TW201035585A - Anti-reflection film - Google Patents

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201035585 四、指定代表圖： (一） 本案指定代表圖為：無。。 (二） 本代表圖之元件符號簡單說明：盔。 五本案右有化學式時，请揭示最能顯示發明特徵的化學式： 益 〇 六、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明是關於主要使用於顯示裝置的表面的反射防止 膜’特別是關於具有充分的影像清晰度與表面硬度的反射 防止膜。 【先前技術】 夕顯示裝置的顯示畫面，由於使用者以手觸摸的機會 多，而其表面會有髒汙、刮傷、變得難以觀看影像等情況， 而需要提升其表面硬度的提升。另外，關於顯示裝置的顯 不晝面，由於會遭遇到因日光燈的外界光線的映入所造成 =反射像而使顯示影像的明視度變差，而需要抗反射的功 因此習知會有在顯示裝置的顯示畫面，貼附具有適 度的表面硬度的反射防止膜的情況。 作為上述反射防止膜去，β去由, 者疋考慮例如具有基材膜、設 折射车=上^折射率層、與設於此高折射率層上的低 折射率㈣。另外，詩高折㈣層，為了提高其表面硬 201035585 ώ； 卩丄 又 賦予其亦作為硬塗層的功能。關於兼作硬塗層的高 折射率層’是使用例如丙烯酸系寡聚物、丙烯尿烷（acry 1 urethane)系券聚物等的紫外線或熱固性樹脂所構成的硬 化材料’而可以在塗佈此硬化材料後，以紫外線使其硬化 來形成。 作為進一步提高上述硬塗層的表面硬度的技術，例如 在專利文獻1中，揭露在形成硬塗層的硬化材料中，使用 〇 已添加平均粒子徑為10〜300nm以下的例如鱗片狀的無機 微粒子的組合物，而形成硬塗層。 【先行技術文獻】 【專利文獻】 【專利文獻1】特開2004-42653號公報 【發明内容】 【發明所欲解決的問題】 〇 ^ 然而，在硬化材料添加平均粒子徑3μπι以下的微粒子 的情況中，由於此粒子過於細小等原因，不一定會得到足 夠的表面硬度。另外，為了得到足夠的表面硬度，會考慮 添加大量的上述微粒子，但在此情況中，會遭遇到此硬塗 層的混濁度（haze)上升而影像清晰度變差而使其不適合用 於顯示裝置的問題。 本發明的目的是提供具有充分的影像清晰度與表面硬 度的反射防止膜。 【用以解決問題的手段】 3 201035585 本案發明人為了解決上述 s , i 延間題而精心研究的結果，發 現猎由在反射防止膜的高折 層"丨、加既定的無機粒子， 而可以知到影像清晰度與表 f度優異的反射防止膜，而 元成本發明。本發明是包含以下内容。 種反射防止膜，包含基材膜；—高折射率層， 设置於上述基材膜上；以芬 以及—低折射率層，設置於上述高 折射率層上，上述低折射率層 上“ ]祈射率rl及上述高折斯走 層的折射率rh是滿足（Rh_0 n>p & k门折射羊 ^ B 4入 •1)=1的關係丨其中上述高折 射革層疋由-組合物所構成’上述組合物包含作為主成分 的硬塗（㈣咖㈣）材料與平均例子徑為3 Π無機粒子;以及上述反射防止膜的影像清晰度為9: (2) 上述反射防止膜中， 上述無機粒子含有35重量 以上的氧化矽成分。 董置/〇 (3) 上述反射防止膜中， 、 上述 '，且&物是相對於1 00重量 份的上述硬塗材料，而合古 至里 … 3有3〜30重量份的上述無機粒子。 上錢㈣止财，上述基材膜具有 與一第二樹脂層，且是由共擠壓法（⑶extruslQn)㈣2 =厚度不滿的多層膜，上述第一樹脂層是由含熱 J性壓克力樹脂或具有脂環式 ‘、、、 9 n 、， & 飞得化的樹知、與平均粒徑為 2·0μιη以下的彈性體粒子 勹 丁 w、，且σ物所構成，上 層是由不含上述彈性 ι弟一樹月曰 坪f體粒子的熱塑性樹脂所構成。 【發明效果】 取 若使用本發明的反射防止膜 、力 问折射率層， 201035585 此高折射率層是使用_細人4 史用組合物，此組合物含作 ing)材料與平均例子徑為㈣二 ，板狀的無機粒子’藉此具有可達成充分的影像清 充分的表面硬度的功效。另 晰度與 用於液晶顯示裝置、有機電致發光顯示器、電漿顯示裝了適 觸控面板等的顯示裝置。 、置 【實施方式】 【用以實施發明的形態】 本發明的反射防止膜的構造，是具有一基材膜；—高 折射率層’设置於上述基材膜上；以及一低折射率層，設 置於上述高折射率層上，上述低折射率層的折射率i及上 述高折射率層的折射率Rh是滿足（^_〇1)^1的關係。 〈基材膜〉 基材膜可已是單層、亦可以是複數層所構成的層積體。 可使用厚1 mm、全光線穿透率8 〇 %以上的透明樹脂來作 為構成基材膜的各層的材料。作為透明樹脂者，可列舉出 例如具有^環式結構的樹脂、聚醋（p〇 1 y e S e ρ )樹脂、賽游 路（cellulose)樹脂、聚碳酸酯（p〇iyCarb〇nate)樹脂、聚 石風（polysulfone)樹脂、聚_颯（卩〇1丫6让6^111『〇116)樹脂、 聚笨乙烯（Polystyrene)系樹脂、聚烯烴（p〇ly〇lefin)樹 脂、聚乙烯醇（p〇lyVinyl alc〇hol)樹脂、聚氣乙烯 C polyvinyl chloride)樹脂及熱塑性壓克力樹脂等。在這 些之中’作為用於本發明的基材膜的透明樹脂，從後文所 201035585 ’較好為熱塑性壓克 述的與高折身士率層$密接性等的觀點 力樹脂。 關於熱塑性壓克力樹脂，是使用（甲基）丙稀酸醋 ((meth)acrylicester)來作為原料主成分，而作為（甲基） 丙烯酸酯者，較好為是從（甲基）丙烯酸與碳原子數丨〜15的 炫醇Ulkanol)及環炫醇（cycl〇alk麵！）所衍生的構造的 物質，1好為由碳原子數卜8㈣醇所衍生的構造的物 質。碳原子數過多的情況，則所得到的脆性膜之破斷時的 延展度會變得過大。而（甲基）丙稀酸醋是指甲基丙稀酸醋 (methacrylate ester)及丙烯酸酯。 熱塑性壓克力樹脂者，可列舉出的有：丙烯酸甲酯 (methyl acrylate)、丙烯酸乙酯（ethyl acryIate)、甲基 丙浠酸甲醋Uethyl —te)、甲基丙浠酸乙醋 (ethyl methacrylate)等的烧基（甲基）丙烯酸酯的單聚 物；烷基的氫被0H基、C00H基或NIL·基等的官能基所置換 的烧基（曱基）丙烯酸酯的單聚物；或是烷基（曱基）丙稀酸 商旨與具有苯乙稀（styrene)、醋酸乙稀、α，石—單乙烯性不 飽和羧酸、乙烯曱笨（vinyl toluene)、α _甲苯乙稀 U -methylstyrene)、及無水順丁 烯二酸（maleic anhydride)等的不飽和鍵結的乙烯系單體的共聚物。可使 用這些中的僅僅一種、亦可使用二種以上的組合來作為熱 塑性壓克力樹脂。熱塑性壓克力樹脂更好為含有曱基丙稀 酸酯單元及丙烯酸酯單元來作為單體單元。 上述透明樹脂除了後文所述的彈性體粒子外，亦可含 201035585 子.V」加劑。