TW201138538A - Process for producing substrate with electrode - Google Patents
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Description
201138538 六、發明說明· 【發明所屬之技術領域】 本發明係有關-種有機電激發光元件(以下有時稱為 有機EL元件)用之附電極基板之製造方法、具備此附電極 基板之有機EL元件、以及照明裝置、顯示裝置。 【先前技術】 於發光材料中使用有機物之有機EL元件係做為發光 元件之一而備爻關注。此有機EL元件係包含一對電極及設 置於電極間之發光層而構成。若對有機EL元件施加電壓, 則會從陰極注人電子並且從陽極^電洞,此等電子與電 洞會在發光層結合而發光。 由於從發光層所放射出之光係通過電極而出射至外 部’故於i電極中之-電極使用顯示透光性之透明電 極。一般而言,此透明電極係使用由氧化姻錫(IT〇:碰⑽ Tin Oxide)所構成之薄膜。有機係形.成於例如表面 形成有ΙΊΌ薄膜之附電極基板上,從發光層所放射出之光 係通過ΙΤ0薄膜、基板而出射至外部。 若比較基板與透明電極之折射率,則一般而言係透明 電極之折射率較高。例如麵基板之折射率為15左右, ΙΤ0薄膜之折射率為2 Q左右。由於透明電極與基板之間 有如此之折射率之關係,故對於從發光層所放射出之光而 言,在透明電極與基板之界面會發生全反射。現今,從發 光層所放射出之光之大部分係因如此之折射率差所造成之 反射等而封入元件中,不會出射至外部,而未有效受到利 322275 4 201138538 用。 於是,已提案有為了提高光導出效率之目的而形成有 ' 抑制反射等之構造的有機EL元件用之基板。已提案有例 如:使用其中形成有複數個微透鏡(microlens)之基板的有 機EL元件(例如參照專利文獻1)。 [先前技術文獻] [專利文獻] [專利文獻1]日本特開2003 — 86353號公報 【發明内容】 (發明欲解決的課題) 習知技術係藉由光微影法(photo 1 ithography)於感光 性樹脂之表面形成做為微透鏡之構造物,但難以依所需之 形狀、配置而形成細微構造之微透鏡。例如極難以以高填 充率製作分別為近似半球狀之複數個微透鏡,而有無法簡 易地形成可達成高的導出效率且按照光學設計製作之微透 鏡之問題。 因此,本發明之目的為提供一種可簡易地製作可達成 高之光導出效率之構造的有機EL元件用之附電極基板之 製造方法。 (解決課題的手段) 本發明係有關一種附電極基板之製造方法,其係有機 電激發光元件用之附電極基板之製造方法,其中, 該附電極基板係依序積層低折射率層、機能層、及顯 示透光性之電極而構成, 322275 201138538 並且,前述電極之折射率nl、前述機能層之折射率 n2及前述低折射率層之折射率n3係滿足下式(1): ί〇. 3^(η 1 -η 2)^0 [η l^n 2>η 3 ·*.(1) 而且,該附電極基板之製造方法係包括下述步驟: 藉由使用在基台之表面上鋪設有平均粒徑為1. Ο μ m至200 # m之複數個微粒子的鑄模之壓印(imprint)法,於前述低 折射率層之表面部形成凹凸部,而形成前述低折射率層之 步驟; 經由在前述低折射率層之形成有前述凹凸部之面塗佈包含 形成前述機能層之材料的塗佈液並使其固化,而形成前述 機能層之步驟;以及 於前述機能層上形成前述電極之步驟。 此外,本發明係有關如前述有機電激發光元件用之附 電極基板之製造方法,其中,前述複數個微粒子係分別為 近似球狀,且以接近最緊密填充(closest packing)之配置 而鋪設於前述基台之表面上。 此外,本發明係有關一種有機電激發光元件,其係具 備藉由前述製造方法所製得之附電極基板者。 此外,本發明係有關一種照明裝置或顯示裝置,其係 具借前述有機電激發光元件者。 (發明的效果) 根據本發明,可簡易地製作具備可達成高之光導出效 率之構造的有機EL元件用之附電極基板。 6 322275 201138538 【實施方式】 以下,一面參照第i圖,一面說明本發明之有機乩 元件用之附電極基板之製造方法及其詳細構成。第丨圖係 概略地表示具備藉由本發明之附電極基板之製造方法所广 之一實施形態之有機EL元件用之附電極基板1的有機^ 元件8。 有機EL元件8係包含一對電極及配置於該電極間之發 光層而構成。在本實施形態中,設置於附電極基板丨之顯 示透光性之電極(以下稱為第1電極4)係做為一對電極中 之一電極而發揮機能。此外,以下將一對電極中之另一電 極稱為第2電極6。 有機EL元件8係在第}電極4與第2電極6之間具備 至少-層發光層5 ’但也可具備複數層發光層,並^考虎 到所需之特性及步_易度等,在第丨電極4與第2電^ 6之間也可具備與發光層不同的預定層。第丨圖所示之 實施形態之錢EL元件8係具備做為與發光衫同 層的電洞注人層7,並且係依序積層附電極基板 : 入層7、發光層5、第2電極6而構成。 彳彳 本實施形態之第1電極4係做為陽極而發处 2電極6係做為陰極而發揮機能。此第2電極6 /匕’第 光反射之構件來構成為佳。此外,低折射率由使 3係由顯示透光性之構件所構成。換言之,^機能層 係顯示透光性。因此,從發光層5|^ =極基板i 之光係通過包含第1雷极」 所放射出 第1電極4之附電極基板1而出射至外 322275 201138538 部。此外,從發光層5朝第2電極6所放射出之光係在第 2電極6反射,並通過附電極基板1而出射至外部。換$ 之’本實施形態之有機EL元件8係光從附電極基板1出射 之底部發光(bottom emission)型之元件。