KR20120131160A - 퍼플루오로알킬시아노? 또는 퍼플루오로알킬시아노플루오로보레이트의 제조방법 - Google Patents
퍼플루오로알킬시아노? 또는 퍼플루오로알킬시아노플루오로보레이트의 제조방법 Download PDFInfo
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 23
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 title claims abstract description 20
- -1 trialkylsilyl cyanide Chemical compound 0.000 claims abstract description 241
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims abstract description 108
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims abstract description 70
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims abstract description 47
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 claims abstract description 38
- 125000005010 perfluoroalkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 29
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 18
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 claims description 147
- 239000011591 potassium Substances 0.000 claims description 147
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 141
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 75
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 63
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 claims description 57
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 49
- 229910052792 caesium Inorganic materials 0.000 claims description 47
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 claims description 47
- 239000011734 sodium Substances 0.000 claims description 47
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 claims description 41
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims description 41
- TVFDJXOCXUVLDH-UHFFFAOYSA-N caesium atom Chemical compound [Cs] TVFDJXOCXUVLDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 40
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 claims description 39
- 125000002023 trifluoromethyl group Chemical group FC(F)(F)* 0.000 claims description 36
- 229910052701 rubidium Inorganic materials 0.000 claims description 33
- IGLNJRXAVVLDKE-UHFFFAOYSA-N rubidium atom Chemical compound [Rb] IGLNJRXAVVLDKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 30
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 claims description 23
- 150000002892 organic cations Chemical class 0.000 claims description 16
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 claims description 16
- ZPBDQIYOSDRBHG-UHFFFAOYSA-N B(OC#N)(F)F Chemical compound B(OC#N)(F)F ZPBDQIYOSDRBHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 15
- BTBUEUYNUDRHOZ-UHFFFAOYSA-N Borate Chemical compound [O-]B([O-])[O-] BTBUEUYNUDRHOZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 15
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 claims description 15
- 150000003297 rubidium Chemical class 0.000 claims description 14
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 claims description 13
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 claims description 12
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 12
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 claims description 11
- 125000000304 alkynyl group Chemical group 0.000 claims description 11
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 150000002367 halogens Chemical group 0.000 claims description 11
- 125000005246 nonafluorobutyl group Chemical group FC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)* 0.000 claims description 11
- LMBFAGIMSUYTBN-MPZNNTNKSA-N teixobactin Chemical compound C([C@H](C(=O)N[C@@H]([C@@H](C)CC)C(=O)N[C@@H](CO)C(=O)N[C@H](CCC(N)=O)C(=O)N[C@H]([C@@H](C)CC)C(=O)N[C@@H]([C@@H](C)CC)C(=O)N[C@@H](CO)C(=O)N[C@H]1C(N[C@@H](C)C(=O)N[C@@H](C[C@@H]2NC(=N)NC2)C(=O)N[C@H](C(=O)O[C@H]1C)[C@@H](C)CC)=O)NC)C1=CC=CC=C1 LMBFAGIMSUYTBN-MPZNNTNKSA-N 0.000 claims description 10
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 claims description 9
- HBBGRARXTFLTSG-UHFFFAOYSA-N Lithium ion Chemical group [Li+] HBBGRARXTFLTSG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 229910001416 lithium ion Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 125000001255 4-fluorophenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(*)=C([H])C([H])=C1F 0.000 claims description 7
- 125000006343 heptafluoro propyl group Chemical group 0.000 claims description 7
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 claims description 6
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 5
- OCIFZBONRSADGH-UHFFFAOYSA-N fluorooxyboronic acid Chemical compound OB(O)OF OCIFZBONRSADGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 125000000538 pentafluorophenyl group Chemical group FC1=C(F)C(F)=C(*)C(F)=C1F 0.000 claims description 5
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical compound [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- CIWBSHSKHKDKBQ-JLAZNSOCSA-N Ascorbic acid Chemical compound OC[C@H](O)[C@H]1OC(=O)C(O)=C1O CIWBSHSKHKDKBQ-JLAZNSOCSA-N 0.000 claims description 4
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 claims description 4
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 claims description 4
- 239000011630 iodine Substances 0.000 claims description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 4
- 229910001516 alkali metal iodide Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 125000001072 heteroaryl group Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 claims description 3
- WSWCOQWTEOXDQX-MQQKCMAXSA-M (E,E)-sorbate Chemical compound C\C=C\C=C\C([O-])=O WSWCOQWTEOXDQX-MQQKCMAXSA-M 0.000 claims description 2
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-K Citrate Chemical compound [O-]C(=O)CC(O)(CC([O-])=O)C([O-])=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-K 0.000 claims description 2
- VMQMZMRVKUZKQL-UHFFFAOYSA-N Cu+ Chemical compound [Cu+] VMQMZMRVKUZKQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- JPVYNHNXODAKFH-UHFFFAOYSA-N Cu2+ Chemical compound [Cu+2] JPVYNHNXODAKFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-L Malonate Chemical compound [O-]C(=O)CC([O-])=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 2
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- PTFCDOFLOPIGGS-UHFFFAOYSA-N Zinc dication Chemical compound [Zn+2] PTFCDOFLOPIGGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229940072107 ascorbate Drugs 0.000 claims description 2
- 235000010323 ascorbic acid Nutrition 0.000 claims description 2
- 239000011668 ascorbic acid Substances 0.000 claims description 2
- WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N benzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1 WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229940001468 citrate Drugs 0.000 claims description 2
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 claims description 2
- 238000011065 in-situ storage Methods 0.000 claims description 2
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 claims description 2
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229940049920 malate Drugs 0.000 claims description 2
- 238000000746 purification Methods 0.000 claims description 2
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000004332 silver Substances 0.000 claims description 2
- 229940075554 sorbate Drugs 0.000 claims description 2
- 229940095064 tartrate Drugs 0.000 claims description 2
- FEWJPZIEWOKRBE-JCYAYHJZSA-N Dextrotartaric acid Chemical compound OC(=O)[C@H](O)[C@@H](O)C(O)=O FEWJPZIEWOKRBE-JCYAYHJZSA-N 0.000 claims 1
- 229910004074 SiF6 Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000011575 calcium Substances 0.000 claims 1
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 claims 1
- 125000001207 fluorophenyl group Chemical group 0.000 claims 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims 1
- BJEPYKJPYRNKOW-UHFFFAOYSA-N malic acid Chemical compound OC(=O)C(O)CC(O)=O BJEPYKJPYRNKOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-L succinate(2-) Chemical compound [O-]C(=O)CCC([O-])=O KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims 1
- JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N toluene-4-sulfonic acid Chemical compound CC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 abstract description 16
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 abstract description 7
- 150000001642 boronic acid derivatives Chemical class 0.000 abstract description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 82
- 239000008367 deionised water Substances 0.000 description 62
- 229910021641 deionized water Inorganic materials 0.000 description 62
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 41
- LEIMLDGFXIOXMT-UHFFFAOYSA-N trimethylsilyl cyanide Chemical compound C[Si](C)(C)C#N LEIMLDGFXIOXMT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 41
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 40
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 38
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 30
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 30
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 28
- 239000002608 ionic liquid Substances 0.000 description 28
- 238000001069 Raman spectroscopy Methods 0.000 description 26
- NJMWOUFKYKNWDW-UHFFFAOYSA-N 1-ethyl-3-methylimidazolium Chemical compound CCN1C=C[N+](C)=C1 NJMWOUFKYKNWDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 24
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 21
- 238000000921 elemental analysis Methods 0.000 description 19
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 19
- 239000004810 polytetrafluoroethylene Substances 0.000 description 19
- 229920001343 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 description 19
- 238000004508 fractional distillation Methods 0.000 description 17
- 239000000047 product Substances 0.000 description 17
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 15
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 15
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 14
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M Fluoride anion Chemical compound [F-] KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 12
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 12
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 12
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 12
- 238000004255 ion exchange chromatography Methods 0.000 description 12
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 12
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 12
- 239000012074 organic phase Substances 0.000 description 12
- 238000003109 Karl Fischer titration Methods 0.000 description 11
- 239000008346 aqueous phase Substances 0.000 description 11
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 11
- 125000006340 pentafluoro ethyl group Chemical group FC(F)(F)C(F)(F)* 0.000 description 11
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 11
- PXELHGDYRQLRQO-UHFFFAOYSA-N 1-butyl-1-methylpyrrolidin-1-ium Chemical compound CCCC[N+]1(C)CCCC1 PXELHGDYRQLRQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000012300 argon atmosphere Substances 0.000 description 10
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 10
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 10
- 125000002914 sec-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 10
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 10
- USFPINLPPFWTJW-UHFFFAOYSA-N tetraphenylphosphonium Chemical compound C1=CC=CC=C1[P+](C=1C=CC=CC=1)(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 USFPINLPPFWTJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M Bromide Chemical compound [Br-] CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 9
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 9
- FVAUCKIRQBBSSJ-UHFFFAOYSA-M sodium iodide Chemical compound [Na+].[I-] FVAUCKIRQBBSSJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 9
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 9
- DZLFLBLQUQXARW-UHFFFAOYSA-N tetrabutylammonium Chemical compound CCCC[N+](CCCC)(CCCC)CCCC DZLFLBLQUQXARW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 8
- 229910003002 lithium salt Inorganic materials 0.000 description 8
- 159000000002 lithium salts Chemical class 0.000 description 8
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 8
- IQQRAVYLUAZUGX-UHFFFAOYSA-N 1-butyl-3-methylimidazolium Chemical compound CCCCN1C=C[N+](C)=C1 IQQRAVYLUAZUGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 7
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 7
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 6
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 6
- CTIKAHQFRQTTAY-UHFFFAOYSA-N fluoro(trimethyl)silane Chemical compound C[Si](C)(C)F CTIKAHQFRQTTAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- KWGKDLIKAYFUFQ-UHFFFAOYSA-M lithium chloride Chemical compound [Li+].[Cl-] KWGKDLIKAYFUFQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- NLKNQRATVPKPDG-UHFFFAOYSA-M potassium iodide Chemical compound [K+].[I-] NLKNQRATVPKPDG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 6
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 6
- IRGDPGYNHSIIJJ-UHFFFAOYSA-N 1-ethyl-2,3-dimethylimidazol-3-ium Chemical compound CCN1C=C[N+](C)=C1C IRGDPGYNHSIIJJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 5
- 238000005481 NMR spectroscopy Methods 0.000 description 5
- 238000001897 boron-11 nuclear magnetic resonance spectrum Methods 0.000 description 5
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 5
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 5
- IJOOHPMOJXWVHK-UHFFFAOYSA-N chlorotrimethylsilane Chemical compound C[Si](C)(C)Cl IJOOHPMOJXWVHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 5
- 238000000806 fluorine-19 nuclear magnetic resonance spectrum Methods 0.000 description 5
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 description 5
- 239000000463 material Substances 0.000 description 5
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 5
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 5
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 5
- BOOXKGZZTBKJFE-UHFFFAOYSA-M 1-butyl-1-methylpyrrolidin-1-ium;chloride Chemical compound [Cl-].CCCC[N+]1(C)CCCC1 BOOXKGZZTBKJFE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- 238000001644 13C nuclear magnetic resonance spectroscopy Methods 0.000 description 4
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 4
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 4
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 4
- NNFCIKHAZHQZJG-UHFFFAOYSA-N potassium cyanide Chemical compound [K+].N#[C-] NNFCIKHAZHQZJG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 4
- 238000004448 titration Methods 0.000 description 4
- HJHUXWBTVVFLQI-UHFFFAOYSA-N tributyl(methyl)azanium Chemical compound CCCC[N+](C)(CCCC)CCCC HJHUXWBTVVFLQI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XKFPGUWSSPXXMF-UHFFFAOYSA-N tributyl(methyl)phosphanium Chemical compound CCCC[P+](C)(CCCC)CCCC XKFPGUWSSPXXMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- UZDLMXYACBVNCQ-UHFFFAOYSA-N 1-(1-methoxyethyl)-3-methylimidazol-3-ium Chemical compound COC(C)[N+]=1C=CN(C)C=1 UZDLMXYACBVNCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- FHDQNOXQSTVAIC-UHFFFAOYSA-M 1-butyl-3-methylimidazol-3-ium;chloride Chemical compound [Cl-].CCCCN1C=C[N+](C)=C1 FHDQNOXQSTVAIC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- BMQZYMYBQZGEEY-UHFFFAOYSA-M 1-ethyl-3-methylimidazolium chloride Chemical compound [Cl-].CCN1C=C[N+](C)=C1 BMQZYMYBQZGEEY-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- YQFWGCSKGJMGHE-UHFFFAOYSA-N 1-methyl-1-propylpyrrolidin-1-ium Chemical compound CCC[N+]1(C)CCCC1 YQFWGCSKGJMGHE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000004607 11B NMR spectroscopy Methods 0.000 description 3
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical group [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-O Imidazolium Chemical compound C1=C[NH+]=CN1 RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RWRDLPDLKQPQOW-UHFFFAOYSA-N Pyrrolidine Chemical compound C1CCNC1 RWRDLPDLKQPQOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RWRDLPDLKQPQOW-UHFFFAOYSA-O Pyrrolidinium ion Chemical compound C1CC[NH2+]C1 RWRDLPDLKQPQOW-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 3
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 description 3
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 3
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 3
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000001460 carbon-13 nuclear magnetic resonance spectrum Methods 0.000 description 3
- KXZJHVJKXJLBKO-UHFFFAOYSA-N chembl1408157 Chemical compound N=1C2=CC=CC=C2C(C(=O)O)=CC=1C1=CC=C(O)C=C1 KXZJHVJKXJLBKO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000002704 decyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- PASFIQXJEUGATN-UHFFFAOYSA-N diethyl(methyl)sulfanium Chemical compound CC[S+](C)CC PASFIQXJEUGATN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 3
- 229910001496 lithium tetrafluoroborate Inorganic materials 0.000 description 3
- 125000001280 n-hexyl group Chemical group C(CCCCC)* 0.000 description 3
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 125000002347 octyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 3
- 125000001147 pentyl group Chemical group C(CCCC)* 0.000 description 3
- 238000000425 proton nuclear magnetic resonance spectrum Methods 0.000 description 3
- 235000009518 sodium iodide Nutrition 0.000 description 3
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 3
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000004169 (C1-C6) alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- JKOADRMSALOJAG-UHFFFAOYSA-N 1,1-dihexylpyrrolidin-1-ium Chemical compound CCCCCC[N+]1(CCCCCC)CCCC1 JKOADRMSALOJAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GARJMFRQLMUUDD-UHFFFAOYSA-N 1,1-dimethylpyrrolidin-1-ium Chemical compound C[N+]1(C)CCCC1 GARJMFRQLMUUDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PIVSXYQVNSKDFF-UHFFFAOYSA-N 1,2-dimethyl-1h-imidazol-1-ium;chloride Chemical compound [Cl-].C[NH+]1C=CN=C1C PIVSXYQVNSKDFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IDTCZPKYVMKLRZ-UHFFFAOYSA-N 1-(2-methoxyethyl)-1-methylpyrrolidin-1-ium Chemical compound COCC[N+]1(C)CCCC1 IDTCZPKYVMKLRZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WQDKVNGDAHQCDU-UHFFFAOYSA-N 1-decyl-1-hexylpyrrolidin-1-ium Chemical compound CCCCCCCCCC[N+]1(CCCCCC)CCCC1 WQDKVNGDAHQCDU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XIPZVAFVVCJUQT-UHFFFAOYSA-N 1-heptyl-1-hexylpyrrolidin-1-ium Chemical compound CCCCCCC[N+]1(CCCCCC)CCCC1 XIPZVAFVVCJUQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XGWCAUNVXQXUIZ-UHFFFAOYSA-N 1-hexyl-1-nonylpyrrolidin-1-ium Chemical compound CCCCCCCCC[N+]1(CCCCCC)CCCC1 XGWCAUNVXQXUIZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AROZXIPMFUNQLO-UHFFFAOYSA-N 1-hexyl-1-octylpyrrolidin-1-ium Chemical compound CCCCCCCC[N+]1(CCCCCC)CCCC1 AROZXIPMFUNQLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WWVMHGUBIOZASN-UHFFFAOYSA-N 1-methyl-3-prop-2-enylimidazol-1-ium Chemical compound CN1C=C[N+](CC=C)=C1 WWVMHGUBIOZASN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WVDDUSFOSWWJJH-UHFFFAOYSA-N 1-methyl-3-propylimidazol-1-ium Chemical compound CCCN1C=C[N+](C)=C1 WVDDUSFOSWWJJH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000530 1-propynyl group Chemical group [H]C([H])([H])C#C* 0.000 description 2
- 125000004974 2-butenyl group Chemical group C(C=CC)* 0.000 description 2
- 125000000069 2-butynyl group Chemical group [H]C([H])([H])C#CC([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000004200 2-methoxyethyl group Chemical group [H]C([H])([H])OC([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000001494 2-propynyl group Chemical group [H]C#CC([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000004975 3-butenyl group Chemical group C(CC=C)* 0.000 description 2
- 125000000474 3-butynyl group Chemical group [H]C#CC([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000004180 3-fluorophenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(*)=C([H])C(F)=C1[H] 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NQRYJNQNLNOLGT-UHFFFAOYSA-N Piperidine Chemical compound C1CCNCC1 NQRYJNQNLNOLGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZSLGJEHXLJKLKW-UHFFFAOYSA-N [dimethylamino(ethylsulfanyl)methylidene]-dimethylazanium Chemical compound CCSC(N(C)C)=[N+](C)C ZSLGJEHXLJKLKW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910001514 alkali metal chloride Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 2
- HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N alpha-acetylene Natural products C#C HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SITICAUUKYFMAU-UHFFFAOYSA-N cyano(trifluoromethoxy)borinic acid Chemical compound FC(F)(F)OB(O)C#N SITICAUUKYFMAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001995 cyclobutyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 2
- 125000000582 cycloheptyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 2
- 125000001511 cyclopentyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 2
- 125000001559 cyclopropyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C1([H])* 0.000 description 2
- OKVJWADVFPXWQD-UHFFFAOYSA-N difluoroborinic acid Chemical compound OB(F)F OKVJWADVFPXWQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- URSLCTBXQMKCFE-UHFFFAOYSA-N dihydrogenborate Chemical compound OB(O)[O-] URSLCTBXQMKCFE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 2
- 239000012154 double-distilled water Substances 0.000 description 2
- KIJWMNYEVKNAGY-UHFFFAOYSA-N ethyl-(2-methoxyethyl)-dimethylazanium Chemical compound CC[N+](C)(C)CCOC KIJWMNYEVKNAGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZOZZQPFBMNNPPO-UHFFFAOYSA-N ethyl-dimethyl-propylazanium Chemical compound CCC[N+](C)(C)CC ZOZZQPFBMNNPPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002534 ethynyl group Chemical group [H]C#C* 0.000 description 2
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 2
- 238000003682 fluorination reaction Methods 0.000 description 2
- 125000006038 hexenyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000005980 hexynyl group Chemical group 0.000 description 2
- LPAGFVYQRIESJQ-UHFFFAOYSA-N indoline Chemical compound C1=CC=C2NCCC2=C1 LPAGFVYQRIESJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JTFXENGTKPJOKW-UHFFFAOYSA-N isocyanoboronic acid Chemical class OB(O)[N+]#[C-] JTFXENGTKPJOKW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003136 n-heptyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000005062 perfluorophenyl group Chemical group FC1=C(C(=C(C(=C1F)F)F)F)* 0.000 description 2
- 125000003367 polycyclic group Chemical group 0.000 description 2
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-O pyridinium Chemical compound C1=CC=[NH+]C=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 2
- MNWBNISUBARLIT-UHFFFAOYSA-N sodium cyanide Chemical compound [Na+].N#[C-] MNWBNISUBARLIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 2
- 125000005207 tetraalkylammonium group Chemical group 0.000 description 2