可列舉出作為其他添加漸的有例如益機粒 J，抗氧化劑、熱穩定劑、光穩定 '，、、：粒 線吸收劑、、AL成 读穩疋劑、紫外 收齊！近紅外線吸收劑等的穩 的樹脂改質劑，·染料、顏料等的色辛]=、可塑劑等 添加劑可單獨或組合二種以上=，=帶電劑等。這些 Ο 可在不損及本發明的目的的範圍作適當二=:!有 :r°°重量份的透明樹脂…量份二= 加劑二力可列舉出作為含有這些添加劑的方法有預先將添 “ Π於透明樹脂中的方法、在炼融擠 應的方法等。 叮且丧供 "另外，基材膜除了上述透明樹脂外，較好為含有數量 平均粒徑2. 0_以下的彈性體粒子。彈性體粒子是指橡踢 狀彈性體所構成的粒子。可列舉出作為橡膠狀彈性體的有 丙烯酸醋系橡膠狀共聚物、以丁二烯(butadiene)為主成分 的橡膠狀共聚物、乙烯-醋酸乙烯共聚物等。作為丙稀酸酿 〇系橡膠狀共聚物的有以丙烯酸丁酯（butyl acrylate)、丙 烯酸2-乙基己酯（2-ethylhexyl acrylate)等為原料主成 分的物質。在這些之中，較好為以丙烯酸丁酯為主成分的 丙烯酸酯系共聚物及以丁二烯為主成分的橡膠狀共聚物。 彈性體粒子較好為層狀的二種聚合物而成者，可列舉出作 為其代表例的有將丙烯酸丁酯等的烷基丙烯酸酯（a丨ky i aery late)和苯乙烯的接枝（graft ing)化橡膠成分、與聚甲 基丙烯酸曱酯（polymethy lmethacry late ; PMMA)及/或甲基 丙烯酸甲酯和烷基丙烯酸酯的共聚物所構成的硬質樹脂層 201035585 形成為核殼（core_shell)結構的層之彈性體粒子。 一作為上述彈性體粒子者，是分散於上述透明樹脂中的 狀態中的二次粒子的數量平均粒徑為2 〇⑽以下、較好為 O’l M)_、更好為〇·卜〇·5_。即使彈性體粒子的一次粒 子徑小，因凝結等所形成的二次粒子的數量平均粒子徑若 大，則基材的haze(混濁度）會過高，而使光線穿透率變低。 另外，若數量平均粒子徑過小，則可挽性有降低的傾向-。 上述基材膜較好為由一組合物所構成，此組合物包含 亡=透明樹月曰、較好為具有上述熱塑性壓克力樹脂或罝有 脂％式構造的樹脂、與在此基材 …、 u、+- Μ 刊联的知度方向分布不均的 粒子。上述彈性體的集中存在的位 ;:向的中央部、也可以是表面部。彈性體粒子华二 於令央部的情況，是分布在基材膜表面附 2存在 較少、分布在基材膜的厚度方向的中央 十體粒子 彈性體粒子集中存在於表面部的情況是 膜中央部的彈性體粒子較少、八 在基材 彈性體粒子較多。彈性體粒子的分布，可以部分的 中央平穩地增加或減少，亦可以是階梯式地^表面朝向 藉由使彈性粒子在層厚方向 4或減少。 射防止膜的表面硬度，並提升其^可以充分地確保反 的反射防止膜貼合於偏光冑〜。特別是將本發明 陶尤板、顯示裝置箄 與構成偏光板的偏光材料等的密接性的觀點從提高 在層積高折射率層那-側的相反側的基材膜> 好為成為 的彈性體粒子的結構。 腰表面分布較多 201035585 Ο Ο 可列舉出獲得這樣彈性體粒子分布不均的基材膜的方 法，有：將熱塑性壓克力樹脂或具脂環式構造的樹脂斑數 量平均粒子徑為2.0輯以下的彈性體粒子所構成的組合 物、與不含此彈性體粒子的熱塑性樹脂共擠壓成形的方 法；將熱塑性樹脂與數量平均粒径為2 0um以下的彈性體 粒子所構成的組合物、與不含此彈性體粒子的熱塑性壓克 力樹脂或具脂環式構造的樹脂共擠壓成形的方法。較好為 採用將熱塑性壓克力樹脂或具脂環式構造的樹脂與數量平 均粒子徑為2. 〇_以下的彈性體粒子所構成的組合物、斑 不含此彈性體粒子的熱塑性樹脂共擠壓成形的方法（共擠 壓2 (coextrusi on))。可列舉出作為共擠壓法者有共擠壓 T字模（T-die)法、共擠壓膨脹（inflatiQn)法、共擠壓層 積（lamination)法等’其中較好為共擠壓τ字模法。關於 共擠壓τ字模法可列舉出分流器式(feed bi〇ck)、多流道 (ηηιΠ^Γϋί。^)式，但是在可以減少含彈性體粒子層^ 的厚度變異的觀點，則較好為多流道（_ t卜_ f 〇Η)式。 基材膜的厚度，以總厚度而言，較好為1〇3〇〇_、更 好為1 5〜1 5Ομπι。 基材膜為使用由熱塑性壓克力樹脂或具脂環式構造的 樹脂與數量平均粒徑為2.0_以下的彈性體粒子所構成的 ,合物所形成的多層的樹脂層的情況，由熱塑性壓克力樹 脂或具脂環式構造的樹脂與數量平均粒徑為2 〇_以下的 彈性體粒子所構成的層的厚度總計較好為60_以下、更好 為20Mm以上且60Mm以下。另外，不含彈性體粒子的熱塑 201035585 性樹脂的厚度總計較好為2G⑽以上 '更好為2_以上且 6°_以下。不含彈性體粒子的熱塑性樹脂層的厚度總計若 不茜μιη |j耐熱性及強度不足；由熱塑性壓克力樹脂或 具脂環式構造的樹脂與數量平均粒徑為2如以下的彈性 體粒子所構成的層的厚度總計若不滿2。_，則可撓度不 足在此處#不含彈性體粒子的熱塑性樹脂」可以是熱 塑性壓克力樹脂或具脂環式構造的樹脂。 基材膜，其殘留溶劑含量較好為Q ()l f量％以下。藉 =留溶劑量為上述範圍，例如在可以防止高溫·高濕度 %境下中的基材膜的變开4i、，。 啊联扪燹形，並可以防止光學性能的劣化。 殘留溶劑量為上述範圍的基材膜，可藉由例如將複數個樹 脂共擠壓成形而獲得。在共擠壓成形的情況中，由於亦可 以不經過複雜的步驟（例如乾燥步驟、塗佈步驟等），灰塵 等的外4異物的混入較少’而可以發揮優異的光學性能。 殘留溶劑的含量’是將5°邶的基材膜置入已完全除去吸附 於表面的水刀、有機物等之内徑4_的玻璃管的試樣容 器’將此容器在2帆加熱30分鐘，連續式地採集從容写 逸出的氣體，以熱脫附氣㈣析f譜儀（TDS —_ 已採集的氣體的值。 2基材膜，其透溼度較好為1〇g. 以上、2〇〇g. “:7以下。藉由基材膜的透溼度為上述較佳的範圍，可 以提升與層積於基材膜的層的密接性。透溼度可以在 °C、_Η的環境下，以放置24小時的試驗條件，以川2 0208所記载的透濕杯法（cup為根據來測定。 201035585 關於基材膜的表面，從減低干涉斑的觀點，可作為具 有凹凸構造的結構。凹Α谨、止可 ' 再凹凸構造可以僅形成於基材膜的一個 表面、、亦可以形成於兩表面。作為在基材模的表面賦與凹 凸構造的方法，可適用使用具有凹凸的賦形輥的夾持(_) 成形法、使用具有凹凸的薄膜之三明治積層法—ch laminate method)、嗜石令法楚。士甘,, 、 貰少法4。在基材膜的表面形成凹凸 構造的情況中，在其凹& ★接；土加 牡八凹凸構造側的面可以是算術平均表面 Ο Ο 粗糙度（Ra)為0. 〇5μιη以上、〇 5um以下· η从朴 .3μΗ1以下，另外，其凹凸構 造的平均周卿可以是10pm以上、2〇〇_以下。而在本 發明中，基材膜的算術平均表面粗輪度與平均周期可以是 根據JIS B G6G1 : 2G01的規定所測定的值。