JP6681066B2 - Aqueous resist stripper preparation device and non-aqueous resist stripper preparation device - Google Patents
Aqueous resist stripper preparation device and non-aqueous resist stripper preparation device Download PDFInfo
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Description
本発明は、半導体製造工程およびフラットパネルディスプレイ製造工程などにおいて、レジストの剥離に用いられる水系レジスト剥離液を調製する調製装置および非水系レジスト剥離液を調製する調製装置に関する。 The present invention relates to a preparation apparatus for preparing an aqueous resist stripping solution and a preparation apparatus for preparing a non-aqueous resist stripping solution used for stripping a resist in a semiconductor manufacturing process, a flat panel display manufacturing process and the like.
半導体製造工程やフラットパネルディスプレイ基板の製造工程におけるフォトリソグラフィ工程の最終段階では、レジストを基板から完全に剥離する工程が必要である。半導体やフラットパネルディスプレイ基板のレジスト剥離工程においては、酸素プラズマによるドライアッシング工程とレジスト剥離液による湿式剥離工程の併用が実施されている。酸素プラズマによるドライアッシング工程を経た基板にはシリコン酸化物やアルミ酸化物が生成しており、次の湿式剥離工程ではレジストを剥離するだけでなく、金属酸化物を完全に除去することが必要である。 At the final stage of the photolithography process in the semiconductor manufacturing process and the flat panel display substrate manufacturing process, it is necessary to completely remove the resist from the substrate. In a resist stripping process for a semiconductor or a flat panel display substrate, a dry ashing process using oxygen plasma and a wet stripping process using a resist stripping solution are used together. Silicon oxide and aluminum oxide are generated on the substrate that has undergone the dry ashing process using oxygen plasma, and it is necessary to completely remove the metal oxide in addition to removing the resist in the next wet stripping process. is there.
半導体やフラットパネルディスプレイ基板のレジスト剥離工程においては、レジスト剥離液として、有機アルカリや有機溶剤を組み合わせた溶液（以下、「非水系レジスト剥離液」ともいう）が主に使用されている。また、この溶液に適量の水を添加した溶液（以下、「水系レジスト剥離液」ともいう）が使用されている。本明細書において、「水系レジスト剥離液」と「非水系レジスト剥離液」とを明確に区別する必要がない場合は、単に「レジスト剥離液」ということもある。 In the resist stripping process for semiconductors and flat panel display substrates, a solution (hereinafter also referred to as “non-aqueous resist stripping solution”) in which an organic alkali or an organic solvent is combined is mainly used as the resist stripping solution. Further, a solution obtained by adding an appropriate amount of water to this solution (hereinafter, also referred to as "water-based resist stripping solution") is used. In the present specification, the "water-based resist stripping solution" and the "non-aqueous resist stripping solution" may be simply referred to as "resist stripping solution" when it is not necessary to clearly distinguish them.
レジスト剥離液の濃度を管理するレジスト剥離液管理装置として、例えば、下記の特許文献１や特許文献２が知られている。
As a resist stripping solution management device that manages the concentration of the resist stripping solution, for example, the following
特許文献１には、レジスト剥離液の溶解レジスト濃度を吸光光度計により検出してレジスト剥離液を排出するレジスト剥離液排出手段と、レジスト剥離液の液面レベルを液面レベル計により検出して、有機溶媒とアルカノールアミンとを補給する、または、有機溶媒とアルカノールアミンとを予め調合したレジスト剥離新液を補給する、第一補給手段と、レジスト剥離液のアルカノールアミン濃度を吸光光度計により検出して有機溶媒およびアルカノールアミンの少なくとも一方を補給する第二補給手段と、を備えたレジスト剥離液管理装置が記載されている。
また、下記の特許文献２には、レジスト剥離液の溶解レジスト濃度を吸光光度計により検出してレジスト剥離液を排出するレジスト剥離液排出手段と、レジスト剥離液の液面レベルを液面レベル計により検出して、レジスト剥離液と純水とを補給する、または、レジスト剥離原液と純水とを予め調合したレジスト剥離新液を補給する、第一補給手段と、レジスト剥離液の水分濃度を吸光光度計により検出して、レジスト剥離原液および純水の少なくとも一方を補給する第二補給手段と、を備えたレジスト剥離液管理装置が記載されている。
Further, in
特許文献１、２に記載されているように、レジスト剥離液を所定の成分濃度に維持管理する管理装置は、すでに発明されている。しかし、所定の成分濃度のレジスト剥離液を成分濃度の測定値に基づいてその原料から自動的に調製する調製装置は、存在していなかった。これは、管理装置と調製装置との間に、次のような根本的な相違があるためである。
As described in
管理装置の場合、特許文献１や２のように、管理装置の適用される対象は、初めは管理すべき所定の成分濃度にあったレジスト剥離液である。レジスト剥離液が使用されることにより、レジスト剥離液の成分濃度が当初の成分濃度から徐々にずれてくる。これに対し、管理装置は、レジスト剥離液に補充液を補充する等の動作により、レジスト剥離液の成分濃度を当初の管理すべき所定の濃度に戻そうとする。つまり、管理装置は、成分濃度の復元メカニズムを導入することによって、管理すべき所定の成分濃度を中心とした成分濃度の安定制御系を構築しよう、との技術思想によるものである。
In the case of a management apparatus, the target to which the management apparatus is applied is a resist stripping solution that initially had a predetermined component concentration to be managed, as in
一方、調製装置は、各種の原料を混ぜ合わせることによって、所定の成分濃度のレジスト剥離液を調製する装置である。調製装置が適用される対象は、もともと、調製しようとする所定の成分濃度にはない。そのため、調製装置には、管理装置の技術思想をそのまま用いることができない。調製装置は、管理装置から直ちに着想できる技術的関係にはないのである。 On the other hand, the preparation device is a device for preparing a resist stripping solution having a predetermined component concentration by mixing various raw materials. The target to which the preparation apparatus is applied is originally not in the predetermined component concentration to be prepared. Therefore, the technical idea of the management device cannot be used as it is for the preparation device. The preparation device is not in a technical relationship that can be immediately conceived from the management device.
このような根本的相違のため、特許文献１や２のような管理装置があっても、成分濃度を測定して所定の成分濃度となるようにレジスト剥離液を調製する調製装置は、今までなかった。従来のレジスト剥離液の調製装置は、原料を容量または重量により濃度を調整するものであった。そのため、従来の調製装置により調製されるレジスト剥離液は、その成分濃度の調整精度があまり良くなかった。レジスト剥離液が所定の濃度に調整されていないと、良好な剥離速度が得られず、剥離残渣および金属酸化物の残渣が生じ、歩留まりの低下の原因となりかねない。また、フォトリソグラフィ工程の最終段階であるレジスト剥離工程において不良品が発生すると損害額が大きくなるという問題があった。
Due to such a fundamental difference, even if there is a management device as in
本発明はこのような事情に鑑みてなされたものである。本発明は、所定の濃度のレジスト剥離液を精度良く、自動的かつ連続的に調製することができる水系レジスト剥離液の調製装置および非水系レジスト剥離液の調製装置を提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of such circumstances. It is an object of the present invention to provide an apparatus for preparing an aqueous resist stripping solution and an apparatus for preparing a non-aqueous resist stripping solution capable of accurately and automatically and continuously preparing a resist stripping solution having a predetermined concentration. .
本発明は、上記の目的を達成するために、所定の成分濃度の水系レジスト剥離液が調製される調製槽と、調製槽内の水系レジスト剥離液について、水系レジスト剥離液の成分濃度と相関関係を有する水系レジスト剥離液の物性値、および、水系レジスト剥離液の成分濃度、の少なくとも一方を測定する測定手段と、測定手段により測定された測定値に基づいて、調製槽内の水系レジスト剥離液が所定の成分濃度となるように、調製槽に供給される水系レジスト剥離液の原料の供給量を制御する制御手段と、を備える水系レジスト剥離液の調製装置を提供する。 The present invention, in order to achieve the above object, a preparation tank in which a water-based resist stripping solution having a predetermined component concentration is prepared, and the water-based resist stripping solution in the preparation tank is correlated with the component concentration of the water-based resist stripping solution. A physical property value of the aqueous resist stripping solution having, and a measuring means for measuring at least one of the component concentration of the aqueous resist stripping solution, and based on the measured value measured by the measuring means, the aqueous resist stripping solution in the preparation tank There is provided an apparatus for preparing a water-based resist stripping solution, comprising: a control unit that controls a supply amount of a raw material of a water-based resist stripping solution that is supplied to a preparation tank so that a predetermined component concentration is obtained.
本発明の水系レジスト剥離液の調製装置は、水系レジスト剥離液の成分濃度と相関のある物性値または成分濃度の少なくとも一方の測定を行い、水系レジスト剥離液を調製している。そのため、本発明の水系レジスト剥離液の調製装置によれば、容量や重量により調製していた従来の調製装置に比べ、より正確な成分濃度の水系レジスト剥離液を調製することができる。 The apparatus for preparing a water-based resist stripping solution of the present invention prepares a water-based resist stripping solution by measuring at least one of a physical property value or a component concentration that correlates with a component concentration of the water-based resist stripping solution. Therefore, according to the water-based resist stripping solution preparing apparatus of the present invention, an aqueous resist stripping solution having a more accurate component concentration can be prepared as compared with the conventional preparation apparatus prepared by volume and weight.
本発明は、上記の目的を達成するために、所定のアミン濃度の水系レジスト剥離液が調製される調製槽と、調製槽内の水系レジスト剥離液について、水系レジスト剥離液のアミン濃度と相関関係を有する水系レジスト剥離液の物性値、および、水系レジスト剥離液のアミン濃度、の少なくとも一方を測定するアミンに関する測定手段と、アミンに関する測定手段により測定された測定値に基づいて、調製槽内の水系レジスト剥離液が所定のアミン濃度となるように、調製槽に供給される水系レジスト剥離液の原料の供給量を制御するアミンに関する制御手段と、を備える水系レジスト剥離液の調製装置を提供する。 In order to achieve the above object, the present invention relates to a preparation tank in which a water-based resist stripping solution having a predetermined amine concentration is prepared, and the water-based resist stripping solution in the preparation tank is correlated with the amine concentration of the water-based resist stripping solution. Based on the measurement values measured by the measuring means for amine, which measures at least one of the physical property value of the aqueous resist stripping solution having, and the amine concentration of the aqueous resist stripping solution, Provided is an apparatus for preparing a water-based resist stripping solution, which comprises an amine control unit for controlling a supply amount of a raw material for the water-based resist stripping solution supplied to a preparation tank so that the water-based resist stripping solution has a predetermined amine concentration. .
本発明の水系レジスト剥離液の調製装置は、水系レジスト剥離液のアミン濃度と相関のある物性値またはアミン濃度の少なくとも一方の測定を行い、水系レジスト剥離液を調製している。そのため、本発明の水系レジスト剥離液の調製装置によれば、容量や重量により調製していた従来の調製装置に比べ、より正確なアミン濃度の水系レジスト剥離液を調製することができる。 The apparatus for preparing a water-based resist stripping solution of the present invention prepares a water-based resist stripping solution by measuring at least one of a physical property value or an amine concentration that correlates with the amine concentration of the water-based resist stripping solution. Therefore, according to the water-based resist stripping solution preparation apparatus of the present invention, it is possible to prepare a water-based resist stripping solution having a more accurate amine concentration, as compared with the conventional preparation apparatus prepared by the volume and weight.
本発明は、上記の目的を達成するために、所定の水分濃度の水系レジスト剥離液が調製される調製槽と、調製槽内の水系レジスト剥離液について、水系レジスト剥離液の水分濃度と相関関係を有する水系レジスト剥離液の物性値、および、水系レジスト剥離液の水分濃度、の少なくとも一方を測定する水分に関する測定手段と、水分に関する測定手段により測定された測定値に基づいて、調製槽内の水系レジスト剥離液が所定の水分濃度となるように、調製槽に供給される水系レジスト剥離液の原料の供給量を制御する水分に関する制御手段と、を備える水系レジスト剥離液の調製装置を提供する。 The present invention, in order to achieve the above object, a preparation tank in which a water-based resist stripping solution having a predetermined water concentration is prepared, and the water-based resist stripping solution in the preparation tank is correlated with the water concentration of the water-based resist stripping solution. A physical property value of the water-based resist stripping solution having, and a water concentration of the water-based resist stripping solution, based on the measurement value measured by the measuring means for measuring at least one of the water content, the preparation tank Provided is an apparatus for preparing a water-based resist stripping solution, which comprises a control unit for controlling the amount of raw material supply of the water-based resist stripping solution supplied to a preparation tank so that the water-based resist stripping solution has a predetermined water concentration. .
本発明の水系レジスト剥離液の調製装置は、水系レジスト剥離液の水分濃度と相関のある物性値または水分濃度の少なくとも一方の測定を行い、水系レジスト剥離液を調製している。そのため、本発明の水系レジスト剥離液の調製装置によれば、容量や重量により調製していた従来の調製装置に比べ、より正確な水分濃度の水系レジスト剥離液を調製することができる。 The apparatus for preparing a water-based resist stripping solution of the present invention prepares a water-based resist stripping solution by measuring at least one of a physical property value and a water concentration that correlate with the water concentration of the water-based resist stripping solution. Therefore, according to the water-based resist stripping solution preparing apparatus of the present invention, it is possible to prepare a water-based resist stripping solution having a more accurate water concentration, as compared with the conventional preparation apparatus prepared by volume and weight.
本発明は、上記の目的を達成するために、所定のアミン濃度、および、所定の水分濃度を有する水系レジスト剥離液が調製される調製槽と、調製槽内の水系レジスト剥離液について、水系レジスト剥離液のアミン濃度と相関関係を有する水系レジスト剥離液の物性値、および、水系レジスト剥離液のアミン濃度、の少なくとも一方を測定するアミンに関する測定手段と、調製槽内の水系レジスト剥離液について、水系レジスト剥離液の水分濃度と相関関係を有する水系レジスト剥離液の物性値、および、水系レジスト剥離液の水分濃度、の少なくとも一方を測定する水分に関する測定手段と、アミンに関する測定手段により測定された測定値、および、水分に関する測定手段により測定された測定値、に基づいて、調製槽内の水系レジスト剥離液が、所定のアミン濃度および所定の水分濃度となるように、調製槽に供給される水系レジスト剥離液の原料の供給量を制御する制御手段と、を備える水系レジスト剥離液の調製装置を提供する。 In order to achieve the above object, the present invention relates to a preparation tank in which a water-based resist stripping solution having a predetermined amine concentration and a predetermined water concentration is prepared, and a water-based resist stripping solution in the preparation tank. Physical properties of the water-based resist stripping solution having a correlation with the amine concentration of the stripping solution, and amine concentration of the water-based resist stripping solution, measuring means for amine to measure at least one of, and the water-based resist stripping solution in the preparation tank, The physical property value of the water-based resist stripping solution having a correlation with the water concentration of the water-based resist stripping solution, and the water concentration of the water-based resist stripping solution, at least one of which is measured by a measuring unit for water and a measuring unit for amine. Based on the measured value and the measured value measured by the measuring means for moisture, the water-based resist in the preparation tank is stripped. An apparatus for preparing a water-based resist stripping solution, comprising: a control unit that controls a supply amount of a raw material of the water-based resist stripping solution supplied to a preparation tank so that the solution has a predetermined amine concentration and a predetermined water concentration. To do.
本発明の水系レジスト剥離液の調製装置は、水系レジスト剥離液のアミン濃度と相関のある物性値またはアミン濃度の少なくとも一方の測定を行い、水系レジスト剥離液を調製している。同時に、水系レジスト剥離液の水分濃度と相関のある物性値または水分濃度の少なくとも一方の測定を行い、水系レジスト剥離液を調製している。そのため、本発明の水系レジスト剥離液の調製装置によれば、容量や重量により調製していた従来の調製装置に比べ、より正確なアミン濃度、かつ、より正確な水分濃度の水系レジスト剥離液を調製することができる。 The apparatus for preparing a water-based resist stripping solution of the present invention prepares a water-based resist stripping solution by measuring at least one of a physical property value or an amine concentration that correlates with the amine concentration of the water-based resist stripping solution. At the same time, at least one of the physical property value and the water concentration that correlate with the water concentration of the water-based resist stripping solution is measured to prepare the water-based resist stripping solution. Therefore, according to the water-based resist stripping solution preparation apparatus of the present invention, compared with the conventional preparation apparatus that was prepared by volume and weight, more accurate amine concentration, and more accurate water concentration of the water-based resist stripping solution It can be prepared.
本発明の好ましい態様においては、アミンに関する測定手段が、吸光光度計、導電率計、密度計、超音波濃度計、および、粘度計のいずれか一つを備える。これらの測定装置により測定される水系レジスト剥離液の吸光度、導電率、密度、超音波伝播速度、粘度は、水系レジスト剥離液のアミン濃度と相関を有するので、アミン濃度を精度よく所定の濃度に合わせることができる。 In a preferred embodiment of the present invention, the amine measuring means comprises any one of an absorptiometer, a conductivity meter, a density meter, an ultrasonic densitometer, and a viscometer. The absorbance, conductivity, density, ultrasonic wave propagation speed, and viscosity of the water-based resist stripping solution measured by these measuring devices have a correlation with the amine concentration of the water-based resist stripping solution, so that the amine concentration can be accurately adjusted to a predetermined concentration. Can be matched.
本発明のより好ましい態様においては、アミンに関する測定手段が吸光光度計を備え、アミンがモノエタノールアミンである場合、吸光光度計の測定波長が、１０００から１６００ｎｍの波長領域から選択される特定の波長であり、アミンがヒドロキシルアミンである場合、吸光光度計の測定波長が、１０５０から１０９０ｎｍの波長領域から選択される特定の波長である。 In a more preferred embodiment of the present invention, the measuring means for amine is equipped with an absorptiometer, and when the amine is monoethanolamine, the measurement wavelength of the absorptiometer is a specific wavelength selected from the wavelength range of 1000 to 1600 nm. When the amine is hydroxylamine, the measurement wavelength of the absorptiometer is a specific wavelength selected from the wavelength range of 1050 to 1090 nm.
