KR20210119538A - Adhesive sheet, manufacturing method of adhesive sheet, manufacturing method of intermediate laminated body, and intermediate laminated body - Google Patents
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Abstract
점착 시트(1)는, 점착층(2) 및 점착층(2)의 일방면에 배치되는 활성 광선 흡수층(3)을 구비한다. 점착층(2)이, 활성 광선의 조사에 의해 파장 550nm에서의 가시광 투과율이 저하 가능한 점착성 조성물로 이루어진다. 활성 광선 흡수층(3)의, 활성 광선의 평균 투과율이 15% 이하이다.The adhesive sheet 1 is provided with the adhesive layer 2 and the actinic light absorption layer 3 arrange|positioned on one side of the adhesive layer 2 . The adhesive layer 2 consists of an adhesive composition in which the visible light transmittance|permeability in wavelength 550nm can fall by irradiation of actinic light. The average transmittance of the actinic light of the actinic light absorbing layer 3 is 15% or less.
Description
본 발명은, 점착 시트, 점착 시트의 제조 방법, 중간 적층체의 제조 방법 및 중간 적층체에 관한 것으로, 상세하게는, 점착 시트, 그 점착 시트의 제조 방법, 그 점착 시트를 이용하여 얻어지는 중간 적층체의 제조 방법, 및 그 중간 적층체의 제조 방법에 의해 얻어지는 중간 적층체에 관한 것이다.The present invention relates to a pressure-sensitive adhesive sheet, a method for manufacturing the pressure-sensitive adhesive sheet, a method for manufacturing an intermediate laminate, and an intermediate laminate, and more particularly, to an adhesive sheet, a method for manufacturing the pressure-sensitive adhesive sheet, and an intermediate laminate obtained using the pressure-sensitive adhesive sheet It is related with the manufacturing method of a sieve, and the intermediate laminated body obtained by the manufacturing method of the intermediate laminated body.
근년, 유기 EL 패널을 탑재한 디스플레이가 알려져 있다. 유기 EL 패널은 반사성이 높은 전극층을 갖기 때문에, 외광 반사나 배경의 반영 등을 일으키기 쉽다.In recent years, a display equipped with an organic EL panel is known. Since the organic EL panel has an electrode layer with high reflectivity, reflection of external light, reflection of the background, and the like are likely to occur.
그리고, 외광 반사나 배경의 반영을 막기 위해서, 전극층의 반사면에 광을 흡수하는 기능을 갖는 층을 마련하는 것이 알려져 있다.And, in order to prevent reflection of external light and reflection of a background, it is known to provide the layer which has a function which absorbs light on the reflective surface of an electrode layer.
이와 같은 층으로서, 카본 블랙 안료 및 염료를 포함하는 광흡수층이 제안되어 있다(예를 들면, 특허문헌 1 참조).As such a layer, a light absorption layer containing a carbon black pigment and dye has been proposed (for example, refer to Patent Document 1).
한편, 광을 흡수하는 기능을 갖는 층이 점착층인 경우에는, 검사 등의 관점에서 투명성이 요구되는 경우가 있다.On the other hand, when the layer having a function of absorbing light is an adhesive layer, transparency is sometimes required from the viewpoint of inspection and the like.
이와 같은 경우에는, 점착층에, 산에 의해 착색되는 화합물과, 광산 발생제를 포함시키는 것이 검토된다.In such a case, it is considered that the adhesion layer contains the compound colored by an acid, and a photo-acid generator.
이와 같은 점착층에 활성 광선을 조사하면, 광산 발생제로부터 산이 발생하고, 그 산에 의해, 화합물이 착색된다.When such an adhesion layer is irradiated with actinic light, an acid will generate|occur|produce from a photo-acid generator, and a compound will be colored by the acid.
즉, 이 점착층에서는, 임의의 타이밍에 활성 광선을 조사함으로써, 점착층을 착색시킬 수 있고, 이에 의해 광을 흡수하는 기능을 부여할 수 있다.That is, in this adhesive layer, by irradiating actinic light at arbitrary timings, an adhesive layer can be colored, and the function which absorbs light can be provided by this.
그러나, 이와 같은 점착층에서는, 목적 및 용도에 따라서, 착색 부분 이외를, 투명인 그대로 잔존시키고 싶은 경우나, 착색 부분보다도 착색량을 적게 하고 싶은 경우가 있다.However, in such an adhesive layer, depending on the purpose and use, there are cases where it is desired to remain transparent other than the colored portion, or there are cases where it is desired to reduce the amount of coloring than the colored portion.
이와 같은 경우, 착색 부분 이외가 외광(활성 광선)에 노출되면, 투명인 그대로 잔존시키고 싶은 부분이 착색되고, 또한 착색 부분보다도 착색량을 적게 하고 싶은 부분의 착색량이 많아진다는 문제가 있다.In such a case, when the part other than the colored part is exposed to external light (actinic light), there is a problem that the part to be left as it is transparent is colored, and the colored amount of the part where the amount of coloring is to be decreased is larger than that of the colored part.
본 발명은, 임의의 타이밍에 활성 광선을 조사함으로써, 점착층을 착색시킬 수 있고, 또한, 착색 부분 이외가 외광(활성 광선)에 의해 착색되는 것을 억제할 수 있는 점착 시트, 그 점착 시트의 제조 방법, 그 점착 시트를 이용하여 얻어지는 중간 적층체의 제조 방법, 및 그 중간 적층체의 제조 방법에 의해 얻어지는 중간 적층체를 제공하는 것에 있다.This invention can color an adhesive layer by irradiating actinic light at arbitrary timings, and can suppress that other than a colored part is colored by external light (actinic light), manufacture of this adhesive sheet It is to provide the intermediate|middle laminated body obtained by the manufacturing method of the intermediate|middle laminated body obtained using the method, this adhesive sheet, and the manufacturing method of this intermediate laminated body.
본 발명[1]은, 점착층 및 상기 점착층의 일방면에 배치되는 활성 광선 흡수층을 구비하고, 상기 점착층이, 활성 광선의 조사에 의해 파장 550nm에서의 가시광 투과율이 저하 가능한 점착성 조성물로 이루어지고, 상기 활성 광선 흡수층의, 활성 광선의 평균 투과율이 15% 이하인, 점착 시트이다.The present invention [1] is provided with an adhesive layer and an actinic light absorbing layer disposed on one side of the adhesive layer, wherein the adhesive layer is composed of an adhesive composition capable of lowering visible light transmittance at a wavelength of 550 nm by irradiation with actinic light and an average transmittance of the actinic light of the actinic light absorbing layer is 15% or less.
본 발명[2]는, 상기 점착층이, 자외선의 조사에 의해 파장 550nm에서의 가시광 투과율이 저하 가능한 점착성 조성물로 이루어지고, 상기 활성 광선 흡수층이, 자외선 흡수층이며, 상기 자외선 흡수층의, 파장 300nm 이상 400nm 이하에 있어서의 평균 투과율이, 15% 이하인, 상기 [1]에 기재된 점착 시트를 포함하고 있다.In the present invention [2], the adhesive layer is composed of an adhesive composition capable of lowering the visible light transmittance at a wavelength of 550 nm by irradiation with ultraviolet rays, the active light absorbing layer is an ultraviolet absorbing layer, and the ultraviolet absorbing layer having a wavelength of 300 nm or more The pressure-sensitive adhesive sheet according to [1], wherein the average transmittance at 400 nm or less is 15% or less.
본 발명[3]은, 상기 자외선 흡수층의, 파장 400nm 이상 700nm 이하에 있어서의 평균 투과율이, 50% 이상인, 상기 [2]에 기재된 점착 시트를 포함하고 있다.The present invention [3] includes the pressure-sensitive adhesive sheet according to the above [2], wherein an average transmittance of the ultraviolet absorbing layer at a wavelength of 400 nm or more and 700 nm or less is 50% or more.
본 발명[4]는, 상기 자외선 흡수층이, 자외선 흡수제를 포함하는, 상기 [2] 또는 [3]에 기재된 점착 시트를 포함하고 있다.The present invention [4] includes the pressure-sensitive adhesive sheet according to [2] or [3], wherein the ultraviolet absorbing layer contains an ultraviolet absorber.
본 발명[5]는, 상기 점착성 조성물은, 모노머 성분의 중합체인 점착성 폴리머와, 산에 의해 착색되는 화합물과, 광산 발생제를 포함하는, 상기 [1]∼[4] 중 어느 하나에 기재된 점착 시트를 포함하고 있다.In the present invention [5], the pressure-sensitive adhesive composition according to any one of [1] to [4], wherein the pressure-sensitive adhesive composition contains a pressure-sensitive adhesive polymer that is a polymer of a monomer component, a compound colored with an acid, and a photo-acid generator. Includes sheet.
본 발명[6]은, 활성 광선의 조사에 의해 파장 550nm에서의 가시광 투과율이 저하 가능한 점착성 조성물로 이루어지는 점착층을 준비하는 점착층 준비 공정과, 상기 점착층의 일방면에, 활성 광선의 평균 투과율이 15% 이하인 활성 광선 흡수층을 배치하는 배치 공정을 구비하는, 점착 시트의 제조 방법을 포함하고 있다.The present invention [6] provides a pressure-sensitive adhesive layer preparation step of preparing an adhesive layer comprising a pressure-sensitive adhesive composition capable of reducing visible light transmittance at a wavelength of 550 nm by irradiation with actinic light, and an average transmittance of actinic light on one side of the pressure-sensitive adhesive layer. The manufacturing method of the adhesive sheet provided with the arrangement|positioning process of arrange|positioning this 15% or less actinic light absorbing layer is included.
본 발명[7]은, 상기 점착층 준비 공정 후, 상기 배치 공정 전에, 상기 점착층에 활성 광선을 조사하는, 상기 [6]에 기재된 점착 시트의 제조 방법을 포함하고 있다.This invention [7] includes the manufacturing method of the adhesive sheet as described in said [6] which irradiates actinic light to the said adhesive layer after the said adhesive layer preparation process and before the said arrangement|positioning process.
본 발명[8]은, 상기 배치 공정 후에, 활성 광선을 조사하는 것을 특징으로 하는, 상기 [6]에 기재된 점착 시트의 제조 방법을 포함하고 있다.This invention [8] includes the manufacturing method of the adhesive sheet as described in said [6] characterized by irradiating actinic light after the said arrangement|positioning process.
본 발명[9]는, 상기 [8]에 기재된 점착 시트의 제조 방법에 의해 제조되는 점착 시트를 준비하는 준비 공정, 상기 점착층에 활성 광선을 조사하여, 상기 점착층에, 상대적으로 활성 광선의 조사량이 높은 고조사 부분과, 상대적으로 활성 광선의 조사량이 낮거나, 활성 광선이 조사되지 않는 비조사/저조사 부분을 형성하는 것에 의해, 상기 고조사 부분의 파장 550nm에서의 가시광 투과율을, 상기 비조사/저조사 부분의 파장 550nm에서의 가시광 투과율보다도 작게 하는 조사 공정, 및 상기 점착 시트의 타방면을 피착체에 첩착(貼着)하는 첩착 공정을 구비하는, 중간 적층체의 제조 방법을 포함하고 있다.The present invention [9] is a preparation step for preparing the pressure-sensitive adhesive sheet produced by the method for producing the pressure-sensitive adhesive sheet according to the above [8], irradiating actinic light to the pressure-sensitive adhesive layer, the pressure-sensitive adhesive layer is relatively The visible light transmittance at a wavelength of 550 nm of the highly irradiated portion is obtained by forming a highly irradiated portion with a high irradiation amount and a non-irradiated/low irradiated portion where the irradiation amount of the actinic light is relatively low or the actinic light is not irradiated. A method for producing an intermediate laminate comprising an irradiation step of making the non-irradiated/low-irradiated portion smaller than the visible light transmittance at a wavelength of 550 nm, and a bonding step of adhering the other side of the pressure-sensitive adhesive sheet to an adherend; have.
본 발명[10]은, 상기 준비 공정 후에, 상기 조사 공정을 실시하고, 상기 조사 공정 후에, 상기 첩착 공정을 실시하는, 상기 [9]에 기재된 중간 적층체의 제조 방법을 포함하고 있다.The present invention [10] includes the method for producing the intermediate laminate according to the above [9], wherein the irradiation step is performed after the preparation step, and the bonding step is performed after the irradiation step.
본 발명[11]은, 상기 준비 공정 후에, 상기 첩착 공정을 실시하고, 상기 첩착 공정 후에, 상기 조사 공정을 실시하는, 상기 [9]에 기재된 중간 적층체의 제조 방법을 포함하고 있다.This invention [11] includes the manufacturing method of the intermediate laminated body as described in said [9] which implements the said sticking process after the said preparation process, and implements the said irradiation process after the said sticking process.
본 발명[12]는, 상기 조사 공정에 있어서, 상기 활성 광선 흡수층의 표면측으로부터, 상기 점착층에 활성 광선을 조사하는, 상기 [10] 또는 [11]에 기재된 중간 적층체의 제조 방법을 포함하고 있다.The present invention [12] includes the method for producing the intermediate laminate according to the above [10] or [11], wherein, in the irradiation step, the adhesive layer is irradiated with actinic light from the surface side of the actinic light absorbing layer. are doing
본 발명[13]은, 상기 조사 공정에 있어서, 상기 점착층의 표면측으로부터, 상기 점착층에 활성 광선을 조사하는, 상기 [10]에 기재된 중간 적층체의 제조 방법을 포함하고 있다.This invention [13] includes the manufacturing method of the intermediate|middle laminated body as described in said [10] which irradiates actinic light to the said adhesive layer from the surface side of the said adhesive layer in the said irradiation process.
본 발명[14]는, 상기 조사 공정에 있어서, 상기 피착체의 표면측으로부터, 상기 점착층에 활성 광선을 조사하는, 상기 [11]에 기재된 중간 적층체의 제조 방법을 포함하고 있다.The present invention [14] includes the method for producing the intermediate laminate according to the above [11], wherein, in the irradiation step, the adhesive layer is irradiated with actinic light from the surface side of the adherend.
본 발명[15]는, 상기 피착체의, 활성 광선의 평균 투과율이 60% 이상이고, 상기 조사 공정에 있어서, 상기 피착체측의 타방면의 일부에, 활성 광선을 차단하는 마스크를 배치한 후, 상기 점착층에 활성 광선을 조사하는, 상기 [14]에 기재된 중간 적층체의 제조 방법을 포함하고 있다.In the present invention [15], the adherend has an average transmittance of actinic light of 60% or more, and in the irradiation step, after disposing a mask for blocking actinic light on a part of the other surface on the side of the adherend, and the method for producing the intermediate laminate according to [14], wherein the adhesive layer is irradiated with actinic light.
본 발명[16]은, 상기 피착체가, 활성 광선을 차단하고, 상기 첩착 공정에 있어서, 상기 점착 시트의 타방면의 일부에, 상기 피착체를 배치하는, 상기 [14]에 기재된 중간 적층체의 제조 방법을 포함하고 있다.In the present invention [16], the intermediate laminate according to [14], wherein the adherend blocks actinic light, and the adherend is disposed on a part of the other surface of the pressure-sensitive adhesive sheet in the pasting step. includes a method.
본 발명[17]은, 상기 비조사/저조사 부분이, 활성 광선이 조사되지 않는 비조사 부분이고, 상기 비조사 부분의, 파장 550nm에서의 가시광 투과율이, 80% 이상인, 상기 [9]∼[16] 중 어느 하나에 기재된 중간 적층체의 제조 방법을 포함하고 있다.In the present invention [17], the non-irradiated/low irradiated portion is a non-irradiated portion not irradiated with actinic light, and the non-irradiated portion has a visible light transmittance at a wavelength of 550 nm of 80% or more. The method for producing the intermediate laminate according to any one of [16] is included.
본 발명[18]은, 상기 비조사/저조사 부분이, 활성 광선의 조사량이 낮은 저조사 부분이고, 상기 조사 공정은, 활성 광선을 차단하는 제 1 마스크를 배치한 후, 상기 점착층에 활성 광선을 조사하는 것에 의해, 상기 점착층에, 활성 광선이 조사된 제 1 조사 부분과, 활성 광선이 조사되어 있지 않은 가(假)비조사 부분을 형성하는 제 1 조사 공정과, 상기 제 1 조사 부분에, 활성 광선을 차단하는 제 2 마스크를 배치한 후, 상기 점착층에 있어서의 상기 가비조사 부분에 활성 광선을 조사하는 것에 의해, 상기 가비조사 부분을, 제 2 조사 부분으로 하는 제 2 조사 공정을 구비하고, 상기 제 1 조사 부분 및 상기 제 2 조사 부분 중 어느 한쪽이 상기 고조사 부분이고, 다른 쪽이 상기 저조사 부분인, 상기 [9]∼[15] 중 어느 하나에 기재된 중간 적층체의 제조 방법을 포함하고 있다.In the present invention [18], the non-irradiated/low-irradiated portion is a low-irradiation portion with a low irradiation amount of actinic light, and the irradiation step is performed on the adhesive layer after disposing a first mask that blocks the actinic light A first irradiation step of forming, on the adhesive layer, a first irradiated portion irradiated with actinic light and a temporary non-irradiated portion not irradiated with actinic light by irradiating the adhesive layer with the first irradiation; After arranging a second mask that blocks actinic light in the portion, second irradiation using the provisionally irradiated portion as a second irradiated portion by irradiating the provisionally irradiated portion with actinic light on the portion of the adhesive layer The intermediate lamination according to any one of [9] to [15], comprising a step, wherein either one of the first irradiated portion and the second irradiated portion is the high irradiated portion, and the other is the low irradiated portion. It includes a method for manufacturing a sieve.
본 발명[19]는, 상기 비조사/저조사 부분이, 활성 광선의 조사량이 낮은 저조사 부분이고, 상기 조사 공정은, 상기 점착층의 전부에 활성 광선을 조사하는 것에 의해, 상기 점착층의 전부를, 활성 광선이 조사된 제 3 조사 부분으로 하는 제 3 조사 공정과, 상기 제 3 조사 부분의 일부에, 활성 광선을 차단하는 마스크를 배치한 후, 상기 제 3 조사 부분의 잔부에 활성 광선을 조사하는 것에 의해, 상기 제 3 조사 부분의 잔부를, 제 4 조사 부분으로 하는 제 4 조사 공정을 구비하고, 상기 제 3 조사 부분이, 상기 저조사 부분이고, 상기 제 4 조사 부분이, 상기 고조사 부분인, 상기 [9]∼[15] 중 어느 하나에 기재된 중간 적층체의 제조 방법을 포함하고 있다.In the present invention [19], the non-irradiated/low-irradiated portion is a low-irradiation portion with a low irradiation amount of actinic light, and in the irradiation step, all of the adhesive layer is irradiated with actinic light, whereby 3rd irradiation process which makes all of the 3rd irradiation part irradiated with actinic light, and after arrange|positioning the mask which blocks actinic light in a part of said 3rd irradiation part, actinic light in the remainder of the said 3rd irradiation part a fourth irradiation step of making the remainder of the third irradiated portion into a fourth irradiated portion by irradiating The method for producing an intermediate laminate according to any one of [9] to [15], which is a highly irradiated portion, is included.
본 발명[20]은, 상기 고조사 부분의, 파장 550nm에서의 가시광 투과율이, 20% 미만이고, 상기 저조사 부분의, 파장 550nm에서의 가시광 투과율이, 20% 이상 70% 이하인, 상기 [18]∼[19]에 기재된 중간 적층체의 제조 방법을 포함하고 있다.In the present invention [20], the high-irradiation portion has a visible light transmittance at a wavelength of 550 nm of less than 20%, and the low-irradiation portion has a visible light transmittance at a wavelength of 550 nm of 20% or more and 70% or less. ] to [19], including the manufacturing method of the intermediate laminate.
본 발명[21]은, 점착층 및 상기 점착층의 일방면에 배치되는 활성 광선 흡수층을 구비한 점착 시트와, 상기 점착 시트의 타방면에 배치되는 피착체를 구비하고, 상기 점착층이, 상대적으로 파장 550nm에서의 가시광 투과율이 큰 고광투과율 부분과, 상대적으로 파장 550nm에서의 가시광 투과율이 작은 저광투과율 부분을 구비하고, 상기 활성 광선 흡수층의, 활성 광선의 평균 투과율이 15% 이하인, 중간 적층체이다.The present invention [21] includes an adhesive sheet having an adhesive layer and an actinic light absorbing layer disposed on one side of the adhesive layer, and an adherend disposed on the other side of the adhesive sheet, wherein the adhesive layer is relatively An intermediate laminate comprising a high light transmittance portion having a large visible light transmittance at a wavelength of 550 nm and a low light transmittance portion having a relatively small visible light transmittance at a wavelength of 550 nm, wherein the average transmittance of the active light in the actinic light absorbing layer is 15% or less .
본 발명[22]는, 상기 저광투과율 부분이 패턴 형상을 갖는 것을 특징으로 하는, 상기 [21]에 기재된 중간 적층체를 포함하고 있다.The present invention [22] includes the intermediate laminate according to the above [21], wherein the low light transmittance portion has a pattern shape.
본 발명[23]은, 상기 고광투과율 부분의, 파장 550nm에서의 가시광 투과율이, 80% 이상인, 상기 [21] 또는 [22]에 기재된 중간 적층체를 포함하고 있다.The present invention [23] includes the intermediate laminate according to [21] or [22], wherein the high light transmittance portion has a visible light transmittance at a wavelength of 550 nm of 80% or more.
본 발명[24]는, 상기 저광투과율 부분의, 파장 550nm에서의 가시광 투과율이, 20% 미만이고, 상기 고광투과율 부분의, 파장 550nm에서의 가시광 투과율이, 20% 이상 70% 이하인, 상기 [21] 또는 [22]에 기재된 중간 적층체를 포함하고 있다.In the present invention [24], the low light transmittance portion has a visible light transmittance at a wavelength of 550 nm is less than 20%, and the high light transmittance portion has a visible light transmittance at a wavelength of 550 nm of 20% or more and 70% or less. ] or the intermediate laminate as described in [22].
본 발명의 점착 시트에 있어서, 점착층은, 활성 광선의 조사에 의해 파장 550nm에서의 가시광 투과율이 저하 가능한 점착성 조성물로 이루어진다.The adhesive sheet of this invention WHEREIN: The adhesive layer consists of an adhesive composition in which the visible light transmittance in wavelength 550nm can fall by irradiation of actinic light.
그 때문에, 임의의 타이밍에 활성 광선을 조사함으로써, 점착층을 착색시킬 수 있고, 이에 의해 광을 흡수하는 기능을 부여할 수 있다.Therefore, by irradiating actinic light at arbitrary timings, an adhesion layer can be colored, and the function which absorbs light by this can be provided.
또한, 이 점착 시트에 있어서, 활성 광선 흡수층의, 활성 광선의 평균 투과율이 15% 이하이다.Moreover, in this adhesive sheet, the average transmittance of actinic light of an actinic light absorbing layer is 15 % or less.
그 때문에, 점착층에 있어서의 착색 부분 이외를, 투명인 그대로 잔존시키고 싶은 경우나, 착색 부분보다도 착색량을 적게 하고 싶은 경우에, 착색 부분 이외가 외광(활성 광선)에 의해 착색되는 것을 억제할 수 있다.Therefore, when it is desired to leave the colored part other than the colored part in the adhesive layer as it is transparent, or when it is desired to reduce the amount of coloring than the colored part, it is possible to suppress the coloring of other than the colored part by external light (actinic light). can
본 발명의 점착 시트의 제조 방법은, 점착층의 일방면에, 활성 광선 흡수층을 배치하는 배치 공정을 구비한다.The manufacturing method of the adhesive sheet of this invention is equipped with the arrangement|positioning process of arrange|positioning an actinic light absorbing layer on one side of an adhesive layer.
그 때문에, 점착층에 있어서의 착색 부분 이외를, 투명인 그대로 잔존시키고 싶은 경우나, 착색 부분보다도 착색량을 적게 하고 싶은 경우에, 착색 부분 이외가 외광(활성 광선)에 의해 착색되는 것을 억제할 수 있다.Therefore, when it is desired to leave the colored part other than the colored part in the adhesive layer as it is transparent, or when it is desired to reduce the amount of coloring than the colored part, it is possible to suppress the coloring of other than the colored part by external light (actinic light). can
본 발명의 중간 적층체의 제조 방법은, 본 발명의 점착 시트를 준비하는 준비 공정을 구비한다.The manufacturing method of the intermediate|middle laminated body of this invention is equipped with the preparatory process of preparing the adhesive sheet of this invention.
그 때문에, 이 중간 적층체의 제조 방법에 의해 얻어지는 중간 적층체는, 착색 부분 이외(비조사/저조사 부분)가 외광(활성 광선)에 의해 착색되는 것을 억제할 수 있다.Therefore, in the intermediate|middle laminated body obtained by this manufacturing method of an intermediate|middle laminated body, it can suppress that other than a colored part (non-irradiated/low-irradiated part) is colored by external light (actinic light).
본 발명의 중간 적층체에 있어서, 활성 광선 흡수층의, 활성 광선의 평균 투과율이 15% 이하이다.In the intermediate laminate of the present invention, the average transmittance of the actinic light absorbing layer is 15% or less.
그 때문에, 착색 부분 이외(저광투과율 부분)가 외광(활성 광선)에 의해 착색되는 것을 억제할 수 있다.Therefore, it can suppress that other than a colored part (low light transmittance part) is colored by external light (actinic light).
[도 1] 도 1은 본 발명의 점착 시트의 일 실시형태를 나타내는 개략도이다.
[도 2] 도 2는 점착 시트의 제조 방법의 일 실시형태를 나타내는 개략도로서, 도 2A는 점착층을 준비하는 점착층 준비 공정을 나타내고, 도 2B는 점착층의 일방면에, 활성 광선 흡수층측을 적층하는 배치 공정을 나타낸다.
[도 3] 도 3은 점착 시트의 제조 방법의 일 실시형태를 나타내는 개략도로서, 도 3A는 점착층을 준비하는 점착층 준비 공정을 나타내고, 도 3B는 박리 필름의 표면측으로부터, 점착층의 전부에 활성 광선을 조사하는 공정을 나타내고, 도 3C는 점착층의 일방면에, 활성 광선 흡수층을 적층하는 배치 공정을 나타내고, 도 3D는 점착층의 전부에 활성 광선을 조사하는 경우에 있어서, 박리 필름을 활성 광선 흡수층으로 바꾸어 붙이는 공정을 나타내고, 도 3E는 박리 필름의 표면측으로부터, 점착층의 일부에 활성 광선을 조사하는 공정을 나타내고, 도 3F는 점착층의 일방면에, 활성 광선 흡수층을 적층하는 배치 공정을 나타내고, 도 3G는 점착층의 일부에 활성 광선을 조사하는 경우에 있어서, 박리 필름의 전부를 활성 광선 흡수층으로 바꾸어 붙이는 공정을 나타내고, 도 3H는 점착층의 일부에 활성 광선을 조사하는 경우에 있어서, 박리 필름의 일부를 활성 광선 흡수층으로 바꾸어 붙이는 공정을 나타낸다.
