TW201035585A - Anti-reflection film - Google Patents
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201035585 四、指定代表圖: (一) 本案指定代表圖為:無。。 (二) 本代表圖之元件符號簡單說明:盔。 五本案右有化學式時,请揭示最能顯示發明特徵的化學式: 益 〇 六、發明說明: 【發明所屬之技術領域】 本發明是關於主要使用於顯示裝置的表面的反射防止 膜’特別是關於具有充分的影像清晰度與表面硬度的反射 防止膜。 【先前技術】 夕顯示裝置的顯示畫面,由於使用者以手觸摸的機會 多,而其表面會有髒汙、刮傷、變得難以觀看影像等情況, 而需要提升其表面硬度的提升。另外,關於顯示裝置的顯 不晝面,由於會遭遇到因日光燈的外界光線的映入所造成 =反射像而使顯示影像的明視度變差,而需要抗反射的功 因此習知會有在顯示裝置的顯示畫面,貼附具有適 度的表面硬度的反射防止膜的情況。 作為上述反射防止膜去,β去由, 者疋考慮例如具有基材膜、設 折射车=上^折射率層、與設於此高折射率層上的低 折射率㈣。另外,詩高折㈣層,為了提高其表面硬 201035585 ώ; 卩丄 又 賦予其亦作為硬塗層的功能。關於兼作硬塗層的高 折射率層’是使用例如丙烯酸系寡聚物、丙烯尿烷(acry 1 urethane)系券聚物等的紫外線或熱固性樹脂所構成的硬 化材料’而可以在塗佈此硬化材料後,以紫外線使其硬化 來形成。 作為進一步提高上述硬塗層的表面硬度的技術,例如 在專利文獻1中,揭露在形成硬塗層的硬化材料中,使用 〇 已添加平均粒子徑為10〜300nm以下的例如鱗片狀的無機 微粒子的組合物,而形成硬塗層。 【先行技術文獻】 【專利文獻】 【專利文獻1】特開2004-42653號公報 【發明内容】 【發明所欲解決的問題】 〇 ^ 然而,在硬化材料添加平均粒子徑3μπι以下的微粒子 的情況中,由於此粒子過於細小等原因,不一定會得到足 夠的表面硬度。另外,為了得到足夠的表面硬度,會考慮 添加大量的上述微粒子,但在此情況中,會遭遇到此硬塗 層的混濁度(haze)上升而影像清晰度變差而使其不適合用 於顯示裝置的問題。 本發明的目的是提供具有充分的影像清晰度與表面硬 度的反射防止膜。 【用以解決問題的手段】 3 201035585 本案發明人為了解決上述 s , i 延間題而精心研究的結果,發 現猎由在反射防止膜的高折 層"丨、加既定的無機粒子, 而可以知到影像清晰度與表 f度優異的反射防止膜,而 元成本發明。本發明是包含以下内容。 種反射防止膜,包含基材膜;—高折射率層, 设置於上述基材膜上;以芬 以及—低折射率層,設置於上述高 折射率層上,上述低折射率層 上“ ]祈射率rl及上述高折斯走 層的折射率rh是滿足(Rh_0 n>p & k门折射羊 ^ B 4入 •1)=1的關係丨其中上述高折 射革層疋由-組合物所構成’上述組合物包含作為主成分 的硬塗(㈣咖㈣)材料與平均例子徑為3 Π無機粒子;以及上述反射防止膜的影像清晰度為9: (2) 上述反射防止膜中, 上述無機粒子含有35重量 以上的氧化矽成分。 董置/〇 (3) 上述反射防止膜中, 、 上述 ',且&物是相對於1 00重量 份的上述硬塗材料,而合古 至里 … 3有3〜30重量份的上述無機粒子。 上錢㈣止财,上述基材膜具有 與一第二樹脂層,且是由共擠壓法(⑶extruslQn)㈣2 =厚度不滿的多層膜,上述第一樹脂層是由含熱 J性壓克力樹脂或具有脂環式 ‘、、、 9 n 、, & 飞得化的樹知、與平均粒徑為 2·0μιη以下的彈性體粒子 勹 丁 w、,且σ物所構成,上 層是由不含上述彈性 ι弟一樹月曰 坪f體粒子的熱塑性樹脂所構成。 【發明效果】 取 若使用本發明的反射防止膜 、力 问折射率層, 201035585 此高折射率層是使用_細人4 史用組合物,此組合物含作 ing)材料與平均例子徑為㈣二 ,板狀的無機粒子’藉此具有可達成充分的影像清 充分的表面硬度的功效。另 晰度與 用於液晶顯示裝置、有機電致發光顯示器、電漿顯示裝了適 觸控面板等的顯示裝置。 、置 【實施方式】 【用以實施發明的形態】 本發明的反射防止膜的構造,是具有一基材膜;—高 折射率層’设置於上述基材膜上;以及一低折射率層,設 置於上述高折射率層上,上述低折射率層的折射率i及上 述高折射率層的折射率Rh是滿足(^_〇1)^1的關係。 〈基材膜〉 基材膜可已是單層、亦可以是複數層所構成的層積體。 可使用厚1 mm、全光線穿透率8 〇 %以上的透明樹脂來作 為構成基材膜的各層的材料。作為透明樹脂者,可列舉出 例如具有^環式結構的樹脂、聚醋(p〇 1 y e S e ρ )樹脂、賽游 路(cellulose)樹脂、聚碳酸酯(p〇iyCarb〇nate)樹脂、聚 石風(polysulfone)樹脂、聚_颯(卩〇1丫6让6^111『〇116)樹脂、 聚笨乙烯(Polystyrene)系樹脂、聚烯烴(p〇ly〇lefin)樹 脂、聚乙烯醇(p〇lyVinyl alc〇hol)樹脂、聚氣乙烯 C polyvinyl chloride)樹脂及熱塑性壓克力樹脂等。在這 些之中’作為用於本發明的基材膜的透明樹脂,從後文所 201035585 ’較好為熱塑性壓克 述的與高折身士率層$密接性等的觀點 力樹脂。 關於熱塑性壓克力樹脂,是使用(甲基)丙稀酸醋 ((meth)acrylicester)來作為原料主成分,而作為(甲基) 丙烯酸酯者,較好為是從(甲基)丙烯酸與碳原子數丨〜15的 炫醇Ulkanol)及環炫醇(cycl〇alk麵!)所衍生的構造的 物質,1好為由碳原子數卜8㈣醇所衍生的構造的物 質。碳原子數過多的情況,則所得到的脆性膜之破斷時的 延展度會變得過大。而(甲基)丙稀酸醋是指甲基丙稀酸醋 (methacrylate ester)及丙烯酸酯。 熱塑性壓克力樹脂者,可列舉出的有:丙烯酸甲酯 (methyl acrylate)、丙烯酸乙酯(ethyl acryIate)、甲基 丙浠酸甲醋Uethyl —te)、甲基丙浠酸乙醋 (ethyl methacrylate)等的烧基(甲基)丙烯酸酯的單聚 物;烷基的氫被0H基、C00H基或NIL·基等的官能基所置換 的烧基(曱基)丙烯酸酯的單聚物;或是烷基(曱基)丙稀酸 商旨與具有苯乙稀(styrene)、醋酸乙稀、α,石—單乙烯性不 飽和羧酸、乙烯曱笨(vinyl toluene)、α _甲苯乙稀 U -methylstyrene)、及無水順丁 烯二酸(maleic anhydride)等的不飽和鍵結的乙烯系單體的共聚物。可使 用這些中的僅僅一種、亦可使用二種以上的組合來作為熱 塑性壓克力樹脂。熱塑性壓克力樹脂更好為含有曱基丙稀 酸酯單元及丙烯酸酯單元來作為單體單元。 上述透明樹脂除了後文所述的彈性體粒子外,亦可含 201035585 子.V」加劑。可列舉出作為其他添加漸的有例如益機粒 J,抗氧化劑、熱穩定劑、光穩定 ',、、:粒 線吸收劑、、AL成 读穩疋劑、紫外 收齊!近紅外線吸收劑等的穩 的樹脂改質劑,·染料、顏料等的色辛]=、可塑劑等 添加劑可單獨或組合二種以上=,=帶電劑等。這些 Ο 可在不損及本發明的目的的範圍作適當二=:!有 :r°°重量份的透明樹脂…量份二= 加劑二力可列舉出作為含有這些添加劑的方法有預先將添 “ Π於透明樹脂中的方法、在炼融擠 應的方法等。 