TW201546498A - 顯示器之覆蓋構件及其製造方法 - Google Patents

Abstract

本發明提供一種可實現背景之映入較少且具有較高之解析度之顯示器的顯示器之覆蓋構件。 覆蓋構件(1)之一主面(1a)係由凹凸面(2)構成。凹凸面(2)之粗糙度曲線之平均傾斜角(θ)為0.5°~1.5°。於凹凸面(2)之粗糙度曲面之支承曲線中，將面積率為70%時之高度設為H1、面積率為99%時之高度設為H2，並將凹凸面之由JIS B0601-2013所規定之算術平均粗糙度設為Ra時，(H1-H2)/Ra為0.25以上。

Description

顯示器之覆蓋構件及其製造方法

本發明係關於一種顯示器之覆蓋構件及其製造方法。

先前，為抑制光於顯示器之表面之鏡面反射，提出有將具有防眩(AG)層之覆蓋構件配置於顯示器之正面(例如參照專利文獻1)。

[先前技術文獻] [專利文獻]

[專利文獻1]日本專利特開2013-504514號公報

就抑制光於覆蓋構件之表面之鏡面反射的觀點而言，較佳為以覆蓋構件之霧度變大之方式增大防眩層之表面粗糙度。然而，將霧度較大之覆蓋構件配置於正面之顯示器存在解析度變低之問題。因此，期望抑制鏡面反射、抑制背景之映入並且實現較高之解析度。

本發明之主要目的在於提供一種可實現背景之映入較少且具有較高之解析度之顯示器的顯示器之覆蓋構件。

於本發明之第1顯示器之覆蓋構件中，一主面係由凹凸面構成，凹凸面之粗糙度曲線之平均傾斜角(θ)為0.5°~1.5°、或凹凸面之由JIS B0601-2013所規定之粗糙度曲線要素之平均長度(RSm)為1.0μm~21.0μm，且於凹凸面之粗糙度曲面之支承曲線中，將面積率為70% 時之高度設為H₁、面積率為99%時之高度設為H₂，並將凹凸面之由JIS B0601-2013所規定之算術平均粗糙度設為Ra時，(H₁-H₂)/Ra為0.25以上。

於本發明之第2顯示器之覆蓋構件中，一主面係由凹凸面構成，凹凸面之粗糙度曲線之平均傾斜角(θ)與JIS B0601-2013所規定之粗糙度曲線要素之平均長度(RSm)的乘積(θ×RSm)為0.5°‧μm~40°‧μm，且於凹凸面之粗糙度曲面之支承曲線中，將面積率為70%時之高度設為H₁、面積率為99%時之高度設為H₂，並將凹凸面之由JIS B0601-2013所規定之算術平均粗糙度設為Ra時，(H₁-H₂)/Ra為0.25以上。

本發明之第1或第2顯示器之覆蓋構件較佳為霧度為0.5%以上且未達10%。本發明之第1或第2顯示器之覆蓋構件較佳為包括：透光板；及塗膜，其覆蓋透光板之一主面之至少一部分，且構成凹凸面。

本發明之第1或第2顯示器之覆蓋構件較佳為塗膜覆蓋透光板之一整個主面。

本發明之第1或第2顯示器之覆蓋構件較佳為塗膜由無機膜構成。

本發明之第1或第2顯示器之覆蓋構件較佳為塗膜之鉛筆硬度為6H以上。

本發明之第1或第2顯示器之覆蓋構件較佳為透光板由強化玻璃板構成。

本發明之顯示器之覆蓋構件之製造方法係用以製造上述第1或第2顯示器之覆蓋構件的方法。於本發明之顯示器之覆蓋構件之製造方法中，較佳為於透光板上藉由噴灑法形成構成凹凸面之塗膜。

