CN110862636A - 表面保护薄膜用基材、该基材的制造方法、使用该基材的表面保护薄膜 - Google Patents

表面保护薄膜用基材、该基材的制造方法、使用该基材的表面保护薄膜 Download PDF

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Abstract

本发明提供表面保护薄膜用基材、该基材的制造方法、使用该基材的表面保护薄膜。提供具有优异的挠性或耐弯折性、并且可良好地抑制光学检查时的漏光、着色及彩虹状不均匀的表面保护薄膜用基材。本发明的表面保护薄膜用基材由包含丙烯酸类树脂和弹性体的薄膜构成，面内相位差Re(550)为30nm以下、MIT试验中的直至断裂为止的弯折次数为500次以上。本发明的表面保护薄膜用基材的制造方法包括：将包含丙烯酸类树脂和弹性体的薄膜形成材料成形为薄膜状；及对成形得到的薄膜进行逐次双轴拉伸或同时双轴拉伸。

Description

表面保护薄膜用基材、该基材的制造方法、使用该基材的表面 保护薄膜
技术领域
本发明涉及表面保护薄膜用基材、该基材的制造方法、使用该基材的表面保护薄膜、及带表面保护薄膜的光学薄膜。
背景技术
对于光学薄膜(例如，偏光板、包含偏光板的层叠体)，为了在直至应用该光学薄膜的图像显示装置实际使用之前的期间保护该光学薄膜(最终为图像显示装置)，以可剥离的方式贴合有表面保护薄膜。实用中，将光学薄膜/表面保护薄膜的层叠体贴合于显示单元来制作图像显示装置，在贴合有该层叠体的状态下将图像显示装置供于光学试验(例如，点亮试验)，在之后的适当的时间将表面保护薄膜剥离去除。表面保护薄膜代表性地具有作为基材的树脂薄膜和粘合剂层。利用以往的表面保护薄膜，有时在光学检查时发生漏光、着色、彩虹状不均匀等，成为光学检查的精度降低的原因。其结果，有时尽管图像显示装置自身没有问题，在出厂前的光学检查中也会被判断为不良，由此，存在从图像显示装置的制造到出厂为止的效率降低的问题。进而，对于表面保护薄膜(实质上为基材)，考虑贴合时及剥离时的操作性，要求优异的挠性。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：日本特开2017-190406号公报
发明内容
发明要解决的问题
本发明是为了解决上述现有的问题而作出的，其主要目的在于，提供具有优异的挠性或耐弯折性、并且可良好地抑制光学检查时的漏光、着色及彩虹状不均匀的表面保护薄膜用基材。
用于解决问题的方案
本发明的实施方式的表面保护薄膜用基材由包含丙烯酸类树脂和弹性体的薄膜构成，面内相位差Re(550)为30nm以下，MIT试验中的直至断裂为止的弯折次数为500次以上，相对于该丙烯酸类树脂100重量份，包含6重量份以上该弹性体。
1个实施方式中，上述丙烯酸类树脂具有选自由戊二酰亚胺单元、内酯环单元、马来酸酐单元、马来酰亚胺单元及戊二酸酐单元组成的组中的至少1者。
1个实施方式中，上述弹性体为选自橡胶状聚合物、聚酰胺系弹性体、聚乙烯系弹性体、苯乙烯系弹性体及丁二烯系弹性体中的至少1者。
1个实施方式中，上述表面保护薄膜用基材的总透光率为80％以上，雾度为1.0％以下。
根据本发明的另一方面，提供上述表面保护薄膜用基材的制造方法。该制造方法包括：将包含丙烯酸类树脂和弹性体的薄膜形成材料成形为薄膜状；及对该成形得到的薄膜进行逐次双轴拉伸或同时双轴拉伸。
1个实施方式中，上述制造方法中，上述逐次双轴拉伸或同时双轴拉伸中的拉伸温度为Tg+10℃～Tg+30℃。
根据本发明的又一方面，提供表面保护薄膜。该表面保护薄膜包含上述表面保护薄膜用基材和粘合剂层。
根据本发明的又一方面，提供带表面保护薄膜的光学薄膜。该带表面保护薄膜的光学薄膜包含：光学薄膜、和以可剥离的方式贴合于该光学薄膜的上述表面保护薄膜。
发明的效果
根据本发明的实施方式，通过对包含丙烯酸类树脂和弹性体的薄膜在规定的拉伸条件(例如，拉伸温度及拉伸速度)下进行拉伸，能够实现兼顾非常小的面内相位差和优异的挠性或耐弯折性的表面保护薄膜用基材。
具体实施方式
以下，对本发明的优选实施方式进行说明，但本发明不限定于这些实施方式。
A.表面保护薄膜用基材
本发明的实施方式的表面保护薄膜用基材由包含丙烯酸类树脂和弹性体的薄膜构成。
