KR20170106909A - Apparatus for preparing aqueous resist stripping liquid and apparatus for preparing non-aqueous resist stripping liquid - Google Patents

Apparatus for preparing aqueous resist stripping liquid and apparatus for preparing non-aqueous resist stripping liquid Download PDF

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도시모토 나카가와
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가부시키가이샤 히라마리카겐큐죠
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Abstract

An objective of the present invention is to provide an aqueous resist stripper preparing apparatus and a non-aqueous resist stripper preparing apparatus which can prepare a resist stripper with predetermined component concentrations from raw materials of the resist stripper accurately, automatically, and continuously. To achieve the objective, the aqueous resist stripper preparing apparatus (10) comprises a preparation tank (3), a measuring unit (2), and a control unit (1). The preparation tank (3) receives and mixes the raw materials of the resist stripper. The measuring unit (2) measures at least one of physical property values of the resist stripper having a correlation with the component concentrations of the resist stripper and component concentrations of the resist stripper with respect to the resist stripper within the preparation tank (3). The control unit (1) controls a supply amount of the raw materials of the resist stripper supplied to the preparation tank (3) such that the resist stripper prepared within the preparation tank (3) has predetermined component concentrations based on measurement values measured by the measuring unit (2). The aqueous resist stripper preparing apparatus prepares a resist stripper with desired component concentrations accurately by performing the above processes automatically and continuously.

Description

수계 레지스트 박리액의 조제 장치 및 비수계 레지스트 박리액의 조제 장치{APPARATUS FOR PREPARING AQUEOUS RESIST STRIPPING LIQUID AND APPARATUS FOR PREPARING NON-AQUEOUS RESIST STRIPPING LIQUID}BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention [0001] The present invention relates to an apparatus for preparing a water-based resist stripping solution,

본 발명은, 반도체 제조 공정 및 플랫패널 디스플레이 제조 공정 등에 있어서, 레지스트의 박리에 이용되는 수계 레지스트 박리액을 조제하는 조제 장치 및 비수계 레지스트 박리액을 조제하는 조제 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a preparation apparatus for preparing a water-based resist stripping solution used for stripping a resist in a semiconductor manufacturing process and a flat panel display manufacturing process, and a dispensing apparatus for preparing a non-aqueous resist stripping solution.

반도체 제조 공정이나 플랫패널 디스플레이 기판의 제조 공정에 있어서의 포토리소그래피 공정의 최종 단계에서는, 레지스트를 기판으로부터 완전히 박리하는 공정이 필요하다. 반도체나 플랫패널 디스플레이 기판의 레지스트 박리 공정에 있어서는, 산소 플라스마에 의한 드라이애싱 공정과 레지스트 박리액에 의한 습식 박리 공정의 병용이 실시되고 있다. 산소 플라스마에 의한 드라이애싱 공정을 거친 기판에는 실리콘 산화물이나 알루미늄 산화물이 생성되어 있고, 다음의 습식 박리 공정에서는 레지스트를 박리할 뿐만 아니라, 금속 산화물을 완전히 제거하는 것이 필요하다.In the final stage of the photolithography process in the semiconductor manufacturing process or the manufacturing process of the flat panel display substrate, a step of completely stripping the resist from the substrate is required. In the resist stripping process of a semiconductor or a flat panel display substrate, a dry ashing process using oxygen plasma and a wet stripping process using a resist stripping liquid are used in combination. Silicon oxide or aluminum oxide is generated on the substrate subjected to the dry ashing process by oxygen plasma. In the next wet stripping process, it is necessary not only to peel off the resist but also to completely remove the metal oxide.

반도체나 플랫패널 디스플레이 기판의 레지스트 박리 공정에 있어서는, 레지스트 박리액으로서, 유기 알칼리나 유기 용제를 조합한 용액(이하, 「비수계 레지스트 박리액」이라고도 함)이 주로 사용되고 있다. 또한, 이 용액에 적량의 물을 첨가한 용액(이하, 「수계 레지스트 박리액」이라고도 함)이 사용되고 있다. 본 명세서에 있어서, 「수계 레지스트 박리액」과 「비수계 레지스트 박리액」을 명확히 구별할 필요가 없는 경우는, 단순히 「레지스트 박리액」이라고 하는 경우도 있다.In the resist stripping process of a semiconductor or a flat panel display substrate, a solution in which organic alkali or organic solvent is combined (hereinafter, also referred to as a "non-aqueous resist stripper") is mainly used as a resist stripper. In addition, a solution to which an appropriate amount of water is added to this solution (hereinafter also referred to as " aqueous resist stripping solution ") is used. In the present specification, when it is not necessary to clearly distinguish between "aqueous resist stripper" and "non-aqueous resist stripper", there is a case of simply "resist stripper".

레지스트 박리액의 농도를 관리하는 레지스트 박리액 관리 장치로서, 예를 들면, 하기의 특허문헌 1이나 특허문헌 2가 알려져 있다.As a resist stripping solution managing apparatus for managing the concentration of a resist stripping solution, for example, Patent Document 1 and Patent Document 2 below are known.

특허문헌 1에는, 레지스트 박리액의 용해 레지스트 농도를 흡광 광도계에 의해 검출해서 레지스트 박리액을 배출하는 레지스트 박리액 배출 수단과, 레지스트 박리액의 액면 레벨을 액면 레벨계에 의해 검출해서, 유기 용매와 알칸올아민을 보급하는, 또는, 유기 용매와 알칸올아민을 미리 조합한 레지스트 박리 신액(新液)을 보급하는 제1 보급 수단과, 레지스트 박리액의 알칸올아민 농도를 흡광 광도계에 의해 검출해서 유기 용매 및 알칸올아민의 적어도 한쪽을 보급하는 제2 보급 수단을 구비한 레지스트 박리액 관리 장치가 기재되어 있다.Patent Document 1 discloses a resist stripping liquid discharging means for discharging a resist stripping liquid by detecting the concentration of dissolved resist in a resist stripping liquid by a spectrophotometer and a liquid level detecting means for detecting the liquid level of the resist stripping liquid by a liquid surface level meter, A first replenishing means for replenishing the resist stripping solution to replenish the resist stripping solution which replenishes the amines or the organic solvent and the alkanolamine in advance, and detects the alkanolamine concentration of the resist stripping solution by the absorption spectrophotometer, And a second replenishing means for replenishing at least one of a solvent and an alkanolamine.

또한, 하기의 특허문헌 2에는, 레지스트 박리액의 용해 레지스트 농도를 흡광 광도계에 의해 검출해서 레지스트 박리액을 배출하는 레지스트 박리액 배출 수단과, 레지스트 박리액의 액면 레벨을 액면 레벨계에 의해 검출해서, 레지스트 박리액과 순수를 보급하는, 또는, 레지스트 박리 원액과 순수를 미리 조합한 레지스트 박리 신액을 보급하는 제1 보급 수단과, 레지스트 박리액의 수분 농도를 흡광 광도계에 의해 검출해서, 레지스트 박리 원액 및 순수의 적어도 한쪽을 보급하는 제2 보급 수단을 구비한 레지스트 박리액 관리 장치가 기재되어 있다.In the following Patent Document 2, there are disclosed resist release liquid ejection means for ejecting a resist release liquid by detecting the dissolved resist concentration of the resist release liquid by means of a spectrophotometer, liquid level detection means for detecting the liquid level of the resist release liquid, A first replenishing means for replenishing a resist stripping solution and pure water or a resist stripping fresh solution obtained by preliminarily combining a resist stripping solution and purified water in advance; and a controller for detecting the moisture concentration of the resist stripping solution by a spectrophotometer, And a second replenishing means for replenishing at least one of the pure water.

일본 특개평7-235487호 공보Japanese Patent Application Laid-Open No. 7-235487 일본 특개평10-22261호 공보Japanese Patent Application Laid-Open No. 10-22261

특허문헌 1, 2에 기재되어 있는 바와 같이, 레지스트 박리액을 소정의 성분 농도로 유지 관리하는 관리 장치는, 이미 발명되어 있다. 그러나, 소정의 성분 농도의 레지스트 박리액을 성분 농도의 측정값에 의거해서 그 원료로부터 자동적으로 조제하는 조제 장치는, 존재하지 않았다. 이것은, 관리 장치와 조제 장치 사이에, 다음과 같은 근본적인 상위(相違)가 있기 때문이다.As described in Patent Documents 1 and 2, a management apparatus that maintains and manages a resist stripping solution at a predetermined component concentration has been already invented. However, there was no preparation apparatus for automatically preparing a resist stripping solution having a predetermined component concentration from the raw material based on the measured value of the component concentration. This is because there is a fundamental difference between the management apparatus and the dispensing apparatus as follows.

관리 장치의 경우, 특허문헌 1이나 2와 같이, 관리 장치의 적용되는 대상은, 처음에는 관리해야 하는 소정의 성분 농도에 있던 레지스트 박리액이다. 레지스트 박리액이 사용됨에 따라, 레지스트 박리액의 성분 농도가 당초의 성분 농도로부터 서서히 어긋나간다. 이것에 대하여, 관리 장치는, 레지스트 박리액에 보충액을 보충하는 등의 동작에 의해, 레지스트 박리액의 성분 농도를 당초의 관리해야 하는 소정의 농도로 되돌리려 한다. 즉, 관리 장치는, 성분 농도의 복원 메커니즘을 도입함에 의해서, 관리해야 하는 소정의 성분 농도를 중심으로 한 성분 농도의 안정제어계를 구축하고자 하는 기술사상에 의한 것이다.In the case of the management apparatus, as in Patent Documents 1 and 2, the object to which the management apparatus is applied is a resist stripping solution at a predetermined component concentration to be initially managed. As the resist stripping solution is used, the component concentration of the resist stripping solution gradually deviates from the original component concentration. On the other hand, the management apparatus tries to return the concentration of the resist stripping solution to a predetermined concentration that should be originally managed, for example, by replenishing the replenishing liquid to the resist stripping liquid. That is, the management apparatus is based on a technical idea to construct a stable control system of the component concentration around the predetermined component concentration to be managed by introducing a restoration mechanism of the component concentration.

한편, 조제 장치는, 각종 원료를 혼합함에 의해서, 소정의 성분 농도의 레지스트 박리액을 조제하는 장치이다. 조제 장치가 적용되는 대상은, 원래, 조제하려고 하는 소정의 성분 농도에는 없다. 그 때문에, 조제 장치에는, 관리 장치의 기술사상을 그대로 이용할 수 없다. 조제 장치는, 관리 장치로부터 바로 착상할 수 있는 기술적 관계에는 없는 것이다.On the other hand, the dispenser is an apparatus for preparing a resist stripping solution having a predetermined component concentration by mixing various raw materials. The object to which the dispensing apparatus is applied is not originally in the concentration of the predetermined component to be dispensed. Therefore, the technical idea of the management apparatus can not be used as it is in the preparation apparatus. The dispensing apparatus is not in a technical relationship that can be conceived directly from the management apparatus.

이와 같은 근본적 상위 때문에, 특허문헌 1이나 2와 같은 관리 장치가 있어도, 성분 농도를 측정해서 소정의 성분 농도로 되도록 레지스트 박리액을 조제하는 조제 장치는, 이때까지 없었다. 종래의 레지스트 박리액의 조제 장치는, 원료를 용량 또는 중량에 의해 농도를 조정하는 것이었다. 그 때문에, 종래의 조제 장치에 의해 조제되는 레지스트 박리액은, 그 성분 농도의 조정 정밀도가 별로 좋지 않았다. 레지스트 박리액이 소정의 농도로 조정되어 있지 않으면, 양호한 박리 속도가 얻어지지 않아, 박리 잔사 및 금속 산화물의 잔사가 발생하여, 수율의 저하의 원인으로 될 수 있다. 또한, 포토리소그래피 공정의 최종 단계인 레지스트 박리 공정에 있어서 불량품이 발생하면 손해액이 커진다는 문제가 있었다.Because of such a fundamental difference, there has been no provision apparatus for preparing a resist stripping solution so as to have a predetermined component concentration by measuring the component concentration even in the case of a management apparatus such as Patent Document 1 or 2. Conventionally, the apparatus for preparing a resist stripping solution was designed to adjust the concentration of the raw material by the capacity or the weight. For this reason, the resist stripping solution prepared by the conventional dispensing apparatus has poor adjustment accuracy of the component concentration. If the resist stripping solution is not adjusted to a predetermined concentration, a good stripping rate can not be obtained and residues of stripping residue and metal oxide are generated, which may cause a decrease in the yield. Further, when a defective product is generated in the resist stripping step which is the final step of the photolithography process, there is a problem that the damage amount becomes large.

본 발명은 이와 같은 사정을 감안해서 이루어진 것이다. 본 발명은, 소정의 농도의 레지스트 박리액을 정밀하고, 자동적이며 또한 연속적으로 조제할 수 있는 수계 레지스트 박리액의 조제 장치 및 비수계 레지스트 박리액의 조제 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.The present invention has been made in view of such circumstances. An object of the present invention is to provide an apparatus for preparing a water-based resist stripping liquid and an apparatus for preparing a non-aqueous resist stripping liquid which can precisely, automatically, and continuously prepare a resist stripping solution of a predetermined concentration.

본 발명은, 상기한 목적을 달성하기 위하여, 소정의 성분 농도의 수계 레지스트 박리액이 조제되는 조제조와, 조제조 내의 수계 레지스트 박리액에 대하여, 수계 레지스트 박리액의 성분 농도와 상관 관계를 갖는 수계 레지스트 박리액의 물성값, 및, 수계 레지스트 박리액의 성분 농도의 적어도 한쪽을 측정하는 측정 수단과, 측정 수단에 의해 측정된 측정값에 의거해서, 조제조 내의 수계 레지스트 박리액이 소정의 성분 농도로 되도록, 조제조에 공급되는 수계 레지스트 박리액의 원료의 공급량을 제어하는 제어 수단을 구비하는 수계 레지스트 박리액의 조제 장치를 제공한다.In order to achieve the above-described object, the present invention provides a method for producing a water-based resist stripping solution having a predetermined component concentration and a water-based resist stripping solution in a tank preparation, A measurement means for measuring at least one of a physical property value of the water-based resist stripping solution and a component concentration of the water-based resist stripping solution; and a measurement means for measuring, based on the measurement value measured by the measuring means, And a control means for controlling the supply amount of the raw material of the aqueous resist stripping liquid supplied to the preparation tank so as to obtain a water-based resist stripping liquid.

본 발명의 수계 레지스트 박리액의 조제 장치는, 수계 레지스트 박리액의 성분 농도와 상관이 있는 물성값 또는 성분 농도의 적어도 한쪽의 측정을 행하여, 수계 레지스트 박리액을 조제하고 있다. 그 때문에, 본 발명의 수계 레지스트 박리액의 조제 장치에 의하면, 용량이나 중량에 의해 조제하고 있던 종래의 조제 장치에 비해, 보다 정확한 성분 농도의 수계 레지스트 박리액을 조제할 수 있다.The apparatus for preparing a water-based resist stripping liquid of the present invention measures at least one of a physical property value or a component concentration correlated with the component concentration of the water-based resist stripping solution to prepare an aqueous resist stripping solution. Therefore, according to the apparatus for preparing a water-based resist stripping solution of the present invention, it is possible to prepare a water-based resist stripping solution having a more accurate component concentration as compared with the conventional dispensing apparatus prepared by capacity or weight.

본 발명은, 상기한 목적을 달성하기 위하여, 소정의 아민 농도의 수계 레지스트 박리액이 조제되는 조제조와, 조제조 내의 수계 레지스트 박리액에 대하여, 수계 레지스트 박리액의 아민 농도와 상관 관계를 갖는 수계 레지스트 박리액의 물성값, 및, 수계 레지스트 박리액의 아민 농도의 적어도 한쪽을 측정하는 아민에 관한 측정 수단과, 아민에 관한 측정 수단에 의해 측정된 측정값에 의거해서, 조제조 내의 수계 레지스트 박리액이 소정의 아민 농도로 되도록, 조제조에 공급되는 수계 레지스트 박리액의 원료의 공급량을 제어하는 아민에 관한 제어 수단을 구비하는 수계 레지스트 박리액의 조제 장치를 제공한다.In order to achieve the above-mentioned object, the present invention provides a method for preparing a water-based resist stripping liquid having a predetermined amine concentration and a water-based resist stripping liquid in a tank preparation, Based resist resist stripping liquid and an aqueous amine-based resist stripping liquid, based on the measured value of the amine, which is used for measuring at least one of the property value of the water-based resist stripping liquid and the amine concentration of the aqueous resist stripping liquid, And a control means for controlling the supply amount of the raw material of the aqueous resist stripping liquid to be supplied to the preparation tank so that the liquid has a predetermined amine concentration.

본 발명의 수계 레지스트 박리액의 조제 장치는, 수계 레지스트 박리액의 아민 농도와 상관이 있는 물성값 또는 아민 농도의 적어도 한쪽의 측정을 행하여, 수계 레지스트 박리액을 조제하고 있다. 그 때문에, 본 발명의 수계 레지스트 박리액의 조제 장치에 의하면, 용량이나 중량에 의해 조제하고 있던 종래의 조제 장치에 비해, 보다 정확한 아민 농도의 수계 레지스트 박리액을 조제할 수 있다.The apparatus for preparing a water-based resist stripping liquid according to the present invention measures at least one of a physical property value or an amine concentration which is correlated with the amine concentration of the aqueous resist stripping solution to prepare an aqueous resist stripping solution. Therefore, according to the apparatus for preparing a water-based resist stripping solution of the present invention, a water-based resist stripping solution having a more accurate amine concentration can be prepared as compared with the conventional dispensing apparatus prepared by capacity or weight.

본 발명은, 상기한 목적을 달성하기 위하여, 소정의 수분 농도의 수계 레지스트 박리액이 조제되는 조제조와, 조제조 내의 수계 레지스트 박리액에 대하여, 수계 레지스트 박리액의 수분 농도와 상관 관계를 갖는 수계 레지스트 박리액의 물성값, 및, 수계 레지스트 박리액의 수분 농도의 적어도 한쪽을 측정하는 수분에 관한 측정 수단과, 수분에 관한 측정 수단에 의해 측정된 측정값에 의거해서, 조제조 내의 수계 레지스트 박리액이 소정의 수분 농도로 되도록, 조제조에 공급되는 수계 레지스트 박리액의 원료의 공급량을 제어하는 수분에 관한 제어 수단을 구비하는 수계 레지스트 박리액의 조제 장치를 제공한다.In order to achieve the above-mentioned object, the present invention provides a method for preparing a water-based resist stripping liquid having a predetermined moisture concentration and a water-based resist stripping liquid in a tank preparation, Based resist stripping liquid in the preparation of the water based resist on the basis of the measurement value relating to the water for measuring at least one of the physical property value of the water-based resist stripping liquid and the water concentration of the water-based resist stripping liquid, And a controller for controlling the supply amount of the raw material of the aqueous resist stripper liquid supplied to the preparation tank so that the liquid concentration becomes a predetermined moisture concentration.

본 발명의 수계 레지스트 박리액의 조제 장치는, 수계 레지스트 박리액의 수분 농도와 상관이 있는 물성값 또는 수분 농도의 적어도 한쪽의 측정을 행하여, 수계 레지스트 박리액을 조제하고 있다. 그 때문에, 본 발명의 수계 레지스트 박리액의 조제 장치에 의하면, 용량이나 중량에 의해 조제하고 있던 종래의 조제 장치에 비해, 보다 정확한 수분 농도의 수계 레지스트 박리액을 조제할 수 있다.The apparatus for preparing a water-based resist stripper according to the present invention measures at least one of a physical property value or a moisture concentration correlated with the water concentration of the water-based resist stripper solution to prepare a water-based resist stripper solution. Therefore, according to the apparatus for preparing a water-based resist stripper of the present invention, it is possible to prepare a water-based resist stripper with a water concentration that is more accurate than that of a conventional dispenser prepared by capacity or weight.

본 발명은, 상기한 목적을 달성하기 위하여, 소정의 아민 농도, 및, 소정의 수분 농도를 갖는 수계 레지스트 박리액이 조제되는 조제조와, 조제조 내의 수계 레지스트 박리액에 대하여, 수계 레지스트 박리액의 아민 농도와 상관 관계를 갖는 수계 레지스트 박리액의 물성값, 및, 수계 레지스트 박리액의 아민 농도의 적어도 한쪽을 측정하는 아민에 관한 측정 수단과, 조제조 내의 수계 레지스트 박리액에 대하여, 수계 레지스트 박리액의 수분 농도와 상관 관계를 갖는 수계 레지스트 박리액의 물성값, 및, 수계 레지스트 박리액의 수분 농도의 적어도 한쪽을 측정하는 수분에 관한 측정 수단과, 아민에 관한 측정 수단에 의해 측정된 측정값, 및, 수분에 관한 측정 수단에 의해 측정된 측정값에 의거해서, 조제조 내의 수계 레지스트 박리액이, 소정의 아민 농도 및 소정의 수분 농도로 되도록, 조제조에 공급되는 수계 레지스트 박리액의 원료의 공급량을 제어하는 제어 수단을 구비하는 수계 레지스트 박리액의 조제 장치를 제공한다.In order to achieve the above-mentioned object, the present invention provides a method for preparing an aqueous resist stripping solution having a predetermined amine concentration and a predetermined moisture concentration and a method for preparing a water-based resist stripping solution, And the amine concentration of the water-based resist stripping liquid, and a water-based resist stripping solution in the preparation of the water-based resist stripping liquid, A measurement means for measuring moisture of at least one of a physical property value of the water-based resist stripping liquid having a correlation with the water concentration of the liquid and a moisture concentration of the water-based resist stripping liquid, Based on the measurement value measured by the measuring means relating to the water, And a control means for controlling the supply amount of the raw material of the water-based resist stripping liquid supplied to the preparation tank so that the concentration and the predetermined moisture concentration are obtained.

본 발명의 수계 레지스트 박리액의 조제 장치는, 수계 레지스트 박리액의 아민 농도와 상관이 있는 물성값 또는 아민 농도의 적어도 한쪽의 측정을 행하여, 수계 레지스트 박리액을 조제하고 있다. 동시에, 수계 레지스트 박리액의 수분 농도와 상관이 있는 물성값 또는 수분 농도의 적어도 한쪽의 측정을 행하여, 수계 레지스트 박리액을 조제하고 있다. 그 때문에, 본 발명의 수계 레지스트 박리액의 조제 장치에 의하면, 용량이나 중량에 의해 조제하고 있던 종래의 조제 장치에 비해, 보다 정확한 아민 농도, 또한, 보다 정확한 수분 농도의 수계 레지스트 박리액을 조제할 수 있다.The apparatus for preparing a water-based resist stripping liquid according to the present invention measures at least one of a physical property value or an amine concentration which is correlated with the amine concentration of the aqueous resist stripping solution to prepare an aqueous resist stripping solution. At the same time, at least one of the physical property value or the water concentration, which is correlated with the water concentration of the water-based resist stripping solution, is measured to prepare an aqueous resist stripping solution. Therefore, according to the apparatus for preparing a water-based resist stripping solution of the present invention, it is possible to prepare a water-based resist stripping solution having a more accurate amine concentration and a more accurate water concentration than the conventional dispensing apparatus prepared by capacity or weight .

본 발명의 바람직한 태양에 있어서는, 아민에 관한 측정 수단이, 흡광 광도계, 도전율계, 밀도계, 초음파 농도계, 및, 점도계 중 어느 하나를 구비한다. 이들 측정 장치에 의해 측정되는 수계 레지스트 박리액의 흡광도, 도전율, 밀도, 초음파 전파 속도, 점도는, 수계 레지스트 박리액의 아민 농도와 상관을 가지므로, 아민 농도를 정밀하게 소정의 농도로 맞출 수 있다.In a preferred embodiment of the present invention, the measuring means relating to the amine comprises any one of a spectrophotometer, a conductivity meter, a density meter, an ultrasonic concentration meter, and a viscometer. The absorbance, conductivity, density, ultrasonic wave propagation speed, and viscosity of the aqueous resist stripping solution measured by these measuring devices are correlated with the amine concentration of the aqueous resist stripping solution, so that the amine concentration can be precisely adjusted to a predetermined concentration .

본 발명의 보다 바람직한 태양에 있어서는, 아민에 관한 측정 수단이 흡광 광도계를 구비하고, 아민이 모노에탄올아민일 경우, 흡광 광도계의 측정 파장이, 1000 내지 1600㎚의 파장 영역으로부터 선택되는 특정의 파장이고, 아민이 히드록실아민일 경우, 흡광 광도계의 측정 파장이, 1050 내지 1090㎚의 파장 영역으로부터 선택되는 특정의 파장이다.In a more preferred embodiment of the present invention, in the case where the measurement means for the amine has a spectrophotometer and the amine is monoethanolamine, the measurement wavelength of the absorption spectrophotometer is a specific wavelength selected from the wavelength range of 1000 to 1600 nm , And when the amine is hydroxylamine, the measurement wavelength of the absorption spectrophotometer is a specific wavelength selected from a wavelength range of 1050 to 1090 nm.

이들 파장 영역에서 측정된 수계 레지스트 박리액의 흡광도는, 그 아민 농도와의 사이에 비교적 양호한 직선 관계가 얻어진다. 이 때문에, 이 파장 영역에서 측정된 흡광도, 또는, 이 측정된 흡광도와 이 직선 관계에 의해 얻어지는 아민 농도는, 수계 레지스트 박리액 중의 아민 농도를 정확하게 소정의 농도로 하기 위하여 이용하는데 바람직하다. 아민이 모노에탄올아민인 경우에는 특히 1048㎚를 측정 파장으로 하여 측정되는 흡광도가, 아민이 히드록실아민인 경우에는 특히 1074㎚를 측정 파장으로 하여 측정되는 흡광도가, 전술의 파장 영역 중에서도 특히 감도가 좋아 아민 농도와의 사이에 양호한 직선 관계가 얻어지기 때문에, 한층 더 바람직하다.The absorbance of the aqueous resist stripping solution measured in these wavelength regions is relatively good and linear relationship with the amine concentration is obtained. Therefore, the absorbance measured in this wavelength range, or the amine concentration obtained by this linear relationship with the measured absorbance, is preferably used to accurately set the amine concentration in the aqueous resist stripping solution to a predetermined concentration. In the case where the amine is monoethanolamine, the absorbance measured with a measurement wavelength of 1048 nm is particularly favorable when the amine is hydroxylamine, and particularly the absorbance measured with a measurement wavelength of 1074 nm is particularly sensitive It is more preferable that a good linear relationship is obtained between the amine concentration and the amine concentration.

본 발명의 바람직한 태양에 있어서는, 수분에 관한 측정 수단이, 흡광 광도계, 도전율계, 밀도계, 초음파 농도계, 및, 점도계 중 어느 하나를 구비한다. 이들 측정 장치에 의해 측정되는 수계 레지스트 박리액의 흡광도, 도전율, 밀도, 초음파 전파 속도, 점도는, 수계 레지스트 박리액의 수분 농도와 상관을 가지므로, 수분 농도를 정밀하게 소정의 농도로 맞출 수 있다.In a preferred aspect of the present invention, the measurement means for moisture includes any one of a light absorption photometer, a conductivity meter, a density meter, an ultrasonic concentration meter, and a viscometer. The absorbance, conductivity, density, ultrasonic wave propagation velocity and viscosity of the water-based resist stripping solution measured by these measuring devices have a correlation with the water concentration of the water-based resist stripping solution, so that the water concentration can be precisely adjusted to a predetermined concentration .

본 발명의 보다 바람직한 태양에 있어서는, 수분에 관한 측정 수단이 흡광 광도계이고, 흡광 광도계의 측정 파장이, 950 내지 2000㎚의 파장 영역으로부터 선택되는 특정의 파장이다.In a more preferred embodiment of the present invention, the measurement means for moisture is a spectrophotometer, and the measurement wavelength of the absorption spectrophotometer is a specific wavelength selected from a wavelength region of 950 to 2000 nm.

이 근적외선 영역의 측정 파장에서 측정된 수계 레지스트 박리액의 흡광도는, 그 수분 농도와의 사이에 비교적 양호한 직선 관계가 얻어진다. 이 때문에, 이 파장 영역에서 측정된 흡광도, 또는, 이 측정된 흡광도와 이 직선 관계에 의해 얻어지는 수분 농도는, 수계 레지스트 박리액 중의 수분 농도를 정확하게 소정의 농도로 하기 위하여 이용하는데 바람직하다. 특히 1940㎚와 976㎚를 측정 파장으로 하여 측정되는 흡광도가, 이 파장 영역 중에서도 특히 감도가 좋아 수분 농도와의 사이에 양호한 직선 관계가 얻어지기 때문에, 한층 더 바람직하다.The absorbance of the water-based resist stripping solution measured at the measurement wavelength in the near-infrared region has a relatively good linear relationship with the moisture concentration. Therefore, the absorbance measured in this wavelength region, or the moisture concentration obtained by this linear relationship with the measured absorbance, is preferably used for accurately adjusting the water concentration in the aqueous resist stripping solution to a predetermined concentration. Particularly, the absorbance measured with the measurement wavelength of 1940 nm and 976 nm is even more preferable because a good linear relationship is obtained between the wavelength range and the moisture concentration because the sensitivity is particularly good.

본 발명의 바람직한 태양에 있어서는, 조제조에서 조제된 수계 레지스트 박리액을 저류(貯留)하는 저류조를 더 구비한다.In a preferred aspect of the present invention, the apparatus further comprises a storage tank for storing the aqueous resist stripping solution prepared in preparation.

