KR940007790A - 자기 디스크용 기판, 그의 제조방법 및 상기 기판을 포함하는 자기 디스크의 제조방법 - Google Patents

자기 디스크용 기판, 그의 제조방법 및 상기 기판을 포함하는 자기 디스크의 제조방법 Download PDF

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KR940007790A
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후미아키 요코야마
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Abstract

50 내지 1000A의 높이, 0.01 내지 1㎛의 폭, 10 내지 1000/100㎛2의 밀도 및 0.1 내지 50%의 면적비, 또 기판의 표면조도에 관한 평균선상의 피이크 높이(Rp) 대최대 높이(Rmax)의 비율이 60%이상인 미세돌기를 표면에 갖는 유리기판을 포함하는 자기 디스크용 기판이 기재되어 있다. 또한 상기 기판의 제조방법 및 상기 기판을 갖는 자기 디스크의 제조방법도 기재되어 있다.
본 발명에 따른 기판은 표면에 적합한 돌기를 갖고 있기 때문에, 헤드와 자기 디스크 사이의 마찰력 및 흡수력이 감소될 수 있어 CSS 특성 및 헤드 고착방지 특성을 향상시키게 된다. 또한 기판표면에 형성된 미세 오목부가 얕기 때문에 S/N비도 악영향을 받지 않는다.

Description

자기 디스크용 기판, 그의 제조방법 및 상기 기판을 포함하는 자기 디스크의 제조방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 본 발명에 따른 기판표면의 횡단면도.

Claims (9)

  1. 50 내지 1000A의 높이, 0.01 내지 1㎛의 폭, 10 내지 1000/100㎛2의 밀도 및 0.1 내지 50%의 면적비, 또 기판의 표면조도에 관한 평균선상의 피이크 높이(Rp)대 최대 높이(Rmax)의 비율이 60%이상인 미세 돌기를 표면에 갖는 유리기판을 포함하는 자기 디스크용 기판.
  2. 유리기판을 5 내지 20℃의 액체 온도 조건하에서 0.15 내지 0.9N의 플로오르화 수소산 및 2 내지 6N의 플루오르화 칼륨을 함유하는 수용액을 사용하여 화학적 부식처리시키는 것을 포함하는 자기 디스크용 기판의 제조방법.
  3. 제2항에 있어서, 유리기판을 0.3 내지 0.9N의 플루오르화 수소산 및 플루오르화 칼륨을 함유하는 수용액을 사용하여 화학적 부식처리시키는 방법.
  4. 제2항 또는 제3항에 있어서, 화학적 부식처리후, 자기필름을 형성시킴으로써 자기 디스크용 기판을 제조하기 위해 유리기판을 15℃이하의 물로써 세척하는 방법.
  5. 유리기판을 5 내지 20℃의 액체 온도조건하에서 0.15 내지 0.9N의 플루오로화 수소산 및 2 내지 6N의 플루오르화 칼륨을 함유하는 수용액을 사용하여 화학적 부식처리시킨 다음 15℃이하의 물로써 세척하는 것을 포함하는 자기 디스크용 기판의 제조방법.
  6. 제1항에 있어서, 유리기판을 5 내지 20℃의 액체 온도 조건하에서 0.15 내지 0.9N의 플루오로화 수소산 및 2 내지 6N의 플루오르화 칼륨을 함유하는 수용액을 사용하여 화학적 부식처리시키는 것에 의해 제조되는 기판.
  7. 제1항에 있어서, 화학적 부식처리후 15℃이하의 물을 사용하여 세척되는 기판.
  8. 제1항에 있어서, 유리기판을 5 내지 20℃의 액체 온도 조건하에서 0.15 내지 0.9N의 플루오르화 수소산 및 2 내지 6N의 플루오르화 칼륨을 함유하는 수용액을 사용하여 화학적 부식처리시킨 다음 15℃이하의 물을 사용하여 세척하는 것에 의해 제조되는 기판.
  9. 하도필름, 자기필름 및 보호필름이 차례로 형성되고 또 50 내지 1000A의 높이, 0.01 내지 1㎛의 폭, 10 내지 1000/100㎛2의 밀도 및 0.1 내지 50%의 면적비, 또 기판의 표면조도에 관한 평균선상의 피이크 높이(Rp)대 최대 높이(Rmax)의 비율이 60%이상인 미세 돌기를 표면에 갖는 기판을 포함하는 자기 디스크.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019930017413A 1992-09-02 1993-08-30 자기 디스크용 기판, 그의 제조방법 및 상기 기판을 포함하는 자기 디스크의 제조방법 KR940007790A (ko)

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