KR940006235A - 입자검사방법 및 그 장치 - Google Patents

Abstract

본 발명은, 초 LSI 등의 반도체장치의 미세가공시에 필요한 입자검사방법 및 그 장치에 관한 것이며, 더 상세한게는, 웨이퍼위의 크기가 0.1㎛이하의 미세한 입자까지도 검출할 수 있는 입자검출방법 및 그 장치를 제공하는 것을 목적으로한 것이다.

Description

입자검사방법 및 그 장치

본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

제1도∼제3도는 본 발명의 입자(particle)검사방법을 설명하기 위한 모식단면도,

제4도는 본 발명의 입자검사 방법을 실시하기 위한 레이저입자검사장치이다.

Claims (11)

1. 피검사기판표면위에 물방울을 융착시키고, 그 물방울에 의한 산란광을 검출하므로서. 상기 기관표면위에 부착한 입자의 분포와 그 크기를 검사하는 것을 특징으로하는 입자검사방법.
2. 제1항에 있어서, 피검사기판표면위에 물방울을 융착시키는 공정이, 피검사기판을 주위분위기보다 저온으로 유지해서, 상기 피검사기판에 물방울을 융착시키는 공정인 것을 특징으로 하는 입자검사방법.
3. 제1항에 있어서, 피검사기판표면위에 물방울을 융착시키는 공정이, 피검사기판주위의 분위기를 외기보다 고습도로 유지하고, 상기 피검사기판을 주위분위기보다 저온으로 유지해서, 상기 피검사기판에 물방울을 융착시키는 공정인 것을 특징으로 하는 입자검사방법.
4. 제1항에 있어서, 물방울에 의한 산란광을 검출하는 공정이, 피검사기판에 레이저광선을 조사하고, 상기 물방울에 의한 산란광을 검출하는 공정인 것을 특징으로 하는 입자검사방법.
5. 제2항에 있어서, 물방울에 의한 산란광을 검출하는 공정이, 피검사기판에 레이저광선을 조사하고, 상기 물방울에 의한 산란광을 검출하는 공정인 것을 특징으로 하는 입자검사방법.
6. 제3항에 있어서, 물방울에 의한 산란광을 검출하는 공정이, 피검사기판에 레이저광선을 조사하고, 상기 물방울에 의한 산란광을 검출한는 공정인 것을 특징으로 하는 입자검사방법.
7. 피검사기판표면위에 물방울을 융착시키고, 그 물방울에 의한 산란광을 검출하므로서, 상기 기판표면위에 부착한 미세입자직경의 입자의 분포와 그 크기를 검사하는 공정과, 상기 피검사기판 표면위의 물방울을 제거하고 그 물방울을 제거한 피검사 기판표면위에 레이저광선을 조사하고, 그 산란광에 의해 상기 기판표면위에 부착한 대입자직경의 입자의 분포와 그 크기를 검사하는 공정을 가진 것을 특징으로 하는 입자검사방법.
8. 피검사기판 표면위에 레이저광선을 조사하고, 그 산란광에 의해 상기 기판표면위에 부착한 대입자직경의 입자의 분포와 그 크기를 검사하는 공정과, 상기 피검사 기판표면위에 물방울을 융착시키고, 그 물방울에 의한 산란광을 검출하므로서, 상기 기판표면위에 부착한 미세입자직경의 입자의 분포와 그 크기를 검사하는 공정을 가진 것을 특징으로 하는 입자검사방법.
9. 피검사기판표면위에 알코올을 융착시키고, 그 융착한 알코올에 의한 산란광을 검출하므로서, 상기 기관표면 위에 부착한 입자의 분포와 그 크기를 검사하는 것을 특징으로 하는 입자검사방법.
10. 피검사 기판표면위에 물방울을 용착시키고, 그 물방울에 의한 산란광을 검출하므로서, 상기 기관의 표면상태를 검사하는 것을 특징으로 하는 기판표면의 검사방법.
11. 검사기판을 얹어놓는 스테이지와, 상기 검사기관에 레이저광을 조사하는 레이저 광선과, 상기 검사기판위의 입자부분으로부터의 산란광을 검출하는 광검출기둥으로 이루어진 검사실에, 상기 스테이지를 냉각하는 수단과, 상기 검사기판주변분위기를 고습도로하기 위한 수단을 추가한 검사실을 가진 것을 특징으로 하는 레이저입자검사장치.

    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.