이 태양에 따르면, 소정의 성분 농도로 조제된 수계 레지스트 박리액이 저류조에 항상 저류되어 있으므로, 수계 레지스트 박리액이 필요하게 되었을 때에 수시로, 소정의 성분 농도의 수계 레지스트 박리액을 얻을 수 있다.According to this aspect, since the aqueous resist stripping solution prepared at a predetermined component concentration is always stored in the storage tank, when aqueous resist stripping solution is required, aqueous resist stripping solution having a predetermined component concentration can be obtained from time to time.

본 발명의 바람직한 태양에 있어서는, 조제조를 복수 구비한다.In a preferred aspect of the present invention, a plurality of preparations are provided.

이 태양에 따르면, 조제조의 1개가 고장 등에 의해 작동되지 않게 되어도, 다른 조제조에 의해 수계 레지스트 박리액의 조제를 유지할 수 있다. 또한, 1개의 조제조가 비게 되어도, 다른 조제조로부터 수계 레지스트 박리액의 공급을 받을 수 있다.According to this aspect, even if one of the preparation baths is not operated due to a failure or the like, preparation of the aqueous resist stripping solution can be maintained by another preparation bath. In addition, even if the preparation of one bath becomes empty, the supply of the aqueous resist stripping solution can be received from the other baths.

본 발명의 바람직한 태양에 있어서는, 조제조와 저류조가 연통관에 의해 접속되어 있다.In a preferred aspect of the present invention, the preparation and the storage tank are connected by a communicating pipe.

이 태양에 따르면, 수계 레지스트 박리액을 공급한 것에 의해 저류조 내의 수계 레지스트 박리액이 감소해도, 조제조로부터 저류조에 소정 농도로 조제된 수계 레지스트 박리액이 자동적으로 연속해서 이송된다. 이때, 송액(送液) 펌프 등의 설비를 필요로 하지 않는다.According to this aspect, even if the aqueous resist stripping solution in the storage tank is reduced by supplying the aqueous resist stripping solution, the aqueous resist stripping solution adjusted to a predetermined concentration from the preparation tank is automatically and continuously transferred. At this time, a facility such as a liquid feed pump is not required.

본 발명의 바람직한 태양에 있어서는, 조제조에 공급하는 수계 레지스트 박리액의 원료를 미리 혼합하는 예비 혼합 수단을 구비한다.In a preferred aspect of the present invention, preliminary mixing means for preliminarily mixing raw materials of the water-based resist stripping liquid supplied to the preparation tank is provided.

본 발명의 바람직한 태양에 있어서는, 조제조에 공급하는 수계 레지스트 박리액의 원료를 미리 혼합하는 예비 혼합 수단을, 조제조마다 구비한다.In a preferred aspect of the present invention, preliminary mixing means for preliminarily mixing the raw materials of the water-based resist stripping liquid supplied to the preparation tank is provided for each tank preparation.

이 태양에 따르면, 수계 레지스트 박리액의 원료가 미리 혼합되므로, 조제조 내에서의 혼합이나 교반의 부담이 경감되며, 보다 신속히 균일한 농도의 수계 레지스트 박리액을 조제할 수 있다. 또한, 측정되는 성분 농도나 물성값에 의해서 비교적 좁은 농도 범위에서만 상관 관계를 얻을 수 있는 경우여도, 예비 혼합 수단을 이용함에 의해, 정확하게 소정의 성분 농도의 수계 레지스트 박리액을 조제할 수 있다.According to this embodiment, since the raw material of the water-based resist stripping solution is mixed in advance, the burden of mixing and stirring in the preparation is reduced, and the water-based resist stripping solution having a uniform concentration can be prepared more rapidly. In addition, even when a correlation can be obtained only in a relatively narrow concentration range by the measured component concentration or physical property value, it is possible to prepare an aqueous resist stripping solution with a predetermined component concentration accurately by using the premixing means.

본 발명은, 상기한 목적을 달성하기 위하여, 소정의 성분 농도의 비수계 레지스트 박리액이 조제되는 조제조와, 조제조 내의 비수계 레지스트 박리액에 대하여, 비수계 레지스트 박리액의 성분 농도와 상관 관계를 갖는 비수계 레지스트 박리액의 물성값, 및, 비수계 레지스트 박리액의 성분 농도의 적어도 한쪽을 측정하는 측정 수단과, 측정 수단에 의해 측정된 측정값에 의거해서, 조제조 내의 비수계 레지스트 박리액이 소정의 성분 농도로 되도록, 조제조에 공급되는 비수계 레지스트 박리액의 원료의 공급량을 제어하는 제어 수단을 구비하는 비수계 레지스트 박리액의 조제 장치를 제공한다.In order to achieve the above-mentioned object, the present invention relates to a method for producing a non-aqueous resist stripper having a prescribed concentration of a component and a non-aqueous resist stripper in the preparation, Based resist stripping liquid and a component concentration of the non-aqueous resist stripping solution; and a non-aqueous resist stripping apparatus for stripping non-aqueous resist in the fabrication process based on the measured value measured by the measuring means And a control means for controlling the supply amount of the raw material of the non-aqueous resist stripping liquid supplied to the preparation tank so that the liquid concentration becomes a predetermined component concentration.

본 발명의 비수계 레지스트 박리액의 조제 장치는, 비수계 레지스트 박리액의 성분 농도와 상관이 있는 물성값 또는 성분 농도의 적어도 한쪽의 측정을 행하여, 비수계 레지스트 박리액을 조제하고 있다. 그 때문에, 본 발명의 비수계 레지스트 박리액의 조제 장치에 의하면, 용량이나 중량에 의해 조제하고 있던 종래의 조제 장치에 비해, 보다 정확한 성분 농도의 비수계 레지스트 박리액을 조제할 수 있다.In the apparatus for preparing a non-aqueous resist stripper of the present invention, at least one of a physical property value or a component concentration correlated with the component concentration of the non-aqueous resist stripper solution is measured to prepare a non-aqueous resist stripper solution. Therefore, according to the apparatus for preparing a non-aqueous resist stripper of the present invention, it is possible to prepare a non-aqueous resist stripper with a more accurate component concentration as compared with the conventional dispenser prepared by capacity or weight.

본 발명은, 상기한 목적을 달성하기 위하여, 소정의 아민 농도의 비수계 레지스트 박리액이 조제되는 조제조와, 조제조 내의 비수계 레지스트 박리액에 대하여, 비수계 레지스트 박리액의 아민 농도와 상관 관계를 갖는 비수계 레지스트 박리액의 물성값, 및, 비수계 레지스트 박리액의 아민 농도의 적어도 한쪽을 측정하는 아민에 관한 측정 수단과, 아민에 관한 측정 수단에 의해 측정된 측정값에 의거해서, 조제조 내의 비수계 레지스트 박리액이 소정의 아민 농도로 되도록, 조제조에 공급되는 비수계 레지스트 박리액의 원료의 공급량을 제어하는 아민에 관한 제어 수단을 구비하는 비수계 레지스트 박리액의 조제 장치를 제공한다.In order to achieve the above-mentioned object, the present invention provides a method for producing a non-aqueous resist stripping liquid having a predetermined amine concentration and a non-aqueous resist stripping liquid in the preparation, Based resist stripping liquid and the amine concentration of the non-aqueous resist stripping liquid, based on the measurement value measured by the measuring means relating to the amine, There is provided an apparatus for preparing a non-aqueous resist stripping liquid comprising control means for controlling the supply amount of a raw material for a non-aqueous resist stripping liquid to be supplied to a preparation tank so that the non-aqueous resist stripping solution in the manufacturing process has a predetermined amine concentration .

본 발명의 비수계 레지스트 박리액의 조제 장치는, 비수계 레지스트 박리액의 아민 농도와 상관 관계를 갖는 물성값 및 비수계 레지스트 박리액의 아민 농도의 적어도 한쪽을 측정하고, 이 측정값에 의거해서 비수계 레지스트 박리액을 조제하고 있다. 그 때문에, 본 발명의 비수계 레지스트 박리액의 조제 장치에 의하면, 용량이나 중량에 의해 조제하고 있던 종래의 조제 장치에 비해, 보다 정확한 아민 농도의 비수계 레지스트 박리액을 조제할 수 있다.The apparatus for preparing a non-aqueous resist stripping liquid according to the present invention is characterized in that at least one of a physical property value correlated with the amine concentration of the non-aqueous resist stripping liquid and an amine concentration of the non-aqueous resist stripping liquid is measured, Aqueous resist stripping solution is prepared. Therefore, according to the apparatus for preparing a non-aqueous resist stripper of the present invention, it is possible to prepare a non-aqueous resist stripper with a more accurate amine concentration than the conventional dispenser prepared by capacity or weight.

본 발명의 바람직한 태양에 있어서는, 아민에 관한 측정 수단이, 흡광 광도계, 도전율계, 밀도계, 초음파 농도계, 및, 점도계 중 어느 하나를 구비한다. 이들 측정 장치에 의해 측정되는 비수계 레지스트 박리액의 흡광도, 도전율, 밀도, 초음파 전파 속도, 점도는, 비수계 레지스트 박리액의 아민 농도와 상관을 가지므로, 아민 농도를 정밀하게 소정의 농도로 맞출 수 있다.In a preferred embodiment of the present invention, the measuring means relating to the amine comprises any one of a spectrophotometer, a conductivity meter, a density meter, an ultrasonic concentration meter, and a viscometer. The absorbance, conductivity, density, ultrasonic wave propagation speed, and viscosity of the non-aqueous resist stripping solution measured by these measuring devices have a correlation with the amine concentration of the non-aqueous resist stripping solution. Therefore, the amine concentration is precisely adjusted to a predetermined concentration .

본 발명의 보다 바람직한 태양에 있어서는, 아민에 관한 측정 수단이 흡광 광도계를 구비하고, 아민이 모노에탄올아민일 경우, 흡광 광도계의 측정 파장이, 1000 내지 1600㎚의 파장 영역으로부터 선택되는 특정의 파장이고, 아민이 히드록실아민일 경우, 흡광 광도계의 측정 파장이, 1050 내지 1090㎚의 파장 영역으로부터 선택되는 특정의 파장이다.In a more preferred embodiment of the present invention, in the case where the measurement means for the amine has a spectrophotometer and the amine is monoethanolamine, the measurement wavelength of the absorption spectrophotometer is a specific wavelength selected from the wavelength range of 1000 to 1600 nm , And when the amine is hydroxylamine, the measurement wavelength of the absorption spectrophotometer is a specific wavelength selected from a wavelength range of 1050 to 1090 nm.

이들 파장 영역에서 측정된 비수계 레지스트 박리액의 흡광도는, 그 아민 농도와의 사이에 비교적 양호한 직선 관계가 얻어진다. 이 때문에, 이 파장 영역에서 측정된 흡광도, 또는, 이 측정된 흡광도와 이 직선 관계에 의해 얻어지는 아민 농도는, 비수계 레지스트 박리액 중의 아민 농도를 정확하게 소정의 농도로 하기 위하여 이용하는데 바람직하다. 아민이 모노에탄올아민인 경우에는 특히 1048㎚를 측정 파장으로 하여 측정되는 흡광도가, 아민이 히드록실아민인 경우에는 특히 1074㎚를 측정 파장으로 하여 측정되는 흡광도가, 전술의 파장 영역 중에서도 특히 감도가 좋아 아민 농도와의 사이에 양호한 직선 관계가 얻어지기 때문에, 한층 더 바람직하다.The absorbance of the non-aqueous resist stripping solution measured in these wavelength regions has a relatively good linear relationship with the amine concentration. Therefore, the absorbance measured in this wavelength range, or the amine concentration obtained by this linear relationship with the measured absorbance, is preferably used to accurately set the amine concentration in the non-aqueous resist stripper to a predetermined concentration. In the case where the amine is monoethanolamine, the absorbance measured with a measurement wavelength of 1048 nm is particularly favorable when the amine is hydroxylamine, and particularly the absorbance measured with a measurement wavelength of 1074 nm is particularly sensitive It is more preferable that a good linear relationship is obtained between the amine concentration and the amine concentration.

본 발명의 바람직한 태양에 있어서는, 조제조에서 조제된 비수계 레지스트 박리액을 저류하는 저류조를 더 구비한다. In a preferred aspect of the present invention, the apparatus further comprises a storage tank for storing the non-aqueous resist stripping solution prepared in preparation.

이 태양에 따르면, 소정의 성분 농도로 조제된 비수계 레지스트 박리액이 저류조에 항상 저류되어 있으므로, 비수계 레지스트 박리액이 필요하게 되었을 때에 수시로, 소정의 성분 농도의 비수계 레지스트 박리액을 얻을 수 있다.According to this aspect, since the non-aqueous resist stripping solution prepared at a predetermined component concentration is always stored in the storage tank, it is possible to obtain a non-aqueous resist stripping solution having a predetermined component concentration from time to time when the non-aqueous resist stripping solution becomes necessary have.

본 발명의 바람직한 태양에 있어서는, 조제조를 복수 구비한다.In a preferred aspect of the present invention, a plurality of preparations are provided.

이 태양에 따르면, 조제조의 1개가 고장 등에 의해 작동되지 않게 되어도, 다른 조제조에 의해 비수계 레지스트 박리액의 조제를 유지할 수 있다. 또한, 1개의 조제조가 비게 되어도, 다른 조제조로부터 비수계 레지스트 박리액의 공급을 받을 수 있다.According to this aspect, even if one of the preparation baths is not operated due to a failure or the like, the preparation of the non-aqueous resist stripping solution can be maintained by another preparation bath. Further, even if one bath is empty, the supply of the non-aqueous resist stripping liquid can be received from the other baths.

본 발명의 바람직한 태양에 있어서는, 조제조와 저류조가 연통관에 의해 접속되어 있다.In a preferred aspect of the present invention, the preparation and the storage tank are connected by a communicating pipe.

이 태양에 따르면, 비수계 레지스트 박리액을 공급한 것에 의해 저류조 내의 비수계 레지스트 박리액이 감소해도, 조제조로부터 저류조에 소정 농도로 조제된 비수계 레지스트 박리액이 자동적으로 연속해서 이송된다. 이때, 송액 펌프 등의 설비를 필요로 하지 않는다.According to this aspect, even if the non-aqueous resist stripping liquid in the storage tank is reduced by supplying the non-aqueous resist stripping liquid, the non-aqueous resist stripping liquid prepared at a predetermined concentration from the preparation tank is automatically and continuously transferred. At this time, facilities such as a liquid delivery pump are not required.

본 발명의 바람직한 태양에 있어서는, 조제조에 공급하는 비수계 레지스트 박리액의 원료를 미리 혼합하는 예비 혼합 수단을 구비한다.In a preferred aspect of the present invention, preliminary mixing means for preliminarily mixing raw materials of the non-aqueous resist stripping liquid supplied to the preparation tank is provided.

본 발명의 바람직한 태양에 있어서는, 조제조에 공급하는 비수계 레지스트 박리액의 원료를 미리 혼합하는 예비 혼합 수단을, 조제조마다 구비한다.In a preferred embodiment of the present invention, preliminary mixing means for preliminarily mixing raw materials of the non-aqueous resist stripping liquid supplied to the preparation tank is provided for each preparation.

이 태양에 따르면, 비수계 레지스트 박리액의 원료가 미리 혼합되므로, 조제조 내에서의 혼합이나 교반의 부담이 경감되며, 보다 신속히 균일한 농도의 비수계 레지스트 박리액을 조제할 수 있다. 또한, 측정되는 성분 농도나 물성값에 의해서 비교적 좁은 농도 범위에서만 상관 관계를 얻을 수 있는 경우여도, 예비 혼합 수단을 이용함에 의해, 정확하게 소정의 성분 농도의 비수계 레지스트 박리액을 조제할 수 있다.According to this aspect, since the raw material of the non-aqueous resist stripping liquid is mixed in advance, the burden of mixing and stirring in the preparation is reduced, and the non-aqueous resist stripping liquid having a uniform concentration can be prepared more rapidly. In addition, even when a correlation can be obtained only in a relatively narrow concentration range by the measured component concentration or physical value, it is possible to prepare a non-aqueous resist stripping solution with a predetermined component concentration accurately by using the premixing means.

본 발명의 수계 레지스트 박리액의 조제 장치는, 수계 레지스트 박리액의 성분 농도와 상관 관계를 갖는 물성값, 및, 수계 레지스트 박리액의 성분 농도의 적어도 한쪽을 측정하고, 이 측정값에 의거해서, 조제조 내의 수계 레지스트 박리액이 소정의 성분 농도로 되도록 수계 레지스트 박리액을 조제하고 있다. 그 때문에, 본 발명의 수계 레지스트 박리액의 조제 장치에 의하면, 용량이나 중량으로 조제하고 있던 종래의 조제 장치에 비해, 정확한 성분 농도의 수계 레지스트 박리액을 조제할 수 있다. 또한, 본 발명의 수계 레지스트 박리액의 조제 장치에 의하면, 마찬가지로, 보다 정확한 아민 농도나 수분 농도의 수계 레지스트 박리액을 조제할 수 있다. 또한, 본 발명의 수계 레지스트 박리액의 조제 장치에 의하면, 필요시에 언제나 소정의 성분 농도의 수계 레지스트 박리액을 얻을 수 있다. 소정의 성분 농도의 수계 레지스트 박리액을, 자동적이며 또한 연속적으로 조제할 수도 있다.The apparatus for preparing a water-based resist stripping liquid according to the present invention is characterized in that at least one of a physical property value correlating with the component concentration of the water-based resist stripping solution and a component concentration of the water-based resist stripping solution is measured, The aqueous resist stripping solution is prepared so that the water-based resist stripping solution in the preparation has a predetermined component concentration. Therefore, according to the apparatus for preparing a water-based resist stripping solution of the present invention, it is possible to prepare a water-based resist stripping solution having an accurate component concentration as compared with a conventional dispensing apparatus prepared by capacity or weight. Further, according to the apparatus for preparing a water-based resist stripping liquid of the present invention, it is also possible to prepare a water-based resist stripping solution having a more accurate amine concentration and moisture concentration. Further, according to the apparatus for preparing a water-based resist stripping solution of the present invention, a water-based resist stripping solution having a predetermined component concentration can be obtained whenever necessary. It is also possible to automatically and continuously prepare an aqueous resist stripping solution having a predetermined component concentration.

본 발명의 비수계 레지스트 박리액의 조제 장치는, 비수계 레지스트 박리액의 성분 농도와 상관 관계를 갖는 물성값, 및, 비수계 레지스트 박리액의 성분 농도의 적어도 한쪽을 측정하고, 이 측정값에 의거해서, 조제조 내의 비수계 레지스트 박리액이 소정의 성분 농도로 되도록 비수계 레지스트 박리액을 조제하고 있다. 그 때문에, 본 발명의 비수계 레지스트 박리액의 조제 장치에 의하면, 용량이나 중량으로 조제하고 있던 종래의 조제 장치에 비해, 정확한 성분 농도의 비수계 레지스트 박리액을 조제할 수 있다. 또한, 본 발명의 비수계 레지스트 박리액의 조제 장치에 의하면, 마찬가지로, 보다 정확한 아민 농도의 비수계 레지스트 박리액을 조제할 수 있다. 또한, 본 발명의 비수계 레지스트 박리액의 조제 장치에 의하면, 필요시에 언제나 소정의 성분 농도의 비수계 레지스트 박리액을 얻을 수 있다. 소정의 성분 농도의 비수계 레지스트 박리액을, 자동적이며 또한 연속적으로 조제할 수도 있다.The apparatus for preparing a non-aqueous resist stripper according to the present invention is characterized in that at least one of a physical property value correlating with the component concentration of the non-aqueous resist stripper and a component concentration of the non-aqueous resist stripper is measured, Thus, a non-aqueous resist stripping solution is prepared so that the non-aqueous resist stripper solution in the tank is at a predetermined component concentration. Therefore, according to the apparatus for preparing a non-aqueous resist stripper of the present invention, it is possible to prepare a non-aqueous resist stripper having an accurate component concentration as compared with a conventional dispenser prepared by capacity or weight. Further, according to the apparatus for preparing a non-aqueous resist stripper of the present invention, a non-aqueous resist stripper having a more accurate amine concentration can be similarly prepared. Further, according to the apparatus for preparing a non-aqueous resist stripper of the present invention, a non-aqueous resist stripper having a predetermined component concentration can be obtained whenever necessary. It is also possible to automatically and continuously prepare a non-aqueous resist stripping solution having a predetermined component concentration.

또한, 본 발명의 조제 장치는, 레지스트 박리액을 사용하는 설비에 포함해서 이용할 수 있다. 이 경우, 레지스트 박리액을 사용하는 설비에 항상 정확한 농도의 레지스트 박리액을 공급할 수 있다.Further, the preparation apparatus of the present invention can be used as a facility including a resist stripping solution. In this case, it is always possible to supply the resist stripping solution of the correct concentration to the equipment using the resist stripping solution.

도 1은 제1 실시형태의 수계 레지스트 박리액의 조제 장치를 설명하기 위한 모식도.
도 2는 제2 실시형태의 수계 레지스트 박리액의 조제 장치를 설명하기 위한 모식도.
도 3은 레지스트 박리액의 모노에탄올아민 농도와 흡광도의 관계를 나타내는 그래프도.
도 4는 레지스트 박리액의 히드록실아민 농도와 흡광도의 관계를 나타내는 그래프도.
도 5는 제3 실시형태의 수계 레지스트 박리액의 조제 장치를 설명하기 위한 모식도.
도 6은 수계 레지스트 박리액의 수분 농도와 흡광도의 관계를 나타내는 그래프도.
도 7은 제4 실시형태의 수계 레지스트 박리액의 조제 장치를 설명하기 위한 모식도.
도 8은 제5 실시형태의 수계 레지스트 박리액의 조제 장치를 설명하기 위한 모식도.
도 9는 제6 실시형태의 수계 레지스트 박리액의 조제 장치를 설명하기 위한 모식도.
도 10은 제7 실시형태의 수계 레지스트 박리액의 조제 장치를 설명하기 위한 모식도.
도 11은 제8 실시형태의 비수계 레지스트 박리액의 조제 장치를 설명하기 위한 모식도.
도 12는 제9 실시형태의 비수계 레지스트 박리액의 조제 장치를 설명하기 위한 모식도.
도 13은 제10 실시형태의 비수계 레지스트 박리액의 조제 장치를 설명하기 위한 모식도.
도 14는 제11 실시형태의 비수계 레지스트 박리액의 조제 장치를 설명하기 위한 모식도.
도 15는 제12 실시형태의 비수계 레지스트 박리액의 조제 장치를 설명하기 위한 모식도.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS Fig. 1 is a schematic view for explaining an apparatus for preparing a water-based resist stripping solution according to a first embodiment. Fig.
2 is a schematic view for explaining an apparatus for preparing an aqueous resist stripping solution according to the second embodiment;
3 is a graph showing the relationship between the monoethanolamine concentration and the absorbance of the resist stripping solution.
4 is a graph showing the relationship between the hydroxylamine concentration and the absorbance of the resist stripping solution.
5 is a schematic view for explaining an apparatus for preparing an aqueous resist stripping solution according to a third embodiment;
6 is a graph showing the relationship between the moisture concentration and the absorbance of the aqueous resist stripping solution.
7 is a schematic view for explaining an apparatus for preparing an aqueous resist stripping solution according to a fourth embodiment.
8 is a schematic view for explaining an apparatus for preparing an aqueous resist stripping solution according to a fifth embodiment.
9 is a schematic view for explaining an apparatus for preparing an aqueous resist stripping solution according to the sixth embodiment.
10 is a schematic view for explaining an apparatus for preparing an aqueous resist stripping solution according to a seventh embodiment.
11 is a schematic view for explaining an apparatus for preparing a non-aqueous resist stripping solution according to an eighth embodiment;
12 is a schematic view for explaining an apparatus for preparing a non-aqueous resist stripping solution according to the ninth embodiment;
13 is a schematic view for explaining an apparatus for preparing a non-aqueous resist stripping solution according to the tenth embodiment.
14 is a schematic view for explaining an apparatus for preparing a non-aqueous resist stripping solution according to the eleventh embodiment.
15 is a schematic view for explaining an apparatus for preparing a non-aqueous resist stripping solution according to a twelfth embodiment.

이하, 적절하게 도면을 참조하면서, 본 발명의 바람직한 실시형태에 대하여 상세히 설명한다. 단, 이들 실시형태에 기재되어 있는 구성 기기의 형상, 크기, 치수비, 그 상대 배치 등은, 특별히 특정적인 기재가 없는 한, 본 발명의 범위를 도시되어 있는 것만으로 한정하는 것은 아니다. 단순한 설명예로서, 모식적으로 도시하고 있는 것에 지나지 않는다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings as appropriate. However, the shapes, sizes, dimensional ratios, relative positions, and the like of the components described in these embodiments are not limited to those shown in the drawings unless otherwise specified. As a simple explanation example, it is only schematically shown.

〔수계 레지스트 박리액의 조제 장치〕[Apparatus for preparing aqueous resist stripping solution]

[제1 실시형태][First Embodiment]

도 1은, 본 실시형태의 수계 레지스트 박리액의 조제 장치를 설명하기 위한 모식도이다. 본 실시형태의 수계 레지스트 박리액의 조제 장치(10)는, 주로, 조제조(3), 측정 수단(2), 제어 수단(1) 등으로 이루어진다.1 is a schematic diagram for explaining an apparatus for preparing an aqueous resist stripping solution according to the present embodiment. The apparatus 10 for preparing a water-based resist stripping liquid according to the present embodiment mainly comprises a preparation 3, a measuring means 2, a control means 1 and the like.

조제조(3)는, 배관 등을 통해 공급을 받은 수계 레지스트 박리액의 원료를 조합해서, 소정의 성분 농도의 수계 레지스트 박리액을 조제하기 위한 조합 용기이다. 조제조(3)는, 수계 레지스트 박리액의 원료의 공급을 받기 위해서, 각 원료 공급 배관(41, 42, 43) 등이 접속되어 있는 것 외에, 원료를 균일하게 혼합하기 위한 교반 수단(36)을 구비하고 있다. 또한, 조제한 소정의 성분 농도의 수계 레지스트 박리액을 공급하기 위한 공급 배관(4)을 구비하고 있다.The preparation (3) is a combination container for preparing a water-based resist stripping solution having a predetermined component concentration by combining raw materials of a water-based resist stripping liquid supplied through a pipe or the like. In the preparation (3), the raw material supply pipes 41, 42, 43 and the like are connected in order to receive the raw material of the water-based resist stripping liquid. In addition, the stirring means 36 for uniformly mixing the raw materials, . And a supply pipe 4 for supplying an aqueous resist stripping solution having a predetermined component concentration.

측정 수단(2)은, 조제조(3) 내에서 조제되는 수계 레지스트 박리액의 물성값 또는 성분 농도의 적어도 한쪽을 측정한다. 측정 수단(2)에 의해 측정되는 수계 레지스트 박리액의 물성값은, 이 수계 레지스트 박리액의 성분 농도와의 사이에 상관을 갖는 물성값이다. 이 상관 관계를 이용하면, 측정된 물성값으로부터 성분 농도를 얻을 수 있으며, 수계 레지스트 박리액을 소정의 성분 농도로 조정할 수도 있다.The measuring means (2) measures at least one of a physical property value or a component concentration of the aqueous resist stripping liquid prepared in preparation (3). The physical property value of the water-based resist stripping liquid measured by the measuring means 2 is a physical property having a correlation with the component concentration of the water-based resist stripping solution. By using this correlation, the component concentration can be obtained from the measured physical property values, and the aqueous resist stripping solution can be adjusted to a predetermined component concentration.

제어 수단(1)은, 측정 수단(2)의 측정 신호를 수신할 수 있도록, 측정 수단(2)과 신호선(47) 등에 의해 접속되어 있다. 또한, 제어 수단(1)은, 원료를 조제조(3)에 공급하기 위한 원료 공급 배관(41, 42, 43)에 설치된 제어 밸브(17, 18, 19)와 접속되어 있다. 제어 수단(1)이 이들 제어 밸브를 제어함에 의해, 조제조(3)에 공급되는 원료의 공급량이, 수계 레지스트 박리액의 성분 농도가 소정의 성분 농도로 되도록 조절된다.The control means 1 is connected to the measuring means 2 and the signal line 47 so as to be able to receive the measuring signal of the measuring means 2. [ The control means 1 is connected to the control valves 17, 18 and 19 provided on the raw material supply pipes 41, 42 and 43 for supplying the raw material to the crude production 3. By controlling these control valves by the control means 1, the supply amount of the raw material supplied to the preparation tank 3 is adjusted so that the concentration of the constituents of the aqueous resist stripping solution becomes a predetermined concentration of the constituents.

수계 레지스트 박리액은, 아민, 유기 용매 및 순수를 주성분으로 한다. 아민은, 아민 원료 도입구(52)로부터 아민 원료 공급 배관(42)을 통해 조제조(3)에 공급된다. 유기 용매는, 유기 용매 원료 도입구(53)로부터 유기 용매 원료 공급 배관(43)을 통해 조제조(3)에 공급된다. 마찬가지로, 순수는, 순수 도입구(51)로부터 순수 공급 배관(41)을 통해, 조제조(3)에 공급된다. 이들 외에, 첨가제 등 다른 원료가 있는 경우에는, 그 원료를 공급하기 위한 도입구, 공급 배관, 제어 밸브 등을 준비해서, 공급하면 된다. 첨가제 등 다른 원료의 공급 라인은, 도 1에는 도시하고 있지 않다. 또한, 각 원료는, 조제조(3)에 직접 공급되는 경우로 한정되지 않는다. 예를 들면, 조제조(3) 내의 수계 레지스트 박리액을 순환 교반하는 경우에는, 각 원료를, 액이 순환하는 순환 관로(34)에 합류시키게 해서, 조제조(3)에 공급해도 된다.The water-based resist stripping solution contains amine, organic solvent and pure water as a main component. The amine is supplied from the amine feed inlet 52 to the crude preparation 3 via the amine feed pipe 42. The organic solvent is supplied from the organic solvent feed inlet 53 to the preparation vessel 3 through the organic solvent feed pipe 43. Likewise, the pure water is supplied from the pure inlet 51 through the pure water feed pipe 41 to the tank 3. In addition to these, when there are other raw materials such as additives, an introduction port, a supply pipe, a control valve, and the like for supplying the raw material may be prepared and supplied. The supply lines of other raw materials such as additives are not shown in Fig. Further, each raw material is not limited to a case where it is directly supplied to the preparation 3. For example, in the case of circulating and stirring the aqueous resist stripping solution in preparation tank 3, the respective raw materials may be supplied to tank 3 by causing them to join the circulation line 34 circulating the liquid.