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000004400 (C1-C12) alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- QIAZNDAYSCULMI-UHFFFAOYSA-N 1,1-dibutylpyrrolidin-1-ium Chemical compound CCCC[N+]1(CCCC)CCCC1 QIAZNDAYSCULMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PWZSCBSKFVJMJH-UHFFFAOYSA-N 1,1-diethylpyrrolidin-1-ium Chemical compound CC[N+]1(CC)CCCC1 PWZSCBSKFVJMJH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MOUSJWBVFFBHRT-UHFFFAOYSA-N 1,1-diheptylpyrrolidin-1-ium Chemical compound CCCCCCC[N+]1(CCCCCCC)CCCC1 MOUSJWBVFFBHRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LXOSCSSPCCNKFZ-UHFFFAOYSA-N 1,1-dioctylpyrrolidin-1-ium Chemical compound CCCCCCCC[N+]1(CCCCCCCC)CCCC1 LXOSCSSPCCNKFZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PUNOSRMSQRHNLX-UHFFFAOYSA-N 1,1-dipentylpyrrolidin-1-ium Chemical compound CCCCC[N+]1(CCCCC)CCCC1 PUNOSRMSQRHNLX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WBHKHVSKPJNNQD-UHFFFAOYSA-N 1,1-dipropylpyrrolidin-1-ium Chemical compound CCC[N+]1(CCC)CCCC1 WBHKHVSKPJNNQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NWXVIUBYBJUOAY-UHFFFAOYSA-N 1,3-dibutylimidazol-1-ium Chemical compound CCCCN1C=C[N+](CCCC)=C1 NWXVIUBYBJUOAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZSALGRWEBFJQAR-UHFFFAOYSA-N 1,3-didecylimidazol-1-ium Chemical compound CCCCCCCCCCN1C=C[N+](CCCCCCCCCC)=C1 ZSALGRWEBFJQAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XLJSMWDFUFADIA-UHFFFAOYSA-N 1,3-diethylimidazol-1-ium Chemical compound CCN1C=C[N+](CC)=C1 XLJSMWDFUFADIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIGYPNHHZUHDCK-UHFFFAOYSA-N 1,3-diheptylimidazol-1-ium Chemical compound CCCCCCCN1C=C[N+](CCCCCCC)=C1 NIGYPNHHZUHDCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QGRBYPFRBRYULL-UHFFFAOYSA-N 1,3-dihexylimidazol-1-ium Chemical compound CCCCCCN1C=C[N+](CCCCCC)=C1 QGRBYPFRBRYULL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HVVRUQBMAZRKPJ-UHFFFAOYSA-N 1,3-dimethylimidazolium Chemical compound CN1C=C[N+](C)=C1 HVVRUQBMAZRKPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JWPAOAULUAPZTP-UHFFFAOYSA-N 1,3-dioctylimidazol-1-ium Chemical compound CCCCCCCCN1C=C[N+](CCCCCCCC)=C1 JWPAOAULUAPZTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MZVQCGYRPIFHBQ-UHFFFAOYSA-N 1,3-dipentylimidazol-1-ium Chemical compound CCCCCN1C=C[N+](CCCCC)=C1 MZVQCGYRPIFHBQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTVGRQJCAXPIIY-UHFFFAOYSA-N 1,3-dipropylimidazol-1-ium Chemical compound CCCN1C=C[N+](CCC)=C1 CTVGRQJCAXPIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HPHJLXQRQWXQGB-UHFFFAOYSA-N 1-(2-ethoxyethyl)-1-methylpyrrolidin-1-ium Chemical compound CCOCC[N+]1(C)CCCC1 HPHJLXQRQWXQGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LZCSZDHIDXZSGI-UHFFFAOYSA-N 1-(2-methoxyethyl)-1-propylpyrrolidin-1-ium Chemical compound COCC[N+]1(CCC)CCCC1 LZCSZDHIDXZSGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VBWHCNAJCDFROZ-UHFFFAOYSA-M 1-(2-methoxyethyl)-3-methylimidazol-3-ium;bromide Chemical compound [Br-].COCC[N+]=1C=CN(C)C=1 VBWHCNAJCDFROZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- ZJACZNZOAGQFTP-UHFFFAOYSA-N 1-(ethoxymethyl)-1-methylpyrrolidin-1-ium Chemical compound CCOC[N+]1(C)CCCC1 ZJACZNZOAGQFTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PJVNGLKKAWDGST-UHFFFAOYSA-N 1-butyl-1-(2-methoxyethyl)pyrrolidin-1-ium Chemical compound CCCC[N+]1(CCOC)CCCC1 PJVNGLKKAWDGST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PLBBYYNJEHFECS-UHFFFAOYSA-N 1-butyl-1-decylpyrrolidin-1-ium Chemical compound CCCCCCCCCC[N+]1(CCCC)CCCC1 PLBBYYNJEHFECS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YXJSMCZTRWECJF-UHFFFAOYSA-N 1-butyl-1-ethylpyrrolidin-1-ium Chemical compound CCCC[N+]1(CC)CCCC1 YXJSMCZTRWECJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FMSXPWVTZLNVHH-UHFFFAOYSA-N 1-butyl-1-heptylpyrrolidin-1-ium Chemical compound CCCCCCC[N+]1(CCCC)CCCC1 FMSXPWVTZLNVHH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ISRFWLYSLBASFE-UHFFFAOYSA-N 1-butyl-1-hexylpyrrolidin-1-ium Chemical compound CCCCCC[N+]1(CCCC)CCCC1 ISRFWLYSLBASFE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ILEUMJQBHUIAII-UHFFFAOYSA-N 1-butyl-1-nonylpyrrolidin-1-ium Chemical compound CCCCCCCCC[N+]1(CCCC)CCCC1 ILEUMJQBHUIAII-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WNUMOMQLEHPHJX-UHFFFAOYSA-N 1-butyl-1-octylpyrrolidin-1-ium Chemical compound CCCCCCCC[N+]1(CCCC)CCCC1 WNUMOMQLEHPHJX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YBKRPLNRDHUION-UHFFFAOYSA-N 1-butyl-1-pentylpyrrolidin-1-ium Chemical compound CCCCC[N+]1(CCCC)CCCC1 YBKRPLNRDHUION-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HODMCOIBCPNLAO-UHFFFAOYSA-N 1-butyl-1-propylpyrrolidin-1-ium Chemical compound CCCC[N+]1(CCC)CCCC1 HODMCOIBCPNLAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JYARJXBHOOZQQD-UHFFFAOYSA-N 1-butyl-3-ethylimidazol-1-ium Chemical compound CCCC[N+]=1C=CN(CC)C=1 JYARJXBHOOZQQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AYQNLVKSAIKDHH-UHFFFAOYSA-N 1-butyl-3-propylimidazol-3-ium Chemical compound CCCCN1C=C[N+](CCC)=C1 AYQNLVKSAIKDHH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WCDJCIZOGUUMJB-UHFFFAOYSA-N 1-decyl-1-ethylpyrrolidin-1-ium Chemical compound CCCCCCCCCC[N+]1(CC)CCCC1 WCDJCIZOGUUMJB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RUKAFAVBJNZIMP-UHFFFAOYSA-N 1-decyl-1-heptylpyrrolidin-1-ium Chemical compound CCCCCCCCCC[N+]1(CCCCCCC)CCCC1 RUKAFAVBJNZIMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YPKUOQRBNZPMAE-UHFFFAOYSA-N 1-decyl-1-methylpyrrolidin-1-ium Chemical compound CCCCCCCCCC[N+]1(C)CCCC1 YPKUOQRBNZPMAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HWRXGWLPVNFXHM-UHFFFAOYSA-N 1-decyl-1-octylpyrrolidin-1-ium Chemical compound CCCCCCCCCC[N+]1(CCCCCCCC)CCCC1 HWRXGWLPVNFXHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YKESTDZOVLJXIU-UHFFFAOYSA-N 1-decyl-1-pentylpyrrolidin-1-ium Chemical compound CCCCCCCCCC[N+]1(CCCCC)CCCC1 YKESTDZOVLJXIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PVHVCSARNZGEAH-UHFFFAOYSA-N 1-decyl-1-propylpyrrolidin-1-ium Chemical compound CCCCCCCCCC[N+]1(CCC)CCCC1 PVHVCSARNZGEAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VJJINQRGVFGCOQ-UHFFFAOYSA-N 1-decyl-3-ethylimidazol-1-ium Chemical compound CCCCCCCCCCN1C=C[N+](CC)=C1 VJJINQRGVFGCOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LDVVBLGHGCHZBJ-UHFFFAOYSA-N 1-decyl-3-methylimidazolium Chemical compound CCCCCCCCCCN1C=C[N+](C)=C1 LDVVBLGHGCHZBJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PAYARTBUZGCOKP-UHFFFAOYSA-N 1-ethyl-1-heptylpyrrolidin-1-ium Chemical compound CCCCCCC[N+]1(CC)CCCC1 PAYARTBUZGCOKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VNVSNJDXLYCKSH-UHFFFAOYSA-N 1-ethyl-1-hexylpyrrolidin-1-ium Chemical compound CCCCCC[N+]1(CC)CCCC1 VNVSNJDXLYCKSH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIHOUJYFWMURBG-UHFFFAOYSA-N 1-ethyl-1-methylpyrrolidin-1-ium Chemical compound CC[N+]1(C)CCCC1 NIHOUJYFWMURBG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GJGKIAQBXIXHST-UHFFFAOYSA-N 1-ethyl-1-nonylpyrrolidin-1-ium Chemical compound CCCCCCCCC[N+]1(CC)CCCC1 GJGKIAQBXIXHST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KIJDSYJKWLPZBL-UHFFFAOYSA-N 1-ethyl-1-octylpyrrolidin-1-ium Chemical compound CCCCCCCC[N+]1(CC)CCCC1 KIJDSYJKWLPZBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BUPNNPKTBYFKKC-UHFFFAOYSA-N 1-ethyl-1-pentylpyrrolidin-1-ium Chemical compound CCCCC[N+]1(CC)CCCC1 BUPNNPKTBYFKKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QNXMTMCQDZQADU-UHFFFAOYSA-N 1-ethyl-1-propylpyrrolidin-1-ium Chemical compound CCC[N+]1(CC)CCCC1 QNXMTMCQDZQADU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PQFGOGJFANOTMA-UHFFFAOYSA-N 1-ethyl-3-heptylimidazol-3-ium Chemical compound CCCCCCC[N+]=1C=CN(CC)C=1 PQFGOGJFANOTMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KRJBDLCQPFFVAX-UHFFFAOYSA-N 1-ethyl-3-hexylimidazol-3-ium Chemical compound CCCCCC[N+]=1C=CN(CC)C=1 KRJBDLCQPFFVAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JKPTVNKULSLTHA-UHFFFAOYSA-N 1-ethyl-3-octylimidazol-3-ium Chemical compound CCCCCCCC[N+]=1C=CN(CC)C=1 JKPTVNKULSLTHA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SLRMKLBMGAVJFI-UHFFFAOYSA-N 1-ethyl-3-pentylimidazol-3-ium Chemical compound CCCCCN1C=C[N+](CC)=C1 SLRMKLBMGAVJFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RMQJBIHRJDFNDM-UHFFFAOYSA-N 1-ethyl-3-propylimidazol-3-ium Chemical compound CCCN1C=C[N+](CC)=C1 RMQJBIHRJDFNDM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XZDPRAGZNFQVIM-UHFFFAOYSA-N 1-heptyl-1-methylpyrrolidin-1-ium Chemical compound CCCCCCC[N+]1(C)CCCC1 XZDPRAGZNFQVIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OHLOVGBCBDFCNI-UHFFFAOYSA-N 1-heptyl-1-nonylpyrrolidin-1-ium Chemical compound CCCCCCCCC[N+]1(CCCCCCC)CCCC1 OHLOVGBCBDFCNI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XTGOIQCVRRNXNS-UHFFFAOYSA-N 1-heptyl-1-octylpyrrolidin-1-ium Chemical compound CCCCCCCC[N+]1(CCCCCCC)CCCC1 XTGOIQCVRRNXNS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WDOMGVJEVDMYAG-UHFFFAOYSA-N 1-heptyl-1-pentylpyrrolidin-1-ium Chemical compound CCCCCCC[N+]1(CCCCC)CCCC1 WDOMGVJEVDMYAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BRBIHAQFQIFSDL-UHFFFAOYSA-N 1-heptyl-1-propylpyrrolidin-1-ium Chemical compound CCCCCCC[N+]1(CCC)CCCC1 BRBIHAQFQIFSDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FCZZZYZIQDHCIW-UHFFFAOYSA-N 1-heptyl-3-methylimidazol-3-ium Chemical compound CCCCCCC[N+]=1C=CN(C)C=1 FCZZZYZIQDHCIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SVONMDAUOJGXHL-UHFFFAOYSA-N 1-hexyl-1-methylpyrrolidin-1-ium Chemical compound CCCCCC[N+]1(C)CCCC1 SVONMDAUOJGXHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FKBYITRYIIAMSU-UHFFFAOYSA-N 1-hexyl-1-pentylpyrrolidin-1-ium Chemical compound CCCCCC[N+]1(CCCCC)CCCC1 FKBYITRYIIAMSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QUCGEEIXOHYZCR-UHFFFAOYSA-N 1-hexyl-1-propylpyrrolidin-1-ium Chemical compound CCCCCC[N+]1(CCC)CCCC1 QUCGEEIXOHYZCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RVEJOWGVUQQIIZ-UHFFFAOYSA-N 1-hexyl-3-methylimidazolium Chemical compound CCCCCCN1C=C[N+](C)=C1 RVEJOWGVUQQIIZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LMSPMULSARFKPJ-UHFFFAOYSA-N 1-methyl-1-nonylpyrrolidin-1-ium Chemical compound CCCCCCCCC[N+]1(C)CCCC1 LMSPMULSARFKPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RRYKUXCBJXYIOD-UHFFFAOYSA-N 1-methyl-1-pentylpyrrolidin-1-ium Chemical compound CCCCC[N+]1(C)CCCC1 RRYKUXCBJXYIOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- STCBHSHARMAIOM-UHFFFAOYSA-N 1-methyl-1h-imidazol-1-ium;chloride Chemical compound Cl.CN1C=CN=C1 STCBHSHARMAIOM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FRDMOHWOUFAYLD-UHFFFAOYSA-N 1-methyl-3-nonylimidazol-1-ium Chemical compound CCCCCCCCCN1C=C[N+](C)=C1 FRDMOHWOUFAYLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LSFWFJFDPRFPBK-UHFFFAOYSA-N 1-methyl-3-pentylimidazol-1-ium Chemical compound CCCCCN1C=C[N+](C)=C1 LSFWFJFDPRFPBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BNHOZOZHHXEPCI-UHFFFAOYSA-N 1-methyl-3-prop-1-ynylimidazol-1-ium Chemical compound CC#CN1C=C[N+](C)=C1 BNHOZOZHHXEPCI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DQFPYJGJBDHTAL-UHFFFAOYSA-N 1-nonyl-1-octylpyrrolidin-1-ium Chemical compound CCCCCCCCC[N+]1(CCCCCCCC)CCCC1 DQFPYJGJBDHTAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YWVAERUMTYYRBP-UHFFFAOYSA-N 1-octyl-1-pentylpyrrolidin-1-ium Chemical compound CCCCCCCC[N+]1(CCCCC)CCCC1 YWVAERUMTYYRBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OOEBEUFXBPCKMQ-UHFFFAOYSA-N 1-octyl-1-propylpyrrolidin-1-ium Chemical compound CCCCCCCC[N+]1(CCC)CCCC1 OOEBEUFXBPCKMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XVNWJRAXYYMXSF-UHFFFAOYSA-N 1-pentyl-1-propylpyrrolidin-1-ium Chemical compound CCCCC[N+]1(CCC)CCCC1 XVNWJRAXYYMXSF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004214 1-pyrrolidinyl group Chemical group [H]C1([H])N(*)C([H])([H])C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001462 1-pyrrolyl group Chemical group [*]N1C([H])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 238000004293 19F NMR spectroscopy Methods 0.000 description 1
- SQWMEHUSPPRPFE-UHFFFAOYSA-N 2,3-dimethylimidazol-3-ium-1-carbonitrile Chemical compound CC=1N(C)C=C[N+]=1C#N SQWMEHUSPPRPFE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006276 2-bromophenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(Br)=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 125000004182 2-chlorophenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(Cl)=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- UKMXHMCFTYILJN-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethyl-ethyl-dimethylazanium Chemical compound CCOCC[N+](C)(C)CC UKMXHMCFTYILJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004198 2-fluorophenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(F)=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 125000002941 2-furyl group Chemical group O1C([*])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 125000006304 2-iodophenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(I)=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 125000004493 2-methylbut-1-yl group Chemical group CC(C*)CC 0.000 description 1
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 125000004105 2-pyridyl group Chemical group N1=C([*])C([H])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 125000004485 2-pyrrolidinyl group Chemical group [H]N1C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C1([H])* 0.000 description 1
- 125000000389 2-pyrrolyl group Chemical group [H]N1C([*])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 125000000175 2-thienyl group Chemical group S1C([*])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 125000005809 3,4,5-trimethoxyphenyl group Chemical group [H]C1=C(OC([H])([H])[H])C(OC([H])([H])[H])=C(OC([H])([H])[H])C([H])=C1* 0.000 description 1
- 125000004211 3,5-difluorophenyl group Chemical group [H]C1=C(F)C([H])=C(*)C([H])=C1F 0.000 description 1
- 125000006275 3-bromophenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(Br)=C([H])C(*)=C1[H] 0.000 description 1
- 125000004179 3-chlorophenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(*)=C([H])C(Cl)=C1[H] 0.000 description 1
- 125000003682 3-furyl group Chemical group O1C([H])=C([*])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 125000006305 3-iodophenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(I)=C([H])C(*)=C1[H] 0.000 description 1
- WXMVWUBWIHZLMQ-UHFFFAOYSA-N 3-methyl-1-octylimidazolium Chemical compound CCCCCCCCN1C=C[N+](C)=C1 WXMVWUBWIHZLMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003349 3-pyridyl group Chemical group N1=C([H])C([*])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 125000004575 3-pyrrolidinyl group Chemical group [H]N1C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001397 3-pyrrolyl group Chemical group [H]N1C([H])=C([*])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 125000001541 3-thienyl group Chemical group S1C([H])=C([*])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 125000004800 4-bromophenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(*)=C([H])C([H])=C1Br 0.000 description 1
- 125000006306 4-iodophenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(*)=C([H])C([H])=C1I 0.000 description 1
- 125000004172 4-methoxyphenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(OC([H])([H])[H])=C([H])C([H])=C1* 0.000 description 1
- 125000000590 4-methylphenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(=C([H])C([H])=C1*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000000339 4-pyridyl group Chemical group N1=C([H])C([H])=C([*])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- KDDQRKBRJSGMQE-UHFFFAOYSA-N 4-thiazolyl Chemical compound [C]1=CSC=N1 KDDQRKBRJSGMQE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004539 5-benzimidazolyl group Chemical group N1=CNC2=C1C=CC(=C2)* 0.000 description 1
- CWDWFSXUQODZGW-UHFFFAOYSA-N 5-thiazolyl Chemical group [C]1=CN=CS1 CWDWFSXUQODZGW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101710134784 Agnoprotein Proteins 0.000 description 1
- 125000006539 C12 alkyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- BHPQYMZQTOCNFJ-UHFFFAOYSA-N Calcium cation Chemical compound [Ca+2] BHPQYMZQTOCNFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L Carbonate Chemical compound [O-]C([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- XFXPMWWXUTWYJX-UHFFFAOYSA-N Cyanide Chemical compound N#[C-] XFXPMWWXUTWYJX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YZCKVEUIGOORGS-OUBTZVSYSA-N Deuterium Chemical compound [2H] YZCKVEUIGOORGS-OUBTZVSYSA-N 0.000 description 1
- OIFBSDVPJOWBCH-UHFFFAOYSA-N Diethyl carbonate Chemical compound CCOC(=O)OCC OIFBSDVPJOWBCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N Dimethoxyethane Chemical compound COCCOC XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N Dodecane Natural products CCCCCCCCCCCC SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CCJYUOWMHWVIPP-UHFFFAOYSA-N FC(F)(F)[Cs] Chemical compound FC(F)(F)[Cs] CCJYUOWMHWVIPP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FEWJPZIEWOKRBE-JCYAYHJZSA-L L-tartrate(2-) Chemical compound [O-]C(=O)[C@H](O)[C@@H](O)C([O-])=O FEWJPZIEWOKRBE-JCYAYHJZSA-L 0.000 description 1
- 229910013063 LiBF 4 Inorganic materials 0.000 description 1
- BAVYZALUXZFZLV-UHFFFAOYSA-N Methylamine Chemical compound NC BAVYZALUXZFZLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NQRYJNQNLNOLGT-UHFFFAOYSA-O Piperidinium(1+) Chemical compound C1CC[NH2+]CC1 NQRYJNQNLNOLGT-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-M Trifluoroacetate Chemical compound [O-]C(=O)C(F)(F)F DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 239000012670 alkaline solution Substances 0.000 description 1
- 125000004183 alkoxy alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 150000001449 anionic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 125000000129 anionic group Chemical group 0.000 description 1
- 239000002585 base Substances 0.000 description 1
- 125000004541 benzoxazolyl group Chemical group O1C(=NC2=C1C=CC=C2)* 0.000 description 1
- VJBODIYZSOOKES-UHFFFAOYSA-N butyl-ethyl-dimethylazanium Chemical compound CCCC[N+](C)(C)CC VJBODIYZSOOKES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 150000001767 cationic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 239000012043 crude product Substances 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 1
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 1
- HZXXSCOUSGLRRX-UHFFFAOYSA-N cyanoboronic acid Chemical compound OB(O)C#N HZXXSCOUSGLRRX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001162 cycloheptenyl group Chemical group C1(=CCCCCC1)* 0.000 description 1
- 125000000596 cyclohexenyl group Chemical group C1(=CCCCC1)* 0.000 description 1
- 125000002433 cyclopentenyl group Chemical group C1(=CCCC1)* 0.000 description 1
- 238000007872 degassing Methods 0.000 description 1
- 229910052805 deuterium Inorganic materials 0.000 description 1
- RNFHUHNUAXWDDJ-UHFFFAOYSA-M diethyl(methyl)sulfanium;trifluoromethanesulfonate Chemical compound CC[S+](C)CC.[O-]S(=O)(=O)C(F)(F)F RNFHUHNUAXWDDJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- YAPMAQNVVXZARO-UHFFFAOYSA-N difluoroboranylformonitrile Chemical class FB(F)C#N YAPMAQNVVXZARO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001028 difluoromethyl group Chemical group [H]C(F)(F)* 0.000 description 1
- 125000003438 dodecyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- VDLSLJHFHCXQER-UHFFFAOYSA-N ethyl(trihexyl)azanium Chemical compound CCCCCC[N+](CC)(CCCCCC)CCCCCC VDLSLJHFHCXQER-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FBWKUAUBADFSOJ-UHFFFAOYSA-N ethyl(trioctyl)azanium Chemical compound CCCCCCCC[N+](CC)(CCCCCCCC)CCCCCCCC FBWKUAUBADFSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FLDLXSRFKMSRGY-UHFFFAOYSA-N ethyl-(3-methoxypropyl)-dimethylazanium Chemical compound CC[N+](C)(C)CCCOC FLDLXSRFKMSRGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UKFXDFUAPNAMPJ-UHFFFAOYSA-N ethylmalonic acid Chemical compound CCC(C(O)=O)C(O)=O UKFXDFUAPNAMPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YOMFVLRTMZWACQ-UHFFFAOYSA-N ethyltrimethylammonium Chemical compound CC[N+](C)(C)C YOMFVLRTMZWACQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 1
- 239000012467 final product Substances 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 229940060037 fluorine Drugs 0.000 description 1
- 235000019000 fluorine Nutrition 0.000 description 1
- 125000004216 fluoromethyl group Chemical group [H]C([H])(F)* 0.000 description 1
- ZRALSGWEFCBTJO-UHFFFAOYSA-O guanidinium Chemical compound NC(N)=[NH2+] ZRALSGWEFCBTJO-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 125000003187 heptyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N hydrogen iodide Chemical compound I XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 229910001412 inorganic anion Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000006317 isomerization reaction Methods 0.000 description 1
- 125000001972 isopentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- FRIJBUGBVQZNTB-UHFFFAOYSA-M magnesium;ethane;bromide Chemical compound [Mg+2].[Br-].[CH2-]C FRIJBUGBVQZNTB-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- BJEPYKJPYRNKOW-UHFFFAOYSA-L malate(2-) Chemical compound [O-]C(=O)C(O)CC([O-])=O BJEPYKJPYRNKOW-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 150000002690 malonic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 238000005649 metathesis reaction Methods 0.000 description 1
- NDNHNDHVEAHYRC-UHFFFAOYSA-N methyl(tripentyl)azanium Chemical compound CCCCC[N+](C)(CCCCC)CCCCC NDNHNDHVEAHYRC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VFOJFWOVDZGATC-UHFFFAOYSA-N methyl(tripropyl)azanium Chemical compound CCC[N+](C)(CCC)CCC VFOJFWOVDZGATC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PQIOSYKVBBWRRI-UHFFFAOYSA-N methylphosphonyl difluoride Chemical group CP(F)(F)=O PQIOSYKVBBWRRI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZUZLIXGTXQBUDC-UHFFFAOYSA-N methyltrioctylammonium Chemical compound CCCCCCCC[N+](C)(CCCCCCCC)CCCCCCCC ZUZLIXGTXQBUDC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002950 monocyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001421 myristyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- XMRPIOZXPHTSCE-UHFFFAOYSA-N n-methyltridecan-1-amine Chemical compound CCCCCCCCCCCCCNC XMRPIOZXPHTSCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001971 neopentyl group Chemical group [H]C([*])([H])C(C([H])([H])[H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 1
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 1
- 125000001400 nonyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000000655 nuclear magnetic resonance spectrum Methods 0.000 description 1
- 125000004365 octenyl group Chemical group C(=CCCCCCC)* 0.000 description 1
- 230000005693 optoelectronics Effects 0.000 description 1
- 125000002524 organometallic group Chemical group 0.000 description 1
- WCPAKWJPBJAGKN-UHFFFAOYSA-N oxadiazole Chemical compound C1=CON=N1 WCPAKWJPBJAGKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 1
- 125000003854 p-chlorophenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(*)=C([H])C([H])=C1Cl 0.000 description 1
- NFHFRUOZVGFOOS-UHFFFAOYSA-N palladium;triphenylphosphane Chemical compound [Pd].C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 NFHFRUOZVGFOOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UXPOJVLZTPGWFX-UHFFFAOYSA-N pentafluoroethyl iodide Chemical compound FC(F)(F)C(F)(F)I UXPOJVLZTPGWFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003538 pentan-3-yl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000005005 perfluorohexyl group Chemical group FC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)* 0.000 description 1
- 125000000286 phenylethyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000004346 phenylpentyl group Chemical group C1(=CC=CC=C1)CCCCC* 0.000 description 1
- 125000004344 phenylpropyl group Chemical group 0.000 description 1
- XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-O phosphonium Chemical compound [PH4+] XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- XAEFZNCEHLXOMS-UHFFFAOYSA-M potassium benzoate Chemical compound [K+].[O-]C(=O)C1=CC=CC=C1 XAEFZNCEHLXOMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- 125000003373 pyrazinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002206 pyridazin-3-yl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)N=N1 0.000 description 1
- 125000004940 pyridazin-4-yl group Chemical group N1=NC=C(C=C1)* 0.000 description 1
- 125000006513 pyridinyl methyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000246 pyrimidin-2-yl group Chemical group [H]C1=NC(*)=NC([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 125000004527 pyrimidin-4-yl group Chemical group N1=CN=C(C=C1)* 0.000 description 1
- 125000004528 pyrimidin-5-yl group Chemical group N1=CN=CC(=C1)* 0.000 description 1
- 125000004943 pyrimidin-6-yl group Chemical group N1=CN=CC=C1* 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 239000012925 reference material Substances 0.000 description 1
- 239000010979 ruby Substances 0.000 description 1
- 229910001750 ruby Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000003548 sec-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 1
- 159000000000 sodium salts Chemical class 0.000 description 1
- 238000003746 solid phase reaction Methods 0.000 description 1
- 238000010671 solid-state reaction Methods 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010189 synthetic method Methods 0.000 description 1
- JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-M toluene-4-sulfonate Chemical compound CC1=CC=C(S([O-])(=O)=O)C=C1 JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- IPILPUZVTYHGIL-UHFFFAOYSA-M tributyl(methyl)azanium;chloride Chemical compound [Cl-].CCCC[N+](C)(CCCC)CCCC IPILPUZVTYHGIL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- KINVJTQTSCVCLT-UHFFFAOYSA-N tributylsilylformonitrile Chemical compound CCCC[Si](CCCC)(CCCC)C#N KINVJTQTSCVCLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KDYHSGOHECNGNG-UHFFFAOYSA-N triethyl(methoxymethyl)azanium Chemical compound CC[N+](CC)(CC)COC KDYHSGOHECNGNG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SEACXNRNJAXIBM-UHFFFAOYSA-N triethyl(methyl)azanium Chemical compound CC[N+](C)(CC)CC SEACXNRNJAXIBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MKMPBMJIGMMCPB-UHFFFAOYSA-N triethylsilylformonitrile Chemical compound CC[Si](CC)(CC)C#N MKMPBMJIGMMCPB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- POMVGQPVILGDNA-UHFFFAOYSA-N triheptyl(methyl)azanium Chemical compound CCCCCCC[N+](C)(CCCCCCC)CCCCCCC POMVGQPVILGDNA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HSQNIIUDNMPIJI-UHFFFAOYSA-N trihexyl(methyl)azanium Chemical compound CCCCCC[N+](C)(CCCCCC)CCCCCC HSQNIIUDNMPIJI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WRECIMRULFAWHA-UHFFFAOYSA-N trimethyl borate Chemical compound COB(OC)OC WRECIMRULFAWHA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GBXQPDCOMJJCMJ-UHFFFAOYSA-M trimethyl-[6-(trimethylazaniumyl)hexyl]azanium;bromide Chemical compound [Br-].C[N+](C)(C)CCCCCC[N+](C)(C)C GBXQPDCOMJJCMJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- NRZWQKGABZFFKE-UHFFFAOYSA-N trimethylsulfonium Chemical compound C[S+](C)C NRZWQKGABZFFKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YFTHZRPMJXBUME-UHFFFAOYSA-N tripropylamine Chemical class CCCN(CCC)CCC YFTHZRPMJXBUME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CHLHGILFWIGSMM-UHFFFAOYSA-N tripropylsilylformonitrile Chemical compound CCC[Si](CCC)(CCC)C#N CHLHGILFWIGSMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OLFPYUPGPBITMH-UHFFFAOYSA-N tritylium Chemical compound C1=CC=CC=C1[C+](C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 OLFPYUPGPBITMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002948 undecyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000003039 volatile agent Substances 0.000 description 1
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 description 1
- VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N yttrium atom Chemical compound [Y] VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
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- H01M10/00—Secondary cells; Manufacture thereof
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- C07D233/58—Heterocyclic compounds containing 1,3-diazole or hydrogenated 1,3-diazole rings, not condensed with other rings having two double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with only hydrogen atoms or radicals containing only hydrogen and carbon atoms, attached to ring carbon atoms with only hydrogen atoms or radicals containing only hydrogen and carbon atoms, attached to ring nitrogen atoms
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- C07D295/00—Heterocyclic compounds containing polymethylene-imine rings with at least five ring members, 3-azabicyclo [3.2.2] nonane, piperazine, morpholine or thiomorpholine rings, having only hydrogen atoms directly attached to the ring carbon atoms
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Abstract
본 발명은 알칼리 금속 트리플루오로퍼플루오로알킬보레이트와 트리알킬실릴 시아나이드의 반응 및 후속적인 염-교환 반응에 의한 또는 유기 트리플루오로퍼플루오로알킬 보레이트와 트리알킬실릴 시아나이드와의 직접 반응에 의한, 퍼플루오로알킬트리시아노- 또는 퍼플루오로알킬시아노플루오로보레이트 음이온, ((퍼)플루오로)페닐트리시아노- 또는 ((퍼)플루오로)페닐시아노플루오로보레이트 음이온, 페닐트리시아노보레이트 음이온 (1 내지 4 개의 C 원자를 갖는 퍼플루오로알킬기에 의해 단- 또는 이치환됨) 또는 페닐시아노플루오로보레이트 음이온 (1 내지 4 개의 C 원자를 갖는 퍼플루오로알킬기에 의해 단- 또는 이치환됨) 을 갖는 염의 제조방법에 관한 것이다.
Description
본 발명은 알칼리 금속 트리플루오로퍼플루오로알킬보레이트와 트리알킬실릴 시아나이드의 반응 및 후속적인 염-교환 반응에 의한 또는 유기 트리플루오로퍼플루오로알킬 보레이트와 트리알킬실릴 시아나이드와의 직접 반응에 의한, 퍼플루오로알킬트리시아노- 또는 퍼플루오로알킬시아노플루오로보레이트 음이온, ((퍼)플루오로)페닐트리시아노- 또는 ((퍼)플루오로)페닐시아노플루오로보레이트 음이온, 페닐트리시아노보레이트 음이온 (1 내지 4 개의 C 원자를 갖는 퍼플루오로알킬기에 의해 단- 또는 이치환됨) 또는 페닐시아노플루오로보레이트 음이온 (1 내지 4 개의 C 원자를 갖는 퍼플루오로알킬기에 의해 단- 또는 이치환됨) 을 갖는 염의 제조방법에 관한 것이다.
