NL8001999A - Bad voor het platteren met zilver en een legering van goud en zilver en een werkwijze voor het platteren daarmede. - Google Patents
Bad voor het platteren met zilver en een legering van goud en zilver en een werkwijze voor het platteren daarmede. Download PDFInfo
- Publication number
- NL8001999A NL8001999A NL8001999A NL8001999A NL8001999A NL 8001999 A NL8001999 A NL 8001999A NL 8001999 A NL8001999 A NL 8001999A NL 8001999 A NL8001999 A NL 8001999A NL 8001999 A NL8001999 A NL 8001999A
- Authority
- NL
- Netherlands
- Prior art keywords
- bath
- silver
- water
- cyanide
- potassium
- Prior art date
Links
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 24
- 239000004332 silver Substances 0.000 title claims description 24
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 title claims description 21
- 229910001316 Ag alloy Inorganic materials 0.000 title claims description 12
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 10
- 238000007747 plating Methods 0.000 title description 9
- 229910001020 Au alloy Inorganic materials 0.000 title description 4
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 33
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical compound OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 13
- 239000004327 boric acid Substances 0.000 claims description 13
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 11
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims description 9
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 claims description 8
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- KZNICNPSHKQLFF-UHFFFAOYSA-N succinimide Chemical compound O=C1CCC(=O)N1 KZNICNPSHKQLFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- XFXPMWWXUTWYJX-UHFFFAOYSA-N Cyanide Chemical compound N#[C-] XFXPMWWXUTWYJX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 150000008044 alkali metal hydroxides Chemical class 0.000 claims description 7
- 230000008021 deposition Effects 0.000 claims description 7
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229920002873 Polyethylenimine Polymers 0.000 claims description 6
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 claims description 6
- HKSGQTYSSZOJOA-UHFFFAOYSA-N potassium argentocyanide Chemical compound [K+].[Ag+].N#[C-].N#[C-] HKSGQTYSSZOJOA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 238000005275 alloying Methods 0.000 claims description 5
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 claims description 5
- XTFKWYDMKGAZKK-UHFFFAOYSA-N potassium;gold(1+);dicyanide Chemical compound [K+].[Au+].N#[C-].N#[C-] XTFKWYDMKGAZKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 229940100890 silver compound Drugs 0.000 claims description 5
- 150000003379 silver compounds Chemical class 0.000 claims description 5
- 229910002065 alloy metal Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- WQMVVOKCUPKPKL-UHFFFAOYSA-L potassium;silver;5-oxo-3,4-dihydropyrrol-2-olate Chemical compound [K+].[Ag+].[O-]C1=NC(=O)CC1.[O-]C1=NC(=O)CC1 WQMVVOKCUPKPKL-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 4
- 229960002317 succinimide Drugs 0.000 claims description 4
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- -1 alkali metal gold cyanide Chemical class 0.000 claims description 3
- 239000000908 ammonium hydroxide Substances 0.000 claims description 3
- 229910052785 arsenic Inorganic materials 0.000 claims description 3
- RQNWIZPPADIBDY-UHFFFAOYSA-N arsenic atom Chemical compound [As] RQNWIZPPADIBDY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims description 3
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 2
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N citric acid Chemical compound OC(=O)CC(O)(C(O)=O)CC(O)=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 3
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 claims 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims 2
- BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N methanoic acid Natural products OC=O BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 150000002940 palladium Chemical class 0.000 claims 2
- OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 4-(3-methoxyphenyl)aniline Chemical compound COC1=CC=CC(C=2C=CC(N)=CC=2)=C1 OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- UEZVMMHDMIWARA-UHFFFAOYSA-N Metaphosphoric acid Chemical compound OP(=O)=O UEZVMMHDMIWARA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- ABLZXFCXXLZCGV-UHFFFAOYSA-N Phosphorous acid Chemical compound OP(O)=O ABLZXFCXXLZCGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 claims 1
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 claims 1
- 235000019253 formic acid Nutrition 0.000 claims 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 claims 1
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 claims 1
- 150000002816 nickel compounds Chemical class 0.000 claims 1
