TW201634975A - 投影顯示裝置 - Google Patents

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Abstract

本發明提供一種投影顯示裝置，包括一光源、一反射型的光調變器、一極化器、以及一導光板。光源可發射一第一光，光調變器可調變第一光以形成一呈現影像的第二光。導光板可包含複數個非對稱的光學元件，其設於導光板中或導光板的外側表面上。進入於導光板的照射光，透過光學元件的反射，可改變方向而朝向光調變器傳遞。此外，來自光調變器的影像光，可通過導光板而傳播至極化器。

Description

投影顯示裝置
本發明涉及一種投影顯示裝置。
一種影像投影機，例如使用在頭戴系統的影像投影機，通常包含有一液晶面板、以及一照明裝置，其中照明裝置發射光線至液晶面板。液晶面板可調整入射光線而產生影像，接著透過投影儀器來傳送影像，以便顯示給使用者觀看。然而，目前市面上的投影機會顯示出鬼影，而鬼影會改變顯示品質。
有鑑於此，目前需要一種改良的投影裝置，以便改善上述的缺失。
本發明闡述一種可降低厚度且提供更佳影像品質的投影顯示裝置。依據一實施例，投影顯示裝置包含：一光源，可發射一第一光；一反射型的光調變器，該第一光可通過該光調變器進行調變，以形成一呈現影像的第二光；一極化器；以及一導光板，具有一入射表面、及位於相對側的第一、第二外側表面，該第一光為通過該入射表面進入該導光板，該第一光的一部分可通過該第一外側表面離開該導光板並往該光調變器傳遞，而該第二光的一部分為通過該第二外側表面離開該導光板並往該極化器傳遞；其中，該第二外側表面包含有複數個凹槽，各凹槽具有一參考軸、一第一側壁以及一第二側壁，該參考軸與該第二外側表面相垂直，該第一側壁與該第二側壁分別位於該參考軸的兩個相對側，且該第一側壁面向該 入射表面，該第二側壁面向該導光板中相對於該第一側壁的另一側，該第一側壁與該參考軸之間定義有一第一角度，該第二側壁與該參考軸之間定義有一第二角度，該第一角度小於該第二角度。
依據另一實施例，投影顯示裝置包括：一光源，可發射一第一光；一反射型的光調變器，該第一光可通過該光調變器進行調變，以形成一呈現影像的第二光；一極化器；以及一導光板，具有一入射表面、及位於相對側的第一、第二外側表面，該第一光為通過該入射表面進入該導光板，該第一光的一部分可通過該第一外側表面離開該導光板並往該光調變器傳遞，而該第二光的一部分為通過該第二外側表面離開該導光板並往該極化器傳遞；其中，該導光板設有複數個光學元件，各光學元件具有一參考軸、一第一側壁以及一第二側壁，該參考軸與該第二外側表面相垂直，該第一側壁與該第二側壁分別位於該參考軸的兩個相對側，且該第一側壁面向該入射表面，該第二側壁面向該導光板中相對於該第一側壁的另一側，該第一側壁與該參考軸之間定義有一第一角度，該第二側壁與該參考軸之間定義有一第二角度，該第一角度小於該第二角度。
100‧‧‧投影顯示裝置
102‧‧‧光源
104‧‧‧光調變器
10,10’,106‧‧‧導光板
108‧‧‧極化器
110‧‧‧光學組件
112‧‧‧發光裝置
114‧‧‧極化器
116‧‧‧液晶層
118‧‧‧矽基材
120‧‧‧透明基材
124‧‧‧集光裝置
122,126‧‧‧側緣
128‧‧‧反射器
132‧‧‧聚焦透鏡
140‧‧‧入射表面
44,142,144‧‧‧外側表面
46,46’,146‧‧‧凹槽
150‧‧‧多層塗佈膜
52,52’,54,54’,152,154‧‧‧側壁
156‧‧‧底端
48‧‧‧凸起部
246、346‧‧‧光學元件
252,254、352、354‧‧‧側壁
256、356‧‧‧頂點
I1,I2‧‧‧影像光
S‧‧‧照射光
DA‧‧‧前側顯示區域
Y‧‧‧參考軸
A1、A2‧‧‧角度