[도 4] 도 4는 본 발명의 중간 적층체의 일 실시형태를 나타내는 개략도이다.
[도 5] 도 5는 본 발명의 중간 적층체의 제조 방법의 제 1A 실시형태를 나타내는 개략도로서, 도 5A는 점착 시트를 준비하는 준비 공정을 나타내고, 도 5B는 박리 필름의 표면측(점착층의 표면측)으로부터 점착층에 활성 광선을 조사하는 조사 공정을 나타내고, 도 5C는 점착 시트를 피착체에 첩착하는 첩착 공정을 나타낸다.
[도 6] 도 6은 본 발명의 중간 적층체의 제조 방법의 제 1B 실시형태를 나타내는 개략도로서, 도 6A는 점착 시트를 준비하는 준비 공정을 나타내고, 도 6B는 활성 광선 흡수층의 표면측으로부터 점착층에 활성 광선을 조사하는 조사 공정을 나타내고, 도 6C는 점착 시트를 피착체에 첩착하는 첩착 공정을 나타낸다.
[도 7] 도 7은 본 발명의 중간 적층체의 제조 방법의 제 2A 실시형태(피착체가 제 1 피착체인 경우)를 나타내는 개략도로서, 도 7A는 점착 시트를 준비하는 준비 공정을 나타내고, 도 7B는 점착 시트를 제 1 피착체에 첩착하는 첩착 공정을 나타내고, 도 7C는 제 1 피착체의 표면측으로부터 점착층에 활성 광선을 조사하는 조사 공정을 나타내고, 도 7D는 제 2A 실시형태(피착체가 제 1 피착체인 경우)에 있어서 제조되는 중간 적층체를 나타낸다.
[도 8] 도 8은 본 발명의 중간 적층체의 제조 방법의 제 2A 실시형태(피착체가 제 2 피착체인 경우)를 나타내는 개략도로서, 도 8A는 점착 시트를 준비하는 준비 공정을 나타내고, 도 8B는 점착 시트를 제 2 피착체에 첩착하는 첩착 공정을 나타내고, 도 8C는 제 2 피착체의 표면측으로부터 점착층에 활성 광선을 조사하는 조사 공정을 나타내고, 도 8D는 제 2A 실시형태(피착체가 제 2 피착체인 경우)에 있어서 제조되는 중간 적층체를 나타낸다.
[도 9] 도 9는 본 발명의 중간 적층체의 제조 방법의 제 2B 실시형태를 나타내는 개략도로서, 도 9A는 점착 시트를 준비하는 준비 공정을 나타내고, 도 9B는 점착 시트를 피착체에 첩착하는 첩착 공정을 나타내고, 도 9C는 활성 광선 흡수층의 표면측으로부터 점착층에 활성 광선을 조사하는 조사 공정을 나타내고, 도 9D는 제 2B 실시형태에 있어서 제조되는 중간 적층체를 나타낸다.
[도 10] 도 10은 본 발명의 중간 적층체의 제조 방법의 제 1A 실시형태의 제 1 변형예를 나타내는 개략도로서, 도 10A는 점착 시트를 준비하는 준비 공정을 나타내고, 도 10B는 활성 광선을 조사하는 것에 의해, 제 1 조사 부분과, 가비조사 부분을 형성하는 제 1 조사 공정을 나타내고, 도 10C는 가비조사 부분에 활성 광선을 조사하는 것에 의해, 가비조사 부분을, 제 2 조사 부분으로 하는 제 2 조사 공정을 나타내고, 도 10D는 점착 시트를 피착체에 첩착하는 첩착 공정을 나타낸다.
[도 11] 도 11은 본 발명의 중간 적층체의 제조 방법의 제 1A 실시형태의 제 2 변형예를 나타내는 개략도로서, 도 11A는 점착 시트를 준비하는 준비 공정을 나타내고, 도 11B는 점착층의 전부에 활성 광선을 조사하는 것에 의해, 점착층의 전부를, 제 3 조사 부분으로 하는 제 3 조사 공정을 나타내고, 도 11C는 제 3 조사 부분의 일부에, 활성 광선을 차단하는 마스크를 배치한 후, 제 3 조사 부분의 잔부에 활성 광선을 조사하는 것에 의해, 제 3 조사 부분의 잔부를, 제 4 조사 부분으로 하는 제 4 조사 공정을 나타내고, 도 11D는 점착 시트를 피착체에 첩착하는 첩착 공정을 나타낸다.
[도 12] 도 12는 점착층에 있어서의 저광투과율 부분이 패턴 형상을 갖는 중간 적층체의 제조 방법을 나타내는 개략도로서, 도 12A는 활성 광선을 차단하는 마스크를 복수 배치하는 조사 공정을 나타내고, 도 12B는 점착층에 있어서의 저광투과율 부분이 패턴 형상을 갖는 중간 적층체를 나타낸다.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS It is a schematic diagram which shows one Embodiment of the adhesive sheet of this invention.
Fig. 2 is a schematic view showing an embodiment of a method for manufacturing an adhesive sheet, in which Fig. 2A shows an adhesive layer preparation step of preparing an adhesive layer, and Fig. 2B is one side of the adhesive layer, the actinic light absorbing layer side A batch process of stacking is shown.
[Fig. 3] Fig. 3 is a schematic diagram showing an embodiment of a method for manufacturing an adhesive sheet, in which Fig. 3A shows a pressure-sensitive adhesive layer preparation step of preparing an adhesive layer, and Fig. 3B is a front view of the release film from the surface side of the pressure-sensitive adhesive layer. shows a step of irradiating actinic light to, FIG. 3C shows a disposing step of laminating an actinic light absorbing layer on one side of the adhesive layer, and FIG. 3D is a case where all of the adhesive layer is irradiated with actinic light, the release film shows a step of replacing and pasting with an actinic light absorbing layer, FIG. 3E shows a step of irradiating a part of the adhesive layer with actinic light from the surface side of the release film, and FIG. 3G shows a step of replacing the entire release film with an actinic light absorbing layer when irradiating actinic light to a part of the adhesive layer, and FIG. 3H shows a part of the adhesive layer irradiated with actinic light. In the case of doing it, the process of replacing a part of a peeling film with an actinic light absorbing layer and pasting is shown.
Fig. 4 is a schematic view showing one embodiment of the intermediate laminate of the present invention.
[Fig. 5] Fig. 5 is a schematic view showing a first embodiment of the method for manufacturing an intermediate laminate of the present invention, Fig. 5A showing a preparatory step for preparing an adhesive sheet, and Fig. 5B showing the surface side of the release film (adhesive layer) an irradiation step of irradiating the adhesive layer with actinic light from the surface side of the
[Fig. 6] Fig. 6 is a schematic view showing a first embodiment of the method for manufacturing an intermediate laminate of the present invention, Fig. 6A showing a preparatory step for preparing an adhesive sheet, and Fig. 6B is an actinic light absorbing layer adhesive from the surface side. The irradiation process of irradiating actinic light to a layer is shown, and FIG. 6C shows the sticking process of sticking an adhesive sheet to a to-be-adhered body.
[Fig. 7] Fig. 7 is a schematic diagram showing a second embodiment of the method for manufacturing an intermediate laminate of the present invention (when an adherend is a first adherend), in which Fig. 7A shows a preparatory process for preparing an adhesive sheet, Fig. 7B shows a sticking step of sticking the pressure-sensitive adhesive sheet to the first adherend; In the case where the sieve is the first to-be-adhered body), the intermediate laminate produced is shown.
[Fig. 8] Fig. 8 is a schematic diagram showing a second embodiment of the method for manufacturing an intermediate laminate of the present invention (when an adherend is a second adherend), wherein Fig. 8A shows a preparatory process for preparing an adhesive sheet, Fig. 8B shows an adhering step of adhering the pressure-sensitive adhesive sheet to the second adherend, Fig. 8C shows an irradiation step of irradiating the pressure-sensitive adhesive layer with actinic light from the surface side of the second adherend, and Fig. 8D shows the second A embodiment (adhering) In the case where the sieve is the second adherend), the intermediate laminate produced is shown.
[Fig. 9] Fig. 9 is a schematic view showing a second embodiment of the method for manufacturing an intermediate laminate of the present invention, wherein Fig. 9A shows a preparatory step for preparing an adhesive sheet, and Fig. 9B is a method for adhering the adhesive sheet to an adherend. represents the sticking step, Fig. 9C shows the irradiation step of irradiating the adhesive layer with actinic light from the surface side of the actinic light absorbing layer, and Fig. 9D shows the intermediate laminate manufactured in the second B embodiment.
[Fig. 10] Fig. 10 is a schematic diagram showing a first modification of the first embodiment of the method for manufacturing an intermediate laminate of the present invention, wherein Fig. 10A shows a preparation step for preparing an adhesive sheet, and Fig. 10B shows an actinic light beam A first irradiation step of forming a first irradiated portion and a provisionally irradiated portion by irradiating is shown. Fig. 10C shows the provisionally irradiated portion as a second irradiated portion by irradiating actinic light to the provisionally irradiated portion A 2nd irradiation process is shown, and FIG. 10D shows the sticking process of sticking an adhesive sheet to a to-be-adhered body.
[Fig. 11] Fig. 11 is a schematic view showing a second modification of the first embodiment 1A of the method for manufacturing an intermediate laminate of the present invention, wherein Fig. 11A shows a preparatory step for preparing an adhesive sheet, and Fig. 11B shows the pressure-sensitive adhesive layer A third irradiation step is shown in which all of the adhesive layer serves as a third irradiated portion by irradiating the entirety with actinic light, and Fig. 11C is after arranging a mask for blocking actinic light in a part of the third irradiated portion , shows a fourth irradiation step in which the remainder of the third irradiated portion is irradiated with actinic light to the remaining portion of the third irradiated portion as a fourth irradiated portion, and FIG. represents the process.
[Fig. 12] Fig. 12 is a schematic view showing a method for manufacturing an intermediate laminate in which a low light transmittance portion in an adhesive layer has a pattern shape, Fig. 12A shows an irradiation process of arranging a plurality of masks for blocking actinic light, Fig. 12B shows the intermediate|middle laminated body in which the low light transmittance part in an adhesive layer has a pattern shape.
1. 점착 시트1. Adhesive sheet
도 1에 나타내는 바와 같이, 점착 시트(1)는, 소정의 두께를 갖는 필름 형상(시트 형상을 포함한다)을 갖고, 두께 방향과 직교하는 방향(면 방향)으로 연장되고, 평탄한 상면 및 평탄한 하면을 갖는다.As shown in FIG. 1 , the pressure-
구체적으로는, 점착 시트(1)는, 점착층(2) 및 점착층(2)의 일방면에 배치되는 활성 광선 흡수층(3)을 구비한다.Specifically, the
이하, 점착 시트(1)를 구성하는 각 층에 대하여 설명한다.Hereinafter, each layer which comprises the
1-1. 점착층1-1. adhesive layer
점착층(2)은, 점착 시트(1)의 상층이다.The
점착층(2)은, 점착 시트(1)를, 피착체(4)(후술)에 접착시키기 위한 감압 접착층이다.The pressure-
점착층(2)은, 면 방향으로 연장되는 필름 형상을 갖고 있고, 평탄한 평면 및 평탄한 하면을 갖는다.The
점착층(2)은, 활성 광선의 조사에 의해 파장 550nm에서의 가시광 투과율이 저하 가능한 점착성 조성물로 이루어진다.The
그 때문에, 점착층(2)에, 임의의 타이밍에 활성 광선을 조사함으로써, 점착층(2)을 착색시킬 수 있고, 이에 의해 광을 흡수하는 기능을 부여할 수 있다.Therefore, by irradiating actinic light to the
활성 광선으로서는, 자외선, 가시광, 적외선, X선, α선, β선, γ선을 들 수 있고, 바람직하게는, 사용 설비의 다양성 및 핸들링 용이성의 관점에서, 자외선을 들 수 있다.Examples of the actinic light include ultraviolet rays, visible light, infrared rays, X-rays, α-rays, β-rays, and γ-rays, and preferably, ultraviolet rays from the viewpoint of diversity of equipment used and ease of handling.
또한, 자외선이란, 1nm 이상 400nm 이하의 파장 범위의 전자파를 의미한다.In addition, an ultraviolet-ray means the electromagnetic wave in the wavelength range of 1 nm or more and 400 nm or less.
즉, 점착층(2)은, 자외선의 조사에 의해 파장 550nm에서의 가시광 투과율이 저하 가능한 점착성 조성물로 이루어진다.That is, the
한편, 점착성 조성물의, 파장 550nm에서의 가시광 투과율을 저하 가능하게 하는 활성 광선의 종류는, 후술하는 광산 발생제의 종류(구체적으로는, 광산 발생제가 산을 발생시키는 활성 광선의 파장)에 따라 정해진다.On the other hand, the type of actinic light that can reduce the visible light transmittance at a wavelength of 550 nm of the pressure-sensitive adhesive composition is determined according to the type of the photoacid generator described later (specifically, the wavelength of the actinic light at which the photoacid generator generates an acid). all.
점착성 조성물은, 점착성 폴리머와, 산에 의해 착색되는 화합물과, 광산 발생제를 포함한다.The pressure-sensitive adhesive composition contains a pressure-sensitive adhesive polymer, a compound colored with an acid, and a photoacid generator.
점착성 조성물이, 점착성 폴리머와, 산에 의해 착색되는 화합물과, 광산 발생제를 포함하면, 활성 광선(바람직하게는, 자외선)의 조사에 의해, 점착층(2)의, 파장 550nm에서의 가시광 투과율을, 확실하게 저하시킬 수 있다.When the adhesive composition contains an adhesive polymer, a compound colored by an acid, and a photoacid generator, the visible light transmittance of the
점착성 폴리머는, 점착성을 부여하기 위해서 배합된다.An adhesive polymer is mix|blended in order to provide adhesiveness.
점착성 폴리머는, 모노머 성분(후술)의 중합체이고, 예를 들면, 아크릴계 폴리머, 실리콘계 폴리머, 유레테인계 폴리머, 고무계 폴리머 등을 들 수 있고, 광학적 투명성, 접착성, 및 저장 탄성률의 제어의 관점에서, 바람직하게는 아크릴계 폴리머를 들 수 있다.The adhesive polymer is a polymer of a monomer component (described later), for example, an acrylic polymer, a silicone polymer, a urethane polymer, a rubber polymer, etc. , preferably an acrylic polymer.
아크릴계 폴리머는, (메트)아크릴산 알킬 에스터를 주성분으로서 포함하는 모노머 성분의 중합에 의해 얻어진다.The acrylic polymer is obtained by polymerization of a monomer component containing (meth)acrylic acid alkyl ester as a main component.
(메트)아크릴산 알킬 에스터는, 아크릴산 에스터 및/또는 메타크릴산 에스터이고, 예를 들면, (메트)아크릴산 메틸, (메트)아크릴산 에틸, (메트)아크릴산 프로필, (메트)아크릴산 뷰틸, (메트)아크릴산 아이소프로필, (메트)아크릴산 뷰틸, (메트)아크릴산 아이소뷰틸, (메트)아크릴산 s-뷰틸, (메트)아크릴산 t-뷰틸, (메트)아크릴산 펜틸, (메트)아크릴산 아이소펜틸, (메트)아크릴산 네오펜틸, (메트)아크릴산 헥실, (메트)아크릴산 헵틸, (메트)아크릴산 2-에틸헥실, (메트)아크릴산 옥틸, (메트)아크릴산 아이소옥틸, (메트)아크릴산 노닐, (메트)아크릴산 아이소노닐, (메트)아크릴산 데실, (메트)아크릴산 아이소데실, (메트)아크릴산 운데실, (메트)아크릴산 도데실, (메트)아크릴산 아이소트라이도데실, (메트)아크릴산 테트라데실, (메트)아크릴산 아이소테트라데실, (메트)아크릴산 펜타데실, (메트)아크릴산 세틸, (메트)아크릴산 헵타데실, (메트)아크릴산 옥타데실, (메트)아크릴산 아이소옥타데실, (메트)아크릴산 노나데실, (메트)아크릴산 에이코실 등의 직쇄상 또는 분기상의, (메트)아크릴산 C1-20 알킬 에스터 등을 들 수 있고, 바람직하게는 (메트)아크릴산 C4-12 알킬 에스터, 보다 바람직하게는 아크릴산 뷰틸을 들 수 있다.(meth)acrylic acid alkyl ester is acrylic acid ester and / or methacrylic acid ester, for example, (meth) methyl acrylate, (meth) ethyl acrylate, (meth) acrylic acid propyl, (meth) acrylic acid butyl, (meth) Acrylic acid isopropyl, (meth)acrylic acid butyl, (meth)acrylic acid isobutyl, (meth)acrylic acid s-butyl, (meth)acrylic acid t-butyl, (meth)acrylic acid pentyl, (meth)acrylic acid isopentyl, (meth)acrylic acid Neopentyl, (meth)acrylic acid hexyl, (meth)acrylic acid heptyl, (meth)acrylic acid 2-ethylhexyl, (meth)acrylic acid octyl, (meth)acrylic acid isooctyl, (meth)acrylic acid nonyl, (meth)acrylic acid isono Neyl, (meth)acrylic acid decyl, (meth)acrylic acid isodecyl, (meth)acrylic acid undecyl, (meth)acrylic acid dodecyl, (meth)acrylic acid isotridodecyl, (meth)acrylic acid tetradecyl, (meth)acrylic acid iso Tetradecyl, (meth)acrylic acid pentadecyl, (meth)acrylic acid cetyl, (meth)acrylic acid heptadecyl, (meth)acrylic acid octadecyl, (meth)acrylic acid isooctadecyl, (meth)acrylic acid nonadecyl, (meth)acrylic acid eico linear or branched (meth)acrylic acid C1-20 alkyl esters such as yarn, preferably (meth)acrylic acid C4-12 alkyl esters, more preferably butyl acrylate.
(메트)아크릴산 알킬 에스터는, 단독 사용하거나 또는 2종 이상 병용할 수 있다.(meth)acrylic acid alkyl ester can be used individually or in combination of 2 or more types.
(메트)아크릴산 알킬 에스터의 배합 비율은, 모노머 성분에 대해서, 예를 들면, 50질량% 이상, 바람직하게는 60질량% 이상이고, 또한, 예를 들면, 99질량% 이하이다.The blending ratio of the (meth)acrylic acid alkyl ester is, for example, 50 mass % or more, preferably 60 mass % or more, and for example, 99 mass % or less with respect to the monomer component.
또한, 모노머 성분은, 바람직하게는 음이온성기를 갖는 산성 바이닐 모노머를 포함한다.Further, the monomer component preferably contains an acidic vinyl monomer having an anionic group.
모노머 성분이, 음이온성기를 갖는 산성 바이닐 모노머를 포함하면, 광산 발생제(후술)로부터 생긴 강산에 의해 괴리 촉진되고, 색감이 강해져, 착색 안정성이 우수하다.When a monomer component contains the acidic vinyl monomer which has an anionic group, separation is accelerated|stimulated by the strong acid which arose from a photo-acid generator (mentioned later), a color becomes strong, and it is excellent in coloring stability.
음이온성기를 갖는 산성 바이닐 모노머로서는, 예를 들면, 카복실기 함유 바이닐 모노머, 설포기 함유 바이닐 모노머, 인산기 함유 바이닐 모노머 등을 들 수 있다.As an acidic vinyl monomer which has an anionic group, a carboxyl group containing vinyl monomer, a sulfo group containing vinyl monomer, a phosphoric acid group containing vinyl monomer, etc. are mentioned, for example.
카복실기 함유 바이닐 모노머로서는, 예를 들면, (메트)아크릴산, (메트)아크릴산 2-카복시에틸, 카복시펜틸 (메트)아크릴산 카복시펜틸, 이타콘산, 말레산, 푸마르산, 크로톤산 등을 들 수 있다.Examples of the carboxyl group-containing vinyl monomer include (meth)acrylic acid, (meth)acrylic acid 2-carboxyethyl, carboxypentyl (meth)acrylic acid carboxypentyl, itaconic acid, maleic acid, fumaric acid, and crotonic acid.
또한, 카복실기 함유 바이닐 모노머로서는, 예를 들면, 무수 말레산, 무수 이타콘산 등의 산 무수물기 함유 모노머도 들 수 있다.Moreover, as a carboxyl group containing vinyl monomer, acid anhydride group containing monomers, such as maleic anhydride and itaconic anhydride, are mentioned, for example.
설포기 함유 바이닐 모노머로서는, 예를 들면, 스타이렌 설폰산, 알릴 설폰산 등을 들 수 있다.Examples of the sulfo group-containing vinyl monomer include styrene sulfonic acid and allyl sulfonic acid.
인산기 함유 바이닐 모노머로서는, 예를 들면, 2-하이드록시에틸아크릴로일 포스페이트 등을 들 수 있다.As a phosphoric acid group containing vinyl monomer, 2-hydroxyethyl acryloyl phosphate etc. are mentioned, for example.
음이온성기를 갖는 산성 바이닐 모노머로서는, 바람직하게는 카복실기 함유 바이닐 모노머, 보다 바람직하게는 (메트)아크릴산, 더 바람직하게는 아크릴산을 들 수 있다.As an acidic vinyl monomer which has an anionic group, Preferably it is a carboxyl group containing vinyl monomer, More preferably, (meth)acrylic acid, More preferably, acrylic acid is mentioned.
음이온성기를 갖는 산성 바이닐 모노머는, 단독 사용하거나 또는 2종 이상 병용할 수 있다.The acidic vinyl monomer which has an anionic group can be used individually or can use 2 or more types together.
음이온성기를 갖는 산성 바이닐 모노머의 배합 비율은, (메트)아크릴산 알킬 에스터 100질량부에 대해서, 예를 들면, 3질량부 이상이고, 또한, 예를 들면, 10질량부 이하이며, 또한, 모노머 성분에 대해서, 예를 들면, 1질량% 이상이고, 또한, 예를 들면, 8질량% 이하이다.The blending ratio of the acidic vinyl monomer having an anionic group is, for example, 3 parts by mass or more, and for example, 10 parts by mass or less, with respect to 100 parts by mass of the (meth)acrylic acid alkyl ester, the monomer component It is, for example, 1 mass % or more, and is, for example, 8 mass % or less.
또한, 모노머 성분은, 바람직하게는, 실질적으로, (메트)아크릴산 알킬 에스터와 공중합 가능한 고립 전자쌍을 갖는 염기성 바이닐 모노머를 포함하지 않는다.Further, the monomer component preferably does not substantially contain a basic vinyl monomer having a lone pair of electrons copolymerizable with the (meth)acrylic acid alkyl ester.
구체적으로는, 고립 전자쌍을 갖는 염기성 바이닐 모노머의 배합 비율은, 모노머 성분에 대해서, 예를 들면, 3질량% 이하, 바람직하게는 1질량% 이하, 더 바람직하게는 0.5질량% 이하, 특히 바람직하게는 0질량% 이하이다. 환언하면, 특히 바람직하게는, 모노머 성분은, 고립 전자쌍을 갖는 염기성 바이닐 모노머를 포함하지 않는다.Specifically, the blending ratio of the basic vinyl monomer having a lone electron pair is, for example, 3% by mass or less, preferably 1% by mass or less, more preferably 0.5% by mass or less, with respect to the monomer component, particularly preferably is 0 mass % or less. In other words, particularly preferably, the monomer component does not contain a basic vinyl monomer having a lone pair of electrons.
모노머 성분이, 실질적으로, 고립 전자쌍을 갖는 염기성 바이닐 모노머를 포함하지 않으면, 각 모노머 성분의 용출을 억제할 수 있어, 착색 안정성을 향상시킬 수 있다.When a monomer component does not contain the basic vinyl monomer which has a lone electron pair substantially, elution of each monomer component can be suppressed and coloring stability can be improved.
고립 전자쌍을 갖는 염기성 바이닐 모노머로서는, 헤테로환에 질소를 갖는 헤테로환 함유 염기성 바이닐 모노머로서, 예를 들면, N-바이닐피롤리돈, 메틸 바이닐피롤리돈, 바이닐피리딘, 바이닐피페리돈, 바이닐피리미딘, 바이닐피페라진, 바이닐피라진, 바이닐피롤, 바이닐이미다졸, 바이닐옥사졸, 바이닐모폴린, N-아크릴로일모폴린, N-바이닐카프로락탐 등을 들 수 있다.The basic vinyl monomer having a lone pair of electrons is a basic vinyl monomer containing a heterocyclic ring having nitrogen in the heterocyclic ring, for example, N-vinylpyrrolidone, methyl vinylpyrrolidone, vinylpyridine, vinylpiperidone, vinylpyrimidine. , vinylpiperazine, vinylpyrazine, vinylpyrrole, vinylimidazole, vinyloxazole, vinylmorpholine, N-acryloylmorpholine, N-vinylcaprolactam, and the like.
또한, 모노머 성분은, 필요에 따라, (메트)아크릴산 알킬 에스터와 공중합 가능한 작용기 함유 바이닐 모노머(상기의 음이온성기를 갖는 산성 바이닐 모노머 및 고립 전자쌍을 갖는 염기성 바이닐 모노머를 제외한다)를 포함하고 있다.In addition, the monomer component, if necessary, a functional group-containing vinyl monomer copolymerizable with (meth) acrylic acid alkyl ester (except for the above acidic vinyl monomer having an anionic group and basic vinyl monomer having a lone pair of electrons) It contains.
작용기 함유 바이닐 모노머로서는, 하이드록실기 함유 바이닐 모노머, 사이아노기 함유 바이닐 모노머, 글라이시딜기 함유 바이닐 모노머, 방향족 바이닐 모노머, 바이닐 에스터 모노머, 바이닐 에터 모노머 등을 들 수 있다.Examples of the functional group-containing vinyl monomer include a hydroxyl group-containing vinyl monomer, a cyano group-containing vinyl monomer, a glycidyl group-containing vinyl monomer, an aromatic vinyl monomer, a vinyl ester monomer, and a vinyl ether monomer.
