PL117576B1 - Photopolymerizing compound - Google Patents

Photopolymerizing compound Download PDF

Info

Publication number
PL117576B1
PL117576B1 PL1978212042A PL21204278A PL117576B1 PL 117576 B1 PL117576 B1 PL 117576B1 PL 1978212042 A PL1978212042 A PL 1978212042A PL 21204278 A PL21204278 A PL 21204278A PL 117576 B1 PL117576 B1 PL 117576B1
Authority
PL
Poland
Prior art keywords
formula
atoms
radical
scheme
phenyl
Prior art date
Application number
PL1978212042A
Other languages
English (en)
Other versions
PL212042A1 (pl
Original Assignee
Cibageigy Ag
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Cibageigy Ag filed Critical Cibageigy Ag
Publication of PL212042A1 publication Critical patent/PL212042A1/pl
Publication of PL117576B1 publication Critical patent/PL117576B1/pl

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D295/00—Heterocyclic compounds containing polymethylene-imine rings with at least five ring members, 3-azabicyclo [3.2.2] nonane, piperazine, morpholine or thiomorpholine rings, having only hydrogen atoms directly attached to the ring carbon atoms
    • C07D295/04—Heterocyclic compounds containing polymethylene-imine rings with at least five ring members, 3-azabicyclo [3.2.2] nonane, piperazine, morpholine or thiomorpholine rings, having only hydrogen atoms directly attached to the ring carbon atoms with substituted hydrocarbon radicals attached to ring nitrogen atoms
    • C07D295/10—Heterocyclic compounds containing polymethylene-imine rings with at least five ring members, 3-azabicyclo [3.2.2] nonane, piperazine, morpholine or thiomorpholine rings, having only hydrogen atoms directly attached to the ring carbon atoms with substituted hydrocarbon radicals attached to ring nitrogen atoms substituted by doubly bound oxygen or sulphur atoms
    • C07D295/104—Heterocyclic compounds containing polymethylene-imine rings with at least five ring members, 3-azabicyclo [3.2.2] nonane, piperazine, morpholine or thiomorpholine rings, having only hydrogen atoms directly attached to the ring carbon atoms with substituted hydrocarbon radicals attached to ring nitrogen atoms substituted by doubly bound oxygen or sulphur atoms with the ring nitrogen atoms and the doubly bound oxygen or sulfur atoms attached to the same carbon chain, which is not interrupted by carbocyclic rings
    • C07D295/108—Heterocyclic compounds containing polymethylene-imine rings with at least five ring members, 3-azabicyclo [3.2.2] nonane, piperazine, morpholine or thiomorpholine rings, having only hydrogen atoms directly attached to the ring carbon atoms with substituted hydrocarbon radicals attached to ring nitrogen atoms substituted by doubly bound oxygen or sulphur atoms with the ring nitrogen atoms and the doubly bound oxygen or sulfur atoms attached to the same carbon chain, which is not interrupted by carbocyclic rings to an acyclic saturated chain
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C323/00—Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C49/00—Ketones; Ketenes; Dimeric ketenes; Ketonic chelates
    • C07C49/587—Unsaturated compounds containing a keto groups being part of a ring
    • C07C49/703—Unsaturated compounds containing a keto groups being part of a ring containing hydroxy groups
    • C07C49/747—Unsaturated compounds containing a keto groups being part of a ring containing hydroxy groups containing six-membered aromatic rings
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C49/00—Ketones; Ketenes; Dimeric ketenes; Ketonic chelates
    • C07C49/76—Ketones containing a keto group bound to a six-membered aromatic ring
    • C07C49/82—Ketones containing a keto group bound to a six-membered aromatic ring containing hydroxy groups
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C49/00—Ketones; Ketenes; Dimeric ketenes; Ketonic chelates
    • C07C49/76—Ketones containing a keto group bound to a six-membered aromatic ring
    • C07C49/82—Ketones containing a keto group bound to a six-membered aromatic ring containing hydroxy groups
    • C07C49/83—Ketones containing a keto group bound to a six-membered aromatic ring containing hydroxy groups polycyclic
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C49/00—Ketones; Ketenes; Dimeric ketenes; Ketonic chelates
    • C07C49/76—Ketones containing a keto group bound to a six-membered aromatic ring
    • C07C49/84—Ketones containing a keto group bound to a six-membered aromatic ring containing ether groups, groups, groups, or groups
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D303/00—Compounds containing three-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom
    • C07D303/02—Compounds containing oxirane rings
    • C07D303/12—Compounds containing oxirane rings with hydrocarbon radicals, substituted by singly or doubly bound oxygen atoms
    • C07D303/32—Compounds containing oxirane rings with hydrocarbon radicals, substituted by singly or doubly bound oxygen atoms by aldehydo- or ketonic radicals
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D333/00—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one sulfur atom as the only ring hetero atom
    • C07D333/02—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one sulfur atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings
    • C07D333/04—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one sulfur atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings not substituted on the ring sulphur atom
    • C07D333/06—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one sulfur atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings not substituted on the ring sulphur atom with only hydrogen atoms, hydrocarbon or substituted hydrocarbon radicals, directly attached to the ring carbon atoms
    • C07D333/22—Radicals substituted by doubly bound hetero atoms, or by two hetero atoms other than halogen singly bound to the same carbon atom
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F2/00—Processes of polymerisation
    • C08F2/46—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation
    • C08F2/48—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light
    • C08F2/50—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light with sensitising agents
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K5/00—Use of organic ingredients
    • C08K5/04—Oxygen-containing compounds
    • C08K5/07—Aldehydes; Ketones
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/028—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
    • G03F7/031—Organic compounds not covered by group G03F7/029
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
    • Y10S430/1053—Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
    • Y10S430/1055—Radiation sensitive composition or product or process of making
    • Y10S430/114—Initiator containing
    • Y10S430/117—Free radical
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
    • Y10S430/1053—Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
    • Y10S430/1055—Radiation sensitive composition or product or process of making
    • Y10S430/114—Initiator containing
    • Y10S430/12—Nitrogen compound containing
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
    • Y10S430/1053—Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
    • Y10S430/1055—Radiation sensitive composition or product or process of making
    • Y10S430/114—Initiator containing
    • Y10S430/12—Nitrogen compound containing
    • Y10S430/121—Nitrogen in heterocyclic ring
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
    • Y10S430/1053—Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
    • Y10S430/1055—Radiation sensitive composition or product or process of making
    • Y10S430/114—Initiator containing
    • Y10S430/122—Sulfur compound containing

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Polymerisation Methods In General (AREA)
  • Inks, Pencil-Leads, Or Crayons (AREA)
  • Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Paints Or Removers (AREA)