- 230000000087 stabilizing effect Effects 0.000 claims 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 description 7
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 5
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 5
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 3
- 239000001508 potassium citrate Substances 0.000 description 3
- 229960002635 potassium citrate Drugs 0.000 description 3
- QEEAPRPFLLJWCF-UHFFFAOYSA-K potassium citrate (anhydrous) Chemical compound [K+].[K+].[K+].[O-]C(=O)CC(O)(CC([O-])=O)C([O-])=O QEEAPRPFLLJWCF-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 3
- 235000011082 potassium citrates Nutrition 0.000 description 3
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 3
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 2
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 2
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 2
- MIAJZAAHRXPODB-UHFFFAOYSA-N cobalt potassium Chemical compound [K].[Co] MIAJZAAHRXPODB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 2
- 239000003353 gold alloy Substances 0.000 description 2
- 150000002825 nitriles Chemical class 0.000 description 2
- 235000011007 phosphoric acid Nutrition 0.000 description 2
- 150000003016 phosphoric acids Chemical class 0.000 description 2
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M sodium hydroxide Inorganic materials [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- RGHNJXZEOKUKBD-KLVWXMOXSA-N L-gluconic acid Chemical compound OC[C@H](O)[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)C(O)=O RGHNJXZEOKUKBD-KLVWXMOXSA-N 0.000 description 1
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ASUJVUFPPZRIBG-UHFFFAOYSA-N [Co](C#N)(C#N)C#N.[K] Chemical compound [Co](C#N)(C#N)C#N.[K] ASUJVUFPPZRIBG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 1
- WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N antimony atom Chemical compound [Sb] WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010953 base metal Substances 0.000 description 1
- 125000002057 carboxymethyl group Chemical group [H]OC(=O)C([H])([H])[*] 0.000 description 1
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- ZPWVASYFFYYZEW-UHFFFAOYSA-L dipotassium hydrogen phosphate Chemical compound [K+].[K+].OP([O-])([O-])=O ZPWVASYFFYYZEW-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910000396 dipotassium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019797 dipotassium phosphate Nutrition 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 150000002466 imines Chemical class 0.000 description 1
- 229910000337 indium(III) sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- XGCKLPDYTQRDTR-UHFFFAOYSA-H indium(iii) sulfate Chemical compound [In+3].[In+3].[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O XGCKLPDYTQRDTR-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- LGQLOGILCSXPEA-UHFFFAOYSA-L nickel sulfate Chemical class [Ni+2].[O-]S([O-])(=O)=O LGQLOGILCSXPEA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229960003975 potassium Drugs 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 1
- IIQJBVZYLIIMND-UHFFFAOYSA-J potassium;antimony(3+);2,3-dihydroxybutanedioate Chemical compound [K+].[Sb+3].[O-]C(=O)C(O)C(O)C([O-])=O.[O-]C(=O)C(O)C(O)C([O-])=O IIQJBVZYLIIMND-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- CVHZOJJKTDOEJC-UHFFFAOYSA-N saccharin Chemical compound C1=CC=C2C(=O)NS(=O)(=O)C2=C1 CVHZOJJKTDOEJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940081974 saccharin Drugs 0.000 description 1
- 235000019204 saccharin Nutrition 0.000 description 1
- 239000000901 saccharin and its Na,K and Ca salt Substances 0.000 description 1
- WYCFMBAHFPUBDS-UHFFFAOYSA-L silver sulfite Chemical compound [Ag+].[Ag+].[O-]S([O-])=O WYCFMBAHFPUBDS-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- RXWQRLQUJZRVHB-UHFFFAOYSA-M silver;5-oxo-3,4-dihydropyrrol-2-olate Chemical compound [Ag+].[O-]C1=NC(=O)CC1 RXWQRLQUJZRVHB-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- GGCZERPQGJTIQP-UHFFFAOYSA-N sodium;9,10-dioxoanthracene-2-sulfonic acid Chemical compound [Na+].C1=CC=C2C(=O)C3=CC(S(=O)(=O)O)=CC=C3C(=O)C2=C1 GGCZERPQGJTIQP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D3/00—Electroplating: Baths therefor
- C25D3/02—Electroplating: Baths therefor from solutions
- C25D3/46—Electroplating: Baths therefor from solutions of silver
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D3/00—Electroplating: Baths therefor
- C25D3/02—Electroplating: Baths therefor from solutions
- C25D3/56—Electroplating: Baths therefor from solutions of alloys
- C25D3/64—Electroplating: Baths therefor from solutions of alloys containing more than 50% by weight of silver
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
Description
N.O. 28.669 "1“
Bad voor het platteren met zilver en een legering van goud en zilver v en een werkwijze voor het platteren daarmede.