하이드록실기 함유 바이닐 모노머로서는, 예를 들면, (메트)아크릴산 2-하이드록시에틸, (메트)아크릴산 2-하이드록시프로필, (메트)아크릴산 4-하이드록시뷰틸, (메트)아크릴산 6-하이드록시헥실, (메트)아크릴산 8-하이드록시옥틸, (메트)아크릴산 10-하이드록시데실, (메트)아크릴산 12-하이드록시라우릴, (메트)아크릴산 4-(하이드록시메틸)사이클로헥실)메틸 등을 들 수 있고, 바람직하게는 (메트)아크릴산 2-하이드록시에틸, 보다 바람직하게는 아크릴산 2-하이드록시에틸을 들 수 있다.As the hydroxyl group-containing vinyl monomer, for example, (meth)acrylic acid 2-hydroxyethyl, (meth)acrylic acid 2-hydroxypropyl, (meth)acrylic acid 4-hydroxybutyl, (meth)acrylic acid 6-hydroxyl Hexyl, (meth)acrylic acid 8-hydroxyoctyl, (meth)acrylic acid 10-hydroxydecyl, (meth)acrylic acid 12-hydroxylauryl, (meth)acrylic acid 4-(hydroxymethyl)cyclohexyl)methyl, etc. These are mentioned, Preferably 2-hydroxyethyl (meth)acrylic acid is mentioned, More preferably, 2-hydroxyethyl acrylate is mentioned.
사이아노기 함유 바이닐 모노머로서는, 예를 들면, (메트)아크릴로나이트릴 등을 들 수 있다.As a cyano group containing vinyl monomer, (meth)acrylonitrile etc. are mentioned, for example.
글라이시딜기 함유 바이닐 모노머로서는, 예를 들면, (메트)아크릴산 글라이시딜 등을 들 수 있다.As a glycidyl group containing vinyl monomer, (meth)acrylic-acid glycidyl etc. are mentioned, for example.
방향족 바이닐 모노머로서는, 예를 들면, 스타이렌, p-메틸 스타이렌, o-메틸 스타이렌, α-메틸 스타이렌 등을 들 수 있다.As an aromatic vinyl monomer, styrene, p-methyl styrene, o-methyl styrene, (alpha)-methyl styrene etc. are mentioned, for example.
바이닐 에스터 모노머로서는, 예를 들면, 아세트산 바이닐, 프로피온산 바이닐 등을 들 수 있다.As a vinyl ester monomer, vinyl acetate, vinyl propionate, etc. are mentioned, for example.
바이닐 에터 모노머로서는, 예를 들면, 메틸 바이닐 에터 등을 들 수 있다.As a vinyl ether monomer, methyl vinyl ether etc. are mentioned, for example.
작용기 함유 바이닐 모노머는, 단독 사용하거나 또는 2종 이상 병용할 수 있다. 가교제(후술)가 배합되는 경우에는, 폴리머에 가교 구조를 도입하는 관점에서, 바람직하게는 하이드록실기 함유 바이닐 모노머를 들 수 있다.The functional group-containing vinyl monomer may be used alone or in combination of two or more. When a crosslinking agent (described later) is blended, a hydroxyl group-containing vinyl monomer is preferably used from the viewpoint of introducing a crosslinked structure into the polymer.
작용기 함유 바이닐 모노머의 배합 비율은, (메트)아크릴산 알킬 에스터 100질량부에 대해서, 예를 들면, 3질량부 이상, 바람직하게는 5질량부 이상, 보다 바람직하게는 15질량부 이상이고, 또한, 예를 들면, 20질량부 이하이며, 또한, 모노머 성분에 대해서, 예를 들면, 4질량% 이상, 바람직하게는 10질량% 이상이고, 또한, 예를 들면, 30질량% 이하, 바람직하게는 20질량% 이하이다.The blending ratio of the functional group-containing vinyl monomer is, for example, 3 parts by mass or more, preferably 5 parts by mass or more, more preferably 15 parts by mass or more, with respect to 100 parts by mass of the (meth)acrylic acid alkyl ester, and For example, it is 20 mass parts or less, and with respect to a monomer component, for example, 4 mass % or more, Preferably it is 10 mass % or more, For example, 30 mass % or less, Preferably 20 mass % or less. mass% or less.
그리고, 아크릴계 폴리머는, 상기한 모노머 성분을 중합하여 이루어지는 중합체이다.And the acryl-type polymer is a polymer formed by superposing|polymerizing the above-mentioned monomer component.
모노머 성분을 중합시키기 위해서는, 예를 들면, (메트)아크릴산 알킬 에스터와, 필요에 따라, 음이온성기를 갖는 산성 바이닐 모노머 및 작용기 함유 바이닐 모노머를 배합하여 모노머 성분을 조제하고, 이것을, 예를 들면, 용액 중합, 괴상(塊狀) 중합, 유화 중합 등의 공지된 중합 방법에 의해 조제한다.In order to polymerize the monomer component, for example, (meth)acrylic acid alkyl ester and, if necessary, an acidic vinyl monomer having an anionic group and a vinyl monomer containing a functional group are blended to prepare a monomer component, and this is, for example, It prepares by well-known polymerization methods, such as solution polymerization, block polymerization, and emulsion polymerization.
중합 방법으로서는, 바람직하게는 용액 중합을 들 수 있다.As a polymerization method, Preferably solution polymerization is mentioned.
용액 중합에서는, 예를 들면, 공지된 유기 용매에, 모노머 성분과 중합 개시제를 배합하여, 모노머 용액을 조제하고, 그 후, 모노머 용액을 가열한다.In solution polymerization, for example, a monomer component and a polymerization initiator are mix|blended with a well-known organic solvent, a monomer solution is prepared, and a monomer solution is heated after that.
중합 개시제로서는, 예를 들면, 퍼옥사이드계 중합 개시제, 아조계 중합 개시제 등을 들 수 있다.As a polymerization initiator, a peroxide type polymerization initiator, an azo type polymerization initiator, etc. are mentioned, for example.
퍼옥사이드계 중합 개시제로서는, 예를 들면, 퍼옥시카보네이트, 케톤 퍼옥사이드, 퍼옥시케탈, 하이드로퍼옥사이드, 다이알킬 퍼옥사이드, 다이아실 퍼옥사이드, 퍼옥시에스터 등의 유기 과산화물을 들 수 있다.Examples of the peroxide-based polymerization initiator include organic peroxides such as peroxycarbonate, ketone peroxide, peroxyketal, hydroperoxide, dialkyl peroxide, diacyl peroxide, and peroxyester.
아조계 중합 개시제로서는, 예를 들면, 2,2'-아조비스아이소뷰티로나이트릴, 2,2'-아조비스(2-메틸뷰티로나이트릴), 2,2'-아조비스(2,4-다이메틸발레로나이트릴), 2,2'-아조비스아이소뷰티르산 다이메틸 등의 아조 화합물을 들 수 있다.As the azo polymerization initiator, for example, 2,2'-azobisisobutyronitrile, 2,2'-azobis(2-methylbutyronitrile), 2,2'-azobis(2, Azo compounds, such as 4-dimethylvaleronitrile) and 2,2'- azobisisobutyrate dimethyl, are mentioned.
중합 개시제로서, 바람직하게는 아조계 중합 개시제, 보다 바람직하게는 2,2'-아조비스아이소뷰티로나이트릴을 들 수 있다.As a polymerization initiator, Preferably it is an azo type polymerization initiator, More preferably, 2,2'- azobisisobutyronitrile is mentioned.
중합 개시제는, 단독 사용하거나 또는 2종 이상 병용할 수 있다.A polymerization initiator can be used individually or can use 2 or more types together.
중합 개시제의 배합 비율은, 모노머 성분 100질량부에 대해서, 예를 들면, 0.05질량부 이상, 바람직하게는 0.1질량부 이상이고, 또한, 예를 들면, 1질량부 이하, 바람직하게는 0.5질량부 이하이다.The mixing ratio of the polymerization initiator is, for example, 0.05 parts by mass or more, preferably 0.1 parts by mass or more, and for example, 1 part by mass or less, preferably 0.5 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the monomer component. is below.
가열 온도는, 예를 들면, 50℃ 이상 80℃ 이하이고, 가열 시간은, 예를 들면, 1시간 이상 8시간 이하이다.The heating temperature is, for example, 50°C or more and 80°C or less, and the heating time is, for example, 1 hour or more and 8 hours or less.
이에 의해, 모노머 성분을 중합하여, 아크릴계 폴리머를 포함하는 아크릴계 폴리머 용액을 얻는다.Thereby, a monomer component is superposed|polymerized and the acrylic polymer solution containing an acrylic polymer is obtained.
아크릴계 폴리머 용액의 고형분 농도는, 예를 들면, 20질량% 이상이고, 또한, 예를 들면, 80질량% 이하이다.The solid content concentration of the acrylic polymer solution is, for example, 20 mass % or more, and is, for example, 80 mass % or less.
아크릴계 폴리머의 중량 평균 분자량은, 예를 들면, 100000 이상, 바람직하게는 300000 이상, 보다 바람직하게는 500000 이상이고, 또한, 예를 들면, 5000000 이하, 바람직하게는 3000000 이하, 보다 바람직하게는 2000000 이하이다.The weight average molecular weight of the acrylic polymer is, for example, 100000 or more, preferably 300000 or more, more preferably 500000 or more, and for example, 5000000 or less, preferably 300000 or less, more preferably 2000000 or less. am.
한편, 상기의 중량 평균 분자량은, GPC(겔 퍼미에이션 크로마토그래프)에 의해 측정하고, 폴리스타이렌 환산에 의해 산출된 값이다.In addition, said weight average molecular weight is the value computed by polystyrene conversion by measuring by GPC (gel permeation chromatography).
점착성 폴리머의 유리 전이 온도는, 예를 들면, 0℃ 이하, 바람직하게는 -20℃ 이하이고, 또한, 통상 -70℃ 이상이다.The glass transition temperature of the adhesive polymer is, for example, 0°C or less, preferably -20°C or less, and is usually -70°C or more.
점착성 폴리머의 유리 전이 온도가, 상기 상한 이하이면, 단차 추종성이 우수하다.When the glass transition temperature of the pressure-sensitive adhesive polymer is equal to or less than the upper limit, the level difference followability is excellent.
한편, 유리 전이 온도는, FOX의 식에 의한 계산으로 얻어진다.In addition, the glass transition temperature is obtained by calculation by the formula of FOX.
산에 의해 착색되는 화합물은, 산에 의해 무색(투명)으로부터 유색으로 변화하는 화합물이고, 예를 들면, 로이코계 색소, 예를 들면, p,p',p"-트리스-다이메틸아미노트라이페닐메테인 등의 트라이아릴메테인계 색소, 예를 들면, 4,4-비스-다이메틸아미노페닐벤즈하이드릴벤질 에터 등의 다이페닐메테인계 색소, 예를 들면, 3-다이에틸아미노-6-메틸-7-클로로플루오란 등의 플루오란계 색소, 예를 들면, 3-메틸스파이로다이나프토피란 등의 스파이로피란계 색소, 예를 들면, 로다민-B-아닐리노락탐 등의 로다민계 색소 등을 들 수 있고, 바람직하게는 로이코계 색소를 들 수 있다.A compound colored by an acid is a compound that changes from colorless (transparent) to colored by an acid, for example, a leuco-based dye, such as p,p',p"-tris-dimethylaminotriphenyl Triarylmethane-based dyes such as methane, for example, diphenylmethane-based dyes such as 4,4-bis-dimethylaminophenylbenzhydrylbenzyl ether, for example 3-diethylamino-6-methyl Fluorane-based dyes such as -7-chlorofluoran, for example, spiropyran-based dyes such as 3-methylspirodynaphthopyran, for example, rhodamine-based dyes such as rhodamine-B-anilinolactam etc. are mentioned, Preferably a leuco-type pigment|dye is mentioned.
산에 의해 착색되는 화합물은, 단독 사용하거나 또는 2종 이상 병용할 수 있다.The compound colored by an acid can be used individually or can use 2 or more types together.
산에 의해 착색되는 화합물의 배합 비율은, 점착성 폴리머 100질량부에 대해서, 예를 들면, 0.5질량부 이상이고, 또한, 예를 들면, 5질량부 이하, 바람직하게는 2질량부 이하이다.The compounding ratio of the compound colored with the acid is, for example, 0.5 parts by mass or more, and for example, 5 parts by mass or less, preferably 2 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the adhesive polymer.
광산 발생제는, 활성 광선의 조사에 의해 산을 발생시키는 화합물이다.A photo-acid generator is a compound which generate|occur|produces an acid by irradiation of actinic light.
이와 같은 광산 발생제 중, 자외선의 조사에 의해 산을 발생시키는 화합물(자외선 산 발생제)로서, 예를 들면, 오늄 화합물 등을 들 수 있다.Among such photo-acid generators, as a compound (ultraviolet-ray acid generator) which generate|occur|produces an acid by irradiation of an ultraviolet-ray, an onium compound etc. are mentioned, for example.
오늄 화합물로서는, 예를 들면, 아이오도늄 및 설포늄 등의 오늄 양이온과, Cl-, Br-, I-, ZnCl3 -, HSO3 -, BF4 -, PF6 -, AsF6 -, SbF6 -, CH3SO3 -, CF3SO3 -, (C6F5)4B-, (C4H9)4B- 등의 음이온으로 이루어지는 염 등을 들 수 있다.Examples of the onium compound include onium cations such as iodonium and sulfonium, Cl - , Br - , I - , ZnCl 3 - , HSO 3 - , BF 4 - , PF 6 - , AsF 6 - , SbF and salts composed of anions such as 6 - , CH 3 SO 3 - , CF 3 SO 3 - , (C 6 F 5 ) 4 B - , and (C 4 H 9 ) 4 B - .
이와 같은 오늄 화합물로서, 바람직하게는 설포늄(오늄 양이온)과, (C6F5)4B-(음이온)로 이루어지는 염을 들 수 있다.As such an onium compound, Preferably, the salt which consists of sulfonium (onium cation) and (C 6 F 5 ) 4 B - (anion) is mentioned.
또한, 자외선 산 발생제로서는, 시판품을 이용할 수도 있고, 예를 들면, CPI-310B(설포늄과 (C6F5)4B-로 이루어지는 염, 산 아프로사제) 등을 들 수 있다.Moreover, as an ultraviolet acid generator, a commercially available item can also be used, For example, CPI-310B (a salt which consists of sulfonium and (C 6 F 5 ) 4 B - , the acid Apro company make) etc. are mentioned.
광산 발생제는, 단독 사용하거나 또는 2종 이상 병용할 수 있다.A photo-acid generator can be used individually or can use 2 or more types together.
광산 발생제의 배합 비율은, 점착성 폴리머 100질량부에 대해서, 예를 들면, 1질량부 이상이고, 또한, 예를 들면, 20질량부 이하, 바람직하게는 15질량부 이하이다.The blending ratio of the photoacid generator is, for example, 1 part by mass or more, and for example, 20 parts by mass or less, preferably 15 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the adhesive polymer.
그리고, 점착성 조성물은, 점착성 폴리머(용액 중합에 의해 점착성 폴리머를 조제한 경우는, 폴리머 용액)와, 산에 의해 착색되는 화합물과, 광산 발생제를 상기의 비율로 배합하고, 혼합하는 것에 의해, 조제된다(점착성 폴리머로서, 폴리머 용액을 이용한 경우에는, 점착성 조성물의 용액으로서 조제된다).Then, the pressure-sensitive adhesive composition is prepared by blending the pressure-sensitive adhesive polymer (a polymer solution when the pressure-sensitive adhesive polymer is prepared by solution polymerization), a compound colored with an acid, and a photoacid generator in the above ratio and mixing them. (When a polymer solution is used as the adhesive polymer, it is prepared as a solution of the adhesive composition).
점착성 조성물에는, 점착성 폴리머에 가교 구조를 도입시키는 관점에서, 바람직하게는 가교제를 배합한다.A crosslinking agent is preferably mix|blended with an adhesive composition from a viewpoint of introduce|transducing a crosslinked structure into an adhesive polymer.
가교제로서는, 예를 들면, 아이소사이아네이트계 가교제, 에폭시계 가교제, 옥사졸린계 가교제, 아지리딘계 가교제, 카보다이이미드계 가교제, 금속 킬레이트계 가교제 등등 들 수 있다.As a crosslinking agent, an isocyanate type crosslinking agent, an epoxy type crosslinking agent, an oxazoline type crosslinking agent, an aziridine type crosslinking agent, a carbodiimide type crosslinking agent, a metal chelate type crosslinking agent, etc. are mentioned, for example.
아이소사이아네이트계 가교제로서는, 예를 들면, 뷰틸렌 다이아이소사이아네이트, 헥사메틸렌 다이아이소사이아네이트 등의 지방족 다이아이소사이아네이트, 예를 들면, 사이클로펜틸렌 다이아이소사이아네이트, 사이클로헥실렌 다이아이소사이아네이트, 아이소포론 다이아이소사이아네이트 등의 지환족 다이아이소사이아네이트, 예를 들면, 2,4-톨릴렌 다이아이소사이아네이트, 4,4'-다이페닐메테인 다이아이소사이아네이트, 자일릴렌 다이아이소사이아네이트 등의 방향족 다이아이소사이아네이트를 들 수 있다.As an isocyanate type crosslinking agent, For example, aliphatic diisocyanate, such as butylene diisocyanate and hexamethylene diisocyanate, For example, cyclopentylene diisocyanate, cyclo Alicyclic diisocyanates such as hexylene diisocyanate and isophorone diisocyanate, for example 2,4-tolylene diisocyanate, 4,4'-diphenylmethane Aromatic diisocyanate, such as diisocyanate and xylylene diisocyanate, is mentioned.
또한, 아이소사이아네이트계 가교제로서, 상기의 아이소사이아네이트의 유도체(예를 들면, 아이소사이아누레이트 변성체, 폴리올 변성체 등)도 들 수 있다.Moreover, as an isocyanate type crosslinking agent, the derivative|guide_body of the said isocyanate (for example, isocyanurate modified body, polyol modified product, etc.) is also mentioned.
아이소사이아네이트계 가교제로서는, 시판품을 이용할 수도 있고, 예를 들면, 코로네이트 L(톨릴렌 다이아이소사이아네이트의 트라이메틸올프로페인 어덕트체, 도소제), 코로네이트 HL(헥사메틸렌 다이아이소사이아네이트의 트라이메틸올프로페인 어덕트체, 도소제), 코로네이트 HX(헥사메틸렌 다이아이소사이아네이트의 아이소사이아누레이트체, 도소제), 타케네이트 D110N(자일릴렌 다이아이소사이아네이트의 트라이메틸올프로페인 어덕트체, 미쓰이 화학제) 등을 들 수 있다.As an isocyanate-type crosslinking agent, a commercial item can also be used, For example, Coronate L (trimethylolpropane adduct of tolylene diisocyanate, a dosing agent), Coronate HL (hexamethylenedia) Trimethylolpropane adduct of isocyanate, dosing agent), Coronate HX (isocyanurate of hexamethylene diisocyanate, dosing agent), Takenate D110N (xylylene diisocyanate) The trimethylol propane adduct body of nate, the Mitsui Chemicals make) etc. are mentioned.
아이소사이아네이트계 가교제로서는, 바람직하게는 헥사메틸렌 다이아이소사이아네이트의 트라이메틸올프로페인 어덕트체, 자일릴렌 다이아이소사이아네이트의 트라이메틸올프로페인 어덕트체를 들 수 있다.As an isocyanate type crosslinking agent, Preferably the trimethylol propane adduct body of hexamethylene diisocyanate and the trimethylol propane adduct body of xylylene diisocyanate are mentioned.
에폭시계 가교제로서는, 예를 들면, 다이글라이시딜아닐린, 1,3-비스(N,N-다이글라이시딜아미노메틸)사이클로헥세인 등을 들 수 있다.Examples of the epoxy-based crosslinking agent include diglycidylaniline and 1,3-bis(N,N-diglycidylaminomethyl)cyclohexane.
에폭시계 가교제로서는, 시판품을 이용할 수도 있고, 예를 들면, 테트라드 C(미쓰비시 가스화학제) 등을 들 수 있다.As an epoxy-type crosslinking agent, a commercial item can also be used, For example, Tetrad C (made by Mitsubishi Gas Chemicals), etc. are mentioned.
에폭시계 가교제로서는, 바람직하게는 1,3-비스(N,N-다이글라이시딜아미노메틸)사이클로헥세인을 들 수 있다.As an epoxy-type crosslinking agent, Preferably 1, 3-bis (N, N- diglycidyl aminomethyl) cyclohexane is mentioned.
가교제로서는, 바람직하게는 아이소사이아네이트계 가교제, 에폭시계 가교제, 보다 바람직하게는 에폭시계 가교제를 들 수 있다.As a crosslinking agent, Preferably an isocyanate type crosslinking agent, an epoxy type crosslinking agent, More preferably, an epoxy type crosslinking agent is mentioned.
가교제는, 단독 사용하거나 또는 2종 이상 병용할 수 있다.A crosslinking agent can be used individually or can use 2 or more types together.
점착성 조성물에 가교제를 배합하면, 폴리머 중의 하이드록실기 등의 작용기와, 가교제가 반응하여, 폴리머에 가교 구조가 도입된다.When a crosslinking agent is blended with the pressure-sensitive adhesive composition, a functional group such as a hydroxyl group in the polymer reacts with the crosslinking agent to introduce a crosslinked structure into the polymer.
가교제의 배합 비율은, 점착성 폴리머 100질량부에 대해서, 예를 들면, 0.01질량부 이상, 바람직하게는 0.1질량부 이상이고, 또한, 예를 들면, 10질량부 이하, 바람직하게는 5질량부 이하, 보다 바람직하게는 4질량부 이하, 더 바람직하게는 3질량부 이하, 특히 바람직하게는 1질량부 이하이다.The mixing ratio of the crosslinking agent is, for example, 0.01 parts by mass or more, preferably 0.1 parts by mass or more, and for example, 10 parts by mass or less, preferably 5 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the adhesive polymer. , More preferably, it is 4 mass parts or less, More preferably, it is 3 mass parts or less, Especially preferably, it is 1 mass part or less.
또한, 점착성 조성물에 가교제를 배합하는 경우에는, 가교 반응을 촉진시키기 위해서, 가교 촉매를 배합할 수도 있다.Moreover, when mix|blending a crosslinking agent with an adhesive composition, in order to accelerate|stimulate a crosslinking reaction, you may mix|blend a crosslinking catalyst.
가교 촉매로서는, 예를 들면, 테트라-n-뷰틸 타이타네이트, 테트라아이소프로필 타이타네이트, 나셈 제2철, 뷰틸주석 옥사이드, 다이옥틸주석 다이라우레이트 등의 금속계 가교 촉매 등을 들 수 있다.Examples of the crosslinking catalyst include metal-based crosslinking catalysts such as tetra-n-butyl titanate, tetraisopropyl titanate, nashem ferric, butyltin oxide, and dioctyltin dilaurate.
가교 촉매는, 단독 사용하거나 또는 2종 이상 병용할 수 있다.A crosslinking catalyst can be used individually or can use 2 or more types together.
가교 촉매의 배합 비율은, 점착성 폴리머 100질량부에 대해서, 예를 들면, 0.001질량부 이상, 바람직하게는 0.01질량부 이상이고, 또한, 예를 들면, 0.05질량부 이하이다.The mixing ratio of the crosslinking catalyst is, for example, 0.001 parts by mass or more, preferably 0.01 parts by mass or more, and for example, 0.05 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the adhesive polymer.
또한, 점착성 조성물에는, 필요에 따라서, 예를 들면, 실레인 커플링제, 점착성 부여제, 가소제, 연화제, 열화 방지제, 충전제, 착색제, 계면활성제, 대전 방지제, 형광등하 또는 자연광하에서의 안정화의 관점에서, 자외선 흡수제, 산화 방지제 등의 첨가제 등의 각종 첨가제를, 본 발명의 효과를 해치지 않는 범위에서, 함유시킬 수 있다.In addition, in the adhesive composition, if necessary, for example, a silane coupling agent, a tackifier, a plasticizer, a softener, an anti-degradation agent, a filler, a colorant, a surfactant, an antistatic agent, from the viewpoint of stabilization under fluorescent light or under natural light, Various additives, such as additives, such as a ultraviolet absorber and antioxidant, can be contained in the range which does not impair the effect of this invention.
이에 의해, 점착성 조성물(점착성 폴리머로서, 폴리머 용액을 이용한 경우에는, 점착성 조성물의 용액)이 얻어진다.Thereby, a pressure-sensitive adhesive composition (a solution of the pressure-sensitive adhesive composition when a polymer solution is used as the pressure-sensitive adhesive polymer) is obtained.
이 점착성 조성물(고형분)의 20℃∼50℃에서의 전단 저장 탄성률 G'는, 예를 들면, 1.0×104Pa 이상, 바람직하게는 2.0×104Pa 이상, 보다 바람직하게는 4.0×104Pa 이상이고, 또한, 예를 들면, 1.0×106Pa 이하, 바람직하게는 5.0×105Pa 이하이다.The shear storage modulus G' at 20°C to 50°C of the pressure-sensitive adhesive composition (solid content) is, for example, 1.0×10 4 Pa or more, preferably 2.0×10 4 Pa or more, and more preferably 4.0×10 4 Pa or more, for example, 1.0×10 6 Pa or less, preferably 5.0×10 5 Pa or less.
상기의 전단 저장 탄성률 G'가, 상기의 범위 내이면, 밀착성이 우수하고, 보다 전단 저장 탄성률 G'가 낮은 경우에는, 단차 추종성도 우수하다.When said shear storage elastic modulus G' is in the said range, it is excellent in adhesiveness, and when shear storage elastic modulus G' is lower, it is also excellent also in step|step difference followability.
한편, 상기의 전단 저장 탄성률 G'는, 주파수 1Hz, 승온 속도 5℃/분, 온도 범위 -70℃∼250℃의 조건에 있어서의 동적 점탄성 측정에 의해 측정된다.In addition, said shear storage modulus G' is measured by the dynamic viscoelasticity measurement in the conditions of a frequency of 1 Hz, a temperature increase rate of 5 degreeC/min, and the temperature range -70 degreeC - 250 degreeC.
그리고, 후술하는 방법에 의해, 점착성 조성물로부터 점착층(2)을 형성한다.And the
점착층(2)은, 점착성 조성물로 이루어지기 때문에, 활성 광선(바람직하게는, 자외선) 조사에 의해, 광산 발생제로부터 산을 발생시키고, 그 산에 의해, 산에 의해 착색되는 화합물이 착색되는 것에 의해, 점착층(2)은, 무색(투명)으로부터 유색으로 변화한다. 즉, 활성 광선(바람직하게는, 자외선) 조사 전에 있어서, 점착층(2)은, 무색(투명)이다.Since the pressure-
또한, 무색(투명)이란, 파장 400nm 이상 700nm 이하에 있어서의 평균 투과율이, 예를 들면, 60% 이상, 바람직하게는 70% 이상, 보다 바람직하게는 90% 이상이고, 또한, 예를 들면, 100% 이하인 것을 의미한다.In addition, colorless (transparent) means that the average transmittance at a wavelength of 400 nm or more and 700 nm or less is, for example, 60% or more, preferably 70% or more, more preferably 90% or more, and further, for example, means less than 100%.