在表面呈有凹 凸構造的基材膜，混濁度較好為1%以上 '不滿5()%，更好 為3%以上、40%以下。 另外，對於基材膜中的設置高折射率層那一側的表 面’可施以表面改質處理。τ列舉出作為表面改質處理者 有能量射線照射處理、藥品處理等。可作為能量射線昭射 處理者，㈣暈放電處理、電漿處理、電子線照射處理、 紫外線照射處理等，而從處理效料的觀點，較好為 放電處理、電栽處理。另外，可列舉出作為藥品處理者， 有將劑膜浸潰於重鉻酸鉀溶液、濃砗 展砸馱等的氧化劑水溶液 I之後再以水充分洗淨的方法。若在浸潰的狀態下搖動 可以在短時間作處理，但是若過度處理則會發生表面溶 解、透明度降低等’因此較好為調整適當的條件。 〈高折射率層〉 11 201035585 面折射率層是由含作為主成分的硬塗材料、與平均粒 子徑3〜1 〇μηι的鱗片狀的無機粒子之組合物（以下會有稱之 為「高折射率層形成用組合物」的情況）所構成。 作為上述硬塗材料者，可以使用無機材料、樹脂材料 或這些的混合物，但從產能優異的觀點則較好為樹脂材 料。作為上述樹脂材料者，可使用形成高折射率層後的皮 膜具有充分的強度、還具有透明性的物質。可列舉出作為 上述樹脂材料者，有熱固性樹脂、熱塑性樹脂、電離放射 線硬化型樹脂，但從皮膜的強度、加工性的觀點，較好為 熱固形樹脂或放射線硬化型樹脂。 可列舉出作為熱固型樹脂者，有酚樹脂（phen〇Hc 犷65丨11)、尿素樹脂、酞酸二烯丙酯樹脂（(11811丫1汕让&1紂6 resin)、二聚氰胺樹脂（melamine resin)、胍胺（训⑽⑽“ο 樹脂、不飽和聚酯樹脂、聚胺酯（p〇lyurethane)樹脂、環 氧樹脂、胺基醇酸樹脂（amin〇alkyd resin)、三聚氰胺一 尿素共縮合樹脂、聚矽氧樹脂（silic〇ne resin)、聚矽氧 烷（polys il〇xane)樹脂。另外，亦可視需求在這些熱固型 樹脂添加交聯劑、聚合開始劑等的硬化劑、聚合促進劑、 溶劑、黏度調整劑等。 電離放射線硬化型樹脂，是在分子中具有聚合性不飽 和鍵或環氧基的預聚合物（prep〇lymer)、寡聚物及/或單體 會藉由電離放射線的照射而硬化的樹脂。電離放射線是指 電磁波或帶電粒子線中具有可聚合或交聯的能量量子者， 通常是使用紫外線或電子線。作為藉由紫外線或電子線來 12 201035585 硬化的樹脂並未特別設限，從可以習知以來就使用者適當 地選用。可列舉出作為紫外線硬化型樹脂者有光聚合性預 聚合物、或含光聚合性單體與光聚合開始劑、光增感劑者； 另外可列舉出作為電子線硬化型樹脂者，有光聚合性預 聚合物或含光聚合性單體者。 可列舉出作為上述光聚合性預聚合物者，有例如聚酯 丙烯酸S日（p〇lyester a(：rylate)系、環氧丙烯酸醋（叩叫 〇 y e)糸胺甲酸醋丙晞酸醋（urethane aery 1 ate) 系夕元醇丙浠酸酯（polyol acrylate)系等。可使使用這 些光1合性預聚合物的一種、或是組合二種以上來使用。 另外，可列舉出作為上述光聚合性單體者，有例如聚經甲 基丙院二丙浠酸酯（polymethylolpropane triacrylate)、聚羥甲基丙烷三曱基丙烯酸酯 (polymethylolpropane trimethacrylate)、丙烯酸己二醇 酯（hexanediol acrylate)、曱基丙烯酸己二醇酯 ❹ (hexanediol methacrylate) '三丙稀乙二醇雙丙烯酸酷 (tripropylene glycol diacrylate)、三丙烯乙二醇雙甲 基丙稀酸酯（tripropylene glycol dimethacrylate)、二 乙二醇二丙浠酸酯（diethylene glycol diacrylate)、二 乙二醇二甲基丙烯酸醋（diethylene glycol dimethacrylate)、季戊四醇三丙烯酸酯（pentaerythritol triacrylate) 季戊四醇三甲基丙稀酸酉旨 (pentaerythritol trimethacrylate)、二季戊四醇六丙稀 酸酯（dipentaerythritol hexaacrylate)、二季戊四醇六 13 201035585 甲基丙稀酸醋（dipentaerythritol hexamethacrylate)、 二丙稀酸_1，6-己二醇酯（1，6 —hexanediol diacrylate)、 二甲基丙烯酸-1,6-己二醇酯U，6-hexanediol dimethacrylate)、新戊二醇二丙烯酸酯（neopentyl glycol diacrylate)、新戊二醇二甲基丙烯酸酯 (neopentyl glycol dimethacrylate)等。在本發明中，較 好為使用胺甲酸酯丙烯酸酯系來作為預聚合物、二季戊四 醇六丙烯酸酯或二季戊四醇六曱基丙烯酸酯來作為單體。 可列舉出作為光聚合開始劑者，有苯乙酮 (acetophenone)類、二苯基酮（benzophenone)類、α -戊基 砖醋(a -amyloxime ester) (tetramethylthiuram monosulfide)、塞 吨嗣 (thioxanthone)類等。另外，作為光增感劑者，可將使用 正丁胺（n-butylamine)、三乙胺（triethylamine)、聚正丁 膦（poly-n-butyl phosphine)單獨或混合使用。 上述高折射率層形成用組合物’是含有平均粒子徑 3〜ΙΟμιη的鱗片狀的無機粒子。 、 丁 十吟粒子徑不滿3μιη的情況 中，無法仔到充分的表面硬度·呆认 τ ^ ^ ^ 硬度，另外，平均粒子徑超過10_ 的情況中’會因為混濁度變高 qn〇/,如^ 门而使影像清晰度不足（不滿 9W)。在此處，無機粒子的平 雷子顯料# 勺拉子瓜疋可以使用掃描式 電子顯微鏡（SEM)，觀察100個益 ^ E …' 機粒子，求得其長徑的長 度，將廷些長徑平均而求得。 贫 鱗片狀的形狀亦可稱為薄 的長度（與厚^ ，其厚度與長邊方向 与度方向垂直的方向 取長的長度方向的長度 14 201035585 的平均外觀比（aspect ratio)為40〜200,膜厚為2um以下。 上述無機粒子較好為含有35重量％以上的氧化矽成 分。藉由上述適當的範圍，可以進一步提高低折射率層與 在層間的密接度，並可以進一步提升其表面強度，特別是 低折射率層含40重量％以上的氧化矽成分的情況中，具有 進一步提升密接性的優點。氧化矽成分的含有比例的上 限，並未特別設限，而可以是8 〇重量％以下。 ¢) 上述無機粒子’相對於100重量份的硬塗材料，較好 為含有3〜30重量份、更好為含有5~2〇重量份。藉由上述 適當的範圍，可以更進一步地提升表面硬度與影像清晰度。 