KR950024025A - 투사 노출 장치 및 디바이스 제조방법 - Google Patents

투사 노출 장치 및 디바이스 제조방법 Download PDF

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Abstract

본 발명의 투사 노출 장치는 제1물체의 패턴을 제2물체상에 투사하기 위한 투사 광학 시스템;제1물체의 패턴을 조사하기 위한 조사 수단, 상기 조사 수단으로부터의 광의 파장을 변화시키기 위한 파장변화 디바이스;상기 투사 광학 시스템의 구면 수차를 선택하기 위한 구면 수차 셀렉터;그리고 상기 셀렉터에 의해 설정된 구면 수차에 따라 상기 파장 변화 디바이스에 의해 파장을 제어하기 위한 파장 제어기를 구비한다.

Description

투사 노출 장치 및 디바이스 제조방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 본 발명의 제1실시예에 따른 시스템을 나타내는 도면.

Claims (13)

  1. 제1물체의 패턴을 제2물체상에 투사하기 위한 투사 광학 시스템;제1물체의 패턴을 조사하기 위한 조사수단;상기 조사 수단으로부터의 광의 파장을 변화시키기 위한 파장 변화 수단;상기 투사 광학 시스템의 구면 수차를 설정하기 위한 구면 수차 설정 수단, 그리고 상기 설정 수단에 의해 설정된 구면수차에 따라 상기 파장 변화 수단에 의해 파장을 제어하기 위한 파장 제어 수단을 구비하는 것을 특징으로 하는 투사 노출 장치.
  2. 제1항에 있어서, 상기 조사 수단은 협대역 레이저를 방출하기 위한 협대역 레이저를 포함하는 것을 특징으로 하는 투사 노출 장치.
  3. 제2항에 있어서, 상기 레이저는 발진 파장을 변화시킬 수 있으며, 상기 파장 변화 수단은 상기 파장을 변화시키도록 레이저에 작용할 수 있는 것을 특징으로 하는 투사 노출 장치.
  4. 제1항에 있어서, 상기 파장 변화에 따른 구면 수차외에 광학 성능을 보정하기 위한 수단을 더 구비하는 것을 특징으로 하는 투사 노출 장치.
  5. 제4항에 있어서, 상기 광학 성능 보정 수단은 투사 광학 시스템의 적어도 하나의 집속 위치 및 배율을 보정하는 것을 특징으로 하는 투사 노출 장치.
  6. 제4항에 있어서, 상기 광학 성능 보정 수단은 상기 투사 광학 시스템의 집속 위치를 보정하는 것을 특징으로 하는 투사 노출 장치.
  7. 제4항에 있어서, 상기 광학 성능 보정 수단은 상기 투사 광학 시스템의 배율을 보정하는 것을 특징으로 하는 투사 노출 장치.
  8. 상기 제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 한정된 투사 광학 장치를 이용하여 제1물체의 패턴을 제2물체상에 전사하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 디바이스 제조 방법.
  9. 투사 광학 시스템을 통해 제1물체의 패턴을 제2물체상에 투사하는 단계, 제1물체를 조사하는 광의 파장을 변화시켜 상기 투사 광학 시스템의 구면수차를 변화시키는 단계, 상기 파장 변화에 따른 구면수차외에 광학 성능의 변화를 보정하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 투사 노출 방법.
  10. 제9항에 있어서, 상기 광학 성능은 투사 광학 시스템의 적어도 하나의 집속 위치 및 배율을 포함하는 것을 특징으로 하는 투사 노출 방법.
  11. 제9항에 있어서, 상기 광학 성능은 상기 투사 광학 시스템의 집속 의치를 포함하는 것을 특징으로 하는 투사 노출 방법.
  12. 제9항에 있어서, 상기 광학 성능은 상기 투사 광학 시스템의 배율을 포함하는 것을 특징으로 하는 투사 노출 방법.
  13. 제9항 또는 제10항에 있어서, 상기 제1물체의 패턴은 디바이스 패턴인 것을 특징으로 하는 투사 노출 방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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