TW201731691A - 光學膜、偏光板及影像顯示裝置 - Google Patents

光學膜、偏光板及影像顯示裝置 Download PDF

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Abstract

本發明提供一種具有優異之硬度及優異之耐久摺疊性能之光學膜、具備其之偏光板以及影像顯示裝置。根據本發明之一態樣，提供一種光學膜10，其係具備透光性樹脂基材11、與設置於透光性樹脂基材11之一面側之硬塗層12，且可摺疊者，其特徵在於：具有第1區域10B、與光學膜10之表面10A之硬度低於第1區域10B之第2區域10C。

Description

光學膜、偏光板及影像顯示裝置 【相關申請之參照】
本申請享有作為先前之日本專利申請之日本專利特願2016-2954(申請日：2016年1月8日)之優先權之權利，其所揭示之全部內容係藉由引用而作為本說明書之一部分。
本發明係關於一種光學膜、偏光板及影像顯示裝置。
近年來，對於急速地普及之觸控面板所使用之光學膜，有需求具有優異硬度，並且具有即便將光學膜反覆摺疊亦不會產生龜裂之優異之耐久摺疊性能之情況。
然而，硬度與彎曲性通常處於取捨之關係，關於習知之光學膜，若謀求硬度之提高，則耐久摺疊性能降低，若謀求耐久摺疊性能之提高，則硬度降低，無法同時使該等性能變得優異。
又，於觸控面板中，多數情況下將玻璃用於顯示畫面。且說，存在如下問題：玻璃雖然硬度較高，但若將其摺疊，則會破裂，而無法賦予摺疊性能，又，由於玻璃為比重較大之材料，故而若欲謀求輕量化，則 需要使其變薄，若使玻璃變薄，則強度會降低而變得易於破裂。
又，作為具備硬度與彎曲性之光學膜，揭示有如下光學膜，其係於透光性樹脂基材之一面上設置有第1硬塗層並且於另一面上設置有維氏硬度與第1硬塗層不同之第2硬塗層者(例如參照日本特開2014-186210號公報)。然而，此種光學膜雖然具有優異之硬度，但有因反覆摺疊而產生摺疊痕之情況，不滿足近年來所需求之耐久摺疊性能。
本發明係為了解決上述問題而成者。即，目的在於提供一種具有優異硬度及優異之耐久摺疊性能之光學膜、具備其之偏光板以及影像顯示裝置。
本發明者等人對上述課題反覆努力進行了研究，結果發現，只要形成光學膜之表面之硬度低於第1區域之第2區域，則獲得優異之硬度及優異之耐久摺疊性能。本發明係基於此種見解而完成者。
根據本發明之一態樣，提供一種光學膜，其係具備透光性樹脂基材、與設置於上述透光性樹脂基材之一面側之硬塗層，且可摺疊者，其特徵在於：具有第1區域、與上述光學膜之表面之硬度低於上述第1區域的第2區域。
關於上述光學膜，亦可於以上述光學膜之彎曲半徑成為1.5mm之方式於上述第2區域將上述光學膜摺疊180°之試驗反覆進行10萬次 之情形時，不會產生破裂或斷裂。
關於上述光學膜，亦可上述硬塗層具有介隔間隙而相互隔開而配置之多個第1硬塗層、與硬度低於上述第1硬塗層之第2硬塗層，於上述第1區域內，依序積層有上述透光性樹脂基材、上述第1硬塗層、及上述第2硬塗層，於上述第2區域內，存在上述間隙，且上述第2硬塗層被埋入至上述間隙。
關於上述光學膜，亦可上述硬塗層具有：具備1個以上之凹部之第1硬塗層、與硬度低於上述第1硬塗層之第2硬塗層，於上述第1區域內，依序積層有上述透光性樹脂基材、上述第1硬塗層、及上述第2硬塗層，於上述第2區域內，存在上述凹部，藉由上述凹部而具有上述第1硬塗層之膜厚成為上述第1區域中之上述第1硬塗層之膜厚之50%以下之區域，且上述第2硬塗層被埋入至上述凹部。
關於上述光學膜，亦可上述第2區域內之上述第1硬塗層之膜厚成為上述第1區域中之上述第1硬塗層之膜厚之50%以下之區域之寬度為0.5mm以上。
關於上述光學膜，亦可上述第1硬塗層之一部分存在於上述第2區域內，隨著存在於上述第2區域內之上述第1硬塗層之一部分朝向上述第1硬塗層之隔開位置或上述凹部之中央部，上述第1硬塗層之膜厚逐漸地減小。
根據本發明之另一態樣，提供一種可摺疊之偏光板，其具備上述光學膜、與設置於上述光學膜之上述透光性基材之另一面側之偏光元件。
根據本發明之另一態樣，提供一種可摺疊之影像顯示裝置，其具備顯示元件、與配置於較上述顯示元件更靠近觀察者側之上述光學膜或上述偏光板。
10、30、40、70‧‧‧光學膜
10A、70A‧‧‧表面
11、71‧‧‧透光性樹脂基材
12、72‧‧‧硬塗層
13、73‧‧‧第1硬塗層
14、74‧‧‧第2硬塗層
50‧‧‧偏光板
51‧‧‧偏光元件
60‧‧‧影像顯示裝置
61‧‧‧顯示元件
圖1係第1實施形態之光學膜之概略構成圖。
圖2係第1實施形態之光學膜之俯視圖。
圖3係第1實施形態之光學膜之一部分之放大圖。
圖4(A)及圖4(B)係示意性地表示180°摺疊試驗之情況之圖。
圖5(A)及圖5(B)係第1實施形態之另一光學膜之概略構成圖。
圖6(A)~圖6(D)係示意性地表示第1實施形態之光學膜之製造步驟之圖。
圖7(A)~圖7(D)係示意性地表示第1實施形態之光學膜之製造步驟之圖。
圖8係第1實施形態之偏光板之概略構成圖。
圖9係第1實施形態之影像顯示裝置之概略構成圖。
圖10係第2實施形態之光學膜之概略構成圖。
圖11係第2實施形態之光學膜之一部分之放大圖。
圖12(A)~圖12(C)係示意性地表示第2實施形態之光學膜之製造步驟之圖。
圖13(A)~圖13(C)係示意性地表示第2實施形態之光學膜之製造步驟之圖。
以下，一面參照圖式，一面對本發明之實施形態之光學膜、偏光板、顯示面板及影像顯示裝置進行說明。於本說明書中，「膜」、「片材」等用語僅基於稱呼之不同，並非相互區別者。因此，例如，「膜」係以包括亦稱為片材之構件之含義使用，又，「片材」係以包括亦稱為膜之構件之含義使用。圖1係本實施形態之光學膜之概略構成圖，圖2係本實施形態之光學膜之俯視圖，圖3係本實施形態之光學膜之一部分之放大圖，圖4係示意性地表示180°摺疊試驗之情況之圖，圖5係本實施形態之另一光學膜之概略構成圖，圖6及圖7係示意性地表示實施形態之光學膜之製造步驟之圖。
<<<<光學膜>>>>
圖1及圖2所示之光學膜10係可摺疊，且具備透光性樹脂基材11、與設置於透光性基材11之一面11A之硬塗層12。於本說明書中，所謂「可摺疊」意指於光學膜之一部分將光學膜摺疊時，光學膜不會產生破裂或斷裂。再者，關於光學膜，於將光學膜摺疊時，若於光學膜中存在不產生破裂或斷裂之部分，則將該光學膜視為可摺疊。又，所謂「硬塗層」係指具有透光性，且於JIS K5600-5-4：1999所規定之鉛筆硬度試驗中至少具有「F」以上之鉛筆硬度之層。硬塗層12亦可具有防污性等其他功能。再者，本說明書中之鉛筆硬度試驗係以負載750g及刮痕速度1mm/s進行。
光學膜10具有光學膜10之表面10A之硬度分別不同之第1區域10B及第2區域10C。具體而言，關於光學膜10之表面10A之硬度， 第2區域10C低於第1區域10B。本說明書中所謂「光學膜之表面」意指光學膜中之單側且硬塗層側之表面。再者，由於本說明書中之光學膜之表面意指光學膜之單側之表面，故而為了與本說明書中之光學膜之表面加以區分，而將與光學膜之表面為相反之側之面稱為背面。於本實施形態中，硬塗層12之表面12A成為光學膜10之表面10A，但於硬塗層12上設置有其他功能層之情形時，該功能層之表面成為光學膜之表面。本說明書中所謂「第1區域」意指光學膜之表面之硬度高於第2區域之區域，又，所謂「第2區域」意指光學膜之表面之硬度低於第1區域之區域。
第1區域10B之硬度只要高於第2區域10C之硬度，則無特別限定，於在具備觸控面板之影像顯示裝置之表面使用光學膜10之情形時，於第1區域10B，光學膜10之表面10A之利用JIS K5600-5-4：1999所規定之鉛筆硬度試驗進行測定時之鉛筆硬度較佳為5H以上，較佳為6H以上，更佳為7H以上。又，於在具備觸控面板之影像顯示裝置之內部使用光學膜10之情形時，於第1區域10B，光學膜10之表面10A之利用JIS K5600-5-4：1999所規定之鉛筆硬度試驗進行測定時之鉛筆硬度較佳為4H以上，較佳為5H以上，更佳為6H以上。鉛筆硬度係設為於鉛筆硬度試驗中不會使光學膜之表面受到損傷之最高硬度。再者，測定鉛筆硬度時，使用多根硬度不同之鉛筆進行，每1根鉛筆進行5次鉛筆硬度試驗，於5次中有4次以上光學膜表面未受到損傷之情形時，判斷該硬度之鉛筆不會使光學膜之表面受到損傷。上述損傷係指於螢光燈下對進行了鉛筆硬度試驗之光學膜之表面進行穿透觀察而視認到者。又，關於以下之鉛筆硬度，於未特別說明之情形時，鉛筆硬度亦設為利用JIS K5600-5-4：1999所規定之 鉛筆硬度試驗進行測定時之鉛筆硬度。