叮且丧供 "另外,基材膜除了上述透明樹脂外,較好為含有數量 平均粒徑2. 0_以下的彈性體粒子。彈性體粒子是指橡踢 狀彈性體所構成的粒子。可列舉出作為橡膠狀彈性體的有 丙烯酸醋系橡膠狀共聚物、以丁二烯(butadiene)為主成分 的橡膠狀共聚物、乙烯-醋酸乙烯共聚物等。作為丙稀酸酿 〇系橡膠狀共聚物的有以丙烯酸丁酯(butyl acrylate)、丙 烯酸2-乙基己酯(2-ethylhexyl acrylate)等為原料主成 分的物質。在這些之中,較好為以丙烯酸丁酯為主成分的 丙烯酸酯系共聚物及以丁二烯為主成分的橡膠狀共聚物。 彈性體粒子較好為層狀的二種聚合物而成者,可列舉出作 為其代表例的有將丙烯酸丁酯等的烷基丙烯酸酯(a丨ky i aery late)和苯乙烯的接枝(graft ing)化橡膠成分、與聚甲 基丙烯酸曱酯(polymethy lmethacry late ; PMMA)及/或甲基 丙烯酸甲酯和烷基丙烯酸酯的共聚物所構成的硬質樹脂層 201035585 形成為核殼(core_shell)結構的層之彈性體粒子。 一作為上述彈性體粒子者,是分散於上述透明樹脂中的 狀態中的二次粒子的數量平均粒徑為2 〇⑽以下、較好為 O’l M)_、更好為〇·卜〇·5_。即使彈性體粒子的一次粒 子徑小,因凝結等所形成的二次粒子的數量平均粒子徑若 大,則基材的haze(混濁度)會過高,而使光線穿透率變低。 另外,若數量平均粒子徑過小,則可挽性有降低的傾向-。 上述基材膜較好為由一組合物所構成,此組合物包含 亡=透明樹月曰、較好為具有上述熱塑性壓克力樹脂或罝有 脂%式構造的樹脂、與在此基材 …、 u、+- Μ 刊联的知度方向分布不均的 粒子。上述彈性體的集中存在的位 ;:向的中央部、也可以是表面部。彈性體粒子华二 於令央部的情況,是分布在基材膜表面附 2存在 較少、分布在基材膜的厚度方向的中央 十體粒子 彈性體粒子集中存在於表面部的情況是 膜中央部的彈性體粒子較少、八 在基材 彈性體粒子較多。彈性體粒子的分布,可以部分的 中央平穩地增加或減少,亦可以是階梯式地^表面朝向 藉由使彈性粒子在層厚方向 4或減少。 射防止膜的表面硬度,並提升其^可以充分地確保反 的反射防止膜貼合於偏光冑〜。特別是將本發明 陶尤板、顯示裝置箄 與構成偏光板的偏光材料等的密接性的觀點從提高 在層積高折射率層那-側的相反側的基材膜> 好為成為 的彈性體粒子的結構。 腰表面分布較多 201035585 Ο Ο 可列舉出獲得這樣彈性體粒子分布不均的基材膜的方 法,有:將熱塑性壓克力樹脂或具脂環式構造的樹脂斑數 量平均粒子徑為2.0輯以下的彈性體粒子所構成的組合 物、與不含此彈性體粒子的熱塑性樹脂共擠壓成形的方 法;將熱塑性樹脂與數量平均粒径為2 0um以下的彈性體 粒子所構成的組合物、與不含此彈性體粒子的熱塑性壓克 力樹脂或具脂環式構造的樹脂共擠壓成形的方法。較好為 採用將熱塑性壓克力樹脂或具脂環式構造的樹脂與數量平 均粒子徑為2. 〇_以下的彈性體粒子所構成的組合物、斑 不含此彈性體粒子的熱塑性樹脂共擠壓成形的方法(共擠 壓2 (coextrusi on))。可列舉出作為共擠壓法者有共擠壓 T字模(T-die)法、共擠壓膨脹(inflatiQn)法、共擠壓層 積(lamination)法等’其中較好為共擠壓τ字模法。關於 共擠壓τ字模法可列舉出分流器式(feed bi〇ck)、多流道 (ηηιΠ^Γϋί。^)式,但是在可以減少含彈性體粒子層^ 的厚度變異的觀點,則較好為多流道(_ t卜_ f 〇Η)式。 基材膜的厚度,以總厚度而言,較好為1〇3〇〇_、更 好為1 5〜1 5Ομπι。 基材膜為使用由熱塑性壓克力樹脂或具脂環式構造的 樹脂與數量平均粒徑為2.0_以下的彈性體粒子所構成的 ,合物所形成的多層的樹脂層的情況,由熱塑性壓克力樹 脂或具脂環式構造的樹脂與數量平均粒徑為2 〇_以下的 彈性體粒子所構成的層的厚度總計較好為60_以下、更好 為20Mm以上且60Mm以下。另外,不含彈性體粒子的熱塑 201035585 性樹脂的厚度總計較好為2G⑽以上 '更好為2_以上且 6°_以下。不含彈性體粒子的熱塑性樹脂層的厚度總計若 不茜μιη |j耐熱性及強度不足;由熱塑性壓克力樹脂或 具脂環式構造的樹脂與數量平均粒徑為2如以下的彈性 體粒子所構成的層的厚度總計若不滿2。_,則可撓度不 足在此處#不含彈性體粒子的熱塑性樹脂」可以是熱 塑性壓克力樹脂或具脂環式構造的樹脂。 基材膜,其殘留溶劑含量較好為Q ()l f量%以下。藉 =留溶劑量為上述範圍,例如在可以防止高溫·高濕度 %境下中的基材膜的變开4i、,。 啊联扪燹形,並可以防止光學性能的劣化。 殘留溶劑量為上述範圍的基材膜,可藉由例如將複數個樹 脂共擠壓成形而獲得。在共擠壓成形的情況中,由於亦可 以不經過複雜的步驟(例如乾燥步驟、塗佈步驟等),灰塵 等的外4異物的混入較少’而可以發揮優異的光學性能。 殘留溶劑的含量’是將5°邶的基材膜置入已完全除去吸附 於表面的水刀、有機物等之内徑4_的玻璃管的試樣容 器’將此容器在2帆加熱30分鐘,連續式地採集從容写 逸出的氣體,以熱脫附氣㈣析f譜儀(TDS —_ 已採集的氣體的值。 2基材膜,其透溼度較好為1〇g. 以上、2〇〇g. “:7以下。藉由基材膜的透溼度為上述較佳的範圍,可 以提升與層積於基材膜的層的密接性。透溼度可以在 °C、_Η的環境下,以放置24小時的試驗條件,以川2 0208所記载的透濕杯法(cup為根據來測定。 201035585 關於基材膜的表面,從減低干涉斑的觀點,可作為具 有凹凸構造的結構。凹Α谨、止可 ' 再凹凸構造可以僅形成於基材膜的一個 表面、、亦可以形成於兩表面。作為在基材模的表面賦與凹 凸構造的方法,可適用使用具有凹凸的賦形輥的夾持(_) 成形法、使用具有凹凸的薄膜之三明治積層法—ch laminate method)、嗜石令法楚。士甘,, 、 貰少法4。在基材膜的表面形成凹凸 構造的情況中,在其凹& ★接;土加 牡八凹凸構造側的面可以是算術平均表面 Ο Ο 粗糙度(Ra)為0. 〇5μιη以上、〇 5um以下· η从朴 .3μΗ1以下,另外,其凹凸構 造的平均周卿可以是10pm以上、2〇〇_以下。而在本 發明中,基材膜的算術平均表面粗輪度與平均周期可以是 根據JIS B G6G1 : 2G01的規定所測定的值。在表面呈有凹 凸構造的基材膜,混濁度較好為1%以上 '不滿5()%,更好 為3%以上、40%以下。 另外,對於基材膜中的設置高折射率層那一側的表 面’可施以表面改質處理。τ列舉出作為表面改質處理者 有能量射線照射處理、藥品處理等。可作為能量射線昭射 處理者,㈣暈放電處理、電漿處理、電子線照射處理、 紫外線照射處理等,而從處理效料的觀點,較好為 放電處理、電栽處理。另外,可列舉出作為藥品處理者, 有將劑膜浸潰於重鉻酸鉀溶液、濃砗 展砸馱等的氧化劑水溶液 I之後再以水充分洗淨的方法。若在浸潰的狀態下搖動 可以在短時間作處理,但是若過度處理則會發生表面溶 解、透明度降低等’因此較好為調整適當的條件。 〈高折射率層〉 11 201035585 面折射率層是由含作為主成分的硬塗材料、與平均粒 子徑3〜1 〇μηι的鱗片狀的無機粒子之組合物(以下會有稱之 為「高折射率層形成用組合物」的情況)所構成。 