於本發明之顯示器之覆蓋構件之製造方法中，較佳為由玻璃板構成透光板，且於形成塗膜後，對玻璃板進行化學強化。

於本發明之顯示器之覆蓋構件之製造方法中，較佳為使用強化 玻璃板作為透光板。

根據本發明，可提供一種可實現背景之映入較少且具有較高之解析度之顯示器的顯示器之覆蓋構件。

1‧‧‧覆蓋構件

1a‧‧‧第1主面

1b‧‧‧第2主面

2‧‧‧凹凸面

10‧‧‧透光板

10a‧‧‧第1主面

10b‧‧‧第2主面

11‧‧‧塗膜

L‧‧‧中心線

圖1係本發明之一實施形態之顯示器之覆蓋構件的模式性剖視圖。

圖2係實施例1中製造之覆蓋構件之凹凸面之粗糙度曲線及支承曲線繪圖。

圖3係實施例2中製造之覆蓋構件之凹凸面之粗糙度曲線及支承曲線繪圖。

圖4係實施例3中製造之覆蓋構件之凹凸面之粗糙度曲線及支承曲線繪圖。

圖5係實施例4中製造之覆蓋構件之凹凸面之粗糙度曲線及支承曲線繪圖。

圖6係比較例1中製造之覆蓋構件之凹凸面之粗糙度曲線及支承曲線繪圖。

圖7係比較例2中製造之覆蓋構件之凹凸面之粗糙度曲線及支承曲線繪圖。

圖8係比較例3中製造之覆蓋構件之凹凸面之粗糙度曲線及支承曲線繪圖。

圖9係表示實施例1中製造之覆蓋構件之凹凸面之形狀的立體圖。

圖10係表示實施例2中製造之覆蓋構件之凹凸面之形狀的立體圖。

圖11係表示實施例3中製造之覆蓋構件之凹凸面之形狀的立體 圖。

圖12係表示比較例1中製造之覆蓋構件之凹凸面之形狀的立體圖。

圖13係表示比較例2中製造之覆蓋構件之凹凸面之形狀的立體圖。

圖14係表示比較例3中製造之覆蓋構件之凹凸面之形狀的立體圖。

以下，對實施本發明之較佳形態之一例進行說明。但是，下述實施形態僅為例示。本發明並不受下述實施形態任何限定。

圖1係本實施形態之顯示器之覆蓋構件1之模式性剖視圖。覆蓋構件1係配置於顯示器之正面而使用之構件。具體而言，覆蓋構件1係以使第1主面1a朝向外側(觀者側)、第2主面1b朝向內側之方式設置於顯示器而使用。覆蓋構件1例如可為構成顯示器之前面板之構件，亦可為設置於前面板上之構件。

覆蓋構件1之第1主面1a係由凹凸面2構成。

詳細而言，於本實施形態中，覆蓋構件1具有透光板10及塗膜11。但是，於本發明中，覆蓋構件亦可由一個構件構成。

透光板10只要為使來自顯示器之光透過者則並無特別限定。透光板10例如可由無鹼玻璃、鈉鈣玻璃等玻璃板、Li₂O-Al₂O₃-SiO₂系結晶化玻璃等結晶化玻璃板、樹脂板等構成。例如，於如對覆蓋構件1要求較高之機械強度之情形時，較佳為由強化玻璃板構成透光板10。

透光板10之厚度並無特別限定。透光板10之厚度例如可設為0.03mm~10mm左右。再者，透光板10可為剛體，亦可具有可撓性。透光板10可為片狀。

再者，可較佳地用作透光板10之強化玻璃板較佳為作為玻璃組 成，以質量%計，含有50~80%之SiO₂、5~25%之Al₂O₃、0~15%之B₂O₃、1~20%之Na₂O、0~10%之K₂O。將如上述般限定各成分之含有範圍之原因示於下文。

SiO₂係形成玻璃之網狀結構之成分。SiO₂之含量較佳為50~80%、52~75%、55~72%、55~70%，尤其為55~67.5%。若SiO₂之含量過少，則難以進行玻璃化，又，熱膨脹係數過高，耐熱衝擊性容易降低。另一方面，若SiO₂之含量過多，則熔融性或成形性容易降低。

Al₂O₃係提高離子交換性能之成分，又，為提高應變點或楊氏模數之成分。Al₂O₃之含量較佳為5~25%。若Al₂O₃之含量過少，則熱膨脹係數過高，耐熱衝擊性容易降低，此外，會產生無法充分地發揮離子交換性能之虞。因此，Al₂O₃之較佳下限範圍為7%以上、8%以上、10%以上、12%以上、14%以上、15%以上，尤其為16%以上。另一方面，若Al₂O₃之含量過多，則玻璃容易析出失透結晶，難以藉由溢流下拉法等使玻璃板成形。又，熱膨脹係數過低，難以使之與周邊材料之熱膨脹係數匹配，進而高溫黏性變高，熔融性容易降低。因此，Al₂O₃之較佳上限範圍為22%以下、20%以下、19%以下、18%以下，尤其為17%以下。

B₂O₃係降低高溫黏度或密度，並且使玻璃穩定化而不易使結晶析出，降低液相溫度之成分。又，為提高抗龜裂性之成分。但是，若B₂O₃之含量過多，則有因離子交換處理而產生被稱為霞之表面之著色，或耐水性降低，或壓縮應力層之壓縮應力值降低，或者壓縮應力層之應力深度減小之傾向。因此，B₂O₃之含量較佳為0~15%、0.1~12%、1~10%、超過1~8%、1.5~6%，尤其為2~5%。

