TW201600892A - 積層體、紅外線吸收濾波器、帶通濾波器、積層體的製造方法、帶通濾波器形成用套組、及圖像顯示裝置 - Google Patents

Abstract

積層體具有塗佈第一組成物而形成的第一區域、及於第一區域的表面上塗佈第二組成物而形成的第二區域，第一區域與第二區域的折射率之差為0.5以上，第一區域與第二區域交替積層。

Description

積層體、紅外線吸收濾波器、帶通濾波器、積層體 的製造方法、帶通濾波器形成用套組、及圖像顯示裝置

本發明是有關於一種積層體及該積層體的製造方法。另外，本發明是有關於一種含有所述積層體的紅外線吸收濾波器及帶通濾波器、帶通濾波器形成用套組以及圖像顯示裝置。

一直以來，於光學構件中使用選擇性地透射．遮蔽特定的光的帶通濾波器。作為此種帶通濾波器的一例，正在研究形成將高折射層與低折射層交替積層而成的積層體(多層膜)，並利用該積層體內的光的干涉(參照專利文獻1~專利文獻3)。

[現有技術文獻]

[專利文獻]

[專利文獻1]日本專利特開2012-225993號公報

[專利文獻2]日本專利特開2008-015234號公報

[專利文獻3]日本專利特開2004-354705號公報

所述專利文獻中記載的積層體均是藉由蒸鍍來形成高折射層及低折射層，製作耗費時間及精力，成本高。本發明的目的在於解決該課題，且其目的在於提供一種可簡便．低成本地製造的具有高折射層及低折射層的積層體。進而，本發明的目的在於提供一種紅外線吸收濾波器、帶通濾波器、積層體的製造方法、帶通濾波器形成用套組、圖像顯示裝置。

本發明者等人根據所述狀況進行了潛心研究，結果發現，藉由在高折射區域及低折射區域的至少一者中調配樹脂，可藉由塗佈來形成所述積層體，可解決所述課題。具體而言，藉由以下手段解決了所述課題。

<1>一種積層體，具有塗佈第一組成物而形成的第一區域、及於第一區域的表面上塗佈第二組成物而形成的第二區域，且第一區域與第二區域的折射率之差為0.5以上，第一區域與第二區域交替積層。

<2>如<1>所記載的積層體，其中第一組成物所含的溶劑的溶解參數即SP值、與第二組成物所含的溶劑的溶解參數即SP值之差的絕對值為0.5(cal/cm³)^1/2以上。

<3>如<1>或<2>所記載的積層體，其中第一組成物及第二組成物中的一者中含有水，第一組成物及第二組成物中的另一者中含有有機溶劑。

<4>如<1>至<3>中任一項所記載的積層體，於自第一區域與第二區域積層的方向實施光學顯微鏡觀察時，長徑為1μm以上的缺陷的個數小於50個/mm²。

<5>如<1>至<4>中任一項所記載的積層體，其中第一區域及第二區域分別含有2區域以上， 第一區域的各區域的厚度的偏差為3%以內， 第二區域的各區域的厚度的偏差為3%以內。

<6>如<1>至<5>中任一項所記載的積層體，其中第一區域與第二區域的至少任一者中含有樹脂。

<7>如<1>至<6>中任一項所記載的積層體，其中第一區域與第二區域兩者含有樹脂。

<8>如<1>至<7>中任一項所記載的積層體，其中第一區域與第二區域合計為5區域以上。

<9>如<1>至<8>中任一項所記載的積層體，其中波長700nm的吸光度與波長800nm的吸光度之比即波長800nm的吸光度/波長700nm的吸光度為5以上。

<10>如<1>至<9>中任一項所記載的積層體，其中波長850nm的吸光度與波長950nm的吸光度之比即波長950nm的吸光度/波長850nm的吸光度為5以上。

<11>如<1>至<10>中任一項所記載的積層體，其中波長940nm的吸光度與波長1040nm的吸光度之比即波長1040nm的吸光度/波長940nm的吸光度為5以上。

<12>如<1>至<11>中任一項所記載的積層體，其中第一區域的折射率為1.5~3.0，第二區域的折射率為1.0~1.3。

<13>如<1>至<12>中任一項所記載的積層體，其中第一區域含有樹脂及金屬氧化物粒子，所述樹脂含有選自酸基、含鹼性氮原子的基團、脲基、胺基甲酸酯基、含配位性氧原子的基團、苯酚基、烷基、芳基、含伸烷氧基鏈的基團、醯亞胺基、雜環基、烷氧基羰基、烷基胺基羰基、羧酸鹽基、磺醯胺基、烷氧基矽烷基、環氧基、異氰酸酯基及羥基中的基團。

<14>如<1>至<13>中任一項所記載的積層體，其中第二區域含有矽氧烷樹脂及氟系樹脂的至少一種。

<15>如<1>至<14>中任一項所記載的積層體，其中第二區域含有念珠狀二氧化矽。

<16>一種積層體，具有第一區域及第二區域， 第一區域與第二區域交替積層， 第一區域與第二區域的折射率之差為0.5以上， 第一區域與第二區域的至少一者含有樹脂。

<17>如<16>所記載的積層體，其中於自第一區域與第二區域積層的方向實施光學顯微鏡觀察時，長徑為1μm以上的缺陷的個數小於50個/mm²。

<18>如<16>或<17>所記載的積層體，其中第一區域及第二區域分別含有兩個區域以上，第一區域的各區域的厚度的偏差為3%以內， 第二區域的各區域的厚度的偏差為3%以內。

<19>如<1>至<18>中任一項所記載的積層體，其為帶通濾波器形成用。

<20>一種紅外線吸收濾波器，具有如<1>至<19>中任一項所記載的積層體。

<21>一種帶通濾波器，具有如<1>至<19>中任一項所記載的積層體。

<22>如<21>所記載的帶通濾波器，更具有紅外線透射膜。

<23>一種製造積層體的方法，包括：塗佈含有粒子、樹脂及溶劑的第一組成物而形成第一區域的步驟；以及於第一區域的表面上塗佈含有粒子、樹脂及溶劑的第二組成物而形成第二區域的步驟，且第一區域與第二區域的折射率之差為0.5以上。

<24>一種製造積層體的方法，包括：塗佈含有粒子、樹脂及溶劑的第一組成物而形成第一區域的步驟；以及於第一區域的表面上塗佈含有粒子、樹脂及溶劑的第二組成物而形成第二區域的步驟，且第一區域與第二區域的折射率之差為0.5以上，第一組成物及第二組成物中的一者中含有水，第一組成物及 第二組成物中的另一者中含有有機溶劑。

<25>如<23>所記載的製造積層體的方法，其中積層體為如<1>至<19>中任一項所記載的積層體。

<26>一種帶通濾波器形成用套組，含有：含有粒子、樹脂及溶劑的第一組成物；及含有粒子、樹脂及溶劑的第二組成物，且由第一組成物所得的層的折射率、與由第二組成物所得的層的折射率之差為0.5以上。

<27>如<26>所記載的帶通濾波器形成用套組，其中第一組成物含有金屬氧化物粒子、樹脂及溶劑，所述樹脂含有選自酸基、含鹼性氮原子的基團、脲基、胺基甲酸酯基、含配位性氧原子的基團、苯酚基、烷基、芳基、含伸烷氧基鏈的基團、醯亞胺基、雜環基、烷氧基羰基、烷基胺基羰基、羧酸鹽基、磺醯胺基、烷氧基矽烷基、環氧基、異氰酸酯基及羥基中的基團，第二組成物含有金屬氧化物粒子、矽氧烷樹脂及氟系樹脂的至少一種、以及溶劑。

<28>一種圖像顯示裝置，具有彩色濾波器，並且於彩色濾波器的至少一部分中含有如<1>至<19>中任一項所記載的積層體。

<29>如<28>所記載的圖像顯示裝置，其為液晶顯示裝置或有機電致發光顯示裝置。

根據本發明，可提供一種可簡便．低成本地製造的具有高折射區域及低折射區域的積層體。進而，可提供一種紅外線吸收濾波器、帶通濾波器、積層體的製造方法、帶通濾波器形成用套組、圖像顯示裝置。

1‧‧‧透鏡光學系統

10‧‧‧固體攝像元件

20‧‧‧信號處理部

30‧‧‧信號切換部

40‧‧‧控制部

50‧‧‧信號蓄積部

60‧‧‧發光控制部

70‧‧‧紅外LED

80、81‧‧‧圖像輸出部

圖1為表示本發明的積層體的構成的一例的剖面概略圖。

圖2為表示本發明的積層體的構成的另一例的剖面概略圖。

圖3為表示本發明的積層體的波長與透射率的關係的例子的映像圖。

圖4為表示將本發明的積層體與其他膜組合時的波長與透射率的關係的一例的映像圖。

圖5為應用使用本發明的積層體的紅外線感測器的攝像裝置的功能區塊圖。

圖6為表示本實施例中製作的積層體1的波長與透射率的關係的圖，且為表示紅外線吸收濾波器的特性的一例。

圖7為表示本實施例中製作的紅外線透射膜A1的波長與透射率的關係的圖。

圖8為表示將本實施例中製作的積層體1與紅外線透射膜A組合所得的帶通濾波器A的波長與透射率的關係的圖。

圖9為表示本實施例中製作的積層體2的波長與透射率的關係的圖，且為表示紅外線吸收濾波器的特性的一例。

圖10為表示本實施例中製作的紅外線透射膜B的波長與透射率的關係的圖。

圖11為表示將本實施例中製作的積層體2與紅外線透射膜B組合所得的帶通濾波器B的波長與透射率的關係的圖。

圖12為表示本實施例中製作的積層體3的波長與透射率的關係的圖，為表示紅外線吸收濾波器的特性的一例。

圖13為表示本實施例中製作的紅外線透射膜C的波長與透射率的關係的圖。

圖14為表示將本實施例中製作的積層體3與紅外線透射膜C組合所得的帶通濾波器C的波長與透射率的關係的圖。

圖15為表示本實施例中製作的積層體4的波長與透射率的關係的圖。

圖16為表示本實施例中製作的積層體5的波長與透射率的關係的圖。

圖17為表示本實施例中製作的積層體6的波長與透射率的關係的圖。

以下，對本發明的積層體、紅外線吸收濾波器、帶通濾波器、積層體的製造方法、帶通濾波器形成用套組加以詳述。

以下記載的本發明的構成要素的說明有時是根據本發明的具代表性的實施態樣來進行，但本發明不限定於此種實施態樣。

於本說明書中的基團(原子團)的表述中，未記載經取代及 未經取代的表述包含不具有取代基的基團，並且亦包含具有取代基的基團。例如所謂「烷基」，不僅包含不具有取代基的烷基(未經取代的烷基)，而且亦包含具有取代基的烷基(經取代的烷基)。

本說明書中使用「~」所表示的數值範圍是指含有「~」的前後所記載的數值作為下限值及上限值的範圍。

本說明書中，所謂總固體成分，是指自組成物的總組成中去掉溶劑所得的成分的總質量。

本說明書中所謂固體成分濃度，是指25℃下的固體成分的濃度。

本說明書中，「單體」與「單體(monomer)」為相同含意。本說明書中的單量體是指有別於寡聚物及聚合物、且重量平均分子量為2,000以下的化合物。本說明書中，所謂聚合性化合物，是指具有聚合性官能基的化合物，可為單量體亦可為聚合物。所謂聚合性官能基，是指參與聚合反應的基團。

本說明書中，換算成1 cal=4.1868 J、1吋=2.54cm。

本說明書中，「步驟」一詞不僅是指獨立的步驟，即便於無法與其他步驟明確地區分的情形時，只要可達成該步驟的預期作用，則亦包括在本用語中。

本說明書中，重量平均分子量是定義為由凝膠滲透層析(Gel Permeation Chromatography，GPC)測定所得的聚苯乙烯換算值。本說明書中，重量平均分子量(Mw)例如可藉由以下方式求出：使用HLC-8220(東曹(Tosoh)(股)製造)，使用TSKgel Super AWM-H(東曹(股)製造，6.0mm內徑(Inner Diameter，ID)×15.0cm)作為管柱，且使用10mmol/L的溴化鋰N-甲基吡咯啶酮(N-Methylpyrrolidinone，NMP)溶液作為溶離液。

本說明書中，波長λ下的吸光度Aλ是由以下的式(1)來定義。

Aλ=-log(Tλ)…(1)

Aλ為波長λ下的吸光度，Tλ為波長λ下的透射率。

吸光度可使用現有公知的分光光度計來測定。吸光度的測定條件並無特別限定。於以液狀的狀態來測定吸光度的情形時，可列舉調整試樣池(cell)的光路長的方法。另外，於以膜的狀態來測定吸光度的情形時，可列舉調整膜厚的方法等。

積層體

本發明的積層體的第一實施形態具有第一區域及第二區域，所述第一區域與第二區域交替積層，所述第一區域與第二區域的折射率之差為0.5以上，所述第一區域與第二區域的至少一者含有樹脂。第一區域與第二區域較佳為兩者含有樹脂。

另外，本發明的積層體的第二實施形態具有塗佈第一組成物而形成的第一區域、及於第一區域的表面上塗佈第二組成物而形成的第二區域，所述第一區域與第二區域的折射率之差為0.5以上，第一區域與第二區域交替積層。進而，第一組成物及第二組 成物較佳為分別獨立地含有樹脂。第一組成物可例示後述高折射組成物，第二組成物可例示後述低折射組成物。

藉由設定為此種構成，可藉由塗佈來形成層，從而可簡便．低成本地製造積層體。即，以前藉由蒸鍍來製作高折射層與低折射層的積層體，但本發明中成功地實現了藉由塗佈來進行製作。

以下，對本發明的積層體加以詳細說明。

<積層體的構成>

本發明的積層體具有第一區域(以下有時稱為「高折射區域」)及第二區域(以下有時稱為「低折射區域」)，高折射區域與低折射區域交替積層。

圖1為表示本發明的積層體的構成的一例的剖面概略圖，且高折射區域(以白色表示的層)、與低折射區域(以斜線表示的層)彼此交替積層。藉由調整高折射區域及低折射區域的厚度，可調整光的光路差，控制所需波長的光的透射率。圖1中，高折射區域與低折射區域的厚度大致相同，但亦可互不相同。高折射區域、低折射區域可分別獨立地僅包含一層高折射層或低折射層，亦可包含2層以上的高折射層或低折射層。

圖2為表示本發明的積層體的構成的另一例的剖面概略圖，且表示以下構成：藉由連續地形成高折射區域(以白色表示的層)，高折射區域的厚度互不相同。藉由如此般於多個高折射區域中設置厚度不同的區域，可進一步使僅特定波長的光透射。於高折射區域包含2層以上的高折射層的情形時，構成一個高折射區 域的高折射層數的上限例如可設定為8層以下、進而6層以下。再者，藉由調整塗佈膜的厚度，亦可調整高折射區域的厚度。圖2中，成為各高折射區域的厚度互不相同的構成，同樣地亦可成為各低折射區域的厚度互不相同的構成。於該情形時，低折射區域的詳細情況與所述高折射區域的詳細情況相同。進而，關於高折射區域及低折射區域兩者，亦可設定為互不相同的構成。

本發明中所謂交替積層，是指低折射區域與高折射區域於膜面上輪流積層的構成，但未必一定要為僅低折射區域及高折射區域的積層體。例如亦可於低折射區域與高折射區域之間，具有中折射區域等具有與第一區域及第二區域不同的折射率的第三區域。

另外，本發明的積層體通常是藉由塗佈而形成，故可設置於塗佈低折射區域及高折射區域的基板上。關於基板，可例示玻璃基板、塑膠基板等。

一個積層體中的高折射區域及低折射區域的合計較佳為5區域以上，更佳為8區域以上，亦可設定為10區域以上。上限值例如為30區域以下，亦可設定為25區域以下，進而亦可設定為20區域以下。進而，於具有第三區域的情形時，較佳為該些區域合計的總數為所述範圍。

本發明中，高折射區域與低折射區域的折射率之差為0.5以上，較佳為0.55以上，亦可設定為0.6以上，亦可設定為0.65以上。高折射區域與低折射區域的折射率之差的上限值例如可設 定為0.8以下，亦可設定為0.75以下。再者，所述折射率是指波長635nm下的折射率。再者，後述高折射區域及低折射區域的折射率的數值亦是指波長635nm下的折射率。

