MX2014003868A - Recubrimiento de nitruro de titanio aluminio con morfologia adaptada para mejorar la resistencia al desgaste en operaciones de mecanizacion y metodo del mismo. - Google Patents

Recubrimiento de nitruro de titanio aluminio con morfologia adaptada para mejorar la resistencia al desgaste en operaciones de mecanizacion y metodo del mismo.

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Abstract

La presente invención se relaciona con un recubrimiento de (AI,Ti)N que exhibe por lo menos dos diferentes porciones de recubrimiento, A y B, que tienen un tamaño de grano en el orden de magnitud nanométrica caracterizado porque la porción de recubrimiento A exhibe un tamaño de grano más grande y un mayor módulo elástico que la porción de recubrimiento B. La presente invención también se relaciona con un método para recubrir un sustrato con un recubrimiento tal como se describió anteriormente por lo cual por lo menos la porción de recubrimiento A y/o la porción de recubrimiento B del recubrimiento de (AI,Ti)N se depositan por medio de las técnicas de PVD.

Description

RECUBRIMIENTO DE NITRURO DE TITANIO ALUMINIO CON MORFOLOGÍA ADAPTADA PARA MEJORAR LA RESISTENCIA AL DESGASTE EN OPERACIONES DE MECANIZACIÓN Y MÉTODO DEL MISMO Campo de la Invención La presente invención se relaciona con un sistema de nitruro de aluminio titanio ((AI,Ti)N) y con un método para depositarlo sobre una superficie de sustrato. Más específicamente, la invención se relaciona con un recubrimiento de nitruro de aluminio titanio que tiene una morfología ajustada y que exhibe un rendimiento de corte mejorado en las operaciones de mecanización.
Antecedentes de la Invención Los recubrimientos delgados que comprenden el nitruro de aluminio titanio se usan comúnmente para lograr el alto rendimiento de las herramientas de corte en las operaciones de mecanización. El desarrollo de esta clase de recubrimientos ya es bien desde 1980. En la última ocasión se han logrado más intentos para mejorar el rendimiento de los recubrimientos nitruro de aluminio titanio por medio de las operaciones de corte. En muchos casos se ha reportado que por medio de la adición de otros elementos en los sistemas de recubrimiento monocapa (por ejemplo (AI,Ti,Si)N) o por medio de la combinación con otros materiales de recubrimiento en los sistemas de recubrimiento multicapas (por ejemplo (AI,Ti)N/AI203) es posible mejorar considerablemente la estabilidad de temperatura, la resistencia a la oxidación y la resistencia al desgaste de los recubrimientos a base de AITíN. Otros aspectos importantes que han sido investigados ampliamente por medio del desarrollo de los recubrimientos a base de AITiN son los efectos de la cristalinidad del recubrimiento, del tamaño de grano, de la composición de elementos, de la estructura, etcétera.
Los autores del documento WO2011041063 reportaron, por ejemplo, que los recubrimientos de nitruro de aluminio titanio pueden exhibir propiedades de mecanización asombrosamente buenas para las herramientas de corte de carburo de tungsteno cementado usadas para el fresado radial cuando estos recubrimientos tienen entre aproximadamente 0 y 15 por ciento en peso de fase hexagonal y una composición de elementos (AIX,T¡1. x)N, donde x está en el intervalo de aproximadamente 0.53 a aproximadamente 0.58 moles. También indican que estos recubrimientos tienen preferiblemente un tamaño de grano promedio de aproximadamente 10 a aproximadamente 40 nanómetros, exhiben una fase cúbica con una textura cristalográfica caracterizada por la difracción de rayos X y tienen una relación de intensidad máxima (200) a (111) en el intervalo de aproximadamente 4.5 a aproximadamente 10.
Los autores del documento JP2644710 reportaron que los recubrimientos de nitruro de aluminio que tienen la composición de elementos (AIX.TLXJN con 0.56= x =0.70, exhibieron al mismo tiempo una resistencia al desgaste de mayor dureza y una mejor oxidación a alta temperatura.