可列舉出作為上述無機粒子的有例如白雲母 (musc〇vlte)、金雲母（phl〇g〇pite)、黑雲母（bi〇tite)、 氟金雲母^111〇1*讪1叫〇1^忭）'高嶺石（1^〇1丨11丨忱）、滑石 (talc)、絹雲母（sericite)、有機處理雲母、矽石 (ica)漿土（bentonite)、蒙脫石（montmoriii〇nite)、 €)貝德石（beidellite)、鐵膨潤石（n〇ntr〇nite)、皂石 (saponite)、綠泥石（hect〇nite)、辞膨潤石（sauc〇ni 忱）、 滑鎮皂石（stevensite)、經石（verffiiculite)、合成膨潤石 (synthetic smectite)，可使用這些之中的一種、亦可併 用二種以上。另外，亦可在無機粒子賦與矽烷偶合劑。 上述高折射率層形成用組合物，除了上述無機粒子之 外，:可含有導電性微粒子。藉由含有導電性微粒子’不 僅僅是作為高折射率層的功能，亦賦與作為抗帶電層的功 能。上述導電性微粒子，只要是具有導電性的微粒子就無 15 201035585 特別限制’而在優異的透明性的觀點，較好為金屬氧化物 的微粒子。可列舉出作為上述金屬氧化物者，例如有五氧 化録、氧化錫、摻雜碟的氧化錫（⑽、換雜録的氧化錫 (ΑΤ0) #雜錫的氧化銦（IT〇)、摻雜鋅的氧化銦（⑽、換 雜紹的氧化鋅⑽）、接雜氧的氧化錫（_、氧化辞/氧化 鋁、銻，鋅等。這些金屬氧化物的微粒子可以軍獨使用一 或是’沮口一種以上來使用。這些之中從透明性優異 的觀點’較好為五氧化銻的微粒子及/或摻雜磷的氧化錫的 微粒子。 另外，作為上述金屬氧化物的微粒子者，可以使用在 不，、導電性的金屬氧化物的表面被覆導電性金屬氧化物， 藉=而賦予導電性的微粒子。例如，可以在折射率高但不 具導電性的氧化鈦、氧化錯、氧㈣等的微粒子的表面， 被覆亡述導電性金屬化合物而賦予導電性來使用。另外， 2併用不具導電性的無機粒子與導電性金屬氧化物的微 上述導電性微粒子的數量平均粒子徑較好為2〇〇⑽以 :、更好為5(Μ5ηι„。數量平均粒子徑，可以從由穿透式 =顯微旦鏡⑽）等所得到的二次電子釋放的影像照片的 視對衫像照片作書面處理尊央极目丨, 誕理4來做计測’或是可藉由利 先散亂法'靜態光散亂法等的粒度分布計等來計測。 另外，在上述高折射率層形成用組合物中，除了上述 =機粒子之外，亦可含有其他的無機粒子。可列舉出作為 其他無機粒子者，一, 又而S疋無機氧化物，例如為Si〇2、 201035585 A 1 2〇3 ' B 2 0 ^ > T 1 A η /Λ ^ 2、Zr〇2、Sn〇2、Ce〇2、P2〇5、Mo〇3、Zn〇2 ' WO3等的一種或二種以上。上述其他的無機粒子的數量平均 粒：徑較好為5°°⑽以下、更好為30〜15nm。數量平均粒 子‘可以以與上述相同的方法來計測。 上述阿折射率層可藉由以下所述來取得：以溶劑將上 述高折射率層形成用組合物稀釋；在基材膜的一個表面、 好為在已形成上述凹凸構造的面，直接塗佈此稀釋物或

將Ά佈在形成於基材膜上的其他層，而得到塗膜；對此 塗膜照射熱或電離射線。 可列舉出作為上述溶劑的有：甲醇、乙醇、異丙醇、 正丁醇、異丁醇等的醇類 乙二醇（ethyleneglycol)、乙 乙 丁基峻（ethylene glycol monobutyl ether)、 醇乙轉醋酸（ethylene glyc〇1 m〇noethyl ether acetate) 等的二元醇類；曱笨（t〇luene)、二曱苯（xylene)等的芳香 族碳氫化合物類；正己烷（n-hexane)、正庚烷（n —heptane) 等的脂肪族碳氫化合物；乙酸乙酯（acet〇acetate)、乙酸 丁酯（butyl acetate)等的酯類；曱基乙基酮（methyl ethyi ketone)甲異 丁甲酮（methy1 isobuty1 ketone)等的 _ 類；以及這些的二種以上所構成的組合等。 在高折射率層形成用組合物中，亦可含有以層厚的均 —性、密接性的提升等為目的的平滑劑（leveling agent)、分散劑等。可列舉出作為平滑劑者，有聚矽氧油 (silicone oil)、氟化聚烯烴（fluorina1：ed p〇ly〇lefin)、 聚丙烯酸酯（polyacryl ic ester)等的使表面張力降低的 201035585 化合物 劑等。 可列舉出作為分散劑者有界面活性劑、矽烷偶合 上述高折射率層的折射率較好為1.5 4.7。高折射率 層的折射率若在此範圍，則在高折射率層上層積後文所述 的低折射率層的情況中’可以抑制外來光線的反射、防止 來光線的映入。折射率可以使用例如已知的光譜型橢圓 儀（spectral eHiPsometer)來測定而求得。

上述高折射率層較好為顯示JIS K56GG-5-4所示的錯 筆硬度試驗(試驗板為玻璃板)5〇〇§荷重中的「2H」以上的 硬度。藉由高折射率層的錯筆 層可兼作硬塗層，而可以薄化 外，高折射率層的平均厚度 〇. 1 Ομιη。 硬度在上述範圍，高折射率 反射防止膜全體的厚度。另 通常為0.3〜20μπι、較好為 另外可以對回折射率層的表面施作表面處理。可列 舉出作為表面處理的手段的有在說明上述的基材膜之處例 示的表面改質處理。 〈低折射率層〉 本發明的反射防止膜，是具有設於上述高折射率層上 的低折射率層。低折射率層的折射率&及高折射率層的折 射率h是滿足(Rh-〇.1)^Rl的關係。也就是低折射率層的 折射率，疋比咼折射率層的折射率小了 〇 . 1以上。 、 形成低折射率層的材料（以下有稱之為「低折射率層形 成用組合物j的情況h較好為主要含有熱固性樹脂或電離 放射線型硬化樹脂的物質。 18 201035585 ㈣射率層的氧切成分較好為4q重 成為樣的適當範圍，可以提ϊοΐ 藉由 低折射率層的氧化矽成分的：有、：折射率層的密接性。 定，但可以是60重量％以下。 例的上限並無特別限 作為上述熱固性樹 R ης-rnp ^ ^ 細者’可使用將通式

RmSWOROm(式中，Rl是表示 飞 rh Η μ 『了/、有置換基的一價的烴基 (hydrocarbon group) > 〇r2 b * _ 土 ± ± 、 表不加水分解性官能基，n、