화학식 Ma + [B(Rf)4-x-y(CN)x(F)y]a (식 중 Ma + 는 무기 또는 유기 양이온일 수 있고, a = 1 또는 2, x 는 1, 2, 또는 3, y = 0 또는 1, x+y ≤ 4 임) 의 염은 WO 2006/045405 로부터 공지되었고, 그러나 칼륨 트리스(트리플루오로메틸)시아노보레이트, 구아니디늄 트리스(트리플루오로메틸)시아노보레이트 및 트리틸륨 트리스(트리플루오로메틸)시아노보레이트 염만이 개시되어 있다. WO 2006/045405 는 유기 양이온 및 표시된 화학식의 음이온을 갖는 염이 이온성 액체임을 개시하고 있다.
이온성 액체는 일반적으로 유기 양이온 및 무기 음이온으로 구성되는 염을 의미하도록 선택된다. 이들은 임의의 중성 분자를 함유하지 않고, 통상적으로 373 K 미만의 용융점을 갖는다 [Wasserscheid P, Keim W, 2000, Angew . Chem . 112: 3926]. 이들의 염 특성으로 인하여, 이온성 액체는 특유의 물질 특성, 예를 들어 낮은 증기 압력, 넓은 온도 범위에서의 액체 상태를 갖고, 불연성이고, 높은 전기 전도성 및 높은 전기화학 및 열적 안정성을 나타낸다.
놀랍게도, 퍼플루오로알킬 및 또한 시아노기를 함유하는 보레이트 음이온을 갖는 이온성 액체는 퍼플루오로알킬기 및 플루오로기를 함유하는 보레이트 음이온, 예를 들어 퍼플루오로알킬 트리플루오로보레이트를 갖는 이온성 액체보다 낮은 점도를 나타내고, 또는 테트라시아노보레이트 음이온을 갖는 이온성 액체보다 낮은 점도를 나타낸다. 퍼플루오로알킬시아노플루오로보레이트 음이온을 갖는 염의 응용이 특히 전기화학분야에서 고려되는 경우 점도는 중요한 물질 특성이다. 특히, 음이온 퍼플루오로알킬트리시아노보레이트, 퍼플루오로알킬시아노디플루오로보레이트 또는 퍼플루오로알킬디시아노플루오로보레이트를 갖는 염은, 예를 들어 대략 25 ℃ 에서 13 내지 17 cP 의 역학 점도를 나타낸다. 이러한 선택된 음이온을 갖는 이러한 유형의 염은 신규한 것이고, 특히 WO 2006/045405 의 선택 발명이다.
보레이트 음이온 [B(Rf)4-x-y(CN)x(F)y] (식 중, x = 1, 2 또는 3, y = 0 또는 1 및 x+y < 4 임) 의 합성은 공개된 명세서 WO 2006/045405 의 설명에 따라 150 ° 내지 300 ℃ 사이의 온도에서 해당하는 이소시아노보레이트 염의 이성질체화에 의해 이루어진다. 이소시아노보레이트 염은 이소시아노보릭산의 강염기와의 반응에 의해 형성되고, 질소 원자가 붕소 원자와 결합되는 것을 특징으로 한다. 이에 비해 WO 2006/045405 의 염에서의 시아나이드는 C 원자를 통해 붕소 원자에 결합된다.
E. Bernhard et al, Chemistry A European J. 2001, 7, No. 21, 4696-4705) 는 음이온 [(CF3)BF2(CN)]- 및 [(CF3)BF(CN)2]- 의 NMR 데이터를 기재하고 있고, 이는 ClF3 를 사용하는 리튬, 은 또는 암모늄 테트라시아노보레이트 (NH4[B(CN)4]) 의 플루오르화 동안 관찰되나, 이는 분리되지 않았다. 이러한 플루오르화의 최종 생성물은 테트라트리플루오로메틸보레이트 음이온 ([B(CF3)4]-) 을 갖는 염이다.
칼륨 시아나이드/염화리튬의 존재 하에서의 알칼리 금속 테트라플루오로보레이트의 고체-상태의 반응에 의한 알칼리 금속 테트라시아노보레이트의 합성은, 예를 들어 WO 2004/072089 에 기재되어 있다.
퍼플루오로알킬기 [B(CN)x(F)y] (식 중, x = 2 또는 3, y = 1 또는 2 및 x+y = 4) 의 합성은 E. Bernhard et al, Z. fuer Anorg. Allg. Chem. 2003, 629, 677-685 의 설명에 따라 리튬 테트라플루오로보레이트 또는 칼륨 테트라플루오로보레이트와 트리메틸실릴 시아나이드의 반응에 의해 이루어진다. 또한, 반응 속도는 매우 느리고, 반응 시간이 수 시간 내지 수 주이고, 디시아노디플루오로보레이트 음이온 및 트리시아노플루오로보레이트 음이온의 혼합물이 일반적으로 형성되는 것으로 기재되어 있다. 트리플루오로모노시아노보레이트 음이온의 합성 및 분리는 이러한 방법에 의해 가능하지 않았다.
그러나, 이러한 흥미로운 부류의 퍼플루오로알킬시아노플루오로보레이트 음이온 또는 퍼플루오로알킬트리시아노보레이트 음이온, 퍼플루오로페닐시아노플루오로보레이트 음이온 또는 퍼플루오로페닐트리시아노보레이트 음이온, 퍼플루오로페닐시아노플루오로보레이트 음이온, 플루오로페닐시아노플루오로보레이트 음이온 또는 플루오로페닐트리시아노보레이트 음이온, 페닐시아노플루오로보레이트 음이온 또는 페닐트리시아노보레이트 음이온 (이는 1 내지 4 개의 C 원자를 갖는 퍼플루오로알킬기에 의해 임의로 단- 또는 이치환될 수 있음) 을 갖는 염을 제조하기 위한 경제적인 대안적 합성 방법에 대한 요구가 지속되고 있다.
따라서, 본 발명의 목적은 양호한 수율로 원하는 염을 얻고, 용이하게 이용할 수 있는 출발 물질로부터 출발되는 대안적인 제조 공정을 개발하는 것이다.
놀랍게도, 알칼리 금속 트리플루오로퍼플루오로알킬보레이트가 용이하게 이용할 수 있는 원하는 혼합된 보레이트의 합성을 위한 우수한 출발 물질에 해당한다는 것을 밝혀내었다.
따라서, 본 발명은 화학식 I 의 염의 제조방법에 관한 것으로
Ma + [B(Rf)(CN)x(F)y]a - I,
[식 중, Ma + 는 은, 마그네슘, 구리(I), 구리(II), 아연(II), 칼슘 양이온, NH4 + 또는 유기 양이온이고,
Rf 는 1 내지 4 개의 C 원자를 갖는 선형 또는 분지형 과불소화된 알킬기, C6F5, C6H5, 부분적으로 불소화된 페닐, 또는 1 내지 4 개의 C 원자를 갖는 퍼플루오로알킬기에 의해 단- 또는 이치환된 페닐 (퍼플루오로알킬기는 서로 독립적으로 선택됨) 을 나타내고,
a 는 1 또는 2 이고,
x 는 1, 2 또는 3 이고,
y 는 0, 1 또는 2 이고,
x+y = 3 임],
이는 화학식 II 의 알칼리 금속염과
Me+ [B(Rf)F3]- II,
[식 중, Me+ 는 리튬, 칼륨, 나트륨, 세슘 또는 루비듐염이고, Rf 는 상기에서 표시된 의미를 갖음]
트리알킬실릴 시아나이드와 반응하여 화학식 III 의 염을 얻는 것에 의하고,
Me+ [B(Rf)(CN)x(F)y]- III,
[식 중, Me+, Rf, x 및 y 는 상기에서 표시된 의미를 갖고, 트리알킬실릴 시아나이드의 알킬기는 각 경우에서 서로 독립적으로 1 내지 4 개의 C 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알킬기임]
화학식 III 의 염과 화학식 IV 의 염과의 후속되는 염-교환 반응에 의한 방법에 관한 것이다:
MA IV,
[식 중, M 은 Ma + 에 대해 표시된 의미를 갖고,
A 는 음이온 F-, Cl-, Br-, I-, OH-, [HF2]-, [CN]-, [SCN]-, [R1COO]-, [R1SO3]-, [R2COO]-, [R2SO3]-, [R1OSO3]-, [SiF6]2-, [BF4]-, [SO4]2-, [HSO4]1-, [NO3]-, [(R1)2P(O)O]-, [R1P(O)O2]2-, [(R1O)2P(O)O]-, [(R1O)P(O)O2]2-, [(R2)2P(O)O]-, [R2P(O)O2]2-, 토실레이트, 벤조에이트, 옥살레이트, 숙시네이트, 수베레이트, 아스코브레이트, 소르베이트, 타르트레이트, 시트레이트, 말레이트, 1 내지 4 개의 C 원자를 갖는 알킬기에 의해 임의로 치환된 말로네이트, 또는 [CO3]2- 의 군으로부터 선택되고, R1 은 각 경우에서 서로 독립적으로 H 및/또는 1 내지 12 개의 C 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알킬기를 나타내고,
R2 는 각 경우에서 서로 독립적으로 1 내지 12 개의 C 원자를 갖는 부분적으로 불소화된 또는 과불소화된 선형 또는 분지형 알킬기 또는 펜타플루오로페닐을 나타내고, 염 MA 의 화학식에서 전기적 중성이 보장되어야 함].
1 내지 4 개의 C 원자를 갖는 과불소화된 선형 또는 분지형 알킬기는, 예를 들어 트리플루오로메틸, 펜타플루오로에틸, n-헵타플루오로프로필, 이소헵타플루오로프로필, n-노나플루오로부틸, sec-노나플루오로부틸 또는 tert-노나플루오로부틸이다. R2 는 유사하게는 1 내지 12 개의 C 원자를 갖는 선형 또는 분지형 과불소화된 알킬기 (상기에서 언급한 퍼플루오로알킬기, 예를 들어 과불소화된 n-헥실, 과불소화된 n-헵틸, 과불소화된 n-옥틸, 과불소화된 에틸헥실, 과불소화된 n-노닐, 과불소화된 n-데실, 과불소화된 n-운데실 또는 과불소화된 n-도데실을 함유함) 를 나타낸다.
Rf 는 바람직하게는 트리플루오로메틸, 펜타플루오로에틸, 헵타플루오로프로필, 노나플루오로부틸, 퍼플루오로헥실, C6F5, p-FC6H4, 3,5-(CF3)2C6H3 또는 C6H5; 특히 바람직하게는 1 내지 4 개의 C 원자를 갖는 선형 또는 분지형 과불소화된 알킬기 또는 C6F5, 매우 특히 트리플루오로메틸 또는 펜타플루오로에틸, 이례적으로 바람직하게는 펜타플루오로에틸이다.
따라서, 보레이트 음이온이 트리플루오로메틸트리시아노보레이트, 펜타플루오로에틸트리시아노보레이트, 헵타플루오로프로필트리시아노보레이트, 트리플루오로메틸디시아노플루오로보레이트, 펜타플루오로에틸디시아노플루오로보레이트, 헵타플루오로프로필디시아노플루오로보레이트, 트리플루오로메틸모노시아노디플루오로보레이트, 펜타플루오로메틸모노시아노디플루오로보레이트, 헵타플루오로프로필모노시아노디플루오로보레이트, 노나플루오로부틸모노시아노디플루오로보레이트, 펜타플루오로페닐트리시아노보레이트, 펜타플루오로페닐디시아노플루오로보레이트, 펜타플루오로페닐모노시아노디플루오로보레이트, 페닐트리시아노보레이트, 페닐디시아노플루오로보레이트, 페닐모노시아노디플루오로보레이트, p-플로오로페닐트리시아노보레이트, p-플루오로페닐디시아노플루오로보레이트, p-플루오로페닐모노시아노디플루오로보레이트, 3,5-비스(트리플루오로메틸)페닐트리시아노보레이트, 3,5-비스(트리플루오로메틸)페닐디시아노플루오로보레이트 또는 3,5-비스(트리플루오로메틸)페닐모노시아노디플루오로보레이트의 군으로부터 선택되는 화학식 I 의 바람직한 염.
R2 는 특히 바람직하게는 트리플루오로메틸, 펜타플루오로에틸 또는 노나플루오로부틸, 매우 특히 바람직하게는 트리플루오로메틸 또는 펜타플루오로에틸이다.
1 내지 4 개의 C 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알킬기는 예를 들어 메틸, 에틸, n-프로필, 이소프로필, n-부필, sec-부틸 또는 tert-부틸이다. R1 은 유사하게는 상기에서 언급된 알킬기, 예를 들어 n-헥실, n-헵틸, n-옥틸, 에틸헥실, n-노닐, n-데실, n-운데실 또는 n-도데실을 함유하는 1 내지 12 개의 C 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알킬기를 정의한다.
R1 은 특히 바람직하게는 메틸, 에틸, n-부틸, n-헥실 또는 n-옥틸, 매우 특히 바람직하게는 메틸 또는 에틸이다.
치환된 말로네이트는 예를 들어 화합물 - 메틸 말로네이트 또는 에틸 말로네이트이다.
Ma + 는 바람직하게는 암모늄 양이온, 술포늄 양이온, 옥소늄 양이온, 포스포늄 양이온, 우로늄 양이온, 티오우로늄 양이온, 구아니디늄 양이온 또는 헤테로시클릭 양이온, 하기에 기재된 바와 같이 특히 화학식 (1) 내지 (8) 에 의한 것 및 이의 바람직한 의미로부터 선택된 유기 양이온이다.
트리알킬실릴 시아나이드의 알킬기는 동일하거나 상이할 수 있다. 알킬기는 바람직하게는 동일하다. 따라서 트리알킬실릴 시아나이드의 예는 트리메틸실릴 시아나이드, 트리에틸실릴 시아나이드, 트리이소프로필실릴 시아나이드, 트리프로필실릴 시아나이드 또는 트리부틸실릴 시아나이드이다. 시판되거나 또한 현장에서 제조될 수 있는 트리메틸실릴 시아나이드의 사용이 특히 바람직하다.
알칼리 금속이 리튬, 나트륨 또는 칼륨, 특히 바람직하게는 칼륨인 화학식 II 의 화합물의 사용이 바람직하다.
따라서, 상기에서 기재된 바와 같이, 화학식 I 의 화합물의 합성을 위한 화학식 II 의 매우 특히 바람직한 화합물은 칼륨 트리플루오로메틸트리플루오로보레이트, 칼륨 펜타플루오로에틸트리플루오로보레이트, 칼륨 헵타플루오로프로필트리플루오로보레이트 또는 칼륨 펜타플루오로페닐트리플루오로보레이트로부터 선택된다.
화학식 II 의 화합물의 화학식 III 의 화합물로의 전환의 경우에 있어서, 상기에 기재된 바와 같이 특정한 보레이트 음이온이 특별하게 고수율로 얻어지도록 이러한 반응의 반응 조건을 선택하는 것이 가능하다. 특정 온도 제어 없이, 상기에서 정의한 바와 같이 또는 바람직한 것으로서 기재된 바와 같이 상이한 보레이트 음이온을 갖는 염의 혼합물을 일반적으로 형성한다. 온도 제어는 유리하게는 마이크로파 조사를 통해서이다.
화학식 II 의 화합물은 예를 들어 US 7,208,626 B2; WO 2003/087020 (A1) 및 WO 2003/087113 (A1) 또는 R.D. Chambers et al., J. of the American Chemical Society, 82 (1960), p. 5296-5301; H.-J- Frohn and V.V. Bardin, Z. fuer Anorganische und Allge - meine Chemie, 627 (2001), pp. 15-16; G.A. Molander and G.P. Hoag, Organometallics, 22 (2003), p. 3313-3315; Zhi-Bin Zhou et al., J. of Fluo - rine Chem ., 123 (2003), p. 127-131] 의 설명에 기초한 당업자에게 공지된 종래의 방법에 의해 제조될 수 있다.
상기에 기재된 바와 같이 10 ℃ 내지 110 ℃ 의 온도에서 또는 110 W 로 마이크로파 조사하여 화학식 II 의 화합물과 트리알킬실릴 시아나이드와의 반응이 수행되는 경우,
Me+ [B(Rf)F3]- II,
[식 중, Me+ 는 리튬, 칼륨, 나트륨, 세슘 또는 루비듐염이고, Rf 는 상기에서 표시된 의미를 갖음]
특히 화학식 III 의 화합물이 형성된다
Me+ [B(Rf)(CN)x(F)y]- III,
[식 중, Me+, Rf 는 화학식 II 의 화합물에 관한 의미를 갖고, x = 1 및 y = 2 이고, 즉 불소 원자가 시아노기로 대체됨]. 따라서 화학식 Ia [B(Rf)(CN)(F)2]- Ia 의 음이온을 갖는 화학식 III 의 화합물이 고수율로 형성된다.
기 Rf 가 트리플루오로메틸을 의미하는 경우, 트리플루오로메틸모노시아노디플루오로보레이트 음이온을 갖는 해당하는 염은 바람직하게는 실온에서 또는 100 W 로 마이크로파 조사하여 형성된다. 수 시간의 반응 시간이 관찰될 수 있다. 이와 관련된 상세한 설명이 실시예에 기재된다. 기 Rf 가 펜타플루오로에틸을 의미하는 경우 해당하는 염은 100 ℃ 의 온도에서 대략 한 시간의 반응 시간으로 또는 100 W 로 마이크로파 조사하여 형성된다. 기 Rf 가 페닐, 부분적으로 불소화된 페닐, 페닐 또는 퍼플루오로페닐 (이의 각각은 1 내지 4 개의 C 원자를 갖는 퍼플루오로보레이트에 의해 단- 또는 이치환됨) 을 의미하는 경우, 해당하는 모노시아노디플루오로보레이트 염은 바람직하게는 실온에서 수 일의 반응 시간으로 형성된다. 따라서 화학식 Ia 의 음이온을 갖는 화학식 I 의 염을 제조하기 위한 바람직한 구현예는 상기에서 기재된 바와 같이 화학식 II 와 트리알킬실릴 시아나이드의 반응이 10 ℃ 내지 110 ℃, 바람직하게는 실온 (25 ℃) 내지 100 ℃의 온도에서 또는 100 W 로 마이크로파 조사하여 수행되는 것을 특징으로 한다.
상기에서 기재된 바와 같이, 115 ℃ 내지 200 ℃ 의 온도에서 또는 200 W 로 마이크로파 조사하여 화학식 II 의 화합물과 트리알킬실릴 시아나이드의 반응을 수행하는 경우,
Me+ [B(Rf)F3]- II,
[식 중, Me+ 는 리튬, 칼륨, 나트륨, 세슘 또는 루비듐염이고, Rf 는 상기에서 표시된 의미를 갖음]
특히 화학식 III 의 화합물이 형성된다
Me+ [B(Rf)(CN)x(F)y]- III,
[식 중, Me+, Rf 는 화학식 II 의 화합물에 관한 의미를 갖고, x = 2 및 y = 1 이고, 즉 2 개의 불소 원자가 시아노기로 대체됨]. 따라서 화학식 Ib [B(Rf)(CN)2(F)]- Ib 의 음이온을 갖는 화학식 III 의 화합물이 고수율로 형성된다.
기 Rf 가 예를 들어 트리플루오로메틸을 의미하는 경우 트리플루오로메틸디시아노플루오로보레이트 음이온을 갖는 해당하는 염은 바람직하게는 130 ℃ 에서 또는 200 W 로 마이크로파 조사하여 형성된다. 반응 시간은 대략 5 시간이다. 이와 관련된 상세한 설명이 실시예에 기재된다. 기 Rf 가 예를 들어 펜타플루오로에틸을 의미하는 경우 화학식 Ib 의 해당하는 염은 바람직하게는 대략 6 시간 동안 180 ℃ 의 온도에서 또는 대략 수분의 반응 시간으로 200 W 로 마이크로파 조사하여 형성된다. 따라서, 화학식 Ib 의 음이온을 갖는 화학식 I 의 염을 제조하기 위한 바람직한 예는 상기에서 기재된 바와 같이 화학식 II 와 트리알킬실릴 시아나이드의 반응이 115 ℃ 내지 200 ℃, 바람직하게는 130 ℃ 내지 180 ℃의 온도에서 또는 200 W 로 마이크로파 조사하여 수행되는 것을 특징으로 한다.
상기에서 기재된 바와 같이, 200 W 초과, 특히 300 W 로 마이크로파 조사하여 화학식 II 의 화합물과 트리알킬실릴 시아나이드의 반응을 수행하는 경우,
Me+ [B(Rf)F3]- II,
[식 중, Me+ 는 리튬, 칼륨, 나트륨, 세슘 또는 루비듐염이고, Rf 는 상기에서 표시된 의미를 갖음]
특히 화학식 III 의 화합물이 형성된다.
Me+ [B(Rf)(CN)x(F)y]- III,
[식 중, Me+, Rf 는 화학식 II 의 화합물에 관한 의미를 갖고, x = 3 및 y = 0 이고, 즉 모든 3 개의 불소 원자가 시아노기로 대체됨]. 따라서 화학식 Ic [B(Rf)(CN)3]- Ic 의 음이온을 갖는 화학식 III 의 화합물이 고수율로 형성된다.
따라서, 화학식 Ic 의 음이온을 갖는 화학식 I 의 염을 제조하기 위한 바람직한 구현예는 상기에 기재된 바와 같이 화학식 II 와 트리알킬실릴 시아나이드와의 반응이 200 W 초과로 마이크로파 조사하여, 바람직하게는 300 W 로 마이크로파 조사하여 수행되는 것을 특징으로 한다.
기 Rf 가 예를 들어 트리플루오로메틸을 의미하는 경우 트리플루오로메틸트리시아노플루오로보레이트 음이온을 갖는 해당하는 염은 300 W 로 마이크로파 조사하여 형성된다. 반응 시간은 대략 1 내지 2 시간이다. 이와 관련된 상세한 설명이 실시예에 기재된다. 기 Rf 가 예를 들어 펜타플루오로에틸을 의미하는 경우, 해당하는 염은 바람직하게는 대략 한 시간의 반응 시간으로 300 W 로 마이크로파 조사하여 형성된다.
화학식 II 의 화합물이 상기에 기재된 바와 같이 화학식 I 의 화합물의 제조를 위한 염-교환 반응 후의 학식 III 의 화합물의 제조를 위한 출발 물질로서 적합하다는 것을 예상할 수 없다. Bernhard et al (Z. fuer Anorg. Allg. Chem. 2003, 629, 677-685) 에 기재된 알칼리 금속 테트라플루오로보레이트와 트리메틸실릴 시아나이드와의 반응과 대조적으로 큰 기 Rf, 예를 들어 퍼플루오로알킬기의 존재 하에서의 반응성은 불소 원자를 시아노기로 대체하도록 촉진하기에 충분하다는 것을 기대할 수 없다. 또한, 놀랍게도 심지어 반응 속도도 관련하여 증가한다. 3 개의 불소 원자의 대체는 상기에서 언급된 참조문헌에서 성공하지 못하였고, 반면 정확하게 이러한 대체는 300 W 로의 마이크로파 조사의 존재 하에 본 발명에 따른 공정에서 발생된다. 가열원으로서 마이크로파 조사는 참조문헌에 기재되어 있지 않다. 예상외로 놀랍게도, 트리메틸실릴 시아나이드는 퍼플루오로알킬 사슬에서의 불소 원자가 아닌 붕소에 결합된 불소 원자만을 선택적으로 공격한다.
화학식 II 의 화합물과 트리알킬실릴 시아나이드의 반응은 보호-기체 분위기 없이 수행될 수 있다. 그러나, 반응은 바람직하게는 건조 공기 하에서 또는 비활성 기체 분위기에서 수행된다. 화학식 II 의 화합물과 트리알킬실릴 시아나이드의 반응은 바람직하게는 용매 없이 수행된다. 그러나, 유기 용매, 예를 들어 테트라히드로푸란 또는 아세토니트릴의 존재 하에서의 반응이 가능하다.
추가의 구현예에 있어서, 사용되는 트리알킬실릴 시아나이드는 상기에서 기재된 바와 같이 화학식 II 의 화합물과의 반응 전 요오드화 또는 불소화 알칼리 금속 및 임의로 요오드의 존재 하에 알칼리 금속 시아나이드 및 트리알킬실릴 클로라이드로부터 제조된다. 나트륨 시아나이드 및 요오드화 나트륨 또는 칼륨 시아나이드 및 요오드화 칼륨이 사용될 수 있고, 요오드화 알칼리 금속은 바람직하게는 1 mol/l 의 알칼리 금속 시아나이드 및 트리알킬실릴 클로라이드에 기초하여 0.1 mol/l 의 몰양으로 첨가된다. 이러한 제조에 관한 상세설명은 실시예에 주어진다. 일반적으로 제조를 위한 이러한 공정은 M.T. Reetz, I. Chatziiosifidis, Synthesis, 1982, p. 330; J.K. Rasmussen, S. M. Heilmann and L.R. Krepski, The Chemistry of Cyanotrimethylsilane in G.L. Larson (Ed.)"Advances in Silicon Chemistry", Vol. 1, p. 65-187, JAI Press Inc., 1991 또는 WO 2008/102661 A1 의 설명에 기초한다.
따라서, 본 발명은 또한 상기에서 기재된 바와 같이 트리알킬실릴 시아나이드가 현장에서 요오드화 알칼리 금속 및 임의로 화학식 II 의 화합물의 반응 전의 요오드의 촉매의 존재 하에 알칼리 금속 시아나이드 및 트리알킬실릴 클로라이드로부터 제조되는 것을 특징으로 하는 화학식 I 의 화합물의 제조를 위한 공정에 관한 것이다.
화학식 I 의 화합물의 본 발명에 따른 제조가 상기에 기재된 바와 같이 수행되는 경우, 제 1 단계의 반응으로부터 수득된 화학식 III 의 화합물을 정제하고, 제 2 단계의 염-교환 반응 또는 복분해 반응에서 분리된 순수 화합물로서 이를 이용하는 것이 가능하다.
그러나, 추가의 구현예에 있어서 순물질을 얻기 위해 화학식 III 의 중간체 화합물을 생성하지 않고, 대신 유기 용매에서 불용성이고 또는 용이하게 휘발될 수 있는 부산물, 예컨대 트리알킬실릴 플루오라이드 또는 과량의 트리메틸실릴 시아나이드를 간단하게 분리할 수 있고, 상기에서 기재된 바와 같이 화학식 IV 의 화합물을 가진 순물질을 얻기 위해 추가의 정제 없이 화학식 III 의 화합물을 반응시키는 것이 유리하다.
