準面算起之探針的前端的高度之第1高度檢測步驟;依據探針高度檢測器的檢測結果,改變從基準面算起之探針位置檢測相機的高度之步驟;及使用探針位置檢測相機檢測探針的前端位置,用以進行晶圓的電極與探針之相對的對位之步驟。
較佳為,在第1高度檢測步驟,使用探針高度檢測器,檢測探針的前端的高度,探針高度檢測器具有與探針的前端接觸之接觸面、及檢測探針的前端朝向接觸面之接觸的線性可變差動變壓器。
較佳為,探針高度檢測器係接觸型,第1高度檢測步驟中,使用接觸型探針高度檢測器,對探針的前端的高度作複數次檢測,探針機台的操作方法更包含依據在第1高度檢測步驟之檢測結果,檢測探針卡的傾斜之傾斜檢測步驟。此外,較佳為,第1高度檢測步驟係使用具有與探針的前端接觸之接觸面且以探針的前端接觸於接觸面時之接觸面的高度作為探針的前端的高度來進行
檢測之接觸型探針高度檢測器,對從成為探針的前端的高度之基準的基準面算起之探針的前端的高度作複數次檢測。
依據本態樣,因為探針卡所具有之探針的前端之檢測是利用探針高度檢測器來進行,所以無需與探針的前端對焦之時間,可防止探針機台的總處理量降低。
較佳為,探針機台的操作方法更具備使用與探針高度檢測器一體設置之探針位置檢測相機,對從基準面算起之探針的前端的高度作複數次檢測之第2高度檢測步驟,傾斜檢測步驟係依據在第1高度檢測步驟的檢測結果及在第2高度檢測步驟的檢測結果,檢測探針卡的傾斜。
依據本態樣,因為使用與探針高度檢測器一體設置的探針位置檢測相機檢測探針的前端高度,所以探針高度檢測器與探針位置檢測相機係藉由相同高度調整機構進行高度調整,故高度調整之控制更為簡化。
又,依據本態樣,因為傾斜檢測步驟係利用第1高度檢測步驟與第2高度檢測步驟之檢測結果來檢測探針卡的傾斜,故可進行更高精度之探針卡的傾斜的檢測。
較佳為,第1高度檢測步驟係先於第2高度檢測步驟進行。
較佳為,在第1高度檢測步驟中,使用具有接觸於探針的前端之接觸面及檢測探針的前端朝向接觸面之接觸的線性可變差動變壓器之探針高度檢測器,以探針的前端接觸於接觸面時之接觸面的高度作為探針的前端的高度進行檢測。
依據本態樣,可提升探針的前端對接觸面之接觸的檢測精度。其結果,可提升從基準面算起之探針的前端的高度之測定精度。又,可精度佳地檢測伴隨於探針的前端朝向接觸面之接觸的接觸面之移動量(推入量)及伴隨於接觸的推壓力。
依據本態樣,因為是在利用藉實體接觸而檢測探針的前端的高度之探針高度檢測器來檢測探針的前端的高度之步驟後,使用探針位置檢測相機檢測探針的前端的高度,故可一邊防止探針位置檢測相機衝撞探針一邊檢測探針卡的傾斜。
依據本發明,因為設有探針位置檢測相機及與探針位置檢測相機分開設置的探針高度檢測器,且第1高度調整機構係依據探針高度檢測器所檢測之探針的前端的
高度,使探針位置檢測相機的高度改變,故可防止發生探針位置檢測相機與探針衝撞。
10‧‧‧探針機台
11‧‧‧基台
12‧‧‧移動座
13‧‧‧Y軸移動台
14‧‧‧X軸移動台
15‧‧‧旋轉部
16‧‧‧晶圓夾盤
18‧‧‧探針位置檢測相機
18a‧‧‧物鏡
19‧‧‧晶圓校準相機
20、100‧‧‧探針高度檢測器
20a‧‧‧接觸面
20b‧‧‧感測機構
21‧‧‧高度調整機構
22‧‧‧探針頭平台
23‧‧‧探針卡保持器
24‧‧‧探針卡
25‧‧‧探針
27‧‧‧高度調整機構
29‧‧‧臂部
30‧‧‧測試器
31‧‧‧測試器本體
32‧‧‧接觸環
60‧‧‧控制部
61‧‧‧顯示部
62‧‧‧輸入部
100‧‧‧晶圓測試系統
106‧‧‧線性可變差動變壓器(LVDT)
W‧‧‧晶圓
圖1係顯示晶圓測試系統之概略構成圖。
圖2係表示僅以探針位置檢測相機檢測探針的前端的高度之情況的概念圖。
圖3係有關藉探針高度檢測器所進行之探針的前端的高度檢測之說明圖。
圖4係將輸入於控制部的資訊及從控制部輸出的資訊連同功能塊一起作概念性地表示的圖。
圖5係顯示探針機台的操作方法之流程圖。
圖6係顯示探針機台的其他操作方法之流程圖。
圖7係顯示晶圓測試系統之概略構成圖。
圖8係有關探針的前端的高度檢測之說明圖。
圖9係有關探針卡保持器或探針卡的傾斜檢測之說明圖。
圖10係顯示藉探針高度檢測器檢測探針卡的傾斜之圖。
圖11係將輸入於控制部的資訊及從控制部輸出的資訊連同功能塊一起作概念性地表示的圖。
圖12係顯示藉探針位置檢測相機檢測探針卡的傾斜之圖。
圖13係顯示檢測傾斜的程序之流程圖。
圖14係用以說明其他實施形態涉及之探針高度檢測器之說明圖。
以下,依據所附上的圖面,針對本發明較佳實施形態作說明。
圖1係顯示本發明所適用之晶圓測試系統的第1實施形態之概略構成圖。如同一圖所示,晶圓測試系統100係以使探針25接觸晶圓W上的各晶片的電極的探針機台10、及與探針25電性連接且為進行電氣檢查而施加電流或電壓於各晶片以測定特性之測試器30所構成。
探針機台10具有:基台11;設於其上的移動座12;Y軸移動台13;X軸移動台14;Z軸移動/旋轉部15;晶圓夾盤16;探針位置檢測相機18;探針高度檢測器20,高度調整機構21、27;晶圓校準相機19;探針頭平台22;設於探針頭平台22的探針卡保持器23;安裝於探針卡保持器23的探針卡24;控制探針機台10及測試器30的各部分的控制部60(電腦)。在探針卡24設有探針25。
移動座12、Y軸移動台13、X軸移動台14、及Z軸移動/旋轉部15係構成使晶圓夾盤16繞3軸方向及繞Z軸旋轉的移動旋轉機構。由於移動旋轉機構係廣為所悉,故此處省略說明。
晶圓夾盤16係將形成有複數個晶片的晶圓W藉由真空吸附來保持,且在晶圓夾盤16的內部,以高溫狀態例如最高為150℃、或低溫狀態例如最低為-40℃下可進行晶片之電氣特性檢查的方式設置作為加熱/冷卻源的加熱/冷卻機構(加熱冷卻機構)。作為加熱/冷卻機構,可採用公知的適宜的加熱器/冷卻器,例如,可考慮作成面加熱器的加熱層與設有冷卻流體的通路的冷卻層之雙層構造或於熱傳導體內埋設將加熱器捲繞的冷卻管之一層構造的加熱/冷卻裝置等各式各樣者。又,亦可不是電氣加熱而是使熱流體循環者,且亦可使用帕耳帖元件。