作為上述硬塗材料者,可以使用無機材料、樹脂材料 或這些的混合物,但從產能優異的觀點則較好為樹脂材 料。作為上述樹脂材料者,可使用形成高折射率層後的皮 膜具有充分的強度、還具有透明性的物質。可列舉出作為 上述樹脂材料者,有熱固性樹脂、熱塑性樹脂、電離放射 線硬化型樹脂,但從皮膜的強度、加工性的觀點,較好為 熱固形樹脂或放射線硬化型樹脂。 可列舉出作為熱固型樹脂者,有酚樹脂(phen〇Hc 犷65丨11)、尿素樹脂、酞酸二烯丙酯樹脂((11811丫1汕让&1紂6 resin)、二聚氰胺樹脂(melamine resin)、胍胺(训⑽⑽“ο 樹脂、不飽和聚酯樹脂、聚胺酯(p〇lyurethane)樹脂、環 氧樹脂、胺基醇酸樹脂(amin〇alkyd resin)、三聚氰胺一 尿素共縮合樹脂、聚矽氧樹脂(silic〇ne resin)、聚矽氧 烷(polys il〇xane)樹脂。另外,亦可視需求在這些熱固型 樹脂添加交聯劑、聚合開始劑等的硬化劑、聚合促進劑、 溶劑、黏度調整劑等。 電離放射線硬化型樹脂,是在分子中具有聚合性不飽 和鍵或環氧基的預聚合物(prep〇lymer)、寡聚物及/或單體 會藉由電離放射線的照射而硬化的樹脂。電離放射線是指 電磁波或帶電粒子線中具有可聚合或交聯的能量量子者, 通常是使用紫外線或電子線。作為藉由紫外線或電子線來 12 201035585 硬化的樹脂並未特別設限,從可以習知以來就使用者適當 地選用。可列舉出作為紫外線硬化型樹脂者有光聚合性預 聚合物、或含光聚合性單體與光聚合開始劑、光增感劑者; 另外可列舉出作為電子線硬化型樹脂者,有光聚合性預 聚合物或含光聚合性單體者。 可列舉出作為上述光聚合性預聚合物者,有例如聚酯 丙烯酸S日(p〇lyester a(:rylate)系、環氧丙烯酸醋(叩叫 〇 y e)糸胺甲酸醋丙晞酸醋(urethane aery 1 ate) 系夕元醇丙浠酸酯(polyol acrylate)系等。可使使用這 些光1合性預聚合物的一種、或是組合二種以上來使用。 另外,可列舉出作為上述光聚合性單體者,有例如聚經甲 基丙院二丙浠酸酯(polymethylolpropane triacrylate)、聚羥甲基丙烷三曱基丙烯酸酯 (polymethylolpropane trimethacrylate)、丙烯酸己二醇 酯(hexanediol acrylate)、曱基丙烯酸己二醇酯 ❹ (hexanediol methacrylate) '三丙稀乙二醇雙丙烯酸酷 (tripropylene glycol diacrylate)、三丙烯乙二醇雙甲 基丙稀酸酯(tripropylene glycol dimethacrylate)、二 乙二醇二丙浠酸酯(diethylene glycol diacrylate)、二 乙二醇二甲基丙烯酸醋(diethylene glycol dimethacrylate)、季戊四醇三丙烯酸酯(pentaerythritol triacrylate) 季戊四醇三甲基丙稀酸酉旨 (pentaerythritol trimethacrylate)、二季戊四醇六丙稀 酸酯(dipentaerythritol hexaacrylate)、二季戊四醇六 13 201035585 甲基丙稀酸醋(dipentaerythritol hexamethacrylate)、 二丙稀酸_1,6-己二醇酯(1,6 —hexanediol diacrylate)、 二甲基丙烯酸-1,6-己二醇酯U,6-hexanediol dimethacrylate)、新戊二醇二丙烯酸酯(neopentyl glycol diacrylate)、新戊二醇二甲基丙烯酸酯 (neopentyl glycol dimethacrylate)等。在本發明中,較 好為使用胺甲酸酯丙烯酸酯系來作為預聚合物、二季戊四 醇六丙烯酸酯或二季戊四醇六曱基丙烯酸酯來作為單體。 可列舉出作為光聚合開始劑者,有苯乙酮 (acetophenone)類、二苯基酮(benzophenone)類、α -戊基 砖醋(a -amyloxime ester) (tetramethylthiuram monosulfide)、塞 吨嗣 (thioxanthone)類等。另外,作為光增感劑者,可將使用 正丁胺(n-butylamine)、三乙胺(triethylamine)、聚正丁 膦(poly-n-butyl phosphine)單獨或混合使用。 上述高折射率層形成用組合物’是含有平均粒子徑 3〜ΙΟμιη的鱗片狀的無機粒子。 、 丁 十吟粒子徑不滿3μιη的情況 中,無法仔到充分的表面硬度·呆认 τ ^ ^ ^ 硬度,另外,平均粒子徑超過10_ 的情況中’會因為混濁度變高 qn〇/,如^ 门而使影像清晰度不足(不滿 9W)。在此處,無機粒子的平 雷子顯料# 勺拉子瓜疋可以使用掃描式 電子顯微鏡(SEM),觀察100個益 ^ E …' 機粒子,求得其長徑的長 度,將廷些長徑平均而求得。 贫 鱗片狀的形狀亦可稱為薄 的長度(與厚^ ,其厚度與長邊方向 与度方向垂直的方向 取長的長度方向的長度 14 201035585 的平均外觀比(aspect ratio)為40〜200,膜厚為2um以下。 上述無機粒子較好為含有35重量%以上的氧化矽成 分。藉由上述適當的範圍,可以進一步提高低折射率層與 在層間的密接度,並可以進一步提升其表面強度,特別是 低折射率層含40重量%以上的氧化矽成分的情況中,具有 進一步提升密接性的優點。氧化矽成分的含有比例的上 限,並未特別設限,而可以是8 〇重量%以下。 ¢) 上述無機粒子’相對於100重量份的硬塗材料,較好 為含有3〜30重量份、更好為含有5~2〇重量份。藉由上述 適當的範圍,可以更進一步地提升表面硬度與影像清晰度。 可列舉出作為上述無機粒子的有例如白雲母 (musc〇vlte)、金雲母(phl〇g〇pite)、黑雲母(bi〇tite)、 氟金雲母^111〇1*讪1叫〇1^忭)'高嶺石(1^〇1丨11丨忱)、滑石 (talc)、絹雲母(sericite)、有機處理雲母、矽石 (ica)漿土(bentonite)、蒙脫石(montmoriii〇nite)、 €)貝德石(beidellite)、鐵膨潤石(n〇ntr〇nite)、皂石 (saponite)、綠泥石(hect〇nite)、辞膨潤石(sauc〇ni 忱)、 滑鎮皂石(stevensite)、經石(verffiiculite)、合成膨潤石 (synthetic smectite),可使用這些之中的一種、亦可併 用二種以上。另外,亦可在無機粒子賦與矽烷偶合劑。 上述高折射率層形成用組合物,除了上述無機粒子之 外,:可含有導電性微粒子。藉由含有導電性微粒子’不 僅僅是作為高折射率層的功能,亦賦與作為抗帶電層的功 能。上述導電性微粒子,只要是具有導電性的微粒子就無 15 201035585 特別限制’而在優異的透明性的觀點,較好為金屬氧化物 的微粒子。可列舉出作為上述金屬氧化物者,例如有五氧 化録、氧化錫、摻雜碟的氧化錫(⑽、換雜録的氧化錫 (ΑΤ0) #雜錫的氧化銦(IT〇)、摻雜鋅的氧化銦(⑽、換 雜紹的氧化鋅⑽)、接雜氧的氧化錫(_、氧化辞/氧化 鋁、銻,鋅等。這些金屬氧化物的微粒子可以軍獨使用一 或是’沮口一種以上來使用。