TW201422410A - 偏光薄膜及偏光板之製造方法 - Google Patents

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Abstract

在洗淨處理之後，進行水分去除處理，其係一邊對偏光薄膜施加200~1500 N/m之張力且將薄膜捲附在設置於其單面之第一輥上，一邊對第一輥之相反側的薄膜表面吹送空氣以除去水分；接著，一邊將被空氣吹送的面捲附在第二輥上，一邊對第二輥之相反側的薄膜表面吹送空氣以除去水分，並藉由設置在各個空氣吹送位置附近之第一排出容器及第二排出容器，來回收被空氣所除去的水分。

Description

偏光薄膜及偏光板之製造方法
本發明係關於一種製造偏光薄膜之方法及在藉由此方法得到之偏光薄膜上貼合保護薄膜之偏光板之製造方法。
從過往以來，在偏光薄膜方面，一直使用於聚乙烯醇系樹脂薄膜吸附配向有碘等之二色性色素而成之物。該偏光薄膜通常是至少在單面、一般是在兩面透過黏著劑，貼合三醋酸纖維素等之保護薄膜來做為偏光板，可被使用於液晶電視、個人電腦用顯示器、行動電話等之液晶顯示裝置。
偏光薄膜係藉由對於聚乙烯醇系樹脂薄膜進行膨潤處理、染色處理、拉伸處理、交聯處理(硼酸處理)及洗淨處理，最後藉由進行乾燥所製造而得。在像這樣的製造步驟中，聚乙烯醇系樹脂薄膜，在從各處理浴被拉出來而傳送至下一步驟之際，通常會使用軋輥等來進行薄膜表面的水分去除處理。
此水分去除處理之方法，例如，在特開2011-180576 號公報（專利文獻1）段落〔0034〕已記載著一種水分除去方法，其係為了防止在製造偏光薄膜之時發生液體滴落，因而在從各處理浴拉出薄膜之際，使用夾輥等之除液輥，藉由氣刀來削落液滴，以從薄膜表面除去多餘的水分之方法。又，在特開2011-232016 號公報(專利文獻2)揭示了一種水分去除處理裝置，其係用以對於在洗淨處理後輸送到乾燥爐之長尺狀薄片進行水分去除處理，並具備：供張開放置長尺狀薄片用之導引輥；從斜方向對著該已被張開放置於導引輥的長尺狀薄片吹送空氣的氣刀；以及回收因所吹送的空氣而飛濺的水分之排氣室，專利文獻2也例示了將水分去除處理裝置使用於偏光薄膜之製造的例子。
如專利文獻1所示，因為當使用氣刀來進行水分去除處理時，可以有效地去除附著於薄膜表面的水分，又也可以除去塵埃等之異物，所以能夠製造缺陷少的薄膜。但是，在以氣刀吹落而除去薄膜表面的水滴之情況，有時會有飛散的水污染製造設備的情形。對於此點，如專利文獻2所示，可藉由設置回收水分之排氣室來防止因水之飛散所引起之污染。
另一方面，偏光薄膜及偏光板被要求比以往更加薄片化，例如，以往係使用75μm 厚的聚乙烯醇系樹脂薄膜來做為偏光薄膜之原始薄膜；近年則也有以厚度為60μm 以下之原始薄膜來製造偏光薄膜。使用薄的原始薄膜，在被實施染色處理、拉伸處理、交聯處理及洗淨處理所得到的水濡濕的狀態下，當從氣刀將空氣吹送至薄的偏光薄膜以去除水分時，則會發生薄膜破裂，薄膜表面上一部分的水去除不良、附著有殘留的異物等，以致發生偏光薄膜外觀不佳的問題。
本發明係為解決上述之課題所完成者，其目的係在於：提供一種生產效率優異，且外觀良好的偏光薄膜之製造方法。本發明之另外一個課題係在於提供一種生產效率優異，且外觀良好的偏光板之製造方法。
本發明人發現：由薄片的聚乙烯醇系樹脂薄膜（原始薄膜）製造偏光薄膜時，藉由一邊如上述專利文獻2所揭示者那樣地將薄膜捲附在導引輥上，一邊對著該輥的相反側之薄膜表面吹送空氣，以排出容器回收被吹落的水來除去水分之方法，藉由對薄膜提供特定範圍的張力，可以外觀良好且生產效率良好地製造出相較於習知還要薄的偏光薄膜，並進一步地加入各種的檢討研究，至此乃完成本發明。
即，本發明係提供一種偏光薄膜的製造方法，其係在對於厚度為1~60μm之聚乙烯醇系樹脂薄膜，依序進行膨潤處理、染色處理、交聯處理及洗淨處理，且實施拉伸處理直到交聯處理結束為止；並且，於上述洗淨處理之後，進行水分去除處理之方法，其係一邊對薄膜提供200~1500N/m的張力且將薄膜捲附在其設置於其單面之第一輥上，一邊對第一輥之相反側的薄膜表面吹送空氣以去除水分；接著，一邊將被吹送空氣的面捲附在第二輥上，一邊對第二輥之相反側的薄膜表面吹送空氣以去除水分，並藉由設置於各個空氣吹送位置附近的第一排出容器及第二排出容器，來回收被空氣所除去的水分。
在此製造方法中，吹送到薄膜之空氣的風量可以是2~20m3/分。空氣係由氣刀前端的噴嘴對薄膜吹送，該噴嘴係可以按照：使得通過其吹出口前端的中心線相對於薄膜表面呈30~80°的角度，且使該吹出口前端至薄膜表面的距離成為1.5mm以下的方式配置而成。
回收所去除的水分之排出容器，可以具有開口部，且可按照使得該開口部至薄膜表面距離成為2mm以下的方式被配置而成。
在本發明之製造方法中，可於在如上述實施水分去除處理之後，再進行乾燥處理。在此情況，除了在水分去除處理之前所設置的軋輥之外， 乾燥爐的內部或乾燥爐之後方設置軋輥也是有效的，在此形態中之水分去除處理及乾燥處理，可以是藉由以設置在此等處理之前後的一組軋輥，於對薄膜施加200~800N/m的張力之狀態下進行。
又，本發明也提供一種偏光板之製造方法，其係使用紫外線硬化型之黏著劑，將保護薄膜貼合於藉由包含乾燥處理之上述方法所製造的偏光薄膜上。
根據本發明，因為即使在原始薄膜為薄的情況下，也不會發生薄膜之破裂、除水不良等，可以製造外觀良好的偏光薄膜，所以採用此偏光薄膜之偏光板為生產效率優異、缺陷少、並且能成為良好品質之物。
本發明係對聚乙烯醇系樹脂薄膜依序進行膨潤處理、染色處理、交聯處理及洗淨處理，且實施拉伸處理直到交聯處理結束為止，從而製造偏光薄膜。又，於洗淨處理之後，再實施水分去除處理。根據本發明實施水分去除處理來製造偏光薄膜之方法，適合使用在水分去除處理之後，實施乾燥處理所得到的偏光薄膜上，透過紫外線硬化型的黏著劑，貼合保護薄膜以製造偏光板之方法中。以下、參照適當圖式來詳細地說明本發明。 〔偏光薄膜之製造方法〕