Los autores del documento WO2011034492 reportaron el rendimiento de corte mejorado o una duración de herramienta un poco más larga de las herramientas de corte recubiertas con AITiN donde los recubrimientos de nitruro de aluminio titanio se depositaron al variar secuencialmente el voltaje de polarización de sustrato durante la deposición de reactivos por arco de PVD de los objetos de Ti0.33AI0.67 y TiO.30 y AI0.70 en una atmósfera de nitrógeno. El proceso de deposición de acuerdo con el documento WO2011034492 comprende por lo menos una secuencia para variar el voltaje de polarización de sustrato durante la deposición del recubrimiento (que mantiene los objetivos activos), donde la secuencia para variar el voltaje de polarización de sustrato comprende un subsecuencia Si. El voltaje de polarización de sustrato durante la subsecuencia, Si, se ajusta o se varía como se explica a continuación: a) se ajusta un primer voltaje de polarización de sustrato, Bi, y se mantiene durante un tiempo de deposición, Ti, de entre 10 segundos y 60 minutos, b) el voltaje de polarización de sustrato se cambia gradualmente a un segundo voltaje de polarización de sustrato, Bi + 1, durante un periodo de aumento, Ri, de entre 10 segundos y 40 minutos, donde |Bi-Bi+1| = 10 V. La subsecuencia, Si, se repite hasta i = n donde i = 0, 1, 2... n, donde n > 2, y donde cada nueva subsecuencia comienza al mismo voltaje de polarización de sustrato usado al terminar la subsecuencia anterior.
Sin embargo, a pesar de una gran cantidad de trabajo de desarrollo dentro de este asunto, una necesidad de mejorar el rendimiento de corte en las operaciones de mecanización conduce a las investigaciones más extensas de las propiedades y a los procesos de deposición de recubrimientos de nitruro de aluminio titanio.
Breve Descripción de la Invención Es un objetivo de la presente invención proporcionar un sistema de recubrimiento de nitruro de aluminio titanio para las herramientas de corte de alto rendimiento, particularmente un recubrimiento de banda ancha para los insertos de corte que permita una mayor productividad en comparación con el estado de la técnica. Además es un objetivo de la presente invención proporcionar un método de recubrimiento adecuado para la industria para fabricar las anteriores herramientas recubiertas de alto rendimiento. Además el método de recubrimiento de acuerdo con la presente invención debe ser tan robusto y sencillo como sea posible.
Descripción Detallada de la Invención El objetivo anteriormente mencionado se logra por medio de la presente invención al proporcionar un sistema de recubrimiento de nitruro de aluminio titanio que tiene una morfología ajustada y un método de deposición de recubrimiento del mismo, ambos ellos diseñados especialmente para mejorar la eficacia de las herramientas de corte de alto rendimiento.
El recubrimiento de (Ti,AI)N de acuerdo con la presente invención es un recubrimiento monocapa que exhibe dos diferentes áreas o porciones de recubrimiento, A y B, caracterizado principalmente por las estructuras de diferente morfología.
Los inventores descubrieron asombrosamente que el rendimiento de corte de los recubrimientos de (Ti,AI)N puede mejorarse considerablemente cuando la porción de recubrimiento A exhibe una estructura de morfología columnar básicamente más pronunciada y un mayor tamaño de grano que la porción de recubrimiento B. Además, un mejor rendimiento de corte se logró por medio de los recubrimientos de (Ti , Al) N preparados de acuerdo con la invención, cuyo tamaño de grano en ambas porciones de recubrimiento A y B fue del orden de magnitud nanométrica.
En una modalidad preferida de la presente invención el tamaño de grano en la porción de recubrimiento A, gzA, es por lo menos 1.25 veces mayor que el tamaño de grano en la porción de recubrimiento B, gzB, preferiblemente gzA = 1.5 · gzB, preferiblemente más 10 · gzB = gzA = 1.5 · gzB aún más preferiblemente 4 · gzB = gzA= 1.8 gzB.
