KR20160078257A - Polarizing film with coating layer, polarizing film with adhesive layer, and image display device - Google Patents

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Abstract

The present invention provides a coating layer-formed polarizing film which can restrain degradation of a transparent conductive layer, and an increase in a surface resistance value of the transparent layer even when an adhesive layer is interposed and stacked on the transparent conductive layer, and also has excellent adhesion on the polarizing film even when the adhesive layer is formed. The coating layer-formed polarizing film has a transparent protective film, an iodine-based polarizer containing iodine and/or an iodine ion, and a coating layer in the described order. The iodine-based polarizer and/or the coating layer contains a phosphorus-based compound.

Description

코팅층이 형성된 편광 필름, 점착제층이 형성된 편광 필름, 및 화상 표시 장치{POLARIZING FILM WITH COATING LAYER, POLARIZING FILM WITH ADHESIVE LAYER, AND IMAGE DISPLAY DEVICE}TECHNICAL FIELD [0001] The present invention relates to a polarizing film on which a coating layer is formed, a polarizing film on which a pressure-sensitive adhesive layer is formed,

본 발명은, 투명 보호 필름, 요오드계 편광자, 그리고 코팅층을 이 순서로 갖는 코팅층이 형성된 편광 필름, 및 당해 코팅층이 형성된 편광 필름과 점착제층을 갖는 점착제층이 형성된 편광 필름에 관한 것이다. 또, 본 발명은, 상기 점착제층이 형성된 편광 필름을 갖는, 액정 표시 장치 (LCD), 유기 EL 표시 장치 등의 화상 표시 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a polarizing film on which a transparent protective film, an iodine polarizer, a polarizing film on which a coating layer having a coating layer in this order are formed, and a pressure-sensitive adhesive layer having a polarizing film and a pressure-sensitive adhesive layer are formed. The present invention also relates to an image display apparatus such as a liquid crystal display (LCD), an organic EL display, or the like having a polarizing film on which the pressure-sensitive adhesive layer is formed.

최근, 산화인듐주석 (ITO) 박막 등의 투명 도전막이 각종 용도에 있어서 널리 사용되고 있다. 예를 들어, 상기 투명 도전막은, 인플레인 스위칭 (IPS) 방식 등의 액정 셀을 사용한 액정 표시 장치의, 액정 셀을 구성하는 투명 기판의 액정층과 접하는 측과는 반대측에 형성되어, 대전 방지층으로 하는 것이 알려져 있다. 또, 상기 투명 도전막이 투명 수지 필름 상에 형성된 투명 도전성 필름은, 터치 패널의 전극 기판에 이용되고, 예를 들어 휴대전화나 휴대용 음악 플레이어 등에 사용하는 액정 표시 장치나 화상 표시 장치와 당해 터치 패널을 조합하여 사용하는 입력 장치가 널리 보급되고 있다.Recently, a transparent conductive film such as an indium tin oxide (ITO) thin film has been widely used in various applications. For example, the transparent conductive film is formed on the side opposite to the side of the transparent substrate constituting the liquid crystal cell, which is in contact with the liquid crystal layer, of the liquid crystal display device using liquid crystal cells such as an in-plane switching (IPS) . The transparent conductive film having the transparent conductive film formed on the transparent resin film is used for an electrode substrate of a touch panel. For example, a liquid crystal display device or an image display device used for a cellular phone, a portable music player, An input device which is used in combination is widely spread.

터치 패널과 화상 표시 장치를 조합하여 사용하는 입력 장치로는, 종래 유리판 또는 투명 수지 필름으로 이루어지는 투명 기재에 투명 도전층이 형성된 투명 도전성 필름을 액정 표시 장치 상 (액정 표시 장치의 시인측 편광 필름보다 상측) 에 형성하는 아웃셀형이 널리 보급되어 있었지만, 최근 투명 도전막으로 이루어지는 전극을 액정 셀의 상 (上) 유리 기판 상에 형성하는 온셀형이나, 투명 도전막으로 이루어지는 전극을 액정 셀 내부에 도입한 형태의 인셀형 등 여러 가지 구성이 알려져 있다. 또, 화상 표시 장치의 대전 방지층으로서의 ITO 층을 터치 센서로 하고, 이것을 패터닝함으로써 터치 패널 기능을 실현하는 것도 알려져 있다.As an input device using a combination of a touch panel and an image display device, a transparent conductive film having a transparent conductive layer formed on a transparent substrate made of a glass plate or a transparent resin film is laminated on a liquid crystal display device Cell type in which an electrode made of a transparent conductive film is formed on an upper glass substrate of a liquid crystal cell or an electrode made of a transparent conductive film is introduced into a liquid crystal cell And one type of phosphor cell type are known. It is also known that the touch panel function is realized by patterning the ITO layer serving as the antistatic layer of the image display device as a touch sensor.

이와 같은 ITO 층에는, 점착제층을 개재하여 편광 필름 등의 광학 부재를 첩합 (貼合) 하는 경우가 있지만, 점착제가 카르복실기를 갖는 경우에, ITO 층을 부식시켜 도전성이 저하하는 것이 알려져 있어, 당해 도전성의 저하를 억제하는 점착제로서, 인계 산화 방지제를 함유하는 점착제가 알려져 있다 (예를 들어, 특허문헌 1 참조).Such an ITO layer is sometimes bonded with an optical member such as a polarizing film through a pressure-sensitive adhesive layer. It is known that when the pressure-sensitive adhesive has a carboxyl group, the ITO layer is corroded to lower conductivity, As a pressure-sensitive adhesive which suppresses deterioration of conductivity, a pressure-sensitive adhesive containing a phosphorus-based antioxidant is known (see, for example, Patent Document 1).

일본 특허 제5540383호 명세서Japanese Patent No. 5540383 Specification

상기 투명 도전막을 사용한 액정 표시 장치나 화상 표시 장치 등에 있어서는, 최근 경량화, 박형화의 요구가 강하고, 당해 액정 표시 장치 등에 있어서 사용되는 편광 필름에 대해서도, 박형화, 경량화하는 것이 요망되고 있다. 편광 필름의 박형화, 경량화 방법으로는, 예를 들어 편광자의 편면에만 투명 보호 필름을 형성한 편면 보호 편광 필름으로 하는 것이나, 편광자 자체의 막두께를 얇게 한 박형 편광 필름의 제조 방법 등이 알려져 있다.In liquid crystal display devices and image display devices using the above-mentioned transparent conductive film, there is a strong demand for weight reduction and thinness, and it is desired to make the polarizing film used in such liquid crystal display devices thinner and lighter. As a method of making the polarizing film thinner and lighter, for example, it is known that a single-side protective polarizing film in which a transparent protective film is formed on only one side of a polarizer, a method of manufacturing a thin polarizing film in which the thickness of the polarizing element itself is made thinner, and the like are known.

예를 들어, 투명 도전막을 대전 방지층 용도로서 사용하는 경우에는, 통상 당해 대전 방지층을 갖는 액정 셀 상에 점착제층이 형성된 편광 필름이 적층되고, 투명 도전막으로 이루어지는 대전 방지층과 편광 필름이 점착제층을 개재하여 첩합된다. 또, 투명 도전막을 터치 패널의 전극 용도로서 사용하는 경우, 터치 패널의 구성에 따라서는, 상기 전극용 투명 도전막 상에 점착제층이 형성된 편광 필름이 적층되고, 투명 도전막으로 이루어지는 대전 방지층과 편광 필름이 점착제층을 개재하여 첩합되는 경우가 있다.For example, when a transparent conductive film is used as an antistatic layer application, a polarizing film having a pressure-sensitive adhesive layer formed thereon is usually laminated on a liquid crystal cell having the antistatic layer, and an antistatic layer composed of a transparent conductive film and a polarizing film are laminated on the pressure- Respectively. When a transparent conductive film is used for an electrode of a touch panel, a polarizing film having a pressure-sensitive adhesive layer formed thereon is laminated on the transparent conductive film for the electrode, and an antistatic layer made of a transparent conductive film and a polarizing film There is a case where the film is bonded via the pressure-sensitive adhesive layer.

편광 필름이 요오드계 편광 필름인 경우에, 전술한 바와 같이, 투명 도전층과 당해 요오드계 편광 필름을 첩합하여, 가습 내구 시험 (통상 내구 시험) 을 실시하면, 투명 도전층의 저항값이 상승하는 경우가 있었다. 이와 같은 저항값의 상승은, 편광자에 포함되는 요오드가 점착제층으로 스며나오고, 그 요오드가 투명 도전층에 도달함으로써, 투명 도전층이 부식되는 것에 의한 것이 밝혀졌다.When the polarizing film is an iodine polarizing film, as described above, when the moisture-proof durability test (normal durability test) is performed by bonding the transparent conductive layer and the iodine polarizing film to each other, the resistance value of the transparent conductive layer rises There was a case. It has been found that the rise of the resistance value is due to the fact that the iodine contained in the polarizer exudes to the pressure-sensitive adhesive layer and the iodine reaches the transparent conductive layer, thereby corroding the transparent conductive layer.

특히, 두께 10 ㎛ 이하의 박형 요오드계 편광자에서는, 종래의 편광자와 동일한 편광 특성을 갖기 위해서는 편광자 중의 요오드 농도를 높게 할 필요가 있고, 이와 같은 요오드 농도가 높은 편광자를 포함하는 편광 필름을 투명 도전층과 첩합한 경우에는, 투명 도전층의 요오드에 의한 부식이 생기기 쉬운 것이 밝혀졌다. 또, 편면 보호의 요오드계 편광 필름을 사용한 경우에도, 요오드계 편광자에 직접 점착제층을 개재하여 투명 도전층이 첩합되기 때문에, 투명 도전층의 부식이 생기기 쉬운 것이 밝혀졌다.In particular, in a thin iodine polarizer having a thickness of 10 m or less, it is necessary to increase the iodine concentration in the polarizer in order to have the same polarization characteristic as that of the conventional polarizer, and a polarizing film including the polarizer having such a high iodine concentration, It has been found that the transparent conductive layer is liable to cause corrosion by iodine. It has also been found that even when an iodine polarizing film having a one-side protection is used, corrosion of the transparent conductive layer tends to occur because the transparent conductive layer is directly bonded to the iodine polarizer via the pressure-sensitive adhesive layer.

또, 특허문헌 1 에 기재된 인계 산화 방지제를 함유하는 점착제로부터 형성되는 점착제층에서는, 편광 필름에 대한 밀착성을 충분히 확보할 수 있는 것은 아니었다.In the pressure-sensitive adhesive layer formed from the pressure-sensitive adhesive containing the phosphorus-based antioxidant described in Patent Document 1, the adhesion to the polarizing film was not sufficiently ensured.

따라서, 본 발명은, 투명 도전층 상에 점착제층을 개재하여 적층된 경우에도, 투명 도전층의 열화가 억제되고, 투명 도전층의 표면 저항값이 상승하는 것을 억제할 수 있고, 또한 점착제층을 형성한 경우에도 편광 필름에 대한 밀착성이 우수한 코팅층이 형성된 편광 필름을 제공하는 것을 목적으로 한다. 또, 상기 코팅층이 형성된 편광 필름에 점착제층을 형성한 점착제층이 형성된 편광 필름을 제공하는 것도 목적으로 한다. 또한, 상기 점착제층이 형성된 편광 필름의 점착제층과, 투명 도전층을 갖는 액정 패널을 포함하는 화상 표시 장치를 제공하는 것도 목적으로 한다.Therefore, the present invention can suppress deterioration of the transparent conductive layer and prevent the surface resistance value of the transparent conductive layer from rising even when the transparent conductive layer is laminated on the transparent conductive layer with the pressure-sensitive adhesive layer interposed therebetween, And a coating layer having an excellent adhesion to the polarizing film is formed. Another object of the present invention is to provide a polarizing film on which a pressure-sensitive adhesive layer having a pressure-sensitive adhesive layer is formed on a polarizing film on which the coating layer is formed. It is also an object of the present invention to provide an image display apparatus including a liquid crystal panel having a pressure-sensitive adhesive layer of a polarizing film on which the pressure-sensitive adhesive layer is formed and a transparent conductive layer.

본원 발명자들은, 예의 검토한 결과, 하기 코팅층이 형성된 편광 필름, 점착제층이 형성된 편광 필름 등에 의해 상기 과제를 해결할 수 있는 것을 찾아내어, 본 발명에 이르렀다.As a result of intensive studies, the present inventors have found that a polarizing film on which a coating layer is formed, a polarizing film on which a pressure-sensitive adhesive layer is formed, and the like can solve the above problems, and have reached the present invention.

즉, 본 발명은, 투명 보호 필름, 요오드 및/또는 요오드 이온을 함유하는 요오드계 편광자, 그리고 코팅층을 이 순서로 갖는 코팅층이 형성된 편광 필름에 있어서, That is, the present invention provides a polarizing film in which a transparent protective film, an iodine-based polarizer containing iodine and / or iodine ions, and a coating layer in this order are formed,

상기 요오드계 편광자 및/또는 상기 코팅층이, 인계 화합물을 함유하는 것을 특징으로 하는 코팅층이 형성된 편광 필름에 관한 것이다.Wherein the iodine-based polarizer and / or the coating layer contains a phosphorus compound.

상기 인계 화합물은, 하기 일반식 (1) :The phosphorus compound is represented by the following general formula (1):

[화학식 1][Chemical Formula 1]

Figure pat00001
Figure pat00001

(식 중, R1 및 R2 는, 각각 독립적으로, 수소 원자, 또는 산소 원자를 포함하고 있어도 되는, 탄소수 1 ∼ 18 의 탄화수소 잔기를 나타낸다) 로 나타내는 화합물 및 상기 일반식 (1) 로 나타내는 화합물의 다량체로 이루어지는 군에서 선택되는 1 종 이상의 인산계 화합물, 및/또는 하기 일반식 (2) :(Wherein R 1 and R 2 each independently represent a hydrogen atom or a hydrocarbon residue having 1 to 18 carbon atoms which may contain an oxygen atom) and a compound represented by the above-mentioned general formula (1) And / or at least one phosphoric acid compound selected from the group consisting of the following general formula (2):

[화학식 2](2)

Figure pat00002
Figure pat00002

(식 중, R 은, 수소 원자, 또는 산소 원자를 포함하고 있어도 되는, 탄소수 1 ∼ 18 의 탄화수소 잔기이다) 로 나타내는 화합물 및 그 염으로 이루어지는 군에서 선택되는 1 종 이상의 포스폰산계 화합물을 함유하는 것이 바람직하다.(Wherein R is a hydrogen atom or a hydrocarbon residue having 1 to 18 carbon atoms which may contain an oxygen atom), and a salt thereof, and at least one phosphonic acid compound selected from the group consisting of .

상기 요오드계 편광자의 두께가 10 ㎛ 이하인 것이 바람직하다.The thickness of the iodine-based polarizer is preferably 10 m or less.

상기 요오드계 편광자 중의 상기 요오드 및/또는 요오드 이온의 함유량이, 3 ∼ 12 중량％ 여도 된다.The content of the iodine and / or iodide ion in the iodine-based polarizer may be 3 to 12% by weight.

상기 요오드계 편광자와 상기 코팅층 사이에 투명 보호 필름을 갖지 않아도 된다.A transparent protective film may not be provided between the iodine-based polarizer and the coating layer.

상기 코팅층이, 폴리우레탄계 수지, 폴리비닐알코올계 수지, 및 아크릴계 수지로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 개의 수지를 포함하는 수지 조성물로 형성되는 것이 바람직하다.It is preferable that the coating layer is formed of a resin composition containing at least one resin selected from the group consisting of a polyurethane resin, a polyvinyl alcohol resin, and an acrylic resin.

또, 본 발명은, 상기 코팅층이 형성된 편광 필름의 코팅층측에 점착제층을 갖는 것을 특징으로 하는 점착제층이 형성된 편광 필름에 관한 것이다.The present invention also relates to a polarizing film on which a pressure-sensitive adhesive layer is formed, wherein the pressure-sensitive adhesive layer has a pressure-sensitive adhesive layer on the coating layer side of the polarizing film on which the coating layer is formed.

상기 점착제층이 이온성 화합물을 함유하는 것이 바람직하다.The pressure-sensitive adhesive layer preferably contains an ionic compound.

또, 본 발명의 점착제층이 형성된 편광 필름은, 점착제층이 형성된 편광 필름의 점착제층을, 투명 도전층을 갖는 투명 도전성 부재의 투명 도전층에 접촉하도록 첩합하여 사용할 수 있다.The polarizing film on which the pressure-sensitive adhesive layer of the present invention is formed can be used by bonding the pressure-sensitive adhesive layer of the polarizing film on which the pressure-sensitive adhesive layer is formed so as to be in contact with the transparent conductive layer of the transparent conductive member having the transparent conductive layer.

상기 투명 도전층이, 산화인듐주석으로 형성되는 것이 바람직하다. 또, 상기 산화인듐주석이, 비결정성의 산화인듐주석인 것이 바람직하다.It is preferable that the transparent conductive layer is formed of indium tin oxide. It is preferable that the indium tin oxide is amorphous indium tin oxide.

또한, 본 발명은, 상기 점착제층이 형성된 편광 필름의 점착제층과, 투명 도전층을 갖는 액정 패널을, 상기 점착제층이 형성된 편광 필름의 점착제층과 상기 액정 패널의 투명 도전층이 접촉하도록 첩합한 것을 특징으로 하는 화상 표시 장치에 관한 것이다. The present invention also provides a liquid crystal display device comprising a liquid crystal panel having a pressure sensitive adhesive layer of a polarizing film on which the pressure sensitive adhesive layer is formed and a transparent conductive layer so that the pressure sensitive adhesive layer of the polarizing film on which the pressure sensitive adhesive layer is formed is brought into contact with the transparent conductive layer of the liquid crystal panel The present invention relates to an image display apparatus.

본 발명의 코팅층이 형성된 편광 필름은, 투명 도전층 상에 점착제층을 개재하여 적층된 경우에도, 투명 도전층의 열화가 억제되어, 투명 도전층의 표면 저항값이 상승하는 것을 억제할 수 있다. 이것은, 요오드계 편광자 및/또는 코팅층에 포함되는 인계 화합물의 작용에 의해, 요오드계 편광자에 포함되는 요오드가, 투명 도전층 표면으로 이행하는 것을 억제할 수 있었던 결과, 투명 도전층의 부식이 저해되었기 때문이라고 생각된다.The polarizing film in which the coating layer of the present invention is formed can suppress deterioration of the transparent conductive layer and increase the surface resistance value of the transparent conductive layer even when the polarizing film is laminated on the transparent conductive layer with the adhesive layer interposed therebetween. This is because iodine contained in the iodine-based polarizer can be prevented from migrating to the surface of the transparent conductive layer due to the action of the phosphorus compound contained in the iodine-based polarizer and / or the coating layer. As a result, .

또, 본 발명의 점착제층이 형성된 편광 필름은, 상기와 같이 점착제층을 투명 도전층 상에 첩한한 경우라도, 투명 도전층의 열화 억제가 가능하다. 또, 본 발명의 점착제층이 형성된 편광 필름은, 코팅층을 개재하여, 편광 필름과 점착제층이 적층되어 있고, 또한 요오드계 편광자 및/또는 코팅층에 인계 화합물이 배합되어 있기 때문에, 점착제층은, 편광 필름 또는 코팅층과의 밀착성이 우수하다. 그 결과, 리워크 시의 점착제 잔류나 내구성에 의한 박리, 가공 시의 점착제 탈락 등을 방지할 수 있다. 또한, 본 발명은, 상기 점착제층이 형성된 편광 필름의 점착제층과, 투명 도전층을 갖는 액정 패널을 포함하는 화상 표시 장치를 제공할 수 있다.The polarizing film having the pressure-sensitive adhesive layer of the present invention can suppress the deterioration of the transparent conductive layer even when the pressure-sensitive adhesive layer is applied on the transparent conductive layer as described above. In the polarizing film on which the pressure-sensitive adhesive layer of the present invention is formed, since the polarizing film and the pressure-sensitive adhesive layer are laminated via the coating layer and the phosphorus compound is blended in the iodine polarizer and / or coating layer, And is excellent in adhesion to a film or a coating layer. As a result, it is possible to prevent peeling due to adhesive residue or durability at the time of rework, peeling off of the pressure-sensitive adhesive during processing, and the like. Further, the present invention can provide an image display apparatus including a liquid crystal panel having a pressure-sensitive adhesive layer of a polarizing film on which the pressure-sensitive adhesive layer is formed and a transparent conductive layer.

도 1 은 본 발명의 코팅층이 형성된 편광 필름의 개략 단면도의 일례이다.
도 2 는 본 발명의 점착제층이 형성된 편광 필름의 개략 단면도의 일례이다.1 is an example of a schematic sectional view of a polarizing film on which a coating layer of the present invention is formed.
2 is an example of a schematic sectional view of a polarizing film on which a pressure-sensitive adhesive layer of the present invention is formed.

1. 코팅층이 형성된 편광 필름1. Polarizing film formed with a coating layer

본 발명의 코팅층이 형성된 편광 필름은, 투명 보호 필름, 요오드 및/또는 요오드 이온을 함유하는 요오드계 편광자, 그리고 코팅층을 이 순서로 갖고, The polarizing film on which the coating layer of the present invention is formed has a transparent protective film, an iodine-based polarizer containing iodine and / or iodine ions, and a coating layer in this order,

상기 요오드계 편광자 및/또는 상기 코팅층이, 인계 화합물을 함유하는 것을 특징으로 한다.And the iodine-based polarizer and / or the coating layer contain a phosphorus compound.

본 발명의 일실시형태인 도 1 을 이용하여, 본 발명의 코팅층이 형성된 편광 필름의 구성에 대해 이하에 설명한다. 단, 본 발명의 코팅층이 형성된 편광 필름은 도 1 의 형태에 한정되는 것은 아니다.1, which is one embodiment of the present invention, the structure of a polarizing film on which a coating layer of the present invention is formed will be described below. However, the polarizing film on which the coating layer of the present invention is formed is not limited to the one shown in Fig.

본 발명의 코팅층이 형성된 편광 필름 (1) 은, 투명 보호 필름 (3), 요오드계 편광자 (2), 및 코팅층 (4) 을 이 순서로 갖는다. 도면에 나타내지 않지만, 요오드계 편광자 (2) 와 투명 보호 필름 (3) 은, 통상 접착제층 등을 개재하여 적층되어 있다. 또, 코팅층 (4) 은, 요오드계 편광자 (2) 의 투명 보호 필름 (3) 을 갖지 않는 면에 직접 형성할 수 있다. 또, 후술하는 바와 같이, 코팅층 (4) 은 1 층이어도 되고 2 층 이상이어도 되고, 또 요오드계 편광자 (2) 와 코팅층 (4) 사이에 투명 보호 필름을 갖고 있어도 되지만, 본 발명에 있어서는 요오드계 편광자 (2) 와 코팅층 (4) 이 직접 적층되어 있는 경우에 본 발명의 효과가 현저하다. 이하, 각각의 재료에 대해 설명한다.The polarizing film 1 on which the coating layer of the present invention is formed has a transparent protective film 3, an iodine polarizer 2, and a coating layer 4 in this order. Although not shown in the drawing, the iodine polarizer 2 and the transparent protective film 3 are usually laminated via an adhesive layer or the like. The coating layer 4 can be formed directly on the surface not having the transparent protective film 3 of the iodine polarizer 2. As described later, the coating layer 4 may be a single layer or two or more layers, and a transparent protective film may be provided between the iodine polarizer 2 and the coating layer 4. In the present invention, The effect of the present invention is remarkable when the polarizer 2 and the coating layer 4 are directly laminated. Hereinafter, each of the materials will be described.

(1) 요오드계 편광자(1) Iodine Polarizer

요오드계 편광자 (2) 로는, 요오드 및/또는 요오드 이온을 함유하는 편광자이면, 어떠한 것이라도 사용할 수 있지만, 예를 들어 폴리비닐알코올 (PVA) 계 필름, 부분 포르말화 PVA 계 필름, 에틸렌·아세트산비닐 공중합체계 부분 비누화 필름 등의 친수성 고분자 필름에, 요오드를 흡착시켜 1 축 연신한 것 등을 들 수 있다. 이들 중에서도, PVA 계 필름과 요오드로 이루어지는 편광자가 바람직하다. 이들 편광자의 두께는 특별히 제한되지 않지만, 일반적으로 80 ㎛ 이하 정도이다.As the iodine-based polarizer (2), any polarizer containing iodine and / or iodine ions can be used, and examples thereof include polyvinyl alcohol (PVA) -based films, partially-polarized PVA-based films, ethylene- And a hydrophilic polymer film such as a partially saponified copolymer film system, which is uniaxially stretched by adsorbing iodine. Among them, a polarizer comprising a PVA-based film and iodine is preferable. The thickness of these polarizers is not particularly limited, but is generally about 80 탆 or less.

PVA 계 필름을 요오드로 염색하고 1 축 연신한 편광자는, 예를 들어 PVA 를 요오드의 수용액에 침지함으로써 염색하고, 원래 길이의 3 ∼ 7 배로 연신함으로써 제작할 수 있다. 필요에 따라 붕산이나 황산아연, 염화아연 등을 포함하고 있어도 되는 요오드화칼륨 등의 수용액에 침지할 수도 있다. 또한 필요에 따라 염색 전에 PVA 계 필름을 물에 침지시켜 수세해도 된다. PVA 계 필름을 수세함으로써 PVA 계 필름 표면의 오염이나 블로킹 방지제를 세정할 수 있는 외에, PVA 계 필름을 팽윤시킴으로써 염색의 불균일 등의 불균일을 방지하는 효과도 있다. 연신은 요오드로 염색한 후에 실시해도 되고, 염색하면서 연신해도 되고, 또 연신하고 나서 요오드로 염색해도 된다. 붕산이나 요오드화칼륨 등의 수용액이나 수욕 중에서도 연신할 수 있다.A polarizer obtained by dying a PVA film with iodine and uniaxially stretching can be produced by, for example, dying PVA in an aqueous solution of iodine and stretching it to 3 to 7 times its original length. If necessary, it may be immersed in an aqueous solution of potassium iodide or the like which may contain boric acid, zinc sulfate, zinc chloride or the like. If necessary, the PVA film may be washed with water before dying. The PVA film is washed with water to clean the surface of the PVA film and the anti-blocking agent. In addition, the PVA film is swollen to prevent unevenness such as uneven dyeing. The stretching may be carried out after dyeing with iodine, followed by stretching while dyeing, or after stretching, followed by dyeing with iodine. It can be stretched in an aqueous solution such as boric acid or potassium iodide or in a water bath.