作为丙烯酸类树脂，可以采用任意适当的丙烯酸类树脂。对于丙烯酸类树脂，代表性的是，作为单体单元，含有(甲基)丙烯酸烷基酯作为主成分。本说明书中，“(甲基)丙烯酸”是指丙烯酸和/或甲基丙烯酸。作为构成丙烯酸类树脂的主骨架的(甲基)丙烯酸烷基酯，可以例示出直链状或支链状的烷基的碳数1～18的(甲基)丙烯酸烷基酯。它们可以单独使用或组合使用。进而，可以通过共聚向丙烯酸类树脂中导入任意适当的共聚单体。这样的共聚单体的种类、数量、共聚比等可以根据目的来适当地设定。对于丙烯酸类树脂的主骨架的构成成分(单体单元)，参照通式(2)在后面进行叙述。
丙烯酸类树脂优选具有选自戊二酰亚胺单元、内酯环单元、马来酸酐单元、马来酰亚胺单元及戊二酸酐单元中的结构单元。丙烯酸类树脂可以仅具有这些结构单元中的1种，也可以具有多种。具有内酯环单元的丙烯酸类树脂例如记载于日本特开2008-181078号公报，该公报的记载作为参考被援引至本说明书中。戊二酰亚胺单元优选由下述通式(1)表示，
Figure BDA0002182422030000041
通式(1)中，R1及R2各自独立地表示氢或碳数1～8的烷基，R3表示碳数1～18的烷基、碳数3～12的环烷基、或碳数6～10的芳基。通式(1)中，优选的是，R1及R2各自独立地为氢或甲基，R3为氢、甲基、丁基或环己基。更优选R1为甲基、R2为氢、R3为甲基。
上述(甲基)丙烯酸烷基酯代表性的是由下述通式(2)表示，
Figure BDA0002182422030000042
通式(2)中，R4表示氢原子或甲基，R5表示氢原子、或任选被取代的碳数1～6的脂肪族或脂环式烃基。作为取代基，例如，可列举出卤素、羟基。作为(甲基)丙烯酸烷基酯的具体例，可列举出(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸正丙酯、(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸叔丁酯、(甲基)丙烯酸正己酯、(甲基)丙烯酸环己酯、(甲基)丙烯酸氯甲酯、(甲基)丙烯酸2-氯乙酯、(甲基)丙烯酸2-羟基乙酯、(甲基)丙烯酸3-羟基丙酯、(甲基)丙烯酸2,3,4,5,6-五羟基己酯及(甲基)丙烯酸2,3,4,5-四羟基戊酯。通式(2)中，R5优选为氢原子或甲基。因此，特别优选的(甲基)丙烯酸烷基酯为丙烯酸甲酯或甲基丙烯酸甲酯。
上述丙烯酸类树脂可以仅包含单一的戊二酰亚胺单元，也可以包含上述通式(1)中的R1、R2及R3不同的多种戊二酰亚胺单元。
上述丙烯酸类树脂中的戊二酰亚胺单元的含有比例优选为2摩尔％～50摩尔％、更优选为2摩尔％～45摩尔％、进一步优选为2摩尔％～40摩尔％、特别优选为2摩尔％～35摩尔％、最优选为3摩尔％～30摩尔％。若含有比例比2摩尔％少，则有不能充分发挥源自戊二酰亚胺单元而表现出的效果(例如，高的光学特性、高的机械强度、与偏光件的优异的粘接性、薄型化)的担心。若含有比例超过50摩尔％，则有例如耐热性、透明性变不充分的担心。需要说明的是，丙烯酸类树脂代替戊二酰亚胺单元或在戊二酰亚胺单元的基础上具有内酯环单元、马来酸酐单元、马来酰亚胺单元和/或戊二酸酐单元的情况下，上述含有比例可以为这些结构单元的合计的含有比例。
上述丙烯酸类树脂可以仅包含单一的(甲基)丙烯酸烷基酯单元，也可以包含上述通式(2)中的R4及R5不同的多种(甲基)丙烯酸烷基酯单元。
上述丙烯酸类树脂中的(甲基)丙烯酸烷基酯单元的含有比例优选为50摩尔％～98摩尔％、更优选为55摩尔％～98摩尔％、进一步优选为60摩尔％～98摩尔％、特别优选为65摩尔％～98摩尔％、最优选为70摩尔％～97摩尔％。若含有比例比50摩尔％少，则有不能充分发挥源自(甲基)丙烯酸烷基酯单元而表现出的效果(例如，高的耐热性、高的透明性)的担心。若上述含有比例比98摩尔％多，则有树脂脆从而容易破裂、不能充分发挥高的机械强度、生产率差的担心。