또한, 유색이란, 파장 400nm 이상 700nm 이하에 있어서의 평균 투과율이, 예를 들면, 0% 이상이고, 또한, 예를 들면, 60% 미만, 바람직하게는 50% 이하인 것을 의미한다.In addition, the color means that the average transmittance|permeability in wavelength 400nm or more and 700 nm or less is 0 % or more, for example, is less than 60 %, Preferably it is 50 % or less.
점착층(2)의 두께는, 예를 들면, 3μm 이상, 바람직하게는 10μm 이상이고, 또한, 예를 들면, 50μm 이하, 바람직하게는 30μm 이하이다.The thickness of the
1-2. 활성 광선 흡수층1-2. actinic light absorbing layer
활성 광선 흡수층(3)은, 점착층(2)의 일방면의 전체면에 배치되고, 활성 광선 흡수층(3)은, 점착 시트(1)의 하층이다.The actinic
활성 광선 흡수층(3)은, 면 방향으로 연장되는 필름 형상을 갖고 있고, 평탄한 평면 및 평탄한 하면을 갖는다.The actinic
활성 광선 흡수층(3)은, 활성 광선 흡수성을 구비하고 있다.The actinic
구체적으로는, 활성 광선 흡수층(3)의, 활성 광선의 평균 투과율은, 15% 이하, 바람직하게는 10% 이하, 보다 바람직하게는 9% 이하, 더 바람직하게는 8% 이하, 특히 바람직하게는 7% 이하, 가장 바람직하게는, 3% 이하, 더욱이 1% 이하이다.Specifically, the average transmittance of the actinic light of the actinic
상기의 평균 투과율이, 상기 상한 이하이면, 이 점착층(2)에 있어서의 착색 부분 이외를, 투명인 그대로 잔존시키고 싶은 경우나, 착색 부분보다도 착색량을 적게 하고 싶은 경우에, 착색 부분 이외가 외광(자외선)에 의해 착색되는 것을 억제할 수 있다.If the average transmittance is equal to or less than the upper limit, in the case where it is desired to remain transparent except for the colored part in the
한편, 상기의 평균 투과율이, 상기 상한을 초과하면, 착색 부분 이외가 외광(활성 광선)에 의해 착색되는 것을 억제할 수 없다.On the other hand, when said average transmittance|permeability exceeds the said upper limit, it cannot suppress that other than a colored part is colored by external light (actinic light).
한편, 평균 투과율의 측정 방법은, 후술하는 실시예에 있어서 상세히 기술한다.In addition, the measuring method of average transmittance is described in detail in the Example mentioned later.
또한, 활성 광선 흡수층(3)은, 바람직하게는 자외선 흡수성을 구비하고 있다.In addition, the actinic
즉, 활성 광선 흡수층(3)은, 바람직하게는 자외선 흡수층이다.That is, the actinic
활성 광선 흡수층(3)이, 자외선 흡수층이면, 반사 제어나 사용 가능한 재료의 선택지가 넓어진다는 이점이 있다.If the actinic
자외선 흡수층으로서는, 예를 들면, 자외선 흡수제를 배합한 수지 필름, 자외선 흡수제를 배합한 점착 테이프 등을 들 수 있다. 즉, 이와 같은 자외선 흡수층은, 자외선 흡수제를 포함한다. 자외선 흡수층이, 자외선 흡수제를 포함하면, 자외선 흡수층의, 파장 300nm 이상 400nm 이하에 있어서의 평균 투과율을 확실하게 낮게 할 수 있다.As an ultraviolet absorption layer, the resin film which mix|blended the ultraviolet absorber, the adhesive tape etc. which mix|blended the ultraviolet absorber are mentioned, for example. That is, such an ultraviolet absorption layer contains a ultraviolet absorber. When the ultraviolet absorbing layer contains the ultraviolet absorber, the average transmittance of the ultraviolet absorbing layer at a wavelength of 300 nm or more and 400 nm or less can be reliably made low.
수지 필름을 구성하는 재료는, 자외선 흡수제를 배합하지 않으면 자외선 흡수성을 갖지 않는 재료이고, 예를 들면, 트라이아세틸셀룰로스(TAC) 등의 셀룰로스 수지, 예를 들면, 사이클로올레핀 폴리머 등의 환상 폴리올레핀 수지, 예를 들면, 아크릴 수지, 페닐 말레이미드 수지, 폴리카보네이트 수지, 폴리에스터 수지, 폴리아마이드 수지, 폴리스타이렌 수지 등을 들 수 있고, 바람직하게는 셀룰로스 수지, 보다 바람직하게는 트라이아세틸셀룰로스(TAC)를 들 수 있다.The material constituting the resin film is a material that does not have ultraviolet absorbency unless an ultraviolet absorber is incorporated, for example, a cellulose resin such as triacetyl cellulose (TAC), for example, a cyclic polyolefin resin such as a cycloolefin polymer; For example, acrylic resin, phenyl maleimide resin, polycarbonate resin, polyester resin, polyamide resin, polystyrene resin, etc. are mentioned, Preferably a cellulose resin, More preferably, triacetyl cellulose (TAC) is mentioned can
이들 재료는, 단독 사용하거나 또는 2종 이상 병용할 수 있다.These materials can be used individually or can use 2 or more types together.
자외선 흡수제로서는, 예를 들면, 벤조트라이아졸계 화합물, 하이드록시페닐트라이아진계 화합물, 벤조페논계 화합물, 살리실산 에스터계 화합물, 사이아노아크릴레이트계 화합물, 니켈 착염계 화합물 등을 들 수 있다.Examples of the ultraviolet absorber include a benzotriazole-based compound, a hydroxyphenyltriazine-based compound, a benzophenone-based compound, a salicylic acid ester-based compound, a cyanoacrylate-based compound, and a nickel complex salt-based compound.
자외선 흡수제는, 단독 사용하거나 또는 2종 이상 병용할 수 있다.A ultraviolet absorber can be used individually or can use 2 or more types together.
자외선 흡수제를 배합한 수지 필름으로서는, 시판품을 이용할 수도 있고, 예를 들면, KC2UA(TAC 필름, 코니카 미놀타사제) 등을 들 수 있다.As a resin film which mix|blended the ultraviolet absorber, a commercial item can also be used, For example, KC2UA (TAC film, the Konica Minolta make) etc. are mentioned.
또한, 자외선 흡수제를 배합한 점착 테이프로서는, 시판품을 이용할 수도 있고, 예를 들면, CS9934U(닛토 전공사제) 등을 들 수 있다.Moreover, as an adhesive tape which mix|blended the ultraviolet absorber, a commercial item can also be used, For example, CS9934U (made by Nitto Denko Co., Ltd.) etc. are mentioned.
또한, 자외선 흡수층으로서, 자외선 흡수제를 배합하지 않더라도 자외선 흡수성을 갖는 재료로 형성되는 필름, 예를 들면, 폴리이미드 필름 등도 들 수 있다.Moreover, as an ultraviolet absorption layer, even if it does not mix|blend an ultraviolet absorber, the film formed from the material which has ultraviolet absorption, for example, a polyimide film etc. are mentioned.
폴리이미드 필름으로서는, 시판품을 이용할 수도 있고, 예를 들면, 카프톤 200H(도레이 듀퐁사제) 등을 들 수 있다.As a polyimide film, a commercial item can also be used and Kapton 200H (made by Toray DuPont) etc. are mentioned, for example.
자외선 흡수층의, 파장 300nm 이상 400nm 이하에 있어서의 평균 투과율은, 예를 들면, 15% 이하, 바람직하게는 10% 이하, 보다 바람직하게는 9% 이하, 더 바람직하게는 8% 이하, 특히 바람직하게는 7% 이하, 가장 바람직하게는 3% 이하, 더욱이 1% 이하이다.The average transmittance of the ultraviolet absorbing layer at a wavelength of 300 nm or more and 400 nm or less is, for example, 15% or less, preferably 10% or less, more preferably 9% or less, still more preferably 8% or less, particularly preferably is 7% or less, most preferably 3% or less, and more preferably 1% or less.
상기의 평균 투과율이, 상기 상한 이하이면, 이 점착층(2)에 있어서의 착색 부분 이외를, 투명인 그대로 잔존시키고 싶은 경우나, 착색 부분보다도 착색량을 적게 하고 싶은 경우에, 착색 부분 이외가 외광(자외선)에 의해 착색되는 것을 억제할 수 있다.If the average transmittance is equal to or less than the upper limit, in the case where it is desired to remain transparent except for the colored part in the
또한, 자외선 흡수층의, 파장 400nm 이상 700nm 이하에 있어서의 평균 투과율은, 예를 들면, 40% 이상, 바람직하게는 50% 이상, 보다 바람직하게는 70% 이상, 더 바람직하게는 80% 이상, 특히 바람직하게는 85% 이상, 가장 바람직하게는 90% 이상이다.In addition, the average transmittance of the ultraviolet absorbing layer at a wavelength of 400 nm or more and 700 nm or less is, for example, 40% or more, preferably 50% or more, more preferably 70% or more, still more preferably 80% or more, particularly Preferably at least 85%, most preferably at least 90%.
상기의 평균 투과율이, 상기 하한 이상이면, 자외선 흡수층은 투명성이 우수하다.When said average transmittance is more than the said minimum, an ultraviolet-ray absorption layer is excellent in transparency.
그 때문에, 이 점착 시트(1)를, 투명성이 요구되는 광 디바이스 및 그의 구성 부품에 적합하게 이용할 수 있다.Therefore, this
활성 광선 흡수층(3)의 두께는, 상기한 평균 투과율이 얻어지는 두께이고, 예를 들면, 10μm 이상, 바람직하게는 20μm 이상이고, 또한, 예를 들면, 200μm 이하, 바람직하게는 120μm 이하, 보다 바람직하게는 50μm 이하이다.The thickness of the actinic
활성 광선 흡수층(3)은, 1층이어도 되고, 복수층이어도 된다.One layer may be sufficient as the actinic
활성 광선 흡수층(3)이, 복수층인 경우에는, 상기의 평균 투과율 및 상기의 두께가, 상기한 범위가 되도록, 동종 또는 이종의 활성 광선 흡수층(3)을 복수 적층시킨다.When the actinic
또한, 활성 광선 흡수층(3)에는, 필요에 따라, 표면 처리(예를 들면, 하드 코팅 처리)를 실시할 수 있다.In addition, the actinic
1-3. 점착 시트의 제조 방법1-3. Method for manufacturing an adhesive sheet
다음으로, 점착 시트(1)를 제조하는 방법을, 도 2를 참조해서 설명한다.Next, the method of manufacturing the
점착 시트(1)의 제조 방법은, 점착층(2)을 준비하는 점착층 준비 공정과, 점착층(2)의 일방면에, 활성 광선 흡수층(3)을 배치하는 배치 공정을 구비한다.The manufacturing method of the
점착층 준비 공정에서는, 도 2A에 나타내는 바와 같이, 점착층(2)을 준비한다.In the adhesion layer preparation process, as shown to FIG. 2A, the
점착층(2)을 준비하기 위해서는, 우선, 박리 필름(5)을 준비한다.In order to prepare the
박리 필름(5)으로서는, 예를 들면, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리에틸렌 테레프탈레이트, 폴리에스터 필름 등의 가요성의 플라스틱 필름을 들 수 있다.As the
박리 필름(5)의 두께는, 예를 들면, 3μm 이상, 바람직하게는 10μm 이상이고, 또한, 예를 들면, 200μm 이하, 바람직하게는 100μm 이하, 보다 바람직하게는 50μm 이하이다.The thickness of the
박리 필름(5)에는, 바람직하게는 실리콘계, 불소계, 장쇄 알킬계, 지방산 아마이드계 등의 이형제에 의한 이형 처리, 또는 실리카 분말에 의한 이형 처리가 실시되어 있다.The
이어서, 박리 필름(5)의 일방면에, 상기 점착성 조성물(점착성 조성물의 용액)을 도포하고, 필요에 따라 용매를 건조 제거한다.Next, the said adhesive composition (a solution of an adhesive composition) is apply|coated to one side of the
점착성 조성물의 도포 방법으로서는, 예를 들면, 롤 코팅, 키스 롤 코팅, 그라비어 코팅, 리버스 코팅, 롤 브러시, 스프레이 코팅, 딥 롤 코팅, 바 코팅, 나이프 코팅, 에어 나이프 코팅, 커튼 코팅, 립 코팅, 다이 코팅 등을 들 수 있다.Examples of the method for applying the pressure-sensitive adhesive composition include roll coating, kiss roll coating, gravure coating, reverse coating, roll brushing, spray coating, dip roll coating, bar coating, knife coating, air knife coating, curtain coating, lip coating, Die coating etc. are mentioned.
건조 조건으로서, 건조 온도는, 예를 들면, 50℃ 이상, 바람직하게는 70℃ 이상, 보다 바람직하게는 100℃ 이상이고, 또한, 예를 들면, 200℃ 이하, 바람직하게는 180℃ 이하, 보다 바람직하게는 150℃ 이하이며, 건조 시간은, 예를 들면, 5초 이상, 바람직하게는 10초 이상이고, 또한, 예를 들면, 20분 이하, 바람직하게는 15분 이하, 보다 바람직하게는 10분 이하이다.As the drying conditions, the drying temperature is, for example, 50°C or higher, preferably 70°C or higher, more preferably 100°C or higher, and for example, 200°C or lower, preferably 180°C or lower, more Preferably it is 150 degreeC or less, and the drying time is, for example, 5 second or more, Preferably it is 10 second or more, For example, it is 20 minutes or less, Preferably, it is 15 minutes or less, More preferably, it is 10 minutes. less than a minute
이에 의해, 박리 필름(5)의 일방면에, 점착층(2)을 배치한다(준비한다).Thereby, the
한편, 점착성 조성물이 가교제를 포함하는 경우에는, 건조 제거와 동시, 또는 용매의 건조 후(필요에 따라, 점착층(2)의 일방면에, 박리 필름(5)을 적층한 후)에, 바람직하게는 에이징에 의해 가교를 진행시킨다.On the other hand, when the pressure-sensitive adhesive composition contains a crosslinking agent, it is preferable at the same time as drying removal or after drying of the solvent (after laminating the
에이징 조건은, 가교제의 종류에 따라 적절히 설정되고, 에이징 온도는, 예를 들면, 20℃ 이상이고, 또한, 예를 들면, 160℃ 이하, 바람직하게는 50℃ 이하이며, 또한, 에이징 시간은, 1분 이상, 바람직하게는 12시간 이상, 보다 바람직하게는 1일 이상이고, 또한, 예를 들면, 7일 이하이다.Aging conditions are appropriately set according to the type of crosslinking agent, and the aging temperature is, for example, 20 ° C. or higher, and for example, 160 ° C. or lower, preferably 50 ° C. or lower, and the aging time is, 1 minute or longer, preferably 12 hours or longer, more preferably 1 day or longer, and for example, 7 days or shorter.
배치 공정에서는, 도 2B에 나타내는 바와 같이, 점착층(2)의 일방면에, 활성 광선 흡수층(3)을 배치한다.In the arrangement step, as shown in FIG. 2B , the actinic
그 후, 필요에 따라, 박리 필름(5)을 박리한다.Then, the peeling
이에 의해, 점착층(2)과, 점착층(2)의 일방면에 배치되는 활성 광선 흡수층(3)을 구비한 점착 시트(1)가 얻어진다. 또한, 박리 필름(5)을 박리하지 않는 경우에는, 박리 필름(5)과, 박리 필름(5)의 일방면에 배치되는 점착층(2)과, 점착층(2)의 일방면에 배치되는 활성 광선 흡수층(3)을 구비한 점착 시트(1)가 얻어진다.Thereby, the
또한, 상기한 설명에서는, 점착층(2)을, 박리 필름(5)의 일방면에 점착층(2)을 배치했지만, 취급성의 관점에서, 점착층(2)을, 투명 기재의 일방면에 배치할 수도 있다.In addition, in the above description, although the
투명 기재는, 면 방향으로 연장되는 필름 형상을 갖고 있고, 평탄한 평면 및 평탄한 하면을 갖는다.The transparent substrate has a film shape extending in the plane direction, and has a flat plane and a flat lower surface.
투명 기재는, 가요성의 플라스틱 재료로 이루어진다.The transparent substrate is made of a flexible plastic material.
이와 같은 플라스틱 재료로서는, 예를 들면, 폴리에틸렌 테레프탈레이트(PET), 폴리뷰틸렌 테레프탈레이트, 폴리에틸렌 나프탈레이트 등의 폴리에스터 수지, 예를 들면, 폴리메타크릴레이트 등의 (메트)아크릴 수지(아크릴 수지 및/또는 메타크릴 수지), 예를 들면, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 사이클로올레핀 폴리머(COP) 등의 폴리올레핀 수지, 예를 들면, 폴리카보네이트 수지, 예를 들면, 폴리에터설폰 수지, 예를 들면, 폴리아릴레이트 수지, 예를 들면, 멜라민 수지, 예를 들면, 폴리아마이드 수지, 예를 들면, 폴리이미드 수지, 예를 들면, 셀룰로스 수지, 예를 들면, 폴리스타이렌 수지, 예를 들면, 노보넨 수지의 합성 수지 등을 들 수 있다.As such a plastic material, for example, polyester resins such as polyethylene terephthalate (PET), polybutylene terephthalate, and polyethylene naphthalate, for example, (meth)acrylic resins such as polymethacrylate (acrylic resins) and/or methacrylic resin), for example, polyethylene, polypropylene, polyolefin resin such as cycloolefin polymer (COP), for example, polycarbonate resin, for example, polyethersulfone resin, for example, polyarylate resins such as melamine resins such as polyamide resins such as polyimide resins such as cellulosic resins such as polystyrene resins such as norbornene resins. A synthetic resin etc. are mentioned.
투명 기재측으로부터 활성 광선(바람직하게는, 자외선)을 조사하여 점착층(2)을 착색시키는 경우에는, 바람직하게는, 기재(5)는, 광에 대한 투명성을 갖는다. 구체적으로는, 투명 기재의 전광선 투과율(JIS K 7375-2008)이, 예를 들면, 80% 이상, 바람직하게는 85% 이상이다.When irradiating actinic light (preferably, ultraviolet-ray) from the transparent base material side and making the
광에 대한 투명성 및 기계 강도를 양립시키는 관점에서, 플라스틱 재료로서, 바람직하게는 폴리에스터 수지, 보다 바람직하게는 폴리에틸렌 테레프탈레이트(PET)를 들 수 있다.As a plastic material from a viewpoint of making transparency with respect to light and mechanical strength compatible, Preferably a polyester resin, More preferably, polyethylene terephthalate (PET) is mentioned.
투명 기재의 두께는, 예를 들면, 4μm 이상, 바람직하게는 20μm 이상, 보다 바람직하게는 30μm 이상, 더 바람직하게는, 45μm 이상이고, 또한, 예를 들면, 500μm 이하, 가요성 및 핸들링성의 관점에서, 바람직하게는 300μm 이하, 보다 바람직하게는 200μm 이하, 더 바람직하게는 100μm 이하이다.The thickness of the transparent substrate is, for example, 4 µm or more, preferably 20 µm or more, more preferably 30 µm or more, still more preferably 45 µm or more, and further, for example, 500 µm or less, from the viewpoint of flexibility and handling properties. , preferably 300 μm or less, more preferably 200 μm or less, and still more preferably 100 μm or less.
점착층(2)을, 투명 기재의 일방면에 배치하기 위해서는, 투명 기재의 일방면에, 상기와 마찬가지로, 상기 점착성 조성물(점착성 조성물의 용액)을 도포하고, 필요에 따라 용매를 건조 제거한다.In order to arrange|position the
그리고, 점착 시트(1)에는, 후술하는 중간 적층체(6)의 제조 시, 또는 후술하는 중간 적층체(6)의 제조 전에, 점착층(2)에 활성 광선(바람직하게는, 자외선)을 조사할 수 있다.In addition, in the pressure-
중간 적층체(6)의 제조 시에, 점착층(2)에 활성 광선(바람직하게는, 자외선)을 조사하는 경우는, 구체적으로는, 배치 공정 후에, 활성 광선(바람직하게는, 자외선)을 조사한다.When irradiating actinic light (preferably, ultraviolet) to the
구체적으로는, 후술하는 중간 적층체(6)의 제조 방법에 있어서의 조사 공정에서, 활성 광선(바람직하게는, 자외선)을 조사한다.In the irradiation process in the manufacturing method of the intermediate|middle
또한, 후술하는 중간 적층체(6)의 제조 전에, 점착층(2)에 활성 광선(바람직하게는, 자외선)을 조사하는 경우는, 구체적으로는, 점착층 준비 공정 후, 배치 공정 전에, 활성 광선(바람직하게는, 자외선)을 조사한다.In addition, when irradiating actinic light (preferably ultraviolet) to the
점착층 준비 공정 후, 배치 공정 전에, 활성 광선(바람직하게는, 자외선)을 조사하는 경우를, 도 3을 참조해서 설명한다.A case of irradiating actinic rays (preferably, ultraviolet rays) after the adhesion layer preparation step and before the arrangement step will be described with reference to FIG. 3 .