각 원료 공급 배관(41, 42, 43)에는, 제어 수단(1)과 신호선(46)을 통해 접속된 제어 밸브(17, 18, 19)가 설치되어 있다. 각 제어 밸브는, 제어 수단(1)에 의해 발신되는 제어 신호를 받아서, 동작 제어된다. 각 제어 밸브는, 예를 들면, 단위 시간당의 유량을 증감시키도록, 제어 수단(1)에 의해 제어되는 것이 바람직하다. 각 제어 밸브는, 유량의 디폴트값으로서, 이 디폴트값의 유량으로 공급된 원료를 조합해서 얻어지는 수계 레지스트 박리액의 성분 농도가, 측정 수단(2)에 의해 측정되는 물성값이 성분 농도와 상관 관계를 갖는 농도 범위에 들어가도록, 미리 설정되어 있는 것으로 한다.Control valves 17, 18, and 19 connected to the control means 1 and the signal line 46 are provided in the respective raw material supply pipes 41, 42, and 43. Each of the control valves receives a control signal transmitted from the control means 1 and is controlled in operation. Each control valve is preferably controlled by the control means 1 so as to increase or decrease the flow rate per unit time, for example. Each control valve is a default value of the flow rate. The concentration of the water-based resist stripping solution obtained by combining the raw materials supplied at the flow rate of the default value is set so that the physical property value measured by the measuring means 2 has a correlation with the component concentration Is set in advance so as to fall within the concentration range of the liquid.

원료 도입구(51, 52, 53)로부터 도입된 각 원료는, 원료 공급 배관(41, 42, 43), 및, 제어 밸브(17, 18, 19)를 통해, 조제조(3)에 공급된다. 조제조(3) 내에 공급된 원료는, 교반 수단(36)에 의해 교반되어, 균일한 농도의 수계 레지스트 박리액으로 된다.The respective raw materials introduced from the raw material feed ports 51, 52 and 53 are supplied to the crude production 3 via the raw material feed pipes 41, 42 and 43 and the control valves 17, 18 and 19 . The raw material supplied in the preparation tank 3 is stirred by the stirring means 36 to obtain a water-based resist stripping solution of uniform concentration.

교반 수단(36)은, 조제조(3) 내를 균일한 농도로 교반하는 것이다. 도 1에서는, 조제조(3)의 저부로부터 측부에 루프 형상으로 접속된 순환 관로(34)를 통해, 조제조(3) 내의 액의 일부를 발취(拔取)하고, 이것을 순환 교반 펌프(33)에 의해 조제조(3) 내에 교반류가 발생하도록 다시 조제조(3) 내에 되돌리는 순환 교반 방식을 묘사하고 있지만, 이것으로 한정되지 않는다. 교반 날개를 모터로 회전시키는 교반 장치여도 되며, 교반자를 조제조(3) 내에서 회전시키는 것이어도 된다.The stirring means 36 stirs the crude preparation 3 at a uniform concentration. 1, a part of the liquid in the crude preparation 3 is taken out from the bottom of the crude oil production 3 via a circulation line 34 connected in a loop shape to the side and is circulated through the circulation agitation pump 33, (3) so as to generate an agitation flow in the preparation tank (3) by means of the circulating tank (3). However, the present invention is not limited thereto. The stirring blade may be a stirring device for rotating the stirring blade with a motor, or the stirrer may be rotated in the manufacturing process (3).

조제조(3) 내에서 조제된 수계 레지스트 박리액은, 측정 수단(2)에 의해, 측정된다. 측정되는 것은, 조제조(3) 내에서 조제된 수계 레지스트 박리액의 물성값 또는 성분 농도의 적어도 어느 한쪽이다. 양쪽이어도 된다. 여기에서 측정되는 성분 농도는, 소정의 농도로 조절하려 하고 있는 수계 레지스트 박리액의 성분에 대한 농도이다. 마찬가지로, 측정되는 물성값은, 소정의 농도로 조절하려 하고 있는 수계 레지스트 박리액의 성분과 상관이 있는 수계 레지스트 박리액의 물성값이다. 측정 수단(2)에 의해 측정되는 물성값이나 성분 농도에 대응하는 수계 레지스트 박리액의 성분은, 1개로 한정되지 않으며, 복수여도 된다.The aqueous resist stripping solution prepared in the preparation 3 is measured by the measuring means 2. What is measured is at least one of a physical property value or a component concentration of the aqueous resist stripping solution prepared in preparation (3). Or both. The concentration of the component measured here is the concentration of the components of the water-based resist stripping solution to be adjusted to a predetermined concentration. Similarly, the measured physical property value is a physical property value of the water-based resist stripping liquid correlated with the component of the water-based resist stripping solution to be adjusted to a predetermined concentration. The constituents of the water-based resist stripping solution corresponding to the physical property value and the component concentration measured by the measuring means 2 are not limited to one, and may be plural.

성분 농도는 직접 측정할 수 없으므로, 통상은, 성분 농도는, 이것과 상관을 갖는 물성값을 측정하고, 그 측정값으로부터 상관 관계를 이용해서 산출된다. 그 때문에, 측정 수단(2)은, 수계 레지스트 박리액의 물성값을 측정하는 측정 장치를 구비한다. 물성값만 측정하는 경우는, 측정 수단(2)은 측정 장치 그 자체여도 된다. 측정한 물성값으로부터 성분 농도를 산출하는 경우는, 측정한 물성값을 성분 농도로 연산 가공할 필요가 있으므로, 측정 수단(2)은, 측정 장치를 구비하는 것 외에, 측정값으로부터 성분 농도를 연산하는 연산 장치 등도 구비하고 있다.Since the component concentration can not be directly measured, the component concentration is usually calculated by measuring the property value correlated with the component concentration and using the correlation from the measured value. Therefore, the measuring means 2 is provided with a measuring device for measuring the physical property value of the aqueous resist stripping solution. In the case of measuring only the physical property value, the measuring means 2 may be the measuring apparatus itself. In the case of calculating the component concentration from the measured physical property value, it is necessary to calculate and calculate the measured physical property value at the component concentration. Therefore, the measurement means 2 includes a measurement device, Device and the like.

측정 수단(2)이 구비하는 물성값의 측정 장치는, 농도를 조절해야 하는 수계 레지스트 박리액의 성분이나 측정되는 물성값에 따라서, 최적인 장치가 선택된다. 농도를 조절하려 하고 있는 수계 레지스트 박리액의 성분에 대하여, 조절하려 하고 있는 그 소정의 성분 농도를 포함하는 농도 범위에 있어서, 그 성분 농도와 양호한 상관 관계를 얻을 수 있는 물성값을 측정하는 측정 장치를 채용하면 된다. 예를 들면, 이와 같은 측정 장치로서, 흡광 광도계, 도전율계, 밀도계, 초음파 농도계, 점도계 등이 바람직하다.In the apparatus for measuring a physical property value provided by the measuring means 2, an optimum apparatus is selected according to the component of the aqueous resist stripping solution to be adjusted in concentration and the measured physical property value. A measuring device for measuring a physical property value capable of obtaining a good correlation with the component concentration in a concentration range including the concentration of the predetermined component to be controlled with respect to the component of the aqueous resist stripping solution for which the concentration is to be controlled You can do it. For example, as such a measuring apparatus, a light absorbing photometer, a conductivity meter, a density meter, an ultrasonic concentration meter, a viscometer and the like are preferable.

측정 수단(2)은, 조제조(3) 내에서 조제된 수계 레지스트 박리액을 샘플링해서, 그 물성값을 측정한다. 측정 전에 샘플링한 수계 레지스트 박리액을 온도 조정하는 등, 항상 같은 측정 조건에서 측정이 이루어지도록 되어 있는 것이 바람직하다. 그 때문에, 측정 수단(2)은, 샘플링 튜브, 샘플링 펌프(도시하지 않음), 온도 컨트롤러(도시하지 않음) 등을 구비하고 있는 것이 바람직하다.The measuring means 2 samples the aqueous resist stripping solution prepared in preparation 3 and measures its physical properties. It is preferable that the measurement is always performed under the same measurement conditions such as adjusting the temperature of the aqueous resist stripping solution sampled before the measurement. Therefore, the measuring means 2 preferably includes a sampling tube, a sampling pump (not shown), a temperature controller (not shown) and the like.

그러나, 측정의 방법은, 시료를 샘플링하는 방식으로 한정되지 않는다. 센서부를 수계 레지스트 박리액 내에 침지하는 방식이나, 순환 관로(34) 등에 측정 장치를 설치하는 방식 등, 채용한 측정 장치에 따라서, 최적인 방식에 의해 측정하면 된다.However, the method of measurement is not limited to the method of sampling the sample. It may be measured by an optimum method depending on the measuring apparatus employed such as a method of immersing the sensor unit in the aqueous resist stripping solution or a method of installing the measuring apparatus on the circulating line 34 or the like.

측정 수단(2)이 성분 농도를 측정할 경우, 측정 수단(2)에 구비된 측정 장치에 의해 측정된 물성값으로부터, 성분 농도가 산출된다. 성분 농도의 산출에는, 물성값과 성분 농도의 상관 관계가 이용된다. 이 상관 관계는, 물성값과 성분 농도의 대응 관계이며, 양자가 일대일로 대응하고 있으면, 이 상관 관계에 의거해서, 측정된 물성값으로부터 대응하는 성분 농도를 구할 수 있다.When the measuring means 2 measures the component concentration, the component concentration is calculated from the physical property values measured by the measuring device provided in the measuring means 2. [ For the calculation of the component concentration, a correlation between the property value and the component concentration is used. This correlation is a corresponding relationship between the physical property value and the component concentration, and if both of them correspond to each other on a one-to-one basis, the corresponding component concentration can be obtained from the measured physical property value based on the correlation.

상관 관계는, 소정의 감도를 얻기 위해서, 어느 정도의 기울기를 구비하고 있는 것이 바람직하지만, 반드시 직선이 아니어도 된다. 조절하려고 하는 성분 농도를 포함하는 농도 범위에서, 성분 농도가 물성값과 일대일로 대응된 연속 함수로서의 상관 관계를 갖고 있으면, 측정된 물성값으로부터 대응하는 성분 농도를 산출할 수 있다.It is preferable that the correlation has a certain degree of inclination in order to obtain a predetermined sensitivity, but it is not always required to be a straight line. The corresponding component concentration can be calculated from the measured physical property value if the component concentration has a correlation as a continuous function corresponding one-to-one with the physical property value in the concentration range including the component concentration to be regulated.

측정 수단(2)은, 측정한 물성값 또는 성분 농도를, 제어 수단(1)에 송신한다. 제어 수단(1)은, 측정 수단(2)으로부터 측정값을 수신한다. 측정 수단(2)과 제어 수단(1)은, 신호선(47)으로 접속되어 있다. 측정값의 송수신은, 이 신호선(47)을 통해 행해진다. 그러나, 이것으로 한정되지 않는다. 무선을 통해 측정값의 송수신이 이루어져도 된다. 또한, 복수의 성분에 대하여 물성값이나 성분 농도가 측정되는 경우에는, 성분마다 측정 장치와 제어 수단(1)을 연결하는 신호선을 구비하고 있어도 된다.The measuring means (2) transmits the measured physical property value or component concentration to the control means (1). The control means (1) receives the measured value from the measuring means (2). The measuring means 2 and the control means 1 are connected by a signal line 47. The measurement values are transmitted and received via the signal line 47. However, it is not limited to this. Measurement values may be transmitted and received via radio. In the case where the physical property value and the component concentration are measured for a plurality of components, a signal line may be provided for connecting the measuring device and the control means 1 to each component.

제어 수단(1)에는, 농도 제어에 있어서 목표로 하는 성분 농도의 값이 설정되어 있다. 제어 수단(1)은, 수신한 성분 농도의 측정값과 설정되어 있는 성분 농도의 목표값을 비교한다. 비교의 결과, 조절해야 하는 성분의 농도가 목표값보다 낮은 경우는, 그 성분의 공급량이 그 밖의 성분의 공급량에 대해서 상대적으로 증가하도록, 대응하는 제어 밸브를 제어한다. 반대로, 조절해야 하는 성분의 농도가 목표값보다 높은 경우는, 그 성분의 공급량이 그 밖의 성분의 공급량에 대해서 상대적으로 감소하도록, 대응하는 제어 밸브를 제어한다. 어느 제어 밸브를 어느 정도 제어할지는, 성분 농도의 목표값으로부터의 어긋남의 정도, 원료의 구성, 각 원료의 농도 등의 제반 조건에 의거해서, 제어 수단(1)이 제어 프로그램에 의해 적절하게 계산한다. 단, 제어의 방법은, 이것으로 한정되지 않는다. 상기와 같은 제어량의 목표값과 현재값을 비교해서 제어하는 비례 제어(P 제어) 외에, 소위 적분 제어(I 제어)나 미분 제어(D 제어) 등을 채용할 수 있다. 이들 제어 방법을 적절하게 조합한 PID 제어(Proportional-Integral-Differential 제어)에 의해 제어하는 것이 바람직하다.In the control means 1, the value of the target component concentration in the concentration control is set. The control means (1) compares the measured value of the received component concentration with the target value of the set component concentration. As a result of the comparison, when the concentration of the component to be controlled is lower than the target value, the corresponding control valve is controlled such that the supply amount of the component increases relative to the supply amount of the other components. Conversely, when the concentration of the component to be controlled is higher than the target value, the corresponding control valve is controlled such that the supply amount of the component decreases relative to the supply amount of the other components. The control means 1 appropriately calculates the control valve 1 according to the control program based on the degree to which the control valve is controlled, the degree of deviation of the concentration of the component from the target value, the composition of the raw material, the concentration of each raw material . However, the method of control is not limited to this. Called integral control (I control) or differential control (D control) or the like can be adopted in addition to the proportional control (P control) for comparing and controlling the target value and the present value of the control amount as described above. It is preferable to control them by PID control (Proportional-Integral-Differential control) in which these control methods are appropriately combined.

수계 레지스트 박리액의 원료 공급 배관에 설치된 각 제어 밸브(17, 18, 19)는, 신호선(46)에 의해, 제어 수단(1)과 접속되어 있다. 도 1에서는, 각 제어 밸브(17, 18, 19)가 신호선(46)에 의해 직렬로 접속되어 있는 바와 같이 묘사했지만, 각 제어 밸브가 각각 개별로 제어 수단(1)과 신호선으로 접속되어 있어도 된다. 신호선에 의하지 않아도, 무선에 의해 제어되도록 되어 있어도 된다.The control valves 17, 18, and 19 provided in the raw material supply pipe of the water-based resist stripping liquid are connected to the control means 1 by the signal line 46. 1, each of the control valves 17, 18, and 19 is depicted as being connected in series by the signal line 46; however, each of the control valves may be separately connected to the control means 1 through a signal line . It may be controlled by radio without depending on a signal line.

또한, 도 1에서는, 제어 수단(1)이 제어 밸브를 제어하는 것으로 되어 있지만, 제어 수단(1)으로서는 컴퓨터가 바람직하게 채용된다. 컴퓨터 대신에, 범용의 컨트롤러를 이용해서 제어해도 된다. 농도를 조절하는 성분마다 개별로 준비된 컨트롤러의 집합체로서, 제어 수단(1)을 구성해도 된다. 또한, 측정 수단(2)과 제어 수단(1) 대신에, 측정 수단(2)과 제어 수단(1)이 1개의 장치로서 구성된 바와 같은 소위 농도 관리 장치를 이용하는 것이어도 된다. 농도 관리 장치를 이용하는 경우에는, 조제조(3) 내의 수계 레지스트 박리액이 항상 소정의 성분 농도로 되도록, 농도 관리 장치에 제어 밸브를 제어시키면 된다.Although the control means 1 controls the control valve in Fig. 1, a computer is preferably employed as the control means 1. Fig. Instead of a computer, it may be controlled using a general-purpose controller. The control means 1 may be constituted as an aggregate of controllers separately prepared for each component for adjusting the concentration. Instead of the measuring means 2 and the control means 1, a so-called concentration control apparatus such as the one constituted by the measuring means 2 and the control means 1 may be used. In the case of using the concentration control apparatus, the control valve may be controlled to the concentration control apparatus so that the aqueous resist stripping solution in the preparation tank 3 always has the predetermined component concentration.

측정 수단(2)에 의해 측정되는 것이 물성값인 경우에는, 제어 수단(1)은, 물성값에 의거한 제어를 행한다. 즉, 측정 수단에 의해 측정되는 물성값은 성분 농도와 상관 관계를 가지므로, 이 상관 관계상에서, 조절해야 하는 소정의 성분 농도에 대응한 "소정의 물성값"을 알아낼 수 있다. 제어 수단(1)은, 측정 수단(2)에 의해 측정된 물성값이 이 "소정의 물성값"으로 되도록, 원료의 공급량을 증감시키도록, 제어 밸브(17, 18, 19)를 제어하면 된다.When the property measured by the measuring means 2 is a property value, the control means 1 performs control based on the property value. That is, since the physical property value measured by the measuring means has a correlation with the component concentration, it is possible to find a "predetermined physical property value" corresponding to a predetermined component concentration to be adjusted on this correlation. The control means 1 may control the control valves 17, 18 and 19 so as to increase or decrease the supply amount of the raw material so that the physical property value measured by the measuring means 2 becomes the "predetermined property value ".

본 실시형태의 조제 장치(10)는, 상기한 조합, 측정, 제어의 사이클을 반복하여 연속해서 행함에 의해, 소정의 성분 농도의 수계 레지스트 박리액을 자동적이며 또한 연속적으로 조제할 수 있다. 한번 조제조(3) 내에 소정의 성분 농도의 수계 레지스트 박리액을 조제해 버리면, 그 후는, 공급에 의해 감량한 분을 보충하도록, 소정의 성분 농도를 유지하면서, 수계 레지스트 박리액을 추가 조제하면 된다.The dispensing apparatus 10 of the present embodiment can automatically and continuously prepare a water-based resist stripping solution having a predetermined component concentration by repeating the above combination, measurement and control cycles repeatedly. If a water-based resist stripping solution having a predetermined component concentration is prepared in the preparation tank 3, the water-based resist stripping solution is further added so as to supplement the weight loss by the supply, while maintaining the predetermined component concentration .

조제조(3)에서 조제된 수계 레지스트 박리액은, 조제조(3)의 저부에 접속된 수계 레지스트 박리액 공급 배관(4)으로부터, 조제조(3)의 외로 공급된다. 조제 장치(10)는, 단독으로 사용할 수도 있지만, 수계 레지스트 박리액을 사용하는 다른 박리 설비에 접속해서 사용할 수도 있다. 이 경우, 수계 레지스트 박리액 공급 배관(4)을 다른 박리 설비의 수계 레지스트 박리액 공급구(54)와 접속한다. 이렇게 함으로써, 다른 박리 설비에 신선한 상태의 소정의 성분 농도의 수계 레지스트 박리액을 필요할 때에 언제나 자동적으로 공급하는 것도 가능하게 된다.The aqueous resist stripper solution prepared in preparation (3) is supplied from the water-based resist stripper solution supply pipe (4) connected to the bottom of the preparation tank (3) to the outside of the preparation tank (3). The dispenser 10 may be used alone, or it may be connected to another dissolving facility using an aqueous resist stripper. In this case, the water-based resist stripping solution supply pipe 4 is connected to the water-based resist stripping solution supply port 54 of another stripping facility. By doing so, it becomes possible to automatically supply an aqueous resist stripping solution of a predetermined component concentration in a fresh state to another stripping apparatus whenever necessary.

조제 장치(10)는, 조제조(3) 내의 수계 레지스트 박리액의 액면 위치를 검출하기 위한 액면계(計)(32)를 구비하고 있는 것이 바람직하다. 조제 장치(10)의 공급하는 수계 레지스트 박리액의 공급량이 항상 거의 일정하면, 액면계가 없어도, 조제량을 공급량과 밸런스시킴으로써, 조제조(3)를 비우지 않고, 연속적인 조제를 할 수 있다. 그러나, 공급량이 증감하는 경우에는, 액면계(32)에 의해 조제조(3) 내의 액면 위치를 검출하여, 조제조(3)가 비지 않도록 제어하는 것이 바람직하다.It is preferable that the dispenser 10 is provided with a liquid level meter 32 for detecting the liquid surface position of the aqueous resist stripping solution in the preparation tank 3. If the supply amount of the water-based resist stripping liquid supplied by the dispenser 10 is almost always constant, the dispensing amount can be balanced with the supply amount even without the liquid level meter, whereby the dispensing can be continuously performed without emptying the dispenser 3. However, in the case where the supply amount is increased or decreased, it is preferable that the level of the liquid level in the preparation tank 3 is detected by the level gauge 32 and the tank preparation 3 is controlled not to be empty.

액면계(32)는, 조제조(3) 내의 액면 위치를 검출할 수 있도록 조제조(3)에 설치되어 있는 것 외에, 신호선(48)을 통해 제어 수단(1)과 접속된다. 예를 들면, 액면계(32)는, 조제조(3) 내의 액면이 하한값을 밑도는 것을 검출해서, 제어 수단(1)에 경보 신호를 발신한다. 제어 수단(1)은, 액면 위치가 회복되도록, 제어 밸브(17, 18, 19)를 제어해서 원료의 공급량을 증가시켜, 수계 레지스트 박리액의 조제량을 늘린다. 액면 위치가 하한값을 웃돌면 경보 신호가 정지하고, 조제조(3) 내의 수계 레지스트 박리액의 양이 소정의 양까지 회복되면, 제어 수단(1)은 이 액면 위치를 유지하도록 제어한다. 이렇게 해서, 조제조(3) 내가 비지 않도록 할 수 있다. 아울러 액면 위치의 상한을 설정해 두면, 조제조(3)의 오버 플로를 방지할 수도 있다.The liquid level meter 32 is connected to the control means 1 via the signal line 48 in addition to being provided in the preparation tank 3 so as to be able to detect the liquid level position in the tank preparation 3. [ For example, the level gauge 32 detects that the liquid level in the preparation tank 3 is lower than the lower limit value, and sends an alarm signal to the control means 1. The control means 1 controls the control valves 17, 18 and 19 so as to restore the liquid surface position, thereby increasing the supply amount of the raw material and increasing the amount of the aqueous resist stripping solution. When the level of the liquid surface exceeds the lower limit value, the alarm signal stops, and when the amount of aqueous resist stripper solution in the preparation tank 3 is recovered to a predetermined amount, the control means 1 controls to maintain the liquid level position. In this way, the preparation 3 can be prevented from being empty. In addition, if the upper limit of the liquid surface position is set, it is possible to prevent the overflow of the fabrication process (3).

또, 도 1에서는, 수계 레지스트 박리액의 각 원료를 공급하는 원료 공급 배관(41, 42, 43)이 조제조(3)의 측부에 접속되어 있는 태양을 묘사했지만, 이것으로 한정되지 않는다. 상황에 따라서, 조제조(3)의 상부나 저부에 접속되어 있어도 된다. 순환 관로(34)에 접속되는 것이어도 된다. 또한, 원료 공급 배관(41, 42, 43)은, 조제조(3)와 일체적으로 접속되어 있을 필요는 없다. 예를 들면, 원료를 조제조 내에 상부로부터 적하해서 공급하도록 되어 있어도 된다. 또한, 원료가 액상물이 아닌 분상물인 경우는, 배관이 아니라, 분체 공급 장치가 접속되어 있는 것이어도 된다.1, the raw material supply piping 41, 42, 43 for supplying the raw materials of the aqueous resist stripping solution is connected to the side of the tank 3, but the present invention is not limited thereto. But may be connected to the upper portion or the bottom portion of the preparation tank 3 depending on the situation. And may be connected to the circulation duct 34. The raw material supply pipes 41, 42, and 43 need not be integrally connected to the tank making 3. For example, the raw material may be supplied dropwise from the top within the tank manufacturing apparatus. In addition, when the raw material is a liquid other than a liquid, it may be connected to a powder feeder instead of a pipe.

<수계 레지스트 박리액의 원료>&Lt; Raw materials for aqueous resist stripping solution >

수계 레지스트 박리액의 조제에는, 아민, 물, 유기 용매, 그 밖의 첨가제로 이루어지는 원료를 이용할 수 있다.As the preparation of the aqueous resist stripping solution, a raw material composed of amine, water, organic solvent, and other additives can be used.

≪아민≫«Amine»

수계 레지스트 박리액의 원료에 이용되는 아민으로서는, 알칸올아민이 바람직하게 이용된다. 알칸올아민으로서는, 모노에탄올아민, 디에탄올아민, 트리에탄올아민, N,N-디메틸에탄올아민, N,N-디에틸에탄올아민, 아미노에틸에탄올아민, N-메틸-N,N-디에탄올아민, N,N-디부틸에탄올아민, N-메틸에탄올아민, 3-아미노-1-프로판올 등을 들 수 있다. 또한, 다른 아민으로서, 히드록실아민, N-메틸디에탄올아민, 노멀프로판올아민, 모노이소프로판올아민, N-메틸디에탄올아민, 알킬벤젠설폰산, 디글리콜아민, 메틸아미노에탄올, 에틸아미노에탄올, 2-(2-아미노에톡시)에탄올, 트리에틸렌테트라민, N,N디메틸아세트아미드, 모노메틸포름아미드를 이용할 수 있다.As the amine used as a raw material for the aqueous resist stripping solution, an alkanolamine is preferably used. Examples of the alkanolamine include monoethanolamine, diethanolamine, triethanolamine, N, N-dimethylethanolamine, N, N-diethylethanolamine, aminoethylethanolamine, N-methyl- N, N-dibutylethanolamine, N-methylethanolamine, 3-amino-1-propanol and the like. Examples of other amines include hydroxylamine, N-methyldiethanolamine, normal propanolamine, monoisopropanolamine, N-methyldiethanolamine, alkylbenzenesulfonic acid, diglycolamine, methylaminoethanol, ethylaminoethanol, 2 - (2-aminoethoxy) ethanol, triethylenetetramine, N, N dimethylacetamide, and monomethylformamide can be used.

≪유기 용매≫«Organic solvent»

유기 용매로서는, 글라이콜에테르계의 유기 용매가 바람직하게 이용된다. 글라이콜에테르계의 유기 용매로서는, 부틸디글리콜, 디에틸렌글리콜모노메틸에테르, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르, 디에틸렌글리콜모노프로필에테르 등을 들 수 있다. 다른 유기 용매로서, 디메틸설폭시드, 알킬히드록시벤젠, 부틴디올, SAA, 메틸메톡시부탄올, N-메틸-2-피롤리돈, Phn, 오르토디클로로벤젠, 트리에틸렌테트라민, 메틸디글리콜을 이용할 수 있다.As the organic solvent, an organic solvent based on glycol ether is preferably used. Examples of the glycol ether-based organic solvent include butyl diglycol, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monopropyl ether and the like. As another organic solvent, dimethylsulfoxide, alkylhydroxybenzene, butynediol, SAA, methylmethoxybutanol, N-methyl-2-pyrrolidone, Phn, orthodichlorobenzene, triethylenetetramine and methyldiglycol are used .

≪그 밖의 첨가제≫«Other additives»

수계 레지스트 박리액으로서는, 아민, 유기 용매, 물(순수) 외에, 첨가제로서, 카테콜, 말톨, 실리콘계 소포제, p-니트로벤조산, 환원제(소르비톨 등), 금속 방식제, 킬레이트제 등을 첨가할 수 있다. 그 밖의 첨가제의 농도는, 수계 레지스트 박리액의 조제 시에, 수계 레지스트 박리액의 용량에 따라서 첨가함으로써, 농도를 조절할 수 있다.As the aqueous resist stripping solution, catechol, maltol, silicone antifoaming agent, p-nitrobenzoic acid, reducing agent (sorbitol, etc.), metal antiseptics, chelating agents and the like can be added as additives in addition to amine, organic solvent and water have. The concentration of the other additives can be adjusted by adding the concentration of the additive in accordance with the capacity of the aqueous resist stripping solution at the time of preparing the aqueous resist stripping solution.

[제2 실시형태][Second Embodiment]

도 2는, 본 실시형태의 수계 레지스트 박리액의 조제 장치를 설명하기 위한 모식도이다. 본 실시형태의 수계 레지스트 박리액의 조제 장치(110)는, 제1 실시형태의 조제 장치(10)와 거의 같으며, 주로 조제조(3), 측정 수단(102), 제어 수단(101) 등으로 이루어진다. 측정 수단(102)이 아민에 관한 측정 수단(121)을 구비하고, 제어 수단(101)이 아민에 관한 제어 수단(123)을 구비하고, 조제조(3)에서 소정의 아민 농도의 수계 레지스트 박리액이 조제되는 점에서 특징적이다.2 is a schematic diagram for explaining an apparatus for preparing an aqueous resist stripping solution according to the present embodiment. The apparatus for preparing an aqueous resist stripping solution 110 according to the present embodiment is substantially the same as the dispenser 10 of the first embodiment and mainly comprises a preparer 3, a measuring means 102, a control means 101 Lt; / RTI &gt; The measuring means 102 is provided with the measuring means 121 relating to the amine and the controlling means 101 is provided with the controlling means 123 relating to the amine and the water- It is characteristic in that the liquid is prepared.