<積層體的特性>

本發明的積層體藉由分別獨立地適當調整高折射區域與低折射區域的膜厚或各區域的個數，可提高僅特定波長範圍的透射率，或降低僅特定波長範圍的透射率。圖3中，以映像圖的形式示出本發明的積層體的波長與透射率的關係的一例。圖3的(a)所示的圖為降低特定波長範圍的透射率的映像圖，圖3的(b)所示的圖為提高特定波長範圍的透射率的映像圖。縱軸T%表示透射率，橫軸Wavelength表示波長。

具體而言，例如可形成如以下般的積層體。

(1)波長700nm的吸光度與波長800nm的吸光度之比即波長800nm的吸光度/波長700nm的吸光度為5以上，較佳為10以上。上限值並無特別限定，例如可設定為1500以下。

(2)波長850nm的吸光度與波長950nm的吸光度之比即波長950nm的吸光度/波長850nm的吸光度為5以上，較佳為10以上。上限值並無特別限定，例如可設定為1500以下。

(3)波長940nm的吸光度與波長1040nm的吸光度之比即波長1040nm的吸光度/波長940nm的吸光度為5以上，較佳為10以上。上限值並無特別限定，例如可設定為1500以下。

<第一區域(高折射區域)>

本發明的第一區域為折射率較後述第二區域高0.5以上的區域。高折射區域的折射率較佳為1.5~3.0，更佳為1.7~2.3。

第一區域較佳為含有樹脂的層。含有樹脂的層可為所謂含有高折射樹脂的層，亦可塗佈含有樹脂、粒子及溶劑的組成物(以下有時稱為「高折射組成物」)而形成。用於形成第一區域的樹脂較佳為包含來源於聚合性單量體的重複單元的聚合物鏈，或具有包含來源於聚合性單量體的重複單元的聚合物鏈作為部分結構的化合物。較佳為塗佈高折射組成物而形成的層。

以下，對高折射組成物加以詳細描述。

<<高折射組成物>>

<<<樹脂>>>

高折射組成物所含的樹脂可列舉後述可將粒子分散的樹脂。具體可例示以下的實施形態的樹脂。

(第一實施形態)

第一實施形態中，高折射組成物所含的樹脂為含有選自以下基團中的基團的樹脂：酸基、含鹼性氮原子的基團、脲基、胺基甲酸酯基、含配位性氧原子的基團、苯酚基、烷基、芳基、含伸烷氧基鏈的基團、醯亞胺基、雜環基、烷氧基羰基、烷基胺基羰基、羧酸鹽基、磺醯胺基、烷氧基矽烷基、環氧基、異氰酸酯基及羥基。

更佳為通式(1)所表示的樹脂。

通式(1)

通式(1)中，R¹表示(m+n)價的連結基，R²表示單鍵或二價連結基。A¹表示具有至少一種選自由酸基、脲基、胺基甲酸酯基、含配位性氧原子的基團、含鹼性氮原子的基團、苯酚基、烷基、芳基、含伸烷氧基鏈的基團、醯亞胺基、雜環基、烷氧基羰基、烷基胺基羰基、羧酸鹽基、磺醯胺基、烷氧基矽烷基、環氧基、異氰酸酯基及羥基所組成的組群中的基團的一價取代基。n個A¹及R²分別可相同亦可不同。m表示8以下的正數，n表示1~9，m+n滿足3~10。P¹表示聚合物鏈。m個P¹可相同亦可不同。

以下，對通式(1)的各基團加以詳細說明。

A¹表示一價取代基，該一價取代基具有至少一種酸基、含鹼性氮原子的基團、脲基、胺基甲酸酯基、含配位性氧原子的基團、烷基、含伸烷氧基鏈的基團、醯亞胺基、烷氧基羰基、烷基胺基羰基、羧酸鹽基、磺醯胺基、烷氧基矽烷基、環氧基、異氰酸酯基及羥基等般的具有對後述粒子(較佳為金屬氧化物粒子)的吸附能力的官能基、雜環結構(苯酚基、芳基等)般的可具有對後述粒子(較佳為金屬氧化物粒子)的吸附能力的結構。

再者，以下將該具有對粒子(較佳為金屬氧化物粒子)的吸 附能力的部位(所述官能基及結構)適當統稱為「吸附部位」來加以說明。

吸附部位只要於一個A¹中含有至少一種即可，亦可含有兩種以上。

另外，本發明中，「具有至少一種吸附部位的一價取代基」為上文所述的吸附部位與由1個~200個碳原子、0個~20個氮原子、0個~100個氧原子、1個~400個氫原子及0個~40個硫原子所形成的連結基鍵結而成的一價取代基。再者，於吸附部位自身可構成一價取代基的情形時，吸附部位本身亦可為A¹所表示的一價取代基。

首先，以下對構成A¹的吸附部位加以說明。

「酸基」例如可列舉羧酸基、磺酸基、單硫酸酯基、磷酸基、單磷酸酯基、硼酸基作為較佳例，更佳為羧酸基、磺酸基、單硫酸酯基、磷酸基、單磷酸酯基，進而佳為羧酸基、磺酸基、磷酸基，尤佳為羧酸基。

酸值較佳為20mgKOH/g~300mgKOH/g，更佳為50mgKOH/g~250mgKOH/g，進而佳為50mgKOH/g~210mgKOH/g。

「脲基」例如可列舉-NR¹⁵CONR¹⁶R¹⁷(此處，R¹⁵、R¹⁶及R¹⁷分別獨立地表示氫原子、碳數1~20的烷基、碳數6以上的芳基或碳數7以上的芳烷基)作為較佳例，更佳為-NR¹⁵CONHR¹⁷(此處，R¹⁵及R¹⁷分別獨立地表示氫原子或碳數1~10的烷基、 碳數6以上的芳基、碳數7以上的芳烷基)，尤佳為-NHCONHR¹⁷(此處，R¹⁷表示氫原子或碳數1~10的烷基、碳數6以上的芳基、碳數7以上的芳烷基)。

「胺基甲酸酯基」例如可列舉-NHCOOR¹⁸、-NR¹⁹COOR²⁰、-OCONHR²¹、-OCONR²²R²³(此處，R¹⁸、R¹⁹、R²⁰、R²¹、R²²及R²³分別獨立地表示碳數1~20的烷基、碳數6以上的芳基、碳數7以上的芳烷基)等作為較佳例，更佳為-NHCOOR¹⁸、-OCONHR²¹(此處，R¹⁸、R²¹分別獨立地表示碳數1~20的烷基、碳數6以上的芳基、碳數7以上的芳烷基)等，尤佳為-NHCOOR¹⁸、-OCONHR²¹(此處，R¹⁸、R²¹分別獨立地表示碳數1~10的烷基、碳數6以上的芳基、碳數7以上的芳烷基)等。

「含配位性氧原子的基團」例如可列舉乙醯丙酮基、冠醚基等。

另外，「含鹼性氮原子的基團」例如可列舉胺基(-NH₂)、取代亞胺基(例如-NHR⁸、-NR⁹R¹⁰，此處，R⁸、R⁹及R¹⁰分別獨立地表示碳數1~20的烷基、碳數6以上的芳基、碳數7以上的芳烷基)、下述式(a1)所表示的胍基、下述式(a2)所表示的脒基等作為較佳例。

式(a1)中，R¹¹及R¹²分別獨立地表示碳數1~20的烷基、碳數6以上的芳基、碳數7以上的芳烷基。

式(a2)中，R¹³及R¹⁴分別獨立地表示碳數1~20的烷基、碳數6以上的芳基、碳數7以上的芳烷基。

這些基團中，更佳為胺基(-NH₂)、取代亞胺基(-NHR⁸、-NR⁹R¹⁰，此處，R⁸、R⁹及R¹⁰分別獨立地表示碳數1~10的烷基、苯基、苄基)、式(a1)所表示的胍基[式(a1)中，R¹¹及R¹²分別獨立地表示碳數1~10的烷基、苯基、苄基]、式(a2)所表示的脒基[式(a2)中，R¹³及R¹⁴分別獨立地表示碳數1~10的烷基、苯基、苄基]等。

尤其可較佳地使用胺基(-NH₂)、取代亞胺基(-NHR⁸、-NR⁹R¹⁰，此處，R⁸、R⁹及R¹⁰分別獨立地表示碳數1~5的烷基、苯基、苄基)、式(a1)所表示的胍基[式(a1)中，R¹¹及R¹²分別獨立地表示碳數1~5的烷基、苯基、苄基]、式(a2)所表示的脒基[式(a2)中，R¹³及R¹⁴分別獨立地表示碳數1~5的烷基、苯基、苄基]等。

「烷基」可為直鏈狀亦可為分支狀，較佳為碳數1~40的烷基，更佳為碳數4~30的烷基，進而佳為碳數10~18的烷基。

「芳基」較佳為碳數6~10的芳基。

「含伸烷氧基鏈的基團」較佳為末端形成烷氧基或羥基，更佳為形成碳數1~20的烷氧基。另外，伸烷氧基鏈只要具有至少 一個伸烷氧基，則並無特別限制，較佳為包含碳數1~6的伸烷氧基。伸烷氧基例如可列舉-CH₂CH₂O-、-CH₂CH₂CH₂O-等。

「烷氧基羰基」中的烷基部分較佳為碳數1~20的烷基，例如可列舉甲基、乙基等。

「烷基胺基羰基」中的烷基部分較佳為碳數1~20的烷基，例如可列舉甲基、乙基、丙基等。

「羧酸鹽基」可列舉包含羧酸的銨鹽的基團等。

關於「磺醯胺基」，鍵結於氮原子的氫原子亦可經烷基(甲基等)、醯基(乙醯基、三氟乙醯基等)等所取代。

「雜環基」例如可列舉以下基團作為較佳例：噻吩基，呋喃基，氧雜蒽基，吡咯基，吡咯啉基，吡咯啶基，二氧雜環戊烷基，吡唑基，吡唑啉基，吡唑啶基，咪唑基，噁唑基，噻唑基，噁二唑基，***基，噻二唑基，吡喃基、吡啶基、哌啶基、二噁烷基、嗎啉基、噠嗪基、嘧啶基、哌嗪基，三嗪基，三噻烷基，異吲哚啉基，異吲哚啉酮基，苯并咪唑酮基，苯并噻唑基，琥珀醯亞胺基、鄰苯二甲醯亞胺基、萘二甲醯亞胺基等醯亞胺基，乙內醯脲基，吲哚基，喹啉基，咔唑基，吖啶基，吖啶酮基，蒽醌基。

「醯亞胺基」可列舉：包含琥珀醯亞胺、鄰苯二甲醯亞胺、萘二甲醯亞胺等的基團。

再者，「雜環基」亦可更具有取代基，取代基例如可列舉：甲基、乙基等碳數1~20的烷基，苯基、萘基等碳數6~16 的芳基，羥基，胺基，羧基，磺醯胺基，N-磺醯基醯胺基、乙醯氧基等碳數1~6的醯氧基，甲氧基、乙氧基等碳數1~20的烷氧基，氯原子、溴原子等鹵素原子，甲氧基羰基、乙氧基羰基、環己氧基羰基等碳數2~7的烷氧基羰基，氰基，碳酸第三丁酯基等碳酸酯基等。此處，該些取代基亦可經由下述結構單元或將所述結構單元組合而構成的連結基而與雜環基鍵結。

「烷氧基矽烷基」可為單烷氧基矽烷基、二烷氧基矽烷基、三烷氧基矽烷基的任一種，較佳為三烷氧基矽烷基，例如可列舉三甲氧基矽烷基、三乙氧基矽烷基等。

「環氧基」可列舉經取代或未經取代的氧雜環丙烷基(環氧乙烷基)。環氧基例如可由下述通式(a3)表示。

[化4]

所述通式(a3)中，R^EP1~R^EP3分別獨立地表示氫原子、鹵素原子、烷基或環烷基。另外，R^EP1與R^EP2、R^EP2與R^EP3亦可相互鍵結而形成環結構。*表示連結鍵。

與吸附部位鍵結的連結基較佳為單鍵或由1個~100個碳原子、0個~10個氮原子、0個~50個氧原子、1個~200個氫原子及0個~20個硫原子所形成的連結基，該有機連結基可未經取代亦可進一步具有取代基。

該連結基的具體例可列舉下述結構單元或將所述結構單元組合而構成的基團。

於連結基進一步具有取代基的情形時，所述取代基例如可列舉：甲基、乙基等碳數1~20的烷基，苯基、萘基等碳數6~16的芳基，羥基，胺基，羧基，磺醯胺基，N-磺醯基醯胺基，乙醯氧基等碳數1~6的醯氧基，甲氧基、乙氧基等碳數1~6的烷氧基，氯原子、溴原子等鹵素原子，甲氧基羰基、乙氧基羰基、環己氧基羰基等碳數2~7的烷氧基羰基，氰基，碳酸第三丁酯基等碳酸酯基等。

所述中，A¹較佳為具有至少一種選自由酸基、脲基、胺基甲酸酯基、磺醯胺基、醯亞胺基及含配位性氧原子的基團所組成的組群中的基團的一價取代基。

尤其就藉由增強與粒子的相互作用來提高折射率、且降低組成物的黏度的觀點而言，A¹更佳為具有至少一種pKa為5~14的官能基的一價取代基。

此處所謂「pKa」，是指化學便覽(II)(修訂4版，1993年，日本化學會編，丸善股份有限公司)中記載的定義的酸解離常數。

所述pKa為5~14的官能基可列舉：脲基、胺基甲酸酯基、磺醯胺基、醯亞胺基或含配位性氧原子的基團。

具體而言，例如可列舉：脲基(pKa為12~14左右)、胺基甲酸酯基(pKa為11~13左右)、作為配位性氧原子的-COCH₂CO-(pKa為8~10左右)、磺醯胺基(pKa為9~11左右)等。

A¹較佳為以下述通式(4)所表示的一價取代基來表示。

通式(4)中，B¹表示吸附部位，R²⁴表示單鍵或(a+1)價的連結基。a表示1~10的整數，於通式(4)中存在a個的B¹可相同亦可不同。

B¹所表示的吸附部位與構成所述通式(1)的A¹的吸附部位相同，較佳例亦相同。

其中，較佳為酸基、脲基、胺基甲酸酯基、磺醯胺基、醯亞胺基或含配位性氧原子的基團，更佳為pKa為5~14的官能基，就此觀點而言，更佳為脲基、胺基甲酸酯基、磺醯胺基、醯亞胺基或含配位性氧原子的基團。

R²⁴表示單鍵或(a+1)價的連結基，a表示1~10。較佳為a為1~7，更佳為a為1~5，尤佳為a為1~3。

(a+1)價的連結基包含由1個~100個碳原子、0個~10個氮原子、0個~50個氧原子、1個~200個氫原子及0個~20個硫原子所形成的基團，可未經取代亦可進一步具有取代基。

(a+1)價的連結基可列舉下述結構單元或將所述結構單元組合而構成的基團(亦可形成環結構)作為具體例。

[化7]

R²⁴較佳為單鍵或由1個~50個碳原子、0個~8個氮原子、0個~25個氧原子、1個~100個氫原子及0個~10個硫原子所形成的(a+1)價的連結基，更佳為單鍵或由1個~30個碳原子、0個~6個氮原子、0個~15個氧原子、1個~50個氫原子及0個~7個硫原子所形成的(a+1)價的連結基，尤佳為單鍵或由1個~10個碳原子、0個~5個氮原子、0個~10個氧原子、1個~30個氫原子及0個~5個硫原子所形成的(a+1)價的連結基。

所述中，於(a+1)價的連結基具有取代基的情形時，所述取代基例如可列舉：甲基、乙基等碳數1~20的烷基，苯基、萘基等碳數6~16的芳基，羥基，胺基，羧基，磺醯胺基，N-磺醯基醯胺基，乙醯氧基等碳數1~6的醯氧基，甲氧基、乙氧基等碳數1~6的烷氧基，氯原子、溴原子等鹵素原子，甲氧基羰基、乙氧基羰基、環己氧基羰基等碳數2~7的烷氧基羰基，氰基，碳 酸第三丁酯基等碳酸酯基等。

通式(1)中，R²表示單鍵或二價連結基。n個R²可相同亦可不同。

二價連結基包含由1個~100個碳原子、0個~10個氮原子、0個~50個氧原子、1個~200個氫原子及0個~20個硫原子所形成的基團，可未經取代亦可進一步具有取代基。

