KR20180114155A - 선택적으로 비점착화된 접착제를 갖는 투명의 확장된 콘텐트 라벨 - Google Patents

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Abstract

프리패브리케이션된 접착제 어셈블리로부터 확장된 콘텐트 라벨을 제조하는 방법이 설명된다. 상기 방법은 프리패브리케이션된 접착제 어셈블리의 박리 또는 재적층을 필요로 하지 않는다. 프리패브리케이션된 접착제 어셈블리는 투명한 표층 및 방사 에너지에 감응하는 접착제층을 포함한다. 확장된 콘텐트 프린팅은 표층의 전면측에 적용된다. 마스크는 접착제층과 방사 에너지원 사이에 위치된다. 마스크에 의해 차단되지 않은 방사 에너지는 접착제층의 조사 영역의 접착성을 감소시킨다. 플러드코트는 확장된 콘텐트 인디시아 상에 적용되고, 전면측 인디시아는 플러드코트 상에 적용되어 표층의 이면측에서 표층과 접착제층을 통해 시인된다.

Description

선택적으로 비점착화된 접착제를 갖는 투명의 확장된 콘텐트 라벨
(관련 출원의 상호참조)
본 출원은 2016년 2월 22일자로 제출된 미국 가특허 출원 제62/298,146호의 이익을 주장하며 그 전체 내용을 본원에 참조로 포함한다.
본 발명은 확장된 콘텐트 접착제 라벨 어셈블리를 제조하는 방법에 관한 것이다. 상기 방법은 투명의 표층을 포함하는 접착제 어셈블리를 사용하며, 제조 시 어셈블리의 박리 및 재적층을 필요로 하지 않는다.
확장/연장 콘텐트 라벨에 대한 다양한 응용 및 용도가 공지되어 있다. 확장된 콘텐트 라벨("ECL")은 라벨을 부착하기 위해 제품 또는 패키징 상에 상응하는 공간을 증가시킬 필요없이 제품 또는 그 패키징 상에 증가된 인쇄 정보를 나타내기 위한 간단하고 효과적인 방법을 제공한다.
종래의 ECL은 제품에 직접 고정되거나 또는 제품에 장착되는 베이스 패널에 고정되는 불투명의 상부 패널을 포함한다. 상부 패널은 그 전면측/외면측 상에 인쇄 정보를 포함하고, 그 상에 확장된 콘텐트 프린팅을 갖는 상부 패널의 이면측/내면측을 드러내도록 제품으로부터 떼어질 수 있는 감소된 접착성 영역을 포함한다.
종래의 ECL의 제조 방법은 미리 제조된 적층된 접착제 물품을 이용한다. 통상, 미리 제조된 적층된 접착제 물품은 불투명의 상부 패널, 이형 라이너, 및 상기 상부 패널을 상기 이형 라이너에 적층하는 접착제층을 포함한다. 이들 상부 패널은 불투명하기 때문에, 종래의 ECL 제조 공정에는 상부 패널의 이면측을 노출시키기 위해 이형 라이너로부터 상부 패널을 박리한 후에 상부 패널의 이면측에 확장된 콘텐트를 인쇄하고, 이어서 상부 패널을 이형 라이너에 재적층하는 단계를 필요로 한다. 이어서, 재적층 후 전면측 프린팅이 상부 패널의 전면측에 적용된다.
통상의 ECL 제조에 있어서의 반연속 방법은, 예를 들면 도 15에 도시되어 있으며, 여기서 미리 제조된 접착제 어셈블리 웹(720)은 언와인드 롤러(730)로부터 권출된다. 통상, 접착제 어셈블리는 불투명한(즉, 불투명의) 상부 패널, 이형 라이너, 및 상기 상부 패널을 상기 이형 라이너에 적층하는 접착제층을 포함한다. 상기 상부 패널은 불투명하여 이면측 프린팅이 상부 패널의 전면측을 통해 보이지 않는다. 상기 접착제 어셈블리(720)는 박리 플레이트(750)를 통과하고, 여기서 이형 라이너(760)는 (740)에서 상기 표층과 접착제의 결합체(770)로부터 박리된다. 이어서, 표층과 접착제 결합체(770)는 이면측 프린팅 스테이션(780)으로 진입하고, 여기서 확장된 콘텐트 프린팅은 상부 패널의 이면측(즉, 접착제면)에 적용되고, 또한 접착제층에 직접 적용된다. 이어서, 결합체(770)는 바니시 스테이션(790)으로 진입하고, 여기서 해당 영역의 접착제의 점성을 감쇄시키거나 감소시키기 위해 바니시가 접착제층에 적용되어 이면측 프린팅을 덮는다. 이어서, 상기 프린트된 표층 및 접착제 결합체(770)는 재적층 스테이션(800)에서 이형 라이너(760)와 재적층되어 접착제층을 덮는다. 명시하지 않았지만, 통상의 제조 방법은 턴바를 통해 어셈블리를 공급하여 표층이 아래로 향하도록 어셈블리를 뒤집어서 반대 방향이 되게 하는 단계를 포함할 수 있다. 이어서, 전체 어셈블리는 전면측 프린팅 스테이션(810)으로 공급되고, 여기서 전면측 프린팅은 표층의 전면측에 적용된다. 이어서, 재적층되고 프린트된 어셈블리(820)는 이후의 공정(예를 들면, 개별의 라벨로 다이 커팅) 및 기재에의 적용를 위해 리와인드 롤러(830)에 공급된다.
제품에 적용할 때에, 이형 라이너를 제거하여 접착제층을 노출시키고 제품에 라벨을 점착한다. 바니시의 적용로 인해 이면측 프린트된 영역의 접착성이 감소되어 제품으로부터 상부 패널을 잡아당겨 이면측 확장된 콘텐트 프린팅이 드러나게 할 수 있다.
그러나, 종래의 ECL의 제조는 박리 및 재적층을 필요로 하고, 어셈블리가 턴바를 통과해야하므로 제한된 라인 속도를 가져 여러가지의 다른 공정 상의 난점을 초래할 수 있다. 예를 들면, 종래의 ECL 공정은 별도의 박리 및 재적층 장비를 필요로 하여 추가적인 비용지출과 정기적인 유지보수 및 수리가 반드시 요구된다. 또한, 상기 방법은 공정 장비가 특정 구성으로 되어 있을 필요가 있다. 예를 들면, 박리 및 재적층 장비는 박리와 재적층 사이에 사용되는 이면측 프린팅 장비에 근접해 있어야 한다. 또한, 종래의 방법은 접착제 어셈블리의 적절한 박리 및 재적층을 용이하게 하기 위해 보다 많은 프레스 경험을 가진 설비 운영자를 필요로 한다. 또한, 이러한 방법은 점착층이 외부환경에 반드시 노출되어 점착층의 오염을 회피하기 위해 특별한 예방조치를 필요로 하며, 제조 시 노출된 점착층과 접촉할 수 있는 임의의 장비에 대해 클리닝을 필요로 한다. 박리 및 재적층으로 인해 발생되는 또 다른 주요 문제는 표층 또는 라이너 중 어느 하나에 컬이 생기는 것을 방지하기 위해 완제품이 완벽하게 재적층되도록 필름에 대한 장력을 주의해서 콘트롤해야 한다는 점이다.
따라서, 확장된 콘텐트 라벨, 적층 등을 처리할 때에 이들 여러가지 문제의 가능성을 회피하거나 적어도 감소시키는 방법에 대한 필요성이 존재한다.
이전에 공지된 실시 및 방법과 관련된 난점 및 단점은 본 물품, 접착제 조성물, 시스템, 및 방법으로 해결된다.
종래 기술의 시스템과는 대조적으로, 본 발명은 투명한(예를 들면, 투명의) 표층을 포함하는 확장된 콘텐트 라벨을 포함하고, 여기서 확장된 콘텐트는 종래와 같이 표층의 이면측보다는 전면측에 적용된다. 상기 표층은 투명하기 때문에, 표층이 부착되어 있던 기재로부터 박리될 때에 확장된 콘텐트가 투명한 표층을 통해 표층의 이면측에서 시인된다. 따라서, 본 발명은 확장된 콘텐트 프린팅을 표층의 이면측에 적용할 필요가 없다는 이점을 갖는다. 또한, 상기 확장된 콘텐트 라벨은 기재로부터 표층을 박리할 수 있도록 점성의 레벨을 변경하기 위해 선택적으로 처리될 수 있는 접착제층을 포함한다. 따라서, 본 발명은 라벨 상에 확장된 콘텐트를 프린트하기 위해 이형 라이너로부터의 표층의 박리 및 재적층을 필요로 하지 않으므로, 이형 라이너는 전체 라벨 제조 공정 동안에 접착제층을 덮은 상태를 유지한다.
하나의 양태에 있어서, 본 발명은 적어도 하나의 감소된 접착성 영역을 갖는 확장된 콘텐트 접착제 어셈블리의 제조 방법을 제공한다. 상기 방법은 전면측 및 반대방향을 향하는 이면측을 규정하는 표층, 이형 라이너, 및 상기 표층의 이면측과 상기 이형 라이너 사이에 배치되는 접착제층을 포함하는 적층 접착제 어셈블리를 제공하는 단계를 포함한다. 확장된 콘텐트 인디시아는 표층의 전면측에 적용된다. 마스크는 상기 접착제층의 일부분을 덮기 위해 적용된다. 하나의 실시형태에 있어서, 마스크는 표층의 전면측에 적용된다. 또 다른 실시형태에 있어서, 마스크는 이형 라이너에 적용된다. 이어서, 접착제 어셈블리에 방사 에너지가 조사되고, 여기서 마스크는 접착제층의 일부분이 방사 에너지에 노출되는 것을 실질적으로 차단한다. 상기 마스크에 의해 차단된 방사 에너지는 접착제층의 일부분에 조사되어 접착제층의 조사 영역의 접착성을 감소시킨다. 하나의 실시형태에 있어서, 방사 에너지는 방사 에너지에 대해 실질적으로 투명한 표층을 통과한다. 또 다른 실시형태에 있어서, 방사 에너지는 방사 에너지에 대해 실질적으로 투명한 이형 라이너를 통과한다. 상기 인디시아는 표층의 이면측에서 접착제층을 통해 시인되어 확장된 콘텐트를 규정한다.
또 다른 양태에 있어서, 본 발명은 라벨 상에 확장된 콘텐트를 제공하는 방법을 제공한다. 상기 방법은 전면측 및 이면측을 규정하고, 전면측 및 반대방향을 향하는 이면측을 규정하는 투명한 표층을 포함하는 적층 접착제 라벨을 제공하는 단계를 포함한다. 상기 표층의 전면측은 라벨의 전면측을 향한다. 상기 접착제 어셈블리는 표층의 이면측에 배치되는 방사 에너지 감응성 접착제층을 포함한다. 상기 접착제는 충분한 양의 방사 에너지에 노출되면 접착성이 감소되도록 구성된다. 상기 접착제 어셈블리는 접착제에 의해 표층의 이면측에 적층된 이형 라이너를 포함한다. 상기 방법은 인디시아를 표층의 전면측에 적용하는 단계; 접착제층의 일부분을 마스크로 덮는 단계; 및 상기 접착제 라벨을 방사 에너지로 조사하는 단계를 포함한다. 상기 마스크는 방사 에너지가 비조사 영역에 도달하는 것을 실질적으로 차단함으로써 접착제층의 비조사 영역을 제공한다. 상기 마스크에 의해 실질적으로 차단되지 않은 방사 에너지는 조사 영역을 충분한 양의 방사 에너지에 노출시켜 조사 영역의 접착성을 감소시킴으로써 접착제층의 조사 영역을 제공한다. 상기 인디시아는 접착제층의 조사 영역 상에 적용되고, 인디시아는 표층의 이면측에서 시인되어 라벨 상에 확장된 콘텐트를 제공한다.
또 다른 양태에 있어서, 본 발명은 기재 상에 확장된 콘텐트를 제공하는 방법을 더 제공한다. 상기 방법은 기재 및 전면측 및 이면측을 규정하는 적층 접착제 라벨을 제공하는 단계를 포함한다. 상기 라벨은 투명한 표층, 이형층 및 상기 표층을 상기 이형층에 적층하는 접착제층을 포함한다. 상기 방사 에너지에의 충분한 노출 시, 접착제는 점성이 감소된다. 상기 방법은 표층에 인디시아를 적용하는 단계를 더 포함하고, 상기 인디시아는 표층을 통해 시인되어 확장된 콘텐트를 규정한다. 상기 마스크는 접착제층의 일부분을 덮기 위해 적용되고, 라벨에는 방사 에너지를 노출시켜 마스크에 의해 차단되지 않은 방사 에너지가 접착제에 조사되어 접착성이 감소되는 접착제층의 조사 영역을 규정한다. 상기 라벨로부터 이형층을 제거하여 접착제층을 노출시키고, 상기 접착제층을 기재의 표면과 접촉시킴으로써 라벨을 기재에 점착한다. 상기 접착제층의 조사 영역의 감소된 접착성은 조사 영역을 포함하는 표층의 일부분이 기재로부터 제거되게 하여 확장된 콘텐트를 노출시키도록 구성된다.
또 다른 양태에 있어서, 본 발명은 관련 기재에 부착되도록 구성되는 확장된 콘텐트 접착제 어셈블리를 제공한다. 상기 어셈블리는 전면 및 반대방향을 향하는 이면을 규정하는 투명한 표층, 이형 라이너, 및 상기 표층의 이면측과 상기 이형 라이너 사이에 배치되는 접착제층을 포함한다. 상기 접착제층은 이형 라이너의 제거 시, 관련 기재와의 제거 가능한 결합을 형성하도록 구성되는 감소된 접착성의 영역, 및 이형 라이너의 제거 시, 관련 기재와의 영구 결합을 형성하도록 구성되는 비감소된 접착성 영역을 포함한다. 또한, 어셈블리는 표층의 전면 상에 인디시아를 포함하고, 상기 인디시아는 표층의 이면측에서 표층을 통해 시인되어 확장된 콘텐트를 규정한다. 상기 어셈블리는 확장된 콘텐트를 덮는 플러드코트를 포함한다. 하나의 실시형태에 있어서, 확장된 콘텐트는 전면측에서 보았을 때 플러드코트에 의해 적어도 부분적으로 불투명하다. 또 다른 실시형태에 있어서, 확장된 콘텐트는 전면측에서 보았을 때 플러드코트를 통해 시인되지 않는다. 상기 접착제층을 관련 기재에 결합하면, 감소된 접착성 영역을 포함하는 어셈블리의 일부분은 관련 기재로부터 박리되어 확장된 콘텐트를 드러내도록 구성된다. 하나의 실시형태에 있어서, 어셈블리의 박리된 부분은 관련 기재에 재부착되도록 구성된다.
또 다른 양태에 있어서, 본 발명은 외부면을 규정하는 용기, 및 상기 용기의 외부면 상에 배치되어 접촉하는 층상 접착제 어셈블리를 포함하는 라벨링된 용기를 제공한다. 상기 층상 접착제 어셈블리는 투명한 표층, 접착제층, 인디시아 및 플러드코트를 포함한다. 상기 투명한 표층은 전면측 및 이면측을 규정하고, 상기 표층의 전면측은 어셈블리의 전면측을 향한다. 상기 접착제층은 표층의 이면측에 배치되고, 용기의 외부면과 제거 가능한 결합을 형성하도록 구성되는 감소된 접착성 영역, 및 상기 용기의 외부면과 영구 결합을 형성하도록 구성되는 비감소된 접착성 영역을 포함한다. 상기 인디시아는 표층의 전면측 상에 위치되고, 표층의 이면측에서 시인되어 라벨 상에 확장된 콘텐트를 규정한다. 상기 플러드코트는 인디시아를 덮는다. 하나의 실시형태에 있어서, 확장된 콘텐트는 전면측에서 보았을 때 플러드코트에 의해 적어도 부분적으로 불투명하다. 또 다른 실시형태에 있어서, 인디시아는 전면측에서 보았을 때 라벨의 전면측에서 플러드코트를 통해 시인되지 않는다. 감소된 접착성 영역을 포함하는 어셈블리의 일부분은 관련 기재로부터 박리되어 확장된 콘텐트를 드러내도록 구성된다.
또 다른 양태에 있어서, 본 발명은 확장된 콘텐트 라벨을 제조하기 위해 프리패브리케이션된 접착제 어셈블리 내의 접착제의 접착성을 선택적으로 감소시키는 시스템을 제공한다. 상기 시스템은 프리패브리케이션된 접착제 어셈블리 및 방사 에너지원을 포함한다. 프리패브리케이션된 접착제 어셈블리는 (i) 적어도 실질적으로 투명하고, 전면측 및 이면측을 포함하는 표층, (ii) 이형 라이너, 및 (iii) 상기 표층과 상기 이형 라이너 사이에 배치되고, 방사 에너지에의 충분한 노출 시, 상기 노출된 접착제는 접착성이 감소되는 특징을 갖는 접착제층, (iv) 상기 표층의 이면측에서 상기 표층을 통해 시인되는 표층의 전면측 상의 인디시아, 및 (v) 상기 접착제층의 적어도 일부분을 덮도록 위치되고, 방사 에너지가 상기 접착제층을 통과하도록 허가하는 적어도 하나의 통로 영역을 규정하는 마스크를 포함한다. 방사 에너지원은 접착제층의 적어도 일부분의 접착성을 감소시키기 위해 마스크에 있어서의 적어도 하나의 통로 영역을 통해 접착제층에 조사됨으로써 확장된 콘텐트 라벨을 제조하도록 구성된다.