점착층 준비 공정에서는, 도 3A에 나타내는 바와 같이, 상기한 방법과 마찬가지로, 박리 필름(5)의 일방면에, 점착층(2)을 준비한다.In the adhesion layer preparation process, as shown to FIG. 3A, the
이어서, 점착층 준비 공정 후에, 도 3B에 나타내는 바와 같이, 박리 필름(5)의 표면측으로부터 점착층(2)의 전부에 활성 광선(바람직하게는, 자외선)을 조사한다.Next, after the adhesion layer preparation process, as shown in FIG. 3B, actinic light (preferably ultraviolet) is irradiated to all of the
이어서, 배치 공정에서는, 도 3C에 나타내는 바와 같이, 점착층(2)의 일방면에, 활성 광선 흡수층(3)을 배치한다.Next, in the arrangement step, as shown in FIG. 3C , the actinic
이 방법에 의하면, 점착층(2)의 전부를 미리 변색시킬 수 있고, 또한 그 착색 부분이, 외광(활성 광선)에 의해 더 착색되는 것을 억제할 수 있다.According to this method, all of the
또한, 상기한 설명에서는, 배치 공정에 있어서, 점착층(2)의 일방면에, 활성 광선 흡수층(3)을 배치했지만, 도 3D에 나타내는 바와 같이, 점착층(2)의 타방면의 박리 필름(5)(투명 기재의 일방면에 점착층(2)을 준비하는 경우는 투명 기재)을, 활성 광선 흡수층(3)으로 바꾸어 붙여도 된다.In addition, in the above description, in the arrangement process, the actinic
또한, 상기한 설명에서는, 점착층(2)의 전부를 변색시켰지만, 점착층(2)의 일부를 변색시킬 수도 있다.In addition, although the whole of the
이와 같은 경우에는, 도 3E에 나타내는 바와 같이, 활성 광선(바람직하게는, 자외선)을 조사하는 부분(51)(상세하게는, 활성 광선(바람직하게는, 자외선)을 조사하는 부분(51)의 타방면에 배치되는 박리 필름(5)의 타방면)에는, 활성 광선(바람직하게는, 자외선)을 차단하는 마스크(7)를 배치하지 않고, 활성 광선(바람직하게는, 자외선)을 조사하지 않는 부분(52)(상세하게는, 활성 광선(바람직하게는, 자외선)을 조사하지 않는 부분(52)의 타방면에 배치되는 박리 필름(5)의 타방면)에, 활성 광선(바람직하게는, 자외선)을 차단하는 마스크(7)를 배치하고, 박리 필름(5)의 표면측으로부터 활성 광선(바람직하게는, 자외선)을 조사한다.In such a case, as shown in FIG. 3E, the
그리고, 배치 공정에서는, 도 3F에 나타내는 바와 같이, 점착층(2)의 일방면에, 활성 광선 흡수층(3)을 배치한다.And in the arrangement process, as shown in FIG. 3F, the actinic
이에 의해, 점착층(2)의 일부를 미리 변색시킬 수 있고, 또한 그 착색 부분 이외가 외광(활성 광선)에 의해 착색되는 것을 억제할 수 있다.Thereby, a part of
또한, 이와 같은 경우에 있어서도, 점착층(2)의 타방면의 박리 필름(5)(투명 기재 일방면에 점착층(2)을 준비하는 경우는 투명 기재)을, 활성 광선 흡수층(3)으로 바꾸어 붙일 수도 있다.Also in such a case, the
구체적으로는, 도 3G에 나타내는 바와 같이, 박리 필름(5)의 전부를 활성 광선 흡수층(3)으로 바꾸어 붙일 수도 있고, 또한 도 3H에 나타내는 바와 같이, 활성 광선(바람직하게는, 자외선)을 조사하지 않는 부분(52)의 타방면에 배치되는 박리 필름(5)(투명 기재 일방면에 점착층(2)을 준비하는 경우는 투명 기재)만을, 활성 광선 흡수층(3)으로 바꾸어 붙일 수도 있다.Specifically, as shown in Fig. 3G, the
또한, 상기한 설명에서는, 점착 시트(1)는, 점착층(2)과, 활성 광선 흡수층(3)으로 이루어지지만, 점착층(2)과, 활성 광선 흡수층(3) 사이에, 상기한 투명 기재 등의 중간층을 개재시킬 수도 있다.In addition, in the above description, although the
2. 중간 적층체2. Intermediate laminate
도 4에 나타내는 바와 같이, 중간 적층체(6)는, 소정의 두께를 갖는 필름 형상(시트 형상을 포함한다)을 갖고, 두께 방향과 직교하는 방향(면 방향)으로 연장되고, 평탄한 상면 및 평탄한 하면을 갖는다.As shown in Fig. 4, the
구체적으로는, 중간 적층체(6)는, 점착층(2) 및 점착층(2)의 일방면에 배치되는 활성 광선 흡수층(3)을 구비한 점착 시트(1)와, 점착 시트(1)의 타방면(점착층(2)의 타방면)에 배치되는 피착체(4)를 구비한다.Specifically, the
상세하게는 후술하지만, 중간 적층체(6)는, 상기한 점착 시트(1)를 피착체(4)에 첩부(貼付)하는 것에 의해 얻어진다.Although mentioned later in detail, the intermediate|middle
중간 적층체(6)는, 활성 광선 흡수층(3)을 구비하기 때문에, 점착층(2)에 있어서의 비조사/저조사 부분(21)(후술)이, 외광(활성 광선)에 의해 착색되는 것을 억제할 수 있다.Since the
2-1. 점착 시트2-1. adhesive sheet
상기한 바와 같이, 점착 시트(1)는, 점착층(2)과, 점착층(2)의 일방면에 배치되는 활성 광선 흡수층(3)을 구비한다.As described above, the pressure-
또한, 상기한 바와 같이, 점착 시트(1)는, 필요에 따라, 점착층(2)의 타방면에, 박리 필름(5)을 적층해도 된다.In addition, as mentioned above, the
이와 같은 경우에는, 점착 시트(1)는, 박리 필름(5)과, 점착층(2)과, 활성 광선 흡수층(3)을 순서대로 구비한다.In such a case, the
이하의 설명에서는, 박리 필름(5)을 구비하는 점착 시트(1)를 이용한 경우에 대하여, 상세히 기술한다.In the following description, the case where the
또한, 점착 시트(1)에 있어서의 점착층(2)은, 상대적으로 파장 550nm에서의 가시광 투과율이 큰 고광투과율 부분(10)과, 상대적으로 파장 550nm에서의 가시광 투과율이 작은 저광투과율 부분(11)을 구비한다.In addition, the pressure-
한편, 상세하게는 후술하지만, 고광투과율 부분(10) 및 저광투과율 부분(11)의, 파장 550nm에서의 가시광 투과율은, 후술하는 중간 적층체(6)의 제조 방법에 의해 정해진다.On the other hand, although described later in detail, the visible light transmittance of the high
2-2. 피착체2-2. adherend
피착체(4)는, 점착 시트(1)에 의해 보강되는 피보강체이고, 예를 들면, 광학 디바이스, 전자 디바이스 및 그의 구성 부품 등을 들 수 있다.The to-
한편, 도 4에 있어서, 피착체(4)는, 평판 형상을 갖지만, 피착체(4)의 형상은, 특별히 한정되지 않고, 광학 디바이스, 전자 디바이스 및 그의 구조 부품의 종류에 따라, 여러 가지 형상이 선택된다.In addition, in FIG. 4, although the to-
또한, 상세하게는 후술하지만, 중간 적층체(6)의 제조 방법에 있어서, 피착체(4)의 표면측으로부터 점착층(2)에 활성 광선(바람직하게는, 자외선)을 조사하는 경우(후술하는 제 2A 실시형태)에는, 피착체(4)가, 활성 광선(바람직하게는, 자외선)을 투과하는지, 또는 활성 광선(바람직하게는, 자외선)을 차단하는지에 따라, 중간 적층체(6)의 제조 방법이 정해진다.In addition, although detailed later, in the manufacturing method of the intermediate|middle
이와 같은 피착체(4) 중, 활성 광선을 투과하는 피착체(4)(이하, 제 1 피착체(30)로 한다.)로서는, 바람직하게는 자외선을 투과하는 제 1 피착체(30)를 들 수 있다.Among
자외선을 투과하는 제 1 피착체(30)로서는, 예를 들면, 무알칼리 유리, PET 필름 등을 들 수 있다.As the 1st to-
활성 광선을 투과하는 제 1 피착체(30)의, 활성 광선의 평균 투과율은, 예를 들면, 60% 이상, 바람직하게는 65% 이상이고, 특히, 활성 광선을 투과하는 제 1 피착체(30)가, 자외선을 투과하는 제 1 피착체(30)인 경우에는, 자외선을 투과하는 제 1 피착체(30)의, 파장 300nm 이상 400nm 이하에 있어서의 평균 투과율은, 예를 들면, 60% 이상, 바람직하게는 65% 이상이다.The average transmittance of the actinic light of the
상기한 평균 투과율이, 상기 하한 이상이면, 활성 광선(바람직하게는, 자외선)이 제 1 피착체(30)를 투과하여, 점착층(2)에 활성 광선(바람직하게는, 자외선)을 조사할 수 있다.When the above average transmittance is equal to or greater than the lower limit, the actinic light (preferably, ultraviolet light) passes through the
또한, 이와 같은 피착체(4) 중, 활성 광선(바람직하게는, 자외선)을 차단하는 피착체(4)(이하, 제 2 피착체(31)로 한다.)로서는, 활성 광선을 흡수하는 제 2 피착체(31), 활성 광선을 반사하는(활성 광선을 투과하지 않는) 제 2 피착체(31)를 들 수 있다.In addition, among
활성 광선을 흡수하는 제 2 피착체(31)로서는, 바람직하게는 자외선을 흡수하는 제 2 피착체(31)를 들 수 있다.As the
자외선을 흡수하는 제 2 피착체(31)로서는, 예를 들면, 폴리이미드 필름, 상기 자외선 흡수제가 도포된 유리판 등을 들 수 있다.As the 2nd to-
활성 광선을 흡수하는 제 2 피착체(31)의, 활성 광선의 평균 투과율은, 예를 들면, 15% 이하, 바람직하게는 10% 이하이고, 특히, 활성 광선을 흡수하는 제 2 피착체(31)가, 자외선을 흡수하는 제 2 피착체(31)인 경우에는, 자외선을 흡수하는 제 2 피착체(31)의, 파장 300nm 이상 400nm 이하에 있어서의 평균 투과율은, 예를 들면, 15% 이하, 바람직하게는 10% 이하이다.The average transmittance of the actinic light of the
상기한 평균 투과율이, 상기 하한 이상이면, 제 2 피착체(31)가 활성 광선(바람직하게는, 자외선)을 흡수할 수 있다.When the average transmittance is equal to or greater than the lower limit, the
활성 광선을 반사하는 제 2 피착체(31)로서는, 바람직하게는 자외선을 반사하는 제 2 피착체(31)를 들 수 있다.The
자외선을 반사하는 제 2 피착체(31)로서는, 예를 들면, 구리판 등의 금속 기판 등을 들 수 있다.As the 2nd to-
2-3. 중간 적층체의 제조 방법2-3. Method for producing an intermediate laminate
중간 적층체(6)의 제조 방법은, 상기의 점착 시트(1)를 준비하는 준비 공정, 점착층(2)에 활성 광선(바람직하게는, 자외선)을 조사하여, 점착층(2)에, 상대적으로 활성 광선(바람직하게는, 자외선)의 조사량이 높은 고조사 부분(20)과, 상대적으로 활성 광선(바람직하게는, 자외선)의 조사량이 낮거나, 활성 광선(바람직하게는, 자외선)이 조사되지 않는 비조사/저조사 부분(21)을 형성하는 것에 의해, 고조사 부분(20)의 파장 550nm에서의 가시광 투과율을, 비조사/저조사 부분(21)의 파장 550nm에서의 가시광 투과율보다도 작게 하는 조사 공정, 및 점착 시트(1)의 타방면을 피착체(4)에 첩착하는 첩착 공정을 구비한다.In the manufacturing method of the
즉, 이 중간 적층체(6)의 제조 방법에서는, 점착 시트(1)를 이용하고 있기 때문에, 이 중간 적층체(6)의 제조 방법에 의해 얻어지는 중간 적층체(6)는, 착색 부분 이외(비조사/저조사 부분(21))가, 외광(활성 광선)에 의해 착색되는 것을 억제할 수 있다.That is, in the manufacturing method of this intermediate
이하, 중간 적층체(6)의 제조 방법을, 각 공정의 순번 및 활성 광선(바람직하게는, 자외선)의 조사 방향마다로 나누어, 설명한다.Hereinafter, the manufacturing method of the intermediate|middle
상세하게는, 각 공정의 순번으로서는, 준비 공정 후에, 조사 공정을 실시하고, 조사 공정 후에, 첩착 공정을 실시하거나(이하, 제 1 실시형태로 한다.), 또는 준비 공정 후에, 첩착 공정을 실시하고, 첩착 공정 후에, 조사 공정을 실시한다(이하, 제 2 실시형태로 한다.).In detail, as the order of each process, an irradiation process is implemented after a preparatory process, a sticking process is implemented after an irradiation process (it is set as 1st Embodiment hereafter), or a sticking process is implemented after a preparatory process. And, after the sticking process, an irradiation process is implemented (it is set as 2nd Embodiment hereafter).
또한, 활성 광선(바람직하게는, 자외선)의 조사 방향으로서는, 제 1 실시형태에 있어서는, 박리 필름(5)의 표면측(점착층(2)의 표면측)으로부터 점착층(2)에 활성 광선(바람직하게는, 자외선)을 조사하거나(이하, 제 1A 실시형태로 한다.), 또는 활성 광선 흡수층(3)의 표면측으로부터 점착층(2)에 활성 광선(바람직하게는, 자외선)을 조사(이하, 제 1B 실시형태로 한다.)한다. 또한, 제 2 실시형태에 있어서는, 피착체(4)의 표면측으로부터 점착층(2)에 활성 광선(바람직하게는, 자외선)을 조사하거나(이하, 제 2A 실시형태로 한다.), 또는 활성 광선 흡수층(3)의 표면측으로부터 점착층(2)에 활성 광선(바람직하게는, 자외선)을 조사(이하, 제 2B 실시형태로 한다.)한다.Moreover, as an irradiation direction of actinic light (preferably, an ultraviolet-ray), in 1st Embodiment, actinic light is transmitted to the
이하, 각 실시형태에 대하여, 상세히 기술한다.Hereinafter, each embodiment is described in detail.
한편, 이 중간 적층체(6)의 제조 방법에 있어서, 활성 광선(바람직하게는, 자외선)의 조사량에 의해, 비조사/저조사 부분(21)이, 비조사 부분(22)이 될지, 또는 저조사 부분(23)이 될지가 정해지지만, 이하의 설명에서는, 비조사/저조사 부분(21)이, 비조사 부분(22)인 경우에 대하여, 상세히 기술한다.On the other hand, in the manufacturing method of this intermediate|middle
또한, 비조사 부분(22)은, 활성 광선(바람직하게는, 자외선)이 조사되지 않는 부분이고, 비조사 부분(22)의, 파장 550nm에서의 가시광 투과율은, 예를 들면, 80% 이상, 바람직하게는 90% 이상이다.In addition, the
상기의 가시광 투과율이, 상기 하한 이상이면, 비조사 부분(22)은, 투명성을 갖는다.When the visible light transmittance is equal to or greater than the lower limit, the
2-3-1. 제 1A 실시형태2-3-1. 1A embodiment
제 1A 실시형태에서는, 준비 공정 후에, 조사 공정을 실시하고, 조사 공정 후에, 첩착 공정을 실시한다.In 1A Embodiment, an irradiation process is implemented after a preparatory process, and a sticking process is implemented after an irradiation process.
또한, 제 1A 실시형태에서는, 조사 공정에 있어서, 점착층(2)의 표면측으로부터, 점착층(2)에 활성 광선(바람직하게는, 자외선)을 조사한다.Moreover, in 1A Embodiment, in an irradiation process, actinic light (preferably, an ultraviolet-ray) is irradiated to the
제 1A 실시형태를, 도 5를 참조해서 설명한다.1A Embodiment is described with reference to FIG.
준비 공정에서는, 도 5A에 나타내는 바와 같이, 점착 시트(1)를 준비한다.In a preparatory process, as shown to FIG. 5A, the
조사 공정에서는, 도 5B에 나타내는 바와 같이, 점착층(2)에 활성 광선(바람직하게는, 자외선)을 조사하여, 점착층(2)에, 상대적으로 활성 광선(바람직하게는, 자외선)의 조사량이 높은 고조사 부분(20)과, 활성 광선(바람직하게는, 자외선)이 조사되지 않는 비조사 부분(22)을 형성한다.In the irradiation step, as shown in FIG. 5B , the
한편, 이하의 설명에서는, 점착 시트(1)(점착층(2))의 일부에 활성 광선(바람직하게는, 자외선)을 조사하는 경우, 구체적으로는, 점착 시트(1)를 면 방향으로 3분할한 것 중의 양단 부분의 2개소에 활성 광선(바람직하게는, 자외선)을 조사하고, 활성 광선(바람직하게는, 자외선)을 조사하는 점착 시트(1)(점착층(2))의 일부를, 고조사 부분(20)(환언하면, 점착 시트(1)를 면 방향으로 3분할한 것 중 중앙분의 1개소만이 비조사 부분(22))으로 해서, 설명한다.In addition, in the following description, when irradiating actinic light (preferably, ultraviolet rays) to a part of the adhesive sheet 1 (adhesive layer 2), specifically, the
구체적으로는, 조사 공정에서는, 점착 시트(1)에 있어서, 고조사 부분(20)에는, 박리 필름(5)의 표면측(점착층(2)의 표면측)으로부터 활성 광선(바람직하게는, 자외선)을 조사하고, 비조사 부분(22)에는, 활성 광선(바람직하게는, 자외선)을 조사하지 않는다.Specifically, in the irradiation step, in the pressure-
상세하게는, 고조사 부분(20)(상세하게는, 고조사 부분(20)의 타방면에 배치되는 박리 필름(5)의 타방면)에는, 활성 광선(바람직하게는, 자외선)을 차단하는 마스크(7)를 배치하지 않고, 비조사 부분(22)(상세하게는, 비조사 부분(22)의 타방면에 배치되는 박리 필름(5)의 타방면)에, 활성 광선(바람직하게는, 자외선)을 차단하는 마스크(7)를 배치하고, 박리 필름(5)의 표면측(점착층(2)의 표면측)으로부터 활성 광선(바람직하게는, 자외선)을 조사한다.Specifically, in the highly irradiated portion 20 (specifically, the other side of the
이에 의해, 고조사 부분(20)에만, 활성 광선(바람직하게는, 자외선)이 조사된다.Thereby, only the highly
그리고, 고조사 부분(20)에 있어서의 점착층(2)에서는, 광산 발생제로부터 산이 발생하고, 그 산에 의해, 산에 의해 착색되는 화합물이 착색(구체적으로는, 흑색)된다. 그 결과, 고조사 부분(20)에 있어서의 점착층(2)이, 무색(투명)으로부터 유색으로 변화한다(파장 550nm에서의 가시광 투과율이 낮아진다.). 그렇게 하면, 고조사 부분(20)의 파장 550nm에서의 가시광 투과율이, 비조사 부분(22)의 파장 550nm에서의 가시광 투과율보다도 작아진다(구체적으로는, 고조사 부분(20)이, 비조사 부분(22)보다도 검어진다.).And in the
즉, 상대적으로 파장 550nm에서의 가시광 투과율이 작은 고조사 부분(20)과, 상대적으로 파장 550nm에서의 가시광 투과율이 큰 비조사 부분(22)이 형성된다.That is, the highly
그렇게 하면, 고조사 부분(20)이, 저광투과율 부분(11)이 되고, 비조사 부분(22)이, 고광투과율 부분(10)이 된다.Then, the highly
첩착 공정에서는, 도 5C에 나타내는 바와 같이, 점착 시트(1)의 타방면(점착층(2)의 타방면)을, 피착체(4)에 첩부한다.In the sticking step, as shown in FIG. 5C , the other surface of the pressure-sensitive adhesive sheet 1 (the other surface of the pressure-sensitive adhesive layer 2 ) is attached to the
구체적으로는, 점착 시트(1)로부터, 박리 필름(5)을 박리하고, 점착 시트(1)의 타방면(점착층(2)의 타방면)에, 피착체(4)를 배치한다.Specifically, the
이에 의해, 점착층(2) 및 점착층(2)의 일방면에 배치되는 활성 광선 흡수층(3)을 구비한 점착 시트(1)와, 점착 시트(1)의 타방면(점착층(2)의 타방면)에 배치되는 피착체(4)를 구비하는 중간 적층체(6)가 얻어진다.Thereby, the pressure-
또한, 중간 적층체(6)에 있어서, 점착층(2)은, 상대적으로 파장 550nm에서의 가시광 투과율이 큰 고광투과율 부분(10)과, 상대적으로 파장 550nm에서의 가시광 투과율이 작은 저광투과율 부분(11)을 구비한다.Further, in the
그리고, 이 중간 적층체(6)에 있어서, 저광투과율 부분(11)의, 파장 550nm에서의 가시광 투과율은, 예를 들면, 20% 미만, 바람직하게는 10% 이하이며, 또한, 예를 들면, 0.01% 이상이고, 또한, 고광투과율 부분(10)의, 파장 550nm에서의 가시광 투과율은, 예를 들면, 80% 이상, 바람직하게는 90% 이상이다.And, in this
저광투과율 부분(11)의, 상기한 가시광 투과율이, 상기 상한 미만이면, 저광투과율 부분(11)에 광을 흡수하는 기능을 확실하게 부여할 수 있다.When the above-described visible light transmittance of the low
또한, 고광투과율 부분(10)의, 상기한 가시광 투과율이, 상기 하한 이상이면, 고광투과율 부분(10)은 투명성을 갖는다.In addition, when the above-described visible light transmittance of the high
제 1A 실시형태에 의하면, 상기한 중간 적층체(6)의 제조 방법의 효과를 나타냄과 함께, 준비 공정 후에, 조사 공정을 실시하고, 조사 공정 후에, 첩착 공정을 실시하기 때문에, 조사 공정에 있어서 형성시킨 투과율이 상이한 영역의 패턴 형상이 외광에 노출된 경우에도 유지하기 쉬워진다.According to 1A Embodiment, while showing the effect of the manufacturing method of the said intermediate|middle
또한, 제 1A 실시형태에 의하면, 조사 공정에 있어서, 박리 필름(5)의 표면측(점착층(2)의 표면측)으로부터, 점착층(2)에 활성 광선(바람직하게는, 자외선)을 조사하기 때문에, 점착층(2)을 확실하게 착색할 수 있다.Moreover, according to 1A Embodiment, in an irradiation process, actinic light (preferably ultraviolet) is applied to the
또한, 특히, 피착체(4)가, 제 2 피착체(31)이면, 제 2 피착체(31)의 표면측으로부터의 외광(활성 광선)에 의해, 비조사 부분(22)이 착색되는 것을 억제할 수 있다.In particular, if the
2-3-2. 제 1B 실시형태2-3-2. 1B embodiment
제 1B 실시형태에서는, 준비 공정 후에, 조사 공정을 실시하고, 조사 공정 후에, 첩착 공정을 실시한다.In 1B Embodiment, an irradiation process is implemented after a preparation process, and a sticking process is implemented after an irradiation process.
또한, 제 1B 실시형태에서는, 조사 공정에 있어서, 활성 광선 흡수층(3)의 표면측으로부터, 점착층(2)에 활성 광선(바람직하게는, 자외선)을 조사한다.Further, in the first embodiment of B, in the irradiation step, the
구체적으로는, 조사 공정에 있어서, 활성 광선 흡수층(3)의 표면측으로부터, 활성 광선 흡수층(3)에, 활성 광선 흡수층(3)의 흡수량을 초과하는 광량의 활성 광선(바람직하게는, 자외선)을 조사함으로써, 점착층(2)을 변색시킨다.Specifically, in the irradiation step, from the surface side of the actinic
제 1B 실시형태를, 도 6을 참조해서 설명한다.Embodiment 1B will be described with reference to FIG. 6 .
준비 공정에서는, 도 6A에 나타내는 바와 같이, 상기한 제 1A 실시형태와 마찬가지로, 점착 시트(1)를 준비한다.In a preparation process, as shown to FIG. 6A, the
조사 공정에서는, 도 6B에 나타내는 바와 같이, 점착층(2)에 활성 광선(바람직하게는, 자외선)을 조사하여, 점착층(2)에, 상대적으로 활성 광선(바람직하게는, 자외선)의 조사량이 높은 고조사 부분(20)과, 활성 광선(바람직하게는, 자외선)이 조사되지 않는 비조사 부분(22)을 형성한다.In the irradiation step, as shown in FIG. 6B , the
구체적으로는, 조사 공정에서는, 점착 시트(1)에 있어서, 고조사 부분(20)에는, 활성 광선 흡수층(3)측으로부터 활성 광선(바람직하게는, 자외선)(활성 광선 흡수층(3)의 흡수량을 초과하는 광량의 활성 광선(바람직하게는, 자외선))을 조사하고, 비조사 부분(22)에는, 활성 광선(바람직하게는, 자외선)을 조사하지 않는다.Specifically, in the irradiation step, in the pressure-
상세하게는, 고조사 부분(20)(상세하게는, 고조사 부분(20)의 일방면에 배치되는 활성 광선 흡수층(3)의 일방면)에는, 활성 광선(바람직하게는, 자외선)을 차단하는 마스크(7)를 배치하지 않고, 비조사 부분(22)(상세하게는, 비조사 부분(22)의 일방면에 배치되는 활성 광선 흡수층(3)의 일방면)에, 활성 광선(바람직하게는, 자외선)을 차단하는 마스크(7)를 배치하고, 활성 광선 흡수층(3)의 표면측으로부터 활성 광선(바람직하게는, 자외선)(활성 광선 흡수층(3)의 흡수량을 초과하는 광량의 활성 광선(바람직하게는, 자외선))을 조사한다.Specifically, the highly irradiated portion 20 (specifically, one side of the active light
이에 의해, 고조사 부분(20)에만, 활성 광선(바람직하게는, 자외선)이 조사되어, 상기한 제 1A 실시형태와 마찬가지로, 고조사 부분(20)(저광투과율 부분(11))과, 비조사 부분(22)(고광투과율 부분(10))을 형성할 수 있다.Thereby, only the highly
첩착 공정에서는, 도 6C에 나타내는 바와 같이, 상기한 제 1A 실시형태와 마찬가지로, 점착 시트(1)의 타방면(점착층(2)의 타방면)을, 피착체(4)에 첩부한다.In the sticking step, as shown in FIG. 6C , the other surface of the pressure-sensitive adhesive sheet 1 (the other surface of the pressure-sensitive adhesive layer 2 ) is attached to the
이에 의해, 점착층(2) 및 점착층(2)의 일방면에 배치되는 활성 광선 흡수층(3)을 구비한 점착 시트(1)와, 점착 시트(1)의 타방면(점착층(2)의 타방면)에 배치되는 피착체(4)를 구비하는 중간 적층체(6)가 얻어진다.Thereby, the pressure-
또한, 중간 적층체(6)에 있어서, 점착층(2)은, 상대적으로 파장 550nm에서의 가시광 투과율이 큰 고광투과율 부분(10)과, 상대적으로 파장 550nm에서의 가시광 투과율이 작은 저광투과율 부분(11)을 구비한다.Further, in the
그리고, 이 중간 적층체(6)에 있어서, 저광투과율 부분(11)의, 파장 550nm에서의 가시광 투과율은, 예를 들면, 20% 미만, 바람직하게는 10% 이하이며, 또한, 예를 들면, 0.01% 이상이고, 또한, 고광투과율 부분(10)의, 파장 550nm에서의 가시광 투과율은, 예를 들면, 80% 이상, 바람직하게는 90% 이상이다.And, in this
저광투과율 부분(11)의, 상기한 가시광 투과율이, 상기 상한 미만이면, 저광투과율 부분(11)에 광을 흡수하는 기능을 확실하게 부여할 수 있다.When the above-described visible light transmittance of the low
또한, 고광투과율 부분(10)의, 상기한 가시광 투과율이, 상기 하한 이상이면, 고광투과율 부분(10)은 투명성을 갖는다.In addition, when the above-described visible light transmittance of the high
제 1B 실시형태에 의하면, 상기한 중간 적층체(6)의 제조 방법의 효과를 나타냄과 함께, 준비 공정 후에, 조사 공정을 실시하고, 조사 공정 후에, 첩착 공정을 실시하기 때문에, 조사 공정(점착층(2)과 활성 광선 흡수층(3)의 첩합(貼合))에서 문제가 생긴 경우에는, 다음 공정(조사 공정)을 사전에 정지할 수 있고, 그 결과, 효율성이 향상된다.According to 1B Embodiment, while showing the effect of the manufacturing method of the said intermediate|middle
또한, 제 1B 실시형태에 의하면, 조사 공정에 있어서, 활성 광선 흡수층(3)의 표면측으로부터, 점착층(2)에 활성 광선(바람직하게는, 자외선)을 조사하기 때문에, 활성 광선 흡수층(3)에는, 광량이 큰 활성 광선(바람직하게는, 자외선)을 조사할 필요가 있고, 이에 의해 고조사 부분(20)의 투과율을 제어하기 쉬워진다.In addition, according to Embodiment 1B, in the irradiation step, since actinic light (preferably, ultraviolet) is irradiated to the
또한, 특히, 피착체(4)가, 제 2 피착체(31)이면, 제 2 피착체(31)의 표면측으로부터의 외광(활성 광선)에 의해, 비조사 부분(22)이 착색되는 것을 억제할 수 있다.In particular, if the
2-3-3. 제 2A 실시형태2-3-3. 2A embodiment
제 2A 실시형태에서는, 준비 공정 후에, 첩착 공정을 실시하고, 첩착 공정 후에, 조사 공정을 실시한다.In 2nd A embodiment, a sticking process is implemented after a preparatory process, and an irradiation process is implemented after a sticking process.