En otra modalidad adicional de la presente invención, el espesor de recubrimiento de la porción de recubrimiento A, thA, es más pequeño que el espesor de recubrimiento de la porción de recubrimiento B, thB:thA < thB. Preferiblemente 1.2 · thA = thB = 8 thA, más preferiblemente 1.5 · thA= thB < 3 · thA.
En otra modalidad adicional de la presente invención, los recubrimientos de (Ti,AI)N se producen por medio de la evaporación catódica por arco usando objetos de T i A I aleados de manera metalúrgica con polvo como material de origen. Preferiblemente, la composición de elementos atómicos en los objetos es Tix-Ali-X donde 0.30= x= 0.70.
En otra modalidad preferida de la presente invención, la configuración del campo magnético en la superficie de los objetos se varía durante la deposición de recubrimiento para afectar la trayectoria electrónica a la superficie anódica y así la temperatura electrónica en el plasma y el grado de ionización del gas reactivo en la cámara de recubrimiento. De acuerdo con esta modalidad preferida de la presente invención, la temperatura electrónica de la invención y el grado de ionización del gas reactivo se afectan en gran medida durante la deposición de recubrimiento para lograr las deseadas estructuras de diferente morfología A y B en los recubrimientos de (Ti,AI)N.
En otra modalidad preferida de la presente invención, la temperatura electrónica y el grado de ionización del gas reactivo durante la deposición de los recubrimiento (AI,Ti)N se mantienen tan bajos como sea posible.
Diferentes herramientas de corte se recubrieron con diferentes versiones de los recubrimientos de (AI,Ti)N depositados de acuerdo con la presente invención y una mejora considerable del rendimiento de corte de las herramientas de corte recubiertas con los recubrimientos de (AI,Ti)N de acuerdo con la presente invención podría verificarse por medio de las pruebas de corte. Particularmente, se logró una reducción significativa del desgaste en cráter y un incremento significativo de la duración de la herramienta.
Después de algunos procedimientos experimentales, los resultados se interpretaron como el ejemplo de una manera de realización de la presente invención: Los recubrimientos de (AI,Ti)N se depositaron en los insertos de corte por medio de las técnicas de deposición de sedimentación iónica por arco. Los objetos que tienen la composición de elementos de Al0 55TÍ0.45, de AI06Tio 4, de Al067TÍ0.33 y de AI0.7TÍ0 3 se usaron como una fuente de material para la deposición de los recubrimientos de (AI,Ti)N en una atmósfera reactiva de nitrógeno. El material del objeto se evaporó usando los evaporadores de arco del tipo propuesto por Krassnitzer et al. en el documento de Patente Americana con el Número de Serie 61/357272. Este tipo de evaporadores de arco comprenden un cátodo (objeto), un ánodo y un medio magnético que permite conducir las líneas de corriente del campo magnético al ánodo que se coloca en la cercanía directa del cátodo. La temperatura electrónica y el grado de ionización del gas reactivo, en este caso el grado de ionización del gas de nitrógeno en la cámara de recubrimiento, se afectaron para producir las diferentes porciones de recubrimiento A y B al ajustar los valores apropiados de la corriente de bobina. La porción de recubrimiento A se depositó en el sustrato, y la porción de recubrimiento B se depositó en la porción de recubrimiento A. En algunos casos, una capa intermedia se depositó entre el sustrato y la porción de recubrimiento A. Generalmente, los valores usados de la corriente de bobina y del voltaje de polarización de sustrato para la deposición de las porciones de reparte A, ccA y sbvA, fueron mayores que los valores correspondientes usados para la deposición de las porciones de recubrimiento B, ccB y sbvB, así ccA > CCB y sbvA > sbvB.
Los valores de ccA y de sbvA así como valores de ccB y de sbvB se ajustaron respectivamente al principio de cada deposición correspondiente de las porciones A y B sin usar un aumento y después se mantuvieron constantes respectivamente hasta que se concluyó cada periodo correspondiente de la deposición de las porciones de recubrimiento A y B. Las corrientes de bobina usadas variaron entre 0 A y 2 A.