TH,TH’‧‧‧厚度
第1圖為繪示依據本發明一實施例所提供之投影顯示裝置的示意圖。
第2圖為繪示投影顯示裝置的導光板的示意圖。
第3圖為繪示照射光的不同部分在導光板中的傳播路徑之示意圖。
第4圖為繪示來自光調變器的影像光通過導光板的傳播路徑之示意圖。
第5A圖為繪示導光板的比較例之示意圖。
第5B圖為繪示導光板的另一比較例之示意圖。
第6圖為繪示依據一實施例在導光板的外側表面上沿著光傳播方向設有變化深度的凹槽之示意圖。
第7圖為繪示依據另一實施例在導光板上沿著光傳播方向設有變化週期的凹槽之示意圖。
第8圖為繪示依據一實施例以交錯的方式在導光板的外側表面上分佈凹槽的示意圖。
第9圖為繪示依據另一實施例將複數個光學元件埋入導光板中的示意圖。
第10圖為繪示依據另一實施例將複數個突出的光學元件設於導光板的外側表面上之示意圖。
第1圖為繪示本發明一實施例所提供的投影顯示裝置100的示意圖。投影顯示裝置100可包含一光源102、一反射型的光調變器104、一導光板106、一極化器108、以及一用於傳遞影像光線的光學組件110。投影顯示裝置100的應用例如包括在頭戴系統中提供近眼顯示的功能、或在一般影像投影機中將實際的影像投設至大型螢幕。
光源102可放射具有第一極化狀態的照射光S，其例如為S-極化光。光源102可包含一發光裝置112以及一反射型的極化器114(亦可簡稱為「反射極化器」)。發光裝置112可由一個或多個發光二極體組成，以便發出一種或多種顏色的光線。依據一實施例，發光裝置112可放射相同顏色的光，例如白光。依據其它實施例，發光裝置112可放射出一種具有顏色快速變化的光，例如顏色的時序變化為紅光、綠光、及藍光等，如此一來可適用於場色序(field sequential color)顯示系統。發光裝置112所放射的光可為隨機極化光，其通過反射型的極化器114轉變為S-極化狀態的照射光S。
依據一實施例，光調變器104例如為矽基液晶(LCOS)面板，其可包括矽基材118、透明基材120、及夾於矽基材118與透明基材120間的液晶層116。矽基材118可包含一驅動電路、和由複數個與驅動電路相電性連接的像素電極所組成的陣列。依據所接收的影像資料，光調變器104可將入射光反射，並透過主動像素電極調變入射光的極化狀態，以便形成影像光I1，其傳達所欲呈現的影像。依據一實施例，光調變器104可為微型顯示器，其特別適用於頭戴裝置。
導光板106為平面導光，其可沿平行於光調變器104的平面傳遞照射光S，且導引照射光S至光調變器104的前側。導光板106可設於光調變器104與極化器108之間，且可與光調變器104呈相互平行並覆蓋其面積。更具體，導光板106的周圍邊界可超出光調變器104的前側顯示區域DA的邊界。光源102可面對導光板106的側緣122。藉由上述的配置，導光板106的側緣122可接收照射光S，接著照射光S將沿著導光板106的平面傳播並被導引至光調變器104，且導光板106另還可將光調變器104所反射的影像光I1傳送至極化器108。
依據一實施例，導光板106可包含一集光裝置124，其設於鄰近側緣122，以利照射光S更容易進入導光板106。集光裝置124例如為連接至導光板106的透鏡(例如凸透鏡、菲涅耳透鏡(Fresnel lens)、棱鏡片/增亮膜、等等)、或與導光板106一體形成的曲面(例如凸面)。依據不同實施例，集光裝置124與反射極化器114的位置可對調。
導光板106在相對於側緣122的另一側緣126還可設有一反射器128，以防止導光板106在側緣126發生漏光。依據不同實施例，亦可審省略反射器128，並塗黑側緣126。