這些之中從透明性優異 的觀點’較好為五氧化銻的微粒子及/或摻雜磷的氧化錫的 微粒子。 另外,作為上述金屬氧化物的微粒子者,可以使用在 不,、導電性的金屬氧化物的表面被覆導電性金屬氧化物, 藉=而賦予導電性的微粒子。例如,可以在折射率高但不 具導電性的氧化鈦、氧化錯、氧㈣等的微粒子的表面, 被覆亡述導電性金屬化合物而賦予導電性來使用。另外, 2併用不具導電性的無機粒子與導電性金屬氧化物的微 上述導電性微粒子的數量平均粒子徑較好為2〇〇⑽以 :、更好為5(Μ5ηι„。數量平均粒子徑,可以從由穿透式 =顯微旦鏡⑽)等所得到的二次電子釋放的影像照片的 視對衫像照片作書面處理尊央极目丨, 誕理4來做计測’或是可藉由利 先散亂法'靜態光散亂法等的粒度分布計等來計測。 另外,在上述高折射率層形成用組合物中,除了上述 =機粒子之外,亦可含有其他的無機粒子。可列舉出作為 其他無機粒子者,一, 又而S疋無機氧化物,例如為Si〇2、 201035585 A 1 2〇3 ' B 2 0 ^ > T 1 A η /Λ ^ 2、Zr〇2、Sn〇2、Ce〇2、P2〇5、Mo〇3、Zn〇2 ' WO3等的一種或二種以上。上述其他的無機粒子的數量平均 粒:徑較好為5°°⑽以下、更好為30〜15nm。數量平均粒 子‘可以以與上述相同的方法來計測。 上述阿折射率層可藉由以下所述來取得:以溶劑將上 述高折射率層形成用組合物稀釋;在基材膜的一個表面、 好為在已形成上述凹凸構造的面,直接塗佈此稀釋物或
將Ά佈在形成於基材膜上的其他層,而得到塗膜;對此 塗膜照射熱或電離射線。 可列舉出作為上述溶劑的有:甲醇、乙醇、異丙醇、 正丁醇、異丁醇等的醇類 乙二醇(ethyleneglycol)、乙 乙 丁基峻(ethylene glycol monobutyl ether)、 醇乙轉醋酸(ethylene glyc〇1 m〇noethyl ether acetate) 等的二元醇類;曱笨(t〇luene)、二曱苯(xylene)等的芳香 族碳氫化合物類;正己烷(n-hexane)、正庚烷(n —heptane) 等的脂肪族碳氫化合物;乙酸乙酯(acet〇acetate)、乙酸 丁酯(butyl acetate)等的酯類;曱基乙基酮(methyl ethyi ketone)甲異 丁甲酮(methy1 isobuty1 ketone)等的 _ 類;以及這些的二種以上所構成的組合等。 在高折射率層形成用組合物中,亦可含有以層厚的均 —性、密接性的提升等為目的的平滑劑(leveling agent)、分散劑等。可列舉出作為平滑劑者,有聚矽氧油 (silicone oil)、氟化聚烯烴(fluorina1:ed p〇ly〇lefin)、 聚丙烯酸酯(polyacryl ic ester)等的使表面張力降低的 201035585 化合物 劑等。 可列舉出作為分散劑者有界面活性劑、矽烷偶合 上述高折射率層的折射率較好為1.5 4.7。高折射率 層的折射率若在此範圍,則在高折射率層上層積後文所述 的低折射率層的情況中’可以抑制外來光線的反射、防止 來光線的映入。折射率可以使用例如已知的光譜型橢圓 儀(spectral eHiPsometer)來測定而求得。
上述高折射率層較好為顯示JIS K56GG-5-4所示的錯 筆硬度試驗(試驗板為玻璃板)5〇〇§荷重中的「2H」以上的 硬度。藉由高折射率層的錯筆 層可兼作硬塗層,而可以薄化 外,高折射率層的平均厚度 〇. 1 Ομιη。 硬度在上述範圍,高折射率 反射防止膜全體的厚度。另 通常為0.3〜20μπι、較好為 另外可以對回折射率層的表面施作表面處理。可列 舉出作為表面處理的手段的有在說明上述的基材膜之處例 示的表面改質處理。 〈低折射率層〉 本發明的反射防止膜,是具有設於上述高折射率層上 的低折射率層。低折射率層的折射率&及高折射率層的折 射率h是滿足(Rh-〇.1)^Rl的關係。也就是低折射率層的 折射率,疋比咼折射率層的折射率小了 〇 . 1以上。 、 形成低折射率層的材料(以下有稱之為「低折射率層形 成用組合物j的情況h較好為主要含有熱固性樹脂或電離 放射線型硬化樹脂的物質。 18 201035585 ㈣射率層的氧切成分較好為4q重 成為樣的適當範圍,可以提ϊοΐ 藉由 低折射率層的氧化矽成分的:有、:折射率層的密接性。 定,但可以是60重量%以下。 例的上限並無特別限 作為上述熱固性樹 R ης-rnp ^ ^ 細者’可使用將通式
RmSWOROm(式中,Rl是表示 飞 rh Η μ 『了/、有置換基的一價的烴基 (hydrocarbon group) > 〇r2 b * _ 土 ± ± 、 表不加水分解性官能基,n、
m表整數’ m為1〜4、n+m為4)所丰沾货/,人 ;斤表的矽化合物,全部或部 分地加水分解所得的物質。 可列舉出作為亦可具有置換基的—價的烴基者有炫 基、苯基、環烷基、芳香族基、鹵烷基;烯基羰基烷氧基 (alkenylcarb〇nyloxyalkyl);具有環氧基的烷基、具有氫 硫基(mercapto)的烷基、具有胺基的烷基、過氟化烷基 (perfluoroalkyl group)等。其中從合成的容易性、取得 可能性等,較好為碳原子數丨~4的烷基、苯基、過氟化烷 基。 可列舉出作為加水分解性官能基的具體例的有甲氧基 (methoxy group)、丙氧基(pr0p〇xy gr0Up)等的烧氧基 (alkoxyl group);乙醯氧基(acetoxy group)、丙醒氧基 (propionyloxy group)等的醯氧基(acyloxy group);將 (oxim)基(-〇-N=C-Ri(R2))、晞氧基(enoxy group) (-0-C(Ri) = C(R2)R3)、胺基、胺氧基(aminooxy group) (-0-NUORO、醯胺基(-NUO-CbO)-ίΜ等。在這些官能 基中’ R】' R2、R3是獨立表示氫原子或一價的烴基。在這些 19 201035585 之中,從取得溶液性的觀點,較好為烷氧基。 作為以RmSKOROm所表的的矽化合物者,較好為n 為〇〜2白勺錄的石夕化合物。π列舉出作為其具體例的有院 氧矽烷 Ulkoxysilane)類、乙醯氧矽烷(acet〇xy sUane) 類' 肟矽烷(oxime silane)類、烯氧矽烷(en〇xy sUane) 類、胺基矽烷(aminosilane)類、胺氧矽烷(amin〇〇xy si lane)類、醯胺矽烷(amide silane)類等。這些之中,從 取得容易性等,更好為烧氧矽烧類。 作為η為0的四烷氧矽烷(tetraalk〇XySUane)者,可 例示為四甲氧基矽烷(tetramethoxysi lane)、四乙氧基石夕 烷(tetraethoxysi lane)等;作為η為1的有機三烷氧石夕烧 (organo-trialkoxysilane)者,可例示為一甲基三甲氧基 石夕烧(methyl tri met hoxy si lane)、一甲基三乙氧基石夕烧 (methyltriethoxysilane)、一甲基三異丙氧基石夕烷 (methyltriisopropoxysilane)、苯基三曱氧基石夕统 (pheny1trimethoxysilane)、 笨基三乙氧基石夕炫 (phenyl trie thoxysi lane)、3, 3,3-三氟丙基三甲氧基石夕统 (3, 3, 3-trif luoropropyltrimethoxysilane)等。