이해될 수 있는 바와 같이, 본원에 기재된 발명은 다른 실시형태 및 상이한 실시형태가 가능하며, 그 몇몇 세부사항은 청구범위의 발명을 벗어나지 않고 다양한 측면에서 변형될 수 있다. 따라서, 하기 도면 및 설명은 예시적인 것이며, 제한적이지 않은 것으로서 간주되어야 한다.
도 1은 본 발명에 따른 프리패브리케이션된 접착제 어셈블리의 실시형태의 개략적인 단면도이다.
도 2는 본 발명에 따른 마스크가 적용된 도 1의 프리패브리케이션된 접착제 어셈블리의 개략적인 단면도이다.
도 3은 본 발명에 따른 방사 에너지에 노출된 후의 도 2의 프리패브리케이션된 접착제 어셈블리의 개략적인 단면도이다.
도 4는 본 발명에 따른 플러드코트가 적용되어 있는 도 3의 프리패브리케이션된 접착제 어셈블리의 개략적인 단면도이다.
도 5는 본 발명에 따른 각각의 확장된 콘텐트 라벨의 실시형태의 개략적인 단면도이다.
도 6은 본 발명에 따른 기재에 부착된 도 5의 각각의 확장된 콘텐트 라벨의 개략적인 단면도이다.
도 7은 본 발명에 따른 기재로부터 부분적으로 잡아당겨진 도 6의 각각의 확장된 콘텐트 라벨의 개략적인 단면도이다.
도 8은 본 발명에 따른 기재에 부착된 각각의 확장된 콘텐트 라벨의 또 다른 실시형태의 개략적인 단면도이다.
도 9는 본 발명에 따른 확장된 콘텐트를 드러내기 위해 베이스층으로부터 부분적으로 잡아당겨진 도 8의 각각의 확장된 콘텐트 라벨의 개략적인 단면도이다.
도 10은 본 발명에 따른 시스템 및 방법을 나타내는 공정 개략도이다.
도 11은 본 발명에 따른 시스템 및 방법을 나타내는 또 다른 공정 개략도이다.
도 12는 본 발명에 따른 시스템 및 방법을 나타내는 또 다른 공정 개략도이다.
도 13은 본 발명에 따른 또 다른 각각의 확장된 콘텐트 라벨의 개략적인 단면도이다.
도 14는 본 발명에 따른 방사 에너지에 노출된 후 마스크가 적용된 또 다른 프리패브리케이션된 접착제 어셈블리의 개략적인 단면도이다.
도 15는 확장된 콘텐트 라벨을 제조하기 위한 종래 기술의 시스템 및 방법을 나타내는 공정 개략도이다.
도 16은 본 발명에 따른 롤러 구성요소의 개략적인 사시도이다.
본 발명은 확장된 콘텐트 라벨을 제조하는 방법에 관한 것이다. 본 발명은 미리 제조된 접착제 어셈블리에 확장된 콘텐트를 적용하거나 접착제층의 접착성을 감소시키기 위해 종래의 박리, 재적층, 또는 턴바 작업을 필요로 하지 않는다. 따라서, 본 방법은 외부환경에의 접착제층의 노출을 초래하지 않음으로써, 종래의 ECL 제조 공정에서 통용되는 접착제를 갖는 공정 장비의 오염을 억제한다.
몇몇 실시형태에 있어서, 상기 방법은 일반적으로 방사 에너지에 대해 적어도 부분적으로 투명한 표층, 이형 라이너 또는 "라이너" 층, 및 상기 표층과 상기 이형 라이너 사이에 배치되는 접착제층을 포함하는 미리 제조된 접착제 물품을 사용하는 단계를 포함한다. 본 발명은, 예를 들면 UV광과 같은 특정 형태의 방사 에너지에 노출되면, 통상 박리 강도값의 감소로서 나타내어지는 바와 같이 접착성이 감소되는 특징을 갖는 접착제층을 형성하기 위한 접착제 조성물을 제공한다. 이러한 접착제는 본 명세서에서 "방사 에너지 감응성 접착제", "방사 에너지에 대한 감응성" 또는 "UV 감광" 또는 다른 유사한 용어로 언급될 것이다.
상기 방법은 접착제층의 반대쪽의 표층의 전면측에 인디시아를 적용하는 단계를 포함하고, 따라서 확장된 콘텐트의 적용 시 표층의 이면측(즉, 접착제면)을 노출시키기 위해 접착제 물품의 박리를 필요로 하지 않는다. 또한, 접착제층은 투명한 표층을 통해 방사 에너지에 선택적으로 노출됨으로써 접착제층 또는 그 일부분의 점성이 감소된다. 따라서, 접착제 어셈블리의 박리는 본 방법에 의해 필요로 하지 않으며, 상기 이형 라이너는 전체 제조 공정 동안에 접착제층을 덮은 상태를 유지한다.
본 명세서에서 사용되는 바와 같이, "확장된 콘텐트 인디시아", "확장된 콘텐트 프린팅" 또는 "확장된 콘텐트"는 인디시아, 프린팅, 또는 예를 들면 표층이 부착되어 있는 기재로부터 박리됨으로써 표층의 이면측이 노출될 때에 표층의 이면측에서 보여지도록 구성되는 다른 시각적 표현을 의미한다. 본 명세서에서 사용되는 바와 같이, "전면측 프린팅", "전면측 인디시아" 또는 "전면측 콘텐트"는 인디시아, 프린팅, 또는 표층의 전면측에서 보여지도록 구성되는 다른 시각적 표현을 의미한다.
본 방법에 사용되는 미리 제조된 접착제 어셈블리(1)는, 예를 들면 도 1에 도시되어 있으며, 표층(10), 방사 에너지 감응성 접착제층(20) 및 이형 라이너(30)를 포함한다. 상기 표층(10)은 반대방향을 향하는 면(즉, 전면측(11) 및 이면측(12))을 규정하고, 접착제 어셈블리(1)는 반대방향을 향하는 면(즉, 전면측(2) 및 이면측(3))을 규정한다. 상기 표층(10)의 전면측(11)은 어셈블리(1)의 전면측(2)을 향하고, 표층(10)의 이면측(12)은 어셈블리(1)의 이면측(3)을 향한다. 도시된 바와 같이, 접착제층(20)은 표층(10) 및 이형 라이너(30)와 접촉한다. 그러나, 본 발명의 접착제 어셈블리 및 확장된 콘텐트 라벨은 도시된 층들 중간 및/또는 사이에 하나 이상의 개재층을 포함하는 도면에 도시되지 않은 하나 이상의 추가의 층 또는 다른 구성요소를 더 포함할 수 있음이 이해될 것이다.
상기 방법은 표층의 전면측에 인디시아를 적용하는 단계를 포함하고, 이러한 인디시아는 표층이 부착된 기재로부터 잡아당겨질 때에 투명한 표층의 이면측에서 보여지도록 구성되어 라벨에 확장된 콘텐트를 제공한다.
상기 방법은 접착제층과 방사 에너지원 사이에 마스크를 위치시키는 단계를 더 포함한다. 상기 마스크는 방사 에너지에 대해 실질적으로 불투명하다. 이어서, 접착제층은 방사 에너지가 마스크의 개구를 통해서 방사 에너지 감응성 접착제층의 부분에 전달됨으로써 방사 에너지에 노출되어 접착제층의 조사 영역의 접착성을 감소시킨다. 상기 마스크로 덮여 있는 접착제층의 비조사 영역은 원래의 접착성 레벨을 실질적으로 유지한다.
접착제 어셈블리의 표층 이외의 다른 층들은 방사 에너지에 대해 투명한 것이 이해될 것이다. 이와 관련하여, 접착제층의 접착성을 감소시키기 위해 방사 에너지가 통과하는 층(예를 들면, 표층)은 방사 에너지에 대해 적어도 일정 레벨의 투명성을 가져야 한다. 비교적 낮은 투명성을 갖는 물질 또는 층에 대해, 더 강렬한 에너지원, 더 긴 노광 시간, 및/또는 더 느린 라인 속도, 또는 이들의 조합이 이용될 수 있다. 예를 들면, 검토 중인 층에 방사 에너지의 50%만 전달된 경우, 그 부족분은 에너지원의 강도를 2배로 하거나, 라인 속도를 2배로 감소시키거나, 또는 이들 방법의 조합에 의해 보충될 수 있다. 본 명세서에서 사용되는 바와 같이, 용어 "투명한", "투명성" 또는 유사한 용어는 사용되는 방사 에너지에 대해 완전히 불투명성이 아닌 물질, 매체, 층, 물질 등을 의미하며, 따라서 방사 에너지의 일부분은 그것들을 통과할 수 있다. 통상, 투명성 물질은 투명하게 보이며, 그것을 통해 투과된 광선은 현저하게 산란되지 않는다. 그러나, 본 명세서에서 사용되는 바와 같이 "투명한" 물질은 약간 흐리거나 선명도가 낮은 투과성 물질도 포함하며, 이러한 물질은 산란광선을 전달시키지만 완전히 불투명하지는 않은 것을 나타낸다.
본 발명의 다양한 물품 및 적층 접착제 어셈블리에 있어서 적어도 하나의 층(예를 들면, 표층)이 충분히 투명하면, 다른 층(예를 들면, 이형 라이너, 플러드코트)은 선택적으로 실질적으로 불투명해도 좋다. 본 발명의 다양한 물품 및 접착제 어셈블리는 (i) 선택된 방사 에너지의 통과를 허가하기에 충분히 투명한 물질의 하나 이상의 층, 및 (ii) 방사 에너지 감응성 접착제의 하나 이상의 층을 포함하며, 본 명세서에 보다 상세하게 설명된다.
다수의 실시형태에 있어서, 본 명세서에서 보다 상세하게 설명되는 바와 같이, 접착제층 또는 부분에 바로 인접하게 배치되는 층상 어셈블리에 있어서의 하나 이상의 층, 예를 들면 2개의 층은 방사 에너지의 통과에 대해 적어도 부분적으로 투명하다. 예를 들면, 도 1에 도시된 접착제 어셈블리(1)를 참조하면, 표층(10) 및 라이너(30) 중 하나 또는 양쪽은 층(들)이 방사 에너지가 각각의 층(들)을 통해 접착제층으로 통과될 수 있도록 부분적으로 투명성이 있다. 방사 에너지의 전달도는 접착제의 점착 레벨이 감소되는 정도이다. 확장된 콘텐트 인디시아가 적용되기 전 또는 후에 마스크가 적용될 수 있다. 몇몇 실시형태에 있어서, 확장된 콘텐트는 방사 에너지가 접착제층에 전달되는 것을 실질적으로 차단할 수 있는 양으로 적용될 수 있다. 이들 실시형태에 있어서, 마스크가 적용될 수 있고, 확장된 콘텐트가 어셈블리에 적용되기 전에 어셈블리에 방사 에너지가 조사될 수 있다. 다른 실시형태에 있어서, 확장된 콘텐트는 방사 에너지를 실질적으로 차단하지 않아도 좋다. 이들 실시형태에 있어서, 마스크가 적용될 수 있고, 확장된 콘텐트가 어셈블리에 적용되기 전 또는 후에 방사 에너지가 어셈블리에 조사될 수 있다.
방사 에너지가 표층을 통해 접착제층에 전달되는 실시형태에 있어서, 조사 후에 플러드코트가 표층의 전면측에 적용된다. 플러드코트는 확장된 콘텐트가 라벨의 전면측에서 시인되지 않도록 확장된 콘텐트 인디시아를 덮거나 가리기 위해 적용된다. 이어서, 전면측 인디시아가 플러드코트 상에 적용되어 확장된 콘텐트 라벨이 제조된다. 상기 플러드코트는 소망하는 바와 같이 확장된 콘텐트를 완전히 또는 부분적으로 가리기 위해 임의의 코팅 중량 또는 임의의 층수로 적용될 수 있다.
확장된 콘텐트 라벨은 접착제층을 노출시키고, 상기 노출된 접착제층은 기재에 접촉시킴으로써 제품, 패키지, 용기, 또는 베이스 패널과 같은 기재에 적용될 수 있다. 상기 접착제층의 비조사 영역은 원래의 접착성을 유지하여 기재와 더 강한 점착 결합을 형성하고, 반면에 상기 접착제층의 조사 영역은 접착성이 감소되어 기재와 더 약하고 제거 가능한 결합을 형성한다. 따라서, 접착제층의 조사되어 감소된 접착성 영역을 포함하는 표층의 부분은 기재로부터 잡아당겨져서 표층의 이면측을 드러낼 수 있어 확장된 콘텐트가 보일 수 있다. 접착제층의 비조사 영역을 포함하는 표층의 부분은 기재에 결합된 상태를 유지하고, 따라서 전체 표층은 기재로부터 완전히 박리되지 않도록 힌지의 한 형태로서 작용한다.
본 발명의 접착제 어셈블리는 전면측 및 배면 프리팅 작업과 다른 장소 또는 시간에서 사전제작될 수 있거나 프린팅 작업과 동시에 제조될 수 있다. 본 발명에 있어서, "프리패브리케이션된" 또는 "미리 제조된" 접착제 어셈블리란 접착제 어셈블리의 다른 층, 예를 들면 이형 라이너에 의해 적층되거나 덮여 있기 때문에 표층의 이면측이 노출되지 않는 어셈블리를 의미한다. 그것은 덮여 있기 때문에, 다른 층으로부터 적층되어 있는 표층을 먼저 박리하지 않고 프린팅 등에 의해 인디시아를 용이하게 수용하도록 구성되어 있지 않다. 본 발명에 따라서, 프리패브리케이션된 어셈블리는, 예를 들면 도 1에 도시된 바와 같이 접착제층에 의해 이형 라이너에 적층되는 표층을 포함한다.
또한, 본 발명은 다양한 확장된 콘텐트 라벨, 기재에 부착된 확장된 콘텐트 라벨의 조합, 및 확장된 콘텐트 라벨을 제조하기 위한 시스템, 방법 및 공정 장비를 제공한다. 또한, 다른 장비, 방법 및 응용이 본 발명에 따라 고려된다. 이들 양태 및 다른 양태는 본원에서 보다 상세히 설명된다.
표층
본 발명은 표층, 이형 라이너, 및 상기 표층과 상기 이형 라이너 사이에 배치되는 방사 에너지 감응성 접착제층을 포함하는 프리패브리케이션된 접착제 어셈블리를 제공하는 단계를 포함한다.
몇몇 실시형태에 있어서, 표층은 투명하고(예를 들면, 투명성이고), 확장된 콘텐트 라벨을 제조하기 위해 확장된 콘텐트 인디시아, 마스크, 플러드코트, 및 전면측 인디시아가 적용되어 있는 플랫폼을 제공한다. 예를 들면, 상기 확장된 콘텐트 인디시아는 표층의 전면측에 직접 적용될 수 있다. 표층 및 확장된 콘텐트 인디시아는 상기 확장된 콘텐트가 표층의 이면측에서 투명한 표층을 통해 시인되도록 구성된다. 또한, 접착제층의 접착성은 접착제층의 부분에 투명한 물질(예를 들면, 표층 또는 이형 라이너)을 통해 방사 에너지를 전달함으로써 선택적으로 감소된다. 확장된 콘텐트는 표층의 이면측에 적용되지 않고, 방사 에너지에 의해 접착제층의 접착성이 감소되기 때문에, 확장된 콘텐트를 프린팅하고 ECL을 제조하기 위해 프리패브리케이션된 접착제 어셈블리의 박리를 필요로 하지 않는다.
하나의 실시형태에 있어서, 그리고 예를 들면 도 1~도 3을 참조하면, 접착제 어셈블리(1)는 방사 에너지의 통과를 위해 적어도 부분적으로 투명하고, 확장된 콘텐트가 이면측(12)으로부터 표층(10)을 통해 보여질 수 있도록 투명한 표층(10)을 포함한다. 상기 방사 에너지는 어셈블리(1)의 전면측(2)으로부터 마스크(40)의 개구(41)를 통해 어셈블리(1)로 향한다. 이어서, 방사 에너지는 투명한 표층(10)을 통해 접착제층(20)으로 적어도 부분적으로 전달되어 마스크(40)로 덮여 있지 않은 접착제층의 부분(22)에 조사되어 접착제층(20)의 조사 영역(22)의 접착성을 감소시킨다.
이 실시형태에 있어서, 이형 라이너(30)는 방사 에너지에 대해 적어도 부분적으로 투명하거나 불투명할 수도 있다. 또한, 이형 라이너가 방사 에너지에 대해 적어도 부분적으로 투명한 경우라도, 접착제층의 접착성은 마스크를 사용하거나 사용하지 않고, 방사 에너지가 이형 라이너를 통해 전달됨으로써 감소될 수 있다. 방사 에너지가 표층을 통해 접착제층에 전달되는 이 실시형태의 하나의 양태에 있어서, 이형 라이너는 방사 에너지에 대해 실질적으로 불투명(즉, 불투명성)이다.
상기 표층은 본 발명에 의해 특별히 제한되지 않고, 다양한 물질이 투명한 또는 실질적으로 투명한 재료로서 사용될 수 있다. 광투과성 폴리머 필름 물질의 비제한적 예는, 예를 들면 셀룰로오스 아세테이트 부티레이트, 셀룰로오스 아세테이트 프로피오네이트, 셀룰로오스 트리아세테이트, 폴리에테르 술폰, 폴리메틸 메타크릴레이트, 폴리우레탄, 폴리에스테르, 폴리카보네이트, 폴리비닐 클로라이드, 신디오택틱 폴리스티렌, 환상 올레핀 코폴리머, 폴리에틸렌 나프탈레이트, 및 나프탈렌 디카르복실산계 코폴리머 또는 블렌드를 포함한다. 선택적으로, 필름은 이들 물질의 적절한 혼합물 또는 조합물을 함유할 수 있다. 특정 실시형태에 있어서, 폴리에틸렌 테레프탈레이트(PET) 또는 2축 배향 폴리프로필렌(BOPP)의 투명한 표면 필름이 사용된다. 표층은 약 5미크론~약 100미크론 이상의 두께, 및 선택적으로 약 10미크론~50미크론, 또는 약 10미크론의 두께를 가질 수 있다.
