KR20190119003A

KR20190119003A - Antistatic surface-protective film

Info

Publication number: KR20190119003A
Application number: KR1020190124243A
Authority: KR
Inventors: 타케시 나가쿠라; 히로토 니이미; 료 하세가와; 히로유키 요시다; 아키요 히시누마
Original assignee: 후지모리 고교 가부시키가이샤
Priority date: 2014-08-29
Filing date: 2019-10-08
Publication date: 2019-10-21
Also published as: KR20200092295A; KR102270918B1; TWI669383B; KR101913571B1; CN106189895B; KR20170136469A; JP2016050254A; CN106189895A; TW201610132A; KR20180120638A; KR101804228B1; JP6198275B2; KR102139971B1; KR102032133B1; KR20160026666A

Abstract

Provided by the present invention is an antistatic surface protective film which has less contamination on an object to be attached, is not deteriorated over time and has excellent peeling antistatic performance. On one side of a base film (1) formed with transparent resin, an acrylic polymer of copolymer includes (A) at least one kind of (meth) acrylic acid ester monomers having C4 to C18 carbon atoms and (B) at least one kind of copolymerizable monomer containing a hydroxyl group without including copolymerizable monomer containing a carboxyl group. In addition, an adhesive layer (2) is formed with an adhesive composition containing (C) a bifunctional or more isocyanate compound, (D) a crosslinking accelerator and (E) a ketoenol tautomeric compound. The present invention includes an antistatic agent and a release agent to which a release film (5) where a release agent layer (4) is laminated is bonded and in which the release agent layer (4) has dimethylpolysiloxane as a main component.

Description

대전 방지 표면 보호 필름{ANTISTATIC SURFACE-PROTECTIVE FILM}Antistatic surface protection film {ANTISTATIC SURFACE-PROTECTIVE FILM}

본 발명은 점착제 조성물 및 표면 보호 필름에 관한 것이다. 더욱 상세하게는 대전 방지 성능을 구비한 대전 방지 표면 보호 필름에 관한 것이다. 더욱 상세하게는 피착체에 대한 오염성이 적고, 또한 경시 열화되지 않으며 우수한 박리 대전 방지 성능을 갖는 대전 방지 표면 보호 필름의 제조 방법 및 대전 방지 표면 보호 필름을 제공하는 것이다.The present invention relates to an adhesive composition and a surface protective film. More specifically, the present invention relates to an antistatic surface protective film having antistatic performance. More specifically, the present invention provides a method for producing an antistatic surface protection film and an antistatic surface protection film which are less contaminant to the adherend, do not deteriorate with time, and have excellent peeling antistatic performance.

편광판, 위상차판, 디스플레이용 렌즈 필름, 반사 방지 필름, 하드 코트 필름, 터치 패널용 투명 도전성 필름 등의 광학용 필름, 및 이를 사용한 디스플레이 등의 광학 제품을 제조, 반송할 때는 당해 광학용 필름의 표면에 표면 보호 필름을 첩합하여, 후공정에 있어서의 표면의 오염이나 흠집을 방지하는 것이 이루어지고 있다. 제품인 광학용 필름의 외관 검사는 표면 보호 필름을 박리하였다가 다시 첩합하는 수고를 덜고 작업 효율을 높이기 위해, 표면 보호 필름을 광학용 필름에 첩합한 상태로 행하는 경우도 있다.When manufacturing and conveying optical films such as polarizing plates, retardation plates, lens films for displays, antireflection films, hard coat films, transparent conductive films for touch panels, and displays using the same, the surface of the optical films The surface protection film is bonded together to the surface to prevent contamination and scratches on the surface in a later step. The external appearance inspection of the optical film which is a product may be performed in the state which bonded the surface protection film to the optical film, in order to reduce the effort of peeling and rebonding the surface protection film and to raise work efficiency.

종래부터, 기재 필름의 한쪽 면에 점착제층을 형성한 표면 보호 필름이 광학 제품의 제조 공정에 있어서, 흠집이나 오염의 부착을 방지하기 위해 일반적으로 사용되고 있다. 표면 보호 필름은 미점착력의 점착제층을 개재하여 광학용 필름에 첩합된다. 점착제층을 미점착력으로 하는 것은 사용이 끝난 표면 보호 필름을 광학용 필름의 표면으로부터 박리하여 제거할 때 용이하게 박리할 수 있고, 또한 점착제가 피착체인 제품의 광학용 필름에 부착되어 잔류하지 않도록(이른바, 점착제 잔여물의 발생을 방지) 하기 위함이다.Conventionally, the surface protection film which provided the adhesive layer in one side of the base film is generally used in the manufacturing process of an optical product, in order to prevent a damage | wound and adhesion of a dirt. The surface protection film is bonded to the optical film via the adhesive layer of a non-adhesive force. The non-adhesive force of the pressure-sensitive adhesive layer can be easily peeled off when the used surface protection film is peeled off and removed from the surface of the optical film, and the pressure-sensitive adhesive does not remain attached to the optical film of the product which is the adherend ( So-called pressure-sensitive adhesive residues).

근래에는 액정 디스플레이 패널의 생산 공정에 있어서, 광학용 필름 위에 첩합된 표면 보호 필름을 박리하여 제거할 때 발생하는 박리 대전압에 의해, 액정 디스플레이 패널의 표시 화면을 제어하기 위한 드라이버 IC 등의 회로 부품이 파괴되는 현상이나, 액정 분자의 배향이 손상되는 현상이 발생 건수는 적으나 일어나고 있다.In recent years, in the production process of a liquid crystal display panel, circuit components, such as a driver IC, for controlling the display screen of a liquid crystal display panel by the peeling charge voltage which arises when peeling and removing the surface protection film bonded on the optical film. The occurrence of this breakdown and the phenomenon that the orientation of the liquid crystal molecules are impaired are small but occur.

또한, 액정 디스플레이 패널의 소비 전력을 저감시키기 위해 액정 재료의 구동 전압이 낮아지고 있고, 이에 수반하여 드라이버 IC의 파괴 전압도 낮아지고 있다. 최근에는 박리 대전압을 ＋0.7㎸∼-0.7㎸ 범위 내로 하는 것이 요구되고 있다.In addition, in order to reduce the power consumption of the liquid crystal display panel, the driving voltage of the liquid crystal material is lowered, and with this, the breakdown voltage of the driver IC is also lowered. Recently, it is required to bring the peeling electrification voltage into the range of +0.7 kV to -0.7 kV.

이 때문에, 표면 보호 필름을 피착체인 광학용 필름으로부터 박리할 때에 박리 대전압이 높은 것에 의한 문제의 발생을 방지하기 위해, 박리 대전압을 낮게 억제하기 위한 대전 방지제를 포함하는 점착제층을 사용한 표면 보호 필름이 제안되고 있다.For this reason, in order to prevent generation | occurrence | production of the problem by high peeling electrification voltage when peeling a surface protection film from the optical film which is a to-be-adhered body, surface protection using the adhesive layer containing the antistatic agent for suppressing peeling electrification voltage low. Films have been proposed.

예를 들면, 특허문헌 1에는 알킬트리메틸암모늄염, 수산기 함유 아크릴계 폴리머, 폴리이소시아네이트로 이루어지는 점착제를 사용한 표면 보호 필름이 개시되어 있다.For example, Patent Literature 1 discloses a surface protective film using an adhesive made of an alkyltrimethylammonium salt, a hydroxyl group-containing acrylic polymer, and a polyisocyanate.

또한, 특허문헌 2에는 이온성 액체와 산가가 1.0 이하인 아크릴 폴리머로 이루어지는 점착제 조성물, 및 그것을 사용한 점착 시트류가 개시되어 있다.In addition, Patent Document 2 discloses an adhesive composition composed of an ionic liquid and an acrylic polymer having an acid value of 1.0 or less, and adhesive sheets using the same.

또한, 특허문헌 3에는 아크릴 폴리머, 폴리에테르폴리올 화합물, 음이온 흡착성 화합물에 의해 처리된 알칼리 금속염으로 이루어지는 점착 조성물, 및 그것을 사용한 표면 보호 필름이 개시되어 있다.In addition, Patent Document 3 discloses an adhesive composition comprising an alkali polymer, a polyether polyol compound, an alkali metal salt treated with an anion adsorbent compound, and a surface protective film using the same.

또한, 특허문헌 4에는 이온성 액체, 알칼리 금속염, 유리 전이 온도 0℃ 이하의 폴리머로 이루어지는 점착제 조성물, 및 그것을 사용한 표면 보호 필름이 개시되어 있다.In addition, Patent Document 4 discloses an adhesive composition composed of an ionic liquid, an alkali metal salt, a polymer having a glass transition temperature of 0 ° C. or less, and a surface protective film using the same.

또한, 특허문헌 5, 6에는 표면 보호 필름의 점착제층 내에 폴리에테르 변성 실리콘을 혼합하는 것이 개시되어 있다.Moreover, it is disclosed by patent documents 5 and 6 to mix polyether modified silicone in the adhesive layer of a surface protection film.

일본 공개특허공보 2005-131957호Japanese Laid-Open Patent Publication 2005-131957 일본 공개특허공보 2005-330464호Japanese Laid-Open Patent Publication 2005-330464 일본 공개특허공보 2005-314476호Japanese Laid-Open Patent Publication 2005-314476 일본 공개특허공보 2006-152235호Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2006-152235 일본 공개특허공보 2009-275128호Japanese Unexamined Patent Publication No. 2009-275128 일본 특허공보 제4537450호Japanese Patent Publication No. 4537450

상기 특허문헌 1∼4에서는 점착제층의 내부에 대전 방지제가 첨가되어 있으나, 점착제층의 두께가 두꺼워짐에 따라, 또한, 경과 시간이 지남에 따라, 표면 보호 필름이 첩합된 피착체에 대해서 점착제층에서 피착체로 이행되는 대전 방지제의 양이 많아진다. 또한, LR(Low Reflective) 편광판이나 AG(Anti Glare)-LR 편광판 등의 광학용 필름에서는 광학용 필름의 표면이 실리콘 화합물이나 불소 화합물 등으로 방오 처리되어 있기 때문에, 이러한 광학용 필름에 사용되는 표면 보호 필름을 피착체인 광학용 필름에서 박리할 때의 박리 대전압이 높아진다.In Patent Documents 1 to 4 above, an antistatic agent is added to the inside of the pressure-sensitive adhesive layer, but as the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer becomes thicker, and as the elapsed time passes, the pressure-sensitive adhesive layer with respect to the adherend to which the surface protective film is bonded. The amount of antistatic agent to be transferred to the adherend increases. Moreover, in the optical films, such as a LR (Low Reflective) polarizing plate and AG (Anti Glare) -LR polarizing plate, since the surface of an optical film is antifouling with a silicon compound, a fluorine compound, etc., the surface used for such an optical film The peeling electrification voltage at the time of peeling a protective film from the optical film which is a to-be-adhered body becomes high.

또한, 특허문헌 5, 6에 기재된 점착제층 내에 폴리에테르 변성 실리콘을 혼합했을 경우에는 표면 보호 필름의 점착력을 미조정하는 것이 곤란하다. 또한, 점착제층 내에, 폴리에테르 변성 실리콘이 혼합되어 있기 때문에, 점착제 조성물을 기재 필름 위에 도공·건조시키는 조건이 변화하면, 표면 보호 필름이 형성된 점착제층의 표면 특성이 미묘하게 변화한다. 또한, 광학용 필름의 표면을 보호한다는 관점에서, 점착제층의 두께를 극단적으로 얇게 할 수 없다. 이 때문에, 점착제층의 두께에 따라, 점착제층 내에 혼합하는 폴리에테르 변성 실리콘의 첨가량을 늘릴 필요가 있어, 결과적으로, 피착체 표면을 오염시키기 쉬워져, 경시에서의 점착력이나 피착체에 대한 오염성이 변화한다.Moreover, when polyether modified silicone is mixed in the adhesive layers of patent documents 5 and 6, it is difficult to fine-tune the adhesive force of a surface protection film. Moreover, since polyether modified silicone is mixed in an adhesive layer, when the conditions which apply and dry an adhesive composition on a base film change, the surface characteristic of the adhesive layer in which the surface protection film was formed changes slightly. In addition, from the viewpoint of protecting the surface of the optical film, the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer cannot be made extremely thin. For this reason, it is necessary to increase the addition amount of the polyether modified silicone mixed in an adhesive layer according to the thickness of an adhesive layer, As a result, it becomes easy to contaminate a to-be-adhered body, and adhesiveness and contamination with an adherend with time are Change.

근래에는 3D 디스플레이(입체시 디스플레이)의 보급에 수반하여, 편광판 등의 광학용 필름의 표면에 FPR(Film Patterned Retarder) 필름을 첩합한 것이 있다. 편광판 등의 광학용 필름의 표면에 첩합되어 있던 표면 보호 필름을 박리한 후에 FPR 필름이 첩합된다. 그러나, 편광판 등의 광학용 필름의 표면이 표면 보호 필름에 사용되고 있는 점착제나 대전 방지제로 오염되어 있으면, FPR 필름이 접착되기 어렵다는 문제가 있다. 이 때문에, 당해 용도에 사용하는 표면 보호 필름은 피착체에 대한 오염이 적은 것이 요구되고 있다.In recent years, with the spread of a 3D display (stereoscopic display), the FPR (Film Patterned Retarder) film was bonded together on the surface of optical films, such as a polarizing plate. An FPR film is bonded together after peeling off the surface protection film bonded to the surface of optical films, such as a polarizing plate. However, when the surface of optical films, such as a polarizing plate, is contaminated with the adhesive or antistatic agent used for a surface protection film, there exists a problem that a FPR film is hard to adhere | attach. For this reason, it is calculated | required that the surface protection film used for the said use has little contamination with a to-be-adhered body.

한편, 몇 군데의 액정 패널 메이커에서는 표면 보호 필름의 피착체에 대한 오염성의 평가 방법으로서 편광판 등의 광학용 필름에 첩합되어 있는 표면 보호 필름을 한 번 박리하고, 기포를 혼입시킨 상태로 재첩합한 것을 소정 조건에서 가열 처리한 후, 표면 보호 필름을 박리하여 피착체의 표면을 관찰하는 방법이 채용되고 있다. 이러한 평가 방법에서는 피착체의 표면 오염이 미량이어도, 기포를 혼입시킨 부분과 표면 보호 필름의 점착제가 접하고 있던 부분에 피착체의 표면 오염의 차이가 있으면, 기포의 흔적(기포 얼룩이라고 하는 경우도 있다)으로서 남는다. 이 때문에, 피착체의 표면에 대한 오염성의 평가 방법으로는 매우 엄격한 평가 방법이 된다. 근래에는 이러한 엄격한 평가 방법에 의한 판정 결과여도 피착체의 표면에 대한 오염성에 문제가 없는 표면 보호 필름이 요구되고 있다. 그러나, 종래부터 제안되고 있는 대전 방지제를 함유하는 점착제층을 사용한 표면 보호 필름은 당해 과제를 해결하는 것이 곤란한 상황이었다.On the other hand, in several liquid crystal panel makers, the surface protection film bonded to optical films, such as a polarizing plate, was peeled once and rebonded in the state which mixed bubbles as a method of evaluation of the contamination property to the adherend of a surface protection film. After heat processing on predetermined conditions, the method of peeling a surface protection film and observing the surface of a to-be-adhered body is employ | adopted. In such an evaluation method, even if the surface contamination of the adherend is very small, if there is a difference between the surface contamination of the adherend in the portion where the bubble is mixed and the portion where the pressure-sensitive adhesive of the surface protective film is in contact with the surface, the trace of the bubble may be referred to as bubble stain. Remains as). For this reason, it becomes a very strict evaluation method as an evaluation method of the contamination property to the surface of a to-be-adhered body. In recent years, even if it is the determination result by such a strict evaluation method, the surface protection film which does not have a problem with the contamination on the surface of a to-be-adhered body is calculated | required. However, the surface protection film using the adhesive layer containing the antistatic agent conventionally proposed was a situation where it was difficult to solve the said subject.

이 때문에, 광학용 필름에 사용하는 표면 보호 필름으로서, 피착체에 대한 오염이 매우 적고, 또한, 피착체에 대한 오염성이 경시 변화되지 않는 것이 필요로 되고 있다. 또한, 피착체로부터 박리할 때의 박리 대전압을 낮게 억제한 표면 보호 필름이 요구되고 있다.For this reason, as a surface protection film used for an optical film, it is necessary that the contamination with respect to a to-be-adhered body is very small, and that the contamination with respect to a to-be-adhered body does not change with time. Moreover, the surface protection film which suppressed the peeling electrification voltage at the time of peeling from a to-be-adhered body is calculated | required.

본 발명자들은 이 과제를 해결하기 위하여 예의 검토를 행하였다.The present inventors earnestly examined in order to solve this subject.

피착체에 대한 오염이 적고, 또한 대전 방지 성능의 경시 변화도 작게 하기 위해서는 피착체를 오염시키고 있는 원인으로 추측되는 대전 방지제의 첨가량을 감량시킬 필요가 있다. 그러나, 대전 방지제의 첨가량을 감량시켰을 경우에는 표면 보호 필름을 피착체로부터 박리할 때의 박리 대전압이 높아진다. 본 발명자들은 대전 방지제의 첨가량의 절대량을 증가시키지 않으며, 표면 보호 필름을 피착체로부터 박리할 때의, 박리 대전압을 낮게 억제하는 방법에 대해 검토하였다. 그 결과, 점착제 조성물 내에 대전 방지제를 첨가하고 혼합하여 점착제층을 형성하는 것이 아니라, 점착제 조성물을 도공·건조시켜 점착제층을 적층한 후에 점착제층의 표면에 적당량의 대전 방지제 성분을 부여함으로써, 표면 보호 필름을 피착체인 광학용 필름에서 박리할 때의 박리 대전압을 낮게 억제할 수 있다는 것을 알아내어, 본 발명을 완성하였다.In order to reduce contamination to the adherend and to reduce the aging change in the antistatic performance, it is necessary to reduce the amount of the antistatic agent that is supposed to be the cause of contaminating the adherend. However, when the addition amount of an antistatic agent is reduced, the peeling electrification voltage at the time of peeling a surface protection film from a to-be-adhered body becomes high. The present inventors did not increase the absolute amount of the addition amount of an antistatic agent, but examined about the method of suppressing peeling electrification voltage when peeling a surface protection film from a to-be-adhered body. As a result, rather than adding and mixing an antistatic agent in an adhesive composition to form an adhesive layer, after apply | coating and drying an adhesive composition and laminating | stacking an adhesive layer, the surface protection is provided by providing a suitable amount of antistatic agent component to the surface of an adhesive layer. It discovered that the peeling electrification voltage at the time of peeling a film in the optical film which is a to-be-adhered body can be suppressed low, and completed this invention.