具體而言，偏光薄膜為在聚乙烯醇系樹脂薄膜吸附配向有二色性色素之物。作為原料之聚乙烯醇系樹脂通常是藉由將聚乙酸乙烯酯系樹脂予以皂化而得。該皂化度通常是85莫耳%以上，較佳為90莫耳%以上，更佳為99莫耳%以上。聚乙酸乙烯酯系樹脂，例如，除了乙酸乙烯酯的單獨聚合物之聚乙酸乙烯酯之外，舉例來說，其可以是乙酸乙烯酯、與能和它共聚合之其他的單體之共聚物等。能與乙酸乙烯酯共聚合之其他的單體，舉例來說，其可以是不飽和羧酸類、烯烴類、不飽和磺酸類、乙烯基醚類等。聚乙烯醇系樹脂之聚合度通常是1000~10000左右，較佳者為1500~5000左右。
聚乙烯醇系樹脂可以是被改質，例如，可使用經以醛類改質的聚乙烯基甲醛、聚乙烯基縮醛、聚乙烯基縮丁醛等。
在本發明中係使用厚度為1~60μm的聚乙烯醇系樹脂薄膜做為偏光薄膜的原始薄膜。薄膜的厚度較佳為約20~60μm，更佳者為約30~60μm。在工業上，實際上有時也使用薄膜的寬度為約1500~6000mm之物。
偏光薄膜係藉由對於上述的由聚乙烯醇系樹脂構成的原始薄膜，依序進行膨潤處理、染色處理、交聯處理及洗淨處理之溶液處理，並於交聯處理中及視需要而定在交聯處理之前，進行薄膜之單軸拉伸，最後再加以乾燥而得到者。交聯處理中進行的單軸拉伸為濕式拉伸，雖然在那之前的膨潤處理及染色處理時進行單軸拉伸的情況也是濕式拉伸，然而在膨潤處理之前也可以乾式來進行單軸拉伸。
如這種的單軸拉伸可以是只以一個步驟來進行，也可以二個以上的步驟來進行；可以採用眾所皆知的拉伸方法。拉伸方法的具體例子，舉例來說，有在搬運薄膜的二個軋輥之間，使其具有轉速差地進行拉伸之輥間拉伸，如日本專利第2731813號公報上所記載的熱輥拉伸、拉幅機拉伸等。步驟的順序，基本上係如上述，對於處理浴的數量或處理條件等沒有限制。
又，可以為了別的目的而追加上述以外的處理。可追加的處理之例子，舉例來說，有可於交聯處理後進行的不含硼酸之碘化物水溶液之浸漬處理(碘化物處理)，不含硼酸但含有氯化鋅等之水溶液的浸漬處理(鋅處理)。
第1圖為顯示關於本發明偏光薄膜之製造方法中所使用的製造裝置之較佳的配置例之截面示意圖。該製造裝置係按照使得：由聚乙烯醇系樹脂構成的原始薄膜10從輸送輥11被捲出來，依序通過膨潤槽13、染色槽15、交聯槽17及洗淨槽19，接著輸送到水分去除裝置23，最後通過乾燥爐25的方式所構成的。在第1圖中雖然未明示，然而在交聯槽17或在它之前可實施單軸拉伸。又，在第1圖中，雖然分別例示了膨潤槽13、染色槽15、交聯槽17及洗淨槽19之每一槽的設計例；然而視需要而定，也可以對於某一個處理設計複數個處理槽。所製造的偏光薄膜30就這樣直接輸送到貼合下個保護薄膜之步驟中。以下，針對本發明中所實施的處理進行說明。 （膨潤處理）
膨潤處理係進行：除去聚乙烯醇系樹脂薄膜表面之異物，除去薄膜中之可塑劑，提供後續染色處理之易染色性，為了薄膜之可塑化等之目的而使其與水接觸。膨潤處理的條件係按照在可以達成該等目的的範圍，且不發生薄膜之喪失透明度與極端溶解等之不良現象的範圍來決定的。
在對於聚乙烯醇系樹脂構成的原始薄膜實施最初的膨潤處理之情況，例如，可藉由將薄膜浸漬於溫度10~50℃左右、較佳為20~40℃左右之處理浴中來進行。薄膜的浸漬時間，較佳者為30~300秒左右，更佳者為60~240秒左右。對於已預先在大氣中拉伸的聚乙烯醇系樹脂薄膜實施膨潤處理的情況，例如，可以藉由將薄膜浸漬於溫度20~70℃左右、較佳為30~60℃左右的處理浴中來進行。薄膜的浸漬時間，較佳者為30~300秒左右，更佳者為60~240秒左右。
在膨潤處理中，由於聚乙烯醇系樹脂薄膜會在寬度方向膨潤，致使容易發生薄膜形成皺褶等之問題，因而較佳者為使用開幅輥(擴展輥)、螺旋輥、中凸輥、導布器、彎曲桿、拉幅機拑具等之眾所皆知的寬度擴展裝置，藉以消除薄膜之皺褶且一併輸送薄膜。又，為了使浴中輸送薄膜達到安定化之目的，可以使用水中灑水器來制控膨潤槽13中之水流，與EPC裝置(Edge Position Control 裝置：偵測薄膜的端部，以防止薄膜扭曲的裝置)等一起併用是有用的。
在膨潤處理中，即使是在薄膜的輸送方向上，薄膜也是會膨潤擴大，所以在不對薄膜積極進行拉伸的情況，由於輸送方向上之薄膜未放鬆，所以較佳者為：例如，在膨潤槽13的前後設置有控制輸送輥的轉速度等之構件。又，在依序對於原始薄膜實施膨潤處理、染色處理及交聯處理的情況，可以在膨潤處理中進行單軸拉伸，該情況的拉伸倍率通常是1.2~3倍，較佳為 1.3~2.5倍。
在膨潤槽13所使用的處理浴中，除了純水之外，可以使用添加有約 0.01~10重量％的範圍之硼酸(特開平10-153709號公報)、氯化物(特開平06-281816號公報)、無機酸、無機鹽、水溶性有機溶媒、醇類等而成的水溶液。 （染色處理）
染色處理係以讓聚乙烯醇系樹脂薄膜吸附二色性色素為目的；例如，可以將薄膜浸漬於含有碘及水溶性二色性染料等之二色性色素的處理浴中來進行。染色處理的條件係按照在可以達成該等目的的範圍、且不會使聚乙烯醇系樹脂薄膜發生極端的溶解、或喪失透明度等之不合適現象的範圍內來決定的。
於使用碘來做為二色性色素的情況，在處理浴（染色浴）中，例如，可以使用重量比濃度：碘/碘化鉀/水=約0.003~0.2/約0.1~10/100的水溶液。也可以使用碘化鋅等之其他的碘化物來代替碘化鉀，也可以將碘化鉀與其他的碘化物一起併用。又，碘化物以外的化合物，例如，也可以共存有硼酸、氯化鋅、鹽化鈷等。於添加硼酸的情況，在含有碘的特點上係與後述的交聯處理有所區別，只要是水溶液中相對於100重量份的水計為含有約0.003 重量份以上的碘，即可以視為染色浴了。於浸漬薄膜時之染色浴的溫度宜為10~45℃左右，較佳為20~35℃；薄膜的浸漬時間宜為30~600秒左右較佳為60~300秒。
使用水溶性二色性染料做為二色性色素的情況，在處理浴中，可以使用重量比濃度：二色性染料/水=約0.001~0.1/100的水溶液。在該處理浴中，也可以共存有染色助劑等；例如，可以含有硫酸鈉等之無機鹽或界面活性劑等。又，二色性染料，可以是單獨使用，也可以二種類以上的二色性染料一起併用。浸漬薄膜時之染色浴的溫度宜為20~80℃左右，較佳為30~70℃；薄膜的浸漬時間宜為30~600秒左右，較佳為60~300秒。
對聚乙烯醇系樹脂薄膜依序進行膨潤處理、染色處理、交聯處理時，通常是在染色槽進行薄膜的拉伸。薄膜的拉伸係以使設置於染色槽前後之軋輥產生轉速差等方法來進行。到染色處理為止之累積拉伸倍率(在染色處理以前沒有拉伸步驟的情況則為染色處理的拉伸倍率)，通常係 1.6~4.5倍，較佳為1.8~4倍。拉伸倍率為小於1.6倍時，則就會有薄膜的破裂頻率變多，產率惡化的傾向。