대안적인 실시형태에 있어서, 방사 에너지는 방사 에너지의 통과를 위해 적어도 부분적으로 투명한 이형 라이너를 통해 접착제층에 전달된다. 이 실시형태에 있어서, 마스크는 접착제 어셈블리의 이면측 상에 위치되고, 방사 에너지원은 어셈블리의 이면측으로부터 접착제 어셈블리로 향한다. 상기 방사 에너지는 마스크의 개구를 거쳐 투명한 이형 라이너를 통해 전달되어 접착제층의 일부분에 조사됨으로써 접착제층의 조사 영역에 있어서 점성의 감소를 초래한다. 이 실시형태에 있어서, 표층은 방사 에너지에 대해 적어도 부분적으로 투명하거나 불투명할 수 있다. 표층이 적어도 부분적으로 방사 에너지에 대해 투명하면, 어셈블리의 전면측에 위치된 마스크를 이용하여 이형 라이너 및 표층 양쪽을 통해 방사 에너지를 전달함으로써 접착제층의 접착성이 감소될 수 있다. 어셈블리의 전면측의 마스크는 어셈블리의 이면측의 마스크와 동일한 설계를 가질 수 있으므로, 어셈블리의 이면측의 마스크에 의해 차단되는 바와 마찬가지로 접착제층의 동일 부분이 방사 에너지에 노출되는 것을 차단한다.
접착제층
본 발명에 따라서, 프리패브리케이션된 접착제 어셈블리는 방사 에너지에 대해 감응성이고, 표층의 이면측에 위치되는 접착제층을 포함한다. 상기 접착제층은 표층, 이형 라이너, 또는 양쪽과 접촉할 수 있다. 도 1~도 3을 참조하면, 접착제층(20)은 표층(10)과 이형 라이너(30) 사이에 위치된다. 접착제층은 실질적으로 투명하여 표층(10)의 전면측(11)에 적용된 확장된 콘텐트 인디시아가 표층(10)의 이면측(12)에서 표층(10)을 거쳐 접착제층(20)을 통해 시인될 수 있다.
상기 방법은 접착제층의 조사 영역이 기재와의 감소된 접착성을 나타내도록 UV광 및/또는 전자빔("이빔"으로 지칭되는 경우가 있음)과 같은 방사 에너지를 사용하여 접착제층의 접착성을 감쇄시키거나 적어도 부분적으로 감소시키는 단계를 포함한다. 특정 실시형태에 있어서, UV 감광 접착제층은 특정 시간 동안 UV광에 노출되어 접착제의 접착성이 감소된다. 이렇게 함으로써, 어셈블리, 라벨 또는 다른 적층체의 인접 부분을 분리하는데 필요한 박리 또는 분리력의 양이 감소되어 라벨 상의 확장된 콘텐트를 드러내기 위해 기재로부터 표층의 일부분의 용이한 박리를 제공한다. 상기 방사 에너지를 프리패브리케이션된 접착제 어셈블리의 표층 또는 이형 라이너 중 어느 하나 또는 양쪽을 통해 전달함으로써, 접착제층의 선택 부분에 있어서의 접착성이 감소될 수 있다.
또한, 본 발명은 방사 에너지, 특히 UV 감광 접착제 조성물에 감응성인 특정 접착제 조성물을 제공한다. 상기 접착제는 UV 감광 감압 접착제(PSA)를 제공하기 위해 본원에 기재된 바와 같은 특정의 관능화된 폴리머를 사용할 수 있다
UV 광원은 고압, 중압 및 저압 수은 램프를 포함하고, 선택적으로 방출 스펙트럼을 조정하기 위해 첨가제가 도핑되어 있고, LED는 200~400nm 범위에서 방출된다. 또한, 다른 UV 광원도 적합하다. 방사 에너지에의 노출 정도를 설명할 때에, 용어 "선량"이 사용될 수 있다. "선량"이란 적용된 에너지의 총량을 의미한다. 자외광에 대해, 단위는 "단위면적당 에너지"의 형태이며, 예를 들면 mJ/㎠ 또는 kJ/㎡이다. 전자빔 경화에 있어서, 또한 선량은 적용된 에너지의 측정량이지만, 통상적으로 Gy로 약칭되는 "그레이"라고 불리는 질량 기준: J/kg으로 측정된다. 양쪽의 경우에 있어서, 선량은 다수의 용도에서 중요한 파라미터이다. 선량은 UV 또는 이빔원의 강도, 임의의 간섭 물질의 상대 투명도 및 샘플이 상기 에너지원에 노출되는 기간과 함수관계이다. 강도가 높을수록, 투명도가 높을수록 또는 노출 시간이 길수록 선량이 높은 것을 의미한다. 다수의 용도에 있어서, 접착제는 고정된 방사 에너지원을 지나 이동하므로, 이동 속도는 공급원 하의 시간을 결정한다. 이들 경우에 있어서, 속도가 빠를수록 낮은 선량에 대응한다. 선량이 일정하게 유지되는 경우, 에너지원의 강도 및 대응하는 시간은 선량 조건을 적용할 필요가 있지만, 이것은 전체 선량에 대해서는 미미한 영향이다. 통상, 선량은 단일 에너지원 하에 한번에 통과시켜 전체에 적용되거나, 또는 수 초 또는 분수 단위의 초로 측정된 총 노출 시간으로 통과하는 일련의 에너지원에 의해 연속적으로 적용된다. 그러나, 각각의 노출 동안의 강도가 특정 임계값을 초과하는 한, 원칙적으로 선량은 수 분 또는 수 시간으로 분리된 복수의 노출로 적용될 수 있다.
UV 노출 선량은 EIT LLC사의 UV Power Puck II와 같은 선량계를 사용하여 측정될 수 있다. 상기 선량계의 센서는 접착제층에 실질적으로 전달되는 UV 선량을 정확히 측정하도록 적어도 일부분이 투명층인 샘플로 덮여 있어야 한다. 상기 방법으로 측정하는 경우, 바람직한 선량은 하나 이상의 광개시제에 적합한 UV 파장 범위에 있어서 적어도 500mJ/㎠이다. 보다 바람직하게는 적어도 250mJ/㎠이고, 가장 바람직하게는 적어도 150mJ/㎠이다.
도 1~도 3을 참조하면, 접착제층(20)의 일부분(21)은 방사 에너지에 대해 실질적으로 불투명한 마스크(40)에 의해 덮여 있으므로, 마스크(40)에 의해 덮인 부분(21)은 방사 에너지에 노출되지 않는다. 비조사 영역(21)은 원래의 접착성을 유지하므로, 표층을 베이스층, 패키지, 용기, 또는 제품과 같은 기재에 견고하게 점착(예를 들면, 영구적인 점착 결합에 의해)하기 위한 힌지의 형태로 사용될 수 있다. 마스크(40)에 있어서의 개구(41)는 방사 에너지를 접착제층(20)의 다른 부분(22)에 조사시킨다. 접착제층(20)의 조사 영역(22)은 기재와의 접착성이 감소되며, 이것은 조사 영역(22)을 포함하는 표층(10)의 일부분을 기재로부터 잡아당겨 표층(10)의 이면측(12)이 보이고, 투명의 표층(10)을 통해 확장된 콘텐트가 보이게 한다.
접착제층(20)의 조사 영역(22)은 확장된 콘텐트 인디시아를 포함하는 표층(10)의 부분에 대응할 수 있다. 환언하면, 확장된 콘텐트 인디시아는 접착제층(20)의 조사 영역(22)을 포함할 수 있는 표층의 부분에 적용된다. 이 방법으로, 확장된 콘텐트 인디시아를 포함하는 표층의 부분은 기재로부터 쉽게 잡아당겨져서 확장된 콘텐트를 드러낼 수 있다. 접착제층의 비조사 영역은 기재와 보다 강한 결합, 예를 들면 영구 결합을 형성할 수 있어 기재로부터 표층을 완전히 제거하는 것이 어려워진다.
다수의 실시형태에 있어서, 접착제층에 있어서의 접착제 조성물은 UV 조사에 대한 노출 시 접착성이 감소되는 UV 감광 접착제이다. 본 발명은 전자빔과 같은 다른 형태의 방사 에너지에 대한 노출 시 접착성이 감소되는 접착제 조성물을 포함한다.
특정 실시형태에 있어서, 본 발명은 건조 및 필름 형성 후에 선택적으로 조정될 수 있는 특성을 갖는 에멀전 감압 접착제 조성물을 제공한다. 본원에 기재된 바와 같이, 통상적으로 이러한 조정은 UV광 또는 전자빔과 같은 방사선에의 노출에 의해 행해진다. 본 발명의 다수의 실시형태에 있어서, 접착성의 감소는 폴리머를 가교결합시키는 프리 라디칼 중합에 의해 달성된다. 이것은 접착제의 겔 함유량을 증가시켜 접착성을 감소시키는 효과를 갖는다.
상기 접착제 조성물은 일반적으로 에멀전 입자를 포함한다. 본 발명의 접착제의 폴리머는 적합한 촉매의 존재 하에 카르복실산 관능성 모노머를 포함하는 에멀전 폴리머를 에폭시기를 포함하는 에틸렌성 불포화 모노머로 처리함으로써 제조된다.
적합한 에멀전 폴리머는 유화 중합, 다단계 에멀전 중합, 미니-에멀전 중합 또는 기존 폴리머의 물로의 분산과 같은 당업계에 공지된 다수의 상이한 공정을 통해 제조될 수 있다.
본 발명에 적합한 에멀전은 50nm~1,000nm의 입자 크기를 가질 수 있다. 특정 실시형태에 있어서, 입자 크기는 75~700nm이다. 그리고, 또 다른 실시형태에 있어서, 입자 크기는 200~500nm이다.
본 발명에 적합한 에멀전은 경화 전에 의도된 사용 온도에서 감압 접착제 거동을 나타내어야 한다. 상기 감압 접착제는 일반적으로 의도된 사용 온도에서 영구적인 점성을 나타내는 물질로서 규정된다. 상기 감압 접착제는 높은 레벨의 점성과 적용되는 표면에 빠르게 습윤되는 기능을 결합시킨 엘라스토머 물질의 필름 형성으로부터 유래된다. 상기 감압 접착제는 유동 특성의 결과로서 낮은 압력에서 중간 압력으로 빠른 결합을 형성한다. 또한, 감압 접착제는 임의의 잔류물을 남기지 않고 매끄러운 표면으로부터 취급 및 제거될 수 있도록 충분한 응집력 및 탄성을 나타낸다.
본 발명에 적합한 폴리머는 의도된 적용 온도에서 감압 접착제의 거동을 일으키는 유리 전이 온도를 가질 수 있다. 예를 들면, 모노머 선택 및/또는 코폴리머에 있어서의 모노머의 비율에 의해 유리 전이 온도를 제어하는 것은 당업계에 잘 알려져 있다.
본 발명에 적합한 카르복실산 모노머는 아크릴산, 메타크릴산, 이타콘산, 시트라콘산, 아크릴옥시프로피온산, 말레산, 메타크릴옥시이소프로필산 프탈레이트, 메타크릴옥시에틸산 프탈레이트, 아크릴옥시이소프로필산 프탈레이트, 및 아크릴옥시에틸산 프탈레이트를 포함한다. 카르복실산 모노머의 조합이 사용될 수 있다. 카르복실산 모노머의 적합한 양은 전체 모노머에 대하여 1~20%의 범위이다. 특정 실시형태에 있어서, 카르복실산 모노머의 양은 2~12%의 범위이다. 특정 실시형태에 있어서, 카르복실산 모노머의 양은 3~10%의 범위 내이다. 또한, 말레산 무수물과 같은 무수물 모노머 또는 메틸아크릴레이트와 같은 모노머를 함유하는 용이하게 가수분해되는 에스테르 등의 카르복실산기를 함유하도록 전환될 수 있는 모노머가 고려된다.
본 발명에 적합한 에폭시기를 함유하는 에틸렌성 불포화 모노머는 글리시딜 메타크릴레이트, 글리시딜 아크릴레이트, 아크릴 에폭시화 대두유, 알릴 글리시딜 에테르 및 3,4-에폭시시클로헥실 메틸 메타크릴레이트를 포함한다. 에폭시 관능성 모노머의 조합이 사용될 수 있다. 적합한 양은 카복실산 모노머의 각 당량에 대해 에폭시 0.05~1당량의 범위이다. 특정 실시형태에 있어서, 에폭시 관능성 모노머의 양은 0.1~0.8당량이다. 또 다른 실시형태에 있어서, 에폭시 관능성 모노머의 양은 0.2~0.7당량이다.
적합한 촉매는 테트라부틸 암모늄 히드록시드, 메틸 트리부틸 암모늄 히드록시드, 암모늄 히드록시드, 테트라부틸 암모늄 클로라이드, 메틸트리부틸 암모늄 클로라이드, 트리페닐 포스핀, 및 크로뮴 아세테이트를 포함한다. 에폭시 및 카르복실산을 반응시키기에 적합한 다른 촉매가 더 사용될 수 있으며, 촉매의 조합물이 사용될 수 있다.
에틸렌성 불포화 에폭시 관능성 모노머의 중합 또는 얻어진 관능화된 라텍스의 조기 경화를 방지하기 위한 억제제를 첨가하는 것이 바람직할 수 있다. 적합한 억제제는 하이드로퀴논, 메톡시하이드로퀴논, 부틸화 하이드록시 톨루엔, 페노티아진, TEMPO 및 4-히드록시 TEMPO("4HT"로도 알려져 있음)를 포함한다. 억제제의 조합물이 사용될 수 있다. 적합한 억제제 레벨은 10~3,000ppm이다. 특정 실시형태에 있어서, 억제제의 농도는 20~2,000이다. 특정 실시형태에 있어서, 억제제의 농도는 50~1,000ppm이다.
본 발명의 폴리머는 당업자에게 공지된 방법을 사용하여 프리 라디칼 중합에 의해 경화될 수 있다. 적합한 방법은 서멀 프리 라디칼 개시제의 존재 하에 가열하는 것, 광개시제의 존재 하에 전자기 방사선 예를 들면 자외선에 노출시키는 것, 또는 전자빔 또는 감마 방사선에의 노출을 포함한다. 특정 실시형태에 있어서, 폴리머는 자외선 또는 전자빔에의 노출에 의해 경화된다.
본 발명에 사용되는 적합한 광개시제는 벤조페논 및 벤조페논 유도체, 이소프로필 티옥산톤 및 클로로티옥산톤 등의 티옥산톤 및 티옥산톤 유도체, 2,4,6-트리메틸벤조일디페닐포스핀 옥시드 및 페닐 비스(2,4,6-트리메틸벤조일)-포스핀 옥시드 등의 아릴 포스핀 옥시드, 벤조인 및 벤조인 유도체, Irgacure 651 등의 벤질 케탈, Irgacure 184, Irgacure 369 등의 아세토페논 및 아세토페논 유도체를 포함한다.
특정 용도에 있어서, 예를 들면 식품으로 추출되는 임의의 물질을 최소화하기 위해 충분히 높은 분자량을 갖는 "중합성" 광개시제를 사용하는 것이 바람직할 수 있다. 적합한 중합성 광개시제는 Lamberti사제의 Esacure One, Rahn사제의 Genopol TX-1, Genopol AB-2, Genopol BP-2, 및 IGM Resin사제의 Omnipol BP, Omnipol SZ, 및 Omnipol TX를 포함한다.
또한, 당업자에게 공지된 다른 광개시제도 적합하다. 또한, 광개시제의 혼합물을 사용하는 것도 고려된다.
본 발명은 에멀전 감압 접착제와 관련하여 설명되었지만, 특정 용도에 있어서 적합한 경화 특성을 갖는 핫멜트 감압 접착제를 사용할 수 있음이 고려된다. 또한, 용액 폴리머, 즉 용액 폴리머 감압 접착제에 기초한 감압 접착제가 본 발명에 따라 사용될 수 있음이 고려된다.
특정 용도에 있어서, 태양광 등의 주변의 UV광으로부터 상기 시스템, 물품 및/또는 접착제 조성물을 보호해야 하거나 적어도 보호하는 것이 바람직하다. 그러나, 주변의 UV의 강도는 UV 공정에서 일반적으로 사용되는 것보다 매우 낮다. 두 가지의 요소가 이러한 약한 노출로 인한 의도하지 않은 점성의 감소를 보호한다. 하나의 요소는 산소가 점성 감소의 화학반응을 억제한다는 것이다. 대기는 특정 제한 광 강도에 도달할 때까지 접착성의 감소를 억제하도록 충분한 산소를 함유한다. 실제로, 접착성 감소의 임계값은 많은 요소에 따라 다르지만, 태양광은 임계값보다 매우 낮다. 또 다른 요소는 낮은 레벨의 UV 노출로부터 추가적인 보호를 제공하는 처방에 첨가될 수 있는 프리 라디칼 안정제의 사용에 관한 것이다. 다수의 이러한 안정제가 당업계에 공지되어 있다. 이러한 예로는 200~2,000ppm으로 사용되는 4-히드록시 TEMPO("4HT")가 있다.