m表整數’ m為1〜4、n+m為4)所丰沾货/,人 ；斤表的矽化合物，全部或部 分地加水分解所得的物質。 可列舉出作為亦可具有置換基的—價的烴基者有炫 基、苯基、環烷基、芳香族基、鹵烷基；烯基羰基烷氧基 (alkenylcarb〇nyloxyalkyl);具有環氧基的烷基、具有氫 硫基（mercapto)的烷基、具有胺基的烷基、過氟化烷基 (perfluoroalkyl group)等。其中從合成的容易性、取得 可能性等，較好為碳原子數丨~4的烷基、苯基、過氟化烷 基。 可列舉出作為加水分解性官能基的具體例的有甲氧基 (methoxy group)、丙氧基（pr0p〇xy gr0Up)等的烧氧基 (alkoxyl group);乙醯氧基（acetoxy group)、丙醒氧基 (propionyloxy group)等的醯氧基（acyloxy group);將 (oxim)基（-〇-N=C-Ri(R2))、晞氧基（enoxy group) (-0-C(Ri) = C(R2)R3)、胺基、胺氧基（aminooxy group) (-0-NUORO、醯胺基（-NUO-CbO)-ίΜ等。在這些官能 基中’ R】' R2、R3是獨立表示氫原子或一價的烴基。在這些 19 201035585 之中，從取得溶液性的觀點，較好為烷氧基。 作為以RmSKOROm所表的的矽化合物者，較好為n 為〇〜2白勺錄的石夕化合物。π列舉出作為其具體例的有院 氧矽烷 Ulkoxysilane)類、乙醯氧矽烷（acet〇xy sUane) 類' 肟矽烷（oxime silane)類、烯氧矽烷（en〇xy sUane) 類、胺基矽烷（aminosilane)類、胺氧矽烷（amin〇〇xy si lane)類、醯胺矽烷（amide silane)類等。這些之中，從 取得容易性等，更好為烧氧矽烧類。 作為η為0的四烷氧矽烷（tetraalk〇XySUane)者，可 例示為四甲氧基矽烷（tetramethoxysi lane)、四乙氧基石夕 烷（tetraethoxysi lane)等；作為η為1的有機三烷氧石夕烧 (organo-trialkoxysilane)者，可例示為一甲基三甲氧基 石夕烧（methyl tri met hoxy si lane)、一甲基三乙氧基石夕烧 (methyltriethoxysilane)、一甲基三異丙氧基石夕烷 (methyltriisopropoxysilane)、苯基三曱氧基石夕统 (pheny1trimethoxysilane)、 笨基三乙氧基石夕炫 (phenyl trie thoxysi lane)、3, 3,3-三氟丙基三甲氧基石夕统 (3, 3, 3-trif luoropropyltrimethoxysilane)等。作為 η 為 2的二有機二烧氧基石夕烧（diorganodialkoxysilane)者， 可 例示為 二曱基 二甲氧 基矽烷 (dimethyldimethoxysilane)、二甲基二乙氧基石夕炫 (dimethyldiethoxysilane)、二苯基二曱氧基石夕炫 (diphenyldimethoxysilane)、二笨基二乙氧基石夕炫 (diphenyldiethoxysilane)、曱基苯基二甲氧基石夕炫 20 201035585 (methy1pheny1dimethoxysi1ane)等。 上述碎化合物’較好為含氟者。可列舉出作為含氟的 矽化合物的有含氟烷基烷氧基矽烷，例如可列舉出通式 CIMCF2)nCH2CH2Si⑽4)3(式中R4是表示碳原子數為卜5個 的烷基、η是表示〇~12的整數）所表的化合物。更具體而 言，可列舉出三氟丙基三甲氧基矽烷'三氟丙基三乙氧基 矽烷（trif luoroproPyitriethoxysilane)、十三氟辛基三 0 甲氧基矽烷（tridecaflu〇r〇〇ctyltriraeth〇Xysilane)、十 三 氟辛基 三乙氧 基矽烷 (tridecaf luorooctyltriethoxysilane)、十七氟癸基三甲 氧基石夕烧（heptadecafluorodeCyltrimeth〇xysilane)、十 七氟癸基三乙氧基矽烷 (heptadecafluorodecyltriethoxysilane)等。這些之中， 較好為上述η為2〜6的化合物。 上述矽化合物可以各自單獨地、或是混合二種以上來 〇 使用。另外，一種以上的石夕化合物的混合及加水分解的順 序’可以逐次、亦可同時。 另外，可列舉出作為藉由電離放射性而硬化的樹脂的 有縮水甘油丙烯酸酯（glyCidy 1 aery 1 ate)、縮水甘油甲基 丙稀酸酯（glycidy 1 methacrylate)等的具有縮水甘油基 的單體，丙烯酸、甲基丙烯酸等的具有幾基（carb〇Xyl group)的單體；經烧基丙烯酸醋（hydroxyalkyl acrylate)、經烧基甲基丙浠酸酯（hydroxyalkyl methacrylate)等的具有經基（hydroxyl group)的單體；經 21 201035585 曱基丙烯酸酯（methylol acrylate)、羥甲基甲基丙烯酸酯 (methylol methacrylate);丙烯酸烯丙酯 UUyi acrylate)曱基丙稀酸烯丙酯（allyl methacrylate)等的 具有乙烯基的單體；具有胺基的單體；具有磺酸（suif〇nic acid)基的單體等。 ，，一 α仰刃、Μ Ί匁供凡哪。作為 填充物者，只要是無機化合物的微粒子，並無特別設限。 作為此無機化合物者，一般是無機氧化物，可列舉出例如 Si〇2、Αΐ2〇3、β2〇3、Ti〇2、Zr〇” SnQ2、㈤2、P2m Zn〇2、W〇3等的一種或二種以上。 另外，在上述低折射率層形成用組合物中，亦可添加 中空微粒子。中空微來立 儆拉子疋指具有形成於外殼的内部的空 洞之中空的構造者’例如可適 — J週用一軋化矽（silica)系中空 微粒子。藉由含有二氧化石夕系中处 二 7尔甲二微粒子，除了低折射 性之外，亦可謀求耐擦傷性的提升。 作為中空微粒子者，可庇 者了以使用包含（A)無機氧化物的單 一層、（B)不同種類的無機氧 何乳化物所構成的複合氧化物的單 一層、（C)上述（A)與（B)的二重層者。 早 _空微粒子的平於 π十均叔子徑並無特別限定，但 5〜200〇nm、更好為2〇〜1〇〇 為 右疋小於5nm，則因中* 造成低折射率的效果就變小； 二 右A於200〇nm，則锈明痒牧 低，而會提高擴散反射的效果。 又降 在此處’平均救早彡(7< α、 以觀察穿透式電子顯微鏡所得的&旦"以 的數里平均粒子徑 中空微粒子的添加量並盏 亏。 …、特別限疋，但較好為相對於 201035585 上述低折射率層形成用組合物的固形分的40 200重量％、 更好為40〜150重量％。若為此範圍，就可以同時達成低折 射率性與耐擦傷性。 上述低折射率層的形成，可以以溶劑稀釋上述低折射 率層形成用組合物，將此稀釋物塗佈於高折射率層上，然 後將此塗膜乾燥、硬化而形成低折射率層的硬化膜。 Ο Ο 塗佈方法並無特別設限，可列舉出一般的方法，例如 刮刀（d°Ct〇r blade)法、凹版滾筒塗佈器（gravure roll ⑽㈣法、浸潰（恤⑽法、旋轉塗佈法、刷毛塗佈法、 快乾印刷⑴eX〇graphlGprinting)法等。藉由對所得到的 塗膜照射熱或電離放射線來作形成， 各 F〜攻而獲得低折射率層的 硬化膜。 可列舉出作為上述溶劑者，是與在上述高折射率層形 成用組合物之處所例示的溶劑相同。 在受到溶劑稀釋的.低折射率屉 八.曲由 町平看形成用組合物中的固形 刀浪度，可以在不損及溶液穩 士入& ,上 的祀圍作適當調整。由 於較好為將低折射率層形成用組合 镇腔 ή B 物屯成為厚度精度佳的 4膜，一般是使上述固形分濃度 n r , 兩0· 1〜20重量％、鲂杯盔 〇. 5〜1 0重量％左右，在處理 、'、 (其他成分） 易而較佳。 