KR950015552A - 다층배선을 갖는 고집적회로의 포토레지스트 체크 패턴 - Google Patents

다층배선을 갖는 고집적회로의 포토레지스트 체크 패턴 Download PDF

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Abstract

반도체 집적회로 장치 내의 포토레지스트 체크 패턴 구조는 패턴 테스트 영역과 포토레지스트 체크 패턴을 갖는다. 패턴 테스트 영역은 반도체 장치를 제조하기 위한 각각이 처리 단계중에 발달되는 표면 스탭에 의한 다수개의 스텝영역을 갖는다. 표면스텝은 평면형상에서 한쪽이 오목한 형상으로 형성된다. 포토레지스트 체크 패턴은 패턴테스트 영역에서 하나 이상의 표면 스텝을 가로질러 계속해서 신장되고 실질적으로 편평한 레지스트 표면을 갖는다. 포토레지스트 체크 패턴은 기판상에서 반도체 회로 요소를 위한 디자인 룰에 의한 치수보다 더 엄격한 치수로 형성되는 패턴을 포함한다. 이것으로써, 각각의 배선층에 대응하는 포토레지스트 막의 노광/현상이 유지되는 원하는 정확도로 수행되었는지의 여부를 쉽게 체크 할 수 있다.

Description

다층배선을 갖는 고집적회로의 포토레지스트 체크 패턴
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제8도는 본 발명에 의한 포토레지스트 체크 패턴 구조의 실시예에 대한 상면약도.
제9도는 본 발명에 의한 포토레지스트 체크 패턴 구조의 실시예에 대하여 제8도의 9X-9X' 선을 취한 단면약도.

Claims (6)

  1. 다수의 불순물 확산영역을 내부에 포함하는 반도체 기판과, 상기 반도체 기판의 표면에 절연막을 통하여 층상으로 형성되고 상기 반도체기판의 표면으로부터 복수의 높이를 갖는 다수의 전도성 배선층을 갖는 반도체 집적회로의 포토레지스트 체크 패턴 구조에 있어서, 상기 반도체 장치를 제조하기 위한 각 공정중에 발달되는 표면 스텝에 대응하여 복수의 스텝영역을 갖고 상기 표면 스텝은 평면형상에서 한쪽이 오목하게 형성되는 패턴 테스트 영역 및, 포토레지스트 체크 패턴은 상기 패턴 테스트 영역에서 연속하여 하나이상의 상기 표면 스탭을 가로지르고 거의 편평한 레지스트 표면을 갖는 포토레지스트 체크 패턴으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 포토 레지스트 체크 패턴 구조.
  2. 제1항에 있어서, 평면형상에서 한쪽이 오목한 형상으로 생긴 평면을 갖는 하지층을 상기 포토레지스트 체크 패턴아래에서 포함하는 것을 특징으로 하는 포토레지스트 체크 패턴 구조.
  3. 제l항에 있어서, 다수개의 포토레지스트 체크 패턴이 상기 표면스텝의 한쪽이 오목한 영역을 가로질러 신장되는 것을 특징으로 하는 포토레지스트 체크 패턴 구조.
  4. 제3항에 있어서, 상기 포토레지스트 체크 패턴은 반도체 기판상에서 반도체 회로 요소를 위한 디자인 룰에 의한 치수보다 더욱 엄격한 치수에서 형성되는 패턴을 포함하는 것을 특징으로 하는 포토레지스트 체크 패턴 구조.
  5. 제1항에 있어서, 다수개의 포토레지스트 체크 패턴이 노광 표면의 사방 각 코너에 배설한 것을 특징으로 하는 포토레지스트 체크 패턴 구조.
  6. 제1항에 있어서, 상기 포토레지스트 체크 패턴하에서, 평면 표면이 한쪽이 오목한 형상으로 하지층으로서 게이트 전극을 포함하는 것을 특징으로 하는 포토레지스트 체크 패턴 구조.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019940029962A 1993-11-16 1994-11-15 다층배선을 갖는 고집적회로의 포토레지스트 체크 패턴 KR0148617B1 (ko)

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