此外，於染色處理中，為了與膨潤處理同樣地消除薄膜之皺褶並且輸送聚乙烯醇系樹脂薄膜，則可以在染色槽15的內部及/或其出入口設置開幅輥(擴展輥)、螺旋輥、中凸輥、導布器、彎曲桿等。 （交聯處理）
交聯處理係以藉由交聯來達成耐水化及色相調整(防止薄膜染上藍色等)等為目的；相對於100重量份的水而言，可以藉由在含有1~10重量份的硼酸之處理浴中，浸漬該已為二色性色素所染色的聚乙烯醇系樹脂薄膜來進行。在染色處理中使用二色性色素為碘的情況，處理浴較佳為除了硼酸以外尚含有碘化物；相對於100重量份的水而言，它的量可以設定為1~30重量份。碘化物，舉例來說，其可以是碘化鉀、碘化鋅等。又，碘化物以外的化合物，例如，可以共存有氯化鋅、鹽化鈷、鹽化鋯、硫代硫酸鈉、亜硫酸鉀、硫酸鈉等。另外，用以耐水化之交聯處理，有時也被稱呼為耐水化處理、交聯處理、固定化處理等名稱。又，用以色相調整之交聯處理，有的情況也被稱為補色處理、再染色處理等名稱。
交聯處理可以隨著該目的而適當地變更硼酸及碘化物的濃度、以及處理浴的溫度。用以耐水化之交聯處理、及用以色相調整之交聯處理，沒有什麼特別區別，可於以下之條件下實施。交聯處理的目的是以交聯致使耐水化，在對於聚乙烯醇系樹脂構成的原始薄膜，依序實施膨潤處理、染色處理及交聯處理的情況，處理浴可以是重量比濃度：硼酸/碘化物/水=3~10/1~20/100的水溶液。視需要而定，也能以使用乙二醛及戊二醛等之交聯劑來代替硼酸，也能以硼酸與交聯劑一起併用。處理浴的溫度通常是50~70℃左右，較佳為53~65℃，薄膜的浸漬時間通常是10~600秒左右，較佳為20~300秒，更佳為20~200秒。又，在對於已預先拉伸的聚乙烯醇系樹脂薄膜依序實施染色處理及交聯處理的情況下，交聯處理浴的溫度通常是50~85℃左右，較佳為55~80℃。
在進行以耐水化為目的之交聯處理後，也可以進行以色相調整為目的之交聯處理。以該色相調整為目的之交聯處理的條件，例如，在染色處理中使用的二色性染料為碘的情況，可以使用重量比濃度：硼酸/碘化物/水=1~5/3~30/100的處理浴。處理浴的溫度通常是10~45℃左右；薄膜的浸漬時間通常是1~300秒左右，較佳為2~100秒。
此等之交聯處理可以進行複數次，通常是進行2~5次。在此情況，所使用的各交聯處理浴之組成及溫度，只要是在上述的範圍內，可以是相同的，也可以是不同的。在以交聯致使耐水化用的交聯處理及色相調整用的交聯處理，也可以分別以複數個步驟來進行。 （洗淨處理）
洗淨處理係在交聯處理之後，為了達成去除附著在聚乙烯醇系樹脂薄膜上之多餘的硼酸及碘等之藥劑的目的而進行的。洗淨處理，例如，為了耐水化及/或色調調整，可藉由將已交聯處理的聚乙烯醇系樹脂薄膜浸漬於水中，或以灑水器把水噴霧於薄膜上，或者將該等一起併用來進行。
在第1圖中係顯示將聚乙烯醇系樹脂薄膜浸漬於水中來進行洗淨處理的情況之例子。洗淨處理中之水的溫度通常是2~40℃左右；浸漬時間為2~120秒左右。另外，即使在交聯處理及洗淨處理中，為了達成去除皺褶並且輸送聚乙烯醇系樹脂薄膜之目的，也可以使用開幅輥。 (水分去除處理)
本發明所進行的聚乙烯醇系樹脂薄膜之水分去除處理，為了達成去除薄膜表面的水及異物等之附著物的目的，可以藉由使用氣刀吹送空氣到薄膜表面來進行。具體而言，經過洗淨處理的聚乙烯醇系樹脂薄膜，係在施加預定的張力之狀態下被輸送至水分去除裝置23，藉由設置於裝置內的氣刀吹送空氣至薄膜表面來實施水分去除處理的。以下，針對本發明所進行的水分去除處理，一邊適當地參照第2圖及第3圖，一邊依序進行說明。
第2圖為顯示水分去除裝置23內之裝置的配置例之截面示意圖。參照第2圖，在水分去除裝置23內配置有二組的輥、氣刀及排出容器之套組，藉以對於薄膜的每一單面進行水分去除。輸送至水分去除裝置23內的聚乙烯醇系樹脂薄膜，一邊將薄膜捲附在設置於其單面的第一輥40，一邊將來自第一氣刀42的空氣吹送至第一輥之相反側的薄膜表面；接著，一邊將被空氣吹送的面捲附在設置於輸送方向下游的第二輥46，一邊將來自第二氣刀48的空氣吹送至第二輥之相反側的薄膜表面來進行。經由空氣所除去的水係藉由設置在空氣吹送位置附近的第一排出容器44及第二排出容器50來分別回收。
第3圖係顯示適合於進行上述的水分去除處理之水分去除裝置內的配置條件之截面示意圖。以下，參照第3圖來說明。第一氣刀42係被配置在薄膜接觸第一輥40前的薄膜輸送方向之下游側空間上，而從薄膜輸送方向的下游側向上游側吹送空氣。第一氣刀42是從位於前端的噴嘴將空氣吹送出來之物；上述的噴嘴係按照使得：通過該吹出口前端的中心線(第3圖之點線)成為從第一輥40的切線起30~80°的角度(第3圖之∠θ)的方式來配置。又，配置成使得：上述的吹出口前端到薄膜表面的距離成為1.5mm以下。當氣刀被設置的角度、及到薄膜表面的距離為在上述的範圍時，可以抑制由於空氣而產生的薄膜破裂，又能夠以良好的效率來進行水分去除。
上述的第一排出容器44係按照使得：在通過第一輥40上的薄膜之中，被空氣吹到的位置之附近，排出容器的開口部為向著氣刀側的形態加以配置而成的。此時，可以按照使得：從排出容器的開口部至輥上的薄膜表面為止之距離成為0.3~2mm的方式加以配置。當排出容器與薄膜的距離為2mm以下時，由氣刀吹出的空氣到達薄膜之後，附著在薄膜的水同時圓滑地排出而進入容器內，因而可以效率良好地除去水並加以回收。又，當排出容器與薄膜的距離為0.3mm以上，可以藉由排出容器與薄膜之接觸來防止薄膜破裂。排出容器內所回收的水係經由排出容器內的吸引，而從內壁被收集、通過廢液溝而被排出到廢液管路。
第二輥46、第二氣刀48及第二排出容器50係可以分別與上述第一輥40、第一氣刀42及第一排出容器44相同地配置。
本發明中一邊對於洗淨處理後的聚乙烯醇系樹脂薄膜施加200~1500N/m的張力，一邊進行水分去除處理。張力為在該範圍內時，於經由氣刀實施水分去除處理之際，由於能夠抑制因空氣所導致的薄膜擺動，所以薄膜就不會接觸排出容器而破裂，因而就能夠提高薄膜的生產性。又，軋輥除了設置於洗淨槽19之後方以外，可以設置在水分去除裝置23或乾燥爐25之後方，藉此能夠對於薄膜施加張力。當考慮有無因不能被水分去除裝置23除去的水滴而引起軋輥的污染時，如第2圖所示，較佳者為將軋輥設置在乾燥爐25的內部或乾燥爐25之後方；在此情況的軋輥間之張力(水分去除處理及乾燥處理中的張力)係設定在200~800N/m之範圍。
