NL194867C - Sputterinrichting voor het op een dragerlichaam aanbrengen van elektrisch niet-geleidende lagen in een reactieve atmosfeer. - Google Patents
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- Organic Chemistry (AREA)
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- Physical Vapour Deposition (AREA)
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19934326100 DE4326100B4 (de) | 1993-08-04 | 1993-08-04 | Verfahren und Vorrichtung zum Beschichten von Substraten in einer Vakuumkammer, mit einer Einrichtung zur Erkennung und Unterdrückung von unerwünschten Lichtbögen |
DE4326100 | 1993-08-04 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
NL9401248A NL9401248A (nl) | 1995-03-01 |
NL194867B NL194867B (nl) | 2003-01-06 |
NL194867C true NL194867C (nl) | 2003-05-06 |
Family
ID=6494395
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
NL9401248A NL194867C (nl) | 1993-08-04 | 1994-07-29 | Sputterinrichting voor het op een dragerlichaam aanbrengen van elektrisch niet-geleidende lagen in een reactieve atmosfeer. |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3654931B2 (de) |
CH (1) | CH689280A5 (de) |
DE (1) | DE4326100B4 (de) |
FR (1) | FR2709376B1 (de) |
GB (1) | GB2280799B (de) |
NL (1) | NL194867C (de) |
Families Citing this family (25)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE59611403D1 (de) | 1995-10-27 | 2007-01-25 | Applied Materials Gmbh & Co Kg | Vorrichtung zum Beschichten eines Substrats |
DE19540543A1 (de) * | 1995-10-31 | 1997-05-07 | Leybold Ag | Vorrichtung zum Beschichten eines Substrats mit Hilfe des Chemical-Vapor-Deposition-Verfahrens |
DE19540794A1 (de) * | 1995-11-02 | 1997-05-07 | Leybold Ag | Vorrichtung zum Beschichten eines Substrats von einem elektrisch leitfähigen Target |
DE19651378A1 (de) * | 1996-12-11 | 1998-06-18 | Leybold Systems Gmbh | Vorrichtung zum Aufstäuben von dünnen Schichten auf flache Substrate |
DE19826297A1 (de) * | 1998-06-12 | 1999-12-16 | Aurion Anlagentechnik Gmbh | Vorrichtung und Verfahren zur Vermeidung von Überschlägen bei Sputterprozessen durch eine aktive Arcunterdrückung |
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DE10306347A1 (de) | 2003-02-15 | 2004-08-26 | Hüttinger Elektronik GmbH & Co. KG | Leistungszufuhrregeleinheit |
DE102004015090A1 (de) | 2004-03-25 | 2005-11-03 | Hüttinger Elektronik Gmbh + Co. Kg | Bogenentladungserkennungseinrichtung |
EP1675155B1 (de) * | 2004-12-24 | 2012-01-25 | HÜTTINGER Elektronik GmbH + Co. KG | Plasmaanregungssystem |
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EP1720195B1 (de) * | 2005-05-06 | 2012-12-12 | HÜTTINGER Elektronik GmbH + Co. KG | Arcunterdrückungsanordnung |
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JP5016819B2 (ja) * | 2006-01-11 | 2012-09-05 | 株式会社アルバック | スパッタリング方法及びスパッタリング装置 |
DE502006005363D1 (de) | 2006-11-23 | 2009-12-24 | Huettinger Elektronik Gmbh | Verfahren zum Erkennen einer Bogenentladung in einem Plasmaprozess und Bogenentladungserkennungsvorrichtung |
US7795817B2 (en) | 2006-11-24 | 2010-09-14 | Huettinger Elektronik Gmbh + Co. Kg | Controlled plasma power supply |
EP1928009B1 (de) | 2006-11-28 | 2013-04-10 | HÜTTINGER Elektronik GmbH + Co. KG | Bogenentladungs-Erkennungseinrichtung, Plasma-Leistungsversorgung und Verfahren zum Erkennen von Bogenentladungen |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2226666A1 (de) * | 1972-05-31 | 1973-12-13 | 400 Kv Forschungsgemeinschaft | Anordnung zur spannungserfassung an einem auf hochspannungspotential liegenden geraet |
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-
1993
- 1993-08-04 DE DE19934326100 patent/DE4326100B4/de not_active Expired - Lifetime
-
1994
- 1994-05-16 CH CH151494A patent/CH689280A5/de not_active IP Right Cessation
- 1994-07-15 GB GB9414387A patent/GB2280799B/en not_active Expired - Lifetime
- 1994-07-29 NL NL9401248A patent/NL194867C/nl not_active IP Right Cessation
- 1994-08-03 FR FR9409623A patent/FR2709376B1/fr not_active Expired - Lifetime
- 1994-08-04 JP JP18353894A patent/JP3654931B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE4326100B4 (de) | 2006-03-23 |
DE4326100A1 (de) | 1995-02-09 |
NL194867B (nl) | 2003-01-06 |
FR2709376A1 (fr) | 1995-03-03 |
JPH0778588A (ja) | 1995-03-20 |
JP3654931B2 (ja) | 2005-06-02 |
CH689280A5 (de) | 1999-01-29 |
GB9414387D0 (en) | 1994-09-07 |
GB2280799B (en) | 1997-06-25 |
NL9401248A (nl) | 1995-03-01 |
GB2280799A (en) | 1995-02-08 |
FR2709376B1 (fr) | 1997-11-07 |
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