대안적으로, 상기에서 기재된 바와 같이, 화학식 I 의 화합물의 합성은 또한 상기에서 기재된 바와 같이 예를 들어 실시예 5C 에 기재된 바와 같이 염화 알칼리 금속의 존재 하에 화학식 II 의 화합물과 알칼리 금속 시아나이드를 반응시킴으로써 수행될 수 있다. 수득된 화합물은 결정화에 의해 분리될 수 있다. 혼합물을 염-교환 반응에서 해당하는 유기 양이온을 갖는 화합물의 제조를 위해 사용하는 경우, 유기 양이온을 갖는 염은 예를 들어 추출법을 사용하여 분리될 수 있다. 이러한 대안적인 공정은 바람직하게는 알칼리 금속 (펜타플루오로에틸)디플루오로모노시아노보레이트 및 염 교환 이후의 해당하는 유기염 또는 대안적인 금속염의 제조에 적합하다. 바람직한 염화 알칼리 금속은 염화 리튬이다. 이는 특히 160 ℃ 내지 200 ℃ 의 온도에서의 소결 반응이다.
화학식 (1) 내지 (8) 의 유기 양이온의 예는 하기 군으로부터 선택될 수 있다:
화학식 (1) 의 암모늄 양이온, 화학식 (2) 의 술포늄 양이온 또는 화학식 (3) 의 옥소늄 양이온
[N(R)4]+ (1), [S(R)3]+ (2) 또는 [O(R)3]+ (3)
[식 중,
R 은 각 경우에서 서로 독립적으로 하기를 나타내고
- H (모든 치환기 R 은 동시에 H 일 수 없음),
- 1-20 개의 C 원자를 갖는 직쇄형 또는 분지형 알킬,
- 2-20 개의 C 원자 및 하나 이상의 이중 결합을 갖는 직쇄형 또는 분지형 알케닐,
- 2-20 개의 C 원자 및 하나 이상의 삼중 결합을 갖는 직쇄형 또는 분지형 알키닐,
- 3-7 개의 C 원자를 갖는 포화된, 부분적으로 또는 전체적으로 불포화된 시클로알킬 (이는 1-6 개의 C 원자를 갖는 알킬기로 치환될 수 있음),
하나 또는 두 개의 R 은 전체적으로 치환될 수 있고 및/또는 하나 이상의 R 은 할로겐에 의해 부분적으로 또는 -OR1, -NR1 * 2, -CN, -C(O)NR1 2, 또는 -SO2NR1 2 에 의해 부분적으로 치환될 수 있고,
라디칼 R 의 α-위치에 있지 않은 하나 또는 두 개의 비인접 탄소 원자는 -O-, -S-, -S(O)-, -SO2-, -N+R1 2-, -C(O)NR1-, -SO2NR1- 또는 -P(O)R1-; 또는 화학식 (4) 의 포스포늄 양이온의 군으로부터 선택된 원자 및/또는 원자기로 대체될 수 있고,
[P(R2)4]+ (4),
식 중, R2 는 각 경우에서 서로 독립적으로 하기를 나타내고,
- H, NR1 * 2,
- 1 내지 20 개의 C 원자를 갖는 직쇄형 또는 분지형 알킬,
- 2-20 개의 C 원자 및 하나 이상의 이중 결합을 갖는 직쇄형 또는 분지형 알케닐,
- 2-20 개의 C 원자 및 하나 이상의 삼중 결합을 갖는 직쇄형 또는 분지형 알키닐,
- 3-7 개의 C 원자를 갖는 포화된, 부분적으로 또는 전체적으로 불포화된 시클로알킬 (이는 1-6 개의 C 원자를 갖는 알킬기로 치환될 수 있음),
하나 또는 두 개의 R2 는 전체적으로 치환될 수 있고 및/또는 하나 이상의 R2 는 할로겐에 의해 부분적으로 또는 -OR1, -CN, -C(O)NR1 2, 또는 -SO2NR1 2 에 의해 부분적으로 치환될 수 있고,
R2 의 α-위치에 있지 않은 하나 또는 두 개의 비인접 탄소 원자는 -O-, -S-, -S(O)-, -SO2-, -N+R1 2-, -C(O)NR1-, -SO2NR1-, 또는 -P(O)R1-; 또는 화학식 (5) 의 우로늄 양이온 또는 화학식 (6) 의 티오우로늄 양이온의 군으로부터 선택된 원자 및/또는 원자기로 대체될 수 있고,
[C(NR3R4)(OR5)(NR6R7)]+ (5)
또는 [C(NR3R4)(SR5)(NR6R7)]+ (6),
식 중,
R3 내지 R7 각각은 서로 독립적으로 하기를 나타내고,
- H, NR1 * 2,
- 1 내지 20 개의 C 원자를 갖는 직쇄형 또는 분지형 알킬,
- 2-20 개의 C 원자 및 하나 이상의 이중 결합을 갖는 직쇄형 또는 분지형 알케닐,
- 2-20 개의 C 원자 및 하나 이상의 삼중 결합을 갖는 직쇄형 또는 분지형 알키닐,
- 3-7 개의 C 원자를 갖는 포화된, 부분적으로 또는 전체적으로 불포화된 시클로알킬 (이는 1-6 개의 C 원자를 갖는 알킬기로 치환될 수 있음),
하나 이상의 치환기 R3 내지 R7 은 할로겐에 의해 부분적으로 또는 전체적으로, 또는 -OH, -OR1, -CN, -C(O)NR1 2, -SO2NR1 2 에 의해 부분적으로 치환될 수 있고,
R3 내지 R7 의 α-위치에 있지 않은 하나 또는 두 개의 비인접 탄소 원자는 -O-, -S-, -S(O)-, -SO2-, -N+R1 2-, -C(O)NR1-, -SO2NR1- 또는 -P(O)R1-; 또는 화학식 (7) 의 구아니디늄 양이온의 군으로부터 선택되는 원자 및/또는 원자기로 대체될 수 있고,
[C(NR8R9)(NR10R11)(NR12R13)]+ (7),
R8 내지 R13 각각은 서로 독립적으로 하기를 나타내고,
- H, NR1 * 2,
- 1 내지 20 개의 C 원자를 갖는 직쇄형 또는 분지형 알킬,
- 2-20 개의 C 원자 및 하나 이상의 이중 결합을 갖는 직쇄형 또는 분지형 알케닐,
- 2-20 개의 C 원자 및 하나 이상의 삼중 결합을 갖는 직쇄형 또는 분지형 알키닐,
- 3-7 개의 C 원자를 갖는 포화된, 부분적으로 또는 전체적으로 불포화된 시클로알킬 (이는 1-6 개의 C 원자를 갖는 알킬기로 치환될 수 있음),
하나 이상의 치환기 R8 내지 R13 은 할로겐에 의해 부분적으로 또는 전체적으로, 또는 -OR1, -CN, -C(O)NR1 2, -SO2NR1 2 에 의해 부분적으로 치환될 수 있고,
R8 내지 R13 의 α-위치에 있지 않은 하나 또는 두 개의 비인접 탄소 원자는 -O-, -S-, -S(O)-, -SO2-, -N+R1 2-, -C(O)NR1-, -SO2NR1- 또는 -P(O)R1-; 또는 화학식 (8) 의 헤테로시클릭 양이온의 군으로부터 선택되는 원자 및/또는 원자기로 대체될 수 있고,
[HetN]+ (8),
[HetN]+ 는 하기를 포함하는 군으로부터 선택되는 헤테로시클릭 양이온이고,
식 중, 치환기 R1' 내지 R4' 각각은 서로 독립적으로 하기를 나타내고,
- R1' 및 R4' 가 동시에 H 일 수 없는 제한을 갖는 H,
- 불소화되거나 과불소화될 수 있는, 1-20 개의 C 원자를 갖는 직쇄형 또는 분지형 알킬,
- 불소화되거나 과불소화될 수 있는, 2-20 개의 C 원자 및 하나 이상의 이중 결합을 갖는 직쇄형 또는 분지형 알케닐,
- 불소화되거나 과불소화될 수 있는, 2-20 개의 C 원자 및 하나 이상의 삼중 결합을 갖는 직쇄형 또는 분지형 알키닐,
- 1-6 개의 C 원자를 갖는 알킬기에 의해 치환될 수 있는 3-7 개의 C 원자를 갖는 포화된, 부분적으로 또는 전체적으로 불포화된 시클로알킬,
- 포화된, 부분적으로 또는 전체적으로 불포화된 헤테로아릴, 헤테로아릴-C1-C6-알킬 또는 아릴-C1-C6-알킬,
치환기 R1', R2', R3' 및/또는 R4' 는 서로 고리계를 형성할 수 있고,
하나 이상의 치환기 R1' 내지 R4' 는 할로겐에 의해 부분적으로 또는 전체적으로, 또는 -OR1, -CN, -C(O)NR1 2, -SO2NR1 2 에 의해 부분적으로 치환될 수 있고, 그러나 R1' 내지 R4' 는 동시에 할로겐에 의해 전체적으로 치환될 수 없고, 치환기 R1' 내지 R4' 의 헤테로원자에 결합하지 않는 하나 또는 두 개의 비인접 탄소 원자는 -O-, -S-, -S(O)-, -SO2-, -N+R1 2-, -C(O)NR1-, -SO2NR1-, 또는 -P(O)R1- 의 군으로부터 선택되는 원자 및/또는 원자기로 대체될 수 있고;
R1 은 H, 비-, 부분적 또는 과불소화된 C1- 내지 C6-알킬, C3- 내지 C7-시클로알킬, 비치환된 또는 치환된 페닐을 나타내고, R1 * 은 비-, 부분적 또는 과불소화된 C1- 내지 C6-알킬, C3- 내지 C7-시클로알킬, 비치환된 또는 치환된 페닐을 나타냄].
따라서, 모든 4 개 또는 3 개의 치환기 R 및 R2 가 할로겐에 의해 전체적으로 치환된 화학식 (1), (2), (3) 및 (4) 의 양이온, 예를 들어 트리스(트리플루오로메틸)메틸암모늄 양이온, 테트라키스(트리플루오로메틸)암모늄 양이온 또는 테트라키스(노나플루오로메틸)암모늄은 제외된다.
또한, 본 발명의 의미에서 전체적으로 불포화된 치환기는 방향족 치환기를 의미하도록 선택된다.
본 발명에 따른 화학식 (1) 내지 (7) 의 화합물의 적절한 치환기 R 및 R2 내지 R13 은 H 이외, 바람직하게는; C1- 내지 C20-, 특히 C1- 내지 C14-알킬기이고, 포화된 또는 불포화된, 즉, 또한 방향족, C3- 내지 C7-시클로알킬기 (이는 C1- 내지 C6-알킬기, 특히 페닐에 의해 치환될 수 있음) 이다.
화학식 (1), (2), (3) 또는 (4) 의 화합물에서 치환기 R 및 R2 는 동일하거나 상이할 수 있다. 화학식 (1) 의 화합물에서, 3 개 또는 4 개의 치환기 R 은 바람직하게는 동일하다. 화학식 (2) 의 화합물에서 모든 치환기 R 은 바람직하게는 동일하고 또는 2 개가 동일하고 하나의 치환기가 상이하다. 화학식 (3) 의 화합물에서, 모든 치환기 R 은 바람직하게는 동일하다. 화학식 (3) 의 화합물에서 3 개 또는 4 개의 치환기 R2 는 바람직하게는 동일하다.
치환기 R 및 R2 는 특히 바람직하게는 메틸, 에틸, 이소프로필, 프로필, 부틸, sec-부틸, 펜틸, 헥실, 옥틸, 데실 또는 테트라데실이다.
구아니디늄 양이온 [C(NR8R9)(NR10R11)(NR12R13)]+ 의 4 개 이하의 치환기는 또한 모노-, 바이- 또는 폴리시클릭 분자를 형성하는 방식으로 쌍으로 연결될 수 있다.
일반적인 것을 제한하지 않고, 이러한 유형의 구아니디늄 양이온의 예는 하기와 같다:
[식 중, 치환기 R8 내지 R10 및 R13 은 상기에서 언급하거나 특히 바람직한 의미를 가질 수 있음].
상기에서 언급한 구아니디늄 양이온의 카르보시클 또는 헤테로시클은 또한 C1- 내지 C6-알킬, C1- 내지 C6-알케닐, CN, NR1 2, F, Cl, Br, I, C1-C6-알콕시, SCF3, SO2CF3 또는 SO2NR1 2 (식 중, R1 은 상기에서 언급한 의미를 갖음), 치환되거나 비치환된 페닐 또는 비치환된 또는 치환된 헤테로시클에 의해 임의로 치환될 수 있다.
티오우로늄 양이온 [C(NR3R4)(SR5)(NR6R7)]+ 의 4 개 이하의 치환기는 또한 모노-, 바이- 또는 폴리시클릭 분자를 생성하는 방식으로 쌍으로 연결될 수 있다.
일반적인 것을 제한하지 않고, 이러한 유형의 티오우로늄 양이온의 예는 하기로 표기된다:
[식 중, Y = S 이고,
치환기 R3, R5 및 R6 는 상기에서 언급되거나 특히 바람직한 의미를 갖음].
상기에서 언급한 분자의 카르보시클 또는 헤테로시클은 또한 C1- 내지 C6-알킬, C1- 내지 C6-알케닐, CN, NR1 2, F, Cl, Br, I, C1-C6-알콕시, SCF3, SO2CF3 또는 SO2NR1 2 또는 치환된 또는 비치환된 페닐 또는 비치환된 또는 치환된 헤테로시클 (R1 은 상기에서 언급한 의미를 갖음) 에 의해 임의로 치환될 수 있다.
치환기 R3 내지 R13 은 각각 서로 독립적으로 바람직하게는 1 내지 10 개의 C 원자를 갖는 직쇄형 또는 분지형 알킬기이다. 화합물 (5) 내지 (7) 의 화합물에서 치환기 R3 및 R4, R6 및 R7, R8 및 R9, R10 및 R11 및 R12 및 R13 은 동일하거나 상이할 수 있다. R3 내지 R13 은 특히 바람직하게는 각각 서로 독립적으로 메틸, 에틸, n-프로필, 이소프로필, n-부틸, tert-부틸, sec-부틸, 페닐 또는 시클로헥실, 매우 특히 바람직하게는 메틸, 에틸, n-프로필, 이소프로필 또는 n-부틸이다.
본 발명에 따른 화학식 (8) 의 화합물의 적합한 치환기 R1' 내지 R4' 는 H 이외, 바람직하게는: C1- 내지 C20-, 특히 C1- 내지 C12-알킬기이고, 포화된 또는 불포화된, 즉, 또한 방향족, C3- 내지 C7-시클로알킬기 (이는 C1- 내지 C6-알킬기, 특히 페닐에 의해 치환될 수 있음) 이다.
치환기 R1' 및 R4' 는 각 경우에서 서로 독립적으로, 특히 바람직하게는 메틸, 에틸, 이소프로필, 프로필, 부틸, sec-부틸, 펜틸, 헥실, 옥틸, 데실, 시클로헥실, 페닐 또는 벤질이다. 이는 매우 특히 메틸, 에틸, n-부틸 또는 헥실이다. 피롤리딘, 피페리딘, 인돌린, 피롤리디늄, 피페리디늄 또는 인돌리늄 화합물에서, 2 개의 치환기 R1' 및 R4' 는 바람직하게는 상이하다.
치환기 R2' 또는 R3' 는 각 경우에서 서로 독립적으로 특히 H, 메틸, 에틸, 이소프로필, 프로필, 부틸, sec-부틸, tert-부틸, 시클로헥실, 페닐 또는 벤질이다. R2' 는 특히 바람직하게는 H, 메틸, 에틸, 이소프로필, 프로필, 부틸 또는 sec-부틸이다. R2' 및 R3' 는 매우 특히 바람직하게는 H 이다.
C1-C12-알킬기는 예를 들어 메틸, 에틸, 이소프로필, 프로필, 부틸, sec-부틸 또는 tert-부틸, 또한 펜틸, 1-, 2- 또는 3-메틸부틸, 1,1-, 1,2- 또는 2,2-디메틸프로필, 1-에틸프로필, 헥실, 헵틸, 옥틸, 노닐, 데실, 운데실 또는 도데실이다. 임의로 디플루오로메틸, 트리플루오로메틸, 펜타플루오로에틸, 헵타플루오로프로필 또는 노나플루오로부틸.
다수의 이중 결합이 또한 존재할 수 있는 2 내지 20 개의 C 원자를 갖는 직쇄형 또는 분지형 알케닐은, 예를 들어, 아릴, 2- 또는 3-부테닐, 이소부테닐, sec-부테닐, 또한 4-펜테닐, 이소펜테닐, 헥세닐, 헵테닐, 옥테닐, -C9H17, -C10H19 내지 -C20H39; 바람직하게는 알릴, 2- 또는 3-부테닐, 이소부테닐, sec-부테닐이고, 또한 4-펜테닐, 이소펜테닐 또는 헥세닐이 바람직하다. 화합물이 부분적으로 불소화되는 경우, 하나 이상의 H 원자는 F 원자로 대체된다. 화합물이 과불소화되는 경우, 해당 알킬기의 모든 H 원자는 F 원자로 대체된다.
다수의 삼중 결합이 또한 존재할 수 있는 2 내지 20 개의 C 원자를 갖는 직쇄형 또는 분지형 알키닐은, 예를 들어, 에티닐, 1- 또는 2-프로피닐, 2- 또는 3-부티닐, 또한 4-펜티닐, 3-펜티닐, 헥시닐, 헵티닐, 옥티닐, -C9H15, -C10H17 내지 -C20H37, 바람직하게는 에티닐, 1- 또는 2-프로피닐, 2- 또는 3-부티닐, 4-펜티닐, 3-펜티닐 또는 헥시닐이다. 화합물이 부분적으로 불소화되는 경우, 하나 이상의 H 원자는 F 원자로 대체된다. 화합물이 과불소화되는 경우, 해당 알킬기의 모든 H 원자는 F 원자로 대체된다.
아릴-C1-C6-알킬은, 예를 들어 벤질, 페닐에틸, 페닐프로필, 페닐부틸, 페닐펜틸 또는 페닐헥실을 나타내고, 두 페닐 고리 및 또한 알킬렌 사슬은 상기에서 기재된 바와 같이 할로겐, 특히 -F 및/또는 -Cl 에 의해 부분적으로 또는 전체적으로, 또는 -OR1, -NR1 2, -CN, -C(O)NR1 2, -SO2NR1 2 에 의해 부분적으로 치환될 수 있다.
3-7 개의 C 원자를 갖는 비치환되고 포화되거나 또는 부분적으로 또는 전체적으로 불포화된 시클로알킬기는 따라서 시클로프로필, 시클로부틸, 시클로펜틸, 시클로헥실, 시클로헵틸, 시클로펜테닐, 시클로헥세닐, 페닐, 시클로헵테닐 (이의 각각은 C1- 내지 C6-알킬기로 치환될 수 있음) 이고, 시클로알킬기 또는 C1- 내지 C6-알킬기로 치환된 시클로알킬기는 또한 순차적으로 할로겐 원자, 예컨대 F, Cl, Br 또는 I, 특히 F 또는 Cl, 또는 -OR1, -CN, -C(O)NR1 2, -SO2NR1 2 로 치환될 수 있다.
치환기 R, R2 내지 R13 또는 R1'내지 R4' 에서, 헤테로원자에 α-위치에서 결합되지 않는 1 또는 2 개의 비인접 탄소 원자는 또한 -O-, -S-, -S(O)-, -SO2-, -N+R1 2-, -C(O)NR1-, -SO2NR1-, 또는 -P(O)R1- (R1 은 비-, 부분적으로 또는 과불소화된 C1- 내지 C6-알킬, C3- 내지 C7-시클로알킬, 비치환된 또는 치환된 페닐의 군으로부터 선택되는 원자 및/또는 원자기로 대체될 수 있다.
일반적인 것을 제한하지 않고, 이러한 방식으로 개질된 치환기 R, R2 내지 R13 및 R1' 내지 R4' 의 예는 하기와 같다:
-OCH3, -OCH(CH3)2, -CH2OCH3, -CH2-CH2-O-CH3, -C2H4OCH(CH3)2, -C2H4SC2H5, -C2H4SCH(CH3)2, -S(O)CH3, -SO2CH3, -SO2C6H5, -SO2C3H7, -SO2CH(CH3)2, -SO2CH2CF3, -CH2SO2CH3, -O-C4H8-O-C4H9, -CF3, -C2F5, -C3F7, -C4F9, -C(CF3)3, -CF2SO2CF3, -C2F4N(C2F5)C2F5, -CHF2, -CH2CF3, -C2F2H3, -C3FH6, -CH2C3F7, -C(CFH2)3, -CH2C6H5 또는 P(O)(C2H5)2.
R1 또는 R1 * 에서 C3- 내지 C7-시클로알킬은, 예를 들어, 시클로프로필, 시클로부틸, 시클로펜틸, 시클로헥실 또는 시클로헵틸이다.
R1 또는 R1 * 에서, 치환된 페닐은 C1- 내지 C6-알킬, C1- 내지 C6-알케닐, CN, NR1 2, F, Cl, Br, I, C1-C6-알콕시, SCF3, SO2CF3 또는 SO2NR* 2 로 치환된 페닐을 나타내고, R* 은 R1 에 대해 정의한 바와 같이 비-, 부분적으로 또는 과불소화된 C1- 내지 C6-알킬 또는 C3- 내지 C7-시클로알킬, 예를 들어, o-, m- 또는 p-메틸페닐, o-, m- 또는 p-에틸페닐, o-, m- 또는 p-프로필페닐, o-, m- 또는 p-이소프로필페닐, o-, m- 또는 p-tert-부틸페닐, o-, m- 또는 p-메톡시페닐, o-, m- 또는 p-에톡시페닐, o-, m-, p-(트리플루오로메틸)페닐, o-, m-, p-(트리플루오로메톡시)페닐, o-, m-, p-(트리플루오로메틸술포닐)페닐, o-, m- 또는 p-플루오로페닐, o-, m- 또는 p-클로로페닐, o-, m- 또는 p-브로모페닐, o-, m- 또는 p-아이오도페닐, 보다 바람직하게는 2,3-, 2,4-, 2,5-, 2,6-, 3,4- 또는 3,5-디메틸페닐, 2,3-, 2,4-, 2,5-, 2,6-, 3,4- 또는 3,5-디히드록시페닐, 2,3-, 2,4-, 2,5-, 2,6-, 3,4- 또는 3,5-디플루오로페닐, 2,3-, 2,4-, 2,5-, 2,6-, 3,4- 또는 3,5-디클로로페닐, 2,3-, 2,4-, 2,5-, 2,6-, 3,4- 또는 3,5-디브로모페닐, 2,3-, 2,4-, 2,5-, 2,6-, 3,4- 또는 3,5-디메톡시페닐, 5-플루오로-2-메틸페닐, 3,4,5-트리메톡시-페닐 또는 2,4,5-트리메틸페닐을 나타낸다.
R1' 또는 R4' 에서, 헤테로아릴은 5 내지 13 개의 고리 원을 갖는 포화된 또는 불포화된 모노- 또는 바이시클릭 헤테로시클릭 라디칼 (1, 2 또는 3 개의 N 및/또는 1 또는 2 개의 S 또는 O 원자가 존재할 수 있고, 헤테로시클릭 라디칼은 C1- 내지 C6-알킬, C1- 내지 C6-알케닐, CN, NR1 2, F, Cl, Br, I, C1-C6-알콕시, SCF3, SO2CF3 또는 SO2NR1 2 에 의해 단- 또는 다치환된 것일 수 있고, R1 은 상기에서 언급한 의미를 갖음) 을 의미하도록 선택된다.
헤테로시클릭 라디칼은 바람직하게는 치환되거나 비치환된 2- 또는 3-푸릴, 2- 또는 3-티에닐, 1-, 2- 또는 3-피롤릴, 1-, 2-, 4- 또는 5-이미다졸릴, 3-, 4- 또는 5-피라졸릴, 2-, 4- 또는 5-옥사졸릴, 3-, 4- 또는 5-이소옥사졸릴, 2-, 4- 또는 5-티아졸릴, 3-, 4- 또는 5-이소티아졸릴, 2-, 3- 또는 4-피리딜, 2-, 4-, 5- 또는 6-피리미디닐, 보다 바람직하게는 1,2,3-티아졸-1-, -4- 또는 -5-일, 1,2,4-티아졸-1-, -4- 또는 -5-일, 1- 또는 5-테트라졸릴, 1,2,3-옥사디아졸-4- 또는 -5-일 1,2,4-옥사디아졸-3- 또는 -5-일, 1,3,4-티아디아졸-2- 또는 -5-일, 1,2,4-티아디아졸-3- 또는 -5-일, 1,2,3-티아디아졸-4- 또는 -5-일, 2-, 3-, 4-, 5- 또는 6-2H-티오피라닐, 2-, 3- 또는 4-4H-티오피라닐, 3- 또는 4-피라다지닐, 피라지닐, 2-, 3-, 4-, 5-, 6- 또는 7-벤조푸릴, 2-, 3-, 4-, 5-, 6- 또는 7-벤조티에닐, 1-, 2-, 3-, 4-, 5-, 6- 또는 7-1H-인돌릴, 1-, 2-, 4- 또는 5-벤즈이미다졸릴, 1-, 3-, 4-, 5-, 6- 또는 7-벤조피라졸릴, 2-, 4-, 5-, 6- 또는 7-벤즈옥사졸릴, 3-, 4-, 5-, 6- 또는 7-벤즈이소옥사졸릴, 2-, 4-, 5-, 6- 또는 7-벤조티아졸릴, 2-, 4-, 5-, 6- 또는 7-벤즈이소티아졸릴, 4-, 5-, 6- 또는 7-벤즈-2,1,3-옥사디아졸릴, 1-, 2-, 3-, 4-, 5-, 6-, 7- 또는 8-퀴놀리닐, 1-, 3-, 4-, 5-, 6-, 7- 또는 8-이소퀴놀리닐, 1-, 2-, 3-, 4- 또는 9-카르바졸릴, 1-, 2-, 3-, 4-, 5-, 6-, 7-, 8- 또는 9-아크리디닐, 3-, 4-, 5-, 6-, 7- 또는 8-신놀리닐, 2-, 4-, 5-, 6-, 7- 또는 8-퀴나졸리닐 또는 1-, 2- 또는 3-피롤리디닐이다.
헤테로아릴-C1-C6-알킬은 아릴-C1-C6-알킬, 예를 들어 피리디닐메틸, 피리디닐에틸, 피리디닐프로필, 피리디닐부틸, 피리디닐펜틸, 피리디닐헥실과 유사한 것을 의미하도록 선택되고, 또한 상기에 기재된 헤테로시클은 이러한 방식으로 알킬렌 사슬에 연결될 수 있다.