二價連結基可列舉下述結構單元或將所述結構單元組合而構成的基團作為具體例。

R²較佳為單鍵或由1個~50個碳原子、0個~8個氮原子、0個~25個氧原子、1個~100個氫原子及0個~10個硫原子所形成的二價連結基，更佳為單鍵或由1個~30個碳原子、0個~6個氮原子、0個~15個氧原子、1個~50個氫原子及0個~7個硫原子所形成的二價連結基，尤佳為單鍵或由1個~10個碳原子、0個~5個氮原子、0個~10個氧原子、1個~30個氫原子及0個~5個硫原子所形成的二價連結基。

所述中，於二價連結基具有取代基的情形時，所述取代基例如可列舉：甲基、乙基等碳數1~20的烷基，苯基、萘基等碳數6~16的芳基，羥基，胺基，羧基，磺醯胺基，N-磺醯基醯胺基，乙醯氧基等碳數1~6的醯氧基，甲氧基、乙氧基等碳數1~6的烷氧基，氯原子、溴原子等鹵素原子，甲氧基羰基、乙氧基羰基、環己氧基羰基等碳數2~7的烷氧基羰基，氰基，碳酸第三丁酯基等碳酸酯基等。

通式(1)中，R¹表示(m+n)價的連結基。m+n表示3~10。

R¹所表示的(m+n)價的連結基包含由1個~100個碳原子、0個~10個氮原子、0個~50個氧原子、1個~200個氫原子及0個~20個硫原子所形成的基團，可未經取代亦可進一步具有取代基。

(m+n)價的連結基可列舉下述結構單元或將所述結構單元組合而構成的基團(亦可形成環結構)作為具體例。

[化9]

(m+n)價的連結基較佳為由1個~60個碳原子、0個~10個氮原子、0個~40個氧原子、1個~120個氫原子及0個~10個硫原子所形成的基團，更佳為由1個~50個碳原子、0個~10個氮原子、0個~30個氧原子、1個~100個氫原子及0個~7個硫原子所形成的基團，尤佳為由1個~40個碳原子、0個~8個氮原子、0個~20個氧原子、1個~80個氫原子及0個~5個硫原子所形成的基團。

所述中，於(m+n)價的連結基具有取代基的情形時，所述取代基例如可列舉：甲基、乙基等碳數1~20的烷基，苯基、萘基等碳數6~16的芳基，羥基，胺基，羧基，磺醯胺基，N-磺醯基醯胺基，乙醯氧基等碳數1~6的醯氧基，甲氧基、乙氧基等碳數1~6的烷氧基，氯原子、溴原子等鹵素原子，甲氧基羰基、乙氧基羰基、環己氧基羰基等碳數2~7的烷氧基羰基，氰基，碳酸第三丁酯基等碳酸酯基等。

以下示出R¹所表示的(m+n)價的連結基的具體例[具 體例(1)~具體例(17)]。其中，本發明中不限制於該些具體例。

[化11]

所述具體例中，就原料的獲取性、合成的容易性、於各種溶劑中的溶解性的觀點而言，較佳的(m+n)價的連結基為(1)、(2)、(10)、(11)、(16)、(17)。

通式(1)中，m表示8以下的正數。m較佳為0.5~5，更佳為1~4，尤佳為1~3。

另外，通式(1)中，n表示1~9。n較佳為2~8，更佳為2~7，尤佳為3~6。

通式(1)中，P¹表示聚合物鏈，可自公知的聚合物等中根據目的等而選擇。m個P¹可相同亦可不同。

聚合物中，構成聚合物鏈時，較佳為選自由乙烯系單體的聚合物或共聚物、酯系聚合物、醚系聚合物、胺基甲酸酯系聚合物、醯胺系聚合物、環氧系聚合物、矽酮系聚合物及該些聚合物的改 質物或共聚物[例如包含聚醚/聚胺基甲酸酯共聚物、聚醚/乙烯系單體的聚合物的共聚物等(可為無規共聚物、嵌段共聚物、接枝共聚物的任一種)]所組成的組群中的至少一種，更佳為選自由乙烯系單體的聚合物或共聚物、酯系聚合物、醚系聚合物、胺基甲酸酯系聚合物及該些聚合物的改質物或共聚物所組成的組群中的至少一種，尤佳為乙烯系單體的聚合物或共聚物。

聚合物鏈P¹較佳為含有至少一種重複單元。

就發揮立體排斥力而提高分散性、達成高折射率且低黏度的觀點而言，聚合物鏈P¹中的至少一種重複單元的重複數k較佳為3以上，更佳為5以上。

另外，就達成組成物的低黏度、進而使粒子密集地存在於硬化膜(透明膜)中、達成高折射率的觀點而言，至少一種重複單元的重複數k較佳為50以下，更佳為40以下，進而佳為30以下。

再者，聚合物較佳為可溶於有機溶劑中。

乙烯系單體並無特別限制，例如較佳為(甲基)丙烯酸酯類、丁烯酸酯類、乙烯酯類、馬來酸二酯類、富馬酸二酯類、衣康酸二酯類、(甲基)丙烯醯胺類、苯乙烯類、乙烯醚類、乙烯酮類、烯烴類、馬來醯亞胺類、(甲基)丙烯腈、具有酸基的乙烯系單體等。

該些乙烯系單體的較佳例可列舉：日本專利特開2007-277514號公報的段落0089~段落0094、段落0096及段落0097(對應的美國專利申請公開第2010/233595號說明書中段落0105~段落0117及段落0119~段落0120)中記載的乙烯系單體，將該些內容 併入至本說明書中。

除了所述化合物以外，例如亦可使用具有胺基甲酸酯基、脲基、磺醯胺基、苯酚基、醯亞胺基等官能基的乙烯系單體。此種具有胺基甲酸酯基或脲基的單量體例如可利用異氰酸酯基與羥基或胺基的加成反應而適當合成。具體而言，可藉由含異氰酸酯基的單體與含有一個羥基的化合物或含有一個一級胺基或二級胺基的化合物的加成反應、或含羥基的單體或含有一級胺基或二級胺基的單體與單異氰酸酯的加成反應等來適當合成。

通式(1)所表示的樹脂中，較佳為下述通式(2)所表示的樹脂。

通式(2)中，A²與通式(1)中的A¹為相同含意，較佳態樣亦相同。n個A²可相同亦可不同。

通式(2)中，R⁴、R⁵分別獨立地表示單鍵或二價連結基。n個R⁴可相同亦可不同。另外，m個R⁵可相同亦可不同。

R⁴、R⁵所表示的二價連結基可使用與作為通式(1)的R²所表示的二價連結基而列舉的基團相同的基團，較佳態樣亦相同。

通式(2)中，R³表示(m+n)價的連結基。m+n表示3 ~10。

R³所表示的(m+n)價的連結基包含由1個~60個碳原子、0個~10個氮原子、0個~50個氧原子、1個~100個氫原子及0個~20個硫原子所形成的基團，可未經取代亦可進一步具有取代基。

R³所表示的(m+n)價的連結基具體可使用與作為通式(1)的R¹所表示的(m+n)價的連結基而列舉的基團相同的基團，較佳態樣亦相同。

通式(2)中，m表示8以下的正數。m較佳為0.5~5，更佳為1~4，尤佳為1~3。

另外，通式(2)中，n表示1~9。n較佳為2~8，更佳為2~7，尤佳為3~6。

另外，通式(2)中的P²表示聚合物鏈，可自公知的聚合物等中根據目的等而選擇。m個P²可相同亦可不同。關於聚合物的較佳態樣，與通式(1)中的P¹相同。

通式(2)所表示的高分子化合物中，最佳為全部滿足以下所示的R³、R⁴、R⁵、P²、m及n。

R³：所述(m+n)價的連結基的具體例(1)、具體例(2)、具體例(10)、具體例(11)、具體例(16)或具體例(17)

R⁴：單鍵、或下述結構單元或將所述結構單元組合而構成的由「1個~10個碳原子、0個~5個氮原子、0個~10個氧原子、1個~30個氫原子及0個~5個硫原子」所形成的二價連結基(可 具有取代基，所述取代基例如可列舉：甲基、乙基等碳數1~20的烷基，苯基、萘基等碳數6~16的芳基，羥基，胺基，羧基，磺醯胺基，N-磺醯基醯胺基，乙醯氧基等碳數1~6的醯氧基，甲氧基、乙氧基等碳數1~6的烷氧基，氯原子、溴原子等鹵素原子，甲氧基羰基、乙氧基羰基、環己氧基羰基等碳數2~7的烷氧基羰基，氰基，碳酸第三丁酯基等碳酸酯基等)

R⁵：單鍵、伸乙基、伸丙基、下述基團(a)或下述基團(b)

再者，下述基團中，R¹²表示氫原子或甲基，l表示1或2。

[化14]

P²：乙烯系單體的聚合物或共聚物、酯系聚合物、醚系聚合物、胺基甲酸酯系聚合物及該些聚合物的改質物

m：1~3

n：3~6

(第二實施形態)

第二實施形態中，高折射組成物所含的樹脂為含有接枝共聚物的樹脂。

接枝共聚物較佳為每1條接枝鏈的除了氫原子以外的原子數為40~10000，更佳為100~500，進而佳為150~260。

接枝鏈的聚合物結構可使用聚(甲基)丙烯酸結構、聚酯結構、聚胺基甲酸酯結構、聚脲基結構、聚醯胺結構、聚醚結構等。

含有接枝共聚物的樹脂例如可參照日本專利特開2014-063125號公報的段落0080~段落0126的記載，將其內容併入至本說明書中。

(第三實施形態)

第三實施形態中，高折射組成物所含的樹脂為於主鏈及側鏈 的至少一者中含有氮原子的寡聚亞胺系樹脂。寡聚亞胺系樹脂較佳為具有含有部分結構X的重複單元、及含有原子數為40~10,000的側鏈Y的側鏈，且於主鏈及側鏈的至少一者中具有鹼性氮原子的樹脂，所述部分結構X具有pKa為14以下的官能基。

寡聚亞胺系樹脂例如可參照日本專利特開2014-063125號公報的段落0225~段落0267的記載，將其內容併入至本說明書中。

(第四實施形態)

於第四實施形態中，高折射組成物所含的樹脂為藉由以下方式所得的矽氧烷樹脂：將包含通式(2)~通式(4)的任一個所表示的矽烷化合物的矽烷化合物水解，並使該水解物進行縮合反應。

R⁰ _2-nR¹ _nSi(OR⁹)₂ 通式(2)

通式(2)中，R⁰表示氫、烷基、烯基、苯基。R¹表示一價縮合多環式芳香族基。R⁹表示氫、甲基、乙基、丙基或丁基，可相同亦可不同。n為1或2。於n為2的情形時，多個R¹可相同亦可不同。

R²Si(OR¹⁰)₃ 通式(3)

通式(3)中，R²表示一價縮合多環式芳香族基。R¹⁰表示氫、 甲基、乙基、丙基或丁基，可相同亦可不同。

(R¹¹O)_mR⁴ _3-mSi-R³-Si(OR¹²)_lR⁵ _3-l 通式(4)

通式(4)中，R³表示二價縮合多環式芳香族基。R⁴及R⁵分別獨立地表示氫、烷基、烯基、芳基，可分別相同亦可不同。R¹¹及R¹²分別獨立地表示氫、甲基、乙基、丙基或丁基，可分別相同亦可不同。m及l分別獨立地為1~3的整數。

所述矽氧烷樹脂例如可參照日本專利特開2010-007057號公報的段落0017~段落0044的記載，將其內容併入至本說明書中。

高折射組成物亦較佳為含有環氧樹脂。

關於環氧樹脂的市售品，例如雙酚A型環氧樹脂為JER827、JER828、JER834、JER1001、JER1002、JER1003、JER1055、JER1007、JER1009、JER1010(以上為日本環氧樹脂(Japan Epoxy Resin)(股)製造)，艾比克隆(EPICLON)860、艾比克隆(EPICLON)1050、艾比克隆(EPICLON)1051、艾比克隆(EPICLON)1055(以上為迪愛生(DIC)(股)製造)等；雙酚F型環氧樹脂為JER806、JER807、JER4004、JER4005、JER4007、JER4010(以上為日本環氧樹脂(Japan Epoxy Resin)(股)製造)，艾比克隆(EPICLON)830、艾比克隆(EPICLON)835(以上為迪愛生(DIC)(股)製造)，LCE-21、RE-602S(以上為日本化藥(股)製造)等；苯酚酚醛清漆型環氧樹脂為JER152、JER154、JER157S70、 JER157S65(以上為日本環氧樹脂(Japan Epoxy Resin)(股)製造)，艾比克隆(EPICLON)N-740、艾比克隆(EPICLON)N-770、艾比克隆(EPICLON)N-775(以上為迪愛生(DIC)(股)製造)等；甲酚酚醛清漆型環氧樹脂為艾比克隆(EPICLON)N-660、艾比克隆(EPICLON)N-665、艾比克隆(EPICLON)N-670、艾比克隆(EPICLON)N-673、艾比克隆(EPICLON)N-680、艾比克隆(EPICLON)N-690、艾比克隆(EPICLON)N-695(以上為迪愛生(DIC)(股)製造)，EOCN-1020(以上為日本化藥(股)製造)等；脂肪族環氧樹脂為艾迪科樹脂(ADEKA RESIN)EP-4080S、艾迪科樹脂(ADEKA RESIN)EP-4085S、艾迪科樹脂(ADEKA RESIN)EP-4088S(以上為艾迪科(ADEKA)(股)製造)，賽羅西德(Celloxide)2021P、賽羅西德(Celloxide)2081、賽羅西德(Celloxide)2083、賽羅西德(Celloxide)2085、EHPE3150、艾波利得(EPOLEAD)PB 3600、艾波利得(EPOLEAD)PB 4700(以上為大賽璐(Daicel)化學工業(股)製造)，代那考爾(Denacol)EX-211L、代那考爾(Denacol)EX-212L、代那考爾(Denacol)EX-214L、代那考爾(Denacol)EX-216L、代那考爾(Denacol)EX-321L、代那考爾(Denacol)EX-850L(以上為長瀨化成(Nagace Chemtex)(股)製造)等。除此以外，亦可列舉：艾迪科樹脂(ADEKA RESIN)EP-4000S、艾迪科樹脂(ADEKA RESIN)EP-4003S、艾迪科樹脂(ADEKA RESIN)EP-4010S、艾迪科樹脂(ADEKA RESIN)EP-4011S(以上為艾迪科(ADEKA) (股)製造)，NC-2000、NC-3000、NC-7300、XD-1000、EPPN-501、EPPN-502(以上為艾迪科(ADEKA)(股)製造)，JER1031S(日本環氧樹脂(Japan Epoxy Resin)(股)製造)等。

樹脂的分子量以重量平均分子量計較佳為2,000~200,000，更佳為2,000~15,000，進而佳為2,500~10,000。

高折射組成物中的樹脂的量較佳為0.5質量%以上，更佳為1質量%以上，進而佳為2質量%以上。另外，上限較佳為30質量%以下，更佳為20質量%以下，進而佳為15質量%以下。

另外，高折射組成物中的樹脂的固體成分濃度(樹脂相對於總固體成分之濃度(質量%))較佳為5質量%以上，更佳為8質量%以上，進而佳為10質量%以上。另外，上限較佳為40質量%以下，更佳為35質量%以下，進而佳為30質量%以下。

樹脂可僅含有一種，亦可含有兩種以上。於含有兩種以上的情形時，較佳為合計量成為所述範圍。

<<<粒子>>>

高折射組成物所含的粒子較佳為包含金屬氧化物粒子。

金屬氧化物粒子較佳為折射率高且無色、白色或透明的無機粒子，可列舉：鈦(Ti)、鋯(Zr)、鋁(Al)、矽(Si)、鋅(Zn)或鎂(Mg)的氧化物粒子，較佳為二氧化鈦(TiO₂)粒子、二氧化鋯(ZrO₂)粒子，更佳為二氧化鈦粒子。

金屬氧化物粒子較佳為一次粒徑的下限為1nm以上，且上限較佳為100nm以下，更佳為80nm以下，進而佳為50nm以下。 亦可使用平均粒徑作為一次粒徑的指標。金屬氧化物粒子的平均粒徑是指以下的值：利用丙二醇單甲醚乙酸酯將含金屬氧化物粒子的混合液或分散液稀釋至80倍，使用動態光散射法對所得的稀釋液進行測定，由此所得的值。該測定中，採用使用日機裝股份有限公司製造的麥奇克(Microtrac)UPA-EX150進行測定所得的數量平均粒徑。