Description

Przedmiotem wynalazku jest kompozycja fotopo¬ limeryzujaca, zawierajaca aromatyczno-alifatycz¬ ny keton podstawowy w polozeniu a, spelniajacy role inicjatora fotopolimeryzacji zwiazków nie¬ nasyconych lub fotochemicznego sieciowania poli- olefin.Fotochemiczne procesy polimeryzacji maja w te¬ chnice duze znaczenie, zwlaszcza w przypadkach, gdy cienkie warstwy musza zostac utwardzone w krótkim czasie, np. przy utwardzaniu powlok la¬ kierniczych lub suszeniu farb drukarskich.Naswietlanie promieniowaniem nadfioletowym w obecnosci fotoinicjatorów wykazuje szereg zalet w stosunku do konwencjonalnych sposobów utwar¬ dzania, z których najwazniejsza jest duza szybkosc procesu. Szybkosc ta jest w znacznym stopniu za¬ lezna od uzytego fotoinicjatora.Czyniono liczne próby zastapienia znanych ini¬ cjatorów zwiazkami lepszymi i o wiekszej aktyw¬ nosci. Do najaktywniejszych fotoinicjatorów naleza pochodne benzoiny, zwlaszcza etery benzoinowe, np. przedstawione w opisie patentowym RFN nr 1694149, pochodne a-hydroksymetylobenzoiny, jaik przedsta¬ wione w opisie patentowym RFN DOS nr 1923266 oraz dwualkoksyacetofenony i benzilo-monoketale, np. jak przedstawione w opisach patentowych RFN DOS nr 2261383 lub nr 2232365, a-aminoacetofenony i a-dwuaminoacetofenony jako fotoinicjatory sa wspomniane w opisie patentowym St. Zjedn. Ame¬ ryki nr 4Ó48034, a a-hydroksy-a-ailkilóacetofenony 10 15 20 25 i ich estry w opisie patentowym RFN DOS nr 2357866.Wada tych znanych fotoinicjatorów jest niewy¬ starczajaca trwalosc przy magazynowaniu w Ciem¬ nosci substancji fotopolimeryzujacych zawieraja¬ cych te inicjatory. Niektóre pochodne benzoiny wy¬ kazuja sklonnosc do zazólcania utwardzonych mas.Inne inicjatory maja niewystarczajaca reaktyw¬ nosc, przejawiajaca sie stosunkowo dlugim czasem utwardzania, sa niewystarczajaco rozpuszczalne w substancjach fotopolimeryzujacych lub szybko ule¬ gaja dezaktywacji pod wplywem tlenu powietrza.W technice istnieje zapotrzebowanie na fotoinicja¬ tory, które dobrze rozpuszczalyby sie w substracie i bedac trwalymi przy magazynowaniu w ciem¬ nosci, szybko inicjowalyby reakcje fotopolimeryza¬ cji, zapewniajac wyzsza wydajnosc polimeru w je¬ dnostce czasu niz znane fotoinicjatory. Przy stoso¬ waniu takich ulepszonych fotoinicjatorów mozna lepiej wykorzystac kosztowne przemyslowe instala¬ cje do naswietlania promieniowaniem nadfioleto¬ wym.Stwierdzono, ze nowe zwiazki o wzorach 1, 2, 3, i 4 maja wymagane wlasciwosci fotoinicjatorów, prze¬ de wszystkim wywoluja szybko polimeryzacje, nie wykazujac lub wykazujac w znacznie mniejszym stopniu wady znanych fotoinicjatorów. Nadaja sie one przy tym do sieciowania poliolefin.Kompozycja wedlug wynalazku jako inicjator fo¬ topolimeryzacji zwiazków nienasyconych lub fotó- 117 576117576 3 ' -¦ ¦¦¦' -'* 4 chemicznego sieciowania poliolefin zawiera co naj¬ mniej jeden zwiazek o wzorze 1, 2, 3 lub 4, gdzie n oznacza liczbe 1 lub 2, Ar oznacza, w przypad¬ ku gdy n =1, rodnik aryIowy o" 6—14 atomach C, podstawiony Cl, Br, CN, OH, alk, -Oalk, -Salk, -S02alk, -S02fenyl, -COOalk, -So2NH2, -So2NHalk, -S02N(alk)2, -NHalk, -NHalk, -N(alk)2, grupa feno- ksylowa lub -NHCOalk rodnik fenylowy lub tieny- lowy, pirydylowy lub furylowy, gdzie alk oznacza nizszy\ rodnik alkilowy o 1—4 atomach C, a w przypadku gdy n = 2, -rodnik arylenowy o 6—12 ato¬ mach C lub grupe -fenylen-T-fenylen, w której T oznacza —O—, —S—, —S02—, —CH2 lub —CH= = CH—, X oznacza grupe —NR4R5, —OR6, —O—Si (R7) (R8)2, hydroksymetoksylowa, Ci—C4—alkoksy)' metoksylowa, (Cg—C8acyloksy)metoksylowa lub la¬ cznie z R1 grupe —OCH(Ci—C8alkil)—0(CH2)i-2-, —OCH»(C6—C14aryl)—O—(CH2)i-2—, —OCH(Ci^C8al- kil)— lub —OCH(C6—Ci4aryl)—, X' oznacza grupe —NR10, —N(fenyl)—, grupe o wzorze 5 lub —N(R10) _Rii_N(Rio); Y oznacza bezposrednie wiazanie lub —CH2; Z oznacza —O—, ^S—, —S02, —CHa— lub -C(CH3)2; R1 we wzorze 1 przy n = 1 i X = —OR6 oznacza rodnik Ci—C8alkilowy, który moze byc podstawiony grupa Q—C8 acyloksylowa, ^COO—(d—C4)^alkil lub —CN, rodnik C5—C6 cykloalkilowy lub C^Cg- fenyloalkilowy, a we wszystkich pozostalych przy¬ padkach rodnik alkilowy o 1—8 atomach C, który .. moze byc podstawiony grupa OH, Ci—C4 alkoksylo- wa, C-j—C8acyloksylowa, —COO— —CN, rodnik cykloalkilowy o 5*—6 atomach C lub fenyloalkilowy o 7—9 atomach C; R2 ma znaczenie podane dla R1 lub oznacza rod¬ nik allilowy, metallilowy, 2-karbamoiloetylowy, 2-(N—Ci—C4alkilokarbamodlo)etylowy, 2-(N,N-dwu— —Ci—C4alkilokarbamoilo)-etylowy, 2-(2-pirydylo)- etylowy, 2-(2-keto-l-pirolidynylo)etylowy lub 2- -(dwu—O—Ci—C4 alkilofosfono)etylowy, albo R1 o R2 lacznie oznaczaja rodnik alkileno- wy o 4—6 atomach C lub rodnik oksa- lub azaalki- lenowy o 3—4 atomach C, albo R1 i R2 we wzorze 1 oznaczaja rodnik hy- droksymetylowy, R3 oznacza bezposrednie wiazanie, rodnik alkile¬ nowy o 1—6 atomach C, C-j—C6 oksaalkilenowy, Ca—Cetiaalkilenowy, C2^C6—S-oksotiaalkilenowy, Os—C6—S,S-diokso-tiaalkilenowy, fenylenowy, bife- nylenowy, grupe -fenylen-T-fenylen- lub rodnik cy- kloheksylenowy albo oba podstawniki R2 lacznie z R3 i oboma ato¬ mami C, z którymi te podstawniki sa zwiazane, two¬ rza pierscien cyklopentanowy lub cykloheksanowy, R4 oznacza rodnik alkilowy o 1—12 atomach C, podstawiony grupa —OH lub —Oalk rodnik alkilo¬ wy o 2—l atomach C, allilowy, cykloheksylowy, fe¬ nyloalkilowy o 7—9 atomach C, fenylowy lub pod¬ stawiony Cl, alk, OH, —Oalk lub —COOalk rodnik fenylowy, R5 oznacza rodnik alkilowy o 1—12 atomach C, podstawiony grupa —OH lub —Oalk rodnik alkilo¬ wy o 2-^4 atomach C, allilowy, cykloheksylowy lub fenyloalkilowy o 7—9 atomach C, albo lacznie z R4 oznacza rodnik alkilenowy o 4^5 atomach C, który moze byc przerwany przez —O—, —NH— lub —Nalk albo w przypadku zwiazków p.-wzorze 1 la¬ cznie z R2 oznacza rodnik alkilenowy lub fenyloal- kilenowy o i—9 atomach C lub oksa- lub azaalkile- 5 nowy o 2—3 atomach C, R^ /oznacza atom wodoru, rodnik alkilowy o 1— —12 atomach C, podstawiony grupa —OH lub —Oalk rodnik alkilowy o 2—4 atomach C, cykloheksylowy, allilowy, fenyloalkilowy o 7—9 atomach C, fenylo- 10 wy lub podstawiony Cl lub alk rodnik fenylowy, R7 i R3 sa jednakowe lub rózne i oznaczaja rod¬ nik alkilowy o 1—4 atomach C lub rodnik fenylowy, R10 oznacza rodnik alkilowy o 1—8 atomach C, cykloheksylowy lub benzylowy, !5 a R11 oznacza rodnik alkilenowy o 2—8 atomach C, ksylilenowy, fenylenowy lub grupe -fenylen-T- -fenylen.Okreslone wyzej zwiazki obejmuja aromatyczno- -alifatyczne ketony, których a atom C jest trzecio- 20 rzedowy i jest podstawiony grupa wodorotlenowa lub aminowa albo eterowymi lub sililowymi po¬ chodnymi tych grup. Rodnik alifatyczny tych keto¬ nów moze byc takze rodnikiem cykloalifatycznym lub aralifatycznym lub moze byc polaczony z rod- 25 nikiem aromatycznym z zamknieciem pierscienia, co odpowiada benzocyklicznemu ketonowi o wzo¬ rze 4.Sposród powyzszych podstawników R1, R2 i R10 moga byc rodnikami alkilowymi o 1—8 atomach C, . 30 jak metylowy, etylowy, propylowy, butylowy, hek- sylowy lub oktylowy. R4, R5 i R6 jako rodniki alki¬ lowe moga byc nierozgalezionymi lub rozgaleziony¬ mi rodnikami o 1—12 atomach C, jak np. metylo¬ wy, etylowy, izopropylowy, IH-rz.-butylowy, izo- 35 amylowy, n-heksylowy, 2-etyloheksylowy, n-decy- lowy lub n-dodecylowy. Alk oznacza nizszy rodnik alkilowy o 1—4 atomach C, jak, np. metylowy, ety¬ lowy, izopropylowy, n-butylowy lub Hlrz-butylo- wy. 40 R1, R2 i R6 w znaczeniu rodnika hydroksyalkilo- wego, alkoksyalkilowego lub acyloksyalkilowego mo¬ ga stanowic np. rodnik hydroksymetyIowy, 1-hy- droksyetylowy, 2-hydroksyetylowy, 2-izopropoksy- etylowy, 1-acetoksybutyIowy, 1-akryloiloksyheksy- 45 lowym, 1-hydroksyoktylowy, 3-benzoksypropylowy, metoksymetylowy lub izobutoksymetylowy. Rodnik acylowy moze byc przy tym rodnikiem alifatyczne¬ go lub aromatycznego kwasu karboksylowego. Ko¬ rzystne sa rodniki 1-hydroksyalkilowe oraz ich ete- 50 ry.R4 i R5 jako rodniki hydroksyalkilowe lub alko- ksyalkilowe moga byc np. rodnikiem 2-hydroksy- etylowym, 2-butoksyetylowym, 2^metoksypropylo- wym, 3-hydroksypropylowym lub 2-etoksybutylo- 55 wym. Korzystne sa rodniki 24iydroksya'lkilowe i ich etery.Rodnikiem alkilowym podstawionym grupa CN moze byc w przypadku R1 i R2, np. rodnik 2-cyjano- etylowy, 2-cyjanopropylowy lub 4-cyjanobutylowy, 60 a takze np. cyjanometylowy, 2-cyjanoheksylowy lub 4-cyjanooktylowy. Korzystny jest rodnik 2-cyjano- etylowy.R1 i R2 w znaczeniu rodnika cykloalkilowego mo¬ ga byc rodnikiem cyklopentylowym lub cykloheksy- 65 lowym. R1, R2, R4 i R5 w znaczeniu rodnika feny-117 576 5 6 loalkilowego moga byc np. rodnikiem benzylowym, fenyloetylowym lub dwumetylobenzylowym.Ar jaiko rodnik arylowy lub podstawiony fenylo- wy moze byc np. rodnikiem fenylowym, naftylo- wyim, fenantrylowym, antracylowym, fenylilowym, chlorofenylowym, bromofenylowym, dwuchlorofe- nylowym, mezytylowym, izopropylofenylowym, fenoksyfenylowym cyjanofenylowym p-nonylofe- nylowym, hydrdksyfenylowym, tolilowym, Illrz.bu- tylofenylowym, ksylilowym, izopropylo-chlorofe- nylowym, metaksyfenylowym, etoksyfenylowym, chlorotolilowym, bromoksylitowym, metylotiofe- nylowym, fenylotiofenylowym, butylosulfofeny- lowym, etoksykarbonylofenylowym, Illrzjbutoksy- karbonylofenylowym, imetyloaminosulfofenylowym, dwupropyloaminosulfofenylowym, dwumetyloami- nofenylowym, benzoiloaminofenylowym lub acety- loaminofenylowym.R1 i R2 lacznie moga oznaczac rodnik alkilenowy albo oksa- lub azaalkilenowy. W tym przypadku R1 i R* lacznie z atomem C, z którym sa zwiazane, tworza pierscien cyklopropanowy, cyklobutanowy, cyklopentanowy, cykloheksanowy, cykloheptanowy, czterowodorofuranowy, czterowodoropiranowy, piro- rolidynowy lub piperydynowy.R* i R5 lacznie moga oznaczac rodnik alkilenowy lub fenyloalkilenowy o 1 do 9 atomach wegla lub rodnik oksa- lub azaalkilenowy. W tym przypadku R2 i R5 lacznie z atomem wegla, z którym zwiaza¬ ny jest R2 i atomem N, z którym zwiazany jest R5, tworza 3—6 czlonowy pierscien, np. aziridynowy, azetydynowy, pirolidynowy, imidazolidynowy, pipe¬ rydynowy, piperazynowy lub morfolinowy.R4 i R5 lacznie moga oznaczac rodnik alkilenowy o 4—5 atomach C, ewentualnie przerwany przez —O— lub -^NH—. W tym przypadku R4 i R5 la¬ cznie z atomem N, z którym sa zwiazane, tworza pierscien pirolidynowy, piperydynowy, morfolinowy, 4-alkilopiperazynowy, 4-cyjanoetylopiperazynowy lub 4-alkoksykarbonyloetylopiperazynowy.R8 moze byc rodnikiem alkilenowym o 1—<6 ato¬ mach C, a R11 rodnikiem alkilenowym o 2—8 ato¬ mach C. Przykladami takich rodników, w zakresie podanej liczby atomów C, sa: metylenowy, 1,2-ety- lenowy, 1,3-propylenowy, 1,4-butylenowy, 2,2-dwu- metylo-l,3-propylenowy, 1,6-heksylenowy, 2-metylo- -3-etylo-l,4-butylenowy lub 1,8-oktylenowy. R3 moze byc równiez rodnikiem oksaalkilenowym, tiaalkile- nowym i mono- lub dioksoalkilenowym o 2—6 ato¬ mach C, jak np. 2-oksa-l,3-propylenowym, 3-oksa- 2,4-(penitylenowy, 3-oksa-l^-penylenowy, —CH2SCH2, —CH^CHaSOCHiCHs— lub ^(CH2)8^S02—(CH2)3—.Ar 'moze oznaczac rodnik arylenowy o 6—12 ato¬ mach C, jak np. fenylenowy, naftylenowy lub dwu- fenylenowy.Zwiazki o wzorze 4, w których Y oznacza bezpo¬ srednie wiazaniej sa pochodnymi indanonu, kuma- rononu lub siokumaranonu. ; W przypadku, gdy Y oznacza CH2, chodzi o po¬ chodne tefcralonu, chromanomu lub ^io^hromanonu.Szczególnym przedmiotem wynalazku sa'.' kompo- ' zycje zawierajace zwiazki o wzorze 1 lub* 2, fedzie X oznacza grupe —NR4R5. Zwiazki te sa ketonami ary^óSlkilbwymi rozgalezionymi- na ¦ a atomie1 * C i podstawionymi .grupa aminowa;w< ?- Drugim szczególnym przedmiotem wynalazku sa kompozycje zawierajace zwiazki o wzorze 1 lub 2, gdzie X oznacza grupe —OR6. Zwiazki te sa keto¬ nami aryloalkilowymi rozgalezionymi na a atomie 5 Ci podstawionymi grupa wodorotlenowa lub ete¬ rowa.Dalszym szczególnym przedmiotem wynalazku sa kompozycje zawierajace zwiazki o wzorze 1 lub 2, gdzie X oznacza grupe —OSiR7(R8)2. Zwiazki te sa ketonami aryloalkilowymi podstawionymi grupa siloksylowa. Przykladami grupy —OSiR7(RB2 sa trój- metylosiloksylowa, dwumetylofenylosiloksylowa i trójfenylosiloksylowa.Sposród przedstawionych zwiazków szczególnie korzystne sa zwiazki o wzorze 1, zwlaszcza te zwia¬ zki o wzorze 1, w których n = 1, X = OH, a R1 i R2 lacznie stanowia rodnik C^Csalkilenowy.Przykladami stosowanych w kompozycjach we¬ dlug wynalazku zwiazków o wzorze 1, w którym n = 1 sa: 2-hydroksy-2-metylopropiofenon, 2-hydro- ksy-2-etylopropiofenon, 2-hydroksy-2-butylopropio- fenon, 2-metoksy-2-metylopropiofenon, 2-hydroksy-2- metylo(p-chloropropiofenon), 2-hydroksy-2-metylo- -(3,4-dwuchloropropiofenon), '2-hydroksy-2-metylo-Cp-metoksypropiofenon), 2- -hydroksy-2-metylo-(2,4-dwumetoksypropiofenon), 2-hydroksy-2-metylo- ,2-hydroksy-2-metylo(p-acetyloammopropiofenon), 2-hydroksy-2-metylo- 2-metoksy-2-metylo-(o-metylopropiofenon), 2-hy- droksy-2-imetylo-(m-metylopropiofenon), 2-hydroksy-2-metylo-(2,4-dwumetylopropiofenon), 2-hydroksy-2Hmetylo-(3,4-dwumetylopropiofenon), 2-hydroksy-2-metylo(p-butylopropiofenon), 2-hy- droksy-2-metylo-(p-butylopropiofenon), 2-hydroksy-2-metylo- 2-hydroksy-2-metylo-(p-izopropylopropiofenon), 2-hydroksy-2-metylo-(p-oktylopropiofenon, 2-hy- droksy-2-metylo-(,p-laurylopropiofenon), 2-metoksy-2-metylo-(o-chloropropiofenon), 2-me- toksy-2^netylo-(o-melylopropiofenon), 2-hydroksy-2-metylo-(p-metylotio-propiofenon), 2-hydroksy-2Hmetylo-(p-dwumetyloaminopropiofe- non), 2-hydroksy-2-metylo- -fenoksy-2-metylopropiofenon, 2^metylotiometoksy-2-metylo-propiofenon, 2-alli- loksy-2-metylo-propiofenon, 2-benzyloksy-2-metylo-propiofenon, 2-(2-metoksy- karbonyloetoksy)-2-metylo-propiofenon, 2-(2-cyjanoetoksy)-2-imetylo-propiofenon, 2-etoksy- -2-metylo-propiofenon, 2-metoksyetoksy-2-metylopropiofenon, 2-hydro- ksy-metoksy-2^metylo-propiofenon, , '2-hydroksyetoksy-2-metylopropiofenon, 2-aceto- ksy-2-metylo-propiofenon, ,2-benzoilóksymetoksy-2-metylo-propiofenon, 2- -(o-"hydróksyfennoksy)-2^metylo-propiofenon, 3-benzoilo-3-hydroksy-heptan, 2-benzoiIo-2-hydró- ksy-penftan, 3-benzonó-3-hydroksy-pentan, 2-^(2-karboetoksyfenoksy)-2-metylo-propiofenon;- '- 2-metylo-2-piperydyno-3-fenylo-3-hydroksy-propió- fenoTtf-'¦'¦'"'¦' ¦" ¦- r ¦ ¦ ¦¦¦'¦- :.' :¦' - 2-metylo-2-morfolLno-3-fenylo-3-hydrbksy-proptó^ 15 20 25 30 35 40 45 50 55 607 117 576 8 fenon, 2-metylo-2-dwumetyloamino-3-fenylo-3-hy- droksy-propiofenon, a-hydroksy- dwuetylowy kwasu Yjhydroksy-Y-kenzoilopimeLino- wego, ,.-.