再者,就變形例 而言,可構成以第1電極做為陰極且以第2電極做為陽極 之底部發光型之有機EL元件’並且也可構成使用顯示透光 性之電極作為第2電極而使光也從第2電極側出射之兩面 發光型之有機EL元件。 附電極基板1係至少依序積層低折射率層2、機能層 3、及顯示透光性之第1電極4而構成。此外,令第1電極 4之折射率為nl、機能層3之折射率為n2、低折射率層2 之折射率為n3,則各構件之折射率係分別滿足下式。 再者’於機能層3與第1電極4之間也可設置例如薄的絕 緣層或阻障層等。 j〇· 3^(n 1 — η 2)^0 [η l^n 2 > η 3 ...(1) 低折射率層2與機能層3之界面係形成為凹凸狀,此 凹凸狀之界面係做為複數個微透鏡而發揮機能。在本實施 形態中’於低折射率層2與機能層3之界面形成有高度為 4/zm至100之複數個微透鏡。 由於如式(1)所示,機能層3與第1電極4之折射率差 小,故可抑制在機能層3與第1電極4之界面所發生之全 反射’而降低反射率。藉此,可使從發光層5放射出並入 射至第1電極4之光有效率地傳遞至機能層3。此外,經 8 322275 201138538 由將機能層3與低折射率層2之界面形成為凹凸狀,而可 抑制在機能層3與第1電極4之界面所發生之全反射。藉 此,可使從第1電極4入射至機能層3之光有效率地傳遞 至折射率較機能層3更低之低折射率層2。並且,由於如 式(1)所示,附電極基板1之層構成係形成如越接近外界 (空氣)之層則折射率越小,故可使和空氣接觸之層(低折射 率層2)與空氣的折射率差縮小。因此,可抑制在光從有機 EL元件8出射至外部之面(出射面)所發生之全反射,而降 低反射率。藉此,可實現光導出效率高的有機EL元件8。 1.附電極基板之製造方法 本實施形態之附電極基板1之製造方法係包括下述步 驟:藉由使用在基台之表面上鋪設有平均粒徑為1.0#m 至200 // m之複數個微粒子者做為鑄模之壓印法,於前述低 折射率層之表面部形成凹凸部,而形成前述低折射率層之 步驟;經由在前述低折射率層之形成有前述凹凸部之面塗 佈包含形成前述機能層之材料的塗佈液並使其固化,而形 成前述機能層之步驟;以及於前述機能層上形成前述電極 之步驟。 <形成低折射率層之步驟> 在本步驟中,係藉由使用在基台之表面上鋪設有平均 粒徑為1. 0# m至200 /zm之複數個微粒子者做為鑄模之壓 印法,於前述低折射率層之表面部形成凹凸部,而形成前 述低折射率層。在本發明中,所謂「平均粒徑」係指長度 平均徑,且意指依據藉由雷射光繞射/散射式粒徑分布測 9 322275 201138538 定器所測得之體積基準粒徑分布而算出之平均粒徑 平均徑)。所謂「雷射光繞射/散射式粒徑分布測定器」係 指對微粒子照射雷射光並測定其繞射光/散射光之光強度 分布後,從測定結果來解析板徑分布之測定器。使用此原 理之粒徑分布測定裝置一般已有市售物,可經由使用此等 裝置而測定平均粒徑。 鋪认在基台表面上之微粒子之平均粒徑為i 至 200 ’’但為了有效地防止光在低折射率層2與機能層3 之界面發生反射,以h 6㈣至160//m為佳、以2· 〇_ 至100 μm更佳。此外’ ϋ由以粒徑做為橫轴且以在各粒徑 之粒子群之存在比率做為縱軸而製成之圖表來表示粒子群 之分布,並令平均粒徑為d、粒徑為d之粒子群之存在比 率為A時,將存在比率成為A/2之粒子群之粒徑與d之差 之絕對值定義為「粒度分布」,則所使用之粒子之粒度分布 以0. 6d至11. 4d為佳、以〇. gd至1. 2d較佳。 鋪設於基台之微粒子之材料無特別限定,以做為壓印 之鎢模使用時所要求之強度、耐熱性、耐光性、與基台之 密著性等優良者為佳,可舉例如:聚苯乙烯、聚T基丙烯 酸甲醋(PMMA · p〇ly(methyl methacrylate))、聚苯乙稀、 及聚對酞酸乙二酯(polyethylene terephthalate)等有機 物質;以及氧化石夕(silica)、氧化鈦(titanium oxide)、 酜酸鋇、及氧化鋁(alumina)等無機物質。此外,當欲進行 壓印之低折射率層之材料係使用光硬化性單體時,微粒子 之材料係以相對於將光硬化性單體進行光硬化時所照射之 10 322275 201138538 紫外線為透明者為佳。 微粒子之形狀係由於規定低折射率層2與機能層3< 界面之形狀,故係依光學設計來適當設定。例如,微叛子 之形狀可舉例如近似球狀、近似橢圓體狀等,進一步可舉 例如:於此等形成有凸起物之形狀、於此等形成有凹洞: 瓜狀4為了有效地防止光在低折射率層2與機能層3之 界面發生反射,微粒子之形狀係以近似球狀、近似 狀為佳,以近似球狀承 _體 狀分別包含球狀、:圓更:狀再者’近似球狀,體 實施表==滑狀或凹凸狀。此外,子可 如:為了使微粒c化學修鄉或物理修飾。例 耦合劑等處理微粒子之表面。 也了错由矽烷
將微粒子鋪設於基A 法。可經由例如L 表面上之手法可舉例如塗佈 冬使前述複數個微粒子分散分散 成之分散液塗佈於基㈣77政媒中而 D表面並且去除/刀散液,而將微粒子 捕$又於基σ表面上。 第2圖係表示錢始 蛉模之不意圖。第2圖(丨)係放大表示鑄 模:二,’第2圖⑵係表示形成二子^ 的鑄椟之一部分之平面圖。 從提高光導出效逢+ # 旱之硯點而言,複數個微粒子12係以 分別為近似球狀且以接 a 接近最緊岔填充之配置而鋪設於基台 14上為佳。本說明金士 /Jfe, . - . - 〇 "中的所謂「最緊密填充」係意指在不 使微粒子重豐2層以^ 上之情形下,以最緊密狀態鋪設於基 11 322275 201138538 台上(參照第2圖(1))。於基台表面上鋪設微粒子之手法可 舉例如:利用 Colloids and surfaces,109(1996)363 中 所記載之自組織化之手法等。