KR950703851A - 안과용 조성물에서의 아미도아민의 사용방법(use of amidoamines in ophthalmic compositions) - Google Patents
안과용 조성물에서의 아미도아민의 사용방법(use of amidoamines in ophthalmic compositions) Download PDFInfo
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Abstract
본 발명은 콘택트 렌즈를 소독하고, 안과용 조성물을 방부시키기 위한 특징 아미도아민의 사용에 관한 것이다. 본 발명은 또한 소독제 또는 방부제로서 상기 화합물을 함유하는 안과용 조성물에 관한 것이다. 본 발명에 사용되는 아미노아민은 잠재적 항박테리아 및 향균 활성을 갖고, 안과용 조성물에 사용되는 무기 이온 및 다른 재료와 화학적으로 양립할 수 있다.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
Claims (24)
- 미생물 오염으로부터 안과용 조성물을 방부시키기 위한, 수성 안과용 조성물 및 0.00001 내지 0.05 중량%의 하기 일반식(Ⅰ)의 화합물 또는 이것의 약제학적으로 허용될 수 있는 염으로 이루어진 방부된 약제 조성물 :상기 식에서, R1은 포화 또는 불포화 C6-C18-알킬, 알킬아릴 또는 알콕시아릴이고 n은 2 내지 16이고; R2는 포화 또는 불포화 C1-C18-알킬 또는 히드록시 알킬이다.
- 제1항에 있어서, n 이 2 내지 4임을 특징으로 하는 조성물.
- 제2항에 있어서, R2가 메틸 또는 에틸임을 특징으로 하는 조성물.
- 제1항에 있어서, R1이 헵타데크-8-엔일, 운데실, 운데켄일, 도데실, 트리데실, 펜타데실 또는 헵타데실 이고;R2가 메틸, 에틸 또는 히드록 시에틸임을 특징으로 하는 조성물.
- 제1항에 있어서, R1이 트리데실이고, n이 3 이고, R2가 메틸임을 특징으로 하는 조성물.
- 0.00005 내지 0.1 중량%의 하기 일반식(Ⅰ)의 화합물 또는 이것의 약제학적으로 허용될 수 있는 염, 및 이것에 대한 약제학적으로 허용될수 있는 비히클로 이루어진, 콘택트 렌즈를 소독하기 위한 안과용 조성물;상기 식에서, R1은 포화 또는 불포화 C6-C18-알킬, 알킬아릴 또는 알콕시아릴이고 n은 2 내지 16이고; R2는 포화 또는 불포화 C1-C18-알킬 또는 히드록시 알킬이다.
- 제6항에 있어서, n 이 2 내지 4임을 특징으로 하는 조성물.
- 제7항에 있어, R2가 메틸 또는 에틸임을 특징으로 하는 조성물.
- 제6항에 있어서, R1이 헵타데크-8-엔일, 운데실, 운데켄일, 도데실, 트리데실, 펜타데실 또는 헵타데실 이고; R2가 메틸, 에틸 또는 히드록시에틸임을 특징으로 하는 조성물.
- 제6항에 있어서, R1이 트리데실이고, n이 3이고, R2가 메틸임을 특징으로 하는 조성물.
- 제6항에 있어서, 0.00005 내지 0.01 중량%의 폴리쿼터늄-1을 더 함유함을 특징으로 하는 조성물.
- 렌즈를 소독시키기에 충분한 시간동안, 0.00005 내지 0.1 중량%의 하기 일반식(Ⅰ)의 화합물 또는 이것의 약제학적으로 허용될 수 있는 염 및 이것에 대한 약제학적으로 허용될 수 있는 비히클로 이루어진 항생 조성물에 렌즈를 침지시키는 것으로 이루어지는, 콘택트 렌즈를 소독시키기 위한 방법;상기 식에서, R1은 포화 또는 불포화 C6-C18-알킬, 알킬아릴 또는 알콕시아릴이고 n은 2 내지 16이고; R2는 포화 또는 불포화 C1-C18-알킬 또는 히드록시 알킬이다.
- 제12항에 있어서, n이 2 내지 4임을 특징으로 하는 조성물.
- 제12항에 있어서, R2가 메틸 또는 에틸임을 특징으로 하는 조성물.
- 제12항에 있어서, R1이 헵타데크-8-엔일, 운데실, 운데켄일, 도데실, 트리데실, 펜타데실 또는 헵타데실 이고; R2가 메틸, 에틸 또는 히드록시에틸임을 특징으로 하는 조성물.
- 제12항에 있어서, R1이 트리데실이고, n이 3이고, R2가 메틸임을 특징으로 하는 방법.
- 제12항에 있어서, 0.00005 내지 0.01 중량%의 폴리쿼터늄 -1을 더 함유함을 특징으로 하는 방법.
- 미생물 오염으로부터 조성물을 방부시키기 위해, 0.00001 내지 0.05 중량%의 하기 일반식(Ⅰ)의 화합물 또는 이것의 약제학적으로 허용될수 있는 염을 조성물에 포함시키는 것으로 이루어지는 안과용 조성물을 방부시키는 방법.상기 식에서, R1은 포화 또는 불포화 C6-C18-알킬, 알킬아릴 또는 알콕시아릴이고 n은 2 내지 16이고; R2는 포화 또는 불포화 C1-C18-알킬 또는 히드록시 알킬이다.
- 제18항에 있어서, n이 2내지 4임을 특징으로 하는 조성물.
- 제19항에 있어서, R2가 메틸 또는 에틸임을 특징으로 하는 조성물.
- 제18항에 있어서, R1이 헵타데크-8-엔일, 운데실, 운데켄일, 도데실, 트리데실, 펜타데실 또는 헵타데실 이고; R2가 메틸, 에틸 또는 히드록시에틸임을 특징으로 하는 조성물.
- 제18항에 있어서, R1이 트리데실이고, n이 3이고, R2가 메틸임을 특징으로 하는 조성물.
- 렌즈를 세척시키기에 효과적인 양의 하기 일반식(Ⅰ)의 화합물 또는 이것의 약제학적으로 허용될 수 있는 염 및 이것에 대한 약제학적으로 허용될 수 있는 비히클로 이루어진 약제 조성물과 렌즈의 표면을 접촉시키는 것으로 이루어지는, 콘택트 렌즈를 세척하는 방법;상기 식에서, R1은 포화 또는 불포화 C6-C18-알킬, 알킬아릴 또는 알콕시아릴이고 n은 2 내지 16이고; R2는 포화 또는 불포화 C1-C18-알킬 또는 히드록시 알킬이다.
- 제23항에 있어서, 세척 유효량의 안과학적으로 허용될 수 있는 계면활성제를 더 함유함을 특징으로 하는 방법.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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