본 발명에 따라, 접착성의 감소는 방사 에너지에의 노출 이전의 접착성에 대해 특정될 수 있다. 본 발명은 1%~99%의 접착성의 감소율을 포함한다. 다수의 용도에 있어서, 적합한 접착성의 감소율은 30%보다 크다. 통상, 접착성의 감소율은 50%보다 크다. 특정 실시형태에 있어서, 접착성의 감소율은 75%보다 크다. 특정 실시형태에 있어서, 접착성의 감소율은 90%보다 크다. 이들 접착성의 감소율은 모두 방사 에너지에 노출되기 전의 대상 접착제의 초기 접착성과 관련이 있다. 최소의 접착성의 감소는 특정 용도, 사용된 페이스스톡의 강도, 및 접착제의 초기 접착성과 관련이 있다. 접착성은 다수의 상이한 테스트 또는 공정을 이용해서 정량화될 수 있다. 통상의 방법은 Pressure Sensitive Tape Council의 "Test Methods for Pressure Sensitive Adhesive Tapes", 제15판의 PSTC-101 방법이다. 통상, 상기 방법은 당업자에 의해 "박리 강도(Peel Adhesion)"로서 지칭된다.
본 발명은 라벨 적용 전, 라벨 적용 시, 라벨 적용 후, 또는 이들의 임의의 조합에서 접착제를 방사 에너지에 노출시키는 것을 포함한다. 예를 들면, 본원에 기재된 바와 같이 방사 에너지에의 충분한 양의 노출 시 접착성이 감소되거나 감쇄될 수 있는 접착제를 갖는 라벨이 기재에 적용될 수 있다. 적용 후, 확장된 콘텐트를 드러내기 위해 기재로부터 라벨의 일부분을 박리하는 것은 접착제를 방사 에너지에 노출시킴으로써 촉진될 수 있다. 이러한 노출은 라벨과 기재 사이의 경계면을 따라 표층 및/또는 이형 라이너를 통해 방사 에너지를 향하게 하거나, 그리고/또는 라벨이 부착된 기재(예를 들면, 투명한 병)를 통해, 즉 라벨의 이면측을 향해 방사 에너지를 향하게 함으로써 행해질 수 있다.
대안적으로, 종래의 접착제는 기재와의 영구 결합을 형성하여 표층의 힌지로서 사용되는 접착제층의 일부분을 규정하기 위해 사용될 수 있고, 여기서 종래의 접착제는 방사 에너지에의 노출 시 점성이 손실되지 않기 때문에 그것을 덮기 위해 마스크를 필요로 하지 않는다.
본 발명은 감소된 접착성의 하나 이상의 부분 또는 영역을 갖는 ECL의 다양한 구성을 포함하며, 본 명세서에서 설명되고 도면 등에 나타낸 특정 실시형태를 임의의 방법으로 제한하지 않음이 이해될 것이다. 또한, 다수의 실시형태에 있어서, 접착성이 변화되는 영역(들) 또는 층(들)은 프리패브리케이션된 접착제 어셈블리 내부에 위치되고, 따라서 표층 및 라이너 등의 다른 층에 의해 한정된다. 그러나, 본 발명은 하나 이상의 불투명한 층에 의해 덮여 있지 않고 노출되는 접착성 영역(들) 또는 영역(들)의 접착성을 선택적으로 감소시키는 것을 더 포함한다. 또한, 본 발명은 접착제층의 에지 영역의 접착성을 선택적으로 감소시키는 것을 더 포함한다.
이형 라이너
특정 실시형태에 따라, 그리고 도 1~도 3을 참조하면, 상기 프리패브리케이션된 접착제 물품(1)은 접착제층(20)을 덮는 이형 라이너(30)를 포함한다. 상기 이형 라이너는 접착제층과 접촉하거나 코팅 또는 그 사이에 위치되는 처리 물질을 가져도 좋다. 통상, 표층(10)의 전면측(11)에서의 확장된 콘텐트 인디시아의 적용 시를 포함하는 확장된 콘텐트 라벨의 제조 시 및 후에, 이형 라이너는 접착제층을 덮은 상태를 유지한다. 필수적인 것은 아니지만, 확장된 콘텐트 라벨의 제조 시, 이형 라이너가 선택적으로 제거될 수 있다. 확장된 콘텐트 라벨이 기재에 적용되기 전에, 이형 라이너가 확장된 콘텐트 라벨로부터 제거되어 접착제층이 노출된다.
이형 라이너는 먼지, 액체 또는 다른 원소의 노출로부터 접착제가 오염되는 것을 보호함으로써 접착제층이 주변환경에 조기 노출되는 것을 방지하는데 사용된다. 부주의한 접촉 또는 환경적 요소에의 노출은 접착제층을 오염시켜 바람직하지 않고, 다양한 기재에의 소망의 점착을 방지할 수 있다. 또한, 이형 라이너는 접착제가 공정 장비와 접촉되는 것을 보호하여 장비에 대한 접착제의 오염을 억제한다.
또한, 이형 라이너는 기재에의 적용 전에 접착제 어셈블리 및 라벨의 보다 적극적인 취급을 가능하게 한다. 예를 들면, 이형 라이너는 프린팅, 컨버팅, 패키징, 핸들링, 또는 운송 시에 어셈블리 및 라벨의 보호를 제공한다. 어셈블리 또는 라벨의 핸들링은 롤러와 같은 컨버팅 장비에 의해 어셈블리 또는 라벨을 전달하는 것, 라벨 상에 프린팅하는 것, 개별의 라벨을 롤로부터 다이 커팅하는 것, 라벨을 패키징하는 것, 및 기타 제조 공정을 포함할 수 있다. 이형 라이너는 이들 단계를 용이하게 하기 위해 접착제 어셈블리에 강성을 제공한다. 이형 라이너는 접착제층의 전부 또는 일부분을 덮어도 좋다.
사용하기 적합한 통상의 라이너 물질은, 예를 들면 슈퍼 캘린더 크래프트지, 글라신, 클레이 코트 크라프트지, 기계 마무리 크라프트지, 롤지, 2축 배향 폴리에틸렌 테레프탈레이트 필름, 폴리프로필렌 필름, 폴리에틸렌 필름, 2축 배향 폴리프로필렌 필름, 폴리에스테르, 아크릴, 나일론, 셀룰로오스 유도체, 부틸렌; 이소부틸렌; 고, 중, 저 및 선형 저밀도 폴리에틸렌; 에틸렌 비닐 아세테이트; 에틸렌 아크릴산; 에틸렌 메틸(메트)아크릴레이트; 에틸렌 부틸 아크릴레이트; 폴리프로필렌; 에틸렌/프로필렌 코폴리머; 및 내충격성 에틸렌/프로필렌 코폴리머 및 이들의 조합물을 포함한다.
이형 라이너는 이형제로서 실리콘 함유 및/또는 불소 함유 물질을 사용할 수 있다. 이형 라이너의 규소 함유 및/또는 불소 함유 구성성분은 접착제층과 접촉할 수 있다. 상기 규소 함유 및/또는 불소 함유 물질은, 확장된 콘텐트 라벨이 기재에 적용될 때에 이형 라이너를 접착제로부터 쉽게 분리시킨다. 규소 함유 및/또는 불소 함유 물질은 접착제에 강력하게 부착되지 않으므로, 접착제층의 오염을 보호함과 아울러 밑에 있는 접착제와의 이형 가능한 경계면을 제공한다.
이형 라이너는 약 5미크론~약 100미크론 이상의 두께, 및 선택적으로 약 10~50미크론, 또는 약 10미크론의 두께를 가질 수 있다.
본 명세서에서 설명된 바와 같이, 몇몇 실시형태에 있어서, 마스크는 접착제 어셈블리의 전면측에 위치되고, 방사 에너지는 실질적으로 투명한 표층을 통해 접착제층으로 향한다. 이들 실시형태에 있어서, 이형 라이너는 방사 에너지에 대해 실질적으로 불투명하고, 예를 들면 실질적으로 불투명성이다. 이형 라이너로서 사용되는 실질적으로 불투명성의 물질의 비제한적인 예는 종이, 폴리머 필름, 공동화된 BOPP 등의 공동화된 필름, 금속 코팅 및 포일, 및 분산된 충전제, 잉크, 페인트, 또는 안료를 갖는 종이 또는 폴리머 필름을 포함한다.
도 14에 도시된 또 다른 실시형태에 있어서, 이형 라이너(30)는 방사 에너지에 대해 실질적으로 투명할 수 있고, 여기서 상기 마스크(40)는 접착제 어셈블리(1)의 이면측(3)에 위치되고, 방사 에너지가 마스크(40)의 개구(41)를 거쳐 이형 라이너(30)를 통해 접착제층(20)으로 향함으로써 접착제층(20)의 조사 영역(22)과 비조사 영역(21)을 규정한다. 이 실시형태에 있어서, 이형 라이너는 접착제층의 일부분을 방사 에너지로 조사하기 위해 방사 에너지에 대해 실질적으로 투명할 수 있다.
이형 라이너가 방사 에너지에 대해 실질적으로 투명한 실시형태에 있어서, 광투과성 폴리머 필름 물질의 비제한적인 예는 셀룰로오스 아세테이트 부티레이트, 셀룰로오스 아세테이트 프로피오네이트, 셀룰로오스 트리아세테이트, 폴리에테르 술폰, 폴리메틸 메타크릴레이트, 폴리우레탄, 폴리에스테르, 폴리카보네이트, 폴리비닐 클로라이드, 신디오택틱 폴리스티렌, 환상 올레핀 코폴리머, 폴리에틸렌 나프탈레이트, 및 나프탈렌 디카르복실산계 코폴리머 또는 혼합물을 포함한다.
확장된 콘텐트 프린팅
다양한 실시형태에 있어서, 인디시아는 표층의 전면측에 적용되고, 표층의 이면측에서 투명의/투명한 표층을 통해 시인되도록 구성되어 라벨 상에 확장된 콘텐트를 규정한다. 확장된 콘텐트 인디시아는 글자, 숫자, 형상, 디자인, 이미지 및 다른 시각적 표현, 또는 이들의 조합 또는 부분을 포함할 수 있다. 확장된 콘텐트 인디시아는 임의의 수의 색 또는 색의 조합을 포함할 수 있다. 확장된 콘텐트 인디시아는 에그쉘, 쉰, 시어, 새틴, 이리디센트, 쉼머, 반사 및 홀로그램 효과, 또는 기타 효과, 및 이들의 조합을 가질 수 있다. 확장된 콘텐트 인디시아는 실질적으로 편평하거나, 융기되거나, 또는 3차원일 수 있다.
도 1~도 3을 참조하면, 확장 콘텐츠 인디시아는 표층(10)의 전면측(11)에 적용된다. 명료성을 위해, 확장된 콘텐트 인디시아는 첨부된 도면에 나타내지 않는다. 그러나, 도 1~도 3에 있어서 확장된 콘텐트 인디시아는 표(10)의 전면측(11)에 포함됨이 이해될 것이다. 확장된 콘텐트 인디시아는 표층(10)의 전면측(11)과 접촉되거나 이격될 수 있다. 표층(10) 및 접착제층(20)은 실질적으로 투명하여, 표층의 이면측이 노출될 때에, 예를 들면 이형 라이너가 접착제층으로부터 박리될 때에, 또는 표층이 부착되어 있던 기재로부터 박리될 때에, 확장된 콘텐트 인디시아가 표층(10)의 이면측(12)에서 시인된다.
하나의 실시형태에 있어서, 상기 확장된 콘텐트 인디시아는 리버스 프린팅을 포함하며, 상기 인디시아는 표층(10)의 이면측(12)에서의 의도된 관찰 위치에서 보았을 때, 인디시아의 배향과 리버스된 배향으로 표층(10)의 전면측(11)에 적용된다. 보다 구체적으로는, 표층의 전면측에서 보았을 때 인디시아에 의해 형성된 이미지는 확장된 콘텐트로서 표층(10)의 이면측(12)에서 보았을 때 의도된 이미지와 리버스된다. 예를 들면, 확장된 콘텐트 인디시아는 역순으로 또는 반대방향으로 프린트된 문자를 포함하여 표층의 이면측에서 보았을 때 글자가 규칙적으로 프린트된 단어로 나타내어질 수 있다.
몇몇 실시형태에 있어서, 확장된 콘텐트 인디시아는 방사 에너지가 접착제층에 도달하는 것을 실질적으로 차단한다. 이들 실시형태에 있어서, 접착제층은 확장된 콘텐트가 어셈블리에 적용되기 전에 조사될 수 있다. 다른 실시형태에 있어서, 확장된 콘텐트 인디시아는 방사 에너지가 접착제층에 도달하는 것을 실질적으로 차단하지 않는다. 따라서, 마스크의 개구를 통과하는 방사 에너지는 확장된 콘텐트 인디시아에 의해 실질적으로 차단되지 않지만, 대신에 접착제층의 조사 영역의 점성을 감소시키기 위해 확장된 콘텐트 인디시아 아래의 접착제층의 일부분에 조사된다. 하나의 양태에 있어서, 확장된 콘텐트 인디시아는 방사 에너지에 대해 실질적으로 불투명하지만, 확장된 콘텐트 인디시아가 방사 에너지가 밑에 있는 접착제층에 도달하는 것을 실질적으로 차단하지 않는 표층의 전면측의 이러한 작은 부분을 덮는다. 또 다른 양태에 있어서, 확장된 콘텐트 인디시아는 방사 에너지에 대해 실질적으로 투명하여 방사 에너지가 접착제층에 도달하는 것을 실질적으로 차단하지 않는다.
또 다른 실시형태에 있어서, 확장된 콘텐트 인디시아는 접착제 어셈블리가 사전제작되기 전에 표층의 이면측에 적용된다.
확장된 콘텐트 인디시아를 형성하기 위해 사용되는 물질은 본 발명에 의해 특별히 제한되지 않으며, 비제한적인 예로서 플렉소그래픽, 로토그라비어, 스크린 인쇄, 분무, 브러싱, 오프셋, 또는 디지털 인쇄 방법에 의해 표층의 한면 또는 양면에 적용될 수 있는 안료, 염료, 잉크, 도료, 또는 다른 착색제를 포함할 수 있다.
마스크
다양한 실시형태에 있어서, 마스크가 접착제 물품과 방사 에너지원 사이에 위치된다. 방사 에너지원의 위치와 방사 에너지에 대해 투명한 접착제 어셈블리의 층의 종류에 따라, 마스크는 표층 위, 이형 라이너 위, 또는 방사 에너지원에 대하여 고정된 위치 또는 그 조합에 적용될 수 있다. 상기 마스크는 접착제층의 조사 영역이 소망의 크기 및 형상으로 제조되도록 임의의 형태를 취할 수 있다. 이와 같이, 마스크는 패턴화되거나 무작위, 반연속 또는 불연속, 또는 소망에 따라 다른 임의의 형태일 수 있다.
마스크는 방사 에너지가 접착제층의 특정 부분에 도달하는 것을 적어도 부분적으로 차단하거나 실질적으로 차단하기 위해 사용된다. 이를 달성하기 위해, 마스크는 적어도 부분적으로 불투명하거나 실질적으로 그러하고, 예를 들면 백색 또는 흑색을 포함하는 임의의 색일 수 있다. 하나의 실시형태에 있어서, 마스크는 방사 에너지에 대해 실질적으로 불투명하다.
접착성이 변화되지 않도록 의도된 영역에 있어서, 마스크는 UV광 또는 다른 방사 에너지로부터의 노출을 접착성의 감소에 대한 임계값 이하로 유지하도록 구성된다. 마스크에 의해 차단되지 않은 방사 에너지는 표층 또는 다른 투명한 층(예를 들면, 이형 라이너)을 거쳐 마스크의 개구를 통과하여 접착제층의 일부분에 접착성의 감소에 대한 임계값보다 높은 레벨로 조사된다. 본 발명에 따라, 마스크는 방사 에너지원과 접착제층 사이에 위치하고, 표층, 이형 라이너에 적용되거나 또는 접착제 어셈블리로부터 이격되어 적용될 수 있다.
하나의 실시형태에 있어서, 그리고 도 1~도 3를 참조하면, 마스크(40)는 표층(10) 상에 적용된다. 도시된 바와 같이, 마스크(40)는 방사 에너지가 접착제층(20)으로 전달될 수 있는 적어도 하나의 개구(41)를 규정하도록 표층(10)의 전면측(11)에 적용된다. 다른 실시형태에 있어서, 그리고 도 14를 참조하면, 마스크(40)는 이형 라이너(30) 상에 적용된다. 도시된 바와 같이, 마스크(40)는 방사 에너지가 접착제층(20)으로 전달될 수 있는 적어도 하나의 개구(41)를 규정하도록 어셈블리(1)의 이면측(3)에 적용된다.
또 다른 실시형태에 있어서, 마스크는 개구가 없는 실질적으로 연속적인 층을 포함하고, 방사 에너지에 대한 보다 높고 보다 낮은 투명한 부위(들)를 포함한다. 이와 같이, 보다 높은 투명한 부위는 접착제층의 그 부분의 접착성을 감소시키기 위해 보다 많은 방사 에너지가 밑에 있는 접착제층에 도달할 수 있게 하며, 반면에 보다 낮은 투명한 부위는 접착제층에 방사 에너지의 전달을 억제하거나 완전히 차단할 수 있다.
이해될 수 있는 바와 같이, 다수의 용도에 있어서, 시차 오차를 감소시키기 위해 접착제 어셈블리에 비교적 가깝게, 그리고 특정 실시형태에 있어서는 거의 인접하게 마스크를 위치시키는 것이 바람직하다. 본 발명의 특정 실시형태에 있어서, 마스크는 접착제 어셈블리와 접촉한다.