본 실시형태에서는, 측정 수단(102)은 아민에 관한 측정 수단(121)을 구비한다. 아민에 관한 측정 수단(121)은, 조제조(3) 내의 수계 레지스트 박리액의 물성값 또는 아민 농도 중 적어도 한쪽을 측정하기 위한 것이다. 양쪽을 측정해도 된다. 조제 장치(110)가 아민 농도만을 측정해서 이것을 소정의 농도값으로 조절하는 경우에는, 측정 수단(102)은 아민에 관한 측정 수단(121)과 같아도 된다. 그러나, 일반적으로는, 측정 수단(102)은, 아민에 관한 측정 수단(121) 외에, 다른 성분에 관한 측정을 행하기 위한 측정 수단을 별도 구비하고 있어도 된다.In the present embodiment, the measuring means 102 includes measuring means 121 relating to the amine. The amine measuring means 121 is for measuring at least one of the physical property value or the amine concentration of the aqueous resist stripping solution in preparation 3. Both sides may be measured. The measuring means 102 may be the same as the measuring means 121 relating to amines when the preparation device 110 measures only the amine concentration and adjusts the concentration to a predetermined concentration value. However, in general, the measuring means 102 may be provided with measuring means for measuring the other components, in addition to the measuring means 121 relating to the amine.

아민에 관한 측정 수단(121)이 측정하는 물성값은, 아민 농도와 상관 관계를 갖는 물성값이다. 아민 농도와 상관 관계를 갖는 물성값으로서는, 흡광도, 도전율, 밀도, 초음파 전파 속도, 및, 점도로부터 선택되는 물성값을 이용하는 것이 바람직하다. 이 경우, 아민에 관한 측정 수단(121)은, 각각, 흡광 광도계, 도전율계, 밀도계, 초음파 농도계, 점도계 등으로 된다.The physical property value measured by the measuring means 121 relating to the amine is a physical property value having a correlation with the amine concentration. As a physical property having a correlation with the amine concentration, it is preferable to use a physical property value selected from an absorbance, an electric conductivity, a density, an ultrasonic propagation speed, and a viscosity. In this case, the measuring means 121 relating to an amine may be a light absorption photometer, a conductivity meter, a density meter, an ultrasonic concentration meter, a viscometer or the like.

아민에 관한 측정 수단(121)으로서는, 그 중에서도 흡광 광도계가 바람직하다. 적절한 측정 파장을 이용하면, 수계 레지스트 박리액의 흡광도값과 수분 농도 사이에, 비교적 양호한 직선 관계를 얻을 수 있다.As the measuring means 121 relating to an amine, a spectrophotometer is particularly preferable. By using an appropriate measurement wavelength, a relatively good linear relationship can be obtained between the absorbance value of the water-based resist stripping solution and the water concentration.

아민 농도와 직선 관계를 갖는 물성값의 일례로서, 도 3 및 도 4를 나타낼 수 있다. 도 3은, 모노에탄올아민(MEA : monoethanolamine) 농도와 흡광도(측정 파장 λ=1048㎚)의 관계를 나타내는 그래프도이고, 도 4는, 히드록실아민 농도와 흡광도(측정 파장 λ=1074㎚)의 관계를 나타내는 그래프도이다.As an example of the property value having a linear relationship with the amine concentration, Figs. 3 and 4 can be shown. 3 is a graph showing the relationship between the monoethanolamine (MEA) concentration and the absorbance (measured wavelength? = 1048 nm), and Fig. 4 is a graph showing the relationship between the hydroxylamine concentration and absorbance (measured wavelength? = 1074 nm) Fig.

도 3에 나타내는 바와 같이, 수계 레지스트 박리액에 포함되는 아민이 알칸올아민의 일종인 모노에탄올아민일 경우, 수계 레지스트 박리액의 모노에탄올아민의 농도는, 근적외부의 파장 영역에 있는 특정 파장(예를 들면, 1048㎚)에 있어서의 수계 레지스트 박리액의 흡광도에 대해서 고도한 직선 관계를 갖는다. 또한, 도 4에 나타내는 바와 같이, 수계 레지스트 박리액의 히드록실아민의 농도도, 근적외부의 파장 영역에 있는 특정 파장(예를 들면, 1074㎚)에 있어서의 수계 레지스트 박리액의 흡광도에 대해서 고도한 직선 관계를 갖는다. 따라서, 수계 레지스트 박리액의 흡광도를 측정함으로써, 아민 농도를 정확하게 측정할 수 있다. 측정하는 파장은, 아민이 모노에탄올아민일 경우, 1000 내지 1600㎚의 파장 영역으로부터 선택되는 특정의 파장인 것이 바람직하다. 다른 성분의 영향이 작은 1048㎚ 부근이, 감도가 커서 특히 양호하다. 또한, 히드록실아민일 경우, 1050 내지 1090㎚의 파장 영역으로부터 선택되는 특정의 파장인 것이 바람직하다. 다른 성분의 영향이 작은 1074㎚ 부근이, 감도가 커서 특히 양호하다.3, when the amine contained in the water-based resist stripping solution is monoethanolamine, which is one kind of alkanolamine, the concentration of monoethanolamine in the water-based resist stripping solution is preferably at a specific wavelength (For example, 1048 nm), the absorbance of the water-based resist stripping liquid is highly linear. As shown in Fig. 4, the concentration of hydroxylamine in the aqueous resist stripping solution is also higher than the absorbance of the water-based resist stripping solution at a specific wavelength (for example, 1074 nm) in the near- And has a linear relationship. Therefore, the amine concentration can be accurately measured by measuring the absorbance of the aqueous resist stripping solution. The wavelength to be measured is preferably a specific wavelength selected from the wavelength range of 1000 to 1600 nm when the amine is monoethanolamine. The vicinity of 1048 nm, in which the influence of other components is small, is particularly good because the sensitivity is large. Further, in the case of hydroxylamine, it is preferable that it is a specific wavelength selected from the wavelength region of 1050 to 1090 nm. The vicinity of 1074 nm where the influence of the other components is small is particularly good because the sensitivity is large.

본 실시형태의 조제 장치(110)에서는, 아민에 관한 측정 수단(121)이, 예를 들면, 측정 파장 1048㎚에 있어서의 수계 레지스트 박리액의 흡광도를 측정한다. 이 파장에 있어서의 흡광도는, 아민 농도(MEA 농도)와 도 3과 같은 직선 관계가 있으므로, 이 직선 관계를 이용해서, 흡광도의 측정값으로부터 정확하게 수계 레지스트 박리액의 아민 농도(MEA 농도)를 얻을 수 있다.In the preparation apparatus 110 of the present embodiment, the measuring means 121 relating to amine measures, for example, the absorbance of the aqueous resist stripping solution at a measurement wavelength of 1048 nm. Since the absorbance at this wavelength has a linear relationship with the amine concentration (MEA concentration) as shown in Fig. 3, the amine concentration (MEA concentration) of the aqueous resist stripping solution is accurately obtained from the measured value of absorbance using this linear relationship .

본 실시형태에 있어서의 제어 수단(101)은, 아민에 관한 제어 수단(123)을 구비한다. 본 실시형태의 조제 장치(110)가 아민 농도만을 소정의 농도로 조절하는 경우에는, 제어 수단(101)은 아민에 관한 제어 수단(123)과 같아도 된다. 본 실시형태의 조제 장치(110)가 아민 이외의 성분에 대해서도 농도를 조절하는 경우에는, 제어 수단(101)은 아민에 관한 제어 수단(123)을 구비할 뿐만 아니라, 다른 성분에 관한 제어 수단도 별도 구비하고 있다.The control means 101 in this embodiment includes a control means 123 for amine. When the preparation device 110 of this embodiment regulates only the amine concentration to a predetermined concentration, the control means 101 may be the same as the control means 123 relating to amine. When the preparation apparatus 110 of the present embodiment adjusts the concentration of components other than amine, the control means 101 not only includes the control means 123 relating to the amine but also control means relating to other components It is provided separately.

아민에 관한 제어 수단(123)은, 아민에 관한 측정 수단(121)과 신호선(147)에 의해 접속되는 등 하고 있고, 아민에 관한 측정 수단(121)이 얻은 측정값을 아민에 관한 측정 수단(121)으로부터 수신한다. 아민에 관한 제어 수단(123)에는, 조절해야 하는 소정의 아민 농도가 농도 제어에 있어서의 목표값의 아민 농도로서 설정되어 있다. 아민에 관한 제어 수단(123)은, 수신한 아민 농도의 측정값과 목표값의 아민 농도를 비교한다. 아민에 관한 제어 수단(123)은, 각 원료 공급 배관(41, 42, 43)에 설치된 제어 밸브(17, 18, 19)와, 신호선(46)에 의해 접속되는 등 하고 있고, 농도의 비교의 결과에 따라서, 제어 밸브(17, 18, 19)를 적절하게 동작 제어한다.The control means 123 relating to the amine is connected to the measuring means 121 relating to the amine by the signal line 147 and the like and the measured value obtained by the measuring means 121 relating to the amine is converted into the measuring means relating to the amine 121). The predetermined amine concentration to be adjusted is set as the amine concentration of the target value in the concentration control in the control means 123 relating to the amine. The control means 123 for the amine compares the measured value of the amine concentration with the amine concentration of the target value. The control means 123 relating to the amine is connected to the control valves 17, 18 and 19 provided on the respective raw material supply pipes 41, 42 and 43 by a signal line 46, According to the result, the control valves 17, 18, and 19 are suitably operated.

예를 들면, 측정 수단(102)의 아민에 관한 측정 수단(121)에 의해 측정된 아민 농도가 목표값의 아민 농도보다 낮은 경우는, 제어 수단(101)의 아민에 관한 제어 수단(123)은 제어 밸브(18)의 유량을 늘려서, 또는, 제어 밸브(17이나 19)의 유량을 줄여서, 아민 원액의 상대적인 공급량을 늘린다. 아민 농도가 목표값의 아민 농도보다 높은 경우는, 반대로, 아민에 관한 제어 수단(123)은 제어 밸브(18)의 유량을 줄여서, 혹은, 제어 밸브(17이나 19)의 유량을 늘려서, 순수 및 유기 용매의 적어도 어느 하나의 공급량을 상대적으로 늘려서, 아민 원액의 상대적인 공급량을 줄여, 아민 농도를 제어한다. 단, 제어 방법은, 이것으로 한정되지 않는다. PID 제어 등, 각종 제어 방법을 적절하게 채용할 수 있다.For example, when the amine concentration measured by the measuring means 121 relating to the amine of the measuring means 102 is lower than the amine concentration of the target value, the control means 123 relating to the amine of the control means 101 The flow rate of the control valve 18 is increased or the flow rate of the control valve 17 or 19 is decreased to increase the relative supply amount of the amine stock solution. On the other hand, when the amine concentration is higher than the amine concentration of the target value, the control means 123 for the amine decreases the flow rate of the control valve 18 or increases the flow rate of the control valve 17 or 19, The supply amount of at least one of the organic solvents is relatively increased, and the relative supply amount of the amine raw solution is reduced to control the amine concentration. However, the control method is not limited to this. Various control methods such as PID control can be suitably employed.

또, 아민에 관한 측정 수단(121)이 측정한 물성값으로부터, 측정한 물성값과 상관 관계상의 목표값의 아민 농도에 대응하는 물성값을 비교함에 의해 아민 농도를 제어해도 된다.The amine concentration may be controlled by comparing the physical property values measured by the measuring means 121 relating to amines with the physical property values corresponding to the amine concentrations of the target values correlated with the measured physical property values.

예를 들면, 도 3이나 도 4에 나타내는 바와 같은 직선 관계가 얻어지는 경우와 같이, 물성값과 아민 농도가 일대일로 대응한 상관 관계를 갖는 경우에는, 이 상관 관계에 의거해서, 아민 농도에 대응하는 물성값을 얻을 수 있다. 따라서, 조절해야 하는 소정의 아민 농도에 대응하는 "소정의 물성값"이 존재한다. 아민에 관한 측정 수단(121)이 측정한 물성값이 이 "소정의 물성값"으로 되도록, 아민에 관한 제어 수단(123)이 원료의 공급량을 제어함으로써, 조제조(3)에서 조제되는 수계 레지스트 박리액을 소정의 아민 농도로 할 수 있다.For example, when a physical property value and an amine concentration have a corresponding one-to-one correspondence, as in the case where a linear relationship as shown in Fig. 3 or Fig. 4 is obtained, on the basis of this correlation, Can be obtained. Thus, there is a "predetermined property value" corresponding to the desired amine concentration to be controlled. The control means 123 for the amine controls the supply amount of the raw material so that the measured physical property value of the amine measurement means 121 becomes the "predetermined physical property value ", whereby the aqueous resist removal solution To a predetermined amine concentration.

본 실시형태의 제1 실시형태와 공통되는 그 밖의 구성에 대해서는, 제1 실시형태와 같으므로, 그 설명을 생략한다.Other configurations common to those of the first embodiment of the present embodiment are the same as those of the first embodiment, and a description thereof will be omitted.

[제3실시형태][Third embodiment]

도 5는, 본 실시형태의 수계 레지스트 박리액의 조제 장치를 설명하기 위한 모식도이다. 본 실시형태의 수계 레지스트 박리액의 조제 장치(210)는, 제1 실시형태의 조제 장치(10)와 거의 같으며, 주로 조제조(3), 측정 수단(202), 제어 수단(201) 등으로 이루어진다. 측정 수단(202)이 수분에 관한 측정 수단(222)을 구비하고, 제어 수단(201)이 수분에 관한 제어 수단(224)을 구비하고, 조제조(3)에서 소정의 수분 농도의 수계 레지스트 박리액이 조제되는 점에서 특징적이다.5 is a schematic view for explaining an apparatus for preparing an aqueous resist stripping solution according to the present embodiment. The apparatus 210 for preparing a water-based resist stripping liquid according to the present embodiment is substantially the same as the dispenser 10 of the first embodiment and mainly comprises a preparer 3, a measuring means 202, a control means 201 Lt; / RTI &gt; It is preferable that the measuring means 202 is provided with measuring means 222 relating to moisture and the control means 201 is provided with the control means 224 relating to moisture and the water- It is characteristic in that the liquid is prepared.

본 실시형태에서는, 측정 수단(202)은 수분에 관한 측정 수단(222)을 구비한다. 수분에 관한 측정 수단(222)은, 조제조(3) 내의 수계 레지스트 박리액의 물성값 또는 수분 농도 중 적어도 한쪽을 측정하기 위한 것이다. 양쪽을 측정해도 된다. 조제 장치(210)가 수분 농도만을 측정해서 이것을 소정의 농도값으로 조절하는 경우에는, 측정 수단(202)은 수분에 관한 측정 수단(222)과 같아도 된다. 그러나, 일반적으로는, 측정 수단(202)은, 수분에 관한 측정 수단(222) 외에, 다른 성분에 관한 측정을 행하기 위한 측정 수단을 별도 구비하고 있어도 된다.In this embodiment, the measuring means 202 is provided with measuring means 222 for moisture. The moisture measuring means 222 is for measuring at least one of the physical property value of the water-based resist stripping solution and the water concentration in the preparation tank 3. Both sides may be measured. When the dispenser 210 measures only the concentration of water and adjusts it to a predetermined concentration value, the measuring means 202 may be the same as the measuring means 222 relating to moisture. However, in general, the measuring means 202 may be provided with measuring means for measuring other components in addition to the measuring means 222 relating to moisture.

수분에 관한 측정 수단(222)이 측정하는 물성값은, 수분 농도와 상관 관계를 갖는 물성값이다. 수분 농도와 상관 관계를 갖는 물성값에 대해서도, 흡광도, 도전율, 밀도, 초음파 전파 속도, 및, 점도로부터 선택되고, 수분 농도와 직선 관계가 얻어지는 물성값을 이용하는 것이 바람직하다. 이 경우, 수분에 관한 측정 수단(222)은, 각각, 흡광 광도계, 도전율계, 밀도계, 초음파 농도계, 점도계 등으로 된다.The physical property value measured by the measuring means 222 relating to water is a physical property value having a correlation with the water concentration. It is preferable to use a property value which is selected from the absorbance, the conductivity, the density, the ultrasonic wave propagation velocity, and the viscosity and has a linear relationship with the moisture concentration, with respect to the physical property having a correlation with the water concentration. In this case, the measurement means 222 relating to moisture may be a absorption spectrophotometer, a conductivity meter, a density meter, an ultrasonic concentration meter, a viscometer or the like.

수분에 관한 측정 수단(222)으로서는, 그 중에서도 흡광 광도계가 바람직하다. 적절한 측정 파장을 이용하면, 수계 레지스트 박리액의 흡광도값과 수분 농도 사이에, 비교적 양호한 직선 관계를 얻을 수 있다.As the measuring means 222 relating to moisture, a light absorbing photometer is particularly preferable. By using an appropriate measurement wavelength, a relatively good linear relationship can be obtained between the absorbance value of the water-based resist stripping solution and the water concentration.

수분 농도와 직선 관계를 갖는 물성값의 일례로서, 도 6에, 수계 레지스트 박리액의 수분 농도와 흡광도의 관계를 나타내는 그래프도를 나타낸다. 수분 농도와의 직선 관계를 나타내는 흡광도의 측정 파장은, 근적외선 영역의 950㎚ 내지 2000㎚의 범위로부터 선택되는 특정의 파장인 것이 바람직하다. 특히 1940㎚ 부근에서 감도가 커서 바람직하다. 또한, 950㎚ 내지 1010㎚의 범위, 특히 976㎚ 부근에 있어서 감도가 커서 바람직하다. 도 6은, 측정 파장 λ=1940㎚에 있어서의 수계 레지스트 박리액의 흡광도와 수분 농도의 관계를 나타내는 그래프도이다. 또, 측정 파장 λ=976㎚에 있어서도, 도 6에 나타내는 그래프와 마찬가지로 고도한 직선 관계를 갖는 것이 실험에 의해 확인되어 있다. 이와 같이, 수계 레지스트 박리액의 흡광도를 검출함으로써, 수분 농도를 정확하게 측정할 수 있다.6 is a graph showing the relationship between the moisture concentration and the absorbance of the water-based resist stripping liquid as an example of the physical property value having a linear relationship with the water concentration. It is preferable that the wavelength of the absorbance indicating the linear relationship with the moisture concentration is a specific wavelength selected from the range of 950 nm to 2000 nm in the near infrared region. Particularly at around 1940 nm. Also, the sensitivity is preferably in the range of 950 nm to 1010 nm, especially around 976 nm, which is preferable. 6 is a graph showing the relationship between the absorbance of water-based resist stripping solution and the water concentration at the measurement wavelength? = 1940 nm. It has also been confirmed experimentally that the measured wavelength? = 976 nm has an extremely linear relationship as in the case of the graph shown in FIG. Thus, by detecting the absorbance of the aqueous resist stripping solution, it is possible to accurately measure the moisture concentration.

본 실시형태의 조제 장치(210)에서는, 수분에 관한 측정 수단(222)이, 예를 들면, 측정 파장 1940㎚에 있어서의 수계 레지스트 박리액의 흡광도를 측정한다. 이 파장에 있어서의 흡광도는, 수분 농도와 도 6과 같은 직선 관계가 있으므로, 이 직선 관계를 이용해서, 흡광도의 측정값으로부터 정확하게 수계 레지스트 박리액의 수분 농도를 얻을 수 있다.In the dispenser 210 of the present embodiment, the moisture measuring means 222 measures, for example, the absorbance of the aqueous resist stripping solution at a measurement wavelength of 1940 nm. Since the absorbance at this wavelength has a linear relationship with the moisture concentration as shown in Fig. 6, the water concentration of the water-based resist stripping liquid can be accurately obtained from the measured value of the absorbance using this linear relationship.

본 실시형태에 있어서의 제어 수단(201)은, 수분에 관한 제어 수단(224)을 구비한다. 본 실시형태의 조제 장치(210)가 수분 농도만을 소정의 농도로 조절하는 경우에는, 제어 수단(201)은 수분에 관한 제어 수단(224)과 같아도 된다. 본 실시형태의 조제 장치(210)가 수분 이외의 성분에 대해서도 농도를 조절하는 경우에는, 제어 수단(201)은 수분에 관한 제어 수단(224)을 구비할 뿐만 아니라, 다른 성분에 관한 제어 수단도 별도 구비하고 있다.The control means 201 in this embodiment is provided with control means 224 relating to moisture. When the dispenser 210 of this embodiment adjusts only the moisture concentration to a predetermined concentration, the control means 201 may be the same as the control means 224 relating to moisture. When the dispenser 210 of the present embodiment adjusts the concentration for components other than water, the control means 201 not only has the control means 224 for moisture, but also controls the other components It is provided separately.

수분에 관한 제어 수단(224)은, 수분에 관한 측정 수단(222)과 신호선(247)에 의해 접속되는 등 하고 있고, 수분에 관한 측정 수단(222)이 얻은 측정값을 수분에 관한 측정 수단(222)으로부터 수신한다. 수분에 관한 제어 수단(224)에는, 조절해야 하는 소정의 수분 농도가 농도 제어에 있어서의 목표값의 수분 농도로서 설정되어 있다. 수분에 관한 제어 수단(224)은, 수신한 수분 농도의 측정값과 목표값의 수분 농도를 비교한다. 수분에 관한 제어 수단(224)은, 각 원료 공급 배관(41, 42, 43)에 설치된 제어 밸브(17, 18, 19)와, 신호선(46)에 의해 접속되는 등 하고 있고, 농도의 비교의 결과에 따라서, 제어 밸브(17, 18, 19)를 적절하게 동작 제어한다.The moisture control means 224 is connected to the moisture measurement means 222 by a signal line 247 and the like so that the measurement value obtained by the measurement means 222 relating to moisture is measured by measuring means 222). The predetermined water concentration to be adjusted is set as the moisture concentration of the target value in the concentration control in the water control means 224. The control means 224 for moisture compares the measured value of the received moisture concentration with the moisture concentration of the target value. The moisture control means 224 is connected to the control valves 17, 18 and 19 provided on the respective raw material supply pipes 41, 42 and 43 by a signal line 46, According to the result, the control valves 17, 18, and 19 are suitably operated.

수분 농도에 대해서도, 측정 수단(202)의 수분에 관한 측정 수단(222)에 의해 측정된 수분 농도가 목표값의 수분 농도보다 낮은 경우는, 제어 수단(201)은 제어 밸브(17)의 유량을 늘려서, 또는, 제어 밸브(18이나 19)의 유량을 줄여서, 순수의 상대적인 공급량을 늘린다. 수분 농도가 목표값의 수분 농도보다 높은 경우는, 반대로, 수분에 관한 제어 수단(224)은 제어 밸브(17)의 유량을 줄여서, 혹은, 제어 밸브(18이나 19)의 유량을 늘려서, 아민 원액 및 유기 용매의 적어도 어느 하나의 공급량을 상대적으로 늘려서, 순수의 상대적인 공급량을 줄여, 수분 농도를 제어한다. 단, 제어 방법은, 이것으로 한정되지 않는다. PID 제어 등, 각종 제어 방법을 적절하게 채용할 수 있다.When the water concentration measured by the measuring means 222 relating to the moisture of the measuring means 202 is lower than the water concentration of the target value, the control means 201 calculates the flow rate of the control valve 17 Or the flow rate of the control valve 18 or 19 is reduced to increase the relative supply amount of pure water. On the other hand, when the water concentration is higher than the target water concentration, the control means 224 for moisture decreases the flow rate of the control valve 17 or increases the flow rate of the control valve 18 or 19, And at least one of the organic solvent and the organic solvent is relatively increased, thereby reducing the relative supply amount of pure water and controlling the moisture concentration. However, the control method is not limited to this. Various control methods such as PID control can be suitably employed.

또, 수분 농도의 조절에 대해서도, 수분에 관한 측정 수단(222)이 측정한 물성값으로부터, 측정한 물성값과 상관 관계상의 목표값의 수분 농도에 대응하는 물성값을 비교함에 의해 수분 농도를 제어해도 된다.The moisture concentration may also be controlled by comparing the measured physical property value with the physical property value corresponding to the moisture concentration of the target value in correlation with the physical property value measured by the measurement means 222 for moisture.

예를 들면, 도 6에 나타내는 바와 같은 직선 관계가 얻어지는 경우와 같이, 물성값과 수분 농도가 일대일로 대응한 상관 관계를 갖는 경우에는, 이 상관 관계에 의거해서, 수분 농도에 대응하는 물성값을 얻을 수 있다. 따라서, 조절해야 하는 소정의 수분 농도에 대응하는 "소정의 물성값"이 존재한다. 수분에 관한 측정 수단(222)이 측정한 물성값이 이 "소정의 물성값"으로 되도록, 수분에 관한 제어 수단(224)이 원료의 공급량을 제어함으로써, 조제조(3)에서 조제되는 수계 레지스트 박리액을 소정의 수분 농도로 할 수 있다.For example, when the physical property value and the water concentration have a one-to-one corresponding correlation, as in the case where a linear relationship as shown in Fig. 6 is obtained, the physical property value corresponding to the water concentration can be obtained have. Accordingly, there is a "predetermined property value" corresponding to a predetermined moisture concentration to be adjusted. The control means 224 for moisture controls the supply amount of the raw material so that the measured physical property value of the moisture measuring means 222 becomes the "predetermined physical property value ", whereby the aqueous resist removing solution Can be set to a predetermined water concentration.

본 실시형태의 제1 실시형태와 공통되는 그 밖의 구성에 대해서는, 제1 실시형태와 같으므로, 그 설명을 생략한다.Other configurations common to those of the first embodiment of the present embodiment are the same as those of the first embodiment, and a description thereof will be omitted.

[제4 실시형태][Fourth Embodiment]

도 7은, 본 실시형태의 수계 레지스트 박리액의 조제 장치를 설명하기 위한 모식도이다. 본 실시형태의 수계 레지스트 박리액의 조제 장치(310)는, 제1 실시형태의 조제 장치(10)와 거의 같으며, 주로 조제조(3), 측정 수단(302), 제어 수단(301) 등으로 이루어진다. 그러나, 측정 수단(302)이 아민에 관한 측정 수단(321) 및 수분에 관한 측정 수단(322)을 구비하는 점, 제어 수단(301)이 조제조(3) 내의 수계 레지스트 박리액의 아민 농도가 소정의 아민 농도로 되도록, 및, 조제조(3) 내의 수계 레지스트 박리액의 수분 농도가 소정의 수분 농도로 되도록, 원료의 공급량을 제어하는 점, 및, 조제조(3)에서 소정의 아민 농도 및 소정의 수분 농도의 수계 레지스트 박리액이 조제되는 점에서 특징적이다.Fig. 7 is a schematic diagram for explaining an apparatus for preparing an aqueous resist stripping solution according to the present embodiment. The apparatus 310 for preparing a water-based resist stripping liquid according to the present embodiment is substantially the same as the dispenser 10 of the first embodiment and mainly comprises a preparer 3, a measuring means 302, a control means 301 Lt; / RTI &gt; However, since the measuring means 302 is provided with the measuring means 321 relating to the amine and the measuring means 322 relating to the moisture, the control means 301 is arranged so that the amine concentration of the aqueous resist stripping solution in preparation preparation 3 is (3) is controlled so that the water concentration of the water-based resist stripping liquid in preparation preparation (3) becomes a predetermined moisture concentration, and that the predetermined amount of amine concentration And a water-based resist stripping liquid having a predetermined moisture concentration are prepared.

본 실시형태에서는, 측정 수단(302)은 아민에 관한 측정 수단(321), 및, 수분에 관한 측정 수단(322)을 구비한다. 아민에 관한 측정 수단(321)은, 조제조(3) 내의 수계 레지스트 박리액의 물성값 또는 아민 농도 중 적어도 한쪽을 측정하기 위한 것이다. 양쪽을 측정해도 된다. 수분에 관한 측정 수단(322)은, 조제조(3) 내의 수계 레지스트 박리액의 물성값 또는 수분 농도 중 적어도 한쪽을 측정하기 위한 것이다. 양쪽을 측정해도 된다. 조제 장치(310)가 아민 농도와 수분 농도만을 측정해서 이들을 소정의 농도값으로 조절하는 경우에는, 측정 수단(302)은 아민에 관한 측정 수단(321)과 수분에 관한 측정 수단(322)만이어도 된다. 그러나, 일반적으로는, 측정 수단(302)은, 이들 외에, 다른 성분에 관한 측정을 행하기 위한 측정 수단을 별도 구비하고 있어도 된다. In the present embodiment, the measuring means 302 includes a measuring means 321 relating to amine and a measuring means 322 relating to moisture. The amine measuring means 321 is for measuring at least one of a physical property value or an amine concentration of the aqueous resist stripping solution in preparation 3. Both sides may be measured. The measurement means 322 relating to moisture is for measuring at least one of a physical property value or a moisture concentration of the aqueous resist stripping solution in preparation 3. Both sides may be measured. When the preparation device 310 measures only the amine concentration and the moisture concentration and adjusts them to a predetermined concentration value, the measuring means 302 is provided with only the amine measuring means 321 and the moisture measuring means 322, do. However, in general, the measuring means 302 may be provided with measuring means for performing measurements relating to other components.