또한, 제 2A 실시형태에서는, 조사 공정에 있어서, 피착체(4)의 표면측으로부터, 점착층(2)에 활성 광선(바람직하게는, 자외선)을 조사한다.Further, in the second embodiment of the invention, in the irradiation step, the
제 2A 실시형태에서는, 피착체(4)가, 활성 광선(바람직하게는, 자외선)을 투과하는지, 또는 활성 광선(바람직하게는, 자외선)을 차단하는지에 따라(구체적으로는, 피착체(4)가 제 1 피착체(30)인지, 또는 제 2 피착체(31)인지에 따라), 중간 적층체(6)의 제조 방법이 정해진다.In the second A embodiment, depending on whether the
이하, 피착체(4)가 제 1 피착체(30)인 경우와, 피착체(4)가 제 2 피착체(31)인 경우로 나누어 설명한다.Hereinafter, the case where the
피착체(4)가 제 1 피착체(30)인 경우의 제 2A 실시형태를, 도 7을 참조해서 설명한다.Embodiment 2A in the case where the
준비 공정에서는, 도 7A에 나타내는 바와 같이, 상기한 제 1A 실시형태와 마찬가지로, 점착 시트(1)를 준비한다.In a preparation process, as shown to FIG. 7A, the
첩착 공정에서는, 도 7B에 나타내는 바와 같이, 상기한 제 1A 실시형태와 마찬가지로, 점착 시트(1)의 타방면(점착층(2)의 타방면)을, 제 1 피착체(30)에 첩부한다.In the sticking step, as shown in FIG. 7B , the other surface of the pressure-sensitive adhesive sheet 1 (the other surface of the pressure-sensitive adhesive layer 2 ) is attached to the first to-
조사 공정에서는, 도 7C에 나타내는 바와 같이, 점착층(2)에 활성 광선(바람직하게는, 자외선)을 조사하여, 점착층(2)에, 상대적으로 활성 광선(바람직하게는, 자외선)의 조사량이 높은 고조사 부분(20)과, 활성 광선(바람직하게는, 자외선)이 조사되지 않는 비조사 부분(22)을 형성한다.In the irradiation step, as shown in FIG. 7C , the
구체적으로는, 조사 공정에서는, 점착 시트(1)에 있어서, 고조사 부분(20)에는, 제 1 피착체(30)측으로부터 활성 광선(바람직하게는, 자외선)을 조사하고, 비조사 부분(22)에는, 활성 광선(바람직하게는, 자외선)을 조사하지 않는다.Specifically, in the irradiation step, in the pressure-
상세하게는, 제 1 피착체(30)의 타방면의 일부에, 활성 광선(바람직하게는, 자외선)을 차단하는 마스크(7)를 배치한 후, 점착층(2)에 활성 광선(바람직하게는, 자외선)을 조사한다.In detail, after disposing a
보다 상세하게는, 고조사 부분(20)(상세하게는, 고조사 부분(20)의 타방면에 배치되는 제 1 피착체(30)의 타방면)에는, 활성 광선(바람직하게는, 자외선)을 차단하는 마스크(7)를 배치하지 않고, 비조사 부분(22)(상세하게는, 비조사 부분(22)의 타방면에 배치되는 제 1 피착체(30)의 타방면)에, 활성 광선(바람직하게는, 자외선)을 차단하는 마스크(7)를 배치하고, 제 1 피착체(30)의 표면측으로부터 활성 광선(바람직하게는, 자외선)을 조사한다.More specifically, in the highly irradiated portion 20 (specifically, the other surface of the
이때, 제 1 피착체(30)는, 활성 광선(바람직하게는, 자외선)을 투과시키기 때문에, 고조사 부분(20)에만, 활성 광선(바람직하게는, 자외선)을 조사할 수 있다.At this time, since the
이에 의해, 상기한 제 1A 실시형태와 마찬가지로, 고조사 부분(20)(저광투과율 부분(11))과, 비조사 부분(22)(고광투과율 부분(10))을 형성할 수 있다.Thereby, the highly irradiated part 20 (low light transmittance part 11) and the non-irradiated part 22 (high light transmittance part 10) can be formed similarly to 1A Embodiment mentioned above.
이상에 의해, 도 7D에 나타내는 바와 같이, 점착층(2) 및 점착층(2)의 일방면에 배치되는 활성 광선 흡수층(3)을 구비한 점착 시트(1)와, 점착 시트(1)의 타방면(점착층(2)의 타방면)에 배치되는 피착체(4)(제 1 피착체(30))를 구비하는 중간 적층체(6)가 얻어진다.As described above, as shown in FIG. 7D , the pressure-
또한, 중간 적층체(6)에 있어서, 점착층(2)은, 상대적으로 파장 550nm에서의 가시광 투과율이 큰 고광투과율 부분(10)과, 상대적으로 파장 550nm에서의 가시광 투과율이 작은 저광투과율 부분(11)을 구비한다.Further, in the
그리고, 이 중간 적층체(6)에 있어서, 저광투과율 부분(11)의, 파장 550nm에서의 가시광 투과율은, 예를 들면, 20% 미만, 바람직하게는 10% 이하이며, 또한, 예를 들면, 0.01% 이상이고, 또한, 고광투과율 부분(10)의, 파장 550nm에서의 가시광 투과율은, 예를 들면, 80% 이상, 바람직하게는 90% 이상이다.And, in this
저광투과율 부분(11)의, 상기한 가시광 투과율이, 상기 상한 미만이면, 저광투과율 부분(11)에 광을 흡수하는 기능을 확실하게 부여할 수 있다.When the above-described visible light transmittance of the low
또한, 고광투과율 부분(10)의, 상기한 가시광 투과율이, 상기 하한 이상이면, 고광투과율 부분(10)은 투명성을 갖는다.In addition, when the above-described visible light transmittance of the high
제 2A 실시형태(피착체(4)가 제 1 피착체(30)인 경우)에 의하면, 상기한 중간 적층체(6)의 제조 방법의 효과를 나타냄과 함께, 준비 공정 후에, 첩착 공정을 실시하고, 첩착 공정 후에, 조사 공정을 실시하기 때문에, 첩착 공정 시에, 이물이나 기포를 확인할 수 있다.According to 2nd A Embodiment (when the to-
또한, 제 2A 실시형태(피착체(4)가 제 1 피착체(30)인 경우)에 의하면, 조사 공정에 있어서, 피착체(4)(제 1 피착체(30))의 표면측으로부터, 점착층(2)에 활성 광선(바람직하게는, 자외선)을 조사하기 때문에, 착색하고 싶은 개소의 위치 맞춤의 정밀도가 향상된다.Further, according to the second embodiment (when the
또한, 제 2A 실시형태(피착체(4)가 제 1 피착체(30)인 경우)에 의하면, 제 1 피착체(4)를 이용하고 있기 때문에, 피착체(4)(제 1 피착체(30))의 표면측으로부터, 점착층(2)에 활성 광선(바람직하게는, 자외선)을 확실하게 조사할 수 있다.Further, according to the second embodiment (when the
다음으로, 피착체(4)가 제 2 피착체(31)인 경우의 제 2B 실시형태를, 도 8을 참조해서 설명한다.Next, Embodiment 2B in the case where the to-
준비 공정에서는, 도 8A에 나타내는 바와 같이, 상기한 제 1A 실시형태와 마찬가지로, 점착 시트(1)를 준비한다.In a preparatory process, as shown to FIG. 8A, the
첩착 공정에서는, 도 8B에 나타내는 바와 같이, 점착 시트(1)의 타방면의 일부(점착층(2)의 타방면의 일부)에, 제 2 피착체(31)를 배치한다.In a sticking process, the 2nd to-
구체적으로는, 점착 시트(1)로부터, 박리 필름(5)을 박리하고, 점착 시트(1)의 타방면의 일부(점착층(2)의 타방면의 일부)에, 제 2 피착체(31)를 배치한다.Specifically, the
한편, 이하의 설명에서는, 도 8B에 나타내는 바와 같이, 점착 시트(1)를 면 방향으로 3분할한 것 중 중앙분의 1개소에, 제 2 피착체(31)를 배치하는 경우에 대하여 설명한다.On the other hand, in the following description, as shown in FIG. 8B, the case where the 2nd to-
조사 공정에서는, 도 8C에 나타내는 바와 같이, 점착층(2)에 활성 광선(바람직하게는, 자외선)을 조사하여, 점착층(2)에, 상대적으로 활성 광선(바람직하게는, 자외선)의 조사량이 높은 고조사 부분(20)과, 활성 광선(바람직하게는, 자외선)이 조사되지 않는 비조사 부분(22)을 형성한다.In the irradiation step, as shown in FIG. 8C , the
구체적으로는, 조사 공정에서는, 점착 시트(1)에 있어서, 고조사 부분(20)에는, 제 2 피착체(31)의 표면측으로부터 활성 광선(바람직하게는, 자외선)을 조사하고, 비조사 부분(22)에는, 활성 광선(바람직하게는, 자외선)을 조사하지 않는다.Specifically, in the irradiation step, in the pressure-
상세하게는, 상기한 제 1A 실시형태, 제 1B 실시형태 및 제 2A 실시형태(피착체(4)가 제 1 피착체(30)인 경우)와 달리, 활성 광선(바람직하게는, 자외선)을 차단하는 마스크(7)를 이용하지 않고, 그대로 제 2 피착체(31)의 표면측으로부터 활성 광선(바람직하게는, 자외선)을 조사한다.Specifically, unlike the above-described first embodiment 1A, embodiment 1B, and embodiment 2A (when the
이때, 제 2 피착체(31)는, 활성 광선(바람직하게는, 자외선)을 차단하기 때문에, 제 2 피착체(31)가, 활성 광선(바람직하게는, 자외선)을 차단하는 마스크(7)를 대체할 수 있고, 제 2 피착체(31)를 배치한 비조사 부분(22)에, 활성 광선(바람직하게는, 자외선)이 조사되는 것을 방지할 수 있는 한편, 제 2 피착체(31)를 배치하지 않는 고조사 부분(20)에만, 활성 광선(바람직하게는, 자외선)을 조사할 수 있다.At this time, since the
이에 의해, 상기한 제 1A 실시형태와 마찬가지로, 고조사 부분(20)(저광투과율 부분(11))과, 비조사 부분(22)(고광투과율 부분(10))을 형성할 수 있다.Thereby, the highly irradiated part 20 (low light transmittance part 11) and the non-irradiated part 22 (high light transmittance part 10) can be formed similarly to 1A Embodiment mentioned above.
이상에 의해, 도 8D에 나타내는 바와 같이, 점착층(2) 및 점착층(2)의 일방면에 배치되는 활성 광선 흡수층(3)을 구비한 점착 시트(1)와, 점착 시트(1)의 타방면(점착층(2)의 타방면)에 배치되는 피착체(4)(제 2 피착체(31))를 구비하는 중간 적층체(6)가 얻어진다.By the above, as shown in FIG. 8D, the
또한, 중간 적층체(6)에 있어서, 점착층(2)은, 상대적으로 파장 550nm에서의 가시광 투과율이 큰 고광투과율 부분(10)과, 상대적으로 파장 550nm에서의 가시광 투과율이 작은 저광투과율 부분(11)을 구비한다.Further, in the
그리고, 이 중간 적층체(6)에 있어서, 저광투과율 부분(11)의, 파장 550nm에서의 가시광 투과율은, 예를 들면, 20% 미만, 바람직하게는 10% 이하이며, 또한, 예를 들면, 0.01% 이상이고, 또한, 고광투과율 부분(10)의, 파장 550nm에서의 가시광 투과율은, 예를 들면, 80% 이상, 바람직하게는 90% 이상이다.And, in this
저광투과율 부분(11)의, 상기한 가시광 투과율이, 상기 상한 미만이면, 저광투과율 부분(11)에 광을 흡수하는 기능을 확실하게 부여할 수 있다.When the above-described visible light transmittance of the low
또한, 고광투과율 부분(10)의, 상기한 가시광 투과율이, 상기 하한 이상이면, 고광투과율 부분(10)은 투명성을 갖는다.In addition, when the above-described visible light transmittance of the high
제 2A 실시형태(피착체(4)가 제 2 피착체(31)인 경우)에 의하면, 상기한 중간 적층체(6)의 제조 방법의 효과를 나타냄과 함께, 준비 공정 후에, 첩착 공정을 실시하고, 첩착 공정 후에, 조사 공정을 실시하기 때문에, 첩착 공정 시에, 이물이나 기포를 확인할 수 있다.According to the 2nd A embodiment (when the to-
또한, 제 2A 실시형태(피착체(4)가 제 2 피착체(31)인 경우)에 의하면, 조사 공정에 있어서, 피착체(4)(제 2 피착체(31))의 표면측으로부터, 점착층(2)에 활성 광선(바람직하게는, 자외선)을 조사하기 때문에, 착색하고 싶은 개소의 위치 맞춤의 정밀도가 향상된다.Further, according to the second A embodiment (when the
또한, 제 2A 실시형태(피착체(4)가 제 2 피착체(31)인 경우)에 의하면, 제 2 피착체(4)가 배치된 부분(비조사 부분(22))을, 확실하게 활성 광선(바람직하게는, 자외선)으로부터 차단할 수 있다.Further, according to the second embodiment (when the
2-3-4. 제 2B 실시형태2-3-4. 2B embodiment
제 2B 실시형태에서는, 준비 공정 후에, 첩착 공정을 실시하고, 첩착 공정 후에, 조사 공정을 실시한다.In 2nd B Embodiment, a sticking process is implemented after a preparatory process, and an irradiation process is implemented after a sticking process.
또한, 제 2B 실시형태에서는, 조사 공정에 있어서, 활성 광선 흡수층(3)측으로부터, 점착층(2)에 활성 광선(바람직하게는, 자외선)을 조사한다.Moreover, in 2nd B Embodiment, in an irradiation process, actinic light (preferably, ultraviolet-ray) is irradiated to the
구체적으로는, 제 1B 실시형태와 마찬가지로, 조사 공정에 있어서, 활성 광선 흡수층(3)의 표면측으로부터, 활성 광선 흡수층(3)에, 활성 광선 흡수층(3)의 흡수량을 초과하는 광량의 활성 광선(바람직하게는, 자외선)을 조사함으로써, 점착층(2)을 변색시킨다.Specifically, as in the first embodiment, in the irradiation step, from the surface side of the actinic
제 2B 실시형태를, 도 9를 참조해서 설명한다.Embodiment 2B will be described with reference to FIG. 9 .
준비 공정에서는, 도 9A에 나타내는 바와 같이, 상기한 제 1A 실시형태와 마찬가지로, 점착 시트(1)를 준비한다.In a preparation process, as shown to FIG. 9A, the
첩착 공정에서는, 도 9B에 나타내는 바와 같이, 상기한 제 1A 실시형태와 마찬가지로, 점착 시트(1)의 타방면(점착층(2)의 타방면)을, 피착체(4)에 첩부한다.In the sticking step, as shown in FIG. 9B , the other surface of the pressure-sensitive adhesive sheet 1 (the other surface of the pressure-sensitive adhesive layer 2 ) is attached to the
조사 공정에서는, 도 9C에 나타내는 바와 같이, 점착층(2)에 활성 광선(바람직하게는, 자외선)을 조사하여, 점착층(2)에, 상대적으로 활성 광선(바람직하게는, 자외선)의 조사량이 높은 고조사 부분(20)과, 활성 광선(바람직하게는, 자외선)이 조사되지 않는 비조사 부분(22)을 형성한다.In the irradiation step, as shown in Fig. 9C , the
구체적으로는, 조사 공정에서는, 점착 시트(1)에 있어서, 고조사 부분(20)에는, 활성 광선 흡수층(3)의 표면측으로부터 활성 광선(바람직하게는, 자외선)(활성 광선 흡수층(3)의 흡수량을 초과하는 광량의 활성 광선(바람직하게는, 자외선))을 조사하고, 비조사 부분(22)에는, 활성 광선(바람직하게는, 자외선)을 조사하지 않는다.Specifically, in the irradiation step, in the pressure-
상세하게는, 고조사 부분(20)(상세하게는, 고조사 부분(20)의 일방면에 배치되는 활성 광선 흡수층(3)의 일방면)에는, 활성 광선(바람직하게는, 자외선)을 차단하는 마스크(7)를 배치하지 않고, 비조사 부분(22)(상세하게는, 비조사 부분(22)의 일방면에 배치되는 활성 광선 흡수층(3)의 일방면)에, 활성 광선(바람직하게는, 자외선)을 차단하는 마스크(7)를 배치하고, 활성 광선 흡수층(3)의 표면측으로부터 활성 광선(바람직하게는, 자외선)을 조사한다.Specifically, the highly irradiated portion 20 (specifically, one side of the active light
이에 의해, 고조사 부분(20)에만 활성 광선(바람직하게는, 자외선)을 조사할 수 있어, 상기한 제 1A 실시형태와 마찬가지로, 고조사 부분(20)(저광투과율 부분(11))과, 비조사 부분(22)(고광투과율 부분(10))을 형성할 수 있다.Thereby, only the highly
이상에 의해, 도 9D에 나타내는 바와 같이, 점착층(2) 및 점착층(2)의 일방면에 배치되는 활성 광선 흡수층(3)을 구비한 점착 시트(1)와, 점착 시트(1)의 타방면(점착층(2)의 타방면)에 배치되는 피착체(4)를 구비하는 중간 적층체(6)가 얻어진다.As described above, as shown in Fig. 9D, the pressure-
또한, 중간 적층체(6)에 있어서, 점착층(2)은, 상대적으로 파장 550nm에서의 가시광 투과율이 큰 고광투과율 부분(10)과, 상대적으로 파장 550nm에서의 가시광 투과율이 작은 저광투과율 부분(11)을 구비한다.Further, in the
그리고, 이 중간 적층체(6)에 있어서, 저광투과율 부분(11)의, 파장 550nm에서의 가시광 투과율은, 예를 들면, 20% 미만, 바람직하게는 10% 이하이며, 또한, 예를 들면, 0.01% 이상이고, 또한, 고광투과율 부분(10)의, 파장 550nm에서의 가시광 투과율은, 예를 들면, 80% 이상, 바람직하게는 90% 이상이다.And, in this
저광투과율 부분(11)의, 상기한 가시광 투과율이, 상기 상한 미만이면, 저광투과율 부분(11)에 광을 흡수하는 기능을 확실하게 부여할 수 있다.When the above-described visible light transmittance of the low
또한, 고광투과율 부분(10)의, 상기한 가시광 투과율이, 상기 하한 이상이면, 고광투과율 부분(10)은 투명성을 갖는다.In addition, when the above-described visible light transmittance of the high
제 2B 실시형태에 의하면, 상기한 중간 적층체(6)의 제조 방법의 효과를 나타냄과 함께, 준비 공정 후에, 첩착 공정을 실시하고, 첩착 공정 후에, 조사 공정을 실시하기 때문에, 첩착 공정 시에, 이물이나 기포를 확인할 수 있다.According to 2nd B Embodiment, while showing the effect of the manufacturing method of the said intermediate|middle
또한, 제 2B 실시형태에 의하면, 조사 공정에 있어서, 활성 광선 흡수층(3)의 표면측으로부터, 점착층(2)에 활성 광선(바람직하게는, 자외선)을 조사하기 때문에, 활성 광선 흡수층(3)에는, 광량이 큰 활성 광선(바람직하게는, 자외선)을 조사할 필요가 있고, 이에 의해 고조사 부분(20)의 투과율을 제어하기 쉬워진다.Further, according to the second embodiment of the invention, in the irradiation step, the
또한, 특히, 피착체(4)가, 제 2 피착체(31)이면, 제 2 피착체(31)의 표면측으로부터의 외광(활성 광선)에 의해, 비조사 부분(22)이 착색되는 것을 억제할 수 있다.In particular, if the
2-3-5. 변형예2-3-5. Variant
상기한 설명에서는, 비조사/저조사 부분(21)이, 비조사 부분(22)인 경우에 대하여 설명했지만, 이하의 설명에서는, 비조사/저조사 부분(21)이, 저조사 부분(23)이 될 수도 있다.In the above description, the case where the non-irradiation/low irradiation part 21 is the
비조사/저조사 부분(21)이, 저조사 부분(23)인 경우에는, 조사 공정은, 활성 광선(바람직하게는, 자외선)을 차단하는 제 1 마스크(8)를 배치한 후, 점착층(2)에 활성 광선(바람직하게는, 자외선)을 조사하는 것에 의해, 점착층(2)에, 활성 광선(바람직하게는, 자외선)이 조사된 제 1 조사 부분(40)과, 활성 광선(바람직하게는, 자외선)이 조사되어 있지 않은 가비조사 부분(41)을 형성하는 제 1 조사 공정과, 제 1 조사 부분(40)에, 활성 광선(바람직하게는, 자외선)을 차단하는 제 2 마스크(9)를 배치한 후, 점착층(2)에 있어서의 가비조사 부분(41)에 활성 광선(바람직하게는, 자외선)을 조사하는 것에 의해, 가비조사 부분(41)을, 제 2 조사 부분(42)으로 하는 제 2 조사 공정을 구비한다.When the non-irradiated/low-irradiated portion 21 is the low-irradiated portion 23 , the irradiation step is performed after disposing the
그리고, 상세하게는 후술하지만, 제 1 조사 공정에 있어서의 활성 광선(바람직하게는, 자외선)의 조사량과, 제 2 조사 공정에 있어서의 활성 광선(바람직하게는, 자외선)의 조사량이 상이하기 때문에, 제 1 조사 부분(40) 및 제 2 조사 부분(42) 중 어느 한쪽이 고조사 부분(20)이 되고, 다른 쪽이 저조사 부분(23)이 된다.In addition, although mentioned later in detail, since the irradiation amount of actinic light (preferably, an ultraviolet-ray) in a 1st irradiation process differs from the irradiation amount of actinic light (preferably, an ultraviolet-ray) in a 2nd irradiation process, , one of the first
이하의 설명에서는, 제 1A 실시형태에 있어서, 비조사/저조사 부분(21)이, 저조사 부분(23)인 경우(이하, 제 1A 실시형태의 제 1 변형예로 한다.)를, 도 10을 참조해서, 설명한다.In the following description, in Embodiment 1A, the case where the non-irradiation/low irradiation portion 21 is the low-irradiation portion 23 (hereinafter, referred to as a first modification of Embodiment 1A) is shown in Fig. With reference to 10, it demonstrates.
준비 공정에서는, 도 10A에 나타내는 바와 같이, 상기한 제 1A 실시형태와 마찬가지로, 점착 시트(1)를 준비한다.In a preparation process, as shown to FIG. 10A, the
조사 공정에서는, 점착층(2)에 활성 광선(바람직하게는, 자외선)을 조사하여, 점착층(2)에, 상대적으로 활성 광선(바람직하게는, 자외선)의 조사량이 높은 고조사 부분(20)과, 상대적으로 활성 광선(바람직하게는, 자외선)의 조사량이 낮은 저조사 부분(23)을 형성한다.In the irradiation step, the
구체적으로는, 조사 공정에 있어서의 제 1 조사 공정에 있어서, 제 1 조사 부분(40)과, 가비조사 부분(41)을 형성하고, 조사 공정에 있어서의 제 2 조사 공정에 있어서, 가비조사 부분(41)을, 제 2 조사 부분(42)으로 한다.Specifically, in the first irradiation step in the irradiation step, the
제 1 조사 공정에서는, 도 10B에 나타내는 바와 같이, 제 1 조사 부분(40)에는, 박리 필름(5)의 표면측(점착층(2)의 표면측)으로부터 활성 광선(바람직하게는, 자외선)을 조사하고, 가비조사 부분(41)에는, 활성 광선(바람직하게는, 자외선)을 조사하지 않는다.In a 1st irradiation process, as shown to FIG. 10B, in the
한편, 이하의 설명에서는, 점착 시트(1)를 면 방향으로 3분할한 것 중 양단 부분의 2개소를 제 1 조사 부분(40)(환언하면, 점착 시트(1)를 면 방향으로 3분할한 것 중 중앙분의 1개소만이 가비조사 부분(41))으로 해서, 설명한다.On the other hand, in the following description, the first irradiation portion 40 (in other words, the pressure-
보다 상세하게는, 제 1 조사 부분(40)(상세하게는, 제 1 조사 부분(40)의 타방면에 배치되는 박리 필름(5)의 타방면)에는, 활성 광선(바람직하게는, 자외선)을 차단하는 제 1 마스크(8)를 배치하지 않고, 가비조사 부분(41)(상세하게는, 가비조사 부분(41)의 타방면에 배치되는 박리 필름(5)의 타방면)에, 활성 광선(바람직하게는, 자외선)을 차단하는 제 1 마스크(8)를 배치하고, 점착층(2)의 표면측으로부터 활성 광선(바람직하게는, 자외선)을 조사한다.More specifically, the first irradiated portion 40 (specifically, the other side of the
이에 의해, 제 1 조사 부분(40)에만, 활성 광선(바람직하게는, 자외선)을 조사할 수 있다.Thereby, only the
그리고, 제 1 조사 부분(40)에 있어서의 점착층(2)에서는, 광산 발생제로부터 산이 발생하고, 그 산에 의해, 산에 의해 착색되는 화합물이 착색(구체적으로는, 흑색)된다. 그 결과, 제 1 조사 부분(40)에 있어서의 점착층(2)이, 무색(투명)으로부터 유색으로 변화한다(파장 550nm에서의 가시광 투과율이 낮아진다.).And in the
이어서, 제 2 조사 공정에서는, 가비조사 부분(41)을, 제 2 조사 부분(42)으로 한다.Next, in a 2nd irradiation process, let the
상세하게는, 제 2 조사 공정에서는, 가비조사 부분(41)에는, 점착층(2)의 표면측으로부터 제 1 조사 공정과는 상이한 광량의 활성 광선(바람직하게는, 자외선)을 조사하는 한편, 제 1 조사 부분(40)에는, 활성 광선(바람직하게는, 자외선)을 조사하지 않는다.Specifically, in the second irradiation step, the provisionally irradiated
보다 상세하게는, 가비조사 부분(41)(상세하게는, 가비조사 부분(41)의 타방면에 배치되는 박리 필름(5)의 타방면)에는, 활성 광선(바람직하게는, 자외선)을 차단하는 제 2 마스크(9)를 배치하지 않고, 제 1 조사 부분(40)(상세하게는, 제 1 조사 부분(40)의 타방면에 배치되는 박리 필름(5)의 타방면)에, 활성 광선(바람직하게는, 자외선)을 차단하는 제 2 마스크(9)를 배치하고, 점착층(2)의 표면측으로부터 활성 광선(바람직하게는, 자외선)을 조사한다.More specifically, in the provisionally irradiated portion 41 (specifically, the other side of the
이에 의해, 가비조사 부분(41)에만, 활성 광선(바람직하게는, 자외선)을 조사할 수 있고, 가비조사 부분(41)은, 제 2 조사 부분(42)이 된다.Thereby, only the provisionally irradiated
그리고, 제 2 조사 부분(42)에 있어서의 점착층(2)에서는, 광산 발생제로부터 산이 발생하고, 그 산에 의해, 산에 의해 착색되는 화합물이 착색(구체적으로는, 흑색)된다. 그 결과, 제 2 조사 부분(42)에 있어서의 점착층(2)이, 무색(투명)으로부터 유색으로 변화한다(파장 550nm에서의 가시광 투과율이 낮아진다.).And in the
이에 의해, 점착층(2)에, 제 1 조사 부분(40) 및 제 2 조사 부분(42)이 형성된다.Thereby, the
그리고, 상기한 바와 같이, 제 2 조사 공정에서는, 제 1 조사 공정과는 상이한 광량의 활성 광선(바람직하게는, 자외선)을 조사한다.And as mentioned above, in a 2nd irradiation process, the actinic light (preferably ultraviolet-ray) of the amount of light different from the 1st irradiation process is irradiated.