Además, los recubrimientos depositados de acuerdo con la invención que corresponden al ejemplo anteriormente descrito se analizaron usando las siguientes técnicas analíticas, entre otras: espectroscopia de rayos X por energía dispersiva (EDX, por sus siglas en inglés); microscopía electrónica de exploración (SEM, por sus siglas en inglés), difracción de rayos X (XRD, por sus siglas en inglés) y métodos de nanoindentación.
Básicamente, ambas porciones A y B de los recubrimientos depositados exhiben las estructuras cristalinas cúbicas centradas de las capas y la textura cristalográfica de predominantemente (200). En general, la estructura columnar observada fue más pronunciada en las porciones de recubrimiento A que en las porciones de recubrimiento B. Además, el tamaño de grano, la dureza y el módulo elástico aumentados se observaron en las porciones de recubrimiento A en comparación con las porciones de recubrimiento B. Los valores de tamaño de grano estuvieron en el orden de magnitud nanométrica. Particularmente, el buen rendimiento de corte se observó en los recubrimientos que tienen un tamaño de grano de entre 5 y 50 nm. Los valores de dureza variaron entre 37 y 55 GPa. Los valores del módulo elástico variaron entre 410 y 450 GPa. La fracción de aluminio en el porcentaje atómico se relacionó con el titanio así como la tensión de compresión medida en las porciones de recubrimiento A fue en general menor que aquella medida en las porciones de recubrimiento B.
Los resultados del rendimiento de corte del fresado y las pruebas de torneado usando los insertos de corte recubiertos con los recubrimientos de (AI,Ti)N depositados de acuerdo con la presente invención, se muestran en las figuras 1 y 2. Los resultados logrados se exhiben en las figuras 1-2 en comparación con otros 4 diferentes recubrimientos de (Al, Ti)N establecidos comerciales.
Además se verificó que los recubrimientos de (AI,Ti)N que contienen solamente las estructuras que corresponden a la porción de recubrimiento A o a la porción de recubrimiento B no exhiben el alto rendimiento de corte mejorado. Los resultados pueden observarse en la figura 3.
Nomenclatura de las figuras Figura 1: Comparación del rendimiento de corte por medio de las operaciones de fresado en la prueba de corte 1. Las condiciones de prueba en prueba de corte 1 fueron: Material: 1.4571 Herramienta: inserto de carburo ADKT 1505 Parámetros de corte: Ve = 125 m/min, fz = 0.15 mm, ap = 4 mm, ae = 35 mm Operación: fresado frontal/seco Figura 2: Comparación del rendimiento de corte dando por medio de las operaciones de torneado en la prueba de corte 2. Las condiciones de prueba 2 fueron: Material: 1.4571 Herramienta: CNMG432 Parámetros de corte: Ve = 180 m/min, fz = 0.25 mm, ap = 2 mm Operación: corte en húmedo/torneado exterior Criterios: Vbmax = 205µ?t? Figura 3: Comparación del rendimiento de corte por medio de las operaciones de torneado en la prueba de corte 3. Las condiciones de prueba en la prueba de corte 3 fueron: Material: 1.234445 HRC Herramienta: fresa radial ! ¡ 10 mm Parámetros de corte: Ve = 180 m/min, fz = 0.1 mm, ap = 10 mm, ae = 0.5 mm Operación: corte en húmedo/acabado Criterios: Vbmax= 100 pm En el contexto de la presente invención, los recubrimientos de (Ti,AI)N de las nomenclaturas y los recubrimientos de (AI,Ti)N tienen el mismo significado y por lo tanto, se usan de manera indistinta.
Los evaporadores de arco usados comúnmente por medio de los procesos de recubrimiento incluyen un cátodo pero no un ánodo específico debido a que el ánodo se constituye por las paredes de la cámara de recubrimiento. Por esta razón, más de los electrones generados en el cátodo deben cruzar el plasma para alcanzar el ánodo. Por esta razón, más electrones llegan al plasma durante el proceso de recubrimiento de PVD por arco.