低折射率層形成用組合物中， 列舉出作為其他成分的有界面活性劍可含有其他成分。可 院偶合計等的分散劑、平滑劑、、先聚合開始劑、矽 、 s黏劑等。 上述界面活性劑的含量，較 马相對於低折射率層形 201035585 成用組合物的固形分為500ppm以上、更杯氐 尺对马1 OOOppm以 上。界面活性劑的含量^少於上述範圍，則會發生塗佈液 的對流，而無法減少低折射率層表面的凹凸。可列舉出作 為界面活性劑者有I系界面活性劑、聚矽氧系界面活性劑 等。可列舉出作為氟系界面活性劑者有3M公司製的 Fluorad FC~431等的含過氟化烷基磺化醯胺 (perfluoroalkyl sulfonamide)基非離子（n〇n_i〇n)、 DAINIPPON INK 公司製的 MEGAFACE F-17卜 F-172 ' F-173、 卜H6PF' F-470、F-471等的含過氟化烷基的寡聚物等。 可列舉出作為聚矽氧系界面活性劑者，有以乙二醇、丙二 醇等的券聚物的各種的置換基將側鏈、主鏈等的末端變性 的聚雙曱基石夕氧烧（polydimethylsiloxane)等。 可列舉出作為光聚合開始劑者有習知的光聚合開始 劑，具體而言有芳基酮（aryl ketone)系光聚合開始劑（例 如苯乙酮（acetophenone)類、二笨基 _ (benzophenone) 類、烧胺二苯基酮（alkylaminobenzophenone)類、二笨基 乙二酮（benzil)類、安息香（benzoin)類、安息香_ (benzoin ether)類、安息雙甲醚（benzyl dimethyl ketal) 類、苯甲酸苄酯（benzoyl benzoate)類、α -醯氧基酯 (a -acyloxym ester)類等）；含硫系光聚合開始劑（例如硫 化物類、塞吨酮（thioxanthone)類等）；醯基膦氧化物 (acy 1 phosphine oxide)系光聚合開始劑；其他的光聚合開 始劑。另外，光聚合開始劑亦可以與胺類等的光增感劑組 合使用。光聚合開始劑的含量，相對於1 〇 〇重量份的電離 24 201035585 放射線硬化樹脂為0.01〜20舌旦八Α π重量份、較好為重量 硬化是可以因應低折射率層形成用組合物，而藉由加 熱及/或反應性⑽照射來進行。乾燥條件、硬化條件可根 據使用的溶劑的彿點、飽和蒸汽遂、基材的種類等來作適 當決定，但為了抑制基材的染色、分解等，在加熱的情況 中通兩在臟以下、在照射紫外線的情況中通常在2J/cm2 以下為佳。 ❹ Ο 低折射率層的折射率Rl及上述高折射率層的折射㈣ 是滿足（nun的關係。也就是低折射率層的折射率 是比高折射率層小了 0」以上。低折射率層的折射率較好 為不滿ι·4、更好為、再更好為ΐ3〇ι 38。藉 由使低折射率層的折射率成為上述範圍，除了抗反射性^ 夕卜還可以賦與耐擦傷性。另外’低折射率層的平均厚度 通常為10~l〇〇〇nm、較好為2〇〜50〇nm。 在本發明中，在低折射率層之上亦可具有防污層。防 污層是保護低折射率層，而且是為了提高防污功能而設 置。作為防污層的形成材料，只要不阻害低折射率層的功 能、而能滿足作為防污層所要求的功能，則未特㈣限。 通常較好為可使用具有疏水基的化合物。 作為具體的例可使用過銳化院基石夕烷 (perflU〇roalkylsilane)化合物、過氟化&醚碎烷 (perflu〇r〇polyethersilane)化合物、含氟聚矽氧化合 物。防污層的形成方法’因應所形成的材料，可使用例Z 蒸鍍、濺鍍等的物理氣相沉積法；化學氣相沉積（CVD)法； 25 201035585 溼式鍍膜法等 為20ηηι以下、 ，防污層的厚度並無特別更好為l~10nm。 設限，但通常較好 本發明的反射防止膜的反射 扪夂射率，以波長430〜70〇nm中 的入射角5來測定而得的最，j、# & 于取小值為不滿15%、較好 1. 3%以下。 另外’本發明的反射防止膜的影像清晰度為m以上， 若不滿90%則顯示影像的散射會變激烈，而使明視度變差。 影像清晰度的上限並無㈣限定，可^函以下。 本發明的反射防止膜的使用，可藉由直接貼合於液晶 顯不裝置（LCD)、f漿顯示面板（pDp)、電致發光顯示器 (ELD)、陰極射線管顯示裝置（CRT)、場發射顯示器（fed)、 電子紙、觸控面板等的顯示裝置，亦可以與偏光板保護膜、 組裝於珂面板等的顯示裝置的表面構件置換來使用。 【實施例】 針對本發明’藉由實施例及比較例的使用來作更詳細 的δ兒明。但是本發明並未受限於以下的實施例。而只要未 特別聲明，是以份及％為重量基準。 (基材膜的厚度） 將膜鑲埋於環氧樹脂之後，使用切片機 (microtome)(大和工業公司製，製品名r RUB一21〇〇」）切成 薄片’使用掃描式電子顯微鏡來觀察截面並測定。 (基材膜的折射率） 將樹脂單層成形，使用稜鏡耦合儀（prism c〇upler)(MetriCon 公司製，製品名 r m〇del2010」），在 201035585 咖·度2〇C±2°C、渔度60±5%的條件下進行。 (折射率（高折射率層、低折射率層）） 使用南速橢圓測光儀（spectral el i ips〇metry)(】.A Woollam公司製，製品名「M_2〇〇〇u」），從入射角度、 60 、及65。、溫度20艺±2。(：、溼度β〇±5%的條件下之波 常範圍400〜l〇〇〇nm的光譜計算出來。 (岔接性（鋼絲絨（s t e e 1 woo 1 )試驗）） 〇 在鋼絲絨#000〇施加0. 〇25MPa的荷重的狀態下，在反 射防止膜的表面來回10次，以目視觀測來回後的表面狀 態。 優良：未能辨識出刮傷。 良.可見到少許的刮傷，但在品質上無問題。 劣：條紋狀刮傷有8條以上。 (最小反射率） 〇 使用分光光度計（曰本分光公司製，製品名「v—550」）， 測定在波長430〜70〇nm範圍之入射角5。下的反射率(測定 波長間隔為ΐΜ)，計算出上述波長範圍中的最小反射率。 最小反射率，|以不滿h 5%的情況為良好。 (影像清晰度（image clarity、穿透清晰度乃 以JIS K 7105為根據，藉由影像清晰度測定裝置（Su抑

Test Instruments Co ί 十ri 制、 ^ w.’Ud.製），以寬度〇 5關的光梳 (optical comb)來測定。赵估奋古 α1 ^ 數值愈南，則意味著清晰度愈高。 影像清晰度是使來自試樣的穿透光通過移動的光梳來作測 定，並計算出其值來求得。當試樣有發生模糊的影像的情 27 201035585 會因為此模糊的影響而變