これらの波長領域で測定された水系レジスト剥離液の吸光度は、そのアミン濃度との間に比較的良好な直線関係が得られる。このため、この波長領域で測定された吸光度、あるいは、この吸光度とこの直線関係により得られるアミン濃度は、アミン濃度を正確に所定の濃度とするために用いるのに好適である。アミンがモノエタノールアミンである場合には特に１０４８ｎｍを測定波長として測定される吸光度が、アミンがヒドロキシルアミンである場合には特に１０７４ｎｍを測定波長として測定される吸光度が、前述の波長領域の中でも特に感度がよくアミン濃度との間に良好な直線関係が得られるため、より一層好ましい。 The absorbance of the water-based resist stripping solution measured in these wavelength regions has a relatively good linear relationship with the amine concentration. Therefore, the absorbance measured in this wavelength region, or the amine concentration obtained from this absorbance and this linear relationship is suitable for use in accurately setting the amine concentration to a predetermined concentration. When the amine is monoethanolamine, the absorbance measured at 1048 nm is the measurement wavelength, and when the amine is hydroxylamine, the absorbance measured at 1074 nm is the measurement wavelength. It is more preferable because it has good sensitivity and a good linear relationship with the amine concentration can be obtained.
本発明の好ましい態様においては、水分に関する測定手段が、吸光光度計、導電率計、密度計、超音波濃度計、および、粘度計のいずれか一つを備える。これらの測定装置により測定される水系レジスト剥離液の吸光度、導電率、密度、超音波伝播速度、粘度は、水系レジスト剥離液の水分濃度と相関を有するので、水分濃度を精度よく所定の濃度に合わせることができる。 In a preferred aspect of the present invention, the measuring unit for water content includes any one of an absorptiometer, a conductivity meter, a density meter, an ultrasonic densitometer, and a viscometer. The absorbance, conductivity, density, ultrasonic wave propagation speed, and viscosity of the water-based resist stripping solution measured by these measuring devices have a correlation with the water concentration of the water-based resist stripping solution. Can be matched.
本発明のより好ましい態様においては、水分に関する測定手段が吸光光度計であり、吸光光度計の測定波長が、９５０から２０００ｎｍの波長領域から選択される特定の波長である。 In a more preferred embodiment of the present invention, the measuring means for water content is an absorptiometer, and the measurement wavelength of the absorptiometer is a specific wavelength selected from the wavelength range of 950 to 2000 nm.
この近赤外線領域の測定波長で測定された水系レジスト剥離液の吸光度は、その水分濃度との間に比較的良好な直線関係が得られる。このため、この波長領域で測定された吸光度、あるいは、この測定された吸光度とこの直線関係とにより得られる水分濃度は、水分濃度を正確に所定の濃度とするために用いるのに好適である。特に１９４０ｎｍと９７６ｎｍを測定波長として測定される吸光度が、この波長領域の中でも特に感度がよく水分濃度との間に良好な直線関係が得られるため、より一層好ましい。 The absorbance of the water-based resist stripping solution measured at the measurement wavelength in the near-infrared region has a relatively good linear relationship with its water concentration. Therefore, the absorbance measured in this wavelength region, or the water concentration obtained from this measured absorbance and this linear relationship is suitable for use in accurately setting the water concentration to a predetermined concentration. In particular, the absorbance measured using the measurement wavelengths of 1940 nm and 976 nm is even more preferable because it has particularly good sensitivity in this wavelength region and a good linear relationship with the water concentration can be obtained.
本発明の好ましい態様においては、調製槽で調製された水系レジスト剥離液を貯留する貯留槽をさらに備える。 In a preferred aspect of the present invention, a storage tank for storing the aqueous resist stripping solution prepared in the preparation tank is further provided.
この態様によれば、所定の成分濃度に調製された水系レジスト剥離液が貯留槽に常に貯留されているので、水系レジスト剥離液が必要となった時に随時、所定の成分濃度の水系レジスト剥離液を得ることができる。 According to this aspect, since the water-based resist stripping solution prepared to have the predetermined component concentration is always stored in the storage tank, the water-based resist stripping solution having the predetermined component concentration is added whenever the water-based resist stripping solution is needed. Can be obtained.
本発明の好ましい態様においては、調製槽を複数備える。 In a preferred aspect of the present invention, a plurality of preparation tanks are provided.
この態様によれば、調製槽の一つが故障などにより動かなくなっても、他の調製槽により水系レジスト剥離液の調製を維持することができる。また、一つの調製槽が空になっても、他の調製槽から水系レジスト剥離液の供給を受けることができる。 According to this aspect, even if one of the preparation tanks does not move due to a failure or the like, the preparation of the water-based resist stripping solution can be maintained by the other preparation tanks. Further, even when one preparation tank is empty, the aqueous resist stripping solution can be supplied from another preparation tank.
本発明の好ましい態様においては、調製槽と貯留槽とが連通管により接続されている。 In a preferred aspect of the present invention, the preparation tank and the storage tank are connected by a communication pipe.
この態様によれば、水系レジスト剥離液を供給したことにより貯留槽内の水系レジスト剥離液が減少しても、調製槽から貯留槽に所定濃度に調製された水系レジスト剥離液が自動的に連続して移送される。この際、送液ポンプなどの設備を要さない。 According to this aspect, even if the amount of the water-based resist stripping solution in the storage tank decreases due to the supply of the water-based resist stripping solution, the water-based resist stripping solution prepared to a predetermined concentration from the preparation tank is automatically continuous. And then transferred. At this time, equipment such as a liquid feed pump is not required.
本発明の好ましい態様においては、調製槽に供給する水系レジスト剥離液の原料を予め混合する予備混合手段を備える。 In a preferred aspect of the present invention, a premixing unit for preliminarily mixing the raw materials of the aqueous resist stripping solution to be supplied to the preparation tank is provided.
本発明の好ましい態様においては、調製槽に供給する水系レジスト剥離液の原料を予め混合する予備混合手段を、調製槽ごとに備える。 In a preferred aspect of the present invention, each preparation tank is provided with a pre-mixing unit for preliminarily mixing the raw materials of the aqueous resist stripping solution to be supplied to the preparation tank.
この態様によれば、水系レジスト剥離液の原料が予め混合されるので、調製槽内での混合や攪拌の負担が軽減され、より速やかに均一な濃度の水系レジスト剥離液が調製できる。また、測定される成分濃度や物性値によって比較的狭い濃度範囲でしか相関関係を得られない場合であっても、予備混合手段を用いることにより、正確に所定の成分濃度の水系レジスト剥離液を調製することができる。 According to this aspect, since the raw materials of the water-based resist stripping solution are mixed in advance, the burden of mixing and stirring in the preparation tank is reduced, and the water-based resist stripping solution having a uniform concentration can be prepared more quickly. In addition, even when the correlation can be obtained only in a relatively narrow concentration range depending on the measured component concentration or physical property value, by using the premixing means, an aqueous resist stripping solution having a predetermined component concentration can be accurately obtained. It can be prepared.
本発明は、上記の目的を達成するために、所定の成分濃度の非水系レジスト剥離液が調製される調製槽と、調製槽内の非水系レジスト剥離液について、非水系レジスト剥離液の成分濃度と相関関係を有する非水系レジスト剥離液の物性値、および、非水系レジスト剥離液の成分濃度、の少なくとも一方を測定する測定手段と、測定手段により測定された測定値に基づいて、調製槽内の非水系レジスト剥離液が所定の成分濃度となるように、調製槽に供給される非水系レジスト剥離液の原料の供給量を制御する制御手段と、を備える非水系レジスト剥離液の調製装置を提供する。 The present invention, in order to achieve the above object, a preparation tank in which a non-aqueous resist stripping solution having a predetermined component concentration is prepared, and the non-aqueous resist stripping solution in the preparation tank, the component concentration of the non-aqueous resist stripping solution Physical properties of the non-aqueous resist stripping solution having a correlation with, and the component concentration of the non-aqueous resist stripping solution, measuring means for measuring at least one, based on the measured value measured by the measuring means, in the preparation tank A non-aqueous resist stripping solution preparation apparatus comprising: a control means for controlling the supply amount of the raw material of the non-aqueous resist stripping solution supplied to the preparation tank so that the non-aqueous resist stripping solution has a predetermined component concentration. provide.
本発明の非水系レジスト剥離液の調製装置は、非水系レジスト剥離液の成分濃度と相関のある物性値または成分濃度の少なくとも一方の測定を行い、非水系レジスト剥離液を調製している。そのため、本発明の非水系レジスト剥離液の調製装置によれば、容量や重量により調製していた従来の調製装置に比べ、より正確な成分濃度の非水系レジスト剥離液を調製することができる。 The apparatus for preparing a non-aqueous resist stripping solution of the present invention prepares a non-aqueous resist stripping solution by measuring at least one of a physical property value or a component concentration that correlates with the component concentration of the non-aqueous resist stripping solution. Therefore, according to the non-aqueous resist stripping solution preparing apparatus of the present invention, a non-aqueous resist stripping solution having a more accurate component concentration can be prepared as compared with the conventional preparing apparatus prepared by volume and weight.
本発明は、上記の目的を達成するために、所定のアミン濃度の非水系レジスト剥離液が調製される調製槽と、調製槽内の非水系レジスト剥離液について、非水系レジスト剥離液のアミン濃度と相関関係を有する非水系レジスト剥離液の物性値、および、非水系レジスト剥離液のアミン濃度、の少なくとも一方を測定するアミンに関する測定手段と、アミンに関する測定手段により測定された測定値に基づいて、調製槽内の非水系レジスト剥離液が所定のアミン濃度となるように、調製槽に供給される非水系レジスト剥離液の原料の供給量を制御するアミンに関する制御手段と、を備える非水系レジスト剥離液の調製装置を提供する。 The present invention, in order to achieve the above object, a preparation tank in which a non-aqueous resist stripping solution having a predetermined amine concentration is prepared, and the non-aqueous resist stripping solution in the preparation tank, the amine concentration of the non-aqueous resist stripping solution Based on the physical properties of the non-aqueous resist stripping solution having a correlation with, and the amine concentration of the non-aqueous resist stripping solution, a measuring means for amine, and a measurement value measured by the measuring means for amine. A non-aqueous resist comprising an amine controlling means for controlling the supply amount of the raw material of the non-aqueous resist stripping solution supplied to the preparing tank so that the non-aqueous resist stripping solution in the preparing tank has a predetermined amine concentration. An apparatus for preparing a stripping solution is provided.
本発明の非水系レジスト剥離液の調製装置は、非水系レジスト剥離液のアミン濃度と相関関係を有する物性値および非水系レジスト剥離液のアミン濃度の少なくとも一方を測定し、この測定値に基づいて非水系レジスト剥離液を調製している。そのため、本発明の非水系レジスト剥離液の調製装置によれば、容量や重量により調製していた従来の調製装置に比べ、より正確なアミン濃度の非水系レジスト剥離液を調製することができる。 The apparatus for preparing a non-aqueous resist stripping solution of the present invention measures at least one of a physical property value having a correlation with the amine concentration of the non-aqueous resist stripping solution and an amine concentration of the non-aqueous resist stripping solution, and based on the measured value. A non-aqueous resist stripping solution is prepared. Therefore, according to the non-aqueous resist stripping solution preparing apparatus of the present invention, a non-aqueous resist stripping solution having a more accurate amine concentration can be prepared as compared with the conventional preparing apparatus prepared by volume and weight.
本発明の好ましい態様においては、アミンに関する測定手段が、吸光光度計、導電率計、密度計、超音波濃度計、および、粘度計のいずれか一つを備える。これらの測定装置により測定される非水系レジスト剥離液の吸光度、導電率、密度、超音波伝播速度、粘度は、非水系レジスト剥離液のアミン濃度と相関を有するので、アミン濃度を精度よく所定の濃度に合わせることができる。 In a preferred embodiment of the present invention, the amine measuring means comprises any one of an absorptiometer, a conductivity meter, a density meter, an ultrasonic densitometer, and a viscometer. The absorbance, conductivity, density, ultrasonic wave propagation speed, and viscosity of the non-aqueous resist stripping solution measured by these measuring devices have a correlation with the amine concentration of the non-aqueous resist stripping solution. It can be adjusted to the concentration.
本発明のより好ましい態様においては、アミンに関する測定手段が吸光光度計を備え、アミンがモノエタノールアミンである場合、吸光光度計の測定波長が、１０００から１６００ｎｍの波長領域から選択される特定の波長であり、アミンがヒドロキシルアミンである場合、吸光光度計の測定波長が、１０５０から１０９０ｎｍの波長領域から選択される特定の波長である。 In a more preferred embodiment of the present invention, the measuring means for amine is equipped with an absorptiometer, and when the amine is monoethanolamine, the measurement wavelength of the absorptiometer is a specific wavelength selected from the wavelength range of 1000 to 1600 nm. When the amine is hydroxylamine, the measurement wavelength of the absorptiometer is a specific wavelength selected from the wavelength range of 1050 to 1090 nm.
これらの波長領域で測定された非水系レジスト剥離液の吸光度は、そのアミン濃度との間に比較的良好な直線関係が得られる。このため、この波長領域で測定された吸光度、あるいは、この吸光度とこの直線関係により得られるアミン濃度は、アミン濃度を正確に所定の濃度とするために用いるのに好適である。アミンがモノエタノールアミンである場合には特に１０４８ｎｍを測定波長として測定される吸光度が、アミンがヒドロキシルアミンである場合には特に１０７４ｎｍを測定波長として測定される吸光度が、前述の波長領域の中でも特に感度がよくアミン濃度との間に良好な直線関係が得られるため、より一層好ましい。 The absorbance of the non-aqueous resist stripping solution measured in these wavelength regions has a relatively good linear relationship with the amine concentration. Therefore, the absorbance measured in this wavelength region, or the amine concentration obtained from this absorbance and this linear relationship is suitable for use in accurately setting the amine concentration to a predetermined concentration. When the amine is monoethanolamine, the absorbance measured at 1048 nm is the measurement wavelength, and when the amine is hydroxylamine, the absorbance measured at 1074 nm is the measurement wavelength. It is more preferable because it has good sensitivity and a good linear relationship with the amine concentration can be obtained.
本発明の好ましい態様においては、調製槽で調製された非水系レジスト剥離液を貯留する貯留槽をさらに備える。 In a preferred aspect of the present invention, a storage tank for storing the non-aqueous resist stripping solution prepared in the preparation tank is further provided.
この態様によれば、所定の成分濃度に調製された非水系レジスト剥離液が貯留槽に常に貯留されているので、非水系レジスト剥離液が必要となった時に随時、所定の成分濃度の非水系レジスト剥離液を得ることができる。 According to this aspect, since the non-aqueous resist stripping solution prepared to have the predetermined component concentration is always stored in the storage tank, the non-aqueous resist stripping solution having the predetermined component concentration is always required when the non-aqueous resist stripping solution is needed. A resist stripping solution can be obtained.
本発明の好ましい態様においては、調製槽を複数備える。 In a preferred aspect of the present invention, a plurality of preparation tanks are provided.
この態様によれば、調製槽の一つが故障などにより動かなくなっても、他の調製槽により非水系レジスト剥離液の調製を維持することができる。また、一つの調製槽が空になっても、他の調製槽から非水系レジスト剥離液の供給を受けることができる。 According to this aspect, even if one of the preparation tanks becomes immobile due to a failure or the like, the preparation of the non-aqueous resist stripping solution can be maintained by the other preparation tanks. Further, even if one preparation tank is empty, the non-aqueous resist stripping solution can be supplied from another preparation tank.
本発明の好ましい態様においては、調製槽と貯留槽とが連通管により接続されている。 In a preferred aspect of the present invention, the preparation tank and the storage tank are connected by a communication pipe.
この態様によれば、非水系レジスト剥離液を供給したことにより貯留槽内の非水系レジスト剥離液が減少しても、調製槽から貯留槽に所定濃度に調製された非水系レジスト剥離液が自動的に連続して移送される。この際、送液ポンプなどの設備を要さない。 According to this aspect, even if the amount of the non-aqueous resist stripping liquid in the storage tank decreases due to the supply of the non-aqueous resist stripping liquid, the non-aqueous resist stripping liquid prepared at the predetermined concentration from the preparation tank is automatically Are continuously transferred. At this time, equipment such as a liquid feed pump is not required.
本発明の好ましい態様においては、調製槽に供給する非水系レジスト剥離液の原料を予め混合する予備混合手段を備える。 In a preferred aspect of the present invention, a premixing unit for preliminarily mixing the raw materials of the non-aqueous resist stripping solution supplied to the preparation tank is provided.
本発明の好ましい態様においては、調製槽に供給する非水系レジスト剥離液の原料を予め混合する予備混合手段を、調製槽ごとに備える。 In a preferred aspect of the present invention, each preparation tank is provided with a pre-mixing unit for previously mixing the raw materials of the non-aqueous resist stripping solution to be supplied to the preparation tank.
この態様によれば、非水系レジスト剥離液の原料が予め混合されるので、調製槽内での混合や攪拌の負担が軽減され、より速やかに均一な濃度の非水系レジスト剥離液が調製できる。また、測定される成分濃度や物性値によって比較的狭い濃度範囲でしか相関関係を得られない場合であっても、予備混合手段を用いることにより、正確に所定の成分濃度の非水系レジスト剥離液を調製することができる。 According to this aspect, since the raw materials of the non-aqueous resist stripping solution are mixed in advance, the burden of mixing and stirring in the preparation tank is reduced, and the non-aqueous resist stripping solution having a uniform concentration can be prepared more quickly. Further, even when the correlation can be obtained only in a relatively narrow concentration range due to the measured component concentration or physical property value, by using the premixing means, the non-aqueous resist stripping solution of a predetermined component concentration can be accurately obtained. Can be prepared.