< 2-hydroksy-2Hmetylo-3-fenylo-3-dwumetyloami- nopropiofenon, 2-dwu-(2-hydroksy-etylo)-a,minQ-2- -metylo-3-fenylo-propiofenon, 2-metylp-:2,3-dwupiperydyno-3-fenylo-propiofe- non, 2,3-bis-{dwumetyloamino)-3-fenylo-propiofe- 2-hydroH$y-2,3~dwumetylo-3^fenylo-3-dwumetylo- amino-propiofenon, 2-dwumetyloamino-2-lmetylo- propiofenon, 2-dwumetyloamino-2-metylo-propiofenon, 2-dwu- butyloamino-2-imetylo-propiofen(n, 2-dwu-hydroJcsyetyloamino2-metylo-propiofenon, 2-piper3^dynp-2-metylo-propiofenon, 2-<2-metylopi- perydyno)-,2-metylo-propiofenon, 2-morfolino-2Hmetylo-propiofenon, 2-piperazyno- -2-metylopropiofenon, 2-<4-.metylopiperazyno)-2-me- tylopropiofenon, 2-(4-karboetoksyetylopiperazyno)-2-metylo-pro- piofenon, 2-pirolidyno-2-metylo-propiofenon, 2^wuetyloamino-2-metylo-propiiofenon, 2-dwu- zoilo-cykloheksanol, 1-benzoilocyklopentanol, 1-benzoilo-cyklopropanol, 3-p-metoksybenzoilo-3- -dwumetyloaminoheptan, 6-(2-hydoroksyizobutyrylo)- tralina, ¦¦*¦•¦' 5^(2-hydroksyizobutyrylo)-iindan, 6-(2-dwumetylo- amino-izobutyrylo)-tetralina, 6-(2-morfolino-izobu- tyrylo)-tetralina, 6^(2-piperydyno-izobutyrylo)-tetralina, 6-(2-pipe- razyno^izobutyrylo)-tetral'ina, 2-(2-metok!sybeinzoilo)-2^wualliloamiinoipropan, 2-<2-tienoilo)-2-piperydynopropan, 2-(2-naftoilo)-2-acetoksybutanl 2-p-fenylabenzoilo- -2-dwu^(2-hydroiksyetylo)-aminopropan, 1-metylo-2-o-chlorobenzoilo-pipery dyna, 1-benzy- lo-2-benzoilo-3Hfenyloazirydyna, l-cykloheksylo-2-benzoilo-3-fenyloazirydyna, 2- -o-toluilo-2-(trój'metylosiloksy)-propan, 2-hydoroksy-2-metylo-(p-izopropylopropiofenon), 2- -hydroksymetok.sy-2-metylo-propiofenon, 2-foydroksy-2-metylo-(p-izopropylopropiofenon), 2- piofenon), 2-hydroksymetoksy-2-»metylo-(p-izopropy- lopropdofenon), 5-metylo-5-benzoilo-l,3-dioksolan, 2,5-dwumetylo- -5-benzoilo-l,3-dioksolanj 2-fenylo-5i-metylo-5-benzoilo-l,3-didksanal, 5-me- tylo-5- 2,3-epoksy-2-metylo-3-fenylo-propiofenon, 2-aceto- ksyimetoksy-2^metylo-propiofenon, ,2-benzotiloksymetoksy-2-metylo-propiofenon, 2-hy- droksy-2hmetylo-3^diwumetyloaimino*proa?iofen 2-metoksy-2-metylo-3-dwumetyloamino-propiofe- non, 2-hydroksy-2-m€tylQ-3-morfolino-propiofenon, 2-hydroksy-2-metylo-4-N,Nrdwue(tylQ lo-butyrofenon, 2-morfolino-2-metylo-4-NN-dwuetylakarba»moilo- butyrolenon, 2-hydroksy-2-metylo-4-(2-pdrydylo)-ibutyrofenon, 2-'hydroksy-2-metylo-4-dwuetylQfosfono-butyrofe- non, 2-hydiroksy-2-benzylo-propiofenon, 2-hydroksy-2- -(p««metylobenzylo)-propiofejion, 2-hydroksy-2-cykloheksylo-propiofenon, 2-hydro- ksy-2-cyklopentylo-propiofenon, ,2-(2-hydroksyetoksy),-2-metylo-propiofenon, 2-hy- droksy-2-allilo-propiofenon, 5 2-hydrolksy-2-metylo-4-(2-keto-l-pirolidynylo)- -butyrofenon.Przykladami zwiazków o wzorze 1, w którym n —2 sa: tlenek 4,4'-bis-(a-hydroksy-izobwtyrylo)- -dwufenylu, 4,4/-ibis-(a-hydroksy-izobutyrylo)- fenylometan, tlenek 4,4HbLS^a-piperydyno-izobutyry- lo)-dwufenylu, 44'-bis[a- rylo]-dwufenyl, tlenek 4,4'~bis-{a-benzoiloksy-izobu- tyrylo)-*iwufenylu, 4,4'-bis^ahydroksy-izobutyrylo)- -dwufenyloetan.Przykladami zwiazków o wzorze 2 sa: 1,4-dwufe- nylo-2,3-dwumetylo-2,3^dwuhydroksybutanodion-l,4, 2,4-dwubenzoikK2,4-dwuhydroksypentan, 2,9-dwu- benzoilo-2,9-dwumetylo-3,8-dioksadekan, 2,7-dwu- benzoilo-2,7-dwumetylo-3,6-dioksaoktan, 1,6-dwufe- nylo-2,5^dwumetylo-2,5^dwuhydroksy-heksanodion- -1,6, l,4-dwufenylo-2,3^dwumetylo^2,3-bis-(dwume- tyloamino)-butanodion-l,4, l,4-dwufenylo-2,3-dwu- metylo-2,3-dwupiperydylo-butanoddon-l,4» 1,2-bis- -hydroksy-l,2-bis-benzoilocykloheksan, 1,2-bis-dwu- metyloaimino-l,2-bis-benzoik-cykloheksan, ly2-bis- -morfolino-1,2-bis-benzoilo-cy kloheksan, bis-(3- hy¬ droksy-3-benzoilobutylo)-sulfon. ; Przykladami zwiazków o wzorze 3 sa: l,4-bis-(l- benzoilo-izopropylo)-piperazyna, 2,7-dwubenzoilo- -2,7-dwumetylo-3,6-dioksaoktan, 2,9 dwubenzoilo- -2,9-dwumetylo-3,8-dioksadekan, 2,6-dwubenzoilo- -2,6-dwumetylo-3,5-dioksaheptan, N,N-bis-»(a-benzo- ilo-izopropylo)-butyloamina, N,N'-dwumetylo-N,N'- bis-(a-benzoilOHizopropylo)-etylenodwuamiiia.Przykladami zwiazków o wzorze 4 sa: l-keto-2- dwumetyloa;mino-2-metylo-l,2,3,4-czterowodoronaf- talen, l-keto-2-hydroksy-2-imetylo-l,2,3,4-czterowo- doronaftalen, l^keto-2-hydroksy-2-metyloindan.Nowe zwiazki mozna otrzymywac analogicznie jak znane zwiazki o podobnej budowie, przy czym wchodza w rachuba rózne sposoby.Tak wiec zwiazki o wzorze 1, mozna otrzymywac z ketonów aromatyczno-alifatycznych w reakcjach przedstawionych schematem 1. Jako zwiazek HX mozna przy tym stosowac aminy (CL. Stevens, Ch.Hung Chang, J. Org. Oham. 27 (1962), 4392) lub wo¬ de (CL. Stevens, E. Farkas, J. Am. Chem. Soc. 74 (1952), 618 i CU Stevens, S.J. Dykstra, J. Am. Chem.Soc. 75 (1953), 5976).W wielu przypadkach udaje sie równiez bezpo¬ srednie podstawienie a-bromoketonu do zwiazku o wzorze 1, wedlug schematu 2, np.;za pomoca amin, wodorotlenkówmetaM alkalicznych lub fenolanów metali alkalicznych.Zamiast zwiazków bromowych mozna równiez stosowac odpowiednie zwiazki chlorowe.Tak otrzymane hydroksyketony o wzorze 1- .(X = = OH) mozna zwyklymi sposobami eterowac lub O-sililowac. :V'"' . ,-i. v; Jezeli w. wysej podanych reakcjach zamiast je* dnofunkcyjnego zwiazku HX zastosuje sie dwufun- kcyjny zwiazek H—X;-—X, to otrzyma sie zwiazki c wzorze3. x Zwiazki o wzorze 2 mozna otrzymywac analogicz¬ nie jak zwiazki o wzorze i, stosujac jako substan- 15 20 25 30 35 40 45 50 55 60117 576 9 10 cje wyjsciowa dwuketon o ogólnym Ar—CO—CH (R2)—R*—CH sposób otrzymuje sie zwiazki o wzorze 4 z cyklicz¬ nych ketonów o wzorze 4, w którym X oznacza atom wodoru. 2wiazki o wzorze 1, w którym R1 oznacza pod- stawjjony rodnik alkilowy, mozna otrzymywac ze zwiazków o wzorze Ar[—CO—CH(R*)—X]n w reak¬ cji z aldehydem {R1 = hydroksyalkil) lub z podat¬ nym na addycje zwiazkiem winylowym, np. z es- trem kwasu akrylowego lub z akrylonitrylem. W taki sam sposób mozna jako podstawnik R* wpro¬ wadzic grupe —CHtCHa—R«, wychodzac przy tym ze zwiazku Mi—CO—CH—fR1)—X]n.W przypadku, gdy zarówno R1 jak i R* oznaczaja podstawione rodniki alkilowe, to oba podstawniki mozna wprowadzic razem, dzialajac na zwiazek Ar—[CO—CHj—X]n co najmniej dwoma molami aldehydu lub zwiazku winylowego. Z grup hydro- ksyalkilowych R1 i/lub E,1 mozna przez zeterowanie lub zestryfikowanie otrzymac odpowiednie grupy alkoksyalkilowe i acyloksyalkilowe.W analogiczny sposób mozna równiez otrzymy¬ wac zwiazki o wzorze 2, 3 lub 4 z podstawionymi rodnikami alfeilowymi jako R1 lub R1.Zwiazki, w których X lacznie zr R1 jest grupa —O—CH^R9)— sa a-oksydoketonamii a mozna je otrzymywac przez epoksydowanie odpowiedniego a- ^winyloketonii. Przez reakcje oksydoketonu z drtigo- rzedowa amina otrzymuje sie zwiazek, w którym X = OH, a R1 jest grupa aminoalkilowa lub X = — NR*R5, a R1 jest grupa hydroksyalkilowa.Addycja bromu do a-winyloketonu daje a^-dwu- bromoketon Ar[—CO—CBrfR1)—CBralk]n.Przez reakcje dwubromoketonu z jednym molem pierwszorzedowej aminy otrzymuje sie odpowiedni a-azirydynoketon natomiast przez reakcje z dwoma molami drugo- rzedowej aminy otrzymuje sie zwiazki o wzorze 1, w których X = —NRW, a Ra jest rodnikiem ami- noalkilowym (J. Am. Chem. Soc. 74 (1952), 1886).(Podczas gdy we wszystkich wymienionych meto¬ dach syntezy wychodzi sie z ketonu aromatyczno- -alilatycznego, do którego w rózny sposób wprowa¬ dza sie podstawnik X, w okreslonych przypadkach jest równiez mozliwe wprowadzenie podstawnika X juz w trakcie syntezy ketonu, w reakcji Friedel- -Craftsa wedlug sechematu 3. Ten schemat syntezy zaklada? ze podstawnik X nie jest atakowany w re¬ akcji Friedel-Craftsa.W taki sposób mozna otrzymywac np. z chlor¬ ków heterocyklicznych kwasów karbóksylowych zwiazki o wzorze 1, w którym X i R1 lacznie z ato¬ mem C, do którego sa przylaczone, tworza pierscien heterocykliczny.Wedlug wynalazku, zwiazki o wzorach 1, 2, 3 i 4 moga byc stosowane jako inicjatory fotopolimery- zacji nienasyconych zwiazków lub kompozycji, któ¬ re zawieraja takie zwiazki.Ulegajacymi fotopolimeryzacji zwiazkami sa przy¬ kladowo nienasycone monomery, jak estry kwasu akrylowego lub metakrylowego, np. akrylan mety¬ lu, etylu, n- lub Illrz. butylu, izooktylu lub hydro- ksyetylu, metafcrylan metylu lub etylu, dwuakrylan etylenu, dwuakrylan neopentylenu, trójakrylan trój- metylopropanu, czteroakrylan pentaerytrytu lub trójakrylan pentaerytrytu; akrylonitryl, metakrylonitryl, akrylamid, meta- krylamid, N-podstawione (met)akrylamidy; estry 5 winylowe, np. octan, propionian, akrylan lub bur- sztynian winylu; inne zwiazki winylowe, jak eter winylowy, styren, alkilostyreny, chlorowcostyreny, dwuwinylobenzen, winylonaftalen, N-winylopiroli- don, chlorek winylu lub chlorek winylidenu; 10 zwiazki allilowe, jak ftalan dwuallilowy, male- inian dwuallilowy, ester trójallilowy kwasu cyja- nurowego, fosforan trójallilowy lub ester dwualli¬ lowy glikolu etylowego, jak równiez mieszaniny ta¬ kich nienasyconych monomerów. 15 Fotopolimeryzujacymi zwiazkami sa dalej niena¬ sycone oligomery lub polimery i ich mieszaniny z nienasyconymi monomerami. Zaliczaja sie do nich termoplastyczne zywice, zawierajace nienasycone grupy, jak ester kwasu fumarowego, grupy allilo- 20 we lub akrylanowe lub metakrylanowe. Te niena¬ sycone grupy sa przewanzie poprzez grupy funkcyj¬ ne zwiazane z podstawowym lancuchem liniowego polimeru.Duze znaczenie maja mieszaniny oligomerów z je- 25 dno- lub wielokrotnie nienasyconymi monomerami.Przykladami takich oligomerów sa nienasycone po¬ liestry, nienasycone zywice akrylowe i modyfiko¬ wane izocyjanianem lu/b epoksydem oligomery akry¬ lanowe, jak równiez oligomery polieteroakrylano- ** we.Przykladami wielokrotnie nienasyconych zwiaz¬ ków sa przede wszystkim akrylany dioli i polioli, np. dwuakrylan szesciometylenu lub czteroaktylan pentaerytrytu. Równiez jako jednokrotnie nienasy- 35 cone monomery korzystne sa akrylany, jak np. akrylan butylu, fenylu, bnzylu, 2-etyloheksylu lub 2-hydroksypropylu. Przez dobór sposród róznych przedstawicieli tych trzech komponentów mozna zmieniac konsystencje nie spolimeryzowanej mie- *o szaniny oraz plastycznosc spolimeryzowahej zywi¬ cy. ^r' ¦ ¦ Obok powyzszych mieszanin trójskladnikowych, w przypadku zywic poliestrowych duza role spel¬ niaja przede wszystkim mieszaniny dwuskladniko- 45 we. Skladaja sie one glównie z nienasyconego po¬ liestru i zwiazku winylowego.Nienasyconymi poliestrami sa oligomeryczne pro¬ dukty estryfikacji co najmniej jednego kwasu dwu- karboksylowego, jak np. maleinowy, fumarowy lub 50 cytrakonowy i co najmniej jednego nasyconego kwasu dwukarboksylowegoy jak ftalowy, burszty¬ nowy, sebacynowy lufo izoftalowy^z glikolami jak np. glikol etylenowy, propatiódioI-1,2, glikol dwu- lub trójetylenowy lub glikol czterometylenowy, przy 55 czym w celu modyfikacji zwykle stosuje sie rów¬ niez kwasy monokarboksylowe i monoalkohole. Te nienasycone poliestry zwykle rozpuszcza sie w zwia¬ zku winylowym lub allilowym.Korzystny do tego celu jest styren. 60 Fot©polimeryzujace kompozycje, stosowane do róznych celów, zawieraja zwykle oprócz zwiazków fotopolimeryzujacych i fotcdnicjatora szereg dal¬ szych dodatków. Czesto stosuje sie inhibitory ciepl¬ ne, których zadaniem jest ochrona przed przedwcze- *& sna polimeryzacja w trakcie sporzadzania kompo-117 576 11 12 zycji przez mieszanie skladników. Do tego celu sto¬ suje sie przykladowo hydrochinon, pochodne hydro¬ chinonu, p-metoksyfenyl, |3-naftyloamine lub {^naf¬ tole.Dodawac mozna równiez w malych ilosciach czyn¬ niki absorbujace 'promieniowanie nadfioletowe, np. typu benzotriazolu lub benzofenolu.Dla zwiekszenia trwalosci przy magazynowaniu w ciemnosci mozna dodawac zwiazków miedzi, jak naftenian, stearynian lub heptanokarboksylan mie¬ dzi, zwiazków fosforu, jak trójfenylofosfjna, trójbu- tylofosfwia, fosforyn trójetylowy, fosforyn trójfeny- lowy lubiosforan trójbenzylowy, czwartorzedowych zwiazków amoniowych, jak chlorek czterometylo- amoniowy lub chlorek; trójmetylobenzyloamoniowy lub pochodnych hydroksyloaminy, jak np. N-dwu- metylohydroksyloamdna. Mozna równiez do kompo¬ zycji fotolimeryzujacych dodawac czynniki prze¬ noszacych lancuch, jak np. N-metylodwuetanolo- aminy lub cykloheksenu.Dl# przeciwdzialania inhiibitujacemu dzialaniu tlenu powietrza czesto do fotoutwardzalnych kom¬ pozycji dodaje sie parafiny lub podobnych mate¬ rialów o charakterze wosku. W trakcie polimery¬ zacji wskutek malejacej rozpuszczalnosci, substan¬ cje te uwalniaja sie i tworza przezroczysta warstwe powierzchniowa, zabezpieczajaca przed doplywem powietrza. Tlen powietrza mozna równiez dezakty- wowac przez wprowadzenie do utwardzanej zywicy grup samoutlenialnych, np. allilowych.Powyzsze fotoinicjatory mozna stosowac równiez lacznie z inicjatorami wolnorodnikowymi, jak np. nadtlenki, wodoronadtlenki, nadtlenki ketonów lub estry nadkwasów karboksylowych.Fotopolimeryzugace kompozycje zawieraja rów¬ niez, w zaleznosci od stasowania, wypelniacze — jak krzemionka, talk lub gips, pigmenty, barwniki, wlókna, srodki tiksotropowe i srodki pomocnicze.Stosowac mozna równiez kombinacje ze znanymi fotoinicjatorami, jak etery benzoinowe, dwualko- ksyacetofenony lub fcetale banzoilowe.Szczególnie do fotopolimeryzacji cienkich warstw i farb drukarskich, mozna stosowac kombinacje fotoinicjatorów wedlug wynalazku z aminami i/lub aromatycznymi ketonami.Przykladami odpowiednich amin sa trójetyloami- na, N-metylodwuetanoloamina,. N-dwumetyloetano- loamina lub ester kwasu p-dwumetyloamiinobenzo- esowego.Przykladami odpowiednich ketonów sa benzofe- non, podstawione pochodne benzofenonu, keton Mi- chlera, antrachinon i pochodne antrachinonu, jak równiez tioksanton i jego pochodne.Duze znaczenie ma fotoutwardzanie farb drukar¬ skich, poniewaz czas suszenia srodków wiazacych jest determinujacym czynnikiem szybkosci wytwa¬ rzania wyrobów graficznych. Czas ten winien byc rzedu ulamków sekundy.Inicjatory wedlug wynalazku dobrze nadaja sie do wytwarzania plyt drukarskich. W tym przypad¬ ku stosuje sie np. mieszaniny rozpuszczalnych li¬ niowych poliamidów z fofcopoUmeryzujacymi mo¬ nomerami, np. atorylamidem i fotoinicjatorem. Fil¬ my lub plyty z tych kompozycji naswietla sie przez negatyw (lub pozytyw) rekopisu, a skladniki nie¬ utwardzone nastepnie aluuje odpowiednim rozpu¬ szczalnikiem.Dalsza dziedzina utwardzania promienowaniem nadfioletowym jest powlekanie metali, np. przy 5 lakierowaniu blach na tuby, puszki lute- zam¬ kniecia butelek oraz powlok z tworzywa sztu¬ cznego, np. powlok podlogowyc hlulb sciennych na bazie PCV.Przykladami utwardzania promieniowaniem nad- io fioletowym powlok papieru jest utwardzanie bez¬ barwnych lakierów etykiet; kopert plyt gramofon nowych i okladek ksiazek.Wedlug wynalazku, mozna zwiazki o wzorach 1, 2, 3 lub 4 stosowac równiez jako inicjatory fotoche- 15 micznego sieciowania poliolefin. Wchodza tu w ra¬ chube np. polipropylen, polibuten, poliizobutylen oraz kopolimery, jak np. kopolimer etylenu z propy¬ lenem, jednakze korzystnie polietyleny o niskiej, sredniej lub wysokiej gestosci. 20 . W powyzszych dziedzinach stosuje sie omawiane fotoinicjatoiry w ilosci 0,1 do 20, korzystnie okolo 0,5 do 5% wagowych w stosunku do fotopolimery- zujacej lub sieciowanej kompozycji. Pod pojeciem kompozycji rozumie sie mieszanine fotopolimeryzu- 25 jacego lub sieciujacego zwiazku, fótoinicjatora i po¬ zostalych wypelniaczy Itib materialów dodatkowych, zaleznych od danego stosowania.Fotoinicjatory wprowadza sie do fotopolimery- zujacych kompozycji na ogól przez zwykle zmiesza- 30 nie, poniewaz wiekszosc z tych kompozycji jest cie¬ kla lufo dobrze rozpuszczalna.W wiekszosci przypadków otrzymuje sie roztwór inicjatorów, przez co uzyskuje sie równomierne ich rozprowadzenie i przezroczystosc polimeryzatu. 35 Polimeryzacje przeprowadza sie znanymi sposo¬ bami fotopolimeryzacji, przez naswietlanie swiatlem bogatym w promieniowanie krótkofalowe. Jako zró¬ dlo swiatla mozna stosowac np. lampy rteciowe srednio-, wysoko- lub niskocisnieniowe oraz swie- 40 tlówki promieniujace swiatlo superaktyniczne, z maksimami emisji w zakresie miedzy 250 a 400 nm.Wytwarzanie i stosowanie fotoinicjatorów w kom¬ pozycji wedlug wynalazku jest opisane w poniz¬ szych przykladach, w których czesci oznaczaja cze- 45 sci wagowe, procenty oznaczaja procenty wagowe, a temperature podano w stopniach Celsjusza.Wytwarzanie i wlasnosci zwiazków stosowanych w przykladach I—IV.Zwiazki podane w tabeli 1 wytwarza sie jedna 50 lub kilkoma metodami sposród A do L.Metoda A. Chlorowanie aromatyczno-alifatycz¬ nych ketonów wedlug schematu 4.Keton rozpuszcza sie w obojetnym rozpuszczalni¬ ku, korzystnie w czterochlorku wegla, a do roztworu 55 utrzymywanego w temperaturze 40—80°C wprowa¬ dza sie obliczona ilosc chloru. Dla wyparcia rozpu¬ szczonego HC1 przepuszcza sie przez roztwór azot.Na zakonczenie oddestylowuje sie rozpuszczalnik.Oczyszczanie otrzymanego chloroketonu zwykle nie 60 jest konieczne. Produkt mozna dalej poddac reakcji wedlug metod D, F lub H.Metoda B. Bromowanie aromatyczno-alifatycz¬ nych ketonów wedlug schematu 5.Do roztworu ketonu, np. w CCU, wkrapla sie w 9% temperaturze pokojowej obliczona ilosc bromu. Mie-117:57« 13 14 szanine reakcyjna i produkt przerabia sie jak w metodzie A.Metoda C. Chlorowanie chlorkiem sulfurylu we¬ dlug schematu 6.Chlorek sulfurylu .wkrapla sie w temperaturze 40°C do roztworu ketonu W CC14. Mieszanine re¬ akcyjna i produkt przerabia sie jak w metodzie A.Metoda D. Wytwarzanie epoksydowego produktu przejsciowego wedlug schematu 7.Chlorowcoketon rozpuszcza sie w metanolu i do utrzymywanego w temperaturze wrzenia pod chlo¬ dnica zwrotna roztworu wkrapla sie stechiometry- czna ilosc metanolanu sodu w metanolu.Nastepnie oddestylowuje sie metanol, a pozosta¬ losc wlewa do wody z lodem i ekstrahuje eterem.Eterowy roztwór przemywa sie woda, suszy nad Na2S04 i odparowuje. Pozostalosc oczyszcza sie przez krystalizacje lub destylacje prózniowa. Epoksyd, mozna dalej poddac reakcji wedlug metody E lub G. Metoda E. Hydroliza epoksydu wedlug schema¬ tu 8 Epoksyd zalewa sie 2—5 krotna (wagowo) iloscia wody i po dodaniu katalitycznej ilosci nieorganicz¬ nego kwasu w ciagu 1—2 godzin utrzymuje w tem¬ peraturze wrzenia pod chlodnica zwrotna, a po ozie¬ bieniu ekstrahuje eterem. Eterowy roztwór prze¬ mywa sie woda, suszy nad Na2S04 i odparowuje.Pozostalosc (surowy hydroksyketon) oczyszcza sie przez krystalizacje lub chromatografie kolumnowa.Wlasnosci czystego a-hydroksyketonu sa podane w tabeli 1.Metoda F. a-hydroksyketony z a-chlorowcoketo- nów, synteza wedlug schematu 9. a-chlorowcoketon w rozcienczonym lub stezonym wodorotlenku sodu (20% nadmiar NaOH) utrzymu¬ je sie w temperaturze wrzenia pod chlodnica zwrot¬ na. Po zakonczeniu hydrolizy (kontrola chromato¬ graficzna) surowy hydroksyketon wyodrebnia sie jak opisano w E i oczyszcza.Wlasnosci czystych hydroksyketonów podano w tablicy 1.Sposób G. a-aminoketony z epoksydów, synteza wedlug schematu 10.Epoksyd, bez rozpuszczalnika lub z dodatkiem malej ilosci toluenu lub ksylenu, zadaje sie stechio- metryczna iloscia aminy i w ciagu okolo 10—20 go¬ dzin utrzymuje w temperaturze 100—200°C.W przypadku niskowirzacych amin, np. dwume- tyloaminy lub dwuetyloaminy, reakcje prowadzi sie w autoklawie. Mieszanine reakcyjna rozciencza sie benzenem i ekstrahuje rozcienczonym kwasem sol¬ nym. Wodny roztwór alkalizuje sie za pomoca NaOH i ekstrahuje eterem, a eterowy roztwór przemywa woda, suszy nad Na2S04 i odpairowuje. Surowy pro¬ dukt oczyszcza sie przez destylacje lub krystaliza¬ cje. a-amirioketony sa zestawione w tabeli 1.Metoda H. a-aminoketony z a-chlorowcdketonów, synteza wedlug schematu 11. rowcoketon, niierozoienczony lub rozcienczo¬ ny toluenem, miesza sie z 2 równowaznikami mo¬ lowymi aminy i w ciagu 10—20 godzin ogrzewa w temperaturze 10O—20)0oC..W przypadku niskowirzacych amin; jak dwumety- loamiina lub dwuetylóamina, reakcje prowadzi sie* Tabela 1 Zwia¬ zek nr 1 1 2 3 " ' 4 5 6 7 8 9 10 11 ¦ ¦ 12 13 14 15 Wzór ' nr 2 6 7 8 9 10 11 12 13 14 15 16 17 18 19 20 Metoda wytwa¬ rzania 3 B+D + G A+ D +G A+D +E lubB+F B+D + E B+D +E B+D+E B+D+ E B+D +E B+D+E B+D +E B+D+E B +D +E B+D +E C+F C+F Metoda oczysz¬ czania 4 destylacja krystali¬ zacja (eter naftowy) destylacja krystali¬ zacja (eter naftowy) chroma¬ tografia destylacja destylacja destylacja destylacja destylacja destylacja krystali¬ zacja (eter dwuety- lowy) destylacja chroma¬ tografia destylacja Wlasnosci fizyczne 5 ¦ temperatura wrzenia0,2 61o temperatura wrzeniach 110—112° temperatura topnienia 78—80° temperatura wrzenia8120° temperatura topnienia 42—50° olej temperatura wrzeniaio 150°*) temperatura wrzeniami 150° *) temperatura wrzeniami 140° *) temperatura wrzeniami 130° *) temperatura wrzeniami 150° *) temperatura wrzenia0,i 150° * temperatura topnienia 92—96° temperatura wrzeniao,oi 74° '.:* . 