況，在光梳上成像的狹缝的像 寬’而在穿透部的位置，狹 影像清晰度的值 C(%) = ((M-m)/(M+m))xi〇〇 (表面硬度（鉛筆硬度試驗）） 將荷重訂為50〇g ’其他則根據JIS K 5600-5-4，使用 釓筆針對反射防止膜的表面五處作左右的刻劃，確認 受到刮傷的情況。 (製造例1)基材膜1的製作 此用二種三層的多層共擠壓裝置，分別將構成兩表面 層之含有彈性體粒子的聚曱基丙烯酸曱酯樹脂（住友化學 公司製，商品名「SUMIPEX HT20Y」）、構成中間層之耐熱 性高的聚甲基丙稀酸甲酯樹脂（住友化學公司製，商品名 SUMIPEX MH」），以 20 kg/hr、10 kg/hr 的擠壓量從 τ 字 模擠出後冷卻’而獲得三層結構的基材膜1。 構成基材膜1的各層厚度，一側的表面層（表面層D 的厚度為5_、中間層為1 〇μιη、另一側的表面層（表面層 2)為5_，基材膜1的總厚度為20μπ1。基材膜1的表面層 1的折射率為丨.49。 28 201035585 (製造例2)基材膜2的製# 使用使空氣流通的熱風乾燥器，在1丨〇 〇c下對降莰烯 (norbornene)(商品名「ZE0N0R 1420R」，日本 ΖΕΟΝ CORPORATION製·玻璃轉換溫度Tg為136。〇)的顆粒（叩丨let) 進打4小時的乾燥。之後，使用單軸擠壓機，在26(Γ(：下 將此顆粒熔融擠壓，而得到基材膜2。另外，基材膜2的 厚度是20μιη。 〇 (製造例3)尚折射層形成用組合物1的調製 在1〇〇份的含丙烯醯基（acryl〇yl)的寡聚物（日本合 成化學工業公司製，商品名「υν_17〇〇β」），加入7份的鱗 片形狀的無機粒子（山口雲母工業所公司製、SJ-〇〇5、平均 粒子性5μπι、氧化石夕成分45%)、150份的氧化錯 (zirconiaXC. I· Kasei Co.，Ltd.製，平均粒子徑 2〇nm)、 與2份的光聚合開始劑（Ciba SpeciaHy Chemicals公司 製商品名「IRGACURE184」），再加入i份的甲基丙烯酸 ° (methacryl)改質聚二曱矽氧油（dimethyl silicone 011 )(信越化學工業公司製、商品名「X一22 —164A」），以攪 拌機在5000rpm下進行5分鐘的攪拌，而得到高折射層形 成用組合物1。折射率為1. 62。 (製造例4)南折射層形成用組合物2的調製 除了改成35份的鱗片形狀的無機粒子之外，與製造例 3同樣進行而得到高折射層形成用組合物2。折射率為 1.63。 (製造例5)两折射層形成用組合物3的調製 29 201035585 以球磨機粉碎鱗片形狀的無機粒子，並過_的筛 網’而成為平均粒子徑0.7_的粒子，加入7份的此平均 粒子棱G.7_的粒子來取代7份賴片形狀的|機粒子， 其他則與製造例3同樣進行而得到高折射層形成用組合物 3。折射率為1. 62。 (製造例6)高折射層形成用組合物4的調製 除了不加入鱗片形狀的無機粒子以外，與製造例3同 樣進行而得到高折射層形成用組合物4。折射率為Π (製造例7 )兩折射層形成用組合物5的調製 除了將鱗片形狀的無機粒子變更為其他的鱗片形狀的 ‘…機粒子（C0-0P CHEMICAL· 公司 f、M qnn J ^ MK~3o〇、平均粒徑 i Sum、氧化矽成分52%)以外，盥制生 古4 一衣&例3同樣進行而得到 而折射層形成用組合物5。折射率為1 6 2。 (製造例8)高折射層形成用組合物6的調製 除了將鱗片形狀的無機粒子變更為黑雲母粉碎物（平 均粒子徑6μπι)之外，與製造例 y 兴衣、例3同樣進打而得到高折射層 形成用組合物㈠外，黑雲母粉碎物是以球磨機將里： 母(靈壽縣天將礦業有限公司製、氧化矽成分35%)粉碎， 並過8_的筛網’而成為平均粒子徑一的物質。： 為 1.62 。 (製造例9)高折射層形成用組合物7的調製 與製造例 折射率為 除了改成3份的鱗片形狀的無機粒子之外， 3同樣進行而得到高折射層形成用組合物7。 1.52。 30 201035585 (製造例1 0)低折射率層形成用組合物1的調製 將200份的乙醇投入具有迴流管（recircuiati〇n tube) 的四口反應燒瓶’在攪拌下將1 2 0份的草酸少量地逐次添 加於此乙醇中’而調製草酸的乙醇溶液。接下來將此溶液 加熱至迴流溫度為止，在迴流下在此溶液中滴入2〇份的四 乙氧基矽烷與4份的十三氟辛基三甲氧基矽烷（GE東芝 SILICONE公司製，商品名rTSL8257」）的混合物。滴入終

了之後，仍在迴流下繼續加熱5小時後冷卻，以甲醇稀釋 至固形分為1重量％ ’藉此調製液體1。 接下來，對上述液體丨的固形分（24重量份）添加中空 氧化矽微粒子(數量平均粒子徑3〇nm、折射率129)而成為 30重量份，而調製低折射率層形成用組合物工。將此組合 物乾燥而成為薄膜所得到的低折率射層的氧化矽成分為 9 0%。低折射層的折射率為丨.37。 (製造例⑴低折射率層形成用組合物2的調製 在100份的含丙烯醯基的單體（旭電化 品名「〇PT〇MER KR566」）加入 商 c . 」^入2伤的光聚合開始劑（Ciba

Specialty Chemicals 公司製脔。「 t /v 展商叩名「IRGACURE184」）、 150伤的中空氧化矽微 ,9Q. 1Λ 1數里千均粒子徑30nm、折射率 • 〇伤的甲基丙浠酸改質 ^ ^ 女 貝聚一甲矽氧油（信越化學工 業么司製、商品名「1224 下進行5分鐘㈣拌，藉;），明拌機纟議咖 2。將此組合物乾燥 &折射率層形成用組合物 ㈣分為⑽。低折射率= 半層的折射率為1.37。 201035585 (製造例12 )低折射率層形成用組合物3的調製 除了將中空氡化矽微粒子改成80份以外，與製造例 10同樣進行而得到低折射率層形成用組合物 。 w d。將此組合 物乾燥而成為薄膜所得的低折射率層的 』乳化矽成分為 42%。低折射率層的折射率為1.43。 (製造例1 3)低折射率層形成用組合物4的調製 除了將中空氧化石夕微粒子改成60份以外，與製造例 1〇同樣進行而得到低折射率層形成用組合物4。將此組合 物乾燥而成為薄膜所得的低折射率層的氧化石夕成分： 35%。低折射率層的折射率為144。 (實施例1 ) s ^ 1所得的基材膜1中的W “凸構造的 物二：Ϊ法塗布製造例3所得到的高折射層形成用組合 外線照射機，以使累積光量成為陶心2 条件進仃备、外線照射而使其硬化 射層，而得到基材膜/高折射率，所構…折 來，在高折射#構成的層積體。接下 硬化，而^ 所得到的塗膜進行1分鐘的乾燥· 反射防止膜反度：-的低折射率層，而得到本發明之 (實施例2反射防止膜1的評量結果示於表卜 使用製造例11戶斤γ Μ 取代低折射率… 折射率層形成用組合物2來 步驟變^ 组合物卜並將形成低折射率層的 更為如下所示者’除此之外，與實施例lfg]樣進行 2〇l〇35585 反射防止膜2。低折射率層，是在高析射率層上以 更k法塗布低折射率層开；出田a a 的塗腺Π 合物’在6Gt下對所得到 塗膜進仃1分鐘的乾燥， 从〜 便系積光罝成為100mJ/rm2 的條件進行紫外線照射而 ^ ^ „ 更/、硬化而仵。反射防止臈2的 汁里結果不於表1。 (實施例3 ) 除了使用製造例2所得 Ο 〇 ^ ^ 1于判的基材膜2來取代基材膜1 之外’與實施例i同 也腔u Π樣進订而件到反射防止膜3。反射防 止膜3的評量結果示於表1。 (實施例4 ) 除了使用製造例 物3來取代低折射率 同樣進行而得到反射 示於表1。 U所得到的低折射率層形成用組合 層开ν成用組合物1之外，與實施例1 防止膜4。反射防止膜4的評量結果 (實施例5) 除了使 來取枝-Μ Μ &㈣8所得到的高折射層形成用組合物6