上述的張力係可以藉由設置組裝有使用市售的荷重單元、或應變規的張力輥感測器等之導引輥，來進行測定。張力之測定可藉由使聚乙烯醇系樹脂薄膜接觸導引輥來進行。另外，張力測定用之荷重單元或張力感測器輥為僅於測定上使用，通常是被配置成不會與薄膜接觸。
由氣刀所吹出的空氣之風量可以設定為2~20m3/分。當風量小於2m3/分的時候，因風壓過弱以致不能充分進行水分去除；在不能去除附著薄膜表面的水分或異物而就這樣地製造偏光薄膜時，將它應用於偏光板時就有形成缺陷的可能性。又，當風量大於20m3/分的時候，因風壓過強以致薄膜就會有發生破裂的可能性。
以上說明的水分去除處理係可以按照配置條件及處理條件而在該範圍內適當地調整。在上述的範圍內時，即使是在聚乙烯醇系樹脂的原始薄膜之厚度為60μm的情況下，亦能夠進行水分去除處理而不會發生部分的水分去除不良的情形。因此，能夠抑制在薄膜表面發生結晶的異物，於製造應用偏光薄膜的偏光板之際，特別是在使用紫外線硬化型黏著劑等之活性能量線硬化型黏著劑來製造偏光板的情況，亦能夠有效地抑制上述之異物所引起的缺陷。 （乾燥處理）
在水分去除處理之後，可以藉由將聚乙烯醇系樹脂薄膜予以乾燥來製作偏光薄膜。薄膜之乾燥，在乾燥爐25內，例如，可以設定在溫度30~100℃左右、30~600秒左右。
如此作法所製造的偏光薄膜之最終累積拉伸倍率，通常是 4.5~7倍，較佳為5~6.5倍。 〔偏光板之製造方法〕
本發明的偏光板之製造方法係透過黏著劑將保護薄膜，貼合在如上述所製造的偏光薄膜之至少一面而成之物。 (保護薄膜)
構成上述的保護薄膜之材料，舉例來說，其可以是如環烯烴系樹脂及乙酸纖維素系樹脂、聚對苯二甲酸乙二酯及聚萘二甲酸乙二酯、聚對苯二甲酸丁二酯之類的聚酯系樹脂、聚碳酸酯系樹脂、丙烯酸系樹脂、聚丙烯系樹脂等在該領域中過往以來所廣泛使用的薄膜材料。在偏光薄膜的兩面貼合有保護薄膜的情況，可以是各個保護薄膜皆相同，也可以是不同種類的薄膜。
所謂環烯烴系樹脂，例如，其係指具有由如降冰片烯及多環降冰片烯系單體之類的環狀烯烴(環烯烴)構成的單體之單位的熱可塑性樹脂，也稱為熱可塑性環烯烴系樹脂。環烯烴系樹脂，可以是如上述的環烯烴之開環聚合物、或使用二種以上的環烯烴之開環共聚物的加氫物，也可以是環烯烴、與鏈狀烯烴類、及具有如乙烯基之類的聚合性雙鍵的芳香族化合物等之加成聚合物。又，在環烯烴系樹脂導入有極性基之物也是有效的。
在使用環烯烴、與鏈狀烯烴及/或具有乙烯基的芳香族化合物之共聚物來構成第一保護薄膜的情況，鏈狀烯烴，舉例來說，其可以是乙烯、丙烯等；又，具有乙烯基的芳香族化合物，舉例來說，其可以是苯乙烯、α-甲基苯乙烯、核烷基取代苯乙烯等。在像這類的共聚物中，由環烯烴構成的單體之單位可以是50莫耳%以下，然而較佳者為15~50莫耳%左右。特別是在使用環烯烴與鎖狀烯烴及具有乙烯基的芳香族化合物之三元共聚物來構成第一保護薄膜的情況，由環烯烴構成的單體之單位，如上述，其可以是比較少的量。在此種三元共聚物中，由鏈狀烯烴構成的單體之單位通常是5~80莫耳%，而由具有乙烯基的芳香族化合物構成的單體之單位，通常是5~80莫耳%。
在使用環烯烴與鎖狀烯烴及/或具有乙烯基的芳香族化合物之共聚物的情況，鏈狀烯烴，舉例來說，其可以是乙烯、丙烯等；又，具有乙烯基的芳香族化合物，舉例來說，其可以是苯乙烯、α-甲基苯乙烯、核烷基取代苯乙烯等。在像這類的共聚物中，由環烯烴構成的單體之單位可以是50莫耳%以下(較佳為15~50莫耳%)。特別是在使用環烯烴與鎖狀烯烴及具有乙烯基的芳香族化合物之三元共聚物的情況，由環烯烴構成的單體之單位，如上述，其可以是比較少的量。在此種三元共聚物中，鏈狀烯烴構成的單體之單位通常是5~80莫耳%；具有乙烯基的芳香族化合物構成的單體之單位，通常是5~80莫耳%。
環烯烴系樹脂可以使用適合的市售品，例如，分別適合使用商品名之“TOPAS”〔Topas Advanced Polymers GmbH社製〕、“阿通”〔JSR股份有限公司製〕、“傑歐諾阿(ZEONOR)”及“傑歐諾克斯(ZEONEX)”〔以上為日本傑恩股份有限公司製〕、“阿貝魯”〔三井化學股份有限公司製〕、“歐克西斯(OXIS)”〔大倉工業股份有限公司製〕等。將像這類的環烯烴系樹脂予以製膜而形成薄膜之際，可適合使用溶劑流延法、溶融擠壓法等之眾所皆知的方法。又，例如，也可以使用“S西納”及“SCA40”〔以上為積水化學工業 股份有限公司製〕、“傑歐諾阿薄膜”〔日本傑恩股份有限公司製〕等之預先製膜的環烯烴系樹脂製薄膜之市售品。
環烯烴系樹脂薄膜可以是經單軸拉伸之物，也可以是經雙軸拉伸之物。藉由實施拉伸，可以賦予環烯烴系樹脂薄膜任何的相位差値。拉伸通常是一邊捲出薄膜圓筒，一邊在加熱爐中向輥的進行方向(薄膜的長軸方向)、向垂直於其進行方向之方向(薄膜的寬度方向)、或向其兩方向連續地進行拉伸。加熱爐的溫度通常是採用環烯烴系樹脂的玻璃轉移溫度附近至大於玻璃轉移溫度100℃的範圍。拉伸的倍率通常是1.1~6倍，較佳者為1.1~3.5倍。
當環烯烴系樹脂薄膜為處於圓筒卷狀態時，由於薄膜彼此接合而有容易產生黏結的傾向，所以通常是在貼合保護薄膜之後再形成圓筒卷。又，一般而言，環烯烴系樹脂薄膜的表面活性差，因而較佳者為對於和偏光薄膜接合的表面進行電漿處理、電暈處理、皂化處理、紫外線照射處理及燒成(火焰)處理等之表面處理。其中，比較容易能夠實施的是電漿處理，特別適合的是大氣壓電漿處理及電暈處理。
乙酸纖維素系樹脂係指纖維素的一部分或完全酯化物，舉例來說，其可以是由纖維素的乙酸酯、丙酸酯、丁酸酯、此等之混合酯等所構成的薄膜。比較具體地舉例來說，其可以是三醋酸纖維素薄膜、二乙醯基纖維素薄膜、乙酸纖維素丙酸酯薄膜、乙酸纖維素丁酸酯薄膜等。像這類的纖維素酯系樹脂薄膜，可以適合使用適當的市售品，舉例來說，其可以是分別為商品名之“富士特克TD80”、“富士特克TD80UF”、“富士特克TD80UZ”及“富士特克TD60UL”〔以上為富士薄膜股份有限公司製〕；“KC8UX2M”、“KC8UY”、“KC4UYW”及“KC6UAW”〔以上為柯尼卡照明 股份有限公司製〕等。