마스크를 형성하는데 사용되는 물질은 본 발명에 의해 특별히 제한되지 않고, 예를 들면 잉크 및 도료 등의 액체 물질 또는 종이, 폴리머 필름 및 금속 포일 등의 고체 물질을 포함할 수 있으며, 이는 접착성의 감소를 위한 임계값보다 낮도록 방사 에너지를 충분히 차단한다. 본 발명에 따라, 상기 마스크는 플렉소그래픽 UV 경화성 잉크, 플렉소그래픽 수성 잉크, 플렉소그래픽 용제계 잉크, 스크린 인쇄에 사용되는 잉크, 디지털 인쇄에 사용되는 잉크(즉, 잉크젯 또는 레이저젯), 그 조합, 또는 임의의 다른 유형의 잉크, 페인트 또는 코팅을 이용하여 형성될 수 있다. 마스크의 코트 중량은 마스크를 형성하기 위해 사용되는 물질의 방사 에너지에 대한 투명성/불투명성의 레벨에 따라 다르다. 마스크는 방사 에너지가 접착성의 감소를 위한 임계값 이하의 레벨로 되도록 방사 에너지를 차단하기에 충분한 코트 중량으로 적용된다. 잉크를 사용하여 마스크를 형성하는 경우, 코트 중량은 안료 로드 및 잉크 밀도에 따라 달라질 수 있다. 마스크 및 플러드코트는 동일한 물질을 포함할 수 있다.
상기 마스크는 접착제 물품(예를 들면, 도 2~도 9, 도 13 및 도 14)에 직접 적용되거나, 접착제 물품으로부터 일정한 간격을 두고 방사 에너지원에 대해 고정될 수 있다(예를 들면, 도 12).
몇몇 실시형태에 있어서, 마스크는 방사 에너지원과 접착제층 사이의 접착제 어셈블리의 전면측에 위치된다. 이들 실시형태에 있어서, 방사 에너지는 방사 에너지에 적어도 부분적으로 투명한 표층의 전면측으로 통과된다. 상기 마스크는 방사 에너지의 일부분이 접착제층에 도달하는 것을 차단한다. 마스크의 개구는 방사 에너지의 일부분이 표층을 통해 전달되어 밑에 있는 접착제층의 일부분에 조사되게 한다. 하나의 양태에 있어서, 마스크는 표층의 전면측에 직접 적용된다. 또 다른 양태에 있어서, 마스크는, 예를 들면 하나 이상의 개재층이 그 사이에 위치되거나, 또는 마스크가 접착제 어셈블리와 접촉하고 있지 않도록 표층의 전면측으로부터 이격되어 있다. 또 다른 양태에 있어서, 마스크는 표층과 접착제층 사이에 위치된다.
다른 실시형태에 있어서, 마스크는 방사 에너지원과 접착제층 사이의 접착제 어셈블리의 이면측에 위치된다. 이들 실시형태에 있어서, 방사 에너지원은 접착제 어셈블리의 이면측에 위치되고, 방사 에너지에 적어도 부분적으로 투명한 이형 라이너로 향한다. 상기 마스크는 방사 에너지의 일부분이 접착제층에 도달하는 것을 차단한다. 마스크의 개구는 방사 에너지의 일부분이 이형 라이너를 통해 전달되어 접착제층의 일부분에 조사되게 한다. 하나의 양태에 있어서, 상기 마스크는 이형 라이너에 직접 적용된다. 또 다른 양태에 있어서, 상기 마스크는 이형 라이너로부터 이격되어 있다. 또 다른 양태에 있어서, 마스크는 이형 라이너와 접착제층 사이에 위치된다.
몇몇 실시형태에 있어서, 상기 마스크는 방사 에너지가 조사되어 확장된 콘텐트 프린팅 밑에 있는 접착제층의 부분의 접착성이 감소되게 한다. 하나의 양태에 있어서, 마스크는 표층에 적용되지만 확장된 콘텐트 프린팅을 덮지 않는다. 이어서, 변성 접착제 및 확장된 콘텐트를 포함하는 표층의 부분은 확장된 콘텐트를 보기 위해 표층의 이면측을 노출시키기 위해 부착되어 있는 기재로부터 쉽게 잡아당겨질 수 있다.
또 다른 실시형태에 있어서, 상기 마스크는 확장된 콘텐트 프린팅을 적어도 부분적으로 덮을 수 있다. 이것은 확장된 콘텐트의 덮힌 부분이 투명한 병 등의 투명한 기재를 통해 보여지도록 의도되는 경우에 유리할 수 있다.
또한, 상기 마스크는 내부의 방사 에너지원을 포함하고, 외주면을 따르는 하나 이상의 개구를 규정하는 원기둥의 형태여서 상기 에너지원으로부터 원기둥의 외부로 방사 에너지가 통과되는 것을 허용 또는 허가할 수 있다. 이것은 본 명세서에 설명된 바와 같이 연속 또는 반연속 방법으로 확장된 콘텐트 라벨을 처리할 때에 유리할 수 있다. 상기 원기둥은 접착제 어셈블리와 접촉하는 외주면을 규정한다. 접착제 어셈블리와 접촉하면, 공급원으로부터의 방사 에너지가 롤러의 선택 영역을 거쳐 접착제 어셈블리를 통과함으로써 상기 접착제 어셈블리 내의 접착제의 특정 영역에 도달할 수 있다. 본 발명은 개구에 대해 다양한 패턴, 형상, 배열 및/또는 구조를 포함함이 이해될 것이다. 따라서, 본 발명의 개구는 특정 패턴으로 제한되는 것은 아니다. 본 발명의 특정 양태에 있어서, 그리고 원기둥 또는 유사한 구성요소를 이용할 때에, 원기둥의 외부면은 접착제 어셈블리 상에 반복되는 확장된 콘텐트로 레지스터 콘트롤에서 회전하도록 구동 콘트롤 또는 다른 콘트롤 공급 장치를 제공하는 것이 바람직할 수 있다. 또한, 당업계에 공지된 삽입 콘트롤이 사용될 수 있다. 통상, 본원에 설명된 실시형태는 조사된 방사 에너지의 포커싱 또는 확대를 필요로 하지 않지만, 본 발명에 있어서는 포커싱 및/또는 확대 장치가 포함된다. 롤의 지름은 특정 프린트 또는 다이 크기, 또는 라벨의 반복 횟수와 일치하도록 선택될 수 있다.
플러드코트
다양한 실시형태에 있어서, 플러드코트는 확장된 콘텐트 인디시아 상에 적용된다. 플러드코트는 라벨의 전면측에서 확장된 콘텐트 인디시아가 보이지 않도록 가리기 위해 포함되어 있다. 이러한 방법으로 확장된 콘텐트 인디시아를 숨김으로써, 확장된 콘텐트가 라벨의 전면측에서 보이는 일 없이 전면측의 인디시아를 플러드코트 상에 적용하여 라벨의 전면측에서 볼 수 있다.
상기 플러드코트는 적어도 부분적으로 불투명하거나 또는 실질적으로 그러할 수 있으며, 예를 들면 백색 또는 흑색을 포함하는 임의의 색일 수 있다. 하나의 실시형태에 있어서, 상기 플러드코트는 확장된 콘텐트를 숨기기 위해 실질적으로 불투명하고, 전면측의 인디시아가 적용될 수 있는 실질적으로 백색의 배경을 제공한다.
상기 플러드코트를 형성하기 위해 사용되는 물질은 본 발명에 의해 특별히 제한되지 않고, 예를 들면 잉크 및 페인트 등의 액체 물질, 또는 종이, 폴리머 필름 및 금속 포일 등의 고체 물질을 포함하는 상기 마스크를 형성하기 위해 사용되는 동일한 물질을 포함할 수 있다. 하나의 실시형태에 있어서, 플러드코드는 UV 경화성 잉크, 플렉소그래픽 수성 잉크, 플렉소그래픽 용제계 잉크, 또는 그 조합을 사용하여 형성된다. 상기 플러드코트의 코트 중량은 플러드코트를 형성하기 위해 사용되는 물질의 투명성/불투명성 및 라벨의 전면측에서 보이는 확장된 콘텐트가 얼마나 잘 가려지는지의 여부에 따라 달라진다. 플러드코트를 형성하기 위해 잉크를 사용하는 경우, 코트 중량은 안료 로드 및 잉크의 밀도에 따라 달라질 수 있다. 하나의 실시형태에 있어서, 마스크 및 플러드코트는 동일한 물질로 형성된다.
하나의 실시형태에 있어서, 그리고 도 4를 참조하면, 플러드코트(50)는 표층(10) 및 마스크(40)를 덮도록 적용된다. 또 다른 실시형태에 있어서, 플러드코트는 표층을 덮고 마스크를 덮지 않도록 적용된다. 상기 플러드코트는, 예를 들면 도 4에 도시된 바와 같이 표층 및/또는 마스크에 직접 적용될 수 있거나, 개재층이 플러드코트와 표층 사이에 위치되는 경우와 같이 이격될 수 있다.
몇몇 실시형태에 있어서, 접착제 어셈블리의 전면측에서 보았을 때, 상기 플러드코트는 확장된 콘텐트 인디시아를 완전히 은폐시킨다. 예를 들면, 상기 플러드코트는 실질적으로 불투명하여 확장된 콘텐트 인디시아를 완전히 덮을 수 있다.
다른 실시형태에 있어서, 접착제 어셈블리의 전면측에서 보았을 때, 상기 플러드코트는 확장된 콘텐트 인디시아를 부분적으로만 은폐할 수 있다. 예를 들면, 상기 플러드코트는 확장된 콘텐트 인디시아를 완전히 덮을 수 있지만, 완전히 불투명한 것은 아니며, 따라서 어셈블리의 전면측에서 보았을 때, 확장된 콘텐트 인디시아는 플러드코트를 통해 부분적으로 보일 수 있다. 대안적으로, 상기 플러드코트는 확장된 콘텐트 인디시아를 모두 덮지 않을 수 있으며, 따라서 덮여지지 않은 확장된 콘텐트 인디시아는 상기 어셈블리의 전면측에서 보일 수 있다.
전면측 프린팅
다양한 실시형태에 있어서, 인디시아는 플러드코트 상에 적용되고, 어셈블리 또는 라벨의 전면측에서 시인되어 전면측 인디시아를 규정한다. 전면측 인디시아는 글자, 숫자, 형상, 설계, 이미지 및 다른 시각적 표현, 또는 이들의 조합 또는 부분을 포함할 수 있다. 전면측 인디시아는 임의의 수의 색 또는 색의 조합을 포함할 수 있다. 전면측 인디시아는 에그쉘, 쉰, 시어, 새틴, 이리디센트, 쉼머, 반사 및 홀로그램 효과, 또는 이들의 조합을 가질 수 있다. 전면측 인디시아는 실질적으로 편평하거나, 융기되거나, 또는 3차원일 수 있다.
확장된 콘텐트 인디시아가 라벨의 전면측에서 적어도 부분적으로 보여질 수 있는 실시형태에 있어서, 전면측 인디시아는 응집된 층상 설계, 구성, 또는 메시지를 제공하기 위해 확장된 콘텐트 인디시아에 레지스터링될 수 있다.
전면측 인디시아를 형성하기 위해 사용되는 물질은 본 발명에 의해 특별히 제한되지 않으며, 비제한적인 예로서 플렉소그래픽, 로토그라비어, 스크린 인쇄, 분무, 브러싱, 오프셋, 또는 디지털 인쇄 방법에 의해 적용될 수 있는 안료, 염료, 잉크, 도료, 또는 다른 착색제를 포함할 수 있다.
다른 임의의 층
본 발명의 어셈블리 및 라벨은 특정의 의도된 용도를 위해 다른 층 또는 처리제를 포함할 수 있고, 프린팅 수용층 또는 처리제, 소수성층 또는 처리제, 추가의 필름층 등을 포함할 수 있다. 그 예로는 프라이밍, 인쇄, 소수성 처리제 등이 포함된다. 다른 추가의 층(예를 들면, 확장된 콘텐트 라벨의 베이스층), 코팅제, 또는 처리제는 소망에 따라 라벨에 포함되거나, 층, 프린팅, 인디시아 및 본원에 기재된 코팅 사이 또는 주위에 배치될 수 있다.
예를 들면, 접착제층의 비활성화 부분 또는 영역(즉, 감소된 접착성)을 나타내기 위해 시각적 표시 장치가 층상 어셈블리에 포함되거나 그렇지 않으면 통합될 수 있다. 예를 들면, 색 표시기가 비활성화되어 있거나 비활성화될 접착제층의 부분 또는 영역을 나타내기 위해 사용될 수 있다. 하나 이상의 색 표시기는 시각적인 표시를 제공하는 안료, 염료, 잉크 등의 형태일 수 있다. 색 표시기는 접착제 어셈블리 또는 라벨의 특정 층, 부분 또는 구성요소에 통합될 수 있다. 대안적으로, 또는 추가적으로, 하나 이상의 색 표시기가 접착제 어셈블리 또는 라벨의 선택 영역 또는 부분 상에 적용되거나 그렇지 않으면 증착될 수 있다. 본 발명은 기재된 바와 같은 색 표시기에 제한되지 않음이 이해될 것이다. 대신에, 본 발명은 비활성화 부분 또는 영역을 나타내기 위한 임의의 적절한 수단을 포함한다.
방법
본 발명은 미리 제조된 접착제 어셈블리로부터 확장된 콘텐트 라벨을 제조하는 다양한 방법, 및 상기 확장된 콘텐트 라벨을 사용하는 관련 방법을 포함한다. 상기 방법은 실질적으로 투명한 표층 및 방사 에너지 감응성 접착제층을 포함하는 미리 제조된 접착제 물품의 사용을 포함한다. 상기 방법은 접착제의 하나 이상의 부분, 특히 접착제 어셈블리에 있어서의 접착제층의 부분(들)의 접착성을 선택적으로 감소시키는 것을 포함한다. 특정 실시형태에 있어서, 본 발명의 방법은 방사 에너지가 선택적으로 접착제층의 하나 이상의 영역에 조사되거나, 감소된 접착성 영역의 형성을 적어도 용이하게 하도록 마스크를 사용한다. 확장된 콘텐트 인디시아 상에 플러드 코트가 적용되고, 상기 플러드코트 상에 전면측 인디시아가 적용된다.
본 명세서에서 설명된 바와 같이, 확장된 콘텐트 라벨을 제조하기 위한 종래의 방법은 이형 라이너로부터의 불투명한 표층의 박리를 필요로 한다. 이러한 박리는 확장된 콘텐트 인디시아를 적용하기 위해 표층의 이면측을 노출시킨다. 종래의 방법은 박리 및 재적층을 필요로 하여 바람직하지 않다. 대조적으로, 본 발명의 방법은 접착제 어셈블리에 확장된 콘텐트를 제공하기 위해 박리를 필요로 하지 않으며, 따라서 박리 및 재적층을 위해 별도의 장비를 필요로 하지 않는다.
도 1~도 5, 도 10~도 12 및 도 14는 프리패브리케이션된 접착제 어셈블리로부터 제조되는 확장된 콘텐트 라벨을 제조하는 방법 및 시스템, 및 사용 방법을 개략적으로 나타낸다.
확장된 콘텐트 라벨을 제조하는 하나의 방법은 도 1~도 5에 개략적으로 도시되어 있으며, 프리패브리케이션된 접착제 어셈블리(1)를 제공하는 단계를 포함한다. 도시된 바와 같이, 접착제 어셈블리(1)는 표층(10), 이형 라이너(30), 및 상기 표층을 상기 이형 라이너에 적층하는 접착제층(20)을 포함한다. 상기 접착제 어셈블리(1)는 전면측(2)과 반대방향을 향하는 이면측(3)을 규정한다. 상기 표층(10)은 접착제 어셈블리(1)의 전면측(2)을 향하고 있고, 반면에 이형 라이너(30)는 접착제 어셈블리(1)의 이면측(3)을 향하고 있다.
표층(10)은 전면측(11) 및 반대방향을 향하는 이면측(12)을 규정한다. 상기 전면측(11)은 접착제 어셈블리(1)의 전면측(2)을 향하고 있고, 반면에 이면측(12)은 접착제 어셈블리(1)의 이면측(3)을 향하고 있다. 상기 표층(10)의 전면측(11)은 접착제 어셈블리(1)의 전면측(2)을 규정할 수 있다. 상기 적층 접착제 어셈블리(1)는 상기 접착제 어셈블리 상의 프린팅과 다른 시간 및/또는 위치에서 프린팅 작업 전에 제조되거나, 프린팅 위치에서 프린팅 공정과 동시에 제조될 수 있다.
상기 방법은 접착제 물품을 덮기 위해 마스크를 위치시키는 단계를 더 포함한다. 도 2~도 5에 도시된 바와 같은 하나의 실시형태에 있어서, 마스크는 표층(10)의 전면측(11)에 적용되어 마스크(40)에 있어서 마스킹된 부분 및 개구(41)를 규정한다. 이해될 수 있는 바와 같이, 마스크(40)에 의해 덮이지 않은 표층(10)의 전면측(11)의 부분은 방사 에너지가 표층(10)을 거쳐 밑에 있는 접착제층(20)으로 통과되게 하는 개구를 규정할 수 있다.