Na₂O係主要之離子交換成分，又，為降低高溫黏度，提昇熔融性或成形性之成分。又，Na₂O亦為改善耐失透性之成分。Na₂O之含 量為1~20%。若Na₂O之含量過少，則熔融性降低，或熱膨脹係數降低，或者離子交換性能容易降低。因此，於導入Na₂O之情形時，Na₂O之較佳下限範圍為10%以上、11%以上，尤其為12%以上。另一方面，若Na₂O之含量過多，則熱膨脹係數過高而耐熱衝擊性降低，或難以使之與周邊材料之熱膨脹係數匹配。又，存在應變點過度降低，或缺乏玻璃組成之成分平衡性，反而使耐失透性降低之情形。因此，Na₂O之較佳上限範圍為17%以下，尤其為16%以下。

K₂O係促進離子交換之成分，且於鹼金屬氧化物中，為增大壓縮應力層之應力深度之效果較大之成分。又，為降低高溫黏度，提昇熔融性或成形性之成分。進而，亦為改善耐失透性之成分。K₂O之含量為0~10%。若K₂O之含量過多，則熱膨脹係數過高而耐熱衝擊性降低，或難以使之與周邊材料之熱膨脹係數匹配。又，有應變點過度降低，或缺乏玻璃組成之成分平衡性，反而使耐失透性降低之傾向。因此，K₂O之較佳上限範圍為8%以下、6%以下、4%以下，尤其為未達2%。

除上述成分以外，例如亦可導入以下成分。

Li₂O為離子交換成分，並且為降低高溫黏度，提昇熔融性或成形性之成分。又，為提高楊氏模數之成分。進而，於鹼金屬氧化物中使壓縮應力值增大之效果較大。但是，若Li₂O之含量過多，則液相黏度降低，玻璃容易失透。又，熱膨脹係數過高而耐熱衝擊性降低，或難以使之與周邊材料之熱膨脹係數匹配。進而，存在低溫黏性過度降低，容易引起應力緩和，反而使壓縮應力值變小之情形。因此，Li₂O之含量較佳為0~3.5%、0~2%、0~1%、0~0.5%，尤其為0.01~0.2%。

Li₂O+Na₂O+K₂O之較佳含量為5~25%、10~22%、15~22%，尤其為17~22%。若Li₂O+Na₂O+K₂O之含量過少，則離子交換性能 或熔融性容易降低。另一方面，若Li₂O+Na₂O+K₂O之含量過多，則玻璃容易失透，此外，熱膨脹係數過高而耐熱衝擊性降低，或難以使之與周邊材料之熱膨脹係數匹配。又，存在應變點過度降低，難以獲得較高之壓縮應力值之情形。進而，亦存在液相溫度附近之黏性降低，難以確保較高之液相黏度之情形。再者，「Li₂O+Na₂O+K₂O」為Li₂O、Na₂O及K₂O之合計量。

MgO係降低高溫黏度，提昇熔融性或成形性，或提高應變點或楊氏模數之成分，且於鹼土金屬氧化物中，為提高離子交換性能之效果較大之成分。但是，若MgO之含量過多，則密度或熱膨脹係數容易變高，又，玻璃容易失透。因此，MgO之較佳上限範圍為12%以下、10%以下、8%以下、5%以下，尤其為4%以下。再者，於向玻璃組成中導入MgO之情形時，MgO之較佳下限範圍為0.1%以上、0.5%以上、1%以上，尤其為2%以上。

CaO與其他成分相比，在降低高溫黏度之情形下不會伴隨著耐失透性降低，提昇熔融性或成形性，或提高應變點或楊氏模數之效果較大。CaO之含量較佳為0~10%。但是，若CaO之含量過多，則密度或熱膨脹係數變高，又，缺乏玻璃組成之成分平衡性，反而使玻璃容易失透，或離子交換性能容易降低。因此，CaO之較佳含量為0~5%、0.01~4%、0.1~3%，尤其為1~2.5%。

SrO係不會使耐失透性降低而降低高溫黏度，提昇熔融性或成形性，或提高應變點或楊氏模數之成分。但是，若SrO之含量過多，則密度或熱膨脹係數變高，或離子交換性能降低，或者缺乏玻璃組成之成分平衡性，反而使玻璃容易失透。SrO之較佳含有範圍為0~5%、0~3%、0~1%，尤其為0~未達0.1%。