又，保護薄膜也適合使用已賦予相位差特性的乙酸纖維素系樹脂薄膜。此種已賦予相位差特性的乙酸纖維素系樹脂薄膜的市售品，舉例來說，其可以是分別為商品名之“WV BZ 438”〔富士薄膜股份有限公司製〕、“KC4FR-1”、“KC4CR-1”及“KC4AR-1”〔以上為柯尼卡照明股份有限公司製〕等。乙酸纖維素有時也稱為乙醯纖維素、纖維素乙酸酯。
本發明之偏光板之製造方法所用的保護薄膜之厚度，雖然較佳者是薄的，然而過薄時，強度就會變低、加工性變差。另一方面，過厚時，則會有透明性降低，積層後需要長的熟成時間等之問題。因此，保護薄膜之適當的厚度，例如，可以是5~200μm，較佳者為10~150μm，更佳者為10~100μm。
為了提高黏著劑與偏光薄膜及/或保護薄膜之接合性，也可以對於偏光薄膜及/或保護薄膜實施電暈處理、火焰處理、電漿處理、紫外線處理、底劑塗佈處理及皂化處理等之表面處理。
又，對於保護薄膜亦可以實施防眩處理、抗反射處理、硬被覆處理、抗靜電處理及防污處理等之表面處理，此等可以分別單獨實施，或者組合二種以上一起實施。又，保護薄膜也可以含有二苯甲酮系化合物及苯并***系化合物等之紫外線吸收劑，以及苯基膦系化合物及酞酸酯化合物等之可塑劑。
另外，保護薄膜可以具有做為相位差薄膜之功能、做為增加亮度薄膜之功能、做為反射薄膜之功能、做為半穿透反射薄膜之功能、做為擴散薄膜之功能、及做為光學補償薄膜之功能等之光學功能。在此種情況，例如，除了藉由在保護薄膜的表面積層相位差薄膜、增加亮度薄膜、反射薄膜、半穿透反射薄膜、擴散薄膜及光學補償薄膜等之光學功能性薄膜，以使其具有這類的功能以外，也可對保護薄膜本身賦予這類的功能。又，也可以是使保護薄膜持有：如具有增加亮度薄膜之功能的擴散薄膜等這樣的複數種功能。
做為相位差薄膜之功能，例如，其係可以對於上述的保護薄膜實施於日本專利第2841377號公報、日本專利第3094113號公報等之上所記載的拉伸處理，也可以藉由實施於日本專利第3168850號公報所記載的處理來提供。
相位差薄膜中之相位差特性，例如，可以在正面相位差値為5~100nm、厚度方向相位差値為40~300nm的範圍等而加以適當地選擇。又，做為增加亮度薄膜之功能係可以對於上述的保護薄膜，藉由以如特開2002-169025號公報或特開2003-29030號公報所記載這類的方法形成微細孔，或者藉由選擇反射的中心波長不同的二層以上之膽固醇型(cholesteric)液晶層、並加以重疊來提供。
做為反射薄膜或半穿透反射薄膜之功能係可以藉由對於保護薄膜以蒸鍍或濺鍍等來形成金屬薄膜而賦予；做為擴散薄膜之功能係可以藉由於保護薄膜上塗佈含有微粒子的樹脂溶液來賦予；此等之功能可以分別地賦予。又，做為光學補償薄膜之功能係可以藉由在保護薄膜上塗佈碟狀液晶性化合物等之液晶性化合物並進行配向來賦予。保護薄膜可以含有表現相位差的化合物；再者，也可以使用適當的黏著劑而直接將各種的光學功能性薄膜貼合於偏光薄膜上。光學功能性薄膜之市售品的例子，舉例來說，分別為商品名 “DBEF”〔3M社製，在日本可從住友3M股份有限公司取得〕等之增加亮度薄膜；“WV薄膜”〔富士薄膜股份有限公司製〕等之視野角改良薄膜、“阿通薄膜”〔JSR股份有限公司製〕、“傑歐諾阿薄膜”〔日本傑恩股份有限公司製〕、“S西納”〔積水化學工業股份有限公司製〕、“VA-TAC薄膜”〔柯尼卡照明股份有限公司製〕及“斯密卡萊特”〔住友化學股份有限公司製〕等之相位差薄膜等。 （黏著劑層）
構成黏著劑層的黏著劑，舉例來說，其可以是水系黏著劑及活性能量線硬化型之黏著劑等。
水系黏著劑，舉例來說，其可以是聚乙烯醇系樹脂水溶液、水系二液型胺基甲酸酯系乳化液黏著劑等。做為黏著劑使用的聚乙烯醇系樹脂，除了由對乙酸乙烯酯的單獨聚合物之聚乙酸乙烯酯實施皂化處理而得到的乙烯基醇同元聚合物以外，也有對乙酸乙烯酯與能和它共聚合之其他的單體之共聚物進行皂化處理而得到的乙烯基醇系共聚物，更進一步地對此等之羥基進行部分改質而得之改質聚乙烯醇系聚合物等。在水系黏著劑中也可以添加多價醛、水溶性環氧化合物、蜜胺系化合物、氧化鋯化合物、鋅化合物等之添加劑。在使用像這樣的水系之黏著劑的情況，由此等所得到黏著劑層通常是遠比1μm還要更薄。水系黏著劑係在其調製後於15~40℃的溫度下被塗佈；貼合溫度通常是15~30℃的範圍。
活性能量線硬化型之黏著劑，從耐候性及折射率、陽離子聚合性等之觀點來看，較佳者為黏著劑中有使用在分子內不含芳香環之環氧基化合物者。像這樣的環氧基化合物的例子，例如，可以是具有脂環式環的多元醇之縮水甘油醚、脂肪族環氧基化合物、脂環式環氧基化合物等。可適合使用於像這類的活性能量線硬化性黏著劑中之環氧基化合物，例如，雖然在日本專利第4306270號公報(即特開2004-245925號)中已詳細說明了，然而在此則概略地說明。
具有脂環式環的多元醇之縮水甘油醚，可以是對於在觸媒之存在下、加壓下，選擇性地將芳香族多元醇予以氫化反應而得到的核加氫多羥基化合物，將它予以縮水甘油醚化而成之物。芳香族多元醇，舉例來說，其可以是如雙酚A、雙酚F及雙酚S之類的雙酚型化合物；如苯酚酚醛清漆樹脂、甲酚酚醛清漆樹脂及羥基苯并醛苯酚酚醛清漆樹脂之類的酚醛清漆型樹脂；四羥基二苯基甲烷、四羥基二苯甲酮及聚乙烯基苯酚之類的多官能型之化合物等。藉由讓對於使此等之芳香族多元醇的芳香環進行氫化反應而得到的脂環式多元醇、與表氯醇起反應，可以形成縮水甘油醚。在具有像這類的脂環式環之多元醇的縮水甘油醚之中，較佳者為使用經氫化的雙酚A之二縮水甘油醚。
脂肪族環氧基化合物可以是脂肪族多價醇或其環氧烷加成物之聚縮水甘油醚。較具體而言，舉例來說，其可以是1,4-丁烷二醇之二縮水甘油醚；1,6-己烷二醇之二縮水甘油醚；甘油之三縮水甘油醚；三羥甲基丙烷之三縮水甘油醚；聚乙二醇之二縮水甘油醚；丙二醇之二縮水甘油醚；藉由在乙二醇、丙二醇或甘油之類的脂肪族多價醇中，加成一種或二種以上的環氧烷(環氧乙烷、環氧丙烷)所得到的聚醚多元醇的聚縮水甘油醚等。
脂環式環氧基化合物係指在分子內具有一個以上的鍵結於脂環式環的環氧基之環氧基化合物的意思。「鍵結於脂環式環的環氧基」係指下式(I)所示的構造中之橋接的氧原子-O-之意。下式(I)中，m為2~5的整數。