En el caso de la presente invención, tal como se mencionó anteriormente, el evaporador de arco usado para la producción de los recubrimientos de (AI,Ti)N tuvieron una configuración especial, donde el ánodo se coloca en la cercanía del cátodo y la configuración del campo magnético ayuda también a desviar una mayor cantidad de electrones del cátodo al ánodo, evitando que los electrones lleguen al plasma durante el proceso de PVD por arco. Esto hace posible que una menor cantidad de electrones generados en el cátodo llegue al plasma y por lo tanto, es posible mantener la temperatura electrónica y el grado de ionización del gas reactivo en el plasma durante la deposición de los recubrimientos de (AI,Ti)N tan bajas como sea posible, tal como se describió en una de las modalidades preferidas de la presente invención anteriormente mencionadas.
Debido al evaporador de arco usado con una configuración que permite la desviación de los electrones del cátodo al ánodo colocado en cercanía directa del cátodo, fue posible generar las condiciones de proceso necesarias para formar una recubrimiento que tenía las porciones A y B de acuerdo con la presente invención al ajusfar la corriente de bobina y el voltaje de polarización de sustrato. Los mayores valores de corriente de bobina se asociaron con una mayor desviación de los electrones del cátodo al ánodo.
Los voltajes de polarización de sustrato sbvA y sbvB aplicados variaron entre -30 V y -200 V, con el sbvA > sbvB.
De acuerdo con los experimentos observados, las herramientas de corte recubiertas de acuerdo con la presente invención mostraron un rendimiento de corte particularmente bueno si para depositar la porción de recubrimiento A del recubrimiento de (AI,Ti)N, el voltaje de polarización de sustrato aplicado no es mayor de -150 V (sbvA que no tiene un valor negativo mayor de -150 V), y para depositar la porción de recubrimiento A del recubrimiento de (AI,Ti)N, el voltaje de polarización de sustrato aplicado no es menor de -200 V (sbvB que no tiene un valor negativo mayor de -200 V). Es decir el rendimiento de corte muy bueno puede lograrse de acuerdo con la presente invención si el voltaje de polarización aplicado en el sustrato durante la deposición de la porción de recubrimiento A está en un valor absoluto menor que el aplicado durante la deposición de la porción de recubrimiento B.
Particularmente, las objetos fabricados por medio de técnicas de metalurgia de polvo pueden usarse para la deposición de recubrimiento pero también puede usarse los objetos compuestos o los objetos aleados fabricados por medio de otras técnicas.
Si es necesario mejorar la cohesividad del recubrimiento, podría ser recomendable ajustar los parámetros de recubrimiento como la corriente de bobina y/o el voltaje de polarización al principio de la deposición de las porciones de recubrimiento respectivas A y B, gradualmente (por ejemplo, usando una rampa).
En la mayoría de los casos, los rendimientos de corte particularmente buenos se exhibieron en las herramientas de corte de carburo cementado recubiertas de acuerdo con la presente invención cuando el tamaño de grano de las porciones de recubrimiento A y B fue menor de 30 nm. Particularmente, en algunos casos, cuando el tamaño de grano promedio de la porción de recubrimiento A fue de aproximadamente 20 nm o menos y el tamaño de grano promedio de la porción de recubrimiento B fue de aproximadamente 10 nm o menos.
Asimismo, los rendimientos de corte particularmente buenos para algunas aplicaciones pueden lograrse por medio de las herramientas de corte recubiertas de acuerdo con la presente invención si el contenido de Al en porcentaje atómico en la porción de recubrimiento A, 1-xA, es aproximadamente 4-10% menor que aquel en la porción de recubrimiento B, 1-xB: si 0.04= ((1-xB) - <1-Xa))/(1-XA)= 0.10, más particularmente, si 0.04 = ((1-XB) - ( 1 -*A))/(1 -*A) = 0.06 Además, los recubrimientos depositados de acuerdo con la presente invención cuya tensión de compresión en la porción de recubrimiento A fue por lo menos 15% menor que en la porción de recubrimiento B, preferiblemente por lo menos 20% menor, que proporcionó un rendimiento de corte particularmente bueno.
Un recubrimiento de acuerdo con la presente invención puede aplicarse en cada clase de sustrato.