De uitvinding heeft betrekking op een werkwijze voor de verbetering van de stabiliteit van de pH en het glans gevende effect van een water bevattend bad dat weinig of geen vrij cyanide bevat dat dient te worden gebruikt voor de elektrolytische afscheiding van 5 zilver of zilverlegeringen alsmede op een bad dat bestaat uit een glans gevend middel op basis van een imine, een oplosbaar zilverzout, 0-5 gev.% van een oplosbaar legerend metaalzout, boorzuur en een ammonium- of alkalimetaalhydroxide voor de instelling van de pH op 8,0 tot ongeveer 9>5· 10 Het gebruik van boorzuur als component in water bevattende baden voor de €.ektrolytische afscheiding van verscheidene metalen waartoe zilver en zilverlegeringen behoren is in het algemeen bekend. Typische baden van het zure type zijn bijvoorbeeld in de Amerikaanse octrooischriften 3-833-488 en 2.967-135 beschreven.
15 Het gebruik van water bevattende baden voor het elektrolytische afscheiden die een basische pH hebben, dat wil zeggen een pH groter dan 7»0, behoren echter tot een meer recente ontwikkeling. Gewezen wordt bijvoorbeeld op het Amerikaanse octrooischrift 3-864*222, waarbij men polyethyleeniminen in baden voor het platteren met goud 20 en goudlegeringen gebruikt als hulpmiddel voor het handhaven van de glans van het afgescheiden metaal en voor het mogelijk maken van een uitbreiding van het pH-gebied in het basische gebied. Echter moet de toepassing van glans gevende middelen van het imine-type in niet-zure elektrolytische baden, in het bijzonder in baden die weinig 25 of geen vrij cyanide bevatten, die duidelijk voordelen heeft, worden opgewogen tegen aanzienlijke bijkomende moeilijkheden in de beheersing van de pH van dergelijke baden. Niet te beheersen veranderingen in de pïï leveren vaak een matte ongelijkmatige elektrolytische afscheiding en een snelle verslechtering van het bad tijdens ^ het gebruik op.
Aan de uitvinding lag het probleem ten grondslag een methode te verschaffen voor het terugbrengen tot een minimum van de verandering van de pH tijdens de elektrolytische afscheiding met de voordelen van een water bevattend basisch bad met een kleine concentra-55 tie vrije cyaniden of zonder vrije cyaniden.
Voorts lag aan de uitvinding het probleem ten grondslag een stabiel basisch water bevattend bad voor de elektrolytische afschel- 800 1 9 99 -2- 5* r * ding van zilver of zilverlegeringen te verschaffen.
Gevonden werd, dat basische water bevattende baden voor het elek- trolytische platteren met zilver of zilverlegeringen, die weinig of uit geen vrij cyanide bevatten en die bestaaiya) een oplosbare zilverver-5 binding; b) 0 tot ongeveer 5 gew.% van een oplosbaar zout van een legerend metaal; c) een elektrolyt ter bevordering van de elektrische geleiding; d) een effectieve hoeveelheid van een glans gevend middel van het imine-type* doelmatig kan worden gestabiliseerd door daaraan toevoegen van 10 ongeveer 0,5 tot 10 gew.% boorzuur en ten minste één alkalimetaal-hydroxide of ammoniumhydrcod.de in een hoeveelheid die is vereist voor de instelling van de pH van het water bevattende bad binnen het gebied van 8,0 tot ongeveer 9>5·
Als oplosbare zilververbinding in het bad kan nagenoeg elke oplos-15 bare zilververbinding worden gebruikt, zoals bijvoorbeeld kaliumzilver-cyanide, kaliumzilversuccinimide of een zilversulfiet.