上述丙烯酸类树脂可以包含除(甲基)丙烯酸烷基酯单元、以及戊二酰亚胺单元、内酯环单元、马来酸酐单元、马来酰亚胺单元和/或戊二酸酐单元以外的单元。例如，丙烯酸类树脂可以含有除上述以外的能共聚的乙烯基系单体单元(其他乙烯基系单体单元)。作为其他乙烯基系单体，例如，可列举出丙烯腈、甲基丙烯腈、乙基丙烯腈、烯丙基缩水甘油醚、马来酸酐、衣康酸酐、N-甲基马来酰亚胺、N-乙基马来酰亚胺、N-环己基马来酰亚胺、丙烯酸氨基乙酯、丙烯酸丙基氨基乙酯、甲基丙烯酸二甲基氨基乙酯、甲基丙烯酸乙基氨基丙酯、甲基丙烯酸环己基氨基乙酯、N-乙烯基二乙基胺、N-乙酰基乙烯胺、烯丙基胺、甲基烯丙基胺、N-甲基烯丙基胺、2-异丙烯基噁唑啉、2-乙烯基噁唑啉、2-丙烯酰基噁唑啉、N-苯基马来酰亚胺、甲基丙烯酸苯基氨基乙酯、苯乙烯、α-甲基苯乙烯、对缩水甘油基苯乙烯、对氨基苯乙烯、2-苯乙烯基噁唑啉等。这些可以单独使用，也可以组合使用。优选为苯乙烯、α-甲基苯乙烯等苯乙烯系单体。其他乙烯基系单体单元的含有比例优选为0～1重量％、更优选为0～0.1重量％。为这样的范围时，能够抑制不期望的相位差的表现及透明性的降低。
上述丙烯酸类树脂的酰亚胺化率优选为2.5％～20.0％。酰亚胺化率为这样的范围时，可得到耐热性、透明性及成形加工性优异的树脂，可防止薄膜成形时的结垢的发生、机械强度的降低。上述丙烯酸类树脂中，酰亚胺化率用戊二酰亚胺单元与(甲基)丙烯酸烷基酯单元的比来表示。该比例如可以根据丙烯酸类树脂的NMR谱、IR谱等来得到。本实施方式中，酰亚胺化率可以使用1HNMR BRUKER AvanceIII(400MHz)通过树脂的1H-NMR测定来求出。更具体而言，将3.5～3.8ppm附近的源自(甲基)丙烯酸烷基酯的O-CH3质子的峰面积设为A、将3.0～3.3ppm附近的源自戊二酰亚胺的N-CH3质子的峰的面积设为B，通过下式求出。
酰亚胺化率Im(％)＝{B/(A+B)}×100
上述丙烯酸类树脂的酸值优选为0.10mmol/g～0.50mmol/g。酸值为这样的范围时，能够得到耐热性、机械物性及成形加工性的平衡优异的树脂。若酸值过小，则有时会产生如下问题：为了调整为期望的酸值而使用改性剂所导致的成本上升、改性剂的残留导致的凝胶状物的产生等。若酸值过大，则有容易引起薄膜成形时(例如，熔融挤出时)的发泡、成形品的生产率降低的倾向。上述丙烯酸类树脂中，酸值为该丙烯酸类树脂中的羧酸单元及羧酸酐单元的含量。本实施方式中，酸值例如可以通过WO2005/054311或日本特开2005-23272号公报中记载的滴定法来算出。
丙烯酸类树脂、其制造方法及其特性等的详细情况例如记载于日本特开2016-139027号公报、日本特开2007-316366号公报及日本特开2008-181078号公报，这些公报的记载作为参考被援引至本说明书中。
作为弹性体，可以采用任意适当的弹性体。弹性体代表性的是具有能作为伪交联点发挥作用的硬链段和主要能有助于弹性的软链段。作为弹性体的代表例，可列举出橡胶状聚合物、聚酰胺系弹性体、聚乙烯系弹性体、苯乙烯系弹性体及丁二烯系弹性体。弹性体可以单独使用，也可以组合使用。弹性体可以根据期望的特性来适当地选择。例如，从光学特性的设计容易的观点出发，可以采用苯乙烯系弹性体。作为苯乙烯系弹性体的代表例，可列举出具有作为硬链段的聚苯乙烯和作为软链段的聚丁二烯、聚异戊二烯、或聚丁二烯与聚异戊二烯的共聚物的苯乙烯系弹性体、及它们的氢化物。需要说明的是，氢化物可以为聚丁二烯、聚异戊二烯等的一部分进行了氢化而成者、也可以为全部进行了氢化而成者。作为苯乙烯系弹性体，可以使用市售品。作为苯乙烯系弹性体的市售品，例如，可列举出Tuftec、Tufprene(以上为Asahi Kasei Chemicals Corporation制)、Kraton(Kraton Corporation制)、DYNARON、JSR TR、JSR SIS(以上为JSR公司制)、SEPTON(KURARAY CO.,LTD制)、RABALON(Mitsubishi Chemical Corporation制)等。作为聚乙烯系弹性体，优选具有50份以上乙烯嵌段的聚乙烯系弹性，作为市售品，可列举出EXCELLEN FX(住友化学株式会社)等。聚酰胺系弹性体优选具有聚醚嵌段体，作为市售品，可列举出Pebax(东京材料株式会社制)等。作为橡胶状聚合物，优选核壳型的颗粒，作为市售品，可列举出W-300(Mitsubishi ChemicalCorporation制)等。
弹性体的配混量相对于丙烯酸类树脂100重量份为6重量份以上、优选为6重量份～30重量份、更优选为8重量份～20重量份。弹性体的配混量为这样的范围时，能够实现兼顾了非常小的面内相位差和优异的挠性或耐弯折性的表面保护薄膜用基材。