本発明の水系レジスト剥離液の調製装置は、水系レジスト剥離液の成分濃度と相関関係を有する物性値、および、水系レジスト剥離液の成分濃度、の少なくとも一方を測定し、この測定値に基づいて、調製槽内の水系レジスト剥離液が所定の成分濃度となるように水系レジスト剥離液を調製している。そのため、本発明の水系レジスト剥離液の調製装置によれば、容量や重量で調製していた従来の調製装置に比べ、正確な成分濃度の水系レジスト剥離液を調製することができる。また、本発明の水系レジスト剥離液の調製装置によれば、同様に、より正確なアミン濃度や水分濃度の水系レジスト剥離液を調製することができる。さらに、本発明の水系レジスト剥離液の調製装置によれば、必要時にいつでも所定の成分濃度の水系レジスト剥離液を得ることができる。所定の成分濃度の水系レジスト剥離液を、自動的かつ連続的に調製することもできる。 The water-based resist stripping liquid preparation apparatus of the present invention measures at least one of the physical property value having a correlation with the component concentration of the water-based resist stripping liquid, and the component concentration of the water-based resist stripping liquid, and based on the measured value. The aqueous resist stripping solution is prepared so that the aqueous resist stripping solution in the preparation tank has a predetermined component concentration. Therefore, according to the apparatus for preparing an aqueous resist stripping solution of the present invention, an aqueous resist stripping solution having an accurate component concentration can be prepared as compared with the conventional preparing apparatus which has been prepared by volume and weight. Further, according to the apparatus for preparing a water-based resist stripping solution of the present invention, similarly, a water-based resist stripping solution having a more accurate amine concentration and water concentration can be prepared. Further, according to the apparatus for preparing a water-based resist stripping solution of the present invention, it is possible to obtain a water-based resist stripping solution having a predetermined component concentration whenever necessary. It is also possible to automatically and continuously prepare an aqueous resist stripping solution having a predetermined component concentration.
本発明の非水系レジスト剥離液の調製装置は、非水系レジスト剥離液の成分濃度と相関関係を有する物性値、および、非水系レジスト剥離液の成分濃度の少なくとも一方を測定し、この測定値に基づいて、調製槽内の非水系レジスト剥離液が所定の成分濃度となるように非水系レジスト剥離液を調製している。そのため、本発明の非水系レジスト剥離液の調製装置によれば、容量や重量で調製していた従来の調製装置に比べ、正確な成分濃度の非水系レジスト剥離液を調製することができる。また、本発明の非水系レジスト剥離液の調製装置によれば、同様に、より正確なアミン濃度の非水系レジスト剥離液を調製することができる。さらに、本発明の非水系レジスト剥離液の調製装置によれば、必要時にいつでも所定の成分濃度の非水系レジスト剥離液を得ることができる。所定の成分濃度の非水系レジスト剥離液を、自動的かつ連続的に調製することもできる。 The apparatus for preparing a non-aqueous resist stripping liquid of the present invention has a physical property value having a correlation with the component concentration of the non-aqueous resist stripping liquid, and measures at least one of the component concentrations of the non-aqueous resist stripping liquid. Based on this, the non-aqueous resist stripping solution is prepared so that the non-aqueous resist stripping solution in the preparation tank has a predetermined component concentration. Therefore, according to the non-aqueous resist stripping solution preparing apparatus of the present invention, it is possible to prepare a non-aqueous resist stripping solution having an accurate component concentration as compared with the conventional preparing apparatus which has been prepared by volume and weight. Further, according to the apparatus for preparing a non-aqueous resist stripping solution of the present invention, similarly, a non-aqueous resist stripping solution having a more accurate amine concentration can be prepared. Further, according to the apparatus for preparing a non-aqueous resist stripping solution of the present invention, a non-aqueous resist stripping solution having a predetermined component concentration can be obtained whenever necessary. It is also possible to automatically and continuously prepare a non-aqueous resist stripping solution having predetermined component concentrations.
また、本発明の調製装置は、レジスト剥離液を使用する設備に組み込んで用いることができる。この場合、レジスト剥離液を使用する設備に常に正確な濃度のレジスト剥離液を供給することができる。 Further, the preparation apparatus of the present invention can be used by incorporating it into equipment that uses a resist stripping solution. In this case, it is possible to always supply the resist stripping solution having an accurate concentration to the equipment using the resist stripping solution.
以下、適宜図面を参照しながら、本発明の好適な実施の形態について詳細に説明する。ただし、これらの実施の形態に記載されている構成機器の形状、大きさ、寸法比、その相対配置などは、特に特定的な記載がない限りは、本発明の範囲を図示されているもののみに限定するものではない。単なる説明例として、模式的に図示しているにすぎない。 Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings as appropriate. However, the shapes, sizes, dimensional ratios, relative arrangements, and the like of the constituent devices described in these embodiments are only those that illustrate the scope of the present invention unless otherwise specified. It is not limited to. It is merely schematically shown as an example of explanation.
〔水系レジスト剥離液の調製装置〕
［第１実施形態］
図１は、本実施形態の水系レジスト剥離液の調製装置を説明するための模式図である。本実施形態の水系レジスト剥離液の調製装置１０は、主に、調製槽３、測定手段２、制御手段１などからなる。
[Preparation device for aqueous resist stripper]
[First Embodiment]
FIG. 1 is a schematic diagram for explaining an apparatus for preparing an aqueous resist stripping solution according to this embodiment. The water-based resist stripping
調製槽３は、配管などを介して供給を受けた水系レジスト剥離液の原料を調合して、所定の成分濃度の水系レジスト剥離液を調製するための調合容器である。調製槽３は、水系レジスト剥離液の原料の供給を受けるために、各原料供給配管４１、４２、４３などが接続されているほか、原料を均一に混合するための攪拌手段３６を備えている。また、調製した所定の成分濃度の水系レジスト剥離液を供給するための供給配管４を備えている。
The
測定手段２は、調製槽３内で調製される水系レジスト剥離液の物性値または成分濃度の少なくとも一方を測定する。測定手段２により測定される水系レジスト剥離液の物性値は、この水系レジスト剥離液の成分濃度との間に相関を有する物性値である。この相関関係を用いれば、測定された物性値から成分濃度を得ることができるし、水系レジスト剥離液を所定の成分濃度に調整することもできる。
The measuring means 2 measures at least one of a physical property value and a component concentration of the water-based resist stripping solution prepared in the
制御手段１は、測定手段２の測定信号を受信できるように、測定手段２と信号線４７などにより接続されている。また、制御手段１は、原料を調製槽３に供給するための原料供給配管４１、４２、４３に設けられた制御弁１７、１８、１９と、接続されている。制御手段１がこれらの制御弁を制御することにより、調製槽３に供給される原料の供給量が、水系レジスト剥離液の成分濃度が所定の成分濃度となるように、調節される。
The control means 1 is connected to the measurement means 2 by a
水系レジスト剥離液は、アミン、有機溶媒および純水を主成分とする。アミンは、アミン原料導入口５２からアミン原料供給配管４２を介して調製槽３に供給される。有機溶媒は、有機溶媒原料導入口５３から有機溶媒原料供給配管４３を介して調製槽３に供給される。同様に、純水は、純水導入口５１から純水供給配管４１を介して、調製槽３に供給される。これらのほかに、添加剤など他の原料がある場合には、その原料を供給するための導入口、供給配管、制御弁などを用意して、供給すればよい。添加剤など他の原料の供給ラインは、図１には図示していない。また、各原料は、調製槽３に直接供給される場合に限定されない。例えば、調製槽３内の水系レジスト剥離液を循環攪拌する場合には、各原料を、液が循環する循環管路３４に合流させるようにして、調製槽３に供給してもよい。
The aqueous resist stripper contains amine, an organic solvent and pure water as main components. The amine is supplied from the amine
各原料供給配管４１、４２、４３には、制御手段１と信号線４６を介して接続された制御弁１７、１８、１９が設けられている。各制御弁は、制御手段１により発せられる制御信号を受けて、動作制御される。各制御弁は、例えば、単位時間当たりの流量を増減させるように、制御手段１により制御されるのが、望ましい。各制御弁は、流量のデフォルト値として、このデフォルト値の流量で供給された原料を調合して得られる水系レジスト剥離液の成分濃度が、測定手段２により測られる物性値が成分濃度と相関関係を有する濃度範囲に入るように、予め設定されているものとする。
The raw
原料導入口５１、５２、５３より導入された各原料は、原料供給配管４１、４２、４３、および、制御弁１７、１８、１９を介して、調製槽３に供給される。調製槽３内に供給された原料は、攪拌手段３６により攪拌され、均一な濃度の水系レジスト剥離液となる。
The respective raw materials introduced from the raw
攪拌手段３６は、調製槽３内を均一な濃度に攪拌するものである。図１では、調製槽３の底部から側部にループ状に接続された循環管路３４を介して、調製槽３内の液の一部を抜き取り、これを循環攪拌ポンプ３３により調製槽３内に攪拌流が生じるように再度調製槽３内に戻す循環攪拌方式を描いているが、これに限定されない。攪拌翼をモーターで回転させる攪拌装置でもよいし、攪拌子を調製槽３内で回転させるものでもよい。
The stirring means 36 stirs the inside of the
調製槽３内で調製された水系レジスト剥離液は、測定手段２により、測定される。測定されるのは、調製槽３内で調製された水系レジスト剥離液の物性値または成分濃度の少なくともいずれか一方である。両方でもよい。ここで測定される成分濃度は、所定の濃度に調節しようとしている水系レジスト剥離液の成分についての濃度である。同様に、測定される物性値は、所定の濃度に調節しようとしている水系レジスト剥離液の成分と相関のある水系レジスト剥離液の物性値である。測定手段２により測定される物性値や成分濃度に対応する水系レジスト剥離液の成分は、一つとは限らず、複数であってもよい。
The aqueous resist stripping solution prepared in the
成分濃度は直接測ることができないので、通常は、成分濃度は、これと相関を有する物性値を測定して、その測定値から相関関係を用いて算出される。そのため、測定手段２は、水系レジスト剥離液の物性値を測定する測定装置を備える。物性値のみしか測らない場合は、測定手段２は測定装置そのものであってもよい。測定した物性値から成分濃度を算出する場合は、測定した物性値を成分濃度に演算加工する必要があるので、測定手段２は、測定装置を備えるほか、測定値から成分濃度を演算する演算装置などをも備えている。
Since the component concentration cannot be directly measured, the component concentration is usually calculated by measuring a physical property value having a correlation with this and using the correlation from the measured value. Therefore, the measuring
測定手段２が備える物性値の測定装置は、濃度を調節すべき水系レジスト剥離液の成分や測定される物性値に応じて、最適な装置が選択される。濃度を調節しようとしている水系レジスト剥離液の成分について、調節しようとしているその所定の成分濃度を含む濃度範囲において、その成分濃度と良好な相関関係を得ることができる物性値を測定する測定装置を採用すればよい。例えば、このような測定装置として、吸光光度計、導電率計、密度計、超音波濃度計、粘度計、などが好適である。 As an apparatus for measuring physical properties included in the measuring means 2, an optimal apparatus is selected according to the components of the aqueous resist stripping solution whose concentration is to be adjusted and the measured physical values. For the components of the water-based resist stripping solution whose concentration is to be adjusted, in the concentration range including the predetermined component concentration which is to be adjusted, a measuring device for measuring the physical property value that can obtain a good correlation with the component concentration is provided. You can use it. For example, an absorptiometer, a conductivity meter, a density meter, an ultrasonic densitometer, a viscometer, etc. are suitable as such a measuring device.
測定手段２は、調製槽３内で調製された水系レジスト剥離液をサンプリングして、その物性値を測定する。測定前にサンプリングした水系レジスト剥離液を温度調整するなど、常に同じ測定条件で測定がなされるようになっていることが、好ましい。そのため、測定手段２は、サンプリングチューブ、サンプリングポンプ（図示せず）、温度コントローラ（図示せず）などを、備えていることが好ましい。
The measuring means 2 samples the water-based resist stripping solution prepared in the
しかし、測定の手法は、試料をサンプリングする方式に限定されない。センサー部を水系レジスト剥離液内に浸漬する方式や、循環管路３４などに測定装置を設置する方式など、採用した測定装置に応じて、最適な方式により測定すればよい。
However, the measurement method is not limited to the method of sampling the sample. The measurement may be performed by an optimum method according to the measuring apparatus used, such as a method of immersing the sensor part in the water-based resist stripping solution, a method of installing the measuring device in the
測定手段２が成分濃度を測定する場合、測定手段２に備えられた測定装置により測定された物性値から、成分濃度が算出される。成分濃度の算出には、物性値と成分濃度との相関関係が用いられる。この相関関係は、物性値と成分濃度との対応関係であり、両者が一対一に対応していれば、この相関関係に基づいて、測定された物性値から対応する成分濃度を求めることができる。
When the measuring
相関関係は、所定の感度を得るために、ある程度の傾きを備えていることが好ましいが、必ずしも直線でなくてもよい。調節しようとする成分濃度を含む濃度範囲で、成分濃度が物性値と一対一に対応づけられた連続関数としての相関関係を有していれば、測定された物性値から対応する成分濃度を算出できる。 The correlation preferably has a certain degree of inclination in order to obtain a predetermined sensitivity, but it does not necessarily have to be a straight line. In the concentration range including the concentration of the component to be adjusted, if the component concentration has a correlation as a continuous function that is in one-to-one correspondence with the physical property value, the corresponding component concentration is calculated from the measured physical property value. it can.
測定手段２は、測定した物性値または成分濃度を、制御手段１に送信する。制御手段１は、測定手段２から測定値を受信する。測定手段２と制御手段１とは、信号線４７で接続されている。測定値の送受信は、この信号線４７を介して行われる。しかし、これに限定されない。無線を介して測定値の送受信がなされてもよい。また、複数の成分について物性値や成分濃度が測定される場合には、成分ごとに測定装置と制御手段１とをつなぐ信号線を備えていてもよい。
The measuring
制御手段１には、濃度制御において目標とする成分濃度の値が設定されている。制御手段１は、受信した成分濃度の測定値と設定されている成分濃度の目標値とを比較する。比較の結果、調節すべき成分の濃度が目標値より低い場合は、その成分の供給量がその他の成分の供給量に対して相対的に増加するように、対応する制御弁を制御する。逆に、調節すべき成分の濃度が目標値より高い場合は、その成分の供給量がその他の成分の供給量に対して相対的に減少するように、対応する制御弁を制御する。どの制御弁をどの程度制御するかは、成分濃度の目標値からのずれの程度、原料の構成、各原料の濃度などの諸条件に基づいて、制御手段１が制御プログラムにより適切に計算する。ただし、制御の方法は、これに限定されない。上記のような制御量の目標値と現在値とを比較して制御する比例制御（Ｐ制御）のほか、いわゆる積分制御（Ｉ制御）や微分制御（Ｄ制御）などを採用できる。これらの制御方法を適宜組み合わせたＰＩＤ制御により制御するのが、好ましい。
The
水系レジスト剥離液の原料供給配管に設けられた各制御弁１７、１８、１９は、信号線４６により、制御手段１と接続されている。図１では、各制御弁１７、１８、１９が信号線４６により直列に接続されているように描いたが、各制御弁がそれぞれ個別に制御手段１と信号線で接続されていてもよい。信号線によらずとも、無線により制御されるようになっていてもよい。
Each
また、図１では、制御手段１が制御弁を制御することになっているが、制御手段１としてはコンピュータが好ましく採用される。コンピュータの代わりに、汎用のコントローラを用いて制御してもよい。濃度を調節する成分ごとに個別に用意されたコントローラの集合体として、制御手段１を構成してもよい。また、測定手段２と制御手段１の代わりに、測定手段２と制御手段１とが一つの装置として構成されたようないわゆる濃度管理装置、を用いるのでもよい。濃度管理装置を用いる場合には、調製槽３内の水系レジスト剥離液が常時所定の成分濃度となるように、濃度管理装置に制御弁を制御させればよい。
Further, in FIG. 1, the control means 1 controls the control valve, but as the control means 1, a computer is preferably adopted. A general-purpose controller may be used instead of the computer for control. The control means 1 may be configured as an aggregate of controllers individually prepared for each component for adjusting the concentration. Further, instead of the measuring
測定手段２により測定されるのが物性値である場合には、制御手段１は、物性値に基づいた制御を行う。すなわち、測定手段により測定される物性値は成分濃度と相関関係を有するので、この相関関係上に、調節すべき所定の成分濃度に対応した“所定の物性値”を見出すことができる。制御手段１は、測定手段２により測定された物性値がこの“所定の物性値”になるように、原料の供給量を増減させるよう、制御弁１７、１８、１９を制御すればよい。
When the physical property value is measured by the measuring
本実施形態の調製装置１０は、上記の調合、測定、制御のサイクルを繰り返し連続して行うことにより、所定の成分濃度の水系レジスト剥離液を自動的かつ連続的に調製することができる。一度調製槽３内に所定の成分濃度の水系レジスト剥離液を調製してしまえば、あとは、供給により減量した分を補うように、所定の成分濃度を維持しながら、水系レジスト剥離液を追加調製すればよい。
The
調製槽３で調製された水系レジスト剥離液は、調製槽３の底部に接続された水系レジスト剥離液供給配管４から、調製槽３の外へ供給される。調製装置１０は、単独で使用することもできるが、水系レジスト剥離液を使用する他の剥離設備に接続して使用することもできる。この場合、水系レジスト剥離液供給配管４を他の剥離設備の水系レジスト剥離液供給口５４と接続する。こうすることで、他の剥離設備に新鮮な状態の所定の成分濃度の水系レジスト剥離液を必要な時にいつでも自動的に供給することも可能となる。
The water-based resist stripping solution prepared in the
調製装置１０は、調製槽３内の水系レジスト剥離液の液面位置を検出するための液面計３２を備えていることが好ましい。調製装置１０の供給する水系レジスト剥離液の供給量が常時ほぼ一定であれば、液面計がなくても、調製量を供給量とバランスさせることで、調製槽３を空にすることなく、連続的な調製ができる。しかし、供給量が増減する場合には、液面計３２により調製槽３内の液面位置を検出し、調製槽３が空にならないように制御することが好ましい。
The
液面計３２は、調製槽３内の液面位置を検出できるように調製槽３に設置されているほか、信号線４８を介して制御手段１と接続される。例えば、液面計３２は、調製槽３内の液面が下限値を下回ったことを検出して、制御手段１に警報信号を発する。制御手段１は、液面位置が回復するように、制御弁１７、１８、１９を制御して原料の供給量を増加させ、水系レジスト剥離液の調製量を増やす。液面位置が下限値を上回ると警報信号が停止し、調製槽３内の水系レジスト剥離液の量が所定の量まで回復すると、制御手段１はこの液面位置を維持するように制御する。こうして、調製槽３内が空にならないようにすることができる。合わせて液面位置の上限を設定しておけば、調製槽３のオーバーフローを防止することもできる。
The
なお、図１では、水系レジスト剥離液の各原料を供給する原料供給配管４１、４２、４３が調製槽３の側部に接続されている態様を描いたが、これに限定されない。状況に応じて、調製槽３の上部や底部に接続されていてもよい。循環管路３４に接続されるのでもよい。また、原料供給配管４１、４２、４３は、調製槽３と一体的に接続されている必要はない。例えば、原料を調製槽内に上部から滴下して供給するようになっていてもよい。また、原料が液状物ではなく粉状物である場合は、配管ではなく、粉体供給装置が接続されているのでもよい。
In FIG. 1, the
＜水系レジスト剥離液の原料＞
水系レジスト剥離液の調製には、アミン、水、有機溶媒、その他の添加剤からなる原料を用いることができる。
<Raw material for water-based resist stripper>
For the preparation of the water-based resist stripping solution, raw materials composed of amine, water, organic solvent and other additives can be used.