Indien een zilverlegering elektrolytisch dient te worden afgescheiden is het eveneens doelmatig een oplosbaar zout van een legerend metaal in een hoeveelheid van ten hoogste 5 gev.% (binnen het gebied van 20 0-5 gew.%) en bij voorkeur ongeveer 0,05 tot ongeveer 20 g per liter van de oplossing te gebruiken. In een dergelijk geval kan het legerende metaal bij voorkeur, echter niet uitsluitend, één of meer van de metalen kobalt, nikkel, koper, arseen, indium, palladium of andere metalen naast zilver zijn, afhankelijk van het doel van gebruik van 25 het te verkrijgen geplatteerde produkt.
Geschikte elektrolytcomponenten die de elektrische geleiding bevorderen kunnen de gebruikelijke typen zijn en zijn bijvoorbeeld zouten van fosfrzuur, fosfonzuur, fosfeenzuur, citroenzuur, maleine-zuur, mierezuur en ook andere toevoegsels zoals polyaminoazijnzuren, 50 organische fosfienzuren, fosforzuren of carboxymethyl-derivaten van organische fosforzuren. Een dergelijke elektrolyt of dergelijke elektrolyten zijn doelmatig in hoeveelheden van ongeveer 20 tot ongeveer 100 g per liter van de oplossing in het bad aanwezig, waarbij deze hoeveelheden echter niet zijn beperkt tot het aangegeven gebied.
35 Tot de glans gevende middelen volgens de uitvinding van het imine-type behoren cyclische of lineaire verbindingen van het imine-type zoals succinimide of saccharine en ook polyethyleenimine; een werkzame hoeveelheid volgens de uitvinding kan doelmatig van ongeveer 0,1 gew.% tot 3 gew.% betrokken op de oplossing variëren. Indien ge-40 wenst kunnen één of meer van de vermelde toevoegsels worden gebruikt.
8001999 -3-
De hoeveelheid boorzuur volgens de uitvinding kan doelmatig van 'v ongeveer 0,5 tot 10 gew.% variëren, bij voorkeur vaiiongeveer 0,5 tot 5 geTiT.%.
Haast het tevoren vermelde kan het water bevattende bad volgens 5 de uitvinding voorts chelaten vormende verbindingen bevatten, zoals kobalt- of nikkel-sulfaten of chelaten van de basis-metalen met ni-trilotriazijnzuur of ethyleendiaminotetraazijnzuur en dergelijke.
De pH van het bad wordt binnen het gebied van 8,0 tot ongeveer 9,5 ingesteld, bij voorkeur op ongeveer 9>0^door toevoeging van een 10 ammoniumhydroxide of «en alkalimetaalhydroxide zoals natrium- of kaliumhydroxide.
Voor het elektrolytische platteren volgens de werkwijze van de uitvinding wordt in het algemeen boorzuur aan het bad toegevoegd dat reeds de zilver- en/of legerende metaalzouten bevat, de pH van het 15 bad wordt met een alkalimetaalhydroxide op 8,0 tot ongeveer 9>5 ingesteld en de trap van het elektrolytische platteren wordt uitgevoerd door plattering van een oppervlakte of een metalen substraat onder toepassing van een stroomdichtheid van doelmatig ongeveer 0,054 tot 10,8 ampère/dm^ bij een temperatuur van ongeveer 20 tot ongeveer 70° 20 c, bij voorkeur ongeveer 60 tot 70°C.
De volgens de uitvinding verkregen water bevattende baden kunnen worden gebruikt voor de afscheiding van zuiver zilver en/of zilver- legeringen bij de vervaardiging van sieraden en horlogekasten en ook voor optische en industriële doeleinden en verschaffen een uitsteken- 25 de elektmiytische afscheiding van een homogeen afgescheiden laag van een zilver en/of/zilverlegering bij minimale veranderingen van de pH in het bad tijdens het platteringsproces.
De uitvinding wordt door de volgende voorbeelden geïllustreerd.
Voorbeeld I.
30 Een water bevattend bad werd bereid dat de volgende componenten bevatte: zilver als kalium-zilversuccinimide 24 g/l, kaliumcitisat 50 g/l, succinimide 25 g/l.
De pH van het bad werd met kaliumhydroxide op 9>0 ingesteld en de elektrolyse onder toepassing van het bad met onoplosbare anoden werd 35 bij kamertemperatuur met een stroomdichtheid van 0,54 A/dnr uitgevoerd. Het zilver werd tijdens de elektrolyse aangevuld door toevoeging van het zilversuccinimide-compiex. De pH van het bad daalde van 9,0 tot 7,5 na een elektrolyse van 2 A-uur.