上述式(I)中之(CH2)m中的一個或複數個氫原子已除去的形式之基為鍵結於其他的化學構造之化合物，係可以用來做為脂環式環氧基化合物。(CH2)m中的一個或複數個氫原子也可以被甲基或乙基等之直鏈狀烷基適當地取代。在脂環式環氧基化合物之中，較佳為使用具有氧雜聯環己烷環〔上述式(I)中m=3之物〕及氧雜聯環庚烷環〔上述式(I)中m=4之物〕的環氧基化合物，因為它顯示出偏光薄膜與保護薄膜間之優異的接合性。以下，具體地例示該較佳使用的脂環式環氧基化合物，然而未限定於此等之化合物。
(a)環氧基環六甲基 環氧基環己烷羧酸酯類：以下式(II)所示，式中的R1及R2係表示互相獨立之氫原子或碳數1~5的直鏈狀烷基。
(b)鏈烷二醇之環氧基環己烷羧酸酯類：以下式 (III)所示，式中的R3及R4表示相互獨立之氫原子或碳數1~5的直鏈狀烷基；n表示2~20之整數。
(c)二羧酸之環氧基環六甲基酯類：以下式(IV)所示，式中的R5及R6表示相互獨立的氫原子或碳數1~5之直鏈狀烷基；p表示2~20之整數。
(d)聚乙二醇之環氧基環六甲基醚類：以下式(V)所示，式中的R7及R8表示相互獨立的氫原子或碳數1~5之直鏈狀烷基；q表示2~10之整數。
(e)鏈烷二醇之環氧基環六甲基醚類：以下式(VI)所示，式中的R9及R10表示相互獨立的氫原子或碳數1~5之直鏈狀烷基；r表示2~20之整數。
(f)二環氧基三螺旋化合物：以下式(VII) 所示，式中的R11及R12表示相互獨立的氫原子或碳數1~5之直鏈狀烷基。
(g)二環氧基單螺旋化合物：以下式(VIII)所示，式中的R13及R14表示相互獨立的氫原子或碳數1~5之直鏈狀烷基。
(h)乙烯基環己烷二環氧化物類：以下式(IX)所示，式中的R15表示氫原子或碳數1~5之直鏈狀烷基。
(i)環氧基環戊醚類：以下式(X)所示，式中的R16及R17表示相互獨立的氫原子或碳數1~5之直鏈狀烷基。
(j)二環氧基三環癸烷類：以下式(XI)所示，式中的R18表示氫原子或碳數1~5之直鏈狀烷基。
在以上所例示的脂環式環氧基化合物之中，從有市售或其類似物為比較容易得到等之理由來看，較佳為使用：例如3,4-環氧基環六甲基3,4-環氧基環己烷羧酸酯〔式(II)中R1=R2=H之化合物〕、3,4-環氧基-6-甲基環六甲基3,4-環氧基-6-甲基環己烷羧酸酯〔式(II)中，R1=4-CH3、R2=4-CH3之化合物〕、乙烯雙(3,4-環氧基環己烷羧酸酯)〔式(III)中，R3=R4=H、n=2之化合物〕、雙(3,4-環氧基環六甲基)己二酸酯、〔式(IV)中，R5=R6=H、p=4之化合物〕、雙(3,4-環氧基-6-甲基環六甲基)己二酸酯〔式(IV)中，R5=4-CH3、R6=4-CH3、p=4之化合物〕、乙二醇雙(3,4-環氧基環六甲基醚)〔式(VI)中，R9=R10=H、r=2之化合物〕。
在活性能量線硬化性黏著劑中，環氧基化合物可以是只單獨使用一種，也可以併用二種以上。該組成物中所用的環氧基化合物之環氧基當量通常是30~3000g/當量，較佳者為在50~1500g/當量之範圍。當環氧基當量下降到30g/當量時，就會有硬化後之保護膜的可撓性降低、接合強度減低的可能性。另一方面，當超過3000g/當量時，就會有與其他的成分間之相溶性降低的可能性。
又，活性能量線硬化性黏著劑，除了上述之環氧基化合物之外，也可以具有氧雜環丁烷化合物。藉由添加氧雜環丁烷化合物，可以降低上述的黏著劑之黏度，並且可以加快硬化速度。
氧雜環丁烷化合物為在分子內具有至少一個氧雜環丁烷環(四員環醚)之化合物，舉例來說，其可以是3-乙基-3-羥基甲基氧雜環丁烷、1,4-雙[(3-乙基-3-氧雜環丁基)甲氧基甲基]苯、3-乙基-3-(苯氧基甲基)氧雜環丁烷、二[(3-乙基-3-氧雜環丁基)甲基]醚、3-乙基-3-(2-乙基己氧基甲基)氧雜環丁烷、苯酚酚醛清漆氧雜環丁烷等。氧雜環丁烷化合物之摻混量，以活性能量線硬化性化合物全體為基準時，通常是50重量%以下，較佳者為10~40重量%。氧雜環丁烷化合物的市售品係能夠容易購得的，舉例來說，其可以是由東亞合成股份有限公司所販賣的商品名為“阿龍氧雜環丁烷 OXT-101”、“阿龍氧雜環丁烷 OXT-121”、“阿龍氧雜環丁烷 OXT-211”、“阿龍氧雜環丁烷 OXT-221”、“阿龍氧雜環丁烷 OXT-212”等之任何一者。
在該黏著劑中，從反應性的觀點來看，較佳者為使用陽離子聚合來做為環氧基化合物的硬化反應劑；該組成物中較佳為摻混有陽離子聚合啟始劑。陽離子聚合啟始劑為可藉由照射可見光線、紫外線、X線、電子線等之活性能量線而產生陽離子種或路易士酸，進而使得環氧基之聚合開始反應。以下，將藉由活性能量線之照射而產生陽離子種或路易士酸、使環氧基之聚合開始反應的陽離子聚合啟始劑稱為「光陽離子聚合啟始劑」。
使用光陽離子聚合啟始劑，藉由活性能量線之照射來進行黏著劑之硬化的方法，由於能夠在常溫下進行硬化，可減少考慮因偏光薄膜之耐熱性或膨脹所引起的不均之必要性，並能夠使偏光薄膜與保護薄膜良好地接合的特點上是有利的。又，光陽離子聚合啟始劑由於是以光促動觸媒作用，所以即使混合於黏著劑中保存安定性及作業性也是優異的。
上述的光陽離子聚合啟始劑，可以是任何的形式之物；其具體例，舉例來說，有芳香族重氮鎓鹽；芳香族錪鹽或芳香族鋶鹽之類的鎓鹽；鐵-芳烴錯合物等。
芳香族重氮鎓鹽，舉例來說，其可以是苯重氮鎓六氟銻酸鹽、苯重氮鎓六氟膦、苯重氮鎓六氟硼酸鹽等。又，芳香族錪鹽，舉例來說，其可以是二苯基錪四(五氟苯基)硼酸鹽、二苯基錪六氟膦、二苯基錪六氟銻酸鹽、二(4-壬基苯基)錪六氟膦等。
芳香族重氮鎓鹽，舉例來說，其可以是苯重氮鎓六氟銻酸鹽、苯重氮鎓六氟膦、苯重氮鎓六氟硼酸鹽等。
芳香族錪鹽，舉例來說，其可以是二苯基錪四(五氟苯基)硼酸鹽、二苯基錪六氟膦、二苯基錪六氟銻酸鹽、二(4-壬基苯基)錪六氟膦等。
