KR870000960A - 진공화학 반응장치 - Google Patents

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KR870000960A
KR870000960A KR1019860006093A KR860006093A KR870000960A KR 870000960 A KR870000960 A KR 870000960A KR 1019860006093 A KR1019860006093 A KR 1019860006093A KR 860006093 A KR860006093 A KR 860006093A KR 870000960 A KR870000960 A KR 870000960A
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다쯔오 아사마끼
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야스다 스스무
니찌덴 아넬바 가부시끼가이샤
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    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J12/00—Chemical processes in general for reacting gaseous media with gaseous media; Apparatus specially adapted therefor
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
    • C23C16/50—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating using electric discharges

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Abstract

내용 없음.

Description

진공화학 반응장치
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도, 제2도 및 제3도는 바람직한 제 1 구체예를 따르는 진공화학 반응장치.

Claims (15)

  1. 가공될 다수의 대상물을 진공조건하에 수용하는 진공실과 진공실 내압을 예정된 압력치까지 하강시키도록 진공실을 배기시키는 기구와 배기기구로 배기조작을 완료한 후에 다수의 대상물 표면에 화학작용을 수행하도록 진공실에 반응성 가스를 도입하는 기구와 다수의 대상물을 파지하도록 진공실에 설치된 대상물 파지 기구와 다수의 대상물을 진공실의 외부로부터 진공실내에 위치한 대상물 파지기구까지 수송하는 기구로 구성되는 진공화학반응장치에 있어서, 상기 대상물 파지기구는 캐리어 호울더와 이 캐리어 호울더로부터 돌출된 다수의 캐리어를 포함하고 상기 캐리어는 이 캐리어의 실질적으로 전표면에 걸쳐 상기 다수의 대상물을 지지하도록 다수의 대상물 지지부재를 가지며, 상기 캐리어 파지기구는 진공실 기구내에서 가동성이고, 이에 따라 상기 대상물 지지부재로 지지된 적어도 두 대상물은 예정된 실질적으로 동일 평면상에서 이송되고, 상기의 적어도 두 대상물을 실질적으로 동일 평면상에서 상기 대상물 지지부재로부터 수납하여 이를 상기 이송기구에 전달하는 기구가 설치되어 있는 것을 특징으로 하는 진공화학 반응장치.
  2. 제1항에 있어서, 상기의 가공될 대상물은 피처리물이고, 상기 캐리어는 전국으로서의 또 다른 기능을 가지며, 방전작용을 진공화학 반응장치에서 이용하는 것을 특징으로 하는 진공화학 반응장치.
  3. 제1항에 있어서, 상기의 가공될 대상물은 피처리물이고, 상기 캐리어는 가열기로서의 또 다른 기능을 가지며, 진공 화학반응장치는 화학증착장치로서의 역할을 하는 것을 특징으로 하는 진공화학 반응장치.
  4. 제1항에 있어서, 상기의 가공될 대상물은 피처리물이고, 상기 캐리어 파지기구는 선형으로 이송되는 것을 특징으로 하는 진공화학 반응장치.
  5. 제1항에 있어서, 상기의 가공될 대상물은 피처리물이고 상기의 캐리어 파지기구는 예정된 축 주위로 회전 가능한 것을 특징으로 하는 진공화학 반응장치.
  6. 제1항에 있어서, 상기의 가공될 대상물은 피처리물이고, 상기 캐리어의 형상은 실질적으로 서로 동일하여 디스크형인 것을 특징으로 하는 진공화학 반응장치.
  7. 제1항에 있어서, 상기의 가공될 대상물은 피처리물이고, 상기 캐리어의 형상은 실질적으로 서로 동일하여 직사각형인 것을 특징으로 하는 진공화학 반응장치.
  8. 제6항에 있어서, 상기 디스크형 캐리어는 상기 캐리어 파지기구로부터 방사상으로 돌출되는 것을 특징으로 하는 진공화학 반응장치.
  9. 제7항에 있어서, 상기 직사각형의 캐리어는 상기 캐리어 파지기구로부터 방사상으로 돌출되는 것을 특징으로 하는 진공화학 반응장치.
  10. 제6항에 있어서, 상기 디스크형 캐리어는 상기 캐리어 파지기구로부터 서로 평행하게 돌출되어 있는 것을 특징으로 하는 진공화학 반응장치.
  11. 제7항에 있어서, 상기 직사각형 캐리어는 상기 캐리어 파지기구로부터 서로 평행하게 돌출되어 있는 것을 특징으로 하는 진공화학 반응장치.
  12. 제1항에 있어서, 상기의 가공될 대상물은 피처리물이고, 상기 캐리어의 형상은 실질적으로 서로 통일하여 직사각주인 것을 특징으로 하는 진공화학 반응장치.
  13. 제1항에 있어서, 상기의 가공될 대상물은 피처리물이고, 상기 캐리어의 형상은 실질적으로 서로 동일하여 원통형인 것을 특징으로 하는 진공화학 반응장치.
  14. 제1항에 있어서, 상기의 가공될 대상물은 전자성분인 것을 특징으로 하는 진공화학 반응장치.
  15. 제1항에 있어서, 상기의 가공될 대상물이 광학성분인 것을 특징으로 하는 진공화학 반응장치.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019860006093A 1985-07-25 1986-07-25 진공화학반응장치 KR890005267B1 (ko)

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JP60-164670 1985-07-25

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KR890005267B1 KR890005267B1 (ko) 1989-12-20

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