金屬氧化物粒子例如可參照日本專利特開2014-062221號公報的段落0023~段落0027的記載，將其內容併入至本說明書中。

另外，金屬氧化物粒子亦可使用：日揮觸媒化成公司製造的HPW-10R、HPW-18R、HPW-18NR、HPW-25R、HPW-30NRD等市售品。

另外，除了金屬氧化物粒子以外，亦可使用市售的有機粒子或高折射組成物。例如可列舉日產化學工業(股)製造的海帕泰克(HYPERTECH)系列、東麗(Toray)公司製造的CS-series、VF&PV-series等作為市售品。

高折射組成物中的粒子的量較佳為10質量%以上，更佳為15質量%以上，進而佳為20質量%以上。上限並無特別限制，較佳為40質量%以下，更佳為30質量%以下。

另外，高折射組成物中的粒子的固體成分濃度(粒子相對於總固體成分之濃度(質量%))較佳為60質量%以上，更佳為70質量%以上。上限並無特別限制，較佳為99質量%以下，更佳為95質量%以下，進而佳為90質量%以下。

粒子可僅含有一種，亦可含有兩種以上。於含有兩種以上的情形時，較佳為合計量成為所述範圍。

<<<溶劑>>>

高折射組成物所含的溶劑可列舉水或有機溶劑，較佳為有機溶劑。

有機溶劑可較佳地列舉：作為酯類的例如乙酸乙酯、乙酸正丁酯、乙酸異丁酯、甲酸戊酯、乙酸異戊酯、丙酸丁酯、丁酸異丙酯、丁酸乙酯、丁酸丁酯、乳酸甲酯、乳酸乙酯、氧基乙酸烷基酯(例如氧基乙酸甲酯、氧基乙酸乙酯、氧基乙酸丁酯(例如甲氧基乙酸甲酯、甲氧基乙酸乙酯、甲氧基乙酸丁酯、乙氧基乙酸甲酯、乙氧基乙酸乙酯等))、3-氧基丙酸烷基酯類(例如3-氧基丙酸甲酯、3-氧基丙酸乙酯等(例如3-甲氧基丙酸甲酯、3-甲氧基丙酸乙酯、3-乙氧基丙酸甲酯、3-乙氧基丙酸乙酯等))、2-氧基丙酸烷基酯類(例如2-氧基丙酸甲酯、2-氧基丙酸乙酯、2-氧基丙酸丙酯等(例如2-甲氧基丙酸甲酯、2-甲氧基丙酸乙酯、2-甲氧基丙酸丙酯、2-乙氧基丙酸甲酯、2-乙氧基丙酸乙酯))、2-氧基-2-甲基丙酸甲酯及2-氧基-2-甲基丙酸乙酯(例如2-甲氧基-2-甲基丙酸甲酯、2-乙氧基-2-甲基丙酸乙酯等)、丙酮酸甲酯、丙酮酸乙酯、丙酮酸丙酯、乙醯乙酸甲酯、乙醯乙酸乙酯、2-氧代丁酸甲酯、2-氧代丁酸乙酯等；以及作為醚類的例如二乙二醇二甲醚、二丙二醇二甲醚、四氫呋喃、乙二醇單甲醚、乙二醇單***、甲基溶纖劑乙酸酯、乙基溶纖劑乙酸酯、二乙二醇單甲醚、二乙二醇單 ***、二乙二醇單丁醚、丙二醇單甲醚(PGME)、丙二醇單正丁醚、丙二醇單第三丁醚、丙二醇單甲醚乙酸酯(PGMEA)、丙二醇單***乙酸酯、丙二醇單丙醚乙酸酯等；以及作為酮類的例如、甲基乙基酮、環己酮、2-庚酮、3-庚酮等；以及作為芳香族烴類的例如甲苯、二甲苯等。

尤佳為3-乙氧基丙酸甲酯、3-乙氧基丙酸乙酯、乙基溶纖劑乙酸酯、乳酸乙酯、二乙二醇二甲醚、乙酸丁酯、3-甲氧基丙酸甲酯、2-庚酮、環己酮、乙基卡必醇乙酸酯、丁基卡必醇乙酸酯、丙二醇甲醚、二丙二醇二甲醚、丙二醇單正丁醚、丙二醇單第三丁醚及丙二醇甲醚乙酸酯。溶劑較佳為過氧化物的含有率為0.8mmol/L以下，較佳為使用實質上不含過氧化物的溶劑。

其他高折射組成物所含的溶劑例如可參考日本專利特開2014-063125號公報的段落0065~段落0067的記載，將其內容併入至本說明書中。

於組成物的總量中，高折射組成物中的溶劑的量較佳為50質量%以上，更佳為60質量%以上。另外，於組成物的總量中，上限較佳為99.9質量%以下，更佳為95質量%以下，進而佳為90質量%以下。

溶劑可僅含有一種，亦可含有兩種以上。於含有兩種以上的情形時，合計量成為所述範圍。

<<<界面活性劑>>>

就進一步提高塗佈性的觀點而言，高折射組成物亦可含有各 種界面活性劑。界面活性劑可使用：氟系界面活性劑、非離子系界面活性劑、陽離子系界面活性劑、陰離子系界面活性劑、矽酮系界面活性劑等各種界面活性劑。較佳為氟系界面活性劑。於使用包含含有氟系界面活性劑的組成物的塗佈液來進行膜形成的情形時，塗佈面與塗佈液的界面張力降低，對塗佈面的濡濕性得到改善，對塗佈面的塗佈性提高。因此，可更佳地形成厚度不均小、具有均勻膜厚的膜。

氟系界面活性劑較佳為氟含有率為3質量%~40質量%，更佳為5質量%~30質量%，進而佳為7質量%~25質量%。氟含有率為該範圍內的氟系界面活性劑於塗佈膜的厚度的均勻性或省液性的方面有效，於組成物中的溶解性亦良好。

氟系界面活性劑例如可列舉：美佳法(Megafac)F-171、美佳法(Megafac)F-172、美佳法(Megafac)F-173、美佳法(Megafac)F-176、美佳法(Megafac)F-177、美佳法(Megafac)F-141、美佳法(Megafac)F-142、美佳法(Megafac)F-143、美佳法(Megafac)F-144、美佳法(Megafac)R-30、美佳法(Megafac)F-437、美佳法(Megafac)F-475、美佳法(Megafac)F-479、美佳法(Megafac)F-482、美佳法(Megafac)F-554、美佳法(Megafac)F-780、美佳法(Megafac)F-781(以上為迪愛生(DIC)(股)製造)，弗拉德(Fluorad)FC430、弗拉德(Fluorad)FC431、弗拉德(Fluorad)FC171(以上為住友3M(股)製造)，沙福隆(Surflon)S-382、沙福隆(Surflon)SC-101、沙福隆(Surflon)SC-103、沙福隆(Surflon) SC-104、沙福隆(Surflon)SC-105、沙福隆(Surflon)SC1068、沙福隆(Surflon)SC-381、沙福隆(Surflon)SC-383、沙福隆(Surflon)S393、沙福隆(Surflon)KH-40(以上為旭硝子(股)製造)，PF636、PF656、PF6320、PF6520、PF7002(歐諾瓦(OMNOVA)公司製造)等。

另外，下述化合物亦可作為本發明中使用的氟系界面活性劑而例示。

所述重量平均分子量例如為14,000。

亦可使用嵌段聚合物作為氟系界面活性劑，具體例例如可列舉日本專利特開2011-89090號公報中記載的化合物。

非離子系界面活性劑具體可列舉：甘油、三羥甲基丙烷、三羥甲基乙烷以及該等的乙氧基化物及丙氧基化物(例如丙氧基化甘油、乙氧基化甘油等)、聚氧乙烯月桂基醚、聚氧乙烯硬脂基醚、聚氧乙烯油烯基醚、聚氧乙烯辛基苯基醚、聚氧乙烯壬 基苯基醚、聚乙二醇二月桂酸酯、聚乙二醇二硬脂酸酯、山梨醇酐脂肪酸酯(巴斯夫(BASF)公司製造的普羅尼克(Pluronic)L10、普羅尼克(Pluronic)L31、普羅尼克(Pluronic)L61、普羅尼克(Pluronic)L62、普羅尼克(Pluronic)10R5、普羅尼克(Pluronic)17R2、普羅尼克(Pluronic)25R2、特羅尼克(Tetranic)304、特羅尼克(Tetranic)701、特羅尼克(Tetranic)704、特羅尼克(Tetranic)901、特羅尼克(Tetranic)904、特羅尼克(Tetranic)150R1、索努帕斯(Solsperse)20000(日本路博潤(Lubrizol Japan)(股)製造))等。

陽離子系界面活性劑具體可列舉：酞菁衍生物(商品名：EFKA-745，森下產業(股)製造)、有機矽氧烷聚合物KP341(信越化學工業(股)製造)、(甲基)丙烯酸系(共)聚合物珀利弗洛(Polyflow)No.75、珀利弗洛(Polyflow)No.90、珀利弗洛(Polyflow)No.95(共榮社化學(股)製造)、W001(裕商(股)製造)等。

陰離子系界面活性劑具體可列舉：W004、W005、W017(裕商(股)公司製造)等。

矽酮系界面活性劑例如可列舉：東麗矽酮(Toray Silicone)DC3PA、東麗矽酮(Toray Silicone)SH7PA、東麗矽酮(Toray Silicone)DC11PA、東麗矽酮(Toray Silicone)SH21PA、東麗矽酮(Toray Silicone)SH28PA、東麗矽酮(Toray Silicone)SH29PA、東麗矽酮(Toray Silicone)SH30PA、東麗矽酮(Toray Silicone)SH8400(以上為東麗-道康寧(Toray-Dow corning)(股)製造)，TSF-4440、TSF-4300、TSF-4445、TSF-4460、TSF-4452(以上為邁圖高新材料(Momentive Performance Materials)公司製造)，KP341、KF6001、KF6002(以上為信越矽酮股份有限公司製造)，畢克(BYK)307、畢克(BYK)323、畢克(BYK)330(以上為畢克化學(BYK Chemie)公司製造)等。

界面活性劑可僅使用一種，亦可組合兩種以上。

相對於組成物的總質量，界面活性劑的含量較佳為0.001質量%~2.0質量%，更佳為0.005質量%~1.0質量%。

<<聚合抑制劑>>

高折射組成物亦可含有聚合抑制劑。

聚合抑制劑可列舉：對苯二酚、對甲氧基苯酚、二-第三丁基對甲酚、聯苯三酚、第三丁基鄰苯二酚、苯醌、4,4'-硫代雙(3-甲基-6-第三丁基苯酚)、2,2'-亞甲基雙(4-甲基-6-第三丁基苯酚)、N-亞硝基苯基羥基胺亞鈰鹽等。其中，較佳為對甲氧基苯酚。

相對於組成物的總質量，聚合抑制劑的添加量較佳為0.001質量%~5質量%。

<<<其他添加劑>>>

高折射組成物亦可含有其他添加劑。具體可列舉：硬化劑、聚合性化合物、聚合起始劑、所述樹脂以外的樹脂(例如鹼可溶性樹脂、黏合劑)、塑化劑、感脂化劑、紫外線吸收劑等。

鹼可溶性樹脂例如可較佳地使用：(甲基)丙烯酸苄酯/(甲基) 丙烯酸共聚物、(甲基)丙烯酸苄酯/(甲基)丙烯酸/(甲基)丙烯酸-2-羥基乙酯共聚物、包含(甲基)丙烯酸苄酯/(甲基)丙烯酸/其他單體的多元共聚物。另外亦可較佳地使用：將(甲基)丙烯酸-2-羥基乙酯共聚合而成者、日本專利特開平7-140654號公報中記載的(甲基)丙烯酸-2-羥基丙酯/聚苯乙烯巨單體/甲基丙烯酸苄酯/甲基丙烯酸共聚物、丙烯酸-2-羥基-3-苯氧基丙酯/聚甲基丙烯酸甲酯巨單體/甲基丙烯酸苄酯/甲基丙烯酸共聚物、甲基丙烯酸-2-羥基乙酯/聚苯乙烯巨單體/甲基丙烯酸甲酯/甲基丙烯酸共聚物、甲基丙烯酸-2-羥基乙酯/聚苯乙烯巨單體/甲基丙烯酸苄酯/甲基丙烯酸共聚物等。另外，亦可使用後述紅外線透射組成物中說明的鹼可溶性樹脂。

該些添加劑例如可參照日本專利特開2014-063125號公報的段落0133~段落0224的記載，將其內容併入至本說明書中。

有時因所使用的原料等而於高折射組成物中含有金屬元素，就抑制缺陷產生等觀點而言，高折射組成物中的第2族元素(鈣、鎂等)的含量較佳為50ppm以下，較佳為控制為0.01ppm~10ppm。另外，高折射組成物中的無機金屬鹽的總量較佳為100ppm以下，更佳為控制為0.5ppm~50ppm。

<<高折射組成物的具體例>>

高折射組成物的具體例可例示：日本專利特開2014-62221號公報的申請專利範圍第1項中記載的分散組成物；日本專利特開2010-007057號、日本專利特開2010-222431號、日本專利特開 2009-263507號、日本專利特開2008-202033號、日本專利特開2012-087316號及日本專利特開2007-246877號公報的申請專利範圍第1項中記載的矽氧烷系樹脂組成物；WO2010/125949、WO2010/128661、WO2011/018990、WO2012/026451、WO2012/026452、WO2012/060286及WO2012/111682號公報的申請專利範圍中記載的組成物，將該些內容併入至本說明書中。另外，該些組成物的較佳範圍可列舉作為本發明的高折射組成物的較佳範圍的例子。

本發明中，亦可較佳地使用市售的硬化性樹脂。以下列舉其商品名(產品編號)。

(1)超高折射率、高耐熱塗佈材料：UR-108、UR-202、UR-501、HR-102(日產化學工業公司製造)

(2)厚膜用高折射率塗佈材料：UR-108、UR-204、HR-201(日產化學工業公司製造)

(3)硫代環氧樹脂LPH1101(三菱瓦斯化學公司製造)

(4)環硫樹脂MR-174(三井化學公司製造)

(5)硫代胺基甲酸酯樹脂MR-7(三井化學公司製造)

<<膜厚>>

高折射區域的膜厚是以達成所需的光的光路差的方式而適當設定，例如為80nm以上，亦可設定為100nm以上，亦可設定為120nm以上。上限例如為600nm以下，亦可設定為500nm以下，亦可設定為300nm以下。

<第二區域(低折射層)>

本發明中的第二區域為折射率較第一區域低0.5以上的區域。第二區域(低折射區域)的折射率較佳為1.0~1.5，更佳為1.0~1.3，進而佳為1.1~1.3。

第二區域的較佳態樣之一為含有樹脂的層。含有樹脂的層可為所謂低折射樹脂、即包含折射率低於所述高折射樹脂的樹脂的層，亦可塗佈含有樹脂、粒子及溶劑的組成物(以下有時稱為「低折射組成物」)而形成。用於形成第二區域的樹脂較佳為包含來源於聚合性單量體的重複單元的聚合物鏈，或具有包含來源於聚合性單量體的重複單元的聚合物鏈作為部分結構的化合物。較佳為塗佈低折射組成物而形成的層。

另外，第二區域的其他較佳態樣之一為含有粒子的層。含有粒子的層亦可塗佈含有粒子及溶劑的組成物而形成。再者，於所述含有粒子的層中，可含有樹脂亦可不含樹脂。

以下，對低折射組成物加以詳細描述。

<<低折射組成物>>

<<<樹脂>>>

低折射區域中所用的樹脂可例示含有矽氧烷樹脂及氟系樹脂的至少一者的樹脂。

<<<<矽氧烷樹脂>>>>

矽氧烷樹脂可使用烷氧基矽烷原料經由水解反應及縮合反應而獲得。具體而言，矽氧烷樹脂為烷基三烷氧基矽烷的一部分或 全部的烷氧基水解而轉變成矽烷醇基，所生成的矽烷醇基的至少一部分縮合形成Si-O-Si鍵而成。矽氧烷樹脂較佳為具有下述通式(5)所表示的倍半矽氧烷結構。

-(R¹SiO_3/2)_n- 通式(5)

通式(5)中，R¹表示碳數1~3的烷基。n表示20~1000的整數。

<<<<氟系樹脂>>>>

氟系樹脂為於物質分子中含有氟的樹脂，具體可列舉：聚四氟乙烯、聚六氟丙烯、四氟乙烯/六氟丙烯共聚物、四氟乙烯/全氟烷基乙烯醚共聚物、四氟乙烯/乙烯共聚物、六氟丙烯/丙烯共聚物、聚偏二氟乙烯、偏二氟乙烯/乙烯共聚物等。