晶圓夾盤16係被安裝於Z軸移動/旋轉部15之上,藉由上述之移動旋轉機構可移動於3軸方向(X、Y、Z軸方向),且可在繞Z軸的旋轉方向(θ方向)旋轉。
在供保持晶圓W的晶圓夾盤16上方配置有探針卡24。探針卡24裝設有探針卡保持器23,其被安裝於構成探針機台10的框體的頂板之探針頭平台22的開口部。
探針卡24係具有因應於要檢查的晶片的電極配置而配置的探針25,因應於要檢查的晶片而作交換。此外,探針卡24係探針保持部的一例。
測試器30備有測試器本體31、及設於測試器本體31的接觸環32。在探針卡24設有與各探針25連接的端子,接觸環32係具有以和此端子接觸的方式配置的彈簧探針。測試器本體31係藉未圖示的支持機構而對探針機台10保持。
探針位置檢測相機18係為進行晶圓W的電極與探針25之相對的對位而檢測探針25的前端的位置。探針位置檢測相機18係安裝於X軸移動台14之上,藉X軸移動台14及Y軸移動台13而與晶圓夾盤16成為一體並可在XY方向移動。又,探針位置檢測相機18在Z軸方向的升降驅動係藉由被控制部60所控制之高度調整機構21來進行。探針位置檢測相機18係將探針卡24的探針25從下方拍攝以檢測探針25的前端位置。探針25的前端的水平面內的位置(X及Y座標)係藉相機的座標所檢出,垂直方向(Z軸方向)的位置,亦即探針25的前端的高度(測定高度)係在相機的焦點位置被檢出。利用探針位置檢測相機18的檢測結果被輸入於控制部60。探針位置檢測相機18係使用包含備有例如物鏡18a的針對位顯微鏡之相機(參照圖2)。
晶圓校準相機19係配置在與供探針卡24配置的探針區域相鄰接的校準區域。晶圓校準相機19係藉未圖示的支柱所支持,可藉由未圖示的相機升降機構移動於Z軸方向(上下方向)。此相機升降機構只要為公知直線的
移動機構即可,例如藉由線性導引機構、滾珠螺桿機構等所構成,藉由來自於控制部60的輸出而被驅動。晶圓校準相機19係將被晶圓夾盤16所保持的晶圓W從上方拍攝以檢測形成於晶圓W表面的晶片的電極(晶片表面電極)的位置。利用晶圓校準相機19的檢測結果係被輸入於控制部60。在控制部60中,將以晶圓校準相機19所獲得之資訊及以探針位置檢測相機18所獲得之探針25的前端的位置資訊一起使用公知的影像處理技術,自動進行在探針25與晶圓W的晶片的電極(晶片表面電極)的XY面內之二維的位置匹配。
探針高度檢測器20係與探針位置檢測相機18分開設置,檢測從成為探針位置檢測相機18的高度基準之基準面算起之探針25的前端的高度。探針高度檢測器20係所謂的接觸型檢測器,藉由實體接觸於探針25的前端以檢測探針25的前端的高度。若為探針高度檢測器20係實體接觸探針25的前端而能檢測探針25的前端的高度者則未特別限定,可適用公知技術。此處,所謂基準面係指在探針機台10整體成為高度基準的面,為任意設定者。例如基準面係設定在X軸移動台14的上面。此外,探針高度檢測器20未受限於藉由實體的接觸以檢測探針25的前端者,亦可採用檢測公知的探針25的前端之技術。例如,探針高度檢測器20亦可藉由非接觸型的方法檢測探針25的前端。
探針高度檢測器20備有接觸面20a及感測機構20b(參照圖3)。接觸面20a係與探針25的前端接觸,於接觸時向感測機構20b輸出信號。然後,感測機構20b係接收從接觸面20a輸出的信號及與從高度調整機構27輸出的高度相關的信號,將與探針的前端的高度相關的資訊向控制部60輸出。亦即感測機構20b係使接觸面20a接觸探針25的前端,以接觸面20a在接觸探針25的前端的時點的接觸面20a的高度作為探針25的前端的高度並向控制部60輸出。
探針位置檢測相機18的高度調整機構21(第1高度調整機構),係藉控制部60之控制使探針位置檢測相機18沿著Z軸方向升降驅動。高度調整機構21係受探針機台10的控制部60(圖4)所控制,由使用者或安裝於控制部60的程式而控制升降驅動。例如,高度調整機構21係依據探針高度檢測器20的檢測結果,使從基準面算起之探針位置檢測相機18的高度改變。亦即高度調整機構21依據探針高度檢測器20所測定之探針25的前端的高度,將探針位置檢測相機18調整成與探針25的前端相距作業距離的高度。如此,因為會使用探針高度檢測器20所一次檢測的探針的前端的高度來調整探針位置檢測相機的高度,故可防止讓探針位置檢測相機18上升過度,藉由探針位置檢測相機18沿著Z軸方向的升降驅動而可防止衝撞探針25的前端。
探針高度檢測器20的高度調整機構27(第2高度調整機構),係使探針高度檢測器20沿著Z軸升降驅動。高度調整機構27係與上述的高度調整機構21獨立地設置,與高度調整機構21同樣地受控制部60所控制,使探針高度檢測器20升降驅動。
控制部60係可控制晶圓測試系統100整體(探針機台10/測試器30),由電腦所構成。控制部60係被連接於晶圓測試系統100的各部位(圖示省略),可進行接收來自於晶圓測試系統100各部位的信號及朝向各部位傳送信號。構成控制部60的電腦係具有輸入部62及顯示部61,使用者藉由輸入部62輸入資訊,控制部60係藉由在顯示部61顯示資訊而向使用者報知錯誤等。
圖2係表示僅以探針位置檢測相機18檢測探針25的前端的高度之情況的概念圖。
圖2(A)係探針位置檢測相機18正常地進行探針25的前端之檢測的情況之概念圖。探針位置檢測相機18進行探針25的前端的高度之檢測的情況為,首先由使用者經由輸入部62向控制部60輸入構成資料或種類參數等,依據所輸入之值而於控制部60算出晶圓夾盤16與探針25的前端之間的距離A。接著,探針位置檢測相機18係依據所算出之距離A藉高度調整機構21一口氣上升到探針25的前端與探針位置檢測相機18分離的作業
距離(圖中所記載的WD)的高度(作業距離高度)。此外,在這情況,晶圓夾盤16的高度係已知。