作為 η 為 2的二有機二烧氧基石夕烧(diorganodialkoxysilane)者, 可 例示為 二曱基 二甲氧 基矽烷 (dimethyldimethoxysilane)、二甲基二乙氧基石夕炫 (dimethyldiethoxysilane)、二苯基二曱氧基石夕炫 (diphenyldimethoxysilane)、二笨基二乙氧基石夕炫 (diphenyldiethoxysilane)、曱基苯基二甲氧基石夕炫 20 201035585 (methy1pheny1dimethoxysi1ane)等。 上述碎化合物’較好為含氟者。可列舉出作為含氟的 矽化合物的有含氟烷基烷氧基矽烷,例如可列舉出通式 CIMCF2)nCH2CH2Si⑽4)3(式中R4是表示碳原子數為卜5個 的烷基、η是表示〇~12的整數)所表的化合物。更具體而 言,可列舉出三氟丙基三甲氧基矽烷'三氟丙基三乙氧基 矽烷(trif luoroproPyitriethoxysilane)、十三氟辛基三 0 甲氧基矽烷(tridecaflu〇r〇〇ctyltriraeth〇Xysilane)、十 三 氟辛基 三乙氧 基矽烷 (tridecaf luorooctyltriethoxysilane)、十七氟癸基三甲 氧基石夕烧(heptadecafluorodeCyltrimeth〇xysilane)、十 七氟癸基三乙氧基矽烷 (heptadecafluorodecyltriethoxysilane)等。這些之中, 較好為上述η為2〜6的化合物。 上述矽化合物可以各自單獨地、或是混合二種以上來 〇 使用。另外,一種以上的石夕化合物的混合及加水分解的順 序’可以逐次、亦可同時。 另外,可列舉出作為藉由電離放射性而硬化的樹脂的 有縮水甘油丙烯酸酯(glyCidy 1 aery 1 ate)、縮水甘油甲基 丙稀酸酯(glycidy 1 methacrylate)等的具有縮水甘油基 的單體,丙烯酸、甲基丙烯酸等的具有幾基(carb〇Xyl group)的單體;經烧基丙烯酸醋(hydroxyalkyl acrylate)、經烧基甲基丙浠酸酯(hydroxyalkyl methacrylate)等的具有經基(hydroxyl group)的單體;經 21 201035585 曱基丙烯酸酯(methylol acrylate)、羥甲基甲基丙烯酸酯 (methylol methacrylate);丙烯酸烯丙酯 UUyi acrylate)曱基丙稀酸烯丙酯(allyl methacrylate)等的 具有乙烯基的單體;具有胺基的單體;具有磺酸(suif〇nic acid)基的單體等。 ,,一 α仰刃、Μ Ί匁供凡哪。作為 填充物者,只要是無機化合物的微粒子,並無特別設限。 作為此無機化合物者,一般是無機氧化物,可列舉出例如 Si〇2、Αΐ2〇3、β2〇3、Ti〇2、Zr〇” SnQ2、㈤2、P2m Zn〇2、W〇3等的一種或二種以上。 另外,在上述低折射率層形成用組合物中,亦可添加 中空微粒子。中空微來立 儆拉子疋指具有形成於外殼的内部的空 洞之中空的構造者’例如可適 — J週用一軋化矽(silica)系中空 微粒子。藉由含有二氧化石夕系中处 二 7尔甲二微粒子,除了低折射 性之外,亦可謀求耐擦傷性的提升。 作為中空微粒子者,可庇 者了以使用包含(A)無機氧化物的單 一層、(B)不同種類的無機氧 何乳化物所構成的複合氧化物的單 一層、(C)上述(A)與(B)的二重層者。 早 _空微粒子的平於 π十均叔子徑並無特別限定,但 5〜200〇nm、更好為2〇〜1〇〇 為 右疋小於5nm,則因中* 造成低折射率的效果就變小; 二 右A於200〇nm,則锈明痒牧 低,而會提高擴散反射的效果。 又降 在此處’平均救早彡(7< α、 以觀察穿透式電子顯微鏡所得的&旦"以 的數里平均粒子徑 中空微粒子的添加量並盏 亏。 …、特別限疋,但較好為相對於 201035585 上述低折射率層形成用組合物的固形分的40 200重量%、 更好為40〜150重量%。若為此範圍,就可以同時達成低折 射率性與耐擦傷性。 上述低折射率層的形成,可以以溶劑稀釋上述低折射 率層形成用組合物,將此稀釋物塗佈於高折射率層上,然 後將此塗膜乾燥、硬化而形成低折射率層的硬化膜。 Ο Ο 塗佈方法並無特別設限,可列舉出一般的方法,例如 刮刀(d°Ct〇r blade)法、凹版滾筒塗佈器(gravure roll ⑽㈣法、浸潰(恤⑽法、旋轉塗佈法、刷毛塗佈法、 快乾印刷⑴eX〇graphlGprinting)法等。藉由對所得到的 塗膜照射熱或電離放射線來作形成, 各 F〜攻而獲得低折射率層的 硬化膜。 可列舉出作為上述溶劑者,是與在上述高折射率層形 成用組合物之處所例示的溶劑相同。 在受到溶劑稀釋的.低折射率屉 八.曲由 町平看形成用組合物中的固形 刀浪度,可以在不損及溶液穩 士入& ,上 的祀圍作適當調整。由 於較好為將低折射率層形成用組合 镇腔 ή B 物屯成為厚度精度佳的 4膜,一般是使上述固形分濃度 n r , 兩0· 1〜20重量%、鲂杯盔 〇. 5〜1 0重量%左右,在處理 、'、 (其他成分) 易而較佳。 低折射率層形成用組合物中, 列舉出作為其他成分的有界面活性劍可含有其他成分。可 院偶合計等的分散劑、平滑劑、、先聚合開始劑、矽 、 s黏劑等。 上述界面活性劑的含量,較 马相對於低折射率層形 201035585 成用組合物的固形分為500ppm以上、更杯氐 尺对马1 OOOppm以 上。界面活性劑的含量^少於上述範圍,則會發生塗佈液 的對流,而無法減少低折射率層表面的凹凸。可列舉出作 為界面活性劑者有I系界面活性劑、聚矽氧系界面活性劑 等。可列舉出作為氟系界面活性劑者有3M公司製的 Fluorad FC~431等的含過氟化烷基磺化醯胺 (perfluoroalkyl sulfonamide)基非離子(n〇n_i〇n)、 DAINIPPON INK 公司製的 MEGAFACE F-17卜 F-172 ' F-173、 卜H6PF' F-470、F-471等的含過氟化烷基的寡聚物等。 可列舉出作為聚矽氧系界面活性劑者,有以乙二醇、丙二 醇等的券聚物的各種的置換基將側鏈、主鏈等的末端變性 的聚雙曱基石夕氧烧(polydimethylsiloxane)等。 可列舉出作為光聚合開始劑者有習知的光聚合開始 劑,具體而言有芳基酮(aryl ketone)系光聚合開始劑(例 如苯乙酮(acetophenone)類、二笨基 _ (benzophenone) 類、烧胺二苯基酮(alkylaminobenzophenone)類、二笨基 乙二酮(benzil)類、安息香(benzoin)類、安息香_ (benzoin ether)類、安息雙甲醚(benzyl dimethyl ketal) 類、苯甲酸苄酯(benzoyl benzoate)類、α -醯氧基酯 (a -acyloxym ester)類等);含硫系光聚合開始劑(例如硫 化物類、塞吨酮(thioxanthone)類等);醯基膦氧化物 (acy 1 phosphine oxide)系光聚合開始劑;其他的光聚合開 始劑。另外,光聚合開始劑亦可以與胺類等的光增感劑組 合使用。