본 발명은 상기 사정을 감안하여 이루어진 것으로, 피착체에 대한 오염이 적고, 또한 경시 열화되지 않으며 우수한 박리 대전 방지 성능을 갖는 대전 방지 표면 보호 필름을 제공하는 것을 과제로 한다.This invention is made | formed in view of the said situation, and makes it a subject to provide the antistatic surface protection film which has little contamination with a to-be-adhered body, and does not deteriorate with time, and has the outstanding peeling antistatic performance.

상기 과제를 해결하기 위해, 본 발명의 대전 방지 표면 보호 필름은 점착제 조성물을 도공·건조시켜 점착제층을 적층한 후에, 그 점착제층의 표면에 적당량의 대전 방지제를 부여함으로써, 피착체에 대한 오염성을 낮게 억제하면서, 피착체인 광학용 필름으로부터 박리할 때의 박리 대전압을 낮게 억제하는 것을 기술 사상으로 하고 있다.In order to solve the said subject, the antistatic surface protection film of this invention coats and dries an adhesive composition, and after laminating | stacking an adhesive layer, by providing an appropriate amount of antistatic agent to the surface of the adhesive layer, it is contaminated to a to-be-adhered body. It is a technical idea to suppress low the peeling electrification voltage at the time of peeling from the optical film which is a to-be-adhered body, suppressing low.

상기 과제를 해결하기 위해, 본 발명은 대전 방지 표면 보호 필름으로서, 다음의 공정(1)∼(2), MEANS TO SOLVE THE PROBLEM In order to solve the said subject, this invention is an antistatic surface protection film, following process (1)-(2),

공정(1): 투명성을 갖는 수지로 이루어지는 기재 필름의 한쪽 면에, (A) 알킬기의 탄소수가 C4∼C18인 (메타)아크릴산에스테르 모노머의 적어도 1종과, 공중합 가능한 모노머군으로서 카르복실기를 함유하는 공중합 가능한 모노머를 포함하지 않지만, (B) 수산기를 함유하는 공중합 가능한 모노머의 적어도 1종을 포함하는 공중합체의 아크릴계 폴리머로 이루어지고, 추가로 (C) 2관능 이상의 이소시아네이트 화합물과, (D) 가교 촉진제와, (E) 케토엔올 호변이성체 화합물을 함유하는 점착제 조성물로 이루어지는 점착제층을 형성하는 공정과,Process (1): On one side of the base film which consists of resin which has transparency, (A) At least 1 sort (s) of the (meth) acrylic acid ester monomer of C4-C18 carbon number of an alkyl group contains a carboxyl group as a monomer group copolymerizable. Although it does not contain a copolymerizable monomer, (B) consists of an acryl-type polymer of the copolymer containing at least 1 sort (s) of the copolymerizable monomer containing a hydroxyl group, (C) bifunctional or more isocyanate compound, and (D) crosslinking Forming a pressure-sensitive adhesive layer made of a pressure-sensitive adhesive composition containing an accelerator and (E) a ketoenol tautomer compound,

공정(2): 상기 점착제층의 표면에, 수지 필름의 한쪽 면에 대전 방지제를 함유하는 박리제층이 적층된 박리 필름을, 상기 박리제층을 개재하여 첩합하는 공정을 순서대로 거쳐 제작되어 이루어지고, 상기 박리제층이 디메틸폴리실록산을 주성분으로 하는 박리제와, 대전 방지제를 포함하는 수지 조성물에 의해 형성되어 이루어지고, 점착제층의 박리 대전압이 ±0.6㎸ 이하인 것을 특징으로 하는 대전 방지 표면 보호 필름을 제공한다.Process (2): It is produced through the process of bonding together the peeling film which the peeling agent layer containing an antistatic agent was laminated | stacked on one surface of the resin film on the surface of the said adhesive layer via the said peeling agent layer, in order, The said release agent layer is formed by the resin composition containing the releasing agent which has dimethylpolysiloxane as a main component, and an antistatic agent, and provides the antistatic surface protection film characterized by the peeling electrification voltage of an adhesive layer being ± 0.6 kPa or less. .

또한, 상기 공중합 가능한 모노머군으로서 추가로 (F) 폴리알킬렌글리콜모노(메타)아크릴산에스테르 모노머를 포함하는 것이 바람직하다.Moreover, it is preferable to contain (F) polyalkylene glycol mono (meth) acrylic acid ester monomer further as said monomer group which can be copolymerized.

또한, 상기 (D) 가교 촉진제가 알루미늄 킬레이트 화합물, 티탄 킬레이트 화합물, 철 킬레이트 화합물로 이루어지는 군 중에서 선택된 적어도 1종 이상이고, 상기 공중합체의 아크릴계 폴리머 100중량부에 대해 0.001∼0.5중량부를 함유하여 이루어지고, 상기 (E) 케토엔올 호변이성체 화합물 0.1∼300중량부를 함유하여 이루어지고, (E)/(D)의 중량부 비율이 70∼1000인 것이 바람직하다.The crosslinking accelerator (D) is at least one member selected from the group consisting of an aluminum chelate compound, a titanium chelate compound, and an iron chelate compound, and contains 0.001 to 0.5 parts by weight based on 100 parts by weight of the acrylic polymer of the copolymer. It is preferable to contain 0.1-300 weight part of said (E) ketoenol tautomer compounds, and it is preferable that the weight part ratio of (E) / (D) is 70-1000.

또한, 상기 (B) 수산기를 함유하는 공중합 가능한 모노머가 8-히드록시옥틸(메타)아크릴레이트, 6-히드록시헥실(메타)아크릴레이트, 4-히드록시부틸(메타)아크릴레이트, 2-히드록시에틸(메타)아크릴레이트, N-히드록시(메타)아크릴아미드, N-히드록시메틸(메타)아크릴아미드, N-히드록시에틸(메타)아크릴아미드로 이루어지는 화합물군 중에서 선택된 적어도 1종 이상이고, 상기 공중합체의 아크릴계 폴리머 100중량부에 대해 0.1∼10중량부인 것이 바람직하다.Moreover, the copolymerizable monomer containing the said (B) hydroxyl group is 8-hydroxyoctyl (meth) acrylate, 6-hydroxyhexyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate, 2-hydroxy At least one selected from the group consisting of hydroxyethyl (meth) acrylate, N-hydroxy (meth) acrylamide, N-hydroxymethyl (meth) acrylamide, and N-hydroxyethyl (meth) acrylamide; It is preferable that it is 0.1-10 weight part with respect to 100 weight part of acrylic polymers of the said copolymer.

또한, 상기 공중합 가능한 모노머군으로서 추가로 (F) 폴리알킬렌글리콜모노(메타)아크릴산에스테르 모노머를 포함하거나 또는 포함하지 않고, 상기 (F) 폴리알킬렌글리콜모노(메타)아크릴산에스테르 모노머가, 폴리알킬렌글리콜모노(메타)아크릴레이트, 메톡시폴리알킬렌글리콜(메타)아크릴레이트, 에톡시폴리알킬렌글리콜(메타)아크릴레이트 중에서 선택된 적어도 1종 이상이고, 상기 공중합체의 아크릴계 폴리머 100중량부에 대해 0∼50중량부인 것이 바람직하다.Furthermore, the (F) polyalkylene glycol mono (meth) acrylic acid ester monomer may or may not contain (F) polyalkylene glycol mono (meth) acrylic acid ester monomer as the monomer group which can be copolymerized. At least one selected from alkylene glycol mono (meth) acrylate, methoxypolyalkylene glycol (meth) acrylate, and ethoxypolyalkylene glycol (meth) acrylate; 100 parts by weight of the acrylic polymer of the copolymer It is preferable that it is 0-50 weight part with respect to.

또한, 상기 (C) 2관능 이상의 이소시아네이트 화합물로서 2관능 이소시아네이트 화합물로는, 비고리형 지방족 이소시아네이트 화합물로서, 디이소시아네이트 화합물과 디올 화합물을 반응시켜 생성된 화합물이고, 디이소시아네이트 화합물로는 지방족 디이소시아네이트로서, 테트라메틸렌디이소시아네이트, 펜타메틸렌디이소시아네이트, 헥사메틸렌디이소시아네이트, 트리메틸헥사메틸렌디이소시아네이트, 리신디이소시아네이트로 이루어지는 화합물군 중에서 선택된 1종과, 디올 화합물로는, 2-메틸-1,3-프로판디올, 2,2-디메틸-1,3-프로판디올, 2-메틸-2-프로필-1,3-프로판디올, 2-에틸-2-부틸-1,3-프로판디올, 3-메틸-1,5-펜탄디올, 2,2-디메틸-1,3-프로판디올모노히드록시피발레이트, 폴리에틸렌글리콜, 폴리프로필렌글리콜로 이루어지는 화합물군 중에서 선택된 1종으로 이루어지고, 3관능 이소시아네이트 화합물로는, 헥사메틸렌디이소시아네이트 화합물의 이소시아누레이트체, 이소포론디이소시아네이트 화합물의 이소시아누레이트체, 헥사메틸렌디이소시아네이트 화합물의 어덕트체, 이소포론디이소시아네이트 화합물의 어덕트체, 헥사메틸렌디이소시아네이트 화합물의 뷰렛체, 이소포론디이소시아네이트 화합물의 뷰렛체, 톨릴렌디이소시아네이트 화합물의 이소시아누레이트체, 자일릴렌디이소시아네이트 화합물의 이소시아누레이트체, 수첨 자일릴렌디이소시아네이트 화합물의 이소시아누레이트체, 톨릴렌디이소시아네이트 화합물의 어덕트체, 자일릴렌디이소시아네이트 화합물의 어덕트체, 수첨 자일릴렌디이소시아네이트 화합물의 어덕트체로 이루어지고, 상기 공중합체의 아크릴계 폴리머 100중량부에 대해 0.1∼10중량부인 것이 바람직하다.Moreover, as said (C) bifunctional or more isocyanate compound, it is a compound produced by making a diisocyanate compound and a diol compound react as a bicyclic aliphatic isocyanate compound, As a diisocyanate compound, As a diisocyanate compound, Examples of the compound selected from the group consisting of tetramethylene diisocyanate, pentamethylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, trimethylhexamethylene diisocyanate and lysine diisocyanate, and a diol compound include 2-methyl-1,3-propanediol, 2,2-dimethyl-1,3-propanediol, 2-methyl-2-propyl-1,3-propanediol, 2-ethyl-2-butyl-1,3-propanediol, 3-methyl-1,5 -From the group of compounds consisting of pentanediol, 2,2-dimethyl-1,3-propanediol monohydroxypivalate, polyethylene glycol and polypropylene glycol The trifunctional isocyanate compound is composed of one selected, and isocyanurate of hexamethylene diisocyanate compound, isocyanurate of isophorone diisocyanate compound, adduct of hexamethylene diisocyanate compound, isophorone Adducts of diisocyanate compounds, biurets of hexamethylene diisocyanate compounds, biurets of isophorone diisocyanate compounds, isocyanurates of tolylene diisocyanate compounds, isocyanurates of xylylene diisocyanate compounds, hydrogenated Isocyanurate body of xylylene diisocyanate compound, Adduct body of tolylene diisocyanate compound, Adduct body of xylylene diisocyanate compound, Adduct body of hydrogenated xylylene diisocyanate compound, The acrylic polymer of the said copolymer It is preferable that it is 0.1-10 weight part with respect to 100 weight part.

또한, 상기 점착제 조성물에 (G) HLB값이 7∼15인 폴리에테르 변성 실록산 화합물을, 상기 공중합체의 아크릴계 폴리머 100중량부에 대해 1.0중량부 이하(0중량부의 경우를 제외한다) 포함하는 것이 바람직하다.The pressure-sensitive adhesive composition further includes 1.0 parts by weight or less (excluding 0 parts by weight) of the polyether-modified siloxane compound having a (G) HLB value of 7 to 15, based on 100 parts by weight of the acrylic polymer of the copolymer. desirable.

또한, 상기 박리제층 중의 대전 방지제가 알칼리 금속염인 것이 바람직하다.Moreover, it is preferable that the antistatic agent in the said peeling agent layer is an alkali metal salt.

또한, 상기 박리제층 중의 대전 방지제가 Li염이고, Li(CF₃SO₂)₂N, Li(FSO₂)₂N, LiCF₃SO₃으로 이루어지는 화합물군 중에서 선택된 적어도 1종 이상인 것이 바람직하다.In addition, it is preferable that the antistatic agent in the release agent layer and the Li _{_{salt, Li (CF 3 SO 2)}} 2 N, Li (FSO 2) 2 N, LiCF 3 SO is at least one selected from the group consisting of compounds _3.

또한, 상기 과제를 해결하기 위해, 본 발명은 투명성을 갖는 수지로 이루어지는 기재 필름의 한쪽 면에, (A) 알킬기의 탄소수가 C4∼C18인 (메타)아크릴산에스테르 모노머의 적어도 1종과, 공중합 가능한 모노머군으로서 카르복실기를 함유하는 공중합 가능한 모노머를 포함하지 않지만, (B) 수산기를 함유하는 공중합 가능한 모노머의 적어도 1종을 포함하는 공중합체의 아크릴계 폴리머로 이루어지고, 추가로 (C) 2관능 이상의 이소시아네이트 화합물과, (D) 가교 촉진제와, (E) 케토엔올 호변이성체 화합물을 함유하는 점착제 조성물로 이루어지는 점착제층이 형성되어 이루어지고, 상기 점착제층의 표면에, 수지 필름의 한쪽 면에 대전 방지제를 함유하는 박리제층이 적층된 박리 필름이 상기 박리제층을 개재하여 첩합하여 이루어지고, 상기 박리제층이 디메틸폴리실록산을 주성분으로 하는 박리제와 대전 방지제를 포함하는 수지 조성물에 의해 형성되어 이루어지는 것을 특징으로 하는 대전 방지 표면 보호 필름을 제공한다.Moreover, in order to solve the said subject, this invention is copolymerizable with at least 1 sort (s) of the (meth) acrylic acid ester monomer whose C4-C18 carbon number of (A) alkyl group is on one surface of the base film which consists of resin which has transparency. Although it does not contain the copolymerizable monomer containing a carboxyl group as a monomer group, (B) consists of the acryl-type polymer of the copolymer containing at least 1 sort (s) of the copolymerizable monomer containing a hydroxyl group, and (C) bifunctional or more isocyanate A pressure-sensitive adhesive layer made of a pressure-sensitive adhesive composition containing a compound, (D) a crosslinking accelerator and a (E) ketoenol tautomer compound is formed, and an antistatic agent is formed on one surface of the resin film on the surface of the pressure-sensitive adhesive layer. The release film in which the release agent layer containing is laminated | stacked is bonded together through the said release agent layer, and the said release agent layer is It is formed of a resin composition containing a release agent and an antistatic agent to a butyl polysiloxane as a main component provides an antistatic surface protecting film which comprises.

또한, 상기 점착제 조성물에, (G) HLB값이 7∼15인 폴리에테르 변성 실록산 화합물을, 상기 공중합체의 아크릴계 폴리머 100중량부에 대해 1.0중량부 이하(0중량부의 경우를 제외한다) 포함하는 것이 바람직하다.Furthermore, the said adhesive composition contains 1.0 weight part or less (except the case of 0 weight part) with respect to 100 weight part of acrylic polymers of the (G) HLB value 7-15 of the polyether modified siloxane compound of the said copolymer. It is preferable.

또한, 본 발명은 상기 대전 방지 표면 보호 필름이 첩합되어 이루어지는 광학용 필름을 제공한다.Moreover, this invention provides the optical film in which the said antistatic surface protection film is bonded together.

또한, 본 발명은 상기 대전 방지 표면 보호 필름이 첩합되어 이루어지는 광학 부품을 제공한다.Moreover, this invention provides the optical component by which the said antistatic surface protection film is bonded together.

본 발명의 대전 방지 표면 보호 필름은 피착체에 대한 오염이 적고, 피착체에 대한 저오염성이 경시 변화하지 않는다. 또한, 본 발명에 의하면, LR 편광판이나 AG-LR 편광판 등의, 피착체의 표면이 실리콘 화합물이나 불소 화합물 등으로 방오 처리되어 있는 광학용 필름이어도, 대전 방지 표면 보호 필름을 피착체로부터 박리할 때에 발생하는 박리 대전압을 낮게 억제할 수 있고, 경시 열화되지 않으며 우수한 박리 대전 방지 성능을 갖는 대전 방지 표면 보호 필름을 제공할 수 있다.The antistatic surface protection film of this invention has little contamination with a to-be-adhered body, and the low contamination property with respect to a to-be-adhered body does not change with time. Moreover, according to this invention, even when the surface of a to-be-adhered body, such as an LR polarizing plate and an AG-LR polarizing plate, is an optical film antifouling-treated with a silicone compound, a fluorine compound, etc., when peeling an antistatic surface protection film from a to-be-adhered body, It is possible to provide the antistatic surface protection film which can suppress the peeling electrification voltage which is generated and does not deteriorate with time and has excellent peeling antistatic performance.

본 발명의 대전 방지 표면 보호 필름에 의하면, 광학용 필름의 표면을 확실히 보호할 수 있는 점에서 생산성의 향상과 수율의 향상을 도모할 수 있다.According to the antistatic surface protection film of this invention, since the surface of the optical film can be reliably protected, the improvement of productivity and the yield can be aimed at.

도 1은 본 발명의 대전 방지 표면 보호 필름의 개념을 나타낸 단면도이다.
도 2는 본 발명의 대전 방지 표면 보호 필름으로부터, 박리 필름을 박리한 상태를 나타내는 단면도이다.
도 3은 본 발명의 광학 부품의 실시예의 하나를 나타낸 단면도이다.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS It is sectional drawing which shows the concept of the antistatic surface protection film of this invention.
It is sectional drawing which shows the state which peeled the peeling film from the antistatic surface protection film of this invention.
3 is a cross-sectional view showing one embodiment of an optical component of the present invention.