再者,以於基台表面之一面 以最緊密之配置鋪設微粒子為佳,但也可將基台表面上之 區域分割成複數個小區域’於各個小區域以最緊密填充之 配置鋪设微粒子。當使用自組織化之方法時,為了在廣面 積中均勻地且以接近最緊密填充之配置舖設微粒子,也可 於基台表面上設置特定之框體13。例如··可於基台14表 面上設置將基台表面區隔成骰子狀小方塊之格子狀框體 13,並在框體13所圍成之各區域内以接近最緊密填充之配 置且藉由自組織化而鋪設微粒子。框體之形狀、材料、 寬度、高度無特別限定,以可以接近最緊密填充之配置鋪 設微粒子之形狀為佳。此外,框體13之材料,當以塗佈法 等進行微粒子之鋪設時,以對塗佈液具有耐性者為佳。如 此之框體13可藉由例如光微影法並使用光阻劑以預定圖 案形成。此外,框體之材料係以在做為鑄模使用時不容易 對壓印時之熱或光產生變化之材料為佳。為了擴大鋪設微 粒子之區域,框之寬度以較細為佳。就鑄模而言,框體13 之高度係以所使用之微粒子之平均粒徑之一半以下為佳。 為了做為壓印之鑄模使用’鋪設於基台表面上之複數 個微粒子係必須固定於基台。為了將微粒子固定於基台, 可於鑄模設置將基台與微粒子予以接著之接著構件15。此 接著構件15係例如以填滿微粒子12與基台14之間隙之方 式而配置。接著構件15之材料無特別限定,但必須具有做 322275 12 201138538
置設置接著構件 以各微粒子12之高度之一半(半徑) ^著構件15凸出之狀態為佳。以如此之配 15之方法有利用毛細管現象之方法。例 技从右在將複數個微粒子12鋪設於基台上後,注入液狀之 之著劑’賴著劑會因毛細管現象而以填滿微粒子與基板 之間隙之方式流動。經由將其進行固化,即可於至各微粒 子之高度之一半(半徑)以下之位置為止形成接著構件15。 再者,例如使用經對表面實施矽烷耦合劑等預定處理 之微粗子,而也可在將複數個微粒子鋪設於基台上後,經 由進行加熱處理等,而將微粒子固定於基台。 藉由使用鋪設有上述微粒子者做為鑄模之壓印法,即 可將鑄模之形狀轉印至低折射率層2。壓印法可使用適於 、民折射率層2所使用之構件之方法,可舉例如熱屢印法、 $壓印法等。藉由熱壓印法時,可經由例如在將熱塑性樹 脂加熱之狀態下按壓鑄模,來轉印鑄模之形狀。此外,藉 由光壓印法時,可經由例如在將鑄模按壓在由光硬化性單 $所構成之構件的狀態下照射紫外線,使光聚合性單體聚 σ,來轉印鑄模之形狀。藉由如此之壓印法,於低折射圭
322275 13 201138538 經由使用鋪設^近似球狀之微粒子者做為鑄模 ,而於低折 射率層2形成南度為0.4_至100"m之複數個半球狀凹 部。 低折射率層2且使用可見光區之光之穿透率高且在形 成有機EL το件之步驟中不會產生變化者。此外,必須為可 從該製造方法藉由上述壓印法而轉印鑄模之表面形狀之材 料。宜使關如· _板、或將歸職魏或玻璃等積 層而成之積層板等。 低折射率層2以具體而言可舉例如:低密度或高密度 之聚乙烯、乙烯一丙烯共聚物、乙烯—丁烯共聚物、乙烯一 己烯共聚物、乙烯一辛烯共聚物、乙烯—降冰片烯共聚物、 乙烯一二曱橋八氫萘(dimethaooctahycir〇naphthalene,亦 即DM0N)共聚物、聚丙烯、乙烯—乙酸乙烯酯共聚物、乙 烯一曱基丙烯酸曱酯共聚物、離子聚合物(i〇n〇mer)樹脂等 聚婦烴系樹脂;聚對酞酸乙二酯、聚對醜酸丁二酯、聚萘 二甲酸乙一酯等聚酯系樹脂;财論—6、财綸—6, 6、間苯 二曱胺一己二酸縮聚物;聚曱基甲基丙烯醯亞胺等醯胺系 樹脂;聚曱基丙烯酸曱酯等丙烯酸系樹脂;聚苯乙烯、苯 乙烯一丙烯腈、苯乙烯—丙烯腈—丁二烯共聚物、聚丙烯 腈等苯乙烯一丙烯腈系樹脂;三乙酸纖維素、二乙酸纖維 素等疏水化纖維素系樹脂;聚氯乙烯、聚偏二氯乙烯 (polyvinylidene chloride)、聚偏二氟乙烯、聚四氟乙烯 等含S素樹脂;聚乙烯醇、乙烯一乙烯醇共聚物、纖維素 衍生物等氫鍵性樹脂;聚碳酸酯樹脂、聚硬(polysulfone) 14 322275 201138538 樹脂、聚醚礙樹脂、聚醚鍵酮樹脂、聚苯趟(polyphenylene oxide)樹脂、聚氧亞曱基(polymethylene 0Xide)樹脂、聚 芳酸酯(polyarylate)樹脂、液晶樹脂等工程塑膠 (engineering plastic)系樹脂等。 由於低折射率層2係要求在有機EL元件之製程中之耐 熱性,故上述之樹脂中尤以玻璃轉移溫度Tg為150〇c以上 之樹脂為佳,以180°C以上之樹脂較佳,以2001以上之樹 脂更佳。 低折射率層2可復包含使氧氣及水蒸氣等難以通過之 阻障性高的材料或構件。此時,必須於並非「以壓印法成 形為凹凸形狀之部分」的部分設置阻障性高的構件。阻障 性高的構件宜使用例如:由金屬、金屬氧化物、金屬氮化 物、金屬碳化物及金屬氮氧化物等無機物所構成之無機 層、前述無機層與有機層之積層體;或由無機—有機齡 材料所構成之層等。無機層係以既為薄膜層且在空氣中; 定者為佳’具體而言可舉例如:氧化發、氧化紹、二氧化 鈦(Utania)、氧化銦、氧化錫、氧化鈦、氧化鋅、: 錫:氮化銘、氮化石夕、碳化石夕、氮氧切、及該等= 之溥膜層。此等之中,無機層係以由氮化銘、氮化石夕、: 氣氧化賴構成之_層為佳,錢氧化代_ 佳。 構成低折射率層之構件,係在滿足式⑴之範園内 機能層3及第1電極4之折射率而從所例示者中々 出。當低折射率層係由複數之構件所構成時,低折射:層 之折射率係將低折射率層當做丨層構件來處理時之該構二 322275 15 201138538 之折射率。 低折射率層之。 . 折射率n3係由構成低折射率層之構件 、、疋例如.