本发明的实施方式中，表面保护薄膜用基材的面内相位差Re(550)为30nm以下，优选为10nm以下、更优选为5nm以下、进一步优选为3nm以下、特别优选为2.5nm以下。面内相位差Re(550)越小越优选，其下限理想的是0nm，例如可以为0.1nm。面内相位差Re(550)为这样的范围时，将使用了本发明的表面保护薄膜用基材的表面保护薄膜供于图像显示装置的光学检查时，能够良好地抑制漏光、着色及彩虹状不均匀。其结果，能够显著地提高图像显示装置的光学检查的精度，能够提高从图像显示装置的制造到出厂为止的效率。这样的面内相位差Re(550)可以通过在后述那样的规定的拉伸条件下对包含如上所述的特定的丙烯酸类树脂和特定的弹性体的薄膜进行拉伸来实现。需要说明的是，本说明书中，“Re(λ)”为在23℃下以波长λnm的光测得的面内相位差。对于Re(λ)，将层(薄膜)的厚度设为d(nm)时，根据式：Re＝(nx-ny)×d来求出。因此，“Re(550)”为在23℃下以波长550nm的光测得的面内相位差。此处，“nx”为面内的折射率成为最大的方向(即慢轴方向)的折射率，“ny”为在面内与慢轴正交的方向(即快轴方向)的折射率。
表面保护薄膜用基材的厚度方向相位差Rth(550)优选为50nm以下、更优选为25nm以下、进一步优选为15nm以下、特别优选为10nm以下。厚度方向相位差Rth(550)越小越优选，其下限理想的是0nm，例如可以为0.5nm。厚度方向相位差Rth(550)为这样的范围时，能够良好地抑制上述光学检查中倾斜方向的漏光、着色及彩虹状不均匀。其结果，在大型的图像显示装置的光学检查中也能够显著提高精度。表面保护薄膜用基材的Nz系数优选为1.1～20、更优选为1.5～5.4。因此，表面保护薄膜用基材的折射率特性可以显示例如nx>ny>nz的关系。Nz系数为这样的范围时，能够进一步良好地抑制光学检查中倾斜方向的漏光、着色及彩虹状不均匀。“Rth(λ)”为在23℃下以波长λnm的光测得的厚度方向的相位差。对于Rth(λ)，将层(薄膜)的厚度设为d(nm)时，根据式：Rth＝(nx-nz)×d来求出。因此，“Rth(550)”为在23℃下以波长550nm的光测得的厚度方向的相位差。此处，“nz”为厚度方向的折射率。进而，“Nz系数”通过Nz＝Rth(λ)/Re(λ)来求出。
对于表面保护薄膜用基材，可以显示面内相位差相应于测定光的波长而变大的逆色散波长特性、可以显示面内相位差相应于测定光的波长而变小的正的波长色散特性、还可以显示面内相位差基本不因测定光的波长而发生变化的平坦的波长色散特性。
表面保护薄膜用基材的总透光率优选为80％以上、更优选为85％以上、进一步优选为90％以上、特别优选为95％以上。进而，表面保护薄膜用基材的雾度优选为1.0％以下、更优选为0.7％以下、进一步优选为0.5％以下、特别优选为0.3％以下。根据本发明的实施方式，能够实现具有如上所述的非常小的面内相位差Re(550)、并且具有这样非常优异的透明性的表面保护薄膜用基材。
本发明的实施方式中，对于表面保护薄膜用基材，MIT试验中的直至断裂为止的弯折次数为500次以上，优选为1000次以上、更优选为1500次以上、进一步优选为2000次以上。即，表面保护薄膜用基材能具有非常优异的挠性或耐弯折性。由于表面保护薄膜用基材的这样优异的挠性或耐弯折性，能够得到贴合时及剥离时的操作性优异、并且破裂得以抑制的表面保护薄膜。根据本发明的实施方式，能够兼顾这样优异的挠性或耐弯折性和如上所述的非常小的面内相位差Re(550)。能够实现这样的兼顾是本发明的成果之一。需要说明的是，MIT试验可以依据JIS P 8115来进行。
表面保护薄膜用基材的弹性模量优选在拉伸速度100mm/分钟下为50MPa～350MPa。弹性模量为这样的范围时，能够得到输送性及操作性优异的表面保护薄膜。根据本发明的实施方式，能够兼顾优异的弹性模量(强度)和如上所述的优异的挠性或耐弯折性(柔韧性)。需要说明的是，弹性模量依据JIS K 7127：1999来测定。
表面保护薄膜用基材的拉伸伸长率优选为70％～200％。拉伸伸长率为这样的范围时，有在输送中不易断裂的优点。需要说明的是，拉伸伸长率依据JIS K 6781来测定。
表面保护薄膜用基材的厚度代表性的是为10μm～100μm，优选为20μm～70μm。
B.表面保护薄膜用基材的制造方法
本发明的实施方式的表面保护薄膜用基材的制造方法包括：将上述A项中记载的包含丙烯酸类树脂和弹性体的薄膜形成材料(树脂组合物)成形为薄膜状、及对该成形得到的薄膜进行拉伸。