光聚合開始劑的含量,相對於1 〇 〇重量份的電離 24 201035585 放射線硬化樹脂為0.01〜20舌旦八Α π重量份、較好為重量 硬化是可以因應低折射率層形成用組合物,而藉由加 熱及/或反應性⑽照射來進行。乾燥條件、硬化條件可根 據使用的溶劑的彿點、飽和蒸汽遂、基材的種類等來作適 當決定,但為了抑制基材的染色、分解等,在加熱的情況 中通兩在臟以下、在照射紫外線的情況中通常在2J/cm2 以下為佳。 ❹ Ο 低折射率層的折射率Rl及上述高折射率層的折射㈣ 是滿足(nun的關係。也就是低折射率層的折射率 是比高折射率層小了 0」以上。低折射率層的折射率較好 為不滿ι·4、更好為、再更好為ΐ3〇ι 38。藉 由使低折射率層的折射率成為上述範圍,除了抗反射性^ 夕卜還可以賦與耐擦傷性。另外’低折射率層的平均厚度 通常為10~l〇〇〇nm、較好為2〇〜50〇nm。 在本發明中,在低折射率層之上亦可具有防污層。防 污層是保護低折射率層,而且是為了提高防污功能而設 置。作為防污層的形成材料,只要不阻害低折射率層的功 能、而能滿足作為防污層所要求的功能,則未特㈣限。 通常較好為可使用具有疏水基的化合物。 作為具體的例可使用過銳化院基石夕烷 (perflU〇roalkylsilane)化合物、過氟化&醚碎烷 (perflu〇r〇polyethersilane)化合物、含氟聚矽氧化合 物。防污層的形成方法’因應所形成的材料,可使用例Z 蒸鍍、濺鍍等的物理氣相沉積法;化學氣相沉積(CVD)法; 25 201035585 溼式鍍膜法等 為20ηηι以下、 ,防污層的厚度並無特別更好為l~10nm。 設限,但通常較好 本發明的反射防止膜的反射 扪夂射率,以波長430〜70〇nm中 的入射角5來測定而得的最,j、# & 于取小值為不滿15%、較好 1. 3%以下。 另外’本發明的反射防止膜的影像清晰度為m以上, 若不滿90%則顯示影像的散射會變激烈,而使明視度變差。 影像清晰度的上限並無㈣限定,可^函以下。 本發明的反射防止膜的使用,可藉由直接貼合於液晶 顯不裝置(LCD)、f漿顯示面板(pDp)、電致發光顯示器 (ELD)、陰極射線管顯示裝置(CRT)、場發射顯示器(fed)、 電子紙、觸控面板等的顯示裝置,亦可以與偏光板保護膜、 組裝於珂面板等的顯示裝置的表面構件置換來使用。 【實施例】 針對本發明’藉由實施例及比較例的使用來作更詳細 的δ兒明。但是本發明並未受限於以下的實施例。而只要未 特別聲明,是以份及%為重量基準。 (基材膜的厚度) 將膜鑲埋於環氧樹脂之後,使用切片機 (microtome)(大和工業公司製,製品名r RUB一21〇〇」)切成 薄片’使用掃描式電子顯微鏡來觀察截面並測定。 (基材膜的折射率) 將樹脂單層成形,使用稜鏡耦合儀(prism c〇upler)(MetriCon 公司製,製品名 r m〇del2010」),在 201035585 咖·度2〇C±2°C、渔度60±5%的條件下進行。 (折射率(高折射率層、低折射率層)) 使用南速橢圓測光儀(spectral el i ips〇metry)(】.A Woollam公司製,製品名「M_2〇〇〇u」),從入射角度、 60 、及65。、溫度20艺±2。(:、溼度β〇±5%的條件下之波 常範圍400〜l〇〇〇nm的光譜計算出來。 (岔接性(鋼絲絨(s t e e 1 woo 1 )試驗)) 〇 在鋼絲絨#000〇施加0. 〇25MPa的荷重的狀態下,在反 射防止膜的表面來回10次,以目視觀測來回後的表面狀 態。 優良:未能辨識出刮傷。 良.可見到少許的刮傷,但在品質上無問題。 劣:條紋狀刮傷有8條以上。 (最小反射率) 〇 使用分光光度計(曰本分光公司製,製品名「v—550」), 測定在波長430〜70〇nm範圍之入射角5。下的反射率(測定 波長間隔為ΐΜ),計算出上述波長範圍中的最小反射率。 最小反射率,|以不滿h 5%的情況為良好。 (影像清晰度(image clarity、穿透清晰度乃 以JIS K 7105為根據,藉由影像清晰度測定裝置(Su抑
Test Instruments Co ί 十ri 制、 ^ w.’Ud.製),以寬度〇 5關的光梳 (optical comb)來測定。赵估奋古 α1 ^ 數值愈南,則意味著清晰度愈高。 影像清晰度是使來自試樣的穿透光通過移動的光梳來作測 定,並計算出其值來求得。當試樣有發生模糊的影像的情 27 201035585 會因為此模糊的影響而變
況,在光梳上成像的狹缝的像 寬’而在穿透部的位置,狹 影像清晰度的值 C(%) = ((M-m)/(M+m))xi〇〇 (表面硬度(鉛筆硬度試驗)) 將荷重訂為50〇g ’其他則根據JIS K 5600-5-4,使用 釓筆針對反射防止膜的表面五處作左右的刻劃,確認 受到刮傷的情況。 (製造例1)基材膜1的製作 此用二種三層的多層共擠壓裝置,分別將構成兩表面 層之含有彈性體粒子的聚曱基丙烯酸曱酯樹脂(住友化學 公司製,商品名「SUMIPEX HT20Y」)、構成中間層之耐熱 性高的聚甲基丙稀酸甲酯樹脂(住友化學公司製,商品名 SUMIPEX MH」),以 20 kg/hr、10 kg/hr 的擠壓量從 τ 字 模擠出後冷卻’而獲得三層結構的基材膜1。 構成基材膜1的各層厚度,一側的表面層(表面層D 的厚度為5_、中間層為1 〇μιη、另一側的表面層(表面層 2)為5_,基材膜1的總厚度為20μπ1。基材膜1的表面層 1的折射率為丨.49。 28 201035585 (製造例2)基材膜2的製# 使用使空氣流通的熱風乾燥器,在1丨〇 〇c下對降莰烯 (norbornene)(商品名「ZE0N0R 1420R」,日本 ΖΕΟΝ CORPORATION製·玻璃轉換溫度Tg為136。〇)的顆粒(叩丨let) 進打4小時的乾燥。之後,使用單軸擠壓機,在26(Γ(:下 將此顆粒熔融擠壓,而得到基材膜2。另外,基材膜2的 厚度是20μιη。 〇 (製造例3)尚折射層形成用組合物1的調製 在1〇〇份的含丙烯醯基(acryl〇yl)的寡聚物(日本合 成化學工業公司製,商品名「υν_17〇〇β」),加入7份的鱗 片形狀的無機粒子(山口雲母工業所公司製、SJ-〇〇5、平均 粒子性5μπι、氧化石夕成分45%)、150份的氧化錯 (zirconiaXC. I· Kasei Co.,Ltd.製,平均粒子徑 2〇nm)、 與2份的光聚合開始劑(Ciba SpeciaHy Chemicals公司 製商品名「IRGACURE184」),再加入i份的甲基丙烯酸 ° (methacryl)改質聚二曱矽氧油(dimethyl silicone 011 )(信越化學工業公司製、商品名「X一22 —164A」),以攪 拌機在5000rpm下進行5分鐘的攪拌,而得到高折射層形 成用組合物1。折射率為1. 62。 (製造例4)南折射層形成用組合物2的調製 除了改成35份的鱗片形狀的無機粒子之外,與製造例 3同樣進行而得到高折射層形成用組合物2。折射率為 1.63。 (製造例5)两折射層形成用組合物3的調製 29 201035585 以球磨機粉碎鱗片形狀的無機粒子,並過_的筛 網’而成為平均粒子徑0.7_的粒子,加入7份的此平均 粒子棱G.7_的粒子來取代7份賴片形狀的|機粒子, 其他則與製造例3同樣進行而得到高折射層形成用組合物 3。折射率為1. 62。 (製造例6)高折射層形成用組合物4的調製 除了不加入鱗片形狀的無機粒子以外,與製造例3同 樣進行而得到高折射層形成用組合物4。折射率為Π (製造例7 )兩折射層形成用組合物5的調製 除了將鱗片形狀的無機粒子變更為其他的鱗片形狀的 ‘…機粒子(C0-0P CHEMICAL· 公司 f、M qnn J ^ MK~3o〇、平均粒徑 i Sum、氧化矽成分52%)以外,盥制生 古4 一衣&例3同樣進行而得到 而折射層形成用組合物5。折射率為1 6 2。 (製造例8)高折射層形成用組合物6的調製 除了將鱗片形狀的無機粒子變更為黑雲母粉碎物(平 均粒子徑6μπι)之外,與製造例 y 兴衣、例3同樣進打而得到高折射層 形成用組合物㈠外,黑雲母粉碎物是以球磨機將里: 母(靈壽縣天將礦業有限公司製、氧化矽成分35%)粉碎, 並過8_的筛網’而成為平均粒子徑一的物質。: 為 1.62 。 (製造例9)高折射層形成用組合物7的調製 與製造例 折射率為 除了改成3份的鱗片形狀的無機粒子之外, 3同樣進行而得到高折射層形成用組合物7。 1.52。 30 201035585 (製造例1 0)低折射率層形成用組合物1的調製 將200份的乙醇投入具有迴流管(recircuiati〇n tube) 的四口反應燒瓶’在攪拌下將1 2 0份的草酸少量地逐次添 加於此乙醇中’而調製草酸的乙醇溶液。接下來將此溶液 加熱至迴流溫度為止,在迴流下在此溶液中滴入2〇份的四 乙氧基矽烷與4份的十三氟辛基三甲氧基矽烷(GE東芝 SILICONE公司製,商品名rTSL8257」)的混合物。滴入終
了之後,仍在迴流下繼續加熱5小時後冷卻,以甲醇稀釋 至固形分為1重量% ’藉此調製液體1。 接下來,對上述液體丨的固形分(24重量份)添加中空 氧化矽微粒子(數量平均粒子徑3〇nm、折射率129)而成為 30重量份,而調製低折射率層形成用組合物工。將此組合 物乾燥而成為薄膜所得到的低折率射層的氧化矽成分為 9 0%。低折射層的折射率為丨.37。 (製造例⑴低折射率層形成用組合物2的調製 在100份的含丙烯醯基的單體(旭電化 品名「〇PT〇MER KR566」)加入 商 c . 」^入2伤的光聚合開始劑(Ciba
Specialty Chemicals 公司製脔。「 t /v 展商叩名「IRGACURE184」)、 150伤的中空氧化矽微 ,9Q. 1Λ 1數里千均粒子徑30nm、折射率 • 〇伤的甲基丙浠酸改質 ^ ^ 女 貝聚一甲矽氧油(信越化學工 業么司製、商品名「1224 下進行5分鐘㈣拌,藉;),明拌機纟議咖 2。將此組合物乾燥 &折射率層形成用組合物 ㈣分為⑽。低折射率= 半層的折射率為1.37。 201035585 (製造例12 )低折射率層形成用組合物3的調製 除了將中空氡化矽微粒子改成80份以外,與製造例 10同樣進行而得到低折射率層形成用組合物 。 w d。將此組合 物乾燥而成為薄膜所得的低折射率層的 』乳化矽成分為 42%。低折射率層的折射率為1.43。 (製造例1 3)低折射率層形成用組合物4的調製 除了將中空氧化石夕微粒子改成60份以外,與製造例 1〇同樣進行而得到低折射率層形成用組合物4。將此組合 物乾燥而成為薄膜所得的低折射率層的氧化石夕成分: 35%。低折射率層的折射率為144。 (實施例1 ) s ^ 1所得的基材膜1中的W “凸構造的 物二:Ϊ法塗布製造例3所得到的高折射層形成用組合 外線照射機,以使累積光量成為陶心2 条件進仃备、外線照射而使其硬化 射層,而得到基材膜/高折射率,所構…折 來,在高折射#構成的層積體。接下 硬化,而^ 所得到的塗膜進行1分鐘的乾燥· 反射防止膜反度:-的低折射率層,而得到本發明之 (實施例2反射防止膜1的評量結果示於表卜 使用製造例11戶斤γ Μ 取代低折射率… 折射率層形成用組合物2來 步驟變^ 组合物卜並將形成低折射率層的 更為如下所示者’除此之外,與實施例lfg]樣進行 2〇l〇35585 反射防止膜2。低折射率層,是在高析射率層上以 更k法塗布低折射率層开;出田a a 的塗腺Π 合物’在6Gt下對所得到 塗膜進仃1分鐘的乾燥, 从〜 便系積光罝成為100mJ/rm2 的條件進行紫外線照射而 ^ ^ „ 更/、硬化而仵。反射防止臈2的 汁里結果不於表1。 (實施例3 ) 除了使用製造例2所得 Ο 〇 ^ ^ 1于判的基材膜2來取代基材膜1 之外’與實施例i同 也腔u Π樣進订而件到反射防止膜3。反射防 止膜3的評量結果示於表1。 (實施例4 ) 除了使用製造例 物3來取代低折射率 同樣進行而得到反射 示於表1。 U所得到的低折射率層形成用組合 層开ν成用組合物1之外,與實施例1 防止膜4。反射防止膜4的評量結果 (實施例5) 除了使 來取枝-Μ Μ &㈣8所得到的高折射層形成用組合物6
代副層形成用组合物1之外,與實施例i同樣進 行而得到反射防止膜弓。后u /、貫施例1 N (比較例〇 、反射防止膜9的評量結果示於表 除了使用製造例 來取代高折射層形成 行而得到反射防止# 表2。 ~得到的高折射層形成用組合物2 用組合物1之外,與實施例1同檬進 U。反射防止膜11的評量結果米於 (比較例2) 33 201035585 除了使用製造例5所得到的高折射層形成用組合物3 來取代高折射層形成用組合物丨之外,與實施例丨同樣進 灯而得到反射防止膜12。反射防止膜丨2的評量結果示於 表2。 (比較例3) 除了使用製造例6所得到的高折射層形成用組合物4 來取代高折射層形成用組合物丨之外,與實施例丨同樣進 行而彳于到反射防止膜13。反射防止膜13的評量結果示於 表2。 (比較例4) 除了使用製造例7所得到的高折射層形成用組合物5 來取代向折射層形成用組合物丨之外,與實施例丨同樣進 行而彳牙到反射防止膜14。反射防止膜14的評量結果示於 表 2。 ”、 (比較例5) 除了使用製造例9所得到的高折射層形成用組合物7 來取代咼折射層形成用組合物1、使用製造例12所得到的 低折射率層形成用組合物3來取代低折射率層形成用組合 之外,與實施例1同樣進行.而得到反射防止膜15。反 射防止膜15的評量結果示於表2。 針對上述實施例i〜5、比較例卜5的各反射防止膜, 平里费接性、最小反射率、影像清晰度、表面硬度,1社 果示於表1及表2。 一° 201035585
【表i】 反射防止 低折射層月 形成組合彩 1 ~~----- __,----—^ 3 -~~~__ 實施例 —_— 1营搞,你丨2丨實施例實施例4實施牲马 (2 1〇 4 ΙΑ- 1 1 Γτττ a 1 高折射層用 形成組合物 付 J 1 ntt ------- — , ~ ---- 1 1 1 1 6 暴材膜 低折射率層 高折射率層 密接性 最小反射率 ---- 1 1 2 1 1 1.37 1.37 1.37 1.43 1.37 石夕(%) 90 58 90 42 90 -iSSigSr 1.62 1.62 1.62 1.62 1.62 5 5 5 5 6 7 7 7 j 7 7 無機粒子中的 45 45 45 45 35 〜---____ 優良 優良 優良 優良 良 0.8 0.8 0.8 1.3 0· 8 影像清晰度 表面硬度 【表2】 96 96 96 97 96 ^--- 3Η-4Η 3Η-4Η 3Η 3Η 2Η 〜3Η ~~~〜_ 比較例1 比較例2 比較例3 比較例4 比較例5 反射防止膜 ' ~~----- —------ 11 12 13 14 15 低折射層用 形成組成物 ^—-—一 — 1 1 1 1 3 南折射層用 形成組成物 ----- ----------- 2 3 4 5 7 基材膜 —— 1 1 1 1 1 低折射層 1.37 1.37 1.37 1.37 1.43 -- 90 90 90 90 42 高折射層 ~~~~~ 1.63 1.62 1.58 1.62 1.52 -ΰ^±^(μπι) 5 0.7 - 15 5 添加量(份) 35 7 — 7 3 無機粒子中的 氧化矽(%) 45 45 — 52 45 密接性 ----- _[ 優良 優良 劣 優良 優良 最小反射率 1.8 0.8 0.8 1.7 1.5 影像清晰度 ΓΙΐ7αΓ~^ 75 97 97 77 95 表面硬度 4Η Η Η 3Η-4Η 2Η-3Η 35 201035585 及表2所示’瞭解到實施例1〜4的反射防止膜 的密接性佳、最小反射率為1. 