1 temperatura topnienia 103—105° temperatura 1 topnienia 54—58°, temperatura wrzeniami 165° |117 576 15 16 icd. tabeli 1 icd. tabeli 1 1 1 16 17 18 19 20 21 22 23 24 25 26 27 28 29 30 2 1 21 22 23 24 25 26 27 28 29 * 30 31 32 33 1 34 36 1 3 |b+d+e C+D +E B +D +E B+ D+ E B+D + E B+D+ E B+F B+D +E B+D+G B+D + G B+D +G B+D+ G B+D+ G B+D+ G C+H lub A+D+G 1 4 destylacja destylacja destylacja destylacja destylacja destylacja destylacja krystali¬ zacja (eter dwuety- lowy) destylacja chroma¬ tografia t krystali¬ zacja (eta¬ nol) destylacja destylacja krystali¬ zacja (eter dwuizo- propy- lowy) destylacja 1 5 temperatura wrzenia0,i | 150°*) temperatura 1 wrzenia0,o5 | 180°*) wosk, tem¬ peratura wrzeniao,i 1 150°*) | temperatura wrzenia0,2 140°*) izomer a : |3 6:1 | temperatura wrzeniao,i 180° *) 1 wosk, tem¬ peratura wrzenia005 220° temperatura wrzeniami 150° *) temperatura topnienia 90—91° temperatura wrzeniami 150° *) olej temperatura topnienia 141—143° | temperatura wrzeniao.i 150° * | temperatura wrzeniao,i 150° * | temperatura topnienia 110—112° temperatura topnienia 34°, temperatura wrzenia0,o5 150° *) 1 10 20 30 35 40 45 1 1 31 -32 33 34 35 36 37 38 39 40 41 42 2 1 36 37 38 39 40 41 42 43 44 45 46 47 1 3 1 B+H B+D+ G B +H C+H B+D + G F J J K K 1 B+D + G C+L 1 4 destylacja destylacja ! destylacja ! destylacja destylacja chroma¬ tografia chroma¬ tografia chroma¬ tografia chroma¬ tografia chroma¬ tografia destylacja 1 5 temperatura , Y wrzeniao,i 150°*) temperatura wrzenia0,i 150°*) •• temperatura 1 wrzeniao,2 [ 180° *) temperatura wrzeniao.i i 2ao° *) temperatura wrzeniao, i 210°*) temperatura topnienia 68—71° temperatura topnienia 54° olej olej olej olej temperatura topnienia 38—41° temperatura wrzenia24 130° Liczby podane obok temperatury (5) oznaczaja cis¬ nienie w torach — nalezy pomnozyc X 133,32 Pa 50 *) Temperatura lazni powietrznej przy destylacji z deflegmatorem w autoklawie. Wyodrebnienie i oczyszczenie prze¬ prowadza sie jak w metodzie G.Metoda I. Wprowadzenie grupy karboalkoksyety-. lowej, synteza wedlug schematu 12.Keton rozpuszcza sie w dwumetylosulfotleriku, a do roztworu dodaje 1,1 równowaznika molowego NaOH w postaci 4 N wodorotlenku sodu. Nastepnie w temperaturze pokojowej, chlodzac, wkrapla sie 1,1 równowaznika molowego estru akrylowego. Mie^ szanine reakcyjna rozciencza sie woda oziebiona lo¬ dem i ekstrahuje toluenem. Toluenowy roztwór przemywa sie woda do odczynu obojetnego, suszy 65 nad NajSQ4 i odparowuje. Surowy produkt oczysz-. 55 60117 576 17 18 cza sie przez chromatografie kolumnowa lub kry¬ stalizacje.Metoda K. Sterowanie hydroksyketonów, synteza wedlug schematu 13. a-hydroksyketon rozpuszcza sie w okolo 4-krot- nej (wagowo) ilosci dwumetylosulfotlanku, oziebia do temperatury 10—20°C mieszajac, utrzymuje w tej temperaturze a z dwóch wkraplaczy równocze¬ snie wkrapla 1 równowaznik molowy halogenku al- kilu R6Hal i 1 równowaznik molowy stezonego wo¬ dorotlenku sodu.Nastepnie calosc miesza sie w ciagu 3 godzin w temperaturze pokojowej, odsacza wytracony halo¬ genek sodu, a przesacz rozciencza eterem, przemy¬ wa woda, suszy nad Na2S04 i odparowuje. Surowy produkt oczyszcza sie przez chromatografie kolum¬ nowa, krystalizacje lub destylacje prózniowa. Przy¬ kladami nadajacych sie do stosowania zwiazków chlorowcowych sa jodek metylu, bramek izopropy¬ lu, bromek allilu, bromek cykloheksylu, chlorek benzylu i chlorooctan etylu.Zamiast halogenku alkilu mozna -równiez jako czynnik eteryfikujacy stosowac siarczan dwualkilo- wy lub sulfonian alkiloarylowy.Metoda L. Zamkniecie pierscienia z udzialem X i Rl, synteza wedlug schematu 14.Sporzadza sie roztwór paraformaldehydu w 20- -ferotrtej (wagowo) ilosci metanolu. Do roztworu do¬ daje sie 1 równowaznik molowy metanolami sodu (rozpuszczonego w malej objetosci metanolu). Chlo- 10 15 20 25 30 dzac i utrzymujac temperature 0—5° wkrapla sie stezony roztwór oi-chlorowcoketonu.Nastepnie calosc miesza sie w ciagu godziny w temperaturze 5^10°C i w ciagu godziny w tempe¬ raturze pokojowej. Mieszanine reakcyjna rozciencza sie eterem do 2—3-krotnej objetosci i wylewa do wody z lodem. Wode trzykrotnie ekstrahuje sie ete¬ rem, a polaczone ekstrakty przemywa woda, suszy nad Na2S04 i odparowuje. Surowy produkt oczysz¬ cza sie przez destylacje lub chromatografie kolum- Przyklad I. Mieszanine zywiczna zlozona z 80 czesci Plex G616 (zywica akrylanowa firmy Roehm, Darmstadt), 20 czesci trójakrylanu trójme- tylopropanu i 2 czesci fotoinicjatora, za pomoca u- rzadzenia do powlekania nanosi sie warstewke gru¬ bosci 40 ^im na plyty szklane. Warstewki te odpo¬ wietrza sie w ciagu okolo 20 sekund, po czym na¬ swietla sredniocisnieniowa lampa rteciowa (Hanu- via model 45080). Próbki przesuwa sie na transpor¬ terze pod promiennikiem UV z taka szybkoscia, ze efektywny czas ich naswietlania w jednym prze¬ biegu wynosi 0,16 sekundy.W tabeli 2 w drugiej kolumnie podano liczbe przebiegów (D), konieczna do uzyskania nie kleja- cej sie warstewki.W trzeciej kolumnie podano trwalosc magazyno¬ wania mieszaniny zywiea-fotolnicjatoT w ciemnosci w temperaturze 60°C.Przyklad II. Mieszaniny zywiczne zlozone z 60 czesci Uvimer DV-530 (uretanoakrylan firmy Fotoinicjator zwiazek nr 1 2 3 12 24 26 37 a-hydroksypropio- fenon (porównanie) a-metylobenzoina (porównanie) eter benzoinowo- -Illrz. butylowy (porównanie) 2-fenylo-dwume- toksyacetofenon (porównanie) p-metylo- morfolinoacetofenon porównanie a-a-dwumorfolino- acetofenon Liczba koniecz¬ nych prze¬ biegów 4 4 4 3 3 3 4 3 5 5 6 8 17 Tabela 2 Twardosc wedlug Kóniga po liczbie 78(4D) 101(4D) 116(4D) 95<3D) 73(5D) 95(3D) 47(3D) 68(3D) 4S(3D) 93(5D) 112(6D) 92(8D) 84(17D) 94(6D) 114(4D) 119(8D) 101(4D) 102(4D) 72(4D) 75(4D) 69(4D) 106(7D) 121(8D) 100(10D) 98(19D) przebiegów (D) 98(8D) 116(8D) 131(8D) 103(5D) 107(51?) 88(5D) 87(5D) 91(5D) 113(9D) 130(10D) 109(12D) Trwalosc magazyno¬ wania, dni 30 30 30 | 30 30 1 <30 30 <5 1 119 117 576 20 Polychrom), 37 czesci akrylanu heksanodiolu i 3 czesci fotoinicjatora naniesiono na plyty szklane warstewka grubosci 30 ^m i (naswietlono jak w przykladzie I. Otrzymano nastepujace wyniki.Tabela 3 Tabela 5 Fotoinicjator | nr 1 1 nr 2 dwuetoksyace- tofenon (porównanie) eter benzoino- -Illrz.butylowy 2-fenylodwume- toksyacetofenon (porównanie) Liczba przebiegów koniecznych do utwar¬ dzania 3 3 10 12 8 Twardosc wedlug Kóniga w zaleznosci od D 129(3D) 157(7D) 156(10D) 136(12D) 155(8D) Przyklad III. 2% fotoinicjatora rozpuszczono w nienasyconej zywicy poliestrowej (Crystic PKE 306, firmy Maeder, Killwagenj Szwajcaria). Te mie¬ szaniny zywiczne naniesiono warstewka 60 pm na plyty szklane. Warstewki te naswietlono jak w przykladzie I. W tabeli 4 podano liczbe przebiegów przez aparat naswietlajacy do utwardzenia warste¬ wek oraz twardosc w zaleznosci od D.Fotoini¬ cjator nr i nr 2 | nr 3 Tabi Liczba przebiegów koniecz¬ nych do utwar¬ dzenia 13 8 10 3la 4 Twardosc wedlug Koniga w zaleznosci od D I1(13D) 34(15D) 62(17D) 20(8D) 31(10D) 89(12D) 28(10D) 71(12D) 109(12D) Przyklad IV. Mieszanine zywiczna, zlozona z 90 czesci Laromer LR 8496 (zywica akrylanowa fir¬ my BASF, RFN), 10 czesci akrylanu heksanodiolu, 0,5 czesci Byk 300 (srodek pomocniczy firmy Byk- -Mallinckrodt, RFN) i 3 czesci fotoinicjatora do utwardzania w powietrzu lub 0,5 czesci fotoinicja¬ tora do utwardzania pod azotem, za pomoca 15 \a spirali naniesiono elektromagnetycznie na kartony.Po krótkotrwalym odpowietrzeniu warstewki utwar¬ dzono promiennikiem nadfioletowym mocy 80 wat/ /cm, za pomoca urzadzenia do naswietlania promie¬ niowaniem nadfioletowym (Modeli PPG-QC-Prozes- sor).W tabeli 5 podano maksymalna szybkosc prze¬ suwu w m/min, przy jakiej uzyskano w powietrzu lu'b pod azotem nieklejace sie warstewki. 10 15 20 25 30 35 40 45 50 55 60 65 1 Fotoinicjator l Nr 3 1 Nr 5 Nr 7 Nr 8 Nr 9 Nr 10 Nr 12 Nr 13 Nr 29 Nr 30 Szybkosc przesuwu (m/min) powietrze 20 20 30 30 5 5 3,3 20 10 20 azot 100 100 100 100 80 80 80 120 90 90 1 Przyklad V. Mieszanine zywiczna, zlozona z 70 czesci Ebecryl 593 (poliester akrylanowy firmy UCB, Belgia), 30 czesci trójakrylanu trójmetylopro- panu, 0,5 czesci Byk i 3 czesci fotoinicjatora, za pomoca ramy do powlekania naniesiono warstew¬ ke 30—40 n na plyty szklane.Po krótkotrwalym odpowietrzeniu warstewki utwardzono promiennikiem mocy 80 wat/cm za po¬ moca urzadzenia do naswietlania promieniowaniem nadfioletowym (Model PPG/Q.C-Prozessor). Po u- twardzeniu plyty w ciagu 0,5 godziny skladowano w komorze kondycjonujacej i za pomoca przyrza¬ du wahadlowego wedlug Koniga oznaczono twar¬ dosc w zaleznosci od szybkosci przesuwu pod laon- pa. Wyniki zestawiono w tabeli 6.Tabela 6 1 Fotoinicjator Nr 3 Nr 13 Nr 14 Nr 15 Nr 16 Nr 17 Nr 21 Nr 22 Nr 27 Nr 30 Nr 32 Nr 35 Nr 38 Nr 39 Nr 40 Nr 41 Twardosc wedlug Koniga, sekundy 10 m/min 154 156 138 150 161 160 155 151 162 129 146 134 139 162 153 164 25 m/min 146 147 137 ' 132 152 144 143 127 154 98 129 108 116 149 131 152 Zastrzezenia patentowe 1. Kompozycja fotopolimeryzujaca zawierajaca co najmniej jeden nienasycony zwiazek fotopoli- meryzujacy i ewentualnie znane substancje dodat¬ kowe, znamienna tym, ze jako inicjator fotopolime- ryzacji zwiazków nienasyconych lub fotochemicz¬ nego sieciowania poliolefin zawiera co najmniej je¬ den zwiazek o wzorze 1, 2, 3 lub 4, gdzie n oznacza21 117 5T6 22 liczba 1 lub 2, Ar oznacza, w przypadku gdy n = 1, rodnik arylowy o 6—14 atomach C, podstawiony Cl, Br, CN, OH, alk, -Oalk, -Salk, -SOgalk, -S02- -fenyl, -COOalk, -SO*NH2, -S02NHalk, -SO^alk^, -NHalk, -N(alk)2, grupa fenoksylowa lub -NHCOalk rodnik fenylowy lub tienylowy, pirydylowy lub fu- rylowy, gdzie alk oznacza nizszy rodnik alkilowy o 1—4 atomach C, a w przypadku gdy n = 2, rod¬ nik arylenowy o 6—12 atomach C lub grupe -f€&y- len-T-fenylen, w której T oznacza -O-, -Sr, -S02-, -CH2 lub -CH=CH-, X oznacza grupe ;-NR*R5, -OR6, -0-Si(R7)(R8)i, hydroksymetoksylowa, (Cl^4- -alkoksy)metoksylowa, (C2-C8acyloksy)metoksylowa lub lacznie z R1 grupe -0CH(Ci-C8alkil)-O(CH2)i_sr, -OCH lub -OCH(C6-Ci4aryl)-, X' oznacza grupe -NR10, -Ni(fenyl)-, grupe o wzorze 5 lub -NCR^-RU-^R10); Y oznacza bezposrednie wiazanie lub -CH2-; Z oz¬ nacza -O-, -S-, -S02, -CH2- lub -CCCIfefe; R1 we wzorze 1 przy n = 1 i X = -OR8 oznacza rodm^ Ci-C8alkilowy, który moze byc podstawiony grupa C2-C8acyloksylowa, -COO-CCi-C^-alkil lub -CN, rodnik cykloalkilowy o 5«—6. atomach C lub fenyloalkilowy o 7—9 atomach C; R2 ma znaczenie podane dla R1 lub oznacza rodnik allilowy, metal- lilowy, 2-karbamoiloetylowy, 2-(N-Ci-C4alkiloikarba- moilo)etylowy, 2-(N,N-dwu-Ci-C4alkilokarbamoilo) - -etylowy, 2-<2-pirydylo)etylowy, 2W2^keto-l-piroli- dynylo)etylowy lub 2-(dwu-0-Ci-C4alkilofosfono)- -etylowy, albo R1 i R2 lacznie oznaczaja rodnik al- kilenowy o 4—6 atomach C lub rodnik oksa- lub azaalkilenowy o 3—4 atomach C, albo R1 i R2 we wzorze 1 oznaczaja rodnik hydroksymetyIowy, R8 oznacza bezposrednie wiazanie, rodnik alkilenowy o 1—6 atomach C, C^-Ceoksaalkilenowy, C2-C8tia- alkilenowy, C2JC6-S-oksotiaalkilenowy, C^Ce-S-S- diokso-tiaalkilenowy, fenylenowy, brifenylenowy, grupe -fenylen-T-fenylen- lub rodnik cyklohefcsyle- nowy albo, oba podstawniki R2 lacznie z R8 i obo- -ma"atomami C, z którymi te podstawniki sa zwiaza¬ ne, tworza pierscien cyklopentanowy lub cyklohe- 5 ksanowy, R4 oznacza rodnik alkilowy o li—12 ato¬ mach C, podstawiony grupa -OH lub -Oalk rodnik aliklowy o 2—4 atomach C, allilowy, cykloheksylo- wy, fenyloalkilowy o 7—9 atomach C, fenylowy lub podstawiony Cl, alk, OH, -Oalk lub COOalk rodnik 10 fenylowy, R5 oznacza rodnik alkilowy o 1—12 ato- riciach C, podstawiony grupa -OH lub -Oalk rodnik alkilowy o 2—4 atomach C, allilowy, cykloheksyIo¬ wy lub fenyloalkilowy o 7—9 atomach C, albo la¬ cznie z R4 oznacza rodnik aliklenowy o 4—5 atomach 15 C, który moze byc przerwany przez -O-, -NH- lub -Nalk albo w przypadku zwiazków o wzorze 1 la¬ cznie z E2 oznacza rodnik alkilenowy lub fenylo- alkjlenowy o L—9 atomach C lub oksa- lub azaail- kiilenowy o 2—3 atomach C, R8 oznacza atom wodo- 20 ru; rodnik alkilowy o 1—12 atomach C, podstawiony gru^a -OH lufo -Oalk rodnik alkilowy o 2—4 ato¬ mach C, allilowy, cykloheksylowy, fenyloalkilowy o 7—9 atomach C, fenylowy lub podstawiony Cl lub alk rodnik fenylowy, R7 i R8 sa jednakowe lub róz- 25 ne i oznaczaja rodnik alkilowy o 1—4 atomach C lub rodnik fenylowy, R10 oznacza rodnik alkilowy o 1'—S atomach C, cykloheksylowy lub benzylowy, a R11 oznacza rodnik alkilenowy o 2—8 atomach C, ksylilenowy, fenylenowy lub grupe -fenylen-T-feny- 30 len. 2. Kompozycja wedlug zastrz. 1, znamienna tym, ze zawiera 0,1 do 20, korzystnie 0,5 do 5% wago¬ wych zwiazku o wzorze 1, 2, 3 lub 4.S. Kompozycji wedlug zastrz. 1, znamienna tym, 35 ze jako nienasycony zwiazek zawiera jeden lub kil¬ ka estrów kwasu akrylowego lub metakrylowego.117 576 O R1 r II I -.Ar+C—C-X L i, Jn R2 Wzórl O X X O II I - I I Ar—C—C-R3-C—C—Ar u \.R2 Wzór 2 0 R R1 0 II I II Ar-C-C-X'-C-C-Ar Wzór 3 - Ar- CH3ONa * Ar-fC—C 0 R / \ / OCH, V -|u|- Wzór 5 CO-CBr^R2! HX Jn 0 R1 Ar + C —C—X i? Schemat 1 Ar- -CO-CBrR,R2l HX Ar- Jn Schemat 2 0 R1 1 I C^C-X ,t .1 R" X-C-C0Cl + ArH ^^Ar-CX)-C-X U - - r Schemat 3117 576 Ar-fC0-CR,R2H]n+ n Cl2 — Ar-fcO-CRycil + n HCl Schemat A- Ar —fcO-CRWH n+n *» Ar-[cO-CRfR2Br + n HBr Schemat 5 at4co-cr,r2h]|+ n so2a2—* —* Ar-f-CO-CRWd] + n S02 + n HCl Ar -4 CO -CR1 R2 Hal Schemat 6 *¦ n NaOCH, Jn 3 Ar -4 CX—XCR1 R2! I OCH, + n NaHal Jn Schemat 7 Ar- 0 C— CR1R2 OCH3 Ar- n H20 H + n CO-CR1R2OH Schemat 8 n CH3OH Ar-f-00—CRVHal] + n NaOH — Ar-fcO-CRWOH] + n NaHal Schemat 9117 576 r A OCH, + n R4RSNH ¦ Ar-pCO-CR1R2-NR4R5] + n CH3OH Schemat 10 Ar-fCO- CR1 R2 Hal] + 2n R4R5NH Ar-^CO-CRW-NR^R5] + n R*R5NH2Hal Schemat 11 Ar-fcO-CHR1-x] + n CH2-CH-COOAlk CH2CH2COOAlk Ar-fcO-CR^K Schemat 12 Ar-fcO-CRy-OH] + n R6Hal + n NaOH Ar -{cO-CR^-OR6^ + n NaHal Schemat 13 Ar-CO-CHHal-R2+CH20 - Ar-C0-CR*Hal-CH20H N°OCH3 ,0 Ar-CO-C —CH2 + NaHal + CH3OH R2 Schemat 14117 576 O CH, oh CH, CH3 Wzór6 / Wc'.OCH, OH CH, Wzór 8 O- OH Wzór 10 h,cY Vc Wzór 12 O CH, OHG CH3 Wzór 7 /^ O CH, C OH Wzór 9 Csi-C-^OH CH3 Wzór 11 -OH CH3 O CH HaC^C- CH3 Wzór 13 -OH CH, H3C -( VC 9 CH3 -OH CH, / VJ.O CH CH3 CH3 Wzór 14 -OH CH, CH, Wzór 15 h3c-o/ h 0 CH OH CH, H3C"00"CH3 XX « Br CO- Wzór 16 OH Wzór17 CH3 H3C.H,C xchV/ W ' O CH OH CH3 Wzór 18117 576 H3C-0 Cl Wzór 19 0-CH3 CH3 CO-J-OH CH3 «^ I 0 CH -OH CH, ' r-^ 9 CH3 C,-Q-t4_0H n3 Wz<5r 20 CH, Wzór 21 f\ O Wzór 22 // \V£_ O CH OH CH, r-K ° CH3 w-s-O-i-fSH Wzór 23 CH3 CH, ^ CO- OH CH, Wzór 24 fVs^Yc O CH, Wzór 25 CH, OH CH30 HO ^_ ^ O CH3 CH3 Wzór 26 OH CH, (c-f^H C4H9 Wzór 27 HO- CH3 O 1 IJ \ CH, O CH3 S^ Vc+OH CH, Wzór 28117 576 / ^ O CH CH3 CjH, Wzór 29 N(CH3)2 Wzór 30 ^ OCH, O* N N CH 3 CH3 Wzór 31 CH3 0 ^ 1 c^Q 0 CH, N N-H CH, Wzór 32 n n° ^3 N O Wzór 3? CH, O CH, H3CY VC- -N O H3C Wzór 34 CH3 O CH, 0*-P0 Cl O CH, CH3 Wzór 35 CH3 O Wzór 36 H,CY Vc O CH, II I J CH, O Wzór 37 H3C-0/ VC- O CH, N CH3 Wzór 38117 576 OO^fe Wzór 39 0 CH H3C-S^3"^,0) CH3 Wzór 40 o6c & 0 CH2CH2COOCH3 -N(CH3)2 CHj Wzór 41 Wzór 42 0 CHjCHjCOOCH, CHa Wzór 43 0 CH O^-H -0CH3 Wzór 44 CH3 Qc 0 CH3 -OCH2CH=CH2 CH3 Wzór 45 ^c 0 CH3 N N-CH3 CH3 Wzór 46 CH3 \ Wzór 47 ZGK 1255/1100/82 95 egz.Cena 100,— zl PL