방사 에너지가 마스크(40)의 개구(41)를 통과하여 접착제층(20)의 부분(22)에 조사되도록 접착제 어셈블리(1)에 방사 에너지가 조사된다. 방사 에너지원은 접착제 어셈블리(1)의 전면측(2)에 위치되어 마스크(40)가 방사 에너지의 일부분이 접착제층(20)에 도달하는 것을 차단할 수 있게 한다. 마스크에 의해 차단되지 않은 방사 에너지는 투명의 표층(10)을 통과하여 접착제층(20)의 부분(22)에 조사된다. 본 명세서에서 설명된 바와 같이, 접착제층(20)의 조사 영역(22)은 조사 전의 접착제층(20)의 접착성과 비교해서 접착성이 감소된다. 추가적으로, 접착제층(20)의 비조사 영역(21)은 조사 전의 접착제층(20)의 점성과 비교해서 접착성을 실질적으로 유지한다. 접착제층(20)의 조사 영역(22)은 감소되거나 또는 완전하게 감쇄된 접착성을 가질 수 있다. 마스크(40)는 방사 에너지가 접착제층의 비조사 영역(22)의 접착성을 감소시키는 것을 실질적으로 차단하도록 구성된다.
도 2~도 5에 있어서 마스크(40)가 표층(10)에 직접 적용되는 것으로 도시되어 있지만, 다른 실시형태에 있어서 접착제 어셈블리(1)의 다른 영역에 적용될 수 있거나, 접착제 어셈블리(1)로부터 이격될 수 있음이 이해될 것이다. 마스크가 표층의 전면측 이외에 적용되는 실시형태인 경우라도, 마스크는 원래의 접착성을 유지하고자 하는 접착제층의 부분에 방사 에너지가 도달하는 것을 차단할 것이다. 특정 실시형태에 있어서, 이형 라이너는 투명하고, 마스크는 접착제 어셈블리의 이면측, 예를 들면 이형 라이너에 적용된다. 상기 방사 에너지는 접착제 어셈블리의 이면측으로부터 마스크의 개구를 거쳐 접착제층에 조사되어 접착제층의 조사 영역과 비조사 영역을 형성한다. 이것은 예를 들면 도 14에서 도시되고, 여기서 마스크(40)는 이형 라이너(30)에 적용되어 마스크(40) 내에 마스킹된 부분 및 개구(41)를 규정한다. 이해될 수 있는 바와 같이, 마스크(40)에 의해 덮이지 않은 이형 라이너(30)의 부분은 방사선 에너지가 이형 라이너(30)를 거쳐 접착제층(20)으로 통과되는 개구(41)를 규정할 수 있다.
대안적인 실시형태에 있어서, 마스크(40)는 접착제 어셈블리(1)로부터 이격될 수 있고, 여기서 마스크는 접착제 어셈블리에 직접 적용되지 않지만 접착제 어셈블리로부터 일정 거리를 유지한다. 이 실시형태에 있어서, 마스크는 대응하는 인접 표층(10) 또는 이형 라이너(30)가 방사 에너지에 대해 적어도 부분적으로 투명한 한 접착제 어셈블리의 전면측(2) 또는 이면측(3) 상에 위치될 수 있다. 이 구성은, 예를 들면 도 12에 도시되며, 이는 본원에 보다 상세하게 설명된다. 상기 마스크는 임의의 바람직한 방법으로 구성될 수 있다. 예를 들면, 마스크는 프레임, 라인, 다양한 형상, 또는 임의의 소망의 종류의 패턴을 구성할 수 있다.
몇몇 실시형태에 있어서, 상기 방법은 확장된 콘텐트 인디시아 상기 어셈블리의 전면측(2)에서 시인되지 않도록 상기 확장된 콘텐트 인디시아를 덮기 위해 플러드코트를 적용하는 단계를 포함한다. 이것은 예를 들면 도 4에 도시되어 있고, 여기서 플러드코트(50)는 표층(10)의 전면측(11)에 적용된다. 도시된 바와 같이, 상기 플러드코트(50)는 표층(10)의 전면측(11) 및 마스크(40)를 덮는다. 하나의 실시형태에 있어서, 플러드코트는 마스크를 덮지 않는다.
몇몇 실시형태에 있어서, 상기 플러드코트는 실질적으로 불투명하여 상기 확장된 콘텐트 인디시아가 접착제 어셈블리(1)의 전면측(2)에서 시인되는 것을 실질적으로 방지한다. 이와 같이, 확장된 콘텐트 인디시아는 표층(10)을 이형 라이너(30) 또는 그것이 부착되어 있는 기재로부터 박리할 때에 표층(10)의 이면측(12)으로부터만 시인될 수 있다. 플러드코트는 마스크(40)와 동일한 조성을 포함할 수 있으며, 따라서 마스크(40)의 개구(41) 상에만 적용될 수 있다. 이 실시형태에 있어서, 플러드코트 및 마스크는 함께 전면측 프린팅이 적용될 수 있는 불투명한 층을 제공한다.
몇몇 실시형태에 있어서, 상기 방법은 전면측 인디시아가 접착제 어셈블리(1)의 전면측(2)에서 보여지거나 시인될 수 있도록 전면측 인디시아를 플러드코트 상에 적용하는 단계를 포함한다. 이해될 수 있는 바와 같이, 전면측 인디시아는 확장된 콘텐트 라벨이 기재에 적용될 때에 시인되고, 반면에 이면측 인디시아 또는 확장된 콘텐트 인디시아는 접착제 어셈블리의 전면측(2)에서 시인되지 않는다.
마스크(40), 감소된 접착성의 영역(22)을 갖는 접착제층(20), 확장된 콘텐트 인디시아, 플러드코트(50), 및 전면측 인디시아를 포함하는 접착제 어셈블리는 함께 본 발명에 따른 확장된 콘텐트 라벨(4)을 규정한다. 이해될 수 있는 바와 같이, 다른 또는 상이한 층들은 소망에 따라 확장된 콘텐트 라벨(4)에 포함될 수 있다.
몇몇 실시형태에 있어서, 확장된 콘텐트 라벨은 연속 또는 반연속 방법으로 제조되고, 따라서 상기 방법은 각각의 확장된 콘텐트 라벨을 형성하기 위해 라벨 물질의 롤을 다이 커팅하는 단계를 포함할 수 있다. 개별의 라벨을 다이 커팅하는 단계는, 예를 들면 도 4에 개략적으로 도시되어 있으며, 여기서 어셈블리는 점선(60)을 따라 다이 커팅되어 개별의 라벨(4)을 제조하고, 그 중 하나는 예를 들면 도 5에 도시되어 있다. 이해될 수 있는 바와 같이, 다이 커팅은 어셈블리 상에 컷, 스코어 또는 천공을 적용하기 위해 사용될 수 있고, 따라서 어셈블리의 모든 층을 관통할 수 없지만 어셈블리의 모든 층보다 적게 커팅될 수 있다. 예를 들면, 다이 커팅은 이형 라이너(30)를 제외하고 어셈블리(1)의 모든 층을 커팅할 수 있다.
본 발명은 확장된 콘텐트 라벨을 사용하는 방법을 더 포함한다. 예를 들면, 도 5~도 7에 도시된 하나의 예시적인 실시형태에 있어서, 확장된 콘텐트 라벨(4)은 접착제층(30)을 덮는 이형 라이너(30)를 포함한다. 상기 접착제층(20)을 노출시키기 위해 이형 라이너(30)가 라벨(4)로부터 제거된다. 이어서, 확장된 콘텐트 라벨(4)은 도 6에 도시된 바와 같이 접착제층(20)을 표면(81)과 접촉시킴으로써 기재(80)의 표면(81)에 부착된다. 접착제층(20)과 기재(80)의 표면(81) 사이에 점착 결합이 형성된다.
방사 에너지에 노출되기 전의 원래의 접착성을 유지하는 접착제층(2)의 비조사 영역(21)은 기재(80)와 영구 결합을 형성할 수 있고, 표층(10)에 대한 힌지의 한 형태로서 작용할 수 있다. 방사 에너지에의 노출의 결과로서 접착성이 감소된 접착제층(20)의 조사 영역(22)은 기재(80)와 제거 가능한 결합을 형성한다. 이와 관련하여, 접착제층의 조사 영역(22)을 포함하는 표층(10)의 부분은 기재와의 접착성이 감소되고, 확장된 콘텐트 라벨(4)의 이면측(3)을 노출시키기 위해 도 7에 도시된 바와 같이 기재(80)로부터 잡아당겨지거나 박리될 수 있다. 이것이 완료되면, 표층(10)의 전면측(11) 상에 적용된 확장된 콘텐트 인디시아는 투명의 표층(10) 및 투명의 접착제층(20)을 통해 확장된 콘텐트 라벨(4)의 이면측(3)에서 보여질 수 있다. 이 실시형태에 있어서, 투명의 표층 및 접착제층은 확장된 콘텐트 인디시아가 확장된 콘텐트 라벨(4)의 이면측(3)로부터 보여지게 한다.
이해될 수 있는 바와 같이, 상기 기재(80)는 확장된 콘텐트 라벨의 베이스층, 제품 또는 제품의 패키지, 또는 예를 들면 병 또는 다른 용기 등의 소망하는 바와 같은 다른 기재를 포함할 수 있다. 도 8 및 도 9는 또 다른 실시형태를 도시하며, 여기서 확장된 콘텐트 라벨(4B)은 상기 확장된 콘텐트 라벨(4B)을 기재(80)의 표면(81)에 부착하는 베이스층(13) 및 베이스 접착제층(24)을 더 포함한다. 상기 베이스 접착제층이 부착되는 기재는 패키지 또는 제품, 또는 병 또는 다른 용기와 같은 소망하는 바와 같은 다른 유형의 기재를 포함할 수 있다. 상기 베이스 접착제(24)는 방사 에너지에 감응성이 있거나 없을 수 있고, 기재(80)와 영구 결합을 형성할 수 있다. 기재에 적용하기 전에, 상기 베이스 접착제(24)를 덮는 이형 라이너를 제거하여 베이스 접착제(24)를 노출시킬 수 있다. 이 실시형태에 있어서, 상기 확장된 콘텐트 라벨(4B)의 다른 구성성분은 도 1~도 5와 관련하여 이전에 설명된 것과 마찬가지일 수 있다. 특히, 확장된 콘텐트 라벨(4B)은 마스크의 개구(41) 밑에 있고 접착성이 감소되는 조사 영역(22), 및 마스크(40) 밑에 있고 원래의 접착성을 유지하는 비조사 영역(21)을 포함하는 접착제층(20)을 갖는 표층(10)을 포함할 수 있다. 플러드코트(50)는 표층(10)의 전면측(11) 상에 확장된 콘텐트 인디시아를 덮기 위해 적용될 수 있다. 전면측 인디시아는 확장된 콘텐트 라벨(4B)의 전면측(2B)에서 시인되도록 플러드코트(50) 상에 적용될 수 있다.
접착제층(20)의 비조사 영역(21)은 표층(10)과 베이스층(13) 사이에 영구 결합을 형성할 수 있다. 접착제층(20)의 조사 영역(22)은 표층(10)과 베이스층(13) 사이에 제거 가능한 결합을 형성하므로 표층(10)의 이면측(12)을 노출시키기 위해 도 9에 도시된 바와 같이 조사 영역(22)을 포함하는 표층(10)의 일부분이 베이스층(13)으로부터 잡아당겨질 수 있다. 이것이 완료되면, 표층(10)의 전면측(11)에 원래 적용된 확장된 콘텐트 인디시아가 표층(10) 및 접착제층(20)을 통해 시인된다. 또한, 이 실시형태에 있어서, 접착제층(20)과 대향하는 베이스층(13)의 측면 상의 베이스층(13) 상에 인디시아 또는 프린팅이 더 적용될 수 있음이 이해될 것이다. 또한, 베이스층(13)에 적용된 이 추가의 인디시아는 베이스층(13)으로부터 표층(10)을 잡아당길 때에 시인되어 라벨(4B)에의 추가의 확장된 콘텐트를 제공할 수 있다.
예를 들면, 도 13에 도시된 또 다른 실시형태에 있어서, 확장된 콘텐트 라벨(4C)은 제 1 면(2C) 및 제 2 면(3C)을 규정하고, 감소된 접착성 영역(23)을 포함하는 접착제층(20), 감쇄된 접착성의 영역(22), 및 원래의 접착성을 유지하는 영역(21)을 포함한다. 이것은 2개의 상이한 마스크(40, 42)를 사용하여 확장된 콘텐트 라벨을 제조함으로써 제공될 수 있다. 예를 들면, 제 1 마스크(40)는 방사 에너지가 접착제층(20)의 밑에 있는 부분에 조사되는 것을 실질적으로 차단하는데 사용될 수 있고, 반면에 제 2 마스크(42)는 방사 에너지를 부분적으로 차단(즉, 부분적으로 전달)한다. 이것에 의해, 제 1 마스크(40) 및 제 2 마스크(42)는 방사 에너지가 완전히 투과될 수 있는 개구(41)를 규정한다.
방사 에너지가 확장된 콘텐트 라벨(4C)을 통과할 때에, 방사 에너지는 제 1 마스크(40)에 의해 실질적으로 차단되고, 제 2 마스크(42)에 의해 부분적으로 차단되며, 개구(41)를 통해 전달될 수 있다. 이와 같이, 제 1 마스크(40) 밑에 있는 접착제층의 비조사 영역(21)은 원래의 접착성을 유지할 수 있고, 개구(41) 밑에 있는 제 1 조사 영역(22)은 완전히 감쇄되어 접착성을 갖지 않을 수 있고, 제 2 마스크(42) 밑에 있는 제 2 조사 영역(23)은 제 2 마스크(42)가 방사 에너지의 일부분을 통과시키기 때문에 감소된 접착성을 가질 수 있다. 이어서, 라벨(4C)은 접착제층(20)을 노출시키기 위해 이형 라이너(30)를 제거하고, 상기 접착제층을 기재에 접촉시킴으로서 기재에 점착시킬 수 있다. 상기 접착제층(20)의 비조사 영역(21)은 기재와 영구적인 접착성 결합을 형성할 수 있고, 제 1 조사 영역(22)은 기재와 접착성 결합을 형성하지 않을 수 있고, 제 2 조사 영역(23)는 기재와 제거 가능한 결합을 형성할 수 있다. 제 1 조사 영역(22)을 포함하는 표층의 부분은 기재에 부착되지 않을 수 있지만, 제 2 조사 영역(23)을 포함하는 확장된 콘텐트 라벨(4C)의 에지 부분은 접착성이 감소되어서 기재와 제거 가능한 결합을 형성하고, 제 1 조사 영역(22) 및 제 2 조사 영역(23)을 포함하는 표층의 부분이 기재로부터 박리되어 확장된 콘텐트를 드러내게 한다. 이 구성은 확장된 콘텐트 라벨이 기재에 재폐되도록 설계되는 경우에 유리할 수 있다.
본 발명은 확장된 콘텐트 라벨을 제조하는 연속 또는 반연속 방법 및 시스템을 포함한다. 몇몇 예시적인 방법은, 예를 들면 도 10~도 12에 도시되어 있다. 도 10~도 12 사이의 유사한 몇몇 특징은 각각의 연속된 도면에 200을 가산함으로써 증가되는 참조번호를 갖는다.
도 10에 도시된 바와 같이, 연속 또는 반연속 방법으로 확장된 콘텐트 라벨을 제조하는 시스템(110)이 도시된다. 상기 시스템(110)은 롤 또는 접착제 어셈블리 웹(120)을 갖는 언와인드 롤러(130)를 포함한다. 접착제 어셈블리 웹(120)은 도 1과 관련하여 이전에 설명된 바와 같은 접착제 어셈블리를 포함할 수 있고, 표층, 이형 라이너 및 상기 표층을 상기 이형 라이너에 적층하는 접착제층을 포함하는 연속 또는 반연속 롤 또는 웹의 형태일 수 있다.
도 10에 도시된 바와 같이, 접착제 어셈블리 웹(120)은 접착제 어셈블리 웹(120)의 전면측(111)이 위로 향하고, 접착제 어셈블리 웹(120)의 이면측이 아래로 향하여 위치되도록 언와인드 롤러(130)로부터 권출된다. 본 발명에 따라, 접착제 어셈블리 웹(120)의 전면측(111) 및 이면측(112)의 배향은 전면측(111)이 아래로 향하고, 이면측(112)이 위로 향하는 바와 같이 소망에 따라 상이하게 위치될 수 있음이 이해될 것이다.
이어서, 접착제 어셈블리 웹(120)은 확장된 콘텐트 프린팅 스테이션(140)으로 전달되고, 여기서 확장된 콘텐트는 리버스 프린팅으로서 접착제 어셈블리 웹(120)의 전면측(111)에 적용된다. 상기 전면측 프린팅 스테이션(140)에서 진출한 후, 확장된 콘텐트가 프린트된 접착제 어셈블리(150)는 마스킹 스테이션(160)으로 진입하고, 여기서 마스크는 어셈블리(150)의 전면측(111)에 적용된다. 그 후, 마스킹된 접착제 어셈블리(170)를 방사 에너지 장치(180)에 공급하여 어셈블리(170)에 조사함으로써 접착제층의 조사 영역와 접착제층의 비조사 영역을 제조한다. 이어서, 조사된 접착제 어셈블리(190)는 플러드코트 애플리케이터(200)를 통해 공급되고, 여기서 플러드코트는 어셈블리(190)의 전면측(111) 상에 적용된다. 이어서, 플러드코팅된 어셈블리(210)는 전면측 프린팅 스테이션(220)에 공급되고, 여기서 전면측 프린팅은 플러드코트 상에 적용되어 상기 어셈블리(210)의 전면측(111)에서 시인되어 확장된 콘텐트 라벨 웹(230)의 연속 또는 반연속 롤을 규정하고, 이어서 전면측 프린팅 스테이션(220)을 진출하여 도시된 바와 같이 리와인드 롤러(240) 상에 권취된다.