此處所謂構成資料係指,探針機台10的各種功能之設定參數或顯微鏡等搭載機器之安裝位置的座標值等之資料,按每探針機台10以固有資料儲存於控制部60的HDD(hard disk drive;硬碟)。
例如構成資料含有從探針機台的座標基準到探針卡安裝面為止的高度尺寸。
又,所謂種類參數係記錄著製品晶圓W或其上的晶片之大小或配置等之製品的規格的資料。種類參數係由使用者任意作成的資料且通常記憶於控制部60的HDD。
又,探針卡24因為是配合製品晶圓W的規格而被專用地製作,故亦含有探針卡24的個別資訊。例如,種類參數亦含有從探針卡24的基板面到探針25的前端為止的高度尺寸。
被提升到作業距離高度之探針位置檢測相機18係進行朝向探針之自動對焦,進行探針25的前端之檢測及探針25的前端的高度之檢測。此處,作為使探針位置檢測相機18上升的手法,也可考慮一邊使探針位置檢測相機18進行自動對焦一邊繼續探針25的檢測而使探針位
置檢測相機18一點一點上升的手法。但是,以將此種探針位置檢測相機18一點一點上升的手法而言,需要長的作動時間,從總處理量的觀點考量並不佳。
圖2(B)係表示探針位置檢測相機18與探針25的前端發生衝撞之情況的一例之圖。
當構成資料或種類參數等之輸入有錯誤時,控制部60係無法正確地算出在圖2(A)所說明那樣的距離A。在圖2(B)所示的情況,探針25的前端與晶圓夾盤16之距離係應該和圖2(A)同樣算出距離A,控制部60卻誤算出為距離B(距離B>距離A)。由於控制部60係依據誤算出的距離B控制高度調整機構21將探針位置檢測相機18一口氣提升到作業距離高度,故導致探針位置檢測相機18與探針25的前端衝撞。探針位置檢測相機18與探針25之衝撞會引起所謂探針25及探針卡24之破損、及探針位置檢測相機18之破損的問題。
依據本發明的一態樣,可防止在圖2說明的探針位置檢測相機18與探針25的前端衝撞。
其次,藉圖3及圖4說明有關本發明中使用探針高度檢測器20之探針25的前端的高度檢測。
圖3係有關藉探針高度檢測器20所進行之探針25的前端的檢測之說明圖。
圖3(A)係說明藉探針高度檢測器20檢測探針25的高度之圖。在使探針位置檢測相機18對焦於探針25的前端之情況或上升到作業距離高度之情況,首先藉探針高度檢測器20檢測探針25的位置。具體言之,探針高度檢測器20係藉由高度調整機構27而被上升迄至接觸探針25的前端為止。探針高度檢測器20係在以接觸面20a接觸探針25時向感測機構20b輸出信號,感測機構20b係依據從接觸面20a輸出的信號及表示從高度調整機構27輸出的高度之信號,將有關探針25的前端的高度之資訊向控制部60傳送(參照圖4)。
圖4係將輸入於控制部60的資訊及從控制部60輸出的資訊連同功能塊一起作概念性地表示的圖。
如圖4所示,控制部60被輸入探針高度檢測器20的實測值、即探針25的前端的高度相關的資訊。又,控制部60被輸入使用者經由輸入部62所輸入之構成資料或種類參數,控制部60係藉由所輸入之構成資料或種類參數算出晶圓夾盤16與探針25的前端之距離。
之後,控制部60係比較以探針高度檢測器20所檢測之探針25的高度與從構成資料及種類參數所算出之
探針25的高度。然後控制部60係依比較結果將使從基準面算起之探針位置檢測相機18的高度變化的指令向高度調整機構21輸出。關於從構成資料或種類參數等所算出之探針25的高度與藉探針高度檢測器20檢測之探針25的高度之比較,控制部60係可使用的各種手法。例如,亦可為控制部60係使用閥值,若為閥值的範圍內則判斷高度一致,在閥值的範圍外則判斷高度不一致。
然後,控制部60係在藉構成資料或種類參數等所算出之探針25的高度與藉探針高度檢測器20所檢測之探針25的高度是相同的情況,判斷所輸入之構成資料或種類參數係正確者。例如圖3(A)及(B)所示,控制部60係將藉探針高度檢測器20所檢測之從基準面(晶圓夾盤16的上面)起算的距離A與藉構成資料或種類參數等所算出之探針25的高度、即距離B作比較,判定B近似於A。之後,控制部60係如圖3(B)所示向高度調整機構21輸出將探針位置檢測相機18一口氣上升到作業距離高度的指令,探針位置檢測相機18係進行自動對焦而進行探針25的前端之檢測。亦即,探針位置檢測相機18係依據藉探針高度檢測器20所檢測之探針25的前端的高度在Z軸方向被升降驅動,被移動到作業距離高度。
一方面,在以構成資料或種類參數等所設定之探針25的高度與以探針高度檢測器20所取得之探針25的高度不同之情況,控制部60判斷所輸入之構成資料或種類
參數等是錯誤,在顯示部61進行錯誤顯示讓使用者知悉,停止探針機台10的動作。藉此,可防止在圖2(B)說明的探針25與探針位置檢測相機18衝撞。
作為其他態樣,在控制部60判定被輸入的構成資料或種類參數等是錯誤的情況,亦可將所輸入的值以使用藉探針高度檢測器20所取得之探針25的高度來取代,將探針位置檢測相機18上升到作業距離高度。藉此,即便所輸入之構成資料或種類參數錯誤,仍可在未停止探針機台10下繼續進行測定。
圖5係顯示探針機台10的操作方法之流程圖。在圖5所示的操作方法中,依據藉探針高度檢測器20所檢測之探針25的高度,進行藉構成資料或種類參數所算出之探針前端高度的判斷。
首先,使用者係經由輸入部62將構成資料及種類參數向控制部60輸入。之後,控制部60係依據所輸入之構成資料及種類參數而算出探針25的前端的高度(步驟S10)。其次,藉探針高度檢測器20檢測探針25的高度(步驟S11)。具體言之,探針高度檢測器20係藉高度調整機構27而被上升,與探針25接觸而檢測探針25的高度。
然後,控制部60係針對依據構成資料及種類參數所算出之探針25的前端的高度與藉探針高度檢測器20所
實際檢測之探針25的前端的高度進行比較。控制部60係在兩者是不一致的情況,使顯示部61進行表示錯誤的警告顯示(步驟S14)。
