KR20200024714A - 표면 보호 필름용 기재, 그 기재의 제조 방법, 그 기재를 사용한 표면 보호 필름, 및 표면 보호 필름 부착 광학 필름 - Google Patents
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Abstract
(과제) 우수한 가요성 또는 내절곡성을 갖고, 또한, 광학 검사시의 광누설, 착색 및 무지개 얼룩을 양호하게 억제할 수 있는 표면 보호 필름용 기재를 제공하는 것.
(해결수단) 본 발명의 표면 보호 필름용 기재는 아크릴계 수지와 엘라스토머를 포함하는 필름으로 구성되고, 면내 위상차 Re(550)가 30nm 이하이며, MIT 시험에 있어서의 파단까지의 절곡 횟수가 500회 이상이다. 본 발명의 표면 보호 필름용 기재의 제조 방법은 아크릴계 수지와 엘라스토머를 포함하는 필름 형성 재료를 필름상으로 성형하는 것, 및, 성형된 필름을 축차 2축 연신 또는 동시 2축 연신하는 것을 포함한다.
(해결수단) 본 발명의 표면 보호 필름용 기재는 아크릴계 수지와 엘라스토머를 포함하는 필름으로 구성되고, 면내 위상차 Re(550)가 30nm 이하이며, MIT 시험에 있어서의 파단까지의 절곡 횟수가 500회 이상이다. 본 발명의 표면 보호 필름용 기재의 제조 방법은 아크릴계 수지와 엘라스토머를 포함하는 필름 형성 재료를 필름상으로 성형하는 것, 및, 성형된 필름을 축차 2축 연신 또는 동시 2축 연신하는 것을 포함한다.
Description
본 발명은 표면 보호 필름용 기재, 그 기재의 제조 방법, 그 기재를 사용한 표면 보호 필름, 및 표면 보호 필름 부착 광학 필름에 관한 것이다.
광학 필름(예를 들면, 편광판, 편광판을 포함하는 적층체)에는 상기 광학 필름이 적용되는 화상 표시 장치가 실제로 사용될 때까지의 동안, 상기 광학 필름(최종적으로는 화상 표시 장치)을 보호하기 위해서 표면 보호 필름이 박리 가능하게 접합되어 있다. 실용적으로는 광학 필름/표면 보호 필름의 적층체가 표시 셀에 접합되어서 화상 표시 장치가 제작되고, 상기 적층체가 접합된 상태로 화상 표시 장치가 광학 시험(예를 들면, 점등 시험)에 제공되고, 그 후의 적절한 시점에서 표면 보호 필름이 박리 제거된다. 표면 보호 필름은 대표적으로는 기재로서의 수지 필름과 점착제층을 갖는다. 종래의 표면 보호 필름에 의하면, 광학 검사시에 광누설, 착색, 무지개 얼룩 등이 발생하여 광학 검사의 정밀도 저하의 원인이 되는 경우가 있다. 그 결과, 화상 표시 장치 자체에는 문제가 없음에도 불구하고 출하전의 광학 검사에서 불량이라고 판단되어 버리는 경우가 있고, 이것에 의해 화상 표시 장치의 제조부터 출하까지의 효율이 저하되어 버린다는 문제가 있다. 또한, 표면 보호 필름(실질적으로는 기재)은 접합시 및 박리시의 조작성을 고려해서 우수한 가요성이 요구되고 있다.
본 발명은 상기 종래의 과제를 해결하기 위해 이루어진 것이며, 그 주된 목적은 우수한 가요성 또는 내절곡성을 갖고, 또한, 광학 검사시의 광누설, 착색 및 무지개 얼룩을 양호하게 억제할 수 있는 표면 보호 필름용 기재를 제공하는 것에 있다.
본 발명의 실시형태에 의한 표면 보호 필름용 기재는 아크릴계 수지와 엘라스토머를 포함하는 필름으로 구성되고, 면내 위상차 Re(550)가 30nm 이하이며, MIT 시험에 있어서의 파단까지의 절곡 횟수가 500회 이상이며, 상기 아크릴계 수지 100중량부에 대해서 상기 엘라스토머를 6중량부 이상 포함한다.
1개의 실시형태에 있어서는, 상기 아크릴계 수지는 글루타르이미드 단위, 락톤환 단위, 무수 말레산 단위, 말레이미드 단위 및 무수 글루타르산 단위로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1개를 갖는다.
하나의 실시형태에 있어서는, 상기 엘라스토머는 고무상 중합체, 폴리아미드계 엘라스토머, 폴리에틸렌계 엘라스토머, 스티렌계 엘라스토머 및 부타디엔계 엘라스토머로부터 선택되는 적어도 1개이다.
하나의 실시형태에 있어서는, 상기 표면 보호 필름용 기재는 전광선 투과율이 80% 이상이며, 헤이즈가 1.0% 이하이다.
본 발명의 다른 국면에 의하면, 상기 표면 보호 필름용 기재의 제조 방법이 제공된다. 이 제조 방법은 아크릴계 수지와 엘라스토머를 포함하는 필름 형성 재료 를 필름상으로 성형하는 것, 및, 상기 성형된 필름을 축차 2축 연신 또는 동시 2축 연신하는 것을 포함한다.
하나의 실시형태에 있어서는, 상기 제조 방법에 있어서는 상기 축차 2축 연신 또는 동시 2축 연신에 있어서의 연신 온도는 Tg+10℃∼Tg+30℃이다.
본 발명의 또 다른 국면에 의하면, 표면 보호 필름이 제공된다. 이 표면 보호 필름은 상기 표면 보호 필름용 기재와 점착제층을 포함한다.
본 발명의 또 다른 국면에 의하면, 표면 보호 필름 부착 광학 필름이 제공된다. 이 표면 보호 필름 부착 광학 필름은 광학 필름과, 상기 광학 필름에 박리 가능하게 접합된 상기 표면 보호 필름을 포함한다.
(발명의 효과)
본 발명의 실시형태에 의하면, 아크릴계 수지와 엘라스토머를 포함하는 필름을 소정의 연신 조건(예를 들면, 연신 온도 및 연신 속도)으로 연신함으로써, 매우 작은 면내 위상차와 우수한 가요성 또는 내절곡성을 양립한 표면 보호 필름용 기재를 실현할 수 있다.
이하, 본 발명의 바람직한 실시형태에 대해서 설명하지만, 본 발명은 이들 실시형태에는 한정되지 않는다.
A. 표면 보호 필름용 기재
본 발명의 실시형태에 의한 표면 보호 필름용 기재는 아크릴계 수지와 엘라스토머를 포함하는 필름으로 구성된다.