Claims (4)

  1. Zastrzezenia patentowe 1. Kompozycja fotopolimeryzujaca zawierajaca co najmniej jeden nienasycony zwiazek fotopoli- meryzujacy i ewentualnie znane substancje dodat¬ kowe, znamienna tym, ze jako inicjator fotopolime- ryzacji zwiazków nienasyconych lub fotochemicz¬ nego sieciowania poliolefin zawiera co najmniej je¬ den zwiazek o wzorze 1, 2, 3 lub 4, gdzie n oznacza21 117 5T6 22 liczba 1 lub 2, Ar oznacza, w przypadku gdy n = 1, rodnik arylowy o 6—14 atomach C, podstawiony Cl, Br, CN, OH, alk, -Oalk, -Salk, -SOgalk, -S02- -fenyl, -COOalk, -SO*NH2, -S02NHalk, -SO^alk^, -NHalk, -N(alk)2, grupa fenoksylowa lub -NHCOalk rodnik fenylowy lub tienylowy, pirydylowy lub fu- rylowy, gdzie alk oznacza nizszy rodnik alkilowy o 1—4 atomach C, a w przypadku gdy n = 2, rod¬ nik arylenowy o 6—12 atomach C lub grupe -f€&y- len-T-fenylen, w której T oznacza -O-, -Sr, -S02-, -CH2 lub -CH=CH-, X oznacza grupe ;-NR*R5, -OR6, -0-Si(R7)(R8)i, hydroksymetoksylowa, (Cl^4- -alkoksy)metoksylowa, (C2-C8acyloksy)metoksylowa lub lacznie z R1 grupe -0CH(Ci-C8alkil)-O(CH2)i_sr, -OCH lub -OCH(C6-Ci4aryl)-, X' oznacza grupe -NR10, -Ni(fenyl)-, grupe o wzorze 5 lub -NCR^-RU-^R10); Y oznacza bezposrednie wiazanie lub -CH2-; Z oz¬ nacza -O-, -S-, -S02, -CH2- lub -CCCIfefe; R1 we wzorze 1 przy n = 1 i X = -OR8 oznacza rodm^ Ci-C8alkilowy, który moze byc podstawiony grupa C2-C8acyloksylowa, -COO-CCi-C^-alkil lub -CN, rodnik cykloalkilowy o 5«—6. atomach C lub fenyloalkilowy o 7—9 atomach C; R2 ma znaczenie podane dla R1 lub oznacza rodnik allilowy, metal- lilowy, 2-karbamoiloetylowy, 2-(N-Ci-C4alkiloikarba- moilo)etylowy, 2-(N,N-dwu-Ci-C4alkilokarbamoilo) - -etylowy, 2-<2-pirydylo)etylowy, 2W2^keto-l-piroli- dynylo)etylowy lub 2-(dwu-0-Ci-C4alkilofosfono)- -etylowy, albo R1 i R2 lacznie oznaczaja rodnik al- kilenowy o 4—6 atomach C lub rodnik oksa- lub azaalkilenowy o 3—4 atomach C, albo R1 i R2 we wzorze 1 oznaczaja rodnik hydroksymetyIowy, R8 oznacza bezposrednie wiazanie, rodnik alkilenowy o 1—6 atomach C, C^-Ceoksaalkilenowy, C2-C8tia- alkilenowy, C2JC6-S-oksotiaalkilenowy, C^Ce-S-S- diokso-tiaalkilenowy, fenylenowy, brifenylenowy, grupe -fenylen-T-fenylen- lub rodnik cyklohefcsyle- nowy albo, oba podstawniki R2 lacznie z R8 i obo- -ma"atomami C, z którymi te podstawniki sa zwiaza¬ ne, tworza pierscien cyklopentanowy lub cyklohe- 5 ksanowy, R4 oznacza rodnik alkilowy o li—12 ato¬ mach C, podstawiony grupa -OH lub -Oalk rodnik aliklowy o 2—4 atomach C, allilowy, cykloheksylo- wy, fenyloalkilowy o 7—9 atomach C, fenylowy lub podstawiony Cl, alk, OH, -Oalk lub COOalk rodnik 10 fenylowy, R5 oznacza rodnik alkilowy o 1—12 ato- riciach C, podstawiony grupa -OH lub -Oalk rodnik alkilowy o 2—4 atomach C, allilowy, cykloheksyIo¬ wy lub fenyloalkilowy o 7—9 atomach C, albo la¬ cznie z R4 oznacza rodnik aliklenowy o 4—5 atomach 15 C, który moze byc przerwany przez -O-, -NH- lub -Nalk albo w przypadku zwiazków o wzorze 1 la¬ cznie z E2 oznacza rodnik alkilenowy lub fenylo- alkjlenowy o L—9 atomach C lub oksa- lub azaail- kiilenowy o 2—3 atomach C, R8 oznacza atom wodo- 20 ru; rodnik alkilowy o 1—12 atomach C, podstawiony gru^a -OH lufo -Oalk rodnik alkilowy o 2—4 ato¬ mach C, allilowy, cykloheksylowy, fenyloalkilowy o 7—9 atomach C, fenylowy lub podstawiony Cl lub alk rodnik fenylowy, R7 i R8 sa jednakowe lub róz- 25 ne i oznaczaja rodnik alkilowy o 1—4 atomach C lub rodnik fenylowy, R10 oznacza rodnik alkilowy o 1'—S atomach C, cykloheksylowy lub benzylowy, a R11 oznacza rodnik alkilenowy o 2—8 atomach C, ksylilenowy, fenylenowy lub grupe -fenylen-T-feny- 30 len.
  2. 2. Kompozycja wedlug zastrz. 1, znamienna tym, ze zawiera 0,1 do 20, korzystnie 0,5 do 5% wago¬ wych zwiazku o wzorze 1, 2, 3 lub 4. S. Kompozycji wedlug zastrz. 1, znamienna tym, 35 ze jako nienasycony zwiazek zawiera jeden lub kil¬ ka estrów kwasu akrylowego lub metakrylowego.117 576 O R1 r II I -. Ar+C—C-X L i, Jn R2 Wzórl O X X O II I - I I Ar—C—C-R3-C—C—Ar u \. R2 Wzór 2 0 R R1 0 II I II Ar-C-C-X'-C-C-Ar Wzór 3 - Ar- CH3ONa * Ar-fC—C 0 R / \ / OCH, V -|u|- Wzór 5 CO-CBr^R2! HX Jn 0 R1 Ar + C —C—X i? Schemat 1 Ar- -CO-CBrR,R2l HX Ar- Jn Schemat 2 0 R1 1 I C^C-X ,t .1 R" X-C-C0Cl + ArH ^^Ar-CX)-C-X U - - r Schemat 3117 576 Ar-fC0-CR,R2H]n+ n Cl2 — Ar-fcO-CRycil + n HCl Schemat A- Ar —fcO-CRWH n+n *» Ar-[cO-CRfR2Br + n HBr Schemat 5 at4co-cr,r2h]|+ n so2a2—* —* Ar-f-CO-CRWd] + n S02 + n HCl Ar -4 CO -CR1 R2 Hal Schemat 6 *¦ n NaOCH, Jn
  3. 3 Ar -
  4. 4 CX—XCR1 R2! I OCH, + n NaHal Jn Schemat 7 Ar- 0 C— CR1R2 OCH3 Ar- n H20 H + n CO-CR1R2OH Schemat 8 n CH3OH Ar-f-00—CRVHal] + n NaOH — Ar-fcO-CRWOH] + n NaHal Schemat 9117 576 r A OCH, + n R4RSNH ¦ Ar-pCO-CR1R2-NR4R5] + n CH3OH Schemat 10 Ar-fCO- CR1 R2 Hal] + 2n R4R5NH Ar-^CO-CRW-NR^R5] + n R*R5NH2Hal Schemat 11 Ar-fcO-CHR1-x] + n CH2-CH-COOAlk CH2CH2COOAlk Ar-fcO-CR^K Schemat 12 Ar-fcO-CRy-OH] + n R6Hal + n NaOH Ar -{cO-CR^-OR6^ + n NaHal Schemat 13 Ar-CO-CHHal-R2+CH20 - Ar-C0-CR*Hal-CH20H N°OCH3 ,0 Ar-CO-C —CH2 + NaHal + CH3OH R2 Schemat 14117 576 O CH, oh CH, CH3 Wzór6 / Wc'. OCH, OH CH, Wzór 8 O- OH Wzór 10 h,cY Vc Wzór 12 O CH, OHG CH3 Wzór 7 /^ O CH, C OH Wzór 9 Csi-C-^OH CH3 Wzór 11 -OH CH3 O CH HaC^C- CH3 Wzór 13 -OH CH, H3C -( VC 9 CH3 -OH CH, / VJ. O CH CH3 CH3 Wzór 14 -OH CH, CH, Wzór 15 h3c-o/ h 0 CH OH CH, H3C"00"CH3 XX « Br CO- Wzór 16 OH Wzór17 CH3 H3C. H,C xchV/ W ' O CH OH CH3 Wzór 18117 576 H3C-0 Cl Wzór 19 0-CH3 CH3 CO-J-OH CH3 «^ I 0 CH -OH CH, ' r-^ 9 CH3 C,-Q-t4_0H n3 Wz<5r 20 CH, Wzór 21 f\ O Wzór 22 // \V£_ O CH OH CH, r-K ° CH3 w-s-O-i-fSH Wzór 23 CH3 CH, ^ CO- OH CH, Wzór 24 fVs^Yc O CH, Wzór 25 CH, OH CH30 HO ^_ ^ O CH3 CH3 Wzór 26 OH CH, (c-f^H C4H9 Wzór 27 HO- CH3 O 1 IJ \ CH, O CH3 S^ Vc+OH CH, Wzór 28117 576 / ^ O CH CH3 CjH, Wzór 29 N(CH3)2 Wzór 30 ^ OCH, O* N N CH 3 CH3 Wzór 31 CH3 0 ^ 1 c^Q 0 CH, N N-H CH, Wzór 32 n n° ^3 N O Wzór 3? CH, O CH, H3CY VC- -N O H3C Wzór 34 CH3 O CH, 0*-P0 Cl O CH, CH3 Wzór 35 CH3 O Wzór 36 H,CY Vc O CH, II I J CH, O Wzór 37 H3C-0/ VC- O CH, N CH3 Wzór 38117 576 OO^fe Wzór 39 0 CH H3C-S^3"^,0) CH3 Wzór 40 o6c & 0 CH2CH2COOCH3 -N(CH3)2 CHj Wzór 41 Wzór 42 0 CHjCHjCOOCH, CHa Wzór 43 0 CH O^-H -0CH3 Wzór 44 CH3 Qc 0 CH3 -OCH2CH=CH2 CH3 Wzór 45 ^c 0 CH3 N N-CH3 CH3 Wzór 46 CH3 \ Wzór 47 ZGK 1255/1100/82 95 egz. Cena 100,— zl PL
PL1978212042A 1977-12-22 1978-12-22 Photopolymerizing compound PL117576B1 (en)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CH1588477 1977-12-22
CH251878 1978-03-08
CH972378 1978-09-18

Publications (2)

Publication Number Publication Date
PL212042A1 PL212042A1 (pl) 1979-09-10
PL117576B1 true PL117576B1 (en) 1981-08-31

Family

ID=27173751

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PL1978212042A PL117576B1 (en) 1977-12-22 1978-12-22 Photopolymerizing compound

Country Status (15)

Country Link
US (4) US4318791A (pl)
EP (1) EP0003002B1 (pl)
JP (3) JPS5499185A (pl)
AR (1) AR226169A1 (pl)
AT (1) AT369392B (pl)
AU (1) AU529495B2 (pl)
BR (1) BR7808406A (pl)
CA (1) CA1234242A (pl)
DD (1) DD141320A5 (pl)
DK (1) DK157083C (pl)
FI (1) FI64169C (pl)
GR (1) GR71655B (pl)
HU (1) HU181680B (pl)
PL (1) PL117576B1 (pl)
SU (1) SU948300A3 (pl)