또, 본 발명에 있어서는, 두께가 10 ㎛ 이하인 박형 요오드계 편광자도 바람직하게 사용할 수 있다. 박형화의 관점에서 말하면, 상기 요오드계 편광자의 두께는 1 ∼ 7 ㎛ 인 것이 바람직하다. 이와 같은 박형의 요오드계 편광자는, 두께 불균일이 적고, 시인성이 우수하고, 또 치수 변화가 적기 때문에 내구성이 우수하고, 나아가서는 편광 필름으로서의 두께도 박형화가 도모되는 점이 바람직하다.In the present invention, a thin iodine-based polarizer having a thickness of 10 mu m or less can also be preferably used. From the viewpoint of thinning, the thickness of the iodine-based polarizer is preferably 1 to 7 mu m. Such a thin iodine-based polarizer is preferable because it is excellent in durability because thickness irregularity is small, visibility is excellent, and dimensional change is small, and further thickness and thickness of a polarizing film are achieved.

박형의 편광자로는, 대표적으로는 일본 공개특허공보 소51-069644호나 일본 공개특허공보 2000-338329호나, 국제 공개 제2010/100917호 팜플렛, 국제 공개 제2010/100917호 팜플렛, 또는 일본 특허 4751481호 명세서나 일본 공개특허공보 2012-073563호에 기재되어 있는 박형 편광막을 들 수 있다. 이들 박형 편광막은, PVA 계 수지층과 연신용 수지 기재를 적층체 상태에서 연신하는 공정과 염색하는 공정을 포함하는 제법에 의해 얻을 수 있다. 이 제법이라면, PVA 계 수지층이 얇아도, 연신용 수지 기재에 지지되어 있는 것에 의해 연신에 의한 파단 등의 문제 없이 연신할 수 있게 된다.Typical examples of the thin polarizer include those described in Japanese Laid-Open Patent Publication Nos. 51-069644 and 2000-338329, International Publication No. 2010/100917, International Publication No. 2010/100917, and Japanese Patent No. 4751481 And a thin polarizing film described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2012-073563. These thin polarizing films can be obtained by a manufacturing method including a step of stretching a PVA resin layer and a lead resin base material in a laminate state and a step of dyeing. With this method, even if the PVA resin layer is thin, it can be stretched without problems such as breakage due to stretching because it is supported on the resin base material for connection.

상기 박형 편광막으로는, 적층체 상태에서 연신하는 공정과 염색하는 공정을 포함하는 제법 중에서도, 고배율로 연신할 수 있어 편광 성능을 향상시킬 수 있는 점에서, 국제 공개 제2010/100917호 팜플렛, 국제 공개 제2010/100917호 팜플렛, 또는 일본 특허 4751481호 명세서나 일본 공개특허공보 2012-073563호에 기재가 있는 붕산 수용액 중에서 연신하는 공정을 포함하는 제법으로 얻어지는 것이 바람직하고, 특히 일본 특허 4751481호 명세서나 일본 공개특허공보 2012-073563호에 기재가 있는 붕산 수용액 중에서 연신하기 전에 보조적으로 공중 연신하는 공정을 포함하는 제법에 의해 얻어지는 것이 바람직하다.As the thin polarizing film, since it can be stretched at a high magnification and can improve the polarization performance even in the process including the step of stretching in the laminate state and the step of staining, the pamphlet of International Publication No. 2010/100917, It is preferably obtained by a production method comprising a step of stretching in an aqueous solution of boric acid as disclosed in the specification of Japanese Patent No. 4751481 or the specification of Japanese Patent Publication No. 2012-073563, And a step of auxiliary drawing publicly before stretching in an aqueous solution of boric acid as described in JP-A-2012-073563.

전술한 방법에 의해 얻어진 요오드계 편광자 (2) 에, 후술하는 인계 화합물을 포함하는 코팅층 등을 적층함으로써, 당해 코팅층 등으로부터 요오드계 편광자 (2) 중으로 인계 화합물이 이행하고, 요오드계 편광자 (2) 중에 인계 화합물을 함유하는 경우가 있다. 이와 같이, 요오드계 편광자 (2) 중에 인계 화합물을 함유하는 경우도 투명 도전층의 부식을 억제할 수 있기 때문에 바람직하다. 상기 요오드계 편광자 (2) 에 포함할 수 있는 인계 화합물로는, 후술하는 인계 화합물과 동등한 것을 들 수 있다.The phosphorus compound shifts from the coating layer or the like into the iodine-based polarizer 2, and the iodine-based polarizer 2 and the iodide-based polarizer 2 are laminated by laminating a coating layer or the like containing a phosphorus compound described later on the iodine- The phosphorus compound may be contained. Thus, it is preferable to contain a phosphorus compound in the iodine polarizer 2 because corrosion of the transparent conductive layer can be suppressed. Examples of the phosphorus compound that can be contained in the iodine-based polarizer (2) include those equivalent to the phosphorus compound described below.

요오드계 편광자 (2) 가 인계 화합물을 함유하는 경우, 그 함유량으로는, 요오드계 편광자 (2) 중 3 중량％ 이하인 것이 바람직하고, 0.01 ∼ 1 중량％ 인 것이 보다 바람직하며, 0.02 ∼ 0.6 중량％ 인 것이 더 바람직하다.When the iodine polarizer (2) contains a phosphorus compound, the content of the iodine-based polarizer (2) is preferably 3% by weight or less, more preferably 0.01 to 1% by weight, more preferably 0.02 to 0.6% Is more preferable.

또, 본 발명에서 사용하는 요오드계 편광자 (2) 의, 요오드 및/또는 요오드 이온의 함유량 (이하, 요오드 함유량이라고 하는 경우도 있다.) 은, 편광자 중 3 ∼ 12 중량％ 여도 되고, 4 ∼ 7.5 중량％ 여도 된다. 본 발명의 코팅층이 형성된 편광 필름 (1) 은, 요오드계 편광자 (2) 중의 요오드 함유량이 상기 범위와 같이 많아도, 본 발명의 편광 필름 (1) 에 적층된 투명 도전층의 표면 저항 상승을 억제할 수 있다. 이것은, 요오드계 편광자 (2) 및/또는 후술하는 코팅층 (4) 에 포함되는 인계 화합물의 작용에 의해, 요오드계 편광자에 포함되는 요오드가, 투명 도전층 표면으로 이행하는 것을 억제할 수 있었던 결과, 투명 도전층의 부식이 저해되기 때문이라고 생각된다.The content of iodine and / or iodine ion (hereinafter, also referred to as iodine content) of the iodine-based polarizer 2 used in the present invention may be 3 to 12% by weight of the polarizer, or 4 to 7.5% Weight%. The polarizing film (1) having the coating layer of the present invention can suppress the surface resistance increase of the transparent conductive layer laminated on the polarizing film (1) of the present invention even if the iodine content in the iodine polarizer (2) . This is because the iodine contained in the iodine-based polarizer can be prevented from migrating to the surface of the transparent conductive layer by the action of the phosphorus compound contained in the iodine-based polarizer 2 and / or the coating layer 4 described later, And corrosion of the transparent conductive layer is inhibited.

(2) 투명 보호 필름(2) Transparent protective film

투명 보호 필름 (3) 을 형성하는 재료로는, 투명성, 기계적 강도, 열 안정성, 수분 차단성, 등방성 등이 우수한 것이 바람직하다. 예를 들어, 폴리에틸렌테레프탈레이트나 폴리에틸렌나프탈레이트 등의 폴리에스테르계 폴리머, 디아세틸셀룰로오스나 트리아세틸셀룰로오스 등의 셀룰로오스계 폴리머, 폴리메틸메타크릴레이트 등의 아크릴계 폴리머, 폴리스티렌이나 아크릴로니트릴·스티렌 공중합체 (AS 수지) 등의 스티렌계 폴리머, 폴리카보네이트계 폴리머 등을 들 수 있다. 또, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 시클로계 내지는 노르보르넨 구조를 갖는 폴리올레핀, 에틸렌·프로필렌 공중합체 등의 폴리올레핀계 폴리머, 염화비닐계 폴리머, 나일론이나 방향족 폴리아미드 등의 아미드계 폴리머, 이미드계 폴리머, 술폰계 폴리머, 폴리에테르술폰계 폴리머, 폴리에테르에테르케톤계 폴리머, 폴리페닐렌술파이드계 폴리머, 비닐알코올계 폴리머, 염화비닐리덴계 폴리머, 비닐부티랄계 폴리머, 아릴레이트계 폴리머, 폴리옥시메틸렌계 폴리머, 에폭시계 폴리머, 또는 상기 폴리머의 블렌드물 등도 상기 투명 보호 필름 (3) 을 형성하는 폴리머의 예로서 들 수 있다. 투명 보호 필름 (3) 은, 아크릴계, 우레탄계, 아크릴우레탄계, 에폭시계, 실리콘계 등의 열 경화형, 자외선 경화형 수지의 경화층으로서 형성할 수도 있다.As the material for forming the transparent protective film 3, it is preferable that the material is excellent in transparency, mechanical strength, thermal stability, moisture barrier property, isotropy and the like. For example, a polyester polymer such as polyethylene terephthalate or polyethylene naphthalate, a cellulose polymer such as diacetylcellulose or triacetylcellulose, an acrylic polymer such as polymethyl methacrylate, a polystyrene or an acrylonitrile styrene copolymer (AS resin), and polycarbonate-based polymers. In addition, a polyolefin-based polymer such as polyethylene, polypropylene, a cycloolefin-based or norbornene-based structure, a polyolefin-based polymer such as an ethylene-propylene copolymer, an amide-based polymer such as nylon or aromatic polyamide, Based polymers, polyether sulfone-based polymers, polyetheretherketone-based polymers, polyphenylene sulfide-based polymers, vinyl alcohol-based polymers, vinylidene chloride-based polymers, vinyl butyral-based polymers, arylate- An epoxy-based polymer, or a blend of the above-mentioned polymer may be mentioned as an example of the polymer forming the transparent protective film (3). The transparent protective film 3 may be formed as a cured layer of a thermosetting or ultraviolet curing resin such as acrylic, urethane, acrylic urethane, epoxy or silicone.

상기 투명 보호 필름 (3) 의 두께는, 적절히 결정할 수 있지만, 일반적으로는 강도나 취급성 등의 작업성, 박막성 등의 점으로부터 1 ∼ 500 ㎛ 정도이고, 1 ∼ 300 ㎛ 가 바람직하고, 5 ∼ 200 ㎛ 가 보다 바람직하며, 5 ∼ 150 ㎛ 가 더 바람직하고, 20 ∼ 100 ㎛ 가 특히 바람직하다.The thickness of the transparent protective film 3 can be appropriately determined, but is generally 1 to 500 탆, preferably 1 to 300 탆, more preferably 5 to 5 탆, from the viewpoints of workability such as strength and handling, More preferably from 200 to 200 mu m, further preferably from 5 to 150 mu m, and particularly preferably from 20 to 100 mu m.

상기 투명 보호 필름 (3) 은, 상기 요오드계 편광자 (2) 의 편면에만 배치되어도 되고 (편면 보호 편광 필름), 상기 요오드계 편광자 (2) 의 양면에 배치되어도 된다 (양면 보호 편광 필름). 편면 보호 편광 필름을 사용하는 경우 (즉, 요오드계 편광자 (2) 와 코팅층 (4) 사이에 투명 보호 필름을 갖지 않는 경우) 에, 본 발명의 효과가 현저하다. 또, 양면 보호 편광 필름이라도, 상기 코팅층 (4) 과 접하는 측의 투명 보호 필름 (도시 생략) 의 두께가 얇은 (예를 들어, 25 ㎛ 이하) 경우에도, 본 발명의 효과가 현저하다.The transparent protective film 3 may be disposed on only one side of the iodine polarizer 2 (one side protective polarizing film) or on both sides of the iodine type polarizing film 2 (double side protective polarizing film). The effect of the present invention is remarkable in the case of using a one-side protective polarizing film (that is, in the case of not having a transparent protective film between the iodine polarizer 2 and the coating layer 4). Even in the case of a double-side protective polarizing film, the effect of the present invention is remarkable even when the thickness of the transparent protective film (not shown) on the side in contact with the coating layer 4 is thin (for example, 25 μm or less).

상기 요오드계 편광자 (2) 와 투명 보호 필름 (3) 은 통상, 수계 접착제 등을 개재하여 밀착되어 있다. 수계 접착제로는, 이소시아네이트계 접착제, 폴리비닐알코올계 접착제, 젤라틴계 접착제, 비닐계, 라텍스계, 수계 폴리우레탄, 수계 폴리에스테르 등을 예시할 수 있다. 상기 외, 요오드계 편광자 (2) 와 투명 보호 필름 (3) 의 접착제로는, 자외선 경화형 접착제, 전자선 경화형 접착제 등을 들 수 있다. 전자선 경화형 편광 필름용 접착제는, 상기 각종 투명 보호 필름 (3) 에 대하여, 바람직한 접착성을 나타낸다. 또 본 발명에서 사용하는 접착제에는, 금속 화합물 필러를 함유시킬 수 있다.The iodine polarizer 2 and the transparent protective film 3 are normally in close contact with each other via an aqueous adhesive or the like. Examples of the aqueous adhesive include an isocyanate adhesive, a polyvinyl alcohol adhesive, a gelatin adhesive, a vinyl adhesive, a latex adhesive, a water based polyurethane, and a water based polyester. Examples of the adhesive between the iodine polarizer 2 and the transparent protective film 3 include an ultraviolet curable adhesive, an electron beam curable adhesive, and the like. The adhesive for an electron beam curable polarizing film exhibits preferable adhesion to the various transparent protective films (3). The adhesive used in the present invention may contain a metal compound filler.

상기 투명 보호 필름 (3) 의 요오드계 편광자 (2) 를 접착시키지 않는 면에는, 하드 코트층, 반사 방지층, 스티킹 방지층, 확산층 내지 안티글레어층 등의 기능층을 형성할 수 있다. 또한, 상기 기능층은, 투명 보호 필름 (3) 그 자체에 형성할 수 있는 외, 별도로 투명 보호 필름 (3) 과는 별체의 것으로서 형성할 수도 있다.On the surface of the transparent protective film 3 on which the iodine polarizer 2 is not adhered, a functional layer such as a hard coat layer, an antireflection layer, a sticking prevention layer, a diffusion layer, or an antiglare layer can be formed. The functional layer may be formed on the transparent protective film 3 itself or may be formed separately from the transparent protective film 3.

(3) 코팅층(3) Coating layer

코팅층 (4) 은, 요오드계 편광자 (2) 의 편면에만 투명 보호 필름 (3) 이 형성되어 있는 경우에는, 요오드계 편광자 (2) 의 다른 편면 (투명 보호 필름 (3) 을 적층하고 있지 않은 면) 에 형성되고, 요오드계 편광자 (2) 의 양면에 투명 보호 필름 (3) 이 형성되어 있는 경우에는, 일방의 투명 보호 필름에 형성할 수 있고, 2 장의 투명 보호 필름의 두께가 상이한 경우에는, 얇은 쪽의 투명 보호 필름측에 형성하는 것이 바람직하다.When the transparent protective film 3 is formed only on one side of the iodine polarizer 2, the coating layer 4 is formed on the other side of the iodine polarizer 2 (the side of the transparent protective film 3 on which the transparent protective film 3 is not laminated And the transparent protective film 3 is formed on both surfaces of the iodine polarizer 2, it can be formed on one transparent protective film. When the thickness of the two transparent protective films is different, It is preferably formed on the thin transparent protective film side.

코팅층 (4) 의 두께는 특별히 한정되는 것은 아니지만, 박층화 및 광학 신뢰성의 관점에서 10 ㎛ 이하인 것이 바람직하고, 5 ㎛ 이하인 것이 보다 바람직하며, 3 ㎛ 이하인 것이 더 바람직하다. 또, 코팅층 (4) 은 1 층이어도 되고, 2 층 이상이어도 되지만, 2 층 이상인 경우에는, 복수의 코팅층 전체로 상기 두께를 만족시키는 것이 바람직하다. 코팅층 (4) 이 2 층 이상인 경우에는, 적어도 1 층에 인계 화합물이 함유되어 있으면 된다.The thickness of the coating layer 4 is not particularly limited, but is preferably 10 占 퐉 or less, more preferably 5 占 퐉 or less, and more preferably 3 占 퐉 or less from the viewpoint of thinning and optical reliability. The coating layer 4 may be a single layer or two or more layers, but in the case of two or more layers, it is preferable that the entire thickness of the plurality of coating layers is satisfied. In the case where the coating layer 4 has two or more layers, at least one layer may contain a phosphorus compound.

코팅층 (4) 은, 각종 재료로 형성할 수 있고, 예를 들어 코팅층 형성용 수지 조성물을 요오드계 편광자 (2) 에 도포함으로써 형성할 수 있다. 상기 코팅층 형성용 수지 조성물에 포함되는 수지 재료로는, 예를 들어 폴리에스테르계 수지, 폴리에테르계 수지, 폴리카보네이트계 수지, 폴리우레탄계 수지, 실리콘계 수지, 폴리아미드계 수지, 폴리이미드계 수지, PVA 계 수지, 아크릴계 수지 등의 각종 폴리머류나, 금속 산화물의 졸, 실리카졸 등을 들 수 있다. 이들 수지에는 적절히 가교제를 배합할 수 있다. 이들 수지 재료는 1 종을 단독으로 또는 2 종 이상을 조합하여 사용할 수 있지만, 이들 중에서도 요오드계 편광자와의 밀착성이나 광학 신뢰성의 관점에서, 폴리우레탄계 수지, PVA 계 수지, 아크릴계 수지로 이루어지는 군에서 선택되는 1 종 이상이 바람직하고, PVA 계 수지가 보다 바람직하다. 또, 상기 수지의 형태는, 수계, 용제계의 어느 것이라도 된다.The coating layer 4 can be formed of various materials and can be formed, for example, by applying a resin composition for forming a coating layer to the iodine polarizer 2. Examples of the resin material contained in the resin composition for forming a coating layer include a polyester resin, a polyether resin, a polycarbonate resin, a polyurethane resin, a silicone resin, a polyamide resin, a polyimide resin, a PVA Based resin, an acrylic resin and the like, a metal oxide sol, silica sol, and the like. A crosslinking agent may be appropriately added to these resins. These resin materials may be used singly or in combination of two or more kinds. Among them, from the viewpoint of adhesion with an iodine-based polariser and optical reliability, they are selected from the group consisting of a polyurethane resin, a PVA resin and an acrylic resin Is preferable, and a PVA-based resin is more preferable. The shape of the resin may be any of an aqueous system and a solvent system.

또한, 점착제층이 산 성분을 포함하는 경우 (예를 들어, (메트)아크릴계 폴리머의 모노머 단위로서, 아크릴산 등의 카르복실기 함유 모노머를 포함하는 경우) 는, 점착제층측의 코팅층은, 밀착성을 확보하는 관점에서, 상기 산 성분과 반응성을 갖는 관능기 (예를 들어, 옥사졸린기 등) 를 갖는 화합물을 함유하는 것이 바람직하다. 예를 들어, 코팅층이 2 층 이상인 경우에는, 가장 점착제층측의 코팅층은, 옥사졸린기 함유 폴리머를 함유하는 것이 바람직하다.In the case where the pressure-sensitive adhesive layer contains an acid component (for example, a monomer unit containing a carboxyl group such as acrylic acid as a monomer unit of a (meth) acrylic polymer), the coating layer on the pressure- , It is preferable to contain a compound having a functional group (for example, oxazoline group or the like) having reactivity with the acid component. For example, when the coating layer has two or more layers, it is preferable that the coating layer on the side of the pressure-sensitive adhesive layer contains an oxazoline group-containing polymer.

(PVA 계 수지를 함유하는 코팅층 형성용 수지 조성물)(A resin composition for forming a coating layer containing a PVA resin)

상기 PVA 계 수지로는, 예를 들어 PVA 를 들 수 있다. PVA 는, 폴리아세트산비닐을 비누화함으로써 얻어진다. 또, PVA 계 수지로는, 아세트산비닐과 공중합성을 갖는 단량체의 공중합체의 비누화물을 들 수 있다. 상기 공중합성을 갖는 단량체가 에틸렌인 경우에는, 에틸렌-비닐알코올 공중합체가 얻어진다. 또, 상기 공중합성을 갖는 단량체로는, (무수)말레산, 푸마르산, 크로톤산, 이타콘산, (메트)아크릴산 등의 불포화 카르복실산 및 그 에스테르류 ; 에틸렌, 프로필렌 등의 α-올레핀, (메트)알릴술폰산(소다), 술폰산소다(모노알킬말레이트), 디술폰산소다알킬말레이트, N-메틸올아크릴아미드, 아크릴아미드알킬술폰산알칼리염, N-비닐피롤리돈, N-비닐피롤리돈 유도체 등을 들 수 있다. 이들 PVA 계 수지는 1 종을 단독으로 또는 2 종 이상을 병용할 수 있다. 이들 중에서도, 폴리아세트산비닐을 비누화하여 얻어진 PVA 가 바람직하다.As the PVA resin, for example, PVA can be mentioned. PVA is obtained by saponifying polyvinyl acetate. As the PVA resin, a saponification product of a copolymer of a monomer having a copolymer with vinyl acetate can be exemplified. When the monomer having the above copolymerization is ethylene, an ethylene-vinyl alcohol copolymer is obtained. Examples of the monomer having the above-mentioned copolymerization include unsaturated carboxylic acids such as maleic anhydride, fumaric acid, crotonic acid, itaconic acid and (meth) acrylic acid and esters thereof; (Meth) allyl sulfonic acid (soda), soda sulfonate (monoalkyl maleate), disulfonic acid soda alkyl malate, N-methylol acrylamide, acrylamide alkylsulfonic acid alkali salt, N- Vinyl pyrrolidone, N-vinyl pyrrolidone derivatives, and the like. These PVA resins may be used singly or in combination of two or more. Of these, PVA obtained by saponifying polyvinyl acetate is preferable.

또 상기 PVA 계 수지로는, 상기 PVA 또는 그 공중합체의 측사슬에 친수성의 관능기를 갖는 변성 PVA 계 수지를 사용할 수 있다. 상기 친수성의 관능기로는, 예를 들어 아세토아세틸기, 카르보닐기 등을 들 수 있다. 그 외, PVA 계 수지를 아세탈화, 우레탄화, 에테르화, 그래프트화, 인산에스테르화하거나 한 변성 PVA 를 사용할 수 있다.As the PVA-based resin, a modified PVA-based resin having a hydrophilic functional group in the side chain of the PVA or the copolymer thereof can be used. Examples of the hydrophilic functional group include an acetoacetyl group and a carbonyl group. In addition, the PVA resin may be acetalized, urethanized, etherified, grafted, phosphoric esterified, or modified PVA.

본 발명에서 사용하는 코팅층 (4) 은, 상기 PVA 계 수지를 주성분으로서 함유하고, 또한 후술하는 인계 화합물을 함유하는 코팅층 형성용 수지 조성물로 형성할 수 있지만, 상기 수지 조성물에는, 경화성 성분 (가교제) 등을 함유할 수 있다. 코팅층 (4) 또는 수지 조성물 (고형분) 중의 PVA 계 수지의 비율은, 80 중량％ 이상인 것이 바람직하고, 90 중량％ 이상이 보다 바람직하며, 95 중량％ 이상이 더 바람직하다.The coating layer 4 used in the present invention can be formed from a resin composition containing a PVA resin as a main component and a phosphorus compound to be described later and a coating layer for forming a coating layer. The resin composition contains a curing component (crosslinking agent) And the like. The ratio of the PVA resin in the coating layer 4 or the resin composition (solid content) is preferably 80% by weight or more, more preferably 90% by weight or more, and still more preferably 95% by weight or more.

(아크릴계 수지를 함유하는 코팅층 형성용 수지 조성물)(A resin composition for forming a coating layer containing an acrylic resin)

상기 아크릴계 수지로는, 이하의 경화성 성분을 함유하는 경화형 형성재가 바람직하다. 경화성 성분으로는, 전자선 경화형, 자외선 경화형, 가시광선 경화형 등의 활성 에너지선 경화형과 열 경화형으로 크게 나눌 수 있다. 나아가서는, 자외선 경화형, 가시광선 경화형은, 라디칼 중합 경화형과 카티온 중합 경화형으로 구분할 수 있다. 본 발명에 있어서, 파장 범위 10 ㎚ 이상 380 ㎚ 미만의 활성 에너지선을 자외선, 파장 범위 380 ㎚ ∼ 800 ㎚ 의 활성 에너지선을 가시광선으로서 표기한다. 상기 라디칼 중합 경화형의 경화성 성분은, 열 경화형의 경화성 성분으로서 사용할 수 있다.As the acrylic resin, a curing-type forming material containing the following curing components is preferable. The curable component can be largely divided into an active energy ray-curable type such as an electron beam curable type, an ultraviolet ray curable type, and a visible light curable type and a thermosetting type. Further, ultraviolet curing type and visible light curing type can be classified into a radical polymerization curing type and a cationic polymerization curing type. In the present invention, an active energy ray having a wavelength range of 10 nm or more and less than 380 nm is referred to as an ultraviolet ray, and an active energy ray having a wavelength range of 380 nm to 800 nm is referred to as a visible ray. The radically curing curable component can be used as a thermosetting curable component.