為聚碳酸醋時折射率為1· 58,為聚對駄酸 乙二酯時折射率為 ^ 今1.49,為聚醚颯時折射率為ι·65,為聚 萘二曱酸乙二酯時折射率為1.50。 <形成機能層之步驟 在本步驟中,γ 、 係經由在低折射率層2之形成有凹凸部 之面塗佈匕3 $成機能層3之材料的塗佈液並使其固化, 而形成f i層3 °若於其表面形成有高度為0.4/zm至1〇〇 ’之後數個凹部的低折射率層2塗佈塗佈液,則塗佈液 會,充於低折^層2之凹部,若再使其固化,則可容易 /也得到形成有网度為Q. 4"m至酬"之複數個凸部的機 能層3。此外,如此地使用塗佈法即可平坦地形成第丄電 極4側之機能層3之表面。塗佈液可為溶液或分散液。此 外,也可依需要而於塗佈液中再加入有機溶劑、界面活性 劑、密著增強劑、交聯劑、敏化劑、感光劑。塗佈液以具 體而言可舉例如4系無機聚合物、使高折射率奈米粒子 分散於包含芳4敎單H熱龍_巾喊之組成物、使 高折射率奈綠子分胁光硬化性單财Μ之組成物、 使高折射率奈米粒子分散於熱硬化性單财而成之組成物 等。塗佈於低折射率層之塗佈膜,可經由實施照射光、加 熱、乾燥、加壓等預定處理而使其固化,並可藉由例如溶 膠凝膠法而形成機能層3。 機能層3宜使用可見光區之光之穿料高且在形成有 322275 16 201138538 _機虹元件之步驟中不會產生變化者 含使氧氣及水蒸氣等難以通過之阻障性古二^層3可包 .機能層3係由例如無機聚合物、.及=材料或構件。 所構成。在無機-有機混合材料中也,入有機齡材料等 混合無機與有機之化合物 ·以分子等級而 合物等。 &在有機物巾分散無機物之混 無機物可舉例如:金 金屬碳化物及金屬氮氧 ::物中金屬氮化物.、 具體而言可舉例如··氧切、氧化銘在蝴^ 氧化錫、氧化敛、^ —减鈦、氧化銦 碳化矽、氮氧切、及料之、.0人你1石夕、 氮化矽、㈣备及該4之此合物。無機物以氮化鋁、 夕錢氣化石夕為佳,以氮氧化石夕更佳。 構成機能層3構件 射率層2及第, 在式⑴之範圍内,依折 出。由於滿 電極4之折射率而從所例示者中適當選 射率差較小X (1)之關係且與透明電極(第1電極4)之折 以上為佳。°抑制全反射,故機能層之折射率以1 _ 75 能層3之者1機能層係由複數之構件所構成時,機 構件之折射率率係將機能層3當做1層構件來處理時之該 機能層3夕4 定’例如. 斤射率n2係由構成機能層3之構件來決 為聚合物中系之無機聚合物時折射率為丨· 72至2.0, 嫩^ θ分散有Ti〇2之混合物時折射率為1.8至2.0。 機忐層3之曾! 機能層3之#第1電極4側之表面之凹凸會對積層於此 、面的第1電極4之平坦性造成影響。若第1 322275 17 201138538 電極4之平坦性低且表面形成有凸起物等,則有時會因此 凸起物而發生發光不良。例如:由於電洞注入層7和發光 層5較薄,故凸起物會貫穿此等層,因此有時會發生意料 外之短路。因此’第1電極4之中心線平均粗糙度Ra係以 較小為佳’為了形成如此之第1電極4,前述機能層3之 前述第1電極4侧之表面之中心線平均粗糙度Ra係以較小 為佳,具體而言以l〇〇nm以下為佳、以50nm以下較佳、以 10nm以下更佳、以以下再更佳。 形成於低折射率層2之各凹部之配置係視基台表面上 之微粒子之配置而定。在本實施形態中,由於可以接近最 緊密填充之配置將近似球狀之微粒子鋪設於基台,故可使 形成於低折射率層2之各凹部成為接近最緊密填充之配 置。經由以如此之配置設置各近似半球狀之凹部,即可提 高抑制光反射之效果,而謀求光導出效率提高。特別是, 由於經由設置近似半球狀之凹部,而使低折射率層2與機 能層3之邊界部分以做為微透鏡陣列(micr〇lens array) 而發揮機旎,故可提尚抑制光反射之效果,而謀求光導出 效率提高。 <於機能層上形成電極之步驟> 在本實施形態中,係於機能層3上形成第1電極4。 本實施形態之第1電極4係藉由顯示透光性及導電性之薄 膜來實現,且係藉由例如金屬氧化物膜及金屬薄膜等所構 成。第1電極4以具體而言可使用:氧化銦、氧化鋅、氧 化錫、氧化銦錫(Indium Tin Oxide :簡稱IT0)、氧化銦 322275 18 201138538 鋅(Indium Zinc Oxide :簡稱IZO)、金、鉑、銀、銅等之 薄膜,且以IT0、izo、氧化錫等之薄膜為佳。此外,第j 電極4可使用$苯胺或其衍生物、聚嗟吩(p()lythi叩匕·) 或其衍生物等有機透明導電膜。第丨電極4之厚度可考慮 透光性與導f性來適當設定…般而言為lGmn至l〇/m 左右,且以2〇nm至1/zm為佳、以5〇1]111至5〇〇nm更佳。 第1電極之形成方法可舉例如:真空蒸錢法、濺鍍法、 離子鍍覆法、鍍覆法等。 第1電極之折射率nl係由構成第丨電極之構件來決 定,例如:為ΙΤ0時折射率為2.〇,為IZ〇時折射率為19 至2.0,為聚嗟吩或其衍生物等有機透明導電膜時折射率 為約1.7。構成第1電極之構件’係在滿足式⑴之範圍内, 3折射率層2及機能層3之折射㈣從所例示者中適當 經由以上之製造步驟,即可製作附電極基板i。如前 述,使用壓印法,即可簡易地製作具備可達成高光導出效 率之構造的有機EL元件用之附電極基板。 以上說明之本實施形態之附電極基板j中之低折射 層2、機能層3、第!電極4之組合’以由玻璃基板與塑膠 片之積層體所構成之低折射率層、由無機聚合物層所構成 之機能層、及由ITG所構成之第1電極為佳,並且以由樹 脂層所構成之低折射率層、由無機聚合物所構成之機能 層、及由ίΤΟ所構成之第!電極更佳。 2.有機EL元件 322275 19 201138538 本實施形態之有機EL元件8係如前述般具備附電極基 板1,可經由在此附電極基板1上依序積層電洞注入層7、 發光層5、第2電極6而製作。 <電洞注入層> 構成電洞注入層之電洞注入材料可舉例如:笨基胺 系、星爆(starburst)型胺系、酞菁(phthal〇Cyanine)系、 氧化飢、氧化翻、氧化釘及氧化紹等氧化物、非晶形碳、 聚笨胺、聚噻吩衍生物等。 電洞注入層可經由例如將包含形成電洞注入層之材料 的塗佈液塗佈於第1電極4來形成。塗佈塗佈液之方法可 舉例如:旋轉塗佈法、澆鑄法(astingmeth〇(i)、微凹版塗 佈法、凹版塗佈法、棒塗佈法、輥塗佈法、線棒塗佈法、 浸塗法、喷霧塗佈法、網版印刷法、柔版印刷法 (flexographic printing method)、膠版印刷法(offset printing method)、噴墨印刷法等。 <發光層> 發光層係包含發出螢光及/或磷光(ph〇sph〇rescence) 之有機物而構成、或是包含該有機物及摻雜劑(d〇pant)* 構成。摻雜劑係為了例如提高發光效率或使發光波長改變 等目的而添加。發光層中所使用之有機物可為低分子化合 物或高分子化合物之任-者,當以塗佈法形成發光層時, 從溶解於塗佈液中之溶解性之觀點來看,以包含高分子化 合物為佳。構成發光層之發光材料可舉例如以下者。 色素系發光材料可舉例如:環噴達明(cycl〇pendamine) 322275 20 201138538 衍生物、四苯基丁二_生物化合物、三苯基胺衍生物、 曙二嗤(―)衍生物、㈣并_衍生物、二(苯乙 烯基)苯衍生物、二(苯乙烯基)伸芳基衍生物、鱗衍生 物"塞吩環化合物、K環化合物、紫環酮(perin〇ne)衍 生物、花(perrlene)衍生物、寡聚嗔吩衍生物、曙二嗤二 聚物、吡唑啉二聚物等。
金屬錯合物系發光材料可舉例如:在中心金屬呈有 Tb、Eu、Dy 等稀土金屬或 Al、Zn、Be、ir、pt^M ^基具㈣二°坐、H笨基㈣、笨基笨并咪唾、 =構造等之金屬錯合物,可舉例如:銀錯合物、鋪合 勿f具有從三重態激發狀態之發光的金屬錯合物;哇琳酴 ^編麵_仙_錯合物、料㈣賴錯合 、本开料鋅錯合物、苯并麵辞錯合物、 衍生:分::=料::=(對伸苯基伸乙· 物、聚乙快衍生物、聚第衍生物订生物、聚石夕院衍生 以及使上述色素系發光材料和#^ Μ何生物等、 高分子化而成者等。 * θσ々系發光材料進行 上述發光材料中,發出藍色光之 乙烯基)伸芳基衍生物、噚二唑衍生物 了舉例如:二(苯 聚乙烯咔唑衍生物、聚對伸苯基衍生、及該等之聚合物、 其中尤以高分子材料之聚4^聚®衍生物等。 生物、聚對伸笨基衍
32227S 21 生物和聚第衍生物等為佳。 此外,發出綠色光之 (Quinacridone)衍生物、香五年可舉例如:喹吖啶鲷 聚(對伸苯基伸乙婦基)衍生=素何生物、及該等之聚合物、 高分子材料之聚(對伸苯、聚_生物等。其中尤以 等為佳。 乙烯基)衍生物、聚薄衍生物 此外’發出紅色光之材料可舉例如 嗟吩環化合物、及料之聚合物·香生物、 衍生物、聚麵衍生物、聚料生物等伸/中基^乙稀基) 材料之聚(對伸苯基伸乙婦基)衍生物、聚嗟=分子 苐衍生物等為佳。 塞%何生物、聚 ㈣:二發出白色光之材料可為經加入上述藍色、綠色、 =材料而成之聚合物,也可為各色之掺合細峰 此外,也可為各色之積層。 播雜劑材料可舉例如:K衍生物、香豆素衍生物、紅 螢烯(rubrene)衍生物、喹吖啶酮衍生物、方酸内鑌 (squarylium)衍生物、卟啉衍生物、苯乙烯系色素、稠四 苯衍生物、η比唑酮(pyraz〇i〇ne)衍生物、十環烯 (decacyclene)、及啡卩萼哄酮(phenoxazone)等。再者,如 此之發光層之厚度通常約為2nm至2〇〇〇nm。 包含有機物之發光層之成膜方法可舉例如:將包含發 光材料之塗佈液塗佈於電洞注入層7之方法、真空蒸鍍 法、轉印法等。包含發光材料之塗佈液之溶劑只要為可溶 解發光材料之液體即可,可舉例如:氣仿、二氣曱烷、二 22 322275 201138538 •氣乙烷等氣系溶劑;四氫呋喃等醚系溶劑;甲苯、二甲苯 ,等芳香族煙系溶劑;丙酮、曱基乙基酮等酮系溶劑;乙酸 乙酯、乙酸丁酯、乙基赛璐蘇乙酸酯(ethyl ceU〇s〇ive acetate)等酯系溶劑。 塗佈包含發光材料之塗佈液之方法可舉例如:旋轉塗 佈法、澆鑄法、微凹版塗佈法、凹版塗佈法、棒塗佈法、 報塗佈法、線棒塗佈法、浸塗法、狹縫塗佈法、毛細管塗 佈法、喷霧塗佈法、及喷嘴塗佈法等塗佈法;以及凹版印 刷法、網版印刷法、柔版印刷法、膠版印刷法、翻轉印刷 法、喷墨印刷法等塗佈法。在容易形成圖案和分開塗佈多 色之觀點上,以凹版印刷法、網版印刷法、柔版印刷法、 膝版印刷法、翻轉印刷法、喷墨印刷法等塗佈法為佳。此 外,當為具昇華性之低分子化合物時,可使用真空蒸鍍法。 並且’也可藉由以雷射進行轉印或熱轉印等方法,僅於所 需之位置形成發光層。 〈第2電極〉 —在本實施形‘%中’第2電極6係設置做為陰極。如此 =2電極之材料以使用功函數小且容易將電子注入發光 的材料為佳,並且以導電度高的材料為佳。具體而言 二J例如鹼金屬、鹼土金屬、過渡金屬及第ΠΙ-β :金屬等金屬。更具體而言可使用例如:鐘、鈉、鉀、麵、 色、鈹、鎂,、銘、鋇,、銳、鈒、鋅、紀、銦、鈽、 :、鋪、铽、鏡等金屬;上述金屬中 1種以上與金、銀,、銅、錳、鈦、鈷、鎳、 322275 23 201138538 鎢、錫中之1種以上之合 等。合金之例子可舉例^ ”或是石墨或石墨層間化合物 -銘合金、銦—銀合金銀合金、鎮—銦合金、鎂 銦合金、舞-!呂合金f。合金、鋰—M合金、經— 2電極必須為透明,如此:也欲從第2電極導出光時,第 材料所構成之薄膜與由導;2電㈣由將由上述 等所構成之薄_層而心化物或導電性有機物 如以上所說明,經由 3所 。 射率層2與機能層3壓印法’即可容易地在低折 易地製作光導“率高抑制光反射之構造’且可容 在基台之表面上以最緊^機肛元件。特別是,經由使用 缚模,即可容㈣在之配置鋪設有微粒子者做為 密填充之配置製作凹凸=二2與機能層3之間以最緊 電極6 形L之有機EL元件8係於第1電極4與第2 電極6之間配置有電洞 件8之構成並不限於第:7與發光層5,但有機EL元 乩元件之第i電極盘楚圖所示之構成。以下,說明有機 .,,電極/、第2電極之間之元件構成之一例。再 1電極^要為透明則即可為陽極及陰極之任一 μ m明中係以不限定第1電極及第2電極之極 式來說明元件構成之-例。此外,當以例如樹脂等