Particularmente, un recubrimiento de acuerdo con la presente invención puede usarse para proteger las superficies que se expondrán al contacto tribológico.
Un recubrimiento de acuerdo con la presente invención también puede mejorar varias características tribológicas de las superficies expuestas al contacto tribológico, como dureza, resistencia al desgaste, resistencia a la oxidación, etcétera. Particularmente, un recubrimiento de acuerdo con la presente invención puede usarse para recubrir los componentes y las herramientas mecanizadas.
Un recubrimiento de acuerdo con la presente invención puede ser particularmente beneficioso para mejorar el rendimiento de corte de las herramientas de corte.
Por ejemplo, el sustrato de las herramientas de corte recubiertas de acuerdo con la presente invención puede comprender o puede consistir en acero y/o carburo cementado, y/o cerámica, y/o nitruro de boro cúbico.
El espesor total de los recubrimientos de (AI,Ti)N depositados de acuerdo con la presente invención no es preferiblemente menor de 0.5 µ?t? y no mayor de 30 µ??.

Claims (1)

  1. REIVINDICACIONES 1. El recubrimiento de (AI,Ti)N que exhibe por lo menos dos diferentes porciones de recubrimiento, A y B, que tiene un tamaño de grano en el orden de magnitud nanométrica, caracterizado porque la porción de recubrimiento A exhibe un mayor tamaño de grano y un mayor módulo elástico que la porción de recubrimiento B. 2. El recubrimiento de (AI,Ti)N de acuerdo con la reivindicación 1, caracterizado porque la porción de recubrimiento B se deposita en la porción de recubrimiento A. 3. El recubrimiento de (AI,Ti)N de acuerdo con cualquiera de las reivindicaciones 1 a 2, caracterizado porque la fracción de aluminio en porcentaje atómico con relación al titanio y/o la tensión de compresión medida en la porción de recubrimiento A son por lo menos menores que los medidos en la porción de recubrimiento B. 4. El recubrimiento de (AI,Ti)N de acuerdo con cualquiera de las reivindicaciones 1 a 3, caracterizado porque el tamaño de grano en las porciones de recubrimiento A y B son de entre 5 y 50 nm, preferiblemente de entre 5 y 30 nm. 5. El recubrimiento de (AI,Ti)N de acuerdo con cualquiera de las reivindicaciones 1 a 4, caracterizado porque el tamaño de grano en la porción de recubrimiento A, gzA, es por lo menos 1.25 veces mayor que en la porción de recubrimiento B, gzB, preferiblemente gzA = 1.5 · gzB, más preferiblemente 10 · gzB = gzA= 1.5 · gzB, aún más preferiblemente 4 · gzB= gzA= 1.8 · gzB. 6. El recubrimiento de (AI,Ti)N de acuerdo con cualquiera de las reivindicaciones 1 a 5, caracterizado porque las porciones de recubrimiento A y B exhiben las estructuras cristalinas cúbicas centradas frontales y la textura cristalográfica de predominantemente (200). 7. El recubrimiento de (AI,Ti)N de acuerdo con cualquiera de las reivindicaciones 1 a 6, caracterizado porque las porciones de recubrimiento A y B exhiben los valores de dureza de entre 37 y 55 GPa y/o los valores del módulo elástico de entre 410 y 450 GPa. 8. El recubrimiento de (AI,Ti)N de acuerdo con cualquiera de las reivindicaciones 1 a 7, caracterizado porque el espesor de la porción de recubrimiento A, thA, es menor que el espesor de recubrimiento de la porción de recubrimiento B, thB, preferiblemente 1.2 · thA = thB = 8 thA, más preferiblemente 1.5thAthA= thB < 3 · thA. 9. El sustrato por lo menos parcialmente recubierto con un recubrimiento de (AI,Ti)N de acuerdo con cualquiera de las reivindicaciones 1 a 8. 10. El sustrato de acuerdo con la reivindicación 9, caracterizado porque que el sustrato es una herramienta, particularmente, es una herramienta de corte, más particularmente, es una herramienta de corte que comprende o que consiste en acero y/o carburo cementado, y/o cerámica, y/o nitruro de boro cúbico. 