이하, 실시형태에 기초하여, 본 발명을 자세하게 설명한다.EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, this invention is demonstrated in detail based on embodiment.

도 1은 본 발명의 대전 방지 표면 보호 필름의 개념을 나타낸 단면도이다. 이 대전 방지 표면 보호 필름(10)은 투명한 기재 필름(1)의 한쪽 면의 표면에, 점착제층(2)이 형성되어 있다. 이 점착제층(2)의 표면에는 수지 필름(3)의 표면에 박리제층(4)이 형성된 박리 필름(5)이 첩합되어 있다.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS It is sectional drawing which shows the concept of the antistatic surface protection film of this invention. As for this antistatic surface protection film 10, the adhesive layer 2 is formed in the surface of one surface of the transparent base film 1. The release film 5 in which the release agent layer 4 was formed in the surface of the resin film 3 is bonded to the surface of this adhesive layer 2.

본 발명에 따른 대전 방지 표면 보호 필름(10)에 사용되는 기재 필름(1)으로는 투명성 및 가요성을 갖는 수지로 이루어지는 기재 필름이 사용된다. 이로써, 대전 방지 표면 보호 필름을 피착체인 광학 부품에 첩합한 상태로, 광학 부품의 외관 검사를 행할 수 있다. 기재 필름(1)으로서 사용하는 투명성을 갖는 수지로 이루어지는 필름은 바람직하게는, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트, 폴리에틸렌이소프탈레이트, 폴리부틸렌테레프탈레이트 등의 폴리에스테르 필름이 사용된다. 폴리에스테르 필름 외에, 필요한 강도를 갖고, 또한 광학 적성을 갖는 것이면, 다른 수지로 이루어지는 필름도 사용 가능하다. 기재 필름(1)은 무연신 필름이어도 되고, 1축 또는 2축 연신된 필름이어도 된다. 또한, 연신 필름의 연신 배율이나, 연신 필름의 결정화에 수반하여 형성되는 축방법의 배향 각도를 특정값으로 제어해도 된다.As the base film 1 used for the antistatic surface protection film 10 which concerns on this invention, the base film which consists of resin which has transparency and flexibility is used. Thereby, the external appearance inspection of an optical component can be performed in the state which bonded the antistatic surface protection film to the optical component which is a to-be-adhered body. As a film which consists of resin which has transparency used as the base film 1, Preferably, polyester films, such as polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polyethylene isophthalate, and polybutylene terephthalate, are used. In addition to the polyester film, a film made of other resin can be used as long as it has the required strength and has optical aptitude. The base film 1 may be a non-stretched film, or may be a film uniaxially or biaxially stretched. In addition, you may control the orientation angle of the stretching method of a stretched film, and the axial method formed with crystallization of a stretched film to a specific value.

본 발명에 따른 대전 방지 표면 보호 필름(10)에 사용되는 기재 필름(1)의 두께는 특별히 한정되지 않으나, 예를 들면, 12∼100㎛ 정도의 두께가 바람직하고, 20∼50㎛ 정도의 두께이면 취급하기 쉽고, 보다 바람직하다.Although the thickness of the base film 1 used for the antistatic surface protection film 10 which concerns on this invention is not specifically limited, For example, the thickness of about 12-100 micrometers is preferable, and the thickness of about 20-50 micrometers It is easy to handle and is more preferable.

또한, 필요에 따라, 기재 필름(1)의 점착제층(2)이 형성된 면의 반대측의 면에, 표면의 오염을 방지하는 방오층, 대전 방지층, 흠집 방지 하드 코트층 등을 형성할 수 있다. 또한, 기재 필름(1)의 표면에 코로나 방전에 의한 표면 개질, 앵커 코트제의 도포 등의 이접착 처리를 실시해도 된다.Moreover, the antifouling layer which prevents surface contamination, an antistatic layer, a scratch prevention hard coat layer, etc. can be formed in the surface on the opposite side to the surface in which the adhesive layer 2 of the base film 1 was formed as needed. Moreover, you may give the surface of the base film 1 the easy-adhesion process of surface modification by corona discharge, application | coating of an anchor coat agent, etc.

또한, 본 발명에 따른 대전 방지 표면 보호 필름(10)에 사용되는 점착제층(2)은 피착체의 표면에 접착하고, 사용이 끝난 후에 간단히 박리시키고, 또한, 피착체를 오염시키기 어려운 점착제이면 특별히 한정되지 않지만, 광학용 필름에 첩합 후의 내구성 등을 고려하면 (메타)아크릴레이트 공중합체를 가교시켜 이루어지는 아크릴계 점착제를 사용하는 것이 일반적이다.In addition, the adhesive layer 2 used for the antistatic surface protection film 10 which concerns on this invention adheres to the surface of a to-be-adhered body, and it peels easily after use, and peels off, and also it is especially an adhesive which is hard to contaminate a to-be-adhered body Although it is not limited, It is common to use the acrylic adhesive which crosslinks a (meth) acrylate copolymer in consideration of durability, etc. after bonding to an optical film.

특히, 아크릴계 점착제의 주제가 (A) 알킬기의 탄소수가 C4∼C18인 (메타)아크릴산에스테르 모노머의 적어도 1종과, 공중합 가능한 모노머군으로서 카르복실기를 함유하는 공중합 가능한 모노머를 포함하지 않지만, (B) 수산기를 함유하는 공중합 가능한 모노머의 적어도 1종을 포함하는 공중합체의 아크릴계 폴리머로 이루어지는 점착제층이 바람직하다.In particular, the main component of the acrylic pressure-sensitive adhesive (A) does not include at least one of the (meth) acrylic acid ester monomers having a C4 to C18 carbon number of the alkyl group and a copolymerizable monomer containing a carboxyl group as a copolymerizable monomer group, but (B) a hydroxyl group The adhesive layer which consists of an acryl-type polymer of the copolymer containing at least 1 sort (s) of the copolymerizable monomer containing is preferable.

상기 공중합 가능한 모노머군으로서 추가로 (F) 폴리알킬렌글리콜모노(메타)아크릴산에스테르 모노머를 포함할 수 있다.(F) Polyalkylene glycol mono (meth) acrylic acid ester monomer can be further included as said copolymerizable monomer group.

또한, 상기 아크릴계 폴리머에 첨가하여, (C) 2관능 이상의 이소시아네이트 화합물과, (D) 가교 촉진제와, (E) 케토엔올 호변이성체 화합물을 함유하는 점착제 조성물로 이루어지는 점착제층이 바람직하다.Moreover, the adhesive layer which consists of an adhesive composition containing the (C) bifunctional or more isocyanate compound, (D) crosslinking promoter, and (E) ketoenol tautomer compound in addition to the said acrylic polymer is preferable.

(A) 알킬기의 탄소수가 C4∼C18인 (메타)아크릴산에스테르 모노머로는, 부틸(메타)아크릴레이트, 이소부틸(메타)아크릴레이트, 펜틸(메타)아크릴레이트, 헥실(메타)아크릴레이트, 헵틸(메타)아크릴레이트, 옥틸(메타)아크릴레이트, 이소옥틸(메타)아크릴레이트, 2-에틸헥실(메타)아크릴레이트, 노닐(메타)아크릴레이트, 이소노닐(메타)아크릴레이트, 데실(메타)아크릴레이트, 이소데실(메타)아크릴레이트, 운데실(메타)아크릴레이트, 도데실(메타)아크릴레이트, 트리데실(메타)아크릴레이트, 테트라데실(메타)아크릴레이트, 펜타데실(메타)아크릴레이트, 헥사데실(메타)아크릴레이트, 헵타데실(메타)아크릴레이트, 옥타데실(메타)아크릴레이트, 미리스틸(메타)아크릴레이트, 이소미리스틸(메타)아크릴레이트, 세틸(메타)아크릴레이트, 이소세틸(메타)아크릴레이트, 스테아릴(메타)아크릴레이트, 이소스테아릴(메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다.(A) As a (meth) acrylic acid ester monomer whose C4-C18 carbon number of an alkyl group is butyl (meth) acrylate, isobutyl (meth) acrylate, pentyl (meth) acrylate, hexyl (meth) acrylate, heptyl (Meth) acrylate, octyl (meth) acrylate, isooctyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, nonyl (meth) acrylate, isononyl (meth) acrylate, decyl (meth) Acrylate, isodecyl (meth) acrylate, undecyl (meth) acrylate, dodecyl (meth) acrylate, tridecyl (meth) acrylate, tetradecyl (meth) acrylate, pentadecyl (meth) acrylate , Hexadecyl (meth) acrylate, heptadecyl (meth) acrylate, octadecyl (meth) acrylate, myristyl (meth) acrylate, isomyristyl (meth) acrylate, cetyl (meth) acrylate, iso Cetyl (meth) acrylic Sites, and the like can be mentioned stearyl (meth) acrylate, isostearyl (meth) acrylate.

공중합체의 아크릴계 폴리머의 합계를 100중량부로 할 때, (A) 알킬기의 탄소수가 C4∼C18인 (메타)아크릴산에스테르 모노머를 50∼95중량부의 비율로 함유하고 있는 것이 바람직하다.When making the sum total of the acrylic polymer of a copolymer into 100 weight part, (A) It is preferable to contain the (meth) acrylic acid ester monomer whose C4-C18 carbon number of an alkyl group is 50-95 weight part.

(B) 수산기를 함유하는 공중합 가능한 모노머로는, 8-히드록시옥틸(메타)아크릴레이트, 6-히드록시헥실(메타)아크릴레이트, 4-히드록시부틸(메타)아크릴레이트, 2-히드록시에틸(메타)아크릴레이트 등의 히드록시알킬(메타)아크릴레이트류나, N-히드록시(메타)아크릴아미드, N-히드록시메틸(메타)아크릴아미드, N-히드록시에틸(메타)아크릴아미드 등의 수산기 함유 (메타)아크릴아미드류 등을 들 수 있다.(B) As a copolymerizable monomer containing a hydroxyl group, 8-hydroxyoctyl (meth) acrylate, 6-hydroxyhexyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate, 2-hydroxy Hydroxyalkyl (meth) acrylates, such as ethyl (meth) acrylate, N-hydroxy (meth) acrylamide, N-hydroxymethyl (meth) acrylamide, N-hydroxyethyl (meth) acrylamide, etc. Hydroxyl group-containing (meth) acrylamides; and the like.

8-히드록시옥틸(메타)아크릴레이트, 6-히드록시헥실(메타)아크릴레이트, 4-히드록시부틸(메타)아크릴레이트, 2-히드록시에틸(메타)아크릴레이트, N-히드록시(메타)아크릴아미드, N-히드록시메틸(메타)아크릴아미드, N-히드록시에틸(메타)아크릴아미드로 이루어지는 화합물군 중에서 선택된 적어도 1종 이상인 것이 바람직하다.8-hydroxyoctyl (meth) acrylate, 6-hydroxyhexyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, N-hydroxy (meth) It is preferable that it is at least 1 sort (s) or more chosen from the compound group which consists of acrylamide, N-hydroxymethyl (meth) acrylamide, and N-hydroxyethyl (meth) acrylamide.

공중합체의 아크릴계 폴리머의 합계를 100중량부로 할 때, 상기 (B) 수산기를 함유하는 공중합 가능한 모노머를 0.1∼10중량부의 비율로 함유하고 있는 것이 바람직하다.When making the sum total of the acrylic polymer of a copolymer into 100 weight part, it is preferable to contain the copolymerizable monomer containing the said (B) hydroxyl group in the ratio of 0.1-10 weight part.

(C) 2관능 이상의 이소시아네이트 화합물로는, 1분자 중에 적어도 2개 이상의 이소시아네이트(NCO)기를 갖는 폴리이소시아네이트 화합물로부터 선택되는, 적어도 1종 또는 2종 이상이면 된다. 폴리이소시아네이트 화합물에는 지방족계 이소시아네이트, 방향족계 이소시아네이트, 비고리형계 이소시아네이트, 지환식계 이소시아네이트 등의 분류가 있지만, 어느 것이어도 된다. 폴리이소시아네이트 화합물의 구체예로는, 헥사메틸렌디이소시아네이트(HDI), 이소포론디이소시아네이트(IPDI), 트리메틸헥사메틸렌디이소시아네이트(TMDI) 등의 지방족계 이소시아네이트 화합물이나, 디페닐메탄디이소시아네이트(MDI), 자일릴렌디이소시아네이트(XDI), 수첨 자일릴렌디이소시아네이트(H6XDI), 디메틸디페닐렌디이소시아네이트(TOID), 톨릴렌디이소시아네이트(TDI) 등의 방향족계 이소시아네이트 화합물을 들 수 있다.The (C) bifunctional or higher isocyanate compound may be at least one or two or more selected from polyisocyanate compounds having at least two or more isocyanate (NCO) groups in one molecule. Although there exist classifications, such as aliphatic isocyanate, aromatic isocyanate, acyclic isocyanate, alicyclic isocyanate, etc. in a polyisocyanate compound, Any may be sufficient as it. Specific examples of the polyisocyanate compound include aliphatic isocyanate compounds such as hexamethylene diisocyanate (HDI), isophorone diisocyanate (IPDI) and trimethylhexamethylene diisocyanate (TMDI), diphenylmethane diisocyanate (MDI), Aromatic isocyanate compounds, such as xylylene diisocyanate (XDI), hydrogenated xylylene diisocyanate (H6XDI), dimethyl diphenylene diisocyanate (TOID), and tolylene diisocyanate (TDI), are mentioned.

3관능 이상의 이소시아네이트 화합물로는, 2관능 이소시아네이트 화합물(1분자 중에 2개의 NCO기를 갖는 화합물)의 뷰렛 변성체나 이소시아누레이트 변성체, 트리메틸올프로판(TMP)이나 글리세린 등의 3가 이상의 폴리올(1분자 중에 적어도 3개 이상의 OH기를 갖는 화합물)과의 어덕트체(폴리올 변성체) 등을 들 수 있다.As an isocyanate compound more than trifunctional, trivalent or more polyol (1), such as a biuret modified body of an bifunctional isocyanate compound (compound which has two NCO groups in 1 molecule), an isocyanurate modified body, trimethylol propane (TMP), glycerin, etc. And adducts (polyol modified substances) with at least three or more OH groups in the molecule).

(C) 2관능 이상의 이소시아네이트 화합물로서 (C-1) 3관능 이소시아네이트 화합물만, 또는 (C-2) 2관능 이소시아네이트 화합물만을 사용하는 것도 가능하다. 또한, (C-1) 3관능 이소시아네이트 화합물과, (C-2) 2관능 이소시아네이트 화합물을 병용하는 것도 가능하다.(C) It is also possible to use only (C-1) trifunctional isocyanate compounds or only (C-2) difunctional isocyanate compounds as a bifunctional or more isocyanate compound. Moreover, it is also possible to use together the (C-1) trifunctional isocyanate compound and the (C-2) difunctional isocyanate compound.

또한, 본 발명에 사용하는 (C-1) 3관능 이소시아네이트 화합물로는, 헥사메틸렌디이소시아네이트 화합물의 이소시아누레이트체, 이소포론디이소시아네이트 화합물의 이소시아누레이트체, 헥사메틸렌디이소시아네이트 화합물의 어덕트체, 이소포론디이소시아네이트 화합물의 어덕트체, 헥사메틸렌디이소시아네이트 화합물의 뷰렛체, 이소포론디이소시아네이트 화합물의 뷰렛체로 이루어지는, (C-1-1) 제1 지방족계 이소시아네이트 화합물군 중에서 선택된 적어도 1종 이상과, 톨릴렌디이소시아네이트 화합물의 이소시아누레이트체, 자일릴렌디이소시아네이트 화합물의 이소시아누레이트체, 수첨 자일릴렌디이소시아네이트 화합물의 이소시아누레이트체, 톨릴렌디이소시아네이트 화합물의 어덕트체, 자일릴렌디이소시아네이트 화합물의 어덕트체, 수첨 자일릴렌디이소시아네이트 화합물의 어덕트체로 이루어지는, (C-1-2) 제2 방향족계 이소시아네이트 화합물군 중에서 선택된 적어도 1종 이상을 포함하는 것이 바람직하다. (C-1-1) 제1 지방족계 이소시아네이트 화합물군과 (C-1-2) 제2 방향족계 이소시아네이트 화합물군을 병용하는 것이 바람직하다. 본 발명에서는 (C-1) 3관능 이소시아네이트 화합물로서 (C-1-1) 제1 지방족계 이소시아네이트 화합물군 중에서 선택된 적어도 1종 이상과, (C-1-2) 제2 방향족계 이소시아네이트 화합물군 중에서 선택된 적어도 1종 이상을 병용함으로써, 저속 박리 영역 및 고속 박리 영역의 점착력 밸런스를 더욱 개선할 수 있다.Moreover, as (C-1) trifunctional isocyanate compound used for this invention, the isocyanurate body of the hexamethylene diisocyanate compound, the isocyanurate body of the isophorone diisocyanate compound, and the hexamethylene diisocyanate compound, At least 1 selected from the group of (C-1-1) 1st aliphatic isocyanate compounds consisting of a duct body, an adduct of an isophorone diisocyanate compound, a burette body of a hexamethylene diisocyanate compound, and a burette body of an isophorone diisocyanate compound. Or more, isocyanurate of tolylene diisocyanate compound, isocyanurate of xylylene diisocyanate compound, isocyanurate of hydrogenated xylylene diisocyanate compound, adduct of tolylene diisocyanate compound, xyl Adduct, number of the relene diisocyanate compound It is preferable to contain at least 1 sort (s) chosen from the group of (C-1-2) 2nd aromatic type isocyanate compounds which consist of an adduct of an addition xylylene diisocyanate compound. It is preferable to use together the (C-1-1) 1st aliphatic isocyanate compound group and (C-1-2) 2nd aromatic type isocyanate compound group. In the present invention, at least one or more selected from the (C-1-1) first aliphatic isocyanate compound group as the (C-1) trifunctional isocyanate compound, and from the (C-1-2) second aromatic isocyanate compound group By using together at least 1 sort (s) or more selected, the adhesive force balance of a low speed peeling area | region and a high speed peeling area | region can further be improved.