BaO係不會使耐失透性降低而降低高溫黏度，提昇熔融性或成形性，或提高應變點或楊氏模數之成分。但是，若BaO之含量過多，則 密度或熱膨脹係數變高，或離子交換性能降低，或者缺乏玻璃組成之成分平衡性，反而使玻璃容易失透。BaO之較佳含有範圍為0~5%、0~3%、0~1%，尤其為0~未達0.1%。

ZnO係提高離子交換性能之成分，且為尤其使壓縮應力值增大之效果較大之成分。又，為不使低溫黏性降低而降低高溫黏性之成分。但是，若ZnO之含量過多，則有玻璃發生分相，或耐失透性降低，或密度變高，或者壓縮應力層之應力深度減小之傾向。因此，ZnO之含量較佳為0~6%、0~5%、0~1%、0~0.5%，尤佳為0~未達0.1%。

ZrO₂係顯著提高離子交換性能之成分，並且為提高液相黏度附近之黏性或應變點之成分，但若其含量過多，則有耐失透性明顯降低之虞，又，有密度過高之虞。因此，ZrO₂之較佳上限範圍為10%以下、8%以下、6%以下，尤其為5%以下。再者，於欲提高離子交換性能之情形時，較佳為向玻璃組成中導入ZrO₂，於此情形時，ZrO₂之較佳下限範圍為0.001%以上、0.01%以上、0.5%，尤其為1%以上。

P₂O₅係提高離子交換性能之成分，且為尤其使壓縮應力層之應力深度增大之成分。但是，若P₂O₅之含量過多，則玻璃容易發生分相。因此，P₂O₅之較佳上限範圍為10%以下、8%以下、6%以下、4%以下、2%以下、1%以下，尤其為未達0.1%。

作為澄清劑，可導入0~30000ppm(3%)之選自As₂O₃、Sb₂O₃、SnO₂、F、Cl、SO₃之群(較佳為SnO₂、Cl、SO₃之群)中之一種或兩種以上。就確切地取得澄清效果之觀點而言，SnO₂+SO₃+Cl之含量較佳為0~10000ppm、50~5000ppm、80~4000ppm、100~3000ppm，尤佳為300~3000ppm。此處，「SnO₂+SO₃+Cl」係指SnO₂、SO₃及Cl之合計量。

SnO₂之較佳含有範圍為0~10000ppm、0~7000ppm，尤其為50~6000ppm。Cl之較佳含有範圍為0~1500ppm、0~1200ppm、0~ 800ppm、0~500ppm，尤其為50~300ppm。SO₃之較佳含有範圍為0~1000ppm、0~800ppm，尤其為10~500ppm。

Nd₂O₃、La₂O₃等稀土類氧化物係提高楊氏模數之成分，又，其等為當加入成為補色之顏色時會發生消色，從而可控制玻璃之色調之成分。但是，原料本身之成本較高，又，若大量導入，則耐失透性容易降低。因此，稀土類氧化物之含量較佳為4%以下、3%以下、2%以下、1%以下，尤佳為0.5%以下。

於本發明中，出於環境方面之考慮，較佳為實質上不含有As₂O₃、F、PbO、Bi₂O₃。此處，「實質上不含有As₂O₃」係雖不積極地添加As₂O₃作為玻璃成分，但容許以雜質等級混入之情形之宗旨，具體而言，係指As₂O₃之含量未達500ppm。「實質上不含有F」係雖不積極地添加F作為玻璃成分，但容許以雜質等級混入之情形之宗旨，具體而言，係指F之含量未達500ppm。「實質上不含有PbO」係雖不積極地添加PbO作為玻璃成分，但容許以雜質等級混入之情形之宗旨，具體而言，係指PbO之含量未達500ppm。「實質上不含有Bi₂O₃」係雖不積極地添加Bi₂O₃作為玻璃成分，但容許以雜質等級混入之情形之宗旨，具體而言，係指Bi₂O₃之含量未達500ppm。

透光板10具有第1主面10a及第2主面10b。於本實施形態中，第1及第2主面10a、10b分別為平坦面。覆蓋構件1之第2主面1b係由透光板10之第2主面10b構成。於透光板10之第1主面10a上設置有塗膜11。藉由該塗膜11，覆蓋構成凹凸面2之第1主面10a之至少一部分。塗膜11例如可覆蓋整個第1主面10a，亦可覆蓋第1主面10a之一部分。塗膜11例如可設置為島狀。於塗膜11覆蓋第1主面10a之一部分之情形時，覆蓋構件1之第1主面1a係由塗膜11及第1主面1a構成。