(라디칼 중합 경화형 형성재)(Radical polymerization curing type forming material)

상기 경화성 성분으로는, 예를 들어 라디칼 중합성 화합물을 들 수 있다. 라디칼 중합성 화합물은, (메트)아크릴로일기, 비닐기 등의 탄소-탄소 이중 결합의 라디칼 중합성의 관능기를 갖는 화합물을 들 수 있다. 이들 경화성 성분은, 단관능 라디칼 중합성 화합물 또는 2 관능 이상의 다관능 라디칼 중합성 화합물의 어느 것이라도 사용할 수 있다. 또, 이들 라디칼 중합성 화합물은, 1 종을 단독으로 또는 2 종 이상을 조합하여 사용할 수 있다. 이들 라디칼 중합성 화합물로는, 예를 들어 (메트)아크릴로일기를 갖는 화합물이 바람직하다. 또한, 본 발명에 있어서, (메트)아크릴로일이란, 아크릴로일기 및/또는 메타크릴로일기를 의미하고, (메트) 는 이하 동일한 의미이다.As the curable component, for example, a radical polymerizable compound may be mentioned. The radical polymerizing compound includes a compound having a radically polymerizable functional group of a carbon-carbon double bond such as a (meth) acryloyl group or a vinyl group. These curable components may be either monofunctional radically polymerizable compounds or bifunctional or higher functional polyfunctional radically polymerizable compounds. These radically polymerizable compounds may be used singly or in combination of two or more kinds. As the radically polymerizable compound, for example, a compound having a (meth) acryloyl group is preferable. In the present invention, (meth) acryloyl means an acryloyl group and / or a methacryloyl group, and (meth) means the same hereinafter.

(라디칼 중합 경화형 형성재의 양태)(Embodiment of radical polymerization curing type forming material)

라디칼 중합 경화형 형성재는, 활성 에너지선 경화형 또는 열 경화형의 형성재로서 사용할 수 있다. 활성 에너지선에 전자선 등을 사용하는 경우에는, 당해 활성 에너지선 경화형 형성재는 광 중합 개시제를 함유할 필요는 없지만, 활성 에너지선에 자외선 또는 가시광선을 사용하는 경우에는, 광 중합 개시제를 함유하는 것이 바람직하다. 한편, 상기 경화성 성분을 열 경화성 성분으로서 사용하는 경우에는, 당해 형성재는 열 중합 개시제를 함유하는 것이 바람직하다.The radical polymerization-curing type forming material can be used as an active energy ray-curable type or a thermosetting type forming material. When an electron beam or the like is used for an active energy ray, the active energy ray-curable former need not contain a photopolymerization initiator. When an ultraviolet ray or a visible ray is used for an active energy ray, a material containing a photopolymerization initiator desirable. On the other hand, when the curable component is used as a thermosetting component, the forming material preferably contains a thermal polymerization initiator.

상기 경화형의 형성재에 의한 코팅층의 형성은, 요오드계 편광자 (또는 투명 보호 필름) 의 면에, 경화형 형성재를 도공하고, 그 후 경화함으로써 실시한다. 또, 요오드계 편광자 (또는 투명 보호 필름) 는, 상기 경화형 형성재를 도공하기 전에, 표면 개질 처리를 실시해도 된다. 구체적인 처리로는, 코로나 처리, 플라즈마 처리, 비누화 처리에 의한 처리 등을 들 수 있다.The formation of the coating layer by the curing-type forming material is carried out by applying a curing-type forming material to the surface of the iodine-based polarizer (or transparent protective film), and then curing it. In addition, the iodine-based polarizer (or transparent protective film) may be subjected to a surface modification treatment before coating the curable-type forming material. Specific examples of the treatment include corona treatment, plasma treatment, and saponification treatment.

경화형 형성재의 도공 방식은, 당해 경화형 형성재의 점도나 목적으로 하는 두께에 따라 적절히 선택된다. 도공 방식의 예로서, 예를 들어 리버스 코터, 그라비아 코터 (다이렉트, 리버스나 오프셋), 바 리버스 코터, 롤 코터, 다이 코터, 바 코터, 로드 코터 등을 들 수 있다. 그 외, 도공에는, 디핑 방식 등의 방식을 적절히 사용할 수 있다.The coating method of the curing-type forming material is appropriately selected in accordance with the viscosity of the curing-type forming material or the intended thickness. Examples of the coating method include a reverse coater, a gravure coater (direct, reverse or offset), a bar reverse coater, a roll coater, a die coater, a bar coater and a rod coater. In addition, a coating method such as a dipping method can be appropriately used.

형성재의 경화는, 이하와 같이 해 실시할 수 있다.Curing of the forming material can be carried out as follows.

(활성 에너지선 경화형)(Active energy radiation curable type)

활성 에너지선 경화형 형성재에서는, 요오드계 편광자 (또는 투명 보호 필름) 에 활성 에너지선 경화형 형성재를 도공한 후, 활성 에너지선 (전자선, 자외선, 가시광선 등) 을 조사하여, 활성 에너지선 경화형 형성재를 경화시켜 코팅층을 형성한다. 활성 에너지선 (전자선, 자외선, 가시광선 등) 의 조사 방향은, 임의의 적절한 방향으로부터 조사할 수 있다. 바람직하게는, 코팅층측으로부터 조사한다.In the active energy ray curable type forming material, an active energy ray curable type forming material is coated on an iodine type polarizer (or a transparent protective film), and then an active energy ray (electron beam, ultraviolet ray, visible ray, The ash is cured to form a coating layer. The irradiation direction of the active energy ray (electron beam, ultraviolet ray, visible ray, etc.) can be irradiated from any appropriate direction. Preferably, irradiation is performed from the coating layer side.

(열 경화형)(Thermosetting type)

한편, 열 경화형 형성재에서는, 편광자와 투명 보호 필름을 첩합한 후에, 가열함으로써, 열 중합 개시제에 의해 중합을 개시하여, 경화물층을 형성한다. 가열 온도는, 열 중합 개시제에 따라 설정되지만, 60 ∼ 200 ℃ 정도, 바람직하게는 80 ∼ 150 ℃ 이다.On the other hand, in the thermosetting type forming material, after the polarizer and the transparent protective film are laminated and heated, polymerization is initiated by a thermal polymerization initiator to form a cured layer. The heating temperature is set in accordance with the thermal polymerization initiator, but is about 60 to 200 占 폚, preferably 80 to 150 占 폚.

(폴리우레탄계 수지를 함유하는 코팅층 형성용 수지 조성물)(A resin composition for forming a coating layer containing a polyurethane resin)

본 발명에 있어서 사용하는 폴리우레탄계 수지로는, 폴리올과 폴리이소시아네이트를 반응시켜 얻을 수 있는 것이고, 구체적으로 바람직하게 사용되는 폴리우레탄계 수지로는, 예를 들어 나가세켐텍스사 제조의 데나트론 시리즈 등을 들 수 있다.The polyurethane resin used in the present invention can be obtained by reacting a polyol with a polyisocyanate. Specific examples of the polyurethane resin preferably used include a denatron series manufactured by Nagase Chemtech Co., Ltd. .

코팅층을, 수계 재료에 의해 형성하는 경우에는, 수분산형 폴리머를 사용한다. 수분산형 폴리머로는, 폴리우레탄, 폴리에스테르 등의 각종 수지를, 유화제를 이용하여 에멀션화한 것이나, 상기 수지 중에, 수분산성의 아니온기, 카티온기, 또는 논이온기를 도입하여 자기 유화한 것 등을 들 수 있다.When the coating layer is formed by an aqueous material, an aqueous dispersion polymer is used. Examples of the water-dispersible polymer include those obtained by emulsifying various resins such as polyurethane and polyester with an emulsifier, and those obtained by self-emulsification by introducing a water-dispersible anion, cation, or nonionic group into the resin And the like.

(인계 화합물)(Phosphorus compound)

본 발명에 있어서는, 상기 요오드계 편광자와 상기 코팅층의 어느 일방, 또는 양방에, 인계 화합물을 함유한다. 인계 화합물로는, 예를 들어 인산계 화합물, 포스폰산계 화합물, 인계 산화 방지제를 들 수 있고, 본 발명에 있어서는, 이들을 단독으로, 또는 2 종 이상을 조합하여 사용할 수 있다. 이들 중에서도, 인산계 화합물 또는 포스폰산계 화합물이 바람직하다.In the present invention, a phosphorus compound is contained in either or both of the iodine-based polarizer and the coating layer. Phosphoric acid compounds, phosphonic acid compounds and phosphorus antioxidants are examples of phosphorous compounds, and in the present invention, they may be used alone or in combination of two or more. Among them, a phosphoric acid-based compound or a phosphonic acid-based compound is preferable.

인산계 화합물로는, 예를 들어 하기 일반식 (1) :As the phosphate compound, for example, a compound represented by the following general formula (1):

[화학식 3](3)

Figure pat00003
Figure pat00003

(식 중, R1 및 R2 는, 각각 독립적으로, 수소 원자, 또는 산소 원자를 포함하고 있어도 되는, 탄소수 1 ∼ 18 의 탄화수소 잔기를 나타낸다.) 로 나타내는 화합물, 및 상기 일반식 (1) 로 나타내는 화합물의 다량체로 이루어지는 군에서 선택되는 인산계 화합물을 들 수 있다.(Wherein R 1 and R 2 each independently represent a hydrogen atom or a hydrocarbon residue having 1 to 18 carbon atoms which may contain an oxygen atom), and a compound represented by the general formula (1) A compound represented by the general formula (I) or a compound represented by the general formula (II).

상기 인산계 화합물로는, 후술하는 바와 같이, 인산, 인산에스테르, 또는 그들의 염이나 2 량체, 3 량체 등을 들 수 있다. 이들에 대하여, 이하에 상세하게 설명한다.Examples of the phosphoric acid compound include phosphoric acid, phosphoric acid esters, salts thereof, dimers, trimer and the like as described later. These will be described in detail below.

일반식 (1) 중, R1 및 R2 는, 각각 독립적으로, 수소 원자, 또는 산소 원자를 포함하고 있어도 되는, 탄소수 1 ∼ 18 의 탄화수소 잔기이다. 산소 원자를 포함하고 있어도 되는, 탄소수 1 ∼ 18 의 탄화수소 잔기로는, 탄소수 1 ∼ 18 의 알킬기, 탄소수 1 ∼ 18 의 알케닐기, 탄소수 6 ∼ 18 의 아릴기, -(CH2CH2O)nR3 (R3 은, 탄소수 1 ∼ 18 의 알킬기, 탄소수 1 ∼ 18 의 알케닐기, 또는 탄소수 6 ∼ 18 의 아릴기이고, n 은 0 ∼ 15 의 정수이다.) 등을 들 수 있다. 또, 알킬기, 알케닐기는, 직사슬형이어도 되고 분기사슬형이어도 된다. 이들 중에서도, 상기 탄소수의 1 ∼ 18 의 탄화수소 잔기로는, 탄소수 1 ∼ 10 의 직사슬 또는 분기의 알킬기, 탄소수 6 ∼ 18 의 아릴기가 바람직하고, 탄소수 2 ∼ 6 의 직사슬 또는 분기의 알킬기가 보다 바람직하다.In the general formula (1), R 1 and R 2 are each independently a hydrogen atom or a hydrocarbon residue having 1 to 18 carbon atoms which may contain an oxygen atom. Examples of the hydrocarbon residue having 1 to 18 carbon atoms which may contain an oxygen atom include an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, an alkenyl group having 1 to 18 carbon atoms, an aryl group having 6 to 18 carbon atoms, - (CH 2 CH 2 O) n R 3 (R 3 is an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, an alkenyl group having 1 to 18 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 18 carbon atoms, and n is an integer of 0 to 15). The alkyl group and the alkenyl group may be linear or branched. Among them, the hydrocarbon residue having 1 to 18 carbon atoms is preferably a linear or branched alkyl group having 1 to 10 carbon atoms or an aryl group having 6 to 18 carbon atoms, and a linear or branched alkyl group having 2 to 6 carbon atoms is preferable. desirable.

본 발명에 있어서는, 일반식 (1) 의, R1 및 R2 모두가, 수소 원자인 인산 (H3PO4) 도 바람직하게 사용할 수 있다. 또, 상기 인산의 염 (나트륨, 칼륨, 및 마그네슘 등의 금속염, 암모늄염 등) 도 바람직하게 사용할 수 있다.In the present invention, phosphoric acid (H 3 PO 4 ) in which all of R 1 and R 2 in the general formula (1) are hydrogen atoms is also preferably used. Salts of the above phosphoric acids (metal salts such as sodium, potassium, and magnesium, ammonium salts, etc.) may also be preferably used.

또, 본 발명에 있어서는, 일반식 (1) 로 나타내는 화합물이, 산성 인산에스테르인 것이 바람직하다. 여기서, 산성 인산에스테르란, 일반식 (1) 의, R1 및 R2 모두가, 산소 원자를 포함하고 있어도 되는, 탄소수 1 ∼ 18 의 탄화수소 잔기인 경우 (디에스테르체) 나, R1, R2 의 어느 일방이 수소 원자이고, 타방이 산소 원자를 포함하고 있어도 되는, 탄소수 1 ∼ 18 의 탄화수소 잔기인 경우 (모노에스테르체) 이고, 예를 들어 이하의 일반식 (1') :In the present invention, it is preferable that the compound represented by the general formula (1) is an acidic phosphate ester. Here, the acidic phosphate is a residue of a hydrocarbon residue having 1 to 18 carbon atoms (diester body) in which all of R 1 and R 2 in the general formula (1) may contain an oxygen atom, and R 1 and R Is a hydrocarbon residue of 1 to 18 carbon atoms (monoester form) in which one of the oxygen atom and the oxygen atom may be a hydrogen atom and the other may contain an oxygen atom. For example, the following general formula (1 '):

[화학식 4][Chemical Formula 4]

Figure pat00004
Figure pat00004

(식 중, R1 은, 상기와 동일하고, R3 은, 탄소수 1 ∼ 18 의 알킬기, 탄소수 1 ∼ 18 의 알케닐기, 또는 탄소수 6 ∼ 18 의 아릴기이고, n 은 0 ∼ 15 의 정수이다.) 로 나타내는 인산에스테르계 화합물을 들 수 있다.(Wherein R 1 is as defined above, R 3 is an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, an alkenyl group having 1 to 18 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 18 carbon atoms, and n is an integer of 0 to 15 .) Can be mentioned.

일반식 (1') 의 R1 은, 일반식 (1) 의 R1 과 동일하고, 수소 원자, 또는 산소 원자를 포함하고 있어도 되는, 탄소수 1 ∼ 18 의 탄화수소 잔기이다. 산소 원자를 포함하고 있어도 되는, 탄소수 1 ∼ 18 의 탄화수소 잔기로는, 상기와 동일한 것을 들 수 있다. 일반식 (1') 의 R1 로는, 수소 원자, 탄소수 1 ∼ 18 의 직사슬 또는 분기의 알킬기, 또는 탄소수 6 ∼ 18 의 아릴기인 것이 바람직하고, 수소 원자, 또는 탄소수 1 ∼ 10 의 직사슬 또는 분기의 알킬기인 것이 보다 바람직하며, 수소 원자, 또는 탄소수 2 ∼ 6 의 직사슬 또는 분기의 알킬기인 것이 더 바람직하다. R3 으로는, 탄소수 1 ∼ 18 의 알킬기, 탄소수 1 ∼ 18 의 알케닐기, 또는 탄소수 6 ∼ 18 의 아릴기를 들 수 있고, 탄소수 1 ∼ 18 의 알킬기, 탄소수 6 ∼ 18 의 아릴기인 것이 바람직하고, 탄소수 1 ∼ 10 의 알킬기가 보다 바람직하며, 탄소수 2 ∼ 6 의 알킬기가 더 바람직하다. 또, n 은, 0 ∼ 15 의 정수이고, 0 ∼ 10 의 정수인 것이 바람직하다. 또, 본 발명에 있어서는, 폴리에틸렌옥사이드 구조 (CH2CH2O) 를 포함하지 않는 (즉, 식 (1') 에 있어서, n = 0) 것이, 열화 방지의 관점에서 바람직하다.Of formula (1 ') R 1 is a hydrocarbon residue having 1 to 18 carbon atoms that is the same as R 1 of formula (1), and may contain a hydrogen atom, or an oxygen atom. Examples of the hydrocarbon residue having 1 to 18 carbon atoms which may contain an oxygen atom include the same ones as described above. R 1 in the general formula (1 ') is preferably a hydrogen atom, a linear or branched alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 18 carbon atoms, and is preferably a hydrogen atom or a linear or branched Branched alkyl group, more preferably a hydrogen atom or a linear or branched alkyl group having 2 to 6 carbon atoms. As R 3 , an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, an alkenyl group having 1 to 18 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 18 carbon atoms can be mentioned, and it is preferably an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms or an aryl group having 6 to 18 carbon atoms, More preferably an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and still more preferably an alkyl group having 2 to 6 carbon atoms. Also, n is an integer of 0 to 15, preferably an integer of 0 to 10. In the present invention, it is preferable from the viewpoint of prevention of deterioration that the polyethylene oxide structure (CH 2 CH 2 O) is not contained (that is, n = 0 in the formula (1 ')).

일반식 (1') 로 나타내는 인산에스테르계 화합물로는, 피착체에 대한 흡착 효과의 관점에서, R1 이 수소 원자이고, R3 이, 탄소수 1 ∼ 18 의 직사슬 또는 분기의 알킬기인 인산모노에스테르가 바람직하고, R1 이 수소 원자이고, R3 이, 탄소수 1 ∼ 10 의 직사슬 또는 분기의 알킬기인 인산모노에스테르가 보다 바람직하며, R1 이 수소 원자이고, R3 이, 탄소수 2 ∼ 6 의 직사슬 또는 분기의 알킬기인 인산모노에스테르가 더 바람직하다.The phosphoric acid ester compound represented by the general formula (1 ') is preferably a compound represented by the general formula (1') in which R 1 is a hydrogen atom and R 3 is a mono- or di- esters are preferred, and R 1 is a hydrogen atom, R 3 a, and a phosphoric acid monoester of straight-chain or branched alkyl group having 1 to 10 carbon atoms and more preferably, the R 1 is a hydrogen atom, R 3 a, a carbon number of 2 to And more preferably a phosphoric acid monoester which is an alkyl group having 6 or more carbon atoms.

또, 본 발명에 있어서는, 일반식 (1') 로 나타내는 화합물을 2 종 이상 혼합하여 사용해도 되고, 또 일반식 (1') 로 나타내는 화합물과 상기 인산의 혼합물을 사용해도 된다. 또, 일반적으로, 일반식 (1') 로 나타내는 인산에스테르계 화합물은, 모노에스테르와 디에스테르의 혼합물로서 얻어지는 경우가 많은 것이고, 상기 모노에스테르와 디에스테르의 혼합물에, 상기 인산을 추가로 첨가하여 사용하는 것이 바람직하다.In the present invention, a mixture of two or more compounds represented by the general formula (1 ') may be used, or a mixture of the compound represented by the general formula (1') and the above phosphoric acid may be used. In general, the phosphoric acid ester compound represented by the general formula (1 ') is often obtained as a mixture of a monoester and a diester. To the mixture of the monoester and the diester, the phosphoric acid is further added Is preferably used.

본 발명에 있어서는, 일반식 (1') 로 나타내는 화합물의 염 (나트륨, 칼륨, 및 마그네슘 등의 금속염, 암모늄염 등) 도 바람직하게 사용할 수 있다.In the present invention, salts of compounds represented by the general formula (1 ') (metal salts such as sodium, potassium and magnesium, ammonium salts, etc.) can also be preferably used.

상기 일반식 (1') 로 나타내는 인산에스테르계 화합물의 시판품으로는, 토호 화학 공업 (주) 제조의 「포스파놀 SM-172」(일반식 (1') 의 R1 = R3 = C8H17, n = 0, 모노·디 혼합물 (모노에스테르체 : 디에스테르체 = 5 : 5 (중량비), 산가 : 219 ㎎KOH/g), 「포스파놀 GF-185」(일반식 (1') 의 R1 = R3 = C13H27, n = 0, 모노·디 혼합물, 산가 : 158 ㎎KOH/g), 「포스파놀 BH-650」(일반식 (1') 의 R1 = R3 = C4H9, n = 1, 모노·디 혼합물, 산가 : 388 ㎎KOH/g), 「포스파놀 RS-410」(일반식 (1') 의 R1 = R3 = C13H27, n = 4, 모노·디 혼합물 (모노에스테르체 : 디에스테르체 = 5 : 5 (중량비), 산가 : 105 ㎎KOH/g), 「포스파놀 RS-610」(일반식 (1') 의 R1 = C13H27, R3 = C13H27, n = 6, 모노·디 혼합물, 산가 : 82 ㎎KOH/g), 「포스파놀 RS-710」(일반식 (1') 의 R1 = C13H27, R3 = C13H27, n = 10, 모노·디 혼합물 (모노에스테르체 : 디에스테르체 = 5 : 5 (중량비)), 산가 : 62 ㎎KOH/g), 「포스파놀 ML-220」(일반식 (1') 의 R1 = R3 = C12H25, n = 2, 모노·디 혼합물), 「포스파놀 ML-200」(일반식 (1') 의 R1 = R3 = C12H25, n = 0, 모노·디 혼합물), 「포스파놀 ED-200」(일반식 (1') 의 R1 = R3 = C8H17, n = 1, 모노·디 혼합물), 「포스파놀 RL-210」((1') 의 R1 = R3 = C18H37, n = 2, 모노·디 혼합물), 「포스파놀 GF-339 (일반식 (1') 의 R1 = R3 = C6H13 ∼ C10H21 의 혼합, n = 0, 모노·디 혼합물), 「포스파놀 GF-199」(일반식 (1') 의 R1 = R3 = C12H25, n = 0, 모노·디 혼합물), 「포스파놀 RL-310」(일반식 (1') 의 R1 = R3 = C18H37, n = 3, 모노·디 혼합물), 「포스파놀 LP-700」(일반식 (1') 의 R1 = R3 = C6H5, n = 6, 모노·디 혼합물), 다이하치 화학 공업 (주) 제조의 「AP-1」(일반식 (1') 의 R1 = R3 = CH3, n = 0, 모노·디 혼합물, 산가 : 650 ㎎KOH/g 이상), 「AP-4」(일반식 (1') 의 R1 = R3 = C4H9, n = 0, 모노·디 혼합물, 산가 : 452 ㎎KOH/g), 「DP-4」(일반식 (1') 의 R1 = R3 = C4H9, n = 0, 디에스테르체, 산가 : 292 ㎎KOH/g), 「MP-4」(일반식 (1') 의 R1 = H, R3 = C4H9, n = 0, 모노·디 혼합물 (모노에스테르체 : 디에스테르체 = 8 : 2 (중량비)), 산가 : 670 ㎎KOH/g), 「AP-8」(일반식 (1') 의 R1 = R3 = C8H17, n = 0, 모노·디 혼합물, 산가 : 306 ㎎KOH/g), 「AP-10」(일반식 (1') 의 R1 = R3 = C10H21, n = 0, 모노·디 혼합물, 산가 : 263 ㎎KOH/g), 「MP-10」(일반식 (1') 의 R1 = H, R3 = C10H21, n = 0, 모노에스테르체, 산가 : 400 ㎎KOH/g), 조호쿠 화학 (주) 제조의 「JP-508」(일반식 (1') 의 R1 = R3 = C8H17, n = 0, 모노·디 혼합물, 산가 : 288 ㎎KOH/g), 「JP-513」(일반식 (1') 의 R1 = R3 = C13H27, n = 0, 모노·디 혼합물), 「JP-524R」(일반식 (1') 의 R1 = R3 = C24H49, n = 0, 모노·디 혼합물), 「DBP」(일반식 (1') 의 R1 = R3 = C4H9, n = 0, 모노·디 혼합물 (모노에스테르체 : 디에스테르체 = 1 : 9 (중량비)), 산가 : 266 ㎎KOH/g), 「LB-58」(일반식 (1') 의 R1 = R3 = C8H17, n = 0, 디에스테르체, 산가 : 173 ㎎KOH/g), 닛코 케미칼즈 (주) 제조의 「닛콜 DDP-2」(일반식 (1') 의 R1 = R3 = C12H25 ∼ C15H31 의 혼합물, n = 2) 등 및 그들의 염을 들 수 있다. 또한, 상기 「모노·디 혼합물」이란, 모노에스테르 (R1 = H) 와 디에스테르 (R1 = 산소 원자를 포함하고 있어도 되는, 탄소수 1 ∼ 18 의 탄화수소 잔기) 의 혼합물인 것을 나타내는 것이고, 예를 들어 포스파놀 SM-172 의 경우, 모노에스테르 (일반식 (1') 의 R1 = H, R3 = C8H17, n = 0) 와, 디에스테르 (일반식 (1') 의 R1 = R3 = C8H17, n = 0) 의 혼합물인 것을 나타낸다.As a commercially available product of the phosphoric acid ester compound represented by the general formula (1 '), "Phosphanol SM-172" (manufactured by Toho Chemical Industry Co., Ltd. (R 1 = R 3 = C 8 H 17 , n = 0, mono-di mixture (monoester compound: diester compound = 5: 5 (weight ratio), acid value: 219 mgKOH / g), "Phosphanol GF- R 1 = R 3 = C 13 H 27, n = 0, mono, di mixture, acid value: 158 ㎎KOH / g), "Force propanol BH-650" of R 1 (General formula (1 ') = R 3 = C 4 H 9 , n = 1, mono-di mixture, acid value: 388 mgKOH / g), "Phosphanol RS-410" (R 1 = R 3 = C 13 H 27 , n = 4, mono-, di-mixture (mono-ester isomer: diester body = 5: 5 (weight ratio), acid value: 105 ㎎KOH / g), "Force propanol RS-610" (R 1 of formula (1 ') = C 13 H 27, R 3 = C 13 H 27, n = 6, mono, di mixture, acid value: 82 ㎎KOH / g), "Force propanol RS-710" in the (general formula (1 ') R 1 = C 13 H 27 , R 3 = C 13 H 27 , n = 10, mono-di mixture (mono (R 1 = R 3 = C 12 H 25 in formula (1 '), R 1 = R 3 = C 12 H 25 , n = 2, mono-di mixture), "Phosphanol ML-200" (R 1 = R 3 = C 12 H 25 , n = 0, mono-di mixture of the general formula (1 ' -200 "(formula (1 R 1 = R 3 of the 'R 1 a) = R 3 = C 8 H 17, n = 1, mono-, di-mixture)," Force propanol RL-210 "(1' = C 18 H 37 , n = 2, mono-di mixture), "Phosphanol GF-339 (a mixture of R 1 = R 3 = C 6 H 13 to C 10 H 21 in the general formula (1 ' 0, a mono-di mixture), "Phosphanol GF-199" (R 1 = R 3 = C 12 H 25 in the general formula (1 '"(" a) R 1 = R 3 = C 18 H 37, n = 3, the mono, di mixture, "Force propanol LP-700" (the general formula (1 formula (1), R 1 = a) R 3 = C 6 H 5, n = 6, mono-, di-mixture), die bowl Chemicals R of the (main), "AP-1" (the general formula (1 'of the production) 1 = R 3 = CH 3 , n = 0 , Mono and di AP-4 "(R 1 = R 3 = C 4 H 9 , n = 0 in the formula (1 '), mono-di mixture, acid value: 452 mgKOH / g) (R 1 = R 3 = C 4 H 9 , n = 0, diester form, acid value: 292 mgKOH / g in the general formula (1 ')), "MP-4" (Monoester compound: diester compound = 8: 2 (weight ratio)), acid value: 670 mg (a mixture of monoester compound and diester compound in the formula (1 '), R 1 = H, R 3 = C 4 H 9 , AP-8 (R 1 = R 3 = C 8 H 17 , n = 0, mono-di mixture, acid value: 306 mg KOH / g of the formula (1 ' MP-10 "represented by the general formula (1 ') (R 1 = R 3 = C 10 H 21 , n = 0, mono-di mixture, acid value: 263 mgKOH / JP-508 " (represented by the general formula (1): ???????? R 1 = H, R 3 = C 10 H 21 , n = 0, monoester substance, acid value: 400 mgKOH / g) ') of R 1 = R 3 = C 8 H 17, n = 0, mono, di mixture, acid value: 288 ㎎KOH / g), "JP-513" (the general formula (1' R 1 = R 3 in) = C 13 H 27 , n = 0, mono-di mixture), "JP-524R" Bansik (1 ') of R 1 = R 3 = C 24 H 49, n = 0, mono-, di-mixture), "DBP" (formula (1') of R 1 = R 3 = C 4 H 9, n = 0, and mono-, di-mixture (mono-ester isomer: diester isomer = 1: 9 (weight ratio)), acid value: 266 ㎎KOH / g), "LB-58" of (formula (1 ') R 1 = R 3 = C 8 H 17, n = 0, diester body, acid value: 173 ㎎KOH / g), Nikko Chemicals R's of Ltd. "nitkol DDP-2" (formula (1 'of the production) 1 = R 3 = a mixture of C 12 H 25 to C 15 H 31 , n = 2), and salts thereof. The above-mentioned "mono-di mixture" means a mixture of a monoester (R 1 = H) and a diester (R 1 = a hydrocarbon residue having 1 to 18 carbon atoms which may contain an oxygen atom) (R 1 = H, R 3 = C 8 H 17 , n = 0) of the monoester (general formula (1 ') and diester 1 = R 3 = C 8 H 17 , n = 0).