아크릴계 수지로서는 임의의 적절한 아크릴계 수지가 채용될 수 있다. 아크릴계 수지는 대표적으로는 모노머 단위로서 알킬(메타)아크릴레이트를 주성분으로서 함유한다. 본 명세서에 있어서 「(메타)아크릴」이란 아크릴 및/또는 메타크릴을 의미한다. 아크릴계 수지의 주골격을 구성하는 알킬(메타)아크릴레이트로서는 직쇄상 또는 분기쇄상의 알킬기의 탄소수 1∼18의 것을 예시할 수 있다. 이들은 단독으로 또는 조합해서 사용할 수 있다. 또한, 아크릴계 수지에는 임의의 적절한 공중합 모노머를 공중합에 의해 도입해도 좋다. 이러한 공중합 모노머의 종류, 수, 공중합비 등은 목적에 따라서 적절하게 설정될 수 있다. 아크릴계 수지의 주골격의 구성 성분(모노머 단위)에 대해서는 일반식(2)를 참조하면서 후술한다.
아크릴계 수지는 바람직하게는 글루타르이미드 단위, 락톤환 단위, 무수 말레산 단위, 말레이미드 단위 및 무수 글루타르산 단위로부터 선택되는 구조단위를 갖는다. 아크릴계 수지는 이들 구조단위 중 1개만을 갖고 있어도 좋고, 복수를 갖고 있어도 좋다. 락톤환 단위를 갖는 아크릴계 수지는, 예를 들면, 일본 특허공개 2008-181078호 공보에 기재되어 있고, 상기 공보의 기재는 본 명세서에 참고로서 원용된다. 글루타르이미드 단위는 바람직하게는 하기 일반식(1)로 나타내어진다:
일반식(1)에 있어서, R1 및 R2는 각각 독립적으로 수소 또는 탄소수 1∼8의 알킬기를 나타내고, R3은 탄소수 1∼18의 알킬기, 탄소수 3∼12의 시클로알킬기, 또는 탄소수 6∼10의 아릴기를 나타낸다. 일반식(1)에 있어서, 바람직하게는 R1 및 R2는 각각 독립적으로 수소 또는 메틸기이며, R3은 수소, 메틸기, 부틸기 또는 시클로헥실기이다. 보다 바람직하게는 R1은 메틸기이며, R2는 수소이며, R3은 메틸기이다.
상기 알킬(메타)아크릴레이트는 대표적으로는 하기 일반식(2)로 나타내어진다:
일반식(2)에 있어서, R4는 수소원자 또는 메틸기를 나타내고, R5는 수소원자, 또는 치환되어 있어도 좋은 탄소수 1∼6의 지방족 또는 지환식 탄화수소기를 나타낸다. 치환기로서는, 예를 들면, 할로겐, 수산기를 들 수 있다. 알킬(메타)아크릴레이트의 구체예로서는 (메타)아크릴산 메틸, (메타)아크릴산 에틸, (메타)아크릴산 n-프로필, (메타)아크릴산 n-부틸, (메타)아크릴산 t-부틸, (메타)아크릴산 n-헥실, (메타)아크릴산 시클로헥실, (메타)아크릴산 클로로메틸, (메타)아크릴산 2-클로로에틸, (메타)아크릴산 2-히드록시에틸, (메타)아크릴산 3-히드록시프로필, (메타)아크릴산 2,3,4,5,6-펜타히드록시헥실 및 (메타)아크릴산 2,3,4,5-테트라히드록시펜틸을 들 수 있다. 일반식(2)에 있어서, R5는 바람직하게는 수소원자 또는 메틸기이다. 따라서, 특히 바람직한 알킬(메타)아크릴레이트는 아크릴산 메틸 또는 메타크릴산 메틸이다.
상기 아크릴계 수지는 단일의 글루타르이미드 단위만을 포함하고 있어도 좋고, 상기 일반식(1)에 있어서의 R1, R2 및 R3이 다른 복수의 글루타르이미드 단위를 포함하고 있어도 좋다.
상기 아크릴계 수지에 있어서의 글루타르이미드 단위의 함유 비율은 바람직하게는 2몰%∼50몰%, 보다 바람직하게는 2몰%∼45몰%, 더욱 바람직하게는 2몰%∼40몰%, 특히 바람직하게는 2몰%∼35몰%, 가장 바람직하게는 3몰%∼30몰%이다. 함유 비율이 2몰%보다 적으면 글루타르이미드 단위에 유래해서 발현되는 효과(예를 들면, 높은 광학적 특성, 높은 기계적 강도, 편광자와의 우수한 접착성, 박형화)가 충분히 발휘되지 않을 우려가 있다. 함유 비율이 50몰%를 초과하면, 예를 들면, 내열성, 투명성이 불충분해질 우려가 있다. 또, 아크릴계 수지가 글루타르이미드 단위 대신에 또는 글루타르이미드 단위에 추가해서 락톤환 단위, 무수 말레산 단위, 말레이미드 단위 및/또는 무수 글루타르산 단위를 갖는 경우에는 상기 함유 비율은 이들 구조단위의 합계의 함유 비율일 수 있다.
상기 아크릴계 수지는 단일의 알킬(메타)아크릴레이트 단위만을 포함하고 있어도 좋고, 상기 일반식(2)에 있어서의 R4 및 R5가 다른 복수의 알킬(메타)아크릴레이트 단위를 포함하고 있어도 좋다.
상기 아크릴계 수지에 있어서의 알킬(메타)아크릴레이트 단위의 함유 비율은 바람직하게는 50몰%∼98몰%, 보다 바람직하게는 55몰%∼98몰%, 더욱 바람직하게는 60몰%∼98몰%, 특히 바람직하게는 65몰%∼98몰%, 가장 바람직하게는 70몰%∼97몰%이다. 함유 비율이 50몰%보다 적으면 알킬(메타)아크릴레이트 단위에 유래해서 발현되는 효과(예를 들면, 높은 내열성, 높은 투명성)가 충분히 발휘되지 않을 우려가 있다. 상기 함유 비율이 98몰%보다 많으면 수지가 물러서 깨지기 쉬워지고, 높은 기계적 강도가 충분히 발휘될 수 없고, 생산성이 떨어질 우려가 있다.