Voorbeeld II.
40 Een water bevattend bad werd bereid dat de volgende componenten 800 1 9 99 -4- * bevatte: zilver als kaliumzilversuccinimide 24 g/l succinimide 25 g/l boorzuur 30 g/l 5 De pH van het bad werd met kaliumhydroxide op 9>0 ingesteld en met het bad werd onder toepassing van onoplosbare anoden bij ka- o mertemperatuur met een stroomdichtheid van 0,54 A/dm geelektro-lyseerd. Het zilver werd door toevoeging van het zilversuccinimide-complex aangevuld. De pH van het bad was na een elektrolyse van 6 10 A-uren constant op 9»0 gebleven.
Voorbeeld III.
Een water bevattend bad werd bereid dat de volgende componenten bevatte: zilver als kaliumzilvercyanide 3 g/l 15 goud als kaliumgoudcyanide 12,3 g/l kobalt als kalium-kobalt(lil)cyanide 0,8 g/l polyethyleenimine 10 mg/l kaliumcitraat 30 g/l
De pH van het bad werd met kaliumhydroxide op 9>0 ingestaLd en 20 met het bad werd bij kamertemperatuur met een stroomdichtheid van 2 0,54 A/dm geelektrolyseerd. De pH van het bad steeg van 9»0 tot i 10,4 in 12 A-min.
VoorbeêLd IV.
Een bad werd bereid zoals in voorbeeld III, waarbij echter het 25 kaliumcitraat werd vervangen door 30 g/l boorzuur. De pH van het bad werd met kaliumhydroxide op 9>0 ingesteld. Vervolgens werd met het 2 bad bij kamertemperatuur met een stroomdichtheid van 0,54 A/dm geelektrolyseerd. De pH van het bad bleef op 9>0 constant gedurende 360 A-min.
30 Voorbeeld V.
Een bad werd bereid dat de volgende componenten bevatte: zilver als kaliumzilvercyanide 2 g/l goud als kaliumgoudcyanide 8 g/l antimoon als kaliumantimoontartraat 1,5 g/l 35 indium als indiumsulfaat 3>3 g/l nitriliotriazijnzuur 20 g/l « kaliummonowaterstoffosfaat 25 g/l gluconzuur 50 ml/l
De pH van het bad werd met kaliumhydroxide op 8,5 ingesteld. Na 40 elektrolyse met-het bad onder toepassing van onoplosbare anoden in 8001999 -5- $ 12 i_min was de pH van 8,5 gestegen tot 10,2.
Voorbeeld 71.
Onder toepassing van een bad met een samenstelling zoals die van het bad in voorbeeld 7, waaraan echter 50 g/l boorzuur was toe-5 gevoegd dat met kaliumhydroxide tot een pH van 8,5 was geneutraliseerd werd de elektrolyse uitgevoerd onder toepassing van onoplosbare anoden voor de afscheiding van zilver/goud-legeringen in 6 .ê-urai waarbij de pH slechts weinig veranderde van 8,5 in 8,8.
Voorbeeld VII.
10 Een bad werd bereid dat de volgende componenten bevatte: zilver als kaliumzilvercyanide 5 g/l goud als kaliumgoudcyanide 12,5 g/l kobalt als kalium-kobalt(lll)cyanide 0,8 g/l kaliumcitraat 25 g/l 15 polyethyleenimine 3.0 mg/l
De pH van het bad werd met kaliumhydroxide op 9»0 ingesteld. Na i 15 A-min platteren steeg de pH van het tadvan 9>0 tot 10,5.
Voorbeeld VIII.
Onder toepassing van een bad, samengesteld zoals het bad in voor-20 beeld VII, waaraan echter 25 g/l boorzuur waren toegevoegd dat met kaliumhydroxide tot pH 9>0 was geneutraliseerd werd de elektrolyse onder toepassing van onoplosbare anoden uitgevoerd. De pH van het bad was na 2 A-uren platteren op 9»0 constant gebleven.
Voorbeeld IX.