본 실시형태에 있어서의 제어 수단(301)은, 아민에 관한 제어 수단(323), 수분에 관한 제어 수단(324), 그 밖의 성분에 관한 제어 수단 등을 구비한다. 또는, 이들의 기능에 상당하는 기능을 하나로 묶어 구비한 1개의 제어 수단이어도 된다. 제어 수단(301)은 측정 수단(302)의 측정 신호를 수신할 수 있도록, 측정 수단(302)과 신호선(347) 등에 의해 접속되어 있다. 본 실시형태의 아민 농도의 제어는, 제2 실시형태와 마찬가지이다. 본 실시형태의 수분 농도의 제어는, 제3 실시형태와 마찬가지이다. 그 외에, 제1∼3의 실시형태와 공통되는 구성에 대해서는, 각각의 실시형태에서 설명한 사항과 같으므로, 본 실시형태에 있어서의 그 설명을 생략한다.The control means 301 in the present embodiment includes control means 323 relating to amine, control means 324 relating to moisture, control means relating to other components, and the like. Alternatively, they may be one control unit that combines functions equivalent to those functions. The control means 301 is connected to the measuring means 302 and the signal line 347 so as to be able to receive the measurement signal of the measuring means 302. The control of the amine concentration in this embodiment is the same as that in the second embodiment. The control of the water concentration in this embodiment is the same as that in the third embodiment. In addition, the configurations common to those of the first to third embodiments are the same as those described in the respective embodiments, and the description in the present embodiment will be omitted.

또, 도 7에서는, 본 실시형태의 조제 장치(310)가, 원료 저류 용기(320)와, 수계 레지스트 박리액을 사용하는 박리 설비(390)에 접속된 태양을 나타냈다. 이와 같이, 조제 장치(310)는, 원료 저류 용기(320)나, 박리 설비(390)와 접속해서, 박리 공정이 행해지는 공장에 있어서의 온사이트 운전을 할 수 있다.7 shows a state in which the preparation apparatus 310 of this embodiment is connected to the raw material storage container 320 and the peeling apparatus 390 using an aqueous resist stripping solution. Thus, the preparation device 310 can be connected to the raw material storage container 320 and the peeling facility 390 to perform on-site operation in a factory where the peeling process is performed.

원료 저류 용기(320)는, 수계 레지스트 박리액의 원료를 일시적으로 저류해 두기 위한 용기이다. 아민 저류 용기(311a, 311b)나, 유기 용매 저류 용기(312a, 312b) 등으로 이루어진다. 아민 저류 용기(311a, 311b)나 유기 용매 저류 용기(312a, 312b)는, 각각 1개여도 되지만, 도 7에 나타내는 바와 같이 각각 2개 구비하고 있으면 보다 바람직하다. 아민 저류 용기(311a, 311b)는, 아민 원료 도입구(52)로부터 아민 원료 보충 배관(342)을 통해, 아민이 항상 저류되어 있다. 또한, 유기 용매 저류 용기(312a, 312b)는, 유기 용매 원료 도입구(53)로부터 유기 용매 원료 보충 배관(343)을 통해, 유기 용매가 항상 저류되어 있다. 원료 저류 용기(320)에 항상 필요한 원료를 준비해 둠으로써, 조제 장치(310)는, 도중에 끊어지지 않고 원료의 공급을 받을 수 있어, 연속적으로 수계 레지스트 박리액을 조제하는 것이 가능하게 된다.The raw material storage container 320 is a container for temporarily storing the raw material of the aqueous resist stripping solution. Amine holding vessels 311a and 311b, organic solvent holding vessels 312a and 312b, and the like. The number of the amine storage vessels 311a, 311b and the number of the organic solvent storage vessels 312a, 312b may be one, but two are preferably provided as shown in FIG. Amines are always stored in the amine storage vessels 311a and 311b from the amine material inlet 52 through the amine feed pipe 342. [ In the organic solvent storage containers 312a and 312b, the organic solvent is always stored from the organic solvent feed port 53 through the organic solvent feed pipe 343. By preparing the raw material always required for the raw material storage container 320, the preparation device 310 can receive the raw material without being cut off on the way, and it is possible to continuously prepare the aqueous resist stripping solution.

아민 저류 용기(311a, 311b) 및 유기 용매 저류 용기(312a, 312b)는, 조제 장치(310)와 아민 공급 배관(344) 및 유기 용매 공급 배관(345)에 의해 접속되고, 원료 저류 용기(320)로부터 각종 원료가 조제조(3)에 공급된다. 공급의 방식은, 송액 펌프에 의한 방식이어도 되며, 용기의 가압 압송 방식이어도 된다. 필요하면, 도 7에 나타내는 바와 같이, 원료 저류 용기(320)와 조제조(3)를 접속하는 아민 공급 배관(344) 및 유기 용매 공급 배관(345)에 제어 밸브(313a∼316b)를 설치해서, 조제 장치(310)가 이들을 제어하도록 해도 된다.The amine storage vessels 311a and 311b and the organic solvent storage vessels 312a and 312b are connected to the preparation vessel 310 by an amine supply line 344 and an organic solvent supply line 345, Are supplied to the preparation tank 3. The feeding method may be a method using a liquid delivery pump, or a pressurized feeding method of the container. 7, control valves 313a to 316b may be provided in the amine supply pipe 344 and the organic solvent supply pipe 345 for connecting the raw material storage container 320 and the preparation 3, , And the dispenser 310 may control them.

한편, 조제 장치(310)는, 박리 설비(390)와, 조제조(3)에 접속된 수계 레지스트 박리액 공급 배관(304)을 개재해서 접속된다. 수계 레지스트 박리액 공급 배관(304)에는, 송액 펌프(325) 및 제어 밸브(326) 등이 설치되어 있다.On the other hand, the dispenser 310 is connected via the dissolving facility 390 and the water-based resist stripping solution supply pipe 304 connected to the preparation 3. The water-based resist stripping liquid supply pipe 304 is provided with a liquid feed pump 325, a control valve 326, and the like.

조제조(3)에서 조제된 수계 레지스트 박리액은, 송액 펌프(325)에 의해, 수계 레지스트 박리액 공급 배관(304)을 통해서, 수계 레지스트 박리액 공급구(354)로부터 박리 설비(390)에 공급된다. 박리 설비(390)는, 신호선(392)을 통해 제어 수단(301)과 접속되어 있다. 제어 수단(301)은, 박리 설비(390)로부터 발신되는 수계 레지스트 박리액 공급 리퀘스트 신호를, 신호선(392)을 통해 수신한다. 제어 밸브(326)는, 신호선(349)을 통해 제어 수단(301)과 접속되어 있다. 제어 수단(301)은, 박리 설비(390)측의 요구에 따라서, 제어 밸브(326)를 개폐 제어한다. 이것에 의해, 박리 설비(390)는, 수계 레지스트 박리액이 필요할 때에, 필요한 양만, 자동적으로 수계 레지스트 박리액의 공급을 받을 수 있다.The aqueous resist stripper liquid prepared in preparation (3) is supplied to the stripping facility 390 from the water-based resist stripping liquid supply port 354 through the water-based resist stripping liquid supply pipe 304 by the liquid feeding pump 325 . The peeling facility 390 is connected to the control means 301 through a signal line 392. [ The control means 301 receives the aqueous resist stripping liquid supply request signal transmitted from the stripping facility 390 through the signal line 392. [ The control valve 326 is connected to the control means 301 through a signal line 349. [ The control means (301) controls opening and closing of the control valve (326) in accordance with the request of the peeling facility (390). Thereby, the peeling apparatus 390 can automatically receive the aqueous resist stripping liquid only when necessary, when the aqueous resist stripping liquid is needed.

[제5 실시형태][Fifth Embodiment]

도 8은, 제5 실시형태에 따른 수계 레지스트 박리액의 조제 장치를 설명하기 위한 모식도이다. 제1부터 제4까지의 실시형태의 수계 레지스트 박리액의 조제 장치(10, 110, 210, 310)는, 조제조(3)에서 조제된 수계 레지스트 박리액을 저류하는 저류조(402)를 구비하는 점이 다르다.8 is a schematic diagram for explaining an apparatus for preparing an aqueous resist stripping solution according to the fifth embodiment. The apparatus (10, 110, 210, 310) for preparing the aqueous resist stripping solution of the first to fourth embodiments includes a storage tank 402 for storing the aqueous resist stripping solution prepared in preparation (3) The point is different.

제5 실시형태의 수계 레지스트 박리액의 조제 장치(410)에 있어서도, 제1 실시형태의 수계 레지스트 박리액의 조제 장치(10)와 마찬가지로, 조제조(3) 내의 수계 레지스트 박리액의 물성값 또는 성분 농도의 적어도 어느 한쪽을 측정함으로써, 조제조(3) 내의 레지스트 박리액의 성분 농도를 소정의 농도로 조절한다.In the apparatus for preparing a water-based resist stripping liquid 410 of the fifth embodiment, the physical property value or component (s) of the water-based resist stripping liquid in the preparation step (3) Concentration of the resist stripping solution in preparation preparation (3) is adjusted to a predetermined concentration.

조제조(3)에서 조제된 수계 레지스트 박리액은, 조제조(3)로부터 저류조(402)에 송액되어, 저류조(402)에 저류된다. 송액의 방법은, 송액 펌프 등에 의해 이송하는 방식 등이면 되며, 특별히 한정은 하지 않는다. 도 8에 나타내는 바와 같이, 연통관(435)에 의해 조제조(3)와 저류조(402)를 연결해 두면, 송액 펌프 등을 필요로 하지 않고 자연 송액되기 때문에 간편하며 편리해서 바람직하다.The aqueous resist stripper solution prepared in preparation (3) is fed from the preparation tank 3 to the storage tank 402 and stored in the storage tank 402. The method of pumping may be a method of transferring by a pumping pump or the like, and is not particularly limited. As shown in Fig. 8, if the preparation tank 3 and the storage tank 402 are connected to each other by the communicating pipe 435, it is convenient and convenient because the pump is naturally fed without the need of a feed pump or the like.

연통관(435)은, 수계 레지스트 박리액이 유통하는 관로이다. 도 8에 나타내는 바와 같이, 조제조(3)는 저류조(402)보다도 높은 위치에 설치된다. 연통관(435)은, 예를 들면 도 8과 같이, 조제조(3)의 저부와 저류조(402)의 측부를 접속한다. 저류조(402)로부터 박리 설비(390)에 수계 레지스트 박리액이 공급됨으로써, 저류조(402) 내에 저류되어 있는 수계 레지스트 박리액량이 감소하면, 조제조(3)에서 조제된 수계 레지스트 박리액이 연통관(435)을 통해서, 저류조(402)에 자연적으로 이동한다. 연통관(435)은 적당한 길이와 배관 내경을 갖고, 조제조(3)에서 발생하는 수계 레지스트 박리액의 농도의 변동이 저류조(402) 내에 미치지 않도록 하는 농도 변동의 완충 작용을 갖는다.The communicating tube 435 is a conduit through which the aqueous resist stripping solution flows. As shown in FIG. 8, tank 3 is provided at a position higher than the storage tank 402. The communicating tube 435 connects the bottom of the preparation tank 3 and the side of the storage tank 402, for example, as shown in Fig. When the amount of the aqueous resist stripping liquid stored in the storage tank 402 is reduced by supplying the aqueous resist stripping liquid to the stripping apparatus 390 from the storage tank 402, the aqueous resist stripping liquid prepared in Preparation 3 is discharged into the communication pipe 435 to the reservoir 402. In this way, The communicating tube 435 has a proper length and a pipe inner diameter and has a buffering action of concentration fluctuation that prevents fluctuations in the concentration of the aqueous resist stripping solution generated in preparation 3 from falling within the storage tank 402.

저류조(402)도, 조제조(3)와 마찬가지로, 측정 수단(431) 및 액면계(432)를 구비하고 있는 것이 바람직하다. 측정 수단(431)으로서는, 조제조(3)에 구비하고 있는 것과 같은 것을 이용할 수 있다. 측정 수단(431)은, 또한, 아민에 관한 측정 수단, 및, 수분에 관한 측정 수단 중 어느 하나, 또는 양쪽을 구비하고 있어도 된다. 이들 장치에 의해, 저류조(402)에 저류된 수계 레지스트 박리액의 물성값, 또는, 성분 농도의 측정을 할 수 있다.The reservoir tank 402 is also preferably provided with a measuring means 431 and a level gauge 432 as in the preparation tank 3. As the measuring means 431, those the same as those provided in preparation 3 can be used. The measuring means 431 may further include either or both of measuring means relating to amine and measuring means relating to moisture. By these devices, the physical property value or the component concentration of the aqueous resist stripper solution stored in the storage tank 402 can be measured.

또한, 측정 수단(431) 및 액면계(432)도, 신호선(447, 448)을 통해 제어 수단(401)과 접속된다. 제어 수단(401)은, 측정 수단(431)이 측정하는 저류조(402) 내의 수계 레지스트 박리액의 물성값 또는 성분 농도나 액면계(432)가 측정하는 저류조(402) 내의 수계 레지스트 박리액의 액면 위치에 따라서, 조제조(3)의 경우와 마찬가지로, 적절하게 제어 밸브(17, 18, 19)를 제어한다. 저류조(402) 내의 수계 레지스트 박리액은, 농도 변동이 극히 작으므로, 실제로는, 저류조(402) 내부의 수계 레지스트 박리액의 농도의 감시와 액량 관리가 행해진다.The measuring means 431 and the level gauge 432 are also connected to the control means 401 through the signal lines 447 and 448. The control means 401 controls the flow rate of the aqueous resist stripper solution measured by the measuring means 431 to the level of the physical property value or the concentration of the aqueous resist stripper solution in the storage tank 402, Therefore, the control valves 17, 18, and 19 are appropriately controlled in the same manner as in the case of preparation (3). Since the concentration of the aqueous resist stripper in the storage tank 402 is extremely small, the concentration of the aqueous resist stripper in the reservoir 402 is monitored and the liquid amount is actually controlled.

저류조(402) 내의 수계 레지스트 박리액은, 순환 관로(434)에 구비된 순환 교반 펌프(433)에 의해서 순환 교반된다. 이것에 의해, 저류조(402) 내의 수계 레지스트 박리액은, 균일한 농도로 유지된다.The aqueous resist stripping solution in the storage tank 402 is circulated and stirred by a circulating stirring pump 433 provided in the circulation line 434. Thereby, the aqueous resist stripping solution in the storage tank 402 is maintained at a uniform concentration.

[제6 실시형태][Sixth Embodiment]

도 9는, 제6 실시형태에 따른 수계 레지스트 박리액의 조제 장치를 설명하기 위한 모식도이다. 제6 실시형태에 따른 수계 레지스트 박리액의 조제 장치(510)는, 조제조를 2개 구비하고 있는 점이 이때까지 설명한 실시형태의 수계 레지스트 박리액의 조제 장치와 다르다.Fig. 9 is a schematic view for explaining an apparatus for preparing an aqueous resist stripping solution according to the sixth embodiment. Fig. The apparatus for preparing an aqueous resist stripper solution 510 according to the sixth embodiment is different from the apparatus for preparing an aqueous resist stripper solution according to the embodiment described up to this point in that two preparation steps are provided.

조제조(503)도 조제조(3)와 마찬가지로, 측정 수단(531) 및 액면계(532)를 구비하고, 신호선(547) 및 신호선(548)을 통해 제어 수단(501)과 접속된다. 조제조(503) 내의 수계 레지스트 박리액의 물성값 또는 성분 농도, 및, 액면 위치는 제어 수단(501)에 의해 감시되고, 신호선(546)을 통해 접속된 제어 밸브(517, 518, 519)를 제어하여, 조제조(3) 내의 수계 레지스트 박리액의 성분 농도를 조절하는 경우와 마찬가지의 방법으로, 성분 농도나 액면 위치의 조절을 행한다. 조제조(503)에서 조제된 수계 레지스트 박리액은, 연통관(535)을 통해서, 저류조(402)에 저류된다. 또한, 조제조(503)는 순환 관로(534)를 구비하고, 조제조(503) 내의 수계 레지스트 박리액은, 순환 관로(534)에 구비된 순환 교반 펌프(533)에 의해서 순환 교반된다.The preparation tank 503 has a measuring means 531 and a level gauge 532 and is connected to the control means 501 through a signal line 547 and a signal line 548 as in the case of the preparation tank 3. The physical property value or the component concentration and the liquid level position of the aqueous resist stripping solution in the preparation tank 503 are controlled by the control means 501 to control the control valves 517, 518 and 519 connected via the signal line 546 The concentration of the component and the level of the liquid surface are adjusted in the same manner as in the case of adjusting the component concentration of the aqueous resist stripping solution in preparation 3. The aqueous resist stripping solution prepared in the preparation step (503) is stored in the storage tank (402) through the communicating pipe (535). The preparation tank 503 is provided with a circulation line 534 and the aqueous resist stripping solution in the preparation tank 503 is cyclically stirred by a circulating stirring pump 533 provided in the circulation line 534.

제6 실시형태에 따른 수계 레지스트 박리액의 조제 장치에 의하면, 조제조를 2개 구비하고 있으므로, 예를 들면, 조제조(3)가 고장 등에 의해 작동되지 않게 되어도, 조제조(503)로부터 저류조(402)에 수계 레지스트 박리액을 조제해서 공급함으로써, 장치를 멈추지 않고 수계 레지스트 박리액의 조제와 공급을 계속할 수 있다. 또한, 조제조(3) 내가 비어 있어도, 조제조(503)로부터 수계 레지스트 박리액을 공급할 수 있다.According to the apparatus for preparing a water-based resist stripping solution according to the sixth embodiment, since two preparations are provided, even if the preparations 3 are not operated due to failure or the like, The preparation and supply of the aqueous resist stripping solution can be continued without stopping the apparatus by supplying the water-based resist stripping solution to the tank 402 in a controlled manner. In addition, even if the preparation (3) is empty, the aqueous resist stripping solution can be supplied from the preparation tank 503.

또, 도 9에 있어서는, 조제조를 2개 구비하는 구성을 기재했지만, 조제조의 수는 특별히 한정되지 않으며, 3개 이상의 복수의 조를 구비해도 된다. 단, 장치가 대형화하는 것, 고장 시의 예비인 것을 고려하면, 저류조 1개에 대해서 조제조를 2개 구비하면 충분하다.It is to be noted that, although Fig. 9 shows a configuration in which two preparations are provided, the number of preparation vessels is not particularly limited and may be three or more. However, taking into consideration that the apparatus becomes large in size and that it is a reserve at the time of failure, it is sufficient to provide two reservoirs for one storage tank.

[제7 실시형태][Seventh Embodiment]

도 10은, 제7 실시형태에 따른 수계 레지스트 박리액의 조제 장치를 설명하기 위한 모식도이다. 제7 실시형태에 따른 수계 레지스트 박리액의 조제 장치(610)는, 수계 레지스트 박리액의 원료를 미리 혼합하는 예비 혼합 수단으로서 혼합 준비조(605)를 구비하고 있는 점이 이때까지 설명해 온 실시형태의 수계 레지스트 박리액의 조제 장치와 다르다.10 is a schematic diagram for explaining an apparatus for preparing an aqueous resist stripping solution according to the seventh embodiment. The apparatus 610 for preparing a water-based resist stripping solution according to the seventh embodiment has the mixing preparation tank 605 as the preliminary mixing means for preliminarily mixing raw materials of the water-based resist stripping liquid. Which is different from the apparatus for preparing a water-based resist stripping solution.

혼합 준비조(605)는, 순수 공급 배관(41), 아민 공급 배관(344), 및, 유기 용매 공급 배관(345)에 접속되어 있다. 또한, 혼합 준비조(605)는, 배관(606)에 의해 조제조(3)에 접속되어 있다.The mixing preparation tank 605 is connected to the pure water supply pipe 41, the amine supply pipe 344, and the organic solvent supply pipe 345. Further, the mixing preparation tank 605 is connected to the preparation tank 3 by a pipe 606.

혼합 준비조(605)를 설치하고, 조제조(3)에 공급되는 원료를 혼합 준비조(605)에서 혼합해서 조제조(3)에 공급함으로써, 조제조(3)에 수계 레지스트 박리액의 조성에 가까운 농도로 공급할 수 있다. 따라서, 조제조(3) 내의 수계 레지스트 박리액의 농도가 갑자기 변화하는 것을 방지할 수 있음과 함께, 수계 레지스트 박리액의 조제를 용이하게 행할 수 있다. 또한, 수계 레지스트 박리액의 원료가 미리 혼합되므로, 조제조(3) 내에서의 혼합이나 교반의 부담이 경감되며, 보다 신속히 균일한 농도의 수계 레지스트 박리액을 조제할 수 있다.The mixing preparation tank 605 is provided and the raw materials supplied to the preparation tank 3 are mixed in the mixing preparation tank 605 and supplied to the tank preparation 3 so that the composition of the aqueous resist stripping solution As shown in Fig. Therefore, the concentration of the aqueous resist stripping solution in the preparation tank 3 can be prevented from suddenly changing, and the aqueous resist stripping solution can be easily prepared. Further, since the raw material of the water-based resist stripping solution is preliminarily mixed, the burden of mixing and stirring in the preparation (3) is reduced, and a water-based resist stripping solution of uniform concentration can be prepared more rapidly.

혼합 준비조(605)에서의 혼합은, 제어 수단(601)에 의해, 신호선(646)을 통해 접속된 제어 밸브(617, 618, 619)를 제어함으로써, 순수, 아민 원액, 및, 유기 용매의 유량을 제어하여, 조제조(3)에서 조제되는 수계 레지스트 박리액의 농도로 하는 것이 바람직하다. 수계 레지스트 박리액의 최종적인 농도의 조제는, 조제조(3)에서 행하기 때문에, 혼합 준비조(605)에서는, 정밀하게 조제하지 않아도 된다. 혼합 준비조(605)에서 혼합된 레지스트 박리액의 농도가, 측정 수단(2)으로 측정되는 물성값이 성분 농도와 상관 관계를 갖는 농도 범위에 들어갈 정도로, 각 원료의 혼합이 이루어져 있으면 된다. 단, 조제조(3)와 마찬가지로, 측정 장치에 의해, 물성값 또는 성분 농도를 측정해도 된다.Mixing in the mixing preparation tank 605 is performed by controlling the control valves 617, 618 and 619 connected via the signal line 646 by the control means 601 so that the pure water, the amine stock solution, and the organic solvent It is preferable to control the flow rate to the concentration of the water-based resist stripping solution prepared in preparation (3). Since the final concentration of the water-based resist stripping solution is prepared in preparation (3), it is not necessary to precisely prepare it in the mixing preparation tank 605. The concentration of the resist stripping solution mixed in the mixing preparation tank 605 may be such that the respective raw materials are mixed to such an extent that the physical property value measured by the measuring means 2 falls within a concentration range having a correlation with the component concentration. However, the physical property value or the component concentration may be measured by the measurement apparatus in the same manner as in preparation preparation (3).

본 실시형태의 조제 장치(610)가 구비하는 예비 혼합 수단은, 간이한 혼합조로서 작동하는 혼합 준비조(605)와 같은 태양으로 한정되지 않는다. 예를 들면, 원료를 공급하는 순수 공급 배관(41), 아민 공급 배관(344), 유기 용매 공급 배관(345) 등이 조제조(3)의 앞쪽에서 합류해서, 합류 배관 내에서 원료가 혼합되는 바와 같은 방식이어도 된다. 그 경우, 또한, 인라인 믹서나 스태틱 믹서 등의 배관형 혼합 장치를 채용할 수도 있다. 순환 관로(34)에 합류시켜도 된다.The preliminary mixing means provided in the preparation apparatus 610 of the present embodiment is not limited to the embodiment such as the mixing preparation vessel 605 which operates as a simple mixing vessel. For example, the pure water supply pipe 41, the amine supply pipe 344, the organic solvent supply pipe 345, and the like for supplying the raw materials join at the front side of the tank 3 and the raw materials are mixed in the joint pipe The same method may be used. In this case, a piping type mixing apparatus such as an inline mixer or a static mixer may also be employed. It may be joined to the circulation duct 34.

또한, 예비 혼합 수단은, 제6 실시형태와 같이, 조제조를 복수 구비하는 수계 레지스트 박리액의 조제 장치에 있어서는, 조제조마다 예비 혼합 수단을 구비하는 구성으로 해도 된다.As in the sixth embodiment, the preliminary mixing means may be provided with a preliminary mixing means for each preparation in the water-based resist stripping solution preparation apparatus having a plurality of preparations.

〔비수계 레지스트 박리액의 조제 장치〕[Apparatus for preparing non-aqueous resist stripping solution]

[제8 실시형태][Eighth Embodiment]

도 11은, 본 실시형태의 비수계 레지스트 박리액의 조제 장치를 설명하기 위한 모식도이다. 본 실시형태의 비수계 레지스트 박리액의 조제 장치(710)는, 주로, 조제조(703), 측정 수단(702), 제어 수단(701) 등으로 이루어진다.11 is a schematic diagram for explaining an apparatus for preparing a non-aqueous resist stripping solution of the present embodiment. The apparatus 710 for preparing a non-aqueous resist stripper of the present embodiment mainly comprises a preparation 703, a measuring means 702, a control means 701, and the like.

조제조(703)는, 배관 등을 통해 공급을 받은 비수계 레지스트 박리액의 원료를 조합해서, 소정의 성분 농도의 비수계 레지스트 박리액을 조제하기 위한 조합 용기이다. 조제조(703)는, 비수계 레지스트 박리액의 원료의 공급을 받기 위해서, 각 원료 공급 배관(742, 743) 등이 접속되어 있는 것 외에, 원료를 균일하게 혼합하기 위한 교반 수단(736)을 구비하고 있다. 또한, 조제한 소정의 성분 농도의 비수계 레지스트 박리액을 공급하기 위한 공급 배관(704)을 구비하고 있다.The preparation 703 is a combination container for preparing a non-aqueous resist stripping solution having a predetermined component concentration by combining raw materials of a non-aqueous resist stripping liquid supplied through a pipe or the like. The preparation tank 703 is provided with stirring means 736 for uniformly mixing the raw materials in addition to connecting the raw material supply pipes 742 and 743 and the like in order to receive the raw material of the non-aqueous resist stripping solution Respectively. In addition, a supply pipe 704 for supplying a non-aqueous resist stripping solution having a predetermined component concentration is provided.

측정 수단(702)은, 조제조(703) 내에서 조제되는 비수계 레지스트 박리액의 물성값 또는 성분 농도의 적어도 한쪽을 측정한다. 측정 수단(702)에 의해 측정되는 비수계 레지스트 박리액의 물성값은, 이 비수계 레지스트 박리액의 성분 농도와의 사이에 상관을 갖는 물성값이다. 이 상관 관계를 이용하면, 측정된 물성값으로부터 성분 농도를 얻을 수 있으며, 비수계 레지스트 박리액을 소정의 성분 농도로 조정할 수도 있다.The measuring means 702 measures at least one of a physical property value or a component concentration of the non-aqueous resist stripping solution prepared in the preparation 703. The physical property value of the non-aqueous resist stripper liquid measured by the measuring means 702 is a property value having a correlation with the component concentration of the non-aqueous resist stripper liquid. By using this correlation, the component concentration can be obtained from the measured physical property value, and the non-aqueous resist stripping solution can be adjusted to a predetermined component concentration.

제어 수단(701)은, 측정 수단(702)의 측정 신호를 수신할 수 있도록, 측정 수단(702)과 신호선(747) 등에 의해 접속되어 있다. 또한, 제어 수단(701)은, 원료를 조제조(703)에 공급하기 위한 원료 공급 배관(742, 743)에 설치된 제어 밸브(718, 719)와 접속되어 있다. 제어 수단(701)이 이들 제어 밸브를 제어함에 의해, 조제조(703)에 공급되는 원료의 공급량이, 수계 레지스트 박리액의 성분 농도가 소정의 성분 농도로 되도록 조절된다.The control means 701 is connected to the measuring means 702 and the signal line 747 so as to receive the measurement signal of the measuring means 702. [ The control means 701 is connected to the control valves 718 and 719 provided in the raw material supply pipes 742 and 743 for supplying the raw materials to the crude production 703. By controlling these control valves by the control means 701, the supply amount of the raw material supplied to the preparation 703 is adjusted so that the component concentration of the aqueous resist stripping solution becomes the predetermined component concentration.

비수계 레지스트 박리액은, 아민 및 유기 용매를 주성분으로 한다. 아민은, 아민 원료 도입구(752)로부터 아민 원료 공급 배관(742)을 통해 조제조(703)에 공급된다. 유기 용매는, 유기 용매 원료 도입구(753)로부터 유기 용매 원료 공급 배관(743)을 통해 조제조(703)에 공급된다. 이들 외에, 첨가제 등 다른 원료가 있는 경우에는, 그 원료를 공급하기 위한 도입구, 공급 배관, 제어 밸브 등을 준비해서, 공급하면 된다. 첨가제 등 다른 원료의 공급 라인은, 도 11에는 도시하고 있지 않다. 또한, 각 원료는, 조제조(703)에 직접 공급되는 경우로 한정되지 않는다. 예를 들면, 조제조(703) 내의 비수계 레지스트 박리액을 순환 교반하는 경우에는, 각 원료를, 액이 순환하는 순환 관로(734)에 합류시키게 해서, 조제조(703)에 공급해도 된다.The non-aqueous resist stripper consists mainly of an amine and an organic solvent. The amine is supplied from the amine feed inlet 752 to the crude preparation 703 via the amine feed pipe 742. The organic solvent is supplied from the organic solvent feed inlet 753 to the preparation vessel 703 through the organic solvent feed pipe 743. [ In addition to these, when there are other raw materials such as additives, an introduction port, a supply pipe, a control valve, and the like for supplying the raw material may be prepared and supplied. The supply lines of other raw materials such as additives are not shown in Fig. Further, each raw material is not limited to the case where it is directly supplied to the preparation 703. For example, when the non-aqueous resist stripping solution in the preparation 703 is cyclically stirred, the respective raw materials may be supplied to the preparation tank 703 by joining the raw materials to the circulation line 734 through which the liquid circulates.