11. El método para recubrir un sustrato de acuerdo con cualquiera de las reivindicaciones 9 a 10, caracterizado porque por lo menos la porción de recubrimiento A y/o la porción de recubrimiento B del recubrimiento de (AI,Ti)N se depositan por medio de las técnicas de PVD. 12. El método de acuerdo con la reivindicación 11, caracterizado porque, por lo menos para depositar la porción de recubrimiento A y/o la porción de recubrimiento B del recubrimiento de (AI,Ti)N se usan las técnicas de deposición de sedimentación iónica por arco, por medio de las cuales por lo menos un objeto que comprende titanio y aluminio se usa como el material de origen y para la formación de recubrimiento se usa como un gas reactivo el nitrógeno o un gas reactivo que comprende esencialmente nitrógeno . 13. El método de acuerdo con cualquiera de las reivindicaciones 11 a 12, caracterizado porque por lo menos para depositar la porción de recubrimiento A y/o la porción de recubrimiento B del recubrimiento de (AI,Ti)N se usa un evaporador de arco que comprende un cátodo, un ánodo colocado en cercanía directa del cátodo y un medio magnético, donde el medio magnético permite conducir las líneas de corriente del campo magnético al ánodo. 15. El método de acuerdo con cualquiera de las reivindicaciones 11 a 13, caracterizado porque para depositar la porción de recubrimiento A se usa un valor de corriente de bobina mayor que para depositar la porción de recubrimiento B. 16. El método de acuerdo con cualquiera de las reivindicaciones 11 a 15, caracterizado porque para depositar la porción de recubrimiento B del recubrimiento de (AI,Ti)N se aplica un voltaje de polarización que tiene un mayor valor negativo en el sustrato que se recubrirá con respecto al aplicado para depositar la porción de recubrimiento A. 17. El método de PVD para depositar un recubrimiento en un sustrato, dicho recubrimiento tiene por lo menos dos diferentes porciones de recubrimiento, A y B, dichas porciones de recubrimiento A y B tienen diferentes tamaños de grano, preferiblemente en el orden de magnitud nanométrica, la porción de recubrimiento A exhibe un tamaño de grano promedio mayor que en la porción de recubrimiento B, caracterizado porque el plasma producido durante la deposición de la porción de recubrimiento A exhibe una menor temperatura electrónica y/o una menor ionización del gas reactivo en comparación con durante la deposición de la porción de recubrimiento B. 18. El método de PVD de acuerdo con la reivindicación 17, caracterizado porque, el método de PVD es un método de PVD de evaporación reactiva por arco. 19. El método de PVD de acuerdo con la reivindicación 18, caracterizado porque, para depositar la porción de recubrimiento A y/o para depositar la porción de recubrimiento B se usa por lo menos un evaporador de arco que comprende un cátodo, un ánodo colocado en cercanía directa del cátodo y un medio magnético, donde el medio magnético permite conducir las líneas de corriente del campo magnético al ánodo. 20. El método de PVD de acuerdo con cualquiera de las reivindicaciones 17 a 19, caracterizado porque, para depositar la porción de recubrimiento A se usa una corriente de bobina mayor que para depositar la porción de recubrimiento B. 21. El método de PVD de acuerdo con cualquiera de las reivindicaciones 17 a 20, caracterizado porque, para depositar la porción de recubrimiento A se aplica un voltaje de polarización negativo en el sustrato que se recubrirá, cuyo valor absoluto es menor que aplicado para depositar la porción de recubrimiento B. 22. El método de PVD de acuerdo con cualquiera de las reivindicaciones 17 a 21, caracterizado porque, para depositar las porciones de recubrimiento A y B se usa un mismo tipo de material de objeto, que consiste en los mismos elementos y que tiene la misma composición química en porcentaje atómico. 23. El método de PVD de acuerdo con cualquiera de las reivindicaciones 17 a 22, caracterizado porque, por lo menos uno de los objetos usados para depositar las porciones de recubrimiento A y/o B se fabrica por medio de las técnicas de metalurgia de polvo.
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