상기 아크릴계 수지는 알킬(메타)아크릴레이트 단위, 및, 글루타르이미드 단위, 락톤환 단위, 무수 말레산 단위, 말레이미드 단위 및/또는 무수 글루타르산 단위 이외의 단위를 포함하고 있어도 좋다. 예를 들면, 아크릴계 수지는 상기 이외의 공중합 가능한 비닐계 단량체 단위(다른 비닐계 단량체 단위)를 함유할 수 있다. 다른 비닐계 단량체로서는, 예를 들면, 아크릴로니트릴, 메타크릴로니트릴, 에타크릴로니트릴, 알릴글리시딜에테르, 무수 말레산, 무수 이타콘산, N-메틸말레이미드, N-에틸말레이미드, N-시클로헥실말레이미드, 아크릴산 아미노에틸, 아크릴산 프로필아미노에틸, 메타크릴산 디메틸아미노에틸, 메타크릴산 에틸아미노프로필, 메타크릴산 시클로헥실아미노에틸, N-비닐디에틸아민, N-아세틸비닐아민, 알릴아민, 메타알릴아민, N-메틸알릴아민, 2-이소프로페닐-옥사졸린, 2-비닐-옥사졸린, 2-아크로일-옥사졸린, N-페닐말레이미드, 메타크릴산 페닐아미노에틸, 스티렌, α-메틸스티렌, p-글리시딜스티렌, p-아미노스티렌, 2-스티릴-옥사졸린 등을 들 수 있다. 이들은 단독으로 사용해도 좋고 병용해도 좋다. 바람직하게는 스티렌, α-메틸스티렌 등의 스티렌계 단량체이다. 다른 비닐계 단량체 단위의 함유 비율은 바람직하게는 0∼1중량%이며, 보다 바람직하게는 0∼0.1중량%이다. 이러한 범위이면, 소망하지 않는 위상차의 발현 및 투명성의 저하를 억제할 수 있다.
상기 아크릴계 수지에 있어서의 이미드화율은 바람직하게는 2.5%∼20.0%이다. 이미드화율이 이러한 범위이면, 내열성, 투명성 및 성형 가공성이 우수한 수지가 얻어지고, 필름 성형시의 타서 검게 되는 것의 발생이나 기계적 강도의 저하가 방지될 수 있다. 상기 아크릴계 수지에 있어서, 이미드화율은 글루타르이미드 단위와 알킬(메타)아크릴레이트 단위의 비로 나타내어진다. 이 비는, 예를 들면, 아크릴계 수지의 NMR 스펙트럼, IR 스펙트럼 등으로부터 얻을 수 있다. 본 실시형태에 있어서는 이미드화율은 1HNMR BRUKER AvanceIII(400MHz)를 이용하여, 수지의 1H-NMR 측정에 의해 구할 수 있다. 보다 구체적으로는 3.5∼3.8ppm 부근의 알킬(메타)아크릴레이트의 O-CH3 프로톤 유래의 피크 면적을 A로 하고, 3.0∼3.3ppm 부근의 글루타르이미드의 N-CH3 프로톤 유래의 피크의 면적을 B로 해서 다음 식에 의해 구해진다.
이미드화율 Im(%)={B/(A+B)}×100
상기 아크릴계 수지의 산가는 바람직하게는 0.10mmol/g∼0.50mmol/g이다. 산가가 이러한 범위이면, 내열성, 기계물성 및 성형 가공성의 밸런스가 우수한 수지를 얻을 수 있다. 산가가 지나치게 작으면, 소망의 산가로 조정하기 위한 변성제의 사용에 의한 비용 상승, 변성제의 잔존에 의한 겔상물의 발생이라는 문제가 생기는 경우가 있다. 산가가 지나치게 크면, 필름 성형시(예를 들면, 용융 압출시)의 발포가 일어나기 쉬워지고, 성형품의 생산성이 저하되는 경향이 있다. 상기 아크릴계 수지에 있어서, 산가는 상기 아크릴계 수지에 있어서의 카르복실산 단위 및 카르복실산 무수물 단위의 함유량이다. 본 실시형태에 있어서는 산가는, 예를 들면, WO2005/054311 또는 일본 특허공개 2005-23272호 공보에 기재된 적정법에 의해 산출할 수 있다.
아크릴계 수지, 그 제조 방법 및 그 특성 등의 상세는, 예를 들면, 일본 특허공개 2016-139027호 공보, 일본 특허공개 2007-316366호 공보 및 일본 특허공개 2008-181078호 공보에 기재되어 있고, 이들 공보의 기재는 본 명세서에 참고로서 원용된다.
엘라스토머로서는 임의의 적절한 엘라스토머가 채용될 수 있다. 엘라스토머는 대표적으로는 의사 가교점으로서 작용할 수 있는 하드 세그먼트와 탄성에 주로 기여할 수 있는 소프트 세그먼트를 갖는다. 엘라스토머의 대표예로서는 고무상 중합체, 폴리아미드계 엘라스토머, 폴리에틸렌계 엘라스토머, 스티렌계 엘라스토머 및 부타디엔계 엘라스토머를 들 수 있다. 엘라스토머는 단독으로 사용해도 좋고 조합해서 사용해도 좋다. 엘라스토머는 소망의 특성에 따라 적절하게 선택될 수 있다. 예를 들면, 광학특성의 설계가 용이하다는 관점에서는 스티렌계 엘라스토머가 채용될 수 있다. 스티렌계 엘라스토머의 대표예로서는 하드 세그먼트인 폴리스티렌과 소프트 세그먼트인 폴리부타디엔, 폴리이소프렌, 또는 폴리부타디엔과 폴리이소프렌의 공중합체를 갖는 것, 및 이들의 수소 첨가물을 들 수 있다. 또, 수소 첨가물은 폴리부타디엔, 폴리이소프렌 등의 일부가 수소 첨가된 것이어도 좋고, 전체가 수소 첨가된 것이어도 좋다. 스티렌계 엘라스토머로서 시판품을 사용해도 좋다. 스티렌계 엘라스토머의 시판품으로서는, 예를 들면, 타프텍, 타프프렌(이상, 아사히 카세이 케미칼즈사제), 크레이톤(크레이톤폴리머재팬사제), 다이나론, JSR TR, JSR SIS(이상, JSR사제), 세프톤(쿠라레사제), 라바론(미츠비시 케미칼사제) 등을 들 수 있다. 폴리에틸렌계 엘라스토머로서는 에틸렌 블록을 50부 이상 갖는 것이 바람직하고, 시판품으로서 에쿠세렌 FX(스미토모 가가쿠 가부시키가이샤) 등을 들 수 있다. 폴리아미드계 엘라스토머는 폴리에테르 블록체를 갖는 것이 바람직하고, 시판품으로서는 페박스(도쿄 자이료 가부시키가이샤제) 등을 들 수 있다. 고무상 중합체로서는 코어셸형의 입자가 바람직하고, 시판품으로서는 W-300(미츠비시 케미칼 가부시키가이샤제) 등을 들 수 있다.
엘라스토머의 배합량은 아크릴계 수지 100중량부에 대해서 6중량부 이상, 바람직하게는 6중량부∼30중량부, 보다 바람직하게는 8중량부∼20중량부이다. 엘라스토머의 배합량이 이러한 범위이면, 매우 작은 면내 위상차와 우수한 가요성 또는 내절곡성을 양립한 표면 보호 필름용 기재를 실현할 수 있다.