另一方面,控制部60在兩者是一致的情況,對高度調整機構21輸出將探針位置檢測相機18上升到作業距離高度為止的指令。之後,探針位置檢測相機18係依據指令而被上升到作業距離高度(步驟S13)。
圖6係顯示探針機台10的其他操作方法之流程圖。在圖6所示的其他操作方法中,係未依據構成資料或種類參數來算出探針25的前端的高度,而依據藉探針高度檢測器20所檢測出之探針高度使探針位置檢測相機18上升。
首先,藉探針高度檢測器20檢測探針25的高度(步驟S20)。具體言之,探針高度檢測器20是藉高度調整機構27而上升,與探針25接觸而檢測探針25的前端的高度。然後,控制部60依據所檢測之探針25的前端的高度,算出與探針25的前端相距探針位置檢測相機18的作業距離之高度(作業距離高度),向高度調整機構21輸出指令(步驟S21)。
之後,依據藉探針高度檢測器20所檢測之探針25的前端的高度,使探針位置檢測相機18的高度變化達到
作業距離高度(步驟S22)。如圖6所示,亦可在輸入構成資料或種類參數而未算出探針25的前端的高度下,使用藉探針高度檢測器20所檢測出之探針25的前端的高度。
上述的各構成及功能係可藉任意的硬體、軟體或兩者的組合而適當地實現。例如,使電腦執行上述處理步驟(處理程序)的程式、記錄有那樣的程式之電腦可讀取之記錄媒體(非暫時性的記錄媒體)、或對於可安裝那樣的程式之電腦亦可適用本發明。
其次,說明關於第2實施形態。
圖7係顯示本發明所適用之晶圓測試系統100的第2實施形態之概略構成圖。此外,在圖1已說明過的部位係賦予相同符號並省略說明。
圖7所示的探針機台10相較於圖1所示的探針機台10,係在探針高度檢測器20是和探針位置檢測相機18一體設置這點有所不同。
探針高度檢測器20係一體設於探針位置檢測相機18,藉由探針位置檢測相機18的高度調整機構21調整高度。亦即,透過探針高度檢測器20與探針位置檢測相機18係藉由臂部29而一體設置,可利用一高度調整機
構調整高度,所以高度調整的控制更簡化。又,因為也可省略設置一個高度調整機構,所以探針機台10的設計及組裝被簡化。又,藉由探針高度檢測器20一體設置於探針位置檢測相機18,會抑制探針高度檢測器20受溫度的影響。亦即,通常探針位置檢測相機18的溫度變化小,所以藉由探針高度檢測器20一體設置於探針位置檢測相機18上,探針高度檢測器20的溫度變化之影響會受到抑制。另一方面,例如,在探針位置檢測相機18被設於晶圓夾盤16的情況,晶圓夾盤16的溫度變化是-60℃~200℃,故探針高度檢測器20容易受溫度變化的影響。
此外,探針高度檢測器20係藉公知技術而一體設於探針位置檢測相機18。圖7中的探針高度檢測器20係藉由臂部29設於探針位置檢測相機18的側方,但亦可藉其他手段安裝。
圖8係有關在探針高度檢測器20與探針位置檢測相機18是一體設置的情況下所進行之探針25的前端的檢測之說明圖。
如圖8(A)所示,在探針高度檢測器20是與探針位置檢測相機18一體設置的情況,探針高度檢測器20的接觸面20a的高度係以設在高於探針位置檢測相機18的物鏡18a的端部的高度的位置較佳。藉此,在探針25衝撞
探針位置檢測相機18的物鏡18a之前,可藉探針高度檢測器20的接觸面20a檢測探針25的前端。又,探針高度檢測器20的接觸面20a係設於比在探針位置檢測相機18的高度上加上作業距離後的高度還低的位置。因此,不會妨礙探針位置檢測相機18進行自動對焦以檢測探針25的前端。
圖8(B)係有關藉探針高度檢測器20測定探針25的前端的高度之圖。探針高度檢測器20係和探針位置檢測相機18一體設置,探針位置檢測相機18被高度調整機構21升降驅動以測定探針25的前端的高度。
圖8(C)係顯示移動到作業距離高度的探針位置檢測相機18之圖。探針位置檢測相機18係依據藉探針高度檢測器20所檢測之探針25的前端的高度,利用高度調整機構21移動到作業距離高度。此處,因為是被一體設置,所以探針位置檢測相機18與探針高度檢測器20之高度關係不變,控制部60係因應於藉探針高度檢測器20所檢測之探針25的前端的高度,可容易地控制探針位置檢測相機18的高度。再者,由於是一體設置,所以探針高度檢測器20的接觸面20a與探針位置檢測相機18的物鏡18a之距離在Z軸方向、X軸方向及Y軸方向(參照圖7)變得極短。因此,在以探針高度檢測器20的接觸面20a檢測探針25的前端之後,可縮短用以使探針位置檢測相機18對焦於探針25的前端之移動時間。
其次,說明有關應用上述說明之探針25的前端的高度之檢測的態樣。
探針25的前端的高度檢測係可應用於各種態樣。特別可適當應用於需要探針25的前端的正確高度之態樣。例如,上述的探針25的前端的高度檢測係可適用於探針25的探針卡24之傾斜的檢測。
圖9係有關自昔以來通常所進行的探針卡保持器23或設置於探針卡保持器23的探針卡24的傾斜檢測之方法的說明圖。在圖9所示的情況中,將平行度確認治具70設定於探針卡保持器23以取代探針卡24來檢測探針卡保持器23的傾斜。具體言之,藉探針位置檢測相機18對設定於探針卡保持器23的平行度確認治具70之表面的高度作複數次檢測以檢測探針卡保持器23的傾斜。
當欲以探針位置檢測相機18檢測探針卡24的探針25的前端時,在探針前端的檢測上需要時間而使探針機台10的總處理量降低。於是當使用平行度確認治具70來取代探針卡24時,由於平行度確認治具70係表面平坦的面,故即便是利用探針位置檢測相機18亦能用較短的時間對焦。此外,平行度確認治具70係例如為與探針卡24相似地經加工的金屬板。
然而,當使用平行度確認治具70進行探針卡保持器23的傾斜檢測,平行度確認治具70的加工精度會影響傾斜檢測的精度。又,在利用平行度確認治具70進行傾斜檢測完了後,必須將探針卡24設定於探針卡保持器23,會導致總處理量降低。
於是,本例中,應用使用了上述的探針高度檢測器20之探針25的前端的高度的檢測來進行使用在探針卡24的探針卡保持器23(或探針卡24)的傾斜之檢測。