또한, (C-1) 3관능 이소시아네이트 화합물은 상기 (C-1-1) 제1 지방족계 이소시아네이트 화합물군 중에서 선택된 적어도 1종 이상과, 상기 (C-1-2) 제2 방향족계 이소시아네이트 화합물군 중에서 선택된 적어도 1종 이상을 포함하고, 상기 공중합체의 아크릴계 폴리머 100중량부에 대해, 합계하여 0.5∼5.0중량부 포함되는 것이 바람직하다. 또한, (C-1-1) 제1 지방족계 이소시아네이트 화합물군 중에서 선택된 적어도 1종 이상과, (C-1-2) 제2 방향족계 이소시아네이트 화합물군 중에서 선택된 적어도 1종 이상의 혼합 비율은 (C-1-1):(C-1-2)가 중량비로 10％:90％∼90％:10％의 범위 내인 것이 바람직하다.In addition, the (C-1) trifunctional isocyanate compound is at least one or more selected from the above-mentioned (C-1-1) first aliphatic isocyanate compound group, and the (C-1-2) second aromatic isocyanate compound group. It is preferable that it contains at least 1 sort (s) or more selected from among 0.5-5.0 weight part in total with respect to 100 weight part of acrylic polymers of the said copolymer. Further, the mixing ratio of at least one selected from the group of (C-1-1) first aliphatic isocyanate compounds and at least one type selected from the group of (C-1-2) second aromatic isocyanate compounds is (C-1-1). It is preferable that 1-1) :( C-1-2) exists in the range of 10%: 90%-90%: 10% by weight ratio.

또한, 본 발명에 사용하는 (C-2) 2관능 이소시아네이트 화합물로는, 비고리형 지방족 이소시아네이트 화합물로서, 디이소시아네이트 화합물과 디올 화합물을 반응시켜 생성된 화합물인 것이 바람직하다. Moreover, as a (C-2) difunctional isocyanate compound used for this invention, it is preferable that it is a compound produced by making a diisocyanate compound and a diol compound react as an acyclic aliphatic isocyanate compound.

예를 들면, 화학식 「O=C=N-X-N=C=O」(다만, X는 2가기)로 디이소시아네이트 화합물을 화학식 「HO-Y-OH」(다만, Y는 2가기)로 디올 화합물을 나타낼 때, 디이소시아네이트 화합물과 디올 화합물을 반응시켜 생성된 화합물로는, 예를 들면, 다음의 화학식 Z로 나타내는 화합물을 들 수 있다.For example, the diisocyanate compound is represented by the chemical formula "O = C = NXN = C = O" (wherein X is divalent) and the diol compound is represented by the formula "HO-Y-OH" (where Y is divalent). As a compound produced by making a diisocyanate compound and a diol compound react at this time, the compound represented by following Chemical formula Z is mentioned, for example.

[화학식 Z][Formula Z]

O=C=N-X-(NH-CO-O-Y-O-CO-NH-X)_n-N=C=OO = C = NX- (NH-CO-OYO-CO-NH-X) _n -N = C = O

여기서, n은 0이상의 정수이다. n이 0인 경우, 화학식 Z는 「O=C=N-X-N=C=O」를 나타낸다. 2관능 비고리형 지방족 이소시아네이트 화합물로서 화학식 Z에 있어서 n이 0인 화합물(디올 화합물에 대해 미반응의 디이소시아네이트 화합물)을 포함해도 되지만, n이 1 이상의 정수인 화합물을 필수 성분으로서 포함하는 것이 바람직하다. 2관능 비고리형 지방족 이소시아네이트 화합물은 화학식 Z에 있어서의 n이 상이한 복수의 화합물로 이루어지는 혼합물이어도 된다.N is an integer of 0 or more. When n is 0, the chemical formula Z represents "O = C = N-X-N = C = O". As the bifunctional acyclic aliphatic isocyanate compound, in the general formula Z, a compound in which n is 0 (unreacted diisocyanate compound relative to the diol compound) may be included, but it is preferable to include a compound in which n is an integer of 1 or more as an essential component. The bifunctional acyclic aliphatic isocyanate compound may be a mixture composed of a plurality of compounds in which n in the general formula Z is different.

화학식 「O=C=N-X-N=C=O」로 나타내는 디이소시아네이트 화합물은 지방족 디이소시아네이트이다. X는 비고리형으로 지방족의 2가기인 것이 바람직하다. 상기 지방족 디이소시아네이트로는, 테트라메틸렌디이소시아네이트, 펜타메틸렌디이소시아네이트, 헥사메틸렌디이소시아네이트, 트리메틸헥사메틸렌디이소시아네이트, 리신디이소시아네이트로 이루어지는 화합물군 중에서 선택된 1종 또는 2종 이상으로 이루어지는 것이 바람직하다.The diisocyanate compound represented by general formula "O = C = N-X-N = C = O" is an aliphatic diisocyanate. X is acyclic and preferably an aliphatic divalent group. As said aliphatic diisocyanate, it is preferable that it consists of 1 type, or 2 or more types chosen from the compound group which consists of tetramethylene diisocyanate, pentamethylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, trimethylhexamethylene diisocyanate, and lysine diisocyanate.

화학식 「HO-Y-OH」로 나타내는 디올 화합물은 지방족 디올이다. Y는 비고리형으로 지방족의 2가기인 것이 바람직하다. 상기 디올 화합물로는, 2-메틸-1,3-프로판디올, 2,2-디메틸-1,3-프로판디올, 2-메틸-2-프로필-1,3-프로판디올, 2-에틸-2-부틸-1,3-프로판디올, 3-메틸-1,5-펜탄디올, 2,2-디메틸-1,3-프로판디올모노히드록시피발레이트, 폴리에틸렌글리콜, 폴리프로필렌글리콜로 이루어지는 화합물군 중에서 선택된 1종 또는 2종 이상으로 이루어지는 것이 바람직하다.The diol compound represented by general formula "HO-Y-OH" is an aliphatic diol. Y is acyclic and preferably an aliphatic divalent group. Examples of the diol compound include 2-methyl-1,3-propanediol, 2,2-dimethyl-1,3-propanediol, 2-methyl-2-propyl-1,3-propanediol, and 2-ethyl-2 In the group consisting of -butyl-1,3-propanediol, 3-methyl-1,5-pentanediol, 2,2-dimethyl-1,3-propanediol monohydroxy pivalate, polyethylene glycol and polypropylene glycol It is preferable that it consists of 1 type, or 2 or more types selected.

상기 (C-1) 3관능 이소시아네이트 화합물과, (C-2) 2관능 이소시아네이트 화합물의 중량비(C-1/C-2)가 1∼90인 것이 바람직하다. 상기 공중합체의 아크릴계 폴리머 100중량부에 대해, 상기 (C) 2관능 이상의 이소시아네이트 화합물이 0.1∼10중량부인 것이 바람직하다.It is preferable that the weight ratio (C-1 / C-2) of the said (C-1) trifunctional isocyanate compound and (C-2) difunctional isocyanate compound is 1-90. It is preferable that the said (C) bifunctional or more isocyanate compound is 0.1-10 weight part with respect to 100 weight part of acrylic polymers of the said copolymer.

(D) 가교 촉진제는 폴리이소시아네이트 화합물을 가교제로 하는 경우에, 상기 공중합체와 가교제의 반응(가교 반응)에 대해 촉매로서 기능하는 물질이면 되고, 제3급 아민 등의 아민계 화합물, 금속 킬레이트 화합물, 유기 주석 화합물, 유기 납 화합물, 유기 아연 화합물 등의 유기 금속 화합물 등을 들 수 있다. 본 발명에서는 가교 촉진제로서 금속 킬레이트 화합물이나 유기 주석 화합물이 바람직하다.(D) The crosslinking accelerator may be a substance which functions as a catalyst for the reaction (crosslinking reaction) of the copolymer and the crosslinking agent when the polyisocyanate compound is used as a crosslinking agent, and may be an amine compound such as a tertiary amine or a metal chelate compound. And organometallic compounds such as organic tin compounds, organic lead compounds, and organic zinc compounds. In this invention, a metal chelate compound and an organic tin compound are preferable as a crosslinking promoter.

금속 킬레이트 화합물로는, 중심 금속 원자 M에 1 이상의 다좌 배위자 L이 결합한 화합물이다. 금속 킬레이트 화합물은 금속 원자 M에 결합하는 1 이상의 단좌 배위자 X를 가져도 되고, 갖지 않아도 된다. 예를 들면, 금속 원자 M이 1개인 금속 킬레이트 화합물의 화학식을 M(L)_m(X)_n으로 나타낼 때, m≥1, n≥0이다. m이 2이상인 경우, m개의 L은 동일한 배위자여도 되고, 상이한 배위자여도 된다. n이 2이상인 경우, n개의 X는 동일한 배위자여도 되고, 상이한 배위자여도 된다.The metal chelate compound is a compound in which at least one polydentate ligand L is bonded to the central metal atom M. The metal chelate compound may or may not have one or more single-site ligands X bonded to the metal atom M. For example, when the chemical formula of a metal chelate compound having one metal atom M is represented by M (L) _m (X) _n , m ≧ 1 and _n ≧ 0. When m is 2 or more, m pieces of L may be the same ligand or may be different ligands. When n is two or more, n pieces of X may be the same ligand or different ligands.

금속 원자 M으로는, Fe, Ni, Mn, Cr, V, Ti, Ru, Zn, Al, Zr, Sn 등을 들 수 있다.Examples of the metal atom M include Fe, Ni, Mn, Cr, V, Ti, Ru, Zn, Al, Zr, Sn, and the like.

다좌 배위자 L로는, 아세토초산메틸, 아세토초산에틸, 아세토초산옥틸, 아세토초산올레일, 아세토초산라우릴, 아세토초산스테아릴 등의 β-케토에스테르나, 아세틸아세톤(별명 2,4-펜탄디온), 2,4-헥산디온, 벤조일아세톤 등의 β-디케톤을 들 수 있다. 이들은 케토엔올 호변이성체 화합물이고, 다좌 배위자 L에 있어서는 엔올이 탈프로톤한 에놀레이트(예를 들면, 아세틸아세토네이트)여도 된다.As the polydentate ligand L, β-ketoesters such as methyl acetoacetate, ethyl acetoacetate, octyl acetoacetate, acetoacetic acid oleyl, acetoacetic acid lauryl, and acetoacetate acetate and acetylacetone (nickname 2,4-pentanedione) (Beta) -diketone, such as 2, 4- hexanedione and benzoyl acetone, is mentioned. These are ketoenol tautomer compounds, and in the polydentate ligand L, enolate (for example, acetylacetonate) in which the enol is deprotonated may be used.

단좌 배위자 X로는, 염소 원자, 브롬 원자 등의 할로겐 원자, 펜타노일기, 헥사노일기, 2-에틸헥사노일기, 옥타노일기, 노나노일기, 데카노일기, 도데카노일기, 옥타데카노일기 등의 아실옥시기, 메톡시기, 에톡시기, n-프로폭시기, 이소프로폭시기, 부톡시기 등의 알콕시기 등을 들 수 있다.As single-stage ligand X, halogen atoms, such as a chlorine atom and a bromine atom, a pentanyl group, a hexanoyl group, 2-ethylhexanoyl group, an octanoyl group, a nonanoyl group, a decanoyl group, a dodecanoyl group, an octadecanoyl group, etc. Alkoxy groups, such as time period, a methoxy group, an ethoxy group, n-propoxy group, isopropoxy group, butoxy group, etc. are mentioned.

금속 킬레이트 화합물의 구체예로는, 트리스(2,4-펜탄디오네이트)철(III), 철 트리스아세틸아세토네이트, 티타늄 트리스아세틸아세토네이트, 루테늄 트리스아세틸아세토네이트, 아연 비스아세틸아세토네이트, 알루미늄 트리스아세틸아세토네이트, 지르코늄 테트라키스아세틸아세토네이트, 트리스(2,4-헥산디오네이트) 철(III), 비스(2,4-헥산디오네이트) 아연, 트리스(2,4-헥산디오네이트)티탄, 트리스(2,4-헥산디오네이트)알루미늄, 테트라키스(2,4-헥산디오네이트)지르코늄 등을 들 수 있다.Specific examples of the metal chelate compound include tris (2,4-pentanedionate) iron (III), iron trisacetylacetonate, titanium trisacetylacetonate, ruthenium trisacetylacetonate, zinc bisacetylacetonate, aluminum tris Acetylacetonate, zirconium tetrakisacetylacetonate, tris (2,4-hexanedionate) iron (III), bis (2,4-hexanedionate) zinc, tris (2,4-hexanedionate) titanium, Tris (2, 4- hexane dionate) aluminum, tetrakis (2, 4- hexane dionate) zirconium, etc. are mentioned.

유기 주석 화합물로는, 디알킬주석 옥사이드나, 디알킬주석의 지방산염, 제1주석의 지방산염 등을 들 수 있다. 종래, 디부틸주석 화합물이 많이 사용되어 왔지만, 근래에는 유기 주석 화합물의 독성 문제가 지적되어, 특히 디부틸주석 화합물에 포함되는 트리부틸주석(TBT)은 내분비 교란 물질로서도 염려되고 있다. 안전성의 관점에서, 디옥틸주석 화합물 등의 장쇄 알킬주석 화합물이 바람직하다. 구체적인 유기 주석 화합물로는, 디옥틸주석 옥사이드, 디옥틸주석 디라우레이트 등을 들 수 있다. 잠정적으로는 Sn 화합물도 사용 가능하지만, 장래적으로는, 보다 안전성이 높은 물질의 사용이 요구되는 추세를 감안하여, Sn에 비해 안전성이 높은 Al, Ti, Fe 등의 금속 킬레이트 화합물을 사용하는 것이 바람직하다.Examples of the organic tin compound include dialkyl tin oxide, fatty acid salts of dialkyl tin, fatty acid salts of first tin, and the like. Conventionally, many dibutyltin compounds have been used, but in recent years, the toxicity problem of organic tin compounds has been pointed out, and tributyltin (TBT) contained in the dibutyltin compound is particularly concerned as an endocrine disrupting substance. From the viewpoint of safety, long chain alkyl tin compounds such as dioctyl tin compounds are preferred. Dioctyl tin oxide, dioctyl tin dilaurate, etc. are mentioned as a specific organic tin compound. In the future, Sn compounds may also be used, but in the future, in view of the tendency to use more safe materials, it is preferable to use metal chelate compounds such as Al, Ti, and Fe that are more safe than Sn. desirable.

본 발명에 따른 점착제 조성물에 있어서의 (D) 가교 촉진제로는, 알루미늄 킬레이트 화합물, 티탄 킬레이트 화합물, 철 킬레이트 화합물로 이루어지는 군 중에서 선택된 적어도 1종 이상인 것이 바람직하다.It is preferable that it is at least 1 sort (s) chosen from the group which consists of an aluminum chelate compound, a titanium chelate compound, and an iron chelate compound as (D) crosslinking promoter in the adhesive composition which concerns on this invention.

(D) 가교 촉진제는 공중합체의 아크릴계 폴리머 100중량부에 대해, 0.001∼0.5중량부 포함하는 것이 바람직하다.(D) It is preferable to contain 0.001-0.5 weight part of crosslinking accelerators with respect to 100 weight part of acrylic polymers of a copolymer.

(E) 케토엔올 호변이성체 화합물로는, 아세토초산메틸, 아세토초산에틸, 아세토초산옥틸, 아세토초산올레일, 아세토초산라우릴, 아세토초산스테아릴 등의 β-케토에스테르나, 아세틸아세톤, 2,4-헥산디온, 벤조일아세톤 등의 β-디케톤을 들 수 있다. 이들은 폴리이소시아네이트 화합물을 가교제로 하는 점착제 조성물에 있어서, 가교제가 갖는 이소시아네이트기를 블록함으로써, 가교제의 배합 후에 있어서의 점착제 조성물의 과잉 점도 상승이나 겔화를 억제하여, 점착제 조성물의 포트 라이프를 연장할 수 있다.(E) As a ketoenol tautomer compound, (beta) -ketoesters, such as methyl aceto acetate, ethyl aceto acetate, octyl aceto acetate, acetyl aceto acetate, lauryl aceto acetate, and stearyl aceto acetate, acetylacetone, 2 (Beta) -diketone, such as a 4, 4- hexanedione and a benzoyl acetone, is mentioned. In the adhesive composition which uses a polyisocyanate compound as a crosslinking agent, by blocking the isocyanate group which a crosslinking agent has, the excess viscosity rise and gelation of the adhesive composition after mix | blending of a crosslinking agent can be suppressed, and the pot life of an adhesive composition can be extended.

(E) 케토엔올 호변이성체 화합물은 공중합체의 아크릴계 폴리머 100중량부에 대해 0.1∼300중량부 포함되는 것이 바람직하다. (E) It is preferable that a ketoenol tautomer compound is contained 0.1-300 weight part with respect to 100 weight part of acrylic polymers of a copolymer.

(E) 케토엔올 호변이성체 화합물은 (D) 가교 촉진제와는 반대로 가교를 억제하는 효과를 갖는 점에서, (D) 가교 촉진제에 대한 (E) 케토엔올 호변이성체 화합물의 비율을 적절히 설정하는 것이 바람직하다. 점착제 조성물의 포트 라이프를 길게 하고, 저장 안정성을 향상시키기 위해서는, (E)/(D)의 중량부 비율이 70∼1000인 것이 바람직하다.Since the (E) ketoenol tautomer compound has an effect of inhibiting crosslinking as opposed to the (D) crosslinking accelerator, the ratio of the (E) ketoenol tautomer compound to the (D) crosslinking accelerator is appropriately set. It is preferable. In order to lengthen the pot life of an adhesive composition and to improve storage stability, it is preferable that the weight part ratio of (E) / (D) is 70-1000.