각 원료 공급 배관(742, 743)에는, 제어 수단(701)과 신호선(746)을 통해 접속된 제어 밸브(718, 719)가 설치되어 있다. 각 제어 밸브는, 제어 수단(701)에 의해 발신되는 제어 신호를 받아서, 동작 제어된다. 각 제어 밸브는, 예를 들면, 단위 시간당의 유량을 증감시키도록, 제어 수단(701)에 의해 제어되는 것이 바람직하다. 각 제어 밸브는, 유량의 디폴트값으로서, 이 디폴트값의 유량으로 공급된 원료를 조합해서 얻어지는 비수계 레지스트 박리액의 성분 농도가, 측정 수단(702)에 의해 측정되는 물성값이 성분 농도와 상관 관계를 갖는 농도 범위에 들어가도록, 미리 설정되어 있는 것으로 한다.Control valves 718 and 719 connected to each of the raw material supply pipes 742 and 743 through a control means 701 and a signal line 746 are provided. Each of the control valves receives a control signal transmitted from the control means 701, and is controlled in operation. Each control valve is preferably controlled by the control means 701 so as to increase or decrease the flow rate per unit time, for example. Each control valve is a default value of the flow rate, and the concentration of the non-aqueous resist stripping solution obtained by combining the raw materials fed at the flow rate of this default value is set such that the physical property value measured by the measuring means 702 is correlated with the component concentration Is set in advance so as to fall within the concentration range having the above-mentioned concentration.

원료 도입구(752, 753)로부터 도입된 각 원료는, 원료 공급 배관(742, 743), 및, 제어 밸브(718, 719)를 개재해서, 조제조(703)에 공급된다. 조제조(703) 내에 공급된 원료는, 교반 수단(736)에 의해 교반되어, 균일한 농도의 비수계 레지스트 박리액으로 된다.The raw materials introduced from the raw material introduction ports 752 and 753 are supplied to the crude production 703 via the raw material supply pipes 742 and 743 and the control valves 718 and 719. [ The raw material supplied in the preparation 703 is stirred by the stirring means 736 to obtain a non-aqueous resist stripping solution of uniform concentration.

교반 수단(736)은, 조제조(703) 내를 균일한 농도로 교반하는 것이다. 도 11에서는, 조제조(703)의 저부로부터 측부에 루프 형상으로 접속된 순환 관로(734)를 통해, 조제조(703) 내의 액의 일부를 발취하고, 이것을 순환 교반 펌프(733)에 의해 조제조(703) 내에 교반류가 발생하도록 다시 조제조(703) 내에 되돌리는 순환 교반 방식을 묘사하고 있지만, 이것으로 한정되지 않는다. 교반 날개를 모터로 회전시키는 교반 장치여도 되며, 교반자를 조제조(703) 내에서 회전시키는 것이어도 된다.The stirring means 736 stirs the crude preparation 703 at a uniform concentration. 11, a part of the liquid in the crude preparation 703 is taken out from the bottom of the crude preparation 703 through a circulation line 734 connected in a loop shape to the side in the form of a loop, But the present invention is not limited to this. In the present embodiment, as shown in FIG. The stirring blade may be rotated by a motor, or the stirrer may be rotated in the preparation tank 703.

조제조(703) 내에서 조제된 비수계 레지스트 박리액은, 측정 수단(702)에 의해 측정된다. 측정되는 것은, 조제조(703) 내에서 조제된 비수계 레지스트 박리액의 물성값 또는 성분 농도의 적어도 어느 한쪽이다. 양쪽이어도 된다. 여기에서 측정되는 성분 농도는, 소정의 농도로 조절하려 하고 있는 비수계 레지스트 박리액의 성분에 대한 농도이다. 마찬가지로, 측정되는 물성값은, 소정의 농도로 조절하려 하고 있는 비수계 레지스트 박리액의 성분과 상관이 있는 비수계 레지스트 박리액의 물성값이다. 측정 수단(702)에 의해 측정되는 물성값이나 성분 농도에 대응하는 비수계 레지스트 박리액의 성분은, 1개로 한정되지 않으며, 복수여도 된다.The non-aqueous resist stripping solution prepared in preparation 703 is measured by measuring means 702. The measured value is at least one of a physical property value or a component concentration of the non-aqueous resist stripping solution prepared in the preparation 703. Or both. The concentration of the component measured here is the concentration for the component of the non-aqueous resist stripping solution which is intended to be adjusted to a predetermined concentration. Similarly, the measured physical property value is a physical property value of the non-aqueous resist stripping solution correlated with the component of the non-aqueous resist stripping solution to be adjusted to a predetermined concentration. The composition of the non-aqueous resist stripping solution corresponding to the physical property value or the component concentration measured by the measuring means 702 is not limited to one, and may be plural.

성분 농도는 직접 측정할 수 없으므로, 통상은, 성분 농도는, 이것과 상관을 갖는 물성값을 측정해서, 그 측정값으로부터 상관 관계를 이용해서 산출된다. 그 때문에, 측정 수단(702)은, 비수계 레지스트 박리액의 물성값을 측정하는 측정 장치를 구비한다. 물성값만 측정할 경우는, 측정 수단(702)은 측정 장치 그 자체여도 된다. 측정한 물성값으로부터 성분 농도를 산출하는 경우는, 측정한 물성값을 성분 농도로 연산 가공할 필요가 있으므로, 측정 수단(702)은, 측정 장치를 구비하는 것 외에, 측정값으로부터 성분 농도를 연산하는 연산 장치 등도 구비하고 있다.Since the component concentration can not be directly measured, the component concentration is usually calculated by measuring the property value correlated with the component concentration and using the correlation from the measured value. Therefore, the measuring means 702 is provided with a measuring device for measuring the physical property value of the non-aqueous resist stripping solution. When only the physical property value is measured, the measuring means 702 may be the measuring apparatus itself. In the case of calculating the component concentration from the measured physical property value, it is necessary to calculate and process the measured physical property value by the component concentration. Therefore, the measurement means 702 includes, in addition to the measurement device, Device and the like.

측정 수단(702)이 구비하는 물성값의 측정 장치는, 농도를 조절해야 하는 비수계 레지스트 박리액의 성분이나 측정되는 물성값에 따라서, 최적인 장치가 선택된다. 농도를 조절하려 하고 있는 비수계 레지스트 박리액의 성분에 대하여, 조절하려 하고 있는 그 소정의 성분 농도를 포함하는 농도 범위에 있어서, 그 성분 농도와 양호한 상관 관계를 얻을 수 있는 물성값을 측정하는 측정 장치를 채용하면 된다. 예를 들면, 이와 같은 측정 장치로서, 흡광 광도계, 도전율계, 밀도계, 초음파 농도계, 점도계 등이 바람직하다.In the apparatus for measuring a physical property value provided by the measuring means 702, an optimum apparatus is selected according to the component of the non-aqueous resist stripping solution to be adjusted in concentration and the measured physical property value. A measurement device for measuring a physical property value capable of obtaining a good correlation with the component concentration in a concentration range including the concentration of the predetermined component to be controlled with respect to the component of the non-aqueous resist stripping solution for which the concentration is to be controlled . For example, as such a measuring apparatus, a light absorbing photometer, a conductivity meter, a density meter, an ultrasonic concentration meter, a viscometer and the like are preferable.

측정 수단(702)은, 조제조(703) 내에서 조제된 비수계 레지스트 박리액을 샘플링해서, 그 물성값을 측정한다. 측정 전에 샘플링한 비수계 레지스트 박리액을 온도 조정하는 등, 항상 같은 측정 조건에서 측정이 이루어지도록 되어 있는 것이 바람직하다. 그 때문에, 측정 수단(702)은, 샘플링 튜브, 샘플링 펌프(도시하지 않음), 온도 컨트롤러(도시하지 않음) 등을 구비하고 있는 것이 바람직하다.The measuring means 702 samples the non-aqueous resist stripping solution prepared in the preparation 703 and measures its physical property value. It is preferable that the measurement is always performed under the same measurement conditions such as the temperature adjustment of the non-aqueous resist stripping solution sampled before the measurement. Therefore, the measuring means 702 preferably includes a sampling tube, a sampling pump (not shown), a temperature controller (not shown) and the like.

그러나, 측정의 방법은, 시료를 샘플링하는 방식으로 한정되지 않는다. 센서부를 비수계 레지스트 박리액 내에 침지하는 방식이나, 순환 관로(734) 등에 측정 장치를 설치하는 방식 등, 채용한 측정 장치에 따라서, 최적인 방식에 의해 측정하면 된다.However, the method of measurement is not limited to the method of sampling the sample. It may be measured by an optimum method depending on the measuring apparatus employed, such as a method of immersing the sensor unit in the non-aqueous resist stripping solution or a method of installing a measuring apparatus on the circulating line 734 or the like.

측정 수단(702)이 성분 농도를 측정할 경우, 측정 수단(702)에 구비된 측정 장치에 의해 측정된 물성값으로부터, 성분 농도가 산출된다. 성분 농도의 산출에는, 물성값과 성분 농도의 상관 관계가 이용된다. 이 상관 관계는, 물성값과 성분 농도의 대응 관계이며, 양자가 일대일로 대응하고 있으면, 이 상관 관계에 의거해서, 측정된 물성값으로부터 대응하는 성분 농도를 구할 수 있다.When the measuring means 702 measures the component concentration, the component concentration is calculated from the physical property values measured by the measuring device provided in the measuring means 702. [ For the calculation of the component concentration, a correlation between the property value and the component concentration is used. This correlation is a corresponding relationship between the physical property value and the component concentration, and if both of them correspond to each other on a one-to-one basis, the corresponding component concentration can be obtained from the measured physical property value based on the correlation.

상관 관계는, 소정의 감도를 얻기 위해서, 어느 정도의 기울기를 구비하고 있는 것이 바람직하지만, 반드시 직선이 아니어도 된다. 조절하려고 하는 성분 농도를 포함하는 농도 범위에서, 성분 농도가 물성값과 일대일로 대응된 연속 함수로서의 상관 관계를 갖고 있으면, 측정된 물성값으로부터 대응하는 성분 농도를 산출할 수 있다.It is preferable that the correlation has a certain degree of inclination in order to obtain a predetermined sensitivity, but it is not always required to be a straight line. The corresponding component concentration can be calculated from the measured physical property value if the component concentration has a correlation as a continuous function corresponding one-to-one with the physical property value in the concentration range including the component concentration to be regulated.

측정 수단(702)은, 측정한 물성값 또는 성분 농도를, 제어 수단(701)에 송신한다. 제어 수단(701)은, 측정 수단(702)으로부터 측정값을 수신한다. 측정 수단(702)과 제어 수단(701)은, 신호선(747)으로 접속되어 있다. 측정값의 송수신은, 이 신호선(747)을 통해 행해진다. 그러나, 이것으로 한정되지 않는다. 무선을 통해 측정값의 송수신이 이루어져도 된다. 또한, 복수의 성분에 대하여 물성값이나 성분 농도가 측정되는 경우에는, 성분마다 측정 장치와 제어 수단(701)을 연결하는 신호선을 구비하고 있어도 된다.The measuring means 702 transmits the measured physical property value or component concentration to the control means 701. [ The control means 701 receives the measured value from the measuring means 702. The measuring means 702 and the control means 701 are connected by a signal line 747. The measurement value is transmitted and received through this signal line 747. [ However, it is not limited to this. Measurement values may be transmitted and received via radio. In the case where the physical property value and the component concentration are measured for a plurality of components, a signal line may be provided for connecting the measuring device and the control means 701 for each component.

제어 수단(701)에는, 농도 제어에 있어서 목표로 하는 성분 농도의 값이 설정되어 있다. 제어 수단(701)은, 수신한 성분 농도의 측정값과 설정되어 있는 성분 농도의 목표값을 비교한다. 비교의 결과, 조절해야 하는 성분의 농도가 목표값보다 낮은 경우는, 그 성분의 공급량이 그 밖의 성분의 공급량에 대해서 상대적으로 증가하도록, 대응하는 제어 밸브를 제어한다. 반대로, 조절해야 하는 성분의 농도가 목표값보다 높은 경우는, 그 성분의 공급량이 그 밖의 성분의 공급량에 대해서 상대적으로 감소하도록, 대응하는 제어 밸브를 제어한다. 어느 제어 밸브를 어느 정도 제어할지는, 성분 농도의 목표값으로부터의 어긋남의 정도, 원료의 구성, 각 원료의 농도 등의 제반 조건에 의거해서, 제어 수단(701)이 제어 프로그램에 의해 적절하게 계산한다. 단, 제어의 방법은, 이것으로 한정되지 않는다. 상기와 같은 제어량의 목표값과 현재값을 비교해서 제어하는 비례 제어(P 제어) 외에, 소위 적분 제어(I 제어)나 미분 제어(D 제어) 등을 채용할 수 있다. 이들 제어 방법을 적절하게 조합한 PID 제어에 의해 제어하는 것이 바람직하다.In the control means 701, the value of the target component concentration in the concentration control is set. The control means 701 compares the measured value of the received component concentration with the target value of the set component concentration. As a result of the comparison, when the concentration of the component to be controlled is lower than the target value, the corresponding control valve is controlled such that the supply amount of the component increases relative to the supply amount of the other components. Conversely, when the concentration of the component to be controlled is higher than the target value, the corresponding control valve is controlled such that the supply amount of the component decreases relative to the supply amount of the other components. The control means 701 appropriately calculates the control valve 701 in accordance with the degree to which the control valve is controlled, the degree of deviation of the concentration of the component from the target value, the composition of the raw material, the concentration of each raw material, and the like . However, the method of control is not limited to this. Called integral control (I control) or differential control (D control) or the like can be adopted in addition to the proportional control (P control) for comparing and controlling the target value and the present value of the control amount as described above. It is preferable to control them by PID control in which these control methods are appropriately combined.

비수계 레지스트 박리액의 원료 공급 배관에 설치된 각 제어 밸브(718, 719)는, 신호선(746)에 의해, 제어 수단(701)과 접속되어 있다. 도 11에서는, 각 제어 밸브(718, 719)가 신호선(746)에 의해 직렬로 접속되어 있는 바와 같이 묘사했지만, 각 제어 밸브가 각각 개별로 제어 수단(701)과 신호선으로 접속되어 있어도 된다. 신호선에 의하지 않아도, 무선에 의해 제어되도록 되어 있어도 된다.The control valves 718 and 719 provided in the raw material supply pipe of the non-aqueous resist stripping solution are connected to the control means 701 by a signal line 746. 11, the control valves 718 and 719 are depicted as being connected in series by the signal line 746. However, each of the control valves may be separately connected to the control means 701 through a signal line. It may be controlled by radio without depending on a signal line.

또한, 도 11에서는, 제어 수단(701)이 제어 밸브를 제어하는 것으로 되어 있지만, 제어 수단(701)으로서는 컴퓨터가 바람직하게 채용된다. 컴퓨터 대신에, 범용의 컨트롤러를 이용해서 제어해도 된다. 농도를 조절하는 성분마다 개별로 준비된 컨트롤러의 집합체로서, 제어 수단(701)을 구성해도 된다. 또한, 측정 수단(702)과 제어 수단(701) 대신에, 측정 수단(702)과 제어 수단(701)이 1개의 장치로서 구성된 바와 같은 소위 농도 관리 장치를 이용하는 것이어도 된다. 농도 관리 장치를 이용하는 경우에는, 조제조(703) 내의 비수계 레지스트 박리액이 항상 소정의 성분 농도로 되도록, 농도 관리 장치에 제어 밸브를 제어시키면 된다.In Fig. 11, the control means 701 controls the control valve, but a computer is preferably employed as the control means 701. Fig. Instead of a computer, it may be controlled using a general-purpose controller. The control means 701 may be constituted as an aggregate of controllers separately prepared for each component for adjusting the concentration. Instead of the measuring means 702 and the controlling means 701, a so-called concentration managing device such as the one comprising the measuring means 702 and the controlling means 701 may be used. In the case of using the concentration control apparatus, the control valve may be controlled by the concentration control apparatus so that the non-aqueous resist stripping solution in preparation 703 always has a predetermined component concentration.

측정 수단(702)에 의해 측정되는 것이 물성값인 경우에는, 제어 수단(701)은, 물성값에 의거한 제어를 행한다. 즉, 측정 수단에 의해 측정되는 물성값은 성분 농도와 상관 관계를 가지므로, 이 상관 관계상에, 조절해야 하는 소정의 성분 농도에 대응한 "소정의 물성값"을 알아낼 수 있다. 제어 수단(701)은, 측정 수단(702)에 의해 측정된 물성값이 이 "소정의 물성값"으로 되도록, 원료의 공급량을 증감시키도록, 제어 밸브(718, 719)를 제어하면 된다.When the property measured by the measuring means 702 is a property value, the control means 701 performs control based on the property value. That is, since the physical property value measured by the measuring means has a correlation with the component concentration, it is possible to find out "predetermined property value" corresponding to the predetermined component concentration to be adjusted on this correlation. The control means 701 may control the control valves 718 and 719 so as to increase or decrease the supply amount of the raw material so that the physical property value measured by the measuring means 702 becomes the "predetermined property value ".

본 실시형태의 조제 장치(710)는, 상기한 조합, 측정, 제어의 사이클을 반복하여 연속해서 행함에 의해, 소정의 성분 농도의 비수계 레지스트 박리액을 자동적이며 또한 연속적으로 조제할 수 있다. 한번 조제조(703) 내에 소정의 성분 농도의 비수계 레지스트 박리액을 조제해 버리면, 그 후는, 공급에 의해 감량된 분을 보충하도록, 소정의 성분 농도를 유지하면서, 비수계 레지스트 박리액을 추가 조제하면 된다.The preparation apparatus 710 of the present embodiment can automatically and continuously prepare a non-aqueous resist stripping solution having a predetermined component concentration by continuously repeating the above combination, measurement and control cycles. When a non-aqueous resist stripping solution having a predetermined component concentration is prepared in the preparation tank 703, the non-aqueous resist stripping solution is added to the preparation tank 703 while maintaining the predetermined component concentration, Additional preparations can be made.

조제조(703)에서 조제된 비수계 레지스트 박리액은, 조제조(703)의 저부에 접속된 비수계 레지스트 박리액 공급 배관(704)으로부터, 조제조(703)의 외로 공급된다. 조제 장치(710)는, 단독으로 사용할 수도 있지만, 비수계 레지스트 박리액을 사용하는 다른 박리 설비에 접속해서 사용할 수도 있다. 이 경우, 비수계 레지스트 박리액 공급 배관(704)을 다른 박리 설비의 비수계 레지스트 박리액 공급구(754)와 접속한다. 이렇게 함으로써, 다른 박리 설비에 신선한 상태의 소정의 성분 농도의 비수계 레지스트 박리액을 필요할 때에 언제나 자동적으로 공급하는 것도 가능하게 된다.The non-aqueous resist stripper liquid prepared in the preparation 703 is supplied to the outside of the preparation tank 703 from the non-aqueous resist stripper liquid supply pipe 704 connected to the bottom of the preparation tank 703. The dispenser 710 may be used alone or may be connected to other dissolution facilities using a non-aqueous resist stripper. In this case, the non-aqueous resist stripper solution supply pipe 704 is connected to the non-aqueous resist stripper solution supply port 754 of another stripper. By doing so, it becomes possible to automatically supply a non-aqueous resist stripping solution of a predetermined component concentration in a fresh state to another stripping facility whenever necessary.

조제 장치(710)는, 조제조(703) 내의 비수계 레지스트 박리액의 액면 위치를 검출하기 위한 액면계(732)를 구비하고 있는 것이 바람직하다. 조제 장치(710)의 공급하는 비수계 레지스트 박리액의 공급량이 항상 거의 일정하면, 액면계가 없어도, 조제량을 공급량과 밸런스시킴으로써, 조제조(703)를 비우지 않고, 연속적인 조제를 할 수 있다. 그러나, 공급량이 증감하는 경우에는, 액면계(732)에 의해 조제조(703) 내의 액면 위치를 검출하여, 조제조(703)가 비지 않도록 제어하는 것이 바람직하다.It is preferable that the dispenser 710 is provided with a liquid level meter 732 for detecting the liquid surface position of the non-aqueous resist stripper liquid in the preparation tank 703. [ If the supply amount of the non-aqueous resist stripping solution supplied by the dispenser 710 is always constant, even if there is no liquid level meter, the preparation amount can be balanced with the supply amount, so that the preparation can be continuously performed without emptying the preparation 703. However, when the supply amount is increased or decreased, it is preferable to detect the liquid level position in the preparation tank 703 by the liquid level meter 732 and control so that the tank preparation 703 is not empty.

액면계(732)는, 조제조(703) 내의 액면 위치를 검출할 수 있도록 조제조(703)에 설치되어 있는 것 외에, 신호선(748)을 통해 제어 수단(701)과 접속된다. 예를 들면, 액면계(732)는, 조제조(703) 내의 액면이 하한값을 밑도는 것을 검출해서, 제어 수단(701)에 경보 신호를 발신한다. 제어 수단(701)은, 액면 위치가 회복하도록, 제어 밸브(718, 719)를 제어해서 원료의 공급량을 증가시켜, 비수계 레지스트 박리액의 조제량을 늘린다. 액면 위치가 하한값을 웃돌면 경보 신호가 정지하고, 조제조(3) 내의 비수계 레지스트 박리액의 양이 소정의 양까지 회복하면, 제어 수단(1)은 이 액면 위치를 유지하도록 제어한다. 이렇게 해서, 조제조(703) 내가 비지 않도록 할 수 있다. 아울러 액면 위치의 상한을 설정해 두면, 조제조(703)의 오버 플로를 방지할 수도 있다.The liquid level meter 732 is connected to the control means 701 through the signal line 748 in addition to being provided in the preparation tank 703 so as to be able to detect the liquid level position in the tank preparation 703. For example, the level gauge 732 detects that the liquid level in the preparation tank 703 is lower than the lower limit value, and sends an alarm signal to the control means 701. The control means 701 controls the control valves 718 and 719 to increase the supply amount of the raw material so as to restore the liquid surface position, thereby increasing the amount of the non-aqueous resist stripping solution. When the liquid surface position exceeds the lower limit value, the alarm signal stops, and when the amount of the non-aqueous resist stripping liquid in the preparation tank 3 is recovered to a predetermined amount, the control means 1 controls the liquid level position to be maintained. In this way, it is possible to prevent the fabrication process 703 from becoming empty. In addition, if the upper limit of the liquid surface position is set, overflow of the fabrication process 703 can be prevented.

또, 도 11에서는, 비수계 레지스트 박리액의 각 원료를 공급하는 원료 공급 배관(742, 743)이 조제조(703)의 측부에 접속되어 있는 태양을 묘사했지만, 이것으로 한정되지 않는다. 상황에 따라서, 조제조(703)의 상부나 저부에 접속되어 있어도 된다. 순환 관로(34)에 접속되는 것이어도 된다. 또한, 원료 공급 배관(742, 743)은, 조제조(703)와 일체적으로 접속되어 있을 필요는 없다. 예를 들면, 원료를 조제조 내에 상부로부터 적하해서 공급하도록 되어 있어도 된다. 또한, 원료가 액상물이 아닌 분상물인 경우는, 배관이 아니라, 분체 공급 장치가 접속되어 있는 것이어도 된다.11, the raw material supply pipes 742 and 743 for supplying the respective raw materials of the non-aqueous resist stripping solution are connected to the side of the preparation tank 703, but the present invention is not limited thereto. It may be connected to the top or the bottom of the preparation 703, depending on the situation. And may be connected to the circulation duct 34. The raw material supply pipes 742 and 743 do not need to be integrally connected with the preparation 703. For example, the raw material may be supplied dropwise from the top within the tank manufacturing apparatus. In addition, when the raw material is a liquid other than a liquid, it may be connected to a powder feeder instead of a pipe.

<비수계 레지스트 박리액의 원료>&Lt; Raw material of non-aqueous resist stripping solution >

본 실시형태의 비수계 레지스트 박리액의 조제 장치에 이용되는 비수계 레지스트 박리액은, 아민, 유기 용매, 그 밖의 첨가제로 이루어지는 원료를 이용할 수 있다.The non-aqueous resist stripping solution used in the apparatus for preparing a non-aqueous resist stripping solution of the present embodiment may be a raw material comprising an amine, an organic solvent, and other additives.

≪아민≫«Amine»

비수계 레지스트 박리액의 원료에 이용되는 아민으로서는, 알칸올아민이 바람직하게 이용된다. 알칸올아민으로서는, 모노에탄올아민, 디에탄올아민, 트리에탄올아민, N,N-디메틸에탄올아민, N,N-디에틸에탄올아민, 아미노에틸에탄올아민, N-메틸-N,N-디에탄올아민, N,N-디부틸에탄올아민, N-메틸에탄올아민, 3-아미노-1-프로판올 등을 들 수 있다. 또한, 다른 아민으로서, 히드록실아민, N-메틸디에탄올아민, 노멀프로판올아민, 모노이소프로판올아민, N-메틸디에탄올아민, 알킬벤젠설폰산, 디글리콜아민, 메틸아미노에탄올, 에틸아미노에탄올, 2-(2-아미노에톡시)에탄올, 트리에틸렌테트라민, N,N디메틸아세트아미드, 모노메틸포름아미드를 이용할 수 있다.As the amine used as a raw material for the non-aqueous resist stripping solution, an alkanolamine is preferably used. Examples of the alkanolamine include monoethanolamine, diethanolamine, triethanolamine, N, N-dimethylethanolamine, N, N-diethylethanolamine, aminoethylethanolamine, N-methyl- N, N-dibutylethanolamine, N-methylethanolamine, 3-amino-1-propanol and the like. Examples of other amines include hydroxylamine, N-methyldiethanolamine, normal propanolamine, monoisopropanolamine, N-methyldiethanolamine, alkylbenzenesulfonic acid, diglycolamine, methylaminoethanol, ethylaminoethanol, 2 - (2-aminoethoxy) ethanol, triethylenetetramine, N, N dimethylacetamide, and monomethylformamide can be used.

≪유기 용매≫«Organic solvent»

유기 용매로서는, 글라이콜에테르계의 유기 용매가 바람직하게 이용된다. 글라이콜에테르계의 유기 용매로서는, 부틸디글리콜, 디에틸렌글리콜모노메틸에테르, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르, 디에틸렌글리콜모노프로필에테르 등을 들 수 있다. 다른 유기 용매로서, 디메틸설폭시드, 알킬히드록시벤젠, 부틴디올, SAA, 메틸메톡시부탄올, N-메틸-2-피롤리돈, Phn, 오르토디클로로벤젠, 트리에틸렌테트라민, 메틸디글리콜을 이용할 수 있다.As the organic solvent, an organic solvent based on glycol ether is preferably used. Examples of the glycol ether-based organic solvent include butyl diglycol, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monopropyl ether and the like. As another organic solvent, dimethylsulfoxide, alkylhydroxybenzene, butynediol, SAA, methylmethoxybutanol, N-methyl-2-pyrrolidone, Phn, orthodichlorobenzene, triethylenetetramine and methyldiglycol are used .

≪그 밖의 첨가제≫«Other additives»

비수계 레지스트 박리액으로서는, 아민 및 유기 용매 외에, 첨가제로서, 카테콜, 말톨, 실리콘계 소포제, p-니트로벤조산, 환원제(소르비톨 등), 금속 방식제, 킬레이트제 등을 첨가할 수 있다. 그 밖의 첨가제의 농도는, 비수계 레지스트 박리액의 조제 시에, 비수계 레지스트 박리액의 용량에 따라서 첨가함으로써, 농도를 조절할 수 있다.As the non-aqueous resist stripping solution, catechol, maltol, silicone antifoaming agent, p-nitrobenzoic acid, reducing agent (sorbitol, etc.), metal antiseptic agent, chelating agent and the like can be added as additives in addition to amine and organic solvent. The concentration of the other additives can be adjusted by adding the non-aqueous resist stripping solution according to the capacity of the non-aqueous resist stripping solution at the time of preparing the non-aqueous resist stripping solution.

[제9 실시형태][Ninth Embodiment]

도 12는, 본 실시형태의 비수계 레지스트 박리액의 조제 장치를 설명하기 위한 모식도이다. 본 실시형태의 비수계 레지스트 박리액의 조제 장치(810)는, 제8 실시형태의 조제 장치(710)와 거의 같으며, 주로 조제조(703), 측정 수단(802), 제어 수단(801) 등으로 이루어진다. 그러나, 측정 수단(802)이 아민에 관한 측정 수단(821)을 구비하고, 제어 수단(801)이 아민에 관한 제어 수단(823)을 구비하고, 조제조(703)에서 소정의 아민 농도의 비수계 레지스트 박리액이 조제되는 점에서 특징적이다.12 is a schematic diagram for explaining an apparatus for preparing a non-aqueous resist stripping solution according to the present embodiment. The apparatus for preparing a non-aqueous resist stripper 810 according to the present embodiment is substantially the same as the apparatus 710 of the eighth embodiment and mainly comprises a preparation 703, a measuring means 802, a control means 801, . However, when the measuring means 802 is provided with the measuring means 821 relating to the amine and the controlling means 801 is provided with the controlling means 823 relating to the amine and the ratio of the predetermined amine concentration Which is characteristic in that a water-based resist stripping liquid is prepared.

본 실시형태에서는, 측정 수단(802)은 아민에 관한 측정 수단(821)을 구비한다. 아민에 관한 측정 수단(821)은, 조제조(703) 내의 비수계 레지스트 박리액의 물성값 또는 아민 농도 중 적어도 한쪽을 측정하기 위한 것이다. 양쪽을 측정해도 된다. 조제 장치(810)가 아민 농도만을 측정해서 이것을 소정의 농도값으로 조절하는 경우에는, 측정 수단(802)은 아민에 관한 측정 수단(821)과 같아도 된다. 그러나, 일반적으로는, 측정 수단(802)은, 아민에 관한 측정 수단(821) 외에, 다른 성분에 관한 측정을 행하기 위한 측정 수단을 별도 구비하고 있어도 된다.In the present embodiment, the measuring means 802 comprises measuring means 821 relating to the amine. The amine measuring means 821 is for measuring at least one of a physical property value or an amine concentration of the non-aqueous resist stripping solution in the preparation 703. Both sides may be measured. When the preparation device 810 measures only the amine concentration and adjusts it to a predetermined concentration value, the measurement means 802 may be the same as the measurement means 821 relating to the amine. However, in general, the measuring means 802 may be provided with a measuring means for measuring the other components in addition to the measuring means 821 relating to the amine.