즉, 제 1 조사 부분(40) 및 제 2 조사 부분(42)의 활성 광선(바람직하게는, 자외선)의 조사량이 서로 상이하다.That is, the irradiation amounts of the actinic rays (preferably, ultraviolet rays) of the first
그 때문에, 제 1 조사 부분(40) 및 제 2 조사 부분(42) 중 어느 한쪽이 상대적으로 활성 광선(바람직하게는, 자외선)의 조사량이 높은 고조사 부분(20)(환언하면, 상대적으로 파장 550nm에서의 가시광 투과율이 낮은 저광투과율 부분(11))이 되고, 다른 쪽이 상대적으로 활성 광선(바람직하게는, 자외선)의 조사량이 낮은 저조사 부분(23)(환언하면, 상대적으로 파장 550nm에서의 가시광 투과율이 높은 고광투과율 부분(10))이 된다.Therefore, either one of the first
한편, 도 10에서는, 제 1 조사 부분(40)이 고조사 부분(20)(저광투과율 부분(11))이고, 제 2 조사 부분(42)이 저조사 부분(21)(고광투과율 부분(10))인 것으로 해서, 설명한다.On the other hand, in Fig. 10, the first
상세하게는, 고조사 부분(20)의, 파장 550nm에서의 가시광 투과율은, 예를 들면, 20% 미만, 바람직하게는 10% 이하, 또한, 예를 들면, 0.01% 이상이고, 또한, 저조사 부분(23)의, 파장 550nm에서의 가시광 투과율은, 예를 들면, 20% 이상, 바람직하게는 40% 이상이고, 또한, 예를 들면, 70% 이하이다.Specifically, the visible light transmittance at a wavelength of 550 nm of the highly
그리고, 첩착 공정에서는, 도 10D에 나타내는 바와 같이, 상기한 제 1A 실시형태와 마찬가지로, 점착 시트(1)의 타방면(점착층(2)의 타방면)을, 피착체(4)에 첩부한다.And in the sticking process, as shown in FIG. 10D, the other surface of the adhesive sheet 1 (the other surface of the adhesive layer 2) is stuck to the to-
이에 의해, 점착층(2) 및 점착층(2)의 일방면에 배치되는 활성 광선 흡수층(3)을 구비한 점착 시트(1)와, 점착 시트(1)의 타방면(점착층(2)의 타방면)에 배치되는 피착체(4)를 구비하는 중간 적층체(6)가 얻어진다.Thereby, the pressure-
또한, 중간 적층체(6)에 있어서, 점착층(2)은, 상대적으로 파장 550nm에서의 가시광 투과율이 큰 고광투과율 부분(10)과, 상대적으로 파장 550nm에서의 가시광 투과율이 작은 저광투과율 부분(11)을 구비한다.Further, in the
그리고, 이 중간 적층체(6)에 있어서, 저광투과율 부분(11)의, 파장 550nm에서의 가시광 투과율은, 예를 들면, 20% 미만, 바람직하게는 10% 이하, 또한, 예를 들면, 0.01% 이상이고, 또한, 고광투과율 부분(10)의, 파장 550nm에서의 가시광 투과율은, 예를 들면, 20% 이상, 바람직하게는 40% 이상이고, 또한, 예를 들면, 70% 이하이다.And, in this
저광투과율 부분(11)의, 상기한 가시광 투과율이 상기 범위 내이고, 고광투과율 부분(10)의, 상기한 가시광 투과율이 상기 범위 내이면, 광투과율 부분(11) 및 고광투과율 부분(10)의 색감을 확실하게 바꿀 수 있다.When the above-described visible light transmittance of the low
제 1A 실시형태의 제 1 변형예에 의하면, 상기한 중간 적층체(6)의 제조 방법의 효과를 나타냄과 함께, 제 1 조사 공정 및 제 2 조사 공정에 의해, 고조사 부분(20)(저광투과율 부분(11))과 저조사 부분(23)(고광투과율 부분(10))을 형성하기 때문에, 색감이 상이한 영역을 갖는 점착층(2)을 구비하는 중간 적층체(6)를 제조할 수 있다.According to the 1st modified example of 1A Embodiment, while showing the effect of the manufacturing method of the above-mentioned intermediate|middle
또한, 특히, 피착체(4)가 제 2 피착체(31)이면, 제 2 피착체(31)의 표면측으로부터의 외광(활성 광선)에 의해, 저조사 부분(23)이 착색되는 것을 억제할 수 있다.In particular, when the
또한, 비조사/저조사 부분(21)이 저조사 부분(23)인 경우에는, 조사 공정은, 점착층(2)의 전부에 활성 광선(바람직하게는, 자외선)을 조사하는 것에 의해, 점착층(2)의 전부를, 활성 광선(바람직하게는, 자외선)이 조사된 제 3 조사 부분(43)으로 하는 제 3 조사 공정과, 제 3 조사 부분(43)의 일부(45)에, 활성 광선(바람직하게는, 자외선)을 차단하는 마스크(7)를 배치한 후, 제 3 조사 부분의 잔부(46)에 활성 광선(바람직하게는, 자외선)을 조사하는 것에 의해, 제 3 조사 부분(43)의 잔부(46)를, 제 4 조사 부분(44)으로 하는 제 4 조사 공정을 구비한다.In addition, when the non-irradiated/low-irradiation part 21 is the low-irradiation part 23, an irradiation process irradiates actinic light (preferably, ultraviolet-ray) to all of the
이하의 설명에서는, 제 1A 실시형태에 있어서, 비조사/저조사 부분(21)이 저조사 부분(23)인 경우(이하, 제 1A 실시형태의 제 2 변형예로 한다.)를, 도 11을 참조해서, 설명한다.In the following description, in the 1A embodiment, the case where the non-irradiated/low irradiated portion 21 is the low irradiated portion 23 (hereinafter referred to as a second modified example of the 1A embodiment) is shown in Fig. 11 . It will be described with reference to .
준비 공정에서는, 도 11A에 나타내는 바와 같이, 상기한 제 1A 실시형태와 마찬가지로, 점착 시트(1)를 준비한다.In a preparation process, as shown to FIG. 11A, the
조사 공정에서는, 점착층(2)에 활성 광선(바람직하게는, 자외선)을 조사하여, 점착층(2)에, 상대적으로 활성 광선(바람직하게는, 자외선)의 조사량이 높은 고조사 부분(20)과, 상대적으로 활성 광선(바람직하게는, 자외선)의 조사량이 낮은 저조사 부분(23)을 형성한다.In the irradiation step, the
구체적으로는, 조사 공정에 있어서의 제 3 조사 공정에 있어서, 제 3 조사 부분(43)을 형성하고, 조사 공정에 있어서의 제 4 조사 공정에 있어서, 제 3 조사 부분(43)의 잔부(46)(후술)를, 제 4 조사 부분(44)으로 한다.Specifically, in the third irradiation step in the irradiation step, the
제 3 조사 공정에서는, 도 11B에 나타내는 바와 같이, 점착층(2)의 전부에, 박리 필름(5)의 표면측(점착층(2)의 표면측)으로부터 활성 광선(바람직하게는, 자외선)을 조사한다.In the 3rd irradiation process, as shown in FIG. 11B, actinic light (preferably ultraviolet rays) from the surface side of the peeling film 5 (the surface side of the adhesive layer 2) to all of the
이에 의해, 점착층(2)의 전부가, 제 3 조사 부분(43)이 된다.Thereby, the whole of the
또한, 점착층(2)(제 3 조사 부분(43))에서는, 광산 발생제로부터 산이 발생하고, 그 산에 의해, 산에 의해 착색되는 화합물이 착색(구체적으로는, 흑색)된다. 그 결과, 점착층(2)의 전부(제 3 조사 부분(43))가, 무색(투명)으로부터 유색으로 변화한다(파장 550nm에서의 가시광 투과율이 낮아진다.).Moreover, in the adhesion layer 2 (3rd irradiation part 43), an acid generate|occur|produces from a photo-acid generator, and the compound colored with an acid is colored (specifically, black) by the acid. As a result, all of the adhesive layer 2 (the third irradiated portion 43) changes from colorless (transparent) to colored (visible light transmittance at a wavelength of 550 nm becomes low).
이어서, 제 4 조사 공정에서는, 도 11C에 나타내는 바와 같이, 제 3 조사 부분(43)의 일부(45)에, 활성 광선(바람직하게는, 자외선)을 차단하는 마스크(7)를 배치한 후, 제 3 조사 부분의 잔부(46)에 활성 광선(바람직하게는, 자외선)을 조사하는 것에 의해, 제 3 조사 부분(43)의 잔부(46)를, 제 4 조사 부분(44)으로 한다.Next, in the fourth irradiation step, as shown in Fig. 11C, a
한편, 이하의 설명에서는, 점착 시트(1)를 면 방향으로 3분할한 것 중 양단 부분의 2개소를 제 3 조사 부분(43)의 잔부(46)(환언하면, 점착 시트(1)를 면 방향으로 3분할한 것 중 중앙분의 1개소만이 제 3 조사 부분(43)의 일부(45))로 해서, 설명한다.On the other hand, in the following description, the remainder 46 of the third irradiated portion 43 (in other words, the pressure-
상세하게는, 제 4 조사 공정에서는, 제 3 조사 부분(43)의 잔부(46)에는, 점착층(2)의 표면측으로부터 활성 광선(바람직하게는, 자외선)을 조사하는 한편, 제 3 조사 부분(43)의 잔부에는, 활성 광선(바람직하게는, 자외선)을 조사하지 않는다.Specifically, in the fourth irradiation step, the remaining portion 46 of the
보다 상세하게는, 제 3 조사 부분(43)의 잔부(46)(상세하게는, 제 3 조사 부분(43)의 잔부(46)의 타방면에 배치되는 박리 필름(5)의 타방면)에는, 활성 광선(바람직하게는, 자외선)을 차단하는 마스크(7)를 배치하지 않고, 제 3 조사 부분(43)의 일부(45)(상세하게는, 제 3 조사 부분(43)의 일부(45)의 타방면에 배치되는 박리 필름(5)의 타방면)에, 활성 광선(바람직하게는, 자외선)을 차단하는 마스크(7)를 배치하고, 점착층(2)의 표면측으로부터 활성 광선(바람직하게는, 자외선)을 조사한다.More specifically, the remaining portion 46 of the third irradiated portion 43 (specifically, the other side of the
이에 의해, 제 3 조사 부분(43)의 잔부(46)에만, 활성 광선(바람직하게는, 자외선)을 조사할 수 있고, 제 3 조사 부분(43)의 잔부(46)는, 제 4 조사 부분(44)이 된다.Thereby, only the remaining part 46 of the
그리고, 제 4 조사 부분(44)에 있어서의 점착층(2)에서는, 광산 발생제로부터 산이 발생하고, 그 산에 의해, 산에 의해 착색되는 화합물이 착색(구체적으로는, 흑색)된다. 그 결과, 제 4 조사 부분(44)에 있어서의 점착층(2)이, 무색(투명)으로부터 유색으로 변화한다(파장 550nm에서의 가시광 투과율이 낮아진다.).And in the
이에 의해, 제 4 조사 부분(44)은, 제 3 조사 부분(43)보다도, 파장 550nm에서의 가시광 투과율이 낮아진다.As a result, the fourth
즉, 제 3 조사 부분(43)이, 상대적으로 활성 광선(바람직하게는, 자외선)의 조사량이 낮은 저조사 부분(23)(환언하면, 상대적으로 파장 550nm에서의 가시광 투과율이 높은 고광투과율 부분(10))이 되고, 제 4 조사 부분(44)이, 상대적으로 활성 광선(바람직하게는, 자외선)의 조사량이 높은 고조사 부분(20)(환언하면, 상대적으로 파장 550nm에서의 가시광 투과율이 낮은 저광투과율 부분(11))이 된다.That is, the third
상세하게는, 고조사 부분(20)의, 파장 550nm에서의 가시광 투과율은, 예를 들면, 20% 미만, 바람직하게는 10% 이하, 또한, 예를 들면, 0.01% 이상이고, 또한, 저조사 부분(23)의, 파장 550nm에서의 가시광 투과율은, 예를 들면, 20% 이상, 바람직하게는 40% 이상이고, 또한, 예를 들면, 70% 이하이다.Specifically, the visible light transmittance at a wavelength of 550 nm of the highly
그리고, 첩착 공정에서는, 도 11D에 나타내는 바와 같이, 상기한 제 1A 실시형태와 마찬가지로, 점착 시트(1)의 타방면(점착층(2)의 타방면)을, 피착체(4)에 첩부한다.And in the sticking step, as shown in FIG. 11D , the other side of the pressure-sensitive adhesive sheet 1 (the other side of the pressure-sensitive adhesive layer 2 ) is attached to the
이에 의해, 점착층(2) 및 점착층(2)의 일방면에 배치되는 활성 광선 흡수층(3)을 구비한 점착 시트(1)와, 점착 시트(1)의 타방면(점착층(2)의 타방면)에 배치되는 피착체(4)를 구비하는 중간 적층체(6)가 얻어진다.Thereby, the pressure-
또한, 중간 적층체(6)에 있어서, 점착층(2)은, 상대적으로 파장 550nm에서의 가시광 투과율이 큰 고광투과율 부분(10)과, 상대적으로 파장 550nm에서의 가시광 투과율이 작은 저광투과율 부분(11)을 구비한다.Further, in the
그리고, 이 중간 적층체(6)에 있어서, 저광투과율 부분(11)의, 파장 550nm에서의 가시광 투과율은, 예를 들면, 20% 미만, 바람직하게는 10% 이하, 또한, 예를 들면, 0.01% 이상이고, 또한, 고광투과율 부분(10)의, 파장 550nm에서의 가시광 투과율은, 예를 들면, 20% 이상, 바람직하게는 40% 이상이고, 또한, 예를 들면, 70% 이하이다.And, in this
저광투과율 부분(11)의, 상기한 가시광 투과율이 상기 범위 내이고, 고광투과율 부분(10)의, 상기한 가시광 투과율이 상기 범위 내이면, 광투과율 부분(11) 및 고광투과율 부분(10)의 색감을 확실하게 바꿀 수 있다.When the above-described visible light transmittance of the low
제 1A 실시형태의 제 2 변형예에 의하면, 상기한 중간 적층체(6)의 제조 방법의 효과를 나타냄과 함께, 제 3 조사 공정 및 제 4 조사 공정에 의해, 고조사 부분(20)(저광투과율 부분(11))과 저조사 부분(23)(고광투과율 부분(10))을 형성하기 때문에, 색감이 상이한 영역을 갖는 점착층(2)을 구비하는 중간 적층체(6)를 제조할 수 있다.According to the 2nd modification of 1A Embodiment, while showing the effect of the manufacturing method of the above-mentioned intermediate|middle
또한, 특히, 피착체(4)가, 제 2 피착체(31)이면, 제 2 피착체(31)의 표면측으로부터의 외광(활성 광선)에 의해, 저조사 부분(23)이 착색되는 것을 억제할 수 있다.In particular, when the
상기한 설명에서는, 제 1A 실시형태에 있어서, 비조사/저조사 부분(21)을 저조사 부분(23)으로 하는 경우를 설명했지만, 제 1B 실시형태, 제 2A 실시형태(제 1 피착체를 이용하는 경우) 및 제 2B 실시형태에 있어서도, 상기한 제 1A 실시형태의 제 1 변형예 또는 제 2 변형예에 있어서의 조사 공정과 마찬가지의 수순에 기초하여, 비조사/저조사 부분(21)을 저조사 부분(23)으로 할 수 있다.In the above description, in the first A embodiment, the case where the non-irradiated/low irradiated portion 21 is the low irradiated portion 23 has been described. In the case of use) and in the second B embodiment, the non-irradiated/low irradiated portion 21 is also based on the same procedure as the irradiation step in the first or second modified example of the first modified example or the second modified example of the first embodiment described above. It can be set as the low-irradiation part 23.
또한, 활성 광선(바람직하게는, 자외선)을 차단하는 마스크(7)를 복수 이용함으로써, 점착층(2)에 있어서의 저광투과율 부분(11)이 패턴 형상을 갖는 중간 적층체(6)를 얻을 수도 있다.In addition, by using a plurality of
구체적으로는, 제 1A 실시형태의 조사 공정에 있어서, 도 12A에 나타내는 바와 같이, 박리 필름(5)의 타방면에 복수의 활성 광선(바람직하게는, 자외선)을 차단하는 마스크(7)를 배치한다(상세하게는, 서로 간격을 띄우고, 4개 배치한다).Specifically, in the irradiation process of Embodiment 1A, as shown in FIG. 12A , a
그리고, 상기한 제 1A 실시형태와 마찬가지로, 준비 공정, 조사 공정 및 첩착 공정을 실시함으로써, 도 12B에 나타내는 바와 같이, 점착층(2)에 있어서의 저광투과율 부분(11)이 패턴 형상을 갖는 중간 적층체(6)를 얻을 수 있다.And as shown in FIG. 12B by performing a preparation process, an irradiation process, and a sticking process similarly to 1A embodiment mentioned above, the low-
중간 적층체(6)에 있어서, 저광투과율 부분(11)이 패턴 형상을 가지면, 패턴 형상을 자유롭게 설계할 수 있다.In the
실시예Example
이하에 실시예 및 비교예를 나타내어, 본 발명을 더 구체적으로 설명한다. 한편, 본 발명은, 실시예 및 비교예로 전혀 한정되지 않는다. 또한, 이하의 기재에 있어서 이용되는 배합 비율(함유 비율), 물성치, 파라미터 등의 구체적 수치는, 상기의 「발명을 실시하기 위한 구체적인 내용」에 있어서 기재되어 있는, 그들에 대응하는 배합 비율(함유 비율), 물성치, 파라미터 등 해당 기재의 상한치(「이하」, 「미만」으로서 정의되어 있는 수치) 또는 하한치(「이상」, 「초과」로서 정의되어 있는 수치)로 대체할 수 있다.Examples and comparative examples are shown below, and the present invention will be more specifically described. In addition, this invention is not limited at all to an Example and a comparative example. In addition, specific numerical values, such as a compounding ratio (content ratio), a physical property value, a parameter, used in the following description are described in the above "Specific contents for carrying out the invention", and the corresponding compounding ratio (contains) ratio), physical properties, parameters, etc., may be substituted with the upper limit (the numerical value defined as “less than” or “less than”) or the lower limit (the numerical value defined as “more than” or “exceed”) of the description.
한편, 「부」 및 「%」는, 특별히 언급이 없는 한, 질량 기준이다.In addition, unless otherwise indicated, "part" and "%" are based on mass.
1. 성분의 상세1. Details of ingredients
각 실시예 및 각 비교예에서 이용한 각 성분을 이하에 기재한다.Each component used in each Example and each comparative example is described below.
BA: 아크릴산 뷰틸BA: butyl acrylate
AA: 아크릴산AA: acrylic acid
테트라드 C: 상품명: 1,3-비스(N,N-다이글라이시딜아미노메틸)사이클로헥세인(에폭시계 가교제), 미쓰비시 가스화학제Tetrad C: Trade name: 1,3-bis(N,N-diglycidylaminomethyl)cyclohexane (epoxy crosslinking agent), manufactured by Mitsubishi Gas Chemicals
BLACK ND1: 로이코 염료, 야마다 화학공업제BLACK ND1: leuco dye, made by Yamada Chemical Industries, Ltd.
CPI-310B: 설포늄과 (C6F5)4B-로 이루어지는 염, 광산 발생제, 산 아프로제CPI-310B: salt consisting of sulfonium and (C 6 F 5 ) 4 B - , photoacid generator, acid aproze
카프톤 200H: 폴리이미드 필름, 두께 25μm, 도레이 듀퐁사제Kapton 200H: polyimide film, thickness 25 μm, manufactured by DuPont Toray
KC2UA: TAC 필름, 두께 25μm, 코니카 미놀타 주식회사제KC2UA: TAC film, thickness 25 μm, manufactured by Konica Minolta Co., Ltd.
UVA-TAC: KC2UA와, 하드 코팅층을 순서대로 구비하는 필름(하드 코팅 처리에 의해, KC2UA(두께: 25μm)의 일방면에 하드 코팅층(두께: 7μm)을 형성하는 것에 의해 얻어진다), 두께 32μmUVA-TAC: KC2UA and a film having a hard coat layer in order (obtained by forming a hard coat layer (thickness: 7 µm) on one side of KC2UA (thickness: 25 µm) by hard coat treatment), thickness 32 µm
UVA-TAC×1: 1매의 UVA-TACUVA-TAC×1: 1 UVA-TAC
UVA-TAC×2: 2매의 UVA-TACUVA-TAC×2: 2 sheets of UVA-TAC
UVA-TAC×4: 4매의 UVA-TACUVA-TAC×4: 4 UVA-TACs
UVA-TAC×8: 8매의 UVA-TACUVA-TAC×8: 8 UVA-TACs
UVA-OCA: 자외선 흡수 기능을 갖는 점착 테이프, 상품명 「CS9934U」, 두께 100μm, 닛토 전공사제UVA-OCA: Adhesive tape with ultraviolet absorption function, trade name "CS9934U", thickness 100 μm, manufactured by Nitto Denko Co., Ltd.
2. 점착성 폴리머의 조제2. Preparation of adhesive polymer
합성예 1Synthesis Example 1
온도계, 교반기, 환류 냉각관 및 질소 가스 도입관을 구비한 반응 용기에, 모노머 성분으로서, 아크릴산 뷰틸 95질량부, 아크릴산 5질량부, 중합 개시제로서, 아조비스아이소뷰티로나이트릴 0.2질량부, 용매로서, 아세트산 에틸 233질량부를 투입하고, 질소 가스를 흘려보내고, 교반하면서 약 1시간 질소 치환했다. 그 후, 60℃로 가열하고, 7시간 반응시켜, 중량 평균 분자량(Mw)이 600000인 점착성 폴리머의 용액을 얻었다.In a reaction vessel equipped with a thermometer, a stirrer, a reflux cooling tube and a nitrogen gas introduction tube, 95 parts by mass of butyl acrylate, 5 parts by mass of acrylic acid as a monomer component, 0.2 parts by mass of azobisisobutyronitrile as a polymerization initiator, a solvent 233 mass parts of ethyl acetate was thrown in, nitrogen gas was flowed in, and nitrogen substitution was carried out for about 1 hour, stirring. Then, it heated at 60 degreeC, made it react for 7 hours, and obtained the solution of the adhesive polymer whose weight average molecular weight (Mw) is 600000.
3. 점착 시트의 제조3. Preparation of adhesive sheet
실시예 1Example 1
합성예 1의 점착성 폴리머의 용액에, 가교제로서, 테트라드 C를, 점착성 폴리머의 용액 중의 점착성 폴리머 100질량부에 대해서, 0.075질량부, 산에 의해 착색되는 화합물로서, BLACK ND1(로이코 염료)을 점착성 폴리머의 용액 중의 점착성 폴리머 100질량부에 대해서, 2질량부, 산 발생제로서, CP-310B(광산 발생제)를 점착성 폴리머의 용액 중의 점착성 폴리머 100질량부에 대해서, 10질량부를 첨가하고, 균일하게 혼합하여 점착성 조성물을 조제했다.In the solution of the adhesive polymer of Synthesis Example 1, tetrad C as a crosslinking agent, 0.075 parts by mass relative to 100 parts by mass of the adhesive polymer in the solution of the adhesive polymer, BLACK ND1 (leuco dye) as a compound colored with an acid With respect to 100 parts by mass of the adhesive polymer in the solution of the adhesive polymer, 2 parts by mass, as an acid generator, CP-310B (photoacid generator) is added with respect to 100 parts by mass of the adhesive polymer in the solution of the adhesive polymer, 10 parts by mass, It mixed uniformly to prepare an adhesive composition.
이어서, 표면 이형 처리가 되어 있는 두께 50μm의 폴리에틸렌 테레프탈레이트 필름(이하, 박리 필름 A로 한다.)의 일방면에, 합성예 1의 점착성 조성물을, 건조 후의 두께가 25μm가 되도록, 파운틴 롤에 의해 도포하고, 130℃에서 1분간 건조하여 용매를 제거했다. 이에 의해, 타방면에 박리 필름 A를 구비하는 점착층을 형성했다. 추가로, 점착층의 일방면에, 박리 필름 B(표면이 실리콘 이형 처리된 두께 25μm의 폴리에틸렌 테레프탈레이트 필름)의 이형 처리면을 첩합했다. 그 후, 25℃의 분위기에서 4일간의 에이징 처리를 하여, 가교 반응을 진행시켰다. 이에 의해, 점착층을 제조(준비)했다.Next, on one side of a 50 µm-thick polyethylene terephthalate film (hereinafter referred to as release film A) subjected to surface release treatment, the adhesive composition of Synthesis Example 1 was applied with a fountain roll to a thickness of 25 µm after drying. After application, the solvent was removed by drying at 130°C for 1 minute. Thereby, the adhesion layer provided with the peeling film A on the other surface was formed. Furthermore, the release-processed surface of the peeling film B (the 25-micrometer-thick polyethylene terephthalate film by which the surface was silicone release-processed) was pasted together to one side of the adhesion layer. Then, the aging process for 4 days was performed in the atmosphere of 25 degreeC, and the crosslinking reaction was advanced. Thereby, the adhesive layer was manufactured (prepared).
이어서, 점착층의 일방면에 배치된 박리 필름 B를 박리하고, 유리 기판과, 공지된 점착제로 이루어지는 저점착제층과, PET 필름과, 공지된 점착제로 이루어지는 고점착제층과, 자외선 흡수층으로서의 카프톤 200H를, 점착층의 일방면에 순서대로 배치했다.Next, the release film B disposed on one side of the pressure-sensitive adhesive layer is peeled off, a glass substrate, a low-adhesive layer made of a known pressure-sensitive adhesive, a PET film, a high-adhesive layer made of a known pressure-sensitive adhesive, and kapton as an ultraviolet absorbing layer 200H was sequentially arranged on one side of the adhesive layer.
한편, 저점착제층은, 유리 기판과 PET 필름을 박리 가능한 정도의 점착력을 갖는다.On the other hand, the low adhesive layer has the adhesive force of the grade which can peel a glass substrate and a PET film.
또한, 저점착제층 및 고점착제층의, 자외선의 평균 투과율은, 50% 이상이다.Moreover, the average transmittance|permeability of the ultraviolet-ray of a low adhesive layer and a high adhesive layer is 50 % or more.
이에 의해, 박리 필름 A와, 점착층과, 유리 기판과, 저점착제층과, PET 필름과, 고점착제층과, 자외선 흡수층(카프톤 200H)을 구비하는 점착 시트를 얻었다.Thereby, the adhesive sheet provided with the peeling film A, an adhesive layer, a glass substrate, a low adhesive layer, a PET film, a high adhesive layer, and an ultraviolet absorption layer (Kapton 200H) was obtained.
실시예 2Example 2
자외선 흡수층으로서, UVA-TAC×1을 이용한 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지로, 점착 시트를 제조했다.As an ultraviolet absorption layer, the adhesive sheet was manufactured similarly to Example 1 except having used UVA-
실시예 3Example 3
자외선 흡수층으로서, UVA-TAC×2를 이용한 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지로, 점착 시트를 제조했다.As an ultraviolet absorption layer, except having used UVA-TAC*2, it carried out similarly to Example 1, and produced the adhesive sheet.
실시예 4Example 4
자외선 흡수층으로서, UVA-TAC×4를 이용한 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지로, 점착 시트를 제조했다.As the ultraviolet absorption layer, an adhesive sheet was produced in the same manner as in Example 1 except that UVA-TAC×4 was used.