25 Een bad werd bereid dat de volgende componenten bevatte: zilver als kaliumzilvercyanide 5 g/l goud als kaliumgoudcyanide 12,5 g/l kobalt als kalium-kobalt(lil)cyanide 0,8 g/l polyethyleenimine 10 mg/l 50 boorzuur 50 g/l
De pH werd met kaliumhydroxide op 9>Ó ingesteld en er werd bij 2 kamertemperatuur met een stroomdichtheid van 0,54 A/dm geelektro-lyseerd. Na 6 A-uren was geen verandering in de pH opgetreden.
Het ligt voor de hand dat binnen het raam van de uitvinding naast 55 de beschreven uitvoeringsvormen ook andere uitvoeringsvormen mogelyk zijn.
(conclusies) 8001999
Claims (12)
1. Een stabiel, nagenoeg cyanidevrij of cyanidevrij water bevattend bad voor de elektrolytische afscheiding van zilver of een zilverlegering op een metalen substraat, gekenmerkt door pj a) een oplosbare zilververbinding, b) 0 tot ongeveer 5 gevan een oplosbaar zout van een legerend metaal c) een elektrolyt die de geleiding bevordert, d) een effectieve hoeveelheid van een glansgevend middel van het 10 imine-type, e) ongeveer 0,5 tot 5 gew.% boorzuur en f) een alkalimetaalhydroxide en/of ammoniumhydroxide in een hoeveelheid die is vereist voor het instellen van de pïï van het water bevattende bad binnen het gebied van 8,0 tot ongeveer 9,5·
2. Water bevattend bad volgens conclusie 1, geken merkt door de componenten a), c), d), e) en f).
3· Water bevattend bad volgens conclusie 1, gekenmerkt doordat het bad een oplosbaar kobalt-, nikkel-, koper-, arseen-, indium- of palladiumzout als legerend metaalzout 20 bevat.
4· Water bevattend bad volgens conclusie 1-3» gakern-merkt doordat het bad ongeveer 0,05 tot ongeveer 20 g per liter kaliumgoudcyanide en ongeveer 0,05 tot ongeveer 20 g/l boorzuur bevat. 25 5· Water bevattend bad volgens conclusie 1-4, geken merkt doordat het bad als alkalimetaalhydroxide kalium-hydroxide bevat.
6. Bad volgens conclusie 1-5, g ekenmerkt doordat de pH ongeveer 9,0 is. 30 7· Water bevattend bad volgens conclusie 1-6, geken merkt doordat het bad zilver als kaliumzilvercyanide of kaliumzilversuccinimide bevat.
8. Water bevattend bad volgens conclusie 5, gekenmerkt doordat het bad als glansgevens middel een poly- 55 ethyleenimine of succinimide bevat.
9. Water bevattend bad volgens conclusie 1-8, gekenmerkt doordat het bad als elektrolyt dat de geleiding bevordert ten minste een zout van fosforzuur, fosfonzuur, fosfeen-zuur, citroenzuur, maleinezuur of mierezuur bevat. 8001999 -7- Λ
10. Water bevattend bad volgens conclusie 1-9} g e k e n- A merkt doordat het bad daarnaast een chelaten vormende kobalt- of nikkel-verbinding bevat.
11. Water bevattend bad volgens conclusie 1 en 3-10, g e-5kenmerkt doordat de component b) een alkalimetaal- goudcyanide is.
12. Werkwijze voor het stabiliseren van een basisch water bevattend bad voor het elektrolytische platteren met zilver of een zilverlegering dat weinig of geen vrij cyanide bevat, met het 10. e n m e r k, dat men een bad gebruikt, dat a) een oplosbare zilververbinding, b) 0 tot ongeveer 5 gew.% van een oplosbaar zout van een legerend metaal, c) een elektrolyt die de donductie bevordert, 15 d) een effectieve hoeveelheid van een glasgevend middel van het imine-type, bevat en dat men aan het bad ongeveer 0,5 tot 5 gew.% boorzuur en ten minste een alkalimetaalhydroxide of ammonium-hydroxide in een hoeveelheid toevoegt die is vereist voor de instelling van de ρΞ van het water bevattende bad binnen het gebied van 20 8,0 tot ongeveer 9*5·
15· Werkwijze volgens conclusie 12, met het kenmerk, dat men in het bad voor het elektrolytische platteren een oplosbaar kobalt-, nikkel-, koper-, arseen-, indium of palladium-zout als legerend metaal opneemt. 25 14· Werkwijze volgens conclusie 12-15» met het ken merk, dat men een bad gebruikt, dat de componenten a), c) en d) bevat.