Families Citing this family (332)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2722264C2 (de) * 1977-05-17 1984-06-28 Merck Patent Gmbh, 6100 Darmstadt Verwendung von substituierten Oxyalkylphenonen als Photosensibilisatoren
DE3107087A1 (de) * 1980-02-29 1981-12-24 CIBA-GEIGY AG, 4002 Basel "photopolymerisierbare gemische und verfahren zur photopolymerisation von kationisch polymerisierbaren verbindungen"
DE3008411A1 (de) * 1980-03-05 1981-09-10 Merck Patent Gmbh, 6100 Darmstadt Neue aromatisch-aliphatische ketone, ihre verwendung als photoinitiatoren sowie photopolymerisierbare systeme enthaltend solche ketone
US4368253A (en) * 1981-01-28 1983-01-11 Ciba-Geigy Corporation Image formation process
DE3203096A1 (de) * 1982-01-30 1983-08-04 Merck Patent Gmbh, 6100 Darmstadt Verwendung von hydroxyalkylphenonen als initiatoren fuer die strahlungshaertung waessriger prepolymerdispersionen
EP0088050B1 (de) * 1982-02-26 1986-09-03 Ciba-Geigy Ag Photohärtbare gefärbte Massen
US4504372A (en) * 1982-03-12 1985-03-12 Ciba-Geigy Corporation Acid-curable composition containing a masked curing catalyst, and a process for its preparation
EP0094347B1 (de) * 1982-05-07 1985-07-10 Ciba-Geigy Ag Verfahren zur Herstellung von 1-Hydroxyketonen
US4498964A (en) * 1982-06-15 1985-02-12 Ciba-Geigy Corporation Process for the photopolymerization of unsaturated compounds
US4518676A (en) * 1982-09-18 1985-05-21 Ciba Geigy Corporation Photopolymerizable compositions containing diaryliodosyl salts
DE3380028D1 (en) * 1982-10-01 1989-07-13 Ciba Geigy Ag Propiophenone derivatives as photoinitiators in the photopolymerization
US4649062A (en) * 1983-01-05 1987-03-10 Ciba-Geigy Corporation Ultraviolet radiation curable vehicle for ceramic colors, composition and method
DE3465636D1 (en) * 1983-02-18 1987-10-01 Ciba Geigy Ag Coloured photo-curable mouldings
US4524221A (en) * 1983-02-22 1985-06-18 Minnesota Mining And Manufacturing Company Process for the production of acyloins
EP0117578A3 (en) * 1983-02-23 1985-01-30 Shionogi & Co., Ltd. Azole-substituted alcohol derivatives
US4563438A (en) * 1983-05-06 1986-01-07 Ciba Geigy Corporation Liquid mixture of photoinitiators
US5145885A (en) * 1983-08-15 1992-09-08 Ciba-Geigy Corporation Photopolymerizable compositions containing aminoaryl ketone photoinitiators
DE3471486D1 (de) * 1983-08-15 1988-06-30 Ciba Geigy Ag Photocurable compositions
US5124212A (en) * 1983-10-26 1992-06-23 Dow Corning Corporation Articles prepared from fast ultraviolet radiation curing silicone composition
US4780486A (en) * 1983-10-26 1988-10-25 Dow Corning Corporation Fast ultraviolet radiation curing silicone composition
US5162389A (en) * 1983-10-26 1992-11-10 Dow Corning Corporation Fast ultraviolet radiation curing silicone composition having a high refractive index
US4946874A (en) * 1983-10-26 1990-08-07 Dow Corning Corporation Fast ultraviolet radiation curing silicone composition containing two vinyl polymers
US5169879A (en) * 1983-10-26 1992-12-08 Dow Corning Corporation Fast ultraviolet radiation curing silicone composition
IT1176018B (it) * 1984-04-12 1987-08-12 Lamberti Flli Spa Chetoni aromatico alifatici polimerici o polimerizzabili adatti all'impiego come fotoiniziatori di polimerizzazione
JPS6121104A (ja) * 1984-07-10 1986-01-29 Adeka Argus Chem Co Ltd 光重合開始剤
IT1208494B (it) * 1985-01-28 1989-07-10 Lamberti Flli Spa Polimerizzazione. derivati solforati di chetoni aromatico-alifatici e alifatici come fotoiniziatori di
US4666953A (en) * 1985-03-28 1987-05-19 Loctite Corporation Silicone polyphotoinitiators
DE3512179A1 (de) * 1985-04-03 1986-12-04 Merck Patent Gmbh, 6100 Darmstadt Fotoinitiatoren fuer die fotopolymerisation in waessrigen systemen
FR2583759B1 (fr) * 1985-06-20 1988-01-15 Atochem Films de polyolefines photoreticulables et leur procede de fabrication
US4741981A (en) * 1985-07-30 1988-05-03 Ricoh Co., Ltd. Photosensitive material for electrophotography contains organic phosphite compounds
US4691059A (en) * 1985-08-30 1987-09-01 Minnesota Mining And Manufacturing Company Copolymerizable UV stabilizers
US4879318A (en) * 1986-01-28 1989-11-07 Ophthalmic Research Group International, Inc. Plastic lens composition and method for the production thereof
US5529728A (en) * 1986-01-28 1996-06-25 Q2100, Inc. Process for lens curing and coating
US5415816A (en) 1986-01-28 1995-05-16 Q2100, Inc. Method for the production of plastic lenses
US6730244B1 (en) 1986-01-28 2004-05-04 Q2100, Inc. Plastic lens and method for the production thereof
US5364256A (en) * 1986-01-28 1994-11-15 Ophthalmic Research Group International, Inc. Apparatus for the production of plastic lenses
US6201037B1 (en) 1986-01-28 2001-03-13 Ophthalmic Research Group International, Inc. Plastic lens composition and method for the production thereof
US4906675A (en) * 1986-02-12 1990-03-06 Mitsui Petrochemical Industries, Ltd. Active energy ray-curable composition
US5288917A (en) * 1986-04-15 1994-02-22 Ciba-Geigy Corporation Liquid photoinitiator mixtures
DE3768919D1 (en) * 1986-11-26 1991-05-02 Ciba Geigy Ag Fluessige photoinitiatorgemische.
US5238782A (en) * 1986-12-26 1993-08-24 Fuji Photo Film Co., Ltd. Photopolymerizable composition
ES2054861T3 (es) * 1987-03-26 1994-08-16 Ciba Geigy Ag Nuevas alfa-aminoacetofenonas como fotoiniciadores.
GB8715435D0 (en) * 1987-07-01 1987-08-05 Ciba Geigy Ag Forming images
EP0302831B1 (en) * 1987-08-05 1993-05-12 Ciba-Geigy Ag Compounds
US4824875A (en) * 1987-11-06 1989-04-25 Dow Corning Corporation UV curable conformal coating with moisture shadow cure
US4956221A (en) * 1987-11-06 1990-09-11 Dow Corning Corporation UV curable conformal coating with moisture shadow cure
US4791045A (en) * 1988-01-25 1988-12-13 Minnesota Mining And Manufacturing Company Photosensitizers and polymerizable compositions with mannich bases and iodonium salts
FR2626880B1 (fr) * 1988-02-10 1990-06-08 Lafon Labor Derives n-substitues de 2-amino-1-phenylpropanone, procede de preparation et utilisation en therapeutique
DE3816304A1 (de) * 1988-05-13 1989-11-23 Merck Patent Gmbh Fotoinitiator-copolymere
DE3826947A1 (de) * 1988-08-09 1990-02-22 Merck Patent Gmbh Thioxanthonderivate, ihre verwendung als fotoinitiatoren, fotopolymerisierbare bindemittelsysteme sowie verfahren zur herstellung einer strahlungsgehaerteten beschichtung
US5081308A (en) * 1988-12-15 1992-01-14 Ici Americas Inc. Ultraviolet radiation absorbing compositions of bis-1,3-diketone derivatives of cyclohexane
JPH03115267A (ja) * 1989-09-28 1991-05-16 Maruho Kk プロピオフエノン誘導体、その製造方法、それを含む中枢性筋弛緩剤および抗痙攣剤
US4987159A (en) * 1990-04-11 1991-01-22 Fratelli Lamberti S.P.A. Carbonyl derivatives of 1-phenylindan suitable for use as polymerization photoinitiators, their preparation and use
DE4022234A1 (de) * 1990-07-12 1992-01-16 Herberts Gmbh Verfahren zur herstellung von schutz-, hilfs- und isoliermaterialien auf faserbasis, fuer elektrische zwecke und optische leiter unter verwendung von durch energiereiche strahlung haertbaren impraegniermassen
JPH0453573U (pl) * 1990-09-10 1992-05-07
US5160868A (en) * 1990-10-19 1992-11-03 Yang Tai Her Adjustable brush ac/dc servo motor
US5252694A (en) * 1992-01-22 1993-10-12 Minnesota Mining And Manufacturing Company Energy-polymerization adhesive, coating, film and process for making the same
US5262232A (en) * 1992-01-22 1993-11-16 Minnesota Mining And Manufacturing Company Vibration damping constructions using acrylate-containing damping materials
US6492413B2 (en) * 1993-01-15 2002-12-10 G.D. Searle & Co. 3.4-diaryl thiophenes and analogs thereof having use as antiinflammatory agents
DE4302123A1 (de) * 1993-01-27 1994-07-28 Herberts Gmbh Verfahren zum Bedrucken von Glashohlkörpern
ES2109687T5 (es) † 1993-04-01 2001-09-01 Ppg Ind Ohio Inc Composiciones y metodos de obtencion de revestimientos endurecidos por radiacion de elevada brillantez.
AU6916394A (en) * 1993-06-04 1995-01-03 Henkel Corporation Citral acetal ethers of alpha-hydroxy phenyl ketones and polymerizable compositions
US5474995A (en) 1993-06-24 1995-12-12 Merck Frosst Canada, Inc. Phenyl heterocycles as cox-2 inhibitors
US5700850A (en) 1993-08-05 1997-12-23 Kimberly-Clark Worldwide Colorant compositions and colorant stabilizers
US5681380A (en) 1995-06-05 1997-10-28 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Ink for ink jet printers
CA2120838A1 (en) 1993-08-05 1995-02-06 Ronald Sinclair Nohr Solid colored composition mutable by ultraviolet radiation
US6017661A (en) 1994-11-09 2000-01-25 Kimberly-Clark Corporation Temporary marking using photoerasable colorants
US6017471A (en) 1993-08-05 2000-01-25 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Colorants and colorant modifiers
US5733693A (en) 1993-08-05 1998-03-31 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Method for improving the readability of data processing forms
US5645964A (en) 1993-08-05 1997-07-08 Kimberly-Clark Corporation Digital information recording media and method of using same
US6211383B1 (en) 1993-08-05 2001-04-03 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Nohr-McDonald elimination reaction
US5773182A (en) 1993-08-05 1998-06-30 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Method of light stabilizing a colorant
US5721287A (en) 1993-08-05 1998-02-24 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Method of mutating a colorant by irradiation
US5865471A (en) 1993-08-05 1999-02-02 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Photo-erasable data processing forms
US5643356A (en) 1993-08-05 1997-07-01 Kimberly-Clark Corporation Ink for ink jet printers
US5514214A (en) * 1993-09-20 1996-05-07 Q2100, Inc. Eyeglass lens and mold spin coater
US6071979A (en) 1994-06-30 2000-06-06 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Photoreactor composition method of generating a reactive species and applications therefor
US6242057B1 (en) 1994-06-30 2001-06-05 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Photoreactor composition and applications therefor
US5685754A (en) 1994-06-30 1997-11-11 Kimberly-Clark Corporation Method of generating a reactive species and polymer coating applications therefor
US5739175A (en) 1995-06-05 1998-04-14 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Photoreactor composition containing an arylketoalkene wavelength-specific sensitizer
US6008268A (en) 1994-10-21 1999-12-28 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Photoreactor composition, method of generating a reactive species, and applications therefor
JP3442176B2 (ja) 1995-02-10 2003-09-02 富士写真フイルム株式会社 光重合性組成物
US5786132A (en) 1995-06-05 1998-07-28 Kimberly-Clark Corporation Pre-dyes, mutable dye compositions, and methods of developing a color
RU2170943C2 (ru) 1995-06-05 2001-07-20 Кимберли-Кларк Уорлдвайд, Инк. Новые прекрасители
US5747550A (en) 1995-06-05 1998-05-05 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Method of generating a reactive species and polymerizing an unsaturated polymerizable material
US5798015A (en) 1995-06-05 1998-08-25 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Method of laminating a structure with adhesive containing a photoreactor composition
US5849411A (en) 1995-06-05 1998-12-15 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Polymer film, nonwoven web and fibers containing a photoreactor composition
US5811199A (en) 1995-06-05 1998-09-22 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Adhesive compositions containing a photoreactor composition
BR9609295A (pt) 1995-06-28 1999-05-18 Kimberly Clark Co Novas substâncias corantes e modificadores de substância corante
US6162841A (en) * 1995-09-11 2000-12-19 Lamberti S.P.A. Betaketosulphones derivatives suitable to the use as polymerization photoinitiators and photopolymerizable systems containing the same
US5782963A (en) 1996-03-29 1998-07-21 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Colorant stabilizers
US6099628A (en) 1996-03-29 2000-08-08 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Colorant stabilizers
CA2210480A1 (en) 1995-11-28 1997-06-05 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Improved colorant stabilizers
US5855655A (en) 1996-03-29 1999-01-05 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Colorant stabilizers
DE19546899C1 (de) 1995-12-15 1997-01-09 Herberts Gmbh Überzugsmittel und Verwendung des Überzugsmittels
US5891229A (en) 1996-03-29 1999-04-06 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Colorant stabilizers
US6022498A (en) 1996-04-19 2000-02-08 Q2100, Inc. Methods for eyeglass lens curing using ultraviolet light
US5712401A (en) * 1996-04-29 1998-01-27 First Chemical Corporation Processes for preparing thioxanthone and derivatives thereof
US6280171B1 (en) 1996-06-14 2001-08-28 Q2100, Inc. El apparatus for eyeglass lens curing using ultraviolet light
SG53043A1 (en) * 1996-08-28 1998-09-28 Ciba Geigy Ag Molecular complex compounds as photoinitiators
DE19635447C1 (de) * 1996-08-31 1997-11-20 Herberts Gmbh Verfahren zur Herstellung einer Reparaturlackierung
US6287749B1 (en) * 1997-05-05 2001-09-11 First Chemical Corporation Biradical photoinitiators and photopolymerizable compositions
US5989462A (en) 1997-07-31 1999-11-23 Q2100, Inc. Method and composition for producing ultraviolent blocking lenses
US6524379B2 (en) 1997-08-15 2003-02-25 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Colorants, colorant stabilizers, ink compositions, and improved methods of making the same
US6150420A (en) * 1998-06-01 2000-11-21 Theramax, Inc. Method for enhanced brain delivery of bupropion
JP2002517523A (ja) 1998-06-03 2002-06-18 キンバリー クラーク ワールドワイド インコーポレイテッド 新規な光開始剤およびその利用
WO1999063006A2 (en) 1998-06-03 1999-12-09 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Neonanoplasts produced by microemulsion technology and inks for ink jet printing
JP2002520470A (ja) 1998-07-20 2002-07-09 キンバリー クラーク ワールドワイド インコーポレイテッド 改良されたインクジェットインク組成物
US6416307B1 (en) 1998-09-25 2002-07-09 Q2100, Inc. Plastic lens systems, compositions, and methods
ES2263291T3 (es) 1998-09-28 2006-12-01 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Quelatos que comprenden grupos quinoides como fotoiniciadores.
WO2000024711A1 (en) * 1998-10-27 2000-05-04 Merck & Co., Inc. Synthesis of methylthiophenyl hydroxyketones
JP2002534488A (ja) * 1999-01-12 2002-10-15 クラリアント・インターナシヨナル・リミテツド ベンゾフェノンおよび光重合開始剤としてのその使用
US6368396B1 (en) 1999-01-19 2002-04-09 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Colorants, colorant stabilizers, ink compositions, and improved methods of making the same
US6331056B1 (en) 1999-02-25 2001-12-18 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Printing apparatus and applications therefor
US6419873B1 (en) 1999-03-19 2002-07-16 Q2100, Inc. Plastic lens systems, compositions, and methods
US6294698B1 (en) 1999-04-16 2001-09-25 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Photoinitiators and applications therefor
US6368395B1 (en) 1999-05-24 2002-04-09 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Subphthalocyanine colorants, ink compositions, and method of making the same
US6698708B1 (en) 2000-03-30 2004-03-02 Q2100, Inc. Gasket and mold assembly for producing plastic lenses
US6716375B1 (en) 2000-03-30 2004-04-06 Q2100, Inc. Apparatus and method for heating a polymerizable composition
US6723260B1 (en) 2000-03-30 2004-04-20 Q2100, Inc. Method for marking a plastic eyeglass lens using a mold assembly holder
US6960312B2 (en) 2000-03-30 2005-11-01 Q2100, Inc. Methods for the production of plastic lenses
US6632535B1 (en) 2000-06-08 2003-10-14 Q2100, Inc. Method of forming antireflective coatings
KR100772772B1 (ko) 2000-06-19 2007-11-01 킴벌리-클라크 월드와이드, 인크. 신규한 광개시제 및 그의 용도
WO2002048202A1 (en) * 2000-12-13 2002-06-20 Ciba Specialty Chemicals Holding Inc. Surface-active photoinitiators
US7045081B2 (en) 2001-02-20 2006-05-16 Q2100, Inc. Method of monitoring components of a lens forming apparatus
US7052262B2 (en) 2001-02-20 2006-05-30 Q2100, Inc. System for preparing eyeglasses lens with filling station
US6752613B2 (en) 2001-02-20 2004-06-22 Q2100, Inc. Apparatus for preparing an eyeglass lens having a controller for initiation of lens curing
US7051290B2 (en) 2001-02-20 2006-05-23 Q2100, Inc. Graphical interface for receiving eyeglass prescription information
US7074352B2 (en) 2001-02-20 2006-07-11 Q2100, Inc. Graphical interface for monitoring usage of components of a lens forming apparatus
US6702564B2 (en) 2001-02-20 2004-03-09 Q2100, Inc. System for preparing an eyeglass lens using colored mold holders
US7037449B2 (en) 2001-02-20 2006-05-02 Q2100, Inc. Method for automatically shutting down a lens forming apparatus
US6790024B2 (en) 2001-02-20 2004-09-14 Q2100, Inc. Apparatus for preparing an eyeglass lens having multiple conveyor systems
US6899831B1 (en) 2001-02-20 2005-05-31 Q2100, Inc. Method of preparing an eyeglass lens by delayed entry of mold assemblies into a curing apparatus
US6875005B2 (en) 2001-02-20 2005-04-05 Q1200, Inc. Apparatus for preparing an eyeglass lens having a gating device
US6840752B2 (en) 2001-02-20 2005-01-11 Q2100, Inc. Apparatus for preparing multiple eyeglass lenses
US7060208B2 (en) 2001-02-20 2006-06-13 Q2100, Inc. Method of preparing an eyeglass lens with a controller
US6758663B2 (en) 2001-02-20 2004-07-06 Q2100, Inc. System for preparing eyeglass lenses with a high volume curing unit
US7011773B2 (en) 2001-02-20 2006-03-14 Q2100, Inc. Graphical interface to display mold assembly position in a lens forming apparatus
US6712331B2 (en) 2001-02-20 2004-03-30 Q2100, Inc. Holder for mold assemblies with indicia
US6863518B2 (en) 2001-02-20 2005-03-08 Q2100, Inc. Mold filing apparatus having multiple fill stations
US7083404B2 (en) 2001-02-20 2006-08-01 Q2100, Inc. System for preparing an eyeglass lens using a mold holder
US6676399B1 (en) 2001-02-20 2004-01-13 Q2100, Inc. Apparatus for preparing an eyeglass lens having sensors for tracking mold assemblies
US7139636B2 (en) 2001-02-20 2006-11-21 Q2100, Inc. System for preparing eyeglass lenses with bar code reader
US6893245B2 (en) 2001-02-20 2005-05-17 Q2100, Inc. Apparatus for preparing an eyeglass lens having a computer system controller
US6962669B2 (en) 2001-02-20 2005-11-08 Q2100, Inc. Computerized controller for an eyeglass lens curing apparatus
US6709257B2 (en) 2001-02-20 2004-03-23 Q2100, Inc. Eyeglass lens forming apparatus with sensor
US6808381B2 (en) 2001-02-20 2004-10-26 Q2100, Inc. Apparatus for preparing an eyeglass lens having a controller
US6655946B2 (en) 2001-02-20 2003-12-02 Q2100, Inc. Apparatus for preparing an eyeglass lens having a controller for conveyor and curing units
US6726463B2 (en) 2001-02-20 2004-04-27 Q2100, Inc. Apparatus for preparing an eyeglass lens having a dual computer system controller
US6612828B2 (en) 2001-02-20 2003-09-02 Q2100, Inc. Fill system with controller for monitoring use
US7124995B2 (en) 2001-02-20 2006-10-24 Q2100, Inc. Holder for mold assemblies and molds
US7004740B2 (en) 2001-02-20 2006-02-28 Q2100, Inc. Apparatus for preparing an eyeglass lens having a heating system
US6676398B2 (en) 2001-02-20 2004-01-13 Q2100, Inc. Apparatus for preparing an eyeglass lens having a prescription reader
US7025910B2 (en) 2001-02-20 2006-04-11 Q2100, Inc Method of entering prescription information
US6790022B1 (en) 2001-02-20 2004-09-14 Q2100, Inc. Apparatus for preparing an eyeglass lens having a movable lamp mount
ITMI20010733A1 (it) 2001-04-05 2002-10-05 Recordati Chem Pharm Uso di inibitori dell'isoenzina cox-2 per il trattamento dell'incontinenza urinaria
GB0118936D0 (en) * 2001-08-02 2001-09-26 Unilever Plc Improvements relating to colour-safe fabric treatment compositions
TWI312786B (en) * 2001-11-08 2009-08-01 Ciba Sc Holding Ag Novel difunctional photoinitiators
WO2003053218A2 (en) * 2001-12-19 2003-07-03 The University Of Texas Health Science Center At San Antonio Implant coatings
GB0205276D0 (en) * 2002-03-06 2002-04-17 Unilever Plc Bleaching composition
US7044429B1 (en) 2002-03-15 2006-05-16 Q2100, Inc. Methods and systems for coating eyeglass lens molds
US6464484B1 (en) 2002-03-30 2002-10-15 Q2100, Inc. Apparatus and system for the production of plastic lenses
JP2004043433A (ja) * 2002-04-26 2004-02-12 Kitai Kagi Kofun Yugenkoshi モルフォリノケトン誘導体及びその用途
US20030225179A1 (en) * 2002-04-26 2003-12-04 Chiu Chingfan Chris Novel morpholinoketone derivatives, and preparation process and uses of the same
EP1523506B1 (en) * 2002-07-19 2012-09-12 Basf Se New difunctional photoinitiators
CA2519524A1 (en) * 2003-04-16 2004-10-28 Ciba Specialty Chemicals Holding Inc. Radiation curable ink-jet ink containing an alpha hydroxy ketone as photoinitiator
CA2522014C (en) * 2003-05-06 2012-12-18 Ciba-Specialty Chemicals Holding Inc. Novel trifunctional photoinitiators
JP4291638B2 (ja) 2003-07-29 2009-07-08 富士フイルム株式会社 アルカリ可溶性ポリマー及びそれを用いた平版印刷版原版
ITVA20030028A1 (it) * 2003-08-07 2005-02-08 Lamberti Spa Sistemi fotopolimerizzabili trasparenti per la preparazione di rivestimenti ad elevato spessore.
JP4348253B2 (ja) 2003-08-20 2009-10-21 富士フイルム株式会社 導電性パターン材料及び導電性パターンの形成方法
ITVA20030040A1 (it) * 2003-10-27 2005-04-28 Lamberti Spa Fotoiniziatore solido bianco in polvere e procedimento per la sua preparazione.
CN1914560A (zh) * 2004-02-02 2007-02-14 西巴特殊化学品控股有限公司 功能化学引发剂
JP3968089B2 (ja) * 2004-05-25 2007-08-29 シャープ株式会社 電子写真感光体およびそれを備える画像形成装置
EP1771430A2 (en) * 2004-07-08 2007-04-11 Ciba Specialty Chemicals Holding Inc. Preparation of alpha-hydroxy and alpha-amino ketones
JP5089866B2 (ja) 2004-09-10 2012-12-05 富士フイルム株式会社 平版印刷方法
EP1799638B1 (en) * 2004-09-29 2008-07-30 Ciba Holding Inc. Process for preparing aromatic thiophenyl ketones
AU2005297812C1 (en) * 2004-10-29 2011-11-17 Dainippon Ink And Chemicals, Inc. Active energy ray-curable ink-jet printing ink
JP4967378B2 (ja) * 2005-03-29 2012-07-04 セイコーエプソン株式会社 インク組成物
JP2006276640A (ja) * 2005-03-30 2006-10-12 Taiyo Ink Mfg Ltd 感光性ペースト及びそれを用いて得られる焼成物パターン
JP4474317B2 (ja) 2005-03-31 2010-06-02 富士フイルム株式会社 平版印刷版の作製方法
ITVA20050032A1 (it) * 2005-05-13 2006-11-14 Lamberti Spa Esteri fenilgliossilici generanti residui a bassa migrabilita' e odore
JP2006335826A (ja) 2005-05-31 2006-12-14 Fujifilm Holdings Corp インクジェット記録用インク組成物およびこれを用いた平版印刷版の作製方法
WO2007002597A2 (en) 2005-06-27 2007-01-04 Biovail Laboratories International S.R.L. Modified-release formulations of a bupropion salt
JP4317853B2 (ja) * 2006-01-12 2009-08-19 シャープ株式会社 電子写真感光体、その製造方法およびそれを用いた画像形成装置
JP5276264B2 (ja) 2006-07-03 2013-08-28 富士フイルム株式会社 インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、及び、平版印刷版の製造方法
EP1927633A1 (en) 2006-11-30 2008-06-04 Seiko Epson Corporation Ink composition, two-pack curing ink composition set, and recording method and recorded matter using these
EP1944173B1 (en) * 2007-01-15 2010-04-21 FUJIFILM Corporation Ink composition and inkjet recording method using the same
JP5472670B2 (ja) 2007-01-29 2014-04-16 セイコーエプソン株式会社 インクセット、インクジェット記録方法及び記録物
EP1955858B1 (en) 2007-02-06 2014-06-18 FUJIFILM Corporation Ink-jet recording method and device
US8240808B2 (en) 2007-02-07 2012-08-14 Fujifilm Corporation Ink-jet head maintenance device, ink-jet recording device and ink-jet head maintenance method
JP5227521B2 (ja) 2007-02-26 2013-07-03 富士フイルム株式会社 インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、及び、インクセット
JP5224699B2 (ja) 2007-03-01 2013-07-03 富士フイルム株式会社 インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、平版印刷版の製造方法、及び平版印刷版
US8894197B2 (en) 2007-03-01 2014-11-25 Seiko Epson Corporation Ink set, ink-jet recording method, and recorded material
JP5098397B2 (ja) * 2007-03-29 2012-12-12 コニカミノルタホールディングス株式会社 インクジェットインク、及びインクジェット記録方法
JP5243072B2 (ja) 2007-03-30 2013-07-24 富士フイルム株式会社 インク組成物、並びに、それを用いた画像記録方法及び画像記録物
JP5306681B2 (ja) 2007-03-30 2013-10-02 富士フイルム株式会社 重合性化合物、重合体、インク組成物、印刷物及びインクジェット記録方法
JP4601009B2 (ja) * 2007-03-30 2010-12-22 富士フイルム株式会社 インクジェット記録用インクセット及びインクジェット記録方法
US9199934B2 (en) * 2007-04-04 2015-12-01 Basf Se Alpha-hydroxyketones
JP4816976B2 (ja) * 2007-08-09 2011-11-16 セイコーエプソン株式会社 光硬化型インク組成物
EP2028241A1 (en) * 2007-08-09 2009-02-25 Seiko Epson Corporation Photocurable ink composition, ink cartridge, inkjet recording method and recorded matter
EP2048539A1 (en) 2007-09-06 2009-04-15 FUJIFILM Corporation Processed pigment, pigment-dispersed composition, colored photosensitive composition, color filter, liquid crystal display element, and solid image pickup element
JP4766281B2 (ja) * 2007-09-18 2011-09-07 セイコーエプソン株式会社 インクジェット記録用非水系インク組成物、インクジェット記録方法および記録物
JP5255369B2 (ja) * 2007-09-25 2013-08-07 富士フイルム株式会社 光硬化性コーティング組成物、オーバープリント及びその製造方法
US9442372B2 (en) 2007-09-26 2016-09-13 Fujifilm Corporation Pigment dispersion composition, photocurable composition and color filter
US8129447B2 (en) * 2007-09-28 2012-03-06 Fujifilm Corporation Ink composition and inkjet recording method using the same
JP5227560B2 (ja) 2007-09-28 2013-07-03 富士フイルム株式会社 インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、及び、成形印刷物の製造方法
JP4898618B2 (ja) 2007-09-28 2012-03-21 富士フイルム株式会社 インクジェット記録方法
JP5265165B2 (ja) 2007-09-28 2013-08-14 富士フイルム株式会社 塗布装置及びこれを用いるインクジェット記録装置
WO2009057523A1 (ja) 2007-11-01 2009-05-07 Fujifilm Corporation 顔料分散組成物、着色硬化性組成物、カラーフィルタ及びその製造方法
GB0724863D0 (en) 2007-12-21 2008-01-30 Unilever Plc Fabric treatment active
JP5457636B2 (ja) * 2008-01-22 2014-04-02 富士フイルム株式会社 光硬化性組成物、光硬化性インク組成物、光硬化物の製造方法、及び、インクジェット記録方法
JP5254632B2 (ja) 2008-02-07 2013-08-07 富士フイルム株式会社 インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、及び、成形印刷物
JP5147499B2 (ja) 2008-02-13 2013-02-20 富士フイルム株式会社 感光性着色組成物、並びにカラーフィルタ及びその製造方法
US20090214797A1 (en) 2008-02-25 2009-08-27 Fujifilm Corporation Inkjet ink composition, and inkjet recording method and printed material employing same
JP2009269397A (ja) * 2008-02-29 2009-11-19 Seiko Epson Corp 不透明層の形成方法、記録方法、インクセット、インクカートリッジ、記録装置
JP5583329B2 (ja) 2008-03-11 2014-09-03 富士フイルム株式会社 顔料組成物、インク組成物、印刷物、インクジェット記録方法、及びポリアリルアミン誘導体
CN101978004B (zh) 2008-03-17 2013-11-06 富士胶片株式会社 颜料分散组合物、着色感光性组合物、光固化性组合物、滤色器、液晶显示元件及固体摄像元件
JP4914862B2 (ja) 2008-03-26 2012-04-11 富士フイルム株式会社 インクジェット記録方法、及び、インクジェット記録装置
JP5155920B2 (ja) 2008-03-31 2013-03-06 富士フイルム株式会社 感光性透明樹脂組成物、カラーフィルタの製造方法及びカラーフィルター
JP5414367B2 (ja) 2008-06-02 2014-02-12 富士フイルム株式会社 顔料分散物及びそれを用いたインク組成物
KR101646284B1 (ko) 2008-06-06 2016-08-05 바스프 에스이 광개시제 혼합물
JP5441369B2 (ja) * 2008-07-16 2014-03-12 富士フイルム株式会社 光硬化性組成物、インク組成物及びそれを用いたインクジェット記録方法
JP5258428B2 (ja) * 2008-07-16 2013-08-07 富士フイルム株式会社 水性インク組成物、インクジェット記録用水性インク組成物およびインクジェット記録方法
JP2010024277A (ja) * 2008-07-16 2010-02-04 Fujifilm Corp インクジェット用インク組成物、及び、インクジェット記録方法
JP5106285B2 (ja) * 2008-07-16 2012-12-26 富士フイルム株式会社 光硬化性組成物、インク組成物、及び該インク組成物を用いたインクジェット記録方法
JP5383133B2 (ja) 2008-09-19 2014-01-08 富士フイルム株式会社 インク組成物、インクジェット記録方法及び印刷物成形体の製造方法
JP2010077228A (ja) 2008-09-25 2010-04-08 Fujifilm Corp インク組成物、インクジェット記録方法、及び、印刷物
KR101648996B1 (ko) 2008-11-03 2016-08-17 바스프 에스이 광개시제 혼합물
JP5344892B2 (ja) * 2008-11-27 2013-11-20 富士フイルム株式会社 インクジェット用インク組成物、及びインクジェット記録方法
JP2010180330A (ja) 2009-02-05 2010-08-19 Fujifilm Corp 非水系インク、インクセット、画像記録方法、画像記録装置、および記録物
JP5350827B2 (ja) 2009-02-09 2013-11-27 富士フイルム株式会社 インク組成物、及び、インクジェット記録方法
JP5340198B2 (ja) 2009-02-26 2013-11-13 富士フイルム株式会社 分散組成物
JP2010209183A (ja) 2009-03-09 2010-09-24 Fujifilm Corp インク組成物及びインクジェット記録方法
JP5349095B2 (ja) 2009-03-17 2013-11-20 富士フイルム株式会社 インク組成物、及び、インクジェット記録方法
JP5349097B2 (ja) 2009-03-19 2013-11-20 富士フイルム株式会社 インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、及び、成形印刷物の製造方法
JP5383289B2 (ja) 2009-03-31 2014-01-08 富士フイルム株式会社 インク組成物、インクジェット用であるインク組成物、インクジェット記録方法、およびインクジェット法による印刷物
WO2010119924A1 (ja) 2009-04-16 2010-10-21 富士フイルム株式会社 カラーフィルタ用重合性組成物、カラーフィルタ、及び固体撮像素子
CN101923282B (zh) * 2009-06-09 2012-01-25 清华大学 纳米压印抗蚀剂及采用该纳米压印抗蚀剂的纳米压印方法
CN102471233B (zh) 2009-06-29 2015-07-22 Dic株式会社 迈克尔加成反应物和活性能量射线固化性组合物
JP5572026B2 (ja) 2009-09-18 2014-08-13 富士フイルム株式会社 インク組成物、及び、インクジェット記録方法
JP5530141B2 (ja) 2009-09-29 2014-06-25 富士フイルム株式会社 インク組成物及びインクジェット記録方法
JP2011152747A (ja) * 2010-01-28 2011-08-11 Seiko Epson Corp 水性インク組成物、およびインクジェット記録方法ならびに記録物
JP5692490B2 (ja) * 2010-01-28 2015-04-01 セイコーエプソン株式会社 水性インク組成物、およびインクジェット記録方法ならびに記録物
JP5554114B2 (ja) 2010-03-29 2014-07-23 富士フイルム株式会社 活性放射線硬化型インクジェット用インク組成物、印刷物、印刷物の製造方法、印刷物成形体、及び印刷物成形体の製造方法
JP5591745B2 (ja) 2010-03-31 2014-09-17 富士フイルム株式会社 活性放射線硬化性インク組成物、インクジェット記録用インク組成物、並びに印刷物、および印刷物成形体の製造方法
JP2012031388A (ja) 2010-05-19 2012-02-16 Fujifilm Corp 印刷方法、オーバープリントの作製方法、ラミネート加工方法、発光ダイオード硬化性コーティング組成物、及び、発光ダイオード硬化性インク組成物
RU2570902C2 (ru) 2010-06-28 2015-12-20 Басф Се Отбеливающая композиция, не содержащая металл
JP5606817B2 (ja) 2010-07-27 2014-10-15 富士フイルム株式会社 活性放射線硬化型インクジェット用インク組成物、印刷物、印刷物成形体、及び印刷物の製造方法
EP2423277A3 (en) 2010-08-27 2012-05-09 Fujifilm Corporation Ink composition for inkjet recording, inkjet recording method and inkjet printed article
CN103601629B (zh) * 2010-11-12 2015-08-26 深圳市有为化学技术有限公司 对位或间位官能团化芳香酮类化合物、其制备方法及其光聚合引发剂
US8816211B2 (en) 2011-02-14 2014-08-26 Eastman Kodak Company Articles with photocurable and photocured compositions
US20120208914A1 (en) 2011-02-14 2012-08-16 Deepak Shukla Photoinitiator compositions and uses
US20120207935A1 (en) 2011-02-14 2012-08-16 Deepak Shukla Photocurable inks and methods of use
CN103391979A (zh) 2011-02-28 2013-11-13 富士胶片株式会社 油墨组合物、图像形成方法及印相物
JP2012201874A (ja) 2011-03-28 2012-10-22 Fujifilm Corp インク組成物、及び画像形成方法
JP5300904B2 (ja) 2011-03-31 2013-09-25 富士フイルム株式会社 インク組成物及び画像形成方法
JP5764416B2 (ja) 2011-07-08 2015-08-19 富士フイルム株式会社 インク組成物及び画像形成方法
EP2760947B1 (en) 2011-09-29 2015-11-04 FUJIFILM Corporation Inkjet ink composition and inkjet recording method
CN102504054B (zh) * 2011-11-01 2014-07-02 长沙新宇高分子科技有限公司 降低直至消除voc排放的多官能团羟基酮光引发剂
EP2791187A4 (en) * 2011-12-16 2015-07-15 Univ Akron SUBSTITUTED PHENACYLMOLECULES AND LIGHT-SENSITIVE POLYMERS
JP5770765B2 (ja) 2012-03-09 2015-08-26 富士フイルム株式会社 放射線硬化型インクジェットインクセット及びインクジェット記録方法
EP2644664B1 (en) 2012-03-29 2015-07-29 Fujifilm Corporation Actinic radiation-curing type ink composition, inkjet recording method, decorative sheet, decorative sheet molded product, process for producing in-mold molded article, and in-mold molded article
JP5606567B2 (ja) 2012-04-19 2014-10-15 富士フイルム株式会社 活性光線硬化型インク組成物、インクジェット記録方法、加飾シート、加飾シート成形物、インモールド成形品の製造方法及びインモールド成形品
WO2014041940A1 (ja) 2012-09-14 2014-03-20 富士フイルム株式会社 硬化性組成物および画像形成方法
CN104703682B (zh) 2012-09-28 2016-05-18 富士胶片株式会社 高分子功能性膜及其制造方法
ES2655681T3 (es) 2012-09-28 2018-02-21 Fujifilm Corporation Membrana polimérica funcional y método para su producción
EP2909165B1 (en) 2012-10-19 2018-05-30 IGM Group B.V. Hybrid photoinitiators
CN103012317B (zh) 2012-12-23 2014-10-15 惠州市华泓新材料有限公司 烷基苯基衍生物和其作为光引发剂的应用
JP6126498B2 (ja) 2013-02-15 2017-05-10 富士フイルム株式会社 高分子機能性膜及びその製造方法
JP5980702B2 (ja) 2013-03-07 2016-08-31 富士フイルム株式会社 インクジェットインク組成物、インクジェット記録方法、及び、成型印刷物の製造方法
EP2965803B1 (en) 2013-03-07 2019-05-15 FUJIFILM Corporation Functional polymer membrane and manufacturing method therefor
JP6004971B2 (ja) 2013-03-12 2016-10-12 富士フイルム株式会社 加飾シート成形物又はインモールド成形品製造用インクジェットインク組成物、加飾シート成形物又はインモールド成形品製造用インクジェット記録方法、加飾シート成形物又はインモールド成形品製造用インクセット、加飾シート成形物又はインモールド成形品製造用加飾シート、加飾シート成形物、及び、インモールド成形品の製造方法
JP5939644B2 (ja) 2013-08-30 2016-06-22 富士フイルム株式会社 画像形成方法、インモールド成型品の製造方法、及び、インクセット
CN103709036B (zh) * 2013-12-03 2015-07-29 天津久日化学股份有限公司 双官能团苯甲酰基甲酸羟基酮酯类化合物及含该类化合物的光引发剂
US10011730B2 (en) * 2014-03-20 2018-07-03 Fujifilm Speciality Ink Systems Limited Printing ink
JP6066960B2 (ja) 2014-05-30 2017-01-25 富士フイルム株式会社 成形加工用活性光線硬化型インク組成物、インクセット、インクジェット記録方法、成形加工用加飾シート、加飾シート成形物及びインモールド成形品の製造方法
EP3176153B1 (en) * 2014-08-01 2020-04-08 Adeka Corporation Novel polymerization initiator and radically polymerizable composition containing same
CN104151267B (zh) * 2014-08-08 2016-04-27 广东鑫钰新材料股份有限公司 芳基上含氮杂环取代的1-羟基环己基苯甲酮的制备方法
WO2016034963A1 (en) 2014-09-04 2016-03-10 Basf Se Polycyclic photoinitiators
JP6561126B2 (ja) 2015-08-27 2019-08-14 富士フイルム株式会社 感光性組成物、画像形成方法、及び膜形成方法
EP3412694B1 (en) 2016-02-05 2021-12-08 FUJIFILM Corporation Aqueous dispersion, method for manufacturing the same, and image forming method
WO2017135088A1 (ja) 2016-02-05 2017-08-10 富士フイルム株式会社 水分散物及びその製造方法、並びに画像形成方法
WO2017135085A1 (ja) 2016-02-05 2017-08-10 富士フイルム株式会社 水分散物及びその製造方法、並びに画像形成方法
CN108602367B (zh) 2016-02-10 2020-07-14 富士胶片株式会社 喷墨记录方法
EP3575372B1 (en) 2017-01-30 2022-12-28 FUJIFILM Corporation Active-ray-curable ink composition and inkjet recording method
WO2018155174A1 (ja) 2017-02-24 2018-08-30 富士フイルム株式会社 光硬化性インク組成物、及び、画像形成方法
EP3587513B1 (en) 2017-02-24 2023-12-06 FUJIFILM Corporation Photo-curable ink composition and method for forming image
EP3604458B1 (en) 2017-03-30 2021-05-05 FUJIFILM Corporation Photocurable ink composition and image formation method
WO2018186225A1 (ja) 2017-04-03 2018-10-11 富士フイルム株式会社 インク組成物及びその製造方法、並びに画像形成方法
CN110475830B (zh) 2017-04-03 2022-03-25 富士胶片株式会社 油墨组合物及其制造方法、以及图像形成方法
EP3395793B9 (en) * 2017-04-24 2021-09-29 IGM Group B.V. Process for the preparation of alpha-functionalized ketones
JP6924260B2 (ja) 2017-04-26 2021-08-25 富士フイルム株式会社 光硬化性インク組成物、及び、画像形成方法
JP6861811B2 (ja) 2017-06-20 2021-04-21 富士フイルム株式会社 光硬化性インク組成物、及び、画像形成方法
EP3660111A4 (en) 2017-07-26 2020-07-22 FUJIFILM Corporation INK COMPOSITION, PRODUCTION METHOD AND IMAGE GENERATION METHOD
CN111051440B (zh) 2017-08-29 2022-09-06 富士胶片株式会社 油墨组合物及其制造方法、以及图像形成方法
JP6882499B2 (ja) 2017-09-27 2021-06-02 富士フイルム株式会社 活性エネルギー線硬化型インクジェットインク、遮光膜、及び遮光膜の製造方法
WO2019188481A1 (ja) 2018-03-27 2019-10-03 富士フイルム株式会社 光硬化性インク組成物及び画像形成方法
JP6932243B2 (ja) 2018-03-27 2021-09-08 富士フイルム株式会社 光硬化性インク組成物及び画像形成方法
GB201815407D0 (en) 2018-09-21 2018-11-07 Fujifilm Mfg Europe Bv Membranes suitable for detecting, filtering and/or purifying biomolecules and metal-ions
GB201815405D0 (en) 2018-09-21 2018-11-07 Fujifilm Mfg Europe Bv Membranes suitable for detecting, filtering and/or purifying biomolecules
EP3902878A1 (en) * 2018-12-28 2021-11-03 IGM Resins Italia S.r.l. Photoinitiators
EP3936579A4 (en) 2019-03-06 2022-04-20 FUJIFILM Corporation INK-JET PRINTING INK COMPOSITION, IMAGE PRINTING METHOD AND OBJECT WITH PRINTED IMAGE
EP3950856B1 (en) 2019-03-29 2024-04-17 FUJIFILM Corporation Photocurable ink composition and image recording method
GB201904581D0 (en) 2019-04-02 2019-05-15 Fujifilm Mfg Europe Bv Membranes and processes for their preparation
GB201917711D0 (en) 2019-12-04 2020-01-15 Fujifilm Mfg Europe Bv Affinity membranes, compounds, compositions and processes for their preparation and use
GB201917710D0 (en) 2019-12-04 2020-01-15 Fujifilm Mfg Europe Bv Affinity membranes, compounds, compositions and processes for their preparation and use
EP4183845A4 (en) 2020-07-15 2023-12-06 FUJIFILM Corporation INK SET FOR RECORDING A SECURITY IMAGE, SECURITY IMAGE RECORDING METHOD AND SECURITY IMAGE RECORDING
GB202013838D0 (en) 2020-09-03 2020-10-21 Fujifilm Mfg Europe Bv Composite membrane
GB202015379D0 (en) 2020-09-29 2020-11-11 Fujifilm Mfg Europe Bv Membranes
GB202015436D0 (en) 2020-09-30 2020-11-11 Fujifilm Mfg Europe Bv Compositions and polymer films
GB202015440D0 (en) 2020-09-30 2020-11-11 Fujifilm Mfg Europe Bv Compounds, compositions and polymer films
GB202015546D0 (en) 2020-09-30 2020-11-11 Fujifilm Mfg Europe Bv Membranes
GB202019478D0 (en) 2020-12-10 2021-01-27 Fujifilm Corp Purifying polar liquids
GB202101153D0 (en) 2021-01-28 2021-03-17 Fujifilm Mfg Europe Bv Polymer films
GB202104408D0 (en) 2021-03-29 2021-05-12 Fujifilm Mfg Europe Bv Cationically charged membranes
GB202104403D0 (en) 2021-03-29 2021-05-12 Fujifilm Mfg Europe Bv Polymer Film
CN117545783A (zh) * 2021-08-26 2024-02-09 富士胶片株式会社 固化性组合物、固化物的制造方法、膜、光学元件、图像传感器、固体摄像元件、图像显示装置及自由基聚合引发剂
GB202113996D0 (en) 2021-09-30 2021-11-17 Fujifilm Mfg Europe Bv Films and their uses
GB202113997D0 (en) 2021-09-30 2021-11-17 Fujifilm Mfg Europe Bv Membranes
GB202113999D0 (en) 2021-09-30 2021-11-17 Fujifilm Mfg Europe Bv Membranes
GB202114000D0 (en) 2021-09-30 2021-11-17 Fujifilm Mfg Europe Bv Membranes
CN113861010A (zh) * 2021-10-13 2021-12-31 深圳市芯研材料科技有限公司 单取代及多取代官能团芳香酮类化合物、其制备方法及其光聚合引发剂
GB202201759D0 (en) 2022-02-11 2022-03-30 Fujifilm Mfg Europe Bv Membranes
GB202204625D0 (en) 2022-03-31 2022-05-18 Fujifilm Mfg Europe Bv Bipolar membranes
GB202204633D0 (en) 2022-03-31 2022-05-18 Fujifilm Mfg Europe Bv Bipolar membranes
GB202204631D0 (en) 2022-03-31 2022-05-18 Fujifilm Mfg Europe Bv Membranes
GB202207568D0 (en) 2022-05-24 2022-07-06 Fujifilm Mfg Europe Bv Membranes
WO2024068595A1 (en) 2022-09-29 2024-04-04 Fujifilm Manufacturing Europe Bv Membranes
WO2024068598A1 (en) 2022-09-29 2024-04-04 Fujifilm Manufacturing Europe Bv Membranes
WO2024068601A1 (en) 2022-09-29 2024-04-04 Fujifilm Manufacturing Europe Bv Membranes
WO2024132502A1 (en) 2022-12-22 2024-06-27 Fujifilm Manufacturing Europe Bv Membranes
WO2024132498A1 (en) 2022-12-22 2024-06-27 Fujifilm Manufacturing Europe Bv Membranes

