KR940022877A - 증폭형 촬상소자 - Google Patents

증폭형 촬상소자 Download PDF

Info

Publication number
KR940022877A
KR940022877A KR1019940004365A KR19940004365A KR940022877A KR 940022877 A KR940022877 A KR 940022877A KR 1019940004365 A KR1019940004365 A KR 1019940004365A KR 19940004365 A KR19940004365 A KR 19940004365A KR 940022877 A KR940022877 A KR 940022877A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
buffer layer
image pickup
pickup device
amplifying
gate electrode
Prior art date
Application number
KR1019940004365A
Other languages
English (en)
Inventor
가즈야 요네모도
Original Assignee
오가 노리오
소니 가부시기가이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 오가 노리오, 소니 가부시기가이샤 filed Critical 오가 노리오
Publication of KR940022877A publication Critical patent/KR940022877A/ko

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L27/00Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
    • H01L27/14Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L27/00Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
    • H01L27/14Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation
    • H01L27/144Devices controlled by radiation
    • H01L27/146Imager structures
    • H01L27/148Charge coupled imagers
    • H01L27/14825Linear CCD imagers

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Solid State Image Pick-Up Elements (AREA)
  • Transforming Light Signals Into Electric Signals (AREA)

Abstract

증폭형 촬상소자에 있어서 링형 게이트의 채널길이를 어느 부분에서도 일정하게 하고, 또한 게이트콘택트부에서의 포텐셜시프트를 방지하여 화소트랜지스터의 동작열화를 회피한다.
증폭형 화소트랜지스터(29)의 박막다결정실리콘으로 이루어지는 링형 게이트전극(26)과 제2층 A1으로 이루어지는 수직선택선(32)의 층 사이에 다경정실리콘으로 이루어지는 V자형의 콘택트버퍼층(33)을 배설하고, 이 콘택트버퍼층(33)과 링형 게이트전극(26)을, 또 콘택트버퍼층(33)과 수직선택선(32)을 각 콘택트위치가 어긋나도록 각각 접속하여 구성된다.

Description

증폭형 촬상소자
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 본 발명의 증폭형 촬상소자의 일예를 나타낸 구성도.

Claims (4)

  1. 증폭형 화소트랜지스터의 게이트전극과 수직선택선의 층 사이에 이 게이트 전극 및 수직선택선을 접속하는 콘택트버퍼층이 배설되어 이루어지는 것을 특징으로 하는 증폭형 촬상소자.
  2. 제1항에 있어서, 수직선택선과 콘택터버퍼층과 접속부와, 콘택트버퍼층과 게이트전극과의 접속부가 상이한 위치에 배치되는 것을 특징으로 하는 증폭형 촬상소자.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서, 콘택트버퍼층이 수평방향으로 인접한 2개의 증폭형 화소트랜지스터의 게이트전극과 접속할 수 있는 패턴형상을 가지는 것을 특징으로 하는 증폭형 촬상소자.
  4. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 콘택트버퍼층이 증폭형 화소트랜지스터의 게이트전극과 반응하지 않는 도전재료로 형성되는 것을 특징으로 하는 증폭형 촬상소자.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019940004365A 1993-03-11 1994-03-07 증폭형 촬상소자 KR940022877A (ko)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP93-50,727 1993-03-11
JP5050727A JPH06268188A (ja) 1993-03-11 1993-03-11 増幅型撮像素子

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR940022877A true KR940022877A (ko) 1994-10-21

Family

ID=12866896

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1019940004365A KR940022877A (ko) 1993-03-11 1994-03-07 증폭형 촬상소자

Country Status (3)

Country Link
US (2) US5506434A (ko)
JP (1) JPH06268188A (ko)
KR (1) KR940022877A (ko)