薄膜形成材料除了包含上述丙烯酸类树脂及上述弹性体以外，还可以包含其他树脂，可以包含添加剂，也可以包含溶剂。作为添加剂，根据目的可以采用任意适当的添加剂。作为添加剂的具体例，可列举出反应性稀释剂、增塑剂、表面活性剂、填充剂、抗氧化剂、防老化剂、紫外线吸收剂、流平剂、触变剂、抗静电剂、导电材料、阻燃剂。添加剂的数量、种类、组合、添加量等可以根据目的来适当地设定。
作为由薄膜形成材料形成薄膜的方法，可以采用任意适当的成形加工法。作为具体例，可列举出压缩成形法、传递成形法、注射成形法、挤出成形法、吹塑成形法、粉末成形法、FRP成形法、流延涂布法(例如，流延法)、压延成形法、热压法等。优选挤出成形法或流延涂布法。这是因为，能提高所得薄膜的平滑性，能够得到良好的光学均匀性。成形条件可以根据使用的树脂的组成、种类、表面保护薄膜用基材所期望的特性等来适宜设定。
薄膜的拉伸方法代表性的为双轴拉伸，更详细而言为逐次双轴拉伸或同时双轴拉伸。这是因为，可得到面内相位差Re(550)小、并且挠性或耐弯折性优异的表面保护薄膜用基材。逐次双轴拉伸或同时双轴拉伸代表性的是使用拉幅机来进行。因此，薄膜的拉伸方向代表性的为薄膜的长度方向及宽度方向。
拉伸温度可以根据表面保护薄膜用基材所期望的面内相位差及厚度、使用的树脂的种类、使用的薄膜的厚度、拉伸倍率等来变化。具体而言，拉伸温度相对于薄膜的玻璃化转变温度(Tg)优选为Tg+5℃～Tg+50℃、更优选为Tg+10℃～Tg+30℃。通过以这样的温度进行拉伸，本发明的实施方式中可得到具有适当的特性的表面保护薄膜用基材。
拉伸倍率可以根据表面保护薄膜用基材所期望的面内相位差及厚度、使用的树脂的种类、使用的薄膜的厚度、拉伸温度等来变化。采用双轴拉伸(例如，逐次双轴拉伸或同时双轴拉伸)的情况下，第1方向(例如，长度方向)的拉伸倍率和第2方向(例如，宽度方向)的拉伸倍率优选其差尽可能小，更优选实质上相等。为这样的构成时，可得到面内相位差Re(550)小、并且挠性或耐弯折性优异的表面保护薄膜用基材。采用双轴拉伸(例如，逐次双轴拉伸或同时双轴拉伸)的情况下，拉伸倍率对于第1方向(例如，长度方向)及第2方向(例如，宽度方向)各自而言，例如可以为1.1倍～3.0倍。
本发明的实施方式中，拉伸速度优选为10％/秒以下、更优选为7％/秒以下、进一步优选为5％/秒以下、特别优选为2.5％/秒以下。通过以这样小的拉伸速度对包含如上所述的特定的丙烯酸类树脂和特定的弹性体的薄膜进行拉伸，从而可得到面内相位差Re(550)小、并且挠性或耐弯折性优异的表面保护薄膜用基材。拉伸速度的下限例如可以为1.2％/秒。若拉伸速度过小，则有生产率变不实用的情况。需要说明的是，采用双轴拉伸(例如，逐次双轴拉伸或同时双轴拉伸)的情况下，第1方向(例如，长度方向)的拉伸速度和第2方向(例如，宽度方向)的拉伸速度优选其差尽可能小，更优选实质上相等。为这样的构成时，能够进一步减小面内相位差Re(550)、并且使挠性或耐弯折性更优异。
C.表面保护薄膜
上述A项及B项中记载的表面保护薄膜用基材可以适当地用于表面保护薄膜。因此，本发明的实施方式也包含表面保护薄膜。本发明的实施方式的表面保护薄膜包含上述A项及B项中记载的表面保护薄膜用基材和粘合剂层。
作为形成粘合剂层的粘合剂，可以采用任意适当的粘合剂。作为粘合剂的基础树脂，例如，可列举出丙烯酸类树脂、苯乙烯系树脂、有机硅系树脂、氨基甲酸酯系树脂、橡胶系树脂。这样的基础树脂例如记载于日本特开2015-120337号公报或日本特开2011-201983号公报中。这些公报的记载作为参考而被援引至本说明书中。从耐化学药品性、用于防止浸渍时的处理液的浸入的密合性、对被粘物的自由度等的观点出发，优选丙烯酸类树脂。作为粘合剂中可包含的交联剂，例如，可列举出异氰酸酯化合物、环氧化合物、氮丙啶化合物。粘合剂例如可以包含硅烷偶联剂。粘合剂的配混处方可以根据目的及期望的特性来适当地设定。
粘合剂层的储能模量优选为1.0×104Pa～1.0×107Pa、更优选为2.0×104Pa～5.0×106Pa。粘合剂层的储能模量为这样的范围时，能够抑制卷形成时的粘连。需要说明的是，储能模量例如可以根据温度23℃及角速度0.1rad/s下的动态粘弹性测定来求出。
粘合剂层的厚度优选为1μm～60μm、更优选为3μm～30μm。若厚度过薄，则有时粘合性变不充分，在粘合界面混入气泡等。若厚度过厚，则容易产生粘合剂渗出等不良情况。