第2區域10C之硬度只要低於第1區域10B之硬度，則無特別限定，於在具備觸控面板之影像顯示裝置之表面使用光學膜10之情形時，於第2區域10C，光學膜10之表面10A之鉛筆硬度較佳為2H以上，較佳為3H以上，更佳為4H以上。又，於在具備觸控面板之影像顯示裝置之內部使用光學膜10之情形時，於第2區域10C，光學膜10之表面10A之鉛筆硬度較佳為H以上，較佳為2H以上，更佳為3H以上。再者，為了謀求兼顧優異硬度及優異之耐久摺疊性能，需要使第1區域之硬度與第2區域之硬度存在差值，但若考慮到獲得更優異硬度，則較佳為第1區域與第2區域之硬度差較小。就鉛筆硬度而言，第1區域之鉛筆硬度與第2區域之鉛筆硬度之差以鉛筆硬度之等級(rank)計，較佳為5級以內，更佳為3級以內。
光學膜10較佳為於以彎曲半徑成為1.5mm之方式於第2區域10C將光學膜10摺疊180°之試驗反覆進行10萬次之情形時，不會產生破裂或斷裂。若於10萬次以內光學膜10產生破裂或斷裂，則光學膜10之耐久摺疊性能不充分。摺疊試驗例如可使用耐久試驗機(製品名「DLDMLH-FS」，YUASA SYSTEM機器公司製造)而進行。
圖4係示意性地表示以光學膜10之彎曲半徑R成為1.5mm之方式將光學膜10之一部分摺疊180°之試驗(以下，亦稱為耐久摺疊試驗)之情況之圖。如圖4(A)所示，於上述耐久摺疊試驗中，首先，於光學膜10成為平坦之狀態下，將光學膜10之一邊、及與該一邊對向之另一邊分別固定於在水平方向隔開特定之間隔而配置之摺疊試驗機之固定端21及移動 端22。再者，光學膜可為任意之形狀，較佳為進行上述耐久摺疊試驗之光學膜10為矩形。繼而，如圖4(B)所示，使移動端22朝向固定端21而靠近，並以光學膜10之彎曲半徑R成為1.5mm之方式將光學膜10以180°摺疊。此處，將光學膜10摺疊之部位係設為第2區域10C所存在之部位。然後，將圖4(A)及圖4(B)所示之狀態反覆進行10萬次。再者，固定端21與移動端22之間隔雖然亦根據光學膜之大小而不同，但例如只要設為3mm，則能以光學膜10之彎曲半徑R成為1.5mm之方式將光學膜10以180°進行摺疊。
較佳為於在光學膜10之兩面分別進行上述耐久摺疊試驗15萬次之情形時，不會產生破裂或斷裂。又，光學膜10可為於對單面進行上述耐久摺疊試驗之情形時不會產生破裂或斷裂者，較佳為於對兩面進行上述耐久摺疊試驗之情形時，不會產生破裂或斷裂。再者，其係即便使上述光學膜10旋轉90°而進行同樣之耐久摺疊試驗，同樣地不會產生破裂或斷裂者。
光學膜10之波長380nm之光之穿透率較佳為10%以下。若上述穿透率超過10%，則於將光學膜10用於行動終端之情形時，有偏光元件暴露於紫外線下，而變得易於劣化之虞。上述穿透率之上限更佳為8%以下，最佳為5%以下。上述穿透率可使用霧度計(製品名「HM-150」，村上色彩技術研究所製造)進行測定。波長380nm之光之穿透率係設為進行3次測定而獲得之值之算術平均值。
光學膜10之全光線穿透率較佳為85%以上。若上述穿透率未達85%，則於將光學膜10用於行動終端之情形時，有顯示畫面變得難以 視認之虞。上述全光線穿透率之下限更佳為90%以下。上述全光線穿透率可使用霧度計(製品名「HM-150」，村上色彩技術研究所製造)，並藉由依據JIS K7361-1：1997之方法而進行測定。全光線穿透率係設為進行3次測定而獲得之值之算術平均值。
光學膜10整體之霧度值較佳為2.5%以下。若霧度值超過2.5%，則於將光學膜10用於行動終端之情形時，有顯示畫面變白之虞。上述霧度值更佳為1.5%以下，更佳為1.0%以下。上述霧度值可使用霧度計(製品名「HM-150」，村上色彩技術研究所製造)，並藉由依據JIS K7136：2000之方法而進行測定。霧度值係設為進行3次測定而獲得之值之算術平均值。
<<透光性樹脂基材>>
作為透光性樹脂基材11，只要為由具有透光性之樹脂所構成之基材，則無特別限定。作為具有透光性之樹脂，例如可列舉：聚醯胺醯亞胺樹脂、聚醯亞胺樹脂、聚芳醯胺樹脂、醯化纖維素樹脂、環烯烴樹脂、聚碳酸酯樹脂、丙烯酸酯系樹脂、聚酯樹脂、或將該等樹脂混合2種以上而成之混合物等。該等之中，就不僅在耐久摺疊試驗中不易發生破裂或斷裂，而且亦具有優異之硬度及透明性，又，耐熱性亦優異，可藉由煅燒而賦予更優異之硬度及透明性之觀點而言，較佳為聚醯亞胺樹脂、聚芳醯胺樹脂、或該等之混合物。
作為聚醯亞胺樹脂，例如可列舉具有下述式所表示之結構之化合物。下述式中，n為重複單位，表示2以上之整數。
作為聚芳醯胺樹脂，一般為具有下述式(18)及(19)所表示之骨架者，作為上述聚芳醯胺樹脂，例如可列舉下述式(20)所表示之化合物。再者，下述式中，n為重複單位，表示2以上之整數。
作為由上述式(1)~(17)及(20)所表示之聚醯亞胺樹脂或聚芳醯胺樹脂所構成之基材，可使用市售品。作為由上述聚醯亞胺樹脂所構成之基材之市售品，例如可列舉三菱瓦斯化學公司製造之Neoprim等，作為由上述聚芳醯胺樹脂所構成之基材之市售品，例如可列舉東麗公 司製造之Mictron等。
又，作為由上述式(1)~(17)及(20)所表示之聚醯亞胺樹脂或聚芳醯胺樹脂所構成之基材，亦可使用藉由公知之方法而合成者。例如，上述式(1)所表示之聚醯亞胺樹脂之合成方法記載於日本特開2009-132091中，具體而言，可藉由使下述式(21)所表示之4,4'-六氟亞丙基雙鄰苯二甲酸二酐(FPA)與2,2'-雙(三氟甲基)-4,4'-二胺基聯苯(TFDB)發生反應而獲得。
上述聚醯亞胺樹脂或聚芳醯胺樹脂之重量平均分子量較佳為3000~50萬之範圍，更佳為5000~30萬之範圍，進而較佳為1萬~20萬之範圍。若重量平均分子量為3000以下，則存在無法獲得充分之強度之情況，若超過50萬，則黏度會上升，而溶解性會降低，故而存在無法獲得表面平滑且膜厚均勻之基材之情況。再者，於本說明書中，重量平均分子量係指藉由凝膠滲透層析法(GPC)所測得之聚苯乙烯換算值。
上述聚醯亞胺樹脂及聚芳醯胺樹脂之中，就具有優異之透明性之方面而言，較佳為具有不易引起分子內或分子間之電荷移動之結構的聚醯亞胺樹脂或聚芳醯胺樹脂，具體而言，可列舉：上述式(1)~(8)等氟化聚醯亞胺樹脂、上述式(9)~(12)等具有脂環結構之聚醯亞胺樹脂、上述式(20)等具有鹵素基之聚芳醯胺樹脂。
又，於上述式(1)~(8)等氟化聚醯亞胺樹脂中，由於具有經氟化之結構，故而具有較高之耐熱性，亦不會因製造由聚醯亞胺樹脂所構成之基材時之熱而被著色，因此具有優異之透明性。
關於透光性樹脂基材11，就可將硬塗層12之鉛筆硬度設為5H以上之觀點而言，較佳為使用上述式(1)~(8)等所表示之氟化聚醯亞胺樹脂、上述式(20)等具有鹵素基之聚芳醯胺樹脂、或由該等樹脂之混合物所構成之基材。其中，關於上述鉛筆硬度，就可賦予7H以上之極其優異之硬度之方面而言，更佳為使用由上述式(1)所表示之聚醯亞胺樹脂所構成之基材。
作為醯化纖維素樹脂，例如可列舉：三乙酸纖維素樹脂、二乙酸纖維素酯樹脂。作為環烯烴樹脂，例如可列舉：降莰烯系單體及單環環烯烴單體等聚合物。
作為三乙醯纖維素樹脂，除了純粹之三乙醯纖維素以外，亦可為亦併用乙酸以外之成分作為與乙酸丙酸纖維素、乙酸丁酸纖維素之類的纖維素形成酯之脂肪酸者。又，亦可視需要於該等三乙醯纖維素中添加雙乙醯纖維素等其他纖維素低級脂肪酸酯、或塑化劑、紫外線吸收劑、易滑劑等各種添加劑。
作為聚碳酸酯樹脂，例如可列舉：以雙酚類(雙酚A等)為基礎之芳香族聚碳酸酯樹脂、二乙二醇雙(烯丙基碳酸酯)等脂肪族聚碳酸酯樹脂等。
作為丙烯酸酯系樹脂，例如可列舉：聚(甲基)丙烯酸甲酯樹脂、聚(甲基)丙烯酸乙酯樹脂、(甲基)丙烯酸甲酯-(甲基)丙烯酸丁酯共聚物 等。
作為聚酯樹脂，例如可列舉：以聚對苯二甲酸乙二酯、聚對苯二甲酸丙二酯、聚對苯二甲酸丁二酯、聚萘二甲酸乙二酯之至少1種作為構成成分之樹脂等。