≪アミン≫
水系レジスト剥離液の原料に用いられるアミンとしては、アルカノールアミンが好ましく用いられる。アルカノールアミンとしては、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルエタノールアミン、Ｎ，Ｎ−ジエチルエタノールアミン、アミノエチルエタノールアミン、Ｎ−メチル−Ｎ，Ｎ−ジエタノールアミン、Ｎ，Ｎ−ジブチルエタノールアミン、Ｎ−メチルエタノールアミン、３−アミノ−１−プロパノールなどを挙げることができる。また、他のアミンとして、ヒドロキシルアミン、Ｎ−メチルジエタノールアミン、ノーマルプロパノールアミン、モノイソプロパノールアミン、Ｎ−メチルジエタノールアミン、アルキルベンゼンスルホン酸、ジグリコールアミン、メチルアミノエタノール、エチルアミノエタノール、２−（２−アミノエトキシ）エタノール、トリエチレンテトラミン、Ｎ，Ｎジメチルアセトアミド、モノメチルホルムアミドを用いることができる。
≪Amine≫
As the amine used as the raw material of the aqueous resist stripping solution, alkanolamine is preferably used. As the alkanolamine, monoethanolamine, diethanolamine, triethanolamine, N, N-dimethylethanolamine, N, N-diethylethanolamine, aminoethylethanolamine, N-methyl-N, N-diethanolamine, N, N- Dibutylethanolamine, N-methylethanolamine, 3-amino-1-propanol, etc. can be mentioned. Further, as other amines, hydroxylamine, N-methyldiethanolamine, normal propanolamine, monoisopropanolamine, N-methyldiethanolamine, alkylbenzenesulfonic acid, diglycolamine, methylaminoethanol, ethylaminoethanol, 2- (2-amino) Ethoxy) ethanol, triethylenetetramine, N, N dimethylacetamide, monomethylformamide can be used.
≪有機溶媒≫
有機溶媒としては、グライコールエーテル系の有機溶媒が好ましく用いられる。グライコールエーテル系の有機溶媒としては、ブチルジグリコール、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノプロピルエーテルなどを挙げることができる。他の有機溶媒として、ジメチルスルホキシド、アルキルヒドロキシベンゼン、ブチンジオール、ＳＡＡ、メチルメトキシブタノール、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、Ｐｈｎ、オルトジクロロベンゼン、トリエチレンテトラミン、メチルジグリコールを用いることができる。
<Organic solvent>
As the organic solvent, a glycol ether type organic solvent is preferably used. Examples of the glycol ether type organic solvent include butyl diglycol, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, and diethylene glycol monopropyl ether. As another organic solvent, dimethyl sulfoxide, alkylhydroxybenzene, butynediol, SAA, methylmethoxybutanol, N-methyl-2-pyrrolidone, Phn, orthodichlorobenzene, triethylenetetramine, methyldiglycol can be used.
≪その他の添加剤≫
水系レジスト剥離液としては、アミン、有機溶媒、水（純水）の他に、添加剤として、カテコール、マルトール、シリコン系消泡剤、ｐ−ニトロ安息香酸、還元剤（ソルビ―トールなど）、金属防食剤、キレート剤などを添加することができる。その他の添加剤の濃度は、水系レジスト剥離液の調製時に、水系レジスト剥離液の容量に応じて添加することで、濃度を調節することができる。
≪Other additives≫
As the water-based resist stripping solution, in addition to amine, organic solvent and water (pure water), additives such as catechol, maltol, silicon-based defoaming agent, p-nitrobenzoic acid, reducing agent (sorbitol, etc.), A metal anticorrosive agent, a chelating agent and the like can be added. The concentrations of the other additives can be adjusted by adding them in accordance with the volume of the aqueous resist stripping solution when preparing the aqueous resist stripping solution.
［第２実施形態］
図２は、本実施形態の水系レジスト剥離液の調製装置を説明するための模式図である。本実施形態の水系レジスト剥離液の調製装置１１０は、第１実施形態の調製装置１０とほぼ同じであり、主に調製槽３、測定手段１０２、制御手段１０１などからなる。測定手段１０２がアミンに関する測定手段１２１を備え、制御手段１０１がアミンに関する制御手段１２３を備え、調製槽３で所定のアミン濃度の水系レジスト剥離液が調製される点で、特徴的である。
[Second Embodiment]
FIG. 2 is a schematic diagram for explaining the apparatus for preparing an aqueous resist stripping solution of this embodiment. The water-based resist stripping
本実施形態では、測定手段１０２はアミンに関する測定手段１２１を備える。アミンに関する測定手段１２１は、調製槽３内の水系レジスト剥離液の物性値またはアミン濃度のうちの少なくとも一方を測定するためのものである。両方を測定してもよい。調製装置１１０がアミン濃度だけを測定してこれを所定の濃度値に調節する場合には、測定手段１０２はアミンに関する測定手段１２１と同じでよい。しかし、一般には、測定手段１０２は、アミンに関する測定手段１２１のほかに、他の成分に関する測定を行うための測定手段を別途備えていてもよい。
In the present embodiment, the measuring
アミンに関する測定手段１２１が測定する物性値は、アミン濃度と相関関係を有する物性値である。アミン濃度と相関関係を有する物性値としては、吸光度、導電率、密度、超音波伝播速度、および、粘度から選択される物性値を用いることが好ましい。この場合、アミンに関する測定手段１２１は、それぞれ、吸光光度計、導電率計、密度計、超音波濃度計、粘度計などとなる。
The physical property value measured by the measuring
アミンに関する測定手段１２１としては、なかでも吸光光度計が好ましい。適切な測定波長を用いれば、水系レジスト剥離液の吸光度値とアミン濃度との間に、比較的良好な直線関係を得ることができる。 Among them, the absorptiometer is preferable as the measuring means 121 for amine. By using an appropriate measurement wavelength, a relatively good linear relationship can be obtained between the absorbance value of the aqueous resist stripping solution and the amine concentration.
アミン濃度と直線関係を有する物性値の一例として、図３および図４を示すことができる。図３は、モノエタノールアミン（ＭＥＡ：ｍｏｎｏｅｔｈａｎｏｌａｍｉｎｅ）濃度と吸光度（測定波長λ＝１０４８ｎｍ）の関係を示すグラフ図であり、図４は、ヒドロキシルアミン濃度と吸光度（測定波長λ＝１０７４ｎｍ）の関係を示すグラフ図である。 3 and 4 can be shown as an example of the physical property values having a linear relationship with the amine concentration. FIG. 3 is a graph showing the relationship between the monoethanolamine (MEA) concentration and the absorbance (measurement wavelength λ = 1048 nm), and FIG. 4 shows the relationship between the hydroxylamine concentration and the absorbance (measurement wavelength λ = 1074 nm). It is a graph figure which shows.
図３に示すように、水系レジスト剥離液に含まれるアミンがアルカノールアミンの一種であるモノエタノールアミンである場合、水系レジスト剥離液のモノエタノールアミンの濃度は、近赤外部の波長領域にある特定波長（例えば、１０４８ｎｍ）における水系レジスト剥離液の吸光度に対して高度な直線関係を有する。また、図４に示すように、水系レジスト剥離液のヒドロキシルアミンの濃度も、近赤外部の波長領域にある特定波長（例えば、１０７４ｎｍ）における水系レジスト剥離液の吸光度に対して高度な直線関係を有する。したがって、水系レジスト剥離液の吸光度を測定することで、アミン濃度を正確に測定することができる。測定する波長は、アミンがモノエタノールアミンである場合、１０００から１６００ｎｍの波長領域から選択される特定の波長であることが好ましい。他の成分の影響が小さい１０４８ｎｍ付近が、感度が大きく特に良好である。また、ヒドロキシルアミンである場合、１０５０から１０９０ｎｍの波長領域から選択される特定の波長であることが好ましい。他の成分の影響が小さい１０７４ｎｍ付近が、感度が大きく特に良好である。 As shown in FIG. 3, when the amine contained in the water-based resist stripping solution is monoethanolamine, which is a kind of alkanolamine, the concentration of monoethanolamine in the water-based resist stripping solution is in the near infrared wavelength region. It has a highly linear relationship with the absorbance of the water-based resist stripping solution at a wavelength (for example, 1048 nm). Further, as shown in FIG. 4, the concentration of hydroxylamine in the water-based resist stripping solution also has a highly linear relationship with the absorbance of the water-based resist stripping solution at a specific wavelength (for example, 1074 nm) in the near infrared wavelength region. Have. Therefore, the amine concentration can be accurately measured by measuring the absorbance of the water-based resist stripping solution. When the amine is monoethanolamine, the wavelength to be measured is preferably a specific wavelength selected from the wavelength range of 1000 to 1600 nm. In the vicinity of 1048 nm where the influence of other components is small, the sensitivity is large and particularly good. Further, in the case of hydroxylamine, it is preferable that the specific wavelength is selected from the wavelength range of 1050 to 1090 nm. Around 1074 nm, where the influence of other components is small, the sensitivity is large and particularly good.
本実施形態の調製装置１１０では、アミンに関する測定手段１２１が、例えば、測定波長１０４８ｎｍにおける水系レジスト剥離液の吸光度を測定する。この波長における吸光度は、アミン濃度（ＭＥＡ濃度）と図３のような直線関係があるので、この直線関係を用いて、吸光度の測定値から正確に水系レジスト剥離液のアミン濃度（ＭＥＡ濃度）を得ることができる。
In the
本実施形態における制御手段１０１は、アミンに関する制御手段１２３を備える。本実施形態の調製装置１１０がアミン濃度だけを所定の濃度に調節する場合には、制御手段１０１はアミンに関する制御手段１２３と同じでよい。本実施形態の調製装置１１０がアミン以外の成分についても濃度を調節する場合には、制御手段１０１はアミンに関する制御手段１２３を備えるだけでなく、他の成分に関する制御手段も別途備えている。
The control means 101 in this embodiment includes a control means 123 regarding amine. When the
アミンに関する制御手段１２３は、アミンに関する測定手段１２１と信号線１４７により接続されるなどしており、アミンに関する測定手段１２１が得た測定値をアミンに関する測定手段１２１から受信する。アミンに関する制御手段１２３は、調節すべき所定のアミン濃度が濃度制御における目標値のアミン濃度として設定されている。アミンに関する制御手段１２３は、受信したアミン濃度の測定値と目標値のアミン濃度とを比較する。アミンに関する制御手段１２３は、各原料供給配管４１、４２、４３に設けられた制御弁１７、１８、１９と、信号線４６により接続されるなどしており、濃度の比較の結果に応じて、制御弁１７、１８、１９を適切に動作制御する。
The
例えば、測定手段１０２のアミンに関する測定手段１２１により測定されたアミン濃度が目標値のアミン濃度より低い場合は、制御手段１０１のアミンに関する制御手段１２３は制御弁１８の流量を増やして、あるいは、制御弁１７や１９の流量を減らして、アミン原液の相対的な供給量を増やす。アミン濃度が目標値のアミン濃度より高い場合は、逆に、アミンに関する制御手段１２３は制御弁１８の流量を減らして、あるいは、制御弁１７や１９の流量を増やして、純水および有機溶媒の少なくともいずれかの供給量を相対的に増やし、アミン原液の相対的な供給量を減らして、アミン濃度を制御する。ただし、制御方法は、これに限定されない。ＰＩＤ制御など、各種の制御方法を適宜採用し得る。
For example, when the amine concentration measured by the
なお、アミンに関する測定手段１２１が測定した物性値から、測定した物性値と相関関係上の目標値のアミン濃度に対応する物性値とを比較することよりアミン濃度を制御してもよい。
In addition, the amine concentration may be controlled by comparing the measured physical property value with the physical property value corresponding to the amine concentration which is a target value of the correlation based on the physical property value measured by the
例えば、図３や図４に示すような直線関係が得られる場合のように、物性値とアミン濃度とが一対一に対応した相関関係を有する場合には、この相関関係に基づいて、アミン濃度に対応する物性値を得ることができる。したがって、調節すべき所定のアミン濃度に対応する“所定の物性値”が存在する。アミンに関する測定手段１２１が測定した物性値がこの“所定の物性値”になるように、アミンに関する制御手段１２３が原料の供給量を制御することで、調製槽３で調製される水系レジスト剥離液を所定のアミン濃度にすることができる。
For example, when there is a one-to-one correlation between the physical property value and the amine concentration, as in the case where the linear relations shown in FIG. 3 and FIG. 4 are obtained, the amine concentration is based on this correlation. The physical property value corresponding to can be obtained. Therefore, there is a "predetermined physical property value" corresponding to the predetermined amine concentration to be adjusted. The water-based resist stripping solution prepared in the
本実施形態の第１実施形態と共通するその他の構成については、第１実施形態と同じであるので、その説明を省略する。 Other configurations that are common to the first embodiment of the present embodiment are the same as those of the first embodiment, and thus the description thereof will be omitted.
［第３実施形態］
図５は、本実施形態の水系レジスト剥離液の調製装置を説明するための模式図である。本実施形態の水系レジスト剥離液の調製装置２１０は、第１実施形態の調製装置１０とほぼ同じであり、主に調製槽３、測定手段２０２、制御手段２０１などからなる。測定手段２０２が水分に関する測定手段２２２を備え、制御手段２０１が水分に関する制御手段２２４を備え、調製槽３で所定の水分濃度の水系レジスト剥離液が調製される点で、特徴的である。
[Third Embodiment]
FIG. 5 is a schematic diagram for explaining the apparatus for preparing an aqueous resist stripping solution of this embodiment. The water-based resist stripping
本実施形態では、測定手段２０２は水分に関する測定手段２２２を備える。水分に関する測定手段２２２は、調製槽３内の水系レジスト剥離液の物性値または水分濃度のうちの少なくとも一方を測定するためのものである。両方を測定してもよい。調製装置２１０が水分濃度だけを測定してこれを所定の濃度値に調節する場合には、測定手段２０２は水分に関する測定手段２２２と同じでよい。しかし、一般には、測定手段２０２は、水分に関する測定手段２２２のほかに、他の成分に関する測定を行うための測定手段を別途備えていてもよい。
In the present embodiment, the measuring
水分に関する測定手段２２２が測定する物性値は、水分濃度と相関関係を有する物性値である。水分濃度と相関関係を有する物性値についても、吸光度、導電率、密度、超音波伝播速度、および、粘度から選択され、水分濃度と直線関係が得られる物性値を用いることが好ましい。この場合、水分に関する測定手段２２２は、それぞれ、吸光光度計、導電率計、密度計、超音波濃度計、粘度計などとなる。
The physical property value measured by the measuring
水分に関する測定手段２２２としては、なかでも吸光光度計が好ましい。適切な測定波長を用いれば、水系レジスト剥離液の吸光度値とアミン濃度との間に、比較的良好な直線関係を得ることができる。 As the water measuring means 222, an absorptiometer is preferable. By using an appropriate measurement wavelength, a relatively good linear relationship can be obtained between the absorbance value of the aqueous resist stripping solution and the amine concentration.
水分濃度と直線関係を有する物性値の一例として、図６に、水系レジスト剥離液の水分濃度と吸光度の関係を示すグラフ図を示す。水分濃度との直線関係を示す吸光度の測定波長は、近赤外線領域の９５０ｎｍから２０００ｎｍの範囲から選択される特定の波長であることが好ましい。特に１９４０ｎｍ付近で感度が大きく、好ましい。また、９５０ｎｍから１０１０ｎｍの範囲、特に９７６ｎｍ付近において感度が大きく好ましい。図６は、測定波長λ＝１９４０ｎｍにおける水系レジスト剥離液の吸光度と水分濃度との関係を示すグラフ図である。なお、測定波長λ＝９７６ｎｍにおいても、図６に示すグラフと同様に高度な直線関係を有することが実験により確認されている。このように、水系レジスト剥離液の吸光度を検出することで、水分濃度を正確に測定することができる。 As an example of the physical property value having a linear relationship with the water concentration, FIG. 6 is a graph showing the relationship between the water concentration of the aqueous resist stripping solution and the absorbance. The absorbance measurement wavelength showing a linear relationship with the water concentration is preferably a specific wavelength selected from the range of 950 nm to 2000 nm in the near infrared region. Particularly, the sensitivity is large near 1940 nm, which is preferable. In addition, the sensitivity is large in the range of 950 nm to 1010 nm, particularly near 976 nm, which is preferable. FIG. 6 is a graph showing the relationship between the absorbance of the water-based resist stripping solution and the water concentration at the measurement wavelength λ = 1940 nm. It has been confirmed by experiments that, even at the measurement wavelength λ = 976 nm, it has a highly linear relationship similar to the graph shown in FIG. In this way, the water concentration can be accurately measured by detecting the absorbance of the water-based resist stripping solution.