HetN+ 는 바람직하게는 하기와 같다:
[식 중, 치환기 R1'내지 R4' 는 각각 서로 독립적으로 상기에 기재된 의미를 갖음].
유기 양이온 [Kt]x+ 는 특히 바람직하게는 상기에서 정의한 바와 같이 이미다졸륨, 피리디늄, 피롤리디늄, 암모늄 또는 포스포늄 양이온을 포함하는 군으로부터 선택된다.
특히 적합한 양이온은 테트라알킬암모늄, 1,1-디알킬피롤리디늄, 1-알킬-1-알콕시알킬피롤리디늄 또는 1,3-디알킬이미다졸륨의 군으로부터 선택되고, 알콕시알킬기에서의 알킬기 또는 알콕시기는 각각 서로 독립적으로 1 내지 10 개의 C 원자를 가질 수 있다. 매우 특히 바람직하게는 알킬기는 1 내지 6 개의 C 원자를 갖고, 매우 특히 바람직하게는 알콕시기는 1 내지 3 개의 C 원자를 갖는다.
따라서 테트라알킬암모늄에서 알킬기는 동일하거나 상이할 수 있다. 바람직하게는, 3 개의 알킬기는 동일하고 하나의 알킬기가 상이하고, 또는 2 개의 알킬기가 동일하고, 다른 2 개가 상이하다. 바람직한 테트라알킬암모늄 양이온은, 예를 들어 트리메틸(에틸)암모늄, 트리에틸(메틸)암모늄, 트리프로필(메틸)암모늄, 트리부틸(메틸)암모늄, 트리펜틸(메틸)암모늄, 트리헥실(메틸)암모늄, 트리헵틸(메틸)암모늄, 트리옥틸(메틸)암모늄, 트리노닐(메틸)암모늄, 트리데실(메틸)암모늄, 트리헥실(에틸)암모늄, 에틸(트리옥틸)암모늄, 프로필(디메틸)에틸암모늄, 부틸(디메틸)에틸암모늄, 메톡시에틸(디메틸)에틸암모늄, 메톡시에틸(디에틸)메틸암모늄, 메톡시에틸(디메틸)프로필암모늄, 에톡시에틸(디메틸)에틸암모늄이다. 특히 바람직한 4차 암모늄 양이온은 프로필(디메틸)에틸암모늄 및/또는 메톡시에틸(디메틸)에틸암모늄이다.
바람직한 1,1-디알킬피롤리디늄 양이온은, 예를 들어, 1,1-디메틸피롤리디늄, 1-메틸-1-에틸피롤리디늄, 1-메틸-1-프로필피롤리디늄, 1-메틸-1-부틸피롤리디늄, 1-메틸-1-펜틸피롤리디늄, 1-메틸-1-헥실피롤리디늄, 1-메틸-1-헵틸피롤리디늄, 1-메틸-1-옥틸피롤리디늄, 1-메틸-1-노닐피롤리디늄, 1-메틸-1-데실피롤리디늄, 1,1-디에틸피롤리디늄, 1-에틸-1-프로필피롤리디늄, 1-에틸-1-부틸피롤리디늄, 1-에틸-1-펜틸피롤리디늄, 1-에틸-1-헥실피롤리디늄, 1-에틸-1-헵틸피롤리디늄, 1-에틸-1-옥틸피롤리디늄, 1-에틸-1-노닐피롤리디늄, 1-에틸-1-데실피롤리디늄, 1,1-디프로필피롤리디늄, 1-프로필-1-메틸피롤리디늄, 1-프로필-1-부틸피롤리디늄, 1-프로필-1-펜틸피롤리디늄, 1-프로필-1-헥실피롤리디늄, 1-프로필-1-헵틸피롤리디늄, 1-프로필-1-옥틸피롤리디늄, 1-프로필-1-노닐피롤리디늄, 1-프로필-1-데실피롤리디늄, 1,1-디부틸피롤리디늄, 1-부틸-1-메틸피롤리디늄, 1-부틸-1-펜틸피롤리디늄, 1-부틸-1-헥실피롤리디늄, 1-부틸-1-헵틸피롤리디늄, 1-부틸-1-옥틸피롤리디늄, 1-부틸-1-노닐피롤리디늄, 1-부틸-1-데실피롤리디늄, 1,1-디펜틸피롤리디늄, 1-펜틸-1-헥실피롤리디늄, 1-펜틸-1-헵틸피롤리디늄, 1-펜틸-1-옥틸피롤리디늄, 1-펜틸-1-노닐피롤리디늄, 1-펜틸-1-데실피롤리디늄, 1,1-디헥실-피롤리디늄, 1-헥실-1-헵틸피롤리디늄, 1-헥실-1-옥틸피롤리디늄, 1-헥실-1-노닐피롤리디늄, 1-헥실-1-데실피롤리디늄, 1,1-디헥실-피롤리디늄, 1-헥실-1-헵틸피롤리디늄, 1-헥실-1-옥틸피롤리디늄, 1-헥실-1-노닐피롤리디늄, 1-헥실-1-데실피롤리디늄, 1,1-디헵틸피롤리디늄, 1-헵틸-1-옥틸피롤리디늄, 1-헵틸-1-노닐피롤리디늄, 1-헵틸-1-데실피롤리디늄, 1,1-디옥틸피롤리디늄, 1-옥틸-1-노닐피롤리디늄, 1-옥틸-1-데실피롤리디늄, 1-1-디노닐피롤리디늄, 1-노니-1-데실피롤리디늄 또는 1,1-디데실피롤리디늄 이다. 1-부틸-1-메틸피롤리디늄 또는 1-프로필-1-메틸피롤리디늄이 매우 특히 바람직하다.
바람직한 1-알킬-1-알콕시알킬피롤리디늄 양이온은, 예를 들어, 1-(2-메톡시에틸)-1-메틸피롤리디늄, 1-(2-메톡시에틸)-1-에틸피롤리디늄, 1-(2-메톡시에틸)-1-프로필피롤리디늄, 1-(2-메톡시에틸)-1-부틸-피롤리디늄, 1-(2-에톡시에틸)-1-메틸피롤리디늄, 1-에톡시메틸-1-메틸피롤리디늄이다. 1-(2-메톡시에틸)-1-메틸피롤리디늄이 매우 특히 바람직하다.
바람직한 1,3-디알킬이미다졸륨 양이온은, 예를 들어, 1-에틸-3-메틸이미다졸륨, 1-메틸-3-프로필이미다졸륨, 1-부틸-3-메틸이미다졸륨, 1-메틸-3-펜틸이미다졸륨, 1-에틸-3-프로필이미다졸륨, 1-부틸-3-에틸이미다졸륨, 1-에틸-3-펜틸이미다졸륨, 1-부틸-3-프로필이미다졸륨, 1,3-디메틸이미다졸륨, 1,3-디에틸이미다졸륨, 1,3-디프로필이미다졸륨, 1,3-디부틸이미다졸륨, 1,3-디펜틸이미다졸륨, 1,3-디헥실이미다졸륨, 1,3-디헵틸이미다졸륨, 1,3-디옥틸이미다졸륨, 1,3-디노닐이미다졸륨, 1,3-디데실이미다졸륨, 1-헥실-3-메틸이미다졸륨, 1-헵틸-3-메틸이미다졸륨, 1-메틸-3-옥틸이미다졸륨, 1-메틸-3-노닐이미다졸륨, 1-데실-3-메틸이미다졸륨, 1-에틸-3-헥실이미다졸륨, 1-에틸-3-헵틸이미다졸륨, 1-에틸-3-옥틸이미다졸륨, 1-에틸-3-노닐이미다졸륨 또는 1-데실-3-에틸이미다졸륨이다. 특히 바람직한 양이온은 1-에틸-3-메틸이미다졸륨, 1-부틸-3-메틸이미다졸륨 또는 1-메틸-3-프로필이미다졸륨이다.
특히 바람직한 1-알케닐-3-알킬이미다졸륨 양이온은 1-알릴-3-메틸이미다졸륨 또는 1-알릴-2,3-디메틸이미다졸륨이다.
화학식 I 의 화합물의 유기 양이온은 바람직하게는 화학식 (8) 의 헤테로시클릭 양이온 (HetNz + 는 이미다졸륨, 피롤리디늄 또는 피리디늄이고, 이의 각각의 치환기 R1'내지 R4' 는 서로 독립적으로 표시된 또는 바람직한 것으로 표시된 의미를 갖음) 이다. 화학식 I 의 화합물의 유기 양이온은 특히 바람직하게는 이미다졸륨 (치환기 R1'내지 R4' 는 상기에서 언급한 의미 또는 바람직한 것으로 표시된 의미를 갖음) 이고, 또는 이는 상기에서 기재된 바와 같이 바람직하게는 1,1-디알킬피롤리디늄, 1-알킬-1-알콕시알킬알킬피롤리디늄, 1,3-디알킬이미다졸륨, 1-알케닐-3-알킬이미다졸륨 또는 1-알콕시알킬-3-알킬이미다졸륨으로 표시된 의미들 중의 의미를 가진다.
화학식 I 의 특히 바람직한 유기 양이온은 따라서 1-부틸-1-메틸피롤리디늄, 1-에틸-3-메틸이미다졸륨, 1-에틸-2,3-디메틸이미다졸륨, 1-(2-메톡시에틸)-3-메틸이미다졸륨, 1-부틸-3-메틸이미다졸륨, 트리부틸메틸암모늄, 테트라-n-부틸암모늄, 트리부틸메틸포스포늄, 테트라페닐포스포늄, 디에틸메틸술포늄, S-에틸-N,N,N',N'-테트라메틸이소티오우로늄, 1-알릴-3-메틸이미다졸륨, 1-알릴-2,3-디메틸이미다졸륨, 1-시아노메틸-3-메틸이미다졸륨, 1-메틸-3-프로피닐이미다졸륨, 1,1-디메틸피롤리디늄 또는 트리메틸술포늄이다.
구현예에 있어서, 화학식 I 의 화합물은 상기에서 기재된 바와 같이 화학식 IV 의 화합물과의 후속 염-교환 반응에 의해 화학식 III 의 화합물로부터 합성된다.
화학식 (IV) 의 음이온은 바람직하게는 OH-, Cl-, Br-, I-, [CH3SO3]-, [CH3OSO3]-, [CF3COO]-, [CF3SO3]-, [(C2F5)2P(O)O]- 또는 [CO3]2-, 특히 바람직하게는 OH-, Cl-, Br-, [CH3OSO3]-, [CF3SO3]-, [CH3SO3]- 또는 [(C2F5)2P(O)O]- 이다.
반응은 유리하게는 물 중에서 수행되고, 0°-100 ℃, 바람직하게는 15°-60 ℃ 의 온도가 적합하다. 반응은 특히 바람직하게는 실온 (25 ℃) 에서 수행된다.
그러나, 반응은 또한 대안적으로 -30°내지 100 ℃ 의 온도에서 유기 용매 중에서 수행될 수 있다. 적합한 용매는 아세토니트릴, 디옥산, 디클로로메탄, 디메톡시에탄, 디메틸 술폭사이드, 테트라히드로푸란, 디메틸포름아미드 또는 알코올, 예를 들어 메탄올, 에탄올 또는 이소프로판올이다.
대안적인 구현예에 있어서, 화학식 I 의 화합물의 각각의 바람직한 유기 양이온에 따라, 화학식 I 의 화합물에 대해 바람직한 유기 양이온을 갖는 화학식 II 의 화합물은 또한 상기에서 기재된 바와 같이 트리알킬실릴 시아나이드와 반응될 수 있다. 이러한 합성은 암모늄 또는 포스포늄 양이온에 대해 특히 적합하다.
주요 청구항의 주제, 즉, 상기에서 기재된 바와 같이 화학식 I 의 화합물의 제조방법은, 화학식 III 의 화합물이 처음으로 경제적으로 제조될 수 있기 때문에 근본적으로 신규하고 진보한 것이다.
따라서 본 발명은 마찬가지로,
화학식 II 의 알칼리 금속염과
Me+ [B(Rf)F3]- II,
[식 중, Me+ 및 Rf 는 상기에서 표시된 의미를 갖음]
트리알킬실릴 시아나이드와의 반응에 의한 화학식 III 의 화합물의 제조방법에 관한 것이고, 트리알킬실릴 시아나이드의 알킬기는 각 경우에서 서로 독립적으로 1 내지 4 개의 C 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알킬기이다:
Me+ [B(Rf)(CN)x(F)y]- III,
[식 중, Me+ 는 리튬, 칼륨, 나트륨, 세슘 또는 루비듐염이고, Rf 는 1 내지 4 개의 C 원자를 갖는 선형 또는 분지형 과불소화된 알킬기, C6F5, C6H5, 부분적으로 불소화된 페닐, 또는 1 내지 4 개의 C 원자를 갖는 퍼플루오로알킬기 (퍼플루오로알킬기는 서로 독립적으로 선택됨) 에 의해 단- 또는 이치환된 페닐을 나타내고,
a 는 1 또는 2 이고,
x 는 1, 2 또는 3 이고,
y 는 0, 1 또는 2 이고, 및
x+y = 3 임].
상기에서 또한 설명한 바와 같이, 본 발명에 따른 방법은 또한 화학식 III 의 화합물 (x = 1, y = 2 임) 의 제조를 위한 반응은 10 ℃ 내지 110 ℃ 의 온도에서 또는 100 W 로 마이크로파 조사하여 수행되고, 또는 화학식 III 의 화합물 (x = 2, y = 1 임) 의 제조를 위한 반응은 115 ℃ 내지 200 ℃ 의 온도에서 또는 200 W 로 마이크로파 조사하여 수행하고, 또는 화학식 III 의 화합물 (x = 3, y = 0 임) 의 제조를 위한 반응은 200 W 초과로, 바람직하게는 300 W 로 마이크로파 조사하여 수행되는 것을 특징으로 한다.
또한, 주요 청구항에 따라 본 발명에 따른 방법으로부터의 부분-단계를 포함하는 이러한 방법에 동일한 상세한 설명이 적용된다.
또한, 본 발명은 화학식 III 의 염에 관한 것이다:
Me+ [B(Rf)(CN)x(F)y]- III,
[식 중, Me+ 는 리튬, 칼륨, 나트륨, 세슘 또는 루비듐염이고, Rf 는 1 내지 4 개의 C 원자를 갖는 선형 또는 분지형 과불소화된 알킬기, C6F5, C6H5, 부분적으로 불소화된 페닐, 또는 1 내지 4 개의 C 원자를 갖는 퍼플루오로알킬기 (퍼플루오로알킬기는 서로 독립적으로 선택됨) 에 의해 단- 또는 이치환된 페닐을 나타내고,
a 는 1 또는 2 이고,
x 는 1, 2 또는 3 이고,
y 는 0, 1 또는 2 이고, Rf = C6H5 에 대해 0 은 제외되고,
x+y = 3 임].
또한, 본 발명은 화학식 III 의 염에 관한 것이다:
Me+ [B(Rf)(CN)x(F)y]- III,
[식 중, Me+ 는 리튬, 칼륨, 나트륨, 세슘 또는 루비듐염이고, Rf 는 1 내지 4 개의 C 원자를 갖는 선형 또는 분지형 과불소화된 알킬기, C6F5, C6H5, 부분적으로 불소화된 페닐, 또는 1 내지 4 개의 C 원자를 갖는 퍼플루오로알킬기 (퍼플루오로알킬기는 서로 독립적으로 선택됨) 에 의해 단- 또는 이치환된 페닐을 나타내고,
a 는 1 또는 2 이고,
x 는 1, 2 또는 3 이고,
y 는 0, 1 또는 2 이고, Rf = C6H5 에 대해 0 은 제외되고,
x+y = 3 임],
리튬 트리플루오로메틸디플루오로모노시아노보레이트, 리튬 트리플루오로메틸플루오로디시아노보레이트, 칼륨 트리플루오로메틸디플루오로모노시아노보레이트 및 칼륨 트리플루오로메틸플루오로디시아노보레이트는 제외된다.
칼륨 및 나트륨염은 상기에서 기재된 바와 같이 화학식 I 의 화합물의 제조을 위한 본 발명에 특히 적합하다.
화학식 III 의 화합물의 리튬염은 전해질 제조, 특히 전기화학 또는 광전자 소자의 제조를 위해 특히 적합하다. 화학식 III 의 리튬염은 전기화학 배터리, 특히 리튬 이온 배터리, 리튬 이온 커패시터 또는 리튬 배터리를 위한 전도성 염으로서 특히 적합하다. 이는 카르보네이트-함유 용매에서 고농도로 용해될 수 있는 화학식 III 의 리튬염의 능력을 통해 보레이트 음이온, 예를 들어 리튬 테트라플루오로보레이트 또는 리튬 테트라시아노보레이트를 갖는 공지된 리튬염과 구분된다. 따라서, 예를 들어, 실시예 37 로부터의 리튬염이 디에틸 카르보네이트에 용해되어 2 몰 용액을 얻고 높은 전기화학 안정성을 갖는 것이 규명되었다. 따라서 리튬 이온 배터리, 리튬 이온 커패시터 또는 리튬 배터리에서 화학식 III 의 리튬염의 용도는 매우 특히 유리할 것이다.
따라서, 본 발명은 특히 바람직하게는 화학식 III 의 리튬염에 관한 것이다.
하기 염이 바람직하고, 리튬염이 특히 바람직하다:
칼륨 트리플루오로메틸트리시아노보레이트, 칼륨 펜타플루오로에틸트리시아노보레이트, 칼륨 헵타플루오로프로필트리시아노보레이트, 칼륨 트리플루오로메틸디시아노플루오로보레이트, 칼륨 펜타플루오로에틸디시아노플루오로보레이트, 칼륨 헵타플루오로프로필디시아노플루오로보레이트, 칼륨 트리플루오로메틸모노시아노디플루오로보레이트, 칼륨 펜타플루오로메틸모노시아노디플루오로보레이트, 칼륨 헵타플루오로프로필모노시아노디플루오로보레이트, 칼륨 노나플루오로부틸모노시아노디플루오로보레이트, 칼륨 펜타플루오로페닐트리시아노보레이트, 칼륨 펜타플루오로페닐디시아노플루오로보레이트, 칼륨 펜타플루오로페닐모노시아노디플루오로보레이트, 칼륨 페닐디시아노플루오로보레이트, 칼륨 페닐모노시아노디플루오로보레이트, 칼륨 p-플루오로페닐트리시아노보레이트, 칼륨 p-플루오로페닐디시아노플루오로보레이트, 칼륨 p-플루오로페닐모노시아노디플루오로보레이트, 칼륨 3,5-비스(트리플루오로메틸)페닐트리시아노보레이트, 칼륨 3,5-비스(트리플루오로메틸)페닐디시아노플루오로보레이트 또는 칼륨 3,5-비스(트리플루오로메틸)페닐모노시아노디플루오로보레이트,
리튬 트리플루오로메틸트리시아노보레이트, 리튬 펜타플루오로에틸트리시아노보레이트, 리튬 헵타플루오로프로필트리시아노보레이트, 리튬 트리플루오로메틸디시아노플루오로보레이트, 리튬 펜타플루오로에틸디시아노플루오로보레이트, 리튬 헵타플루오로프로필디시아노플루오로보레이트, 리튬 트리플루오로메틸모노시아노디플루오로보레이트, 리튬 펜타플루오로메틸모노시아노디플루오로보레이트, 리튬 헵타플루오로프로필모노시아노디플루오로보레이트, 리튬 노나플루오로부틸모노시아노디플루오로보레이트, 리튬 펜타플루오로페닐트리시아노보레이트, 리튬 펜타플루오로페닐디시아노플루오로보레이트, 리튬 펜타플루오로페닐모노시아노디플루오로보레이트, 리튬 페닐디시아노플루오로보레이트, 리튬 페닐모노시아노디플루오로보레이트, 리튬 p-플루오로페닐트리시아노보레이트, 리튬 p-플루오로페닐디시아노플루오로보레이트, 리튬 p-플루오로페닐모노시아노디플루오로보레이트, 리튬 3,5-비스(트리플루오로메틸)페닐트리시아노보레이트, 리튬 3,5-비스(트리플루오로메틸)페닐디시아노플루오로보레이트 또는 리튬 3,5-비스(트리플루오로메틸)페닐모노시아노디플루오로보레이트,
나트륨 트리플루오로메틸트리시아노보레이트, 나트륨 펜타플루오로에틸트리시아노보레이트, 나트륨 헵타플루오로프로필트리시아노보레이트, 나트륨 트리플루오로메틸디시아노플루오로보레이트, 나트륨 펜타플루오로에틸디시아노플루오로보레이트, 나트륨 헵타플루오로프로필디시아노플루오로보레이트, 나트륨 트리플루오로메틸모노시아노디플루오로보레이트, 나트륨 펜타플루오로메틸모노시아노디플루오로보레이트, 나트륨 헵타플루오로프로필모노시아노디플루오로보레이트, 나트륨 노나플루오로부틸모노시아노디플루오로보레이트, 나트륨 펜타플루오로페닐트리시아노보레이트, 나트륨 펜타플루오로페닐디시아노플루오로보레이트, 나트륨 펜타플루오로페닐모노시아노디플루오로보레이트, 나트륨 페닐디시아노플루오로보레이트, 나트륨 페닐모노시아노디플루오로보레이트, 나트륨 p-플루오로페닐트리시아노보레이트, 나트륨 p-플루오로페닐디시아노플루오로보레이트, 나트륨 p-플루오로페닐모노시아노디플루오로보레이트, 나트륨 3,5-비스(트리플루오로메틸)페닐트리시아노보레이트, 나트륨 3,5-비스(트리플루오로메틸)페닐디시아노플루오로보레이트 또는 나트륨 3,5-비스(트리플루오로메틸)페닐모노시아노디플루오로보레이트,
세슘 트리플루오로메틸트리시아노보레이트, 세슘 펜타플루오로에틸트리시아노보레이트, 세슘 헵타플루오로프로필트리시아노보레이트, 세슘 트리플루오로메틸디시아노플루오로보레이트, 세슘 펜타플루오로에틸디시아노플루오로보레이트, 세슘 헵타플루오로프로필디시아노플루오로보레이트, 세슘 트리플루오로메틸모노시아노디플루오로보레이트, 세슘 펜타플루오로메틸모노시아노디플루오로보레이트, 세슘 헵타플루오로프로필모노시아노디플루오로보레이트, 세슘 노나플루오로부틸모노시아노디플루오로보레이트, 세슘 펜타플루오로페닐트리시아노보레이트, 세슘 펜타플루오로페닐디시아노플루오로보레이트, 세슘 펜타플루오로페닐모노시아노디플루오로보레이트, 세슘 페닐디시아노플루오로보레이트, 세슘 페닐모노시아노디플루오로보레이트, 세슘 p-플루오로페닐트리시아노보레이트, 세슘 p-플루오로페닐디시아노플루오로보레이트, 세슘 p-플루오로페닐모노시아노디플루오로보레이트, 세슘 3,5-비스(트리플루오로메틸)페닐트리시아노보레이트, 세슘 3,5-비스(트리플루오로메틸)페닐디시아노플루오로보레이트 또는 세슘 3,5-비스(트리플루오로메틸)페닐모노시아노디플루오로보레이트,
루비듐 트리플루오로메틸트리시아노보레이트, 루비듐 펜타플루오로에틸트리시아노보레이트, 루비듐 헵타플루오로프로필트리시아노보레이트, 루비듐 트리플루오로메틸디시아노플루오로보레이트, 루비듐 펜타플루오로에틸디시아노플루오로보레이트, 루비듐 헵타플루오로프로필디시아노플루오로보레이트, 루비듐 트리플루오로메틸모노시아노디플루오로보레이트, 루비듐 펜타플루오로메틸모노시아노디플루오로보레이트, 루비듐 헵타플루오로프로필모노시아노디플루오로보레이트, 루비듐 노나플루오로부틸모노시아노디플루오로보레이트, 루비듐 펜타플루오로페닐트리시아노보레이트, 루비듐 펜타플루오로페닐디시아노플루오로보레이트, 루비듐 펜타플루오로페닐모노시아노디플루오로보레이트, 루비듐 페닐디시아노플루오로보레이트, 루비듐 페닐모노시아노디플루오로보레이트, 루비듐 p-플루오로페닐트리시아노보레이트, 루비듐 p-플루오로페닐디시아노플루오로보레이트, 루비듐 p-플루오로페닐모노시아노디플루오로보레이트, 루비듐 3,5-비스(트리플루오로메틸)페닐트리시아노보레이트, 루비듐 3,5-비스(트리플루오로메틸)페닐디시아노플루오로보레이트 또는 루비듐 3,5-비스(트리플루오로메틸)페닐모노시아노디플루오로보레이트.
따라서 또한 본 발명은 화학식 III 의 화합물 또는 바람직한 것으로 기재된 것을 포함하는 전해질에 관한 것이다:
Me+ [B(Rf)(CN)x(F)y]- III,
[식 중, Me+ 는 리튬, 칼륨, 나트륨, 세슘 또는 루비듐염이고, Rf 는 1 내지 4 개의 C 원자를 갖는 선형 또는 분지형 과불소화된 알킬기, C6F5, C6H5, 부분적으로 불소화된 페닐, 또는 1 내지 4 개의 C 원자를 갖는 퍼플루오로알킬기 (퍼플루오로알킬기는 서로 독립적으로 선택됨) 에 의해 단- 또는 이치환된 페닐을 나타내고,
a 는 1 또는 2 이고,
x 는 1, 2 또는 3 이고,
y 는 0, 1 또는 2 이고, 및
x+y = 3 임].
따라서 본 발명은 전해질의 구성 성분으로서 상기에서 기재된 또는 바람직한 것으로 기재된 화학식 III 의 화합물을 함유하는 전기화학전지 또는 상기 화합물을 포함하는 전해질에 관한 것이다.
특히, 리튬 이온 배터리, 리튬 이온 커패시터 또는 리튬 배터리는 전기화학전지로서 바람직하다.
하기 수행된 실시예는 본 발명을 제한하지 않고 이를 설명하기 위한 것이다. 본 발명은 따라서 청구된 범위에서 수행될 수 있다. 실시예로부터 출발하여 가능한 변화가 또한 유도될 수 있다. 특히, 실시예에 기재된 반응 특징 및 조건은 또한 상세설명에 보여지지 않으나 이는 청구범위의 보호 범위에 포함되는 반응에 적용될 수 있다.
실시예
:
수득되는 물질은 라만 분광법, 원소 분석 및 NMR 분광법에 의해 특정된다. 중수소 락 (deuterium lock) 을 갖는 Bruker Avance III 분광기에서 중수소화 아세톤-D6 중의 용액에서 NMR 스펙트럼을 측정하였다. 다양한 핵의 측정 주파수는 하기와 같다: 1H: 400.17 MHz, 19F: 376.54 MHz, 11B: 128.39 MHz, 31P: 161.99 MHz 및 13C: 100.61 MHz. 외부 참조로 참조하였다: 1H 및 13C 스펙트럼에 대해 TMS; 19F 에 대해 - CCl3F 및 11B 스펙트럼에 대해 - BF3 ?Et2O.