본 발명의 실시형태에 있어서는, 표면 보호 필름용 기재의 면내 위상차 Re(550)는 30nm 이하이며, 바람직하게는 10nm 이하이며, 보다 바람직하게는 5nm 이하이며, 더욱 바람직하게는 3nm 이하이며, 특히 바람직하게는 2.5nm 이하이다. 면내 위상차 Re(550)는 작을수록 바람직하고, 그 하한은 이상적으로는 0nm이며, 예를 들면, 0.1nm일 수 있다. 면내 위상차 Re(550)가 이러한 범위이면, 본 발명의 표면 보호 필름용 기재를 사용한 표면 보호 필름을 화상 표시 장치의 광학 검사에 제공한 경우에, 광누설, 착색 및 무지개 얼룩을 양호하게 억제할 수 있다. 그 결과, 화상 표시 장치의 광학 검사의 정밀도를 현저하게 향상시킬 수 있고, 화상 표시 장치의 제조부터 출하까지의 효율을 향상시킬 수 있다. 이러한 면내 위상차 Re(550)는 상기와 같은 특정 아크릴계 수지와 특정 엘라스토머를 포함하는 필름을 후술하는 소정의 연신 조건으로 연신함으로써 실현할 수 있다. 또, 본 명세서에 있어서 「Re(λ)」는 23℃에 있어서의 파장 λnm의 광으로 측정한 면내 위상차이다. Re(λ)는 층(필름)의 두께를 d(nm)로 했을 때, 식:Re=(nx-ny)×d에 의해 구해진다. 따라서, 「Re(550)」는 23℃에 있어서의 파장 550nm의 광으로 측정한 면내 위상차이다. 여기에서, 「nx」는 면내의 굴절율이 최대가 되는 방향(즉, 지상축 방향)의 굴절율이며, 「ny」는 면내에서 지상축과 직교하는 방향(즉, 진상축 방향)의 굴절율이다.
표면 보호 필름용 기재의 두께 방향 위상차 Rth(550)는 바람직하게는 50nm 이하이며, 보다 바람직하게는 25nm 이하이며, 더욱 바람직하게는 15nm 이하이며, 특히 바람직하게는 10nm 이하이다. 두께 방향 위상차 Rth(550)는 작을수록 바람직하고, 그 하한은 이상적으로는 0nm이며, 예를 들면, 0.5nm일 수 있다. 두께 방향 위상차 Rth(550)가 이러한 범위이면, 상기 광학 검사에 있어서 경사 방향의 광누설, 착색 및 무지개 얼룩을 양호하게 억제할 수 있다. 그 결과, 대형의 화상 표시 장치의 광학 검사에 있어서도 정밀도를 현저하게 향상시킬 수 있다. 표면 보호 필름용 기재의 Nz 계수는 바람직하게는 1.1∼20이며, 보다 바람직하게는 1.5∼5.4이다. 따라서, 표면 보호 필름용 기재의 굴절률 특성은 예를 들면, nx>ny>nz의 관계를 나타낼 수 있다. Nz 계수가 이러한 범위이면, 광학 검사에 있어서 경사 방향의 광누설, 착색 및 무지개 얼룩을 더욱 양호하게 억제할 수 있다. 「Rth(λ)」는 23℃에 있어서의 파장 λnm의 광으로 측정한 두께 방향의 위상차이다. Rth(λ)는 층(필름)의 두께를 d(nm)로 했을 때, 식:Rth=(nx-nz)×d에 의해 구해진다. 따라서, 「Rth(550)」는 23℃에 있어서의 파장 550nm의 광으로 측정한 두께 방향의 위상차이다. 여기에서, 「nz」는 두께 방향의 굴절율이다. 또한, 「Nz 계수」는 Nz=Rth(λ)/Re(λ)로 구해진다.
표면 보호 필름용 기재는 면내 위상차가 측정광의 파장에 따라 커지는 역분산 파장 특성을 나타내도 좋고, 면내 위상차가 측정광의 파장에 따라 작아지는 정(正)의 파장 분산 특성을 나타내도 좋고, 면내 위상차가 측정광의 파장에 의해서도 거의 변화되지 않는 플랫한 파장 분산 특성을 나타내도 좋다.
표면 보호 필름용 기재의 전광선 투과율은 바람직하게는 80% 이상이며, 보다 바람직하게는 85% 이상이며, 더욱 바람직하게는 90% 이상이며, 특히 바람직하게는 95% 이상이다. 또한, 표면 보호 필름용 기재의 헤이즈는 바람직하게는 1.0% 이하이며, 보다 바람직하게는 0.7% 이하이며, 더욱 바람직하게는 0.5% 이하이며, 특히 바람직하게는 0.3% 이하이다. 본 발명의 실시형태에 의하면, 상기와 같은 매우 작은 면내 위상차 Re(550)를 갖고, 또한, 이렇게 매우 우수한 투명성을 갖는 표면 보호 필름용 기재를 실현할 수 있다.
본 발명의 실시형태에 있어서는, 표면 보호 필름용 기재는 MIT 시험에 있어서의 파단까지의 절곡 횟수가 500회 이상이며, 바람직하게는 1000회 이상이며, 보다 바람직하게는 1500회 이상이며, 더욱 바람직하게는 2000회 이상이다. 즉, 표면 보호 필름용 기재는 매우 우수한 가요성 또는 내절곡성을 가질 수 있다. 표면 보호 필름용 기재의 이러한 우수한 가요성 또는 내절곡성에 기인하여 접합시 및 박리시의 조작성이 우수하고, 또한, 깨짐이 억제된 표면 보호 필름을 얻을 수 있다. 본 발명의 실시형태에 의하면, 이러한 우수한 가요성 또는 내절곡성과 상기와 같은 매우 작은 면내 위상차 Re(550)를 양립할 수 있다. 이러한 양립을 실현한 것이 본 발명의 성과의 하나이다. 또, MIT 시험은 JIS P 8115에 준거해서 행해질 수 있다.
표면 보호 필름용 기재의 탄성률은 바람직하게는 인장속도 100mm/min에 있어서 50㎫∼350㎫이다. 탄성률이 이러한 범위이면, 반송성 및 조작성이 우수한 표면 보호 필름을 얻을 수 있다. 본 발명의 실시형태에 의하면, 우수한 탄성률(강도)과 상기와 같은 우수한 가요성 또는 내절곡성(유연함)을 양립할 수 있다. 또, 탄성률은 JIS K 7127:1999에 준거해서 측정된다.
표면 보호 필름용 기재의 인장신도는 바람직하게는 70%∼200%이다. 인장신도가 이러한 범위이면, 반송 중에 파단되기 어렵다는 이점을 갖는다. 또, 인장신도는 JIS K 6781에 준거해서 측정된다.
표면 보호 필름용 기재의 두께는 대표적으로는 10㎛∼100㎛이며, 바람직하게는 20㎛∼70㎛이다.