透光性樹脂基材11之厚度並無特別限定，較佳為10μm以上且55μm以下。若透光性樹脂基材11之厚度未達10μm，則光學膜之翹曲變大，又，有硬度亦變得不充分而無法將下述鉛筆硬度設為4H以上之虞，進而，於利用輥對輥(Roll to Roll)而製造光學膜之情形時，變得易於產生皺褶，故而有導致外觀之惡化之虞。另一方面，若透光性樹脂基材11之厚度超過55μm，則有光學膜之摺疊性能變得不充分，而無法滿足下述摺疊試驗之必要條件之情況，又，光學膜變重，於輕量化之方面而言欠佳。透光性樹脂基材11之厚度意指使用厚度測定裝置(製品名「Digimatic Indicator IDF-130」，Mitutoyo公司製造)測定透光性樹脂基材11之10個部位之厚度而得之其算術平均值。
<<硬塗層>>
硬塗層12具有多個第1硬塗層13、與硬度低於第1硬塗層13之第2硬塗層14。第1硬塗層13及第2硬塗層14之硬度可藉由測定馬氏硬度而確認。於本說明書中，所謂「馬氏硬度」係指藉由利用奈米壓痕法之硬度測定，將壓頭壓入500nm時之硬度。再者，於本說明書中，利用上述奈米壓痕法之馬氏硬度之測定係使用HYSITRON(海思創)公司製造之「TI950 TriboIndenter」而進行。即，於以下之測定條件下，自第1硬塗層13及第2硬塗層14之側面分別將作為上述壓頭之Berkovich壓頭(三角錐)壓入500 nm，並保持一定時間而進行殘留應力之緩和之後，解除負載，計測緩和後之最大負載，使用該最大負載Pmax(μN)及深度500nm之凹陷面積A(nm2)，由Pmax/A算出馬氏硬度。馬氏硬度係設為對10個部位進行測定而獲得之值之算術平均值。
(測定條件)
‧負載速度：10nm/s
‧保持時間：5秒
‧負載卸載速度：10nm/s
‧測定溫度：25℃
第1硬塗層13係用以對光學膜10賦予硬度之層，第1硬塗層13之剖面中央之馬氏硬度較佳為500MPa以上且未達1000MPa。藉由將第1硬塗層13之馬氏硬度設為上述範圍，可將上述第1區域之鉛筆硬度設為4H以上。第1硬塗層13之剖面中央之馬氏硬度之下限較佳為600MPa以上，又，上限較佳為950MPa以下。
作為使第1硬塗層13之馬氏硬度大於第2硬塗層14之馬氏硬度之方法，例如可列舉以使下述二氧化矽(silica)粒子之含量高於第1硬塗層側之方式控制該含量之方法等。
第2硬塗層14係用以賦予如上所述之耐久摺疊性及耐擦傷性之層，第2硬塗層14之剖面中央之馬氏硬度較佳為350MPa以上且600MPa以下。藉由將第2硬塗層14之馬氏硬度設為上述範圍，可具有充分之耐久摺疊性能，並且可賦予在一面利用#0000號之鋼絲絨施加1kg/cm2之負載，一面使硬塗層之表面往返摩擦3500次之耐鋼絲絨試驗中不會產生損傷 之極其優異之耐擦傷性。上述第2硬塗層14之剖面中央之馬氏硬度之下限更佳為375MPa，上限更佳為575MPa。
第1硬塗層13係介隔間隙15而相互隔開。作為第1硬塗層13之形狀，並無特別限定，例如可列舉：條紋狀、點狀、塊狀、格子狀等。該等之中，就連續塗佈時之生產性之觀點而言，較佳為條紋狀。
圖1所示之第1硬塗層13成為如圖2所示之條紋狀。相當於第1區域10B之寬度的第1硬塗層13之最小寬度較佳為10mm以上且1000mm以下。若第1硬塗層13之最小寬度未達10mm，則有於具備該光學膜及觸控面板之影像顯示裝置中無法獲得充分之硬度之虞，又，若該寬度超過1000mm，則有在具備該光學膜及觸控面板之影像顯示裝置之加工時無法獲得充分之產率之虞。第1硬塗層13之最小寬度之下限更佳為20mm以上，上限更佳為800mm以下。
相當於第2區域10C之寬度的間隙15之最大寬度較佳為2mm以上且50mm以下。若間隙15之最大寬度未達2mm，則有進行耐久摺疊試驗時於第1區域產生破裂或斷裂之虞，又，若該寬度超過50mm，則有於具備該光學膜及觸控面板之影像顯示裝置中無法獲得充分之硬度之虞。間隙15之最大寬度之下限更佳為5mm以上，上限更佳為20mm以下。本說明書中之「間隙」意指夾於第1硬塗層間之空間。
第1硬塗層13至少存在於第1區域10B，第1硬塗層13間之間隙15存在於第2區域10C。藉由使間隙15存在於第2區域10C，且如下所述般將第2硬塗層14埋入至間隙15，可形成硬度低於第1區域10B之第2區域10C。
於第1區域10B，第1硬塗層13之膜厚較佳為成為一定厚度。第1區域10B之第1硬塗層13之膜厚較佳為2μm以上且20μm以下。若第1區域之第1硬塗層之膜厚未達2μm，則有硬塗層之硬度降低之虞，又，若超過20μm，則有因厚度過厚而加工性變差之虞。第1硬塗層13之膜厚係設為使用掃描型電子顯微鏡(SEM)拍攝第1硬塗層13之剖面，於該剖面之影像中測定第1硬塗層13之20個部位之膜厚而得之該20個部位之膜厚之算術平均值。
如圖3所示，於第2區域10C，因存在間隙15，而存在第2區域10C內之第1硬塗層13之膜厚成為第1區域10B中之第1硬塗層13之膜厚之50%以下之區域10D。該區域10D之寬度較佳為0.5mm以上。藉由將區域10D之寬度設為0.5mm以上，埋入至第1硬塗層13間之第2硬塗層14變多，故而可進一步提高耐久摺疊性能。區域10D之寬度之下限更佳為1mm以上，上限更佳為45mm以下。該區域10D係設為亦包含第2區域10C內之不存在第1硬塗層13之隔開部位者。
於第2區域10C內，存在第1硬塗層13之一部分，第1硬塗層13之膜厚隨著朝向第1硬塗層13之隔開部位而逐漸地減小。藉由以此方式使第1硬塗層13之膜厚逐漸地減小，第1硬塗層13與第2硬塗層14之界面變得難以視認。
第2硬塗層14於第1區域10B中設置於第1硬塗層13上，於第2區域10C中被埋入至第1硬塗層13間之間隙。第1區域10B中之第2硬塗層14之膜厚較佳為0.5μm以上且4μm以下。若第1區域之第2硬塗層之膜厚未達0.5μm，則有耐擦傷性降低之虞，又，若超過4μm，則 有第2硬塗層用組成物之塗佈變得困難之虞。又，第2區域10C之第2硬塗層14之膜厚較佳為0.5μm以上且20μm以下。若第2區域之第2硬塗層之膜厚未達0.5μm，則有耐擦傷性降低之虞，又，若超過20μm，則有無法獲得充分之彎曲性之虞。第2硬塗層14之膜厚係藉由與第1硬塗層13之膜厚相同之方法而進行測定。
<<第1硬塗層>>
第1硬塗層13較佳為含有黏合劑樹脂、及分散於黏合劑樹脂中之粒子。藉由使粒子分散於黏合劑樹脂中，可提高硬度。此外，第1硬塗層13亦可含有紫外線吸收劑。
<黏合劑樹脂>
黏合劑樹脂包含聚合性化合物(硬化性化合物)之聚合物(硬化物)。聚合性化合物係於分子內至少具有1個聚合性官能基者。作為聚合性官能基，例如可列舉：(甲基)丙烯醯基、乙烯基、烯丙基等乙烯性不飽和基。再者，所謂「(甲基)丙烯醯基」意指包括「丙烯醯基」及「甲基丙烯醯基」之兩者。
作為聚合性化合物，較佳為多官能(甲基)丙烯酸酯。作為多官能(甲基)丙烯酸酯，例如可列舉：三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、三丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、新戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、二(三羥甲基丙烷)四(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、三新戊四醇八(甲基)丙烯酸酯、四新戊 四醇十(甲基)丙烯酸酯、異三聚氰酸三(甲基)丙烯酸酯、異三聚氰酸二(甲基)丙烯酸酯、聚酯三(甲基)丙烯酸酯、聚酯二(甲基)丙烯酸酯、雙酚二(甲基)丙烯酸酯、雙甘油四(甲基)丙烯酸酯、金剛烷二醇二(甲基)丙烯酸酯、異莰二醇二(甲基)丙烯酸酯、二環戊烷二醇二(甲基)丙烯酸酯、三環癸烷二醇二(甲基)丙烯酸酯、二(三羥甲基丙烷)四(甲基)丙烯酸酯、或利用PO、EO、己內酯等將該等進行改質而成者。
該等之中，就可適宜地滿足上述馬氏硬度之方面而言，較佳為3~6官能者，例如較佳為新戊四醇三丙烯酸酯(PETA)、二新戊四醇六丙烯酸酯(DPHA)、新戊四醇四丙烯酸酯(PETTA)、二新戊四醇五丙烯酸酯(DPPA)、三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、三新戊四醇八(甲基)丙烯酸酯、四新戊四醇十(甲基)丙烯酸酯等。