圖10及圖11係有關本例的探針卡保持器23或探針卡24的傾斜檢測之說明圖。圖10中,藉由探針高度檢測器20檢測被設定於探針卡保持器23的探針卡24的傾斜。
探針高度檢測器20係與探針位置檢測相機18一體設置,藉由探針位置檢測相機18的高度調整機構21而被升降驅動,透過與探針25的前端接觸而檢測探針25的前端的高度。
圖11係將輸入於控制部60的資訊及從控制部60輸出的資訊連同功能塊一起作概念性地表示的圖。
如圖11所示,控制部60被輸入複數個關於來自於探針高度檢測器20之經實際測定所求得之探針25的前端的高度的資訊。此處,輸入複數個探針25的前端的高度係為了算出探針卡24的傾斜或探針卡保持器23的傾斜。因此,例如探針高度檢測器20係將相異的3點的探針25的前端的高度向控制部傳送,控制部60係輸出探針卡24的傾斜。此外,本案中未特別針對依據所檢測之傾斜來調整傾斜的傾斜調整機構作說明,但亦可藉由公知的傾斜調整機構依據所檢測之傾斜來調整傾斜。
其次,說明在上述的應用例中進一步藉探針位置檢測相機18進行探針卡24的傾斜之檢測的例子。
圖12中藉由探針位置檢測相機18來檢測探針卡24的傾斜。在這情況,探針位置檢測相機18係依據藉探針高度檢測器20所檢測到之探針25的前端的高度,來檢測探針25的前端的高度。亦即如圖3及圖8所說明,探針位置檢測相機18係依據藉探針高度檢測器20所檢測到之探針25的前端的高度而藉高度調整機構21移動到作業距離高度,之後,檢測探針25的前端的高度。探針位置檢測相機18係和上述的探針高度檢測器20之情況同樣,在相異的複數個點檢測探針25的前端的高度,控制部60依據所檢測到之探針25的前端的高度來檢測探針卡24的傾斜。
如此,本例中,依據從探針高度檢測器20及探針位置檢測相機18所輸出之探針25的前端的高度,檢測探針卡24的傾斜。
圖13係顯示檢測本例的探針卡24(探針卡保持器23)的傾斜之程序的流程圖。圖13中顯示藉探針高度檢測器20及探針位置檢測相機18來檢測探針25的前端的高度以檢測傾斜的例子。
首先,藉由探針高度檢測器20對探針25的前端的高度作複數次測定,測定結果被傳送於控制部60(第1高度檢測步驟:步驟S30)。複數次的測定係在相異的點進行,探針高度檢測器20係在X軸方向及Y軸方向移動以測定探針25的前端的高度。
其次,藉由探針位置檢測相機18對探針25的前端的高度作複數次測定,測定結果被傳送於控制部60(第2高度檢測步驟:步驟S31)。探針位置檢測相機18亦和探針高度檢測器20同樣,在複數次的相異點進行探針25的前端的高度之檢測。此處,探針位置檢測相機18係依據以探針高度檢測器20所預先檢測到之探針25的前端的高度,被移動到作業距離高度而在探針25的前端進行自動對焦。因此,由於可縮短探針位置檢測相機18探索探針25的前端之時間,故可抑制探針機台10的總處理量之降低。
之後,控制部60係依據從探針高度檢測器20及探針位置檢測相機18所輸出之複數根探針25的前端的高度,算出探針卡24的傾斜(傾斜檢測步驟:步驟S32)。此處,控制部60係依據以探針高度檢測器20所檢測到之探針25的前端的高度來檢測傾斜,之後,依據以探針位置檢測相機18所檢測之探針25的前端的高度來檢測傾斜。由於控制部60亦使用能以更高精度檢測探針25的前端的高度之探針位置檢測相機18的檢測結果進行傾斜檢測,故可進行更正確的傾斜檢測。
圖14係用以說明其他實施形態的探針高度檢測器100之說明圖。如圖14所示,其他實施形態的探針高度檢測器100係使用屬線性可變差動變壓器(Linear Variable Differential Transformer)的LVDT106,檢測從所述基準面算起之探針25的前端的高度。此探針高度檢測器100備有基座102、空氣軸承103、上下可動部104、螺旋彈簧105、及LVDT106。
基座102係藉由未圖示之支持構件在高度調整機構27上方被支持著。基座102係形成大致環狀,於此基座102的中心形成有平行於Z軸方向(上下方向)的貫通孔102a。在此基座102的上面設有空氣軸承103。
空氣軸承103係形成大致圓筒狀,具有平行於Z軸方向的保持孔103a。此保持孔103a的中心之XY軸方向的位置與所述的貫通孔102a的中心之XY軸方向的位置係一致。符號C係通過保持孔103a及貫通孔102a雙方的中心之中心軸。空氣軸承103係將***通於保持孔103a之後述的上下可動部104的上下移動軸110以移動自如的方式保持於Z軸方向。
又,在空氣軸承103上形成有由其外周面貫通於保持孔103a的內面之未圖示的空氣供給孔,從未圖示之空氣源所供給的空氣經由此空氣供給孔被供給至保持孔103a內。藉此,在保持孔103a的內面與上下移動軸110的外面之間形成有未圖示之空氣層,故而上下移動軸110係藉空氣軸承103(保持孔103a)被以非接觸方式導引。
再者,在空氣軸承103下端部的外周面,沿著其周向形成有環狀的凸緣部103b。
上下可動部104係藉空氣軸承103被以非接觸方式移動自如地保持於Z軸方向。此上下可動部104備有上下移動軸110、止動環111、彈簧支承部112、平台底座113、及平台114。
上下移動軸110係如所述,***通於空氣軸承103的保持孔103a,且藉空氣軸承103被以非接觸方式移動
自如地保持於Z軸方向。大致環狀的止動環111被外嵌於此上下移動軸110外周面的下端部。又,在上下移動軸110的上面固定有彈簧支承部112。
止動環111的外徑係形成大於保持孔103a的直徑。彈簧支承部112備有圓板部112a、及設於此圓板部112a下面的嵌合部112b。圓板部112a的外徑係形成大於螺旋彈簧105的外徑。嵌合部112b係與螺旋彈簧105的上側的開口部嵌合。
平台底座113係固定於彈簧支承部112的上面。於此平台底座113的上面固定著平台114。平台114的上面係成為所述的接觸面20a。