3%以下、且表面強度高達3H 以上、影像清晰度高達9〇%以上,而具有充分的影像清晰 f與表面硬度’因此在使用於顯示裝置之時,其明視度不 容易降低。另外,瞭解到實施例5是在密接性方面稍低, 但無實際上的問題’而另外在其他的特性則能滿足需求。 相對於此如比:例卜4所示,瞭解到在鱗片形狀的無機 粒子的含量較多、或粒子徑大於既定範圍的情況中,在影 像清晰度這方面的表現較差。還有,如比較例2、3所示, 瞭解到在鱗片形狀的無機粒子的含量較少、或粒子徑小於
既定範圍的情況中,表面硬度就不足。還有,如比較例 所示’瞭解到在折射率差小力0.1的情況中,最小反射 為1.5%,作為反射防止膜的功能則較差,即使幅度不大 【圖式簡單說明】 益。 【主要元件符號說明】 益 〇 36
Claims (1)
- 201035585 七、申請專利範圍: i·—種反射防止膜,包含: 一基材膜; 一南折射率層,設置於該基材膜上;以及 -低折射率層,設置於該高折射率層上,該低折射率 a的折射率^該高折射率層的折射率W g 的關係;其中 ; Ο 〇 該高折射率層是由一組合物所構成,該組合物包含作 為主成分的硬塗(hard CGatlng)材料與平均例子徑為 3〜ΙΟμιη的鱗片狀的無機粒子;以及 該反射防止膜的影像清晰度為9〇%以上。 2.如申請專利_第i項所述之反射防切,其中該 無基粒子含有35重量%以上的氧化矽成分。 &如申請專利範㈣i項所述之反射防止膜,其中該 組合物是相對於100重量份的該硬塗材料,而含有Η。重 量份的該無機粒子。 4.如申請專利範M i項所述之反射防止膜,其中該 層與—第二樹脂層’且是由共擠壓 法(C〇eXtrusio_形成的多層膜,該第—樹脂層是由含埶 塑性壓克力樹脂或具有脂環式構造的樹脂、與平均粒徑為 2如以下的彈性體粒子的組合物所構成,該第二樹脂層 是由不含該彈性體粒子的熱塑性樹脂所構成。 37 201035585 四、指定代表圖: (一) 本案指定代表圖為:無。。 (二) 本代表圖之元件符號簡單說明:盔。 五本案右有化學式時,请揭示最能顯示發明特徵的化學式: 益 〇 六、發明說明: 【發明所屬之技術領域】 本發明是關於主要使用於顯示裝置的表面的反射防止 膜’特別是關於具有充分的影像清晰度與表面硬度的反射 防止膜。 【先前技術】 夕顯示裝置的顯示畫面,由於使用者以手觸摸的機會 多,而其表面會有髒汙、刮傷、變得難以觀看影像等情況, 而需要提升其表面硬度的提升。另外,關於顯示裝置的顯 不晝面,由於會遭遇到因日光燈的外界光線的映入所造成 =反射像而使顯示影像的明視度變差,而需要抗反射的功 因此習知會有在顯示裝置的顯示畫面,貼附具有適 度的表面硬度的反射防止膜的情況。 作為上述反射防止膜去,β去由, 者疋考慮例如具有基材膜、設 折射车=上^折射率層、與設於此高折射率層上的低 折射率㈣。另外,詩高折㈣層,為了提高其表面硬
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009020086A JP2012068271A (ja) | 2009-01-30 | 2009-01-30 | 反射防止フィルム |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
TW201035585A true TW201035585A (en) | 2010-10-01 |
Family
ID=42395552
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
TW99102214A TW201035585A (en) | 2009-01-30 | 2010-01-27 | Anti-reflection film |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2012068271A (zh) |
TW (1) | TW201035585A (zh) |
WO (1) | WO2010087290A1 (zh) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101526650B1 (ko) * | 2012-11-21 | 2015-06-05 | (주)엘지하우시스 | 광학특성이 우수한 반사방지 필름 |
KR102280262B1 (ko) | 2018-05-18 | 2021-07-21 | 주식회사 엘지화학 | 반사 방지 필름, 편광판 및 디스플레이 장치 |
KR20230034424A (ko) * | 2018-07-31 | 2023-03-09 | 코니카 미놀타 가부시키가이샤 | 광학 필름, 편광판, 및 광학 필름의 제조 방법 |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5170922B2 (ja) * | 2001-03-16 | 2013-03-27 | 日本曹達株式会社 | 親水性ハードコート膜及びその製造方法 |
US8139181B2 (en) * | 2006-03-31 | 2012-03-20 | Zeon Corporation | Polarization plate, liquid crystal display device and protective film |
-
2009
- 2009-01-30 JP JP2009020086A patent/JP2012068271A/ja active Pending
-
2010
- 2010-01-22 WO PCT/JP2010/050821 patent/WO2010087290A1/ja active Application Filing
- 2010-01-27 TW TW99102214A patent/TW201035585A/zh unknown
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2012068271A (ja) | 2012-04-05 |
WO2010087290A1 (ja) | 2010-08-05 |
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