본 발명에서 사용하는 인산계 화합물로는, 일반식 (1) 로 나타내는 화합물 (또는, 일반식 (1') 로 나타내는 화합물), 또는 이들의 염이나 다량체로 이루어지는 군에서 선택되는 화합물을 1 종 단독으로 사용해도 되고 2 종 이상을 혼합하여 사용해도 되지만, 인산, 인산모노에스테르, 및 인산디에스테르로 이루어지는 군에서 선택되는 2 개 이상의 혼합물인 것이 바람직하고, 인산모노에스테르 및 인산을 함유하는 혼합물인 것이 보다 바람직하다. 여기서, 인산모노에스테르란, 일반식 (1) 의 R1 및 R2 의 어느 일방이 수소 원자이고, 타방이, 산소 원자를 포함하고 있어도 되는, 탄소수 1 ∼ 18 의 탄화수소 잔기인 화합물 (일반식 (1') 의 경우에는, R1 이 수소 원자인 화합물) 이고, 인산디에스테르란, 일반식 (1) 의 R1 및 R2 가, 산소 원자를 포함하고 있어도 되는, 탄소수 1 ∼ 18 의 탄화수소 잔기인 화합물 (일반식 (1') 의 경우에는, R1 이 산소 원자를 포함하고 있어도 되는, 탄소수 1 ∼ 18 의 탄화수소 잔기인 화합물) 이다.As the phosphate compound used in the present invention, a compound selected from the group consisting of a compound represented by the general formula (1) (or a compound represented by the general formula (1 ')) Or a mixture of two or more of them may be used, but it is preferable to use a mixture of two or more selected from the group consisting of phosphoric acid, phosphoric acid monoester and phosphoric acid diester, and a mixture containing phosphoric acid monoester and phosphoric acid More preferable. Here, the phosphoric acid monoester is a compound which is a hydrocarbon residue having 1 to 18 carbon atoms in which one of R 1 and R 2 in the general formula (1) is a hydrogen atom and the other is an oxygen atom (general formula in the case of 1 ') has, R 1 of the compound is a hydrogen atom), and the phosphoric acid diester is represented by the general formula (1) R 1 and R 2 is a hydrocarbon residue of having 1 to 18 carbon atoms which may contain an oxygen atom (In the case of the general formula (1 '), a compound wherein R 1 is a hydrocarbon residue having 1 to 18 carbon atoms which may contain an oxygen atom).

또, 본 발명에 있어서 사용하는 인산 화합물의 산가는, 900 ㎎KOH/g 이하인 것이 바람직하고, 50 ∼ 800 ㎎KOH/g 인 것이 보다 바람직하며, 10 ∼ 700 ㎎KOH/g 인 것이 바람직하다. 또, 생산상 취급의 관점에서는, 상기 인산 화합물의 산가는, 400 ㎎KOH/g 이하인 것이 바람직하고, 50 ∼ 400 ㎎KOH/g 인 것이 보다 바람직하며, 50 ∼ 350 ㎎KOH/g 인 것이 더 바람직하고, 100 ∼ 300 ㎎KOH/g 인 것이 특히 바람직하다. 인산 화합물은, 코팅층 (4) 을 형성하는 조성물에 가교제를 포함하는 경우, 당해 가교제의 종류 (예를 들어, 이소시아네이트계 가교제) 에 따라서는, 가교 반응의 반응 촉매로서 작용하는 경우가 있고, 그 경우에는, 코팅층 (4) 을 형성하는 조성물로서의 포트 라이프가 짧아지는 경우가 있고, 취급성의 점에서 열등한 경우가 있었다. 인산 화합물의 산가를 상기 범위로 함으로써, 반응 촉매로서 작용하는 것을 억제할 수 있으므로, 코팅층 (4) 을 형성하는 조성물의 포트 라이프의 관점에서 바람직하다. 또, 상기 범위의 산가를 갖는 인산 화합물을, 후술하는 첨가량으로 첨가하는 것이, 효율적으로 효과를 발휘할 수 있는 관점에서 바람직하다.The acid value of the phosphoric acid compound used in the present invention is preferably 900 mgKOH / g or less, more preferably 50 to 800 mgKOH / g, and preferably 10 to 700 mgKOH / g. From the viewpoint of production handling, the acid value of the phosphate compound is preferably 400 mgKOH / g or less, more preferably 50 to 400 mgKOH / g, still more preferably 50 to 350 mgKOH / g And particularly preferably from 100 to 300 mgKOH / g. When the composition for forming the coating layer 4 contains a crosslinking agent, depending on the kind of the crosslinking agent (for example, an isocyanate crosslinking agent), the phosphate compound may act as a reaction catalyst for the crosslinking reaction, , The pot life as a composition for forming the coating layer 4 may be shortened, and in some cases, it is inferior in handling property. By setting the acid value of the phosphoric acid compound within the above range, it is possible to suppress the action as the reaction catalyst, and therefore it is preferable from the viewpoint of the pot life of the composition for forming the coating layer (4). It is preferable to add the phosphoric acid compound having an acid value in the above range in an amount to be described later from the viewpoint of being able to exert an effective effect.

또, 상기 일반식 (1) 로 나타내는 화합물의 다량체로는, 상기 일반식 (1) 로 나타내는 화합물의 2 량체, 3 량체 등을 들 수 있다.Examples of the oligomer of the compound represented by the general formula (1) include dimers and trimer of the compound represented by the general formula (1).

또, 인계 화합물로는, 포스폰산계 화합물을 들 수 있다. 포스폰산계 화합물로는, 예를 들어 하기 일반식 (2) :As the phosphorus compound, a phosphonic acid-based compound can be mentioned. As the phosphonic acid-based compound, for example, a compound represented by the following general formula (2):

[화학식 5][Chemical Formula 5]

Figure pat00005
Figure pat00005

(식 중, R 은, 수소 원자, 또는 산소 원자를 포함하고 있어도 되는, 탄소수 1 ∼ 18 의 탄화수소 잔기이다.) 로 나타내는 화합물 및 그 염으로 이루어지는 군에서 선택되는 포스폰산계 화합물을 들 수 있다.(Wherein R is a hydrogen atom or a hydrocarbon residue having 1 to 18 carbon atoms, which may contain an oxygen atom), and a salt thereof.

일반식 (2) 중, R 은, 수소 원자, 또는 산소 원자를 포함하고 있어도 되는, 탄소수 1 ∼ 18 의 탄화수소 잔기이다. 산소 원자를 포함하고 있어도 되는, 탄소수 1 ∼ 18 의 탄화수소 잔기로는, 탄소수 1 ∼ 18 의 알킬기, 탄소수 1 ∼ 18 의 알케닐기, 탄소수 6 ∼ 18 의 아릴기 등을 들 수 있다. 또, 알킬기, 알케닐기는, 직사슬형이어도 되고 분기사슬형이어도 된다.In the general formula (2), R is a hydrogen atom or a hydrocarbon residue having 1 to 18 carbon atoms which may contain an oxygen atom. Examples of the hydrocarbon residue having 1 to 18 carbon atoms which may contain an oxygen atom include an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, an alkenyl group having 1 to 18 carbon atoms, and an aryl group having 6 to 18 carbon atoms. The alkyl group and the alkenyl group may be linear or branched.

일반식 (2) 의 R 이, 수소 원자인 포스폰산 (HP(=O)(OH)2) 이어도 된다. 또, 상기 포스폰산의 염 (나트륨, 칼륨, 및 마그네슘 등의 금속염, 암모늄염 등) 도 바람직하게 사용할 수 있다.The R in formula ( 2 ) may be a phosphonic acid (HP (= O) (OH) 2 ) which is a hydrogen atom. Salts of the above phosphonic acids (metal salts such as sodium, potassium, and magnesium, ammonium salts, etc.) may also be preferably used.

상기 일반식 (2) 로 나타내는 포스폰산계 화합물로는, 구체적으로는 포스폰산, 메틸포스폰산, 에틸포스폰산, n-프로필포스폰산, 이소프로필포스폰산, n-부틸포스폰산, tert-부틸포스폰산, sec-부틸포스폰산, 이소부틸포스폰산, n-펜틸포스폰산, n-헥실포스폰산, 이소헥실포스폰산, n-헵틸포스폰산, n-옥틸포스폰산, 이소옥틸포스폰산, tert-옥틸포스폰산, n-노닐포스폰산, n-데실포스폰산, 이소데실포스폰산, n-도데실포스폰산, 이소도데실포스폰산, n-테트라데실포스폰산, n-헥사데실포스폰산, n-옥타데실포스폰산, n-에이코실포스폰산, 시클로부틸포스폰산, 시클로펜틸포스폰산, 시클로헥실포스폰산, 노르보르닐포스폰산, 페닐포스폰산, 나프틸포스폰산, 비페닐포스폰산, 메톡시페닐포스폰산, 에톡시페닐포스폰산 및 이들의 염을 들 수 있다. 본 발명에 있어서는, 이들을 단독으로, 또는 2 종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.Specific examples of the phosphonic acid compound represented by the general formula (2) include phosphonic acid, methylphosphonic acid, ethylphosphonic acid, n-propylphosphonic acid, isopropylphosphonic acid, n-butylphosphonic acid, tert- N-pentylphosphonic acid, isohexylphosphonic acid, n-heptylphosphonic acid, n-octylphosphonic acid, isooctylphosphonic acid, tert-octyl N-octylphosphonic acid, n-decylphosphonic acid, n-decylphosphonic acid, n-dodecylphosphonic acid, isododecylphosphonic acid, n-tetradecylphosphonic acid, n- Hexylphosphonic acid, norbornylphosphonic acid, phenylphosphonic acid, naphthylphosphonic acid, biphenylphosphonic acid, methoxyphenylphosphoric acid, naphthalenephosphonic acid, naphthalenephosphonic acid, Sulfonic acid, sulfonic acid, sulfonic acid, sulfonic acid, sulfonic acid, sulfonic acid, sulfonic acid, and sulfonic acid. In the present invention, these may be used alone or in combination of two or more.

또한, 인계 화합물로는, 인계 산화 방지제를 들 수 있다. 인계 산화 방지제의 구체예로는, 트리옥틸포스파이트, 트리라우릴포스파이트, 트리스트리데실포스파이트, 트리스이소데실포스파이트, 페닐디이소옥틸포스파이트, 페닐디이소데실포스파이트, 페닐디(트리데실)포스파이트, 디페닐이소옥틸포스파이트, 디페닐이소데실포스파이트, 디페닐트리데실포스파이트, 트리페닐포스파이트, 트리스(노닐페닐)포스파이트, 트리스(2,4-디-t-부틸페닐)포스파이트, 트리스(부톡시에틸)포스파이트, 테트라트리데실-4,4'-부틸리덴비스(3-메틸-6-t-부틸페놀)-디포스파이트, 4,4'-이소프로필리덴-디페놀알킬포스파이트 (단, 알킬은 탄소수 12 ∼ 15 정도), 4,4'-이소프로필리덴비스(2-t-부틸페놀)·디(노닐페닐)포스파이트, 트리스(비페닐)포스파이트, 테트라(트리데실)-1,1,3-트리스(2-메틸-5-t-부틸-4-하이드록시페닐)부탄디포스파이트, 트리스(3,5-디-t-부틸-4-하이드록시페닐)포스파이트, 수소화-4,4'-이소프로필리덴디페놀폴리포스파이트, 비스(옥틸페닐)·비스[4,4'-부틸리덴비스(3-메틸-6-t-부틸페놀)]·1,6-헥산디올디포스파이트, 헥사트리데실-1,1,3-트리스(2-메틸-4-하이드록시-5-t-부틸페놀)디포스파이트, 트리스[4,4'-이소프로필리덴비스(2-t-부틸페놀)]포스파이트, 트리스(1,3-디스테아로일옥시이소프로필)포스파이트, 9,10-디하이드로-9-포스파페난트렌-10-옥사이드, 테트라키스(2,4-디-t-부틸페닐)-4,4'-비페닐렌디포스포나이트, 디스테아릴펜타에리트리톨디포스파이트, 디(노닐페닐)펜타에리트리톨디포스파이트, 페닐·4,4'-이소프로필리덴디페놀·펜타에리트리톨디포스파이트, 비스(2,4-디-t-부틸페닐)펜타에리트리톨디포스파이트, 비스(2,6-디-t-부틸-4-메틸페닐)펜타에리트리톨디포스파이트 및 페닐비스페놀-A-펜타에리트리톨디포스파이트 등을 들 수 있다.As the phosphorus compound, a phosphorus antioxidant may be mentioned. Specific examples of the phosphorus antioxidant include trioctyl phosphite, trilauryl phosphite, tris tridecyl phosphite, tris isodecyl phosphite, phenyl diisooctyl phosphite, phenyl diisodecyl phosphite, phenyl di (tri Diphenyl isodecyl phosphite, diphenyl tridecyl phosphite, triphenyl phosphite, tris (nonylphenyl) phosphite, tris (2,4-di-t-butyl Phenyl) phosphite, tris (butoxyethyl) phosphite, tetranetradecyl-4,4'-butylidenebis (3-methyl-6-t- butylphenol) -dipospite, 4,4'- (2-t-butylphenol) di (nonylphenyl) phosphite, tris (biphenyl) phosphite, Phosphite, tetra (tridecyl) -1,1,3-tris (2-methyl-5-t-butyl-4-hydroxyphenyl) butane diphosphite (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) phosphite, hydrogenated-4,4'-isopropylidenediphenol polyphosphite, bis (octylphenyl) -Butylidene bis (3-methyl-6-t-butylphenol)] 1,6-hexanediol diphosphite, hexatridecyl-1,1,3-tris (2-methyl- (1,3-distearoyloxyisopropyl) phosphite, tris [4,4'-isopropylidenebis (2-t-butylphenol)] phosphite, (2,4-di-t-butylphenyl) -4,4'-biphenylene diphosphonite, distearylpentaerythritol diphosphate (2,4-di-t-butylphenyl) pentaerythritol diphosphite, bis (2,4-di-t-butylphenyl) pentaerythritol diphosphite, , Bis (2,6-di-t-butyl-4-methylphenyl) pentaerythritol diphosphite and Phenyl bisphenol-A-pentaerythritol diphosphite, and the like.

상기 인계 화합물의 첨가량은, 코팅층 형성용 수지 조성물에 포함되는 수지 성분 100 중량부에 대하여, 0.01 ∼ 10 중량부인 것이 바람직하고, 0.01 ∼ 5 중량부인 것이 보다 바람직하며, 0.1 ∼ 5 중량부인 것이 더 바람직하다. 인계 화합물의 첨가량이 상기 범위 내임으로써, 투명 도전층의 표면 저항값의 상승을 억제할 수 있으므로 바람직하다. 또, 본 발명에 있어서는, 전술한 바와 같이, 2 종 이상의 인계 화합물을 병용해도 되지만, 그 경우는, 합계량이 상기 범위가 되도록 첨가할 수 있다.The amount of the phosphorus compound to be added is preferably 0.01 to 10 parts by weight, more preferably 0.01 to 5 parts by weight, further preferably 0.1 to 5 parts by weight, based on 100 parts by weight of the resin component contained in the resin composition for forming a coating layer Do. The amount of the phosphorus compound added is within the above range, which makes it possible to suppress an increase in the surface resistance value of the transparent conductive layer. In the present invention, as described above, two or more phosphorus compounds may be used in combination. In that case, the phosphorus compound may be added so that the total amount falls within the above range.

또, 코팅층의 형성재에는, 대전 방지제를 함유시킬 수 있다. 대전 방지제는, 도전성을 부여할 수 있는 재료이면 특별히 제한되지 않고, 예를 들어 이온성 계면활성제, 도전성 폴리머, 금속 산화물, 카본 블랙, 및 카본 나노 재료 등을 들 수 있지만, 이들 중에서도, 도전성 폴리머가 바람직하고, 보다 바람직하게는 수분산성 도전 폴리머이다.An antistatic agent may be contained in the forming material of the coating layer. The antistatic agent is not particularly limited as long as it is a material capable of imparting conductivity. Examples of the antistatic agent include an ionic surfactant, a conductive polymer, a metal oxide, a carbon black, and a carbon nano material. Among them, And more preferably a water dispersible conductive polymer.

수용성 도전성 폴리머로는, 폴리아닐린술폰산 (폴리스티렌 환산에 의한 중량 평균 분자량 150000, 미츠비시 레이온 (주) 제조) 등, 수분산성 도전 폴리머로는, 폴리티오펜계 도전성 폴리머 (나가세켐텍스사 제조, 데나트론 시리즈) 등을 들 수 있다.Examples of the water-soluble conductive polymer include polyaniline sulfonic acid (weight average molecular weight 150000 in terms of polystyrene conversion, manufactured by Mitsubishi Rayon Co., Ltd.), and water-dispersible conductive polymers include polythiophene conductive polymers (Denatron series ) And the like.

상기 대전 방지제의 배합량은, 예를 들어 코팅층의 형성재에 사용하는 상기 폴리머류 100 중량부에 대하여, 70 중량부 이하, 바람직하게는 50 중량부 이하이다. 대전 방지 효과의 점에서는, 10 중량부 이상, 나아가서는 20 중량부 이상으로 하는 것이 바람직하다.The blending amount of the antistatic agent is 70 parts by weight or less, preferably 50 parts by weight or less, based on 100 parts by weight of the polymers used for forming the coating layer. From the standpoint of antistatic effect, it is preferable that the amount is 10 parts by weight or more, and more preferably 20 parts by weight or more.

또, 코팅층의 형성재에는, 코팅층과 접촉할 때에 생기는 점착제층이나 요오드계 편광자의 열화 등을 억제할 목적으로 각종 첨가제를 배합할 수 있고, 또 코팅층에 기능 부여할 목적으로 각종 첨가제를 배합할 수 있다. 예를 들어, 산화 방지제 (인계 이외), 열화 방지제, 자외선 흡수제, 형광증백제 등을 첨가할 수 있다.Various additives may be added to the coating layer forming material for the purpose of suppressing the deterioration of the pressure-sensitive adhesive layer or the iodine polarizer generated when the coating layer is brought into contact with the coating layer. Various additives may be blended for the purpose of imparting functions to the coating layer have. For example, antioxidants (other than phosphorus), deterioration inhibitors, ultraviolet absorbers, fluorescent whitening agents and the like can be added.

상기 코팅층의 형성 방법으로는, 특별히 한정되지 않고, 통상 공지된 방법에 의해 실시할 수 있다. 또, 코팅층의 형성 시에, 상기 편광 필름 (1) 에 활성화 처리를 실시할 수 있다. 활성화 처리는 각종 방법을 채용할 수 있고, 예를 들어 코로나 처리, 저압 UV 처리, 플라즈마 처리 등을 채용할 수 있다.The method of forming the coating layer is not particularly limited and can be carried out by a generally known method. Further, at the time of forming the coating layer, the polarizing film (1) can be activated. Various methods can be employed for the activation treatment, and for example, corona treatment, low-pressure UV treatment, plasma treatment, or the like can be employed.

본 발명에 있어서는, 상기 인산계 화합물을 포함하는 수지 조성물로 형성되는 코팅층 (4) 을 갖는 코팅층이 형성된 편광 필름으로 함으로써, 당해 코팅층이 형성된 편광 필름을, 점착제층을 개재하여 투명 도전층 상에 적층해도, 투명 도전층의 표면 저항 상승을 억제할 수 있는 것이다.In the present invention, by forming the polarizing film having the coating layer having the coating layer 4 formed of the resin composition containing the phosphoric acid compound, the polarizing film having the coating layer formed thereon is laminated on the transparent electroconductive layer via the pressure- The increase in the surface resistance of the transparent conductive layer can be suppressed.

2. 점착제층이 형성된 편광 필름2. Polarizing film formed with a pressure-sensitive adhesive layer

본 발명의 점착제층이 형성된 편광 필름은, 상기 코팅층이 형성된 편광 필름의 코팅층측에 점착제층을 갖는 것을 특징으로 한다.The polarizing film on which the pressure-sensitive adhesive layer of the present invention is formed has a pressure-sensitive adhesive layer on the coating layer side of the polarizing film on which the coating layer is formed.

본 발명의 일실시형태인 도 2 를 이용하여, 본 발명의 점착제층이 형성된 편광 필름의 구성에 대해 이하에 설명한다. 단, 본 발명의 점착제층이 형성된 편광 필름은 도 2 의 형태에 한정되는 것은 아니다.2, which is one embodiment of the present invention, the structure of a polarizing film on which the pressure-sensitive adhesive layer of the present invention is formed will be described below. However, the polarizing film on which the pressure-sensitive adhesive layer of the present invention is formed is not limited to the embodiment shown in Fig.

본 발명의 점착제층이 형성된 편광 필름 (6) 은, 도 2 에 나타내는 바와 같이, 상기 코팅층이 형성된 편광 필름 (1) 의 코팅층 (4) 측에 점착제층 (5) 을 갖는다. 본 발명의 점착제층이 형성된 편광 필름 (6) 의 점착제층 (5) 에는 세퍼레이터 (도시 생략) 를 설치할 수 있고, 실용에 제공할 때까지 점착제층 (5) 을 보호할 수 있다. 또, 점착제층이 형성된 편광 필름 (6) 의 투명 보호 필름 (3) 측에는, 표면 보호 필름 (도시 생략) 을 설치할 수 있다. 이하, 각각의 재료에 대하여 설명한다.The polarizing film 6 formed with the pressure-sensitive adhesive layer of the present invention has a pressure-sensitive adhesive layer 5 on the coating layer 4 side of the polarizing film 1 on which the coating layer is formed, as shown in Fig. A separator (not shown) can be provided on the pressure sensitive adhesive layer 5 of the polarizing film 6 on which the pressure sensitive adhesive layer of the present invention is formed, and the pressure sensitive adhesive layer 5 can be protected until it is provided for practical use. A surface protective film (not shown) may be provided on the transparent protective film 3 side of the polarizing film 6 on which the pressure-sensitive adhesive layer is formed. The respective materials will be described below.

점착제층 (5) 의 형성에는, 적절한 점착제를 사용할 수 있고, 그 종류에 대해서 특별히 제한은 되지 않는다. 점착제로는, 예를 들어 고무계 점착제, 아크릴계 점착제, 실리콘계 점착제, 우레탄계 점착제, 비닐알킬에테르계 점착제, 폴리비닐알코올계 점착제, 폴리비닐피롤리돈계 점착제, 폴리아크릴아미드계 점착제, 셀룰로오스계 점착제 등을 들 수 있지만, 이들 중에서도, 광학적 투명성이 우수하고, 적절한 밀착성과 응집성과 접착성의 점착 특성을 나타내고, 내후성이나 내열성 등이 우수한 점에서, 아크릴계 점착제가 바람직하게 사용된다.For forming the pressure-sensitive adhesive layer 5, a suitable pressure-sensitive adhesive can be used, and the kind thereof is not particularly limited. Examples of the pressure sensitive adhesive include pressure sensitive adhesives such as a rubber pressure sensitive adhesive, an acrylic pressure sensitive adhesive, a silicone pressure sensitive adhesive, a urethane pressure sensitive adhesive, a vinyl alkyl ether pressure sensitive adhesive, a polyvinyl alcohol pressure sensitive adhesive, a polyvinyl pyrrolidone pressure sensitive adhesive, a polyacrylamide pressure sensitive adhesive, Among them, an acrylic pressure-sensitive adhesive is preferably used because of its excellent optical transparency, suitable adhesiveness, cohesiveness and adhesive property, and excellent weather resistance and heat resistance.

