KR930011275A - 박막 트랜지스터 구조 - Google Patents
박막 트랜지스터 구조 Download PDFInfo
- Publication number
- KR930011275A KR930011275A KR1019910019992A KR910019992A KR930011275A KR 930011275 A KR930011275 A KR 930011275A KR 1019910019992 A KR1019910019992 A KR 1019910019992A KR 910019992 A KR910019992 A KR 910019992A KR 930011275 A KR930011275 A KR 930011275A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- thin film
- film transistor
- gate
- amorphous silicon
- transistor structure
- Prior art date
Links
- 239000010409 thin film Substances 0.000 title claims abstract description 7
- 229910021417 amorphous silicon Inorganic materials 0.000 claims abstract 7
- 239000010408 film Substances 0.000 claims 1
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L29/00—Semiconductor devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching and having potential barriers; Capacitors or resistors having potential barriers, e.g. a PN-junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/02—Semiconductor bodies ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/06—Semiconductor bodies ; Multistep manufacturing processes therefor characterised by their shape; characterised by the shapes, relative sizes, or dispositions of the semiconductor regions ; characterised by the concentration or distribution of impurities within semiconductor regions
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
- Thin Film Transistor (AREA)
- Non-Volatile Memory (AREA)
Abstract
본 발명은 강유전체를 이용한 두개의 게이트를 갖는 박막트랜지스터 구조에 관한것으로, 제1게이트위에 제1강유전체층과, 비정질실리콘층, n+ 비정질실리콘층, 소오스/드레인 전극이 적층되고 그위의 제1게이트 상방에 제2강유전체를 사이에 두고 제2게이트가 형성된 것이다.
이와같이 형성된 박막트랜지스터는 구동전류 및 문턱전압을 개선시킬수 있으므로 박막트랜지스터의 응용을 증대하는 효과가 있다.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제2도는 본 발명의 박막트랜지스터 공정단면도.
Claims (2)
- 제1게이트위에 제1절연층과 비정질실리콘층, n+비정질실리콘층 소오스/드레인 전극이 적층되어 상기 소오스/드레인 전극과 중간부분의 소오스/드레인 전극의 노출된 부분위에 제2절연층이 적층되고 상기 제2절연층위에 제2게이트, 비정질 실리콘나이트라이드막이 적층된 박막 트랜지스터 구조.
- 제1항에 있어서, 제1, 제2절연층을 페로브스키트 구조를 갖는 강유전체이고, 제1게이트, 제2게이트, 제1,제2절연층, 비정질실리콘층, n+비정질실리콘층, 소오스/드레인전극의 두께를 각각 1000Å, 4000Å, 1000Å, 2000Å, 500Å, 4000Å로 함을 특징으로 하는 박막트랜지스터 구조.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1019910019992A KR930011275A (ko) | 1991-11-11 | 1991-11-11 | 박막 트랜지스터 구조 |
JP30099692A JPH0653506A (ja) | 1991-11-11 | 1992-11-11 | 薄膜トランジスタ |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1019910019992A KR930011275A (ko) | 1991-11-11 | 1991-11-11 | 박막 트랜지스터 구조 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR930011275A true KR930011275A (ko) | 1993-06-24 |
Family
ID=19322610
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1019910019992A KR930011275A (ko) | 1991-11-11 | 1991-11-11 | 박막 트랜지스터 구조 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0653506A (ko) |
KR (1) | KR930011275A (ko) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100403798B1 (ko) * | 1996-03-11 | 2004-06-26 | 삼성전자주식회사 | 겹침형강유전체랜덤액세서메모리및그제조방법과구동방법 |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006004995A (ja) * | 2004-06-15 | 2006-01-05 | Mitsubishi Chemicals Corp | 電界効果トランジスタ |
US20060118869A1 (en) * | 2004-12-03 | 2006-06-08 | Je-Hsiung Lan | Thin-film transistors and processes for forming the same |
EP2284891B1 (en) * | 2009-08-07 | 2019-07-24 | Semiconductor Energy Laboratory Co, Ltd. | Semiconductor device and manufacturing method thereof |
KR102392007B1 (ko) * | 2015-05-04 | 2022-05-02 | 삼성디스플레이 주식회사 | 박막트랜지스터 및 이를 포함하는 표시 장치 |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0628317B2 (ja) * | 1985-05-23 | 1994-04-13 | 松下電器産業株式会社 | 薄膜トランジスタの製造法 |
JPH01189632A (ja) * | 1988-01-26 | 1989-07-28 | Casio Comput Co Ltd | 薄膜トランジスタ |
-
1991
- 1991-11-11 KR KR1019910019992A patent/KR930011275A/ko not_active Application Discontinuation
-
1992
- 1992-11-11 JP JP30099692A patent/JPH0653506A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100403798B1 (ko) * | 1996-03-11 | 2004-06-26 | 삼성전자주식회사 | 겹침형강유전체랜덤액세서메모리및그제조방법과구동방법 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0653506A (ja) | 1994-02-25 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR910017676A (ko) | 박막트랜지스터 | |
KR910017674A (ko) | 박막 트랜지스터 | |
KR950015763A (ko) | 불휘발성 반도체기억장치 | |
KR930017218A (ko) | 박막전계효과 트랜지스터 및 그 제조방법 | |
KR930020661A (ko) | 반도체 디바이스 | |
KR920022580A (ko) | 박막 트랜지스터 및 그 제조 방법 | |
KR960015963A (ko) | 전계효과 트랜지스터 | |
KR850005160A (ko) | 적층형 반도체 기억장치 | |
KR900008698A (ko) | 반도체장치 및 반도체 기억장치 | |
KR900019245A (ko) | 박막트랜지스터 및 그 제조방법 | |
KR960015962A (ko) | 박막트랜지스터 | |
KR930006975A (ko) | 절연게이트형 전계효과 트랜지스터 | |
KR930014990A (ko) | 반도체장치 및 그 제조방법 | |
KR930011275A (ko) | 박막 트랜지스터 구조 | |
KR890017769A (ko) | 반도체 장치 및 제조방법 | |
KR890017766A (ko) | 커패시터를 구비한 반도체 장치 | |
KR920020725A (ko) | 초고집적 반도체 메모리장치의 제조방법 | |
KR910020740A (ko) | 반도체기억장치 | |
KR930001502A (ko) | 박막 트랜지스터와 이것을 제조하기위한 방법 | |
KR930020656A (ko) | 멀티채널 박막트랜지스터 | |
KR910007074A (ko) | 박막 트랜지스터 | |
JPH03228376A (ja) | 縦形二重拡散mosfet | |
KR850005174A (ko) | 헤테로 구조를 가진 반도체 장치 | |
KR920015367A (ko) | 반도체 메모리장치 | |
KR970054350A (ko) | 고전압 모스 트랜지스터 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E601 | Decision to refuse application | ||
J2X1 | Appeal (before the patent court) |
Free format text: APPEAL AGAINST DECISION TO DECLINE REFUSAL |