關於所述矽氧烷樹脂及氟系樹脂的詳細情況，例如可參照日本專利特開2014-063125號公報的段落0014~段落0060的記載，將其內容併入至本說明書中。

除此以外，本發明中，低折射組成物所含的樹脂可參照日本專利特開2013-253145號公報的段落編號0016~段落編號0024中記載的既定矽化合物的水解物、日本專利特開2012-0214772號公報的段落編號0030~段落編號0043中記載的化合物，將該些內容併入至本說明書中。

低折射組成物中的樹脂的量較佳為0.5質量%以上，更 佳為1質量%以上，進而佳為2質量%以上。另外，上限較佳為30質量%以下，更佳為20質量%以下，進而佳為15質量%以下。

另外，低折射組成物中的樹脂的固體成分濃度(樹脂相對於總固體成分之濃度(質量%))較佳為5質量%以上，更佳為8質量%以上，進而佳為10質量%以上。另外，上限較佳為40質量%以下，更佳為35質量%以下，進而佳為30質量%以下。

樹脂可僅含有一種，亦可含有兩種以上。於含有兩種以上的情形時，較佳為合計量成為所述範圍。

<<<粒子>>>

低折射區域中所用的粒子例如可列舉中空粒子或非中空粒子。中空粒子亦可使用中空結構或多孔質的微粒子。中空粒子為於內部具有空洞的結構，是指具有由外廓所包圍的空洞的粒子，多孔質粒子是指具有多個空洞的多孔質的粒子。以下，將中空粒子或多孔質粒子適當稱為「特定粒子」。特定粒子可為有機粒子，亦可為無機粒子。較佳為金屬氧化物粒子，更佳為二氧化矽粒子。

低折射區域中所用的粒子例如可參照日本專利特開2014-063125號公報的段落0047~段落0055的記載，將其內容併入至本說明書中。

另外，二氧化矽粒子亦可使用市售品，可列舉：觸媒化成工業(股)製造奧斯卡(Oscar)系列、扶桑化學工業(股)製造的擴特龍(Quartron)系列共立材料(股)製造SG-SO100、德山(Tokuyama)(股)製造的萊奧羅希(Reolosil)系列、日揮觸媒 化成公司製造的思路利亞(Sluria)系列、日鐵礦業公司製造的希利那(Silinax)等。

低折射區域中所用的粒子的較佳態樣之一可列舉念珠狀粒子，更佳為念珠狀二氧化矽(念珠狀膠體二氧化矽)。

所謂念珠狀粒子，是指具有粒子以念珠狀連結及/或分支的形狀。具體而言，例如可列舉：具有球狀的粒子(例如膠體二氧化矽)以念珠狀連結而成的鏈狀結構者、及所連結的膠體二氧化矽分支而成者等。

念珠狀粒子因其立體阻礙而無法密集佔據空間，結果，可容易地形成空隙率更高的區域，容易使區域低折射率化。

此種念珠狀二氧化矽粒子分散而成的二氧化矽粒子液(溶膠)例如可使用日本專利第4328935號中記載的二氧化矽溶膠等。另外，可參照日本專利特開2013-253145號公報的記載。

念珠狀的二氧化矽的粒子液可使用作為液狀溶膠而市售者。例如可列舉：日產化學工業公司製造的「斯諾特(Snowtex)OUP」、「斯諾特(Snowtex)UP」、「IPA-ST-UP」、「斯諾特(Snowtex)PS-M」、「斯諾特(Snowtex)PS-MO」、「斯諾特(Snowtex)PS-S」、「斯諾特(Snowtex)PS-SO」，觸媒化成工業股份有限公司製造的「范卡特羅德(Fine Kata Lloyd)F-120」，旭化成瓦克(Asahi Wacker)製造的HDK(註冊商標)V15、HDK(註冊商標)N20、HDK(註冊商標)T30、HDK(註冊商標)T40、疏水性的HDK(註冊商標)H15、HDK(註冊商標)H18、HDK(註冊商標)H20、 HDK(註冊商標)H30及扶桑化學工業股份有限公司製造的「擴特龍(Quartron)PL」等。該些念珠狀粒子較佳為具有包含氧化矽的一次粒子多個鍵結而二維或三維地彎曲的結構。

低折射組成物中的粒子的量較佳為10質量%以上，更佳為15質量%以上，進而佳為20質量%以上。上限並無特別限制，較佳為40質量%以下，更佳為30質量%以下。

另外，低折射組成物中的粒子的固體成分濃度(粒子相對於總固體成分之濃度(質量%))較佳為60質量%以上，更佳為70質量%以上。上限並無特別限制，較佳為99質量%以下，更佳為95質量%以下，進而佳為90質量%以下。

粒子可僅含有一種，亦可含有兩種以上。於含有兩種以上的情形時，較佳為合計量成為所述範圍。

<<<溶劑>>>

低折射組成物所含的溶劑與所述高折射組成物所含的溶劑(例如水或有機溶劑)相同，較佳範圍或調配量亦相同。

<<<其他添加劑>>>

本發明中所用的低折射組成物亦可含有其他添加劑。其他添加劑與所述高折射組成物中所述的添加劑相同，調配量等亦相同。

有時因所使用的原料等而於低折射組成物中含有金屬元素，就抑制缺陷產生等觀點而言，較佳為低折射組成物中的第2族元素(鈣、鎂等)的含量為50ppm以下，較佳為控制為0.01ppm~10ppm。另外，較佳為低折射組成物中的無機金屬鹽的總量為 100ppm以下，更佳為控制為0.5ppm~50ppm。

<<低折射組成物的具體例>>

低折射組成物的具體例可例示：日本專利特開2014-063125號公報的申請專利範圍第11項中記載的低折射膜形成用硬化性組成物、日本專利特開2013-253145號公報的申請專利範圍第1項中記載的矽氧烷系樹脂組成物、WO2013/099948(US2014/285695)號公報及WO2013/099945(US2014/284747)號公報中記載的低折射率形成用組成物，將該些內容併入至本說明書中。另外，該些組成物的較佳範圍可列舉作為本發明的高折射組成物的較佳範圍的例子。

<<膜厚>>

低折射區域的膜厚是以達成所需的光的光路差的方式而適當設定，例如為80nm以上，亦可設定為100nm以上，亦可設定為120nm以上。上限例如為600nm以下，亦可設定為500nm以下，亦可設定為300nm以下。

<積層體的製造方法>

本發明的積層體的製造方法包括：塗佈含有粒子、樹脂及溶劑的第一組成物而形成第一區域的步驟；以及於第一區域的表面上塗佈含有粒子、樹脂及溶劑的第二組成物(或含有粒子及溶劑的組成物)而形成第二區域的步驟，且所述第一區域與第二區域的折射率之差為0.5以上。藉由採用此種方法，可較佳地製造所述本發明的積層體。尤其本發明的積層體可藉由塗佈來製造，故與 公知的積層體相比較，可提高生產性。

第一組成物與第二組成物的一者為所述高折射組成物，另一者為低折射組成物，較佳範圍亦相同。以下，將第一組成物設定為高折射組成物、第二組成物設定為低折射組成物來進行說明。當然，亦可使第一組成物為低折射組成物，第二組成物為高折射組成物。

塗佈高折射組成物來形成高折射區域的步驟中，於高折射區域包含一層的高折射層的情形時，高折射組成物的塗佈次數通常為1次，但亦可同時或依序塗佈高折射組成物而形成兩層以上的高折射層。本發明中的塗佈方法並無特別限定，可應用適當公知的塗佈方法。例如可應用噴霧法、輥塗法、旋轉塗佈法(旋塗法)、棒塗法等。例如於旋塗塗佈的情況下，可將每一層高折射層設定為30秒鐘~3分鐘的塗佈時間，進而可設定為30秒鐘~2分鐘的塗佈時間。

關於塗佈量，較佳為以硬化後的膜厚成為所需條件的方式進行塗佈。

視需要，較佳為對所塗佈的塗膜實施加熱處理等而將塗膜中所含的溶劑去除。具體而言，較佳為於塗佈後進行後烘烤，使溶劑的一部分或全部揮發。對於高折射區域，較佳為於100℃~300℃下進行後烘烤30秒鐘~8分鐘，更佳為於150℃~250℃下進行後烘烤1分鐘~5分鐘。

高折射組成物較佳為於塗佈前利用過濾器進行過濾以 去除異物或減少缺陷等。只要為一直以來於過濾用途等中所用的過濾器，則可無特別限定地使用。

形成高折射區域後，於其表面上藉由塗佈低折射組成物而形成低折射區域。關於低折射區域的形成方法，除了於所述高折射區域的形成中將高折射組成物變更為低折射組成物以外相同，較佳範圍亦相同。其中，關於低折射區域的後烘烤，較佳為於80℃~240℃下進行30秒鐘~8分鐘，更佳為於80℃~120℃下進行1分鐘~5分鐘。

進而，將高折射區域及低折射區域交替積層，藉此可獲得本發明的積層體。

<積層體的較佳態樣>

積層體的較佳態樣之一可列舉：具有塗佈第一組成物而形成的第一區域、及於第一區域的表面上塗佈第二組成物而形成的第二區域，且第一區域與第二區域的折射率之差為0.5以上，第一區域與第二區域交替積層，並且第一組成物所含的溶劑的溶解參數即SP值(以下有時簡稱為「SP值」)、與第二組成物所含的溶劑的溶解參數即SP值之差的絕對值為2.0以上的積層體。

若如上所述般第一組成物所含的溶劑與第二組成物所含的溶劑的SP值之差的絕對值為既定值以上，則於交替塗佈第一組成物及第二組成物而積層時，於所形成的第一區域及第二區域間的界面上，進一步抑制第一組成物及第二組成物的混合，抑制所形成的各區域的厚度的偏差。

例如於第一組成物所含的溶劑的SP值與第二組成物所含的溶劑的SP值之差的絕對值小於既定值的情形時，若於塗佈第一組成物所得的第一區域上塗佈第二組成物，則由於第二組成物中所含的溶劑的影響，成為基底層的第一區域中所含的成分的一部分溶解於塗佈於其上的第二組成物中，導致產生第一區域的厚度的偏差或光學缺陷，結果有時所得的積層體的光學特性劣化。

相對於此，例如於第一組成物所含的溶劑的SP值與第二組成物所含的溶劑的SP值之差的絕對值為既定值以上的情形時，若於塗佈第一組成物所得的第一區域上塗佈第二組成物，則由於SP值的差異而抑制成為基底層的第一區域中所含的成分於第二組成物中的溶解，結果進一步抑制各區域的厚度的偏差的產生，並且亦進一步抑制光學缺陷的產生。

第一組成物所含的溶劑的SP值、與第二組成物所含的溶劑的SP值之差的絕對值較佳為0.5(cal/cm³)^1/2以上，就積層體中的各區域的厚度的偏差更小、及/或於積層體中進一步抑制光學缺陷的產生的方面而言，更佳為1.0(cal/cm³)^1/2以上，進而佳為2.0(cal/cm³)^1/2以上，尤佳為5.0(cal/cm³)^1/2以上，最佳為7.0(cal/cm³)^1/2以上。上限並無特別限制，通常大多情況下為15(cal/cm³)^1/2以下。關於第一組成物及第二組成物所含的溶劑的SP值的計算方法，於僅使用一種溶劑的情形時是指該溶劑的SP值，於併用多種溶劑的情形時，表示各溶劑的SP值的與質量比例相對應的加權平均值 (weighted average efficiency)。例如於相對於溶劑總質量而分別含有20質量%及80質量%的SP值為A的溶劑X、與SP值為B的溶劑Y的情形時，溶劑的SP值是藉由(A×0.2)+(B×0.8)的計算式而求出。

另外，本說明書中，根據費多思(Fedors)的方法(聚合物工程與科技(Polymer Engineering and Science)，1974，Vol.4，No.2)由分子結構算出SP值。費多思的方法中，依據下述式(I)算出SP值。

SP值(δ)=(Σ△E/Σ△V)^1/2[(cal/cm³)^1/2]…(I)

其中，△E表示物質所含的原子或原子團的蒸發能量(cal/mol)，△V表示原子或原子團的莫耳體積(cm³/mol)。

另外，可較佳地列舉於第一組成物及第二組成物中的一者中含有水、於第一組成物及第二組成物中的另一者中含有有機溶劑的態樣。

該態樣的情況下，較佳為水與有機溶劑滿足所述SP值的關係。

再者，可於第一組成物中含有有機溶劑，且於第二組成物中含有水，亦可於第一組成物中含有水，且於第二組成物中含有有機溶劑。

第一組成物及第二組成物的一者中所含的有機溶劑的 種類並無特別限制，可根據所使用的樹脂等而適當選擇最適的有機溶劑，例如可列舉所述有機溶劑的例子。

於第一組成物及第二組成物中的一者中含有水時，亦可除了水以外更含有有機溶劑。即，亦可將水與有機溶劑併用。

於併用水與有機溶劑的情形時，關於水相對於水與有機溶劑的合計質量之含量，就積層體中的各區域的厚度的偏差更小、及/或於積層體中進一步抑制光學缺陷的產生的方面而言，較佳為0.5質量%~95質量%，更佳為10質量%~90質量%，進而佳為50質量%~90質量%。

於併用水與有機溶劑的情形時，所使用的有機溶劑的種類可僅為一種，亦可併用兩種以上。

如上文所述，於第一組成物所含的溶劑的SP值與第二組成物所含的溶劑的SP值之差的絕對值為既定值以上的情形時，所得的積層體中各區域的厚度的偏差小。即，各區域內中厚度容易變得更均勻，容易獲得顯示出所需的光學特性的積層體。

更具體而言，就積層體顯示出更優異的光學特性的方面而言，積層體的較佳態樣之一可列舉：第一區域及第二區域分別含有2區域以上，第一區域的各區域的厚度的偏差小於5%(較佳為3%以內)，第二區域的各區域的厚度的偏差小於5%(較佳為3%以內)的積層體。

於該積層體中，首先第一區域及第二區域分別含有2區域以上。繼而，於含有2區域以上的第一區域中，且各區域內厚度的 偏差小於5%，就積層體顯示出更優異的光學特性的方面而言，厚度的偏差較佳為3.0%以內，厚度的偏差更佳為2.0%以內，進而佳為1.0%以內。

第二區域中，亦於積層體中含有2區域以上，且各區域內厚度的偏差小於5%，就積層體顯示出更優異的光學特性的方面而言，厚度的偏差較佳為3.0%以內，厚度的偏差更佳為2.0%以內，進而佳為1.0%以內。

所謂所述厚度的偏差，是指一區域內的厚度的偏差。關於所述偏差的計算方法，使用橢圓儀(J.A沃蘭(J.A WOOLLAM)製造的VUV-vase[商品名])(波長633nm，測定溫度25℃)，測定一區域內的任意20點以上的位置的厚度，將該些厚度加以算術平均而算出平均厚度T_A。繼而，算出所述測定的厚度中最大的值T_L及最小的值T_S，由以下的式(1)及式(2)算出偏差值，將所得的偏差L及偏差S中數值的絕對值更大者算出作為厚度的偏差。

式(1) 偏差L=(T_L-T_A)×100/T_A

式(2) 偏差S=(T_S-T_A)×100/T_A

另外，所述積層體中，進一步抑制光學缺陷的產生。

更具體而言，就積層體顯示出更優異的光學特性的方面而言，積層體的較佳態樣之一可列舉：於自第一區域與第二區域積 層的方向實施光學顯微鏡觀察(俯視積層體)時，長徑為1μm以上的缺陷的個數小於50個/mm²的積層體。其中，就積層體顯示出更優異的光學特性的方面而言，較佳為長徑為1μm以上的缺陷的個數小於30個/mm²。

關於所述缺陷的個數的測定方法，首先使用光學顯微鏡自第一區域與第二區域積層的方向觀察積層體。關於觀察區域，以倍率200倍對不同的任意5點(各點的觀察面積：1mm×1mm)進行觀察，對長徑為1μm以上的缺陷進行計數。