Families Citing this family (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06268188A (ja) * 1993-03-11 1994-09-22 Sony Corp 増幅型撮像素子
JP3284816B2 (ja) * 1995-03-22 2002-05-20 ソニー株式会社 固体撮像装置
US6873362B1 (en) 1995-03-22 2005-03-29 Sony Corporation Scanning switch transistor for solid-state imaging device
JP3561084B2 (ja) * 1995-07-24 2004-09-02 シャープ株式会社 回路内蔵受光素子、電子部品、光ピックアップ装置および回路内蔵受光素子の製造方法
JPH09162380A (ja) * 1995-10-04 1997-06-20 Sony Corp 増幅型固体撮像素子及びその製造方法
US5943598A (en) * 1995-10-19 1999-08-24 Stmicroelectronics, Inc. Integrated circuit with planarized dielectric layer between successive polysilicon layers
KR100447982B1 (ko) * 1996-12-27 2004-11-06 주식회사 하이닉스반도체 반도체소자의금속배선형성방법
US5970375A (en) * 1997-05-03 1999-10-19 Advanced Micro Devices, Inc. Semiconductor fabrication employing a local interconnect
JPH1154731A (ja) * 1997-07-31 1999-02-26 Nec Corp 半導体装置
DE19830179B4 (de) * 1998-07-06 2009-01-08 Institut für Mikroelektronik Stuttgart Stiftung des öffentlichen Rechts MOS-Transistor für eine Bildzelle
JP4419264B2 (ja) * 2000-03-31 2010-02-24 ソニー株式会社 固体撮像装置
KR100630679B1 (ko) * 2003-12-17 2006-10-02 삼성전자주식회사 포토 다이오드 및 이의 제조 방법
KR20060091157A (ko) * 2005-02-14 2006-08-18 매그나칩 반도체 유한회사 전원라인의 전압 감소를 방지할 수 있는 이미지센서 및 이미지센서의 전원라인 배치 방법
CN101776827A (zh) * 2010-01-22 2010-07-14 友达光电股份有限公司 像素阵列、聚合物稳定配向液晶显示面板以及光电装置
KR102053410B1 (ko) * 2013-04-24 2019-12-09 삼성디스플레이 주식회사 박막 트랜지스터 및 유기 발광 표시 장치
US9899484B1 (en) 2016-12-30 2018-02-20 Texas Instruments Incorporated Transistor with source field plates under gate runner layers
US10410934B2 (en) * 2017-12-07 2019-09-10 Micron Technology, Inc. Apparatuses having an interconnect extending from an upper conductive structure, through a hole in another conductive structure, and to an underlying structure
CN112534583A (zh) 2020-09-10 2021-03-19 京东方科技集团股份有限公司 显示基板、显示装置及高精度金属掩模板
WO2022052011A1 (zh) * 2020-09-10 2022-03-17 京东方科技集团股份有限公司 显示基板、显示装置及高精度金属掩模板

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60140752A (ja) * 1983-12-28 1985-07-25 Olympus Optical Co Ltd 半導体光電変換装置
US4853341A (en) * 1987-03-25 1989-08-01 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Process for forming electrodes for semiconductor devices using focused ion beams
US5142346A (en) * 1987-04-03 1992-08-25 Texas Instruments Incorporated Floating gate JFET image sensor
US4901129A (en) * 1987-04-10 1990-02-13 Texas Instruments Incorporated Bulk charge modulated transistor threshold image sensor elements and method of making
JPH07123138B2 (ja) * 1990-07-13 1995-12-25 株式会社東芝 半導体装置の製造方法
US5182624A (en) * 1990-08-08 1993-01-26 Minnesota Mining And Manufacturing Company Solid state electromagnetic radiation detector fet array
JPH04196552A (ja) * 1990-11-28 1992-07-16 Mitsubishi Electric Corp 半導体装置およびその製造方法
JPH06268188A (ja) * 1993-03-11 1994-09-22 Sony Corp 増幅型撮像素子

Also Published As

Publication number Publication date
US5506434A (en) 1996-04-09
US5684312A (en) 1997-11-04
JPH06268188A (ja) 1994-09-22

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR940022877A (ko) 증폭형 촬상소자
EP1005093A3 (en) Semiconductor circuit with TFTs
KR960039436A (ko) 박막트랜지스터 및 그것을 사용한 액정표시장치
KR970062777A (ko) 액정 표시 장치
KR910017676A (ko) 박막트랜지스터
KR920010957A (ko) 박막 반도체 장치
KR890001212A (ko) 박막 반도체장치 및 그 제조방법
KR920016886A (ko) 표시 장치
KR930022127A (ko) 액정표시장치
KR930020667A (ko) 센스 앰프회로
KR960015962A (ko) 박막트랜지스터
TW356584B (en) Ferroelectric transistors of thin film semiconductor gate electrodes
KR980003739A (ko) 박막트랜지스터 어레이 기판 및 그 제조방법
KR920022541A (ko) Ccd 시프트레지스터
US3991326A (en) MISFET switching circuit for a high withstand voltage
KR960018729A (ko) 한 화소에 이중 배선과 복수의 트랜지스터를 구비한 액정 표시 장치
KR900017193A (ko) 스태틱형 메모리
KR970066692A (ko) 액티브 매트릭스 디스플레이 장치 및 이의 결함 수정 방법
KR960024548A (ko) 액티브 매트릭스 기판
KR920001749A (ko) 개량된 절연게이트형 트랜지스터를 갖는 반도체장치
KR940012631A (ko) 반도체 메모리장치
KR870010633A (ko) 반도체장치
KR920018982A (ko) 반도체 장치 및 반도체 기억장치
KR970007427A (ko) 박막 트랜지스터 액정 표시장치의 화소 회로
KR920015367A (ko) 반도체 메모리장치

Legal Events

Date Code Title Description
WITN Application deemed withdrawn, e.g. because no request for examination was filed or no examination fee was paid