상기 아크릴계 점착제로는, (메트)아크릴계 폴리머를 함유하는 것을 들 수 있다. 상기 (메트)아크릴계 폴리머로는, 특별히 한정되는 것은 아니지만, 예를 들어 알킬(메트)아크릴레이트를 함유하는 모노머 성분을 중합하여 얻어진 것이 바람직하고, 알킬(메트)아크릴레이트 및 하이드록실기 함유 모노머를 함유하는 모노머 성분을 중합하여 얻어진 것이 바람직하다. 또한, 알킬(메트)아크릴레이트는, 알킬아크릴레이트 및/또는 알킬메타크릴레이트를 말하고, 본 발명의 (메트) 와는 동일한 의미이다.Examples of the acrylic pressure-sensitive adhesive include those containing a (meth) acryl-based polymer. The (meth) acryl-based polymer is not particularly limited. For example, the (meth) acryl-based polymer is preferably obtained by polymerizing a monomer component containing an alkyl (meth) acrylate, and includes an alkyl (meth) acrylate and a monomer containing a hydroxyl group Is preferably obtained by polymerizing a monomer component contained in the polymer. The alkyl (meth) acrylate refers to alkyl acrylate and / or alkyl methacrylate and has the same meaning as (meth) of the present invention.

알킬(메트)아크릴레이트의 알킬기로는, 직사슬형 또는 분기사슬형의 각종 것을 사용할 수 있다. 상기 알킬(메트)아크릴레이트의 구체예로는, 예를 들어 프로필(메트)아크릴레이트, n-부틸(메트)아크릴레이트, 이소부틸(메트)아크릴레이트, sec-부틸(메트)아크릴레이트, t-부틸(메트)아크릴레이트, n-펜틸(메트)아크릴레이트, 이소펜틸(메트)아크릴레이트, 이소아밀(메트)아크릴레이트, n-헥실(메트)아크릴레이트, 헵틸(메트)아크릴레이트, 2-에틸헥실(메트)아크릴레이트, 이소옥틸(메트)아크릴레이트, n-노닐(메트)아크릴레이트, 이소노닐(메트)아크릴레이트, n-데실(메트)아크릴레이트, 이소데실(메트)아크릴레이트, n-도데실(메트)아크릴레이트, 이소미리스틸(메트)아크릴레이트, n-트리데실(메트)아크릴레이트, 테트라데실(메트)아크릴레이트, 스테아릴(메트)아크릴레이트, 옥타데실(메트)아크릴레이트, 또는 도데실(메트)아크릴레이트 등을 예시할 수 있다. 이들은 단독으로 혹은 조합하여 사용할 수 있다. 이들 중에서도, 탄소수 4 ∼ 18 의 알킬기를 갖는 알킬(메트)아크릴레이트가 바람직하고, 탄소수 4 ∼ 10 의 알킬기를 갖는 (메트)아크릴레이트가 보다 바람직하며, n-부틸(메트)아크릴레이트, 2-에틸헥실(메트)아크릴레이트가 더 바람직하고, n-부틸(메트)아크릴레이트가 특히 바람직하다.As the alkyl group of the alkyl (meth) acrylate, various types of linear or branched types can be used. Specific examples of the alkyl (meth) acrylate include propyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, isobutyl (meth) acrylate, sec- (Meth) acrylate, isobutyl (meth) acrylate, isoamyl (meth) acrylate, n-hexyl (meth) acrylate, (Meth) acrylate, n-decyl (meth) acrylate, isooctyl (meth) acrylate, isooctyl (meth) acrylate, stearyl (meth) acrylate, octadecyl (meth) acrylate, n-dodecyl ) Acrylate, and dodecyl (meth) acrylate. . These can be used alone or in combination. Among these, alkyl (meth) acrylates having an alkyl group having 4 to 18 carbon atoms are preferable, and (meth) acrylates having an alkyl group having 4 to 10 carbon atoms are more preferable, and n-butyl (meth) acrylate, 2- Ethylhexyl (meth) acrylate is more preferable, and n-butyl (meth) acrylate is particularly preferable.

또, 하이드록실기 함유 모노머로는, (메트)아크릴로일기 또는 비닐기 등의 불포화 이중 결합을 갖는 중합성의 관능기를 갖고, 또한 하이드록실기를 갖는 것을 특별히 제한 없이 사용할 수 있다. 하이드록실기 함유 모노머로는, 예를 들어 2-하이드록시에틸(메트)아크릴레이트, 3-하이드록시프로필(메트)아크릴레이트, 4-하이드록시부틸(메트)아크릴레이트, 6-하이드록시헥실(메트)아크릴레이트, 8-하이드록시옥틸(메트)아크릴레이트, 10-하이드록시데실(메트)아크릴레이트, 12-하이드록시라우릴(메트)아크릴레이트, (4-하이드록시메틸시클로헥실)메틸(메트)아크릴레이트 등을 들 수 있고, 이들을 1 종 단독으로, 또는 2 종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다. 이들 중에서도, 4-하이드록시부틸아크릴레이트가 바람직하다. 또, 후술하는 가교제로서 이소시아네이트계 가교제를 사용하는 경우에는, 하이드록실기 함유 모노머로서 4-하이드록시부틸아크릴레이트를 사용함으로써, 이소시아네이트계 가교제의 이소시아네이트기와의 가교점을 효율적으로 확보할 수 있으므로 바람직하다.As the hydroxyl group-containing monomer, those having a polymerizable functional group having an unsaturated double bond such as a (meth) acryloyl group or a vinyl group and having a hydroxyl group can be used without particular limitation. Examples of the hydroxyl group-containing monomer include 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 3-hydroxypropyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate, 6-hydroxyhexyl (Meth) acrylate, 8-hydroxyoctyl (meth) acrylate, 10-hydroxydecyl (meth) acrylate, (Meth) acrylate, etc. These may be used singly or in combination of two or more kinds. Of these, 4-hydroxybutyl acrylate is preferred. When an isocyanate-based crosslinking agent is used as a crosslinking agent to be described later, it is preferable to use 4-hydroxybutyl acrylate as the hydroxyl group-containing monomer since a crosslinking point of the isocyanate-based crosslinking agent with the isocyanate group can be efficiently ensured .

본 발명에서 사용하는 (메트)아크릴계 폴리머를 형성하는 모노머 성분에는, 상기 탄소수 4 ∼ 18 의 알킬기를 갖는 알킬(메트)아크릴레이트, 임의로, 상기 하이드록실기 함유 모노머 등을 함유할 수 있지만, 이들 모노머 이외에도, 카르복실기 함유 모노머, 아릴기 함유 모노머, 그 밖의 공중합 모노머를 모노머 성분으로서 사용할 수 있다.The monomer component forming the (meth) acrylic polymer used in the present invention may include the alkyl (meth) acrylate having an alkyl group having 4 to 18 carbon atoms, optionally, the hydroxyl group-containing monomer, In addition, carboxyl group-containing monomers, aryl group-containing monomers and other copolymerizable monomers can be used as monomer components.

카르복실기 함유 모노머로는, (메트)아크릴로일기 또는 비닐기 등의 불포화 이중 결합을 갖는 중합성의 관능기를 갖고, 또한 카르복실기를 갖는 것을 특별히 제한 없이 사용할 수 있다. 카르복실기 함유 모노머로는, 예를 들어 아크릴산, 메타크릴산, 카르복시에틸(메트)아크릴레이트, 카르복시펜틸(메트)아크릴레이트, 이타콘산, 말레산, 푸마르산, 크로톤산 등을 들 수 있고, 이들은 단독 또는 조합하여 사용할 수 있다.As the carboxyl group-containing monomer, those having a polymerizable functional group having an unsaturated double bond such as a (meth) acryloyl group or a vinyl group and having a carboxyl group can be used without particular limitation. Examples of the carboxyl group-containing monomers include acrylic acid, methacrylic acid, carboxyethyl (meth) acrylate, carboxypentyl (meth) acrylate, itaconic acid, maleic acid, fumaric acid and crotonic acid, Can be used in combination.

아릴기 함유 모노머로는, (메트)아크릴로일기 또는 비닐기 등의 불포화 이중 결합을 갖는 중합성의 관능기를 갖고, 또한 아릴기를 갖는 것을 특별히 제한 없이 사용할 수 있다. 아릴기 함유 모노머로는, 예를 들어 (메트)아크릴산페닐, (메트)아크릴산벤질 등의 (메트)아크릴산아릴에스테르를 들 수 있다.As the aryl group-containing monomer, those having a polymerizable functional group having an unsaturated double bond such as a (meth) acryloyl group or a vinyl group and having an aryl group can be used without particular limitation. Examples of the aryl group-containing monomer include (meth) acrylic acid aryl esters such as phenyl (meth) acrylate and benzyl (meth) acrylate.

그 밖의 공중합 모노머로는, (메트)아크릴로일기 또는 비닐기 등의 불포화 이중 결합에 관련된 중합성의 관능기를 갖는 것이면 특별히 제한되지 않고, 예를 들어 (메트)아크릴산시클로헥실, (메트)아크릴산보르닐, (메트)아크릴산이소보르닐 등의 (메트)아크릴산 지환식 탄화수소에스테르 ; 예를 들어, 아세트산비닐, 프로피온산비닐 등의 비닐에스테르류 ; 예를 들어, 스티렌 등의 스티렌계 모노머 ; 예를 들어, (메트)아크릴산글리시딜, (메트)아크릴산메틸글리시딜 등의 에폭시기 함유 모노머 ; 예를 들어, (메트)아크릴산메톡시에틸, (메트)아크릴산에톡시에틸 등의 알콕시기 함유 모노머 ; 예를 들어, 아크릴로니트릴, 메타크릴로니트릴 등의 시아노기 함유 모노머 ; 예를 들어, 2-메타크릴로일옥시에틸이소시아네이트 등의 관능성 모노머 ; 예를 들어, 에틸렌, 프로필렌, 이소프렌, 부타디엔, 이소부틸렌 등의 올레핀계 모노머 ; 예를 들어, 비닐에테르 등의 비닐에테르계 모노머 ; 예를 들어, 염화비닐 등의 할로겐 원자 함유 모노머 등을 들 수 있다.The other copolymerizable monomer is not particularly limited as long as it has a polymerizable functional group related to an unsaturated double bond such as a (meth) acryloyl group or a vinyl group, and examples thereof include cyclohexyl (meth) acrylate, , (Meth) acrylic acid isobornyl, and other (meth) acrylic acid alicyclic hydrocarbon esters; Vinyl esters such as vinyl acetate and vinyl propionate; For example, styrene-based monomers such as styrene; Examples thereof include epoxy group-containing monomers such as glycidyl (meth) acrylate and methylglycidyl (meth) acrylate; Examples thereof include alkoxy group-containing monomers such as methoxyethyl (meth) acrylate and ethoxyethyl (meth) acrylate; For example, cyano group-containing monomers such as acrylonitrile and methacrylonitrile; Functional monomers such as, for example, 2-methacryloyloxyethyl isocyanate; For example, olefinic monomers such as ethylene, propylene, isoprene, butadiene and isobutylene; Vinyl ether monomers such as vinyl ether; Examples thereof include halogen atom-containing monomers such as vinyl chloride.

또, 공중합성 모노머로서, 예를 들어 N-시클로헥실말레이미드, N-이소프로필말레이미드, N-라우릴말레이미드, N-페닐말레이미드 등의 말레이미드계 모노머 ; 예를 들어, N-메틸이타콘이미드, N-에틸이타콘이미드, N-부틸이타콘이미드, N-옥틸이타콘이미드, N-2-에틸헥실이타콘이미드, N-시클로헥실이타콘이미드, N-라우릴이타콘이미드 등의 이타콘이미드계 모노머 ; 예를 들어, N-(메트)아크릴로일옥시메틸렌숙신이미드, N-(메트)아크릴로일-6-옥시헥사메틸렌숙신이미드, N-(메트)아크릴로일-8-옥시옥타메틸렌숙신이미드 등의 숙신이미드계 모노머 ; 예를 들어, 스티렌술폰산, 알릴술폰산, 2-(메트)아크릴아미드-2-메틸프로판술폰산, (메트)아크릴아미드프로판술폰산, 술포프로필(메트)아크릴레이트, (메트)아크릴로일옥시나프탈렌술폰산 등의 술폰산기 함유 모노머를 들 수 있다.Examples of the copolymerizable monomer include maleimide-based monomers such as N-cyclohexylmaleimide, N-isopropylmaleimide, N-laurylmaleimide and N-phenylmaleimide; For example, there may be mentioned N-methyl itaconimide, N-ethyl itaconimide, N-butyl itaconimide, N-octyl itaconimide, N-2-ethylhexyl itaconimide, Itaconimide monomers such as hexyl itaconimide and N-lauryl itaconimide; (Meth) acryloyloxymethylenesuccinimide, N- (meth) acryloyl-6-oxyhexamethylenesuccinimide, N- (meth) acryloyloxymethylenesuccinimide, N- Succinimide monomers such as succinimide; (Meth) acrylamide-2-methylpropanesulfonic acid, (meth) acrylamidopropanesulfonic acid, sulfopropyl (meth) acrylate, (meth) acryloyloxynaphthalenesulfonic acid and the like Of sulfonic acid group-containing monomers.

또, 공중합성 모노머로서, 아미드기 함유 모노머를 들 수 있다. 아미드기 함유 모노머는, 그 구조 중에 아미드기를 포함하고, 또한 (메트)아크릴로일기, 비닐기 등의 중합성 불포화 이중 결합을 포함하는 화합물이다. 아미드기 함유 모노머의 구체예로는, (메트)아크릴아미드, N,N-디메틸(메트)아크릴아미드, N,N-디에틸(메트)아크릴아미드, N-이소프로필아크릴아미드, N-메틸(메트)아크릴아미드, N-부틸(메트)아크릴아미드, N-헥실(메트)아크릴아미드, N-메틸올(메트)아크릴아미드, N-메틸올-N-프로판(메트)아크릴아미드, 아미노메틸(메트)아크릴아미드, 아미노에틸(메트)아크릴아미드, 메르캅토메틸(메트)아크릴아미드, 메르캅토에틸(메트)아크릴아미드 등의 아크릴아미드계 모노머 ; N-(메트)아크릴로일모르폴린, N-(메트)아크릴로일피페리딘, N-(메트)아크릴로일피롤리딘 등의 N-아크릴로일 복소고리 모노머 ; N-비닐피롤리돈, N-비닐-ε-카프로락탐 등의 N-비닐기 함유 락탐계 모노머 등을 들 수 있다. 아미드기 함유 모노머는, 내구성을 만족하는 데에 바람직하고, 아미드기 함유 모노머 중에서도, 특히 N-비닐기 함유 락탐계 모노머는, 투명 도전층에 대한 내구성을 만족시키는 데에 바람직하다.As the copolymerizable monomer, an amide group-containing monomer may be mentioned. The amide group-containing monomer is a compound containing an amide group in its structure and further containing a polymerizable unsaturated double bond such as a (meth) acryloyl group or a vinyl group. Specific examples of the amide group-containing monomer include (meth) acrylamide, N, N-dimethyl (meth) acrylamide, N, N-diethyl (meth) acrylamide, N-isopropylacrylamide, N-propyl (meth) acrylamide, N-methyl (meth) acrylamide, N-methyl (Meth) acrylamide, aminoethyl (meth) acrylamide, mercaptomethyl (meth) acrylamide and mercaptoethyl (meth) acrylamide; N-acryloyl heterocyclic monomers such as N- (meth) acryloyl morpholine, N- (meth) acryloylpiperidine and N- (meth) acryloylpyrrolidine; N-vinylpyrrolidone, N-vinyl-epsilon -caprolactam, and other N-vinyl group-containing lactam-based monomers. The amide group-containing monomer is preferable for satisfying the durability, and among the amide group-containing monomers, particularly the N-vinyl group-containing lactam monomer is preferable for satisfying the durability to the transparent conductive layer.

또, 공중합성 모노머로서, 예를 들어 (메트)아크릴산폴리에틸렌글리콜, (메트)아크릴산폴리프로필렌글리콜, (메트)아크릴산메톡시에틸렌글리콜, (메트)아크릴산메톡시폴리프로필렌글리콜 등의 글리콜계 아크릴에스테르 모노머 ; 그 외, 예를 들어 (메트)아크릴산테트라하이드로푸르푸릴이나, 불소(메트)아크릴레이트 등의 복소고리나, 할로겐 원자를 함유하는 아크릴산에스테르계 모노머 등을 들 수 있다.Examples of the copolymerizable monomer include glycol type acrylic ester monomers such as (meth) acrylic acid polyethylene glycol, (meth) acrylic acid polypropylene glycol, (meth) acrylic acid methoxyethylene glycol and (meth) acrylic acid methoxypolypropylene glycol ; In addition, examples thereof include heterocycles such as (meth) acrylate tetrahydrofurfuryl and fluorine (meth) acrylate, and acrylic ester monomers containing a halogen atom.

또한, 공중합성 모노머로서, 다관능성 모노머를 사용할 수 있다. 다관능성 모노머로는, (메트)아크릴로일기, 비닐기 등의 불포화 이중 결합을 2 개 이상 갖는 화합물 등을 들 수 있다. 예를 들어, 에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 디에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 트리에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 트리메틸올프로판트리(메트)아크릴레이트, 테트라에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트 등의 (모노 또는 폴리)에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트나, 프로필렌글리콜디(메트)아크릴레이트 등의 (모노 또는 폴리)프로필렌글리콜디(메트)아크릴레이트 등의 (모노 또는 폴리)알킬렌글리콜디(메트)아크릴레이트 외, 네오펜틸글리콜디(메트)아크릴레이트, 1,6-헥산디올디(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨디(메트)아크릴레이트, 트리메틸올프로판트리(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨트리(메트)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨헥사(메트)아크릴레이트 등의 (메트)아크릴산과 다가 알코올의 에스테르화물 ; 디비닐벤젠 등의 다관능 비닐 화합물 ; (메트)아크릴산알릴, (메트)아크릴산비닐 등의 반응성의 불포화 이중 결합을 갖는 화합물 등을 들 수 있다. 또, 다관능성 모노머로는, 폴리에스테르, 에폭시, 우레탄 등의 골격에 모노머 성분과 동일한 관능기로서 (메트)아크릴로일기, 비닐기 등의 불포화 이중 결합을 2 개 이상 부가한 폴리에스테르(메트)아크릴레이트, 에폭시(메트)아크릴레이트, 우레탄(메트)아크릴레이트 등을 사용할 수도 있다.Further, as the copolymerizable monomer, a polyfunctional monomer can be used. Examples of the polyfunctional monomer include compounds having two or more unsaturated double bonds such as a (meth) acryloyl group and a vinyl group. (Meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, triethylene glycol di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, tetraethylene glycol di (Mono or poly) ethylene glycol di (meth) acrylate such as (meth) acrylate and (mono or poly) propylene glycol di (meth) acrylate such as propylene glycol di (Meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, pentaerythritol di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri Esters of (meth) acrylic acid and polyhydric alcohols such as acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate and dipentaerythritol hexa (meth) acrylate; Polyfunctional vinyl compounds such as divinylbenzene; (Meth) acrylate, vinyl (meth) acrylate, and other reactive unsaturated double bonds. Examples of the polyfunctional monomer include polyester (meth) acrylate having two or more unsaturated double bonds such as (meth) acryloyl groups and vinyl groups as the same functional group as the monomer component in the backbone of polyester, epoxy, Epoxy (meth) acrylate, urethane (meth) acrylate, and the like.

이와 같은 (메트)아크릴계 폴리머의 제조는, 용액 중합, 괴상 중합, 유화 중합, 각종 라디칼 중합 등의 공지된 제조 방법을 적절히 선택할 수 있고, 특별히 한정되는 것은 아니다. 또, 얻어지는 (메트)아크릴계 폴리머는, 랜덤 공중합체, 블록 공중합체, 그래프트 공중합체 등 어느 것이라도 된다.The production of such (meth) acrylic polymers can be suitably selected from known production methods such as solution polymerization, bulk polymerization, emulsion polymerization, various kinds of radical polymerization, and the like, and is not particularly limited. The (meth) acryl-based polymer to be obtained may be a random copolymer, a block copolymer, or a graft copolymer.

용액 중합에 있어서는, 중합 용매로서, 예를 들어 아세트산에틸, 톨루엔 등이 사용된다. 구체적인 용액 중합예로는, 반응은 질소 등의 불활성 가스 기류하에서, 중합 개시제를 첨가하고, 통상 50 ∼ 70 ℃ 정도에서, 5 ∼ 30 시간 정도의 반응 조건으로 실시된다.In solution polymerization, for example, ethyl acetate, toluene and the like are used as the polymerization solvent. As a specific example of the solution polymerization, the reaction is carried out under the reaction conditions of about 50 to 70 DEG C for about 5 to 30 hours by adding a polymerization initiator under an inert gas stream such as nitrogen.

라디칼 중합에 사용되는 중합 개시제, 연쇄 이동제, 유화제 등은 특별히 한정되지 않고 적절히 선택하여 사용할 수 있다. 또한, (메트)아크릴계 폴리머의 중량 평균 분자량은, 중합 개시제, 연쇄 이동제의 사용량, 반응 조건에 따라 제어할 수 있고, 이들의 종류에 따라 적절한 그 사용량이 조정된다.The polymerization initiator, chain transfer agent and emulsifier used in the radical polymerization are not particularly limited and can be appropriately selected and used. The weight average molecular weight of the (meth) acryl-based polymer can be controlled depending on the amount of the polymerization initiator, the amount of the chain transfer agent used, and the reaction conditions, and the amount of the (meth) acrylic polymer is appropriately controlled depending on the kind.

본 발명에서 사용하는 아크릴계 점착제 조성물에는, 고온 다습 조건하에서의 밀착성을 향상시키기 위해서, 각종 실란 커플링제를 첨가할 수 있다. 실란 커플링제로는, 임의의 적절한 관능기를 갖는 것을 사용할 수 있다. 관능기로는, 예를 들어 비닐기, 에폭시기, 아미노기, 메르캅토기, (메트)아크릴옥시기, 아세토아세틸기, 이소시아네이트기, 스티릴기, 폴리술파이드기 등을 들 수 있다. 구체적으로는, 예를 들어 비닐트리에톡시실란, 비닐트리프로폭시실란, 비닐트리이소프로폭시실란, 비닐트리부톡시실란 등의 비닐기 함유 실란 커플링제 ; γ-글리시독시프로필트리메톡시실란, γ-글리시독시프로필트리에톡시실란, 3-글리시독시프로필메틸디에톡시실란, 2-(3,4-에폭시시클로헥실)에틸트리메톡시실란 등의 에폭시기 함유 실란 커플링제 ; γ-아미노프로필트리메톡시실란, N-β-(아미노에틸)-γ-아미노프로필메틸디메톡시실란, N-(2-아미노에틸)3-아미노프로필메틸디메톡시실란, γ-트리에톡시실릴-N-(1,3-디메틸부틸리덴)프로필아민, N-페닐-γ-아미노프로필트리메톡시실란 등의 아미노기 함유 실란 커플링제 ; γ-메르캅토프로필메틸디메톡시실란 등의 메르캅토기 함유 실란 커플링제 ; p-스티릴트리메톡시실란 등의 스티릴기 함유 실란 커플링제 ; γ-아크릴록시프로필트리메톡시실란, γ-메타크릴옥시프로필트리에톡시실란 등의 (메트)아크릴기 함유 실란 커플링제 ; 3-이소시아네이트프로필트리에톡시실란 등의 이소시아네이트기 함유 실란 커플링제 ; 비스(트리에톡시실릴프로필)테트라술파이드 등의 폴리술파이드기 함유 실란 커플링제 등을 들 수 있다.To the acrylic pressure sensitive adhesive composition used in the present invention, various silane coupling agents may be added in order to improve the adhesion under high temperature and high humidity conditions. As the silane coupling agent, those having any appropriate functional group can be used. Examples of the functional group include a vinyl group, an epoxy group, an amino group, a mercapto group, a (meth) acryloxy group, an acetoacetyl group, an isocyanate group, a styryl group and a polysulfide group. Specific examples thereof include vinyl group-containing silane coupling agents such as vinyltriethoxysilane, vinyltripropoxysilane, vinyltriisopropoxysilane and vinyltributoxysilane; ? -glycidoxypropyltrimethoxysilane,? -glycidoxypropyltriethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, etc. An epoxy group-containing silane coupling agent; (aminoethyl) -? - aminopropylmethyldimethoxysilane, N- (2-aminoethyl) 3-aminopropylmethyldimethoxysilane,? -triethoxysilyl Amino group-containing silane coupling agents such as -N- (1,3-dimethylbutylidene) propylamine and N-phenyl- gamma -aminopropyltrimethoxysilane; a mercapto group-containing silane coupling agent such as? -mercaptopropylmethyl dimethoxysilane; styryl group-containing silane coupling agents such as p-styryltrimethoxysilane; (meth) acryl group-containing silane coupling agents such as? -acryloxypropyltrimethoxysilane and? -methacryloxypropyltriethoxysilane; Isocyanate group-containing silane coupling agents such as 3-isocyanatepropyltriethoxysilane; And polysulfide group-containing silane coupling agents such as bis (triethoxysilylpropyl) tetrasulfide.

나아가서는, 본 발명에서 사용하는 아크릴계 점착제 조성물에는, 가교제를 첨가함으로써, 점착제의 내구성에 관계하는 응집력을 부여할 수 있기 때문에 바람직하다.Furthermore, the acrylic pressure-sensitive adhesive composition used in the present invention is preferably added with a crosslinking agent because cohesive force relating to the durability of the pressure-sensitive adhesive can be imparted.