Mm膜之低折射率層2時,可於玻璃等基板上設置低折 射率層2。 如前述, 層即可,於陽 〇要於陽極與陰極之間設置有至少一層發光 極與陰極之間可設置複數層發光層、及/或 24 322275 201138538 與發光層不同的1層或複數層預定層。 . 設置於陰極與發光層之間之層可舉例如:電子注入 .層、電子輪送層、電洞阻擋層等。當於陰極與發光層之間 設置電子注入層與電子輸送層雙方之層時,位於接^陰極 侧之層稱為電子注入層,位於接近陽極側之層稱為電子輸 送層。 電子注入層係具有改善從陰極注入電子之效率之機能 之層。電子輸送層係具有改善從陰極、或是電子注入層、 或更接近陰極的電子輸送層注入電子之機能之層。電^阻 擋層係具有阻礙電洞輸送之機能之層。再者,電子注入層 或電子輸送層有時兼做為電洞阻擋層。 曰 設置於陽極與發光層之間之層曰可舉例如:電洞注入 層、電洞輸送層、電子阻擋層等。當於陽極與發光層之間 =置電洞注人層與電洞輸送層兩層時,位於接近陽極側之 f稱為電射人層’位於接近發光層側之層稱為電洞輸送 電=人層係具有改善從陽極注人電洞之效率之機能 :二電洞輸送層係具有改#從陽極、或是電洞注入層、 =更接近陽極的電洞輸送層注人電洞之機能之層。電子阻 擋層係具有阻礙電子輪逆之嬙& 於w右心 之層°電岐人層或電洞 輸运層有時兼做為電子阻擋層。 有時將電子注入層及電洞注 有時將電子輪送層及㈣μ電m層’ 以下矣-及電輸达層總稱為電荷輸送層。 、丁本月施形態之有機EL元件可採用之層構成 322275 25 201138538 之一例。 a ) 陽極/發光.層/陰極 b) 陽極/電洞注入層/發光層/陰極 c) 陽極/電洞注入層/發光層/電子注入層/陰極 d) 陽極/電洞注入層/發光層/電子輸送層/陰極 e) 陽極/電洞注入層/發光層/電子輸送層/電子注入 層/陰極 Ό陽極/電洞輸送層/發光層/陰極 g) 陽極/電洞輸送層/發光層/電子注入層/陰極 h) 陽極/電洞輸送層/發光層/電子輸送層/陰極 1)陽極/電洞輸送層/發光層/電子輸送層/電子注入 層/陰極 j )陽極/電洞注入層/電洞輸送層/發光層/陰極 k)陽極/電洞注入層/電洞輸送層/發光層/電子注入 層/陰極 U陽極/電洞注入層/電洞輸送層/發光層/電子輸送 層/陰極 ra)陽極/電洞注入層/電洞輸送層/發光層/電子輸送 層/電子注入層/陰極 η)陽極/發光層/電子注入層/陰極 〇)陽極/發光層/電子輸送層/陰極 Ρ)陽極/發光層/電子輪送層/電子注入層/陰極 (在此’記號「/」表示夾住記號「/」之各層互相鄰接地 積層。以下皆同)。 26 322275 201138538 在上ίΓΓ態之有機此元件可具有2層以上之發光層。 持而成之積層料1一 A目丨〜陽極與陰極失 機 曰體為構造早兀A」,則具備2層發光層 ^2==心舉例如以下之Q)所示之層構成。再者, 、 (構攻早兀A)之層構成可互相為相同或不同。 〇 =極/(構造單元A)/電荷產生層八構造單元 陰極 =外’若令「(構造單元a)/電荷產生層」為「構造 凡」貝j具備3層以上之發光層之有機虹元件之 可舉例如以TU)所示之層職。 成 Γ)陽極構造單元B)x/(構造單sA)/陰極 再者,記號「X」表示2以上之整數,「(構造單元Β)χ」 表示將(構造單元Β)積層「χ」層而成之積層 體。此外,具 有複數個(構造單元Β)之層構成可為相同或不同。 在此,所謂電荷產生層係指會經由施加電場而產生電 洞與電子之層。電荷產生層可舉例如:由氧化鈒、氧化銦 錫(111(11111111'111(^1(^,簡稱:1丁〇)、氧化鉬等所構成之薄 膜。 有機EL元件係為了進一步提高與電極之密著性和改 善從電極注人電荷之效率,可以鄰接電極之方式設置厚度 為2nm以下之絕緣層,此外,為了提高界面之密著性和防 止混合等’也可於鄰接之前述各層之界面***薄的緩衝層。 乂下°兒月各層之具體的構成。再者,關於發光層5 及電洞注入層7,由於前面已述,故省略重複之說明。此 27 322275 201138538 外,陽極及/或陰極由於分別可使用前述之第1電極或第 2電極,故省略重複之說明。 <電洞輸送層> 構成電洞輸送層之電洞輸送材料可舉例如:聚乙烯咔 唑或其衍生物、聚矽烷或其衍生物、在側鏈或主鏈具有芳 香族胺之聚矽氧烷衍生物、吡唑啉衍生物、芳胺衍生物、 二苯乙烯衍生物、三苯基二胺衍生物、聚苯胺或其衍生物、 聚噻吩或其衍生物、聚芳胺或其衍生物、聚吡咯或其衍生 物、聚(對伸苯基伸乙烯基)或其衍生物、或是聚(2, 5-伸噻 吩基伸乙烯基)或其衍生物等。 此等電洞輸送層之中,電洞輸送材料係以聚乙烯咔唑 或其衍生物、聚矽烷或其衍生物、在側鏈或主鏈具有芳香 族胺化合物基之聚矽氧烷衍生物、聚苯胺或其衍生物、聚 噻吩或其衍生物、聚芳胺或其衍生物、聚(對伸苯基伸乙烯 基)或其衍生物、或聚(2, 5-伸噻吩基伸乙烯基)或其衍生物 等高分子之電洞輸送材料為佳,以聚乙烯°卡°坐或其衍生 物、聚矽烷或其衍生物、在側鏈或主鏈具有芳香族胺之聚 矽氧烷衍生物等更佳。