螺旋彈簧105係以被壓縮於Z軸方向的狀態下安裝在凸緣部103b與彈簧支承部112之間。所述的空氣軸承103的上端部***螺旋彈簧105下側的開口部。藉此,螺旋彈簧105下端抵接於凸緣部103b的上面。另一方面,在螺旋彈簧105的上側的開口部有嵌合所述的嵌合部112b。因此,螺旋彈簧105係隔著彈簧支承部112將上下可動部104的各部位(平台114等)朝Z軸方向的上方偏置。其結果,止動環111抵接於保持孔103a下側的開口緣部,平台114在Z軸方向的高度位置被維持固定。
LVDT106係設於基座102下面。此LVDT106備有鐵心等之芯部106a、及線圈106b。芯部106a係固定於上下移動軸110的下面,往Z軸方向的下方延伸。此芯部106a的中心軸係與所述的中心軸C一致。芯部106a係與上下移動軸110(上下可動部104)一體地往Z軸方向移動。
線圈106b具有與Z軸方向平行的大致圓筒形狀。芯部106a以非接觸方式***此線圈106b的內部。線圈106b具有:藉輸入電壓(交流)而被激磁的一次線圈(未圖示);及依芯部106a在Z軸方向的變位而產生輸出電壓(感應電壓)的二次線圈(未圖示)。
微小移動檢測部118係向線圈106b供給輸入電壓,並因應芯部106a在Z軸方向的變位而檢測從線圈106b所輸出之輸出電壓。微小移動檢測部118係依據從線圈106b輸出的輸出電壓,檢測芯部106a、亦即上下可動部104(平台114等)在Z軸方向的微小移動。
依據上述構成的探針高度檢測器100,透過高度調整機構27使探針高度檢測器100朝Z軸方向上方移動,當平台114的接觸面20a接觸於探針25的前端時,上下可動部104(平台114等)及芯部106a往Z軸方向的下方微小移動。藉此,因應於芯部106a的微小移動而從線圈106b輸出的輸出電壓是被輸入於微小移動檢測部118。
因此,微小移動檢測部118可檢測上下可動部104(平台114等)在Z軸方向的微小移動、亦即,探針25的前端對接觸面20a之接觸。以下,因為是與所述的探針高度檢測器20相同,故省略具體的說明。
如此,就探針高度檢測器100而言,因為使用LVDT106檢測探針25的前端對接觸面20a之接觸,故能提升此接觸的檢測精度〔接觸響應性(敏感性)〕。其結果,可提升從所述的基準面算起之探針25的前端的高度之測定精度。又,可精度佳地檢測伴隨於探針25的前端朝向接觸面20a之接觸的平台114等在Z軸方向之移動量(推入量)及伴隨於接觸之在Z軸方向的推壓力。
以上針對本發明的例子作了說明,惟本發明不受上述實施形態所限,當然可在不悖離本發明精神之範圍下進行各種變形。
10‧‧‧探針機台
11‧‧‧基台
12‧‧‧移動座
13‧‧‧Y軸移動台
14‧‧‧X軸移動台
15‧‧‧旋轉部
16‧‧‧晶圓夾盤
18‧‧‧探針位置檢測相機
19‧‧‧晶圓校準相機
20‧‧‧探針高度檢測器
20a‧‧‧接觸面
20b‧‧‧感測機構
21‧‧‧高度調整機構
22‧‧‧探針頭平台
23‧‧‧探針卡保持器
24‧‧‧探針卡
25‧‧‧探針
27‧‧‧高度調整機構
30‧‧‧測試器
31‧‧‧測試器本體
32‧‧‧接觸環
60‧‧‧控制部
61‧‧‧顯示部
62‧‧‧輸入部
100‧‧‧晶圓測試系統
W‧‧‧晶圓
Claims (12)
- 一種探針機台,係使探針接觸於晶圓的電極以進行檢查之探針機台,其具備:探針位置檢測相機,為了進行前述晶圓的電極與前述探針之相對的對位而檢測前述探針的前端位置;探針高度檢測器,與前述探針位置檢測相機分開設置,檢測從作為前述探針位置檢測相機的高度基準之基準面算起之前述探針的前端的高度;及第1高度調整機構,依據前述探針高度檢測器的檢測結果,改變從前述基準面算起之前述探針位置檢測相機之高度。
- 如請求項1之探針機台,其中前述探針高度檢測器係接觸型檢測器,其具有與前述探針的前端接觸之接觸面,檢測前述探針的前端接觸於前述接觸面時之前述接觸面的高度作為前述探針的前端的高度。
- 如請求項2之探針機台,其中前述探針高度檢測器具有線性可變差動變壓器,其檢測前述探針的前端朝向前述接觸面之接觸。
- 如請求項2或3之探針機台,其中前述探針高度檢測器係與前述探針位置檢測相機一體設置,前述探針高度檢測器之前述接觸面的高度,係設於比前述探針位置檢測相機的高度還高的位置。
- 如請求項4之探針機台,其中 前述探針高度檢測器的前述接觸面,係設於比在前述探針位置檢測相機的高度再加上前述探針位置檢測相機的作業距離後的高度還低的位置。
- 如請求項1至3中任一項之探針機台,其中前述探針高度檢測器係與前述探針位置檢測相機獨立地設置,更具備改變從前述基準面算起之前述探針高度檢測器的高度之第2高度調整機構。
- 如請求項1至3中任一項之探針機台,其中前述探針高度檢測器為接觸型,更具備依據利用前述探針高度檢測器所進行之複數次的檢測結果,檢測設於探針機台的探針卡的傾斜之控制部。
- 一種探針機台的操作方法,係使探針接觸於晶圓的電極以進行檢查之探針機台的操作方法,包含:使用與探針位置檢測相機分開設置的探針高度檢測器,檢測從作為前述探針位置檢測相機的高度基準之基準面算起之前述探針的前端的高度之第1高度檢測步驟;依據前述探針高度檢測器的檢測結果,改變從前述基準面算起之前述探針位置檢測相機的高度之步驟;及使用探針位置檢測相機檢測前述探針的前端位置,用以進行前述晶圓的電極與前述探針之相對的對位之步驟。
- 如請求項8之探針機台的操作方法,其中在前述第1高度檢測步驟,使用前述探針高度檢測器,檢測前述探針的前端的高度,前述探針高度檢測器具有與前述探針的前端接觸之接觸面、及檢測前述探針的前端朝向前述接觸面之接觸的線性可變差動變壓器。
- 如請求項8或9之探針機台的操作方法,其中前述探針高度檢測器係接觸型,前述第1高度檢測步驟中,使用前述接觸型探針高度檢測器,對前述探針的前端的高度作複數次檢測,且更包含依據在前述第1高度檢測步驟之複數次的檢測結果,檢測前述探針卡的傾斜之傾斜檢測步驟。