代副層形成用组合物1之外，與實施例i同樣進 行而得到反射防止膜弓。后u /、貫施例1 N (比較例〇 、反射防止膜9的評量結果示於表 除了使用製造例 來取代高折射層形成 行而得到反射防止# 表2。 ~得到的高折射層形成用組合物2 用組合物1之外，與實施例1同檬進 U。反射防止膜11的評量結果米於 (比較例2) 33 201035585 除了使用製造例5所得到的高折射層形成用組合物3 來取代高折射層形成用組合物丨之外，與實施例丨同樣進 灯而得到反射防止膜12。反射防止膜丨2的評量結果示於 表2。 (比較例3) 除了使用製造例6所得到的高折射層形成用組合物4 來取代高折射層形成用組合物丨之外，與實施例丨同樣進 行而彳于到反射防止膜13。反射防止膜13的評量結果示於 表2。 (比較例4) 除了使用製造例7所得到的高折射層形成用組合物5 來取代向折射層形成用組合物丨之外，與實施例丨同樣進 行而彳牙到反射防止膜14。反射防止膜14的評量結果示於 表 2。 ”、 (比較例5) 除了使用製造例9所得到的高折射層形成用組合物7 來取代咼折射層形成用組合物1、使用製造例12所得到的 低折射率層形成用組合物3來取代低折射率層形成用組合 之外，與實施例1同樣進行.而得到反射防止膜15。反 射防止膜15的評量結果示於表2。 針對上述實施例i〜5、比較例卜5的各反射防止膜， 平里费接性、最小反射率、影像清晰度、表面硬度，1社 果示於表1及表2。 一° 201035585

【表i】 反射防止 低折射層月 形成組合彩 1 ~~----- __,----—^ 3 -~~~__ 實施例 —_— 1营搞，你丨2丨實施例實施例4實施牲马 (2 1〇 4 ΙΑ- 1 1 Γτττ a 1 高折射層用 形成組合物 付 J 1 ntt ------- — ， ~ ---- 1 1 1 1 6 暴材膜 低折射率層 高折射率層 密接性 最小反射率 ---- 1 1 2 1 1 1.37 1.37 1.37 1.43 1.37 石夕(%) 90 58 90 42 90 -iSSigSr 1.62 1.62 1.62 1.62 1.62 5 5 5 5 6 7 7 7 j 7 7 無機粒子中的 45 45 45 45 35 〜---____ 優良 優良 優良 優良 良 0.8 0.8 0.8 1.3 0· 8 影像清晰度 表面硬度 【表2】 96 96 96 97 96 ^--- 3Η-4Η 3Η-4Η 3Η 3Η 2Η 〜3Η ~~~〜_ 比較例1 比較例2 比較例3 比較例4 比較例5 反射防止膜 ' ~~----- —------ 11 12 13 14 15 低折射層用 形成組成物 ^—-—一 — 1 1 1 1 3 南折射層用 形成組成物 ----- ----------- 2 3 4 5 7 基材膜 —— 1 1 1 1 1 低折射層 1.37 1.37 1.37 1.37 1.43 -- 90 90 90 90 42 高折射層 ~~~~~ 1.63 1.62 1.58 1.62 1.52 -ΰ^±^(μπι) 5 0.7 - 15 5 添加量（份） 35 7 — 7 3 無機粒子中的 氧化矽(％) 45 45 — 52 45 密接性 ----- _[ 優良 優良 劣 優良 優良 最小反射率 1.8 0.8 0.8 1.7 1.5 影像清晰度 ΓΙΐ7αΓ~^ 75 97 97 77 95 表面硬度 4Η Η Η 3Η-4Η 2Η-3Η 35 201035585 及表2所示’瞭解到實施例1〜4的反射防止膜 的密接性佳、最小反射率為1. 3%以下、且表面強度高達3H 以上、影像清晰度高達9〇%以上，而具有充分的影像清晰 f與表面硬度’因此在使用於顯示裝置之時，其明視度不 容易降低。另外，瞭解到實施例5是在密接性方面稍低， 但無實際上的問題’而另外在其他的特性則能滿足需求。 相對於此如比:例卜4所示，瞭解到在鱗片形狀的無機 粒子的含量較多、或粒子徑大於既定範圍的情況中，在影 像清晰度這方面的表現較差。還有，如比較例2、3所示， 瞭解到在鱗片形狀的無機粒子的含量較少、或粒子徑小於

既定範圍的情況中，表面硬度就不足。還有，如比較例 所示’瞭解到在折射率差小力0.1的情況中，最小反射 為1.5%，作為反射防止膜的功能則較差，即使幅度不大 【圖式簡單說明】 益。 【主要元件符號說明】 益 〇 36

Claims (1)

1. 201035585 七、申請專利範圍： i·—種反射防止膜，包含： 一基材膜； 一南折射率層，設置於該基材膜上；以及 -低折射率層，設置於該高折射率層上，該低折射率 a的折射率^該高折射率層的折射率W g 的關係；其中 ; Ο 〇 該高折射率層是由一組合物所構成，該組合物包含作 為主成分的硬塗（hard CGatlng)材料與平均例子徑為 3〜ΙΟμιη的鱗片狀的無機粒子；以及 該反射防止膜的影像清晰度為9〇%以上。 2.如申請專利_第i項所述之反射防切，其中該 無基粒子含有35重量％以上的氧化矽成分。 &如申請專利範㈣i項所述之反射防止膜，其中該 組合物是相對於100重量份的該硬塗材料，而含有Η。重 量份的該無機粒子。 4.如申請專利範M i項所述之反射防止膜，其中該 層與—第二樹脂層’且是由共擠壓 法(C〇eXtrusio_形成的多層膜，該第—樹脂層是由含埶 塑性壓克力樹脂或具有脂環式構造的樹脂、與平均粒徑為 2如以下的彈性體粒子的組合物所構成，該第二樹脂層 是由不含該彈性體粒子的熱塑性樹脂所構成。 37 201035585 四、指定代表圖： (一） 本案指定代表圖為：無。。 (二） 本代表圖之元件符號簡單說明：盔。 五本案右有化學式時，请揭示最能顯示發明特徵的化學式： 益 〇 六、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明是關於主要使用於顯示裝置的表面的反射防止 膜’特別是關於具有充分的影像清晰度與表面硬度的反射 防止膜。 【先前技術】 夕顯示裝置的顯示畫面，由於使用者以手觸摸的機會 多，而其表面會有髒汙、刮傷、變得難以觀看影像等情況， 而需要提升其表面硬度的提升。另外，關於顯示裝置的顯 不晝面，由於會遭遇到因日光燈的外界光線的映入所造成 =反射像而使顯示影像的明視度變差，而需要抗反射的功 因此習知會有在顯示裝置的顯示畫面，貼附具有適 度的表面硬度的反射防止膜的情況。 作為上述反射防止膜去，β去由, 者疋考慮例如具有基材膜、設 折射车=上^折射率層、與設於此高折射率層上的低 折射率㈣。另外，詩高折㈣層，為了提高其表面硬