作為聚合性化合物，除了多官能(甲基)丙烯酸酯以外，亦可包含上述以外之聚合性單體或聚合性低聚物等。作為聚合性單體或聚合性低聚物，例如可列舉：於分子中具有聚合性官能基之(甲基)丙烯酸酯單體、或於分子中具有聚合性官能基之(甲基)丙烯酸酯低聚物。作為聚合性單體、或聚合性低聚物，例如可列舉：(甲基)丙烯酸胺酯、聚酯(甲基)丙烯酸酯、環氧(甲基)丙烯酸酯、三聚氰胺(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸聚氟烷基酯、聚矽氧(甲基)丙烯酸酯等單體或低聚物。該等聚合性單體或聚合性低聚物可使用1種，或將2種以上組合而使用。其中，較佳為多官能(6官能以上)且重量平均分子量為1000~1萬之(甲基)丙烯酸胺酯。
再者，為了進行硬度或組成物之黏度調整、密接性之改善等，亦可進而包含單官能(甲基)丙烯酸酯單體。作為上述單官能(甲基)丙烯 酸酯單體，例如可列舉：丙烯酸羥基乙酯(HEA)、甲基丙烯酸環氧丙酯、甲氧基聚乙二醇(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸異硬脂酯、琥珀酸2-丙烯醯氧基乙基酯、丙烯醯基嗎啉、N-丙烯醯氧基乙基六氫鄰苯二甲醯亞胺、丙烯酸環己酯、丙烯酸四氫呋喃酯、丙烯酸異莰酯、丙烯酸苯氧基乙酯、及丙烯酸金剛烷基酯等。
上述聚合性單體之重量平均分子量就提高第1硬塗層之硬度之觀點而言，較佳為未達1000，更佳為200~800。又，上述聚合性低聚物之重量平均分子量較佳為1000~2萬，更佳為1000~1萬，進而較佳為2000~7000。再者，於本說明書中，上述聚合性單體及聚合性低聚物之重量平均分子量係藉由GPC法所測得之聚苯乙烯換算之重量平均分子量。
<粒子>
作為粒子，只要可提高硬度，則無特別限定，就獲得優異之硬度之觀點而言，較佳為二氧化矽粒子。二氧化矽粒子之中，較佳為反應性二氧化矽粒子。上述反應性二氧化矽粒子係可於其與上述多官能(甲基)丙烯酸酯之間構成交聯結構之二氧化矽粒子，藉由含有該反應性二氧化矽粒子，可充分提高上述第1硬塗層之硬度。
上述反應性二氧化矽粒子較佳為於其表面具有反應性官能基，作為該反應性官能基，例如適宜地使用上述聚合性官能基。
作為上述反應性二氧化矽粒子，並無特別限定，可使用先前公知者，例如可列舉日本特開2008-165040號公報所記載之反應性二氧化矽粒子等。又，作為上述反應性二氧化矽粒子之市售品，例如可列舉：日產化學工業公司製造之MIBK-SD、MIBK-SDMS、MIBK-SDL、MIBK-SDZL； 日揮觸媒化成公司製造之V8802、V8803等。
又，上述二氧化矽粒子可為球狀二氧化矽粒子，較佳為異型二氧化矽粒子。亦可將球狀二氧化矽粒子與異型二氧化矽粒子進行混合。再者，本說明書中所謂「球狀二氧化矽粒子」意指例如真球狀、橢圓球狀等之二氧化矽粒子，又，「異型二氧化矽粒子」意指馬鈴薯狀之表面具有無規之凹凸之形狀之二氧化矽粒子。關於上述異型二氧化矽粒子，由於其表面積大於球狀二氧化矽粒子，故而藉由含有此種異型二氧化矽粒子，與上述多官能(甲基)丙烯酸酯等之接觸面積變大，可使上述硬塗層之硬度(鉛筆硬度)變得更優異。是否為上述異型二氧化矽粒子可藉由上述第1硬塗層之利用穿透式電子顯微鏡(TEM)或掃描穿透式電子顯微鏡(STEM)所進行之剖面觀察而確認。
上述二氧化矽粒子之平均粒徑較佳為5nm以上且200nm以下。若未達5nm，則有粒子本身之製造變得困難，而粒子彼此發生凝集之情況，又，有極難成為異形之情況，進而有於上述塗佈前之油墨之階段，異形二氧化矽粒子之分散性較差而發生凝集之情況。另一方面，若上述異形二氧化矽粒子之平均粒徑超過200nm，則有於上述硬塗層上形成較大之凹凸，而產生霧度上升等異常之情況。於二氧化矽粒子為球形二氧化矽粒子之情形時，二氧化矽粒子之平均粒徑係由使用穿透式電子顯微鏡(TEM)或掃描穿透式電子顯微鏡(STEM)所拍攝到之粒子之剖面之影像對20個粒子之粒徑進行測定，並設為20個粒子之粒徑之算術平均值。又，於二氧化矽粒子為異形二氧化矽粒子之情形時，二氧化矽粒子之平均粒徑係由使用穿透式電子顯微鏡(TEM)或掃描穿透式電子顯微鏡(STEM)所拍攝到 之上述硬塗層之剖面之影像對異形二氧化矽粒子之外周之2點間距離之最大值(長徑)及最小值(短徑)進行測定，並進行平均化而求出粒徑，設為20個粒子之粒徑之算術平均值。
可藉由控制上述粒子之大小及摻合量，而控制第1硬塗層13之硬度(馬氏硬度)。例如，於形成第1硬塗層13之情形時，上述二氧化矽粒子之直徑為5nm以上且200nm以下，相對於上述聚合性化合物100質量份，較佳為25~60質量份。
<紫外線吸收劑>
如下所述，光學膜尤其適宜地用於可摺疊之智慧型手機或平板終端之類的行動終端，此種行動終端多數情況下於室外使用，因此存在配置於較光學膜更靠近顯示元件側之偏光元件暴露於紫外線下而易於劣化之問題。然而，由於硬塗層配置於偏光元件之顯示畫面側，故而若於第1硬塗層中含有紫外線吸收劑，則可適宜地防止由偏光元件暴露於紫外線下所引起之劣化。再者，上述紫外線吸收劑(UVA)亦可含有於上述透光性樹脂基材中。於該情形時，紫外線吸收劑(UVA)亦可不含有於上述第1硬塗層中。
作為紫外線吸收劑，例如可列舉：三系紫外線吸收劑、二苯甲酮系紫外線吸收劑、及苯并***系紫外線吸收劑等。
作為上述三系紫外線吸收劑，例如可列舉：2-(2-羥基-4-[1-辛氧基羰基乙氧基]苯基)-4,6-雙(4-苯基苯基)-1,3,5-三、2-[4-[(2-羥基-3-十二烷基氧基丙基)氧基]-2-羥基苯基]-4,6-雙(2,4-二甲基苯基)-1,3,5-三、2,4-雙[2-羥基-4-丁氧基苯基]-6-(2,4-二丁氧基苯基)-1,3,5-三、2-[4-[(2-羥基-3-十三烷基氧基丙基)氧基]-2-羥基苯基]-4,6-雙(2,4-二甲基苯基)-1,3,5-三、及 2-[4-[(2-羥基-3-(2'-乙基)己基)氧基]-2-羥基苯基]-4,6-雙(2,4-二甲基苯基)-1,3,5-三等。作為市售之三系紫外線吸收劑，例如可列舉：TINUVIN460、TINUVIN477(均為BASF公司製造)；LA-46(ADEKA公司製造)等。
作為上述二苯甲醚系紫外線吸收劑，例如可列舉：2-羥基二苯甲酮、2,4-二羥基二苯甲酮、2,2'-二羥基-4,4'-二甲氧基二苯甲酮、2,2',4,4'-四羥基二苯甲酮、2-羥基-4-甲氧基二苯甲酮、羥基甲氧基二苯甲酮磺酸及其三水合物、羥基甲氧基二苯甲酮磺酸鈉等。作為市售之二苯甲酮系紫外線吸收劑，例如可列舉CHMASSORB81/FL(BASF公司製造)等。
作為上述苯并***系紫外線吸收劑，例如可列舉：3-[3-第三丁基-4-羥基-5-(5-氯-2H-苯并***-2-基)苯基]丙酸2-乙基己酯、2-(2H-苯并***-2-基)-6-(直鏈及支鏈十二烷基)-4-甲基苯酚、2-[5-氯(2H)-苯并***-2-基]-4-甲基-6-(第三丁基)苯酚、2-(2H-苯并***-2-基)-4,6-二第三戊基苯酚、2-(2'-羥基-5'-甲基苯基)苯并***、2-(2'-羥基-3',5'-二第三丁基苯基)苯并***、2-(2'-羥基-3'-第三丁基-5'-甲基苯基)苯并***、2-(2'-羥基-3',5'-二第三丁基苯基)-5-氯苯并***、2-(2'-羥基-3'-(3",4",5",6"-四氫鄰苯二甲醯亞胺甲基)-5'-甲基苯基)苯并***、2,2-亞甲基雙(4-(1,1,3,3-四甲基丁基)-6-(2H-苯并***-2-基)苯酚)、及2-(2'-羥基-3'-第三丁基-5'-甲基苯基)-5-氯苯并***等。作為市售之苯并***系紫外線吸收劑，例如可列舉：KEMISORB71D、KEMISORB79(均為CHEMIPRO KASEI公司製造)；JF-80、JAST-500(均為城北化學公司製造)；ULS-1933D(一方公司製造)；RUVA-93(大塚化學公司製造)等。
紫外線吸收劑之中，適宜地使用三系紫外線吸收劑、苯 并***系紫外線吸收劑。紫外線吸收劑較佳為與構成硬塗層之樹脂成分之溶解性較高，又，較佳為上述耐久摺疊試驗後之滲出較少。紫外線吸收劑較佳為經聚合化或低聚化。作為紫外線吸收劑，較佳為苯并***、三、具有二苯甲酮骨架之聚合物或低聚物，具體而言，較佳為以任意之比率將苯并***或具有二苯甲酮骨架之(甲基)丙烯酸酯與甲基丙烯酸甲酯(MMA)進行熱共聚合而成者。再者，於將光學膜應用於有機發光二極體之情形時，紫外線吸收劑亦可發揮保護OLED免受紫外線影響之作用。