도 11은 또 다른 시스템 및 방법을 도시하고, 여기서 도 11에 도시된 특징은 도 10과 관련하여 설명된 유사한 특징과 비교하여 200만큼 증가된 참조번호를 갖는다. 그러나, 도 11에 도시된 시스템(310)은 도 10과 관련하여 설명되지 않은 몇몇 추가적인 특징을 포함한다. 보다 구체적으로는, 도 11의 시스템(310)은 다이 커팅 스테이션(440)을 포함하고, 여기서 상기 전면측 프린팅 스테이션(220)에서 진출한 확장된 콘텐트 라벨 웹(430)은 다이 커팅 스테이션(440)으로 진입한다. 다이 커팅 스테이션(440)에서, 각각의 확장된 콘텐트 라벨은 웹(430)으로 다이 커트된다. 이후, 다이 커트 웹(450)은 메트릭스 스트립핑 스테이션(460)으로 진입하고, 여기서 웨이스트 매트릭스(470)는 다이 커트 웹(450)으로부터 제거되어 웹(480) 상에 각각의 확장된 콘텐트 라벨을 제조한다.
도 12는 또 다른 시스템 및 방법을 도시하고, 여기서 도 12에 도시된 특징들은 11과 관련하여 설명된 유사한 특징과 비교하여 200만큼 증가되고, 도 10과 관련하여 설명된 유사한 특징과 비교하여 400만큼 증가된 참조번호를 갖는다. 도 12에 도시된 시스템(510)은 도 10 및 도 11에 이전에 도시된 바와 같은 마스킹 스테이션을 포함하지 않지만, 대신에 방사 에너지 장치(580)와 관련하여 위치된 스테이셔너리 마스크(560)를 포함한다. 도시된 바와 같이, 마스크(560)는 확장된 콘텐트가 프린트된 접착제 어셈블리(550)에 방사 에너지를 전달하는 개구(561)를 규정한다. 방사 에너지에 의해 조사된 후, 본 명세서에서 설명된 바와 같이 플러드코트 및 전면측 프린팅이 적용되고, 확장된 콘텐트 라벨 웹(630)은 리와인드 롤러(640) 상에 재권취된다. 이 실시형태에 있어서, 스테이셔너리 마스크(560)는 방사 에너지 장치(580)에 대해 위치되고, 이것에 의해 마스킹 스테이션에서 접착제 어셈블리의 마스크의 적용에 대한 필요성이 제거된다.
이해될 수 있는 바와 같이, 도 10~도 12에 도시된 시스템에 대해 접착제 어셈블리 웹의 전면측 및 이면측은 방사 에너지원 및 시스템의 다른 구성요소와 관련하여 리버스될 수 있다. 이들 대안적인 실시형태에 있어서, 이형 라이너는 방사 에너지에 대해 투명할 수 있고, 상기 마스크는 이형 라이너에 적용되거나 이형 라이너와 방사 에너지원 사이에 위치될 수 있음이 이해될 것이다. 이와 같이, 방사 에너지는 마스크의 개구를 통해 전달되고, 투명한 이형 라이너를 통과한 후에 접착제층에 조사된다.
추가적인 양태에 있어서, 본 발명은 적층체에 직접 적용되지 않는 마스크를 사용하는 특정 방법을 포함한다. 일반적으로, 상기 방법은 상기 롤러 상에 불투명한 마스크 패턴을 갖는 실질적으로 투명한 롤러 내부에 방사선원을 위치시키는 것이다. 상기 적층체는 롤러를 통과하고, 마스크를 통해 선택적으로 노출된다. 마스크는 이동하는 적층체와 롤링되기 때문에, 이것은 도 12에 도시된 고정된 위치의 마스크를 이용하여 작성할 수 없는 패턴을 허용한다는 이점을 갖는다.
본 발명은 층상 어셈블리 내의 접착성 영역의 선택적인 비점착화를 행하기 위한 특정 구성요소 및/또는 장비를 더 제공한다. 도 16은 본 발명에 따른 비점착화하는 롤러(900)를 개략적으로 도시한다. 롤러(900)는 원통의 형태이고, 방사 에너지로 선택적으로 조사되도록 층상 어셈블리 또는 다른 물질와 접촉하는 외주면(920)을 규정한다. 롤러(900)는 회전축(910)에 대해 회전하도록 구성된다. 또한, 롤러(900)는 UV광의 이미터와 같은 방사 에너지원(940)을 포함한다. 또한, 롤러(900)는 소스(940)로부터 롤(900)의 외부로의 방사 에너지의 통과를 허용 또는 허가하는 외주면(920)을 따르는 하나 이상의 통로 영역 또는 부분(930)을 규정한다. 따라서, 롤을 따라 비점착화되는 층상 어셈블리의 접촉 또는 적절한 배치 시, 공급원(940)으로부터의 UV광과 같은 방사 에너지는 롤러의 선택 부분, 즉 통로 영역(930)을 통해 층상 어셈블리에 전달되고, 이것에 의해 층상 어셈블리 내의 접착제의 특정 영역에 도달할 수 있다. 본 발명은 통로 영역(930)에 대해 다양한 패턴, 형상, 배열 및/또는 구성을 포함함이 이해될 것이다. 따라서, 본 발명은 도 16에 도시된 통로 영역(930)의 특정 패턴으로 제한되지 않는다.
본 발명의 특정 양태에 있어서, 그리고 롤러(900) 또는 유사한 구성요소를 이용할 때에, 롤러의 외부면이 층상 어셈블리, 예를 들면 라벨 상에서 반복된 패턴으로 레지스터 콘트롤에서 회전하도록 구동 콘트롤 또는 다른 콘트롤 장치를 제공하는 것이 바람직할 수 있다. 당업계에 공지된 삽입 콘트롤이 사용될 수도 있다. 통상, 본원에 설명된 실시형태는 통상적으로 조사된 방사 에너지의 포커싱 또는 확대를 필요로 하지 않지만, 본 발명에 포커싱 및/또는 확대 장치가 포함된다.
롤러(900)와 같은 비점착화하는 롤러는 허니콤 격자상 표면의 사용과 같은 특별한 특징을 포함할 수 있다. 외부 롤 표면은 플렉스 플레이트 또는 포일로 덮여 있어도 좋다. 예를 들면, 아트워크 또는 다른 설계(들)를 함유하는 템플레이트가 프린팅될 수 있거나 그렇지 않으면 롤에 대해 형성되고 위치됨으로써 외부 롤 주면을 구성할 수 있는 것이 고려된다. 롤의 지름은 특정 프린트 또는 다이 크기 또는 라벨의 반복 횟수와 일치하도록 선택될 수 있다.
또한, 본 발명은 (i) 감소된 접착성, (ii) 완전히 감쇄된 접착제, 및 (iii) 감소되지 않은 접착성 또는 감쇄되지 않은 접착성의 부분의 다양한 배열 및 위치를 갖는 다양한 구성의 라벨을 포함함이 이해될 것이다. 즉, 본 발명은 본원에 설명되거나 도시된 임의의 대표적인 실시형태로 제한되지 않는다.
이 방법의 향후 응용 및 개발로 인해 다수의 다른 이점들이 명백해질 것이다.
본 명세서에 언급된 모든 특허, 공개 출원, 및 문헌은 그 전체가 본원에 참고자료로서 인용된다.
상술한 바와 같이, 본 발명은 이전의 방법, 시스템 및/또는 장치와 관련된 다수의 문제를 해결한다. 그러나, 본 발명의 본질을 설명하기 위해 여기에 설명되고 도시된 구성요소의 배치, 물질 및 세부사항에 있어서의 다양한 변경은 첨부된 청구범위에 나타낸 바와 같이, 본 발명의 청구범위의 원리 및 범위를 벗어나지 않고 당업자에 의해 행해질 수 있음이 이해될 것이다.

Claims (86)

  1. 전면측 및 반대방향을 향하는 이면측을 규정하는 표층, 이형 라이너, 및 상기 표층의 이면측과 상기 이형 라이너 사이에 배치되는 접착제층을 포함하는 적층 접착제 어셈블리를 제공하는 단계;
    상기 표층의 전면측에 인디시아를 적용하는 단계;
    상기 접착제층의 일부분을 덮기 위해 마스크를 적용하는 단계; 및
    상기 접착제 어셈블리에 방사 에너지를 조사하는 단계를 포함하는 적어도 하나의 감소된 접착성 영역을 갖는 확장된 콘텐트 접착제 어셈블리를 제조하는 방법으로서:
    상기 마스크는 상기 접착제층의 일부분이 상기 방사 에너지에 노출되는 것을 실질적으로 차단하고,
    상기 마스크에 의해 차단되지 않은 방사 에너지는 상기 접착제층의 영역에 조사되어 상기 접착제층의 조사 영역의 접착성을 감소시키고,
    상기 인디시아는 상기 표층의 이면측에서 상기 접착제층을 통해 시인되어 확장된 콘텐트를 규정하는 방법.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 인디시아가 적용된 후, 상기 마스크를 적용하는 단계가 행해지는 방법.
  3. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    상기 인디시아는 리버스 프린팅을 포함하는 방법.
  4. 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 인디시아는 접착제층의 조사 영역 상에만 적용되는 방법.
  5. 제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 인디시아를 덮기 위해 플러드코트를 적용하는 단계를 더 포함하는 방법.
  6. 제 5 항에 있어서,
    상기 인디시아는 상기 플러드코트를 통해 시인되지 않는 방법.
  7. 제 6 항에 있어서,
    상기 플러드코트 상에 추가의 인디시아를 적용하는 단계를 더 포함하고, 상기 추가의 인디시아는 상기 표층의 이면측에서 시인되지 않는 방법.
  8. 제 1 항 내지 제 7 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 접착제층은 유효량의 관능화된 에멀전 폴리머를 포함하는 방법.
  9. 제 8 항에 있어서,
    상기 관능화된 에멀전 폴리머는 적합한 촉매의 존재 하에 카르복실산 관능성 모노머를 갖는 에멀전 폴리머를 에폭시기를 포함하는 적어도 하나의 에틸렌성 불포화 모노머로 처리하여 제조되는 방법.
  10. 제 9 항에 있어서,
    상기 카르복실산 관능화된 모노머는 아크릴산, 메타크릴산, 이타콘산, 시트라콘산, 아크릴옥시프로피온산, 말레산, 메타크릴옥시이소프로필산 프탈레이트, 메타크릴옥시에틸산 프탈레이트, 아크릴옥시이소프로필산 프탈레이트, 아크릴옥시에틸산 프탈레이트 및 그들의 조합으로 이루어지는 군에서 선택되는 방법.
  11. 제 9 항 또는 제 10 항에 있어서,
    상기 에폭시기를 포함하는 에틸렌성 불포화 모노머는 글리시딜 메타크릴레이트, 글리시딜 아크릴레이트, 아크릴 에폭시화 대두유, 알릴 글리시딜 에테르, 3,4-에폭시시클로헥실 메틸 메타크릴레이트 및 그들의 조합으로 이루어지는 군에서 선택되는 방법.
  12. 제 9 항 내지 제 11 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 촉매는 테트라부틸 암모늄 히드록시드, 메틸 트리부틸 암모늄 히드록시드, 암모늄 히드록시드, 테트라부틸 암모늄 클로라이드, 메틸트리부틸 암모늄 클로라이드, 트리페닐 포스핀, 크로뮴 아세테이트 및 그들의 조합으로 이루어지는 군에서 선택되는 방법.
  13. 제 8 항 내지 제 12 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 접착제층은 자외선 광개시제를 더 포함하는 방법.
  14. 제 1 항 내지 제 13 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 접착제층의 조사 영역의 접착성은 방사 에너지로 조사하기 전의 접착성과 비교해서 적어도 30%까지 감소되는 방법.
  15. 제 14 항에 있어서,
    상기 접착제층의 조사 영역의 접착성은 방사 에너지로 조사하기 전의 접착성과 비교해서 적어도 50%까지 감소되는 방법.
  16. 제 1 항 내지 제 15 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 방사 에너지에 노출되지 않은 상기 접착제층의 부분은 상기 접착제 어셈블리를 방사 에너지로 조사하기 전과 비교해서 동일한 접착성을 실질적으로 유지하는 방법.
  17. 전면측 및 반대방향을 향하는 이면측을 규정하는 투명한 표층으로서, 상기 표층의 전면측은 상기 라벨의 전면측을 향하는 표층,
    상기 표층의 이면측에 배치되는 방사 에너지 감응성 접착제층으로서, 상기 접착제는 충분한 양의 방사 에너지에의 노출 시, 접착성이 감소되도록 구성되는 접착제층, 및
    상기 접착제에 의해 표층의 이면측에 적층된 이형 라이너를 포함하는, 전면측 및 이면측을 규정하는 적층 접착제 라벨을 제공하는 단계;
    상기 표층의 전면측에 인디시아를 적용하는 단계;
    상기 접착제층의 일부분을 마스크로 덮는 단계; 및
    상기 접착제 라벨을 방사 에너지로 조사하는 단계를 포함하는 라벨 상에 확장된 콘텐트를 제공하는 방법으로서:
    상기 마스크는 방사 에너지가 비조사 영역에 도달하는 것을 실질적으로 차단함으로써 접착제층의 비조사 영역을 제공하고,
    상기 마스크에 의해 실질적으로 차단되지 않은 방사 에너지는 조사 영역을 충분한 양의 방사 에너지에 노출시켜 조사 영역의 접착성을 감소시킴으로써 접착제층의 조사 영역을 제공하고,
    상기 인디시아는 접착제층의 조사 영역 상에 적용되고, 상기 인디시아는 상기 표층의 이면측에서 시인되어 상기 라벨 상에 확장된 콘텐트를 제공하는 방법.
  18. 제 17 항에 있어서,
    상기 마스크는 상기 표층의 전면측에 적용되고, 상기 방사 에너지는 상기 표층을 통해 상기 접착제층으로 향하는 방법.
  19. 제 17 항 또는 제 18 항에 있어서,
    상기 비조사 영역의 접착성은 조사 전의 그 영역의 접착성과 실질적으로 동일한 방법.
  20. 제 17 항 내지 제 19 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 이형 라이너의 제거 시, 상기 조사 영역은 관련 기재와 제거 가능한 접착제 결합을 형성하도록 구성되는 방법.
  21. 제 17 항 내지 제 20 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 이형 라이너의 제거 시 또는 관련 기재로부터의 상기 조사 영역의 박리시, 상기 인디시아는 상기 라벨의 이면측에서 시인되는 방법.
  22. 제 17 항 내지 제 21 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 인디시아가 적용된 후, 상기 접착제층을 마스크로 덮는 단계가 행해지는 방법.
  23. 제 17 항 내지 제 22 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 인디시아는 리버스 프린팅을 포함하는 방법.
  24. 제 17 항 내지 제 23 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 인디시아는 접착제층의 조사 영역 상에만 적용되는 방법.
  25. 제 17 항 내지 제 24 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 인디시아를 덮기 위해 플러드코트를 적용하는 단계를 더 포함하는 방법.
  26. 제 25 항에 있어서,
    상기 인디시아는 상기 라벨의 전면측에서 상기 플러드코트를 통해 시인되지 않는 방법.
  27. 제 25 항 또는 제 26 항에 있어서,
    상기 플러드코트 상에 추가의 인디시아를 적용하는 단계를 더 포함하고, 상기 추가의 인디시아는 상기 라벨의 전면측에서 시인되고, 상기 라벨의 이면측에서 시인되지 않는 방법.
  28. 제 17 항 내지 제 27 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 접착제층은 유효량의 관능화된 에멀전 폴리머를 포함하는 방법.
  29. 제 28 항에 있어서,
    상기 관능화된 에멀전 폴리머는 적합한 촉매의 존재 하에 카르복실산 관능성 모노머를 갖는 에멀전 폴리머를 에폭시기를 포함하는 적어도 하나의 에틸렌성 불포화 모노머로 처리함으로써 제조되는 방법.
  30. 제 29 항에 있어서,
    상기 카르복실산 관능화된 모노머는 아크릴산, 메타크릴산, 이타콘산, 시트라콘산, 아크릴옥시프로피온산, 말레산, 메타크릴옥시이소프로필산 프탈레이트, 메타크릴옥시에틸산 프탈레이트, 아크릴옥시이소프로필산 프탈레이트, 아크릴옥시에틸산 프탈레이트 및 그들의 조합으로 이루어지는 군에서 선택되는 방법.
  31. 제 29 항 또는 제 30 항에 있어서,
    상기 에폭시기를 포함하는 에틸렌성 불포화 모노머는 글리시딜 메타크릴레이트, 글리시딜 아크릴레이트, 아크릴 에폭시화 대두유, 알릴 글리시딜 에테르, 3,4-에폭시시클로헥실 메틸 메타크릴레이트 및 그들의 조합으로 이루어지는 군에서 선택되는 방법.
  32. 제 29 항 내지 제 31 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 촉매는 테트라부틸 암모늄 히드록시드, 메틸 트리부틸 암모늄 히드록시드, 암모늄 히드록시드, 테트라부틸 암모늄 클로라이드, 메틸트리부틸 암모늄 클로라이드, 트리페닐 포스핀, 크로뮴 아세테이트 및 그들의 조합으로 이루어지는 군에서 선택되는 방법.
  33. 제 28 항 내지 제 32 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 접착제층은 자외선 광개시제를 더 포함하는 방법.
  34. 제 17 항 내지 제 33 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 접착제층의 조사 영역의 접착성은 방사 에너지로 조사하기 전과 비교해서 적어도 30%까지 감소되는 방법.