於覆蓋構件1例如用於觸控感測器等之情形時，要求覆蓋構件1之表面之耐久性(耐擦傷性等)較高。因此，較佳為塗膜11為硬質。塗 膜11之鉛筆硬度較佳為6H以上，更佳為7H以上，進而較佳為8H以上，進而更佳為9H以上。

塗膜11例如可由包含SiO₂、TiO₂、Al₂O₃、ZrO₂等無機氧化物之無機膜構成。其中，較佳為塗膜11係由SiO₂構成。

塗膜11之厚度較佳為例如0.1μm~5μm。

再者，於本實施形態中，對塗膜11直接設置於透光板10之第1主面10a之例進行說明。但是，本發明並不限定於該構成。例如，可於塗膜與透光板之間設置抗反射膜等。又，亦可於透光板之第2主面10b上亦設置抗反射膜或透明導電膜等。

再者，抗反射膜例如可為折射率低於透光板10之低折射率膜，亦可為折射率相對較低之低折射率層及折射率相對較高之高折射率層交替地積層而成之介電體多層膜。抗反射膜例如可藉由濺鍍法或CVD(chemical vapor deposition，化學氣相沈積)法等而形成。

關於透明導電膜，於使用透光板10作為覆蓋玻璃之情形時，其作為觸控感測器用電極發揮作用。作為透明導電膜，例如可列舉：摻錫氧化銦(ITO，tin-doped indium oxide)膜、摻氟氧化錫(FTO，fluorine-doped tin oxide)膜、摻銻氧化錫(ATO，antimony-doped tin oxide)膜等。其中，ITO膜因電阻較低而可較佳地使用。ITO膜例如可藉由濺鍍法而形成。又，FTO膜或ATO膜可藉由CVD(Chemical Vapor Deposition，化學氣相沉積)法而形成。

於本實施形態中，塗膜11構成覆蓋構件1之表面。但是，本發明並不限定於該構成。可於塗膜上例如進而設置用以防止指紋之附著、賦予撥水性、撥油性之抗指紋膜(AF(anti-fingerprint)膜)或抗反射膜等其他膜。

再者，AF膜較佳為包含主鏈中含有矽之含氟聚合物。作為含氟聚合物，例如可列舉主鏈中具有-Si-O-Si-單元且側鏈具有含有氟之撥 水性之官能基的聚合物。含氟聚合物例如可藉由使矽烷醇脫水縮合而合成。

於在透光板10之凹凸面側形成抗反射膜及AF膜之情形時，較佳為於凹凸面上形成抗反射膜，於抗反射膜上形成AF膜。

如上所述，就抑制光於覆蓋構件之表面之鏡面反射的觀點而言，較佳為增大覆蓋構件之霧度。然而，將霧度較大之覆蓋構件配置於正面之顯示器存在解析度變低之問題。即，僅調整霧度無法同時實現背景映入之抑制及較高之解析度。

本發明者等人進行努力研究，結果想到：於為了獲得較高之解析度而某程度地縮小霧度之情形時，亦可藉由滿足下述條件(A)及條件(C)或條件(B)及條件(C)，或者滿足下述條件(C)及條件(D)而抑制背景之映入。

條件(A)：凹凸面之粗糙度曲線之平均傾斜角(θ)為0.5°~1.5°

條件(B)：凹凸面之由JIS B0601-2013所規定之粗糙度曲線要素之平均長度(RSm)為1.0μm~21.0μm

條件(C)：(H₁-H₂)/Ra≧0.25

條件(D)：凹凸面之粗糙度曲線之平均傾斜角(θ)與凹凸面之由JIS B0601-2013所規定之粗糙度曲線要素之平均長度(RSm)的乘積θ×RSm為0.5~40°‧μm

其中， H₁：於凹凸面2之粗糙度曲面之支承曲線中，面積率為70%時之高度； H₂：於凹凸面2之粗糙度曲面之支承曲線中，面積率為99%時之高度； Ra：凹凸面之由JIS B0601-2013所規定之算術平均粗糙度。

支承曲線係指利用對表面之粗糙度曲面之高度分佈進行分析之 方法即支承曲線繪圖法而製作的曲線圖。關於支承曲線繪圖，其係以曲線圖表示於自表面粗糙度資料所表示之曲面僅抽取基準面積之部分中，使與中心面平行之切斷平面之位置(高度成分)發生變化時，隨之發生變化的面積率(由上述切斷平面切斷之山之總截面面積相對於基準面積之比率)者。於支承曲線中，將縱軸設為面積率(累計值)(%)，橫軸設為高度(nm)。例如，於支承曲線之(高度、面積率)為(Hnm、S%)之點處，高度為Hnm以上之區域之面積相對於整個凹凸面之面積的比((高度為H以上之區域之面積)/(整個凹凸面之面積))為S%。