<積層體的用途>

如圖3所示，本發明的積層體可用作截止特定波長範圍的光的透射、或僅使特定波長範圍的光透射的膜。具體而言，本發明的積層體可較佳地用作紅外線吸收濾波器、帶通濾波器等。

<<帶通濾波器>>

本發明的帶通濾波器亦可僅包含本發明的積層體，但較佳為一併使用截止其他特定波長範圍的光、且使特定波長範圍的光透射的膜。圖4為表示將本發明的積層體與所述截止其他特定波長範圍的光、且使特定波長範圍的光透射的膜組合時的波長與透射率的關係的一例的映像圖。即，2片膜各自的可透射的光的波長範圍不同。而且，若合併2片膜，則僅可透射兩膜的光可透射，可用作帶通濾波器。另外，亦可於兩片膜兩者中使用本發明的積層體。

具體而言，藉由將波長450nm~950nm的範圍的透射率為 70%以上且波長1050nm~1100nm的範圍的透射率為30%以下的積層體、與波長450nm~800nm的範圍的透射率為30%以下且波長900nm~1100nm的範圍的透射率為70%以上的紅外線透射膜併用，可獲得波長900nm~950nm的範圍的透射率為70%以上、波長450nm~800nm及1050nm~1100nm的範圍的透射率為30%以下的膜的帶通濾波器。

另外，藉由將波長450nm~850nm的範圍的透射率為70%以上且波長950nm~1100nm的範圍的透射率為30%以下的積層體、與波長450nm~750nm的範圍的透射率為30%以下且波長850nm~1100nm的範圍的透射率為70%以上的紅外線透射膜併用，可獲得波長840nm~870nm的範圍的透射率為70%以上、波長450nm~750nm及950nm~1050nm的範圍的透射率為30%以下的膜的帶通濾波器。

另外，藉由將波長450nm~700nm的範圍的透射率為70%以上且波長750nm~1000nm的範圍的透射率為30%以下的積層體、與波長450nm~600nm的範圍的透射率為30%以下且波長700nm~1100nm的範圍的透射率為70%以上的紅外線透射膜併用，可獲得波長680nm~720nm的範圍的透射率為70%以上、波長450nm~600nm及750nm~1000nm的範圍的透射率為30%以下的膜的帶通濾波器。

本發明的帶通濾波器較佳為具有本發明的積層體及紅外線透射膜。

<<<紅外線透射膜>>>

所謂紅外線透射膜，是指既定波長的紅外線的透射率高、且既定波長的可見光線的透射率低的膜。此處，既定波長的紅外線可例示：波長700nm以上、波長800nm以上、波長900nm以上等範圍的電磁波。所謂既定波長的可見光線，可例示波長650nm以下、波長700nm以下、波長750nm以下且下限值為波長400nm以上、波長450nm以上等範圍的電磁波。所謂透射率高，是指透射率為70%以上、進而80%以上、尤其90%以上，所謂透射率低，是指透射率30%以下、進而20%以下、尤其10%以下。

所述紅外線透射膜是藉由將既定的紅外線透射組成物應用於基板上並進行硬化而獲得。以下列舉紅外線透射組成物的例子。本發明不限定於該些例子。

[紅外線透射組成物的第1實施形態]

第1實施形態的紅外線透射組成物含有通式(A1)所表示的染料、聚合性化合物及聚合起始劑。紅外線透射組成物通常含有通式(A1)所表示的染料以外的其他著色劑。另外，於紅外線透射組成物含有顏料的情形時，亦可將顏料與顏料分散劑、溶劑、顏料衍生物等一併分散而製備顏料分散液，將所得的顏料分散液與通式(A1)所表示的染料、聚合起始劑及聚合性化合物混合。另外，紅外線透射組成物亦可更含有所述成分以外的其他成分(鹼可溶性樹脂、界面活性劑等)。

通式(A1)

通式(A1)中，R¹及R²分別獨立地表示氫原子、鹵素原子、氰基、硝基、具有取代基的羰基、烷基、芳基或雜環基。R³表示氫原子、氮原子、烷基、芳基或雜環基。R³亦可與A的取代基形成環，於R³表示氮原子的情形時，與A的取代基形成環。R^3A表示氫原子、烷基或芳基。A表示雜5員環或雜6員環。M表示金屬原子。n表示2或3。

紅外線透射組成物中的通式(A1)所表示的染料的合計含量較佳為15質量%~85質量%，更佳為20質量%~80質量%。

於紅外線透射組成物的所有著色劑中，通式(A1)所表示的染料的合計含量較佳為4質量%~50質量%，更佳為7質量%~40質量%。

紅外線透射組成物中，通式(A1)所表示的染料可僅含有一種，亦可含有兩種以上。於含有兩種以上的情形時，較佳為其合計量成為所述範圍。

通式(A1)所表示的染料以外的其他著色劑可列舉顏料 及染料。其他著色劑可僅使用一種，亦可併用兩種以上。其他著色劑例如可參照日本專利特開2013-064999號公報的段落0019~段落0025的記載，將其內容併入至本說明書中。尤其藍色顏料可例示PB15：6。黃色顏料可例示顏料黃(Pigment Yellow)139。紫色顏料可例示顏料紫(Pigment Violet)23。

紅外線透射組成物較佳為含有黃色顏料、藍色顏料及紫色顏料作為其他著色劑。於該情形時，紅外線透射組成物中，較佳為黃色顏料相對於所有顏料之質量比為0.1~0.2，藍色顏料相對於所有顏料之質量比為0.25~0.55，紫色顏料相對於所有顏料之質量比為0.05~0.15。另外，較佳為通式(A1)所表示的染料與黃色顏料之質量比為85：15~50：50，更佳為通式(A1)所表示的染料與黃色顏料的合計質量、與藍色顏料與紫色顏料的合計質量之質量比為60：40~40：60。

聚合性化合物例如可參照日本專利特開2012-208494號公報的段落0466~段落0494的記載，將其內容併入至本說明書中。聚合性化合物可僅含有一種，亦可併用兩種以上。關於聚合性化合物的調配量，於調配的情形時，可設定為紅外線透射組成物的固體成分的0.1質量%~90質量%，較佳為2質量%~50質量%。

聚合起始劑例如可參照日本專利特開2012-208494號公報的段落0500~段落0547的記載，將其內容併入至本說明書中。聚合起始劑較佳為肟化合物。肟化合物的具體例可使用：日本專利特 開2001-233842號公報記載的化合物、日本專利特開2000-80068號公報記載的化合物、日本專利特開2006-342166號公報記載的化合物。市售品中，可列舉：豔佳固(IRGACURE)-OXE01(巴斯夫(BASF)公司製造)，豔佳固(IRGACURE)-OXE02(巴斯夫(BASF)公司製造)，TR-PBG-304(常州強力電子新材料有限公司製造)，艾迪科阿科爾(Adeka Arkls)NCI-831、艾迪科阿科爾(Adeka Arkls)NCI-930(艾迪科(ADEKA)公司製造)等。聚合起始劑可僅使用一種，亦可併用兩種以上。關於聚合起始劑的調配量，於調配的情形時，可設定為紅外線透射組成物的固體成分的0.1質量%~20質量%，較佳為0.5質量%~5質量%。本發明亦可使用含氟原子的肟化合物作為光聚合起始劑。含氟原子的肟化合物的具體例可列舉：日本專利特開2010-262028號公報記載的化合物，日本專利特表2014-500852號公報記載的化合物24、化合物36~化合物40，日本專利特開2013-164471號公報記載的化合物(C-3)等。將其內容併入至本說明書中。

顏料分散劑例如可參照日本專利特開2012-208494號公報的段落0404~段落0465的記載，將其內容併入至本說明書中。顏料分散劑可僅使用一種，亦可併用兩種以上。於調配顏料分散劑的情形時，相對於顏料100質量份，顏料分散劑較佳為1質量份~80質量份，更佳為5質量份~70質量份，進而佳為10質量份~60質量份。

顏料衍生物例如可參照日本專利特開2009-203462號公報的 段落0124~段落0126的記載，將其內容併入至本說明書中。顏料衍生物可僅使用一種，亦可併用兩種以上。於調配顏料衍生物的情形時，相對於顏料100質量份，顏料衍生物較佳為1質量份~30質量份，更佳為3質量份~20質量份，進而佳為5質量份~15質量份。

溶劑例如可參照日本專利特開2012-208494號公報的段落0496~段落0499的記載，將其內容併入至本說明書中。溶劑可僅使用一種，亦可併用兩種以上。溶劑的調配量較佳為組成物的固體成分濃度成為5質量%~80質量%的濃度。

鹼可溶性樹脂例如可參照日本專利特開2012-208494號公報的段落0558~段落0572的記載，將其內容併入至本說明書中。

鹼可溶性樹脂亦較佳為包含聚合物(a)，該聚合物(a)是將必需下述通式(ED)所表示的化合物及/或下述通式(ED2)所表示的化合物(以下有時亦將該些化合物稱為「醚二聚物」)的單量體成分聚合而成。

通式(ED)中，R¹及R²分別獨立地表示氫原子或可具有取代基的碳數1~25的烴基。

通式(ED2)

通式(ED2)中，R表示氫原子或碳數1~30的有機基。通式(ED2)的具體例可參照日本專利特開2010-168539號公報的記載。

鹼可溶性樹脂可僅使用一種，亦可併用兩種以上。於調配鹼可溶性樹脂的情形時，相對於紅外線透射組成物的固體成分，鹼可溶性樹脂的調配量較佳為1質量%~15質量%。

界面活性劑例如可參照日本專利特開2012-208494號公報的段落0549~段落0557的記載，將其內容併入至本說明書中。界面活性劑可僅使用一種，亦可併用兩種以上。於調配界面活性劑的情形時，相對於紅外線透射組成物的固體成分，界面活性劑的調配量為0.001質量%~2.0質量%。

[紅外線透射組成物的第2實施形態]

第2實施形態的紅外線透射組成物含有著色劑及鹼可溶性樹 脂，於著色劑中至少包含紅色顏料、與通式(A2)或通式(A3)所表示的藍色顏料的至少一種，於所有著色劑中，紅色顏料的含量為20質量%~50質量%，藍色顏料的含量為25質量%~55質量%。

紅外線透射組成物較佳為含有所述藍色顏料及紅色顏料以外的其他著色劑。另外，紅外線透射組成物可進一步含有聚合性化合物、聚合起始劑、顏料分散劑、顏料衍生物、溶劑等作為所述成分以外的其他成分。

藍色顏料為通式(A2)或通式(A3)所表示的化合物。

通式(A2)

通式(A2)中，X¹~X⁴分別獨立地表示取代基。R^0A表示氫原子或一價取代基。m1~m4分別獨立地表示0~4的整數。於m1~m4為2以上時，X¹~X⁴可分別相同亦可不同。

通式(A3)

通式(A3)中，X⁵~X¹²分別獨立地表示取代基。R^0B表示二價取代基。m5~m12分別獨立地表示0~4的整數。於m5~m12為2以上時，X⁵~X¹²可分別相同亦可不同。

紅色顏料較佳為包含對稱結構的紅色顏料與非對稱結構的紅色顏料。

尤佳為包含顏色索引(Color Index，C.I.)顏料紅(Pigment Red)254、與由通式(A4)所表示且並非C.I.顏料紅(Pigment Red)254的化合物。

通式(A4)

[化21]

通式(A4)中，A及B分別獨立地為氫原子、氟原子、氯原子、溴原子、碳數1~4的烷基、碳數1~4的烷氧基、氰基、-CF₃或-CON(R¹)R²。R¹及R²分別獨立地為氫原子、碳數1~20的烷基或苯基。

於含有對稱結構的化合物與非對稱結構的化合物作為紅色顏料的情形時，對稱結構的化合物與非對稱結構的化合物之質量比較佳為99：1~80：15，更佳為98：2~90：10。

其他著色劑可使用上文所述的第1實施形態的其他著色劑。

紅外線透射組成物的所有著色劑中，紅色顏料及所述藍色顏料以外的著色劑的合計含量較佳為5質量%~45質量%，更佳為15質量%~35質量%。

鹼可溶性樹脂可使用第1實施形態中說明的鹼可溶性樹脂，較佳範圍亦相同。

所述以外的其他成分可使用第1實施形態中說明的聚合性化合物、聚合起始劑、顏料分散劑、顏料衍生物、溶劑、界面活性 劑等。該些的較佳範圍亦與第一實施形態相同。

[紅外線透射組成物的第3實施形態]

第3實施形態的紅外線透射組成物含有著色劑及樹脂，且於波長400nm~830nm的範圍內的吸光度的最小值A、與於波長1000nm~1300nm的範圍內的吸光度的最大值B之比即A/B為4.5以上。

所述吸光度的條件可藉由任意手段來達成，例如藉由使紅外線透射組成物中含有一種以上的於波長800nm~900nm的範圍內具有最大吸收的第1著色劑、與兩種以上的於波長400nm~700nm的範圍內具有最大吸收的第2著色劑，並且調整各著色劑的種類及含量，可較佳地達成所述吸光度的條件。

紅外線透射組成物亦可含有第1著色劑及第2著色劑以外的著色劑(第3著色劑)。

另外，紅外線透射組成物亦可更含有著色劑及樹脂以外的其他成分。

第1著色劑例如可列舉：吡咯并吡咯色素化合物、銅化合物、花青系色素化合物、酞菁系化合物、亞銨系化合物、硫醇錯合物系化合物、過渡金屬氧化物系化合物、方酸內鎓系色素化合物、萘酞菁系色素化合物、誇特銳烯系色素化合物、二硫醇金屬錯合物系色素化合物、克酮鎓化合物等。

吡咯并吡咯色素化合物可為顏料亦可為染料，就容易獲得可形成耐熱性優異的膜的紅外線透射組成物的理由而言，較佳為顏 料。吡咯并吡咯色素化合物較佳為下述通式(A5)所表示的化合物。

通式(A5)

通式(A5)中，R^1a及R^1b分別獨立地表示烷基、芳基或雜芳基，R²及R³分別獨立地表示氫原子或取代基，R²及R³的至少一個為吸電子性基，R²及R³亦可相互鍵結而形成環，R⁴表示氫原子、烷基、芳基、雜芳基、取代硼、金屬原子，R⁴亦可與選自R^1a、R^1b及R³中的一個以上具有共價鍵或配位鍵。

通式(A5)所表示的化合物例如可參照日本專利特開2009-263614號公報的段落0016~段落0058的記載，將其內容併入至本說明書中。

紅外線透射組成物中，第1著色劑的含量較佳為紅外線透射組成物的總固體成分的0.5質量%~60質量%，更佳為10質量%~40質量%。

紅外線透射組成物中，第1著色劑可單獨使用一種，亦可併用兩種以上。於併用兩種以上的情形時，較佳為合計為所述範圍。

第2著色劑可為顏料亦可為染料，較佳為顏料。第2著色劑較佳為含有選自紅色著色劑、黃色著色劑、藍色著色劑及紫色著色劑中的兩種以上的著色劑。第2著色劑可使用上文所述的第1實施形態中說明的其他著色劑。

於第2著色劑是將紅色著色劑、黃色著色劑、藍色著色劑及紫色著色劑組合而成的情形時，較佳為紅色著色劑相對於第2著色劑總量之質量比為0.1~0.4，黃色著色劑相對於第2著色劑總量之質量比為0.1~0.4，藍色著色劑相對於第2著色劑總量之質量比為0.20~0.60，紫色著色劑相對於第2著色劑總量之質量比為0.01~0.30。

第2著色劑的含量較佳為紅外線透射組成物的總固體成分的0.5質量%~60質量%，更佳為10質量%~60質量%，進而佳為30質量%~50質量%。

紅外線透射組成物中，相對於紅外線透射組成物的總固體成分，第1著色劑與第2著色劑的合計量較佳為1質量%~80質量%，更佳為20質量%~70質量%，進而佳為30質量%~70質量%。

第3著色劑可使用於波長400nm~700nm的範圍、及波長800nm~900nm的範圍以外具有最大吸收的著色劑。

紅外線透射組成物所含的樹脂可列舉顏料分散劑、鹼可溶性樹脂等。顏料分散劑及鹼可溶性樹脂可使用第1實施形態中說明的顏料分散劑及鹼可溶性樹脂。

其他成分可使用第1實施形態中說明的聚合性化合物、聚合 起始劑、顏料衍生物、溶劑、界面活性劑等。該等的較佳範圍亦與第一實施形態相同。

[紅外線透射組成物的第4實施形態]

第4實施形態的紅外線透射組成物含有著色劑及聚合性化合物，聚合性化合物含有具有含有兩個以上的伸烷氧基作為重複單元的鏈(以下亦稱為伸烷氧基鏈)的聚合性化合物，紅外線透射組成物的於波長400nm以上且小於580nm的範圍內的吸光度的最小值A、與於波長580nm以上且770nm以下的範圍內的吸光度的最小值B之比率A/B為0.3~3，於波長400nm以上且750nm以下的範圍內的吸光度的最小值C、與於波長850nm以上且1300nm以下的範圍內的吸光度的最大值D之比率C/D為5以上。