  35. 제 34 항에 있어서,
    상기 접착제층의 조사 영역의 접착성은 방사 에너지로 조사하기 전과 비교해서 적어도 50%까지 감소되는 방법.
  36. 제 17 항 내지 제 35 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 접착제층의 조사 영역은 감쇄된 접착성 부위 및 감소된 접착성 부위를 포함하는 방법.
  37. 기재를 제공하는 단계;
    전면측 및 이면측을 규정하는 적층 접착제 라벨을 제공하는 단계로서,
    상기 라벨은,
    투명한 표층,
    이형층, 및
    상기 이형층에 상기 표층을 적층하는 접착제층으로서, 방사 에너지에의 충분한 노출 시, 접착성이 감소되는 접착제층을 포함하는 단계;
    상기 표층에 인디시아를 적용하는 단계로서, 상기 인디시아는 표층을 통해 시인되어 상기 확장된 콘텐트를 규정하는 단계;
    상기 접착제층의 일부분을 덮기 위해 마스크를 적용하는 단계;
    상기 마스크에 의해 차단되지 않은 방사 에너지가 상기 접착제에 조사되어 접착성이 감소되는 접착제층의 조사 영역을 규정하도록 상기 라벨을 방사 에너지에 노출시키는 단계;
    상기 라벨로부터 이형층을 제거함으로써 접착제층을 노출시키는 단계; 및
    상기 접착제층을 기재의 표면에 접촉시킴으로써 라벨을 기재에 부착시키는 단계를 포함하는 기재 상에 확장된 콘텐트를 제공하는 방법으로서:
    상기 접착제층의 조사 영역의 감소된 접착성은 조사 영역을 포함하는 표층의 일부분이 기재로부터 제거되어 확장된 콘텐트를 노출시키도록 구성되는 방법.
  38. 제 37 항에 있어서,
    상기 접착제층의 비조사 영역의 접착성은 조사 전의 그 영역의 접착성과 실질적으로 동일한 방법.
  39. 제 37 항 또는 제 38 항에 있어서,
    상기 인디시아는 리버스 프린팅을 포함하는 방법.
  40. 제 37 항 내지 제 39 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 인디시아는 접착제층의 조사 영역 상에만 적용되는 방법.
  41. 제 37 항 내지 제 40 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 인디시아 상에 플러드코트를 적용하는 단계를 더 포함하고, 상기 인디시아는 상기 라벨의 전면측에서 상기 플러드코트를 통해 시인되지 않는 방법.
  42. 제 37 항 내지 제 41 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 플러드코트 상에 추가의 인디시아를 적용하는 단계를 더 포함하고, 상기 추가의 인디시아는 상기 라벨의 전면측에서 시인되고, 상기 라벨의 이면측에서 시인되지 않는 방법.
  43. 제 37 항 내지 제 42 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 접착제층은 유효량의 관능화된 에멀전 폴리머를 포함하는 방법.
  44. 제 43 항에 있어서,
    상기 관능화된 에멀전 폴리머는 적합한 촉매의 존재 하에 카르복실산 관능성 모노머를 갖는 에멀전 폴리머를 에폭시기를 포함하는 적어도 하나의 에틸렌성 불포화 모노머로 처리함으로써 제조되는 방법.
  45. 제 44 항에 있어서,
    상기 카르복실산 관능화된 모노머는 아크릴산, 메타크릴산, 이타콘산, 시트라콘산, 아크릴옥시프로피온산, 말레산, 메타크릴옥시이소프로필산 프탈레이트, 메타크릴옥시에틸산 프탈레이트, 아크릴옥시이소프로필산 프탈레이트, 아크릴옥시에틸산 프탈레이트 및 그들의 조합으로 이루어지는 군에서 선택되는 방법.
  46. 제 44 항 또는 제 45 항에 있어서,
    상기 에폭시기를 포함하는 에틸렌성 불포화 모노머는 글리시딜 메타크릴레이트, 글리시딜 아크릴레이트, 아크릴 에폭시화 대두유, 알릴 글리시딜 에테르, 3,4-에폭시시클로헥실 메틸 메타크릴레이트 및 그들의 조합으로 이루어지는 군에서 선택되는 방법.
  47. 제 44 항 내지 제 46 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 촉매는 테트라부틸 암모늄 히드록시드, 메틸 트리부틸 암모늄 히드록시드, 암모늄 히드록시드, 테트라부틸 암모늄 클로라이드, 메틸트리부틸 암모늄 클로라이드, 트리페닐 포스핀, 크로뮴 아세테이트 및 그들의 조합으로 이루어지는 군에서 선택되는 방법.
  48. 제 43 항 내지 제 47 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 접착제층은 자외선 광개시제를 더 포함하는 방법.
  49. 제 37 항 내지 제 48 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 접착제층의 조사 영역의 접착성은 방사 에너지로 조사하기 전과 비교해서 적어도 30%까지 감소되는 방법.
  50. 제 49 항에 있어서,
    상기 접착제층의 조사 영역의 접착성은 방사 에너지로 조사하기 전과 비교해서 적어도 50%까지 감소되는 방법.
  51. 제 37 항 내지 제 50 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 접착제층의 조사 영역은 감쇄된 접착성 부위 및 감소된 접착성 부위를 포함하는 방법.
  52. 전면 및 반대방향을 향하는 이면을 규정하는 투명한 표층;
    이형 라이너;
    상기 표층의 이면과 이형 라이너 사이에 배치되는 접착제층으로서, 이형 라이너의 제거 시, 관련 기재와의 제거 가능한 결합을 형성하도록 구성되는 감소된 접착성 영역, 및 이형 라이너의 제거 시, 관련 기재와의 영구 결합을 형성하도록 구성되는 비감소된 접착성 영역을 포함하는 접착제층;
    상기 표층의 전면 상의 인디시아로서, 상기 표층의 이면에서 상기 표층을 통해 시인되어 확장된 콘텐트를 규정하는 인디시아; 및
    상기 확장된 콘텐트를 덮는 플러드코트를 포함하는 관련 기재와 부착되도록 구성되는 확장된 콘텐트 접착제 어셈블리로서:
    상기 관련 기재에의 상기 접착제층의 결합 시, 감소된 접착성 영역을 포함하는 어셈블리의 일부분은 관련 기재로부터 박리되어 확장된 콘텐트를 드러내도록 구성되는 어셈블리.
  53. 제 52 항에 있어서,
    상기 접착제층은 충분한 양의 방사 에너지에의 노출 시, 접착성이 감소되도록 구성되는 방사 에너지 감응성 접착제를 포함하고,
    상기 감소된 접착성 영역은 실질적으로 방사 에너지에 대해 불투명한 마스크로 표층의 일부분을 덮고, 마스크에 의해 차단되지 않은 방사 에너지가 표층을 통과하여 감소된 접착성 영역의 접착성을 감소시키도록 방사 에너지로 어셈블리를 조사함으로써 제조되는 어셈블리.
  54. 제 52 항 또는 제 53 항에 있어서,
    상기 인디시아는 리버스 프린팅을 포함하는 어셈블리.
  55. 제 52 항 내지 제 54 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 인디시아는 감소된 접착성 영역 상에만 존재하는 어셈블리.
  56. 제 52 항 내지 제 55 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 플러드코트 상에 배치되는 추가의 인디시아를 더 포함하고, 상기 추가의 인디시아는 상기 표층의 이면측에서 시인되지 않는 어셈블리.
  57. 제 52 항 내지 제 56 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 접착제층은 유효량의 관능화된 에멀전 폴리머를 포함하는 어셈블리.
  58. 제 57 항에 있어서,
    상기 관능화된 에멀전 폴리머는 적합한 촉매의 존재 하에 카르복실산 관능성 모노머를 갖는 에멀전 폴리머를 에폭시기를 포함하는 적어도 하나의 에틸렌성 불포화 모노머로 처리함으로써 제조되는 어셈블리.
  59. 제 58 항에 있어서,
    상기 카르복실산 관능화된 모노머는 아크릴산, 메타크릴산, 이타콘산, 시트라콘산, 아크릴옥시프로피온산, 말레산, 메타크릴옥시이소프로필산 프탈레이트, 메타크릴옥시에틸산 프탈레이트, 아크릴옥시이소프로필산 프탈레이트, 아크릴옥시에틸산 프탈레이트 및 그들의 조합으로 이루어지는 군에서 선택되는 어셈블리.
  60. 제 58 항 또는 제 59 항에 있어서,
    상기 에폭시기를 포함하는 에틸렌성 불포화 모노머는 글리시딜 메타크릴레이트, 글리시딜 아크릴레이트, 아크릴 에폭시화 대두유, 알릴 글리시딜 에테르, 3,4-에폭시시클로헥실 메틸 메타크릴레이트 및 그들의 조합으로 이루어지는 군에서 선택되는 어셈블리.
  61. 제 58 항 내지 제 60 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 촉매는 테트라부틸 암모늄 히드록시드, 메틸 트리부틸 암모늄 히드록시드, 암모늄 히드록시드, 테트라부틸 암모늄 클로라이드, 메틸트리부틸 암모늄 클로라이드, 트리페닐 포스핀, 크로뮴 아세테이트 및 그들의 조합으로 이루어지는 군에서 선택되는 어셈블리.
  62. 제 57 항 내지 제 61 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 접착제층은 자외선 광개시제를 더 포함하는 어셈블리.
  63. 제 52 항 내지 제 62 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 감소된 접착성 영역의 접착성은 상기 비감소된 접착성 영역의 접착성보다 적어도 30% 적은 어셈블리.
  64. 제 63 항에 있어서,
    상기 감소된 접착성 영역의 접착성은 상기 비감소된 접착성 영역의 접착성보다 적어도 50% 적은 어셈블리.
  65. 외부면을 규정하는 용기, 상기 용기의 외부면 상에 배치되어 접촉하는 층상 접착제 어셈블리를 포함하는 라벨링된 용기로서:
    상기 층상 접착제 어셈블리는,
    전면측 및 이면측을 규정하는 투명한 표층으로서, 상기 표층의 전면측은 상기 어셈블리의 전면측을 향하는 투명한 표층;
    상기 표층의 이면측에 배치되는 접착제층으로서, 상기 용기의 외부면과 제거 가능한 결합을 형성하도록 구성되는 감소된 접착성 영역, 및 상기 용기의 외부면과 영구 결합을 형성하도록 구성되는 비감소된 접착성 영역을 포함하는 접착제층;
    상기 표층의 전면측 상에 위치되고, 상기 표층의 이면측에서 시인되어 상기 라벨 상에 확장된 콘텐트를 규정하는 인디시아; 및
    상기 인디시아를 덮는 플러드코트를 포함하고,
    상기 감소된 접착성 영역을 포함하는 어셈블리의 일부분은 관련 기재로부터 박리되어 확장된 콘텐트를 드러내도록 구성되는 용기.
  66. 제 65 항에 있어서,
    상기 접착제층은 충분한 양의 방사 에너지에의 노출 시, 접착성이 감소되도록 구성되는 방사 에너지 감응성 접착제를 포함하고,
    상기 감소된 접착성 영역은 방사 에너지에 대해 실질적으로 불투명한 마스크로 표층의 일부분을 덮고, 마스크에 의해 차단되지 않은 방사 에너지가 표층을 통과하여 감소된 접착성 영역의 접착성을 감소시키도록 방사 에너지로 어셈블리를 조사함으로써 제조되는 용기.
  67. 제 65 항 또는 제 66 항에 있어서,
    상기 인디시아는 리버스 프린팅을 포함하는 용기.
  68. 제 65 항 내지 제 67 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 인디시아는 감소된 접착성 영역 상에만 존재하는 용기.
  69. 제 65 항 내지 제 68 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 플러드코트 상에 배치되는 추가의 인디시아를 더 포함하고, 상기 추가의 인디시아는 상기 표층의 이면측에서 시인되지 않는 용기.
  70. 제 65 항 내지 제 69 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 접착제층은 유효량의 관능화된 에멀전 폴리머를 포함하는 용기.
  71. 제 70 항에 있어서,
    상기 관능화된 에멀전 폴리머는 적합한 촉매의 존재 하에 카르복실산 관능성 모노머를 갖는 에멀전 폴리머를 에폭시기를 포함하는 적어도 하나의 에틸렌성 불포화 모노머로 처리함으로써 제조되는 용기.
  72. 제 71 항에 있어서,
    상기 카르복실산 관능화된 모노머는 아크릴산, 메타크릴산, 이타콘산, 시트라콘산, 아크릴옥시프로피온산, 말레산, 메타크릴옥시이소프로필산 프탈레이트, 메타크릴옥시에틸산 프탈레이트, 아크릴옥시이소프로필산 프탈레이트, 아크릴옥시에틸산 프탈레이트 및 그들의 조합으로 이루어지는 군에서 선택되는 용기.
  73. 제 71 항 또는 제 72 항에 있어서,
    상기 에폭시기를 포함하는 에틸렌성 불포화 모노머는 글리시딜 메타크릴레이트, 글리시딜 아크릴레이트, 아크릴 에폭시화 대두유, 알릴 글리시딜 에테르, 3,4-에폭시시클로헥실 메틸 메타크릴레이트 및 그들의 조합으로 이루어지는 군에서 선택되는 용기.
  74. 제 71 항 내지 제 73 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 촉매는 테트라부틸 암모늄 히드록시드, 메틸 트리부틸 암모늄 히드록시드, 암모늄 히드록시드, 테트라부틸 암모늄 클로라이드, 메틸트리부틸 암모늄 클로라이드, 트리페닐 포스핀, 크로뮴 아세테이트 및 그들의 조합으로 이루어지는 군에서 선택되는 용기.
  75. 제 70 항 내지 제 74 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 접착제층은 자외선 광개시제를 더 포함하는 용기.
  76. 제 65 항 내지 제 75 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 감소된 접착성 영역의 접착성은 상기 비감소된 접착성 영역의 접착성보다 적어도 30% 적은 용기.
  77. 제 76 항에 있어서,
    상기 감소된 접착성 영역의 접착성은 상기 비감소된 접착성 영역의 접착성보다 적어도 50% 적은 용기.
  78. 제 65 항 내지 제 77 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 감소된 접착성 영역은 감쇄된 접착성 영역을 포함하는 용기.
  79. (i) 적어도 실직적으로 투명하고, 전면측 및 이면측을 포함하는 표층, (ii) 이형 라이너, (iii) 상기 표층과 상기 이형 라이너 사이에 배치되는 접착제층으로서, 방사 에너지에의 충분한 노출 시, 상기 노출된 접착제는 접착성이 감소되는 특징을 갖는 접착제층, (iv) 상기 표층의 이면측에서 상기 표층을 통해 시인되는 표층의 전면측 상의 인디시아, 및 (v) 상기 접착제층의 적어도 일부분을 덮고 방사 에너지가 접착제층을 통과하는 것을 허가하는 적어도 하나의 통로 영역을 규정하도록 위치되는 마스크를 포함하는 프리패브리케이션된 접착제 어셈블리; 및
    상기 마스크에 있어서의 적어도 하나의 통로 영역을 통해 접착제층에 조사되어 상기 접착제층의 적어도 일부분의 접착성을 감소시켜 확장된 콘텐트 라벨을 제조하도록 구성되는 방사 에너지원을 포함하는 프리패브리케이션된 접착제 어셈블리 내의 접착제의 접착성을 선택적으로 감소시켜 확장된 콘텐트 라벨을 제조하기 위한 시스템.
  80. 제 79 항에 있어서,
    상기 인디시아가 상기 플러드코트를 통해 시인되지 않도록 상기 인디시아를 덮는 플러드코트를 더 포함하는 시스템.
  81. 제 80 항에 있어서,
    상기 플러드코트 상에 배치되는 추가의 인디시아를 더 포함하는 시스템.
  82. 제 79 항 내지 제 81 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 접착제는 유효량의 관능화된 에멀전 폴리머를 포함하는 시스템.
  83. 제 82 항에 있어서,
    상기 관능화된 에멀전 폴리머는 적합한 촉매의 존재 하에 카르복실산 관능성 모노머를 갖는 에멀전 폴리머를 에폭시기를 포함하는 적어도 하나의 에틸렌성 불포화 모노머로 처리함으로써 제조되는 시스템.
  84. 제 83 항에 있어서,
    상기 카르복실산 관능화된 모노머는 아크릴산, 메타크릴산, 이타콘산, 시트라콘산, 아크릴옥시프로피온산, 말레산, 메타크릴옥시이소프로필산 프탈레이트, 메타크릴옥시에틸산 프탈레이트, 아크릴옥시이소프로필산 프탈레이트, 아크릴옥시에틸산 프탈레이트 및 그들의 조합으로 이루어지는 군에서 선택되는 시스템.
  85. 제 83 항 또는 제 84 항에 있어서,
    상기 에폭시기를 포함하는 에틸렌성 불포화 모노머는 글리시딜 메타크릴레이트, 글리시딜 아크릴레이트, 아크릴 에폭시화 대두유, 알릴 글리시딜 에테르, 3,4-에폭시시클로헥실 메틸 메타크릴레이트 및 그들의 조합으로 이루어지는 군에서 선택되는 시스템.
  86. 제 83 항 내지 제 85 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 촉매는 테트라부틸 암모늄 히드록시드, 메틸 트리부틸 암모늄 히드록시드, 암모늄 히드록시드, 테트라부틸 암모늄 클로라이드, 메틸트리부틸 암모늄 클로라이드, 트리페닐 포스핀, 크로뮴 아세테이트 및 그들의 조합으로 이루어지는 군에서 선택되는 시스템.
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