因此，於覆蓋構件1中，將凹凸面2之粗糙度曲線之平均傾斜角(θ)設為0.5°~1.5°，且(H₁-H₂)/Ra設定為0.25以上。因此，藉由使用覆蓋構件1，可實現背景之映入較少且具有較高之解析度之顯示器。以下，對該效果更詳細地進行說明。

於本實施形態中，將凹凸面2之粗糙度曲線之平均傾斜角(θ)設為0.5°~1.5°(條件(A))。因此，凹凸面2包含平緩之凹凸而成。此外，將(H₁-H₂)/Ra設為0.25以上(條件(C))。此處，(H₁-H₂)/Ra可認為係凹凸面2之凹部處之平坦面之面積比率的指標。於凹凸面2之凹部，平坦之部分越多，則(H₁-H₂)/Ra越小，反之，於凹凸面2之凹部，平坦之部分越少，則(H₁-H₂)/Ra越大。因此，與第1主面10a平行之區域在凹凸面2之凹部中所占之比率較小。因此，儘管透射光難以擴散，但亦不易產生鏡面反射。因此，藉由使用覆蓋構件1，可實現背景之映入較少且具有較高之解析度之顯示器。

例如，若將霧度設為一定，則有平均傾斜角θ越小，構成凹凸面之凹凸越接***坦，與第1主面10a平行之區域在凹凸面中所占之比率越大之傾向。同樣地，有(H₁-H₂)/Ra越小，則與第1主面10a平行之區域在凹凸面之凹部中所占之比率越大的傾向。因此，於平均傾斜角θ較大或(H₁-H₂)/Ra較小之情形時，容易產生鏡面反射，背景容易映 入。

同樣地，於第1主面10a露出之情形時，背景亦容易映入。因此，較佳為塗膜11覆蓋整個第1主面10a。例如，於塗膜11為島狀之情形時，第1主面10a之露出率變高。因此，較佳為塗膜11並非為島狀。

藉由滿足條件(B)(凹凸面之由JIS B0601-2013所規定之粗糙度曲線要素之平均長度(RSm)為1.0μm~21.0μm)，可同時實現優異之耐擦傷性及較高之解析度。若粗糙度曲線要素之平均長度(RSm)過小，則存在表面之耐久性(耐擦傷性)降低之情形。若粗糙度曲線要素之平均長度(RSm)過大，則存在解析度降低之情形。

藉由滿足條件(D)(凹凸面之粗糙度曲線之平均傾斜角(θ)與凹凸面之由JIS B0601-2013所規定之粗糙度曲線要素之平均長度(RSm)的乘積θ×RSm為0.5~40°‧μm)，可抑制映入，並且獲得較高之解析度。若乘積θ×RSm過小，則存在映入變得明顯之情形。若乘積θ×RSm過大，則存在解析度降低之情形。

再者，就將與θ或RSm相關之條件(A)、條件(B)及條件(D)設為較佳範圍之觀點而言，較佳為設置覆蓋透光板10之一主面之至少一部分且構成凹凸面之塗膜11。

塗膜11較佳為如微粒子分散膜等般不包含散射粒子而均質之膜。於此情形時，可進一步提高解析度，並且可更有效地抑制映入。

塗膜11較佳為折射率低於透光板10。於此情形時，可更有效地抑制映入。

就更有效地實現具有較高之解析度之顯示器之觀點而言，平均傾斜角θ較佳為0.9°以下，進而較佳為0.8°以下。

就更有效地抑制背景之映入之觀點而言，(H₁-H₂)/Ra更佳為0.45以上，進而較佳為0.5以上。

就更有效地實現具有較高之解析度之顯示器之觀點而言，粗糙 度曲線要素之平均長度(RSm)較佳為20.0μm以下，進而較佳為18.0μm以下。

就更有效地實現具有較高之解析度之顯示器之觀點而言，乘積θ×RSm較佳為39°‧μm以下，進而較佳為38°‧μm以下。

再者，於本發明中，具體而言，平均傾斜角θ例如可以如下之方式進行測定。

平均傾斜角θ之測定方法：平均傾斜角θ係以下述數式(1)定義。

平均傾斜角θ=tan^-1△a………(1)於數式(1)中，△a係如下述數式(2)所示般，於JIS B 0601-2013所規定之粗糙度曲線之基準長度l下，將相鄰之山之頂點與谷之最低點之差(高度h)之絕對值之合計(h1+h2+h3‧‧‧+hn)除以上述基準長度l所獲得的值。