極化器108平行設於導光板106上在相對於光調變器104的一側。依據一實施例，極化器108可與導光板106相接觸。依據其它實施例，極化器108與導光板106之間可留有空隙。對於調變後的影像光I1，極化器108可為反射型的極化器，即極化器108可傳送其中具有一極化狀態(例如 p-極化的部分)的第一部分，並反射其中具有另一極化狀態(例如s-極化的部分)的第二部分。依據另一實施例，極化器108可為吸收型的極化器，即極化器108可傳送影像光I1中具有一極化狀態(例如p-極化的部分)的第一部分，並吸收其中具有另一極化狀態(例如s-極化的部分)的第二部分。離開極化器108且傳送至光學組件110的部分光線在圖中標示為影像光I2。
光學組件110可聚集影像光I，且形成具有均勻照度的投射影像，以便其顯示於使用者的眼睛。舉例來說，光學組件110可包含投影透鏡、視場透鏡、分光鏡、棱鏡、反射元件等等。光學組件110的組成零件可依據投影顯示裝置的應用而改變，例如，是否實施於頭戴系統，或者作為可投影影像至螢幕的投影機。
依據一實施例，投影顯示裝置100還可包含一聚焦透鏡132，其配置於光調變器104與導光板106之間。聚焦透鏡132可聚焦於光調變器104上，使物平面定位於光調變器104上。依據其它實施例，亦可省略聚焦透鏡132，以便降低投影顯示裝置100的尺寸，而光學組件110可包含聚焦於光調變器104的平面之透鏡。
共同參閱第1圖，第2圖為繪示導光板106細部構造的示意圖。導光板106可由玻璃或透明樹脂(例如丙烯酸樹脂、聚碳酸脂、聚酸甲酯(PMMA)、等等)所製成，尤其低雙折射的材質。導光板106的折射率可介於1.47~2.5之間。導光板106具有位於其側緣122的入射表面140、以及兩個位於相對側並沿著導光板106的平面延伸的外側表面142、144。兩個外側表面144、142彼此相互平行，且分別與入射表面140的上下邊界相連接。外側表面142可面向光調變器104，且呈平坦。外側表面144則面向極化器108，且設有由複數個三角形的凹槽146組成的排列。
導光板106的光傳播方向X與外側表面144相互平行並從入射表面140延伸至側緣126，而凹槽146可介於入射表面140與側緣12之間沿著光傳播方向X分佈。各凹槽146的形狀為類似V字形，其由兩個呈傾斜的側壁152、154形成，且側壁152、154在凹槽146的底端156相交 接。更具體地，各凹槽146可分別具有一參考軸Y，該參考軸Y與外側表面144的平面相垂直且通過底端156。兩個側壁152、154呈平坦，且在參考軸Y的兩側分別沿著兩個方向Z1、Z2延伸，其中，側壁152面向入射表面140，側壁154則面向導光板106中相對於側壁152的另一側(即面向側緣126)。因此，對於各凹槽146而言，沿著光傳播方向X，側壁152相較於側壁154比較靠近入射表面140。
各凹槽146具有非對稱的形狀，亦即側壁152與參考軸Y之間的角度A1(不等於0)不同於側壁154與參考軸Y之間的角度A2(不等於0)。更具體地，角度A1可介於30度和65度之間，更佳50度和60度之間。角度A2則大於角度A1，且可介於65度和85度之間，更佳70度和80度之間。
此外，各凹槽146中在兩個側壁152、154之間可沿著光傳播方向X定義出最大寬度W1，其至少等於0.1微米。況且，沿著光傳播方向X在相鄰的凹槽146間所定義的凹槽週期P為小於100微米。更佳地，凹槽146的最大寬度W1介於1微米和20微米之間，且凹槽週期P介於1微米和20微米，其中凹槽週期P不會比最大寬度W1來得小。
繼續參閱第2圖，凹槽146的兩側壁152、154上可形成多層塗佈膜150，其可包含介電層或金屬層。多層塗佈膜150例如包含TiO2、Ta2O5、Ti3O5、Al2O3、SiO2,MgO等等。另外，多層塗佈膜150中的每一層的厚度可介於5奈米至5000奈米。兩個側壁152、154對於通過導光板106的照射光S進行反射時，多層塗佈膜150可促進極化的選擇，且對於自光調變器104傳來的影像光I1促進其通過兩個側壁152、154傳播。