紅外線透射組成物亦可更含有著色劑及聚合性化合物以外的其他成分。

著色劑與上文所述的第1實施形態的其他著色劑為相同含意。關於著色劑，相對於著色劑的總量，顏料的含量較佳為95質量%以上，更佳為97質量%以上，進而佳為99質量%以上。

聚合性化合物含有具有伸烷氧基鏈的聚合性化合物。

具有伸烷氧基鏈的聚合性化合物可使用第1實施形態中說明的聚合性化合物。

其他成分可使用第1實施形態中說明的聚合起始劑、顏料分散劑、顏料衍生物、溶劑、鹼可溶性樹脂、界面活性劑等。該等的較佳範圍亦與第一實施形態相同。

[紅外線透射組成物的第5實施形態]

第5實施形態的紅外線透射組成物含有著色劑及聚合性化合物，聚合性化合物含有具有含有兩個以上的伸烷氧基作為重複單元的鏈的聚合性化合物，著色劑至少包含選自紅色著色劑及紫色著色劑中的一種以上的著色劑A、黃色著色劑以及藍色著色劑，選自紅色著色劑及紫色著色劑中的著色劑A相對於著色劑總量之質量比即著色劑A/所有著色劑為0.01~0.7，黃色著色劑相對於著色劑總量之質量比即黃色著色劑/所有著色劑為0.05~0.5，藍色著色劑相對於著色劑總量之質量比即藍色著色劑/所有著色劑為0.05~0.6。

紅外線透射組成物亦可更含有著色劑及聚合性化合物以外的其他成分。

著色劑與上文所述的第1實施形態的其他著色劑為相同含意。

聚合性化合物與第4實施形態中說明的具有伸烷氧基鏈的聚合性化合物為相同含意。

其他成分可使用第1實施形態中說明的聚合起始劑、顏料分散劑、顏料衍生物、溶劑、鹼可溶性樹脂、界面活性劑等。該等的較佳範圍亦與第一實施形態相同。

[紅外線透射組成物的第6實施形態]

第6實施形態的紅外線透射組成物含有著色劑及聚合性化合物，著色劑的質量P與聚合性化合物的質量M之比率P/M為0.05 ~0.35，紅外線透射組成物的總固體成分中的聚合性化合物的含量為25質量%~65質量%，紅外線透射組成物的於波長400nm以上且小於580nm的範圍內的吸光度的最小值A、與於波長580nm以上且770nm以下的範圍內的吸光度的最小值B之比率A/B為0.3~3，於波長400nm以上且750nm以下的範圍內的吸光度的最小值C、與於波長850nm以上且1300nm以下的範圍內的吸光度的最大值D之比率C/D為5以上。

紅外線透射組成物亦可更含有著色劑及聚合性化合物以外的其他成分。

著色劑及聚合性化合物與上文所述的第1實施形態的其他著色劑及聚合性化合物為相同含意。

其他成分可使用第1實施形態中說明的聚合起始劑、顏料分散劑、顏料衍生物、溶劑、鹼可溶性樹脂、界面活性劑等。該等的較佳範圍亦與第一實施形態相同。

[紅外線透射組成物的第7實施形態]

第7實施形態的紅外線透射組成物含有著色劑及聚合性化合物，著色劑的質量P與聚合性化合物的質量M之比率P/M為0.05~0.35，紅外線透射組成物的總固體成分中的聚合性化合物的含量為25質量%~65質量%，著色劑至少包含黃色著色劑及藍色著色劑，黃色著色劑相對於著色劑總量之質量比即黃色著色劑/所有著色劑為0.1~0.5，藍色著色劑相對於著色劑總量之質量比即藍色著色劑/所有著色劑為0.1~0.6。

紅外線透射組成物亦可更含有著色劑及聚合性化合物以外的其他成分。

著色劑及聚合性化合物與上文所述的第1實施形態的其他著色劑及聚合性化合物為相同含意。

其他成分可使用第1實施形態中說明的聚合起始劑、顏料分散劑、顏料衍生物、溶劑、鹼可溶性樹脂、界面活性劑等。該等的較佳範圍亦與第一實施形態相同。

[紅外線透射組成物的第8實施形態]

第8實施形態的紅外線透射組成物為於形成膜厚1μm的膜時，膜的厚度方向的透射率的於波長400nm~750nm的範圍內的最大值為20%以下，膜的厚度方向的透射率的於波長900nm~1300nm的範圍內的最小值成為90%以上的組成物。

以下示出膜的分光特性、膜厚等的測定方法。

藉由旋塗等方法將組成物以乾燥後的膜厚成為1μm的方式塗佈於玻璃基板上，設置膜，於100℃下利用加熱板乾燥120秒鐘。

膜厚是使用觸針式表面形狀測定器(ULVAC公司製造的DEKTAK150)對具有膜的乾燥後的基板進行測定。

對該具有膜的乾燥後的基板使用紫外可見近紅外分光光度計(日立高新技術(Hitachi High-technologies)公司製造的U-4100)(參照(ref.)為玻璃基板)，於波長300nm~1300nm的範圍內測定透射率。

光透射率的調整可使用任意方法，例如使組成物中含有兩種 以上的顏料，並且調整各顏料的種類及含量，藉此可較佳地調整光透射率。

紅外線透射組成物亦可更含有著色劑及著色劑以外的其他成分。

著色劑與上文所述的第1實施形態的其他著色劑為相同含意。

其他成分可使用第1實施形態中說明的聚合起始劑、顏料分散劑、顏料衍生物、溶劑、鹼可溶性樹脂、界面活性劑等。該等的較佳範圍亦與第一實施形態相同。

[紅外線透射組成物的第9實施形態]

第9實施形態的紅外線透射組成物為含有顏料、光聚合起始劑及聚合性化合物，且於形成波長600nm下的透射率為30%的紅外線透射膜的情形時，紅外線透射膜為滿足下述(1)~(5)的條件的組成物。

(1)400nm下的透射率為20%以下。

(2)550nm下的透射率為10%以下。

(3)700nm下的透射率為70%以上。

(4)顯示出透射率50%的波長為650nm~680nm的範圍。

(5)紅外線透射膜具有0.55μm~1.8μm的範圍的膜厚。

紅外線透射組成物的詳細情況例如可參照日本專利特開2013-077009號公報的段落0020~段落0230的記載，將其內容併入至本說明書中。

有時因所使用的原料等而於紅外線透射組成物中含有 金屬元素，就抑制缺陷產生等觀點而言，紅外線透射組成物中的第2族元素(鈣、鎂等)的含量較佳為50ppm以下，較佳為控制為0.01ppm~10ppm。另外，紅外線透射組成物中的無機金屬鹽的總量較佳為100ppm以下，更佳為控制為0.5ppm~50ppm。

<紅外線感測器>

本發明的帶通濾波器可僅使特定波長區域的光透射，故可較佳地用於感測器、特別是紅外線感測器。

紅外線感測器具有本發明的積層體及紅外線透射膜。紅外線感測器的構成只要為具有本發明的積層體，且作為固體攝像元件而發揮功能的構成，則並無特別限定。

可例示以下構成：於基板上具有構成固體攝像元件(電荷耦合元件(Charge-coupled Device，CCD)感測器、互補式金屬氧化物半導體(Complementary Metal Oxide Semiconductor，CMOS)感測器、有機CMOS感測器等)的受光區域的多個光電二極體及包含多晶矽等的傳輸電極，於光電二極體及傳輸電極上具有僅光電二極體的受光部開口的包含鎢等的遮光膜，於遮光膜上具有以覆蓋遮光膜整個面及光電二極體受光部的方式形成的包含氮化矽等的元件保護膜，於元件保護膜上具有含有本發明的積層體的帶通濾波器的構成。

進而，亦可為於元件保護膜上且於本發明的積層體之下(靠近基板之側)或上具有聚光機構(例如微透鏡等)的構成等。

再者，有機CMOS感測器是含有作為光電轉換層的薄膜 的全色(panchromatic)感光性有機光電轉換膜及CMOS信號讀取基板而構成，為有機材料發揮捕捉光並將其轉換為電信號的功能、無機材料發揮將電信號取出至外部的功能的兩層構成的混合結構，原理上相對於入射光而可將開口率設定為100%。有機光電轉換膜是以自由結構的連續膜的形式鋪設於CMOS信號讀取基板上，故無需昂貴的微細加工製程，適於畫素微細化。

<攝像裝置>

繼而，作為應用本發明的紅外線感測器的例子，對攝像裝置加以說明。攝像裝置可列舉照相機模組等。

圖5為攝像裝置的功能區塊圖。攝像裝置包括透鏡光學系統1、固體攝像元件10、信號處理部20、信號切換部30、控制部40、信號蓄積部50、發光控制部60、發出紅外光的發光元件的紅外發光二極體(Light Emitting Diode，LED)70、圖像輸出部80及圖像輸出部81。再者，固體攝像元件10可使用上文所述的紅外線感測器100。另外，關於固體攝像元件10及透鏡光學系1以外的構成，亦可使其全部或其一部分形成於同一半導體基板上。關於攝像裝置的各構成，可參照日本專利特開2011-233983號公報的段落0032~段落0036，將其內容併入至本說明書中。

<帶通濾波器形成用套組>

本發明的帶通濾波器形成用套組包含含有粒子、樹脂及溶劑的第一組成物與含有粒子、樹脂及溶劑的第二組成物，將所述第一組成物設置成層狀時的折射率、與將第二組成物設置成層狀時 的折射率之差為0.5以上。

所述第一組成物可例示上文所述的高折射組成物，較佳範圍亦相同。

所述第二組成物可例示上文所述的低折射組成物，較佳範圍亦相同。

<圖像顯示裝置>

所述積層體的其他用途可列舉對圖像顯示裝置的應用。

更具體可列舉：具有彩色濾波器、且所述彩色濾波器的至少一部分包含上文所述的積層體的圖像顯示裝置。藉由將彩色濾波器的一部分設定為如上所述的積層體，能以更簡便的設計來使所需的光透射。以前，於彩色濾波器的製作時，使用染料或顏料等著色劑，但藉由使用本發明的積層體，可控制該些著色劑的使用，結果削減成本，或高溫處理等製程方面的限制亦進一步消失。

再者，圖像顯示裝置例如可列舉液晶顯示裝置或有機電致發光顯示裝置等。

[實施例]

以下，藉由實施例對本發明加以更具體說明，但本發明只要不偏離其主旨，則不限定於以下的實施例。再者，只要無特別說明，則「%」及「份」為質量基準。

<低折射分散液B-1的製備>

依照日本專利特開2013-253145號公報的段落0032~段落0034、段落0042(實施例1-1)的記載來獲得低折射分散液B-1。

再者，所得的低折射分散液B-1中含有念珠狀膠體二氧化矽粒子。

<低折射分散液B-2的製備>

於低折射分散液B-1的製備中，將低折射分散液所含的膠體二氧化矽變更為中空粒子，除此以外，以同樣方式製備低折射分散液B-2。具體而言，將矽烷化合物的水解物與中空粒子的二氧化矽以相對於水解物中的SiO₂成分100質量份而中空粒子成為200質量份的比例進行攪拌混合，藉此獲得組成物。

<高折射分散液B-3的製備>

使用直徑0.3mm的氧化鋯珠，利用珠磨機(帶有減壓機構的高壓分散機NANO-3000-10(日本BEE(股)製造))將下述組成的混合液混合、分散3小時，製備高折射分散液B-3。

<高折射分散液B-4的製備>

於高折射分散液B-3的製備中，將氧化鈦變更為等量的二氧化鋯，除此以外，與高折射分散液B-3的製備同樣地製備高折射分散液B-4。

<低折射組成物1的製備>

界面活性劑1(氟系樹脂)

所述重量平均分子量為14,000。

．有機溶劑1：乳酸乙酯 24.6份

<低折射組成物2的製備>

<高折射組成物1的製備>

鹼可溶性樹脂1

<高折射組成物2的製備>

於高折射組成物1的製備中，將高折射分散液B-3變更為高折射分散液B-4，除此以外，與高折射組成物1的製備同樣地製備高折射組成物2。

<<組成物的折射率的測定>>

所述獲得的低折射組成物、高折射組成物的折射率是如以下般測定。

利用旋塗法將組成物塗佈於8吋玻璃晶圓上，其後於加熱板上以100℃、2分鐘的條件加熱玻璃晶圓，形成塗佈膜。進而，將該塗佈膜於200℃下於熱板上加熱5分鐘，獲得硬化膜(膜厚：1.0μm)。

對所述獲得的帶有硬化膜的玻璃晶圓使用日本J.A.沃蘭 (J.A.Woollam Japan)公司製造的橢圓儀，測定透明膜對波長635nm的光的折射率。

<<蒸鍍膜的折射率的測定>>

於8吋玻璃晶圓的表面製作下述表1所示的組成的蒸鍍膜。蒸鍍膜是參照日本專利特開2012-225993號公報的記載以厚度成為1.0μm的方式製作。利用與所述組成物的折射率的測定相同的方法來測定折射率。

將結果示於下述表中。

[表1]

<實施例1>

於8吋玻璃晶圓的表面上，使用所述低折射組成物1及高折射組成物1，以成為表2的積層體1所示的積層構成的方式，分別交替積層低折射區域與高折射區域。低折射組成物是使用旋塗機來塗佈，低折射組成物的乾燥是利用加熱板以100℃/120sec的條件進行。高折射組成物是使用旋塗機來塗佈，高折射組成物的乾燥是利用加熱板以200℃/3min的條件進行。

以各高折射區域及低折射區域的厚度成為下述表2所示的所需厚度的方式，調整塗佈量及塗佈次數(積層數)。表2所示的實膜厚相當於本實施例的膜厚。表2中，「低n」表示低折射區域，「高n」表示高折射區域。

<實施例2~實施例6>

於實施例1中，將積層體1的層構成分別變更為表2的積層體2~積層體6的層構成，除此以外，與實施例1同樣地獲得實施例2~實施例6的積層體。表2所示的實膜厚相當於本實施例的膜 厚。

使用紫外可見近紅外分光光度計(日立高新技術(Hitachi High-technologies)公司製造的U-4100)(ref.玻璃基板)來測定實施例1~實施例6中所得的積層體的於波長400nm~1100nm的範圍內的透射率。將積層體1的結果示於圖6中，積層體2的結果示於圖9中，積層體3的結果示於圖12中，積層體4的結果示於圖15中，積層體5的結果示於圖16中，積層體6的結果示於圖17中。圖中，縱軸的Transmittance表示透射率(單位：%)，橫軸的Wavelength表示波長(單位：nm)。以下的實施例的表示透射率的圖中亦相同。

圖6中的波長1040nm的吸光度/波長940nm的吸光度為83.7。圖9中的波長950nm的吸光度/波長850nm的吸光度為390。圖12中的波長800nm的吸光度/波長700nm的吸光度為359。圖15中的波長1040nm的吸光度/波長940nm的吸光度為55.2。圖16中的波長950nm的吸光度/波長850nm的吸光度為56.2。圖17中的波長800nm的吸光度/波長700nm的吸光度為57.0。

<實施例A>

<<顏料分散液1-1的製備>>

使用直徑0.3mm的氧化鋯珠，使用珠磨機(帶有減壓機構的高壓分散機NANO-3000-10(日本BEE(股)製造))將表3所示的顏料分散液1-1的各成分進行混合、分散，直至第1著色劑成為表3所示的平均粒徑為止，製備顏料分散液1-1。表3中示出相應的成分的使用量(單位：質量份)。

顏料分散液中的顏料的平均粒徑是使用日機裝(股)製造的MICROTRACUPA 150以體積基準而測定。將測定結果示於下述表3中。

<<顏料分散液2-1~顏料分散液2-4的製備>>

使用直徑0.3mm的氧化鋯珠，利用珠磨機(帶有減壓機構的高壓分散機NANO-3000-10(日本BEE(股)製造))將表3所示的顏料分散液2-1的各成分混合、分散3小時，製備顏料分散液2-1。於顏料分散液2-1的製備中，將所使用的各成分變更為表3中記載的各成分，除此以外，與顏料分散液2-1的製備同樣地獲得顏料分散液2-2~顏料分散液2-4。表3中示出相應的成分的使用量(單位：質量份)。