가교제로는, 다관능성의 화합물이 사용되고, 유기계 가교제나 다관능성 금속 킬레이트를 들 수 있다. 유기계 가교제로는, 에폭시계 가교제, 이소시아네이트계 가교제, 카르보디이미드계 가교제, 이민계 가교제, 옥사졸린계 가교제, 아지리딘계 가교제, 과산화물계 가교제 등을 들 수 있다. 다관능성 금속 킬레이트는, 다가 금속 원자가 유기 화합물과 공유결합 또는 배위결합하고 있는 것이다. 다가 금속 원자로는, Al, Cr, Zr, Co, Cu, Fe, Ni, V, Zn, In, Ca, Mg, Mn, Y, Ce, Sr, Ba, Mo, La, Sn, Ti 등을 들 수 있다. 공유결합 또는 배위결합하는 유기 화합물 중의 원자로는 산소 원자 등을 들 수 있고, 유기 화합물로는 알킬에스테르, 알코올 화합물, 카르복실산 화합물, 에테르 화합물, 케톤 화합물 등을 들 수 있다. 이들 가교제는, 1 종 단독으로 또는 2 종 이상을 조합하여 사용할 수 있다. 이들 중에서도, 과산화물계 가교제, 이소시아네이트계 가교제가 바람직하고, 이들을 조합하여 사용하는 것이 보다 바람직하다.As the crosslinking agent, a polyfunctional compound is used, and examples thereof include an organic crosslinking agent and a polyfunctional metal chelate. Examples of the organic crosslinking agent include an epoxy crosslinking agent, an isocyanate crosslinking agent, a carbodiimide crosslinking agent, an imine crosslinking agent, an oxazoline crosslinking agent, an aziridine crosslinking agent, and a peroxide crosslinking agent. The polyfunctional metal chelate is a covalent bond or a coordination bond of a polyvalent metal atom with an organic compound. Examples of the multivalent metal atom include Al, Cr, Zr, Co, Cu, Fe, Ni, V, Zn, In, Ca, Mg, Mn, Y, Ce, Sr, Ba, Mo, La, have. Examples of the reactive group in the covalent bond or the coordination bond include an oxygen atom and the like. Examples of the organic compound include an alkyl ester, an alcohol compound, a carboxylic acid compound, an ether compound and a ketone compound. These crosslinking agents may be used alone or in combination of two or more. Among them, a peroxide-based cross-linking agent and an isocyanate-based cross-linking agent are preferable, and it is more preferable to use them in combination.

이소시아네이트계 가교제는, 이소시아네이트기 (이소시아네이트기를 블록제 또는 수량체화 (數量體化) 등에 의해 일시적으로 보호한 이소시아네이트 재생형 관능기를 포함한다) 를 1 분자 중에 2 개 이상 갖는 화합물을 말한다.The isocyanate-based crosslinking agent refers to a compound having two or more isocyanate groups (including an isocyanate regenerated functional group temporarily protected by an isocyanate group as a blocking agent or a quantification agent) in one molecule.

이소시아네이트계 가교제로는, 톨릴렌디이소시아네이트, 자일렌디이소시아네이트 등의 방향족 이소시아네이트, 이소포론디이소시아네이트 등의 지환족 이소시아네이트, 헥사메틸렌디이소시아네이트 등의 지방족 이소시아네이트 등을 들 수 있다.Examples of the isocyanate crosslinking agent include aromatic isocyanates such as tolylene diisocyanate and xylylene diisocyanate; alicyclic isocyanates such as isophorone diisocyanate; and aliphatic isocyanates such as hexamethylene diisocyanate.

과산화물계 가교제로는, 각종 과산화물이 사용된다. 과산화물로는, 디(2-에틸헥실)퍼옥시디카보네이트, 디(4-t-부틸시클로헥실)퍼옥시디카보네이트, 디-sec-부틸퍼옥시디카보네이트, t-부틸퍼옥시네오데카노에이트, t-헥실퍼옥시피발레이트, t-부틸퍼옥시피발레이트, 디라우로일퍼옥사이드, 디-n-옥타노일퍼옥사이드, 1,1,3,3-테트라메틸부틸퍼옥시이소부틸레이트, 1,1,3,3-테트라메틸부틸퍼옥시2-에틸헥사노에이트, 디(4-메틸벤조일)퍼옥사이드, 디벤조일퍼옥사이드, t-부틸퍼옥시이소부틸레이트, 등을 들 수 있다. 이들 중에서도, 특히 가교 반응 효율이 우수한, 디(4-t-부틸시클로헥실)퍼옥시디옥시디카보네이트, 디라우로일퍼옥사이드, 디벤조일퍼옥사이드가 바람직하게 사용된다.As the peroxide-based crosslinking agent, various peroxides are used. Examples of the peroxide include di (2-ethylhexyl) peroxydicarbonate, di (4-t-butylcyclohexyl) peroxydicarbonate, di-sec-butylperoxydicarbonate, t- 1,1,3,3-tetramethylbutylperoxyisobutyrate, 1,1,3,3-tetramethylbutylperoxyisobutyrate, 1,1,3,3-tetramethylbutylperoxyisobutyrate, 1,1,3,3-tetramethylbutylperoxyisobutyrate, 1,1,3,3- 3,3-tetramethylbutylperoxy 2-ethylhexanoate, di (4-methylbenzoyl) peroxide, dibenzoyl peroxide, t-butyl peroxyisobutyrate and the like. Of these, di (4-t-butylcyclohexyl) peroxydioxydicarbonate, dilauryl peroxide, and dibenzoyl peroxide, which are particularly excellent in the efficiency of the crosslinking reaction, are preferably used.

또, 본 발명에서 사용하는 아크릴계 점착제 조성물에는, 이온성 화합물을 첨가함으로써, 대전 방지 기능을 부여할 수 있을 뿐만 아니라, 투명 도전층의 표면 저항 상승을 억제하는 관점에서 바람직하다.In addition, the acrylic pressure sensitive adhesive composition used in the present invention is preferably added from the viewpoint of suppressing an increase in the surface resistance of the transparent conductive layer as well as providing an antistatic function by adding an ionic compound.

이온성 화합물로는, 알칼리 금속염 및/또는 유기 카티온-아니온염을 바람직하게 사용할 수 있다. 알칼리 금속염은, 알칼리 금속의 유기염, 및 무기염을 사용할 수 있다. 또한, 본 발명에서 말하는, 「유기 카티온-아니온염」이란, 유기염이고, 그 카티온부가 유기물로 구성되어 있는 것을 나타내고, 아니온부는 유기물이어도 되고, 무기물이어도 된다. 「유기 카티온-아니온염」은, 이온성 액체, 이온성 고체라고도 말한다.As the ionic compound, an alkali metal salt and / or an organic cation-anion salt can be preferably used. As the alkali metal salt, an organic salt of an alkali metal, and an inorganic salt can be used. The term "organic cation-anion salt" in the present invention means an organic salt, and the cation portion thereof is composed of an organic substance, and the anion portion may be an organic substance or an inorganic substance. The term "organic cation-anion salt" is also referred to as an ionic liquid or an ionic solid.

또, 이온성 화합물로는, 상기 알칼리 금속염, 유기 카티온-아니온염 외에, 염화암모늄, 염화알루미늄, 염화구리, 염화제1철, 염화제2철, 황산암모늄 등의 무기염을 들 수 있다. 이들 이온성 화합물은 단독으로 또는 복수를 병용할 수 있다.Examples of the ionic compound include inorganic salts such as ammonium chloride, aluminum chloride, copper chloride, ferrous chloride, ferric chloride and ammonium sulfate, in addition to the above alkali metal salts and organic cation-anion salts. These ionic compounds may be used singly or in combination.

나아가서는, 본 발명에서 사용하는 아크릴계 점착제 조성물에는, 필요에 따라, 점도 조정제, 박리 조정제, 점착 부여제, 가소제, 연화제, 유리 섬유, 유리 비즈, 금속 분말, 그 밖의 무기 분말 등으로 이루어지는 충전제, 안료, 착색제 (안료, 염료 등), pH 조정제 (산 또는 염기), 산화 방지제, 자외선 흡수제 등을, 또 본 발명의 목적을 일탈하지 않는 범위에서 각종 첨가제를 적절히 사용할 수도 있다. 이들 첨가제도 에멀션으로서 배합할 수 있다.The acrylic pressure-sensitive adhesive composition used in the present invention may further contain additives such as a viscosity modifier, a release modifier, a tackifier, a plasticizer, a softener, a glass fiber, a glass bead, a metal powder, , A coloring agent (pigment, dye, etc.), a pH adjusting agent (acid or base), an antioxidant, an ultraviolet absorber, and the like may be suitably used as long as they do not deviate from the object of the present invention. These additives may also be formulated as emulsions.

또, 본 발명에서 사용하는 아크릴계 점착제 조성물에는, 본 명세서 중에 기재된 인계 화합물을 함유해도 되지만, 편광 필름 또는 코팅층과의 밀착성의 관점에서 함유하지 않는 것이 바람직하다.The acrylic pressure sensitive adhesive composition used in the present invention may contain the phosphorus compound described in the present specification, but is preferably not contained in view of adhesion with the polarizing film or the coating layer.

상기 점착제층 (5) 의 형성 방법은 특별히 한정되지 않지만, 각종 기재 상에 상기 아크릴계 점착제 조성물을 도포하고, 열오븐 등의 건조기에 의해 건조시켜, 용제 등을 휘산시켜 점착제층을 형성하고, 상기 코팅층이 형성된 편광 필름 (1) 의 코팅층측에, 당해 점착제층을 전사하는 방법이어도 되고, 상기 코팅층이 형성된 편광 필름 (1) 의 코팅층 상에 직접 상기 아크릴계 점착제 조성물을 도포하여, 점착제층 (5) 을 형성해도 된다.The method of forming the pressure-sensitive adhesive layer (5) is not particularly limited. However, the acrylic pressure-sensitive adhesive composition may be coated on various substrates and dried by a dryer such as a heat oven to volatilize the solvent to form a pressure- Alternatively, the acrylic pressure sensitive adhesive composition may be directly applied onto the coating layer of the polarizing film 1 on which the coating layer is formed to form the pressure sensitive adhesive layer 5, .

상기 기재로는, 특별히 한정되는 것은 아니고, 예를 들어 이형 필름, 투명 수지 필름 기재 등의 각종 기재를 들 수 있다.The substrate is not particularly limited, and examples thereof include various substrates such as a release film and a transparent resin film base.

상기 기재나 편광 필름에 대한 도포 방법으로는, 각종 방법이 사용된다. 구체적으로는, 예를 들어 파운틴 코터, 롤 코트, 키스 롤 코트, 그라비아 코트, 리버스 코트, 롤 브러시, 스프레이 코트, 딥 롤 코트, 바 코트, 나이프 코트, 에어 나이프 코트, 커튼 코트, 립 코트, 다이 코터 등에 의한 압출 코트법 등의 방법을 들 수 있다.As the coating method for the substrate or the polarizing film, various methods are used. Specific examples thereof include fountain coaters, roll coats, kiss roll coats, gravure coats, reverse coats, roll brushes, spray coats, dip roll coats, bar coats, knife coats, air knife coats, curtain coats, And extrusion coating method using a coater or the like.

건조 조건 (온도, 시간) 은, 특별히 한정되는 것은 아니고, 아크릴계 점착제 조성물의 조성, 농도 등에 따라 적절히 설정할 수 있지만, 예를 들어 80 ∼ 170 ℃ 정도, 바람직하게는 90 ∼ 200 ℃ 에서, 1 ∼ 60 분간, 바람직하게는 2 ∼ 30 분간이다.The drying conditions (temperature and time) are not particularly limited and can be appropriately set according to the composition, concentration, etc. of the acrylic pressure-sensitive adhesive composition. For example, the drying condition (temperature and time) is from 80 to 170 캜, preferably from 90 to 200 캜, Minute, preferably 2 to 30 minutes.

점착제층 (5) 의 두께 (건조 후) 는, 예를 들어 5 ∼ 100 ㎛ 인 것이 바람직하고, 10 ∼ 60 ㎛ 인 것이 보다 바람직하며, 12 ∼ 40 ㎛ 인 것이 더 바람직하다. 점착제층 (5) 의 두께가 10 ㎛ 미만에서는, 피착체에 대한 밀착성이 부족해지고, 고온, 고온 다습하에서의 내구성이 충분하지 않은 경향이 있다. 한편, 점착제층 (5) 의 두께가 100 ㎛ 를 초과하는 경우에는, 점착제층 (5) 을 형성할 때의 아크릴계 점착제 조성물의 도포, 건조 시에 충분하게 완전히 건조시킬 수 없어, 기포가 잔존하거나, 점착제층의 면에 두께 불균일이 발생하거나 해, 외관상의 문제가 현재화하기 쉬워지는 경향이 있다.The thickness (after drying) of the pressure-sensitive adhesive layer 5 is preferably, for example, 5 to 100 占 퐉, more preferably 10 to 60 占 퐉, and further preferably 12 to 40 占 퐉. If the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer (5) is less than 10 m, adhesion to an adherend becomes insufficient, and durability at high temperature and high temperature and high humidity tends to be insufficient. On the other hand, when the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer 5 is more than 100 占 퐉, it is impossible to completely dry the pressure-sensitive adhesive composition sufficiently at the time of applying and drying the pressure-sensitive adhesive composition for forming the pressure-sensitive adhesive layer 5, There is a tendency that the thickness irregularity occurs on the surface of the pressure-sensitive adhesive layer and the appearance problem becomes easier to present.

상기 이형 필름의 구성 재료로는, 예를 들어 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리에스테르 필름 등의 수지 필름, 종이, 천, 부직포 등의 다공질 재료, 네트, 발포 시트, 금속박, 및 이들의 라미네이트체 등 적절한 박엽체 등을 들 수 있지만, 표면 평활성이 우수한 점에서 수지 필름이 바람직하게 사용된다.Examples of the constituent material of the release film include a resin film such as polyethylene, polypropylene, polyethylene terephthalate and polyester film, a porous material such as paper, cloth, nonwoven fabric, net, foam sheet, metal foil, Etc., but resin films are preferably used because of their excellent surface smoothness.

그 수지 필름으로는, 예를 들어 폴리에틸렌 필름, 폴리프로필렌 필름, 폴리부텐 필름, 폴리부타디엔 필름, 폴리메틸펜텐 필름, 폴리염화비닐 필름, 염화비닐 공중합체 필름, 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름, 폴리부틸렌테레프탈레이트 필름, 폴리우레탄 필름, 에틸렌-아세트산비닐 공중합체 필름 등을 들 수 있다.Examples of the resin film include a polyethylene film, a polypropylene film, a polybutene film, a polybutadiene film, a polymethylpentene film, a polyvinyl chloride film, a vinyl chloride copolymer film, a polyethylene terephthalate film, a polybutylene terephthalate Film, a polyurethane film, an ethylene-vinyl acetate copolymer film, and the like.

상기 이형 필름의 두께는, 통상 5 ∼ 200 ㎛ 이고, 바람직하게는 5 ∼ 100 ㎛ 정도이다. 상기 이형 필름에는, 필요에 따라, 실리콘계, 불소계, 장사슬 알킬계 혹은 지방산 아미드계의 이형제, 실리카 분말 등에 의한 이형 및 방오 처리나, 도포형, 혼련형, 증착형 등의 대전 방지 처리를 할 수도 있다. 특히, 상기 이형 필름의 표면에 실리콘 처리, 장사슬 알킬 처리, 불소 처리 등의 박리 처리를 적절히 실시함으로써, 상기 점착제층으로부터의 박리성을 보다 높일 수 있다.The thickness of the release film is usually 5 to 200 占 퐉, preferably 5 to 100 占 퐉. If necessary, the releasing film may be subjected to antistatic treatment such as release and antifouling treatment with silicone, fluorine, long chain alkyl or fatty acid amide releasing agent, silica powder, etc., coating type, kneading type, have. Particularly, the releasability from the pressure-sensitive adhesive layer can be further improved by suitably carrying out the surface treatment of the release film, such as silicone treatment, long-chain alkyl treatment or fluorine treatment.

상기 투명 수지 필름 기재로는, 특별히 제한되지 않지만, 투명성을 갖는 각종 수지 필름이 사용된다. 당해 수지 필름은 1 층의 필름에 의해 형성되어 있다. 예를 들어, 그 재료로서 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트 등의 폴리에스테르계 수지, 아세테이트계 수지, 폴리에테르술폰계 수지, 폴리카보네이트계 수지, 폴리아미드계 수지, 폴리이미드계 수지, 폴리올레핀계 수지, (메트)아크릴계 수지, 폴리염화비닐계 수지, 폴리염화비닐리덴계 수지, 폴리스티렌계 수지, 폴리비닐알코올계 수지, 폴리아릴레이트계 수지, 폴리페닐렌술파이드계 수지 등을 들 수 있다. 이들 중에서 특히 바람직한 것은, 폴리에스테르계 수지, 폴리이미드계 수지 및 폴리에테르술폰계 수지이다.The transparent resin film base material is not particularly limited, but various resin films having transparency are used. The resin film is formed of a single-layer film. For example, as the material thereof, a polyester resin such as polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate, an acetate resin, a polyether sulfone resin, a polycarbonate resin, a polyamide resin, a polyimide resin, a polyolefin resin, (Meth) acrylic resins, polyvinyl chloride resins, polyvinylidene chloride resins, polystyrene resins, polyvinyl alcohol resins, polyarylate resins, and polyphenylene sulfide resins. Of these, particularly preferred are polyester resins, polyimide resins and polyether sulfone resins.

상기 필름 기재의 두께는, 15 ∼ 200 ㎛ 인 것이 바람직하다.The thickness of the film substrate is preferably 15 to 200 탆.

상기 코팅층이 형성된 편광 필름 (1) 의 코팅층 상에 대한 점착제층의 형성 방법은, 전술한 바와 같다.The method of forming the pressure-sensitive adhesive layer on the coating layer of the polarizing film (1) on which the coating layer is formed is as described above.

또, 본 발명의 점착제층이 형성된 편광 필름의 점착제층이 노출되는 경우에는, 실용에 제공될 때까지 이형 필름 (세퍼레이터) 으로 점착제층을 보호해도 된다. 이형 필름으로는, 전술한 것을 들 수 있다. 상기 점착제층의 제작 시에 기재로서 이형 필름을 사용한 경우에는, 이형 필름 상의 점착제층과 요오드계 편광 필름을 첩합함으로써, 당해 이형 필름은, 점착제층이 형성된 편광 필름의 점착제층의 이형 필름으로서 사용할 수 있어, 공정 면에 있어서의 간략화가 가능하다.When the pressure-sensitive adhesive layer of the polarizing film on which the pressure-sensitive adhesive layer of the present invention is formed is exposed, the pressure-sensitive adhesive layer may be protected with a release film (separator) until it is provided for practical use. Examples of the release film include those described above. When a release film is used as the base material in the production of the pressure-sensitive adhesive layer, the releasing film can be used as a releasing film of a pressure-sensitive adhesive layer of a polarizing film on which a pressure-sensitive adhesive layer is formed by bonding an adhesive layer on the release film to an iodine- Therefore, it is possible to simplify the process.

본 발명의 상기 점착제층이 형성된 편광 필름은, 점착제층이 형성된 편광 필름의 점착제층과 투명 도전층을 갖는 부재의 투명 도전층이 접촉하도록 첩합하여 사용할 수 있다.The polarizing film on which the pressure-sensitive adhesive layer of the present invention is formed can be used by being attached so that the pressure-sensitive adhesive layer of the polarizing film on which the pressure-sensitive adhesive layer is formed and the transparent conductive layer of the member having the transparent conductive layer are in contact with each other.

투명 도전층을 갖는 부재로는, 특별히 한정되는 것은 아니고, 공지된 것을 사용할 수 있지만, 투명 필름 등의 투명 기재 상에 투명 도전층을 갖는 것이나, 투명 도전층과 액정 셀을 갖는 부재를 들 수 있다.The member having the transparent conductive layer is not particularly limited and a well-known member can be used. Examples of the member having the transparent conductive layer on the transparent substrate such as a transparent film and the member having the transparent conductive layer and the liquid crystal cell .

투명 기재로는, 투명성을 갖는 것이면 되고, 예를 들어 수지 필름이나, 유리 등으로 이루어지는 기재 (예를 들어, 시트상이나 필름상, 판상 기재 등) 등을 들 수 있고, 수지 필름이 특히 바람직하다. 투명 기재의 두께는, 특별히 한정되지 않지만, 10 ∼ 200 ㎛ 정도가 바람직하고, 15 ∼ 150 ㎛ 정도가 보다 바람직하다.The transparent substrate may be any material having transparency, for example, a resin film, a substrate made of glass or the like (for example, a sheet-like, film-like, or plate-like substrate), and the resin film is particularly preferable. The thickness of the transparent base material is not particularly limited, but is preferably about 10 to 200 占 퐉, more preferably about 15 to 150 占 퐉.

상기 수지 필름의 재료로는, 특별히 제한되지 않지만, 투명성을 갖는 각종 플라스틱 재료를 들 수 있다. 예를 들어, 그 재료로서 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트 등의 폴리에스테르계 수지, 아세테이트계 수지, 폴리에테르술폰계 수지, 폴리카보네이트계 수지, 폴리아미드계 수지, 폴리이미드계 수지, 폴리올레핀계 수지, (메트)아크릴계 수지, 폴리염화비닐계 수지, 폴리염화비닐리덴계 수지, 폴리스티렌계 수지, 폴리비닐알코올계 수지, 폴리아릴레이트계 수지, 폴리페닐렌술파이드계 수지 등을 들 수 있다. 이들 중에서 특히 바람직한 것은, 폴리에스테르계 수지, 폴리이미드계 수지 및 폴리에테르술폰계 수지이다.The material of the resin film is not particularly limited, but various plastic materials having transparency can be cited. For example, as the material thereof, a polyester resin such as polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate, an acetate resin, a polyether sulfone resin, a polycarbonate resin, a polyamide resin, a polyimide resin, a polyolefin resin, (Meth) acrylic resins, polyvinyl chloride resins, polyvinylidene chloride resins, polystyrene resins, polyvinyl alcohol resins, polyarylate resins, and polyphenylene sulfide resins. Of these, particularly preferred are polyester resins, polyimide resins and polyether sulfone resins.

또, 상기 투명 기재에는, 표면에 미리 스퍼터링, 코로나 방전, 화염, 자외선 조사, 전자선 조사, 화성, 산화 등의 에칭 처리나 하도 처리를 실시하여, 이 위에 형성되는 투명 도전층의 상기 투명 기재에 대한 밀착성을 향상시키도록 해도 된다. 또, 투명 도전층을 형성하기 전에, 필요에 따라 용제 세정이나 초음파 세정 등에 의해 제진, 청정화해도 된다.The surface of the transparent substrate is subjected to an etching treatment or a priming treatment such as sputtering, corona discharge, a flame, an ultraviolet ray irradiation, an electron beam irradiation, a chemical conversion or an oxidation in advance to form a transparent conductive layer The adhesion may be improved. Before forming the transparent conductive layer, it may be damped and cleaned by solvent cleaning, ultrasonic cleaning or the like, if necessary.

상기 투명 도전층의 구성 재료로는 특별히 한정되지 않고, 인듐, 주석, 아연, 갈륨, 안티몬, 티탄, 규소, 지르코늄, 마그네슘, 알루미늄, 금, 은, 구리, 팔라듐, 텅스텐으로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종의 금속의 금속 산화물이 사용된다. 당해 금속 산화물에는, 필요에 따라, 추가로 상기 군에 나타낸 금속 원자를 포함하고 있어도 된다. 예를 들어, 산화주석을 함유하는 산화인듐 (ITO), 안티몬을 함유하는 산화주석 등이 바람직하게 사용되고, ITO 가 특히 바람직하게 사용된다. ITO 로는, 산화인듐 80 ∼ 99 중량％ 및 산화주석 1 ∼ 20 중량％ 를 함유하는 것이 바람직하다.The material of the transparent conductive layer is not particularly limited and may be at least one selected from the group consisting of indium, tin, zinc, gallium, antimony, titanium, silicon, zirconium, magnesium, aluminum, gold, silver, copper, palladium, A metal oxide of one kind of metal is used. The metal oxide may further contain a metal atom shown in the above group, if necessary. For example, indium oxide (ITO) containing tin oxide, tin oxide containing antimony and the like are preferably used, and ITO is particularly preferably used. ITO preferably contains 80 to 99% by weight of indium oxide and 1 to 20% by weight of tin oxide.

또, 상기 ITO 로는, 결정성의 ITO, 비결정성 (아모르퍼스) 의 ITO 를 들 수 있다. 결정성 ITO 는, 스퍼터 시에 고온을 가하거나, 비결정성 ITO 를 추가로 가열함으로써 얻을 수 있다. 상기 요오드에 의한 열화는, 비결정성 ITO 에 있어서 현저하게 발생하기 때문에, 본 발명의 점착제층이 형성된 편광 필름은, 비결정성의 ITO 에 있어서 특히 유효하다.Examples of the ITO include crystalline ITO and amorphous (ITO). The crystalline ITO can be obtained by applying a high temperature during sputtering or by further heating amorphous ITO. Since the deterioration by iodine occurs remarkably in amorphous ITO, the polarizing film on which the pressure-sensitive adhesive layer of the present invention is formed is particularly effective for amorphous ITO.

상기 투명 도전층의 두께는 특별히 제한되지 않지만, 7 ㎚ 이상으로 하는 것이 바람직하고, 10 ㎚ 이상으로 하는 것이 보다 바람직하며, 12 ∼ 60 ㎚ 로 하는 것이 더 바람직하고, 15 ∼ 45 ㎚ 로 하는 것이 더 바람직하며, 18 ∼ 45 ㎚ 로 하는 것이 더 바람직하고, 20 ∼ 30 ㎚ 로 하는 것이 특히 바람직하다. 투명 도전층의 두께가, 7 ㎚ 미만에서는 요오드에 의한 투명 도전층의 열화가 일어나기 쉽고, 투명 도전층의 전기 저항값의 변화가 커지는 경향이 있다. 한편, 60 ㎚ 를 초과하는 경우에는, 투명 도전층의 생산성이 저하하고, 비용도 상승하며, 또한 광학 특성도 저하하는 경향이 있다.The thickness of the transparent conductive layer is not particularly limited, but is preferably 7 nm or more, more preferably 10 nm or more, more preferably 12 to 60 nm, and more preferably 15 to 45 nm More preferably 18 to 45 nm, and particularly preferably 20 to 30 nm. If the thickness of the transparent conductive layer is less than 7 nm, deterioration of the transparent conductive layer due to iodine tends to occur, and the change in electrical resistance value of the transparent conductive layer tends to increase. On the other hand, when it exceeds 60 nm, the productivity of the transparent conductive layer is lowered, the cost is increased, and the optical characteristic is also lowered.

상기 투명 도전층의 형성 방법으로는 특별히 한정되지 않고, 종래 공지된 방법을 채용할 수 있다. 구체적으로는, 예를 들어 진공 증착법, 스퍼터링법, 이온 플레이팅법을 예시할 수 있다. 또, 필요로 하는 막두께에 따라 적절한 방법을 채용할 수도 있다.The method of forming the transparent conductive layer is not particularly limited, and conventionally known methods can be employed. Specifically, for example, a vacuum deposition method, a sputtering method, and an ion plating method can be exemplified. An appropriate method may be employed depending on the required film thickness.