第3圖為繪示照射光S中的不同部分R1、R2通過導光板106的傳遞路徑之示意圖，第4圖則繪示部分的影像光I通過導光板106的傳遞路徑之示意圖。參閱第4圖，照射光S的部分R1可通過入射表面140進入導光板106，以一角度在導光板106中傳遞，經由一個或多個側壁152反射至外側表面142，且通過外側表面142離開導光板106後朝向光調變器 104傳遞。照射光S的另一部分R2可通過入射表面140進入導光板106，以另一角度在導光板106中傳遞，透過反射器128或側緣126折反至側壁154，再經由一個或多個側壁154反射至外側表面142，且通過外側表面142離開導光板106後朝向光調變器104傳遞。
參閱第4圖，來自光調變器104的影像光I1可通過外側表面142進入導光板106，沿導光板106的內部傳遞，且通過外側表面144以及凹槽146的兩個側壁152、154離開導光板106後朝向極化器108傳遞。
藉由非對稱形狀的凹槽146，可降低漏光的情形，且由光源102與導光板106組成的照射系統可具有更佳的光使用效率及對比率。此外，設有凹槽146的導光板106可避免鬼影的發生。為便驗證以上所述的優點與功效，可對於具有不同形狀的凹槽之導光板進行試驗比較，如第5A、5B圖所示。第5A圖為繪示另一導光板10的示意圖，其凹槽46的形狀不同於上述的凹槽146。凹槽46由兩個側壁52、54界定，並形成於導光板10的外側表面44。側壁54與導光板10的外側表面44相垂直，而側壁52相對於側壁54傾斜約50度。第5B圖為繪示又另一導光板10’的示意圖，其在外側表面44’上形成對稱的凹槽46’。凹槽46’由兩個相對稱的側壁52’、54’界定，且側壁52’、54’相對於凹槽46’的垂直軸線分別傾斜約為50度的角度。
經查光學測驗的結果顯示，相較於第5A、5B圖所示的導光板10、10’，具有凹槽146的導光板106之光漏現象可降低約10倍或更多。舉例而言，實驗的結果顯示，導光板10的漏光量約3.99x10-6lm(流明)，導光板10’的漏光量約1.45x10-5lm。然而，具有非對稱凹槽146(角度A1等於約50度，角度和A2等於約75度)的導光板106之漏光量則可降低至約2.73x10-7lm。另外，導光板10的平均對比率約165，導光板10’的平均對比率約75。然而，具有非對稱凹槽146的導光板106具有更高的平均對比率，其可達到約298。
再者，透過顯微鏡的觀察，因導光板10的側壁54與外側表面44相互垂直，以鑽石刀切割出凹槽46後，會在側壁54的邊緣上殘留凸起部48，此凸起部48會形成產生鬼影的透鏡。反之，非對稱形狀的凹槽146可避免凸起部48的形成，如此防止鬼影的產生。因此，設有凹槽146的導光板106可改善光學效能，即不具鬼影、並具有低漏光及高對比率之優點。
第6圖至第8圖為繪示凹槽146沿外側表面144的不同配置方式的示意圖。第6圖為繪示導光板106的第一配置方式，其中，凹槽146的凹槽深度D為沿著光傳播方向X變化。對於每個凹槽146，凹槽深度D可定義為沿著其參考軸Y延伸至底端156的深度。凹槽深度D可沿著光傳播方向X從反射器128的側緣126往入射表面140逐漸降低。舉例來說，位於遠離入射表面140的凹槽146具有凹槽深度D1，位於靠近入射表面140的凹槽146具有凹槽深度D2，而D1大於D2。更大的凹槽深度D1使得兩個側壁152、154具有較大的面積，以利於光線在導光板106中遠離入射表面140的區域能產生反射。