Family Cites Families (40)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE651543C (de) * 1936-03-21 1937-10-16 Chemische Werke Vorm H & E Alb Verfahren zur Herstellung von ªÏ-Dimethylaminoalkylarylketonen
DE671786C (de) * 1937-11-16 1939-02-13 Albert Ag Chem Werke Verfahren zur Herstellung von N-[(Benzoylphenyl)-methyl]-tetrahydro-p-oxazin
US2588123A (en) * 1946-11-13 1952-03-04 Gen Electric Preparation of vinyltetrahydronaphthalenes
US2722512A (en) * 1952-10-23 1955-11-01 Du Pont Photopolymerization process
BE565446A (pl) * 1957-03-06
CH365381A (fr) * 1957-03-29 1962-11-15 Morren Henri Procédé pour la préparation de dérivés de la pipérazine
NL128358C (pl) * 1958-12-19
DE1164388B (de) * 1959-03-02 1964-03-05 Temmler Werke Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung von Aryl-alkylbromketonen
NL283329A (pl) * 1961-09-18
US3465039A (en) * 1962-09-17 1969-09-02 Andreas J Rottendorf Chem Fab Therapeutically active secondary and tertiary 1 - halogenphenyl - 2 - amino-alkanones (1)
US3171858A (en) * 1963-08-30 1965-03-02 Parke Davis & Co alpha-ethylamino-o-methylisobutyrophenone
NL125868C (pl) * 1964-01-29
DE1694149C2 (de) * 1967-05-06 1976-01-02 Bayer Ag, 5090 Leverkusen Polyester-Form- und Überzugsmassen
DE1769854C3 (de) * 1968-07-26 1982-08-19 Bayer Ag, 5090 Leverkusen Photoinitiatoren und Verfahren zur Photopolymerisation
DE1807301A1 (de) * 1968-11-06 1970-06-04 Bayer Ag Neue Buttersaeurederivate
DE1902051A1 (de) * 1969-01-16 1970-08-13 Bayer Ag Verfahren zur Herstellung alpha-substituierter Benzoine und Benzoinäther
US3578682A (en) * 1969-03-20 1971-05-11 Ash Stevens Inc 2,5-bis-(2-n-lower alkyl amino isopropyl)-1,3,4-trithiolanes and process for the preparation thereof
DE1923266B2 (de) * 1969-05-07 1977-09-29 Basf Ag, 6700 Ludwigshafen Alpha-hydroxymethylbenzoinaether
BE759838A (fr) * 1969-12-04 1971-06-03 Wellcome Found Cetones a activite biologique
US3657088A (en) * 1969-12-17 1972-04-18 Bayer Ag Moulding and coating masses hardenable by uv irradiation
GB1408265A (en) * 1971-10-18 1975-10-01 Ici Ltd Photopolymerisable composition
DE2161085A1 (de) * 1971-12-09 1973-06-14 Basf Ag Bindemittel fuer lichthaertende druckfarben
US3715293A (en) * 1971-12-17 1973-02-06 Union Carbide Corp Acetophenone-type photosensitizers for radiation curable coatings
DE2232365C2 (de) * 1972-07-01 1982-06-09 Basf Ag, 6700 Ludwigshafen Durch UV-Bestrahlung polymerisierbare Gemische
US3829467A (en) * 1972-07-03 1974-08-13 Rorer Inc William H Tetrahydronaphthylalkanoic acids and their derivatives
DE2357866A1 (de) * 1972-12-06 1974-06-12 Sun Chemical Corp Unter strahlungseinwirkung haertbare massen
US3900478A (en) * 1973-01-29 1975-08-19 Squibb & Sons Inc 2-methyl-2-piperidino-3'-(trifluoromethyl) propiophenone
JPS5314041B2 (pl) * 1973-03-31 1978-05-15
GB1469643A (en) * 1973-11-19 1977-04-06 Ici Ltd Photopolymerisable composition
US4048038A (en) * 1974-07-08 1977-09-13 J. M. Huber Corporation Electroflocculation cell
US4017652A (en) * 1974-10-23 1977-04-12 Ppg Industries, Inc. Photocatalyst system and ultraviolet light curable coating compositions containing the same
US4024324A (en) * 1975-07-17 1977-05-17 Uop Inc. Novel polyolefin composition of matter
US3988228A (en) * 1975-08-29 1976-10-26 Eastman Kodak Company Photopolymerizable polymeric compositions containing halogen containing aromatic ketones
US4040923A (en) * 1976-06-03 1977-08-09 Eastman Kodak Company Photopolymerizable polymeric compositions containing halogen containing aromatic ketones
US4101584A (en) * 1976-12-10 1978-07-18 Napp Chemicals Inc. Bisbenzoin ethers and method of producing benzoin ethers
US4141807A (en) * 1977-03-01 1979-02-27 Stauffer Chemical Company Photopolymerizable composition stabilized with nitrogen-containing aromatic compounds
DE2808459A1 (de) * 1977-05-17 1979-08-30 Merck Patent Gmbh Hydroxyalkylphenone und ihre verwendung als photosensibilisatoren
DE2722264C2 (de) 1977-05-17 1984-06-28 Merck Patent Gmbh, 6100 Darmstadt Verwendung von substituierten Oxyalkylphenonen als Photosensibilisatoren
DE2962442D1 (de) * 1978-07-13 1982-05-19 Ciba Geigy Ag Compositions photodurcissables
US4279720A (en) * 1978-07-13 1981-07-21 Ciba-Geigy Corporation Photocurable composition