△a=(h1+h2+h3‧‧‧+hn)/l………(2)具體而言，平均傾斜角可以如下方式進行測定。

藉由使雷射或觸針於凹凸面2上沿一方向進行掃描，沿一方向測定凹凸面2之表面之高度。進行該高度測定之沿一方向之長度(測定長度)例如可設為200μm~350μm左右。高度之測定例如可以0.5μm間隔而進行。

其次，決定中心線L。具體而言，決定通過凹凸面之高度之平均值的中心線L。

其次，每隔0.5μm間隔而測定凹凸面2與中心線L所成之角之大小之絕對值。然後，可藉由計算每隔0.5μm間隔所測得之每隔0.5μm間隔凹凸面2與中心線L所形成之角之大小之絕對值的平均值，算出平均傾斜角θ。

霧度係漫透射光相對於全光線透射光之比率。因此，藉由減小霧度，可減少漫透射光。因此，可實現較高之解析度。覆蓋構件1之霧度較佳為未達10%，更佳為未達4%，更佳為3%以下，進而較佳為 2%以下。但是，若覆蓋構件1之霧度過小，則存在容易產生背景之映入之情形。因此，覆蓋構件1之霧度較佳為0.5%以上，更佳為0.8%以上。

其次，對覆蓋構件1之製造方法之一例進行說明。

首先，準備透光板10。其次，可藉由於透光板10之第1主面10a上藉由噴灑法塗佈透光性材料，並使之乾燥而成膜塗膜11。藉由使用噴灑法形成塗膜11，容易將與θ或RSm相關之條件(A)、條件(B)及條件(D)設為較佳範圍。

更詳細而言，塗膜11之成膜可以如下方式進行。一面向塗敷室中搬送透光板10，一面於相對於透光板10之搬送方向垂直之方向使噴嘴往復掃描，同時自噴嘴朝透光板10噴出透光性材料。其後，使所獲得之塗佈膜乾燥，藉此可完成塗膜11。於成膜過程中，較佳為對塗敷室賦予自上方朝下方流動之層流。

所製造之覆蓋構件1之平均傾斜角θ或(H₁-H₂)/Ra例如可藉由控制自噴嘴噴出之液滴之粒徑、噴出壓力、每單位面積噴出之量、層流之流量等進行調節。

例如藉由使自噴嘴噴出之液滴之粒徑縮小，可減小平均傾斜角θ，可增大(H₁-H₂)/Ra。又，可減小粗糙度曲線要素之平均長度(RSm)。自噴嘴噴出之液滴之粒徑較佳為20μm以下，更佳為10μm以下。

例如，藉由使自噴嘴之噴出壓力提高，可減小平均傾斜角θ，可增大(H₁-H₂)/Ra。自噴嘴之噴出壓力例如較佳為0.25MPa以上，更佳為0.3MPa以上。

藉由使自噴嘴之噴出壓力降低，可減小粗糙度曲線要素之平均長度(RSm)。就該觀點而言，自噴嘴之噴出壓力較佳為0.34MPa以下。

例如，藉由使每單位面積之塗佈量減少，可減小平均傾斜角θ，可增大(H₁-H₂)/Ra。每單位面積之塗佈量例如較佳為50g/m²以下，更佳為48g/m²以下。

例如，藉由使層流之流量增加，可減小平均傾斜角θ，可增大(H₁-H₂)/Ra。層流之流量例如較佳為25m³/分鐘以上。

再者，於由強化玻璃板構成透光板10之情形時，可於強化玻璃板上成膜塗膜11，亦可於在玻璃板上成膜塗膜11後，對玻璃板進行化學強化或風冷強化，藉此加以強化。

以下，基於具體之實施例，對本發明更詳細地進行說明，但本發明並不受以下實施例任何限定，可於不變更其主旨之範圍內進行適當變更而實施。

(實施例1~3及比較例1)於玻璃平板(日本電氣硝子股份有限公司製造之無鹼玻璃平板，厚度0.7mm)上藉由噴灑法塗佈含有SiO₂成分之溶液，並使之乾燥，藉此形成塗膜，獲得覆蓋構件。詳細之條件示於表1。

(實施例4)於玻璃平板(日本電氣硝子股份有限公司製造之強化玻璃平板，厚度0.7mm)上藉由噴灑法塗佈含有SiO₂成分之溶液，並使之乾燥，藉此形成塗膜，獲得覆蓋構件。詳細之條件示於表1。