作為紫外線吸收劑之含量，並無特別限定，較佳為相對於第1硬塗層用組成物之固形物成分100質量份為1~6質量份。若未達1質量份，則有無法充分地獲得如上所述之使硬塗層中含有紫外線吸收劑之效果之情況，若超過6質量份，則有上述硬塗層產生顯著之著色或強度降低之情況。上述紫外線吸收劑之含量之更佳之下限為2質量份，更佳之上限為5質量份。
<<第2硬塗層>>
第2硬塗層14含有樹脂。第2硬塗層14除了樹脂以外，亦可含有紫外線吸收劑。
<樹脂>
樹脂包含聚合性化合物(硬化性化合物)之聚合物(硬化物)。作為聚合性化合物，可使用與第1硬塗層13之欄中所說明之聚合性化合物相同者，因而此處省略說明。
作為聚合性化合物，除了多官能(甲基)丙烯酸酯單體以外，亦可包含多官能(甲基)丙烯酸胺酯及/或多官能環氧(甲基)丙烯酸酯等。
<紫外線吸收劑>
作為紫外線吸收劑，可使用與第1硬塗層之欄中所說明之紫外線吸收劑相同者，因而此處省略說明。
<其他光學膜>
關於圖1所示之光學膜10，第2區域10C中之第2硬塗層14之表面14A凹陷，但於將光學膜用作具備觸控面板之影像顯示裝置之最外表面之情形時，如圖5(A)所示之光學膜30般，第2區域30C較佳為第2硬塗層14之表面14A平坦。藉由使第2硬塗層14之表面14A平坦，手指接觸表面14A時之觸感變得良好。再者，第1區域30B之構成係與第1區域10B相同，第2區域30C除了上述以外與第2區域10C相同。
又，關於圖1所示之光學膜10，於第2區域10C內存在第1硬塗層13之一部分，但亦可如圖5(B)所示之光學膜40般，於第2區域40C內不存在第1硬塗層13之一部分。再者，第1區域40B之構成係與第1區域10B相同，第2區域40C除了上述以外與第2區域10C相同。
<<<光學膜之製造方法>>>
光學膜10例如可藉由以下方式而製作。首先，如圖6(A)所示，於透光性樹脂基材11之一面11A上每隔特定之間隔配置遮罩16。配置遮罩16之後，於透光性樹脂基材11之一面11A上，利用棒式塗佈機等塗佈裝置而塗佈第1硬塗層用組成物，從而如圖6(B)所示，形成第1硬塗層用組成物之塗膜17。作為第1硬塗層用組成物之塗佈方法，並無特別限定，可列舉：棒式塗佈法、凹版印刷法、網版印刷法、噴霧印刷法等。又，作為第1硬塗層13之形成方法，亦可使用光微影法。
<<第1硬塗層用組成物>>
第1硬塗層用組成物含有聚合性化合物及粒子。除此以外，第1硬塗層用組成物亦可視需要含有紫外線吸收劑、溶劑、聚合起始劑。
第1硬塗層用組成物之總固形物成分較佳為25~55%。若低於25%，則有殘留溶劑殘留，或發生白化之虞。若超過55%，則有第1硬塗層用組成物之黏度提高，塗佈性降低，而表面產生不均或條紋之情況。上述固形物成分更佳為30~50%。
<溶劑>
作為上述溶劑，可列舉：醇(例如，甲醇、乙醇、丙醇、異丙醇、正丁醇、第二丁醇、第三丁醇、苄醇、PGME、乙二醇、二丙酮醇)、酮(例如，丙酮、甲基乙基酮、甲基異丁基酮、環戊酮、環己酮、庚酮、二異丁基酮、二乙基酮、二丙酮醇)、酯(乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸丁酯、乙酸正丙酯、乙酸異丙酯、甲酸甲酯、PGMEA)、脂肪族烴(例如，己烷、環己烷)、鹵化烴(例如，二氯甲烷、氯仿、四氯化碳)、芳香族烴(例如，苯、甲苯、二甲苯)、醯胺(例如，二甲基甲醯胺、二甲基乙醯胺、N-甲基吡咯啶酮)、醚(例如，二***、二烷、四氫呋喃)、醚醇(例如，1-甲氧基-2-丙醇)、碳酸酯(碳酸二甲酯、碳酸二乙酯、碳酸甲酯乙酯)等。該等溶劑可單獨使用，亦可將2種以上併用。其中，作為上述溶劑，就可使上述聚合性單體及/或聚合性低聚物等樹脂成分、以及其他添加劑溶解或分散，而適宜地塗佈上述硬塗層用組成物之方面而言，較佳為甲基異丁基酮、甲基乙基酮。
<聚合起始劑>
聚合起始劑係藉由光照射發生分解而產生自由基，從而使光聚合性化合物之聚合(交聯)開始或進行之成分。
聚合起始劑只要可藉由光照射而放出使自由基聚合開始進行之物質，則無特別限定。作為聚合起始劑，並無特別限定，可使用公知者，作為具體例，例如可列舉：苯乙酮類、二苯甲酮類、米其勒苯甲醯基苯甲酸酯、α-戊基肟酯、9-氧硫類、苯丙酮類、二苯基乙二酮類、安息香類、醯基氧化膦類。又，較佳為混合光敏劑而使用，作為其具體例，例如可列舉：正丁胺、三乙胺、聚正丁基膦等。
作為上述聚合起始劑，於上述黏合劑樹脂為具有自由基聚合性不飽和基之樹脂系之情形時，較佳為將苯乙酮類、二苯甲酮類、9-氧硫類、安息香、安息香甲醚等單獨使用，或混合而使用。
形成第1硬塗層用組成物之塗膜17之後，將透光性樹脂基材11上之遮罩16去除。藉此，如圖6(C)所示，若干第1硬塗層用組成物流入至原本存在遮罩16之區域，且膜厚朝向各塗膜17間之間隙15而逐漸變小。
其後，如圖6(D)所示，藉由各種公知方法、例如於30℃以上且120℃以下之溫度下將塗膜17加熱10秒以上12秒鐘，藉此使其乾燥，而使溶劑蒸發。
使塗膜17乾燥之後，如圖7(A)所示，對第1硬塗層用組成物之塗膜17照射紫外線等游離輻射，而使第1硬塗層用組成物之塗膜17半硬化(半固化)。本說明書中所謂「半硬化」意指若照射光則硬化實質上進行。但是，於該階段，亦可使第1硬塗層用組成物之塗膜17完全硬化(全 固化)。本說明書中所謂「完全硬化」意指即便再照射光，硬化亦實質上不進行。又，作為游離輻射，可列舉：可見光線、紫外線、X射線、電子束、α射線、β射線、及γ射線。
使塗膜17半硬化之後，如圖7(B)所示，於塗膜17上，利用棒式塗佈機等塗佈裝置而塗佈第2硬塗層用組成物，從而形成第2硬塗層用組成物之塗膜18。
<<第2硬塗層用組成物>>
第2硬塗層用組成物含有聚合性化合物。此外，第2硬塗層用組成物亦可視需要含有紫外線吸收劑、溶劑、聚合起始劑。第2硬塗層用組成物係與第1硬塗層用組成物同樣地，較佳為總固形物成分為25~55%。溶劑及聚合起始劑由於與第1硬塗層用組成物中所說明之溶劑及聚合起始劑相同，故而此處省略說明。
形成第2硬塗層用組成物之塗膜18之後，如圖7(C)所示，藉由各種公知方法、例如於30℃以上且120℃以下之溫度將塗膜18加熱10秒以上12秒鐘，藉此使其乾燥，而使溶劑蒸發。
使塗膜18乾燥之後，如圖7(D)所示，對第2硬塗層用組成物之塗膜18照射紫外線等游離輻射，而使第1硬塗層用組成物之塗膜17及第2硬塗層用組成物之塗膜18完全硬化(全固化)，從而形成第1硬塗層13及第2硬塗層14。藉此，獲得圖1所示之光學膜10。
根據本實施形態，由於第2區域10C之光學膜10之表面10A之硬度低於第1區域10B，故而於第1區域10B，可獲得優異硬度，又，於第2區域10C，將光學膜10摺疊之情形時，可獲得優異之耐久摺疊性。藉 此，可獲得具有優異硬度及優異之耐久摺疊性的光學膜10。
根據本實施形態，由於在第1區域10B存在第1硬塗層13，故而可獲得優異硬度。又，由於在第2區域10C存在第1硬塗層13間之間隙15，且於該間隙15中埋入有硬度低於第1硬塗層13之第2硬塗層14，故而於在第2區域10C將光學膜10摺疊之情形時，可獲得優異之耐久摺疊性。藉此，可獲得具有優異硬度及優異之耐久摺疊性的光學膜10。
<<<偏光板>>>
光學膜10例如可裝入至偏光板而使用。圖8係本實施形態之裝入有光學膜之偏光板之概略構成圖。如圖8所示，偏光板50依序具備作為保護膜而發揮功能之光學膜10、偏光元件51、及保護膜52。偏光元件51形成於透光性基材11之另一面11B。保護膜52設置於與偏光元件51之設置有光學膜10之面為相反之側之面。保護膜52可為相位差膜。
偏光元件51係利用碘或二色性色素進行染色，可列舉經單軸延伸之聚乙烯醇系樹脂膜。作為聚乙烯醇系樹脂，可使用將聚乙酸乙烯酯系樹脂皂化而成者。作為聚乙酸乙烯酯系樹脂，除了作為乙酸乙烯酯之均聚物之聚乙酸乙烯酯以外，可列舉乙酸乙烯酯和可與其進行共聚合之其他單體之共聚物等。作為可與乙酸乙烯酯進行共聚合之其他單體，例如可列舉：不飽和羧酸類、烯烴類、乙烯醚類、不飽和磺酸類、具有銨基之丙烯醯胺類等。
聚乙烯醇系樹脂可經改質，例如亦可使用經醛類改質之聚乙烯醇縮甲醛或聚乙烯醇縮乙醛等。