B. 표면 보호 필름용 기재의 제조 방법
본 발명의 실시형태에 의한 표면 보호 필름용 기재의 제조 방법은 상기 A항에 기재된 아크릴계 수지와 엘라스토머를 포함하는 필름 형성 재료(수지 조성물)를 필름상으로 성형하는 것, 및, 상기 성형된 필름을 연신하는 것을 포함한다.
필름 형성 재료는 상기 아크릴계 수지 및 상기 엘라스토머에 추가해서, 다른 수지를 포함하고 있어도 좋고, 첨가제를 포함하고 있어도 좋고, 용매를 포함하고 있어도 좋다. 첨가제로서는 목적에 따라서 임의의 적절한 첨가제가 채용될 수 있다. 첨가제의 구체예로서는 반응성 희석제, 가소제, 계면활성제, 충전제, 산화방지제, 노화방지제, 자외선흡수제, 레벨링제, 틱소트로피제, 대전방지제, 도전재, 난연제를 들 수 있다. 첨가제의 수, 종류, 조합, 첨가량 등은 목적에 따라서 적절하게 설정될 수 있다.
필름 형성 재료로 필름을 형성하는 방법으로서는 임의의 적절한 성형 가공법이 채용될 수 있다. 구체예로서는 압축 성형법, 트랜스퍼 성형법, 사출 성형법, 압출 성형법, 블로우 성형법, 분말 성형법, FRP 성형법, 캐스트 도포법(예를 들면, 유연법), 캘린더 성형법, 열 프레스법 등을 들 수 있다. 압출 성형법 또는 캐스트 도포법이 바람직하다. 얻어지는 필름의 평활성을 높이고, 양호한 광학적 균일성을 얻을 수 있기 때문이다. 성형 조건은 사용되는 수지의 조성이나 종류, 표면 보호 필름용 기재에 소망되는 특성 등에 따라 적당하게 설정될 수 있다.
필름의 연신 방법은 대표적으로는 2축 연신이며, 더 상세하게는 축차 2축 연신 또는 동시 2축 연신이다. 면내 위상차 Re(550)가 작고, 또한, 가요성 또는 내절곡성이 우수한 표면 보호 필름용 기재가 얻어지기 때문이다. 축차 2축 연신 또는 동시 2축 연신은 대표적으로는 텐터 연신기를 이용하여 행해진다. 따라서, 필름의 연신 방향은 대표적으로는 필름의 길이방향 및 폭방향이다.
연신 온도는 표면 보호 필름용 기재에 소망되는 면내 위상차 및 두께, 사용되는 수지의 종류, 사용되는 필름의 두께, 연신 배율 등에 따라 변화될 수 있다. 구체적으로는 연신 온도는 필름의 유리전이온도(Tg)에 대해서, 바람직하게는 Tg+5℃∼Tg+50℃이며, 보다 바람직하게는 Tg+10℃∼Tg+30℃이다. 이러한 온도로 연신함으로써, 본 발명의 실시형태에 있어서 적절한 특성을 갖는 표면 보호 필름용 기재가 얻어질 수 있다.
연신 배율은 표면 보호 필름용 기재에 소망되는 면내 위상차 및 두께, 사용되는 수지의 종류, 사용되는 필름의 두께, 연신 온도 등에 따라 변화될 수 있다. 2축 연신(예를 들면, 축차 2축 연신 또는 동시 2축 연신)을 채용하는 경우에는 제1방향(예를 들면, 길이방향)의 연신 배율과 제2방향(예를 들면, 폭방향)의 연신 배율은 바람직하게는 그 차가 가능한 한 작고, 보다 바람직하게는 실질적으로 같다. 이러한 구성이면, 면내 위상차 Re(550)가 작고, 또한, 가요성 또는 내절곡성이 우수한 표면 보호 필름용 기재가 얻어질 수 있다. 2축 연신(예를 들면, 축차 2축 연신 또는 동시 2축 연신)을 채용하는 경우에는 연신 배율은 제1방향(예를 들면, 길이방향) 및 제2방향(예를 들면, 폭방향)의 각각에 대해서, 예를 들면, 1.1배∼3.0배일 수 있다.
본 발명의 실시형태에 있어서는, 연신 속도는 바람직하게는 10%/초 이하이며, 보다 바람직하게는 7%/초 이하이며, 더욱 바람직하게는 5%/초 이하이며, 특히 바람직하게는 2.5%/초 이하이다. 상기와 같은 특정 아크릴계 수지와 특정 엘라스토머를 포함하는 필름을 이러한 작은 연신 속도로 연신함으로써, 면내 위상차 Re(550)가 작고, 또한, 가요성 또는 내절곡성이 우수한 표면 보호 필름용 기재가 얻어질 수 있다. 연신 속도의 하한은 예를 들면, 1.2%/초일 수 있다. 연신 속도가 지나치게 작으면, 생산성이 실용적이지 않게 되는 경우가 있다. 또, 2축 연신(예를 들면, 축차 2축 연신 또는 동시 2축 연신)을 채용하는 경우에는 제1방향(예를 들면, 길이방향)의 연신 속도와 제2방향(예를 들면, 폭방향)의 연신 속도는 바람직하게는 그 차가 가능한 한 작고, 보다 바람직하게는 실질적으로 같다. 이러한 구성이면, 면내 위상차 Re(550)를 보다 작게 하고, 또한, 가요성 또는 내절곡성을 보다 우수한 것으로 할 수 있다.
C. 표면 보호 필름
상기 A항 및 B항에 기재된 표면 보호 필름용 기재는 표면 보호 필름에 적합하게 사용될 수 있다. 따라서, 본 발명의 실시형태는 표면 보호 필름도 포함한다. 본 발명의 실시형태에 의한 표면 보호 필름은 상기 A항 및 B항에 기재된 표면 보호 필름용 기재와 점착제층을 포함한다.
점착제층을 형성하는 점착제로서는 임의의 적절한 점착제가 채용될 수 있다. 점착제의 베이스 수지로서는, 예를 들면, 아크릴계 수지, 스티렌계 수지, 실리콘계 수지, 우레탄계 수지, 고무계 수지를 들 수 있다. 이러한 베이스 수지는, 예를 들면, 일본 특허공개 2015-120337호 공보 또는 일본 특허공개 2011-201983호 공보에 기재되어 있다. 이들 공보의 기재는 본 명세서에 참고로서 원용된다. 내약품성, 침지시에 있어서의 처리액의 침입을 방지하기 위한 밀착성, 피착체에의 자유도 등의 관점으로부터 아크릴계 수지가 바람직하다. 점착제에 포함될 수 있는 가교제로서는, 예를 들면, 이소시아네이트 화합물, 에폭시 화합물, 아지리딘 화합물을 들 수 있다. 점착제는, 예를 들면, 실란커플링제를 포함하고 있어도 좋다. 점착제의 배합 처방은 목적 및 소망의 특성에 따라 적절하게 설정될 수 있다.