아민에 관한 측정 수단(821)이 측정하는 물성값은, 아민 농도와 상관 관계를 갖는 물성값이다. 아민 농도와 상관 관계를 갖는 물성값으로서는, 흡광도, 도전율, 밀도, 초음파 전파 속도, 및, 점도로부터 선택되는 물성값을 이용하는 것이 바람직하다. 이 경우, 아민에 관한 측정 수단(821)은, 각각, 흡광 광도계, 도전율계, 밀도계, 초음파 농도계, 점도계 등으로 된다.The physical property value measured by the measuring means 821 relating to the amine is a property value having a correlation with the amine concentration. As a physical property having a correlation with the amine concentration, it is preferable to use a physical property value selected from an absorbance, an electric conductivity, a density, an ultrasonic propagation speed, and a viscosity. In this case, the measuring means 821 relating to the amine may be a absorptiometer, a conductivity meter, a density meter, an ultrasonic concentration meter, a viscometer or the like.

아민에 관한 측정 수단(821)으로서는, 그 중에서도 흡광 광도계가 바람직하다. 적절한 측정 파장을 이용하면, 비수계 레지스트 박리액의 흡광도값과 아민 농도 사이에, 비교적 양호한 직선 관계를 얻을 수 있다.As the measuring means 821 relating to the amine, a light absorbing photometer is particularly preferable. Using a suitable measurement wavelength, a relatively good linear relationship can be obtained between the absorbance value of the non-aqueous resist stripping solution and the amine concentration.

아민 농도와 직선 관계가 얻어지는 물성값으로서, 예를 들면, 도 3 및 도 4에 나타내는 흡광도를 이용할 수 있다. 도 3은, 모노에탄올아민(MEA : monoethanolamine) 농도와 흡광도(측정 파장 λ=1048㎚)의 관계를 나타내는 그래프도이고, 도 4는, 히드록실아민 농도와 흡광도(측정 파장 λ=1074㎚)의 관계를 나타내는 그래프도이다. 또, 도 3 및 도 4는, 수계 레지스트 박리액에 있어서의 아민 농도와 흡광도의 관계를 나타내는 그래프도이지만, 비수계 레지스트 박리액에 있어서도 마찬가지의 직선 관계가 얻어진다.For example, the absorbance shown in Fig. 3 and Fig. 4 can be used as the physical property value in which the amine concentration and the linear relationship are obtained. 3 is a graph showing the relationship between the monoethanolamine (MEA) concentration and the absorbance (measured wavelength? = 1048 nm), and Fig. 4 is a graph showing the relationship between the hydroxylamine concentration and absorbance (measured wavelength? = 1074 nm) Fig. 3 and 4 are graphs showing the relationship between the amine concentration and the absorbance in the aqueous resist stripper, but the same linear relationship can be obtained in the non-aqueous resist stripper.

도 3에 나타내는 바와 같이, 비수계 레지스트 박리액에 포함되는 아민이 알칸올아민의 일종인 모노에탄올아민일 경우, 비수계 레지스트 박리액의 모노에탄올아민의 농도는, 근적외부의 파장 영역에 있는 특정 파장(예를 들면, 1048㎚)에 있어서의 비수계 레지스트 박리액의 흡광도에 대해서 고도한 직선 관계를 갖는다. 또한, 도 4에 나타내는 바와 같이, 비수계 레지스트 박리액의 히드록실아민의 농도도, 근적외부의 파장 영역에 있는 특정 파장(예를 들면, 1074㎚)에 있어서의 비수계 레지스트 박리액의 흡광도에 대해서 고도한 직선 관계를 갖는다. 따라서, 비수계 레지스트 박리액의 흡광도를 측정함으로써, 아민 농도를 정확하게 측정할 수 있다. 측정하는 파장은, 아민이 모노에탄올아민일 경우, 1000 내지 1600㎚의 파장 영역으로부터 선택되는 특정의 파장인 것이 바람직하다. 다른 성분의 영향이 작은 1048㎚ 부근이, 감도가 커서 특히 양호하다. 또한, 히드록실아민일 경우, 1050 내지 1090㎚의 파장 영역으로부터 선택되는 특정의 파장인 것이 바람직하다. 다른 성분의 영향이 작은 1074㎚ 부근이, 감도가 커서 특히 양호하다.3, when the amine contained in the non-aqueous resist stripping solution is monoethanolamine, which is a kind of alkanolamine, the concentration of the monoethanolamine in the non-aqueous resist stripping solution is preferably in the range of And has an extreme linear relationship with respect to the absorbance of the non-aqueous resist stripping solution at a wavelength (for example, 1048 nm). As shown in Fig. 4, the concentration of hydroxylamine in the non-aqueous resist stripping solution is also determined by the absorbance of the non-aqueous resist stripping solution at a specific wavelength (for example, 1074 nm) With respect to each other. Therefore, the amine concentration can be accurately measured by measuring the absorbance of the non-aqueous resist stripping solution. The wavelength to be measured is preferably a specific wavelength selected from the wavelength range of 1000 to 1600 nm when the amine is monoethanolamine. The vicinity of 1048 nm, in which the influence of other components is small, is particularly good because the sensitivity is large. Further, in the case of hydroxylamine, it is preferable that it is a specific wavelength selected from the wavelength region of 1050 to 1090 nm. The vicinity of 1074 nm where the influence of the other components is small is particularly good because the sensitivity is large.

본 실시형태의 조제 장치(810)에서는, 아민에 관한 측정 수단(821)이, 예를 들면, 측정 파장 1048㎚에 있어서의 비수계 레지스트 박리액의 흡광도를 측정한다. 이 파장에 있어서의 흡광도는, 아민 농도(MEA 농도)와 도 3과 같은 직선 관계가 있으므로, 이 직선 관계를 이용해서, 흡광도의 측정값으로부터 정확하게 비수계 레지스트 박리액의 아민 농도(MEA 농도)를 얻을 수 있다.In the dispenser 810 of the present embodiment, the amine measuring means 821 measures the absorbance of the non-aqueous resist stripping solution at a measurement wavelength of 1048 nm, for example. Since the absorbance at this wavelength has a linear relationship with the amine concentration (MEA concentration) as shown in Fig. 3, the amine concentration (MEA concentration) of the non-aqueous resist stripping solution can be accurately determined from the measured absorbance value Can be obtained.

본 실시형태에 있어서의 제어 수단(801)은, 아민에 관한 제어 수단(823)을 구비한다. 본 실시형태의 조제 장치(810)가 아민 농도만을 소정의 농도로 조절하는 경우에는, 제어 수단(801)은 아민에 관한 제어 수단(823)과 같아도 된다. 본 실시형태의 조제 장치(810)가 아민 이외의 성분에 대해서도 농도를 조절하는 경우에는, 제어 수단(801)은 아민에 관한 제어 수단(823)을 구비할 뿐만 아니라, 다른 성분에 관한 제어 수단도 별도 구비하고 있다.The control means 801 in this embodiment includes a control means 823 for amine. When the preparation device 810 of this embodiment regulates only the amine concentration to a predetermined concentration, the control means 801 may be the same as the control means 823 relating to the amine. When the preparative apparatus 810 of this embodiment regulates the concentration of components other than amines, the control means 801 not only includes the control means 823 relating to the amine but also control means relating to other components It is provided separately.

아민에 관한 제어 수단(823)은, 아민에 관한 측정 수단(821)과 신호선(847)에 의해 접속되는 등 하고 있고, 아민에 관한 측정 수단(821)이 얻은 측정값을 아민에 관한 측정 수단(821)으로부터 수신한다. 아민에 관한 제어 수단(823)에는, 조절해야 하는 소정의 아민 농도가 농도 제어에 있어서의 목표값의 아민 농도로서 설정되어 있다. 아민에 관한 제어 수단(823)은, 수신한 아민 농도의 측정값과 목표값의 아민 농도를 비교한다. 아민에 관한 제어 수단(823)은, 각 원료 공급 배관(742, 743)에 설치된 제어 밸브(718, 719)와, 신호선(746)에 의해 접속되는 등 하고 있고, 농도의 비교의 결과에 따라서, 제어 밸브(718, 719)를 적절하게 동작 제어한다.The control means 823 for the amine is connected to the measuring means 821 for the amine by a signal line 847 and the like and the measured value obtained by the measuring means 821 relating to the amine is measured by a measuring means 821). The predetermined amine concentration to be adjusted is set as the amine concentration of the target value in the concentration control in the control means 823 relating to the amine. The control means 823 for the amine compares the measured value of the amine concentration and the amine concentration of the target value. The control means 823 relating to the amine is connected to the control valves 718 and 719 provided in the respective raw material supply pipes 742 and 743 by a signal line 746 and the like. And appropriately controls the operation of the control valves 718 and 719.

예를 들면, 측정 수단(802)의 아민에 관한 측정 수단(821)에 의해 측정된 아민 농도가 목표값의 아민 농도보다 낮은 경우는, 제어 수단(801)의 아민에 관한 제어 수단(823)은 제어 밸브(718)의 유량을 늘려서, 또는, 제어 밸브(719)의 유량을 줄여서, 아민 원액의 상대적인 공급량을 늘린다. 아민 농도가 목표값의 아민 농도보다 높은 경우는, 반대로, 아민에 관한 제어 수단(823)은 제어 밸브(718)의 유량을 줄여서, 혹은, 제어 밸브(719)의 유량을 늘려서, 유기 용매의 공급량을 상대적으로 늘려서, 아민 원액의 상대적인 공급량을 줄여, 아민 농도를 제어한다. 단, 제어 방법은, 이것으로 한정되지 않는다. PID 제어 등, 각종 제어 방법을 적절하게 채용할 수 있다.For example, when the amine concentration measured by the measuring means 821 relating to the amine of the measuring means 802 is lower than the amine concentration of the target value, the control means 823 relating to the amine of the control means 801 The flow rate of the control valve 718 is increased or the flow rate of the control valve 719 is decreased to increase the relative supply amount of the amine stock solution. On the other hand, when the amine concentration is higher than the target amine concentration, the control means 823 for the amine decreases the flow rate of the control valve 718 or increases the flow rate of the control valve 719, To relatively reduce the relative amount of the amine stock solution to control the amine concentration. However, the control method is not limited to this. Various control methods such as PID control can be suitably employed.

또, 아민에 관한 측정 수단(821)이 측정한 물성값으로부터, 측정한 물성값과 상관 관계상의 목표값의 아민 농도에 대응하는 물성값을 비교하는 것으로부터 아민 농도를 제어해도 된다.The amine concentration may be controlled by comparing the physical property value measured by the measuring means 821 relating to the amine with the physical property value corresponding to the amine concentration of the target value correlated with the measured physical property value.

예를 들면, 도 3이나 도 4에 나타내는 바와 같은 직선 관계가 얻어지는 경우와 같이, 물성값과 아민 농도가 일대일로 대응한 상관 관계를 갖는 경우에는, 이 상관 관계에 의거해서, 아민 농도에 대응하는 물성값을 얻을 수 있다. 따라서, 조절해야 하는 소정의 아민 농도에 대응하는 "소정의 물성값"이 존재한다. 아민에 관한 측정 수단(821)이 측정한 물성값이 이 "소정의 물성값"으로 되도록, 아민에 관한 제어 수단(823)이 원료의 공급량을 제어함으로써, 조제조(703)에서 조제되는 비수계 레지스트 박리액을 소정의 아민 농도로 할 수 있다.For example, when a physical property value and an amine concentration have a corresponding one-to-one correspondence, as in the case where a linear relationship as shown in Fig. 3 or Fig. 4 is obtained, on the basis of this correlation, Can be obtained. Thus, there is a "predetermined property value" corresponding to the desired amine concentration to be controlled. The control means 823 for amine controls the supply amount of the raw material so that the measured physical property value of the amine measuring means 821 becomes the "predetermined physical property value ", whereby the non-aqueous resist stripping The solution can be adjusted to a predetermined amine concentration.

본 실시형태의 제8 실시형태와 공통되는 그 밖의 구성에 대해서는, 제8 실시형태와 같으므로, 그 설명을 생략한다.Other configurations common to the eighth embodiment of the present embodiment are the same as those of the eighth embodiment, and a description thereof will be omitted.

또, 도 12에서는, 본 실시형태의 조제 장치(810)가, 원료 저류 용기(820)와, 비수계 레지스트 박리액을 사용하는 박리 설비(890)에 접속된 태양을 나타냈다. 이와 같이, 조제 장치(810)는, 원료 저류 용기(820) 및, 박리 설비(890)와 접속해서, 박리 공정이 행해지는 공장에 있어서의 온사이트 운전을 할 수 있다.12, the dispenser 810 of this embodiment is connected to the raw material storage container 820 and a dissolving facility 890 using a non-aqueous resist stripping solution. As described above, the dispenser 810 can be connected to the raw material storage container 820 and the peeling apparatus 890 to perform on-site operation in a factory where the peeling process is performed.

원료 저류 용기(820)는, 비수계 레지스트 박리액의 원료를 일시적으로 저류해 두기 위한 용기이다. 아민 저류 용기(811a, 811b)나, 유기 용매 저류 용기(812a, 812b) 등으로 이루어진다. 아민 저류 용기(811a, 811b)나 유기 용매 저류 용기(812a, 812b)는, 각각 1개여도 되지만, 도 12에 나타내는 바와 같이 각각 2개 구비하고 있으면 보다 바람직하다. 아민 저류 용기(811a, 811b)는, 아민 원료 도입구(752)로부터 아민 원료 보충 배관(842)을 통해, 아민이 항상 저류되어 있다. 또한, 유기 용매 저류 용기(812a, 812b)는, 유기 용매 원료 도입구(753)로부터 유기 용매 원료 보충 배관(843)을 통해, 유기 용매가 항상 저류되어 있다. 원료 저류 용기(820)에 항상 필요한 원료를 준비해 둠으로써, 조제 장치(810)는, 도중에 끊어지지 않고 원료의 공급을 받을 수 있어, 연속적으로 비수계 레지스트 박리액을 조제하는 것이 가능하게 된다.The raw material storage container 820 is a container for temporarily storing the raw material of the non-aqueous resist stripping solution. Amine storage vessels 811a and 811b, organic solvent storage vessels 812a and 812b, and the like. The number of the amine storage vessels 811a and 811b and the number of the organic solvent storage vessels 812a and 812b may be one, but two as shown in FIG. 12 are more preferable. Amines are always stored in the amine storage vessels 811a and 811b from the amine material inlet 752 through the amine feed pipe 842. [ The organic solvent storage vessels 812a and 812b are always kept from storing the organic solvent through the organic solvent feed port 753 and the organic solvent feed pipe 843. [ By preparing the raw material always required in the raw material storage container 820, the preparation device 810 can receive the raw material without being cut off on the way, and it becomes possible to continuously prepare the non-aqueous resist stripping solution.

아민 저류 용기(811a, 811b) 및 유기 용매 저류 용기(812a, 812b)는, 조제 장치(810)와 아민 공급 배관(844) 및 유기 용매 공급 배관(845)에 의해 접속되고, 원료 저류 용기(820)로부터 각종 원료가 조제조(703)에 공급된다. 공급의 방식은, 송액 펌프에 의한 방식이어도 되며, 용기의 가압 압송 방식이어도 된다. 필요하다면, 도 12에 나타내는 바와 같이, 원료 저류 용기(820)와 조제조(703)를 접속하는 아민 공급 배관(844) 및 유기 용매 공급 배관(845)에 제어 밸브(813a∼816b)를 설치해서, 조제 장치(810)가 이들을 제어하도록 해도 된다.The amine storage vessels 811a and 811b and the organic solvent storage vessels 812a and 812b are connected to the preparation vessel 810 by an amine supply pipe 844 and an organic solvent supply pipe 845, Are supplied to the preparation tank 703. The feeding method may be a method using a liquid delivery pump, or a pressurized feeding method of the container. 12, control valves 813a to 816b may be provided in the amine supply pipe 844 and the organic solvent supply pipe 845 for connecting the raw material storage container 820 and the preparation 703 , And the dispenser 810 may control them.

한편, 조제 장치(810)는, 박리 설비(890)와는, 조제조(703)에 접속된 비수계 레지스트 박리액 공급 배관(804)을 개재해서 접속된다. 비수계 레지스트 박리액 공급 배관(804)에는, 송액 펌프(825) 및 제어 밸브(826) 등이 설치되어 있다.On the other hand, the dispenser 810 is connected to the peeling apparatus 890 through a non-aqueous resist stripping solution supply pipe 804 connected to the preparation 703. A liquid pumping pump 825, a control valve 826 and the like are provided in the non-aqueous resist stripping liquid supply pipe 804.

조제조(703)에서 조제된 비수계 레지스트 박리액은, 송액 펌프(825)에 의해, 비수계 레지스트 박리액 공급 배관(804)을 통해서, 비수계 레지스트 박리액 공급구(854)로부터 박리 설비(890)에 공급된다. 박리 설비(890)는, 신호선(892)을 통해 제어 수단(801)과 접속되어 있다. 제어 수단(801)은, 박리 설비(890)로부터 발신되는 비수계 레지스트 박리액 공급 리퀘스트 신호를, 신호선(892)을 통해 수신한다. 제어 밸브(826)는, 신호선(849)을 통해 제어 수단(801)과 접속되어 있다. 제어 수단(801)은, 박리 설비(890)측의 요구에 따라서, 제어 밸브(826)를 개폐 제어한다. 이것에 의해, 박리 설비(890)는, 비수계 레지스트 박리액이 필요할 때에, 필요한 양만, 자동적으로 비수계 레지스트 박리액의 공급을 받을 수 있다.The non-aqueous resist stripper liquid prepared in preparation 703 is discharged from the non-aqueous resist stripper liquid supply port 854 through the non-aqueous resist stripper liquid supply pipe 804 to the release facility 890. The peeling facility 890 is connected to the control means 801 through a signal line 892. [ The control means 801 receives the non-aqueous resist stripping solution supply request signal, which is issued from the stripping facility 890, via the signal line 892. [ The control valve 826 is connected to the control means 801 via a signal line 849. [ The control means 801 controls opening and closing of the control valve 826 in accordance with the request of the peeling apparatus 890 side. Thereby, the peeling apparatus 890 can automatically receive the supply of the non-aqueous resist stripping liquid only when necessary, when the non-aqueous resist stripping liquid is required.

[제10 실시형태][Tenth Embodiment]

도 13은, 제10 실시형태에 따른 비수계 레지스트 박리액의 조제 장치를 설명하기 위한 모식도이다. 제8, 9 실시형태의 비수계 레지스트 박리액의 조제 장치(710, 810)와는, 조제조(703)에서 조제된 비수계 레지스트 박리액을 저류하는 저류조(902)를 구비하는 점이 다르다.13 is a schematic diagram for explaining an apparatus for preparing a non-aqueous resist stripping solution according to the tenth embodiment. Except that the apparatuses 710 and 810 for preparing the non-aqueous resist stripping solution of the eighth and ninth embodiments are provided with a storage tank 902 for storing the non-aqueous resist stripping solution prepared in preparation 703.

제10 실시형태의 비수계 레지스트 박리액의 조제 장치(910)에 있어서도, 제8 실시형태의 비수계 레지스트 박리액의 조제 장치(710)와 마찬가지로, 조제조(703) 내의 비수계 레지스트 박리액의 물성값 또는 성분 농도의 적어도 어느 한쪽을 측정함으로써, 조제조(703) 내의 비수계 레지스트 박리액의 성분 농도를 소정의 농도로 조절한다.In the apparatus for preparing a non-aqueous resist stripping solution 910 of the tenth embodiment, as in the case of the apparatus 710 for preparing a non-aqueous resist stripping solution according to the eighth embodiment, The concentration of the non-aqueous resist stripping solution in the preparation 703 is adjusted to a predetermined concentration by measuring at least one of the physical property value and the component concentration.

조제조(703)에서 조제된 비수계 레지스트 박리액은, 조제조(703)로부터 저류조(902)에 송액되어, 저류조(902)에 저류된다. 송액의 방법은, 송액 펌프 등에 의해 이송하는 방식 등이어도 되며, 특별히 한정은 하지 않는다. 도 13에 나타내는 바와 같이, 연통관(935)에 의해 조제조(703)와 저류조(902)를 연결해 두면, 송액 펌프 등을 필요로 하지 않고 자연 송액되기 때문에 간편하며 편리해서 바람직하다.The non-aqueous resist stripping solution prepared in the preparation 703 is sent from the preparation 703 to the storage tank 902 and stored in the storage tank 902. The method of pumping may be a method of transferring by a pumping pump or the like, and is not particularly limited. As shown in Fig. 13, it is preferable to connect the preparation tank 703 and the storage tank 902 by the communicating pipe 935, since it is naturally fed without the need of a feed pump or the like, which is convenient and convenient.

연통관(935)은, 비수계 레지스트 박리액이 유통되는 관로이다. 도 13에 나타내는 바와 같이, 조제조(703)는 저류조(902)보다도 높은 위치에 설치된다. 연통관(935)은, 예를 들면 도 13과 같이, 조제조(703)의 저부와 저류조(902)의 측부를 접속한다. 저류조(902)로부터 박리 설비(890)에 비수계 레지스트 박리액이 공급됨으로써, 저류조(902) 내에 저류되어 있는 비수계 레지스트 박리액이 감소하면, 조제조(703)에서 조제된 비수계 레지스트 박리액이 연통관(935)을 통해서, 저류조(902)에 자연적으로 이동한다. 연통관(935)은 적당한 길이와 배관 내경을 갖고, 조제조(703)에서 발생하는 비수계 레지스트 박리액의 농도의 변동이 저류조(902) 내에 미치지 않도록 하는 농도 변동의 완충 작용을 갖는다.The communicating tube 935 is a conduit through which the non-aqueous resist stripping solution flows. As shown in FIG. 13, the preparation 703 is installed at a position higher than the storage tank 902. The communicating tube 935 connects the bottom of the preparation tank 703 and the side of the storage tank 902, for example, as shown in Fig. When the non-aqueous resist stripper liquid is supplied from the storage tank 902 to the stripping apparatus 890 to reduce the non-aqueous resist stripper liquid stored in the storage tank 902, the non-aqueous resist stripper liquid prepared in preparation 703 Through the communicating tube 935, to the storage tank 902. [ The communicating tube 935 has a proper length and an inner diameter of the pipe and has a buffering action of concentration fluctuation so that the fluctuation of the concentration of the non-aqueous resist stripping liquid generated in the preparation tank 703 does not fall within the storage tank 902.

저류조(902)도, 조제조(703)와 마찬가지로, 측정 수단(931) 및 액면계(932)를 구비하고 있는 것이 바람직하다. 측정 수단(931)으로서는, 조제조(703)에 구비되어 있는 것과 같은 것을 이용할 수 있다. 측정 수단(931)은, 또한, 아민에 관한 측정 수단을 구비하고 있어도 된다. 이들 장치에 의해, 저류조(902)에 저류된 비수계 레지스트 박리액의 물성값, 또는, 성분 농도를 측정할 수 있다.The reservoir tank 902 is preferably provided with a measuring means 931 and a level gauge 932 as in the preparation tank 703. As the measuring means 931, those the same as those provided in the preparation 703 can be used. The measuring means 931 may further comprise measuring means relating to the amine. By these devices, the physical property value or component concentration of the non-aqueous resist stripper liquid stored in the storage tank 902 can be measured.

또한, 측정 수단(931) 및 액면계(932)도, 신호선(947, 948)을 통해 제어 수단(901)과 접속된다. 제어 수단(901)은, 측정 수단(931)이 측정하는 저류조(902) 내의 비수계 레지스트 박리액의 물성값 또는 성분 농도나 액면계(932)가 측정하는 저류조(902) 내의 비수계 레지스트 박리액의 액면 위치에 따라서, 조제조(703)의 경우와 마찬가지로, 적절하게 제어 밸브(718, 719)를 제어한다. 저류조(902) 내의 비수계 레지스트 박리액은, 농도 변동이 극히 작으므로, 실제로는, 저류조(902) 내부의 비수계 레지스트 박리액의 농도의 감시와 액량 관리가 행해진다.The measuring means 931 and the level gauge 932 are also connected to the control means 901 through the signal lines 947 and 948. The control means 901 controls the physical quantity or concentration of the non-aqueous resist stripper liquid in the storage tank 902 measured by the measuring means 931 or the liquid level of the non-aqueous resist stripper liquid in the storage tank 902 measured by the liquid level meter 932 The control valves 718 and 719 are appropriately controlled in the same manner as in the case of the preparation 703. Since the concentration of the non-aqueous resist stripper in the storage tank 902 is extremely small, the concentration of the non-aqueous resist stripper liquid in the storage tank 902 is monitored and the liquid amount is actually managed.

저류조(902) 내의 비수계 레지스트 박리액은, 순환 관로(934)에 구비된 순환 교반 펌프(933)에 의해서 순환 교반된다. 이것에 의해, 저류조(902) 내의 비수계 레지스트 박리액은, 균일한 농도로 유지된다.The non-aqueous resist stripping solution in the storage tank 902 is circulated and stirred by a circulating stirring pump 933 provided in the circulation line 934. As a result, the non-aqueous resist stripping solution in the storage tank 902 is maintained at a uniform concentration.

[제11 실시형태][Eleventh Embodiment]

도 14는, 제11 실시형태에 따른 비수계 레지스트 박리액의 조제 장치를 설명하기 위한 모식도이다. 제11 실시형태에 따른 비수계 레지스트 박리액의 조제 장치(1010)는, 조제조를 2개 구비하고 있는 점이 제8부터 제10까지의 실시형태의 비수계 레지스트 박리액의 조제 장치(710, 810, 910)와 다르다.14 is a schematic view for explaining an apparatus for preparing a non-aqueous resist stripping solution according to the eleventh embodiment. The apparatus 1010 for preparing a non-aqueous resist stripper according to the eleventh embodiment is similar to the apparatus for stripping non-aqueous resist strippers 710 and 810 of the eighth through tenth embodiments , 910).

조제조(1003)도 조제조(703)와 마찬가지로, 측정 수단(1031) 및 액면계(1032)를 구비하고, 신호선(1047) 및 신호선(1048)을 통해 제어 수단(1001)과 접속된다. 조제조(1003) 내의 비수계 레지스트 박리액의 물성값 또는 성분 농도, 및, 액면 위치는 제어 수단(1001)에 의해 감시되고, 신호선(1046)을 통해 접속된 제어 밸브(1018, 1019)를 제어하여, 조제조(703) 내의 비수계 레지스트 박리액의 성분 농도를 조절하는 경우와 마찬가지의 방법으로 성분 농도나 액면 위치의 조절을 행한다. 조제조(1003)에서 조제된 비수계 레지스트 박리액은, 연통관(1035)을 통해서, 저류조(902)에 저류된다. 또한, 조제조(1003)는 순환 관로(1034)를 구비하고, 조제조(1003) 내의 비수계 레지스트 박리액은, 순환 관로(1034)에 구비된 순환 교반 펌프(1033)에 의해서 순환 교반된다.The preparation 1003 also has a measuring means 1031 and a level gauge 1032 and is connected to the control means 1001 through a signal line 1047 and a signal line 1048 as in the case of the preparation 703. The physical property value or the component concentration and the liquid level position of the non-aqueous resist stripping solution in the preparation 1003 are monitored by the control means 1001 to control the control valves 1018 and 1019 connected via the signal line 1046 , The component concentration and the liquid surface position are adjusted in the same manner as in the case of adjusting the component concentration of the non-aqueous resist stripping solution in preparation (703). The non-aqueous resist stripping solution prepared in the preparation 1003 is stored in the storage tank 902 through the communicating pipe 1035. The preparation 1003 is provided with a circulation line 1034 and the non-aqueous resist stripping solution in the preparation 1003 is circulated and stirred by a circulating stirring pump 1033 provided in the circulation line 1034.

제11 실시형태에 따른 비수계 레지스트 박리액의 조제 장치(1010)에 의하면, 조제조를 2개 구비하고 있으므로, 예를 들면, 조제조(703)가 고장 등에 의해 작동되지 않게 되어도, 조제조(1003)로부터 저류조(902)에 비수계 레지스트 박리액을 조제해서 공급함으로써, 장치를 멈추지 않고 비수계 레지스트 박리액의 조제와 공급을 계속할 수 있다. 또한, 조제조(703) 내가 비어 있어도, 조제조(1003)로부터 비수계 레지스트 박리액을 공급할 수 있다.According to the apparatus 1010 for preparing a non-aqueous resist stripping solution according to the eleventh embodiment, since two fabrication steps are provided, for example, even if the fabrication process 703 is not operated due to failure or the like, 1003 to the storage tank 902, the preparation and supply of the non-aqueous resist stripping solution can be continued without stopping the apparatus. Also, even if the preparation tank 703 is empty, the non-aqueous resist stripping solution can be supplied from the preparation tank 1003.

또, 도 14에 있어서는, 조제조를 2개 구비하는 구성을 기재했지만, 조제조의 수는 특별히 한정되지 않으며, 3개 이상의 복수의 조를 구비해도 된다. 단, 장치가 대형화하는 것, 고장 시의 예비인 것을 고려하면, 저류조 1개에 대해서 조제조를 2개 구비하면 충분하다.In Fig. 14, there is described a configuration in which two preparations are provided. However, the number of preparation vessels is not particularly limited and three or more pairs may be provided. However, taking into consideration that the apparatus becomes large in size and that it is a reserve at the time of failure, it is sufficient to provide two reservoirs for one storage tank.