실시예 5Example 5
자외선 흡수층으로서, UVA-TAC×8을 이용한 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지로, 점착 시트를 제조했다.As the ultraviolet absorption layer, an adhesive sheet was produced in the same manner as in Example 1 except that UVA-TAC×8 was used.
실시예 6Example 6
자외선 흡수층으로서, UVA-OCA를 이용한 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지로, 점착 시트를 제조했다.As the ultraviolet absorption layer, an adhesive sheet was produced in the same manner as in Example 1 except that UVA-OCA was used.
실시예 7Example 7
자외선 흡수층으로서, UVA-TAC 및 UVA-OCA를 이용한 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지로, 점착 시트를 제조했다.As the ultraviolet absorption layer, an adhesive sheet was prepared in the same manner as in Example 1 except that UVA-TAC and UVA-OCA were used.
구체적으로는, 박리 필름 A와, 점착층과, 유리 기판과, 저점착제층과, PET 필름과, 고점착제층과, UVA-TAC와, UVA-OCA를 순서대로 구비하는 점착 시트를 얻었다.Specifically, the adhesive sheet provided with the peeling film A, an adhesive layer, a glass substrate, a low adhesive layer, a PET film, a high adhesive layer, UVA-TAC, and UVA-OCA in order was obtained.
비교예 1Comparative Example 1
자외선 흡수층으로서, PET 필름(두께 25μm)을 이용한 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지로, 점착 시트를 제조했다.As an ultraviolet absorption layer, the adhesive sheet was manufactured similarly to Example 1 except having used the PET film (25 micrometers in thickness).
4. 평가4. Evaluation
(LED 조사 전의 점착층의 평균 투과율)(Average transmittance of the adhesive layer before LED irradiation)
실시예 1의 점착층의 일방면에 배치된 박리 필름 B를 박리하고, 점착층의 일방면을 유리 기판에 첩착했다.The peeling film B arrange|positioned on one side of the adhesive layer of Example 1 was peeled, and the one side of the adhesive layer was affixed to the glass substrate.
그 후, 점착층의 타방면에 배치된 박리 필름 A를 박리했다. 이에 의해, 평균 투과율 측정용 샘플을 조제했다.Then, the peeling film A arrange|positioned on the other surface of the adhesion layer was peeled. Thereby, the sample for average transmittance|permeability measurement was prepared.
이 평균 투과율 측정용 샘플을, 광원측에 점착층이 배치되도록, 투과율 측정 장치(U4100형 분광 광도계, 닛폰 하이테크놀로지스사제)에 설치하고, 파장 400nm∼700nm에 있어서의 평균 투과율을 측정했다.This sample for average transmittance|permeability measurement was installed in the transmittance|permeability measuring apparatus (U4100 type spectrophotometer, Nippon High-Technologies company make) so that the adhesive layer might be arrange|positioned on the light source side, and the average transmittance|permeability in wavelength 400nm - 700nm was measured.
한편, 유리 기판만으로 측정한 데이터를 베이스라인으로 했다.In addition, the data measured only with the glass substrate were made into the baseline.
그 결과를 표 1에 나타낸다.The results are shown in Table 1.
(LED 조사 후의 점착층의 평균 투과율)(Average transmittance of the adhesive layer after LED irradiation)
상기의 평균 투과율 측정용 샘플에 있어서의 점착층에, LED(365nm, 8000mJ/□)의 광을 조사한 후, 상기와 마찬가지의 방법으로, 파장 400nm∼700nm에 있어서의 평균 투과율을 측정했다.After irradiating the light of LED (365 nm, 8000 mJ/□) to the adhesion layer in the said sample for average transmittance|permeability measurement, the average transmittance|permeability in wavelength 400nm - 700nm was measured by the method similar to the above.
그 결과를 표 1에 나타낸다.The results are shown in Table 1.
(자외선 흡수층의 평균 투과율)(Average transmittance of UV absorbing layer)
각 자외선 흡수층을, 투과율 측정 장치(U4100형 분광 광도계, 닛폰 하이테크놀로지스사제)에 설치하고, 파장 300nm∼400nm에 있어서의 평균 투과율 및 파장 400nm∼700nm에 있어서의 평균 투과율을 측정했다.Each ultraviolet absorbing layer was installed in a transmittance measuring apparatus (U4100 type spectrophotometer, manufactured by Nippon High-Technologies Corporation), and the average transmittance in a wavelength of 300 nm to 400 nm and an average transmittance in a wavelength of 400 nm to 700 nm were measured.
한편, 측정 장치 내에 아무것도 설치하지 않은 상태에서 측정한 데이터를 베이스라인으로 했다.On the other hand, the data measured in the state where nothing was installed in the measuring apparatus was made into the baseline.
그 결과를 표 1에 나타낸다.The results are shown in Table 1.
(외광 안정성)(External light stability)
각 실시예 및 각 비교예의 점착 시트에 있어서의 자외선 흡수층측으로부터, 형광등의 광이 조사되도록, 각 실시예 및 각 비교예의 점착 시트를 방치했다.The adhesive sheet of each Example and each comparative example was left to stand so that the light of a fluorescent lamp might be irradiated from the ultraviolet absorption layer side in the adhesive sheet of each Example and each comparative example.
그리고, 방치 개시 시, 및 방치 개시로부터 일정 시간 경과 후(24시간 후, 48시간 후, 120시간 후, 144시간 후)의, 파장 400nm∼700nm에 있어서의 평균 투과율을 측정했다.And the average transmittance|permeability in 400 nm - 700 nm of wavelengths was measured at the time of leaving-to-stand start, and after a fixed period of time (after 24 hours, 48 hours, 120 hours, and 144 hours) from the start of leaving-to-stand.
구체적으로는, 점착 시트로부터, 유리 기판의 일방면에 배치되는 저점착제층과, PET 필름과, 고점착제층과, 자외선 흡수층을 박리하고, 또한 점착층의 타방면에 배치되는 박리 필름 A를 박리했다.Specifically, from the pressure-sensitive adhesive sheet, the low-adhesive layer, the PET film, the high-adhesive layer, and the UV-absorbing layer disposed on one side of the glass substrate were peeled off, and the release film A disposed on the other side of the adhesive layer was peeled off. .
이에 의해, 점착층과, 유리 기판을 순서대로 구비한 외광 안정성 측정용 샘플을 조제했다.Thereby, the sample for external light stability measurement provided with the adhesion layer and the glass substrate in order was prepared.
그리고, 이 외광 안정성 측정용 샘플을, 광원측에 점착층이 배치되도록, 투과율 측정 장치(U4100형 분광 광도계, 닛폰 하이테크놀로지스사제)에 설치하고, 파장 400nm∼700nm에 있어서의 평균 투과율을 측정했다.And this sample for external light stability measurement was installed in the transmittance|permeability measuring apparatus (U4100 type spectrophotometer, Nippon High-Technologies company make) so that the adhesive layer might be arrange|positioned on the light source side, and the average transmittance|permeability in wavelength 400nm - 700nm was measured.
한편, 유리 기판만으로 측정한 데이터를 베이스라인으로 했다.In addition, the data measured only with the glass substrate were made into the baseline.
또한, 각 시간 경과 후의 변화율을, 하기 식(1)에 의해 구했다.In addition, the change rate after each time was calculated|required by following formula (1).
각 시간 경과 후의 변화율=(방치 개시 시의 평균 투과율-각 시간 경과 후의 평균 투과율)/(방치 개시 시의 평균 투과율) (1)Rate of change after each time period = (average transmittance at the start of leaving-to-average transmittance after each time elapsed)/(average transmittance at the start of standing) (1)
그 결과를 표 2에 나타낸다.The results are shown in Table 2.
5. 고찰5. Considerations
평균 투과율의 평가에 있어서, 점착층이, 자외선의 조사에 의해 파장 550nm에서의 가시광 투과율이 저하 가능한 점착성 조성물로 이루어지는 실시예 1의 점착 시트는, LED를 조사하기 전후에서의 파장 400nm∼700nm에 있어서의 평균 투과율이 저하되어 있다.Evaluation of average transmittance WHEREIN: The adhesive sheet of Example 1 which consists of an adhesive composition in which the visible light transmittance at a wavelength of 550 nm can fall by irradiation of an ultraviolet-ray as an adhesive layer is 400 nm - 700 nm of wavelength before and after irradiating an LED. the average transmittance of
이로부터, 상기의 점착층을 구비하는 점착 시트를 이용하면, 임의의 타이밍에 자외선 조사함으로써, 점착층을 착색시킬 수 있는 것을 알 수 있다.From this, when the adhesive sheet provided with the said adhesive layer is used, it turns out that an adhesive layer can be colored by irradiating an ultraviolet-ray at arbitrary timings.
외광 안정성의 평가에 있어서, 파장 300nm 이상 400nm 이하에 있어서의 평균 투과율이, 15% 이하인 자외선 흡수층을 이용하는 실시예 1∼실시예 7은, 방치 개시로부터 120시간 경과 후에 있어서, 변화율이 5.72% 이하이다.In the evaluation of external light stability, in Examples 1 to 7 using an ultraviolet absorbing layer having an average transmittance of 15% or less at a wavelength of 300 nm or more and 400 nm or less, after 120 hours from the start of leaving, the change rate is 5.72% or less .
한편, 파장 300nm 이상 400nm 이하에 있어서의 평균 투과율이, 69%인 PET 필름을 이용하는 비교예 1은, 방치 개시로부터 120시간 경과 후에 있어서, 변화율이 64.02%이다.On the other hand, in Comparative Example 1 using a PET film having an average transmittance of 69% at a wavelength of 300 nm or more and 400 nm or less, after 120 hours from the start of standing, the change rate is 64.02%.
이로부터, 파장 300nm 이상 400nm 이하에 있어서의 평균 투과율이, 15% 이하인 자외선 흡수층을 이용하면, 외광 안정성이 우수한 것을 알 수 있다.From this, when the average transmittance|permeability in wavelength 300nm or more and 400 nm or less uses the ultraviolet-ray absorption layer which is 15 % or less, it turns out that it is excellent in external light stability.
그리고, 외광 안정성이 우수하기 때문에, 점착층에 있어서의 착색 부분 이외를, 투명인 그대로 잔존시키고 싶은 경우나, 착색 부분보다도 착색량을 적게 하고 싶은 경우에, 착색 부분 이외가 외광(자외선)에 의해 착색되는 것을 억제할 수 있는 것을 알 수 있다.And, since it is excellent in external light stability, when it is desired to remain transparent, except for the colored part in the adhesion layer, or when it is desired to reduce the amount of coloring than the colored part, the colored part other than the colored part is exposed to external light (ultraviolet rays). It turns out that coloring can be suppressed.
한편, 상기 발명은, 본 발명의 예시의 실시형태로서 제공했지만, 이는 단순한 예시에 지나지 않고, 한정적으로 해석해서는 안 된다. 당해 기술 분야의 당업자에 의해 분명한 본 발명의 변형예는, 후기 청구의 범위에 포함되는 것이다.In addition, although the said invention was provided as embodiment of the illustration of this invention, this is only a mere illustration and should not be interpreted limitedly. Modifications of the present invention that are obvious to those skilled in the art are included in the following claims.
본 발명의 점착 시트, 점착 시트의 제조 방법, 중간 적층체의 제조 방법 및 중간 적층체는, 광학 디바이스, 전자 디바이스 및 그의 구성 부품에 있어서 적합하게 사용된다.The adhesive sheet of this invention, the manufacturing method of an adhesive sheet, the manufacturing method of an intermediate|middle laminated body, and an intermediate|middle laminated body are used suitably in an optical device, an electronic device, and its component.
1 점착 시트
2 점착층
3 자외선 흡수층
4 피착체
6 중간 적층체
7 마스크
8 제 1 마스크
9 제 2 마스크
10 고광투과율 부분
11 저광투과율 부분
20 고조사 부분
21 비조사/저조사 부분
22 비조사 부분
23 저조사 부분
40 제 1 조사 부분
41 가비조사 부분
42 제 2 조사 부분
43 제 3 조사 부분
44 제 4 조사 부분
45 일부
46 잔부1 adhesive sheet
2 adhesive layer
3 UV absorbing layer
4 adherend
6 Intermediate Laminate
7 mask
8 first mask
9 second mask
10 High light transmittance part
11 Low light transmittance part
20 high irradiation part
21 non-irradiation/under-irradiation part
22 non-irradiated part
23 low-irradiation part
40
41 False Investigation Part
42
43
44
45 some
46 balance
Claims (24)
상기 점착층이, 활성 광선의 조사에 의해 파장 550nm에서의 가시광 투과율이 저하 가능한 점착성 조성물로 이루어지고,
상기 활성 광선 흡수층의, 활성 광선의 평균 투과율이 15% 이하인 것을 특징으로 하는, 점착 시트.A pressure-sensitive adhesive layer and an actinic light absorbing layer disposed on one side of the pressure-sensitive adhesive layer,
The adhesive layer consists of an adhesive composition capable of lowering the visible light transmittance at a wavelength of 550 nm by irradiation with actinic light,
The average transmittance of the actinic light of the said actinic light absorbing layer is 15% or less, The adhesive sheet characterized by the above-mentioned.
상기 점착층이, 자외선의 조사에 의해 파장 550nm에서의 가시광 투과율이 저하 가능한 점착성 조성물로 이루어지고,
상기 활성 광선 흡수층이, 자외선 흡수층이며,
상기 자외선 흡수층의, 파장 300nm 이상 400nm 이하에 있어서의 평균 투과율이, 15% 이하인 것을 특징으로 하는, 점착 시트.The method of claim 1,
The adhesive layer consists of an adhesive composition capable of lowering the visible light transmittance at a wavelength of 550 nm by irradiation with ultraviolet rays,
The actinic light absorbing layer is an ultraviolet absorbing layer,
The average transmittance in the wavelength of 300 nm or more and 400 nm or less of the said ultraviolet-ray absorption layer is 15 % or less, The adhesive sheet characterized by the above-mentioned.
상기 자외선 흡수층의, 파장 400nm 이상 700nm 이하에 있어서의 평균 투과율이, 50% 이상인 것을 특징으로 하는, 점착 시트.3. The method of claim 2,
The average transmittance in the wavelength of 400 nm or more and 700 nm or less of the said ultraviolet-ray absorption layer is 50 % or more, The adhesive sheet characterized by the above-mentioned.
상기 자외선 흡수층이, 자외선 흡수제를 포함하는 것을 특징으로 하는, 점착 시트.4. The method according to claim 2 or 3,
The said ultraviolet absorbing layer contains the ultraviolet absorber, The adhesive sheet characterized by the above-mentioned.
상기 점착성 조성물은, 모노머 성분의 중합체인 점착성 폴리머와, 산에 의해 착색되는 화합물과, 광산 발생제를 포함하는 것을 특징으로 하는, 점착 시트.5. The method according to any one of claims 1 to 4,
The pressure-sensitive adhesive composition comprises a pressure-sensitive adhesive polymer that is a polymer of a monomer component, a compound colored with an acid, and a photo-acid generator.
상기 점착층의 일방면에, 활성 광선의 평균 투과율이 15% 이하인 활성 광선 흡수층을 배치하는 배치 공정을 구비하는 것을 특징으로 하는, 점착 시트의 제조 방법.A pressure-sensitive adhesive layer preparation step of preparing a pressure-sensitive adhesive layer comprising a pressure-sensitive adhesive composition capable of lowering visible light transmittance at a wavelength of 550 nm by irradiation with actinic light;
The manufacturing method of the adhesive sheet characterized by including the arrangement|positioning process of arrange|positioning the actinic-light absorption layer whose average transmittance of actinic light is 15 % or less on one side of the said adhesive layer.
상기 점착층 준비 공정 후, 상기 배치 공정 전에,
상기 점착층에 활성 광선을 조사하는 것을 특징으로 하는, 점착 시트의 제조 방법.7. The method of claim 6,
After the adhesive layer preparation process, before the arrangement process,
A method for producing an adhesive sheet, characterized in that the adhesive layer is irradiated with actinic light.
상기 배치 공정 후에, 활성 광선을 조사하는 것을 특징으로 하는, 점착 시트의 제조 방법.7. The method of claim 6,
After the said arrangement process, actinic light is irradiated, The manufacturing method of the adhesive sheet characterized by the above-mentioned.
상기 점착층에 활성 광선을 조사하여, 상기 점착층에, 상대적으로 활성 광선의 조사량이 높은 고조사 부분과, 상대적으로 활성 광선의 조사량이 낮거나, 활성 광선이 조사되지 않는 비조사/저조사 부분을 형성하는 것에 의해, 상기 고조사 부분의 파장 550nm에서의 가시광 투과율을, 상기 비조사/저조사 부분의 파장 550nm에서의 가시광 투과율보다도 작게 하는 조사 공정, 및
상기 점착 시트의 타방면을 피착체에 첩착(貼着)하는 첩착 공정을 구비하는 것을 특징으로 하는, 중간 적층체의 제조 방법.A preparatory step of preparing the pressure-sensitive adhesive sheet produced by the method for producing the pressure-sensitive adhesive sheet according to claim 8;
By irradiating actinic light to the adhesive layer, the adhesive layer has a relatively high irradiation amount of actinic light, and a relatively low irradiation amount of actinic light, or a non-irradiated/low irradiation part where actinic light is not irradiated. an irradiation step of making the visible light transmittance at a wavelength of 550 nm of the highly irradiated portion smaller than the visible light transmittance at a wavelength of 550 nm of the non-irradiated/low irradiated portion by forming
The manufacturing method of the intermediate|middle laminated body characterized by comprising the sticking process of sticking the other side of the said adhesive sheet to a to-be-adhered body.
상기 준비 공정 후에, 상기 조사 공정을 실시하고,
상기 조사 공정 후에, 상기 첩착 공정을 실시하는 것을 특징으로 하는, 중간 적층체의 제조 방법.10. The method of claim 9,
After the preparation process, the irradiation process is performed,
The manufacturing method of the intermediate|middle laminated body characterized by implementing the said sticking process after the said irradiation process.
상기 준비 공정 후에, 상기 첩착 공정을 실시하고,
상기 첩착 공정 후에, 상기 조사 공정을 실시하는 것을 특징으로 하는, 중간 적층체의 제조 방법.10. The method of claim 9,
After the preparation step, the bonding step is performed,
The said irradiation process is implemented after the said sticking process, The manufacturing method of the intermediate|middle laminated body characterized by the above-mentioned.
상기 조사 공정에 있어서, 상기 활성 광선 흡수층의 표면측으로부터, 상기 점착층에 활성 광선을 조사하는 것을 특징으로 하는, 중간 적층체의 제조 방법.12. The method of claim 10 or 11,
In the irradiation step, the adhesive layer is irradiated with actinic light from a surface side of the actinic light absorbing layer.
상기 조사 공정에 있어서, 상기 점착층의 표면측으로부터, 상기 점착층에 활성 광선을 조사하는 것을 특징으로 하는, 중간 적층체의 제조 방법.11. The method of claim 10,
The said irradiation process WHEREIN: The manufacturing method of the intermediate|middle laminated body characterized by irradiating actinic light to the said adhesive layer from the surface side of the said adhesive layer.
상기 조사 공정에 있어서, 상기 피착체의 표면측으로부터, 상기 점착층에 활성 광선을 조사하는 것을 특징으로 하는, 중간 적층체의 제조 방법.12. The method of claim 11,
In the irradiation step, the adhesive layer is irradiated with actinic light from the surface side of the adherend, the method for producing an intermediate laminate.
상기 피착체의, 활성 광선의 평균 투과율이 60% 이상이고,
상기 조사 공정에 있어서, 상기 피착체측의 타방면의 일부에, 활성 광선을 차단하는 마스크를 배치한 후, 상기 점착층에 활성 광선을 조사하는 것을 특징으로 하는, 중간 적층체의 제조 방법.15. The method of claim 14,
The average transmittance of the actinic light of the adherend is 60% or more,
In the irradiation step, a mask for blocking actinic light is disposed on a part of the other surface on the side of the adherend, and then the adhesive layer is irradiated with actinic light.
상기 피착체가, 활성 광선을 차단하고,
상기 첩착 공정에 있어서, 상기 점착 시트의 타방면의 일부에, 상기 피착체를 배치하는 것을 특징으로 하는, 중간 적층체의 제조 방법.15. The method of claim 14,
The adherend blocks the actinic light,
Said sticking process WHEREIN: The manufacturing method of the intermediate|middle laminated body characterized by arrange|positioning the said to-be-adhered body in a part of the other surface of the said adhesive sheet.
상기 비조사/저조사 부분이, 활성 광선이 조사되지 않는 비조사 부분이고,
상기 비조사 부분의, 파장 550nm에서의 가시광 투과율이, 80% 이상인 것을 특징으로 하는, 중간 적층체의 제조 방법.17. The method according to any one of claims 9 to 16,
The non-irradiated/low irradiated portion is a non-irradiated portion that is not irradiated with actinic light,
The method for producing an intermediate laminate, wherein the non-irradiated portion has a visible light transmittance at a wavelength of 550 nm of 80% or more.
상기 비조사/저조사 부분이, 활성 광선의 조사량이 낮은 저조사 부분이고,
상기 조사 공정은, 활성 광선을 차단하는 제 1 마스크를 배치한 후, 상기 점착층에 활성 광선을 조사하는 것에 의해, 상기 점착층에, 활성 광선이 조사된 제 1 조사 부분과, 활성 광선이 조사되어 있지 않은 가(假)비조사 부분을 형성하는 제 1 조사 공정과,
상기 제 1 조사 부분에, 활성 광선을 차단하는 제 2 마스크를 배치한 후, 상기 점착층에 있어서의 상기 가비조사 부분에 활성 광선을 조사하는 것에 의해, 상기 가비조사 부분을, 제 2 조사 부분으로 하는 제 2 조사 공정을 구비하고,
상기 제 1 조사 부분 및 상기 제 2 조사 부분 중 어느 한쪽이 상기 고조사 부분이고, 다른 쪽이 상기 저조사 부분인 것을 특징으로 하는, 중간 적층체의 제조 방법.16. The method according to any one of claims 9 to 15,
The non-irradiated / low-irradiation part is a low-irradiation part with a low irradiation amount of actinic light,
In the said irradiation process, after arranging the 1st mask which blocks actinic light, by irradiating actinic light to the said adhesion layer, the 1st irradiation part irradiated with actinic light to the said adhesion layer, and actinic light is irradiated to the said adhesion layer. A first irradiation step of forming a provisional non-irradiated portion that is not
After arranging a second mask that blocks actinic light on the first irradiated portion, by irradiating the provisionally irradiated portion with actinic light on the temporarily irradiated portion of the adhesive layer, the provisionally irradiated portion is turned into a second irradiated portion and a second irradiation process to
One of the first irradiated portion and the second irradiated portion is the high irradiated portion, and the other is the low irradiated portion.
상기 비조사/저조사 부분이, 활성 광선의 조사량이 낮은 저조사 부분이고,
상기 조사 공정은, 상기 점착층의 전부에 활성 광선을 조사하는 것에 의해, 상기 점착층의 전부를, 활성 광선이 조사된 제 3 조사 부분으로 하는 제 3 조사 공정과,
상기 제 3 조사 부분의 일부에, 활성 광선을 차단하는 마스크를 배치한 후, 상기 제 3 조사 부분의 잔부에 활성 광선을 조사하는 것에 의해, 상기 제 3 조사 부분의 잔부를, 제 4 조사 부분으로 하는 제 4 조사 공정을 구비하고,
상기 제 3 조사 부분이, 상기 저조사 부분이고,
상기 제 4 조사 부분이, 상기 고조사 부분인 것을 특징으로 하는, 중간 적층체의 제조 방법.16. The method according to any one of claims 9 to 15,
The non-irradiated / low-irradiation part is a low-irradiation part with a low irradiation amount of actinic light,
The said irradiation process is a 3rd irradiation process of making all of the said adhesion layer into the 3rd irradiation part irradiated with actinic light by irradiating actinic light to all of the said adhesion layer;
After arranging a mask that blocks actinic light on a part of the third irradiated portion, the remainder of the third irradiated portion is converted into a fourth irradiated portion by irradiating the remaining portion of the third irradiated portion with actinic light. and a fourth irradiation process to
The third irradiated portion is the low irradiated portion,
The said 4th irradiation part is the said highly irradiated part, The manufacturing method of the intermediate|middle laminated body characterized by the above-mentioned.
상기 고조사 부분의, 파장 550nm에서의 가시광 투과율이, 20% 미만이고,
상기 저조사 부분의, 파장 550nm에서의 가시광 투과율이, 20% 이상 70% 이하인 것을 특징으로 하는, 중간 적층체의 제조 방법.20. The method according to claim 18 or 19,
Visible light transmittance at a wavelength of 550 nm of the highly irradiated portion is less than 20%,
A method for producing an intermediate laminate, wherein the low-irradiation portion has a visible light transmittance at a wavelength of 550 nm of 20% or more and 70% or less.
상기 점착층이, 상대적으로 파장 550nm에서의 가시광 투과율이 큰 고광투과율 부분과, 상대적으로 파장 550nm에서의 가시광 투과율이 작은 저광투과율 부분을 구비하고,
상기 활성 광선 흡수층의, 활성 광선의 평균 투과율이 15% 이하인 것을 특징으로 하는, 중간 적층체.An adhesive sheet comprising an adhesive layer and an actinic light absorbing layer disposed on one side of the adhesive layer, and an adherend disposed on the other side of the adhesive sheet,
The adhesive layer comprises a high light transmittance portion having a relatively large visible light transmittance at a wavelength of 550 nm and a low light transmittance portion having a relatively small visible light transmittance at a wavelength of 550 nm,
The average transmittance of the actinic light of the actinic light absorbing layer is 15% or less, The intermediate|middle laminated body characterized by the above-mentioned.
상기 저광투과율 부분이 패턴 형상을 갖는 것을 특징으로 하는, 중간 적층체.22. The method of claim 21,
The intermediate laminate, characterized in that the low light transmittance portion has a pattern shape.
상기 고광투과율 부분의, 파장 550nm에서의 가시광 투과율이, 80% 이상인 것을 특징으로 하는, 중간 적층체.23. The method of claim 21 or 22,
An intermediate laminate, characterized in that the high light transmittance portion has a visible light transmittance at a wavelength of 550 nm of 80% or more.
상기 저광투과율 부분의, 파장 550nm에서의 가시광 투과율이, 20% 미만이고,
상기 고광투과율 부분의, 파장 550nm에서의 가시광 투과율이, 20% 이상 70% 이하인 것을 특징으로 하는, 중간 적층체.23. The method of claim 21 or 22,
Visible light transmittance at a wavelength of 550 nm of the low light transmittance portion is less than 20%,
Visible light transmittance of the high light transmittance portion at a wavelength of 550 nm is 20% or more and 70% or less.
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