當為低分子之電洞輸送材料時,以 使其分散於高分子黏合劑(binder)中使用為佳。 關於電洞輸送層之成膜方法,若使用低分子之電洞輸 送材料,則可舉例如藉由從與高分子黏合劑之混合溶液進 行成膜之方法,若使用高分子之電洞輸送材料,則可舉例 如藉由從溶液成膜之方法。 從溶液成膜時所使用之溶劑,只要為可使電洞輸送材 28 322275 201138538 料溶解者即可,可舉例如:氯仿、二氯曱烷、二氯乙烷等 氣系溶劑;四氫呋喃等醚系溶劑;甲苯、二曱苯等芳香族 烴系溶劑;丙酮、甲基乙基酮等酮系溶劑;乙酸乙酯、乙 酸丁酯、乙基賽璐蘇乙酸酯等酯系溶劑。 從溶液成膜之方法可舉例如:旋轉塗佈法、澆鑄法、 微凹版塗佈法、凹版塗佈法、棒塗佈法、輥塗佈法、線棒 塗佈法、浸塗法、喷霧塗佈法、網版印刷法、柔版印刷法、 膠版印刷法、喷墨印刷法等塗佈法。 所混合之高分子黏合劑係以不會極度阻礙電荷輸送者 為佳,且宜使用對於可見光之吸收弱者。該高分子黏合劑 可舉例如:聚碳酸酯、聚丙烯酸酯、聚丙烯酸甲酯、聚甲 基丙烯酸曱酯、聚苯乙烯、聚氯乙烯、聚矽氧烷等。 電洞輸送層之膜厚,其最佳值係因所使用之材料而 異,以使驅動電壓與發光效率成為適度的值之方式適當選 擇,且必須至少為不會產生針孔之厚度,若過厚,則元件 之驅動電壓會升高,而不佳。因此,該電洞輸送層之膜厚 為例如lnm至1 /X m,以2nm至500nm為佳、以5nm至200nm 更佳。 <電子注入層> 構成電子注入層之電子注入材料,依發光層之種類, 可舉例如:驗金屬、驗土金屬;或包含1種以上之前述金 屬之合金;或前述金屬之氧化物、_化物及碳酸化物;或 前述物質之混合物等。鹼金屬或其氧化物、鹵化物、碳酸 化物可舉例如:裡、納、_、物、絶、氧化鐘、I化鐘、 29 322275 201138538 氧化納、氟化鈉、氧化钟 '氣化卸、氧化伽、氣杨 化鉋、氟化鉋、碳酸鋰等。鹼土金 ·’氧 碳酸化物之例子可舉例如:鎂、H㉘勿、齒化物、 化鎂、氧化辦、氟化辦、氧化鋇、氟化鋇:氧:::鎂:氟 銷、碳酸鎂等。電子注人層可為積層2層以上化 :由積層體之具體例可舉例如LiF/c…電子注入層: 籍由洛鍍法 '難法、印刷法等卿成。電子注人層之膜 厚以lnm至l#m左右為佳。 m 、 <電子輸送層> 構成電子輸送層之電子輸祕_可舉例如··曙二哇 衍生物、蒽酿二甲燒或其衍生物、笨|tUbenz零in·)或 其衍生物m其衍生物、其衍生物、四氛基蕙 職二甲炫或其衍生物1酮衍生物、二苯基二氰基乙稀或 其衍生物、聯苯酿(diphenoquinone)衍生物、或是8_經基 啥°林或其竹生物之金屬錯合物、聚嗤琳或其衍生物、聚喧 噚嘛(polyquinoxaline)或其衍生物、聚苐或其衍生物等。 此等之中,電子輸送材料明二喷衍生物、苯酿或其 衍生物、葱酿或其衍生物、或是8-羥基喹啉或其衍生物之 金屬錯合物、聚喧琳或其衍生物、聚嗜曙琳或其衍生物、 聚苐或其衍生物為佳,以2-(4-聯苯基)_5_(4_三級丁基苯 基)-1,3,4-噚二唑、苯醌、蒽醌、參(8_喹啉酚)鋁、聚喹 啉更佳。 經由使用前述實施形態之有機EL元件8,即可實現具 備有機EL元件之照明裝置、或具備複數個有機EL元件之 322275 30 201138538 顯示裝置、或是做 使用之面狀光源,器之光源或顯示裳置之背咖 具備有機EL元杜— 顯示裝置、點矩陣顯如:區段(一 矩陣顯示裝置及被動 置陣:示裝置係有主動 動矩陣顯示裳置、被動矩==機 發光兀件使用。此外 I 2故為構成各像素之 為構成各區段之發有機1兀件係在區段顯示裝置中做 中則做為背光源使用。〆、、’、使用,在液晶顯示裝置 (實施例) (實施例1) <基板之製作> 以下,參照第3 (步驟1)球狀之聚笨 層化 圖而說明附電極基板之製作方法。 乙烯(polystyrene:簡稱PS)粒子之單 首先’經由對Si基板實施&電漿處理1分鐘,而使 Si基板之表面親液化。其次,使用令球狀之ps粒子分散 成膠體(CC)11°id)狀而成之懸浮液(自Duck Scientific Corporation取得)’藉由自組織化而於Si基板上形成球 狀之PS粒子(平均粒徑2/zm)之單層。 在本貫施例中係藉由簡易的方法將球狀之PS粒子堆 積在Si基板上。首先’在Si基板上滴下數滴包含球狀之 ps粒子的膠體狀懸浮液,其次,經由將Si基板從水平傾 斜40 ’而使膠體狀懸浮液擴展至所需位置。在滴下膠體 31 322275 201138538 狀懸浮液刖之懸浮液中的球狀之ps粒子之濃度係設為約 2〇重量%。藉此,藉由重力效應,而於Si基板之表面形 f包含球狀之PS粒子的懸浮液之均勾«。並且,使均句 ㈣中之,劑蒸發。由於蒸發時在球狀之以粒子侧面所產 生之士細:效應、,而使球狀之ps粒子進行自組織化,故形 成祠咎地蓄積為六角形(hexag〇nal)狀之膠體結晶之單層。 (步驟2)球狀之PS粒子之固定 其次,為了將球狀之PS粒子固定在Si基板,而以氧 化石夕填充球狀之ps粒子間之間隙。首先,將液狀之溶膠凝 ,(s〇卜gel)用材料(自 Eirmlsitone Company(USA)取得之 氣化矽膜)進行旋轉塗佈,並使其凝膠化。再者,將溶膠凝 膠用材料予以塗佈,直到球狀之PS粒子之間隙被填充之裎 度、且直到球狀之PS粒子會從該溶膠凝膠用材料露出之程 度。藉此製作鑄模。 (步驟3)壓印 藉由旋轉塗佈法於玻璃基板上塗佈做為低折射率材料 之 HI6150C 自 AddisonClear Wave(USA)取得,在波長 589nm 之折射率n= 1.575)之50重量%甲基乙基酮溶液。令轉速 為5〇〇〇rpm,旋轉3〇秒。將其在7(TC稍微加熱5分鐘。其 次’依下述之(1)至(3)之順序’使用步驟2中製得之鱗模 進行壓印。