NL142283B - Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleiderinrichting met een op het halfgeleideroppervlak aangebrachte laag siliciumoxyde. - Google Patents
Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleiderinrichting met een op het halfgeleideroppervlak aangebrachte laag siliciumoxyde.Info
- Publication number
- NL142283B NL142283B NL646403503A NL6403503A NL142283B NL 142283 B NL142283 B NL 142283B NL 646403503 A NL646403503 A NL 646403503A NL 6403503 A NL6403503 A NL 6403503A NL 142283 B NL142283 B NL 142283B
- Authority
- NL
- Netherlands
- Prior art keywords
- manufacturing
- layer
- silicon oxide
- semiconductor device
- oxide applied
- Prior art date
Links
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 title 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title 1
- 238000000034 method Methods 0.000 title 1
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 title 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/02041—Cleaning
- H01L21/02043—Cleaning before device manufacture, i.e. Begin-Of-Line process
- H01L21/02052—Wet cleaning only
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/027—Making masks on semiconductor bodies for further photolithographic processing not provided for in group H01L21/18 or H01L21/34
- H01L21/033—Making masks on semiconductor bodies for further photolithographic processing not provided for in group H01L21/18 or H01L21/34 comprising inorganic layers
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L29/00—Semiconductor devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching and having potential barriers; Capacitors or resistors having potential barriers, e.g. a PN-junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof ; Multistep manufacturing processes therefor
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S148/00—Metal treatment
- Y10S148/017—Clean surfaces
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S148/00—Metal treatment
- Y10S148/037—Diffusion-deposition
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S148/00—Metal treatment
- Y10S148/043—Dual dielectric
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S438/00—Semiconductor device manufacturing: process
- Y10S438/906—Cleaning of wafer as interim step
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Weting (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
- Bipolar Transistors (AREA)
- Formation Of Insulating Films (AREA)
- Electrodes Of Semiconductors (AREA)
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US269979A US3281915A (en) | 1963-04-02 | 1963-04-02 | Method of fabricating a semiconductor device |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
NL6403503A NL6403503A (nl) | 1964-10-05 |
NL142283B true NL142283B (nl) | 1974-05-15 |
Family
ID=23029390
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
NL646403503A NL142283B (nl) | 1963-04-02 | 1964-04-02 | Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleiderinrichting met een op het halfgeleideroppervlak aangebrachte laag siliciumoxyde. |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US3281915A (nl) |
JP (1) | JPS4937303B1 (nl) |
BE (1) | BE646063A (nl) |
DE (1) | DE1489240B1 (nl) |
GB (1) | GB1055724A (nl) |
NL (1) | NL142283B (nl) |
SE (1) | SE304062B (nl) |
Families Citing this family (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE1250790B (de) * | 1963-12-13 | 1967-09-28 | N.V. Philips' Gloeilampenfabrieken, Eindhoven (Niederlande) | Verfahren zur Herstellung diffundierter Zonen von Verunreinigungen in einem Halbleiterkörper |
US3342650A (en) * | 1964-02-10 | 1967-09-19 | Hitachi Ltd | Method of making semiconductor devices by double masking |
US3357902A (en) * | 1964-05-01 | 1967-12-12 | Fairchild Camera Instr Co | Use of anodizing to reduce channelling on semiconductor material |
US3490963A (en) * | 1964-05-18 | 1970-01-20 | Sprague Electric Co | Production of planar semiconductor devices by masking and diffusion |