상기 투명 도전층을 갖는 기재의 두께로는, 15 ∼ 200 ㎛ 를 들 수 있다. 또한, 박막화의 관점에서는 15 ∼ 150 ㎛ 인 것이 바람직하고, 15 ∼ 50 ㎛ 인 것이 보다 바람직하다. 상기 투명 도전층을 갖는 기재가 저항막 방식으로 사용되는 경우, 예를 들어 100 ∼ 200 ㎛ 의 두께를 들 수 있다. 또 정전 용량 방식으로 사용되는 경우, 예를 들어 15 ∼ 100 ㎛ 의 두께가 바람직하고, 특히 최근의 추가적인 박막화 요구에 따라 15 ∼ 50 ㎛ 의 두께가 보다 바람직하며, 20 ∼ 50 ㎛ 의 두께가 더 바람직하다.The thickness of the substrate having the transparent conductive layer is 15 to 200 탆. From the viewpoint of thinning, it is preferably 15 to 150 占 퐉, more preferably 15 to 50 占 퐉. When the substrate having the transparent conductive layer is used in a resistive film method, for example, a thickness of 100 to 200 mu m can be mentioned. When used in a capacitive method, for example, a thickness of 15 to 100 mu m is preferable, and more preferably 15 to 50 mu m, more preferably 20 to 50 mu m, Do.

또, 투명 도전층과 투명 기재 사이에, 필요에 따라, 언더코트층, 올리고머 방지층 등을 형성할 수 있다.An undercoat layer, an oligomer-preventing layer, and the like can be formed between the transparent conductive layer and the transparent substrate, if necessary.

또, 투명 도전층과 액정 셀을 갖는 부재로는, 각종 액정 표시 장치 등의 화상 표시 장치에 사용되는, 기판 (예를 들어, 유리 기판 등)/액정층/기판의 구성을 포함하는 액정 셀의 당해 기판의 액정층과 접하지 않는 측에 투명 도전층을 갖는 것을 들 수 있다. 또, 액정 셀 상에 컬러 필터 기판을 설치하는 경우에는, 당해 컬러 필터 상에 투명 도전층을 갖고 있어도 된다. 액정 셀의 기판 상에 투명 도전층을 형성하는 방법은, 상기와 동일하다.Examples of the member having the transparent conductive layer and the liquid crystal cell include a liquid crystal cell including a substrate (for example, a glass substrate or the like) / liquid crystal layer / substrate used for an image display device such as various liquid crystal display devices And a transparent conductive layer on the side not in contact with the liquid crystal layer of the substrate. When a color filter substrate is provided on a liquid crystal cell, a transparent conductive layer may be provided on the color filter. The method of forming the transparent conductive layer on the substrate of the liquid crystal cell is the same as described above.

3. 화상 표시 장치3. Image display device

본 발명의 점착제층이 형성된 편광 필름은, 전술한 바와 같이, 당해 점착제층이 형성된 편광 필름의 점착제층에 투명 도전층을 적층한 경우에도, 투명 도전층의 부식을 억제할 수 있고, 투명 도전층의 표면 저항 상승을 억제할 수 있는 것이다. 따라서, 점착제층이 형성된 편광 필름의 점착제층이 투명 도전층과 접하는 구성을 갖는 화상 표시 장치이면, 본 발명의 점착제층이 형성된 편광 필름을 바람직하게 사용할 수 있다. 예를 들어, 본 발명의 점착제층이 형성된 편광 필름과 투명 도전층을 갖는 액정 패널을, 상기 점착제층이 형성된 편광 필름의 점착제층과 상기 액정 패널의 투명 도전층이 접촉하도록 첩합하여, 화상 표시 장치로 할 수 있다.The polarizing film having the pressure-sensitive adhesive layer of the present invention can suppress the corrosion of the transparent conductive layer even when the transparent conductive layer is laminated on the pressure-sensitive adhesive layer of the polarizing film on which the pressure-sensitive adhesive layer is formed as described above, It is possible to suppress an increase in the surface resistance of the substrate. Therefore, if the pressure-sensitive adhesive layer of the polarizing film on which the pressure-sensitive adhesive layer is formed is in contact with the transparent conductive layer, the polarizing film on which the pressure-sensitive adhesive layer of the present invention is formed can be preferably used. For example, a liquid crystal panel having a polarizing film on which a pressure-sensitive adhesive layer of the present invention is formed and a transparent conductive layer is attached to the pressure-sensitive adhesive layer of the polarizing film on which the pressure-sensitive adhesive layer is formed and the transparent conductive layer of the liquid- .

더 구체적으로는, 투명 도전층을 대전 방지층 용도로서 사용하는 화상 표시 장치나, 투명 도전층을 터치 패널의 전극 용도로서 사용하는 화상 표시 장치를 들 수 있다. 투명 도전층을 대전 방지층 용도로서 사용하는 화상 표시 장치로는, 구체적으로는 예를 들어 편광 필름/점착제층/대전 방지층/유리 기판/액정층/구동 전극/유리 기판/점착제층/편광 필름으로 이루어지는 구성이고, 상기 대전 방지층, 구동 전극이 투명 도전층으로 형성되는 화상 표시 장치를 들 수 있다. 당해 화상 표시 장치의 상측 (시인측) 의 점착제층이 형성된 편광 필름으로서 본 발명의 점착제층이 형성된 편광 필름을 사용할 수 있다. 또, 투명 도전층을 터치 패널의 전극 용도로서 사용하는 화상 표시 장치로는, 예를 들어 편광 필름/점착제층/대전 방지층 겸 센서층/유리 기판/액정층/구동 전극 겸 센서층/유리 기판/점착제층/편광 필름의 구성 (인셀형 터치 패널) 이나, 편광 필름/점착제층/대전 방지층 겸 센서층/센서층/유리 기판/액정층/구동 전극/유리 기판/점착제층/편광 필름의 구성 (온셀형 터치 패널) 이고, 대전 방지층 겸 센서층, 센서층, 구동 전극이 투명 도전층으로 형성되는 화상 표시 장치를 들 수 있다. 당해 화상 표시 장치의 상측 (시인측) 의 점착제층이 형성된 편광 필름으로서 본 발명의 점착제층이 형성된 편광 필름을 사용할 수 있다.More specifically, an image display device using a transparent conductive layer as an antistatic layer application and an image display device using a transparent conductive layer as an electrode of a touch panel can be given. Specific examples of the image display device using the transparent conductive layer as the antistatic layer application include a polarizing film / pressure-sensitive adhesive layer / antistatic layer / glass substrate / liquid crystal layer / driving electrode / glass substrate / pressure- An image display device in which the antistatic layer and the driving electrode are formed of a transparent conductive layer. A polarizing film on which the pressure-sensitive adhesive layer of the present invention is formed can be used as the polarizing film on which the pressure-sensitive adhesive layer on the image side (viewer side) of the image display device is formed. As the image display device using the transparent conductive layer as the electrode of the touch panel, for example, a polarizing film / a pressure-sensitive adhesive layer / an antistatic layer and a sensor layer / a glass substrate / a liquid crystal layer / The structure of the pressure-sensitive adhesive layer / polarizing film (in-cell type touch panel) or polarizing film / pressure-sensitive adhesive layer / antistatic layer and sensor layer / sensor layer / glass substrate / liquid crystal layer / driving electrode / glass substrate / pressure- An on-cell type touch panel), and an image display device in which the antistatic layer and the sensor layer, the sensor layer, and the driving electrode are formed of a transparent conductive layer. A polarizing film on which the pressure-sensitive adhesive layer of the present invention is formed can be used as the polarizing film on which the pressure-sensitive adhesive layer on the image side (viewer side) of the image display device is formed.

실시예Example

이하, 본 발명에 관한 실시예를 이용하여 상세하게 설명하지만, 본 발명은 그 요지를 넘지 않는 한, 이하의 실시예에 한정되는 것은 아니다.BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to Examples. However, the present invention is not limited to the following Examples unless the gist thereof is exceeded.

＜편광자 중의 요오드 함유량＞≪ Iodine Content in Polarizer >

편광자 중의 요오드 함유량 (요오드 및/또는 요오드 이온의 함유량) 은, 이하의 순서에 따라 측정하였다. 1) 복수의, 소정량의 요오드화칼륨을 포함하는 편광자에 대해 형광 X 선 강도를 측정하고, 요오드 함유량과 형광 X 선 강도의 관계식을 도출하였다. 2) 요오드 함유량이 미지인 요오드계 편광자의 형광 X 선을 측정하고, 그 수치로부터 상기 관계식을 이용하여 요오드량을 계산하였다.The content of iodine (content of iodine and / or iodine ion) in the polarizer was measured according to the following procedure. 1) A fluorescent X-ray intensity of a plurality of polarizers containing a predetermined amount of potassium iodide was measured to derive a relational expression between the iodine content and the fluorescent X-ray intensity. 2) Fluorescent X-ray of an iodine-based polarizer having an unknown iodine content was measured, and from this value, the iodine amount was calculated using the above-mentioned relational expression.

＜아크릴계 폴리머의 중량 평균 분자량 (Mw) 의 측정＞≪ Measurement of weight average molecular weight (Mw) of acrylic polymer &

제조한 아크릴계 폴리머의 중량 평균 분자량은, GPC (겔 퍼미에이션 크로마토그래피) 에 의해 측정하였다.The weight average molecular weight of the acrylic polymer thus prepared was measured by GPC (gel permeation chromatography).

장치 : 토소사 제조, HLC-8220GPC Device: manufactured by Toso Co., Ltd., HLC-8220GPC

칼럼 : column :

샘플 칼럼 : 토소사 제조, TSKguardcolumn Super HZ-H (1 개) ＋ TSKgel Super HZM-H (2 개)Sample column: TSKguardcolumn Super HZ-H (1 piece) + TSKgel Super HZM-H (2 pieces)

레퍼런스 칼럼 : 토소사 제조, TSKgel Super H-RC (1 개) Reference column: TSKgel Super H-RC manufactured by Toso Co., Ltd. (1)

유량 : 0.6 ㎖/min Flow rate: 0.6 ml / min

주입량 : 10 ㎕ Injection volume: 10 μl

칼럼 온도 : 40 ℃Column temperature: 40 DEG C

용리액 : THF Eluent: THF

주입 시료 농도 : 0.2 중량％Injection sample concentration: 0.2 wt%

검출기 : 시차굴절계 Detector: differential refractometer

또한, 중량 평균 분자량은 폴리스티렌 환산에 의해 산출하였다.The weight average molecular weight was calculated by polystyrene conversion.

제조예 1 (편면 보호 편광 필름의 제작)Production Example 1 (Production of single-side protective polarizing film)

비정성 PET 기재에 9 ㎛ 두께의 PVA 층이 제막된 적층체를, 연신 온도 130 ℃ 의 공중 보조 연신에 의해, 연신 적층체를 생성하였다. 다음으로, 연신 적층체를, 물 100 중량부에 대하여, 요오드 0.1 중량부, 요오드화칼륨 0.7 중량부를 함유하는 염색액에 60 초간 침지하여, 착색 적층체를 생성하였다. 또한, 착색 적층체를 연신 온도 65 ℃ 의 붕산 수중 연신에 의해 총 연신 배율이 5.94 배가 되도록 비정성 PET 기재와 일체로 연신된 4 ㎛ 두께의 PVA 층을 포함하는 광학 필름 적층체를 생성하였다. 이와 같은 2 단 연신에 의해 비정성 PET 기재에 제막된 PVA 층의 PVA 분자가 고차로 배향되고, 염색에 의해 흡착된 요오드가 폴리요오드 이온 착물로서 일방향으로 고차로 배향된 고기능 편광층을 구성하는, 두께 4 ㎛ 의 PVA 층을 포함하는 광학 필름 적층체를 생성할 수 있었다. 또한, 당해 광학 필름 적층체의 편광층의 표면에 PVA 계 접착제를 도포하면서, 비누화 처리한 40 ㎛ 두께의 아크릴 수지 필름 (투명 보호 필름) 을 첩합한 후, 비정성 PET 기재를 박리하여, 박형의 요오드계 편광자를 사용한 편측에만 투명 보호 필름을 갖는 편면 보호 편광 필름을 제작하였다. 이하, 이것을 편면 보호 편광 필름 (1) 이라고 한다. 편면 보호 편광 필름 (1) 의 요오드 함유량은 5.1 중량％ 였다.A stretched laminate was produced by air-assisted stretching at a stretching temperature of 130 DEG C on a laminate having a 9 mu m-thick PVA layer formed on an amorphous PET substrate. Next, the drawn laminate was immersed in a dyeing solution containing 0.1 part by weight of iodine and 0.7 part by weight of potassium iodide for 100 seconds with respect to 100 parts by weight of water to obtain a colored laminate. Further, the colored layered product was stretched in boric acid aqueous solution having a stretching temperature of 65 占 폚 to produce an optical film laminate including a PVA layer having a thickness of 4 占 퐉 which was integrally stretched with an amorphous PET substrate so that the total draw ratio was 5.94. PVA molecules of the PVA layer formed on the amorphous PET substrate are oriented at a high degree by such two-step stretching, and iodine adsorbed by dyeing constitutes a highly functional polarizing layer oriented in one direction as a polyiodide ion complex, An optical film laminate including a PVA layer having a thickness of 4 占 퐉 could be produced. Further, a saponified 40 탆 thick acrylic resin film (transparent protective film) was applied while applying a PVA adhesive to the surface of the polarizing layer of the optical film laminate, and then the amorphous PET substrate was peeled off to form a thin A one-side protective polarizing film having a transparent protective film on only one side using an iodine polarizer was produced. Hereinafter, this is referred to as a single-side protective polarizing film (1). The iodine content of the single-side protective polarizing film (1) was 5.1% by weight.

제조예 2 (코팅층 형성용 수지 조성물 (A1) 의 조제)Production Example 2 (Preparation of Resin Composition (A1) for Coating Layer)

중합도 2500, 비누화도 99.0 몰％ 의 PVA 수지를 순수에 용해하여, 고형분 농도 4 중량％ 의 수용액을 조제하고, 또한 당해 수용액 중의 상기 폴리비닐알코올 수지의 고형분 100 중량부에 대하여, 인계 화합물로서 2 중량부의 모노부틸포스페이트 (상품명 : MP-4, 다이하치 화학 공업 (주) 제조) 를 첨가하여, 코팅층 형성용 수지 조성물 (A1) 을 얻었다.A PVA resin having a degree of polymerization of 2500 and a degree of saponification of 99.0 mol% was dissolved in purified water to prepare an aqueous solution having a solid concentration of 4% by weight. To the 100 parts by weight of the solid content of the polyvinyl alcohol resin in the aqueous solution, (Trade name: MP-4, manufactured by Daihachi Chemical Industry Co., Ltd.) was added to obtain a resin composition (A1) for forming a coating layer.

제조예 3 (코팅층 형성용 수지 조성물 (A2) 의 조제)Production Example 3 (Preparation of Resin Composition (A2) for Coating Layer Formation)

중합도 2500, 비누화도 99.0 몰％ 의 PVA 수지를 순수에 용해하고, 고형분 농도 4 중량％ 의 수용액을 조제하여, 이것을 코팅층 형성용 수지 조성물 (A2) 로 하였다.A PVA resin having a degree of polymerization of 2500 and a degree of saponification of 99.0 mol% was dissolved in pure water to prepare an aqueous solution having a solid content concentration of 4% by weight, and this was used as a coating composition forming resin composition (A2).

제조예 4 (코팅층 형성용 수지 조성물 (A3) 의 조제)Production Example 4 (Preparation of resin composition (A3) for forming coating layer)

N-하이드록시에틸아크릴아미드 (상품명 : HEAA, (주) 코진 제조) 12.5 부, 아크릴로일모르폴린 (상품명 : ACMO (등록상표), (주) 코진 제조) 25 부, 디메틸올-트리시클로데칸디아크릴레이트 (상품명 : 라이트아크릴레이트 DCP-A, 쿄에이샤 화학 (주) 제조) 62.5 부, 광 라디칼 중합 개시제 (2-메틸-1-(4-메틸티오페닐)-2-모르폴리노프로판-1-온, 상품명 : IRGACURE907, BASF 사 제조) 2 부, 광 증감제 (디에틸티오크산톤, 상품명 : KAYACURE DETX-S, 닛폰 카야쿠 (주) 제조) 2 부를 혼합하여 50 ℃ 에서 1 시간 교반하여 혼합물을 얻었다. 또한, 상기 혼합물의 고형분 100 중량부에 대하여, 인계 화합물로서 2 중량부의 모노부틸포스페이트 (상품명 : MP-4, 다이하치 화학 공업 (주) 제조) 를 첨가하여, 코팅층 형성용 수지 조성물 (A3) 을 얻었다., 12.5 parts of N-hydroxyethyl acrylamide (trade name: HEAA, manufactured by Kojin Chemical Co., Ltd.), 25 parts of acryloylmorpholine (trade name: ACMO (registered trademark) (2-methyl-1- (4-methylthiophenyl) -2-morpholinopropane (trade name) manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) (Trade name: IRGACURE 907, manufactured by BASF) and 2 parts of a photosensitizer (diethylthioxanthone, trade name: KAYACURE DETX-S, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) And the mixture was stirred to obtain a mixture. 2 parts by weight of monobutyl phosphate (trade name: MP-4, manufactured by Daihachi Chemical Industry Co., Ltd.) as a phosphorus compound was added to 100 parts by weight of the solid content of the mixture to prepare a coating layer forming resin composition (A3) .

제조예 5 (코팅층 형성용 수지 조성물 (A4) 의 조제)Production Example 5 (Preparation of Resin Composition (A4) for Coating Layer Formation)

인계 화합물을 첨가하지 않은 것 이외에는 제조예 4 와 동일한 방법으로, 코팅층 형성용 수지 조성물 (A4) 를 얻었다.A resin composition for forming a coating layer (A4) was obtained in the same manner as in Production Example 4 except that no phosphorus compound was added.

제조예 6 (코팅층 형성용 수지 조성물 (A5) 의 조제)Production Example 6 (Preparation of Resin Composition (A5) for Coating Layer)

중합도 2500, 비누화도 99.0 몰％ 의 PVA 수지를 순수에 용해하여, 고형분 농도 4 중량％ 의 수용액을 조제하고, 또한 당해 수용액 중의 상기 폴리비닐알코올 수지의 고형분 100 중량부에 대하여, 인계 화합물로서 5 중량부의 페닐포스폰산 (와코 쥰야쿠 공업 (주) 제조 시약) 을 첨가하여, 코팅층 형성용 수지 조성물 (A5) 룰 얻었다.A PVA resin having a degree of polymerization of 2500 and a degree of saponification of 99.0 mol% was dissolved in pure water to prepare an aqueous solution having a solid concentration of 4% by weight. To the 100 parts by weight of the solid content of the polyvinyl alcohol resin in the aqueous solution, (Manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) was added to obtain a resin composition (A5) for forming a coating layer.

제조예 7 (코팅층 형성용 수지 조성물 (B1) 의 조제)Production Example 7 (Preparation of Resin Composition (B1) for Coating Layer Formation)

고형분으로 우레탄계 폴리머를 30 ∼ 90 중량％, 및 폴리티오펜계 폴리머 (도전성 재료) 를 10 ∼ 50 중량％ 포함하는 용액 (상품명 : 데나트론 P-580W, 나가세켐텍스 (주) 제조) 과 고형분으로 옥사졸린기 함유 아크릴계 폴리머를 10 ∼ 70 중량％ 포함하는 용액 (상품명 : 에포크로스 WS-700, 닛폰 촉매 (주) 제조) 을, 물 100 중량％ 의 (혼합) 용액 중에 첨가하고, 고형분 농도 (베이스 농도) 가 0.4 중량％ 가 되도록 조제하여, 코팅층 형성용 수지 조성물 (B1) 을 얻었다.(Denatron P-580W, manufactured by Nagase Chemtech) containing 30 to 90% by weight of a urethane polymer as a solid component and 10 to 50% by weight of a polythiophene polymer (conductive material) (Mixed) solution containing 10 to 70% by weight of an oxazoline group-containing acrylic polymer (trade name: Epochros WS-700, manufactured by Nippon Catalysts Co., Ltd.) Concentration) was 0.4% by weight to obtain a coating layer-forming resin composition (B1).

제조예 8 (코팅층 형성용 수지 조성물 (B2) 의 조제)Production Example 8 (Preparation of Resin Composition (B2) for Coating Layer Formation)

제조예 7 의 데나트론 P-580W 대신에 폴리티오펜계 폴리머를 포함하지 않는 우레탄계 폴리머 용액 (상품명 : 데나트론 B-510C, 나가세켐텍스 (주) 제조) 을 사용한 것 이외에는 제조예 7 과 동일한 방법으로, 코팅층 형성용 수지 조성물 (B2) 를 얻었다.Except that a urethane-based polymer solution (trade name: Denatron B-510C, manufactured by Nagase Chemtech), which did not contain a polythiophene polymer, was used in place of Denatron P-580W in Production Example 7, To obtain a resin composition (B2) for forming a coating layer.

제조예 9 (아크릴계 점착제층 (C1) 의 제작)Production Example 9 (Production of acrylic pressure-sensitive adhesive layer (C1)) [

냉각관, 질소 도입관, 온도계 및 교반 장치를 구비한 반응 용기에, 부틸아크릴레이트 99 부, 4-하이드록시부틸아크릴레이트 1 부, 및 2,2-아조비스이소부티로니트릴을 상기 모노머 합계 (고형분) 100 부에 대해 0.3 부를 아세트산에틸과 함께 첨가해 질소 가스 기류하, 60 ℃ 에서 4 시간 반응시킨 후, 그 반응액에 아세트산에틸을 첨가하여, 중량 평균 분자량 165만의 아크릴계 폴리머 (a1) 을 함유하는 폴리머 용액을 얻었다 (고형분 농도 30 중량％). 상기 아크릴계 폴리머 용액의 고형분 100 부당, 가교제로서 0.3 부의 디벤조일퍼옥사이드 (상품명 : 나이퍼 BMT, 닛폰 유지 (주) 제조) 와, 0.1 부의 트리메틸올프로판자일릴렌디이소시아네이트 (상품명 : 타케네이트 D110N, 미츠이타케다 케미컬 (주) 제조) 와, 0.2 부의 아세토아세틸기 함유 실란 커플링제 (상품명 : A-100, 소켄 화학 (주) 제조) 와, 인계 화합물로서 0.1 부의 모노부틸포스페이트 (상품명 : MP-4, 다이하치 화학 공업 (주) 제조) 를 배합하여, 아크릴계 점착제 용액을 얻었다. 상기 아크릴계 점착제 용액 (C1) 을, 박리 처리한 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름 (두께 : 38 ㎛) 으로 이루어지는 이형 시트 (세퍼레이터) 의 표면에, 건조 후의 두께가 25 ㎛ 가 되도록 도포하고, 건조시켜, 점착제층 (C1) 을 형성하였다.In a reaction vessel equipped with a condenser, a nitrogen inlet tube, a thermometer and a stirrer, 99 parts of butyl acrylate, 1 part of 4-hydroxybutyl acrylate, and 2,2-azobisisobutyronitrile were added to the monomer mixture Solid content) was added together with ethyl acetate in an amount of 0.3 part per 100 parts, and the reaction was carried out at 60 DEG C for 4 hours in a nitrogen gas stream. Ethyl acetate was added to the reaction solution to obtain an acrylic polymer (a1) having a weight- (Solid content concentration: 30% by weight). 0.3 part of dibenzoyl peroxide (trade name: manufactured by Nippon BMT, manufactured by Nippon Oil and Fats Co., Ltd.) and 0.1 part of trimethylolpropane xylenediisocyanate (trade name: Takenate D110N, Mitsui Takeda Co., Ltd.) as a crosslinking agent were mixed with 100 parts of the solid content of the acryl- (Trade name: MP-4, manufactured by Dainichiseika Color & Chemicals Mfg. Co., Ltd.), 0.2 part of an acetoacetyl group-containing silane coupling agent Manufactured by Kagaku Kogyo Co., Ltd.) was blended to obtain an acrylic pressure-sensitive adhesive solution. The acrylic pressure-sensitive adhesive solution (C1) was coated on the surface of a release sheet (separator) composed of a polyethylene terephthalate film (thickness: 38 mu m) obtained by peeling treatment so as to have a thickness after drying of 25 mu m and dried to form a pressure- C1).

제조예 10 (아크릴계 점착제층 (C2) 의 제작)Production Example 10 (Production of acrylic pressure-sensitive adhesive layer (C2)) [

점착제 용액의 조제 시에, 인계 화합물을 첨가하지 않은 것 이외에는 제조예 9 와 동일하게 해 아크릴계 점착제층 (C2) 를 형성하였다.An acrylic pressure-sensitive adhesive layer (C2) was formed in the same manner as in Production Example 9, except that no phosphorus compound was added at the time of preparing the pressure-sensitive adhesive solution.

제조예 11 (아크릴계 점착제층 (C3) 의 제작)Production Example 11 (Production of acrylic pressure-sensitive adhesive layer (C3)) [

점착제 용액의 조제 시에, 추가로 도전성 재료로서 1-메틸-1-에틸피롤리디늄 비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드 (키시다 화학 (주) 제조) 0.5 부를 첨가한 것 이외에는 제조예 9 와 동일하게 해, 아크릴계 점착제층 (C3) 을 형성하였다.Except that 0.5 part of 1-methyl-1-ethylpyrrolidinium bis (trifluoromethanesulfonyl) imide (manufactured by Kishida Chemical Co., Ltd.) was further added as a conductive material at the preparation of the pressure sensitive adhesive solution 9, an acrylic pressure sensitive adhesive layer (C3) was formed.

제조예 12 (아크릴계 점착제층 (C4) 의 제작)Production Example 12 (Production of acrylic pressure-sensitive adhesive layer (C4)) [

점착제 용액의 조제 시에, 인계 화합물을 첨가하지 않은 것 이외에는 제조예 11 과 동일하게 해 아크릴계 점착제층 (C4) 를 형성하였다.An acrylic pressure-sensitive adhesive layer (C4) was formed in the same manner as in Production Example 11, except that no phosphorus compound was added at the time of preparing the pressure-sensitive adhesive solution.