本実施形態の調製装置２１０では、水分に関する測定手段２２２が、例えば、測定波長１９４０ｎｍにおける水系レジスト剥離液の吸光度を測定する。この波長における吸光度は、水分濃度と図６のような直線関係があるので、この直線関係を用いて、吸光度の測定値から正確に水系レジスト剥離液の水分濃度を得ることができる。
In the
本実施形態における制御手段２０１は、水分に関する制御手段２２４を備える。本実施形態の調製装置２１０が水分濃度だけを所定の濃度に調節する場合には、制御手段２０１は水分に関する制御手段２２４と同じでよい。本実施形態の調製装置２１０が水分以外の成分についても濃度を調節する場合には、制御手段２０１は水分に関する制御手段２２４を備えるだけでなく、他の成分に関する制御手段も別途備えている。
The
水分に関する制御手段２２４は、水分に関する測定手段２２２と信号線２４７により接続されるなどしており、水分に関する測定手段２２２が得た測定値を水分に関する測定手段２２２から受信する。水分に関する制御手段２２４は、調節すべき所定の水分濃度が濃度制御における目標値の水分濃度として設定されている。水分に関する制御手段２２４は、受信した水分濃度の測定値と目標値の水分濃度とを比較する。水分に関する制御手段２２４は、各原料供給配管４１、４２、４３に設けられた制御弁１７、１８、１９と、信号線４６により接続されるなどしており、濃度の比較の結果に応じて、制御弁１７、１８、１９を適切に動作制御する。
The water
水分濃度についても、測定手段２０２の水分に関する測定手段２２２により測定された水分濃度が目標値の水分濃度より低い場合は、制御手段２０１は制御弁１７の流量を増やして、あるいは、制御弁１８や１９の流量を減らして、純水の相対的な供給量を増やす。水分濃度が目標値の水分濃度より高い場合は、逆に、水分に関する制御手段２２４は制御弁１７の流量を減らして、あるいは、制御弁１８や１９の流量を増やして、アミン原液および有機溶媒の少なくともいずれかの供給量を相対的に増やし、純水の相対的な供給量を減らして、水分濃度を制御する。ただし、制御方法は、これに限定されない。ＰＩＤ制御など、各種の制御方法を適宜採用し得る。
Regarding the water concentration, when the water concentration measured by the water measuring means 222 of the measuring means 202 is lower than the target water concentration, the control means 201 increases the flow rate of the
なお、水分濃度の調節についても、水分に関する測定手段２２２が測定した物性値から、測定した物性値と相関関係上の目標値の水分濃度に対応する物性値とを比較することにより水分濃度を制御してもよい。
Regarding the adjustment of the water concentration, the water concentration is controlled by comparing the measured physical property value with the physical property value corresponding to the water concentration of the target value on the correlation from the physical property value measured by the measuring
例えば、図６に示すような直線関係が得られる場合のように、物性値と水分濃度とが一対一に対応した相関関係を有する場合には、この相関関係に基づいて、水分濃度に対応する物性値を得ることができる。したがって、調節すべき所定の水分濃度に対応する“所定の物性値”が存在する。水分に関する測定手段２２２が測定した物性値がこの“所定の物性値”になるように、水分に関する制御手段２２４が原料の供給量を制御することで、調製槽３で調製される水系レジスト剥離液を所定の水分濃度にすることができる。
For example, when a physical property value and a water concentration have a one-to-one correlation such as when a linear relationship as shown in FIG. 6 is obtained, the water concentration is corresponded based on this correlation. The physical property value can be obtained. Therefore, there is a "predetermined physical property value" corresponding to the predetermined water concentration to be adjusted. The water-based resist stripping solution prepared in the
本実施形態の第１実施形態と共通するその他の構成については、第１実施形態と同じであるので、その説明を省略する。 Other configurations that are common to the first embodiment of the present embodiment are the same as those of the first embodiment, and thus the description thereof will be omitted.
［第４実施形態］
図７は、本実施形態の水系レジスト剥離液の調製装置を説明するための模式図である。本実施形態の水系レジスト剥離液の調製装置３１０は、第１実施形態の調製装置１０とほぼ同じであり、主に調製槽３、測定手段３０２、制御手段３０１などからなる。しかし、測定手段３０２がアミンに関する測定手段３２１および水分に関する測定手段３２２を備える点、制御手段３０１が調製槽３内の水系レジスト剥離液のアミン濃度が所定のアミン濃度となるように、および、調製槽３内の水系レジスト剥離液の水分濃度が所定の水分濃度となるように、原料の供給量を制御する点、および、調製槽３で所定のアミン濃度および所定の水分濃度の水系レジスト剥離液が調製される点で、特徴的である。
[Fourth Embodiment]
FIG. 7 is a schematic diagram for explaining an apparatus for preparing an aqueous resist stripping solution according to this embodiment. The water-based resist stripping
本実施形態では、測定手段３０２はアミンに関する測定手段３２１、および、水分に関する測定手段３２２を備える。アミンに関する測定手段３２１は、調製槽３内の水系レジスト剥離液の物性値またはアミン濃度のうちの少なくとも一方を測定するためのものである。両方を測定してもよい。水分に関する測定手段３２２は、調製槽３内の水系レジスト剥離液の物性値または水分濃度のうちの少なくとも一方を測定するためのものである。両方を測定してもよい。調製装置３１０がアミン濃度と水分濃度だけを測定してこれらを所定の濃度値に調節する場合には、測定手段３０２はアミンに関する測定手段３２１と水分に関する測定手段３２２だけでよい。しかし、一般には、測定手段３０２は、これらのほかに、他の成分に関する測定を行うための測定手段を別途備えていてもよい。
In the present embodiment, the measuring means 302 includes an amine measuring means 321 and a water measuring means 322. The
本実施形態における制御手段３０１は、アミンに関する制御手段３２３、水分に関する制御手段３２４、その他の成分に関する制御手段などを備える。あるいは、これらの機能に相当する機能をひとまとめに備えた一つの制御手段であってもよい。本実施形態のアミン濃度の制御は、第２実施形態と同様である。本実施形態の水分濃度の制御は、第３実施形態と同様である。そのほか、第１〜３の実施形態と共通する構成については、それぞれの実施形態で説明した事項と同じであるから、本実施形態におけるその説明を省略する。
The
なお、図７では、本実施形態の調製装置３１０が、原料貯留容器３２０と、水系レジスト剥離液を使用する剥離設備３９０と、に接続された態様を示した。このように、調製装置３１０は、原料貯留容器３２０や、剥離設備３９０と接続して、剥離工程が行われる工場におけるオンサイト運転をすることができる。
Note that FIG. 7 shows a mode in which the
原料貯留容器３２０は、水系レジスト剥離液の原料を一時的に貯留しておくための容器である。アミン貯留容器３１１ａ、３１１ｂや、有機溶媒貯留容器３１２ａ、３１２ｂなどからなる。アミン貯留容器３１１ａ、３１１ｂや有機溶媒貯留容器３１２ａ、３１２ｂは、それぞれ一つでもよいが、図７に示すようにそれぞれ二つ備えているとより好ましい。アミン貯留容器３１１ａ、３１１ｂは、アミン原料導入口５２からアミン原料補充配管３４２を介して、アミンが常時貯留されている。また、有機溶媒貯留容器３１２ａ、３１２ｂは、有機溶媒原料導入口５３から有機溶媒原料補充配管３４３を介して、有機溶媒が常時貯留されている。原料貯留容器３２０に常に必要な原料を用意しておくことで、調製装置３１０は、途切れることなく原料の供給を受けることができ、連続的に水系レジスト剥離液を調製することが可能となる。
The raw
アミン貯留容器３１１ａ、３１１ｂおよび有機溶媒貯留容器３１２ａ、３１２ｂは、調製装置３１０とアミン供給配管３４４および有機溶媒供給配管３４５により接続され、原料貯留容器３２０から各種の原料が調製槽３へ供給される。供給の方式は、送液ポンプによる方式でも、容器の加圧圧送方式でもよい。必要があれば、図７に示すように、原料貯留容器３２０と調製槽３を接続するアミン供給配管３４４および有機溶媒供給配管３４５に制御弁３１３ａ〜３１６ｂを設けて、調製装置３１０がこれらを制御するようにしてもよい。
The
一方、調製装置３１０は、剥離設備３９０と、調製槽３に接続された水系レジスト剥離液供給配管３０４を介して接続される。水系レジスト剥離液供給配管３０４には、送液ポンプ３２５および制御弁３２６などが設けられている。
On the other hand, the
調製槽３で調製された水系レジスト剥離液は、送液ポンプ３２５により、水系レジスト剥離液供給配管３０４を通って、水系レジスト剥離液供給口３５４から剥離設備３９０に供給される。剥離設備３９０は、信号線３９２を介して制御手段３０１と接続されている。制御手段３０１は、剥離設備３９０から発せられる水系レジスト剥離液供給リクエスト信号を、信号線３９２を介して受信する。制御弁３２６は、信号線３４９を介して制御手段３０１と接続されている。制御手段３０１は、剥離設備３９０側の要求に応じて、制御弁３２６を開閉制御する。これにより、剥離設備３９０は、水系レジスト剥離液が必要な時に、必要な量だけ、自動的に水系レジスト剥離液の供給を受けることができる。
The aqueous resist stripping solution prepared in the
［第５実施形態］
図８は、第５実施形態に係る水系レジスト剥離液の調製装置を説明するための模式図である。第１から第４までの実施形態の水系レジスト剥離液の調製装置１０、１１０、２１０、３１０とは、調製槽３で調製された水系レジスト剥離液を貯留する貯留槽４０２を備える点が異なっている。
[Fifth Embodiment]
FIG. 8 is a schematic diagram for explaining an apparatus for preparing an aqueous resist stripping solution according to the fifth embodiment. It differs from the water-based resist stripping
第５実施形態の水系レジスト剥離液の調製装置４１０においても、第１実施形態の水系レジスト剥離液の調製装置１０と同様に、調製槽３内の水系レジスト剥離液の物性値または成分濃度の少なくともいずれか一方を測定することで、調製槽３内のレジスト剥離液の成分濃度を所定の濃度に調節する。
Also in the water-based resist stripping
調製槽３で調製された水系レジスト剥離液は、調製槽３から貯留槽４０２へ送液され、貯留槽４０２に貯留される。送液の方法は、送液ポンプなどにより移送する方式などでよく、特に限定はしない。図８に示すように、連通管４３５により調製槽３と貯留槽４０２とを連結しておくと、送液ポンプなどを要さず自然送液されるため簡便で都合よく、好適である。
The aqueous resist stripping solution prepared in the
連通管４３５は、水系レジスト剥離液が流通する管路である。図８に示すように、調製槽３は貯留槽４０２よりも高い位置に設置される。連通管４３５は、例えば図８のように、調製槽３の底部と貯留槽４０２の側部とを接続する。貯留槽４０２から剥離設備３９０に水系レジスト剥離液が供給されることで、貯留槽４０２内に貯留されている水系レジスト剥離液量が減少すると、調製槽３で調製された水系レジスト剥離液が連通管４３５を通って、貯留槽４０２に自然に移動する。連通管４３５は適度な長さと配管内径とを有し、調製槽３で生じる水系レジスト剥離液の濃度の変動が貯留槽４０２内に及ばないようにする濃度変動の緩衝作用を有する。
The
貯留槽４０２も、調製槽３と同様、測定手段４３１および液面計４３２とを備えていることが好ましい。測定手段４３１としては、調製槽３に備えられているものと同じものを用いることができる。測定手段４３１は、さらに、アミンに関する測定手段、および、水分に関する測定手段のいずれか、あるいは両方を備えていてもよい。これらの装置により、貯留槽４０２に貯留された水系レジスト剥離液の物性値、または、成分濃度の測定をすることができる。
Like the
また、測定手段４３１および液面計４３２も、信号線４４７、４４８を介して制御手段４０１と接続される。制御手段４０１は、測定手段４３１が測定する貯留槽４０２内の水系レジスト剥離液の物性値または成分濃度や液面計４３２が測定する貯留槽４０２内の水系レジスト剥離液の液面位置に応じて、調製槽３の場合と同様に、適宜制御弁１７、１８、１９を制御する。貯留槽４０２は、濃度変動が極めて小さいので、実際には、貯留槽４０２内部の水系レジスト剥離液の濃度の監視と液量管理が行われる。
The measuring means 431 and the
貯留槽４０２内の水系レジスト剥離液は、循環管路４３４に備えられた循環攪拌ポンプ４３３によって循環攪拌される。これにより、貯留槽４０２内の水系レジスト剥離液は、均一な濃度に維持される。
The water-based resist stripping solution in the
［第６実施形態］
図９は、第６実施形態に係る水系レジスト剥離液の調製装置を説明するための模式図である。第６実施形態に係る水系レジスト剥離液の調製装置５１０は、調製槽を２つ備えている点がこれまでに説明した実施形態の水系レジスト剥離液の調製装置と異なっている。
[Sixth Embodiment]
FIG. 9 is a schematic diagram for explaining an apparatus for preparing an aqueous resist stripping solution according to the sixth embodiment. The water-based resist stripping
調製槽５０３も調製槽３と同様に、測定手段５３１および液面計５３２を備え、信号線５４７および信号線５４８を介して制御手段５０１と接続される。調製槽５０３内の水系レジスト剥離液の物性値または成分濃度、および、液面位置は制御手段５０１により監視され、信号線５４６を介して接続された制御弁５１７、５１８、５１９を制御し、調製槽３内の水系レジスト剥離液の成分濃度を調節する場合と同様の方法で、成分濃度や液面位置の調節を行う。調製槽５０３で調製された水系レジスト剥離液は、連通管５３５を通って、貯留槽４０２に貯留される。また、調製槽５０３は循環管路５３４を備え、調製槽５０３内の水系レジスト剥離液は、循環管路５３４に備えられた循環攪拌ポンプ５３３によって循環攪拌される。
Like the
第６実施形態に係る水系レジスト剥離液の調製装置によれば、調製槽を２つ備えているので、例えば、調製槽３が故障などにより動かなくなっても、調製槽５０３から貯留槽４０２に水系レジスト剥離液を調製して供給することで、装置を止めることなく水系レジスト剥離液の調製と供給を続けることができる。また、調製槽３内が空になっていても、調製槽５０３から水系レジスト剥離液を供給することができる。
According to the water-based resist stripping liquid preparation apparatus of the sixth embodiment, since two preparation tanks are provided, for example, even if the
なお、図９においては、調製槽を２つ備える構成を記載したが、調製槽の数は特に限定されず、３つ以上の複数の槽を備えてもよい。ただし、装置が大型化すること、故障時の予備であることを考慮すると、貯留槽１つに対して調製槽を２つ備えれば十分である。 In addition, in FIG. 9, the configuration including two preparation tanks is described, but the number of preparation tanks is not particularly limited, and three or more preparation tanks may be provided. However, considering that the device becomes large and that it is a backup in case of failure, it is sufficient to provide two preparation tanks for one storage tank.
［第７実施形態］
図１０は、第７実施形態に係る水系レジスト剥離液の調製装置を説明するための模式図である。第７実施形態に係る水系レジスト剥離液の調製装置６１０は、水系レジスト剥離液の原料を予め混合する予備混合手段として混合準備槽６０５を備えている点がこれまでに説明してきた実施形態の水系レジスト剥離液の調製装置と異なっている。
[Seventh Embodiment]
FIG. 10 is a schematic diagram for explaining an apparatus for preparing an aqueous resist stripping solution according to the seventh embodiment. The water-based resist stripping
混合準備槽６０５は、純水供給配管４１、アミン供給配管３４４、および、有機溶媒供給配管３４５に接続されている。また、混合準備槽６０５は、配管６０６により調製槽３に接続されている。
The mixing
混合準備槽６０５を設け、調製槽３に供給される原料を混合準備槽６０５で混合して調製槽３に供給することで、調製槽３に水系レジスト剥離液の組成に近い濃度で供給することができる。したがって、調製槽３内の水系レジスト剥離液の濃度が急に変化することを防止することができるとともに、水系レジスト剥離液の調製を容易に行うことができる。また、水系レジスト剥離液の原料が予め混合されるので、調製槽３内での混合や攪拌の負担が軽減され、より速やかに均一な濃度の水系レジスト剥離液を調製することができる。
The mixing
混合準備槽６０５での混合は、制御手段６０１により、信号線６４６を介して接続された制御弁６１７、６１８、６１９を制御することで、純水、アミン原液、および、有機溶媒の流量を制御し、調製槽３で調製される水系レジスト剥離液の濃度とすることが好ましい。水系レジスト剥離液の最終的な濃度の調製は、調製槽３で行うため、混合準備槽６０５では、精度良く調製しなくてもよい。混合準備槽６０５で混合されたレジスト剥離液の濃度が、測定手段２で測定される物性値が成分濃度と相関関係を有する濃度範囲に入る程度に、各原料の混合がなされればよい。ただし、調製槽３と同様に、測定装置により、物性値または成分濃度を測定してもよい。
For the mixing in the
本実施形態の調製装置６１０が備える予備混合手段は、簡易な混合槽としてふるまう混合準備槽６０５のような態様に限定されない。例えば、原料を供給する純水供給配管４１、アミン供給配管３４４、有機溶媒供給配管３４５等が調製槽３の手前で合流して、合流配管内で原料が混合されるような方式でもよい。その場合、さらに、インラインミキサーやスタティックミキサーなどの配管型混合装置を採用することもできる。循環管路３４に合流させてもよい。
The premixing means included in the
また、予備混合手段は、第６実施形態のように、調製槽を複数備える水系レジスト剥離液の調製装置においては、調製槽ごとに予備混合手段を備える構成としてもよい。 Further, as in the sixth embodiment, the premixing means may be configured to include the premixing means for each preparation tank in the apparatus for preparing an aqueous resist stripping solution having a plurality of preparation tanks.