- 如請求項10之探針機台的操作方法,其中更具備使用與前述探針高度檢測器一體設置之探針位置檢測相機,將從前述基準面算起之前述探針的前端的高度作複數次檢測之第2高度檢測步驟,前述傾斜檢測步驟係依據在前述第1高度檢測步驟的檢測結果及在前述第2高度檢測步驟的檢測結果,檢測前述探針卡的傾斜。
- 如請求項10之探針機台的操作方法,其中前述第1高度檢測步驟係於前述第2高度檢測步驟之前進行。
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2016063845 | 2016-03-28 | ||
JP2016-063845 | 2016-03-28 | ||
JP2016-063846 | 2016-03-28 | ||
JP2016063846 | 2016-03-28 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
TW201806051A true TW201806051A (zh) | 2018-02-16 |
TWI706487B TWI706487B (zh) | 2020-10-01 |
Family
ID=59964522
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
TW106110149A TWI706487B (zh) | 2016-03-28 | 2017-03-27 | 探針機台及探針機台的操作方法 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US10564185B2 (zh) |
TW (1) | TWI706487B (zh) |
WO (1) | WO2017170393A1 (zh) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN112881886A (zh) * | 2021-01-13 | 2021-06-01 | 上海华岭集成电路技术股份有限公司 | 多工位探针卡及晶圆测试的方法 |
TWI756836B (zh) * | 2019-09-30 | 2022-03-01 | 台灣積體電路製造股份有限公司 | 量測方法和半導體結構的形成方法 |
US11460290B2 (en) | 2019-09-30 | 2022-10-04 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company Ltd. | Measuring method and semiconductor structure forming method |
TWI807918B (zh) * | 2022-07-14 | 2023-07-01 | 中華精測科技股份有限公司 | 共地型晶片測試插座 |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TWI652483B (zh) * | 2017-12-12 | 2019-03-01 | 穩懋半導體股份有限公司 | 用於晶圓針測系統之非均質性接收器與非等向性發射器之對位方法 |
JP7300310B2 (ja) * | 2019-05-20 | 2023-06-29 | 東京エレクトロン株式会社 | 載置台の温度調整方法、検査装置及び載置台 |
US11262401B2 (en) * | 2020-04-22 | 2022-03-01 | Mpi Corporation | Wafer probe station |
DE112021007357T5 (de) * | 2021-03-23 | 2024-03-21 | Kioxia Corporation | Kassettengehäuse, sondenvorrichtung, server-rack und lagersystem technisches gebiet |
CN113866587B (zh) * | 2021-08-20 | 2024-05-24 | 苏州国科测试科技有限公司 | 一种飞针测试设备 |
US20240168058A1 (en) * | 2022-11-18 | 2024-05-23 | Formfactor, Inc. | Methods of establishing contact between a probe tip of a probe system and a device under test, probe systems that perform the methods, and storage media that directs probe systems to perform the methods |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR950001604U (ko) * | 1993-06-30 | 1995-01-04 | 볼트·너트를 이용한 부식방지용 체결구 | |
US5600258A (en) * | 1993-09-15 | 1997-02-04 | Intest Corporation | Method and apparatus for automated docking of a test head to a device handler |
JP3902747B2 (ja) | 2002-07-01 | 2007-04-11 | 株式会社東京精密 | プローブ装置 |