점착제층의 저장탄성률은 바람직하게는 1.0×104Pa∼1.0×107Pa이며, 보다 바람직하게는 2.0×104Pa∼5.0×106Pa이다. 점착제층의 저장탄성률이 이러한 범위이면, 롤 형성시의 블록킹을 억제할 수 있다. 또, 저장탄성률은 예를 들면, 온도 23℃ 및 각속도 0.1rad/s에서의 동적 점탄성 측정으로부터 구할 수 있다.
점착제층의 두께는 바람직하게는 1㎛∼60㎛이며, 보다 바람직하게는 3㎛∼30㎛이다. 두께가 지나치게 얇으면 점착성이 불충분하게 되고, 점착 계면에 기포 등이 들어가는 경우가 있다. 두께가 지나치게 두꺼우면, 점착제가 밀려나오는 등의 문제가 생기기 쉬워진다.
실용적으로는 표면 보호 필름이 실제로 사용될(즉, 광학 필름 또는 화상 표시 장치에 접합될) 때까지의 동안, 점착제층 표면에 세퍼레이터가 박리 가능하게 임시 부착되어 있다. 세퍼레이터를 형성함으로써, 점착제층을 보호함과 아울러 표면 보호 필름을 롤상으로 권취하는 것이 가능해진다. 세퍼레이터로서는, 예를 들면, 실리콘계 박리제, 불소계 박리제, 장쇄 알킬아크릴레이트계 박리제 등의 박리제에 의해 표면 코트된 플라스틱(예를 들면, 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET), 폴리에틸렌, 폴리프로필렌) 필름, 부직포 또는 종이 등을 들 수 있다. 세퍼레이터의 두께는 목적에 따라서 임의의 적절한 두께를 채용할 수 있다. 세퍼레이터의 두께는, 예를 들면, 10㎛∼100㎛이다.
D. 표면 보호 필름 부착 광학 필름
상기 C항에 기재된 표면 보호 필름은 광학 필름(최종적으로는 화상 표시 장치)이 실제로 사용될 때까지의 동안, 상기 광학 필름을 보호하기 위해서 사용된다. 따라서, 본 발명의 실시형태는 표면 보호 필름 부착 광학 필름도 포함한다. 본 발명의 실시형태에 의한 표면 보호 필름 부착 광학 필름은 광학 필름과, 상기 광학 필름에 박리 가능하게 접합된 상기 C항에 기재된 표면 보호 필름을 포함한다.
광학 필름은 단일 필름이어도 좋고 적층체이어도 좋다. 광학 필름의 구체예로서는 편광자, 위상차 필름, 편광판(대표적으로는 편광자와 보호 필름의 적층체), 터치패널용 도전성 필름, 표면 처리 필름, 및, 이들을 목적에 따라서 적절하게 적층한 적층체(예를 들면, 반사 방지용 원편광판, 터치패널용 도전층 부착 편광판, 위상차층 부착 편광판, 프리즘 시트 일체형 편광판)를 들 수 있다.
(실시예)
이하, 실시예에 의해 본 발명을 구체적으로 설명하지만, 본 발명은 이들 실시예에 의해 한정되는 것은 아니다. 실시예에 있어서의 각 특성의 측정 방법은 이하와 같다. 또, 특별히 명기하지 않는 한, 실시예에 있어서의 「부」 및 「%」는 중량 기준이다.
(1)면내 위상차 Re(550) 및 두께 방향 위상차 Rth(550)
실시예 및 비교예에서 얻어진 표면 보호 필름용 기재(2축 연신 필름)를 길이 4cm 및 폭 4cm로 잘라내고, 측정 시료로 했다. 상기 측정 시료에 대해서, Axometrics사제, 제품명「Axoscan」을 이용하여 면내 위상차 및 두께방향 위상차를 측정했다. 측정 파장은 550nm, 측정 온도는 23℃였다.
(2)헤이즈
상기 (1)과 같은 측정 시료에 대해서, 헤이즈 미터(무라카미 시키사이 기쥬츠 켄큐죠제, HM-150형)를 이용하여 헤이즈를 측정했다. 측정 온도는 23℃였다.
(3)MIT 시험
MIT 시험은 JIS P 8115에 준거해서 행했다. 구체적으로는 실시예 및 비교예에서 얻어진 표면 보호 필름용 기재(2축 연신 필름)을 길이 15cm 및 폭 1.5cm로 잘라내고, 측정 시료로 했다. 측정 시료를 MIT 내절피로 시험기(MIT TYPE FOLDING ENDURANCE TESTER) BE-202형(테스터 산교(주)제)에 부착하고(하중 1.0kgf, 클램프의 R:0.38mm), 시험 속도 90cpm 및 절곡 각도 90°로 2000회를 상한으로 해서 반복 절곡을 행하고, 측정 시료가 파단되었을 때의 절곡 횟수를 시험값으로 했다.
(4)무지개 얼룩
실시예 및 비교예에서 얻어진 표면 보호 필름용 기재(2축 연신 필름)을 크로스 니콜 상태의 2매의 편광판 사이에 배치했다. 그 때, 표면 보호 필름용 기재의 길이방향과 한쪽의 편광판의 투과축 방향이 평행하게 되도록 표면 보호 필름용 기재를 배치했다. 그 상태에서 하측 편광판의 하측으로부터 형광등의 광을 조사하고, 무지개 얼룩의 유무를 육안에 의해 관찰했다. 이하의 기준으로 평가했다.
○:무지개 얼룩은 확인되지 않았다
△:무지개 얼룩이 약간 확인되었다
×:무지개 얼룩이 현저하게 확인되었다
(5)가요성 또는 내절곡성
표면 보호 필름용 기재(2축 연신 필름)에 대해서 180°절곡 시험을 100회 반복하고, 파단의 유무를 확인했다. 이하의 기준으로 평가했다.