於將光學膜10與偏光元件51進行積層時，較佳為預先對光 學膜10實施皂化處理。藉由實施皂化處理，與偏光元件51之接著性變得良好。
<<<影像顯示裝置>>>
光學膜10或偏光板50例如可裝入至影像顯示裝置而使用。圖9係本實施形態之影像顯示裝置之概略構成圖。如圖9所示，影像顯示裝置60主要具備具有觸控面板功能之用以顯示影像之顯示元件61、與配置於較顯示元件61更靠近觀察者側之偏光板50。顯示元件61為有機發光二極體(OLED)。再者，顯示元件61雖然成為內部具有觸控面板功能之內嵌式構造，但作為顯示元件，亦可使用不具有觸控面板功能之顯示元件。於該情形時，亦可於顯示元件與偏光板之間配置觸控面板(外嵌式構造)。
光學膜10配置於較顯示面板61更靠近觀察者側，且係以硬塗層12位於較透光性樹脂基材11更靠近觀察者側之方式進行配置。
於影像顯示裝置60中，將光學膜10設置於偏光板50，但並不限定於此，亦可將光學膜10設置於例如亮度提高膜、相位差膜、抗靜電膜等。
[第2實施形態]
以下，一面參照圖式，一面對本發明之第2實施形態之光學膜、偏光板、顯示面板及影像顯示裝置進行說明。圖10係本實施形態之光學膜之概略構成圖，圖11係本實施形態之光學膜之一部分之放大圖，圖12及圖13係示意性地表示本實施形態之光學膜之製造步驟的圖。
<<<<光學膜>>>>
圖10所示之光學膜70係具備透光性樹脂基材71、與設置於透光性樹 脂基材71之一面71A之硬塗層72者。光學膜70之物性由於與光學膜10之物性相同，故而此處省略說明。
光學膜70具有光學膜70之表面70A之硬度各自不同之第1區域70B及第2區域70C。具體而言，關於光學膜70之表面70A之硬度，第2區域70C低於第1區域70B。
<<透光性樹脂基材>>
透光性樹脂基材71由於與透光性樹脂基材11相同，故而此處省略說明。
<<硬塗層>>
硬塗層72具有：具備1個以上之凹部73A之第1硬塗層73、與硬度低於第1硬塗層73之第2硬塗層74。關於硬度，第1硬塗層73之硬度係與第1硬塗層13之硬度相同，又，第2硬塗層74之硬度係與第2硬塗層14之硬度相同，故而此處省略說明。
第1硬塗層73如上所述具有凹部73A。即，如圖11所示，於凹部73A之底面與透光性樹脂基材71之間存在第1硬塗層73之薄膜部73B，於凹部73之兩側存在膜厚較薄膜部73B更厚之厚膜部73C。於第2區域，利用凹部73A而具有第1硬塗層之膜厚成為上述第1區域中之上述第1硬塗層之膜厚之50%以下之區域。作為凹部73A之形狀，並無特別限定，例如可列舉：條紋狀、點狀、塊狀、格子狀等。其等之中，就連續塗佈時之生產性之觀點而言，較佳為條紋狀。
圖10所示之第1硬塗層73之凹部73A及厚膜部73C成為條紋狀。與第1區域70B之寬度相當之厚膜部73C之寬度較佳為10mm以上且1000mm以下。若厚膜部73C之寬度未達10nm，則有於具備該光學膜及 觸控面板之影像顯示裝置中無法獲得充分之硬度之虞，又，若該寬度超過1000mm，則有在具備該光學膜及觸控面板之影像顯示裝置之加工時無法獲得充分之產率之虞。厚膜部73C之寬度之下限更佳為20mm以上，上限更佳為800mm以下。
相當於第2區域70C之寬度的凹部73A之最大寬度較佳為2mm以上且50mm以下。若凹部73A之最大寬度未達2mm，則有進行耐久摺疊試驗時於第1區域產生破裂或斷裂之虞，又，若該最大寬度超過50mm，則有於具備該光學膜及觸控面板之影像顯示裝置中無法獲得充分之硬度之虞。凹部73A之最大寬度之下限更佳為5mm以上，上限更佳為20mm以下。
第1硬塗層73至少存在於第1區域70B，凹部73A存在於第2區域70C。藉由使凹部73A存在於第2區域70C，且如下所述將第2硬塗層74埋入至凹部73A，可形成硬度低於第1區域70B之第2區域70C。
於第1區域70B，較佳為第1硬塗層73之厚膜部73C之膜厚成為一定。第1區域70B之第1硬塗層73之厚膜部73C之膜厚較佳為2μm以上且20μm以下。若第1區域之第1硬塗層之厚膜部之膜厚未達2μm，則有硬塗層之硬度降低之虞，又，若超過20μm，則有因厚度過厚而加工性變差之虞。第1硬塗層73之厚膜部73C之膜厚係藉由與第1硬塗層13之膜厚相同之方法進行測定。
於第2區域70C內，如圖11所示，藉由存在凹部73A而存在第2區域70C內之第1硬塗層73之膜厚(薄膜部73B之膜厚)成為第1區域70B中之第1硬塗層73之膜厚之50%以下之區域70D。該區域70D之 寬度較佳為0.5mm以上。藉由將區域70D之寬度設為1mm以上，埋入至第1硬塗層73間之第2硬塗層74變多，因此可進一步提高耐久摺疊性能。區域70D之寬度之下限更佳為1mm以上，上限更佳為45mm以下。
於第2區域70C內，存在第1硬塗層73之薄膜部73B，薄膜部73B之膜厚隨著朝向第1硬塗層73之凹部73A之中央部而逐漸地減小。藉由以此方式使薄膜部73B之膜厚逐漸地減小，變得難以視認到第1硬塗層73與第2硬塗層74之界面。
第2硬塗層74係於第1區域70B設置於厚膜部73C上，於第2區域70C被埋入至凹部73A。第1區域70B之第2硬塗層74之膜厚較佳為0.5μm以上且4μm以下。若第1區域之第2硬塗層之膜厚未達0.5μm，則有耐擦傷性降低之虞，又，若超過4μm，則有第2硬塗層用組成物之塗佈變得困難之虞。第2硬塗層74之膜厚係藉由與第1硬塗層13之膜厚相同之方法進行測定。又，第2區域70C之第2硬塗層74之膜厚較佳為0.5μm以上且20μm以下。若第2區域之第2硬塗層之膜厚未達0.5μm，則有耐擦傷性降低之虞，又，若超過20μm，則有無法獲得充分之彎曲性之虞。
<其他光學膜>
於圖10所示之光學膜70中，第2區域70C之第2硬塗層74之表面74A凹陷，但於將光學膜用作具備觸控面板之影像顯示裝置之最外表面之情形時，與光學膜30同樣地，第2區域較佳為第2硬塗層之表面平坦。藉由使第2硬塗層之表面平坦，手指接觸表面時之感觸良好。
又，於圖10所示之光學膜70中，於第2區域70C內存在第 1硬塗層73之一部分，但如光學膜40般，於第2區域內亦可不存在第1硬塗層之一部分。
<<<光學膜之製造方法>>>
光學膜70例如可如下所述般進行製作。首先，如圖12(A)所示，於透光性樹脂基材71之一面71A上，形成具有凹部75A之第1硬塗層用組成物之塗膜75。此處，具有凹部75A之塗膜75可藉由與第1實施形態中所說明之方法相同之方法而形成。具體而言，如第1實施形態中所述般，去除遮罩時第1硬塗層用組成物會流入至原本存在遮罩之區域，因此藉由使遮罩之寬度窄於第1實施形態，利用去除遮罩時流入之第1硬塗層用組成物而各塗膜彼此相連，從而可形成具有凹部75A之塗膜75。又，亦可藉由較第1實施形態增加第1硬塗層用組成物之塗佈量，而形成此種具有凹部75A之塗膜75。又，亦可利用凹版塗佈機等塗佈裝置而形成具有凹部75A之塗膜75。第1硬塗層用組成物由於與第1實施形態相同，故而此處省略說明。
形成第1硬塗層用組成物之塗膜75之後，如圖12(B)所示，藉由各種公知方法、例如於30℃以上且120℃以下之溫度下將塗膜75加熱10秒以上12秒鐘，藉此使其乾燥，而使溶劑蒸發。
使塗膜75乾燥之後，如圖12(C)所示，對第1硬塗層用組成物之塗膜75照射紫外線等游離輻射，而使第1硬塗層用組成物之塗膜75半硬化(半固化)。再者，於該階段中，亦可使第1硬塗層用組成物之塗膜75完全硬化(全固化)。
使塗膜75半硬化之後，如圖13(A)所示，於塗膜75上，利用棒式塗佈機等塗佈裝置而塗佈第2硬塗層用組成物，從而形成第2硬 塗層用組成物之塗膜76。第2硬塗層用組成物由於與第1實施形態相同，故而此處省略說明。
形成第2硬塗層用組成物之塗膜76之後，如圖13(B)所示，藉由各種公知方法、例如於30℃以上且120℃以下之溫度下將塗膜76加熱10秒以上12秒鐘，藉此使其乾燥，而使溶劑蒸發。
使塗膜76乾燥之後，如圖13(C)所示，對第2硬塗層用組成物之塗膜76照射紫外線等游離輻射，而使第1硬塗層用組成物之塗膜75及第2硬塗層用組成物之塗膜76完全硬化(全固化)，從而形成第1硬塗層73及第2硬塗層74。
根據本實施形態，由於第2區域70C之光學膜70之表面70A之硬度低於第1區域70B，故而於第1區域70B，可獲得優異硬度，又，於在第2區域70C將光學膜70摺疊之情形時，可獲得優異之耐久摺疊性。藉此，可獲得具有優異硬度及優異之耐久摺疊性的光學膜70。