第7圖為繪示導光板106的第二配置方式。導光板106的凹槽146可排放成陣列，使各凹槽146的長度L平行於橫向方向T，其中橫向方向T與光傳播方向X相垂直。此外，各凹槽146可沿著光傳播方向X彼此對齊。在此配置中，凹槽146沿著光傳播方向X具有變化的凹槽週期P。更具體地，凹槽週期P可沿著光傳播方向X從反射器128的側緣126朝向入射表面140逐漸增加。舉例來說，遠離入射表面140的凹槽146具有凹槽週期P1，較靠近入射表面140的凹槽146具有凹槽週期P2，且P1小於P2。較小的間距使凹槽146可局部地具有更高的密度，以利光線在遠離入射表面140的區域產生有效的反射以及傳播作用。
第8圖為繪示凹槽146依據交錯方式分佈於導光板106的外側表面144的示意圖。在此配置中，沿著橫向方向T的各列可包含複 數個相對齊的凹槽146，且沿著光傳播方向X處於相鄰位置的凹槽146呈非對齊。
可以理解的是，本發明亦可結合上述凹槽146的各種配置。例如，結合第6圖與第7圖的配置，使凹槽深度D沿著光傳播方向X從反射器128至入射表面140逐漸變小，且凹槽週期P沿著光傳播方向X從反射器128至入射表面140逐漸增大。依據另一實施例的分佈，凹槽深度D亦可沿著光傳播方向X從反射器128至入射表面140逐漸變小，且/或凹槽週期P沿著光傳播方向X從反射器128至入射表面140逐漸變大。
上述的實施例是透過外側表面144上所形成的凹槽146作為光學元件，以改善導光板的光學特性。然而，本發明不限於此，亦可透過具有類似形狀的光學元件並搭配其它的配置方式，以得到凹槽146的相同優點與功效。第9圖為繪示導光板106中設有複數個光學元件246的實施例的示意圖。光學元件246為固態元件，其取代上述的凹槽146。光學元件246為介於兩個外側表面142、144之間埋入於導光板106中，且沿著光傳播方向X分佈。
各光學元件246具有類似凹槽146的非對稱形狀，此非對稱形狀例如為三角形，其包含兩個呈傾斜的側壁252、254，且兩個側壁252、254交會於一頂點256，該頂點256指向外側表面142。對於各光學元件246而言，側壁252面向入射表面140，側壁254則面向導光板106中相對於側壁252的另一側(即面向側緣126)。各光學元件246可具有一參考軸Y，此參考軸Y與外側表面144相垂直且通過頂點256。側壁252與參考軸Y間的角度A1可介於30度和65度之間，更佳的範圍介於50度和60度之間。側壁254與參考軸Y間的角度A2大於角度A1，且角度A2可介於65度和85度之間，更佳的範圍介於70度和80度之間。另外，各光學元件246沿著光傳播方向X可在兩個側壁252、254之間定義出最大寬度W1，其至少等於0.1微米，且光學元件246沿著光傳播方向X的週期P(即介於兩個相鄰的光學元件246間的距離)小於100微米。更佳地，各光學元件246 的最大寬度W1可介於1微米和20微米，週期P則介於1微米和20微米之間。
如同上述的凹槽146，光學元件246之間的週期P在朝向導光板106的入射表面140之方向逐漸遞增，且/或光學元件246的厚度TH在朝向入射表面140的方向逐漸遞減。對於每個光學元件246，厚度TH為沿著參考軸Y上介於光學元件246的頂點256與其相對側緣之間的距離。另外，光學元件246亦可根據第7圖與第8圖所示的任何平面配置排放。
第10圖為繪示導光板106中設有複數個突出的光學元件346取代上述的凹槽146的另一實施例之示意圖。光學元件346呈三角形的固態元件，其為導光板106的材質，且從外側表面144向外突出。對於各光學元件346而言，參考軸Y可通過其頂點356，側壁352面向入射表面140，側壁354則面向導光板106中相對於側壁352的另一側(即面向側緣126)。如同上述，各光學元件346具有非對稱的形狀，亦即側壁352與參考軸Y之間的角度A1(不等於0)不同於側壁354與參考軸Y之間的角度A2(不等於0)。更具體地，角度A1可介於30度和65度之間，更佳50度和60度之間。角度A2則大於角度A1，且可介於65度和85度之間，更佳70度和80度之間。