○:파단은 확인되지 않았다
×:파단이 확인되었다
<실시예 1>
1-1.아크릴계 수지의 중합 및 엘라스토머의 배합
교반 장치, 온도센서, 냉각관 및 질소 도입관을 구비한 반응 용기에 메타크릴산 메틸(MMA) 229.6부, 2-(히드록시메틸)아크릴산 메틸(MHMA) 33부, 톨루엔 248.6부, 및 n-도데실메르캅탄 0.19부를 투입하고, 이것에 질소를 통과시키면서, 105℃까지 승온시켰다. 승온에 따른 환류가 시작된 시점에서, 중합개시제로서 t-아밀퍼옥시이소노나노에이트(알케마 요시토미사제 「루페록스(등록상표) 570」) 0.28부를 첨가하고, 또한 t-아밀퍼옥시이소노나노에이트 0.56부와 스티렌 12.4부를 2시간에 걸쳐서 적하하면서 약 105℃∼110℃의 환류 하에서 용액 중합을 진행시키고, 적하 종료 후, 동 온도에서 4시간의 숙성을 더 행했다. 다음에 얻어진 중합 용액에 환화 축합 반응의 촉매(환화 촉매)로서 인산 스테아릴(사카이 가가쿠 고교사제 「Phoslex A-18」) 0.21부를 첨가하고, 약 90∼110℃의 환류 하에 있어서 2시간, 락톤환 구조를 형성하기 위한 환화 축합 반응을 진행시켰다. 다음에 얻어진 중합 용액을 240℃로 가열한 다관식 열교환기에 통과시켜서 환화 축합 반응을 완결시켰다. 이렇게 해서 락톤환 단위를 갖는 아크릴계 수지를 얻었다.
이어서, 상기 환화 축합 반응의 완결로부터 연속해서 상기 수지용액을 배럴 온도가 250℃이며, 1개의 리어 벤트, 4개의 포어 벤트(상류측부터 제1, 제2, 제3, 제4벤트라고 칭한다) 및 제3벤트와 제4벤트 사이에 사이드 피더를 구비하고, 선단부에 리프 디스크형의 폴리머 필터(여과 정밀도 5㎛)가 배치된 벤트타입 스크류 2축 압출기(L/D=52)에 31.2부/시(수지량 환산)의 처리 속도로 도입했다. 그 때, 이온 교환수를 0.47부/시의 투입 속도로 제2벤트의 뒤로부터 투입하고, 자외선흡수제(ADEKA사제 「아데카스타브(등록상표) LA-F70」) 0.66부를 톨루엔 1.23부에 용해시킨 용액을 0.59부/시의 투입 속도로 제3벤트의 뒤로부터 투입하고, 또한 이온 교환수를 0.47부/시의 투입 속도로 제4벤트의 뒤로부터 투입했다. 또한, 폴리에틸렌계 엘라스토머(스미토모 가가쿠 가부시키가이샤제, 제품명「에쿠세렌 FX」)의 펠릿을 사이드 피더로부터 0.63부/시의 투입 속도로 투입했다. 이렇게 해서 락톤환 단위를 갖는 아크릴계 수지와 폴리에틸렌계 엘라스토머를 포함하는 펠릿을 제작했다. 얻어진 펠릿은 아크릴 수지 100중량부에 대해서 엘라스토머가 10중량부 함유되어 있었다.
1-2.아크릴계 수지와 엘라스토머를 포함하는 필름의 제작
얻어진 펠릿을 80℃에서 5시간 진공건조를 한 후, 단축 압출기(이스즈 카코키사제, 스크류 지름 25mm, 실린더 설정 온도:250℃), T다이(폭 200mm, 설정 온도:250℃), 칠드롤(설정 온도:120∼130℃) 및 권취기를 구비한 필름 제막 장치를 이용하여, 두께 160㎛의 아크릴계 수지와 엘라스토머를 포함하는 필름을 제작했다. 아크릴계 수지와 엘라스토머를 포함하는 필름의 유리전이온도(Tg)는 121℃였다.
1-3.표면 보호 필름용 기재의 제작
상기에서 얻어진 아크릴계 수지와 엘라스토머를 포함하는 필름을 길이방향 및 폭방향으로 각각 2배로 동시 2축 연신했다. 연신 온도는 [Tg+10℃](즉, 131℃), 연신 속도는 길이방향 및 폭방향 모두 1.4%/초였다. 이렇게 해서 표면 보호 필름용 기재(두께 40㎛)를 얻었다. 얻어진 표면 보호 필름용 기재의 Re(550)는 0.3nm이며, Rth(550)는 1.6nm이며, 헤이즈는 0.6%이며, MIT 시험값은 상한의 2000회를 초과하는 것이었다. 얻어진 표면 보호 필름용 기재를 상기 (4) 및 (5)의 평가에 제공했다. 결과를 표 1에 나타낸다.
<실시예 2>
엘라스토머의 배합량을 15중량부로 한 것, 및, 연신 온도를 [Tg+20℃]로 한 것 이외는 실시예 1과 동일하게 해서 표면 보호 필름용 기재를 얻었다. 얻어진 표면 보호 필름용 기재의 Re(550)는 0.5nm이며, Rth(550)는 9nm이며, 헤이즈는 0.2%이며, MIT 시험값은 상한의 2000회를 초과하는 것이었다. 얻어진 표면 보호 필름용 기재를 상기 (4) 및 (5)의 평가에 제공했다. 결과를 표 1에 나타낸다.
<실시예 3>
엘라스토머의 배합량을 8중량부로 한 것, 및, 연신 온도를 [Tg+30℃]로 한 것 이외는 실시예 1과 동일하게 해서 표면 보호 필름용 기재를 얻었다. 얻어진 표면 보호 필름용 기재의 Re(550)는 2nm이며, Rth(550)는 20nm이며, 헤이즈는 0.3%이며, MIT 시험값은 1032회였다. 얻어진 표면 보호 필름용 기재를 상기 (4) 및 (5)의 평가에 제공했다. 결과를 표 1에 나타낸다.
<실시예 4>
폴리에틸렌계 엘라스토머 10중량부 대신에 스티렌계 엘라스토머(아사히 카세이 가부시키가이샤제, 제품명「타프텍」) 10중량부를 사용한 것, 및, 연신 온도를 [Tg+20℃]로 한 것 이외는 실시예 1과 동일하게 해서 표면 보호 필름용 기재를 얻었다. 얻어진 표면 보호 필름용 기재의 Re(550)는 0.8nm이며, Rth(550)는 3nm이며, 헤이즈는 0.3%이며, MIT 시험값은 상한의 2000회를 초과하는 것이었다. 얻어진 표면 보호 필름용 기재를 상기 (4) 및 (5)의 평가에 제공했다. 결과를 표 1에 나타낸다.
<실시예 5>
엘라스토머의 배합량을 15중량부로 한 것, 및, 연신 온도를 [Tg+30℃]로 한 것 이외는 실시예 4와 동일하게 해서 표면 보호 필름용 기재를 얻었다. 얻어진 표면 보호 필름용 기재의 Re(550)는 1.2nm이며, Rth(550)는 5.1nm이며, 헤이즈는 0.4%이며, MIT 시험값은 상한의 2000회를 초과하는 것이었다. 얻어진 표면 보호 필름용 기재를 상기 (4) 및 (5)의 평가에 제공했다. 결과를 표 1에 나타낸다.