〔非水系レジスト剥離液の調製装置〕
［第８実施形態］
図１１は、本実施形態の非水系レジスト剥離液の調製装置を説明するための模式図である。本実施形態の非水系レジスト剥離液の調製装置７１０は、主に、調製槽７０３、測定手段７０２、制御手段７０１などからなる。
[Preparation device for non-aqueous resist stripper]
[Eighth Embodiment]
FIG. 11 is a schematic diagram for explaining the apparatus for preparing a non-aqueous resist stripping solution of this embodiment. The
調製槽７０３は、配管などを介して供給を受けた非水系レジスト剥離液の原料を調合して、所定の成分濃度の非水系レジスト剥離液を調製するための調合容器である。調製槽７０３は、非水系レジスト剥離液の原料の供給を受けるために、各原料供給配管７４２、７４３などが接続されているほか、原料を均一に混合するための攪拌手段７３６を備えている。また、調製した所定の成分濃度の非水系レジスト剥離液を供給するための供給配管７０４を備えている。
The
測定手段７０２は、調製槽７０３内で調製される非水系レジスト剥離液の物性値または成分濃度の少なくとも一方を測定する。測定手段７０２により測定される非水系レジスト剥離液の物性値は、この非水系レジスト剥離液の成分濃度との間に相関を有する物性値である。この相関関係を用いれば、測定された物性値から成分濃度を得ることができるし、非水系レジスト剥離液を所定の成分濃度に調整することもできる。
The measuring
制御手段７０１は、測定手段７０２の測定信号を受信できるように、測定手段７０２と信号線７４７などにより接続されている。また、制御手段７０１は、原料を調製槽７０３に供給するための原料供給配管７４２、７４３に設けられた制御弁７１８、７１９と、接続されている。制御手段７０１がこれらの制御弁を制御することにより、調製槽７０３に供給される原料の供給量が、水系レジスト剥離液の成分濃度が所定の成分濃度となるように、調節される。
The control means 701 is connected to the measurement means 702 by a
非水系レジスト剥離液は、アミンおよび有機溶媒を主成分とする。アミンは、アミン原料導入口７５２からアミン原料供給配管７４２を介して調製槽７０３に供給される。有機溶媒は、有機溶媒原料導入口７５３から有機溶媒原料供給配管７４３を介して調製槽７０３に供給される。これらのほかに、添加剤など他の原料がある場合には、その原料を供給するための導入口、供給配管、制御弁などを用意して、供給すればよい。添加剤など他の原料の供給ラインは、図１１には図示していない。また、各原料は、調製槽７０３に直接供給される場合に限定されない。例えば、調製槽７０３内の非水系レジスト剥離液を循環攪拌する場合には、各原料を、液が循環する循環管路７３４に合流させるようにして、調製槽７０３に供給してもよい。
The non-aqueous resist stripper has an amine and an organic solvent as main components. The amine is supplied from the amine
各原料供給配管７４２、７４３には、制御手段７０１と信号線７４６を介して接続された制御弁７１８、７１９が設けられている。各制御弁は、制御手段７０１により発せられる制御信号を受けて、動作制御される。各制御弁は、例えば、単位時間当たりの流量を増減させるように、制御手段７０１により制御されるのが、望ましい。各制御弁は、流量のデフォルト値として、このデフォルト値の流量で供給された原料を調合して得られる非水系レジスト剥離液の成分濃度が、測定手段７０２により測られる物性値が成分濃度と相関関係を有する濃度範囲に入るように、予め設定されているものとする。
原料導入口７５２、７５３より導入された各原料は、原料供給配管７４２、７４３、および、制御弁７１８、７１９を介して、調製槽７０３に供給される。調製槽７０３内に供給された原料は、攪拌手段７３６により攪拌され、均一な濃度の非水系レジスト剥離液となる。
The respective raw materials introduced from the raw
攪拌手段７３６は、調製槽７０３内を均一な濃度に攪拌するものである。図１１では、調製槽７０３の底部から側部にループ状に接続された循環管路７３４を介して、調製槽７０３内の液の一部を抜き取り、これを循環攪拌ポンプ７３３により調製槽７０３内に攪拌流が生じるように再度調製槽７０３内に戻す循環攪拌方式を描いているが、これに限定されない。攪拌翼をモーターで回転させる攪拌装置でもよいし、攪拌子を調製槽７０３内で回転させるものでもよい。
The stirring means 736 stirs the inside of the
調製槽７０３内で調製された非水系レジスト剥離液は、測定手段７０２により、測定される。測定されるのは、調製槽７０３内で調製された非水系レジスト剥離液の物性値または成分濃度の少なくともいずれか一方である。両方でもよい。ここで測定される成分濃度は、所定の濃度に調節しようとしている非水系レジスト剥離液の成分についての濃度である。同様に、測定される物性値は、所定の濃度に調節しようとしている非水系レジスト剥離液の成分と相関のある非水系レジスト剥離液の物性値である。測定手段７０２により測定される物性値や成分濃度に対応する非水系レジスト剥離液の成分は、一つとは限らず、複数であってもよい。
The non-aqueous resist stripper prepared in the
成分濃度は直接測ることができないので、通常は、成分濃度は、これと相関を有する物性値を測定して、その測定値から相関関係を用いて算出される。そのため、測定手段７０２は、非水系レジスト剥離液の物性値を測定する測定装置を備える。物性値のみしか測らない場合は、測定手段７０２は測定装置そのものであってもよい。測定した物性値から成分濃度を算出する場合は、測定した物性値を成分濃度に演算加工する必要があるので、測定手段７０２は、測定装置を備えるほか、測定値から成分濃度を演算する演算装置などをも備えている。
Since the component concentration cannot be directly measured, the component concentration is usually calculated by measuring a physical property value having a correlation with this and using the correlation from the measured value. Therefore, the measuring
測定手段７０２が備える物性値の測定装置は、濃度を調節すべき非水系レジスト剥離液の成分や測定される物性値に応じて、最適な装置が選択される。濃度を調節しようとしている非水系レジスト剥離液の成分について、調節しようとしているその所定の成分濃度を含む濃度範囲において、その成分濃度と良好な相関関係を得ることができる物性値を測定する測定装置を採用すればよい。例えば、このような測定装置として、吸光光度計、導電率計、密度計、超音波濃度計、粘度計、などが好適である。 As the measuring device for the physical properties included in the measuring means 702, an optimum device is selected according to the components of the non-aqueous resist stripping solution whose concentration is to be adjusted and the measured physical properties. A measuring device for measuring a physical property value of a component of a non-aqueous resist stripping solution whose concentration is to be adjusted, which can obtain a good correlation with the component concentration in a concentration range including the predetermined component concentration which is to be adjusted Should be adopted. For example, an absorptiometer, a conductivity meter, a density meter, an ultrasonic densitometer, a viscometer, etc. are suitable as such a measuring device.
測定手段７０２は、調製槽７０３内で調製された非水系レジスト剥離液をサンプリングして、その物性値を測定する。測定前にサンプリングした非水系レジスト剥離液を温度調整するなど、常に同じ測定条件で測定がなされるようになっていることが、好ましい。そのため、測定手段７０２は、サンプリングチューブ、サンプリングポンプ（図示せず）、温度コントローラ（図示せず）などを、備えていることが好ましい。
The measuring
しかし、測定の手法は、試料をサンプリングする方式に限定されない。センサー部を非水系レジスト剥離液内に浸漬する方式や、循環管路７３４などに測定装置を設置する方式など、採用した測定装置に応じて、最適な方式により測定すればよい。
However, the measurement method is not limited to the method of sampling the sample. The measurement may be performed by an optimum method depending on the measuring apparatus used, such as a method of immersing the sensor part in a non-aqueous resist stripping solution, a method of installing a measuring device in the
測定手段７０２が成分濃度を測定する場合、測定手段７０２に備えられた測定装置により測定された物性値から、成分濃度が算出される。成分濃度の算出には、物性値と成分濃度との相関関係が用いられる。この相関関係は、物性値と成分濃度との対応関係であり、両者が一対一に対応していれば、この相関関係に基づいて、測定された物性値から対応する成分濃度を求めることができる。
When the measuring
相関関係は、所定の感度を得るために、ある程度の傾きを備えていることが好ましいが、必ずしも直線でなくてもよい。調節しようとする成分濃度を含む濃度範囲で、成分濃度が物性値と一対一に対応づけられた連続関数としての相関関係を有していれば、測定された物性値から対応する成分濃度を算出できる。 The correlation preferably has a certain degree of inclination in order to obtain a predetermined sensitivity, but it does not necessarily have to be a straight line. In the concentration range including the concentration of the component to be adjusted, if the component concentration has a correlation as a continuous function that is in one-to-one correspondence with the physical property value, the corresponding component concentration is calculated from the measured physical property value. it can.
測定手段７０２は、測定した物性値または成分濃度を、制御手段７０１に送信する。制御手段７０１は、測定手段７０２から測定値を受信する。測定手段７０２と制御手段７０１とは、信号線７４７で接続されている。測定値の送受信は、この信号線７４７を介して行われる。しかし、これに限定されない。無線を介して測定値の送受信がなされてもよい。また、複数の成分について物性値や成分濃度が測定される場合には、成分ごとに測定装置と制御手段７０１とをつなぐ信号線を備えていてもよい。
The measuring
制御手段７０１には、濃度制御において目標とする成分濃度の値が設定されている。制御手段７０１は、受信した成分濃度の測定値と設定されている成分濃度の目標値とを比較する。比較の結果、調節すべき成分の濃度が目標値より低い場合は、その成分の供給量がその他の成分の供給量に対して相対的に増加するように、対応する制御弁を制御する。逆に、調節すべき成分の濃度が目標値より高い場合は、その成分の供給量がその他の成分の供給量に対して相対的に減少するように、対応する制御弁を制御する。どの制御弁をどの程度制御するかは、成分濃度の目標値からのずれの程度、原料の構成、各原料の濃度などの諸条件に基づいて、制御手段７０１が制御プログラムにより適切に計算する。ただし、制御の方法は、これに限定されない。上記のような制御量の目標値と現在値とを比較して制御する比例制御（Ｐ制御）のほか、いわゆる積分制御（Ｉ制御）や微分制御（Ｄ制御）などを採用できる。これらの制御方法を適宜組み合わせたＰＩＤ制御により制御するのが、好ましい。
The
非水系レジスト剥離液の原料供給配管に設けられた各制御弁７１８、７１９は、信号線７４６により、制御手段７０１と接続されている。図１１では、各制御弁７１８、７１９が信号線７４６により直列に接続されているように描いたが、各制御弁がそれぞれ個別に制御手段７０１と信号線で接続されていてもよい。信号線によらずとも、無線により制御されるようになっていてもよい。
The
また、図１１では、制御手段７０１が制御弁を制御することになっているが、制御手段７０１としてはコンピュータが好ましく採用される。コンピュータの代わりに、汎用のコントローラを用いて制御してもよい。濃度を調節する成分ごとに個別に用意されたコントローラの集合体として、制御手段７０１を構成してもよい。また、測定手段７０２と制御手段７０１の代わりに、測定手段７０２と制御手段７０１とが一つの装置として構成されたようないわゆる濃度管理装置、を用いるのでもよい。濃度管理装置を用いる場合には、調製槽７０３内の非水系レジスト剥離液が常時所定の成分濃度となるように、濃度管理装置に制御弁を制御させればよい。
Further, in FIG. 11, the control means 701 controls the control valve, but as the control means 701, a computer is preferably adopted. A general-purpose controller may be used instead of the computer for control. The
測定手段７０２により測定されるのが物性値である場合には、制御手段７０１は、物性値に基づいた制御を行う。すなわち、測定手段により測定される物性値は成分濃度と相関関係を有するので、この相関関係上に、調節すべき所定の成分濃度に対応した“所定の物性値”を見出すことができる。制御手段７０１は、測定手段７０２により測定された物性値がこの“所定の物性値”になるように、原料の供給量を増減させるよう、制御弁７１８、７１９を制御すればよい。
When the physical property value is measured by the measuring
本実施形態の調製装置７１０は、上記の調合、測定、制御のサイクルを繰り返し連続して行うことにより、所定の成分濃度の非水系レジスト剥離液を自動的かつ連続的に調製することができる。一度調製槽７０３内に所定の成分濃度の非水系レジスト剥離液を調製してしまえば、あとは、供給により減量した分を補うように、所定の成分濃度を維持しながら、非水系レジスト剥離液を追加調製すればよい。
The
調製槽７０３で調製された非水系レジスト剥離液は、調製槽７０３の底部に接続された非水系レジスト剥離液供給配管７０４から、調製槽７０３の外へ供給される。調製装置７１０は、単独で使用することもできるが、非水系レジスト剥離液を使用する他の剥離設備に接続して使用することもできる。この場合、非水系レジスト剥離液供給配管７０４を他の剥離設備の非水系レジスト剥離液供給口７５４と接続する。こうすることで、他の剥離設備に新鮮な状態の所定の成分濃度の非水系レジスト剥離液を必要な時にいつでも自動的に供給することも可能となる。
The non-aqueous resist stripping solution prepared in the
調製装置７１０は、調製槽７０３内の非水系レジスト剥離液の液面位置を検出するための液面計７３２を備えていることが好ましい。調製装置７１０の供給する非水系レジスト剥離液の供給量が常時ほぼ一定であれば、液面計がなくても、調製量を供給量とバランスさせることで、調製槽７０３を空にすることなく、連続的な調製ができる。しかし、供給量が増減する場合には、液面計７３２により調製槽７０３内の液面位置を検出し、調製槽７０３が空にならないように制御することが好ましい。
The
液面計７３２は、調製槽７０３内の液面位置を検出できるように調製槽７０３に設置されているほか、信号線７４８を介して制御手段７０１と接続される。例えば、液面計７３２は、調製槽７０３内の液面が下限値を下回ったことを検出して、制御手段７０１に警報信号を発する。制御手段７０１は、液面位置が回復するように、制御弁７１８、７１９を制御して原料の供給量を増加させ、非水系レジスト剥離液の調製量を増やす。液面位置が下限値を上回ると警報信号が停止し、調製槽３内の非水系レジスト剥離液の量が所定の量まで回復すると、制御手段１はこの液面位置を維持するように制御する。こうして、調製槽７０３内が空にならないようにすることができる。合わせて液面位置の上限を設定しておけば、調製槽７０３のオーバーフローを防止することもできる。
The
なお、図１１では、非水系レジスト剥離液の各原料を供給する原料供給配管７４２、７４３が調製槽７０３の側部に接続されている態様を描いたが、これに限定されない。状況に応じて、調製槽７０３の上部や底部に接続されていてもよい。循環管路３４に接続されるのでもよい。また、原料供給配管７４２、７４３は、調製槽７０３と一体的に接続されている必要はない。例えば、原料を調製槽内に上部から滴下して供給するようになっていてもよい。また、原料が液状物ではなく粉状物である場合は、配管ではなく、粉体供給装置が接続されているのでもよい。
Note that FIG. 11 illustrates a mode in which the raw
＜非水系レジスト剥離液の原料＞
本実施形態の非水系レジスト剥離液の調製装置に用いられる非水系レジスト剥離液は、アミン、有機溶媒、その他の添加剤からなる原料を用いることができる。
<Raw materials for non-aqueous resist stripper>
The non-aqueous resist stripping solution used in the apparatus for preparing a non-aqueous resist stripping solution according to the present embodiment can use a raw material composed of an amine, an organic solvent, and other additives.
≪アミン≫
非水系レジスト剥離液の原料に用いられるアミンとしては、アルカノールアミンが好ましく用いられる。アルカノールアミンとしては、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルエタノールアミン、Ｎ，Ｎ−ジエチルエタノールアミン、アミノエチルエタノールアミン、Ｎ−メチル−Ｎ，Ｎ−ジエタノールアミン、Ｎ，Ｎ−ジブチルエタノールアミン、Ｎ−メチルエタノールアミン、３−アミノ−１−プロパノールなどを挙げることができる。また、他のアミンとして、ヒドロキシルアミン、Ｎ−メチルジエタノールアミン、ノーマルプロパノールアミン、モノイソプロパノールアミン、Ｎ−メチルジエタノールアミン、アルキルベンゼンスルホン酸、ジグリコールアミン、メチルアミノエタノール、エチルアミノエタノール、２−（２−アミノエトキシ）エタノール、トリエチレンテトラミン、Ｎ，Ｎジメチルアセトアミド、モノメチルホルムアミドを用いることができる。
≪Amine≫
As the amine used as the raw material of the non-aqueous resist stripping solution, alkanolamine is preferably used. As the alkanolamine, monoethanolamine, diethanolamine, triethanolamine, N, N-dimethylethanolamine, N, N-diethylethanolamine, aminoethylethanolamine, N-methyl-N, N-diethanolamine, N, N- Dibutylethanolamine, N-methylethanolamine, 3-amino-1-propanol, etc. can be mentioned. Further, as other amines, hydroxylamine, N-methyldiethanolamine, normal propanolamine, monoisopropanolamine, N-methyldiethanolamine, alkylbenzenesulfonic acid, diglycolamine, methylaminoethanol, ethylaminoethanol, 2- (2-amino) Ethoxy) ethanol, triethylenetetramine, N, N dimethylacetamide, monomethylformamide can be used.
≪有機溶媒≫
有機溶媒としては、グライコールエーテル系の有機溶媒が好ましく用いられる。グライコールエーテル系の有機溶媒としては、ブチルジグリコール、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノプロピルエーテルなどを挙げることができる。他の有機溶媒として、ジメチルスルホキシド、アルキルヒドロキシベンゼン、ブチンジオール、ＳＡＡ、メチルメトキシブタノール、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、Ｐｈｎ、オルトジクロロベンゼン、トリエチレンテトラミン、メチルジグリコールを用いることができる。
<Organic solvent>
As the organic solvent, a glycol ether type organic solvent is preferably used. Examples of the glycol ether type organic solvent include butyl diglycol, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, and diethylene glycol monopropyl ether. As another organic solvent, dimethyl sulfoxide, alkylhydroxybenzene, butynediol, SAA, methylmethoxybutanol, N-methyl-2-pyrrolidone, Phn, orthodichlorobenzene, triethylenetetramine, methyldiglycol can be used.
≪その他の添加剤≫
非水系レジスト剥離液としては、アミンおよび有機溶媒の他に、添加剤として、カテコール、マルトール、シリコン系消泡剤、ｐ−ニトロ安息香酸、還元剤（ソルビ―トールなど）、金属防食剤、キレート剤などを添加することができる。その他の添加剤の濃度は、非水系レジスト剥離液の調製時に、非水系レジスト剥離液の容量に応じて添加することで、濃度を調節することができる。
≪Other additives≫
As the non-aqueous resist stripping solution, in addition to amines and organic solvents, additives such as catechol, maltol, silicon antifoaming agent, p-nitrobenzoic acid, reducing agent (sorbitol, etc.), metal anticorrosive agent, chelate Agents and the like can be added. The concentrations of the other additives can be adjusted by adding them in accordance with the volume of the non-aqueous resist stripping solution when preparing the non-aqueous resist stripping solution.