实用上，表面保护薄膜在实际使用(即，贴合于光学薄膜或图像显示装置)之前，以可剥离的方式在粘合剂层表面临时粘贴隔离体。通过设置隔离体，从而能保护粘合剂层、并且将表面保护薄膜卷取成卷状。作为隔离体，例如，可列举出利用有机硅系剥离剂、氟系剥离剂、丙烯酸长链烷基酯系剥离剂等剥离剂进行了表面涂布的塑料(例如，聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚乙烯、聚丙烯)薄膜、无纺布或纸等。对于隔离体的厚度，可以根据目的来采用任意适当的厚度。隔离体的厚度例如为10μm～100μm。
D.带表面保护薄膜的光学薄膜
上述C项中记载的表面保护薄膜用于在实际使用光学薄膜(最终为图像显示装置)之前保护该光学薄膜。因此，本发明的实施方式也包含带表面保护薄膜的光学薄膜。本发明的实施方式的带表面保护薄膜的光学薄膜包含：光学薄膜、以可剥离的方式贴合于该光学薄膜的上述C项中记载的表面保护薄膜。
光学薄膜可以为单一薄膜，也可以为层叠体。作为光学薄膜的具体例，可列举出偏光件、相位差薄膜、偏光板(代表性的为偏光件与保护薄膜的层叠体)、触摸面板用导电性薄膜、表面处理薄膜、以及根据目的将它们适当地层叠而得到的层叠体(例如，防反射用圆偏光板、触摸面板用带导电层偏光板、带相位差层偏光板、棱镜片一体型偏光板)。
[实施例]
以下，通过实施例具体地对本发明进行说明，但本发明不受这些实施例限定。实施例中的各特性的测定方法如下。需要说明的是，只要没有特别说明，则实施例中的“份”及“％”为重量基准。
(1)面内相位差Re(550)及厚度方向相位差Rth(550)
将实施例及比较例中得到的表面保护薄膜用基材(双轴拉伸薄膜)切成长度4cm及宽度4cm，作为测定试样。对该测定试样使用Axometrics公司制、制品名“Axoscan”测定面内相位差及厚度方向相位差。测定波长为550nm、测定温度为23℃。
(2)雾度
对与上述(1)同样的测定试样，使用雾度计(村上色彩技术研究所制、HM-150型)测定雾度。测定温度为23℃。
(3)MIT试验
MIT试验依据JIS P 8115来进行。具体而言，将实施例及比较例中得到的表面保护薄膜用基材(双轴拉伸薄膜)切成长度15cm及宽度1.5cm，作为测定试样。将测定试样安装于MIT耐折疲劳试验机BE-202型(TESTER SANGYO CO,.LTD.制)(载荷1.0kgf、夹具的R：0.38mm)，以试验速度90cpm及弯折角度90°并以2000次为上限重复进行弯折，将测定试样断裂时的弯折次数作为试验值。
(4)彩虹状不均匀
将实施例及比较例中得到的表面保护薄膜用基材(双轴拉伸薄膜)配置在交叉棱镜状态的2张偏光板间。此时，以表面保护薄膜用基材的长度方向与一个偏光板的透过轴方向平行的方式配置表面保护薄膜用基材。在该状态下从下侧偏光板的下侧照射荧光灯的光，通过目视观察彩虹状不均匀的有无。按照以下的基准进行评价。
○：未观察到彩虹状不均匀
△：稍微观察到彩虹状不均匀
×：显著观察到彩虹状不均匀
(5)挠性或耐弯折性
对表面保护薄膜用基材(双轴拉伸薄膜)重复进行100次180°弯折试验，确认断裂的有无。按照以下的基准进行评价。
○：未观察到断裂
×：观察到断裂
<实施例1>
1-1.丙烯酸类树脂的聚合及弹性体的配混
在具备搅拌装置、温度传感器、冷凝管及氮导入管的反应容器中，投入甲基丙烯酸甲酯(MMA)229.6份、2-(羟基甲基)丙烯酸甲酯(MHMA)33份、甲苯248.6份、及正十二烷基硫醇0.19份，向其中通入氮气并升温至105℃。伴随升温的回流开始时，添加作为聚合引发剂的过氧化异壬酸叔戊酯(ARKEMA Yoshitomi,Ltd.制“Luperox(注册商标)570”)0.28份，进而一边用2小时滴加过氧化异壬酸叔戊酯0.56份和苯乙烯12.4份一边在约105℃～110℃的回流下进行溶液聚合，滴加结束后，在同温度下进而进行4小时的熟化。接着，向所得聚合溶液中加入作为环化缩合反应的催化剂(环化催化剂)的磷酸硬脂基酯(Sakai ChemicalIndustry Co.,Ltd.制“PhoslexA-18”)0.21份，在约90～110℃的回流下进行2小时用于形成内酯环结构的环化缩合反应。接着，使所得聚合溶液通过加热至240℃的多管式热交换器来结束环化缩合反应。如此操作，得到具有内酯环单元的丙烯酸类树脂。