상기 아크릴계 폴리머는 상기 공중합 가능한 모노머군으로서 추가로 (F) 폴리알킬렌글리콜모노(메타)아크릴산에스테르 모노머를 임의로 함유할 수 있다. (F) 폴리알킬렌글리콜모노(메타)아크릴산에스테르 모노머로는, 폴리알킬렌글리콜이 갖는 복수의 수산기 중, 하나의 수산기가 (메타)아크릴산에스테르로서 에스테르화된 화합물이면 된다. (메타)아크릴산에스테르기가 중합성기가 되므로, 주제 폴리머에 공중합할 수 있다. 다른 수산기는 OH인 그대로여도 되고, 메틸에테르나 에틸에테르 등의 알킬에테르나, 초산에스테르 등의 포화 카르복실산에스테르 등이 되어 있어도 된다. The acrylic polymer may optionally contain (F) polyalkylene glycol mono (meth) acrylic acid ester monomer as the copolymerizable monomer group. As a (F) polyalkylene glycol mono (meth) acrylic acid ester monomer, the compound in which one hydroxyl group was esterified as (meth) acrylic acid ester among the several hydroxyl groups which polyalkylene glycol has may be sufficient. Since a (meth) acrylic acid ester group becomes a polymeric group, it can copolymerize to a main polymer. The other hydroxyl group may be OH, or may be alkyl ether such as methyl ether or ethyl ether, or saturated carboxylic acid ester such as acetic acid ester.

폴리알킬렌글리콜이 갖는 알킬렌기로는, 에틸렌기, 프로필렌기, 부틸렌기 등을 들 수 있지만, 이들에 한정되지 않는다. 폴리알킬렌글리콜이 폴리에틸렌글리콜, 폴리프로필렌리콜, 폴리부틸렌글리콜 등의 2종 이상의 폴리알킬렌글리콜의 공중합체여도 된다. 폴리알킬렌글리콜의 공중합체로는, 폴리에틸렌글리콜-폴리프로필렌글리콜, 폴리에틸렌글리콜-폴리부틸렌글리콜, 폴리프로필렌글리콜-폴리부틸렌글리콜, 폴리에틸렌글리콜-폴리프로필렌글리콜-폴리부틸렌글리콜 등을 들 수 있고, 당해 공중합체는 블록 공중합체, 랜덤 공중합체여도 된다.Although an ethylene group, a propylene group, butylene group etc. are mentioned as an alkylene group which polyalkylene glycol has, It is not limited to these. The polyalkylene glycol may be a copolymer of two or more kinds of polyalkylene glycols such as polyethylene glycol, polypropylene glycol, and polybutylene glycol. As a copolymer of polyalkylene glycol, polyethyleneglycol polypropylene glycol, polyethyleneglycol polybutylene glycol, polypropylene glycol polybutylene glycol, polyethyleneglycol polypropylene glycol polybutylene glycol, etc. are mentioned, The copolymer may be a block copolymer or a random copolymer.

(F) 폴리알킬렌글리콜모노(메타)아크릴산에스테르 모노머가 폴리알킬렌글리콜 사슬을 구성하는 알킬렌옥사이드의 평균 반복수가 3∼14인 것이 바람직하다. 「알킬렌옥사이드의 평균 반복수」란, (F) 폴리알킬렌글리콜모노(메타)아크릴산에스테르 모노머의 분자 구조에 포함되는 「폴리알킬렌글리콜 사슬」의 부분에 있어서, 알킬렌옥사이드 단위가 반복되는 평균의 수이다.(F) It is preferable that the average repeating number of the alkylene oxide which a polyalkylene glycol mono (meth) acrylic acid ester monomer comprises a polyalkylene glycol chain is 3-14. "Average repeating number of alkylene oxide" is a part of the "polyalkylene glycol chain" contained in the molecular structure of the (F) polyalkylene glycol mono (meth) acrylic acid ester monomer, and an alkylene oxide unit repeats The number of means.

(F) 폴리알킬렌글리콜모노(메타)아크릴산에스테르 모노머로는, 폴리알킬렌글리콜모노(메타)아크릴레이트, 메톡시폴리알킬렌글리콜(메타)아크릴레이트, 에톡시폴리알킬렌글리콜(메타)아크릴레이트 중에서 선택된 적어도 1종 이상인 것이 바람직하다.As the (F) polyalkylene glycol mono (meth) acrylic acid ester monomer, polyalkylene glycol mono (meth) acrylate, methoxypolyalkylene glycol (meth) acrylate, and ethoxy polyalkylene glycol (meth) acrylic It is preferable that it is at least 1 sort (s) or more selected from the rates.

보다 구체적으로는, 폴리에틸렌글리콜-모노(메타)아크릴레이트, 폴리프로필렌글리콜-모노(메타)아크릴레이트, 폴리부틸렌글리콜-모노(메타)아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜-폴리프로필렌글리콜-모노(메타)아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜-폴리부틸렌글리콜-모노(메타)아크릴레이트, 폴리프로필렌글리콜-폴리부틸렌글리콜-모노(메타)아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜-폴리프로필렌글리콜-폴리부틸렌글리콜-모노(메타)아크릴레이트; 메톡시폴리에틸렌글리콜-(메타)아크릴레이트, 메톡시폴리프로필렌글리콜-(메타)아크릴레이트, 메톡시폴리부틸렌글리콜-(메타)아크릴레이트, 메톡시-폴리에틸렌글리콜-폴리프로필렌글리콜-(메타)아크릴레이트, 메톡시-폴리에틸렌글리콜-폴리부틸렌글리콜-(메타)아크릴레이트, 메톡시-폴리프로필렌글리콜-폴리부틸렌글리콜-(메타)아크릴레이트, 메톡시-폴리에틸렌글리콜-폴리프로필렌글리콜-폴리부틸렌글리콜-(메타)아크릴레이트; 에톡시폴리에틸렌글리콜-(메타)아크릴레이트, 에톡시폴리프로필렌글리콜-(메타)아크릴레이트, 에톡시폴리부틸렌글리콜-(메타)아크릴레이트, 에톡시-폴리에틸렌글리콜-폴리프로필렌글리콜-(메타)아크릴레이트, 에톡시-폴리에틸렌글리콜-폴리부틸렌글리콜-(메타)아크릴레이트, 에톡시-폴리프로필렌글리콜-폴리부틸렌글리콜-(메타)아크릴레이트, 에톡시-폴리에틸렌글리콜-폴리프로필렌글리콜-폴리부틸렌글리콜-(메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다.More specifically, polyethylene glycol mono (meth) acrylate, polypropylene glycol mono (meth) acrylate, polybutylene glycol mono (meth) acrylate, polyethylene glycol polypropylene glycol mono (meth) acrylic Elate, polyethyleneglycol polybutylene glycol mono (meth) acrylate, polypropylene glycol polybutylene glycol mono (meth) acrylate, polyethylene glycol polypropylene glycol polybutylene glycol mono (meth) acrylic Rate; Methoxypolyethylene glycol- (meth) acrylate, methoxy polypropylene glycol- (meth) acrylate, methoxy polybutylene glycol- (meth) acrylate, methoxy-polyethylene glycol-polypropylene glycol- (meth) acrylic Latex, methoxy- polyethyleneglycol- polybutylene glycol- (meth) acrylate, methoxy- polypropylene glycol- polybutylene glycol- (meth) acrylate, methoxy- polyethyleneglycol- polypropylene glycol- polybutylene Glycol- (meth) acrylates; Ethoxy Polyethylene Glycol- (meth) acrylate, Ethoxy Polypropylene Glycol- (meth) acrylate, Ethoxy Polybutylene Glycol- (meth) acrylate, Ethoxy Polyethylene Glycol-Polypropylene Glycol- (meth) acrylic Ethoxy Polyethylene Glycol Polybutylene Glycol (meth) acrylate Ethoxy Polypropylene Glycol Polybutylene Glycol (meth) acrylate Ethoxy Polyethylene Glycol Polypropylene Glycol Polybutylene Glycol- (meth) acrylate, and the like.

공중합체의 아크릴계 폴리머의 합계를 100중량부로 할 때, 상기 (F) 폴리알킬렌글리콜모노(메타)아크릴산에스테르 모노머를 0∼50중량부의 비율로 함유하고 있는 것이 바람직하다. 본 발명에 따른 점착제층에 있어서, 점착제 조성물에 (F) 폴리알킬렌글리콜모노(메타)아크릴산에스테르 모노머를 함유시키지 않아도 된다.When making the sum total of the acrylic polymer of a copolymer into 100 weight part, it is preferable to contain the said (F) polyalkylene glycol mono (meth) acrylic acid ester monomer in the ratio of 0-50 weight part. In the adhesive layer which concerns on this invention, it is not necessary to contain (F) polyalkylene glycol mono (meth) acrylic acid ester monomer in an adhesive composition.

점착제 조성물은 (G) HLB값이 7∼15인 폴리에테르 변성 실록산 화합물을 임의로 함유할 수 있다. 폴리에테르 변성 실록산 화합물은 폴리에테르기를 갖는 실록산 화합물이고, 통상의 실록산 단위[-SiR¹ ₂-O-] 외에, 폴리에테르기를 갖는 실록산 단위[-SiR¹(R²O(R³O)_nR⁴)-O-]를 갖는다. 여기서, R¹은 1종 또는 2종 이상의 알킬기 또는 아릴기, R² 및 R³은 1종 또는 2종 이상의 알킬렌기, R⁴는 1종 또는 2종 이상의 알킬기나 아실기 등(말단기)을 나타낸다. 폴리에테르기로는, 폴리옥시에틸렌기[(C₂H₄O)_n]나 폴리옥시프로필렌기[(C₃H₆O)_n] 등의 폴리옥시알킬렌기를 들 수 있다.The pressure-sensitive adhesive composition may optionally contain a polyether modified siloxane compound having a (G) HLB value of 7 to 15. The polyether modified siloxane compound is a siloxane compound having a polyether group, and in addition to the usual siloxane unit [-SiR ¹ ₂ -O-], a siloxane unit having a polyether group [-SiR ¹ (R ² O (R ³ O) _n R ⁴ ) -O-]. Wherein R ¹ is one or two or more alkyl groups or aryl groups, R ² and R ³ are one or two or more alkylene groups, and R ⁴ is one or two or more alkyl or acyl groups (terminal groups) Indicates. Examples of the polyether group include polyoxyalkylene groups such as polyoxyethylene group [(C ₂ H ₄ O) _n ] and polyoxypropylene group [(C ₃ H ₆ O) _n ].

폴리에테르 변성 실록산 화합물은 (G) HLB값이 7∼15인 폴리에테르 변성 실록산 화합물인 것이 바람직하다. 또한, 공중합체의 아크릴계 폴리머 100중량부에 대해, (G) HLB값이 7∼15인 폴리에테르 변성 실록산 화합물이 0.01∼1.0중량부 포함되는 것이 바람직하다. 보다 바람직하게는 0.1∼0.5중량부이다.It is preferable that a polyether modified siloxane compound is a polyether modified siloxane compound whose (G) HLB value is 7-15. Moreover, it is preferable that 0.01-1.0 weight part of polyether modified siloxane compounds whose (G) HLB value is 7-15 are contained with respect to 100 weight part of acrylic polymers of a copolymer. More preferably, it is 0.1-0.5 weight part.

HLB란, 예를 들면 JIS K3211(계면활성제 용어) 등으로 규정하는 친수 친유 밸런스(친수성 친유성비)이다.HLB is a hydrophilic lipophilic balance (hydrophilic lipophilic ratio) prescribed | regulated, for example by JISK3211 (surfactant term).

폴리에테르 변성 실록산 화합물은 예를 들면, 수소화규소기를 갖는 폴리오르가노실록산 주쇄에 대해, 불포화 결합 및 폴리옥시알킬렌기를 갖는 유기 화합물을 히드로실릴화 반응에 의해 그래프트시킴으로써 얻을 수 있다. 구체적으로는, 디메틸실록산·메틸(폴리옥시에틸렌)실록산 공중합체, 디메틸실록산·메틸(폴리옥시에틸렌)실록산·메틸(폴리옥시프로필렌)실록산 공중합체, 디메틸실록산·메틸(폴리옥시프로필렌)실록산 중합체 등을 들 수 있다. 폴리에테르 변성 실록산 화합물의 HLB값은 폴리에테르기와 실록산기의 비율을 선택함으로써, 조정할 수 있다.A polyether modified siloxane compound can be obtained by grafting the organic compound which has an unsaturated bond and a polyoxyalkylene group with the hydrosilylation reaction, for example with respect to the polyorganosiloxane main chain which has a silicon hydride group. Specifically, a dimethylsiloxane methyl (polyoxyethylene) siloxane copolymer, a dimethylsiloxane methyl (polyoxyethylene) siloxane, methyl (polyoxypropylene) siloxane copolymer, a dimethylsiloxane methyl (polyoxypropylene) siloxane polymer, etc. Can be mentioned. The HLB value of a polyether modified siloxane compound can be adjusted by selecting the ratio of a polyether group and a siloxane group.

(G) HLB값이 7∼15인 폴리에테르 변성 실록산 화합물을 점착제 조성물에 배합함으로써, 점착제의 점착력 및 리워크 성능을 개선할 수 있다. 점착제 조성물이 폴리에테르 변성 실록산 화합물을 함유하지 않는 경우, 보다 저비용이 된다.(G) By mix | blending the polyether modified siloxane compound whose HLB value is 7-15 with an adhesive composition, the adhesive force and rework performance of an adhesive can be improved. When an adhesive composition does not contain a polyether modified siloxane compound, it becomes low cost.

또한, 그 밖의 성분으로서 알킬렌옥사이드를 함유하는 공중합 가능한 (메타)아크릴 모노머, (메타)아크릴아미드 모노머, 디알킬 치환 아크릴아미드 모노머, 계면활성제, 경화 촉진제, 가소제, 충전제, 경화 지연제, 가공 보조제, 노화 방지제, 산화 방지제 등의 공지된 첨가제를 적절히 배합할 수 있다. 이들은 단독으로 또는 2종 이상 함께 사용된다.In addition, copolymerizable (meth) acryl monomers, (meth) acrylamide monomers, dialkyl substituted acrylamide monomers, surfactants, curing accelerators, plasticizers, fillers, curing retardants, and processing aids containing alkylene oxide as other components. Well-known additives, such as an antioxidant and antioxidant, can be mix | blended suitably. These are used individually or in combination of 2 or more types.

본 발명의 점착제 조성물에 사용되는 주제의 공중합체는 (A) 알킬기의 탄소수가 C4∼C18인 (메타)아크릴산에스테르 모노머의 적어도 1종과, 공중합 가능한 모노머군으로서, 카르복실기를 함유하는 공중합 가능한 모노머를 포함하지 않지만, (B) 수산기를 함유하는 공중합 가능한 모노머의 적어도 1종을 공중합시킴으로써 합성할 수 있다. 상기 공중합 가능한 모노머군으로서 추가로 (F) 폴리알킬렌글리콜모노(메타)아크릴산에스테르 모노머를 포함해도 된다. 공중합체의 중합 방법은 특별히 한정되지 않고, 용액 중합, 유화 중합 등, 적절한 중합 방법이 사용 가능하다.The copolymer of the subject matter used for the adhesive composition of this invention is a monomer group copolymerizable with at least 1 sort (s) of the (meth) acrylic acid ester monomer whose C4-C18 carbon number of an alkyl group is a copolymerizable monomer containing a carboxyl group. Although it does not contain, it can synthesize | combine by copolymerizing at least 1 sort (s) of the copolymerizable monomer containing (B) hydroxyl group. (F) Polyalkylene glycol mono (meth) acrylic acid ester monomer may be further included as said monomer group which can be copolymerized. The polymerization method of a copolymer is not specifically limited, Suitable polymerization methods, such as solution polymerization and emulsion polymerization, can be used.

본 발명의 점착제 조성물은 상기 공중합체에 (C) 2관능 이상의 이소시아네이트 화합물, (D) 가교 촉진제와, (E) 케토엔올 호변이성체 화합물과, 추가로 적절히 임의의 첨가제를 배합함으로써 조제할 수 있다.The adhesive composition of this invention can be prepared by mix | blending arbitrary additives further suitably with the said copolymer (C) bifunctional or more isocyanate compound, (D) crosslinking promoter, (E) ketoenol tautomer compound, and suitably. .

상기 공중합체는 아크릴계 폴리머인 것이 바람직하고, (메타)아크릴산에스테르 모노머나 (메타)아크릴산, (메타)아크릴아미드류 등의 아크릴계 모노머를 50∼100중량％ 포함하는 것이 바람직하다.It is preferable that the said copolymer is an acrylic polymer, and it is preferable to contain 50-100 weight% of acrylic monomers, such as a (meth) acrylic acid ester monomer, (meth) acrylic acid, and (meth) acrylamides.

상기 아크릴계 폴리머가 공중합 가능한 모노머군으로서 카르복실기를 함유하는 공중합 가능한 모노머를 포함하지 않음으로써, 가교 속도의 향상 및 점착력의 안정화에 효과가 있다. 가교제로서 사용되는 (C) 2관능 이상의 이소시아네이트 화합물과 반응하는 모노머로서 (B) 수산기를 함유하는 공중합 가능한 모노머를 사용하는 것이 바람직하다. 상기 공중합체가 바람직한 모노머 조성으로는 상기 (A)와 상기 (B)로부터 각각 1종 이상, 상기 (A)와 상기 (B)와 상기 (F)로부터 각각 1종 이상 등을 들 수 있다.Since the said acryl-type polymer does not contain the copolymerizable monomer containing a carboxyl group as a copolymerizable monomer group, it is effective in the improvement of a crosslinking speed, and stabilization of adhesive force. It is preferable to use the copolymerizable monomer containing (B) hydroxyl group as a monomer which reacts with the (C) bifunctional or more isocyanate compound used as a crosslinking agent. As a monomer composition with which the said copolymer is preferable, 1 or more types are respectively mentioned from said (A) and said (B), and 1 or more types are mentioned from said (A), said (B), and (F), respectively.

상기 점착제 조성물을 가교시켜 이루어지는 점착제층의, 저속 박리 속도 0.3m/min에서의 점착력이 0.05∼0.1N/25㎜이고, 고속 박리 속도 30m/min에서의 점착력이 1.0N/25㎜ 이하인 것이 바람직하다. 이로써, 점착력이 박리 속도에 의해서도 변화가 적은 성능을 얻을 수 있고, 고속 박리에 의해서도 신속하게 박리하는 것이 가능해진다. 또한, 다시 붙이기 위해, 일단 표면 보호 필름을 박리할 때도 과대한 힘을 필요로 하지 않아, 피착체로부터 박리하기 쉽다.It is preferable that the adhesive force in the low speed peeling speed 0.3m / min is 0.05-0.1 N / 25mm, and the adhesive force in the high speed peeling speed 30m / min is 1.0N / 25mm or less of the adhesive layer which crosslinks the said adhesive composition. . Thereby, performance with little change also in adhesive force by peeling speed can be obtained, and it becomes possible to peel quickly also by high speed peeling. In addition, in order to reattach, excessive force is not required even when peeling off a surface protection film once, and it is easy to peel from an adherend.