［第９実施形態］
図１２は、本実施形態の非水系レジスト剥離液の調製装置を説明するための模式図である。本実施形態の非水系レジスト剥離液の調製装置８１０は、第８実施形態の調製装置７１０とほぼ同じであり、主に調製槽７０３、測定手段８０２、制御手段８０１などからなる。しかし、測定手段８０２がアミンに関する測定手段８２１を備え、制御手段８０１がアミンに関する制御手段８２３を備え、調製槽７０３で所定のアミン濃度の非水系レジスト剥離液が調製される点で、特徴的である。
[Ninth Embodiment]
FIG. 12 is a schematic diagram for explaining the non-aqueous resist stripping solution preparing apparatus of the present embodiment. The non-aqueous resist stripping
本実施形態では、測定手段８０２はアミンに関する測定手段８２１を備える。アミンに関する測定手段８２１は、調製槽７０３内の非水系レジスト剥離液の物性値またはアミン濃度のうちの少なくとも一方を測定するためのものである。両方を測定してもよい。調製装置８１０がアミン濃度だけを測定してこれを所定の濃度値に調節する場合には、測定手段８０２はアミンに関する測定手段８２１と同じでよい。しかし、一般には、測定手段８０２は、アミンに関する測定手段８２１のほかに、他の成分に関する測定を行うための測定手段を別途備えていてもよい。
In this embodiment, the measuring
アミンに関する測定手段８２１が測定する物性値は、アミン濃度と相関関係を有する物性値である。アミン濃度と相関関係を有する物性値としては、吸光度、導電率、密度、超音波伝播速度、および、粘度から選択される物性値を用いることが好ましい。この場合、アミンに関する測定手段８２１は、それぞれ、吸光光度計、導電率計、密度計、超音波濃度計、粘度計などとなる。
The physical property value measured by the measuring
アミンに関する測定手段８２１としては、なかでも吸光光度計が好ましい。適切な測定波長を用いれば、非水系レジスト剥離液の吸光度値とアミン濃度との間に、比較的良好な直線関係を得ることができる。 Among them, the absorptiometer is preferable as the measuring means 821 for amine. By using an appropriate measurement wavelength, a relatively good linear relationship can be obtained between the absorbance value of the non-aqueous resist stripping solution and the amine concentration.
アミン濃度と直線関係の得られる物性値として、例えば、図３および図４に示す吸光度を用いることができる。図３は、モノエタノールアミン（ＭＥＡ：ｍｏｎｏｅｔｈａｎｏｌａｍｉｎｅ）濃度と吸光度（測定波長λ＝１０４８ｎｍ）の関係を示すグラフ図であり、図４は、ヒドロキシルアミン濃度と吸光度（測定波長λ＝１０７４ｎｍ）の関係を示すグラフ図である。なお、図３および図４は、水系レジスト剥離液におけるアミン濃度と吸光度の関係を示すグラフ図であるが、非水系レジスト剥離液においても同様の直線関係が得られる。 As the physical property value having a linear relationship with the amine concentration, for example, the absorbance shown in FIGS. 3 and 4 can be used. FIG. 3 is a graph showing the relationship between the monoethanolamine (MEA) concentration and the absorbance (measurement wavelength λ = 1048 nm), and FIG. 4 shows the relationship between the hydroxylamine concentration and the absorbance (measurement wavelength λ = 1074 nm). It is a graph figure which shows. Although FIG. 3 and FIG. 4 are graphs showing the relationship between the amine concentration and the absorbance in the water-based resist stripping solution, the same linear relationship can be obtained in the non-aqueous resist stripping solution.
図３に示すように、非水系レジスト剥離液に含まれるアミンがアルカノールアミンの一種であるモノエタノールアミンである場合、非水系レジスト剥離液のモノエタノールアミンの濃度は、近赤外部の波長領域にある特定波長（例えば、１０４８ｎｍ）における非水系レジスト剥離液の吸光度に対して高度な直線関係を有する。また、図４に示すように、非水系レジスト剥離液のヒドロキシルアミンの濃度も、近赤外部の波長領域にある特定波長（例えば、１０７４ｎｍ）における非水系レジスト剥離液の吸光度に対して高度な直線関係を有する。したがって、非水系レジスト剥離液の吸光度を測定することで、アミン濃度を正確に測定することができる。測定する波長は、アミンがモノエタノールアミンである場合、１０００から１６００ｎｍの波長領域から選択される特定の波長であることが好ましい。他の成分の影響が小さい１０４８ｎｍ付近が、感度が大きく特に良好である。また、ヒドロキシルアミンである場合、１０５０から１０９０ｎｍの波長領域から選択される特定の波長であることが好ましい。他の成分の影響が小さい１０７４ｎｍ付近が、感度が大きく特に良好である。 As shown in FIG. 3, when the amine contained in the non-aqueous resist stripping solution is monoethanolamine, which is a kind of alkanolamine, the concentration of monoethanolamine in the non-aqueous resist stripping solution is in the near infrared wavelength range. It has a highly linear relationship with the absorbance of the non-aqueous resist stripper at a specific wavelength (for example, 1048 nm). In addition, as shown in FIG. 4, the concentration of hydroxylamine in the non-aqueous resist stripping solution is also a high linear curve with respect to the absorbance of the non-aqueous resist stripping solution at a specific wavelength (for example, 1074 nm) in the near infrared wavelength region. Have a relationship. Therefore, the amine concentration can be accurately measured by measuring the absorbance of the non-aqueous resist stripping solution. When the amine is monoethanolamine, the wavelength to be measured is preferably a specific wavelength selected from the wavelength range of 1000 to 1600 nm. In the vicinity of 1048 nm where the influence of other components is small, the sensitivity is large and particularly good. Further, in the case of hydroxylamine, it is preferable that the specific wavelength is selected from the wavelength range of 1050 to 1090 nm. Around 1074 nm, where the influence of other components is small, the sensitivity is large and particularly good.
本実施形態の調製装置８１０では、アミンに関する測定手段８２１が、例えば、測定波長１０４８ｎｍにおける非水系レジスト剥離液の吸光度を測定する。この波長における吸光度は、アミン濃度（ＭＥＡ濃度）と図３のような直線関係があるので、この直線関係を用いて、吸光度の測定値から正確に非水系レジスト剥離液のアミン濃度（ＭＥＡ濃度）を得ることができる。
In the
本実施形態における制御手段８０１は、アミンに関する制御手段８２３を備える。本実施形態の調製装置８１０がアミン濃度だけを所定の濃度に調節する場合には、制御手段８０１はアミンに関する制御手段８２３と同じでよい。本実施形態の調製装置８１０がアミン以外の成分についても濃度を調節する場合には、制御手段８０１はアミンに関する制御手段８２３を備えるだけでなく、他の成分に関する制御手段も別途備えている。
The
アミンに関する制御手段８２３は、アミンに関する測定手段８２１と信号線８４７により接続されるなどしており、アミンに関する測定手段８２１が得た測定値をアミンに関する測定手段８２１から受信する。アミンに関する制御手段８２３は、調節すべき所定のアミン濃度が濃度制御における目標値のアミン濃度として設定されている。アミンに関する制御手段８２３は、受信したアミン濃度の測定値と目標値のアミン濃度とを比較する。アミンに関する制御手段８２３は、各原料供給配管７４２、７４３に設けられた制御弁７１８、７１９と、信号線７４６により接続されるなどしており、濃度の比較の結果に応じて、制御弁７１８、７１９を適切に動作制御する。
The
例えば、測定手段８０２のアミンに関する測定手段８２１により測定されたアミン濃度が目標値のアミン濃度より低い場合は、制御手段８０１のアミンに関する制御手段８２３は制御弁７１８の流量を増やして、あるいは、制御弁７１９の流量を減らして、アミン原液の相対的な供給量を増やす。アミン濃度が目標値のアミン濃度より高い場合は、逆に、アミンに関する制御手段８２３は制御弁７１８の流量を減らして、あるいは、制御弁７１９の流量を増やして、有機溶媒の供給量を相対的に増やし、アミン原液の相対的な供給量を減らして、アミン濃度を制御する。ただし、制御方法は、これに限定されない。ＰＩＤ制御など、各種の制御方法を適宜採用し得る。
For example, when the amine concentration measured by the measuring
なお、アミンに関する測定手段８２１が測定した物性値から、測定した物性値と相関関係上の目標値のアミン濃度に対応する物性値とを比較することよりアミン濃度を制御してもよい。
The amine concentration may be controlled by comparing the measured physical property value with the physical property value corresponding to the amine concentration of the target value in the correlation, from the physical property value measured by the
例えば、図３や図４に示すような直線関係が得られる場合のように、物性値とアミン濃度とが一対一に対応した相関関係を有する場合には、この相関関係に基づいて、アミン濃度に対応する物性値を得ることができる。したがって、調節すべき所定のアミン濃度に対応する“所定の物性値”が存在する。アミンに関する測定手段８２１が測定した物性値がこの“所定の物性値”になるように、アミンに関する制御手段８２３が原料の供給量を制御することで、調製槽７０３で調製される非水系レジスト剥離液を所定のアミン濃度にすることができる。
For example, when there is a one-to-one correlation between the physical property value and the amine concentration, as in the case where the linear relations shown in FIG. 3 and FIG. 4 are obtained, the amine concentration is based on this correlation. The physical property value corresponding to can be obtained. Therefore, there is a "predetermined physical property value" corresponding to the predetermined amine concentration to be adjusted. The non-aqueous resist stripping prepared in the
本実施形態の第８実施形態と共通するその他の構成については、第８実施形態と同じであるので、その説明を省略する。 Other configurations that are common to the eighth embodiment of the present embodiment are the same as those of the eighth embodiment, so description thereof will be omitted.
なお、図１２では、本実施形態の調製装置８１０が、原料貯留容器８２０と、非水系レジスト剥離液を使用する剥離設備８９０と、に接続された態様を示した。このように、調製装置８１０は、原料貯留容器８２０や、剥離設備８９０と接続して、剥離工程が行われる工場におけるオンサイト運転をすることができる。
In addition, in FIG. 12, the
原料貯留容器８２０は、非水系レジスト剥離液の原料を一時的に貯留しておくための容器である。アミン貯留容器８１１ａ、８１１ｂや、有機溶媒貯留容器８１２ａ、８１２ｂなどからなる。アミン貯留容器８１１ａ、８１１ｂや有機溶媒貯留容器８１２ａ、８１２ｂは、それぞれ一つでもよいが、図１２に示すようにそれぞれ二つ備えているとより好ましい。アミン貯留容器８１１ａ、８１１ｂは、アミン原料導入口７５２からアミン原料補充配管８４２を介して、アミンが常時貯留されている。また、有機溶媒貯留容器８１２ａ、８１２ｂは、有機溶媒原料導入口７５３から有機溶媒原料補充配管８４３を介して、有機溶媒が常時貯留されている。原料貯留容器８２０に常に必要な原料を用意しておくことで、調製装置８１０は、途切れることなく原料の供給を受けることができ、連続的に非水系レジスト剥離液を調製することが可能となる。
The raw
アミン貯留容器８１１ａ、８１１ｂおよび有機溶媒貯留容器８１２ａ、８１２ｂは、調製装置８１０とアミン供給配管８４４および有機溶媒供給配管８４５により接続され、原料貯留容器８２０から各種の原料が調製槽７０３へ供給される。供給の方式は、送液ポンプによる方式でも、容器の加圧圧送方式でもよい。必要があれば、図１２に示すように、原料貯留容器８２０と調製槽７０３を接続するアミン供給配管８４４および有機溶媒供給配管８４５に制御弁８１３ａ〜８１６ｂを設けて、調製装置８１０がこれらを制御するようにしてもよい。
The
一方、調製装置８１０は、剥離設備８９０とは、調製槽７０３に接続された非水系レジスト剥離液供給配管８０４を介して接続される。非水系レジスト剥離液供給配管８０４には、送液ポンプ８２５および制御弁８２６などが設けられている。
On the other hand, the
調製槽７０３で調製された非水系レジスト剥離液は、送液ポンプ８２５により、非水系レジスト剥離液供給配管８０４を通って、非水系レジスト剥離液供給口８５４から剥離設備８９０に供給される。剥離設備８９０は、信号線８９２を介して制御手段８０１と接続されている。制御手段８０１は、剥離設備８９０から発せられる非水系レジスト剥離液供給リクエスト信号を、信号線８９２を介して受信する。制御弁８２６は、信号線８４９を介して制御手段８０１と接続されている。制御手段８０１は、剥離設備８９０側の要求に応じて、制御弁８２６を開閉制御する。これにより、剥離設備８９０は、非水系レジスト剥離液が必要な時に、必要な量だけ、自動的に非水系レジスト剥離液の供給を受けることができる。
The non-aqueous resist stripping solution prepared in the
［第１０実施形態］
図１３は、第１０実施形態に係る非水系レジスト剥離液の調製装置を説明するための模式図である。第８、９実施形態の非水系レジスト剥離液の調製装置７１０、８１０とは、調製槽７０３で調製された非水系レジスト剥離液を貯留する貯留槽９０２を備える点が異なっている。
[Tenth Embodiment]
FIG. 13 is a schematic diagram for explaining the non-aqueous resist stripping solution preparing apparatus according to the tenth embodiment. It differs from the non-aqueous resist stripping
第１０実施形態の非水系レジスト剥離液の調製装置９１０においても、第８実施形態の非水系レジスト剥離液の調製装置７１０と同様に、調製槽７０３内の非水系レジスト剥離液の物性値または成分濃度の少なくともいずれか一方を測定することで、調製槽７０３内の非水系レジスト剥離液の成分濃度を所定の濃度に調節する。
Also in the non-aqueous resist stripping solution preparing apparatus 910 of the tenth embodiment, similar to the non-aqueous resist stripping
調製槽７０３で調製された非水系レジスト剥離液は、調製槽７０３から貯留槽９０２へ送液され、貯留槽９０２に貯留される。送液の方法は、送液ポンプなどにより移送する方式などでよく、特に限定はしない。図１３に示すように、連通管９３５により調製槽７０３と貯留槽９０２とを連結しておくと、送液ポンプなどを要さず自然送液されるため簡便で都合よく、好適である。
The non-aqueous resist stripping solution prepared in the
連通管９３５は、非水系レジスト剥離液が流通する管路である。図１３に示すように、調製槽７０３は貯留槽９０２よりも高い位置に設置される。連通管９３５は、例えば図１３のように、調製槽７０３の底部と貯留槽９０２の側部とを接続する。貯留槽９０２から剥離設備８９０に非水系レジスト剥離液が供給されることで、貯留槽９０２内に貯留されている非水系レジスト剥離液が減少すると、調製槽７０３で調製された非水系レジスト剥離液が連通管９３５を通って、貯留槽９０２に自然に移動する。連通管９３５は適度な長さと配管内径とを有し、調製槽７０３で生じる非水系レジスト剥離液の濃度の変動が貯留槽９０２内に及ばないようにする濃度変動の緩衝作用を有する。
The
貯留槽９０２も、調製槽７０３と同様、測定手段９３１および液面計９３２とを備えていることが好ましい。測定手段９３１としては、調製槽７０３に備えられているものと同じものを用いることができる。測定手段９３１は、さらに、アミンに関する測定手段を備えていてもよい。これらの装置により、貯留槽９０２に貯留された非水系レジスト剥離液の物性値、または、成分濃度を測定することができる。
Like the
また、測定手段９３１および液面計９３２も、信号線９４７、９４８を介して制御手段９０１と接続される。制御手段９０１は、測定手段９３１が測定する貯留槽９０２内の非水系レジスト剥離液の物性値または成分濃度や液面計９３２が測定する貯留槽９０２内の非水系レジスト剥離液の液面位置に応じて、調製槽７０３の場合と同様に、適宜制御弁７１８、７１９を制御する。貯留槽９０２は、濃度変動が極めて小さいので、実際には、貯留槽９０２内部の非水系レジスト剥離液の濃度の監視と液量管理が行われる。
Further, the measuring means 931 and the
貯留槽９０２内の非水系レジスト剥離液は、循環管路９３４に備えられた循環攪拌ポンプ９３３によって循環攪拌される。これにより、貯留槽９０２内の非水系レジスト剥離液は、均一な濃度に維持される。
The non-aqueous resist stripping solution in the
［第１１実施形態］
図１４は、第１１実施形態に係る非水系レジスト剥離液の調製装置を説明するための模式図である。第１１実施形態に係る非水系レジスト剥離液の調製装置１０１０は、調製槽を２つ備えている点が第８から第１０までの実施形態の非水系レジスト剥離液の調製装置７１０、８１０、９１０と異なっている。
[Eleventh Embodiment]
FIG. 14 is a schematic diagram for explaining the apparatus for preparing a non-aqueous resist stripping solution according to the eleventh embodiment. The non-aqueous resist stripping
調製槽１００３も調製槽７０３と同様に、測定手段１０３１および液面計１０３２を備え、信号線１０４７および信号線１０４８を介して制御手段１００１と接続される。調製槽１００３内の非水系レジスト剥離液の物性値または成分濃度、および、液面位置は制御手段１００１により監視され、信号線１０４６を介して接続された制御弁１０１８、１０１９を制御し、調製槽７０３内の非水系レジスト剥離液の成分濃度を調節する場合と同様の方法で成分濃度や液面位置の調節を行う。調製槽１００３で調製された非水系レジスト剥離液は、連通管１０３５を通って、貯留槽９０２に貯留される。また、調製槽１００３は循環管路１０３４を備え、調製槽１００３内の非水系レジスト剥離液は、循環管路１０３４に備えられた循環攪拌ポンプ１０３３によって循環攪拌される。
Like the
第１１実施形態に係る非水系レジスト剥離液の調製装置１０１０によれば、調製槽を２つ備えているので、例えば、調製槽７０３が故障などにより動かなくなっても、調製槽１００３から貯留槽９０２に非水系レジスト剥離液を調製して供給することで、装置を止めることなく非水系レジスト剥離液の調製と供給を続けることができる。また、調製槽７０３内が空になっていても、調製槽１００３から非水系レジスト剥離液を供給することができる。
According to the
なお、図１４においては、調製槽を２つ備える構成を記載したが、調製槽の数は特に限定されず、３つ以上の複数の槽を備えてもよい。ただし、装置が大型化すること、故障時の予備であることを考慮すると、貯留槽１つに対して調製槽を２つ備えれば十分である。 Note that, although the configuration including two preparation tanks is described in FIG. 14, the number of preparation tanks is not particularly limited, and three or more preparation tanks may be provided. However, considering that the device becomes large and that it is a backup in case of failure, it is sufficient to provide two preparation tanks for one storage tank.