根據本實施形態，由於在第1區域70B存在第1硬塗層73，故而可獲得優異硬度。又，由於在第2區域70C存在第1硬塗層73間之凹部73A，且於該凹部73A中埋入有硬度低於第1硬塗層73之第2硬塗層74，故而於在第2區域70C中將光學膜70摺疊之情形時，可獲得優異之耐久摺疊性。藉此，可獲得具有優異硬度及優異之耐久摺疊性的光學膜70。
光學膜30、40、70可裝入至與第1實施形態所示之偏光板50、影像顯示裝置60相同之構造之偏光板、影像顯示裝置而使用。
[實施例]
為了詳細地對本發明進行說明，以下，列舉實施例進行說 明，但本發明並不限定於該等記載。再者，下述「固形物成分100%換算值」係將溶劑稀釋品中之固形物成分設為100%時之值。
<第1硬塗層用組成物之製備>
首先，以成為下述所示之組成之方式摻合各成分，而獲得第1硬塗層用組成物。
(第1硬塗層用組成物)
‧二新戊四醇五丙烯酸酯與二新戊四醇六丙烯酸酯之混合物(製品名「M403」，東亞合成公司製造)：25質量份
‧二新戊四醇EO改質六丙烯酸酯(製品名「A-DPH-6E」，新中村化學公司製造)：25質量份
‧異形二氧化矽粒子(平均粒徑25nm，日揮觸媒化成公司製造)：50質量份(固形物成分100%換算值)
‧光聚合起始劑(1-羥基環己基苯基酮，製品名「Irgacure(註冊商標)184」，BASF JAPAN公司製造)：4質量份
‧氟系調平劑(製品名「F568」，DIC公司製造)：0.2質量份(固形物成分100%換算值)
‧甲基異丁基酮：150質量份
(第2硬塗層用組成物)
‧丙烯酸胺酯(urethane acrylate，製品名「UX5000」，日本化藥公司製造)：25質量份
‧二新戊四醇五丙烯酸酯與二新戊四醇六丙烯酸酯之混合物(製品名「M403」，東亞合成公司製造)：50質量份
‧多官能丙烯酸酯聚合物(製品名「Acritt 8KX-012C」，大成精密化學公司製造)：25質量份(固形物成分100%換算值)
‧防污劑(製品名「BYKUV3500」，BYK-Chemie公司製造)：1.5質量份(固形物成分100%換算值)
‧光聚合起始劑(1-羥基環己基苯基酮，製品名「Irgacure(註冊商標)184」，BASF JAPAN公司製造)：4質量份
‧甲基異丁基酮：150質量份
<實施例1>
準備厚度30μm及寬度300mm之由上述式(1)所表示之聚醯亞胺樹脂所構成之聚醯亞胺基材作為透光性樹脂基材，於聚醯亞胺基材之一面，沿著聚醯亞胺基材之寬度方向以10cm之間隔配置多個寬度10mm、長度300mm及厚度0.06mm之多個矩形狀遮罩，於該狀態下，利用棒式塗佈機塗佈上述第1硬塗層用組成物，而形成塗膜。形成塗膜之後，將遮罩去除。其後，藉由將所形成之塗膜於70℃加熱1分鐘而使塗膜中之溶劑蒸發，並使用紫外線照射裝置(Fusion UV System Japan公司製造，光源H BULB)，以於空氣中累計光量成為100mJ/cm2之方式照射紫外線，而使塗膜半硬化。
繼而，於經半硬化之塗膜上，利用棒式塗佈機塗佈上述第2硬塗層用組成物，而形成塗膜。繼而，藉由將所形成之塗膜於70℃加熱1分鐘而使塗膜中之溶劑蒸發，並使用紫外線照射裝置(Fusion UV System Japan公司製造，光源H BULB)，於氧濃度為200ppm以下之條件下，以累計光量成為200mJ/cm2之方式照射紫外線而使塗膜完全硬化，藉此形成由膜厚7μm之多個第1硬塗層、與第1硬塗層上之膜厚2μm之第2硬塗層所 構成之硬塗層。藉此，獲得了具有依序配置有聚醯亞胺基材、第1硬塗層及第2硬塗層之第1區域、以及於第1硬塗層間之間隙埋入有第2硬塗層且硬塗層之表面之硬度低於第1區域的第2區域的光學膜。再者，關於第1硬塗層間之間隙之寬度，於與最窄之聚醯亞胺基材之界面附近為5mm，於最寬之第2硬塗層側之部位為12mm，於第1硬塗層間之間隙埋入有第2硬塗層。又，於包含間隙之第2區域中，第1硬塗層之膜厚成為第1區域之第1硬塗層之膜厚之50%以下之區域之寬度為8mm。
<實施例2>
於實施例2中，除了將第1硬塗層之膜厚自7μm變為20μm以外，與實施例1同樣地製作光學膜。再者，於實施例2之光學膜中，於第1硬塗層間亦存在間隙，於該間隙中亦埋入有第2硬塗層。又，於包含間隙之第2區域中，第1硬塗層之膜厚成為第1區域之第1硬塗層之膜厚之50%以下之區域之寬度為7mm。
<實施例3>
於實施例3中，除了將第1硬塗層之膜厚自7μm變為20μm，又，將第2硬塗層之膜厚自2μm變為4μm以外，與實施例1同樣地製作光學膜。再者，於實施例3之光學膜中，於第1硬塗層間亦存在間隙，於該間隙中亦埋入有第2硬塗層。又，於包含間隙之第2區域中，第1硬塗層之膜厚成為第1區域之第1硬塗層之膜厚之50%以下之區域之寬度為7mm。
<實施例4>
於實施例4中，除了將第2硬塗層之膜厚自2μm變為0.5μm以外，與實施例1同樣地製作光學膜。
<實施例5>
於實施例5中，除了代替寬度10mm、長度300mm及厚度0.06mm之遮罩而使用寬度8mm、長度300mm及厚度0.06mm之遮罩以外，與實施例1同樣地製作光學膜。再者，於實施例5之光學膜中，於第1硬塗層間亦存在間隙，於該間隙中亦埋入有第2硬塗層。又，於包含間隙之第2區域中，第1硬塗層之膜厚成為第1區域之第1硬塗層之膜厚之50%以下之區域之寬度為6mm。
<實施例6>
於實施例6中，除了代替寬度10mm、長度300mm及厚度0.06mm之遮罩而使用寬度5mm、長度300mm及厚度0.06mm之遮罩以外，與實施例1同樣地製作光學膜。再者，於實施例6之光學膜中，於第1硬塗層間亦存在間隙，於該間隙中亦埋入有第2硬塗層。又，於包含間隙之第2區域中，第1硬塗層之膜厚成為第1區域之第1硬塗層之膜厚之50%以下之區域之寬度為3mm。
<實施例7>
於實施例7中，除了將第1硬塗層之膜厚自7μm變為2μm，又，將第2硬塗層之膜厚自2μm變為0.5μm以外，與實施例1同樣地製作光學膜。再者，於實施例7之光學膜中，於第1硬塗層間亦存在間隙，於該間隙中亦埋入有第2硬塗層。又，於包含間隙之第2區域中，第1硬塗層之膜厚成為第1區域之第1硬塗層之膜厚之50%以下之區域之寬度為9mm。
<實施例8>
於實施例8中，除了代替聚醯亞胺基材而使用厚度30μm及寬度300 mm之聚對苯二甲酸乙二酯基材以外，與實施例1同樣地製作光學膜。
<實施例9>
於實施例9中，除了代替聚醯亞胺基材而使用厚度30μm及寬度300mm之三乙醯纖維素基材以外，與實施例1同樣地製作光學膜。
<實施例10>
準備厚度30μm及寬度300mm之由上述式(1)所表示之聚醯亞胺樹脂所構成之聚醯亞胺基材作為透光性樹脂基材，於聚醯亞胺基材之一面，沿著聚醯亞胺基材之寬度方向以10cm之間隔配置多個寬度2mm、長度300mm及厚度0.06mm之多個矩形狀遮罩，於該狀態下，利用棒式塗佈機塗佈上述第1硬塗層用組成物，而形成塗膜。形成塗膜後，將遮罩去除。其後，藉由將所形成之塗膜於70℃加熱1分鐘而使塗膜中之溶劑蒸發，並使用紫外線照射裝置(Fusion UV System Japan公司製造，光源H BULB)，以於空氣中累計光量成為100mJ/cm2之方式照射紫外線，而使塗膜半硬化。
繼而，於經半硬化之塗膜上，利用棒式塗佈機塗佈上述第2硬塗層用組成物，而形成塗膜。繼而，藉由將所形成之塗膜於70℃加熱1分鐘而使塗膜中之溶劑蒸發，並使用紫外線照射裝置(Fusion UV System Japan公司製造，光源H BULB)，於氧濃度為200ppm以下之條件下，以累計光量成為200mJ/cm2之方式照射紫外線而使塗膜完全硬化，藉此形成由具有凹部且厚膜部之膜厚為7μm之第1硬塗層、與第1硬塗層上之膜厚2μm之第2硬塗層所構成之硬塗層。藉此，獲得了具有依序配置有聚醯亞胺基材、第1硬塗層之厚膜部及第2硬塗層之第1區域、以及於第1硬塗層之凹部埋入有第2硬塗層且硬塗層之表面之硬度低於第1區域之第2區域的光 學膜。再者，第1硬塗層間之凹部之入口之寬度為3mm，第1硬塗層之薄膜部(第1硬塗層之凹部之底面正下方之部分)之中最薄之部分之膜厚為1μm。又，於包含凹部之第2區域中，第1硬塗層之膜厚成為第1區域之第1硬塗層之膜厚之50%以下之區域之寬度為1mm。
<比較例1>