상기 점착제 조성물을 가교시켜 이루어지는 점착제층의 표면 저항률이 5.0×10^＋12Ω／□ 이하이고, 박리 대전압이 「±0.6㎸ 이하」인 것이 바람직하다. 또한, 본 발명에 있어서, 「±0.6㎸ 이하」란, 0∼-0.6㎸ 및 0∼＋0.6㎸, 즉, -0.6∼＋0.6㎸를 의미한다. 표면 저항률이 크면 박리시에 대전에 의해 발생한 정전기를 빠져 나가게 하는 성능이 떨어지기 때문에, 표면 저항률을 충분히 작게 함으로써, 점착제층을 피착체가 박리할 때에 발생하는 정전기에 수반하여 발생하는 박리 대전압이 저감되어, 피착체의 전기 제어 회로 등에 영향을 주는 것을 억제할 수 있다.It is preferable that the surface resistivity of the adhesive layer which crosslinks the said adhesive composition is 5.0x10 ^{+ 12} ohms / square or less, and peeling electrification voltage is "± 0.6 kPa or less". In addition, in this invention, "± 0.6 kPa or less" means 0-0.6 kPa and 0- + 0.6 kPa, ie, -0.6- + 0.6 kPa. If the surface resistivity is large, the ability to escape static electricity generated by charging at the time of peeling is inferior. Therefore, by sufficiently reducing the surface resistivity, the peeling electrification voltage generated with the static electricity generated when the adherend peels off the adhesive layer is reduced. The influence on the electric control circuit of the adherend can be suppressed.

본 발명의 점착제 조성물을 가교하여 이루어지는 점착제층(가교 후의 점착제)의 겔분율은 95∼100％인 것이 바람직하다. 이와 같이 겔분율이 높음으로써, 저속 박리 속도에 있어서, 점착력이 과대해지지 않고, 공중합체로부터의 미중합 모노머 혹은 올리고머의 용출이 저감되어, 리워크성이나 고온·고습도에 있어서의 내구성이 개선되어 피착체의 오염을 억제할 수 있다.It is preferable that the gel fraction of the adhesive layer (pressure-sensitive adhesive after crosslinking) which crosslinks the adhesive composition of this invention is 95 to 100%. In this way, the gel fraction is high, the adhesive force does not become excessive at a low peeling speed, the elution of the unpolymerized monomer or oligomer from the copolymer is reduced, and the reworkability and the durability at high temperature and high humidity are improved and the Contamination of the complex can be suppressed.

본 발명의 점착 필름은 본 발명의 점착제 조성물을 가교하여 이루어지는 점착제층을 수지 필름의 한쪽 면 또는 양면에 형성하여 이루어진다. 또한, 본 발명의 표면 보호 필름은 본 발명의 점착제 조성물을 가교하여 이루어지는 점착제층을 수지 필름의 한쪽 면에 형성하여 이루어지는 표면 보호 필름이다. 본 발명의 점착제 조성물은 상기 (A)∼(E)의 각 성분이 균형있게 배합되어 있기 때문에, 우수한 대전 방지 성능을 구비하고, 저속 박리 속도 및 고속 박리 속도에 있어서, 점착력 밸런스가 우수하고, 또한, 내구 성능 및 리워크 성능(점착제층을 개재하여 표면 보호 필름 위를 볼펜으로 덧쓴 후에 피착체에 오염 이행이 없는 것)도 우수한 것이 된다. 이 때문에, 편광판의 표면 보호 필름의 용도로서 바람직하게 사용할 수 있다.The adhesive film of this invention forms the adhesive layer which crosslinks the adhesive composition of this invention on one side or both surfaces of a resin film. Moreover, the surface protection film of this invention is a surface protection film formed by forming the adhesive layer which crosslinks the adhesive composition of this invention in one side of a resin film. Since the adhesive composition of this invention mix | blends each component of said (A)-(E) in balance, it is equipped with the outstanding antistatic performance, and it is excellent in the adhesive force balance in the low speed peeling speed and the high speed peeling speed, In addition, durability and rework performance (the thing which does not carry a contamination transfer to an adherend after overwriting the surface protection film with an adhesive layer via an adhesive layer) are also excellent. For this reason, it can use preferably as a use of the surface protection film of a polarizing plate.

본 발명에 따른 대전 방지 표면 보호 필름(10)에 사용되는 점착제층(2)의 두께는 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면, 5∼40㎛ 정도의 두께가 바람직하고, 10∼30㎛ 정도의 두께가 보다 바람직하다. 대전 방지 표면 보호 필름의 피착체의 표면에 대한 박리 강도(점착력)가 0.03∼0.3N/25㎜ 정도의 미점착력을 갖는 점착제층(2)인 것이 피착체로부터 대전 방지 표면 보호 필름을 박리할 때의 조작성이 우수한 점에서 바람직하다. 또한, 대전 방지 표면 보호 필름(10)으로부터 박리 필름(5)을 박리할 때의 조작성이 우수한 점에서, 박리 필름(5)의 점착제층(2)으로부터의 박리력이 0.2N/50㎜ 이하인 것이 바람직하다.Although the thickness of the adhesive layer 2 used for the antistatic surface protection film 10 which concerns on this invention is not specifically limited, For example, thickness of about 5-40 micrometers is preferable, and thickness of about 10-30 micrometers is preferable. Is more preferable. When peeling strength (adhesive force) with respect to the surface of the to-be-adhered body of an antistatic surface protection film is the adhesive layer 2 which has a non-adhesive force of about 0.03-0.3 N / 25 mm, when peeling an antistatic surface protection film from a to-be-adhered body. It is preferable at the point which the operability of is excellent. Moreover, the peeling force from the adhesive layer 2 of the peeling film 5 is 0.2N / 50mm or less from the point which is excellent in the operability at the time of peeling the peeling film 5 from the antistatic surface protection film 10. desirable.

또한, 본 발명에 따른 대전 방지 표면 보호 필름(10)에 사용되는 박리 필름(5)은 수지 필름(3)의 한쪽 면에, 디메틸폴리실록산을 주성분으로 하는 박리제와, 대전 방지제를 포함하는 수지 조성물을 사용한 박리제층(4)이 형성되어 있다.Moreover, the peeling film 5 used for the antistatic surface protection film 10 which concerns on this invention uses the resin composition containing the peeling agent which has a dimethylpolysiloxane as a main component, and an antistatic agent on one side of the resin film 3 The used release agent layer 4 is formed.

수지 필름(3)으로는, 폴리에스테르 필름, 폴리아미드 필름, 폴리에틸렌 필름, 폴리프로필렌 필름, 폴리이미드 필름 등을 들 수 있지만, 투명성이 우수한 것이나 가격이 비교적으로 저렴한 점에서, 폴리에스테르 필름이 특히 바람직하다. 수지 필름은 무연신 필름이어도 되고, 1축 또는 2축 연신된 필름이어도 된다. 또한, 연신 필름의 연신 배율이나, 연신 필름의 결정화에 수반하여 형성되는 축방법의 배향 각도를 특정값으로 제어해도 된다.Although the polyester film, the polyamide film, the polyethylene film, the polypropylene film, the polyimide film etc. are mentioned as the resin film 3, A polyester film is especially preferable at the point which is excellent in transparency and a comparatively low price. Do. The resin film may be a non-stretched film or may be a film uniaxially or biaxially stretched. In addition, you may control the orientation angle of the stretching method of a stretched film, and the axial method formed with crystallization of a stretched film to a specific value.

수지 필름(3)의 두께는 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면, 12∼100㎛ 정도의 두께가 바람직하고, 20∼50㎛ 정도의 두께이면 취급하기 쉬워, 보다 바람직하다. Although the thickness of the resin film 3 is not specifically limited, For example, the thickness of about 12-100 micrometers is preferable, It is easy to handle if it is about 20-50 micrometers thickness, and it is more preferable.

또한, 필요에 따라, 수지 필름(3)의 표면에, 코로나 방전에 의한 표면 개질, 앵커 코트제의 도포 등의 이접착 처리를 실시해도 된다.Moreover, you may perform the easily adhesion process, such as surface modification by corona discharge, application | coating of an anchor coat agent, to the surface of the resin film 3 as needed.

박리제층(4)을 구성하는 디메틸폴리실록산을 주성분으로 하는 박리제에는 부가 반응형, 축합 반응형, 양이온 중합형, 라디칼 중합형 등의 공지된 실리콘계 박리제를 들 수 있다. 부가 반응형 실리콘계 박리제로서 시판되고 있는 제품에는 예를 들면, KS-776A, KS-847T, KS-779H, KS-837, KS-778, KS-830(신에츠 화학 공업(주) 제조), SRX-211, SRX-345, SRX-357, SD7333, SD7220, SD7223, LTC-300B, LTC-350G, LTC-310(도레이 다우코닝(주) 제조) 등을 들 수 있다. 축합 반응형으로서 시판되고 있는 제품에는, 예를 들면, SRX-290, SYLOFF-23(도레이 다우코닝(주) 제조) 등을 들 수 있다. 양이온 중합형으로서 시판되고 있는 제품에는, 예를 들면, TPR-6501, TPR-6500, UV9300, VU9315, UV9430(모멘티브·퍼포먼스·머티리얼즈사 제조), X62-7622(신에츠 화학 공업(주) 제조) 등을 들 수 있다. 라디칼 중합형으로서 시판되고 있는 제품에는, 예를 들면, X62-7205(신에츠 화학 공업(주) 제조) 등을 들 수 있다.As a releasing agent which has the dimethyl polysiloxane which comprises the releasing agent layer 4 as a main component, well-known silicone type peeling agents, such as addition reaction type, condensation reaction type, cationic polymerization type, and radical polymerization type, are mentioned. As a product marketed as an addition reaction type silicone type | system | group release agent, KS-776A, KS-847T, KS-779H, KS-837, KS-778, KS-830 (made by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), SRX- 211, SRX-345, SRX-357, SD7333, SD7220, SD7223, LTC-300B, LTC-350G, LTC-310 (made by Toray Dow Corning). As a product marketed as a condensation reaction type, SRX-290, SYLOFF-23 (made by Toray Dow Corning Co., Ltd.), etc. are mentioned, for example. As a product commercially available as a cation polymerization type, TPR-6501, TPR-6500, UV9300, VU9315, UV9430 (made by Momentive Performance Materials), X62-7622 (made by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) Etc. can be mentioned. As a product commercially available as a radical polymerization type, X62-7205 (made by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) etc. is mentioned, for example.

박리제층(4)을 구성하는 대전 방지제로는, 디메틸폴리실록산을 주성분으로 하는 박리제 용액에 대해 분산성이 양호한 것으로, 또한, 디메틸폴리실록산을 주성분으로 하는 박리제의 경화를 저해하지 않는 것이 바람직하다. 이러한 대전 방지제 로는 알칼리 금속염이 바람직하다.As an antistatic agent which comprises the releasing agent layer 4, it is preferable that dispersibility is favorable with respect to the releasing agent solution which has a dimethyl polysiloxane as a main component, and does not inhibit hardening of the releasing agent which has a dimethyl polysiloxane as a main component. As such an antistatic agent, an alkali metal salt is preferable.

알칼리 금속염으로는, 리튬, 나트륨, 칼륨으로 이루어지는 금속염을 들 수 있다. 구체적으로는, 예를 들면, Li^＋, Na^＋, K^＋로 이루어지는 양이온과, Cl^-, Br^-, I^-, BF₄ ^-, PF₆ ^-, SCN^-, ClO₄ ^-, CF₃SO₃ ^-, (FSO₂)₂N^-, (CF₃SO₂)₂N^-, (C₂F₅SO₂)₂N^-, (CF₃SO₂)₃C^-로 이루어지는 음이온으로 구성되는 금속염이 바람직하게 사용된다. 그 중에서도 특히, LiBr, LiI, LiBF₄, LiPF₆, LiSCN, LiClO₄, LiCF₃SO₃, Li(FSO₂)₂N, Li(CF₃SO₂)₂N, Li(C₂F₅SO₂)₂N, Li(CF₃SO₂)₃C 등의 리튬염(Li염), 특히, Li(CF₃SO₂)₂N 「약기호 LiTFSI」, Li(FSO₂)₂N 「약기호 LiFSI」, LiCF₃SO₃ 「약기호 LiTF 또는 LiTf」가 바람직하게 사용된다. 이들 알칼리 금속염은 단독으로 사용해도 되고, 또한 2종 이상을 혼합하여 사용해도 된다. 이온성 물질의 안정화를 위해, 폴리옥시알킬렌 구조를 함유하는 화합물을 첨가해도 된다. As an alkali metal salt, the metal salt which consists of lithium, sodium, and potassium is mentioned. Specifically, for example, Li ^+, Na ^+, and cations consisting of ^{^{^{K +, Cl -, Br -}}} , I -, BF 4 -, PF 6 -, SCN -, ClO 4 -, CF 3 SO 3 - _{_{^{, (FSO 2) 2 N -}}} , (CF 3 SO 2) 2 N -, (C 2 F 5 SO 2) 2 N -, (CF 3 SO 2) 3 C - anion to metal salt is preferably constituted by comprising the Used. Among them, LiBr, LiI, LiBF ₄ , LiPF ₆ , LiSCN, LiClO ₄ , LiCF ₃ SO ₃ , Li (FSO ₂ ) ₂ N, Li (CF ₃ SO ₂ ) ₂ N, Li (C ₂ F ₅ SO ₂ _{_{) 2 N, Li (CF 3}} SO 2) 3 lithium salt, such as C (Li salt), _{_{particularly, Li (CF 3 SO 2)}} 2 N "weak symbol LiTFSI", Li (FSO _{₂₎ 2} N "weak symbol LiFSI And LiCF ₃ SO ₃ "abbreviated symbol LiTF or LiTf" are used preferably. These alkali metal salts may be used alone, or may be used by mixing two or more kinds. In order to stabilize an ionic substance, you may add the compound containing a polyoxyalkylene structure.

디메틸폴리실록산을 주성분으로 하는 박리제에 대한 대전 방지제의 첨가량은 대전 방지제의 종류나 박리제와의 친화성의 정도에 따라 상이하나, 대전 방지 표면 보호 필름을 피착체로부터 박리할 때의, 원하는 박리 대전압, 피착체에 대한 오염성, 점착 특성 등을 고려하여 설정하면 된다.The amount of the antistatic agent added to the release agent containing dimethylpolysiloxane as a main component varies depending on the type of antistatic agent and the degree of affinity with the release agent, but the desired peeling electrification voltage when peeling the antistatic surface protective film from the adherend, and What is necessary is just to set it in consideration of the contamination property, adhesiveness, etc. with respect to a complex.

디메틸폴리실록산을 주성분으로 하는 박리제와 대전 방지제의 혼합 방법은 특별히 한정되지 않는다. 디메틸폴리실록산을 주성분으로 하는 박리제에 대전 방지제를 첨가하여 혼합한 후에 박리제 경화용 촉매를 첨가·혼합하는 방법, 디메틸폴리실록산을 주성분으로 하는 박리제를 미리 유기 용제로 희석한 후에 대전 방지제와 박리제 경화용 촉매를 첨가, 혼합하는 방법, 실록산을 주성분으로 하는 박리제를 미리 유기 용제에 희석 후, 촉매를 첨가·혼합하고, 그 후 대전 방지제를 첨가, 혼합하는 방법 등 어느 방법이어도 된다. 또한, 필요에 따라, 실란 커플링제 등의 밀착 향상제나 폴리옥시알킬렌기를 함유하는 화합물 등의 대전 방지 효과를 보조하는 재료를 첨가해도 된다.The mixing method of the release agent and antistatic agent which have dimethylpolysiloxane as a main component is not specifically limited. After adding and mixing an antistatic agent to the releasing agent which has a dimethyl polysiloxane as a main component, and mixing and adding a catalyst for releasing agent hardening, and diluting the releasing agent which has a dimethyl polysiloxane as a main component with the organic solvent previously, Any method, such as the method of adding and mixing, and the method of adding and mixing a catalyst after diluting the peeling agent which has a siloxane as a main component in the organic solvent beforehand, and then adding and mixing an antistatic agent after that may be sufficient. Moreover, you may add the material which assists antistatic effect, such as adhesion improving agents, such as a silane coupling agent, and a compound containing a polyoxyalkylene group, as needed.

디메틸폴리실록산을 주성분으로 하는 박리제와 대전 방지제의 혼합 비율은 특별히 한정되지 않지만, 디메틸폴리실록산을 주성분으로 하는 박리제의 고형분 100에 대해, 대전 방지제를 고형분으로서 5∼100 정도의 비율이 바람직하다. 대전 방지제의 고형분 환산 첨가량이 디메틸폴리실록산을 주성분으로 하는 박리제의 고형분 100에 대해 5의 비율보다 적으면 점착제층의 표면에 대한 대전 방지제의 전사량도 적어져서 점착제에 대전 방지의 기능이 발휘되기 어려워진다. 또한, 대전 방지제의 고형분 환산 첨가량이 디메틸폴리실록산을 주성분으로 하는 박리제의 고형분 100에 대해 100의 비율을 초과하면, 대전 방지제와 함께 디메틸폴리실록산을 주성분으로 하는 박리제도 점착제층의 표면에 전사되기 때문에, 점착제의 점착 특성을 저하시킬 가능성이 있다.Although the mixing ratio of the releasing agent and antistatic agent which have dimethylpolysiloxane as a main component is not specifically limited, The ratio of about 5-100 is preferable as solid content with respect to solid content 100 of the releasing agent which has dimethylpolysiloxane as a main component. When the solid content conversion amount of the antistatic agent is less than the ratio of 5 with respect to the solid content 100 of the release agent containing dimethylpolysiloxane as the main component, the transfer amount of the antistatic agent to the surface of the pressure-sensitive adhesive layer also decreases, so that the antistatic function is hardly exerted on the pressure-sensitive adhesive. When the amount of solid content added of the antistatic agent exceeds the ratio of 100 to the solid content 100 of the release agent mainly containing dimethylpolysiloxane, the release agent mainly containing dimethylpolysiloxane together with the antistatic agent is transferred to the surface of the pressure-sensitive adhesive layer. There is a possibility that the adhesion characteristic of the resin may be reduced.