［第１２実施形態］
図１５は、第１２実施形態に係る非水系レジスト剥離液の調製装置を説明するための模式図である。第１２実施形態に係る非水系レジスト剥離液の調製装置１１１０は、非水系レジスト剥離液の原料を予め混合する予備混合手段として混合準備槽１１０５を備えている点が第８から第１１までの実施形態の非水系レジスト剥離液の調製装置と異なっている。
[Twelfth Embodiment]
FIG. 15 is a schematic diagram for explaining the non-aqueous resist stripping solution preparing apparatus according to the twelfth embodiment. The non-aqueous resist stripping
混合準備槽１１０５は、アミン供給配管８４４、および、有機溶媒供給配管８４５に接続されている。また、混合準備槽１１０５は、配管１１０６により調製槽７０３に接続されている。
The mixing
混合準備槽１１０５を設け、調製槽７０３に供給される原料を混合準備槽１１０５で混合して調製槽７０３に供給することで、調製槽７０３に非水系レジスト剥離液の組成に近い濃度で供給することができる。したがって、調製槽７０３内の非水系レジスト剥離液の濃度が急に変化することを防止することができるとともに、非水系レジスト剥離液の調製を容易に行うことができる。また、非水系レジスト剥離液の原料が予め混合されるので、調製槽７０３内での混合や攪拌の負担が軽減され、より速やかに均一な濃度の非水系レジスト剥離液を調製することができる。
The mixing
混合準備槽１１０５での混合は、制御手段１１０１により、信号線１１４６を介して接続された制御弁１１１８、１１１９を制御することで、アミン原液、および、有機溶媒の流量を制御し、調製槽７０３で調製される非水系レジスト剥離液の濃度とすることが好ましい。非水系レジスト剥離液の最終的な濃度の調節は、調製槽７０３で行うため、混合準備槽１１０５では、精度良く調製しなくてもよい。混合準備槽１１０５で混合されたレジスト剥離液の濃度が、測定手段７０２で測定される物性値が成分濃度と相関関係を有する濃度範囲に入る程度に、各原料の混合がなされればよい。ただし、調製槽７０３と同様に、測定装置により、物性値または成分濃度を測定してもよい。
For the mixing in the
本実施形態の調製装置１１１０が備える予備混合手段は、簡易な混合槽としてふるまう混合準備槽１１０５のような態様に限定されない。例えば、原料を供給する原料供給配管７４２、７４３等が調製槽７０３の手前で合流して、合流配管内で原料が混合されるような方式でもよい。その場合、さらに、インラインミキサーやスタティックミキサーなどの配管型混合装置を採用することもできる。循環管路７３４に合流させてもよい。
The premixing means included in the
また、予備混合手段は、第１１実施形態のように、調製槽を２つ以上備える非水系レジスト剥離液の調製装置においては、調製槽ごとに予備混合手段を設ける構成としてもよい。 Further, as the premixing means, in the non-aqueous resist stripping solution preparing apparatus having two or more preparation tanks as in the eleventh embodiment, the premixing means may be provided for each preparation tank.
１、１０１、２０１、３０１、４０１、５０１、６０１、７０１、８０１、９０１、１００１、１１０１…制御手段、２、１０２、２０２、３０２、４３１、５３１、７０２、８０２、９３１、１０３１…測定手段、３、５０３、７０３、１００３…調製槽、４、３０４…水系レジスト剥離液供給配管（供給配管）、１０、１１０、２１０、３１０、４１０、５１０、６１０…水系レジスト剥離液の調製装置、１７、１８、１９、３１３ａ、３１３ｂ、３１４ａ、３１４ｂ、３１５ａ、３１５ｂ、３１６ａ、３１６ｂ、３２６、５１７、５１８、５１９、６１７、６１８、６１９、７１８、７１９、８１３ａ、８１３ｂ、８１４ａ、８１４ｂ、８１５ａ、８１５ｂ、８１６ａ、８１６ｂ、８２６、１０１８、１０１９、１１１８、１１１９…制御弁、３２、４３２、５３２、７３２、９３２、１０３２…液面計、３３、４３３、５３３、７３３、９３３、１０３３…循環攪拌ポンプ、３４、４３４、５３４、７３４、９３４、１０３４…循環管路、３６、７３６…撹拌手段、４１…純水供給配管（原料供給配管）、４２、７４２…アミン原料供給配管（原料供給配管）、４３、７４３…有機溶媒原料供給配管（原料供給配管）、４６、４７、４８、１４７、２４７、３４９、３９２、４４７、４４８、５４６、５４７、５４８、６４６、７４６、７４７、７４８、８４７、８４９、８９２、９４７、９４８、１０４６、１０４７、１０４８、１１４６…信号線、５１…純水導入口（原料導入口）、５２、７５２…アミン原料導入口（原料導入口）、５３、７５３…有機溶媒原料導入口（原料導入口）、５４、３５４…レジスト剥離液供給口、１２１、３２１、８２１…アミンに関する測定手段、１２３、３２３、８２３…アミンに関する制御手段、２２２、３２２…水分に関する測定手段、２２４、３２４…水分に関する制御手段、３１１ａ、３１１ｂ、８１１ａ、８１１ｂ…アミン貯留容器、３１２ａ、３１２ｂ、８１２ａ、８１２ｂ…有機溶媒貯留容器、３２０、８２０…原料貯留容器、３２５、８２５…送液ポンプ、３４２、８４２…アミン原料補充配管、３４３、８４３…有機溶媒原料補給配管、３４４、８４４…アミン供給配管、３４５、８４５…有機溶媒供給配管、４０２、９０２…貯留槽、４３５、５３５、９３５、１０３５…連通管、６０５、１１０５…混合準備槽、６０６、１１０６…配管、７０４、８０４…非水系レジスト剥離液供給配管（供給配管）、７１０、８１０、９１０、１０１０、１１１０…非水系レジスト剥離液の調製装置、７５４、８５４…非水系レジスト剥離液供給口
1, 101, 201, 301, 401, 501, 601, 701, 801, 901, 1001, 1101 ... Control means, 2, 102, 202, 302, 431, 531, 702, 802, 931, 1031 ... Measuring means, 3, 503, 703, 1003 ... Preparation tank, 4, 304 ... Water-based resist stripping liquid supply pipe (supply pipe) 10, 110, 210, 310, 410, 510, 610 ... Water-based resist stripping liquid preparation device, 17, 18, 19, 313a, 313b, 314a, 314b, 315a, 315b, 316a, 316b, 326, 517, 518, 519, 617, 618, 619, 718, 719, 813a, 813b, 814a, 814b, 815a, 815b, 816a, 816b, 826, 1018, 1019, 1118, 1119 ... Control valve, 32, 432, 532, 732, 932, 1032 ... Liquid level gauge, 33, 433, 533, 733, 933, 1033 ... Circulating stirring pump, 34, 434, 534, 734, 934, 1034 ... Circulating pipeline , 36, 736 ... Stirring means, 41 ... Pure water supply pipe (raw material supply pipe), 42, 742 ... Amine raw material supply pipe (raw material supply pipe), 43, 743 ... Organic solvent raw material supply pipe (raw material supply pipe), 46 , 47, 48, 147, 247, 349, 392, 447, 448, 546, 547, 548, 646, 746, 747, 748, 847, 849, 892, 947, 948, 1046, 1047, 1048, 1146 ... Lines, 51 ... Pure water inlet (raw material inlet), 52, 752 ... Amine raw material inlet (raw material inlet), 53, 753 ... Organic solvent raw material inlet (Raw material introduction port), 54, 354 ... Resist stripping solution supply port, 121, 321, 821 ... Amine measuring means, 123, 323, 823 ... Amine controlling means, 222, 322 ... Moisture measuring means, 224, 324 ... Control means for
Claims (20)
前記水系レジスト剥離液の原料を前記調製槽に供給する原料供給配管と、
前記調製槽内の水系レジスト剥離液について、水系レジスト剥離液のアミン濃度と相関関係を有する水系レジスト剥離液の物性値、および、水系レジスト剥離液のアミン濃度、の少なくとも一方を測定するアミンに関する測定手段と、
前記原料供給配管に設けられ、前記原料の供給量を制御する制御弁であって、前記原料の供給を開始する際に、調製される水系レジスト剥離液のアミン濃度が前記物性値と前記相関関係を有する濃度範囲内となるように、前記原料の流量が設定された制御弁と、
前記制御弁と接続され、前記アミンに関する測定手段により測定された測定値に基づいて、前記調製槽内の水系レジスト剥離液が前記所定のアミン濃度となるように、前記制御弁を制御するアミンに関する制御手段と、を備える水系レジスト剥離液の調製装置。 A preparation tank in which a new water-based resist stripping solution with a predetermined amine concentration is prepared from the raw material of the water-based resist stripping solution,
A raw material supply pipe for supplying the raw material of the aqueous resist stripper to the preparation tank,
For the water-based resist stripping solution in the preparation tank, physical properties of the water-based resist stripping solution having a correlation with the amine concentration of the water-based resist stripping solution, and amine concentration of the water-based resist stripping solution Means and
A control valve provided in the raw material supply pipe for controlling the supply amount of the raw material, wherein when starting the supply of the raw material, the amine concentration of the aqueous resist stripping solution prepared is correlated with the physical property value. A control valve in which the flow rate of the raw material is set so as to fall within the concentration range having
The amine connected to the control valve and controlling the control valve so that the water-based resist stripping solution in the preparation tank has the predetermined amine concentration, based on the measurement value measured by the measuring unit for the amine. A controller for preparing an aqueous resist stripping solution.
前記水系レジスト剥離液の原料を前記調製槽に供給する原料供給配管と、
前記調製槽内の水系レジスト剥離液について、水系レジスト剥離液のアミン濃度と相関関係を有する水系レジスト剥離液の物性値、および、水系レジスト剥離液のアミン濃度、の少なくとも一方を測定するアミンに関する測定手段と、
前記調製槽内の水系レジスト剥離液について、水系レジスト剥離液の水分濃度と相関関係を有する水系レジスト剥離液の物性値、および、水系レジスト剥離液の水分濃度、の少なくとも一方を測定する水分に関する測定手段と、
前記原料供給配管に設けられ、前記原料の供給量を制御する制御弁であって、前記原料の供給を開始する際に、調製される水系レジスト剥離液のアミン濃度および水分濃度が前記物性値と前記相関関係を有する濃度範囲内となるように、前記原料の流量が設定された制御弁と、
前記制御弁と接続され、前記アミンに関する測定手段により測定された測定値、および、前記水分に関する測定手段により測定された測定値、に基づいて、前記調製槽内の水系レジスト剥離液が、前記所定のアミン濃度および前記所定の水分濃度となるように、前記制御弁を制御する制御手段と、を備える水系レジスト剥離液の調製装置。 A preparation tank in which a new water-based resist stripping solution having a predetermined amine concentration and a predetermined water concentration is prepared from the raw material of the water-based resist stripping solution,
A raw material supply pipe for supplying the raw material of the aqueous resist stripper to the preparation tank,
For the water-based resist stripping solution in the preparation tank, physical properties of the water-based resist stripping solution having a correlation with the amine concentration of the water-based resist stripping solution, and amine concentration of the water-based resist stripping solution Means and
Regarding the water-based resist stripping solution in the preparation tank, a physical property value of the water-based resist stripping solution having a correlation with the water concentration of the water-based resist stripping solution, and a water concentration of the water-based resist stripping solution; Means and
A control valve provided in the raw material supply pipe for controlling the supply amount of the raw material, wherein when starting the supply of the raw material, the amine concentration and the water concentration of the water-based resist stripping solution prepared are the same as the physical property values. A control valve in which the flow rate of the raw material is set so as to fall within the concentration range having the correlation,
The water-based resist stripping solution in the preparation tank is connected to the control valve, and based on the measurement value measured by the measurement unit for the amine and the measurement value measured by the measurement unit for the water content, And a control means for controlling the control valve so that the amine concentration and the predetermined water concentration are controlled.
前記アミンがモノエタノールアミンである場合、前記吸光光度計の測定波長が、１０００から１６００ｎｍの波長領域から選択される特定の波長であり、
前記アミンがヒドロキシルアミンである場合、前記吸光光度計の測定波長が、１０５０から１０９０ｎｍの波長領域から選択される特定の波長である請求項３に記載の水系レジスト剥離液の調製装置。 The measuring means for the amine comprises an absorptiometer,
When the amine is monoethanolamine, the measurement wavelength of the absorptiometer is a specific wavelength selected from the wavelength range of 1000 to 1600 nm,
When the said amine is hydroxylamine, the measurement wavelength of the said absorptiometer is a specific wavelength selected from the wavelength range of 1050-1090 nm, The preparation apparatus of the water-based resist stripping liquid of Claim 3 .
、粘度計のいずれか一つを備える請求項２に記載の水系レジスト剥離液の調製装置。 The apparatus for preparing a water-based resist stripping solution according to claim 2, wherein the measuring unit for water content includes any one of an absorptiometer, a conductivity meter, a density meter, an ultrasonic densitometer, and a viscometer.
前記吸光光度計の測定波長が、９５０から２０００ｎｍの波長領域から選択される特定の波長である請求項５に記載の水系レジスト剥離液の調製装置。 The measuring means for water content comprises an absorptiometer,
The apparatus for preparing an aqueous resist stripping solution according to claim 5 , wherein the measurement wavelength of the absorptiometer is a specific wavelength selected from a wavelength range of 950 to 2000 nm.
前記非水系レジスト剥離液の原料を前記調製槽に供給する原料供給配管と、
前記調製槽内の非水系レジスト剥離液について、非水系レジスト剥離液の成分濃度と相関関係を有する非水系レジスト剥離液の物性値、および、非水系レジスト剥離液の成分濃度、の少なくとも一方を測定する測定手段と、
前記原料供給配管に設けられ、前記原料の供給量を制御する制御弁であって、前記原料の供給を開始する際に、調製される非水系レジスト剥離液の成分濃度が前記物性値と前記相関関係を有する濃度範囲内となるように、前記原料の流量が設定された制御弁と、
前記制御弁と接続され、前記測定手段により測定された測定値に基づいて、前記調製槽内の非水系レジスト剥離液が前記所定の成分濃度となるように、前記制御弁を制御する制御手段と、を備える非水系レジスト剥離液の調製装置。 A preparation tank in which a new non-aqueous resist stripping solution having a predetermined component concentration is prepared from the raw material of the non-aqueous resist stripping solution,
A raw material supply pipe for supplying the raw material of the non-aqueous resist stripping solution to the preparation tank,
For the non-aqueous resist stripping liquid in the preparation tank, the physical property value of the non-aqueous resist stripping liquid having a correlation with the component concentration of the non-aqueous resist stripping liquid, and the component concentration of the non-aqueous resist stripping liquid, at least one is measured Measuring means to
A control valve provided in the raw material supply pipe for controlling the supply amount of the raw material, wherein the component concentration of the non-aqueous resist stripping solution prepared when starting the supply of the raw material is correlated with the physical property value. A control valve in which the flow rate of the raw material is set so as to be within a concentration range having a relationship,
Connected with the control valve, based on the measurement value measured by the measuring means, so that the non-aqueous resist stripping solution in the preparation tank has the predetermined component concentration, a control means for controlling the control valve, An apparatus for preparing a non-aqueous resist stripping solution, comprising:
前記非水系レジスト剥離液の原料を前記調製槽に供給する原料供給配管と、
前記調製槽内の非水系レジスト剥離液について、非水系レジスト剥離液のアミン濃度と相関関係を有する非水系レジスト剥離液の物性値、および、非水系レジスト剥離液のアミン濃度、の少なくとも一方を測定するアミンに関する測定手段と、
前記原料供給配管に設けられ、前記原料の供給量を制御する制御弁であって、前記原料の供給を開始する際に、調製される非水系レジスト剥離液のアミン濃度が前記物性値と前記相関関係を有する濃度範囲内となるように、前記原料の流量が設定された制御弁と、
前記制御弁と接続され、前記アミンに関する測定手段により測定された測定値に基づいて、前記調製槽内の非水系レジスト剥離液が前記所定のアミン濃度となるように、前記制御弁を制御するアミンに関する制御手段と、を備える非水系レジスト剥離液の調製装置。 A preparation tank in which a new non-aqueous resist stripping solution having a predetermined amine concentration is prepared from the raw material of the non-aqueous resist stripping solution,
A raw material supply pipe for supplying the raw material of the non-aqueous resist stripping solution to the preparation tank,
For the non-aqueous resist stripping solution in the preparation tank, at least one of the physical property value of the non-aqueous resist stripping solution having a correlation with the amine concentration of the non-aqueous resist stripping solution, and the amine concentration of the non-aqueous resist stripping solution is measured. Measuring means for amines,
A control valve provided in the raw material supply pipe for controlling the supply amount of the raw material, wherein the amine concentration of the non-aqueous resist stripping solution prepared when starting the supply of the raw material is correlated with the physical property value. A control valve in which the flow rate of the raw material is set so as to be within a concentration range having a relationship,
An amine that is connected to the control valve and controls the control valve so that the non-aqueous resist stripping solution in the preparation tank has the predetermined amine concentration based on the measurement value measured by the measuring unit for the amine. And a control unit for the non-aqueous resist stripping solution.
。 The apparatus for preparing a non-aqueous resist stripping solution according to claim 13 , wherein the measuring means for the amine comprises any one of an absorptiometer, a conductivity meter, a density meter, an ultrasonic densitometer, and a viscometer.
前記アミンがモノエタノールアミンである場合、前記吸光光度計の測定波長が、１０００から１６００ｎｍの波長領域から選択される特定の波長であり、
前記アミンがヒドロキシルアミンである場合、前記吸光光度計の測定波長が、１０５０から１０９０ｎｍの波長領域から選択される特定の波長である請求項１４に記載の非水系レジスト剥離液の調製装置。 The measuring means for the amine comprises an absorptiometer,
When the amine is monoethanolamine, the measurement wavelength of the absorptiometer is a specific wavelength selected from the wavelength range of 1000 to 1600 nm,
The apparatus for preparing a non-aqueous resist stripping solution according to claim 14 , wherein when the amine is hydroxylamine, a measurement wavelength of the absorptiometer is a specific wavelength selected from a wavelength range of 1050 to 1090 nm.
The apparatus for preparing a non-aqueous resist stripping solution according to claim 17 , further comprising pre-mixing means for preliminarily mixing the raw materials supplied to the preparation tank for each preparation tank.
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