JP4685559B2 (ja) | 2005-09-09 | 2011-05-18 | 東京エレクトロン株式会社 | プローブカードと載置台との平行度調整方法及び検査用プログラム記憶媒体並びに検査装置 |
JP4996119B2 (ja) * | 2006-03-30 | 2012-08-08 | 東京エレクトロン株式会社 | プローブの先端位置の検出方法、この方法を記録した記憶媒体、及びプローブ装置 |
JP4451416B2 (ja) | 2006-05-31 | 2010-04-14 | 東京エレクトロン株式会社 | プローブ先端の検出方法、アライメント方法及びこれらの方法を記録した記憶媒体、並びにプローブ装置 |
JP5295588B2 (ja) * | 2008-02-28 | 2013-09-18 | 東京エレクトロン株式会社 | プローブカードの傾き調整方法、プローブカードの傾き検出方法及びプローブカードの傾き検出方法を記録したプログラム記録媒体 |
JP5571224B2 (ja) * | 2013-04-25 | 2014-08-13 | 東京エレクトロン株式会社 | 針先位置検出装置及びプローブ装置 |
-
2017
- 2017-03-27 WO PCT/JP2017/012377 patent/WO2017170393A1/ja active Application Filing
- 2017-03-27 TW TW106110149A patent/TWI706487B/zh active
-
2018
- 2018-09-25 US US16/141,596 patent/US10564185B2/en active Active
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TWI756836B (zh) * | 2019-09-30 | 2022-03-01 | 台灣積體電路製造股份有限公司 | 量測方法和半導體結構的形成方法 |
US11460290B2 (en) | 2019-09-30 | 2022-10-04 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company Ltd. | Measuring method and semiconductor structure forming method |
CN112881886A (zh) * | 2021-01-13 | 2021-06-01 | 上海华岭集成电路技术股份有限公司 | 多工位探针卡及晶圆测试的方法 |
TWI807918B (zh) * | 2022-07-14 | 2023-07-01 | 中華精測科技股份有限公司 | 共地型晶片測試插座 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TWI706487B (zh) | 2020-10-01 |
WO2017170393A1 (ja) | 2017-10-05 |
US20190025342A1 (en) | 2019-01-24 |
US10564185B2 (en) | 2020-02-18 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
TWI706487B (zh) | 探針機台及探針機台的操作方法 | |
JP6221200B2 (ja) | プローバ | |
TWI464817B (zh) | An alignment method, a needle position detecting device, and a probe device | |
JP6164548B1 (ja) | プローブカードの傾き検出方法及びプローバ | |
JP6674103B2 (ja) | プローバ | |
JP2008053624A (ja) | アライメント装置 | |
KR101374529B1 (ko) | 프로브 장치 및 프로브 장치의 프로브 카드 장착 방법 | |
JP2018117095A (ja) | プローバ及びプローブ針の接触方法 | |
TWI718773B (zh) | 探測設備的操作方法 | |
CN111386595A (zh) | 探针的针头位置调节方法和检查装置 | |
CN111146103B (zh) | 晶圆的检测方法及检测设备 | |
TWI542880B (zh) | Probe device and detection method of electronic device | |
JP2016085203A (ja) | 電子部品ハンドリング装置及び電子部品試験装置 | |
JP2008192861A (ja) | 半導体検査装置および半導体検査方法 | |
JP6361975B2 (ja) | プローバ | |
JP2007095938A (ja) | テスタ、プローバ、ウエハテストシステム及び電気的接触位置検出方法 | |
JP2984541B2 (ja) | プロービング方法およびプローブ装置 | |
WO2016084147A1 (ja) | ウェーハの検査方法 | |
JP2006186130A (ja) | 半導体検査装置 | |
CN116047268A (zh) | 一种基于探针台高度的补偿方法、装置及电子设备 | |
WO2022160564A1 (zh) | 控片量测方法及量测装置 | |
JP2008053282A (ja) | プローバ | |
JP5004454B2 (ja) | プローバ及びプローバにおける回転・移動制御方法 | |
JP4902986B2 (ja) | プローバ、及び、プローバのウェハステージ加熱、又は、冷却方法 | |
TWI576934B (zh) | Wafer inspection method |