[제12 실시형태][Twelfth Embodiment]

도 15는, 제12 실시형태에 따른 비수계 레지스트 박리액의 조제 장치를 설명하기 위한 모식도이다. 제12 실시형태에 따른 비수계 레지스트 박리액의 조제 장치(1110)는, 비수계 레지스트 박리액의 원료를 미리 혼합하는 예비 혼합 수단으로서 혼합 준비조(1105)를 구비하고 있는 점이 제8부터 제11까지의 실시형태의 비수계 레지스트 박리액의 조제 장치와 다르다.15 is a schematic view for explaining an apparatus for preparing a non-aqueous resist stripping solution according to a twelfth embodiment. The apparatus 1110 for preparing a non-aqueous resist stripping solution according to the twelfth embodiment is provided with a mixing preparation tank 1105 as a premixing means for preliminarily mixing raw materials for a non-aqueous resist stripping solution, In the present embodiment is different from the apparatus for preparing a non-aqueous resist stripping solution according to the embodiment.

혼합 준비조(1105)는, 아민 공급 배관(844), 및, 유기 용매 공급 배관(845)에 접속되어 있다. 또한, 혼합 준비조(1105)는, 배관(1106)에 의해 조제조(703)에 접속되어 있다.The mixing preparation tank 1105 is connected to the amine supply pipe 844 and the organic solvent supply pipe 845. The mixing preparation tank 1105 is connected to the preparation tank 703 by a pipe 1106.

혼합 준비조(1105)를 설치하고, 조제조(703)에 공급되는 원료를 혼합 준비조(1105)에서 혼합해서 조제조(703)에 공급함으로써, 조제조(703)에 비수계 레지스트 박리액의 조성에 가까운 농도로 공급할 수 있다. 따라서, 조제조(703) 내의 비수계 레지스트 박리액의 농도가 갑자기 변화하는 것을 방지할 수 있음과 함께, 비수계 레지스트 박리액의 조제를 용이하게 행할 수 있다. 또한, 비수계 레지스트 박리액의 원료가 미리 혼합되므로, 조제조(703) 내에서의 혼합이나 교반의 부담이 경감되며, 보다 신속히 균일한 농도의 비수계 레지스트 박리액을 조제할 수 있다.The mixing preparation tank 1105 is provided and the raw materials supplied to the preparation tank 703 are mixed in the mixing preparation tank 1105 and supplied to the tank preparation 703 so that the tank preparation 703 is filled with the non- It can be supplied at a concentration close to the composition. Therefore, the concentration of the non-aqueous resist stripping solution in the preparation 703 can be prevented from suddenly changing, and the preparation of the non-aqueous resist stripping solution can be easily performed. In addition, since the raw material of the non-aqueous resist stripping solution is mixed in advance, the burden of mixing and stirring in the preparation 703 is reduced, and a non-aqueous resist stripping solution of uniform concentration can be prepared more rapidly.

혼합 준비조(1105)에서의 혼합은, 제어 수단(1101)에 의해, 신호선(1146)을 통해 접속된 제어 밸브(1118, 1119)를 제어함으로써, 아민 원액, 및, 유기 용매의 유량을 제어하여, 조제조(703)에서 조제되는 비수계 레지스트 박리액의 농도로 하는 것이 바람직하다. 비수계 레지스트 박리액의 최종적인 농도의 조절은, 조제조(703)에서 행하기 때문에, 혼합 준비조(1105)에서는, 정밀하게 조제하지 않아도 된다. 혼합 준비조(1105)에서 혼합된 레지스트 박리액의 농도가, 측정 수단(702)으로 측정되는 물성값이 성분 농도와 상관 관계를 갖는 농도 범위에 들어갈 정도로, 각 원료의 혼합이 이루어져 있으면 된다. 단, 조제조(703)와 마찬가지로, 측정 장치에 의해, 물성값 또는 성분 농도를 측정해도 된다.Mixing in the mixing preparation tank 1105 controls the flow rates of the amine stock solution and the organic solvent by controlling the control valves 1118 and 1119 connected through the signal line 1146 by the control means 1101 , It is preferable that the concentration of the non-aqueous resist stripping solution prepared in Preparation 703 is used. Since the final concentration of the non-aqueous resist stripping solution is adjusted in the preparation step 703, it is not necessary to precisely prepare it in the mixing preparation tank 1105. The concentration of the resist stripping solution mixed in the mixing preparation tank 1105 may be such that the respective raw materials are mixed to such an extent that the physical property value measured by the measuring means 702 falls within a concentration range correlated with the component concentration. However, the physical property value or the component concentration may be measured by the measuring apparatus in the same manner as the preparation 703.

본 실시형태의 조제 장치(1110)가 구비하는 예비 혼합 수단은, 간이한 혼합조로서 작동하는 혼합 준비조(1105)와 같은 태양으로 한정되지 않는다. 예를 들면, 원료를 공급하는 원료 공급 배관(742, 743) 등이 조제조(703)의 앞쪽에서 합류해서, 합류 배관 내에서 원료가 혼합되는 바와 같은 방식이어도 된다. 그 경우, 또한, 인라인 믹서나 스태틱 믹서 등의 배관형 혼합 장치를 채용할 수도 있다. 순환 관로(734)에 합류시켜도 된다.The preliminary mixing means provided in the preparation apparatus 1110 of the present embodiment is not limited to the embodiment such as the mixing preparation vessel 1105 which operates as a simple mixing vessel. For example, the raw material supply pipes 742 and 743 for supplying the raw materials may join in the front of the preparation 703 and the raw materials may be mixed in the confluent pipe. In this case, a piping type mixing apparatus such as an inline mixer or a static mixer may also be employed. It may be joined to the circulation duct 734.

또한, 예비 혼합 수단은, 제11 실시형태와 같이, 조제조를 2개 이상 구비하는 비수계 레지스트 박리액의 조제 장치에 있어서는, 조제조마다 예비 혼합 수단을 설치하는 구성으로 해도 된다.As in the eleventh embodiment, the preliminary mixing means may be provided with a preliminary mixing means for each preparation in the apparatus for preparing a non-aqueous resist stripping solution having two or more preparations.

1, 101, 201, 301, 401, 501, 601, 701, 801, 901, 1001, 1101 : 제어 수단
2, 102, 202, 302, 431, 531, 702, 802, 931, 1031 : 측정 수단
3, 503, 703, 1003 : 조제조
4, 304 : 수계 레지스트 박리액 공급 배관(공급 배관)
10, 110, 210, 310, 410, 510, 610 : 수계 레지스트 박리액의 조제 장치
17, 18, 19, 313a, 313b, 314a, 314b, 315a, 315b, 316a, 316b, 326, 517, 518, 519, 617, 618, 619, 718, 719, 813a, 813b, 814a, 814b, 815a, 815b, 816a, 816b, 826, 1018, 1019, 1118, 1119 : 제어 밸브
32, 432, 532, 732, 932, 1032 : 액면계
33, 433, 533, 733, 933, 1033 : 순환 교반 펌프
34, 434, 534, 734, 934, 1034 : 순환 관로
36, 736 : 교반 수단
41 : 순수 공급 배관(원료 공급 배관)
42, 742 : 아민 원료 공급 배관(원료 공급 배관)
43, 743 : 유기 용매 원료 공급 배관(원료 공급 배관)
46, 47, 48, 147, 247, 349, 392, 447, 448, 546, 547, 548, 646, 746, 747, 748, 847, 849, 892, 947, 948, 1046, 1047, 1048, 1146 : 신호선
51 : 순수 도입구(원료 도입구)
52, 752 : 아민 원료 도입구(원료 도입구)
53, 753 : 유기 용매 원료 도입구(원료 도입구)
54, 354 : 레지스트 박리액 공급구
121, 321, 821 : 아민에 관한 측정 수단
123, 323, 823 : 아민에 관한 제어 수단
222, 322 : 수분에 관한 측정 수단
224, 324 : 수분에 관한 제어 수단
311a, 311b, 811a, 811b : 아민 저류 용기
312a, 312b, 812a, 812b : 유기 용매 저류 용기
320, 820 : 원료 저류 용기
325, 825 : 송액 펌프
342, 842 : 아민 원료 보충 배관
343, 843 : 유기 용매 원료 보급 배관
344, 844 : 아민 공급 배관
345, 845 : 유기 용매 공급 배관
402, 902 : 저류조
435, 535, 935, 1035 : 연통관
605, 1105 : 혼합 준비조
606, 1106 : 배관
704, 804 : 비수계 레지스트 박리액 공급 배관(공급 배관)
710, 810, 910, 1010, 1110 : 비수계 레지스트 박리액의 조제 장치
754, 854 : 비수계 레지스트 박리액 공급구1, 101, 201, 301, 401, 501, 601, 701, 801, 901, 1001, 1101:
2, 102, 202, 302, 431, 531, 702, 802, 931, 1031:
3, 503, 703, 1003: preparation
4, 304: Water-based resist stripping solution supply pipe (supply pipe)
10, 110, 210, 310, 410, 510, 610: a device for preparing a water-
314a, 314b, 315a, 315b, 316a, 316b, 326, 517, 518, 519, 617, 618, 619, 718, 719, 813a, 813b, 814a, 814b, 815a, 815b, 816a, 816b, 826, 1018, 1019, 1118, 1119:
32, 432, 532, 732, 932, 1032:
33, 433, 533, 733, 933, 1033: circulating stirring pump
34, 434, 534, 734, 934, 1034:
36, 736: stirring means
41: Pure supply piping (raw supply piping)
42, 742: Amine raw material supply pipe (raw material supply pipe)
43, 743: Organic solvent feed pipe (raw feed pipe)
447, 448, 546, 547, 548, 646, 746, 747, 748, 847, 849, 892, 947, 948, 1046, 1047, 1048, 1146, Signal line
51: Pure introduction port (raw material introduction port)
52, 752: Amine raw material introduction port (raw material introduction port)
53, 753: Organic solvent raw material introduction port (raw material introduction port)
54, 354: resist stripping solution supply port
121, 321, 821: measurement means for amines
123, 323, 823: control means for amine
222, 322: means for measuring moisture
224, 324: control means relating to moisture
311a, 311b, 811a, 811b: Amine storage container
312a, 312b, 812a, 812b: organic solvent storage container
320, 820: Raw material storage container
325, 825: liquid pump
342, 842: Amine raw material replenishment piping
343, 843: Organic solvent supply pipe
344, 844: amine supply piping
345, 845: Organic solvent supply piping
402, 902: Storage tank
435, 535, 935, 1035: communicating tube
605, 1105: mixing preparation tank
606, 1106: Piping
704, 804: non-aqueous resist stripping solution supply pipe (supply pipe)
710, 810, 910, 1010 and 1110: Apparatus for preparing a non-aqueous resist stripping solution
754, 854: Non-aqueous resist stripping solution supply port

Claims (30)

소정의 성분 농도의 수계 레지스트 박리액이 조제되는 조제조(調製槽)와,
상기 조제조 내의 수계 레지스트 박리액에 대하여, 수계 레지스트 박리액의 성분 농도와 상관 관계를 갖는 수계 레지스트 박리액의 물성값, 및, 수계 레지스트 박리액의 성분 농도의 적어도 한쪽을 측정하는 측정 수단과,
상기 측정 수단에 의해 측정된 측정값에 의거해서, 상기 조제조 내의 수계 레지스트 박리액이 상기 소정의 성분 농도로 되도록, 상기 조제조에 공급되는 수계 레지스트 박리액의 원료의 공급량을 제어하는 제어 수단을 구비하는 수계 레지스트 박리액의 조제 장치.(Preparing tank) for preparing a water-based resist stripping solution having a predetermined component concentration,
A measuring means for measuring at least one of a physical property value of the water-based resist stripping liquid having a correlation with the concentration of the water-based resist stripping liquid and a concentration of the water-based resist stripping liquid,
And control means for controlling the supply amount of the raw material of the aqueous resist stripping liquid supplied to the preparation tank so that the aqueous resist stripping solution in the tank preparation becomes the predetermined component concentration based on the measured value measured by the measuring means Wherein the water-based resist stripping liquid is a water-based resist. 소정의 아민 농도의 수계 레지스트 박리액이 조제되는 조제조와,
상기 조제조 내의 수계 레지스트 박리액에 대하여, 수계 레지스트 박리액의 아민 농도와 상관 관계를 갖는 수계 레지스트 박리액의 물성값, 및, 수계 레지스트 박리액의 아민 농도의 적어도 한쪽을 측정하는 아민에 관한 측정 수단과,
상기 아민에 관한 측정 수단에 의해 측정된 측정값에 의거해서, 상기 조제조 내의 수계 레지스트 박리액이 상기 소정의 아민 농도로 되도록, 상기 조제조에 공급되는 수계 레지스트 박리액의 원료의 공급량을 제어하는 아민에 관한 제어 수단을 구비하는 수계 레지스트 박리액의 조제 장치.A preparation in which an aqueous resist stripping solution having a predetermined amine concentration is prepared,
A measurement means relating to an amine for measuring at least one of a physical property value of the aqueous resist stripping liquid having a correlation with the amine concentration of the aqueous resist stripping solution and an amine concentration of the aqueous resist stripping solution, and,
Based on the measurement value measured by the measuring means relating to the amine, an amine which controls the supply amount of the raw material of the water-based resist stripping liquid supplied to the preparation tank so that the aqueous resist stripping solution in the preparation is the predetermined amine concentration And a control means for controlling the flow rate of the aqueous resist stripping liquid. 소정의 수분 농도의 수계 레지스트 박리액이 조제되는 조제조와,
상기 조제조 내의 수계 레지스트 박리액에 대하여, 수계 레지스트 박리액의 수분 농도와 상관 관계를 갖는 수계 레지스트 박리액의 물성값, 및, 수계 레지스트 박리액의 수분 농도의 적어도 한쪽을 측정하는 수분에 관한 측정 수단과,
상기 수분에 관한 측정 수단에 의해 측정된 측정값에 의거해서, 상기 조제조 내의 수계 레지스트 박리액이 상기 소정의 수분 농도로 되도록, 상기 조제조에 공급되는 수계 레지스트 박리액의 원료의 공급량을 제어하는 수분에 관한 제어 수단을 구비하는 수계 레지스트 박리액의 조제 장치.A preparation in which a water-based resist stripping liquid having a predetermined moisture concentration is prepared,
A measurement means for measuring the moisture content of at least one of the physical property value of the water-based resist stripping liquid having a correlation with the water concentration of the water-based resist stripping liquid and the water concentration of the water- and,
Based on the measurement value measured by the measuring means relating to the moisture, the water-based resist stripping liquid in the preparation is adjusted to have the predetermined moisture concentration, and the moisture amount controlling the supply amount of the raw material of the aqueous resist stripping liquid supplied to the preparation tank And a control means for controlling the flow rate of the aqueous resist stripping liquid. 소정의 아민 농도, 및, 소정의 수분 농도를 갖는 수계 레지스트 박리액이 조제되는 조제조와,
상기 조제조 내의 수계 레지스트 박리액에 대하여, 수계 레지스트 박리액의 아민 농도와 상관 관계를 갖는 수계 레지스트 박리액의 물성값, 및, 수계 레지스트 박리액의 아민 농도의 적어도 한쪽을 측정하는 아민에 관한 측정 수단과,
상기 조제조 내의 수계 레지스트 박리액에 대하여, 수계 레지스트 박리액의 수분 농도와 상관 관계를 갖는 수계 레지스트 박리액의 물성값, 및, 수계 레지스트 박리액의 수분 농도의 적어도 한쪽을 측정하는 수분에 관한 측정 수단과,
상기 아민에 관한 측정 수단에 의해 측정된 측정값, 및, 상기 수분에 관한 측정 수단에 의해 측정된 측정값에 의거해서, 상기 조제조 내의 수계 레지스트 박리액이, 상기 소정의 아민 농도 및 상기 소정의 수분 농도로 되도록, 상기 조제조에 공급되는 수계 레지스트 박리액의 원료의 공급량을 제어하는 제어 수단을 구비하는 수계 레지스트 박리액의 조제 장치.A preparation in which an aqueous resist stripping solution having a predetermined amine concentration and a predetermined moisture concentration is prepared,
A measurement means relating to an amine for measuring at least one of a physical property value of the aqueous resist stripping liquid having a correlation with the amine concentration of the aqueous resist stripping solution and an amine concentration of the aqueous resist stripping solution, and,
A measurement means for measuring the moisture content of at least one of the physical property value of the water-based resist stripping liquid having a correlation with the water concentration of the water-based resist stripping liquid and the water concentration of the water- and,
Based on the measured value measured by the measuring means relating to the amine and the measured value measured by the measuring means relating to the moisture, the water-based resist stripping liquid in the crude preparation contains the predetermined amine concentration and the predetermined And control means for controlling the supply amount of the raw material of the water-based resist stripping liquid supplied to the preparation tank so that the moisture concentration is obtained. 제2항에 있어서,
상기 아민에 관한 측정 수단이, 흡광 광도계, 도전율계, 밀도계, 초음파 농도계, 및, 점도계 중 어느 하나를 구비하는 수계 레지스트 박리액의 조제 장치.3. The method of claim 2,
Wherein the measuring means relating to the amine comprises any one of a spectrophotometer, a conductivity meter, a density meter, an ultrasonic concentration meter, and a viscometer. 제5항에 있어서,
상기 아민에 관한 측정 수단이 흡광 광도계를 구비하고,
상기 아민이 모노에탄올아민일 경우, 상기 흡광 광도계의 측정 파장이, 1000 내지 1600㎚의 파장 영역으로부터 선택되는 특정의 파장이고,
상기 아민이 히드록실아민일 경우, 상기 흡광 광도계의 측정 파장이, 1050 내지 1090㎚의 파장 영역으로부터 선택되는 특정의 파장인 수계 레지스트 박리액의 조제 장치.6. The method of claim 5,
Wherein the measuring means for the amine comprises a spectrophotometer,
When the amine is monoethanolamine, the absorption wavelength of the absorption spectrophotometer is a specific wavelength selected from a wavelength range of 1000 to 1600 nm,
Wherein when the amine is hydroxylamine, the absorption wavelength of the absorption spectrophotometer is a specific wavelength selected from a wavelength range of 1050 to 1090 nm. 제3항에 있어서,
상기 수분에 관한 측정 수단이, 흡광 광도계, 도전율계, 밀도계, 초음파 농도계, 및, 점도계 중 어느 하나를 구비하는 수계 레지스트 박리액의 조제 장치.The method of claim 3,
Wherein the measuring means for moisture includes any one of a spectrophotometer, a conductivity meter, a density meter, an ultrasonic wave density meter, and a viscometer. 제7항에 있어서,
상기 수분에 관한 측정 수단이 흡광 광도계를 구비하고,
상기 흡광 광도계의 측정 파장이, 950 내지 2000㎚의 파장 영역으로부터 선택되는 특정의 파장인 수계 레지스트 박리액의 조제 장치.8. The method of claim 7,
Wherein the measuring means for moisture includes a light absorbing photometer,
Wherein the absorption wavelength of the absorption spectrophotometer is a specific wavelength selected from a wavelength range of 950 to 2000 nm. 제4항에 있어서,
상기 아민에 관한 측정 수단이, 흡광 광도계, 도전율계, 밀도계, 초음파 농도계, 및, 점도계 중 어느 하나를 구비하는 수계 레지스트 박리액의 조제 장치.5. The method of claim 4,
Wherein the measuring means relating to the amine comprises any one of a spectrophotometer, a conductivity meter, a density meter, an ultrasonic concentration meter, and a viscometer. 제9항에 있어서,
상기 아민에 관한 측정 수단이 흡광 광도계를 구비하고,
상기 아민이 모노에탄올아민일 경우, 상기 흡광 광도계의 측정 파장이, 1000 내지 1600㎚의 파장 영역으로부터 선택되는 특정의 파장이고,
상기 아민이 히드록실아민일 경우, 상기 흡광 광도계의 측정 파장이, 1050 내지 1090㎚의 파장 영역으로부터 선택되는 특정의 파장인 수계 레지스트 박리액의 조제 장치.10. The method of claim 9,
Wherein the measuring means for the amine comprises a spectrophotometer,
When the amine is monoethanolamine, the absorption wavelength of the absorption spectrophotometer is a specific wavelength selected from a wavelength range of 1000 to 1600 nm,
Wherein when the amine is hydroxylamine, the absorption wavelength of the absorption spectrophotometer is a specific wavelength selected from a wavelength range of 1050 to 1090 nm. 제4항에 있어서,
상기 수분에 관한 측정 수단이, 흡광 광도계, 도전율계, 밀도계, 초음파 농도계, 및, 점도계 중 어느 하나를 구비하는 수계 레지스트 박리액의 조제 장치.5. The method of claim 4,
Wherein the measuring means for moisture includes any one of a spectrophotometer, a conductivity meter, a density meter, an ultrasonic wave density meter, and a viscometer. 제11항에 있어서,
상기 수분에 관한 측정 수단이 흡광 광도계를 구비하고,
상기 흡광 광도계의 측정 파장이, 950 내지 2000㎚의 파장 영역으로부터 선택되는 특정의 파장인 수계 레지스트 박리액의 조제 장치.12. The method of claim 11,
Wherein the measuring means for moisture includes a light absorbing photometer,
Wherein the absorption wavelength of the absorption spectrophotometer is a specific wavelength selected from a wavelength range of 950 to 2000 nm. 제1항 내지 제12항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 조제조에서 조제된 상기 수계 레지스트 박리액을 저류(貯留)하는 저류조를 더 구비하는 수계 레지스트 박리액의 조제 장치.13. The method according to any one of claims 1 to 12,
Further comprising a storage tank for storing the aqueous resist stripping solution prepared in the preparation of the aqueous resist stripper. 제13항에 있어서,
상기 조제조를 복수 구비하는 수계 레지스트 박리액의 조제 장치.14. The method of claim 13,
Wherein the plurality of preparations are prepared. 제13항에 있어서,
상기 조제조와 상기 저류조가 연통관에 의해 접속되어 있는 수계 레지스트 박리액의 조제 장치.14. The method of claim 13,
And the reservoir is connected to the reservoir by a communicating pipe. 제1항 내지 제12항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 조제조에 공급하는 상기 원료를 미리 혼합하는 예비 혼합 수단을 더 구비하는 수계 레지스트 박리액의 조제 장치.13. The method according to any one of claims 1 to 12,
Further comprising preliminary mixing means for preliminarily mixing the raw materials to be supplied to the preparation tank. 제13항에 있어서,
상기 조제조에 공급하는 상기 원료를 미리 혼합하는 예비 혼합 수단을 더 구비하는 수계 레지스트 박리액의 조제 장치.14. The method of claim 13,
Further comprising preliminary mixing means for preliminarily mixing the raw materials to be supplied to the preparation tank. 제14항에 있어서,
상기 조제조에 공급하는 상기 원료를 미리 혼합하는 예비 혼합 수단을, 상기 조제조마다 구비하는 수계 레지스트 박리액의 조제 장치.15. The method of claim 14,
Wherein the preliminary mixing means for preliminarily mixing the raw materials to be supplied to the preparation tank is provided for each of the preparations. 제15항에 있어서,
상기 조제조에 공급하는 상기 원료를 미리 혼합하는 예비 혼합 수단을 더 구비하는 수계 레지스트 박리액의 조제 장치.16. The method of claim 15,
Further comprising preliminary mixing means for preliminarily mixing the raw materials to be supplied to the preparation tank. 소정의 성분 농도의 비수계 레지스트 박리액이 조제되는 조제조와,
상기 조제조 내의 비수계 레지스트 박리액에 대하여, 비수계 레지스트 박리액의 성분 농도와 상관 관계를 갖는 비수계 레지스트 박리액의 물성값, 및, 비수계 레지스트 박리액의 성분 농도의 적어도 한쪽을 측정하는 측정 수단과,
상기 측정 수단에 의해 측정된 측정값에 의거해서, 상기 조제조 내의 비수계 레지스트 박리액이 상기 소정의 성분 농도로 되도록, 상기 조제조에 공급되는 비수계 레지스트 박리액의 원료의 공급량을 제어하는 제어 수단을 구비하는 비수계 레지스트 박리액의 조제 장치.Preparing a preparation in which a non-aqueous resist stripping solution having a predetermined component concentration is prepared,
A method for measuring at least one of a physical property value of a non-aqueous resist stripper having a correlation with a component concentration of the non-aqueous resist stripper and a component concentration of the non-aqueous resist stripper, Sudan,
A control means for controlling the supply amount of the raw material of the non-aqueous resist stripping solution supplied to the preparation tank so that the non-aqueous resist stripping solution in the preparation is the predetermined component concentration, based on the measured value measured by the measuring means And removing the non-aqueous resist stripping solution. 소정의 아민 농도의 비수계 레지스트 박리액이 조제되는 조제조와,
상기 조제조 내의 비수계 레지스트 박리액에 대하여, 비수계 레지스트 박리액의 아민 농도와 상관 관계를 갖는 비수계 레지스트 박리액의 물성값, 및, 비수계 레지스트 박리액의 아민 농도의 적어도 한쪽을 측정하는 아민에 관한 측정 수단과,
상기 아민에 관한 측정 수단에 의해 측정된 측정값에 의거해서, 상기 조제조 내의 비수계 레지스트 박리액이 상기 소정의 아민 농도로 되도록, 상기 조제조에 공급되는 비수계 레지스트 박리액의 원료의 공급량을 제어하는 아민에 관한 제어 수단을 구비하는 비수계 레지스트 박리액의 조제 장치.Preparing a bath in which a non-aqueous resist stripping solution having a predetermined amine concentration is prepared,
Based resist film peeling solution in the above preparation, an amine for measuring at least one of a physical property value of the non-aqueous resist stripping solution having a correlation with the amine concentration of the non-aqueous resist stripping solution and an amine concentration of the non-aqueous resist stripping solution A measuring means for measuring the position of the object,
Based resist stripping liquid to be supplied to the preparation tank so that the concentration of the non-aqueous resist stripping solution in the preparation is the predetermined amine concentration, based on the measurement value measured by the measuring means relating to the amine And a control means for controlling the amount of the amine. 제21항에 있어서,
상기 아민에 관한 측정 수단이, 흡광 광도계, 도전율계, 밀도계, 초음파 농도계, 및, 점도계 중 어느 하나를 구비하는 비수계 레지스트 박리액의 조제 장치.22. The method of claim 21,
The apparatus for preparing a non-aqueous resist stripper according to any one of claims 1 to 3, wherein the measuring means for the amine comprises any one of a spectrophotometer, a conductivity meter, a density meter, an ultrasonic wave density meter and a viscometer. 제22항에 있어서,
상기 아민에 관한 측정 수단이 흡광 광도계를 구비하고,
상기 아민이 모노에탄올아민일 경우, 상기 흡광 광도계의 측정 파장이, 1000 내지 1600㎚의 파장 영역으로부터 선택되는 특정의 파장이고,
상기 아민이 히드록실아민일 경우, 상기 흡광 광도계의 측정 파장이, 1050 내지 1090㎚의 파장 영역으로부터 선택되는 특정의 파장인 비수계 레지스트 박리액의 조제 장치.23. The method of claim 22,
Wherein the measuring means for the amine comprises a spectrophotometer,
When the amine is monoethanolamine, the absorption wavelength of the absorption spectrophotometer is a specific wavelength selected from a wavelength range of 1000 to 1600 nm,
Wherein when the amine is hydroxylamine, the measurement wavelength of the absorption spectrophotometer is a specific wavelength selected from a wavelength range of 1050 to 1090 nm. 제20항 내지 제23항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 조제조에서 조제된 상기 비수계 레지스트 박리액을 저류하는 저류조를 더 구비하는 비수계 레지스트 박리액의 조제 장치.24. The method according to any one of claims 20 to 23,
Further comprising a storage tank for storing the non-aqueous resist stripping solution prepared in the above preparation. 제24항에 있어서,
상기 조제조를 복수 구비하는 비수계 레지스트 박리액의 조제 장치.25. The method of claim 24,
Wherein the non-aqueous resist stripping solution has a plurality of preparations. 제24항에 있어서,
상기 조제조와 상기 저류조가 연통관에 의해 접속되어 있는 비수계 레지스트 박리액의 조제 장치.25. The method of claim 24,
And the reservoir is connected to the reservoir by a communicating pipe. 제20항 내지 제23항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 조제조에 공급하는 상기 원료를 미리 혼합하는 예비 혼합 수단을 더 구비하는 비수계 레지스트 박리액의 조제 장치.24. The method according to any one of claims 20 to 23,
Further comprising preliminary mixing means for preliminarily mixing the raw materials supplied to the preparation tank in advance. 제24항에 있어서,
상기 조제조에 공급하는 상기 원료를 미리 혼합하는 예비 혼합 수단을 더 구비하는 비수계 레지스트 박리액의 조제 장치.25. The method of claim 24,
Further comprising preliminary mixing means for preliminarily mixing the raw materials supplied to the preparation tank in advance. 제25항에 있어서,
상기 조제조에 공급하는 상기 원료를 미리 혼합하는 예비 혼합 수단을, 상기 조제조마다 구비하는 비수계 레지스트 박리액의 조제 장치.26. The method of claim 25,
Wherein the preliminary mixing means for preliminarily mixing the raw materials to be supplied to the preparation tank is provided for each of the preparations. 제26항에 있어서,
상기 조제조에 공급하는 상기 원료를 미리 혼합하는 예비 혼합 수단을 더 구비하는 비수계 레지스트 박리액의 조제 장치.27. The method of claim 26,
Further comprising preliminary mixing means for preliminarily mixing the raw materials supplied to the preparation tank in advance.
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