準備厚度30μm及寬度300mm之由上述式(1)所表示之聚醯亞胺樹脂所構成之聚醯亞胺基材作為透光性樹脂基材，於聚醯亞胺基材之一面，利用棒式塗佈機塗佈上述第1硬塗層用組成物，而形成塗膜。其後，藉由將所形成之塗膜於70℃加熱1分鐘而使塗膜中之溶劑蒸發，並使用紫外線照射裝置(Fusion UV System Japan公司製造，光源H BULB)，以於空氣中累計光量成為100mJ/cm2之方式照射紫外線，而使塗膜半硬化。
繼而，於經半硬化之塗膜上，利用棒式塗佈機塗佈上述第2硬塗層用組成物，而形成塗膜。繼而，藉由將所形成之塗膜於70℃加熱1分鐘而使塗膜中之溶劑蒸發，並使用紫外線照射裝置(Fusion UV System Japan公司製造，光源H BULB)，於氧濃度為200ppm以下之條件下，以累計光量成為200mJ/cm2之方式照射紫外線而使塗膜完全硬化。藉此，獲得了於聚醯亞胺基材上具有膜厚7μm之均勻之第1硬塗層、與第1硬塗層上之膜厚2μm之均勻之第2硬塗層的光學膜。
<比較例2>
準備厚度30μm及寬度300mm之由上述式(1)所表示之聚醯亞胺樹脂所構成之聚醯亞胺基材作為透光性樹脂基材，於聚醯亞胺基材之一面，利用棒式塗佈機塗佈上述第1硬塗層用組成物，而形成塗膜。其後，藉由 將所形成之塗膜於70℃加熱1分鐘而使塗膜中之溶劑蒸發，並使用紫外線照射裝置(Fusion UV System Japan公司製造，光源H BULB)，於氧濃度為200ppm以下之條件下，以累計光量成為200mJ/cm2之方式照射紫外線而使塗膜硬化。藉此，獲得了於聚醯亞胺基材上僅具有膜厚7μm之均勻之第1硬塗層的光學膜。
<比較例3>
準備厚度30μm及寬度300mm之由上述式(1)所表示之聚醯亞胺樹脂所構成之聚醯亞胺基材作為透光性樹脂基材，於聚醯亞胺基材之一面，利用棒式塗佈機塗佈上述第2硬塗層用組成物，而形成塗膜。其後，藉由將所形成之塗膜於70℃加熱1分鐘而使塗膜中之溶劑蒸發，並使用紫外線照射裝置(Fusion UV System Japan公司製造，光源H BULB)，於氧濃度為200ppm以下之條件下，以累計光量成為200mJ/cm2之方式照射紫外線而使塗膜硬化。藉此，獲得了於聚醯亞胺基材上僅具有膜厚2μm之均勻之第2硬塗層的光學膜。
<鉛筆硬度>
基於JIS K5600-5-4：1999所規定之鉛筆硬度試驗(負載：750g，刮痕速度1mm/s)，分別對實施例之光學膜之表面之第1區域及第2區域之鉛筆硬度進行測定。又，基於JIS K5600-5-4：1999所規定之鉛筆硬度試驗(負載：750g，刮痕速度1mm/s)，對比較例之光學膜之表面之鉛筆硬度進行測定。再者，由於比較例之光學膜之第1硬塗層或第2硬塗層均勻地形成，故而於光學膜之表面並無硬度改變之區域。因此，於表1中，比較例之光學膜之表面之硬度僅記載於第1區域之欄。鉛筆硬度係設為於鉛筆硬度試 驗中不會使光學膜之表面受到損傷之最高硬度。再者，測定鉛筆硬度時，使用多根硬度不同之鉛筆進行，每1根鉛筆進行5次鉛筆硬度試驗，於5次之中4次以上於螢光燈下對光學膜之表面進行穿透觀察時，在光學膜之表面並未視認到損傷之情形時，判斷該硬度之鉛筆不會使光學膜之表面受到損傷。
<馬氏硬度>
分別對實施例及比較例之光學膜之第1硬塗層及/或第2硬塗層之馬氏硬度進行測定。馬氏硬度係使用HYSITRON(海思創)公司製造之「TI950 TriboIndenter」而進行測定。具體而言，使用Berkovich壓頭(三角錐)作為壓頭，於以下之測定條件下，自各硬塗層之側面將其壓入500nm，並保持一定時間而進行殘留應力之緩和之後，進行卸載，計測緩和後之最大負載，使用該最大負載Pmax(μN)及深度500nm之凹陷面積A(nm2)，由Pmax/A算出馬氏硬度。馬氏硬度係設為對10個部位進行測定而獲得之值之算術平均值。
(測定條件)
‧負載速度：10nm/s
‧保持時間：5秒
‧負載卸載速度：10nm/s
‧測定溫度：25℃
<耐久摺疊試驗>
將實施例及比較例之光學膜被切斷為30mm×100mm之矩形狀而製作之樣品安裝於耐久性試驗機(製品名「DLDMLH-FS，YUASA SYSTEM機器 公司製造)之固定端及移動端，使移動端移動，以樣品之形成有硬塗層之側之面成為內側，且樣品之彎曲半徑成為1.5mm(直徑3.0mm)之方式進行將樣品摺疊180°之試驗10萬次。再者，實施例之樣品係於第2區域進行摺疊。
其後，替換為新的樣品，同樣地以該樣品之形成有硬塗層之側之面成為外側，且樣品之彎曲半徑成為1.5mm(直徑3.0mm)之方式進行將樣品摺疊180°之試驗10萬次，並藉由以下之基準而進行評價。再者，於該情形時，實施例之樣品亦於第2區域進行摺疊。
○：即便於對樣品之兩面進行上述試驗之情形時，樣品亦未產生破裂及斷裂。
×：於對樣品之兩面進行上述試驗之情形時，樣品產生破裂或斷裂。
<耐鋼絲絨(SW)性>
一面使用#0000號之鋼絲絨(製品名「BONSTAR」，日本鋼絲絨公司製造)，對實施例及比較例之光學膜之硬塗層之表面(於存在第2硬塗層之情形時，為第2硬塗層之表面；於不存在第2硬塗層之情形時，為第1硬塗層之表面)施加1kg/cm2之負載，一面以速度50mm/s使其往返摩擦3500次，目視其後之硬塗層表面是否有損傷，並藉由下述基準而進行評價。
○：無確認到損傷。
×：有確認到損傷。
以下，將結果示於表1。
以下，對結果進行說明。比較例1及2之光學膜雖然鉛筆硬度較高，但耐久摺疊性試驗及耐SW性之結果差。又，比較例3之光學膜雖然耐久摺疊性試驗及耐SW性之結果良好，但鉛筆硬度較低。相對於此，實施例1~10之光學膜之第1區域中之鉛筆硬度較高，又，耐久摺疊性試驗及耐SW性之結果良好。
10‧‧‧光學膜
10A‧‧‧表面
10B‧‧‧第1區域
10C‧‧‧第2區域
11‧‧‧透光性樹脂基材
11A‧‧‧透光性基材之一面
12‧‧‧硬塗層
12A‧‧‧硬塗層之表面
13‧‧‧第1硬塗層
14‧‧‧第2硬塗層
14A‧‧‧第2硬塗層之表面
15‧‧‧間隙

Claims (10)

  1. 一種光學膜，其係具備透光性樹脂基材、與設置於上述透光性樹脂基材之一面側之硬塗層，且可摺疊者，其特徵在於：具有第1區域、與上述光學膜之表面之硬度低於上述第1區域的第2區域。
  2. 如申請專利範圍第1項之光學膜，其中，於以上述光學膜之彎曲半徑成為1.5mm之方式於上述第2區域將上述光學膜摺疊180°之試驗反覆進行10萬次之情形時，不會產生破裂或斷裂。
  3. 如申請專利範圍第1項之光學膜，其中，上述硬塗層具有介隔間隙而相互隔開而配置之多個第1硬塗層、與硬度低於上述第1硬塗層之第2硬塗層，於上述第1區域內，依序積層有上述透光性樹脂基材、上述第1硬塗層、及上述第2硬塗層，於上述第2區域內，存在上述間隙，且上述第2硬塗層被埋入至上述間隙。
  4. 如申請專利範圍第1項之光學膜，其中，上述硬塗層具有：具備1個以上之凹部之第1硬塗層、與硬度低於上述第1硬塗層之第2硬塗層，於上述第1區域內，依序積層有上述透光性樹脂基材、上述第1硬塗層、及上述第2硬塗層，於上述第2區域內，存在上述凹部，藉由上述凹部而具有上述第1硬塗層之膜厚成為上述第1區域中之上述第1硬塗層之膜厚之50%以下之區域，且上述第2硬塗層被埋入至上述凹部。
  5. 如申請專利範圍第3或4項之光學膜，其中，上述第2區域內之上述第1硬塗層之膜厚成為上述第1區域中之上述第1硬塗層之膜厚之50%以下之區域之寬度為0.5mm以上。
  6. 如申請專利範圍第3或4項之光學膜，其中，上述第1硬塗層之一部分存在於上述第2區域內，隨著存在於上述第2區域內之上述第1硬塗層之一部分朝向上述第1硬塗層之隔開位置或上述凹部之中央部，上述第1硬塗層之膜厚逐漸地減小。
  7. 一種可摺疊之偏光板，其具備申請專利範圍第1項之光學膜、與設置於上述光學膜之上述透光性基材之另一面側之偏光元件。
  8. 一種可摺疊之影像顯示裝置，其具備顯示元件、與配置於較上述顯示元件更靠近觀察者側之申請專利範圍第1項之光學膜或申請專利範圍第7項之偏光板。
  9. 如申請專利範圍第8項之影像顯示裝置，其中，上述顯示元件具備有機發光二極體。
  10. 如申請專利範圍第8項之影像顯示裝置，其中，上述顯示元件具備觸控面板功能。
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