15· Werkwijze volgens conclusie 12 of 15, met het kenmerk, dat men een bad gebruikt, dat een alkalimetaal-goud-50 cyanide bevat. 8001999
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US2717779A | 1979-04-04 | 1979-04-04 | |
| US2717779 | 1979-04-04 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| NL8001999A true NL8001999A (nl) | 1980-10-07 |
Family
ID=21836140
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| NL8001999A NL8001999A (nl) | 1979-04-04 | 1980-04-03 | Bad voor het platteren met zilver en een legering van goud en zilver en een werkwijze voor het platteren daarmede. |
Country Status (11)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS55134191A (nl) |
| AR (1) | AR225759A1 (nl) |
| AU (1) | AU5717880A (nl) |
| BR (1) | BR8001854A (nl) |
| DE (1) | DE3013191A1 (nl) |
| DK (1) | DK146980A (nl) |
| FR (1) | FR2453226A1 (nl) |
| GB (1) | GB2046794A (nl) |
| IT (1) | IT1127414B (nl) |
| NL (1) | NL8001999A (nl) |
| SE (1) | SE8002598L (nl) |
Families Citing this family (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3609309A1 (de) * | 1986-03-20 | 1987-09-24 | Duerrwaechter E Dr Doduco | Bad zum elektrolytischen abscheiden von silber-palladium-legierungen |
| JPH051393A (ja) * | 1990-07-19 | 1993-01-08 | Electroplating Eng Of Japan Co | 銀銅合金メツキ浴及び銀銅合金ロウ材 |
| EP0666342B1 (de) * | 1994-02-05 | 1998-05-06 | W.C. Heraeus GmbH | Bad zum galvanischen Abscheiden von Silber-Zinn-Legierungen |
| DE4406419C1 (de) * | 1994-02-28 | 1995-04-13 | Heraeus Gmbh W C | Bad zum galvanischen Abscheiden von Silber-Gold-Legierungen |
| JP2000212763A (ja) * | 1999-01-19 | 2000-08-02 | Shipley Far East Ltd | 銀合金メッキ浴及びそれを用いる銀合金被膜の形成方法 |
| JP4919430B2 (ja) * | 1999-12-02 | 2012-04-18 | 株式会社日本キャリア工業 | 食肉の細断装置 |
| US20130023166A1 (en) * | 2011-07-20 | 2013-01-24 | Tyco Electronics Corporation | Silver plated electrical contact |
| CN102560571B (zh) * | 2012-02-22 | 2015-08-05 | 江苏大学 | 无氰镀银稳定电镀液、制备方法及其镀银的方法 |
| CN103741178B (zh) * | 2014-01-20 | 2017-06-16 | 厦门大学 | 一种用于硅表面直接电镀光滑致密银薄膜的溶液及电镀方法 |
| US20160145756A1 (en) * | 2014-11-21 | 2016-05-26 | Rohm And Haas Electronic Materials Llc | Environmentally friendly gold electroplating compositions and methods |
| JP7353249B2 (ja) * | 2020-08-19 | 2023-09-29 | Ｅｅｊａ株式会社 | シアン系電解銀合金めっき液 |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE2410441C2 (de) * | 1974-03-01 | 1982-11-11 | Schering Ag, 1000 Berlin Und 4619 Bergkamen | Cyanidfreies Bad und Verfahren zur galvanischen Abscheidung von Silber |
| JPS52105540A (en) * | 1976-03-01 | 1977-09-05 | Tech Inc | Silver bath for lusterous plating of nonncyanide |
| US4088549A (en) * | 1976-04-13 | 1978-05-09 | Oxy Metal Industries Corporation | Bright low karat silver gold electroplating |
| US4121982A (en) * | 1978-02-03 | 1978-10-24 | American Chemical & Refining Company Incorporated | Gold alloy plating bath and method |
-
1980
- 1980-03-27 BR BR8001854A patent/BR8001854A/pt unknown
- 1980-04-01 GB GB8010924A patent/GB2046794A/en not_active Withdrawn
- 1980-04-01 AR AR280528A patent/AR225759A1/es active
- 1980-04-02 JP JP4207680A patent/JPS55134191A/ja active Pending
- 1980-04-02 IT IT48317/80A patent/IT1127414B/it active
- 1980-04-02 FR FR8007437A patent/FR2453226A1/fr not_active Withdrawn
- 1980-04-02 DK DK146980A patent/DK146980A/da not_active IP Right Cessation