(1)將溫度調整為70〇C,以40bar之麗力將禱 模按壓90秒。(2)在將溫度、壓力分別維持在70¾、4〇bar* 之狀態下照射紫外線(UV)20秒。(3)將溫度調整為5〇。〇, 進行離型。 322275 32 201138538 (步驟4)附著物之去除 、 由於有時於經實施壓印之玻璃基板上會附著有鑄模之 球狀之PS粒子,故在甲苯中進行超音波洗淨,以去除附著 之球狀之PS粒子。 (步驟5)平坦化層之形成 為了使經實施壓印之由低折射率之HI6150所構成之 層平坦化,而於此層上使用含有二氧化鈦之A—series高 折射率材料(自Brewer Science(uSA)取得,在波長700nm 之折射率n = 1. 97,在波長400nm之折射率n = 2. 17)形成 .平坦化層。再者,為了硬化及去除溶劑,此A—series高 折射率材料係必須實施烘烤(baking)。在本實施例中,係 字A seri es南折射率材料塗佈7次,且每塗佈1次即進 行1次烘烤。旋轉塗佈係以1500rpm進行30秒。此外,烘 烤係使用加熱板並以在12(rc3〇分鐘、在2〇〇tl5分鐘、 在350 C 30秒之方式將加熱溫度階段性地提高來進行。 (步驟6)ITO薄膜之形成 於由A—series高折射率材料所構成之層上,使用 ULVAC公司製之麟裝置而形成削薄膜(折射率n=2)。 成膜條件係令壞境氣壓為Q. 3Pa、環境温度為未達赃、 隹積速率為4nm/秒。藉此而形成膜厚為13〇nm、薄片電阻 為25Ω/□之ITO薄膜。 ^基板之評估> 使發出綠色光之向分子發光材料(sumati〇n製,製品 名「Lumatlon GP1300」)溶於曱笨中,而調製高分子發光 33 322275 201138538 材料之濃度為1.2質量%之塗佈液,藉由旋轉塗佈法將此 塗佈液塗佈於上述所得之基板之ΙΤ0薄膜上,而形成發光 層。所得之發光層之膜厚為lOOnm。從發光層側照射波長 為254nm之紫外線,測定從與發光層相反侧之基板側出射 之綠色發光之PL(Photoluminescence,光激發光)發光強 度。PL發光強度之放射圖案如第4圖所示。在第2圖中係 令(X,Y) =(0,〇)為原點〇,以離原點〇之距離表示PL發光 強度。此外,放射角度0係以在第2圖中將原點〇與測定 點連接之直線和形成X == 〇之軸線(通過原點之γ軸)之間所 形成的角度Θ表示。例如「0 =0」之測定點係表示出射至 基板表面之PL發光之光強度。 (比較例1) <基板之製作> 與貫施例1同樣進行,於表面平垣的玻璃基板上形成 !Τ〇薄膜,而製作附電極基板。 <基板之評估〉 於上述所得之基板之ΙΤ0薄膜上,與實施例1同樣進 行而塗佈形成發出綠色光之發光層,並與實施例1同樣進 行而測定PL發光強度。PL發光強度之放射圖案如第4 所示。 國 由於如第4圖所示,比較例1之PL放射圖案係在實施 例1之PL放射圖案内之範圍内,故得知經由使用實施例1 之基板,而在全放射角度皆使PL發光強度增強。此外,以 積分球測定從基板全面導出之PL發光量後結果得知,若令 322275 34 201138538 比較例1之PL發光量為「丨」,則實施例1之pL發光量為 2. 6。如此,經由在實施例1所得之基板上製作有機el元 件’而使光導出效率提高。 (產業上之可利用性) 根據本發明’可簡易地製作具備可達成高之光導出效 率之構造的有機EL元件用之附電極基板。 【圖式簡單說明】 第1圖係概略地表示具備有機EL元件用之附電極基板 1的有機EL元件8之圖。 第2圖係表示鑄模之示意圖。第2圖(1)係放大表示鑄 模之一部分之剖面圖,第2圖(2)係表示形成有格子狀之框 的鑄模之一部分之平面圖。 第3圖係表示附電極基板之製作步驟之圖。 第4圖係表示實施例1及比較例1中之pl發光強度之 放射圖案。 【主要元件符號說明】 1 附電極基板 2 低折射率層 3 機能層 4 第1電極 5 發光層 6 第2電極 7 電洞注入層 8 有機EL元件 322275 201138538 π 鑄模 12 微粒子 13 框體 14 棊台 15 接著構件
Claims (1)
- 201138538 七、申請專利範圍: 1. 一種附電極基板之製造方法,係有機電激發光元件用之 附電極基板之製造方法,其中, 該附電極基板係依序積層低折射率層、機能層、及 顯示透光性之電極而構成, 並且,前述電極之折射率η 1、前述機能層之折射 率η2及前述低折射率層之折射率η3係滿足下式(1): [〇. 3^(η 1 -η 2)^0 |nl^n2>n3 ...(1) 而且,該附電極基板之製造方法係包括下述步驟: 藉由使用在基台之表面上鋪設有平均粒徑為1.0/zm至 200 /zm之複數個微粒子的鑄模之壓印法,於表面部形 成凹凸部,而形成前述低折射率層之步驟; 經由在前述低折射率層之形成有前述凹凸部之面塗佈 包含形成前述機能層之材料的塗佈液並使其固化,而形 成前述機能層之步驟;以及 於前述機能層上形成前述電極之步驟。 2. 如申請專利範圍第1項所述之附電極基板之製造方法, 其中,前述複數個微粒子係分別為近似球狀,且以接近 最緊密填充之配置而鋪設於前述基台之表面上。 3. —種有機電激發光元件,係具備藉由申請專利範圍第1 項或第2項所述之附電極基板之製造方法所製得之附 電極基板者。 4. 一種照明裝置,係具備申請專利範圍第3項所述之有機 37 322275 201138538 電激發光元件者。 5. —種顯示裝置,係具備複數個申請專利範圍第3項所述 之有機電激發光元件者。 38 322275
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