另外，各光學元件346在兩個側壁352、354之間可定義出最大寬度W1，其至少等於0.1微米，且光學元件346的週期P(即介於兩個相鄰的光學元件246間的距離)小於100微米。更佳地，各光學元件346的最大寬度W1可介於1微米和20微米之間，週期P則介於1微米和20微米之間。
如同上述，光學元件346之間的週期P還可在朝向導光板106的入射表面140之方向逐漸遞增，且/或光學元件346的厚度TH’在朝向入射表面140的方向逐漸遞減。對於每個光學元件346，厚度TH’為沿著參考軸Y上介於光學元件346的頂點356與外側表面144的平面之間的距 離。另外，光學元件346亦可根據第7圖與第8圖所示的任何平面配置排放。值得一提，各光學元件346上還可設有如同上述的多層塗佈膜150。
照射光S的部分R1可通過入射表面140進入導光板106，以一角度在導光板106中傳遞，經由一個或多個側壁352反射至外側表面142，且通過外側表面142離開導光板106後朝向光調變器104傳遞。照射光S的另一部分R2可通過入射表面140進入導光板106，以另一角度在導光板106中傳遞，透過反射器128反射至側壁354，再經由一個或多個側壁354反射至外側表面142，且通過外側表面142離開導光板106後朝向光調變器104傳遞。況且，來自光調變器104的影像光I1可通過外側表面142進入導光板106，沿導光板106的內部傳遞，且通過外側表面144以及光學元件346的側壁352、354離開導光板106後朝向極化器108傳遞。
本發明所述的投影顯示裝置，至少包含以下優點：通過導光板將光線照射至調變器的前方，以利於降低投影顯示裝置的厚度。此外，導光板可包含凹槽或光學元件，其可以消除鬼影並改善顯示亮度及對比率。
以上敍述依據本發明多個不同實施例，其中各項特徵可以單一或不同結合方式實施。因此，本發明實施方式之揭露為闡明本發明原則之具體實施例，應不拘限本發明於所揭示的實施例。進一步言之，先前敍述及其附圖僅為本發明示範之用，並不受其限囿。其他元件之變化或組合皆可能，且不悖于本發明之精神與範圍。
100‧‧‧投影顯示裝置
102‧‧‧光源
104‧‧‧光線調變器
106‧‧‧導光板
108‧‧‧極化器
110‧‧‧光學組件
112‧‧‧發光裝置
114‧‧‧極化器
116‧‧‧液晶層
118‧‧‧矽基材
120‧‧‧透明基材
124‧‧‧集光裝置
122,126‧‧‧側緣
128‧‧‧反射器
132‧‧‧聚焦透鏡
146‧‧‧凹槽
I1,I2‧‧‧影像光線
S‧‧‧照射光
DA‧‧‧前側顯示區域

Claims (22)

  1. 一種投影顯示裝置，包括：一光源，可發射一第一光；一反射型的光調變器，該第一光可通過該光調變器進行調變，以形成一呈現影像的第二光；一極化器；以及一導光板，具有一入射表面、及位於相對側的第一、第二外側表面，該第一光為通過該入射表面進入該導光板，該第一光的一部分通過該第一外側表面離開該導光板並往該光調變器傳遞，而該第二光的一部分為通過該第二外側表面離開該導光板並往該極化器傳遞；其中，該第二外側表面包含有複數個凹槽，各凹槽具有一參考軸、一第一側壁以及一第二側壁，該參考軸與該第二外側表面相垂直，該第一側壁與該第二側壁分別位於該參考軸的兩個相對側，且該第一側壁面向該入射表面，該第二側壁面向該導光板中相對於該第一側壁的另一側，該第一側壁與該參考軸之間定義有一第一角度，該第二側壁與該參考軸之間定義有一第二角度，該第一角度小於該第二角度。
  2. 如申請專利範圍第1項所述的投影顯示裝置，其中，該第一角度介於30度至65度，該第二角度介於65度至85度。
  3. 如申請專利範圍第1項所述的投影顯示裝置，其中，該第一角度介於50度和60度之間，該第二角度介於70度和80度之間。