하기에 기재된 화합물에서 음이온에 대해 하기 값이 13C-NMR 스펙트럼에서 측정되었다 (용매: 아세톤-D6 및 참조 물질: TMS):
[C
2
F
5
BF
2
(
CN
)]
-
13C-NMR: δ, ppm = 129.66 q,t (CN, 1C); 120.80 q,t (CF3, 1C); 116.90 m (CF2, 1C).
[C
2
F
5
BF(
CN
)
2
]
-
13C-NMR: δ, ppm = 128.18 q,t (2CN, 2C); 121.88 q,t (CF3, 1C); 117.60 m (CF2, 1C).
[C
2
F
5
B(
CN
)
3
]
-
13C-NMR: δ, ppm = 123.46 q (3CN, 3C); 121.10 q,t (CF3, 1C); 118.20 m (CF2, 1C).
[CF
3
B(
CN
)
3
]
-
13C-NMR: δ, ppm = 123.62 q (3CN, 3C); 130.33 q,q (CF3, 1C).
실시예
1.
칼륨
트리플루오로펜타플루오로에틸보레이트
- K[
C
2
F
5
BF
3
]
펜타플루오로에틸 아이오다이드 C2F5I (1.5 g, 6.1 mmol) 를 유리 밸브 및 PTFE 스핀들 (Young, London) 및 자석 교반자를 갖는 100 ml 반응 용기에서 응축시키고, 이후 50 ml 의 디에틸 에테르에 용해시키고, 디에틸 에테르 중의 에틸마그네슘 브로마이드의 용액 (2.0 ml, 6.1 mmol, 3 mol l-1) 과 -78 ℃ 에서 반응시키고, -78 ℃ 에서 1 시간 동안 교반시켰다. 반응 혼합물을 이후 -78 ℃ 에서 트리메톡시보란 (1.2 ml, 10.8 mmol) 에 첨가하였다. 혼합물을 실온에서 서서히 증온시켰다. 분무-건조된 KF (1.3 g, 22.4 mmol) 를 현탁액에 첨가하고, 이를 추가 1 시간 동안 실온에서 교반하였다. 반응 혼합물을 이후 PFA 플라스크에서 50 ml 의 THF 로 세척하고, 모든 휘발 성분을 증류하였다. 10 ml 의 무수 HF 를 고체에 첨가하고, 혼합물을 수시간 동안 실온에서 교반하였다. HF 를 진공 중에서 제거하고, 고체를 15 ml 의 아세토니트릴 중에서 수거하고 여과하였다. 아세토니트릴 중의 K[C2F5BF3] 의 생성 용액 (약 0.29 mol l-1) 은 화학식 III 의 화합물의 제조에 직접 사용될 수 있고, 또는 용매의 제거 후, 실시예 5, 6 또는 7 에 따라 K[C2F5BF2(CN)], K[C2F5BF(CN)2] 또는 K[C2F5B(CN)3] 로 전환된다.
실시예
2. 칼륨
시아노디플루오로트리플루오로메틸보레이트
- K[CF
3
BF
2
(
CN
)]
칼륨 트리플루오로트리플루오로메틸보레이트, K[CF3BF3] (3.0 g, 17.0 mmol) 를 유리 밸브 및 PTFE 스핀들 (Young, London) 및 자석 교반자를 갖는 실린더형 반응 용기로 칭량하여 주입하였다. 트리메틸실릴 시아나이드 (6.0 ml, 45.0 mmol) 를 아르곤 분위기 하에 첨가하였다. 반응 혼합물을 실온에서 20 시간 동안 교반하였다. 모든 휘발성 성분을 진공 중에서 제거하였고, 대부분의 미반응된 트리메틸실릴 시아나이드 (3.0 ml, 22.5 mmol) 를 분별 증류에 의해 회수하였다. 고체 잔류물을 THF (3 ml) 중에서 수거하고, K[CF3BF2CN] 을 CH2Cl2 (150 ml) 의 첨가에 의해 침전시키고 이후 여과하였다. 무색의 고체를 진공 중에서 건조시켰다. 사용된 칼륨 트리플루오로트리플루오로메틸보레이트에 기초한 수율: 3.0 g (16.4 mmol, 96%).
200 ℃ 로부터 분해.
라만 분광법: 
2226 cm-1.
원소 분석: 관측, %, C 13.29, N 7.62; C2BF5KN 에 대해 계산됨, %, C 13.13, N 7.66.
실시예
3. 칼륨
디시아노플루오로트리플루오로메틸보레이트
- K[CF
3
BF(
CN
)
2
]
마이크로파 조사 200 W, 15 분
칼륨 트리플루오로트리플루오로메틸보레이트, K[CF3BF3] (6.0 g, 34.1 mmol) 를 유리 밸브 및 PTFE 스핀들 (Young, London) 및 자석 교반자를 갖는 실린더형 반응 용기로 칭량하여 주입하였다. 트리메틸실릴 시아나이드 (17.1 ml, 127.5 mmol) 를 아르곤 분위기 하에 첨가하였다. 반응 혼합물을 실온에서 12 일 동안 교반하였다. 대부분의 형성된 트리메틸실릴 플루오라이드를 진공 중에서 제거하였다. 이후 반응 혼합물을 마이크로웨이브 (CEM Discover) (200 W, Tmax = 90 ℃, 20 분) 에서 조사하였다. 모든 휘발성 성분을 진공 중에서 제거하고, 대부분의 미반응된 트리메틸실릴 시아나이드 (6.3 ml, 47.2 mmol) 를 분별 증류에 의해 회수하였다. 잔류물을 수성 H2O2 (30%, 50 ml) 중에서 수거하고, 한 시간 동안 교반하였다. 용액의 pH 를 37% 염산을 사용하여 1 로 조절하였다. N(C3H7)3 (7.0 ml, 36.8 mmol) 를 반응 혼합물에 첨가하고, 트리프로필암모늄 염을 CH2Cl2 (3 × 50 ml) 로 추출하였다. 조합된 유기상을 MgSO4 를 사용하여 건조시키고, 여과하고, 수산화칼륨 수용액 (6 g, 30 ml) 을 첨가하였다. 유기상을 옮기고, KOH 수용액 (6 g, 30 ml) 의 제 2 부를 첨가하고, 유기상을 다시 옮겼다. 수상을 THF (3 × 50 ml) 로 추출하였다. 수집된 테트라히드로푸란 분획을 K2CO3 를 사용하여 추출하고, 여과하고, 증발시켰다. K[CF3BF(CN)2] 를 CH2Cl2 (150 ml) 의 첨가에 의해 침전시켰고, 진공 중에서 건조시켰다. 사용된 칼륨 트리플루오로트리플루오로메틸보레이트에 기초한 수율: 5.0 g (26.3 mmol, 77%). 260 ℃ 로부터 분해;
라만 분광법: 
2215 cm-1.
실시예
4. 칼륨
트리시아노트리플루오로메틸보레이트
- K[CF
3
B(
CN
)
3
]
마이크로파 조사 300 W, 95 분
칼륨 트리플루오로트리플루오로메틸보레이트, K[CF3BF3] (0.5 g, 2.8 mmol) 를 유리 밸브 및 PTFE 스핀들 (Young, London) 및 자석 교반자를 갖는 실린더형 반응 용기로 칭량하여 주입하였다. 트리메틸실릴 시아나이드 (10.0 ml, 74.9 mmol) 를 아르곤 분위기 하에 첨가하였다. 반응 혼합물을 실온에서 2 시간 동안 100 ℃ 에서 교반하였다. 대부분의 형성된 트리메틸실릴 플루오라이드를 진공 중에서 제거하였다. 이후 반응 혼합물을 마이크로웨이브 (CEM Discover) (300 W, Tmax = 120 ℃, 95 분) 에서 조사하였다. 모든 휘발성 성분을 진공 중에서 제거하고, 대부분의 미반응된 트리메틸실릴 시아나이드 (8.0 ml, 59.9 mmol) 를 분별 증류에 의해 회수하였다. 잔류물을 수성 H2O2 (5 ml) 에 용해시켰다. K2CO3 를 용액에 첨가한 후 한 시간 동안 교반하였다. 혼합물을 회전 증발기를 사용하여 건조될 때까지 증발시켰고, 잔류물을 디에틸 에테르 (3 × 50 ml) 로 추출하였다. 조합된 에테르상의 부피를 5 ml 로 감소시키고, CH2Cl2 (100 ml) 를 첨가하여 무색의 K[CF3B(CN)3] 를 수득하였다. 칼륨염을 여과하고 진공 중에서 건조시켰다. 사용된 칼륨 트리플루오로트리플루오로메틸보레이트에 기초한 수율: 0.53 g (2.74 mmol, 95%).
320 ℃ 로부터의 분해; 라만 분광법: 
2237, 2231 cm-1.
실시예
5. 칼륨
시아노디플루오로펜타플루오로에틸보레이트
- K[C
2
F
5
BF
2
(
CN
)]
A.
칼륨 트리플루오로펜타플루오로에틸보레이트, K[C2F5BF3] (10.4 g, 46.0 mmol) 를 유리 밸브 및 PTFE 스핀들 (Young, London) 및 자석 교반자를 갖는 실린더형 반응 용기로 칭량하여 주입하였다. 플라스크를 고정하고, 트리메틸실릴 시아나이드 (70.0 ml, 524.9 mmol) 를 아르곤 분위기에서 첨가하였다. 반응 혼합물을 100 ℃ 에서 45 분 동안 교반하고, 공정에서 형성된 트리메틸실릴 플루오라이드를 연속적으로 증류시켰다. 모든 휘발성 성분을 이후 진공 중에서 제거하였다. 대부분의 미반응된 트리메틸실릴 시아나이드 (58.1 ml, 159.9 mmol) 를 분별 증류에 의해 회수하였다. 잔류물을 CH2Cl2 (200 ml) 로 세척하고, 여과하고, 진공 중에서 건조시켰다. 칼륨 시아노디플루오로펜타플루오로에틸보레이트, K[C2F5BF2(CN)] 를 무색의 고체로서 수득하였다. 사용된 칼륨 트리플루오로펜타플루오로에틸보레이트의 수율 9.8 g (42.1 mmol, 92%).
260 ℃ 로부터의 분해; 라만 분광법: 
2235 cm-1.
B.
유리 밸브 및 PTFE 스핀들 (Young, London) 및 자석 교반자를 갖는 실린더형 반응 용기를 칼륨 트리플루오로펜타플루오로에틸보레이트, K[C2F5BF3] (15.8 g, 69.9 mmol) 로 충전하였다. 트리메틸실릴 시아나이드 (35.0 ml, 262.5 mmol) 를 보호-기체 분위기에서 첨가하였다. 반응 혼합물을 100 ℃ 에서 1 시간 동안 교반하였고, 형성된 트리메틸실릴 플루오라이드를 연속적으로 증류시켰다. 모든 휘발성 성분을 진공 중에서 제거하였다. 대부분의 미반응된 트리메틸실릴 시아나이드 (21.3 ml, 159.9 mmol) 를 분별 증류에 의해 회수하였다. 잔류물을 THF (5 ml) 에 용해시켰고, 무색의 칼륨 시아노디플루오로펜타플루오로에틸보레이트, K[C2F5BF2(CN)] 을 CH2Cl2 (200 ml) 의 첨가에 의해 침전시키고, 이후 여과하고 진공 중에서 건조시켰다. 사용된 칼륨 트리플루오로펜타플루오로에틸보레이트에 기초한 수율: 15.8 g (67.8 mmol, 97%). 11B 및 19F NMR 스펙트럼은 실시예 5, A 에 표시된 값에 해당한다.
원소 분석: 관측, %, C 15.24, N 5.78; C3BF7KN 에 대해 계산됨, %, C 15.47, N 6.01.
C.
건조 박스에서, K[C2F5BF3] (100 mg, 0.44 mmol), LiCl (180 mg, 4.2 mmol) 및 KCN (260 mg, 3.99 mmol) 을 함께 미세하게 분쇄하여 유리 밸브 및 PTFE 스핀들 (Young, London) 을 갖는 실린더형 반응 용기로 주입하였다. 반응 혼합물을 180 ℃ 에서 20 시간 동안 진공 중에서 가열하였다. 11B-NMR 분광 분석은 반응 혼합물이 하기 보레이트 음이온을 포함하는 것을 나타낸다:
실시예
6. 칼륨
디시아노플루오로펜타플루오로에틸보레이트
- K[C
2
F
5
BF(
CN
)
2
]
A.
칼륨 트리플루오로펜타플루오로에틸보레이트, K[C2F5BF3] (1.0 g, 4.4 mmol) 를 유리 밸브 및 PTFE 스핀들 (Young, London) 및 자석 교반자를 갖는 실린더형 반응 용기 중 아르곤 분위기에서 트리메틸실릴 시아나이드 (10.0 ml, 74.9 mmol) 에 용해시켰다. 반응 혼합물을 110 ℃ 에서 1 시간 동안 교반하였고, 형성된 트리메틸실릴 플루오라이드를 연속적으로 증류시켰다. 이후 반응 혼합물을 180 ℃ 에서 각각 약 30 분의 10 회의 휴기를 두고 180 ℃ 에서 교반하고, 냉각하고, 대부분의 형성된 트리메틸실릴 플루오라이드를 제거하였다. 모든 휘발성 성분을 이후 진공 중에서 제거하였다. 대부분의 미반응된 트리메틸실릴 시아나이드 (7.1 ml, 53.0 mmol) 를 분별 증류에 의해 정제하였다. 잔류물을 THF (3 ml) 에 용해시키고, 무색의 K[C2F5BF(CN)2] 를 CH2Cl2 (100 ml) 의 첨가에 의해 침전시켰다. 염을 여과하고 진공 중에서 건조시켰다. 사용되는 칼륨 트리플루오로펜타플루오로에틸보레이트에 기초한 수율: 0.97 g (4.0 mmol, 92%).
260 ℃ 로부터의 분해; 라만 분광법: 
2224 cm-1.
B.
트리메틸실릴 시아나이드 (10.0 ml, 74.9 mmol) 를 유리 밸브 및 PTFE 스핀들 (Young, London) 및 자석 교반자를 갖는 실린더형 반응 용기 중 아르곤 분위기에서 칼륨 트리플루오로펜타플루오로에틸보레이트, K[C2F5BF3] (1.0 g, 4.4 mmol) 에 첨가하였다. 반응 혼합물을 지속적으로 탈기하면서 150 ℃ 에서 52 시간 동안 교반하였다. 대부분의 미반응된 트리메틸실릴 시아나이드 (7.1 ml, 53.0 mmol) 를 분별 증류에 의해 회수하였다. 무색의 K[C2F5BF(CN)2] 를 CH2Cl2 (100 ml) 를 사용하여 THF (3 ml) 로부터 침전시켰고, 여과하고 진공 중에서 건조시켰다. 사용된 칼륨 트리플루오로펜타플루오로에틸보레이트에 기초한 수율: 0.95 g (3.9 mmol, 90%).
11B 및 19F NMR 스펙트럼은 실시예 6, A 에 표시된 값에 해당한다.
C.
마이크로파 조사 200 W, 15 분
칼륨 트리플루오로펜타플루오로에틸보레이트, K[C2F5BF3] (5.0 g, 22.1 mmol) 를 유리 밸브 및 PTFE 스핀들 (Young, London) 및 자석 교반자를 갖는 실린더형 반응 용기에 칭량하여 주입하였다. 플라스크를 진공화하고, 트리메틸실릴 시아나이드 (10.0 ml, 74.9 mmol) 를 내부에서 응축시켰다. 반응 혼합물을 마이크로웨이브 (CEM Discover) (200 W, Tmax = 70 ℃) 에서 15 분 동안 조사하였다. 모든 휘발성 성분을 진공 중에서 제거하고, 대부분의 미반응된 트리메틸실릴 시아나이드 (3.1 ml, 23.1 mmol) 를 분별 증류에 의해 회수하였다. 잔류물을 30 % 수성 H2O2 (200 ml) 에 용해시키고, 용액을 교반하면서 37 % 염산의 첨가에 의해 pH = 1 로 조절하였다. N(C3H7)3 (7.0 ml, 36.8 mmol) 를 이후 첨가하였다. 혼합물을 CH2Cl2 (2 × 100 및 1 × 50 ml) 로 추출하였다. 조합된 유기상을 MgSO4 로 건조시키고, 여과하고, KOH 수용액 (6 g, 30 ml) 을 첨가하였다. 유기상을 옮기고, KOH 수용액 (10 g, 40 ml) 의 제 2 부를 첨가하고, 혼합물을 한 시간 동안 교반하였다. 유기상을 분리하고, 수상을 Et2O (3 × 100 ml) 로 추출하였다. 각각의 3 개의 추출 단계에서, 더 많은 K2CO3 를 수상에 첨가하였다. 수집된 에테르상을 K2CO3 를 사용하여 건조시키고, 여과하고, 건조될 때까지 증발시켰다. 수득된 잔류물을 CH2Cl2 (50 ml) 에 현탁시키고, 여과하고, 진공 중에서 건조시켰다. 칼륨 디시아노플루오로펜타플루오로에틸보레이트, K[C2F5BF(CN)2] 의 수율은 사용된 칼륨 트리플루오로펜타플루오로에틸보레이트에 기초하여 3.4 g (14.3 mmol, 65%) 이었다.
11B 및 19F NMR 스펙트럼은 실시예 6, A 에 표시된 값에 해당한다.
D.
마이크로파 조사 200 W, 15 분
트리메틸실릴 시아나이드 (25.0 ml, 187.5 mmol) 를 유리 밸브 및 PTFE 스핀들 (Young, London) 및 자석 교반자를 갖는 실린더형 반응 용기 중 아르곤 분위기에서 칼륨 트리플루오로펜타플루오로에틸보레이트, K[C2F5BF3] (8.0 g, 35.4 mmol) 에 첨가하였다. 반응 혼합물을 실온에서 3 일 동안 교반하였다. 혼합물을 탈기하고 이후 마이크로웨이브 (CEM Discover) (200 W, Tmax = 78 ℃) 에서 15 분 동안 조사하였다. 모든 휘발성 성분을 진공 중에서 제거하고, 대부분의 미반응된 트리메틸실릴 시아나이드 (13.5 ml, 101.5 mmol) 를 분별 증류에 의해 회수하였다. 잔류물을 30 % H2O2 (20 ml) 에 용해시키고, K2CO3 (5 g) 을 첨가하였다. 혼합물을 실온에서 1 시간 동안 교반하였다. 용액을 회전 증발기에서 건조될 때까지 70 ℃ 에서 증발시키고, 수득된 고체를 Et2O (7 × 50 ml) 로 추출하였다. 조합된 유기상을 K2CO3 로 건조시키고, 여과하고, 건조될 때까지 증발시켰다. 잔류물을 아세톤 (5 ml) 에 용해시켰다. 무색의 칼륨 디시아노플루오로펜타플루오로에틸보레이트, K[C2F5BF(CN)2] 를 CH2Cl2 (150 ml) 의 첨가에 의해 수득하고, 여과하고, 진공 중에서 건조시켰다. 사용된 칼륨 트리플루오로펜타플루오로에틸보레이트에 기초한 수율: 7.8 g (32.5 mmol, 92%).
11B 및 19F NMR 스펙트럼은 실시예 6, A 에 표시된 값에 해당한다.
실시예
7. 칼륨
트리시아노펜타플루오로에틸보레이트
- K[C
2
F
5
B(
CN
)
3
]
마이크로파 조사 300 W, 60 분
칼륨 트리플루오로펜타플루오로에틸보레이트, K[C2F5BF3] (0.5 g, 2.2 mmol) 를 유리 밸브 및 PTFE 스핀들 (Young, London) 및 자석 교반자를 갖는 실린더형 반응 용기에 칭량하여 주입하였다. 플라스크를 고정하고, 트리메틸실릴 시아나이드 (10.0 ml, 74.9 mmol) 를 아르곤 분위기 하에서 첨가하였다. 반응 혼합물을 실온에서 2 일 동안 교반하고, 이후 마이크로웨이브 (CEM Discover) (300 W, Tmax = 120 ℃, 60 분) 에서 조사하였다. 모든 휘발성 성분을 진공 중에서 제거하고, 대부분의 미반응된 트리메틸실릴 시아나이드 (6.9 ml, 52.0 mmol) 를 분별 증류에 의해 회수하였다. 잔류물을 30% 수성 H2O2 (10 ml) 에 용해키시고, K2CO3 (2 g) 을 첨가하였다. 혼합물을 실온에서 1 시간 동안 교반하였다. 용액을 회전 증발기를 사용하여 건조될 때까지 80 ℃ 에서 증발시켰다. 잔류된 고체를 Et2O (4 × 50 ml) 로 추출하였다. 조합된 유기상을 K2CO3 를 사용하여 건조시키고, 여과하고, 5 ml 의 잔류 부피로 증발시켰다. 무색의 침전물을 CH2Cl2 (150 ml) 를 서서히 첨가하여 수득하였다. 무색의 K[C2F5B(CN)3] 를 여과하고, 진공 중에서 건조시켰다. 사용된 칼륨 트리플루오로펜타플루오로에틸보레이트에 기초한 수율: 480 mg (1.9 mmol, 88%).
350 ℃ 로부터의 분해; 라만 분광법: 
2236, 2232 cm-1.
원소 분석: 관측, %, C 24.10, N 16.10; C5BF5KN3 에 대해 계산됨, %, C 24.32, N 17.01.
실시예
8. 칼륨
시아노디플루오로펜타플루오로페닐보레이트
- K[C
6
F
5
BF
2
(
CN
)]
칼륨 트리플루오로펜타플루오로페닐보레이트, K[C6F5BF3] (2.5 g, 9.3 mmol) 를 유리 밸브 및 PTFE 스핀들 (Young, London) 및 자석 교반자를 갖는 실린더형 반응 용기에 칭량하여 주입하였다. 트리메틸실릴 시아나이드 (10.0 ml, 74.9 mmol) 를 보호-기체 분위기 하에서 첨가하였다. 반응 혼합물을 실온에서 7 일 동안 교반하였다. 모든 휘발성 성분을 진공 중에서 제거하고, 대부분의 미반응된 트리메틸실릴 시아나이드 (7.7 ml, 57.9 mmol) 를 분별 증류에 의해 회수하였다. 잔류물을 아세톤 (5 ml) 에 용해시켰다. 무색의 K[C6F5BF2CN] 를 CHCl3 (25 ml) 의 첨가에 의해 침전시켰다. 사용된 칼륨 트리플루오로펜타플루오로페닐보레이트에 기초한 수율: 2.1 g (7.5 mmol, 82%).
190 ℃ 로부터의 분해; 라만 분광법: 
2224 cm-1.
실시예
9. 칼륨
트리시아노펜타플루오로페닐보레이트
- K[C
6
F
5
B(
CN
)
3
]
트리메틸실릴 시아나이드 (15.0 ml, 112.5 mmol) 중의 칼륨 트리플루오로펜타플루오로페닐보레이트, K[C6F5BF3] (2.0 g, 7.3 mmol) 의 현탁액을 교반자 및 환류 응축기를 갖는 50 ml 2-목 플라스크로 아르곤의 카운터스트림에서 주입하였다. 반응 혼합물을 3 일 동안 환류 하에 가열하고, 모든 휘발성 성분을 증류하고, 대부분의 미반응된 트리메틸실릴 시아나이드 (10.8 ml, 81.1 mmol) 를 분별 증류에 의해 회수하였다. 잔류물을 K2CO3 의 첨가로 THF (80 ml) 중에서 수거하였다. 잔류물을 증발시켜 10 ml 의 부피로 증발시키고, 거의 무색인 K[C6F5B(CN)3] 를 CHCl3 (100 ml) 를 서서히 첨가하여 침전시켰다. 침전물을 여과하고, 진공 중에서 건조시켰다. 칼륨 트리시아노펜타플루오로페닐보레이트, K[C6F5B(CN)3] 의 수율은 사용된 칼륨 트리플루오로펜타플루오로페닐보레이트에 기초하여 1.7 g (5.9 mmol), 81% 이었다. 280 ℃ 로부터의 분해.
실시예
10.
테트라
-
n
-
부틸암모늄
시아노디플루오로트리플루오로
-
메틸
-
보레이트
- [(
n
-
C
4
H
9
)
4
N][CF
3
BF
2
(
CN
)]
A.
실시예 2 에서 기재된 바와 같이 제조된 칼륨 시아노디플루오로트리플루오로메틸보레이트, K[CF3BF2CN] (0.5 g, 2.7 mmol) 를 탈이온수 (20 ml) 에 용해시키고, [nBu4N]Br (1.7 g, 5.4 mmol, 20 ml) 의 수용액을 교반하면서 서서히 첨가하였다. 형성된 무색의 침전물을 여과하고, 진공 중에서 건조시켰다. 테트라-n-부틸암모늄 시아노디플루오로트리플루오로메틸보레이트의 수율은 사용된 칼륨 시아노디플루오로트리플루오로메틸보레이트에 기초하여 0.7 g (1.9 mmol), 67 % 이었다.
용융점: 73 ℃; 라만 분광법: 
2208 cm-1.
원소 분석: 관측, %, C 57.19, H 9.36, N 7.44; C18H36BF5N2 에 대해 계산됨, %, C 55.97, H 9.39, N 7.25.
B.
나트륨 시아나이드 (13.1 g, 267.3 mmol) 및 나트륨 아이오다이드 (3.8 g, 25.4 mmol) 를 유리 밸브 및 PTFE 스핀들 (Young, London) 및 자석 교반자를 갖는 실린더형 반응 용기 중 진공 하에서 4 시간 동안 130 ℃ 에서 건조하였다. 아세토니트릴 (15 ml) 및 트리메틸실릴 클로라이드 (30.0 ml, 25.8 g, 237.5 mmol) 를 이후 첨가하였다. 현탁액을 50 ℃ 에서 24 시간 동안 및 실온에서 3 일 동안 교반하였다. K[CF3BF3] (0.5 g, 2.8 mmol) 를 아르곤의 카운터스트림에서 첨가하였고, 반응 혼합물을 50 ℃ 에서 24 시간 동안 및 이후 80 ℃ 에서 4 일 동안 교반하였다. 모든 휘발성 성분을 진공 중 실온에서 제거하였다. 트리메틸실릴 시아나이드 (28.2 ml, 211.2 mmol) 를 분별 증류에 의해 응축된 상으로부터 부생성물로서 분리하고, 추가 반응에서 사용하였다. 수득한 고체 잔류물을 탈이온수 (15 ml) 에서 수거하였다. 30% 수성 H2O2 (25 ml) 및 K2CO3 를 교반하면서 생성 용액에 첨가하였고, 혼합물을 한 시간 동안 교반하였다. 용액을 진공 중에서 건조될 때까지 증발시켰고, 잔류물을 아세톤 (3 × 50 ml) 으로 추출하였다. 탈이온수 (30 ml) 를 조합된 유기상에 첨가하고, 아세톤을 진공 중에서 제거하였다. 순수 [nBu4N][CF3BF2(CN)] 을 탈이온수 (20 ml) 중의 [nBu4N]Br (1.0 g, 3.1 mmol) 의 용액의 첨가에 의해 수득하였다. 테트라-n-부틸암모늄 시아노디플루오로트리플루오로메틸보레이트의 수율은 사용된 칼륨 시아노디플루오로트리플루오로메틸보레이트에 기초하여 0.9 g (2.4 mmol), 86% 이다.