본 발명에 따른 대전 방지 표면 보호 필름(10)의 기재 필름(1)에, 점착제층(2)을 형성하는 방법 및 박리 필름(5)을 첩합하는 방법은 공지된 방법으로 행하면 되고, 특별히 한정되지 않는다. 구체적으로는, (1) 기재 필름(1)의 한쪽 면에 점착제층(2)을 형성하기 위한 수지 조성물을 도포, 건조시켜 점착제층을 형성한 후에, 박리 필름(5)을 첩합하는 방법, (2) 박리 필름(5)의 표면에 점착제층(2)을 형성하기 위한 수지 조성물을 도포·건조시켜 점착제층을 형성한 후에, 기재 필름(1)을 첩합하는 방법 등을 들 수 있지만, 어느 방법을 사용해도 된다.The method of forming the adhesive layer 2 and the method of bonding the release film 5 to the base film 1 of the antistatic surface protection film 10 according to the present invention may be carried out by a known method, and is not particularly limited. Do not. Specifically, after (1) apply | coating and drying the resin composition for forming the adhesive layer 2 on one surface of the base film 1, and forming an adhesive layer, the method of bonding together the peeling film 5, ( 2) After apply | coating and drying the resin composition for forming the adhesive layer 2 on the surface of the peeling film 5, and forming an adhesive layer, the method of bonding the base film 1, etc. are mentioned, However, either method You can also use

또한, 기재 필름(1)의 표면에 점착제층(2)을 형성하는 것은 공지된 방법으로 행하면 된다. 구체적으로는, 리버스 코팅, 콤마 코팅, 그라비아 코팅, 슬롯 다이 코팅, 메이어 바 코팅, 에어 나이프 코팅 등의 공지된 도공 방법을 사용할 수 있다.In addition, what is necessary is just to form the adhesive layer 2 in the surface of the base film 1 by a well-known method. Specifically, known coating methods such as reverse coating, comma coating, gravure coating, slot die coating, Meyer bar coating and air knife coating can be used.

또한, 동일하게 수지 필름(3)에 박리제층(4)을 형성하는 것은 공지된 방법으로 행하면 된다. 구체적으로는, 그라비아 코팅, 메이어 바 코팅, 에어 나이프 코팅 등의 공지된 도공 방법을 사용할 수 있다.In addition, what is necessary is just to form the release agent layer 4 in the resin film 3 by a well-known method. Specifically, well-known coating methods, such as gravure coating, Mayer bar coating, and air knife coating, can be used.

도 2는 본 발명의 대전 방지 표면 보호 필름으로부터, 박리 필름을 박리한 상태를 나타내는 단면도이다.It is sectional drawing which shows the state which peeled the peeling film from the antistatic surface protection film of this invention.

도 1에 나타낸 대전 방지 표면 보호 필름(10)으로부터, 박리 필름(5)을 박리함으로써, 박리 필름(5)의 박리제층(4)에 포함되는, 대전 방지제(부호 7)의 일부가 대전 방지 표면 보호 필름(10)의 점착제층(2)의 표면에 전사된다(부착된다). 이 때문에, 도 2에 있어서는, 대전 방지 표면 보호 필름의 점착제층(2)의 표면에 전사된, 대전 방지제를 부호 7의 반점으로 모식적으로 나타내고 있다.By peeling the peeling film 5 from the antistatic surface protection film 10 shown in FIG. 1, a part of antistatic agent (reference numeral 7) contained in the peeling agent layer 4 of the peeling film 5 is an antistatic surface It is transferred (attached) to the surface of the adhesive layer 2 of the protective film 10. For this reason, in FIG. 2, the antistatic agent transferred to the surface of the adhesive layer 2 of an antistatic surface protection film is shown typically by the spot of 7.

본 발명에 따른 대전 방지 표면 보호 필름에서는, 도 2에 나타낸 박리 필름을 박리한 상태의 대전 방지 표면 보호 필름(11)을 피착체에 첩합하는데 있어서, 이 점착제층(2)의 표면에 전사된 대전 방지제가 피착체의 표면에 접촉한다. 이로써, 재차, 피착체로부터 대전 방지 표면 보호 필름을 박리할 때의 박리 대전압을 낮게 억제할 수 있다.In the antistatic surface protection film which concerns on this invention, in bonding the antistatic surface protection film 11 of the state which peeled the peeling film shown in FIG. 2 to a to-be-adhered body, the charge transferred to the surface of this adhesive layer 2 The inhibitor contacts the surface of the adherend. Thereby, peeling charge voltage at the time of peeling an antistatic surface protection film from a to-be-adhered body can be suppressed low again.

도 3은 본 발명의 광학 부품의 실시예를 나타낸 단면도이다.3 is a cross-sectional view showing an embodiment of the optical component of the present invention.

본 발명의 대전 방지 표면 보호 필름(10)으로부터, 박리 필름(5)이 박리되고, 점착제층(2)이 표출된 상태로, 그 점착제층(2)을 개재하여 피착체인 광학 부품(8)에 첩합된다.From the antistatic surface protection film 10 of this invention, the peeling film 5 peels and the adhesive layer 2 is exposed, and the optical component 8 which is a to-be-adhered body via the adhesive layer 2 is shown. It is bonded.

즉, 도 3에는 본 발명의 대전 방지 표면 보호 필름(10)이 첩합된 광학 부품(20)을 나타내고 있다. 광학 부품으로는, 편광판, 위상차판, 렌즈 필름, 위상차판 겸용 편광판, 렌즈 필름 겸용 편광판 등의 광학용 필름을 들 수 있다. 이러한 광학 부품은 액정 표시 패널 등의 액정 표시 장치, 각종 계기류의 광학계 장치 등의 구성 부재로서 사용된다. 또한, 광학 부품으로는, 반사 방지 필름, 하드 코트 필름, 터치 패널용 투명 도전성 필름 등의 광학용 필름도 들 수 있다. 특히, 표면이 실리콘 화합물이나 불소 화합물 등에 의해 방오 처리되어 있는, 저반사 처리 편광판(LR 편광판)이나 안티 글레어 저반사 처리 편광판(AG-LR 편광판) 등의 광학용 필름의 방오 처리한 면에 첩합되는, 대전 방지 표면 보호 필름으로서 바람직하게 사용할 수 있다.That is, the optical component 20 in which the antistatic surface protection film 10 of this invention was bonded is shown by FIG. As optical components, optical films, such as a polarizing plate, retardation plate, a lens film, a polarizing plate for retardation plate, and a polarizing plate for lens film, are mentioned. Such an optical component is used as a structural member of liquid crystal display devices, such as a liquid crystal display panel, and optical system devices of various instruments. Moreover, optical films, such as an antireflection film, a hard-coat film, and a transparent conductive film for touch panels, are mentioned as an optical component. In particular, the surface is bonded to the antifouling surface of optical films, such as a low reflection processing polarizing plate (LR polarizing plate) and an anti-glare low reflection processing polarizing plate (AG-LR polarizing plate), which are surface-treated with a silicon compound, a fluorine compound, etc. It can use suitably as an antistatic surface protection film.

본 발명의 광학 부품에 의하면, 대전 방지 표면 보호 필름(10)을 피착체인 광학 부품(광학용 필름)으로부터 박리 제거할 때, 박리 대전압을 충분히 낮게 억제할 수 있으므로, 드라이버 IC, TFT 소자, 게이트선 구동 회로 등의 회로 부품을 파괴할 우려가 없고, 액정 표시 패널 등을 제조하는 공정에서의 생산 효율을 높이고, 생산 공정의 신뢰성을 유지할 수 있다.According to the optical component of the present invention, when the antistatic surface protection film 10 is peeled off from the optical component (optical film) that is the adherend, the peeling electrification voltage can be sufficiently reduced, so that the driver IC, the TFT element, and the gate are There is no risk of destroying circuit components such as a line driving circuit, and the production efficiency in the process of manufacturing a liquid crystal display panel or the like can be increased, and the reliability of the production process can be maintained.

실시예Example

이어서, 실시예에 의해 본 발명을 자세히 설명한다.Next, an Example demonstrates this invention in detail.

＜점착제 조성물의 제조＞<Production of Adhesive Composition>

[실시예 1]Example 1

교반기, 온도계, 환류 냉각기 및 질소 도입관을 구비한 반응 장치에, 질소 가스를 도입하고, 반응 장치 내의 공기를 질소 가스로 치환하였다. 그 후, 반응 장치에 2-에틸헥실아크릴레이트 100중량부, 8-히드록시옥틸아크릴레이트 4.5중량부, 폴리프로필렌글리콜모노아크릴레이트(n=12) 10중량부와 함께 용제(초산에틸)를 60중량부 첨가하였다. 그 후, 중합 개시제로서 아조비스이소부티로니트릴 0.1중량부를 2시간에 걸쳐 적하시키고, 65℃에서 6시간 반응시켜, 중량 평균 분자량 50만의, 실시예 1의 아크릴 공중합체 용액을 얻었다. 이 아크릴 공중합체 용액에 대해, 아세틸아세톤 8.5중량부를 첨가하여 교반한 후, 코로네이트 HX(헥사메틸렌디이소시아네이트 화합물의 이소시아누레이트체)를 2.5중량부, 티타늄 트리스아세틸아세토네이트 0.1중량부를 첨가하고 교반 혼합하여 실시예 1의 점착제 조성물을 얻었다.Nitrogen gas was introduce | transduced into the reaction apparatus provided with the stirrer, the thermometer, the reflux cooler, and the nitrogen inlet tube, and the air in the reaction apparatus was substituted with nitrogen gas. Thereafter, the solvent (ethyl acetate) was added to the reaction apparatus together with 100 parts by weight of 2-ethylhexyl acrylate, 4.5 parts by weight of 8-hydroxyoctyl acrylate, and 10 parts by weight of polypropylene glycol monoacrylate (n = 12). Parts by weight were added. Then, 0.1 weight part of azobisisobutyronitrile was dripped over 2 hours as a polymerization initiator, and it was made to react at 65 degreeC for 6 hours, and the acrylic copolymer solution of Example 1 which obtained the weight average molecular weight 500,000 was obtained. To this acrylic copolymer solution, 8.5 parts by weight of acetylacetone was added and stirred, followed by addition of 2.5 parts by weight of coronate HX (isocyanurate of hexamethylene diisocyanate compound) and 0.1 part by weight of titanium trisacetylacetonate. It stirred and mixed and obtained the adhesive composition of Example 1.

[실시예 2∼6 및 비교예 1∼3][Examples 2 to 6 and Comparative Examples 1 to 3]

실시예 1의 점착제 조성물의 조성을 각각 표 1 및 표 2에 기재된 바와 같이 한 것 이외에는 실시예 1과 동일하게 하여, 실시예 2∼6 및 비교예 1∼3의 점착제 조성물을 얻었다. 표 1 및 표 2 중, 아크릴 공중합체에 포함되는 (공중합되는) 모노머는 (A), (B), (F) 및 「카르복실기 함유 모노머」이다.Except having made the composition of the adhesive composition of Example 1 as described in Table 1 and Table 2, respectively, it carried out similarly to Example 1, and obtained the adhesive composition of Examples 2-6 and Comparative Examples 1-3. In Table 1 and Table 2, the monomer (copolymerized) contained in an acryl copolymer is (A), (B), (F) and "carboxyl group-containing monomer."

표 1 및 표 2는 각 성분의 배합비를 나타내는 일체의 표를 2개로 나눈 것이고, 전부 (A)군의 합계를 100중량부로서 구한 중량부의 수치를 괄호 안에 나타낸다. 또한, 표 1 및 표 2에 사용한 각 성분의 약기호의 화합물명을 표 3 및 표 4에 나타낸다. 또한, 코로네이트(등록상표) HX, HL 및 L은 니혼 폴리우레탄 공업 주식회사의 상품명이고, 타케네이트(등록상표) D-140N, D-127N, D-110N은 미츠이 화학 주식회사의 상품명이다. 표 2의 「대전 방지제」및 후술하는 표 7에 있어서, LiTFSI는 Li(CF₃SO₂)₂N을 나타내고, LiFSI는 Li(FSO₂)₂N을 나타내며, LiTF는 LiCF₃SO₃을, SH8400는 폴리에테르 변성 실리콘(도레이 다우코닝(주) 제조, 품명: SH8400, 주성분: 디메틸, 메틸(폴리에틸렌옥사이드 아세테이트)실록산)을 나타낸다.Table 1 and Table 2 divide | divided all the table | surface which shows the compounding ratio of each component into two, and the numerical value of the weight part which calculated | required the total of all (A) group as 100 weight part is shown in parentheses. In addition, the compound name of the symbol of each component used for Table 1 and Table 2 is shown in Table 3 and Table 4. In addition, Coronate (trademark) HX, HL, and L are brand names of Nippon Polyurethane Industries, Ltd., and Takenate D-140N, D-127N, and D-110N are brand names of Mitsui Chemicals Corporation. In Table 2, "Antistatic Agent" and Table 7 described later, LiTFSI represents Li (CF ₃ SO ₂ ) ₂ N, LiFSI represents Li (FSO ₂ ) ₂ N, and LiTF represents LiCF ₃ SO ₃ , and SH8400 Represents polyether modified silicone (Toray Dow Corning Co., Ltd. make, brand name: SH8400, a main component: dimethyl, methyl (polyethylene oxide acetate) siloxane).

＜2관능 이소시아네이트 화합물의 합성＞<Synthesis of Bifunctional Isocyanate Compound>

합성예 1, 2의 2관능 이소시아네이트 화합물은 하기 방법으로 합성하였다. 표 5 및 표 6에 나타낸 바와 같이, 디이소시아네이트와 디올 화합물을 몰비: NCO/OH＝16의 비율로 혼합하여, 120℃에서 3시간 반응시키고, 그 후, 박막 증발 장치를 사용하여 감압하에서 미반응의 디이소시아네이트를 제거하고, 목적으로 하는 2관능 이소시아네이트 화합물을 얻었다.The bifunctional isocyanate compound of the synthesis examples 1 and 2 was synthesize | combined by the following method. As shown in Table 5 and Table 6, the diisocyanate and the diol compound were mixed at a molar ratio of NCO / OH = 16, reacted at 120 ° C for 3 hours, and then unreacted under reduced pressure using a thin film evaporator. Diisocyanate was removed and the desired bifunctional isocyanate compound was obtained.

＜대전 방지 표면 보호 필름의 제작＞<Production of antistatic surface protection film>

[실시예 1]Example 1

부가 반응형 실리콘(도레이 다우코닝(주) 제조, 품명: SRX-345) 5중량부, Li(CF₃SO₂)₂N 0.5중량부, 톨루엔과 초산에틸의 1:1의 혼합 용매 95중량부 및 백금 촉매(도레이 다우코닝(주) 제조, 품명: SRX-212 캐탈리스트) 0.05중량부를 혼합해 교반·혼합하여, 실시예 1의 박리제층을 형성하는 도료를 조정하였다. 두께가 38㎛인 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름의 표면에, 실시예 1의 박리제층을 형성하는 도료를 건조 후의 두께가 0.2㎛가 되도록 메이어 바로 도포하고, 120℃의 열풍 순환식 오븐에서 1분간 건조시켜, 실시예 1의 박리 필름을 얻었다.5 parts by weight of addition reaction type silicone (manufactured by Toray Dow Corning, Inc., SRX-345), 0.5 parts by weight of Li (CF ₃ SO ₂ ) ₂ N, 95 parts by weight of a 1: 1 mixed solvent of toluene and ethyl acetate And 0.05 weight part of platinum catalysts (Toray Dow Corning Co., Ltd. product, SRX-212 catalyst) were mixed, stirred and mixed, and the coating material which forms the release agent layer of Example 1 was adjusted. On the surface of the polyethylene terephthalate film having a thickness of 38 µm, the coating material forming the release agent layer of Example 1 was applied so that the thickness after drying was 0.2 µm, and dried in a hot air circulation oven at 120 ° C. for 1 minute, The release film of Example 1 was obtained.

실시예 1의 점착제 조성물을 두께가 38㎛인 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름의 표면에, 건조 후의 두께가 20㎛가 되도록 도포한 후, 100℃의 열풍 순환식 오븐에서 2분간 건조시켜 점착제층을 형성하였다. 그 후, 이 점착제층의 표면에, 상기에서 제작한, 실시예 1의 박리 필름의 박리제층(실리콘 처리면)을 첩합하였다. 얻어진 점착 필름을 40℃의 환경하에서 5일간 보온하고, 점착제를 경화시켜 실시예 1의 대전 방지 표면 보호 필름을 얻었다.The pressure-sensitive adhesive composition of Example 1 was applied onto the surface of a polyethylene terephthalate film having a thickness of 38 μm so that the thickness after drying was 20 μm, and then dried in a 100 ° C. hot air circulation oven for 2 minutes to form an adhesive layer. Then, the release agent layer (silicone treatment surface) of the release film of Example 1 produced above was bonded to the surface of this adhesive layer. The obtained adhesive film was kept in 40 degreeC environment for 5 days, the adhesive was hardened and the antistatic surface protection film of Example 1 was obtained.

[실시예 2]Example 2

실시예 1의 점착제 조성물을 실시예 2의 점착제 조성물로 하고, 박리제층에 사용하는 대전 방지제를 LiCF₃SO₃으로 한것 이외에는 실시예 1과 동일하게 하여, 실시예 2의 대전 방지 표면 보호 필름을 얻었다.The pressure-sensitive adhesive composition of Example 1 was used as the pressure-sensitive adhesive composition of Example 2, and the antistatic agent used for the release agent layer was LiCF ₃ SO ₃ . Except for the same thing as Example 1, the antistatic surface protection film of Example 2 was obtained.

[실시예 3∼6][Examples 3 to 6]

실시예 1의 점착제 조성물을 각각 실시예 3∼6의 점착제 조성물로 하고, 박리제층에 사용하는 대전 방지제를 Li(FSO₂)₂N으로 한 것 이외에는 실시예 1과 동일하게 하여, 실시예 3∼6의 대전 방지 표면 보호 필름을 얻었다.Example 1 of pressure-sensitive adhesive composition of Examples 3-6, respectively, and the pressure-sensitive adhesive composition, in the same manner as the antistatic agent used for the release agent layer as in Example 1 Li (FSO ₂₎ put up in ₂ N, except in Example 3 to The antistatic surface protection film of 6 was obtained.