  4. 如申請專利範圍第1項所述的投影顯示裝置，其中，各凹槽在該第一側壁與該第二側壁之間可定義出一最大寬度，該最大寬度至少等於0.1微米，且兩個相鄰的凹槽之間的週期小於100微米。
  5. 如申請專利範圍第1項所述的投影顯示裝置，其中，各凹槽在該第一側壁與該第二側壁之間可定義出一最大寬度，該最大寬度介於1微米和20微米之間，且兩個相鄰的凹槽之間的週期介於1微米和20微米之間。
  6. 如申請專利範圍第1項所述的投影顯示裝置，其中，該複數個凹槽之間的週期沿著該光傳播方向變化，且為朝向該入射表面逐漸增大。
  7. 如申請專利範圍第1項所述的投影顯示裝置，其中，該複數個凹槽的深度沿著該光傳播方向變化，且為朝向該入射表面逐漸變小。
  8. 如申請專利範圍第1項所述的投影顯示裝置，其中，該光調變器包含矽基液晶。
  9. 如申請專利範圍第1項所述的投影顯示裝置，其中，各凹槽的該第一側壁與該第二側壁呈平坦，且在凹槽的底端相接。
  10. 如申請專利範圍第1項所述的投影顯示裝置，更包括一多層塗佈膜，其設於該第一側壁及該第二側壁上，該多層塗佈膜包含介電層或金屬層。
  11. 一種投影顯示裝置，包括：一光源，可發射一第一光；一反射型的光調變器，該第一光可通過該光調變器進行調變，以形成一呈現影像的第二光；一極化器；以及一導光板，具有一入射表面、及位於相對側的第一、第二外側表面，該第一光為通過該入射表面進入該導光板，該第一光的一部分通過該第一外側表面離開該導光板並往該光調變器傳遞，而該第二光的一部分為通過該第二外側表面離開該導光板並往該極化器傳遞；其中，該導光板設有複數個光學元件，各光學元件具有一參考軸、一第一側壁以及一第二側壁，該參考軸與該第二外側表面相垂直，該第一側壁與該第二側壁分別位於該參考軸的兩個相對側，且該第一側壁面向該入射表面，該第二側壁面向該導光板中相對於該第一側壁的另一側，該第一側壁與該參考軸之間定義有一第一角度，該第二側壁與該參考軸之間定義有一第二角度，該第一角度小於該第二角度。
  12. 如申請專利範圍第11項所述的投影顯示裝置，其中該複數個光學元件為在該第一、第二外側表面之間埋入於該導光板中。
  13. 如申請專利範圍第11項所述的投影顯示裝置，其中該複數個光學元件分別向外突出於該第二外側表面。
  14. 如申請專利範圍第11項所述的投影顯示裝置，其中該複數個光學元件為在該第二外側表面中所形成的凹槽。
  15. 如申請專利範圍第11項所述的投影顯示裝置，其中該第一角度介於30度和65度之間，該第二角度介於65度和85度之間。
  16. 如申請專利範圍第11項所述的投影顯示裝置，其中該第一角度介於50度和60度之間，該第二角度介於70度和80度之間。
  17. 如申請專利範圍第11項所述的投影顯示裝置，其中，各光學元件在該第一側壁與該第二側壁之間可定義出一最大寬度，該最大寬度至少等於0.1微米，且兩個相鄰的光學元件之間的週期小於100微米。
  18. 如申請專利範圍第11項所述的投影顯示裝置，其中，各光學元件在該第一側壁與該第二側壁之間可定義出一最大寬度，該最大寬度介於1微米和20微米之間，且兩個相鄰的光學元件之間的週期介於1微米和20微米之間。
  19. 如申請專利範圍第11項所述的投影顯示裝置，其中，該複數個光學元件之間的週期沿著該光傳播方向變化，且為朝向該入光表面逐漸增大。
  20. 如申請專利範圍第11項所述的投影顯示裝置，其中，該複數個光學元件的厚度沿著該光傳播方向變化，且為朝向該入光表面逐漸變小。
  21. 如申請專利範圍第11項所述的投影顯示裝置，其中，該光調變器包含矽基液晶。
  22. 如申請專利範圍第11項所述的投影顯示裝置，其中，各光學元件的該第一側壁與該第二側壁呈平坦，且在光學元件的頂點相接。
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