- 1980-04-03 AU AU57178/80A patent/AU5717880A/en not_active Abandoned
- 1980-04-03 SE SE8002598A patent/SE8002598L/ not_active Application Discontinuation
- 1980-04-03 NL NL8001999A patent/NL8001999A/nl not_active Application Discontinuation
- 1980-04-03 DE DE19803013191 patent/DE3013191A1/de not_active Withdrawn
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS55134191A (en) | 1980-10-18 |
| BR8001854A (pt) | 1980-11-18 |
| DK146980A (da) | 1980-10-05 |
| AU5717880A (en) | 1980-10-09 |
| DE3013191A1 (de) | 1980-10-23 |
| AR225759A1 (es) | 1982-04-30 |
| GB2046794A (en) | 1980-11-19 |
| FR2453226A1 (fr) | 1980-10-31 |
| IT1127414B (it) | 1986-05-21 |
| IT8048317A0 (it) | 1980-04-02 |
| SE8002598L (sv) | 1980-10-05 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP6370380B2 (ja) | 銀−パラジウム合金の電着のための電解質、及びその析出方法 | |
| CN102037162A (zh) | Pd-和Pd-Ni-电镀浴 | |
| US4121982A (en) | Gold alloy plating bath and method | |
| JP2011520037A (ja) | 改良された銅−錫電解液及び青銅層の析出方法 | |
| US4013523A (en) | Tin-gold electroplating bath and process | |
| US20040149587A1 (en) | Electroplating solution containing organic acid complexing agent | |
| NL8001999A (nl) | Bad voor het platteren met zilver en een legering van goud en zilver en een werkwijze voor het platteren daarmede. | |
| US4076598A (en) | Method, electrolyte and additive for electroplating a cobalt brightened gold alloy | |
| US3902977A (en) | Gold plating solutions and method | |
| TWI507571B (zh) | 藉由電鑄法但不使用有毒金屬或類金屬而獲致黃金合金沉積的方法 | |
| US2693444A (en) | Electrodeposition of chromium and alloys thereof | |
| US4391679A (en) | Electrolytic bath and process for the deposition of gold alloy coatings | |
| US20040195107A1 (en) | Electrolytic solution for electrochemical deposition gold and its alloys | |
| US3879270A (en) | Compositions and process for the electrodeposition of metals | |
| US4053372A (en) | Tin-lead acidic plating bath | |
| EP0112561B1 (en) | Aqueous electroplating solutions and process for electrolytically plating palladium-silver alloys | |
| NL8105601A (nl) | Samenstellingen en werkwijzen voor het elektrolytisch afzetten van palladium en palladiumlegeringen. | |
| EP2730682B1 (en) | Alkaline, cyanide-free solution for electroplating of gold alloys, a method for electroplating and a substrate comprising a bright, corrosion-free deposit of a gold alloy | |
| US4265715A (en) | Silver electrodeposition process | |
| US4465563A (en) | Electrodeposition of palladium-silver alloys | |
| US4297179A (en) | Palladium electroplating bath and process | |
| JPH10317183A (ja) | 非シアンの電気金めっき浴 | |
| EP0018165A1 (en) | A bath and a process for electrodepositing ruthenium, a concentrated solution for use in forming the bath and an object having a ruthenium coating | |
| US4778574A (en) | Amine-containing bath for electroplating palladium | |
| US3984291A (en) | Electrodeposition of tin-lead alloys and compositions therefor |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| DNT | Communications of changes of names of applicants whose applications have been laid open to public inspection |
Free format text: PHIBRO CORPORATION |
|
| CNR | Transfer of rights (patent application after its laying open for public inspection) |
Free format text: ENGELHARD CORPORATION |
|
| BV | The patent application has lapsed |