芳香族鋶鹽，舉例來說，其可以是三苯基鋶六氟膦、三苯基鋶六氟銻酸鹽、三苯基鋶四(五氟苯基)硼酸鹽、4,4’-雙(二苯基鋶基)二苯基硫化物雙六氟膦、4,4’-雙[二(β-羥基乙氧基)苯基鋶基]二苯基硫化物雙六氟銻酸鹽、4,4’-雙[二(β-羥基乙氧基)苯基鋶基]二苯基硫化物雙六氟膦、7-[二(p-甲苯基)鋶基]-2-異丙基硫代己酮六氟銻酸鹽、7-[二(p-甲苯基)鋶基]-2-異丙基硫代己酮四(五氟苯基)硼酸鹽、4-苯基羰基-4’-二苯基鋶基-二苯基硫化物六氟膦、4-(p-三級丁基苯基羰基)-4’-二苯基鋶基-二苯基硫化物六氟銻酸鹽、4-(p-三級丁基苯基羰基)-4’-二(p-甲苯基)鋶基-二苯基硫化物四(五氟苯基)硼酸鹽等。
又，鐵-芳烴錯合物，舉例來說，其可以是二甲苯-環戊二烯基鐵(II)六氟銻酸鹽、異丙苯-環戊二烯基鐵(II)六氟膦、二甲苯-環戊二烯基鐵(II) 参(三氟甲基磺醯基)甲烷化物等。
此等之光陽離子聚合啟始劑的市售品係能夠容易購得的，例如，分別為商品名“卡亞拉得PCI-220”及“卡亞拉得PCI-620”〔以上為日本化藥股份有限公司製〕、“UVI-6990”〔大宇化學社製〕、“ADEKA歐普特瑪SP-150”及“ADEKA歐普特瑪SP-170”〔以上為ADEKA股份有限公司製〕、“CI-5102”、“CIT-1370”、“CIT-1682”、“CIP-1866S”、“CIP-2048S”及“CIP-2064S”〔以上為日本曹達股份有限公司製〕、“DPI-101”、“DPI-102”、“DPI-103”、“DPI-105”、“MPI-103”、“MPI-105”、“BBI-101”、“BBI-102”、“BBI-103”、“BBI-105”、“TPS-101”、“TPS-102”、“TPS-103”、“TPS-105”、“MDS-103”、“MDS-105”、“DTS-102”及“DTS-103”〔以上為綠化學股份有限公司製〕、“PI-2074”〔諾迪亞社製〕等。
此等之光陽離子聚合啟始劑可以是分別單獨使用，也可以由二種以上混合來使用。在此等之中，特佳者為使用芳香族鋶鹽，因為它即使是在300nm以上的波長領域中亦具有紫外線吸收特性，所以硬化性優異、並能夠提供良好的機械強度，又能夠提供在偏光薄膜與保護薄膜之間具有良好的密合性之硬化物。
光陽離子聚合啟始劑的摻混量，相對於包含有環氧基化合物或氧雜環丁烷化合物的陽離子聚合性化合物之合計100重量份而言，通常是0.5~20重量份，較佳者為1~6重量份。光陽離子聚合啟始劑的摻混量少時，則硬化會變得不夠充分，而有使得機械強度降低、及在偏光薄膜與保護薄膜間之接合性降低的傾向。另一方面，當光陽離子聚合啟始劑的摻混量過多時，則硬化物中的離子性物質會增加而致使硬化物的吸濕性變高，所得到的黏著劑層之耐久性能就會有降低的可能性。
在活性能量線硬化型的黏著劑中，可以更進一步地摻混離子捕捉劑、抗氧化劑、連鎖移動劑、黏合賦予劑、熱可塑性樹脂、填充劑、流動調整劑、整平劑、可塑劑、消泡劑等之添加劑。離子捕捉劑，舉例來說，其可以是銻系、粉末狀之鉍系、鎂系、鋁系、鈣系、鈦系及此等之混合系等之無機化合物；抗氧化劑，舉例來說，其可以是受阻酚系抗氧化劑等。
活性能量線硬化型的黏著劑，可以使用實質上不含溶劑成分的無溶劑型黏著劑，然而由於各塗佈方式各有其最適合的黏度範圍，所以也可以含有黏度調整用之溶劑。溶劑較佳者為使用不會降低偏光薄膜之光學性能、而且可良好地溶解構成黏著劑的環氧基化合物等之物，舉例來說，其可以是以甲苯為代表的烴類、乙酸乙酯為代表的酯類等之有機溶劑。本發明所用的活性能量線硬化型之黏著劑的黏度，例如為在5~1000mPa･s左右的範圍，較佳者為10~200mPa･s，更佳者為20~100mPa･s。活性能量線硬化型的黏著劑之塗佈方法沒有特別的限定，例如可以藉由刮刀、線條、模塗機、點塗佈機、印刷塗佈機等之各種的塗佈方式，來塗佈於保護薄膜或偏光薄膜之貼合面。
在如此作法而被形成於偏光薄膜的黏著劑層之上，可貼合上述的保護薄膜。在偏光薄膜的兩面貼合保護薄膜的情況，可以分階段地於每單面貼合二片保護薄膜，也可以一階段來貼合兩面。對於該偏光薄膜與保護薄膜的積層體，照射活性能量線而使黏著劑硬化。活性能量線之照射上所用的光源，並未特別地限定，可具有波長400nm以下之發光分佈；例如可以使用由低壓水銀燈、中壓水銀燈、高壓水銀燈、超高壓水銀燈、化學燈、黑光燈、微波激發水銀燈、金屬鹵化物燈等。光照射強度係按照各目標組成物來決定的，仍然是沒有特別限定，然而較佳者是對啟始劑之活性化有效的波長領域之照射強度為10~5000mW/cm2。當光照射強度為小於10mW/cm2時，反應時間會變得過長；當超過5000mW/cm2時，則會有因從燈所輻射的熱及組成物之聚合時的發熱，而致使產生黏著劑層之黄變及偏光子之劣化的可能性。
活性能量線的照射時間為按照各硬化的組成物來控制的，仍然是沒有特別限定，然而由照射強度與照射時間之乘積所表示的積算光量較佳為設定成10~5000mJ/cm2。上述之積算光量為小於10mJ/cm2時，由啟始劑而來的活性種之發生就會不夠充分，所得到的保護薄膜之硬化就會有變成不足夠的可能性，另一方面，當其積算光量超過5000mJ/cm2時，則照射時間會變成非常地長，而變成不利於提高生產性。硬化後的黏著劑層之厚度通常是0.1~10μm，更佳為0.2~4μm。
如以上作法所製造的偏光板為具備偏光薄膜、與貼合在偏光薄膜的至少一面之保護薄膜，偏光板可以使用來做為構成液晶顯示裝置之構件。 《實施例》
接著，列舉本發明之實施例來具體地說明，但本發明並不限定於此等實施例。又，偏光薄膜之穿透檢查係以如下之方法來進行。
偏光薄膜之穿透檢查係藉由將所製作的偏光薄膜切割出寬度1m、長度(薄膜的輸送方向)20m之薄膜切片，透過背光等之光源以目視觀察該切片，計算所檢測出的100μm以上之異物的個數，計算出每1m2的偏光薄膜之異物個數。