(比較例2、3)藉由對玻璃平板(日本電氣硝子股份有限公司製造之無鹼玻璃平板，厚度0.7mm)之一主面進行蝕刻而形成凹凸，獲得覆蓋構件。

(霧度之測定)基於JIS K 7136(2000)，對實施例1~4及比較例1~3中製作之覆蓋構件之霧度進行測定。將結果示於表1。

(平均傾斜角θ及(H₁-H₂)/Ra之測定)藉由上述平均傾斜角θ之測定方法，求出實施例1~4及比較例1~3中製作之覆蓋構件之平均傾斜角θ。再者，於此次之測定中，將基準長度設為317μm。又，根據317 μm×238μm之範圍之表面粗糙度曲面，藉由支承曲線繪圖法求出(H₁-H₂)/Ra。將結果示於表1。又，將所測得之凹凸面之粗糙度曲線及支承曲線繪圖示於圖2~圖8。將各覆蓋構件之凹凸面之立體圖示於圖9~圖14。

(解析度之評價)於線之粗細1mm、高度4mm、寬度4mm之大小之文字「c」上方的高度20mm之位置設置覆蓋構件，自距離500mm之位置目測觀察文字「c」。此時，將清楚地看到文字「c」者設為◎，將清楚地看到但稍微模糊者設為○，將模糊但可辨認者設為△，將模糊而無法辨認者設為×，進行判定。

(映入程度之評價)於覆蓋構件之背面貼附隱形膠帶(3M公司製造)，使螢光燈反射至覆蓋構件凹凸面。將該經反射之螢光燈模糊而完全看不見者設為◎，將稍微看見但模糊者設為○，將看見螢光燈但稍微模糊者設為△，將明顯看到螢光燈者設為×，進行判定。

根據表1所示之結果可知，即使於將霧度減小為某一程度之情形時，藉由滿足下述條件(A)或條件(B)及條件(C)、或者滿足下述條件(C)及條件(D)，而亦可實現較高之解析度，抑制背景之映入。

1‧‧‧覆蓋構件

1a‧‧‧第1主面

1b‧‧‧第2主面

2‧‧‧凹凸面

10‧‧‧透光板

10a‧‧‧第1主面

10b‧‧‧第2主面

11‧‧‧塗膜

L‧‧‧中心線

Claims (11)

1. 一種顯示器之覆蓋構件，其一主面係由凹凸面構成，上述凹凸面之粗糙度曲線之平均傾斜角(θ)為0.5°~1.5°、或上述凹凸面之由JIS B0601-2013所規定之粗糙度曲線要素之平均長度(RSm)為1.0μm~21.0μm，且於上述凹凸面之粗糙度曲面之支承曲線中，將面積率為70%時之高度設為H₁、面積率為99%時之高度設為H₂，並將上述凹凸面之由JIS B0601-2013所規定之算術平均粗糙度設為Ra時，(H₁-H₂)/Ra為0.25以上。
2. 一種顯示器之覆蓋構件，其一主面係由凹凸面構成，上述凹凸面之粗糙度曲線之平均傾斜角(θ)與JIS B0601-2013所規定之粗糙度曲線要素之平均長度(RSm)的乘積(θ×RSm)為0.5°‧μm~40°‧μm，且於上述凹凸面之粗糙度曲面之支承曲線中，將面積率為70%時之高度設為H₁、面積率為99%時之高度設為H₂，並將上述凹凸面之由JIS B0601-2013所規定之算術平均粗糙度設為Ra時，(H₁-H₂)/Ra為0.25以上。
3. 如請求項1或2之顯示器之覆蓋構件，其中霧度為0.5%以上且未達10%。
4. 如請求項1至3中任一項之顯示器之覆蓋構件，其包括：透光板；及塗膜，其覆蓋上述透光板之一主面之至少一部分，且構成上述凹凸面。
5. 如請求項4之顯示器之覆蓋構件，其中上述塗膜覆蓋上述透光板之一整個主面。
6. 如請求項4或5之顯示器之覆蓋構件，其中上述塗膜由無機膜構成。
7. 如請求項4至6中任一項之顯示器之覆蓋構件，其中上述塗膜之鉛筆硬度為6H以上。
8. 如請求項4至7中任一項之顯示器之覆蓋構件，其中上述透光板由強化玻璃板構成。
9. 一種顯示器之覆蓋構件之製造方法，其係製造如請求項1至8中任一項之顯示器之覆蓋構件之方法，且於透光板上藉由噴灑法形成構成上述凹凸面之塗膜。
10. 如請求項9之顯示器之覆蓋構件之製造方法，其中由玻璃板構成上述透光板，且於形成上述塗膜後，對上述玻璃板進行化學強化。
11. 如請求項9之顯示器之覆蓋構件之製造方法，其使用強化玻璃板作為上述透光板。