1H 및 13C NMR 스펙트럼은 실시예 10, A 에 표시된 값에 해당한다.
실시예
11. 1-에틸-3-
메틸이미다졸륨
시아노디플루오로트리플루오로메틸보레이트
- [
C
6
H
11
N
2
][CF
3
BF
2
(
CN
)]
실시예 2 에서 기재된 바와 같이 제조된 K[CF3BF2(CN)] (5.9 g, 32.5 mmol) 을 강하게 교반하면서 탈이온수 (20 ml) 중의 1-에틸-3-메틸이미다졸륨 클로라이드, [EMIM]Cl (5.0 g, 34.1 mmol) 의 용액에 첨가하였고, 혼합물을 10 분 동안 교반하였다. 수상을 이후 피펫을 사용하여 이온성 액체로부터 분리하고, 이중증류된 물 (4 × 50 ml) 로 세척하고, 고진공 중 50 ℃ 에서 건조시켰다. 액체 1-에틸-3-메틸이미다졸륨 시아노디플루오로트리플루오로메틸보레이트의 수율은 사용된 칼륨 시아노디플루오로트리플루오로메틸보레이트에 기초하여 5.7g (22.4 mmol), 69% 이었다.
용융점: 13 ℃. 물 함량 (칼 피셔 적정): 40 ppm. 역학 점도 (20 ℃): 16.5 mPa?s, (40 ℃): 10.3 mPa?s, (60 ℃) 6.9 mPa?s, (80 ℃) 5.0 mPa?s.
실시예
12. 1-에틸-2,3-
디메틸이미다졸륨
시아노디플루오로트리플루오로메틸보레이트
- [
C
7
H
13
N
2
][CF
3
BF
2
(
CN
)]
칼륨 시아노디플루오로트리플루오로메틸보레이트 K[CF3BF2(CN)] (8.0 g, 43.7 mmol) 을 탈이온수 (5 ml) 에서 수거하고, 10 ml 의 탈이온수 중의 1-에틸-2,3-디메틸이미다졸륨 클로라이드 [EDMIM]Cl (7.7 g, 47.9 mmol) 의 용액을 첨가하였다. 수득되는 이온성 액체를 탈이온수 (4 × 2 ml) 로 세척하고, 분리하고, 진공 중에서 2 일 동안 50 ℃ 에서 건조시켰다. 1-에틸-2,3-디메틸이미다졸륨 시아노디플루오로트리플루오로메틸보레이트의 수율은 사용된 칼륨 시아노디플루오로트리플루오로메틸보레이트 K[CF3BF2(CN)] 에 기초하여 11.2 g (39.4 mmol), 90% 이었다. 생성물을 이온 크로마토그래피에 의해 분석하였고, 이는 할라이드의 낮은 수준의 오염도를 가졌다; 클로라이드: 28 ppm, 플루오라이드: 236 ppm. 물 함량 (칼 피셔 적정): 57 ppm. 역학 점도 (20 ℃): 51.6 mPa?s.
라만 분광법: 
2209 cm-1.
원소 분석: 관측, %, C 40.10, H 4.93, N 16.20; C7H13BF5N3 에 대해 계산됨, %, C 40.18, H 4.87, N 15.62.
실시예
13.
테트라페닐포스포늄
시아노디플루오로트리플루오로메틸보레이트
- [(
C
6
H
5
)
4
P][CF
3
BF
2
(
CN
)]
칼륨 트리플루오로트리플루오로메틸보레이트, K[CF3BF3] (0.3 g, 1.7 mmol) 를 유리 밸브 및 PTFE 스핀들 (Young, London) 및 자석 교반자를 갖는 실린더형 반응 용기로 주입하였다. 트리메틸실릴 시아나이드 (5.0 ml, 37.5 mmol) 를 아르곤 분위기 하에 첨가하였다. 반응 혼합물을 실온에서 24 시간 동안 교반하였다. 모든 휘발성 성분을 진공 중에서 제거하고, 대부분의 미반응된 트리메틸실릴 시아나이드 (4.3 ml, 32.3 mmol) 를 분별 증류에 의해 회수하였다. 잔류물을 탈이온수 (10 ml) 에 용해시키고, 탈이온수 (20 ml) 중에 용해된 [Ph4P]Br (1.2 g, 2.8 mmol) 를 사용하여 침전시키고, 여과하고, 진공 중에서 건조시켰다. 테트라페닐포스포늄 시아노디플루오로트리플루오로메틸보레이트: 0.8 g (1.7 mmol) 의 수율은 사용된 칼륨 트리플루오로트리플루오로메틸보레이트, K[CF3BF3] 에 기초하여 0.8 g (1.7 mmol), 97% 이었다.
용융점: 219 ℃.
원소 분석: 관측, %, C 62.22, H 4.65, N 2.91; C26H20BF5NP 에 대해 계산됨, %, C 64.62, H 4.17, N 2.90.
실시예
14. N-부틸-N-
메틸피롤리디늄
시아노디플루오로트리플루오로메틸보레이트
- [
C
9
H
20
N
][CF
3
BF
2
(
CN
)]
실시예 2 에 기재된 바와 같이 제조된 K[CF3BF2(CN)] (220 mg, 1.2 mmol) 을 탈이온수 (5 ml) 에 용해시키고, 1-부틸-1-메틸피롤리디늄 클로라이드 (250 mg, 1.4 mmol) 를 첨가하였다. 형성된 이온성 액체를 CH2Cl2 (2 × 10 ml) 로 추출하였다. 디클로로메탄 용액을 MgSO4 를 사용하여 건조시키고, 여과하였고, CH2Cl2 를 회전 증발기를 사용하여 제거하였다. 실온에서 액체인 N-부틸-N-메틸피롤리디늄 시아노디플루오로트리플루오로메틸보레이트의 수율은 사용된 칼륨 시아노디플루오로트리플루오로메틸보레이트, K[CF3BF2(CN)] 에 기초하여 293 mg (1.0 mmol), 85% 이었다.
라만 분광법: 
2208 cm-1.
실시예
15.
테트라페닐포스포늄
디시아노플루오로트리플루오로메틸보레이트
- [(
C
6
H
5
)
4
P][CF
3
BF(
CN
)
2
]
미세하게 분쇄된 칼륨 시아나이드 (30.1 g, 462.2 mmol) 및 칼륨 아이오다이드 (6.1 g, 36.7 mmol) 를 자석 교반자 및 환류 응축기를 갖는 100 ml 플라스크 중 진공에서 115 ℃ 에서 5 시간 동안 건조시켰다. 트리메틸실릴 클로라이드 (32.0 ml, 27.4 g, 252.2 mmol) 를 이후 첨가하고, 반응 혼합물을 24 시간 동안 환류 하에 증온시켰다 (60-80 ℃; 배쓰 온도). 원소 요오드 (1.0 g, 3.9 mmol) 를 아르곤의 카운터스트림에서 첨가하였고, 혼합물을 환류가 더 이상 관찰되지 않을 때까지 110 ℃ 에서 가열하였다. K[CF3BF3] (1.6 g, 9.1 mmol) 를 실온에서 첨가하고, 반응 혼합물을 48 시간 동안 환류 하에 증온시켰다. 모든 휘발성 성분을 진공 중에서 100 ℃ 에서 제거하였고, K2CO3 (2 g) 를 수득된 잔류물에 첨가하고, 이를 THF (4 × 50 ml) 로 추출하였다. 수산화칼륨 수용액 (1.0 g, 17.8 mmol, 150 ml) 을 조합된 THF 상에 첨가하였다. THF 를 회전 증발기를 사용하여 70 ℃ 에서 분리하였다. [Ph4P]Br 수용액 (4.5 g, 10.7 mmol, 100 ml) 을 반응 혼합물에 서서히 첨가하였다. 무색의 침전물을 여과하고, 아세톤 (150 ml) 에서 수거하고, 셀라이트를 첨가하였다. 혼합물을 여과하고, 용액을 회전 증발기를 사용하여 5 ml 의 부피로 증발시켰다. 디에틸 에테르 (100 ml) 를 서서히 첨가하여 무색의 [Ph4P][CF3BF(CN)2] 의 침전을 유발하였다. 테트라페닐포스포늄 디시아노플루오로트리플루오로메틸보레이트의 수율은 사용된 칼륨 트리플루오로트리플루오로메틸보레이트, K[CF3BF3] 에 기초하여 2.5 g (5.1 mmol), 56% 이었다.
용융점: 150 ℃; 290 ℃ 로부터 분해. 라만 분광법: 
2215 cm-1.
실시예
16. 1-에틸-3-
메틸이미다졸륨
디시아노플루오로트리플루오로메틸보레이트
- [
C
6
H
11
N
2
][CF
3
BF(
CN
)
2
]
실시예 3 에 기재된 바와 같이 제조된 칼륨 디시아노플루오로트리플루오로메틸보레이트, K[CF3BF(CN)2] (5.0 g, 26.3 mmol) 를 탈이온수 (15 ml) 에 용해시키고, 탈이온수 (15 ml) 중의 1-에틸-3-메틸이미다졸륨 클로라이드, [EMIM]Cl (3.8 g; 26.3 mmol) 의 용액을 강하게 교반하면서 첨가하였다. 혼합물을 10 분 동안 교반하였다. 수상을 이후 피펫을 사용하여 제거하고, 수득된 무색의 이온성 액체를 이중증류된 물 (4 × 5 ml) 로 세척하고, 이후 진공 중 50 ℃ 에서 건조시켰다. 액체 1-에틸-3-메틸이미다졸륨 디시아노플루오로트리플루오로메틸보레이트의 수율은 5.5 g (21.1 mmol, 80%) 이었다. 용융점: -29 ℃. 물 함량 (칼 피셔 적정): 20 ppm. 역학 점도 (20 ℃): 14.0 mPa?s, (40 ℃): 8.6 mPa?s, (60 ℃) 5.8 mPa?s, (80 ℃): 4.2 mPa?s.
실시예
17. 1-에틸-3-
메틸이미다졸륨
시아노디플루오로펜타플루오로에틸보레이트
- [
C
6
H
11
N
2
][C
2
F
5
BF
2
(
CN
)]
A.
실시예 5 에 기재된 바와 같이 제조된 칼륨 시아노디플루오로펜타플루오로에틸보레이트, K[C2F5BF2(CN)] (6.9 g, 29.6 mmol) 및 1-에틸-3-메틸이미다졸륨 클로라이드, [EMIM]Cl (4.5 g, 30.7 mmol) 를 CH2Cl2 (100 ml) 및 탈이온수 (20 ml) 의 혼합물에서 수거하고, 1 시간 동안 교반하였다. 수상을 이후 분리하고, 유기상을 탈이온수 (5 × 50 ml) 로 AgNO3 를 사용하는 염소 이온을 위한 시험이 음성일 때까지 세척하였다. 디클로로메탄 상을 MgSO4 를 사용하여 건조시키고, 여과하고, 회전 증발기를 사용하여 60 ℃ 에서 증발시켰다. 수득된 거의 무색의 액체를 진공 중 50 ℃ 에서 건조시켰다. 액체 1-에틸-3-메틸이미다졸륨 시아노디플루오로펜타플루오로에틸보레이트의 수율은 사용된 칼륨 시아노디플루오로펜타플루오로에틸보레이트, K[C2F5BF2(CN)] 에 기초하여 6.5 g (21.3 mmol), 72% 이었다. 용융점: < -55 ℃; 225 ℃ 로부터의 분해. 역학 점도 (20 ℃): 17.6 mPa?s, (40 ℃): 10.8 mPa?s, (60 ℃): 7.2 mPa?s, (80 ℃): 5.2 mPa?s.
라만 분광법: 
2208 cm-1.
원소 분석: 관측, %, C 35.44, H 3.50, N 13.81; C9H11BF7N3 에 대해 계산됨, %, C 35.44, H 3.64, N 13.78.
B.
칼륨 트리플루오로펜타플루오로에틸보레이트, K[C2F5BF3] (1.0 g, 4.42 mmol) 및 1-에틸-3-메틸이미다졸륨 클로라이드, [EMIM]Cl (650 mg, 4.43 mmol) 를 유리 밸브 및 및 PTFE 스핀들 (Young, London) 및 자석 교반자를 갖는 10 ml 반응 용기로 칭량하여 주입하였다. 탈이온수 (1 ml) 를 첨가하였고, 반응 혼합물을 15 분 동안 교반하였다. 수상을 분리하고, 잔류된 이온성 액체를 탈이온수 (1 ml) 로 세척하고, 진공 중에서 4 시간 동안 50 ℃ 에서 건조시켰다. NaCN (660 mg, 13.46 mmol) 및 트리메틸실릴 클로라이드, (CH3)3SiCl (1.7 ml, 13.45 mmol) 을 첨가하였고, 반응 혼합물을 60 ℃ (오일-배쓰 온도) 에서 10 시간 동안 교반하였다. 휘발성 성분을 진공 중에서 제거하고, 수득된 현탁액을 탈이온수 (3 × 2 ml) 로 세척하고 투명한 이온성 액체를 진공 중 50 ℃ 에서 건조시켰다. 실온에서의 액체 1-에틸-3-메틸이미다졸륨 시아노디플루오로펜타플루오로에틸보레이트의 수율은 사용된 칼륨 트리플루오로펜타플루오로에틸보레이트, K[C2F5BF3] 에 기초하여 1.2 g (3.93 mmol), 89% 이었다. 생성물의 순도는 11B- 및 19F-NMR 분광 조사에 따라 ≥ 98% 이었다.
실시예
18. 1-에틸-2,3-
디메틸이미다졸륨
시아노디플루오로펜타플루오로에틸보레이트
- [
C
7
H
13
N
2
][C
2
F
5
BF
2
(
CN
)]
칼륨 시아노디플루오로펜타플루오로에틸보레이트 K[C2F5BF2(CN)] (4.2 g, 18.0 mmol) 를 탈이온수 (2 ml) 중에서 수거하고, 3 ml 의 탈이온수 중의 1-에틸-2,3-디메틸이미다졸륨 클로라이드 [EDMIM]Cl (3.2 g, 19.9 mmol) 의 용액을 첨가하였다. 수득된 이온성 액체를 탈이온수 (4 × 2 ml) 로 세척하고, 분리하고, 진공 중 50 ℃ 에서 건조시켰다. 실온에서 액체인 1-에틸-2,3-디메틸이미다졸륨 시아노디플루오로펜타플루오로에틸보레이트의 수율은 사용되는 칼륨 시아노디플루오로펜타플루오로에틸보레이트 K[C2F5BF2(CN)] 에 기초하여 5.1 g (15.9 mmol), 88% 이었다. 생성물을 이온 크로마토그래피로 분석하였고, 이는 할라이드의 낮은 수준의 오염도를 가졌다; 클로라이드: 7 ppm, 브로마이드: 16 ppm, 플루오라이드: 14 ppm. 물 함량 (칼 피셔 적정): 161 ppm. 역학 점도 (20℃): 47.2 mPa?s.
라만 분광법: 
2209 cm-1.
원소 분석: 관측, %, C 37.57, H 3.84, N 13.10; C10H13BF7N3 에 대해 계산됨, %, C 37.65, H 4.11, N 13.17.
실시예
19. 1-부틸-3-
메틸이미다졸륨
시아노디플루오로펜타플루오로에틸보레이트
-[
C
8
H
15
N
2
][C
2
F
5
BF
2
(
CN
)]
실시예 5 에서 기재된 바와 같이 제조된 칼륨 시아노디플루오로펜타플루오로에틸보레이트 K[C2F5BF2(CN)] (4.0 g, 17.1 mmol) 을 탈이온수 (2 ml) 에 용해시키고, 3 ml 의 탈이온수 중의 1-부틸-3-메틸이미다졸륨 클로라이드 [BMIM]Cl (3.4 g, 19.4 mmol) 의 용액을 첨가하였다. 수득된 이온성 액체를 탈이온수 (4 × 2 ml) 로 세척하고, 분리하고, 진공 중 50 ℃ 에서 건조시켰다. 실온에서 액체인 1-부틸-3-메틸이미다졸륨 시아노디플루오로펜타플루오로에틸보레이트의 수율은 사용된 칼륨 시아노디플루오로펜타플루오로에틸보레이트 K[C2F5BF2(CN)] 에 기초하여 5.2 g (15.6 mmol), 91% 이었다. 생성물을 이온 크로마토그래피로 분석하였고, 이는 할라이드의 낮은 수준의 오염도를 가졌다; 클로라이드: < 5 ppm, 브로마이드: 5 ppm, 플루오라이드: 22 ppm. 물 함량 (칼 피셔 적정): 25 ppm. 역학 점도 (20 ℃): 27.4 mPa?s.
라만 분광법: 
2209 cm-1.
원소 분석: 관측, %, C 39.60, H 4.56, N 12.64; C11H15BF7N3 에 대해 계산됨, %, C 39.67, H 4.54, N 12.62.
실시예
20. 1-(
2메톡시에틸
)-3-
메틸이미다졸륨
시아노디
플루오로펜타플루오로에틸보레이트
- [
C
7
H
13
N
2
O
][C
2
F
5
BF
2
(
CN
)]
3 ml 의 탈이온수 중 1-(2-메톡시-에틸)-3-메틸이미다졸륨 브로마이드 [MOEMIM]Br (4.7 g, 21.2 mmol) 의 용액을 2 ml 의 탈이온수 중의 칼륨 시아노디플루오로펜타플루오로에틸보레이트 K[C2F5BF2(CN)] (4.5 g, 19.3 mmol) 의 용액에 첨가하였다. 수득되는 이온성 액체를 탈이온수 (4 × 2 ml) 로 세척하고, 분리하고, 진공 중 60 ℃ 에서 건조시켰다. 1-메톡시에틸-3-메틸이미다졸륨 시아노디플루오로펜타플루오로에틸보레이트의 수율은 사용된 칼륨 시아노디플루오로펜타플루오로에틸보레이트 K[C2F5BF2(CN)] 에 기초하여 5.7 g (17.0 mmol), 88% 이었다. 생성물을 이온 크로마토그래피로 분석하였고, 이는 할라이드의 낮은 수준의 오염도를 가졌다; 브로마이드: < 5 ppm, 클로라이드: < 5 ppm, 플루오라이드: 23 ppm. 물 함량 (칼 피셔 적정): 215 ppm. 역학 점도 (20 ℃): 27.1 mPa?s.
라만 분광법: 
2210 cm-1.
원소 분석: 관측, %, C 35.13, H 4.03, N 12.58; C10H13BF7N3O 에 대해 계산됨, %, C 35.85, H 3.91, N 12.54.
실시예
21.
테트라
-
n
-
부틸암모늄
시아노디플루오로펜타플루오로에틸보레이트
- [(
n
-
C
4
H
9
)
4
N][C
2
F
5
BF
2
(
CN
)]
A.
칼륨 트리플루오로펜타플루오로에틸보레이트, K[C2F5BF3] (1.0 g, 4.4 mmol) 을 유리 밸브 및 및 PTFE 스핀들을 갖는 실린더형 반응 용기에 칭량하여 주입하였다. 플라스크를 진공화하고, 트리메틸실릴 시아나이드 (25.0 ml, 187.5 mmol) 및 아세토니트릴 (6 ml) 의 혼합물을 아르곤의 카운터스트림에서 첨가하였다. 환류 응축기를 아르곤의 카운터스트림에서 부착하고, 반응 혼합물을 마이크로웨이브 (CEM Discover) (100 W, Tmax = 75 ℃) 에서 10 분 동안 조사하였다. 모든 휘발성 성분을 진공 중에서 제거하고, 대부분의 미반응된 트리메틸실릴 시아나이드 (21.5 ml, 161.1 mmol) 를 분별 증류에 의해 회수하였다. 거의 무색의 [n-Bu4N]-[C2F5BF2CN] 을 탈이온수 (20 ml) 중의 [n-Bu4N]Br (2.5 g; 7.8 mmol) 수용액의 첨가에 의해 침전시켰다. 테트라-n-부틸암모늄 시아노디플루오로펜타플루오로에틸보레이트의 수율은 사용된 칼륨 트리플루오로펜타플루오로에틸보레이트, K[C2F5BF3] 에 기초하여 1.8 g (4.1 mmol), 93% 이었다. 용융점: 80 ℃; 250 ℃ 로부터의 분해.
B.
실시예 5 에 기재된 바와 같이 제조된 칼륨 시아노디플루오로펜타플루오로에틸보레이트, K[C2F5BF2CN] (0.5 g, 2.1 mmol) 를 탈이온수 (50 ml) 에 용해시키고, [n-Bu4N]Br (1.4 g, 4.3 mmol, 100 ml) 의 수용액을 교반하며 첨가하였다. 15 분 후, 무색의 침전물을 여과하고, 진공 중에서 건조시켰다. 테트라-n-부틸암모늄 시아노디플루오로펜타플루오로에틸보레이트의 수율은 사용된 칼륨 시아노디플루오로펜타플루오로에틸보레이트, K[C2F5BF2CN] 에 기초하여 0.84 g (1.9 mmol), 90% 이었다. 1H 및 13C NMR 스펙트럼은 실시예 21, A 에 표시된 값에 해당한다.
실시예
22.
트리부틸메틸암모늄
시아노디플루오로펜타플루오로에틸보레이트
- [(
C
4
H
9
)
3
CH
3
N
][C
2
F
5
BF
2
(
CN
)]
4 ml 의 탈이온수에 용해된 트리부틸메틸암모늄 클로라이드 [(C4H9)3CH3N]Cl (4.3 g, 18.2 mmol) 을 칼륨 시아노디플루오로펜타플루오로에틸보레이트 K[C2F5BF2(CN)] (3.8 g, 16.3 mmol) 의 수용액 (4 ml) 에 첨가하였다. 형성된 이온성 액체를 탈이온수 (4 × 2 ml) 로 세척하고, 분리하고, 진공 중 60 ℃ 에서 건조시켰다. 트리부틸메틸암모늄 시아노디플루오로펜타플루오로에틸보레이트의 수율은 사용된 칼륨 시아노디플루오로펜타플루오로에틸보레이트 K[C2F5BF2(CN)] 에 기초하여 5.7 g (14.4 mmol), 88% 이었다. 생성물을 이온 크로마토그래피로 분석하였고, 이는 할라이드의 낮은 수준의 오염도를 가졌다; 클로라이드: 14 ppm, 브로마이드: 9, 플루오라이드: 19 ppm. 물 함량 (칼 피셔 적정): 142 ppm. 역학 점도 (20 ℃): 216.7 mPa?s.
라만 분광법: 
2208 cm-1.
원소 분석: 관측, %, C 48.79, H 7.81, N 7.21; C16H30BF7N2 에 대해 계산됨, %, C 48.75, H 7.67, N 7.11.
실시예
23. N-부틸-N-
메틸피롤리디늄
시아노디플루오로펜타플루오로에틸보레이트
- [
C
9
H
20
N
][C
2
F
5
BF
2
(
CN
)]
A. 칼륨 시아노디플루오로펜타플루오로에틸보레이트 K[C2F5BF2(CN)] (4.2 g, 18.0 mmol) 및 N-부틸-N-메틸피롤리디늄 클로라이드 [BMPL]Cl (3.5 g, 19.6 mmol) 을 각각 2 ml 의 탈이온수에 용해시켰다. 용액을 조합하고, 수득된 이온성 액체를 탈이온수 (4 × 2 ml) 로 세척하였다. 무색의 고체를 진공 중 60 ℃ 에서 건조시켰다. 실온에서 액체인 N-부틸-N-메틸피롤리디늄 시아노디플루오로펜타플루오로에틸보레이트의 수율은 사용된 칼륨 시아노디플루오로펜타플루오로에틸보레이트 K[C2F5BF2(CN)] 에 기초하여 5.9 g (17.5 mmol), 97% 이었다. 생성물을 이온 크로마토그래피로 분석하였고, 이는 할라이드의 낮은 수준의 오염도를 가졌다; 클로라이드: 8 ppm, 브로마이드: 6 ppm, 플루오라이드: 29 ppm. 물 함량 (칼 피셔 적정): 21 ppm. 역학 점도 (20 ℃): 43.2 mPa?s.
라만 분광법: 
2208 cm-1.
원소 분석: 관측, %, C 42.90, H 5.99, N 8.32; C12H20BF7N2 에 대해 계산됨, %, C 42.88, H 6.00, N 8.33.
B.
칼륨 트리플루오로펜타플루오로에틸보레이트, K[C2F5BF3] (1.0 g, 4.4 mmol), 및 N-부틸-N-메틸피롤리디늄 클로라이드 [BMPL]Cl (865 mg, 4.9 mmol) 을 탈이온수 (1 ml) 중에서 함께 수거하였다. 현탁액을 15 분 동안 교반하였다. 수상을 이후 제거하고, 잔류된 이온성 액체를 탈이온수 (1 ml) 로 세척하였다. 이온성 액체를 진공 중에서 2 시간 동안 50 ℃ 에서 건조시켰다. NaCN (660 mg, 13.5 mmol) 을 첨가하고, 현탁액을 진공 중에서 15 분 동안 50 ℃ 에서 건조시켰다. 트리메틸실릴 클로라이드 (1.7 ml, 13.5 mmol) 를 이후 첨가하고, 반응 혼합물을 24 시간 동안 60 ℃ 에서 교반하였다. 휘발성 성분을 진공 중에서 제거하고, 잔류된 현탁액을 아세톤 (10 ml) 중에서 수거하고, 여과하고 (D4), 아세톤 상을 진공 중에서 증발시켰다.
수율: 1.2 g (3.6 mmol, 81%).
1H , 19F 및 11B NMR 스펙트럼은 실시예 23, A 에 표시된 값에 해당한다.
실시예
24.