接着，自上述环化缩合反应结束后接着将上述树脂溶液以31.2份/小时(树脂量换算)的处理速度导入到料筒温度为250℃、具备1个后排气孔、4个前排气孔(自上游侧起称为第1排气孔、第2排气孔、第3排气孔、第4排气孔)及在第3排气孔与第4排气孔之间具备侧喂料机、在前端部配置有叶盘型的聚合物过滤器(过滤精度5μm)的排气型螺杆双螺杆挤出机(L/D＝52)。此时，以0.47份/小时的投入速度从第2排气孔后面投入离子交换水，以0.59份/小时的投入速度从第3排气孔的后面投入使紫外线吸收剂(ADEKA株式会社制“ADK STAB(注册商标)LA-F70”)0.66份溶解于甲苯1.23份而成的溶液，进而以0.47份/小时的投入速度从第4排气孔的后面投入离子交换水。进而，从侧喂料机以0.63份/小时的投入速度投入聚乙烯系弹性体(住友化学株式会社制、制品名“EXCELLEN FX”)的粒料。如此操作，制作包含具有内酯环单元的丙烯酸类树脂和聚乙烯系弹性体的粒料。所得粒料相对于丙烯酸类树脂100重量份含有10重量份弹性体。
1-2.包含丙烯酸类树脂和弹性体的薄膜的制作
将所得粒料在80℃下进行5小时真空干燥后，使用具备单螺杆挤出机(均为IsuzuChemical Industries制、螺杆直径25mm、料筒设定温度：250℃)、T模(宽度200mm、设定温度：250℃)、冷却辊(设定温度：120～130℃)及卷取机的薄膜制膜装置，制作厚度160μm的包含丙烯酸类树脂和弹性体的薄膜。包含丙烯酸类树脂和弹性体的薄膜的玻璃化转变温度(Tg)为121℃。
1-3.表面保护薄膜用基材的制作
将上述中得到的包含丙烯酸类树脂和弹性体的薄膜沿长度方向及宽度方向分别进行同时双轴拉伸至2倍。拉伸温度为[Tg+10℃](即131℃)，拉伸速度在长度方向及宽度方向均为1.4％/秒。如此操作，得到表面保护薄膜用基材(厚度40μm)。所得表面保护薄膜用基材的Re(550)为0.3nm、Rth(550)为1.6nm、雾度为0.6％、MIT试验值超过作为上限的2000次。将所得表面保护薄膜用基材供于上述(4)及(5)的评价。将结果示于表1。
<实施例2>
将弹性体的配混量设为15重量份、且将拉伸温度设为[Tg+20℃]，除此以外，与实施例1同样地操作，得到表面保护薄膜用基材。所得表面保护薄膜用基材的Re(550)为0.5nm、Rth(550)为9nm、雾度为0.2％、MIT试验值超过作为上限的2000次。将所得表面保护薄膜用基材供于上述(4)及(5)的评价。将结果示于表1。
<实施例3>
将弹性体的配混量设为8重量份、且将拉伸温度设为[Tg+30℃]，除此以外，与实施例1同样地操作，得到表面保护薄膜用基材。所得表面保护薄膜用基材的Re(550)为2nm、Rth(550)为20nm、雾度为0.3％、MIT试验值为1032次。将所得表面保护薄膜用基材供于上述(4)及(5)的评价。将结果示于表1。
<实施例4>
使用苯乙烯系弹性体(旭化成株式会社制、制品名“Tuftec”)10重量份来代替聚乙烯系弹性体10重量份，且将拉伸温度设为[Tg+20℃]，除此以外，与实施例1同样地操作，得到表面保护薄膜用基材。所得表面保护薄膜用基材的Re(550)为0.8nm、Rth(550)为3nm、雾度为0.3％、MIT试验值超过作为上限的2000次。将所得表面保护薄膜用基材供于上述(4)及(5)的评价。将结果示于表1。
<实施例5>
将弹性体的配混量设为15重量份、且将拉伸温度设为[Tg+30℃]，除此以外，与实施例4同样地操作，得到表面保护薄膜用基材。所得表面保护薄膜用基材的Re(550)为1.2nm、Rth(550)为5.1nm、雾度为0.4％、MIT试验值超过作为上限的2000次。将所得表面保护薄膜用基材供于上述(4)及(5)的评价。将结果示于表1。
<实施例6>
使用聚酰胺系弹性体(东京材料株式会社制、制品名“Pebax”)20重量份来代替聚乙烯系弹性体10重量份，且将拉伸温度设为[Tg+20℃]，除此以外，与实施例1同样地操作，得到表面保护薄膜用基材。所得表面保护薄膜用基材的Re(550)为2.3nm、Rth(550)为3.1nm、雾度为0.8％、MIT试验值超过作为上限的2000次。将所得表面保护薄膜用基材供于上述(4)及(5)的评价。将结果示于表1。