Also Published As

Publication number Publication date
SU948300A3 (ru) 1982-07-30
JPH0257081B2 (pl) 1990-12-04
AU4277578A (en) 1979-06-28
FI64169C (fi) 1983-10-10
US4321118A (en) 1982-03-23
BR7808406A (pt) 1980-05-20
JPH0248536B2 (pl) 1990-10-25
DK157083B (da) 1989-11-06
AT369392B (de) 1982-12-27
DD141320A5 (de) 1980-04-23
PL212042A1 (pl) 1979-09-10
US4308400A (en) 1981-12-29
FI64169B (fi) 1983-06-30
JPH01308404A (ja) 1989-12-13
GR71655B (pl) 1983-06-20
EP0003002B1 (de) 1984-06-13
EP0003002A2 (de) 1979-07-11
FI783919A (fi) 1979-06-23
US4315807A (en) 1982-02-16
EP0003002A3 (en) 1980-01-09
ATA917678A (de) 1982-05-15
JPH0134242B2 (pl) 1989-07-18
DK157083C (da) 1990-03-19
JPS5499185A (en) 1979-08-04
AR226169A1 (es) 1982-06-15
AU529495B2 (en) 1983-06-09
DK576278A (da) 1979-06-23
CA1234242A (en) 1988-03-15
HU181680B (en) 1983-11-28
US4318791A (en) 1982-03-09
JPH01139554A (ja) 1989-06-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
PL117576B1 (en) Photopolymerizing compound
AU741581B2 (en) New alpha-aminoacetophenone photoinitiators
AT404729B (de) Alkylphenylbisacylphosphinoxide und photoinitiatormischungen
AU718619B2 (en) Non-volatile phenylglyoxalic esters
CN107075000B (zh) 多环光引发剂
JP3834738B2 (ja) アルコキシフェニル置換ビスアシルホスフィンオキシド
JP2514804B2 (ja) 共重合性光開始剤
CZ298405B6 (cs) O-acyloximové fotoiniciátory, prostredky, které je obsahují, a jejich použití
CN109790137B (zh) 多环乙醛酸酯作为光引发剂
JPH0429681B2 (pl)
KR20060125882A (ko) 관능화된 광개시제
CN113518805B (zh) 光引发剂
US6287749B1 (en) Biradical photoinitiators and photopolymerizable compositions
DE2730462A1 (de) Photoinitiatoren fuer uv-haertbare massen
JPH069669A (ja) 光開始剤としてのベンゾイル−置換フォスファビシクロアルカン及びフォスファビシクロスルフィド
EP0097124B1 (de) Verfahren zur Photopolymerisation ungesättigter Verbindungen
KR100532559B1 (ko) 신규α-아미노아세토페논광개시제
CA1142949A (en) Sensitizers for photopolymerisation