GB1124762A (en) * | 1965-01-08 | 1968-08-21 | Lucas Industries Ltd | Semi-conductor devices |
US3389023A (en) * | 1966-01-14 | 1968-06-18 | Ibm | Methods of making a narrow emitter transistor by masking and diffusion |
US3632433A (en) * | 1967-03-29 | 1972-01-04 | Hitachi Ltd | Method for producing a semiconductor device |
US3545076A (en) * | 1967-08-22 | 1970-12-08 | Bosch Gmbh Robert | Process of forming contacts on electrical parts,particularly silicon semiconductors |
DE2047998A1 (de) * | 1970-09-30 | 1972-04-06 | Licentia Gmbh | Verfahren zum Herstellen einer Planaranordnung |
US3776786A (en) * | 1971-03-18 | 1973-12-04 | Motorola Inc | Method of producing high speed transistors and resistors simultaneously |
JPS5248055B2 (nl) * | 1973-11-12 | 1977-12-07 | ||
US3933541A (en) * | 1974-01-22 | 1976-01-20 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Process of producing semiconductor planar device |
US4186032A (en) * | 1976-09-23 | 1980-01-29 | Rca Corp. | Method for cleaning and drying semiconductors |
DE2838928A1 (de) * | 1978-09-07 | 1980-03-20 | Ibm Deutschland | Verfahren zum dotieren von siliciumkoerpern mit bor |
US6004399A (en) * | 1996-07-01 | 1999-12-21 | Cypress Semiconductor Corporation | Ultra-low particle semiconductor cleaner for removal of particle contamination and residues from surface oxide formation on semiconductor wafers |
JP3595441B2 (ja) * | 1997-12-29 | 2004-12-02 | 三菱電機株式会社 | 塩酸過水を用いた洗浄方法 |
EP2337089A3 (en) * | 2009-12-17 | 2013-12-11 | Rohm and Haas Electronic Materials LLC | Improved method of texturing semiconductor substrates |
WO2016018307A1 (en) * | 2014-07-30 | 2016-02-04 | Hewlett-Packard Indigo, B.V. | Cleaning electrophotographic printing drums |
Family Cites Families (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
NL210216A (nl) * | 1955-12-02 | |||
NL95308C (nl) * | 1956-02-29 | 1960-09-15 | ||
DE1040134B (de) * | 1956-10-25 | 1958-10-02 | Siemens Ag | Verfahren zur Herstellung von Halbleiteranordnungen mit Halbleiterkoerpern mit p-n-UEbergang |
DE1287009C2 (de) * | 1957-08-07 | 1975-01-09 | Western Electric Co. Inc., New York, N.Y. (V.St.A.) | Verfahren zur herstellung von halbleiterkoerpern |
DE1134357B (de) * | 1958-09-22 | 1962-08-09 | Siemens Ag | Verfahren zur Reinigung von einkristallinen Halbleiterkoerpern |
US2948642A (en) * | 1959-05-08 | 1960-08-09 | Bell Telephone Labor Inc | Surface treatment of silicon devices |
US2953486A (en) * | 1959-06-01 | 1960-09-20 | Bell Telephone Labor Inc | Junction formation by thermal oxidation of semiconductive material |
US3147152A (en) * | 1960-01-28 | 1964-09-01 | Western Electric Co | Diffusion control in semiconductive bodies |
US3085033A (en) * | 1960-03-08 | 1963-04-09 | Bell Telephone Labor Inc | Fabrication of semiconductor devices |
GB920306A (en) * | 1960-08-25 | 1963-03-06 | Pacific Semiconductors Inc | Fabrication method for semiconductor devices |
US3055776A (en) * | 1960-12-12 | 1962-09-25 | Pacific Semiconductors Inc | Masking technique |
-
1963
- 1963-04-02 US US269979A patent/US3281915A/en not_active Expired - Lifetime
-
1964
- 1964-03-25 GB GB12712/64A patent/GB1055724A/en not_active Expired
- 1964-04-01 DE DE19641489240 patent/DE1489240B1/de active Pending
- 1964-04-01 SE SE4030/64A patent/SE304062B/xx unknown
- 1964-04-02 NL NL646403503A patent/NL142283B/nl unknown
- 1964-04-02 BE BE646063A patent/BE646063A/xx unknown
- 1964-04-02 JP JP39018454A patent/JPS4937303B1/ja active Pending
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS4937303B1 (nl) | 1974-10-08 |
NL6403503A (nl) | 1964-10-05 |
GB1055724A (en) | 1967-01-18 |
SE304062B (nl) | 1968-09-16 |
BE646063A (nl) | 1964-07-31 |
US3281915A (en) | 1966-11-01 |
DE1489240B1 (de) | 1971-11-11 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
NL142283B (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleiderinrichting met een op het halfgeleideroppervlak aangebrachte laag siliciumoxyde. | |