〔實施例1〕 將厚度60μm的聚乙烯基醇薄膜〔可樂麗股份有限公司製之商品名“可樂麗畢尼龍 VF-PE#6000”、聚合度2400、皂化度 99.9莫耳%以上〕浸漬於已放入30℃之純水的膨潤槽中，使薄膜保持於不鬆放之緊張狀態下浸漬100秒鐘，使薄膜充分地膨潤。其次，在碘/碘化鉀/水的重量比為0.02/1.5/100之30℃的染色槽中浸漬90秒鐘並且進行單軸拉伸之後，再於碘化鉀/硼酸/水的重量比為12/4.4/100 之55℃的交聯槽中浸漬60秒鐘，進行耐水化處理並進行單軸拉伸直到從原始所積算的拉伸倍率成為5.5 倍為止。繼續於硼酸/碘化鉀/水的重量比為9.0/2.9/100之40℃的硼酸水溶液中浸漬10秒鐘之後，再於已放入12℃的純水之洗淨槽中浸漬2秒鐘。對於完成上述的各處理之聚乙烯基醇薄膜，使用如第2圖這樣的水分去除裝置，對於薄膜的表面，於每個單面吹送風量10m3/分的空氣，來進行薄膜之兩面的水分去除。此時，各別的水分去除處理之條件：薄膜的張力為600N/m(第1圖之軋輥21與軋輥27間之張力)，空氣的噴嘴與薄膜的角度為40°，空氣的噴嘴與薄膜之距離為0.6mm，排出容器與薄膜的距離為1mm。水分去除處理之後，於70℃乾燥3分鐘而製作成偏光薄膜。對於此偏光薄膜進行穿透檢查的結果，100μm以上之缺陷數為0.05個/m2。
〔實施例2〕 除了使用厚度50μm的聚乙烯基醇薄膜〔可樂麗股份有限公司製之商品名“可樂麗畢尼龍VF-PE#5000”、聚合度2400、皂化度99.9莫耳%以上〕，在水分去除處理中施加於薄膜的張力變更為500N/m以外，與實施例1同樣地製作成偏光薄膜。對於所得到的偏光薄膜進行穿透檢查的結果，100μm以上的缺陷數為0.05個/m2。
〔實施例3〕 除了使用厚度30μm的聚乙烯基醇薄膜〔可樂麗股份有限公司製之商品名“可樂麗畢尼龍VF-PE#3000”、聚合度2400、皂化度99.9莫耳%以上〕，在水分去除處理中施加於薄膜的張力變更為450N/m以外，與實施例1同樣地製作偏光薄膜。對於所得到的偏光薄膜進行穿透檢查的結果，100μm以上的缺陷數為0.10個/m2。
〔實施例4〕 除了在水分去除處理中，將氣刀前端的噴嘴與薄膜之角度變更為20°以外，與實施例1同樣製作偏光薄膜。對於所得到的偏光薄膜進行穿透檢查的結果，100μm以上的缺陷數為0.8個/m2。
〔實施例5〕 除了在水分去除處理中，將氣刀前端的噴嘴與薄膜之角度變更為90°以外，與實施例1同樣地製作偏光薄膜。對於所得到的偏光薄膜進行穿透檢查的結果，100μm以上的缺陷數為1.2個/m2。
〔實施例6〕 除了在水分去除處理中，將氣刀前端的噴嘴與薄膜之距離變更為2mm以外，與實施例1同樣地製作偏光薄膜。對於所得到的偏光薄膜進行穿透檢查的結果，100μm以上的缺陷數為2.1個/m2。
〔實施例7〕 除了在水分去除處理中，將排出容器與薄膜之距離變更為3mm以外，與實施例1同樣地製作偏光薄膜。對於所得到的偏光薄膜進行穿透檢查的結果，100μm以上的缺陷數為2.3個/m2。
〔比較例1〕 除了不以水分去除裝置進行水分去除，而是只以洗淨槽之後的軋輥來對於聚乙烯基醇薄膜進行水分去除以外，與實施例1同樣地製作偏光薄膜。對於所得到的偏光薄膜進行穿透檢查的結果，100μm以上的缺陷數為5.2個/m2。
〔比較例2〕 除了在水分去除處理中，將施加於薄膜的張力變更為150N/m以外，雖然與實施例1同樣地製作偏光薄膜，然而由於薄膜產生擺動，與排出容器接觸的薄膜產生破裂，不能製作成偏光薄膜。
上述實施例1~7及比較例1, 2的製造條件及穿透檢查的結果表示於以下之表1中。
＜表1＞
由根據本發明之製造方法製造出偏光薄膜之實施例1及4~7、與使用和實施例1相同的聚乙烯基醇薄膜(原始薄膜)以不屬於本發明之製造方法的方法作成偏光薄膜的比較例1及2之比較結果來看，可知於偏光薄膜產生的缺陷，在滿足水分去除處理的條件之狀態下製作時，可以有效地被抑制。又，由使用膜厚比實施例1薄的原始薄膜之實施例2及3的結果來看，可知本發明所規定的水分去除處理之條件，即使在製造厚度是薄的偏光薄膜之際也是很有效的。 《產業利用之可能性》
根據本發明，即使原始薄膜是薄的情況，也不會發生薄膜之破裂及水分去除不良等，可以製造出外觀良好的偏光薄膜，因而採用它的偏光板，其生產效率是優異的、缺陷少、並且能成為良好品質之物。
10．．．原始薄膜
11．．．輸送輥
13．．．膨潤槽
15．．．染色槽
17．．．交聯槽
19．．．洗淨槽
21．．．軋輥
23．．．水分去除裝置
25．．．乾燥爐
27．．．軋輥
30．．．偏光薄膜
40．．．第一輥
42．．．第一氣刀
44．．．第一排出容器
46．．．第二輥
48．．．第二氣刀
50．．．第二排出容器
第1圖係顯示偏光薄膜的製造方法中，裝置的合適配置例之截面示意圖。 第2圖係顯示水分去除裝置23內的配置例之截面示意圖。 第3圖係顯示水分去除裝置23內合適的配置條件之截面示意圖。
40．．．第一輥
42．．．第一氣刀
44．．．第一排出容器
46．．．第二輥
48．．．第二氣刀
50．．．第二排出容器

Claims (7)

  1. 一種偏光薄膜之製造方法，其係藉由對於厚度為1~60μm的聚乙烯醇系樹脂薄膜，依序進行膨潤處理、染色處理、交聯處理及洗淨處理，且進行拉伸處理直到交聯處理結束為止；而且 在該洗淨處理之後，進行水分去除處理之方法，其係一邊對薄膜施加200~1500N/m之張力且將薄膜捲附在設置於其單面之第一輥上，一邊對該第一輥之相反側的薄膜表面吹送空氣以除去水分；接著，一邊將被空氣吹送的面捲附在第二輥上，一邊對前述第二輥之相反側的薄膜表面吹送空氣以除去水分，並藉由設置在各個空氣吹送位置附近之第一排出容器及第二排出容器，來回收被空氣所除去的水分。
  2. 如請求項1所述之製造方法，其中所吹送的空氣之風量係為2~20m3/分。
  3. 如請求項1或2所述之製造方法，其中空氣係由噴嘴對薄膜吹送；該噴嘴係按照：使得通過其吹出口前端的中心線相對於薄膜表面呈30~80°的角度，且使該吹出口前端至薄膜表面的距離成為1.5mm以下的方式配置而成。
  4. 如請求項1至3中任一項所述之製造方法，其中排出容器係具有開口部，且按照使得該開口部至薄膜表面距離成為2mm以下的方式配置而成。
  5. 如請求項1至4中任一項所述之製造方法，其係於水分去除處理之後，再進行乾燥處理。
  6. 如請求項5所述之製造方法，其係藉由設置於水分去除處理前的軋輥、與設置於乾燥處理的內部或乾燥處理的後方之軋輥，一邊對薄膜施加200~800N/m之張力一邊進行水分去除處理及乾燥處理。
  7. 一種偏光板之製造方法，其為使用紫外線硬化型黏著劑，將保護薄膜貼合在如請求項5或6所述之製造方法所製造而成之偏光薄膜上。
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