<实施例7>
使用核壳型的橡胶状颗粒(Mitsubishi Chemical Corporation制、制品名“W-300”)10重量份来代替聚乙烯系弹性体10重量份，且将拉伸温度设为[Tg+20℃]，除此以外，与实施例1同样地操作，得到表面保护薄膜用基材。所得表面保护薄膜用基材的Re(550)为0.3nm、Rth(550)为1nm、雾度为0.3％、MIT试验值为592次。将所得表面保护薄膜用基材供于上述(4)及(5)的评价。将结果示于表1。
<比较例1>
使用市售的降冰片烯系树脂薄膜(Zeon Corporation制、商品名“ZEONOR”、Tg：150℃)来代替包含丙烯酸类树脂和弹性体的薄膜，且将拉伸温度设为[Tg+20℃]，除此以外，与实施例1同样地操作，得到表面保护薄膜用基材。所得表面保护薄膜用基材的Re(550)为2nm、Rth(550)为8nm、雾度为0.1％、MIT试验值为150次。将所得表面保护薄膜用基材供于上述(4)及(5)的评价。将结果示于表1。
<比较例2>
使用超高相位差聚对苯二甲酸乙二醇酯(Mitsubishi Chemical Corporation制、商品名“Diafoil”、Tg：81℃)来代替包含丙烯酸类树脂和弹性体的薄膜，且将拉伸温度设为[Tg+20℃]，除此以外，与实施例1同样地操作，得到表面保护薄膜用基材。所得表面保护薄膜用基材的Re(550)为4500nm、Rth(550)为6000nm、雾度为1.3％、MIT试验值超过作为上限的2000次。将所得表面保护薄膜用基材供于上述(4)及(5)的评价。将结果示于表1。
<比较例3>
将弹性体的配混量设为5重量份、且将拉伸温度设为[Tg+20℃]，除此以外，与实施例1同样地操作，得到表面保护薄膜用基材。所得表面保护薄膜用基材的Re(550)为0.6nm、Rth(550)为1.3nm、雾度为0.2％、MIT试验值为412次。将所得表面保护薄膜用基材供于上述(4)及(5)的评价。将结果示于表1。
[表1]
Figure BDA0002182422030000191
<评价>
根据表1明确可知，本发明的实施例的表面保护薄膜用基材能防止彩虹状不均匀、并且具有优异的耐弯折性(或挠性)。推测这可以通过以规定的拉伸条件对包含特定的丙烯酸类树脂和特定的弹性体的薄膜进行拉伸来实现。进而，根据比较例3的结果可知，在弹性体的配混量超过5重量份的附近可能存在耐弯折性(或挠性)低于容许范围的临界的值。需要说明的是，关于漏光及着色，确认了也得到与彩虹状不均匀同样的结果。
产业上的可利用性
本发明的表面保护薄膜用基材适合用于表面保护薄膜。本发明的表面保护薄膜用于在实际使用光学薄膜(最终为图像显示装置)之前保护该光学薄膜。通过使用本发明的表面保护薄膜用基材及表面保护薄膜，能够显著地提高图像显示装置的光学检查的精度。

Claims (8)

1.一种表面保护薄膜用基材，其由包含丙烯酸类树脂和弹性体的薄膜构成，面内相位差Re(550)为30nm以下，MIT试验中的直至断裂为止的弯折次数为500次以上，相对于该丙烯酸类树脂100重量份，包含6重量份以上该弹性体。
2.根据权利要求1所述的表面保护薄膜用基材，其中，所述丙烯酸类树脂具有选自由戊二酰亚胺单元、内酯环单元、马来酸酐单元、马来酰亚胺单元及戊二酸酐单元组成的组中的至少1者。
3.根据权利要求1或2所述的表面保护薄膜用基材，其中，所述弹性体为选自橡胶状聚合物、聚酰胺系弹性体、聚乙烯系弹性体、苯乙烯系弹性体及丁二烯系弹性体中的至少1者。
4.根据权利要求1～3中任一项所述的表面保护薄膜用基材，其中，总透光率为80％以上，雾度为1.0％以下。
5.一种权利要求1～4中任一项所述的表面保护薄膜用基材的制造方法，其包括：将包含丙烯酸类树脂和弹性体的薄膜形成材料成形为薄膜状；及对该成形得到的薄膜进行逐次双轴拉伸或同时双轴拉伸。
6.根据权利要求5所述的表面保护薄膜用基材的制造方法，其中，所述逐次双轴拉伸或同时双轴拉伸中的拉伸温度为Tg+10℃～Tg+30℃。
7.一种表面保护薄膜，其包含权利要求1～4中任一项所述的表面保护薄膜用基材和粘合剂层。
8.一种带表面保护薄膜的光学薄膜，其包含：光学薄膜、和以可剥离的方式贴合于该光学薄膜的权利要求7所述的表面保护薄膜。
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