NL141329B (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleiderinrichting met een maskerlaag van siliciumnitride, alsmede aldus vervaardigde halfgeleiderinrichting. | |
NL151560B (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleiderinrichting voorzien van een isolerende glaslaag en halfgeleiderinrichting vervaardigd volgens de werkwijze. | |
NL153374B (nl) | Werkwijze ter vervaardiging van een halfgeleiderinrichting voorzien van een oxydelaag en halfgeleiderinrichting vervaardigd volgens de werkwijze. | |
NL161305B (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleiderin- richting. | |
NL142287B (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleiderinrichting, alsmede halfgeleiderinrichting vervaardigd volgens deze werkwijze. | |
NL168741C (nl) | Inrichting voor het vlakslijpen van werkstukken. | |
NL161617B (nl) | Halfgeleiderinrichting met vlak oppervlak en werkwijze voor het vervaardigen daarvan. | |
NL162791C (nl) | Werkwijze voor het samenstellen van een halfge- leiderinrichting en halfgeleiderinrichting vervaardigd volgens deze werkwijze. | |
NL158025B (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleiderinrichting en halfgeleiderinrichting, vervaardigd volgens deze werkwijze. | |
NL154870B (nl) | Metalen montageband te gebruiken bij de fabricage van halfgeleiderinrichtingen, werkwijze voor het met behulp van deze montageband fabriceren van halfgeleiderinrichtingen en met deze werkwijze verkregen halfgeleiderinrichting. | |
NL141029B (nl) | Werkwijze voor het vormen van een halfgeleiderinrichting en inrichting of stel inrichtingen gevormd volgens deze werkwijze. | |
NL162250B (nl) | Halfgeleiderinrichting met een halfgeleiderlichaam, waarvan aan een hoofdoppervlak het halfgeleideroppervlak plaatselijk met een oxydelaag is bedekt, en werkwijze voor het vervaardigen van planaire halfgeleider- inrichtingen. | |
NL154868B (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van halfgeleiderinrichtingen en halfgeleiderinrichtingen volgens deze werkwijze verkregen. | |
NL142281B (nl) | Samengestelde halfgeleiderinrichting en werkwijze voor het vervaardigen daarvan. | |
NL143072B (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleiderinrichting en halfgeleiderinrichting vervaardigd volgens de werkwijze. | |
NL144779B (nl) | Werkwijze tot het vervaardigen van een halfgeleiderelement met een passiverende siliciumoxydelaag en halfgeleiderelement volgens die werkwijze. | |
NL140656B (nl) | Werkwijze voor het vormen van een halfgeleiderlichaam van silicium met een dun gebied met bepaald geleidingsvermogen aan het oppervlak van het lichaam en inrichting voorzien van een halfgeleiderlichaam van silicium, vervaardigd door toepassing van de werkwijze. | |
NL161922B (nl) | Halfgeleiderinrichting bevattende een halfgeleider- lichaam met twee onderling gescheiden delen van een halfgeleiderschakelelement, die grenzen aan een opper- vlak van het halfgeleiderlichaam, en een door een isolerende laag van het oppervlak gescheiden elektrisch geleidende laag tegenover het halfgeleiderlichaam tussen de twee delen. | |
NL143734B (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleiderveldeffectinrichting en halfgeleiderveldeffectinrichting verkregen volgens deze werkwijze. | |
NL155663B (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van halfgeleiderinrichtingen, alsmede voorwerp vervaardigd volgens deze werkwijze. | |
NL154059B (nl) | Werkwijze voor het etsen van siliciumnitride in aanwezigheid van gedoteerd silicium. | |
BE776481A (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van halfgeleidermonokristallen | |
NL143627B (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van halfgeleiderinrichting en aldus vervaardigde inrichtingen. | |
BE750088A (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleiderinrichting |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
VJC | Lapsed due to non-payment of the due maintenance fee for the patent or patent application | ||
NL80 | Abbreviated name of patent owner mentioned of already nullified patent |
Owner name: RCA |