제조예 13 (아크릴계 점착제층 (C5) 의 제작)Production Example 13 (Production of acrylic pressure-sensitive adhesive layer (C5)) [

냉각관, 질소 도입관, 온도계 및 교반 장치를 구비한 반응 용기에, 부틸아크릴레이트 95 부, 4-하이드록시부틸아크릴레이트 1 부, 아크릴산 4 부, 및 개시제로서 2,2-아조비스이소부티로니트릴을 상기 모노머 합계 (고형분) 100 부에 대하여 1 부를 아세트산에틸과 함께 첨가하여 질소 가스 기류하, 60 ℃ 에서 7 시간 반응시켰다. 그 후, 그 반응액에, 아세트산에틸을 첨가하여, 중량 평균 분자량 155만의 아크릴계 폴리머 (a2) 를 함유하는 용액을 얻었다 (고형분 농도 30 중량％).To a reaction vessel equipped with a cooling tube, a nitrogen inlet tube, a thermometer and a stirrer, 95 parts of butyl acrylate, 1 part of 4-hydroxybutyl acrylate, 4 parts of acrylic acid, and 2,2-azobisisobutylo Nitrile was added together with ethyl acetate in an amount of 1 part with respect to 100 parts of the monomer total amount (solid content), and the mixture was reacted at 60 DEG C for 7 hours under a nitrogen gas stream. Thereafter, ethyl acetate was added to the reaction solution to obtain a solution (solid content concentration: 30% by weight) containing an acrylic polymer (a2) having a weight average molecular weight of 1,55,

제조예 9 에 있어서, 아크릴계 폴리머 (a1) 을 함유하는 용액 대신에, 상기 아크릴계 폴리머 (a2) 를 함유하는 용액을 사용한 것 이외에는, 제조예 9 와 마찬가지로, 가교제, 실란 커플링제, 인계 화합물을 배합하여, 아크릴계 점착제 용액을 얻었다. 또, 상기 아크릴계 점착제 용액을 사용하여, 제조예 9 와 동일하게 해, 점착제층 (C5) 를 형성하였다.A crosslinking agent, a silane coupling agent and a phosphorus compound were compounded in the same manner as in Production Example 9, except that the solution containing the acrylic polymer (a2) was used instead of the solution containing the acrylic polymer (a1) To obtain an acrylic pressure-sensitive adhesive solution. Using the acrylic pressure-sensitive adhesive solution, the pressure-sensitive adhesive layer (C5) was formed in the same manner as in Production Example 9.

제조예 14 (아크릴계 점착제층 (C6) 의 제작)Production Example 14 (Production of acrylic pressure-sensitive adhesive layer (C6)) [

점착제 용액의 조제 시에, 인계 화합물을 첨가하지 않은 것 이외에는 제조예 13 과 동일하게 해 아크릴계 점착제층 (C6) 을 형성하였다.An acrylic pressure-sensitive adhesive layer (C6) was formed in the same manner as in Production Example 13 except that no phosphorus compound was added at the time of preparing the pressure-sensitive adhesive solution.

제조예 15 (아크릴계 점착제층 (C7) 의 제작)Production Example 15 (Production of acrylic pressure-sensitive adhesive layer (C7)) [

점착제 용액의 조제 시에, 추가로 도전성 재료로서 1-메틸-1-에틸피롤리디늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드 (키시다 화학 (주) 제조) 0.5 부를 첨가한 것 이외에는 제조예 9 와 동일하게 해, 아크릴계 점착제층 (C7) 을 형성하였다.Except that 0.5 part of 1-methyl-1-ethylpyrrolidinium bis (trifluoromethanesulfonyl) imide (manufactured by Kishida Chemical Co., Ltd.) was further added as a conductive material at the preparation of the pressure sensitive adhesive solution 9, an acrylic pressure-sensitive adhesive layer (C7) was formed.

제조예 16 (아크릴계 점착제층 (C8) 의 제작)Production Example 16 (Production of acrylic pressure-sensitive adhesive layer (C8)) [

점착제 용액의 조제 시에, 인계 화합물을 첨가하지 않은 것 이외에는 제조예 15 와 동일하게 해 아크릴계 점착제층 (C8) 을 형성하였다.An acrylic pressure-sensitive adhesive layer (C8) was formed in the same manner as in Production Example 15 except that no phosphorus compound was added at the time of preparing the pressure-sensitive adhesive solution.

실시예 1Example 1

제조예 1 에서 얻어진 편면 보호 편광 필름 (1) 의 편광자의 면 (투명 보호 필름이 형성되어 있지 않은 편광자면) 에, 25 ℃ 로 조정한 코팅층 형성용 수지 조성물 (A1) 을 와이어 바 코터로 건조 후의 두께가 1 ㎛ 가 되도록 도포한 후, 60 ℃ 에서 1 분간 열풍 건조시켜, 코팅층 1 을 형성하여, 1 층의 코팅층이 형성된 편면 보호 편광 필름을 제작하였다.The resin composition (A1) for forming a coating layer, which had been adjusted to 25 DEG C, was dried with a wire bar coater on the surface of the polarizer (polarizing surface on which no transparent protective film was formed) of the single-surface protective polarizing film (1) obtained in Production Example 1 Coated to a thickness of 1 mu m and then dried by hot air at 60 DEG C for 1 minute to form a coating layer 1 to prepare a one side protective polarizing film having a coating layer.

이어서, 상기에서 얻어진 1 층의 코팅층이 형성된 편면 보호 편광 필름의 코팅층 1 상에, 추가로 25 ℃ 로 조정한 코팅층용 조성물 (B1) 을 와이어 바 코터로 건조 후의 두께가 1 ㎛ 가 되도록 도포한 후, 60 ℃ 에서 1 분간 열풍 건조시켜, 코팅층 2 를 형성하여, 2 층의 코팅층이 형성된 편광 필름을 제작하였다.Subsequently, a composition (B1) for a coating layer, which had been further adjusted to 25 DEG C, was applied on the coating layer 1 of the single-sided protective polarizing film on which the single-layer coating layer obtained above was formed, so as to have a thickness of 1 mu m after drying with a wire bar coater , And dried by hot air at 60 DEG C for 1 minute to form a coating layer 2 to prepare a polarizing film having two coating layers.

이어서, 상기에서 얻어진 2 층의 코팅층이 형성된 편광 필름의 코팅층 2 상에, 상기 이형 시트 (세퍼레이터) 의 박리 처리면에 형성한 점착제층 (C2) 를 첩합하여, 점착제층이 형성된 편광 필름을 제작하였다.Subsequently, the pressure-sensitive adhesive layer (C2) formed on the exfoliated surface of the release sheet (separator) was laminated on the coating layer 2 of the polarizing film on which the two-layer coating layer obtained above was formed to prepare a polarizing film having the pressure- .

실시예 2 ∼ 11, 비교예 1 ∼ 12Examples 2 to 11 and Comparative Examples 1 to 12

실시예 1 에 있어서, 코팅층 형성용 수지 조성물, 점착제층을 표 1, 2 에 나타내는 바와 같이 변경한 것 이외에는, 실시예 1 과 동일하게 해, 점착제층이 형성된 편광 필름을 제작하였다.A polarizing film in which a pressure-sensitive adhesive layer was formed was prepared in the same manner as in Example 1, except that the resin composition for forming a coating layer and the pressure-sensitive adhesive layer in Example 1 were changed as shown in Tables 1 and 2.

상기 실시예 및 비교예에서 얻어진 점착제층이 형성된 편광 필름에 대하여 하기 평가를 실시하였다. 결과를 표 1, 2 에 나타낸다.The polarizing films on which the pressure-sensitive adhesive layers obtained in the above-mentioned Examples and Comparative Examples were formed were subjected to the following evaluations. The results are shown in Tables 1 and 2.

＜저항값 변화율＞≪ Rate of change of resistance value &

표면에 ITO 층이 형성된 도전성 필름 (상품명 : 엘레크리스타 (P400L), 닛토 전공 (주) 제조) 을 15 ㎜ × 15 ㎜ 로 절단하고, 이 도전성 필름 상의 중앙부에, 실시예, 및 비교예에서 얻어진 점착제층이 형성된 편광 필름을 8 ㎜ × 8 ㎜ 로 절단하고, 세퍼레이터 필름을 벗겨 첩합한 후, 50 ℃, 5 atm 에서 15 분간 오토클레이빙한 것을 내부식성의 측정 샘플로 하였다. 얻어진 측정용 샘플의 저항값을 후술하는 측정 장치를 이용하여 측정하고, 이것을 「초기 저항값」으로 하였다.A conductive film (trade name: P400L, manufactured by Nitto Denko Co., Ltd.) having an ITO layer formed on its surface was cut into 15 mm x 15 mm, and a pressure-sensitive adhesive obtained in Examples and Comparative Examples Layered polarizing film was cut to 8 mm x 8 mm and the separator film was peeled off and then autoclaved at 50 DEG C and 5 atm for 15 minutes to obtain a measurement sample of corrosion resistance. The resistance value of the measurement sample thus obtained was measured using a measuring device described later, and this was regarded as an " initial resistance value ".

그 후, 측정용 샘플을 온도 60 ℃, 습도 95 ％ 의 환경에 500 시간 투입한 후에 저항값을 측정한 것을, 「습열 후의 저항값」으로 하였다. 또한, 상기 저항값은, Accent Optical Technologies 사 제조 HL5500PC 를 이용하여 측정을 실시하였다. 상기 서술한 바와 같이 측정한 「초기 저항값」 및 「습열 후의 저항값」으로부터, 다음 식으로, 각각의 습열 상태의 경우의 저항값 변화율 (％) 을 산출하였다.Thereafter, the sample for measurement was put in an environment at a temperature of 60 DEG C and a humidity of 95% for 500 hours, and then the resistance value was measured to be " resistance value after wet heat ". The resistance value was measured using HL5500PC manufactured by Accent Optical Technologies. The resistance value change ratio (%) in the respective wet heat states was calculated from the "initial resistance value" and the "resistance value after wet heat" measured as described above according to the following formula.

Figure pat00006
Figure pat00006

저항값 변화율이, 150 ％ 미만이, 습열에 의한 저항값의 상승폭 작고, 내부식성 양호하다.When the rate of change in resistance value is less than 150%, the rise in the resistance value due to humid heat is small and the corrosion resistance is good.

＜밀착력＞<Adhesion>

실시예 및 비교예에서 얻어진 점착제층이 형성된 편광 필름을 25 ㎜ × 150 ㎜ 의 크기로 컷하고, 이것의 점착제층면과, 50 ㎛ 두께의 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름 표면에 인듐-산화주석을 증착시킨 증착 필름의 증착면이 접하도록 첩합하였다. 그 후, 상기 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름의 단부를 손으로 박리하고, 점착제층이 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름측에 부착되어 있는 것을 확인한 다음, (주) 시마즈 제작소 제조의 인장 시험기 AG-1 을 이용하여 180°방향으로 300 ㎜/분의 속도로 박리했을 때의 응력 (N/25 ㎜) 을 측정 (25 ℃) 하였다.The polarizing film on which the pressure-sensitive adhesive layer obtained in the Examples and Comparative Examples was formed was cut into a size of 25 mm x 150 mm, and a pressure-sensitive adhesive film surface of the pressure-sensitive adhesive layer surface and a 50 mu m thick polyethylene terephthalate film were coated with indium- Were brought into contact with each other so as to be in contact with each other. Thereafter, the end of the polyethylene terephthalate film was peeled off by hand, and it was confirmed that the pressure-sensitive adhesive layer adhered to the polyethylene terephthalate film side. Then, using a tensile testing machine AG-1 manufactured by Shimadzu Corporation, (N / 25 mm) when peeling at a speed of 300 mm / min was measured (25 ° C).

밀착력이 15 N/25 ㎜ 이상인 것이, 리워크 시의 점착제 잔류나, 가공 시의 점착제 탈락이 없고, 양호하다.When the adhesive force is 15 N / 25 mm or more, there is no adhesive residue remaining during reworking or adhesive detachment during processing.

Figure pat00007
Figure pat00007

Figure pat00008
Figure pat00008

표 중의 약기는, 각각 이하와 같다.The abbreviations in the tables are as follows.

(A1) ∼ (A4) : 코팅층 형성용 수지 조성물 (A1) ∼ (A4)(A1) to (A4): Resin Composition (A1) to (A4)

(B1), (B2) : 앵커층용 조성물 (B1), (B2)(B1), (B2): composition for anchor layer (B1), (B2)

(C1) ∼ (C8) : 점착제층 (C1) ∼ (C8) (C1) to (C8): pressure-sensitive adhesive layers (C1) to (C8)

또, 「유무」라고 기재하고 있는 항목에서, 「○」는 「함유하고 있는 것」, 「-」는 「함유하지 않는 것」을 나타낸다. In the items described as "presence / absence", "○" indicates "containing" and "-" indicates "not containing".

1 : 코팅층이 형성된 편광 필름
2 : 요오드계 편광자
3 : 투명 보호 필름
4 : 코팅층
5 : 점착제층
6 : 점착제층이 형성된 편광 필름 1: Polarizing film formed with coating layer
2: iodine polarizer
3: Transparent protective film
4: Coating layer
5: Pressure-sensitive adhesive layer
6: Polarizing film formed with a pressure-sensitive adhesive layer

Claims (12)

투명 보호 필름, 요오드 및/또는 요오드 이온을 함유하는 요오드계 편광자, 그리고 코팅층을 이 순서로 갖는 코팅층이 형성된 편광 필름에 있어서,
상기 요오드계 편광자 및/또는 상기 코팅층이, 인계 화합물을 함유하는 것을 특징으로 하는 코팅층이 형성된 편광 필름.A transparent protective film, an iodine-based polarizer containing iodine and / or iodine ions, and a coating layer in this order,
Wherein the iodine-based polarizer and / or the coating layer contain a phosphorus compound. 제 1 항에 있어서,
상기 인계 화합물은, 하기 일반식 (1) :
[화학식 1]
Figure pat00009

(식 중, R1 및 R2 는, 각각 독립적으로, 수소 원자, 또는 산소 원자를 포함하고 있어도 되는, 탄소수 1 ∼ 18 의 탄화수소 잔기를 나타낸다) 로 나타내는 화합물 및 상기 일반식 (1) 로 나타내는 화합물의 다량체로 이루어지는 군에서 선택되는 1 종 이상의 인산계 화합물, 그리고/또는 하기 일반식 (2) :
[화학식 2]
Figure pat00010

(식 중, R 은, 수소 원자, 또는 산소 원자를 포함하고 있어도 되는, 탄소수 1 ∼ 18 의 탄화수소 잔기이다) 로 나타내는 화합물 및 그 염으로 이루어지는 군 에서 선택되는 1 종 이상의 포스폰산계 화합물을 함유하는 것을 특징으로 하는 코팅층이 형성된 편광 필름.The method according to claim 1,
The phosphorus compound is represented by the following general formula (1):
[Chemical Formula 1]
Figure pat00009

(Wherein R 1 and R 2 each independently represent a hydrogen atom or a hydrocarbon residue having 1 to 18 carbon atoms which may contain an oxygen atom) and a compound represented by the above-mentioned general formula (1) And / or one or more phosphoric acid compounds selected from the group consisting of the following general formula (2):
(2)
Figure pat00010

(Wherein R is a hydrogen atom or a hydrocarbon residue having 1 to 18 carbon atoms which may contain an oxygen atom), and a salt thereof, and at least one phosphonic acid compound selected from the group consisting of Wherein the polarizing film is a polarizing film. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 요오드계 편광자의 두께가 10 ㎛ 이하인 것을 특징으로 하는 코팅층이 형성된 편광 필름.3. The method according to claim 1 or 2,
Wherein the thickness of the iodine-based polarizer is 10 占 퐉 or less. 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 요오드계 편광자 중의 상기 요오드 및/또는 요오드 이온의 함유량이, 3 ∼ 12 중량％ 인 것을 특징으로 하는 코팅층이 형성된 편광 필름.4. The method according to any one of claims 1 to 3,
Wherein a content of the iodine and / or iodide ion in the iodine-based polarizer is 3 to 12% by weight. 제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 요오드계 편광자와 상기 코팅층 사이에 투명 보호 필름을 갖지 않는 것을 특징으로 하는 코팅층이 형성된 편광 필름.5. The method according to any one of claims 1 to 4,
Wherein the transparent protective film is not provided between the iodine polarizer and the coating layer. 제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 코팅층이, 폴리우레탄계 수지, 폴리비닐알코올계 수지, 및 아크릴계 수지로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 개의 수지를 포함하는 수지 조성물로 형성되는 것을 특징으로 하는 코팅층이 형성된 편광 필름.6. The method according to any one of claims 1 to 5,
Wherein the coating layer is formed of a resin composition comprising at least one resin selected from the group consisting of a polyurethane resin, a polyvinyl alcohol resin, and an acrylic resin. 제 1 항 내지 제 6 항 중 어느 한 항에 기재된 코팅층이 형성된 편광 필름의 코팅층측에 점착제층을 갖는 것을 특징으로 하는 점착제층이 형성된 편광 필름.A polarizing film having a pressure-sensitive adhesive layer formed on the coating layer side of a polarizing film on which the coating layer according to any one of claims 1 to 6 is formed. 제 7 항에 있어서,
상기 점착제층이 이온성 화합물을 함유하는 것을 특징으로 하는 점착제층이 형성된 편광 필름.8. The method of claim 7,
Wherein the pressure-sensitive adhesive layer contains an ionic compound. 제 7 항 또는 제 8 항에 있어서,
제 7 항 또는 제 8 항에 기재된 점착제층이 형성된 편광 필름의 점착제층을, 투명 도전층을 갖는 투명 도전성 부재의 투명 도전층에 접촉하도록 첩합하여 사용하는 것을 특징으로 하는 점착제층이 형성된 편광 필름.9. The method according to claim 7 or 8,
A polarizing film comprising a pressure-sensitive adhesive layer of a polarizing film on which a pressure-sensitive adhesive layer is formed as set forth in claim 7 or 8 is used by being bonded to a transparent conductive layer of a transparent conductive member having a transparent conductive layer. 제 9 항에 있어서,
상기 투명 도전층이, 산화인듐주석으로 형성되는 것을 특징으로 하는 점착제층이 형성된 편광 필름.10. The method of claim 9,
Wherein the transparent conductive layer is formed of indium tin oxide. 제 10 항에 있어서,
상기 산화인듐주석이, 비결정성의 산화인듐주석인 것을 특징으로 하는 점착제층이 형성된 편광 필름.11. The method of claim 10,
Wherein the indium tin oxide is amorphous indium tin oxide. 제 7 항 내지 제 11 항 중 어느 한 항에 기재된 점착제층이 형성된 편광 필름의 점착제층과, 투명 도전층을 갖는 액정 패널을, 상기 점착제층이 형성된 편광 필름의 점착제층과 상기 액정 패널의 투명 도전층이 접촉하도록 첩합한 것을 특징으로 하는 화상 표시 장치.
A pressure-sensitive adhesive layer of a polarizing film in which the pressure-sensitive adhesive layer according to any one of claims 7 to 11 is formed and a liquid crystal panel having a transparent conductive layer are laminated on a pressure-sensitive adhesive layer of a polarizing film on which the pressure- Layer are in contact with each other.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20190125990A (en) * 2017-02-28 2019-11-07 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤 Optical stack

Families Citing this family (23)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP3605163B1 (en) * 2017-03-22 2022-01-12 Nippon Sheet Glass Company, Limited Ultraviolet and infrared absorbing composition and ultraviolet and infrared absorbing filter
TWI673542B (en) 2017-03-28 2019-10-01 日商日東電工股份有限公司 Built-in type liquid crystal panel and liquid crystal display device
TWI741352B (en) 2017-03-28 2021-10-01 日商日東電工股份有限公司 Built-in liquid crystal panel and liquid crystal display device
KR20230004917A (en) * 2017-03-28 2023-01-06 닛토덴코 가부시키가이샤 Polarizing film with added adhesive layer, polarizing film with added adhesive layer for in-cell liquid crystal panel, in-cell liquid crystal panel, and liquid crystal display device
WO2018181416A1 (en) * 2017-03-28 2018-10-04 日東電工株式会社 Polarizing film with added adhesive layer, polarizing film with added adhesive layer for in-cell liquid crystal panel, in-cell liquid crystal panel, and liquid crystal display device
JP6980815B2 (en) * 2017-12-26 2021-12-15 日東電工株式会社 Polarizing plate with adhesive layer
JP7236217B2 (en) * 2018-02-08 2023-03-09 日東電工株式会社 Polarizing plate with adhesive
CN108803124B (en) * 2018-06-27 2021-05-28 武汉华星光电技术有限公司 Curved liquid crystal display screen and manufacturing method thereof
JPWO2020070962A1 (en) * 2018-10-02 2021-09-02 日東電工株式会社 Polarizer
JP2020095263A (en) * 2018-11-29 2020-06-18 日東電工株式会社 Polarizing film with adhesive layer, and image display device
JP6748279B2 (en) * 2018-11-29 2020-08-26 日東電工株式会社 Liquid crystal panel with touch sensing function, liquid crystal display device, and polarizing film with adhesive layer
WO2020111232A1 (en) * 2018-11-29 2020-06-04 日東電工株式会社 Polarizing film with adhesive layer, and image display device
JP7372824B2 (en) * 2018-11-29 2023-11-01 日東電工株式会社 Polarizing film with adhesive layer and image display device
WO2020111235A1 (en) * 2018-11-29 2020-06-04 日東電工株式会社 Polarizing film with adhesive layer, and image display device
JP7481805B2 (en) * 2019-03-05 2024-05-13 日東電工株式会社 Polarizing film with conductive layer and method for producing same
WO2021149312A1 (en) * 2020-01-24 2021-07-29 日東電工株式会社 Retardation-layer-equipped polarizing plate and image display device using same
KR20220124150A (en) * 2020-01-24 2022-09-13 닛토덴코 가부시키가이샤 Polarizing plate with retardation layer and image display device using same
WO2021149314A1 (en) * 2020-01-24 2021-07-29 日東電工株式会社 Polarizing plate, polarizing plate with retardation layer, and image display device using said plates
WO2021149313A1 (en) * 2020-01-24 2021-07-29 日東電工株式会社 Polarizing plate and phase difference layer-equipped polarizing plate, and image display device using same
JP7273769B2 (en) * 2020-01-24 2023-05-15 日東電工株式会社 Polarizing plate, polarizing plate with retardation layer, and image display device using these
JP7273768B2 (en) * 2020-01-24 2023-05-15 日東電工株式会社 Polarizing plate, polarizing plate with retardation layer, and image display device using these
JP7258829B2 (en) * 2020-08-11 2023-04-17 日東電工株式会社 Polarizing plate with retardation layer and image display device using the same
WO2023276310A1 (en) * 2021-06-29 2023-01-05 コニカミノルタ株式会社 Resin film for polarizing plates, method for producing said resin film, polarizing plate, and display device

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5540383B2 (en) 1978-08-05 1980-10-17
JP2009242786A (en) * 2008-03-13 2009-10-22 Nitto Denko Corp Adhesive composition for optical member, adhesive layer for optical member, adhesive type optical member, transparent conductive laminate, touch panel, and image displaying device
JP2012092184A (en) * 2010-10-25 2012-05-17 New Tac Kasei Co Ltd Self-adhesive for tin-doped indium oxide film, and double-sided self-adhesive sheet
KR20140031885A (en) * 2011-05-26 2014-03-13 닛토덴코 가부시키가이샤 Polarizing film with adhesive layer and image display apparatus
JP2014141647A (en) * 2012-12-28 2014-08-07 Nitto Denko Corp Aqueous dispersion type adhesive composition for transparent conductive layer, adhesive layer for transparent conductive layer, optical film with adhesive layer, and liquid crystal display device

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002012814A (en) * 2000-04-28 2002-01-15 Kansai Paint Co Ltd Coating material composition
JP2008134270A (en) * 2006-10-27 2008-06-12 Nitto Denko Corp Liquid crystal panel and liquid crystal display apparatus
JP4188407B2 (en) * 2006-12-19 2008-11-26 日東電工株式会社 Adhesive optical film and image display device
JP5250307B2 (en) * 2007-07-11 2013-07-31 日東電工株式会社 Adhesive optical film and image display device
US20110031452A1 (en) * 2007-11-28 2011-02-10 Todd Krauss Nanoparticles Having Continuous Photoluminescence
JP6105314B2 (en) * 2013-02-15 2017-03-29 日東電工株式会社 Adhesive composition for acrylic or cycloolefin polarizing film, adhesive layer, acrylic or cycloolefin polarizing film with adhesive layer, and image forming apparatus
KR101697403B1 (en) * 2013-09-30 2017-01-17 주식회사 엘지화학 Polarizing plate and image display apparatus comprising the same
WO2015046999A1 (en) * 2013-09-30 2015-04-02 주식회사 엘지화학 Polarizing plate and image display apparatus comprising same
CN106415341B (en) * 2014-05-30 2020-03-17 住友化学株式会社 Adhesive-attached polarizing plate and liquid crystal display device
TWI552728B (en) * 2015-09-25 2016-10-11 國立清華大學 The method, apparatas, and system of the correction of energy crosstalk in dual-isotope simultaneous acquisition

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5540383B2 (en) 1978-08-05 1980-10-17
JP2009242786A (en) * 2008-03-13 2009-10-22 Nitto Denko Corp Adhesive composition for optical member, adhesive layer for optical member, adhesive type optical member, transparent conductive laminate, touch panel, and image displaying device
JP2012092184A (en) * 2010-10-25 2012-05-17 New Tac Kasei Co Ltd Self-adhesive for tin-doped indium oxide film, and double-sided self-adhesive sheet
KR20140031885A (en) * 2011-05-26 2014-03-13 닛토덴코 가부시키가이샤 Polarizing film with adhesive layer and image display apparatus
JP2014141647A (en) * 2012-12-28 2014-08-07 Nitto Denko Corp Aqueous dispersion type adhesive composition for transparent conductive layer, adhesive layer for transparent conductive layer, optical film with adhesive layer, and liquid crystal display device

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20190125990A (en) * 2017-02-28 2019-11-07 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤 Optical stack

Also Published As

Publication number Publication date
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