表中的各成分的簡稱如下。

[第1著色劑(IR著色劑)]

．吡咯并吡咯顏料1：下述結構(利用日本專利特開2009-263614號公報中記載的方法合成)(於波長800nm~900nm的範圍內具有最大吸收的著色劑)

[第2著色劑(於波長400nm~700nm的範圍內具有最大吸收的著色劑)]

．PR254：C.I.顏料紅(Pigment Red)254

．PB15：6：C.I.顏料藍(Pigment Blue)15：6

．PY139：顏料黃(Pigment Yellow)139

．PV23：顏料紫(Pigment Violet)23

[樹脂]

．分散樹脂1：畢克(BYK)-111(畢克(BYK)公司製造)

．分散樹脂2：下述結構(Mw：7950)

．分散樹脂3：下述結構(Mw：30000)

．鹼可溶性樹脂1：下述結構

[化28]

<<紅外線透射組成物A(著色組成物A)的製備>>

將下述表4所示的成分以下述表4所示的比例(單位為質量份)混合，製備紅外線透射組成物A。

．聚合性化合物1：M-305(三丙烯酸酯為55質量%~63質量%)(東亞合成公司製造) 下述結構

[化29]

．光聚合起始劑1：豔佳固(IRGACURE)-OXE01(巴斯夫(BASF)) 下述結構

．所述界面活性劑1

．聚合抑制劑1：對甲氧基苯酚

．有機溶劑1：丙二醇甲醚乙酸酯

<<紅外線透射膜A的製作>>

藉由旋塗將紅外線透射組成物A以後烘烤後的膜厚成為1.0μm的方式塗佈於玻璃基板上，於100℃下利用加熱板乾燥120秒鐘，形成膜。繼而，使用200℃的加熱板對所得的膜進行300秒鐘加熱處理(後烘烤)，進而使用i射線步進式曝光裝置FPA-3000i5+(佳能(Canon)(股)製造)進行全面曝光，藉此於玻璃基板上 形成紅外線透射膜A。

使用紫外可見近紅外分光光度計(日立高新技術(Hitachi High-technologies)公司製造的U-4100)(ref.玻璃基板)來測定所得的紅外線透射膜A於波長400nm~1100nm的範圍內的透射率。將其結果示於圖7中。

<<帶通濾波器A的製作>>

將所述實施例1中獲得的積層體1與所述獲得的紅外線透射膜A組合而製作帶通濾波器A。將所得的帶通濾波器A的透射率示於圖8中。

<實施例B>

<<顏料分散液B-1的製備>>

使用直徑0.3mm的氧化鋯珠，利用珠磨機(帶有減壓機構的高壓分散機NANO-3000-10(日本BEE(股)製造))將下述組成的各成分混合、分散3小時，製備顏料分散液B-1。

<<顏料分散液B-2的製備>>

使用直徑0.3mm的氧化鋯珠，利用珠磨機(帶有減壓機構的高壓分散機NANO-3000-10(日本BEE(股)製造))將下述組成的各成分混合、分散3小時，製備顏料分散液B-2。

．分散樹脂4

使用以下所示的化合物(重複單元中的比為莫耳比)作為分散樹脂4。

<<紅外線透射組成物B的製備>>

將下述成分混合，製備紅外線透射組成物B。

．聚合性化合物2左側化合物與右側化合物之莫耳比為7：3的混合物。

聚合性化合物3

．聚合起始劑2

[化34]

<<紅外線透射膜B的製作>>

藉由旋塗將紅外線透射組成物B以後烘烤後的膜厚成為1.0μm的方式塗佈於玻璃基板上，於100℃下利用加熱板乾燥120秒鐘，形成膜。繼而，使用200℃的加熱板對所得的膜進行300秒鐘加熱處理(後烘烤)，進而使用i射線步進式曝光裝置FPA-3000i5+(佳能(Canon)(股)製造)進行全面曝光，藉此形成紅外線透射膜B。

使用紫外可見近紅外分光光度計(日立高新技術(Hitachi High-technologies)公司製造的U-4100)(ref.玻璃基板)來測定所得的紅外線透射膜B於波長400nm~1100nm的範圍內的透射率。將其結果示於圖10中。

<<帶通濾波器B的製作>>

將所述實施例2中獲得的積層體2與所述獲得的紅外線透射膜B組合而製作帶通濾波器B。將所得的帶通濾波器B的透射率示於圖11中。

<實施例C>

<<紅外線透射膜C的製作>>

依照日本專利特開2013-077009號公報的段落0255~段落0259的記載(實施例1)來製作彩色濾波器(紅外線透射膜C)。使用紫外可見近紅外分光光度計(日立高新技術(Hitachi High-technologies)公司製造的U-4100)(ref.玻璃基板)來測定所得的紅外線透射膜C於波長400nm~1100nm的範圍內的透射率。將其結果示於圖13中。

<<帶通濾波器C的製作>>

將所述實施例3中獲得的積層體3與所述獲得的紅外線透射膜C組合而製作帶通濾波器C。將所得的帶通濾波器C的透射率示於圖14中。

於實施例1~實施例6的積層體的製作中，將表2中記載的各積層體(積層體1~積層體6)的低折射區域及高折射區域的組成變更為下述表5所示的5種低折射區域及高折射區域的組成，分別以滿足表2所記載的積層體1~積層體6的光學膜厚的方式調整膜厚，除此以外，與實施例1~實施例6的積層體的製作同樣地進行操作，獲得各積層體(計30種積層體)。實施例7、實施例8及實施例9的積層體是與實施例1~實施例6的積層體的製作同樣地進行操作而製作積層體，比較例3及比較例4的積層體是依照公知的蒸鍍方法而獲得積層體。此時的各層膜厚是根據表2中記載的光學膜厚而算出。即，以光學膜厚=實際的膜厚×材料的折射率的方式，根據所需的光學膜厚及材料的折射率算出應製作的實膜厚來進行製作。

與所述同樣地測定所得的積層體的透射率，結果可實現與實施例1~實施例6相同的波形。

<雜訊評價>

於所述帶通濾波器B的製作中，如下述表5所示般變更構成積層體2的低折射區域及高折射區域的組成，除此以外，與帶通濾波器B的製作同樣地進行操作，製作各帶通濾波器。將結果示於下述表5中。

使用紫外可見近紅外分光光度計U-4100(日立高新技術(Hitachi High-technologies)公司製造)(ref.玻璃基板)求出帶通濾波器的厚度方向的850nm的透射率t1[%]、與1000nm的平均光透射率t2[%]之比(t2/t1=x)，根據以下的評價基準來進行評價。評分越高，表示來源於可見光成分的雜訊越少，性能越優異。

<評價基準>

3：x≦0.1

2：0.1<x≦0.5

1：0.5<x

<低折射分散液B-5~低折射分散液B-10的製備>

將低折射分散液B-1的溶劑蒸餾去除，於表6所示的溶劑中再稀釋，由此獲得低折射分散液B-5~低折射分散液B-10。再者，表6中的數值是指質量份。

再者，PGME表示丙二醇單甲醚，PGMEA表示丙二醇單甲醚乙酸酯。

另外，以下的表中，所謂「固體成分」表示將低折射分散液B-1的溶劑蒸餾去除所得的固體成分。

<低折射組成物3~低折射組成物8的製備>

將低折射分散液B-5~低折射分散液B-10與所述界面活性劑1分別以下述的量混合，獲得低折射組成物3~低折射組成物8。例如使用低折射分散液B-5來製備低折射組成物3。

<實施例>

於8吋玻璃晶圓的表面上，使用表7所示的各低折射組成物及高折射組成物1，以成為表2的積層體1所示的積層構成的方式，將低折射區域與高折射區域分別交替積層而獲得各實施例的積層體。低折射組成物與高折射組成物是使用旋塗機來塗佈，低折射組成物與高折射組成物的乾燥是使用加熱板於130℃下進行120秒鐘。

以各高折射區域及低折射區域的厚度成為所述表2所示的所需的光學膜厚的方式，調整塗佈量及塗佈次數(積層數)。

再者，各積層體中所用的組成物的折射率的測定方法如上文所述。

表7所示的「溶劑的SP值的加權平均」表示各組成物所含的溶劑的SP值的加權平均的值。計算方法如上文所述，使用各溶劑於所有溶劑中的質量比例來計算。

<膜厚面內分佈(偏差)測定>

於實施例10~實施例15的積層體的製作過程中，每塗佈1層時，利用橢圓儀(J.A沃蘭(J.A WOOLLAM)製造的VUV-vase[商品名])來測定其膜厚面內分佈(偏差)(波長633nm、測定溫度25℃)。膜厚面內分佈是於基板(玻璃晶圓)的直徑方向上以10mm間隔測定20點。再者，所形成的低折射層及高折射層各自的膜厚面內分佈相同，於表8中示出各層的偏差。偏差的測定方法如上文所述。

<缺陷測定>

使用帶有數位相機的光學顯微鏡，對實施例10~實施例15中所得的各積層體的積層體表面上的不同的任意5點(各點的觀察面積：1mm×1mm)自積層體表面上(各層的積層方向)以×200倍進行拍攝。依照所述順序，將所得的圖像二值化(黑白化)，將觀察到的黑色部分作為缺陷。算出觀察到的缺陷的長徑為1μm以上的缺陷的個數作為缺陷數，對5點觀察位置的缺陷數進行算術平均，依照以下基準來評價所得的值(平均缺陷數)。將缺陷數(平均缺陷數)小於30個的情形評價為A，30個以上且小於50個的情形評價為B，50個以上的情形評價為C。

<分光測定>

使用紫外可見近紅外分光光度計(日立高新技術(Hitachi High-technologies)公司製造的U-4100)(ref.玻璃基板)來測定實施例10~實施例15中所得的積層體於波長400nm~1100nm的範圍內的透射率，將於波長450nm~750nm的範圍內的透射率的最 大值及最小值示於表8中。

再者，表8中的「溶劑的SP值差」表示用於製造積層體的低折射組成物所含的溶劑的SP值、與高折射組成物所含的溶劑的SP值之差的絕對值。

如由表8所表明，得知若溶劑的SP值差大，則抑制膜厚的偏差，可獲得透射率最小值大、無著色的透明性高的積層體。另外得知，若溶劑的SP值差大，則亦抑制缺陷，可獲得透射率最大值高、無渾濁的透明性高的積層體。

Claims (29)

1. 一種積層體，具有塗佈第一組成物而形成的第一區域、及於第一區域的表面上塗佈第二組成物而形成的第二區域，且所述第一區域與所述第二區域的折射率之差為0.5以上，所述第一區域與所述第二區域交替積層。
2. 如申請專利範圍第1項所述的積層體，其中作為所述第一組成物所含的溶劑的溶解參數的SP值、與作為所述第二組成物所含的溶劑的溶解參數的SP值之差的絕對值為0.5(cal/cm³)^1/2以上。
3. 如申請專利範圍第1項所述的積層體，其中於所述第一組成物及所述第二組成物中的一者中含有水，於所述第一組成物及所述第二組成物中的另一者中含有有機溶劑。
4. 如申請專利範圍第1項所述的積層體，其中自所述第一區域與所述第二區域積層的方向實施光學顯微鏡觀察時，長徑為1μm以上的缺陷的個數小於50個/mm²。
5. 如申請專利範圍第1項所述的積層體，其中所述第一區域及所述第二區域分別含有2區域以上，所述第一區域的各區域的厚度的偏差為3%以內，所述第二區域的各區域的厚度的偏差為3%以內。
6. 如申請專利範圍第1項所述的積層體，其中於所述第一區域與所述第二區域的至少任一者中含有樹脂。
7. 如申請專利範圍第1項所述的積層體，其中所述第一區域 與所述第二區域兩者含有樹脂。
8. 如申請專利範圍第1項所述的積層體，其中所述第一區域與所述第二區域合計為5區域以上。
9. 如申請專利範圍第1項所述的積層體，其中作為波長700nm的吸光度與波長800nm的吸光度之比的波長800nm的吸光度/波長700nm的吸光度為5以上。
10. 如申請專利範圍第1項所述的積層體，其中作為波長850nm的吸光度與波長950nm的吸光度之比的波長950nm的吸光度/波長850nm的吸光度為5以上。
11. 如申請專利範圍第1項所述的積層體，其中作為波長940nm的吸光度與波長1040nm的吸光度之比的波長1040nm的吸光度/波長940nm的吸光度為5以上。
12. 如申請專利範圍第1項所述的積層體，其中所述第一區域的折射率為1.5~3.0，所述第二區域的折射率為1.0~1.3。
13. 如申請專利範圍第1項所述的積層體，其中所述第一區域含有樹脂及金屬氧化物粒子，其中所述樹脂含有選自酸基、含鹼性氮原子的基團、脲基、胺基甲酸酯基、含配位性氧原子的基團、苯酚基、烷基、芳基、含伸烷氧基鏈的基團、醯亞胺基、雜環基、烷氧基羰基、烷基胺基羰基、羧酸鹽基、磺醯胺基、烷氧基矽烷基、環氧基、異氰酸酯基及羥基中的基團。
14. 如申請專利範圍第1項所述的積層體，其中所述第二區域含有矽氧烷樹脂及氟系樹脂的至少一種。
15. 如申請專利範圍第1項所述的積層體，其中所述第二區域含有念珠狀二氧化矽。
16. 如申請專利範圍第1項所述的積層體，其用於帶通濾波器形成。
17. 一種積層體，具有第一區域及第二區域，所述第一區域與所述第二區域交替積層，所述第一區域與所述第二區域的折射率之差為0.5以上，所述第一區域與所述第二區域的至少一者含有樹脂。
18. 如申請專利範圍第17項所述的積層體，其中自所述第一區域與所述第二區域積層的方向實施光學顯微鏡觀察時，長徑為1μm以上的缺陷的個數小於50個/mm²。
19. 如申請專利範圍第17項所述的積層體，其中所述第一區域及所述第二區域分別含有2區域以上，所述第一區域的各區域的厚度的偏差為3%以內，所述第二區域的各區域的厚度的偏差為3%以內。
20. 一種紅外線吸收濾波器，具有如申請專利範圍第1項至第19項中任一項所述的積層體。
21. 一種帶通濾波器，具有如申請專利範圍第1項至第19項中任一項所述的積層體。
22. 如申請專利範圍第21項所述的帶通濾波器，更具有紅外線透射膜。
23. 一種製造積層體的方法，包括：塗佈含有粒子、樹脂及溶劑的第一組成物而形成第一區域的步驟；以及於所述第一區域的表面上塗佈含有粒子、樹脂及溶劑的第二組成物而形成第二區域的步驟，且所述第一區域與所述第二區域的折射率之差為0.5以上。
24. 如申請專利範圍第23項所述的製造積層體的方法，其中所述積層體為如申請專利範圍第1項至第19項中任一項所述的積層體。
25. 一種製造積層體的方法，包括：塗佈含有粒子、樹脂及溶劑的第一組成物而形成第一區域的步驟；以及於所述第一區域的表面上塗佈含有粒子、樹脂及溶劑的第二組成物而形成第二區域的步驟，且所述第一區域與所述第二區域的折射率之差為0.5以上，於所述第一組成物及所述第二組成物中的一者中含有水，於所述第一組成物及所述第二組成物中的另一者中含有有機溶劑。
26. 一種帶通濾波器形成用套組，含有：含有粒子、樹脂及溶劑的第一組成物；及含有粒子、樹脂及溶劑的第二組成物，且由所述第一組成物所得的層的折射率、與由所述第二組成物所得的層的折射率之差為0.5以上。
27. 如申請專利範圍第26項所述的帶通濾波器形成用套組，其中所述第一組成物含有金屬氧化物粒子、樹脂及溶劑，其中所述樹脂含有選自酸基、含鹼性氮原子的基團、脲基、胺基甲酸酯基、含配位性氧原子的基團、苯酚基、烷基、芳基、含伸烷氧基鏈的基團、醯亞胺基、雜環基、烷氧基羰基、烷基胺基羰基、羧酸鹽基、磺醯胺基、烷氧基矽烷基、環氧基、異氰酸酯基及羥基中的基團，所述第二組成物含有金屬氧化物粒子、矽氧烷樹脂及氟系樹脂的至少一種、以及溶劑。
28. 一種圖像顯示裝置，具有彩色濾波器，並且於所述彩色濾波器的至少一部分中含有如申請專利範圍第1項至第19項中任一項所述的積層體。
29. 如申請專利範圍第28項所述的圖像顯示裝置，其為液晶顯示裝置或有機電致發光顯示裝置。