[비교예 1]Comparative Example 1

부가 반응형 실리콘(도레이 다우코닝(주) 제조, 품명: SRX-345) 5중량부, 톨루엔과 초산에틸의 1:1의 혼합 용매 95중량부 및 백금 촉매(도레이 다우코닝(주) 제조, 품명: SRX-212 캐탈리스트) 0.05중량부를 혼합해 교반·혼합하여, 비교예 1의 박리제층을 형성하는 도료를 조정하였다. 두께가 38㎛인 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름의 표면에, 비교예 1의 박리제층을 형성하는 도료를 건조 후의 두께가 0.2㎛가 되도록 메이어 바로 도포하고, 120℃의 열풍 순환식 오븐에서 1분간 건조시켜, 비교예 1의 박리 필름을 얻었다.5 parts by weight of an addition reaction type silicon (manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd., SRX-345), 95 parts by weight of a mixed solvent of toluene and ethyl acetate 1: 1 and platinum catalyst (manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd. : SRX-212 Catalyst) 0.05 weight part was mixed, stirred and mixed, and the coating material which forms the release agent layer of the comparative example 1 was adjusted. On the surface of the polyethylene terephthalate film having a thickness of 38 µm, a coating material for forming a release agent layer of Comparative Example 1 was applied so that the thickness after drying was 0.2 µm, and dried in a hot air circulation oven at 120 ° C. for 1 minute, The release film of Comparative Example 1 was obtained.

비교예 1의 점착제 조성물을 두께가 38㎛인 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름의 표면에, 건조 후의 두께가 20㎛가 되도록 도포한 후, 100℃의 열풍 순환식 오븐에서 2분간 건조시켜 점착제층을 형성하였다. 그 후, 이 점착제층의 표면에, 상기에서 제작한, 비교예 1의 박리 필름의 박리제층(실리콘 처리면)을 첩합하였다. 얻어진 점착 필름을 40℃의 환경하에서 5일간 보온하고, 점착제를 경화시켜, 비교예 1의 대전 방지 표면 보호 필름을 얻었다.The pressure-sensitive adhesive composition of Comparative Example 1 was applied to the surface of a polyethylene terephthalate film having a thickness of 38 μm so as to have a thickness of 20 μm after drying, and then dried in a hot air circulation oven at 100 ° C. for 2 minutes to form an adhesive layer. Then, the release agent layer (silicon treatment surface) of the release film of the comparative example 1 produced above was bonded to the surface of this adhesive layer. The obtained adhesive film was kept in 40 degreeC environment for 5 days, the adhesive was hardened and the antistatic surface protection film of the comparative example 1 was obtained.

[비교예 2]Comparative Example 2

비교예 1의 점착제 조성물을 비교예 2의 점착제 조성물로 한 것 이외에는, 비교예 1과 동일하게 하여, 비교예 2의 대전 방지 표면 보호 필름을 얻었다.Except having made the adhesive composition of the comparative example 1 into the adhesive composition of the comparative example 2, it carried out similarly to the comparative example 1, and obtained the antistatic surface protection film of the comparative example 2.

[비교예 3]Comparative Example 3

실시예 1의 점착제 조성물을 비교예 3의 점착제 조성물로 하고, 박리제층에 사용하는 대전 방지제를 Li(FSO₂)₂N으로 한 것 이외에는 실시예 1과 동일하게 하여, 비교예 3의 대전 방지 표면 보호 필름을 얻었다.The antistatic surface of Comparative Example 3 was prepared in the same manner as in Example 1 except that the pressure-sensitive adhesive composition of Example 1 was used as the pressure-sensitive adhesive composition of Comparative Example 3, and the antistatic agent used in the release agent layer was Li (FSO ₂ ) ₂ N. A protective film was obtained.

표 7에 실시예 1∼6 및 비교예 1∼3의 대전 방지 표면 보호 필름에 있어서의 박리제층의 조성을 나타낸다.In Table 7, the composition of the releasing agent layer in the antistatic surface protection film of Examples 1-6 and Comparative Examples 1-3 is shown.

＜시험 방법 및 평가＞<Test method and evaluation>

실시예 1∼6 및 비교예 1∼3에 있어서의 표면 보호 필름을 23℃, 50％RH의 분위기하에서 7일간 에이징한 후, 박리 필름(실리콘 수지 코트된 PET 필름)을 박리하여, 점착제층을 표출시킨 것을 표면 저항률의 측정 시료로 하였다.After aging the surface protection films in Examples 1-6 and Comparative Examples 1-3 for 7 days in 23 degreeC and 50% RH atmosphere, peeling film (silicone resin-coated PET film) was peeled off and an adhesive layer was What was expressed was made into the measurement sample of surface resistivity.

또한, 이 점착제층을 표출시킨 표면 보호 필름을 점착제층을 개재하여 액정 셀에 붙여진 편광판의 표면에 첩합하고, 1일 방치한 후, 50℃, 5기압, 20분간 오토 클레이브 처리하고, 실온에서 다시 12시간 방치한 것을 점착력, 박리 대전압, 및 리워크성의 측정 시료로 하였다.Moreover, after bonding the surface protection film which expressed this adhesive layer to the surface of the polarizing plate pasted on the liquid crystal cell via the adhesive layer, and leaving it for 1 day, it autoclave-processes 50 degreeC, 5 atmospheres, and 20 minutes, and again at room temperature What was left to stand for 12 hours was made into the measurement sample of adhesive force, peeling electrification voltage, and rework property.

＜점착력＞<Adhesive force>

상기에서 얻어진 측정 시료(25㎜ 폭의 표면 보호 필름을 편광판의 표면에 첩합한 것)를 180°방향으로 인장 시험기를 이용하여 저속 박리 속도(0.3m/min) 및 고속 박리 속도(30m/min)에서 박리하고, 측정한 박리 강도를 점착력으로 하였다.The peeling rate (0.3 m / min) and the high rate peeling rate (30 m / min) were measured using the tensile tester with the measurement sample (the 25 mm wide surface protective film bonded to the surface of the polarizing plate) in the 180 ° direction. It peeled at and measured the peeling strength as adhesive force.

＜표면 저항률＞<Surface resistivity>

에이징한 후, 편광판에 첩합시키기 전에, 박리 필름(실리콘 수지 코트된 PET 필름)을 박리하여 점착제층을 표출시키고, 저항률계 하이레스타 UP-HT450(미츠비시 화학 애널리테크 제조)을 사용하여 점착제층의 표면 저항률을 측정하였다.After aging, before bonding to a polarizing plate, the peeling film (silicone resin-coated PET film) was peeled off and the adhesive layer was exposed, and the resistive layer of the adhesive layer was used using the resistivity meter Hirestar UP-HT450 (manufactured by Mitsubishi Chemical Analyzer). Surface resistivity was measured.

＜박리 대전압＞<Peeling large voltage>

상기에서 얻어진 측정 시료를 30m/min의 인장 속도로 180°박리했을 때에 편광판이 대전하여 발생하는 전압(대전압)을 고정밀도 정전기 센서 SK-035, SK-200(주식회사 키엔스 제조)을 사용하여 측정하고, 측정값의 최대값을 박리 대전압으로 하였다.When the measurement sample obtained above was peeled 180 ° at a tensile speed of 30 m / min, the voltage (large voltage) generated by charging the polarizing plate was measured using the high-precision electrostatic sensors SK-035 and SK-200 (manufactured by Keyence Co., Ltd.). And the maximum value of the measured value was made into peeling electrification voltage.

＜리워크성＞<Rework property>

상기에서 얻어진 측정 시료의 표면 보호 필름 위를 볼펜으로(하중 500g, 3 왕복) 덧쓴 후, 편광판으로부터 표면 보호 필름을 박리하여 편광판의 표면을 관찰하여, 편광판에 오염 이행이 없는 것을 확인하였다. 평가 목표 기준은 편광판에 오염 이행이 없는 경우를 「○」, 볼펜으로 덧쓴 궤적을 따라 적어도 일부에 오염 이행이 확인되었을 경우를 「△」, 볼펜으로 덧쓴 궤적을 따라 오염 이행이 확인되고, 점착제 표면으로부터도 점착제의 이탈이 확인된 경우를 「×」로 평가하였다.After overwriting the surface protection film of the measurement sample obtained above with a ballpoint pen (load 500g, 3 round trips), the surface protection film was peeled off from the polarizing plate, the surface of the polarizing plate was observed, and it confirmed that there was no contamination transfer to a polarizing plate. The evaluation target criterion is "○" for the case where there is no contamination migration on the polarizer, and "△" when at least a portion of the contamination is confirmed along the trace added with a ballpoint pen, and the contamination transfer is confirmed along the trace added with a ballpoint pen. Also evaluated the case where release of an adhesive was confirmed from "x".

표 8에 평가 결과를 나타낸다. 또한, 표면 저항률은 「m×10^＋n」을 「mE＋n」으로 하는 방식(다만, m은 임의의 실수값, n은 양의 정수)에 의해 표기하였다.Table 8 shows the results of the evaluation. In addition, the surface resistivity was described by the method of making "m * 10 ^{+ n} " into "mE + n", but m is arbitrary real value and n is a positive integer.

표 8에 나타낸 측정 결과로부터, 이하를 알 수 있다. From the measurement result shown in Table 8, the following is understood.

본 발명에 따른 실시예 1∼6의 대전 방지 표면 보호 필름은 적당한 점착력이 있고, 피착체의 표면에 대한 오염이 없고, 또한, 대전 방지 표면 보호 필름을 피착체로부터 박리했을 때의 박리 대전압이 낮다.The antistatic surface protection films of Examples 1 to 6 according to the present invention have a moderate adhesive force, no contamination on the surface of the adherend, and a peeling electrification voltage when the antistatic surface protection film is peeled from the adherend. low.

한편, 실리콘 화합물 및 대전 방지제를 점착제층에 첨가한 비교예 1의 대전 방지 표면 보호 필름은 점착제층의 표면 저항률이 낮고 양호하지만, 점착력이 크기 때문에, 박리 대전압은 높고, 리워크성이 떨어지는 것이었다. 또한, 비교예 2에서는 가교 촉진제의 첨가량이 많기 때문인지, 점착제가 겔화되어, 도공할 수 없었다.또한, 비교예 3에서는 카르복실기를 함유하는 모노머를 포함하는 점에서, 점착력이 크고, 리워크성이 약간 떨어져 있었다.On the other hand, the antistatic surface protection film of Comparative Example 1 in which the silicone compound and the antistatic agent were added to the pressure sensitive adhesive layer had a low and good surface resistivity of the pressure sensitive adhesive layer, but the adhesive force was high, so that the peeling electrification voltage was high and the reworkability was poor. . Moreover, in Comparative Example 2, the pressure-sensitive adhesive was gelated and could not be coated because the amount of the crosslinking accelerator was large. In Comparative Example 3, since the monomer containing the carboxyl group was included, the adhesive force was large and the reworkability was high. Was a bit away.

즉, 점착제에 실리콘 화합물과 대전 방지제를 혼합시킨 비교예 1, 2에서는 박리 대전압의 저감과 피착체에 대한 오염성을 양립하는 것이 곤란하다. 한편, 박리제층에 대전 방지제를 첨가한 후, 점착제층의 표면에 대전 방지제를 전사시킨 실시예 1∼6에서는 소량의 첨가량으로 박리 대전압의 저감 효과가 있기 때문에, 피착체에 대한 오염도 없고, 양호한 대전 방지 표면 보호 필름이 얻어졌다.That is, in Comparative Examples 1 and 2 in which the silicone compound and the antistatic agent are mixed with the pressure sensitive adhesive, it is difficult to achieve both reduction of the peeling electrification voltage and contamination with the adherend. On the other hand, in Examples 1 to 6 in which the antistatic agent was transferred onto the surface of the pressure-sensitive adhesive layer after the addition of the antistatic agent to the release agent layer, since the effect of reducing the peeling electrification was reduced with a small amount of addition, there was no contamination on the adherend, and An antistatic surface protective film was obtained.

본 발명의 대전 방지 표면 보호 필름은 예를 들면, 편광판, 위상차판, 디스플레이용 렌즈 필름 등의 광학용 필름, 그 밖에 각종 광학 부품 등의 생산 공정 등에 있어서, 당해 광학 부품 등의 표면을 보호하기 위해 사용할 수 있다. 특히, 표면이 실리콘 화합물이나 불소 화합물 등에 의해 방오 처리되어 있는, LR 편광판이나 AG-LR 편광판 등의 광학용 필름의 대전 방지 표면 보호 필름으로서 사용하는 경우에는 피착체로부터 박리할 때 정전기의 발생량을 적게할 수 있다.The antistatic surface protection film of the present invention is, for example, in order to protect the surface of the optical component or the like in optical films such as polarizing plates, retardation plates, display lens films, and other production processes of various optical components. Can be used. In particular, when used as an antistatic surface protective film of an optical film such as an LR polarizing plate or an AG-LR polarizing plate whose surface is antifouling with a silicon compound, a fluorine compound or the like, the amount of static electricity generated when peeling from the adherend is reduced. can do.

본 발명의 대전 방지 표면 보호 필름은 피착체에 대한 오염이 적고 또한, 경시 열화되지 않으며 우수한 박리 대전 방지 성능을 갖는 점에서 생산 공정의 수율을 향상시킬 수 있어, 산업상 이용 가치가 크다.The antistatic surface protection film of the present invention can improve the yield of the production process in that it is less contaminated to the adherend and does not deteriorate with time and has excellent peeling antistatic performance, and thus has great industrial utility value.

1…기재 필름, 2…점착제층, 3…수지 필름, 4…박리제층, 5…박리 필름, 7… 대전 방지제, 8…피착체(광학 부품), 10…대전 방지 표면 보호 필름, 11…박리 필름을 박리한 대전 방지 표면 보호 필름, 20…대전 방지 표면 보호 필름을 첩합한 광학 부품.One… Base film, 2... Pressure-sensitive adhesive layer; Resin film, 4... Release agent layer, 5... Release film, 7... Antistatic agent, 8... Adherend (optical component), 10.. Antistatic surface protective film, 11... Antistatic surface protection film which peeled release film, 20... Optical component which bonded antistatic surface protection film.

Claims

투명성을 갖는 수지로 이루어지는 기재 필름의 한쪽 면에 아크릴계 폴리머를 함유하는 점착제 조성물을 가교하여 이루어지는 점착제층이 형성된 대전 방지 표면 보호 필름으로서,
상기 점착제층의 표면에 대전 방지제를 전사할 수 있는 대전 방지 표면 보호 필름용 박리 필름이 첩합되어 이루어지고,
상기 아크릴계 폴리머가 (A) 알킬기의 탄소수가 C4∼C18인 (메타)아크릴산에스테르 모노머의 적어도 1종과, 공중합 가능한 모노머군으로서, 카르복실기를 함유하는 공중합 가능한 모노머를 포함하지 않지만, (B) 수산기를 함유하는 공중합 가능한 모노머의 적어도 1종을 공중합시킨 공중합체의 아크릴계 폴리머이며,
상기 (A) 알킬기의 탄소수가 C4∼C18인 (메타)아크릴산에스테르 모노머의 100중량부 중 이소옥틸(메타)아크릴레이트 또는 2-에틸헥실(메타)아크릴레이트를 50중량부 이상의 비율로 함유하여 이루어지고,
상기 점착제 조성물이 추가로 (C) 2관능 이상의 이소시아네이트 화합물과, (D) 가교 촉진제와, (E) 케토엔올 호변이성체 화합물과, (G) HLB값이 7∼15인 폴리에테르 변성 실록산 화합물을 함유하여 이루어지며,
상기 대전 방지 표면 보호 필름용 박리 필름이, 수지 필름의 한쪽 면에 대전 방지제를 함유하는 박리제층이 적층되어 이루어지고,
상기 박리제층이 디메틸폴리실록산을 포함하는 박리제와, 상기 대전 방지제를 포함하는 수지 조성물에 의해 형성되어 이루어지며,
상기 박리제층에 포함된 상기 대전 방지제가 상기 점착제층의 표면에만 전사되어 이루어지고,
상기 점착제층의 내부에는 대전 방지제가 포함되어 있지 않은 것을 특징으로 하는 대전 방지 표면 보호 필름.As an antistatic surface protection film in which the adhesive layer which crosslinks the adhesive composition containing an acrylic polymer is formed in one surface of the base film which consists of resin which has transparency,
The release film for antistatic surface protection film which can transfer an antistatic agent to the surface of the said adhesive layer is bonded together, and is made,
Although the said acryl-type polymer does not contain the copolymerizable monomer containing a carboxyl group as a monomer group which can copolymerize with at least 1 sort (s) of the (meth) acrylic acid ester monomer whose C4-C18 carbon number of (A) alkyl group, (B) hydroxyl group It is an acrylic polymer of the copolymer which copolymerized at least 1 sort (s) of the copolymerizable monomer to contain,
Containing isooctyl (meth) acrylate or 2-ethylhexyl (meth) acrylate in a proportion of 50 parts by weight or more in 100 parts by weight of the (meth) acrylic acid ester monomer having 4 to 18 carbon atoms of the alkyl group (A) under,
The pressure-sensitive adhesive composition further comprises (C) a bifunctional or higher isocyanate compound, (D) a crosslinking accelerator, (E) a ketoenol tautomer compound, and (G) a polyether modified siloxane compound having an HLB value of 7 to 15. Made of
The release film for antistatic surface protection films is made by laminating a release agent layer containing an antistatic agent on one surface of a resin film,
The release agent layer is formed of a release agent containing dimethylpolysiloxane and a resin composition containing the antistatic agent,
The antistatic agent included in the release agent layer is transferred to only the surface of the pressure-sensitive adhesive layer,
Antistatic surface protective film, characterized in that the antistatic agent is not contained in the pressure-sensitive adhesive layer.

제 1 항에 있어서,
상기 박리제층 중의 대전 방지제가 알칼리 금속염인 것을 특징으로 하는 대전 방지 표면 보호 필름.The method of claim 1,
The antistatic agent in the said peeling agent layer is an alkali metal salt, The antistatic surface protection film characterized by the above-mentioned.

제 1 항의 대전 방지 표면 보호 필름이 첩합되어 이루어지는 광학용 필름.The optical film of Claim 1 with which the antistatic surface protection film of Claim 1 is bonded.