<실시예 6>
폴리에틸렌계 엘라스토머 10중량부 대신에 폴리아미드계 엘라스토머(도쿄 자이료 가부시키가이샤제, 제품명「페박스」) 20중량부를 사용한 것, 및, 연신 온도를 [Tg+20℃]로 한 것 이외는 실시예 1과 동일하게 해서 표면 보호 필름용 기재를 얻었다. 얻어진 표면 보호 필름용 기재의 Re(550)는 2.3nm이며, Rth(550)는 3.1nm이며, 헤이즈는 0.8%이며, MIT 시험값은 상한의 2000회를 초과하는 것이었다. 얻어진 표면 보호 필름용 기재를 상기 (4) 및 (5)의 평가에 제공했다. 결과를 표 1에 나타낸다.
<실시예 7>
폴리에틸렌계 엘라스토머 10중량부 대신에 코어셸형의 고무상 입자(미츠비시 케미칼 가부시키가이샤제, 제품명「W-300」) 10중량부를 사용한 것, 및, 연신 온도를 [Tg+20℃]로 한 것 이외는 실시예 1과 동일하게 해서 표면 보호 필름용 기재를 얻었다. 얻어진 표면 보호 필름용 기재의 Re(550)는 0.3nm이며, Rth(550)는 1nm이며, 헤이즈는 0.3%이며, MIT 시험값은 592회였다. 얻어진 표면 보호 필름용 기재를 상기 (4) 및 (5)의 평가에 제공했다. 결과를 표 1에 나타낸다.
<비교예 1>
아크릴계 수지와 엘라스토머를 포함하는 필름 대신에 시판의 노르보넨계 수지 필름(니폰 제온사제, 상품명 「제오노아」, Tg:150℃)을 사용한 것, 및, 연신 온도를 [Tg+20℃]로 한 것 이외는 실시예 1과 동일하게 해서 표면 보호 필름용 기재를 얻었다. 얻어진 표면 보호 필름용 기재의 Re(550)는 2nm이며, Rth(550)는 8nm이며, 헤이즈는 0.1%이며, MIT 시험값은 150회였다. 얻어진 표면 보호 필름용 기재를 상기 (4) 및 (5)의 평가에 제공했다. 결과를 표 1에 나타낸다.
<비교예 2>
아크릴계 수지와 엘라스토머를 포함하는 필름 대신에 초고 위상차 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름(미츠비시 케미칼사제, 상품명 「다이아포일」, Tg:81℃)을 사용한 것, 및, 연신 온도를 [Tg+20℃]로 한 것 이외는 실시예 1과 동일하게 해서 표면 보호 필름용 기재를 얻었다. 얻어진 표면 보호 필름용 기재의 Re(550)는 4500nm이며, Rth(550)는 6000nm이며, 헤이즈는 1.3%이며, MIT 시험값은 상한의 2000회를 초과하는 것이었다. 얻어진 표면 보호 필름용 기재를 상기 (4) 및 (5)의 평가에 제공했다. 결과를 표 1에 나타낸다.
<비교예 3>
엘라스토머의 배합량을 5중량부로 한 것, 및, 연신 온도를 [Tg+20℃]로 한 것 이외는 실시예 1과 동일하게 해서 표면 보호 필름용 기재를 얻었다. 얻어진 표면 보호 필름용 기재의 Re(550)는 0.6nm이며, Rth(550)는 1.3nm이며, 헤이즈는 0.2%이며, MIT 시험값은 412회였다. 얻어진 표면 보호 필름용 기재를 상기 (4) 및 (5)의 평가에 제공했다. 결과를 표 1에 나타낸다.
<평가>
표 1로부터 명백하듯이, 본 발명의 실시예의 표면 보호 필름용 기재는 무지개 얼룩이 방지되고, 또한, 우수한 내절곡성(또는 가요성)을 갖는 것을 알 수 있다. 이것은 특정 아크릴계 수지와 특정 엘라스토머를 포함하는 필름을 소정의 연신 조건으로 연신함으로써 실현될 수 있다고 추찰된다. 또한, 비교예 3의 결과로부터, 엘라스토머의 배합량이 5중량부를 초과하는 근변에 내절곡성(또는 가요성)이 허용범위를 밑도는 임계적인 값이 존재할 수 있는 것을 알 수 있다. 또, 광누설 및 착색에 대해서도 무지개 얼룩과 같은 결과가 얻어지는 것을 확인했다.
본 발명의 표면 보호 필름용 기재는 표면 보호 필름에 적합하게 사용된다. 본 발명의 표면 보호 필름은 광학 필름(최종적으로는 화상 표시 장치)이 실제로 사용될 때까지의 동안, 상기 광학 필름을 보호하기 위해서 사용된다. 본 발명의 표면 보호 필름용 기재 및 표면 보호 필름을 사용함으로써, 화상 표시 장치의 광학 검사의 정밀도를 현저하게 향상시킬 수 있다.
Claims (8)
- 아크릴계 수지와 엘라스토머를 포함하는 필름으로 구성되고, 면내 위상차 Re(550)가 30nm 이하이며, MIT 시험에 있어서의 파단까지의 절곡 횟수가 500회 이상이며, 상기 아크릴계 수지 100중량부에 대해서 상기 엘라스토머를 6중량부 이상 포함하는 표면 보호 필름용 기재.
- 제 1 항에 있어서,
상기 아크릴계 수지가 글루타르이미드 단위, 락톤환 단위, 무수 말레산 단위, 말레이미드 단위 및 무수 글루타르산 단위로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1개를 갖는 표면 보호 필름용 기재. - 제 1 항에 있어서,
상기 엘라스토머가 고무상 중합체, 폴리아미드계 엘라스토머, 폴리에틸렌계 엘라스토머, 스티렌계 엘라스토머 및 부타디엔계 엘라스토머로부터 선택되는 적어도 1개인 표면 보호 필름용 기재. - 제 1 항에 있어서,
전광선 투과율이 80% 이상이며, 헤이즈가 1.0% 이하인 표면 보호 필름용 기재. - 제 1 항에 기재된 표면 보호 필름용 기재의 제조 방법으로서,
아크릴계 수지와 엘라스토머를 포함하는 필름 형성 재료를 필름상으로 성형하는 것, 및, 상기 성형된 필름을 축차 2축 연신 또는 동시 2축 연신하는 것을 포함하는 표면 보호 필름용 기재의 제조 방법. - 제 5 항에 있어서,
상기 축차 2축 연신 또는 동시 2축 연신에 있어서의 연신 온도가 Tg+10℃∼Tg+30℃인 표면 보호 필름용 기재의 제조 방법. - 제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 기재된 표면 보호 필름용 기재와 점착제층을 포함하는 표면 보호 필름.
- 광학 필름과, 상기 광학 필름에 박리 가능하게 접합된 제 7 항에 기재된 표면 보호 필름을 포함하는 표면 보호 필름 부착 광학 필름.
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