테트라페닐포스포늄
시아노디플루오로펜타플루오로에틸보레이트
- [(
C
5
H
6
)
4
P][C
2
F
5
BF
2
(
CN
)]
칼륨 트리플루오로펜타플루오로에틸보레이트, K[C2F5BF3] (495 mg, 2.2 mmol) 를 유리 밸브 및 및 PTFE 스핀들 (Young, London) 을 갖는 실린더형 반응 용기로 칭량하여 주입하였다. 트리메틸실릴 시아나이드 (7.0 ml; 52.5 mmol) 를 아르곤 분위기 하에 응축시켰다. 반응 혼합물을 5 시간 동안 100 ℃ 에서 교반하였다. 모든 휘발성 성분을 이후 진공 중에서 제거하였다. 대부분의 미반응된 트리메틸실릴 시아나이드 (6.1 ml, 45.7 mmol) 를 분별 증류에 의해 회수하였다. 잔류물을 탈이온수 (15 ml) 에 용해시키고, 탈이온수 (150 ml) 중에 용해된 [Ph4P]Br (1.3g; 3.1 mmol) 를 첨가하였다. 침전물을 여과하고, 진공 중에서 건조시켰다. 무색의 고체 테트라페닐포스포늄 시아노디플루오로펜타플루오로에틸보레이트의 수율은 사용된 칼륨 트리플루오로펜타플루오로에틸보레이트, K[C2F5BF3] 에 기초하여 1.1 g (2.0 mmol), 93% 이었다. 용융점: 130 ℃; 310 ℃ 로부터 분해. 라만 분광법: 
2211 cm-1.
실시예
25.
트리부틸메틸포스포늄
시아노디플루오로펜타플루오로에틸보레이트
- [(
C
4
H
9
)
3
CH
3
P
][C
2
F
5
BF
2
(
CN
)]
칼륨 시아노디플루오로펜타플루오로에틸보레이트 K[C2F5BF2(CN)] (2.6 g, 11.1 mmol) 를 2 ml 의 탈이온수에 용해시키고, 3 ml 의 탈이온수 중의 트리부틸메틸포스포늄 트리플루오로아세테이트 [(C4H9)3CH3P][CF3CO2] (3.7 g, 11.1 mmol) 의 용액을 첨가하였다. 이온성 액체를 탈이온수 (4 × 2 ml) 로 세척하고, 분리하고, 진공 중에서 50 ℃ 에서 건조시켰다. 트리부틸메틸포스포늄 시아노디플루오로펜타플루오로에틸보레이트의 수율은 사용된 칼륨 시아노디플루오로펜타플루오로에틸보레이트 K[C2F5BF2(CN)] 에 기초하여 4.0 g (9.7 mmol), 87% 이었다. 생성물을 이온 크로마토그래피로 분석하였고, 이는 할라이드의 낮은 수준의 오염도를 가졌다; 클로라이드: 8 ppm, 플루오라이드: 8 ppm. 물 함량 (칼 피셔 적정): 129 ppm.
라만 분광법: 
2208 cm-1.
원소 분석: 관측, %, C 46.61, H 7.46, N 3.38; C16H30BF7NP 에 대해 계산됨, %, C 46.74, H 7.35, N 3.41.
실시예 26. 디에틸메틸술포늄 시아노디플루오로펜타플루오로에틸보레이트 - [(C 2 H 5 ) 2 CH 3 S][ C 2 F 5 BF 2 ( CN )]
실시예 5 에 기재된 바와 같이 제조된 칼륨 시아노디플루오로펜타플루오로에틸보레이트 K[C2F5BF2(CN)] (5.2 g, 22.3 mmol) 를 탈이온수 (2 ml) 에 용해시키고, 수성 디에틸메틸술포늄 트리플루오로메틸술포네이트 용액 (6.3 g, 24.8 mmol, 3 ml) 을 첨가하였다. 형성된 이온성 액체를 탈이온수 (6 × 2 ml) 로 세척하고, 이후 고진공 하에 실온에서 12 시간 동안 및 다음으로 60 ℃ 에서 24 시간 동안 건조시켰다. 디에틸메틸술포늄 시아노디플루오로펜타플루오로에틸보레이트의 수율은 사용된 칼륨 시아노디플루오로펜타플루오로에틸보레이트 K[C2F5BF2(CN)] 에 기초하여 5.5 g (18.4 mmol), 82% 이었다. 생성물을 이온 크로마토그래피로 분석하였고, 이는 할라이드의 낮은 수준의 오염도를 가졌다; 브로마이드: < 5 ppm, 클로라이드: < 5 ppm, 플루오라이드: 31 ppm. 물 함량 (칼 피셔 적정): 94 ppm. 역학 점도 (20 ℃): 22.2 mPa?s.
라만 분광법: 
2209 cm-1.
원소 분석: 관측, %, C 32.14, H 4.30, N 4.87, S 10.71; C8H13BF7NS 에 대해 계산됨, %, C 32.13, H 4.38, N 4.68, S 10.72.
실시예
27.
S
-에틸-
N
,
N
,
N'
,
N'
-
테트라메틸이소티오우로늄
시아노디플루오로펜타플루오로에틸보레이트
- [{(
CH
3
)
2
N}
2
CSC
2
H
5
][C
2
F
5
BF
2
(
CN
)]
칼륨 시아노디플루오로펜타플루오로에틸보레이트 K[C2F5BF2(CN)] (6.0 g, 25.7 mmol) 을 10 ml 의 탈이온수에 용해시키고, 10 ml 의 탈이온수 중의 S-에틸-N,N,N',N'-테트라메틸이소티오우로늄 아이오다이드 [{(CH3)2N}2CSC2H5]I (8.2 g, 28.4 mmol) 의 용액을 교반하면서 첨가하였다. 수득된 흑색의 액체를 분리하고, 탈이온수 (4 × 2 ml) 로 세척하고, 진공 중 실온에서 3 일 동안 건조시켰다. 미정제 생성물을 CH2Cl2 (100 ml) 에 용해시키고, 활성 탄소 (5 g) 와 함께 12 시간 동안 서서히 교반하였다. 혼합물을 여과하고, 디클로로메탄을 회전 증발기를 사용하여 제거하였다. 호박색의 이온성 액체를 고진공 중 50 ℃ 에서 2 일 동안 건조시켰다. S-에틸-N,N,N' , N' -테트라메틸이소티오우로늄 시아노디플루오로펜타플루오로에틸보레이트의 수율은 사용된 칼륨 시아노디플루오로펜타플루오로에틸보레이트 K[C2F5BF2(CN)] 에 기초하여 7.2 g (20.2 mmol), 78% 이었다. 생성물을 이온 크로마토그래피로 분석하였고, 이는 할라이드의 낮은 수준의 오염도를 가졌다; 클로라이드: 12 ppm, 플루오라이드: 121 ppm. 물 함량 (칼 피셔 적정): 20 ppm. 역학 점도 (20 ℃): 40.2 mPa?s.
라만 분광법: 
2208 cm-1.
원소 분석: 관측, %, C 33.91, H 4.82, N 12.35, S 9.73; C10H17BF7N3S 에 대해 계산됨, %, C 33.82, H 4.83, N 11.83, S 9.03.
실시예
28.
테트라페닐포스포늄
디시아노플루오로펜타플루오로에틸보레이트
- [(
C
5
H
6
)
4
P][C
2
F
5
BF(
CN
)
2
]
트리메틸실릴 시아나이드 (0.7 ml, 5.2 mmol) 중의 칼륨 트리플루오로펜타플루오로에틸보레이트, K[C2F5BF3] (50 mg, 0.22 mmol) 의 용액을 유리 밸브 및 및 PTFE 스핀들 (Young, London) 을 갖는 NMR 튜브에서 연속적으로 70 ℃ 에서 7 시간, 100 ℃ 에서 5 시간 동안, 125 ℃ 에서 7.5 시간, 140 ℃ 에서 5 시간 및 다음으로 150 ℃ 에서 72 시간 동안 가열하였다. 용액을 진공 중에서 증발시키고, 잔류물을 진공 중에서 증발시키고, 잔류물을 알칼리 수용액 (0.1 g 의 KOH, 10 ml) 중에서 수거하고, 탈이온수 (50 ml) 에 용해된 [Ph4P]Br (0.5 g, 1.2 mmol) 를 적가하였다. 형성된 무색의 침전물을 여과하고, 진공 중에서 건조시켰다. 테트라페닐포스포늄 디시아노플루오로펜타플루오로에틸보레이트의 수율은 사용된 칼륨 트리플루오로펜타플루오로에틸보레이트, K[C2F5BF3] 에 기초하여 85 mg (0.16 mmol), 73% 이었다. 용융점: 103 ℃.
실시예
29. 1-에틸-3-
메틸이미다졸륨
디시아노플루오로펜타플루오로에틸보레이트
- [
C
6
H
11
N
2
][C
2
F
5
BF(
CN
)
2
]
실시예 6 에서 기재된 바와 같이 제조된 칼륨 디시아노플루오로펜타플루오로에틸보레이트, K[C2F5BF(CN)2] (7.0 g, 29.2 mmol) 및 1-에틸-3-메틸-이미다졸륨 클로라이드, [EMIM]Cl (5.0 g, 34.1 mmol) 을 이중증류된 물 (15 ml) 에서 수거하고 교반하였다. 수상은 이후 분리하고, 이온성 액체를 이중증류된 물 (4 × 5 ml) 로 세척하고, 분리하고, 이후 고진공 중 50 ℃ 에서 건조시켰다. 거의 무색의 액체 1-에틸-3-메틸이미다졸륨 디시아노플루오로펜타플루오로에틸보레이트의 수율은 사용된 칼륨 디시아노플루오로펜타플루오로에틸보레이트, K[C2F5BF(CN)2] 에 기초하여 6.4 g (20.5 mmol), 70% 이었다. 용융점: -48 ℃. 물 함량 (칼 피셔 적정): 6 ppm. 역학 점도 (20 ℃): 16.4 mPa?s, (40 ℃): 9.8 mPa?s, (60 ℃) 6.5 mPa?s, (80 ℃) 4.6 mPa?s.
실시예
30. 1-부틸-3-
메틸이미다졸륨
디시아노플루오로펜타플루오로에틸보레이트
- [
C
8
H
15
N
2
][C
2
F
5
BF(
CN
)
2
]
실시예 6 에 기재된 바와 같이 제조된 칼륨 디시아노플루오로펜타플루오로에틸보레이트 K[C2F5BF(CN)2] (5.0 g, 20.8 mmol) 및 1-부틸-3-메틸이미다졸륨 클로라이드 [BMIM]Cl (4.0 g, 22.9 mmol) 을 2 ml 의 탈이온수 중에 각각 용해시켰다. 2 개의 용액을 조합하고, 형성된 이온성 액체를 분리하고, 이후 탈이온수 (4 × 2 ml) 로 세척하고, 분리하였다. 수득된 거의 무색의 액체를 진공 중에서 60 ℃ 에서 건조시켰다. 1-부틸-3-메틸이미다졸륨 디시아노플루오로펜타플루오로에틸보레이의 수율은 사용된 칼륨 디시아노플루오로펜타플루오로에틸보레이트 K[C2F5BF(CN)2] 에 기초하여 6.5 g (19.1 mmol), 92% 이었다. 생성물을 이온 크로마토그래피로 분석하였고, 이는 할라이드의 낮은 수준의 오염도를 가졌다; 클로라이드: 10 ppm, 플루오라이드: 6 ppm. 물 함량 (칼 피셔 적정): 154 ppm. 역학 점도 (20 ℃): 25.1 mPa?s.
라만 분광법: 
2215 cm-1.
원소 분석: 관측, %, C 42.66, H 4.39, N 16.50; C12H15BF6N4 에 대해 계산됨, %, C 42.38, H 4.45, N 16.47.
실시예
31. 1-
메톡시에틸
-3-
메틸이미다졸륨
디시아노플루오로펜타플루오로에틸보레이트
- [
C
7
H
13
N
2
O
][C
2
F
5
BF(
CN
)
2
]
실시예 6 에 기재된 바와 같이 제조된 칼륨 디시아노플루오로펜타플루오로에틸보레이트 K[C2F5BF(CN)2] (5.1 g, 21.2 mmol) 및 1-메톡시에틸-3-메틸이미다졸륨 브로마이드 [MOEMIM]Br (5.1 g, 23.0 mmol) 을 각각 2 ml 의 탈이온수에 용해시켰다. 2 개의 용액을 조합하고, 수득된 이온성 액체를 분리하고, 이후 탈이온수 (4 × 2 ml) 로 세척하였다. 수득된 거의 무색의 액체를 진공 중에서 60 ℃ 에서 건조시켰다. 1-메톡시에틸-3-메틸이미다졸륨 디시아노플루오로펜타플루오로에틸보레이트의 수율은 사용된 칼륨 디시아노플루오로펜타플루오로에틸보레이트 K[C2F5BF(CN)2] 에 기초하여 6.9 g (20.1 mmol), 95% 이었다. 생성물을 이온 크로마토그래피로 분석하였고, 이는 할라이드의 낮은 수준의 오염도를 가졌다; 브로마이드: < 5 ppm, 클로라이드: < 5 ppm, 플루오라이드: < 5 ppm. 물 함량 (칼 피셔 적정): 114 ppm. 역학 점도 (20 ℃): 25.5 mPa?s.
라만 분광법: 
2215 cm-1.
원소 분석: 관측, %, C 38.86, H 3.82, N 16.43; C11H13BF6ON4 에 대해 계산됨, %, C 38.63, H 3.83, N 16.38.
실시예
32.
테트라
-
n
-
부틸암모늄
디시아노플루오로펜타플루오로에틸보레이트
- [(
n
-
C
4
H
9
)
4
N][C
2
F
5
BF(
CN
)
2
]
실시예 6 에 기재된 바와 같이 제조된 칼륨 디시아노플루오로펜타플루오로에틸보레이트, K[C2F5BF(CN)2] (500 mg, 2.1 mmol) 를 탈이온수 (10 ml) 에 용해시키고, 탈이온수 (20 ml) 중의 [n-Bu4N]Br (0.8 g; 2.5 mmol) 의 용액을 첨가하였다. 형성된 미세한 침전물을 CH2Cl2 (2 × 30 ml) 로 추출하였다. 조합된 유기상을 MgSO4 를 사용하여 건조시키고, 여과하고, 용매를 회전 증발기를 사용하여 제거하였다. 테트라-n-부틸암모늄 디시아노플루오로펜타플루오로에틸보레이트의 수율은 사용된 칼륨 디시아노플루오로펜타플루오로에틸보레이트, K[C2F5BF(CN)2] 에 기초하여 658 mg (1.5 mmol), 71% 이었다. 용융점: 52 ℃.
라만 분광법: 
2212 cm-1.
실시예
33. N-부틸-N-
메틸피롤리디늄
디시아노플루오로펜타플루오로에틸보레이트
- [
C
9
H
20
N
][C
2
F
5
BF(
CN
)
2
]
실시예 6 에 기재된 바와 같이 제조된 칼륨 디시아노플루오로펜타플루오로에틸보레이트 K[C2F5BF(CN)2] (5.0 g, 20.8 mmol) 및 N-부틸-N-메틸피롤리디늄 클로라이드 [BMPL]Cl (4.1 g, 23.0 mmol) 을 각각 2 ml 의 탈이온수에 용해시켰다. 2 개의 용액을 조합하고, 수득된 이온성 액체를 분리하고, 이후 탈이온수 (4 × 2 ml) 로 세척하였다. 수득된 무색의 액체를 진공 중 60 ℃ 에서 건조시켰다. N-부틸-N-메틸피롤리디늄 디시아노플루오로펜타플루오로에틸보레이의 수율은 사용된 칼륨 디시아노플루오로펜타플루오로에틸보레이트 K[C2F5BF(CN)2] 에 기초하여 6.6 g (19.2 mmol), 92% 이었다. 생성물을 이온 크로마토그래피로 분석하였고, 이는 할라이드의 낮은 수준의 오염도를 가졌다; 브로마이드: < 5 ppm, 클로라이드: 10 ppm, 플루오라이드: < 5 ppm. 물 함량 (칼 피셔 적정): 191 ppm. 역학 점도 (20 ℃): 38.5 mPa?s.
라만 분광법: 
2214 cm-1.
원소 분석: 관측, %, C 45.86, H 5.99, N 12.27; C13H20BF6N3 에 대해 계산됨, %, C 45.51, H 5.88, N 12.25.
실시예
34.
테트라페닐포스포늄
디시아노플루오로펜타플루오로페닐보레이트
- [(
C
6
H
5
)
4
P][C
6
F
5
BF(
CN
)
2
]
건조 나트륨 시아나이드 (12.5 g, 255.1 mmol) 및 나트륨 아이오다이드 (3.8 g, 25.1 mmol) 를 교반자 및 환류 응축기를 갖는 100 ml 넓은 목 플라스크에 우선 주입하였다. 아세토니트릴 (5 ml) 및 트리메틸실릴 클로라이드 (30 ml, 25.8 g, 237.5 mmol) 를 아르곤의 카운터스트림에서 첨가하였다. 현탁액을 환류 하 4 일 동안 가열한 후 K[C6F5BF3] (1.0 g, 3.6 mmol) 를 첨가하고, 혼합물을 추가 20 시간 동안 환류 하에 가열하였다. 모든 휘발성 성분을 이후 진공 중에서 응축시키고, 형성된 트리메틸실릴 시아나이드 (26.9 ml, 201.8 mmol) 를 분별 증류에 의해 정제시켰다. 고체 잔류물을 K2CO3 를 첨가하면서 탈이온수 (10 ml) 에 용해시켰다. 수득된 수상을 THF (4 × 2 ml) 로 추출하였다. 조합된 유기상을 K2CO3 를 사용하여 건조시키고, 50 ℃ 에서 회전 증발기에서 건조될 때까지 증발시켰다. 잔류물을 탈이온수 (20 ml) 에 용해시키고, 수상 [Ph4P]Br 용액 (1.8 g, 4.3mmol, 120 ml) 을 적가하였다. 수득된 현탁액을 CH2Cl2 (3 × 20 ml) 로 추출하였다. 불순물을 Et2O (50 ml) 의 조합된 디클로로메탄 상에의 첨가에 의해 침전시키고, 여과하였다. 침전물을 조금 농축시키고 8 ℃ 에서 4 일 동안 저장하였다. 형성된 결정을 여과하고 진공 중에서 건조시켰다. 수율: 0.6 g (1.1mmol, 30%).
보레이트 음이온과 관련된 생성물 조성을 11B-NMR 분광법에 의해 [C6F5BF(CN)2]- (80%), [C6F5B(CN)3]- (16%) 및 미지의 종류 (4%) 로 결정하였다.
실시예
35. 1-에틸-3-
메틸이미다졸륨
트리시아노트리플루오로메틸보레이트
- [
C
6
H
11
N
2
][CF
3
B(
CN
)
3
]
칼륨 트리시아노트리플루오로메틸보레이트 K[CF3B(CN)3] (96 mg, 0.48 mmol) 를 탈이온수 (1 ml) 중에 용해시키고, 1 ml 의 탈이온수 중의 1-에틸-3-메틸이미다졸륨 클로라이드 [EMIM]Cl (100 mg, 0.68 mmol) 의 용액을 첨가하였다. 수상을 분리하고, 수득된 이온성 액체를 탈이온수 (2 × 2 ml) 로 세척하고, 분리하고, 진공 중 50 ℃ 에서 건조시켰다. 1-에틸-3-메틸이미다졸륨 트리시아노트리플루오로메틸보레이트의 수율은 98 mg (0.39 mmol) 이었다. 이는 사용된 칼륨 트리시아노트리플루오로메틸보레이트 K[CF3B(CN)3] 에 기초하여 수율 75% 에 해당한다. 생성물을 NMR 분광법으로 특정하였다.
실시예
36. 1-에틸-3-
메틸이미다졸륨
트리시아노펜타플루오로에틸보레이트
- [
C
6
H
11
N
2
][C
2
F
5
B(
CN
)
3
]
칼륨 트리시아노펜타플루오로에틸보레이트 K[C2F5B(CN)3] (160 mg, 0.64 mmol) 를 탈이온수 (1 ml) 에 용해시키고, 1 ml 의 탈이온수 중의 1-에틸-3-메틸이미다졸륨 클로라이드 [EMIM]Cl (120 mg, 0.81 mmol) 의 용액을 첨가하였다. 수상을 분리하고, 수득된 이온성 액체를 탈이온수 (2 × 2 ml) 로 세척하고, 분리하고, 진공 중 50 ℃ 에서 건조시켰다. 1-에틸-3-메틸이미다졸륨 트리시아노펜타플루오로에틸보레이트의 수율은 180 mg (0.56 mmol) 이었다. 이는 사용된 칼륨 트리시아노펜타플루오로에틸보레이트 K[C2F5B(CN)3] 에 기초하여 수율 87 % 에 해당한다. 생성물을 NMR 분광법으로 특정하였다.
실시예
37. 리튬
시아노디플루오로펜타플루오로에틸보레이트
- Li[C
2
F
5
BF
2
(CN)]
아세토니트릴 중 리튬 테트라플루오로보레이트의 용액 (0.95 M, 4.52 ml, 4.29 mmol 의 LiBF4) 을 실온에서 아세토니트릴 (3 ml) 중의 칼륨 시아노디플루오로펜타플루오로에틸보레이트 K[C2F5BF2(CN)] (1.0 g, 4.29 mmol) 의 용액에 첨가하였다. 수득된 현탁액을 0 ℃ 에서 여과하고, 침전물 (KBF4) 을 아세토니트릴 (0℃, 3 ml) 로 세정하고, 진공 중에서 건조시켰다. 여과물을 진공 중에서 증발시키고, 잔류물을 진공 중 50 ℃ 에서 20 시간 동안 건조시켰다.
칼륨 테트라플루오로보레이트 KBF4 의 수율은 0.53 g (4.20 mmol, 98%) 이었다. 리튬 시아노디플루오로펜타플루오로에틸보레이트 Li[C2F5BF2(CN)] 의 수율은 정량적이었다. 생성물을 NMR 분광법으로 특정하였다.
실시예
38. 칼륨
디시아노플루오로페닐보레이트
- K[C
6
H
5
BF(
CN
)
2
]
K[C6H5BF3] (0.5 g, 2.7 mmol) 를 트리메틸실릴 시아나이드 (10.0 ml, 74.9 mmol) 에 현탁시키고, 실온에서 2 일 동안 교반하였다. 수득된 연한 노란색 용액을 건조될 때까지 증발시키고, 아세톤 (3 ml) 에 용해시켰다. K[C6H5BF(CN)2] 를 CHCl3 (150 ml) 의 첨가에 의해 침전시키고, 여과하고, 진공 중에서 건조시켰다.
수율: 520 mg (2.62 mmol, 97%).
Claims (14)
- 화학식 I 의 염의 제조방법으로,
Ma + [B(Rf)(CN)x(F)y]a - I,
[식 중, Ma + 는 은, 마그네슘, 구리(I), 구리(II), 아연(II), 칼슘 양이온, NH4 + 또는 유기 양이온이고,
Rf 는 1 내지 4 개의 C 원자를 갖는 선형 또는 분지형 과불소화된 알킬기, C6F5, C6H5, 부분적으로 불소화된 페닐, 또는 1 내지 4 개의 C 원자를 갖는 퍼플루오로알킬기에 의해 단- 또는 이치환된 페닐 (퍼플루오로알킬기는 서로 독립적으로 선택됨) 을 나타내고,
a 는 1 또는 2 이고,
x 는 1, 2 또는 3 이고,
y 는 0, 1 또는 2 이고,
x+y = 3 임],
이는 화학식 II 의 알칼리 금속염과
Me+ [B(Rf)F3]- II,
[식 중, Me+ 는 리튬, 칼륨, 나트륨, 세슘 또는 루비듐염이고, Rf 는 상기에서 표시된 의미를 갖음]
트리알킬실릴 시아나이드 (트리알킬실릴 시아나이드의 알킬기는 각 경우에서 서로 독립적으로 1 내지 4 개의 C 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알킬기임) 와 반응하여 화학식 III 의 염을 얻고,
Me+ [B(Rf)(CN)x(F)y]- III,
[식 중, Me+, Rf, x 및 y 는 상기에서 표시된 의미를 갖음]
화학식 III 의 염과 화학식 IV 의 염과의 후속되는 염-교환 반응에 의한 방법:
MA IV,
[식 중, M 은 Ma + 에 대해 표시된 의미를 갖고,
A 는 음이온 F-, Cl-, Br-, I-, OH-, [HF2]-, [CN]-, [SCN]-, [R1COO]-, [R1SO3]-, [R2COO]-, [R2SO3]-, [R1OSO3]-, [SiF6]2-, [BF4]-, [SO4]2-, [HSO4]1-, [NO3]-, [(R1)2P(O)O]-, [R1P(O)O2]2-, [(R1O)2P(O)O]-, [(R1O)P(O)O2]2-, [(R2)2P(O)O]-, [R2P(O)O2]2-, 토실레이트, 벤조에이트, 옥살레이트, 숙시네이트, 수베레이트, 아스코브레이트, 소르베이트, 타르트레이트, 시트레이트, 말레이트, 1 내지 4 개의 C 원자를 갖는 알킬기에 의해 임의로 치환된 말로네이트, 또는 [CO3]2- 의 군으로부터 선택되고,
R1 은 각 경우에서 서로 독립적으로 H 및/또는 1 내지 12 개의 C 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알킬기를 나타내고,
R2 는 각 경우에서 서로 독립적으로 1 내지 12 개의 C 원자를 갖는 부분적으로 불소화된 또는 과불소화된 선형 또는 분지형 알킬기 또는 펜타플루오로페닐을 나타내고, 염 MA 의 화학식에서 전기적 중성이 보장되어야 함]. - 제 1 항에 있어서, 화학식 II 의 화합물과 트리알킬실릴 시아나이드의 반응이 10 ℃ 내지 110 ℃ 의 온도에서 또는 100 W 로 마이크로파 조사하여 수행되는 것을 특징으로 하는 화학식 Ia 의 음이온을 갖는 화학식 I 의 염의 제조방법:
[B(Rf)(CN)(F)2]- Ia. - 제 1 항에 있어서, 화학식 II 의 화합물과 트리알킬실릴 시아나이드의 반응이 115 내지 200 ℃ 의 온도에서 또는 200 W 로 마이크로파 조사하여 수행되는 것을 특징으로 하는 화학식 Ib 의 음이온을 갖는 화학식 I 의 염의 제조방법:
[B(Rf)(CN)2(F)]- Ib. - 제 1 항에 있어서, 화학식 II 의 화합물과 트리알킬실릴 시아나이드의 반응이 200 W 초과로 마이크로파 조사하여 수행되는 것을 특징으로 하는 화학식 Ic 의 음이온을 갖는 화학식 I 의 염의 제조방법:
[B(Rf)(CN)3]- Ic. - 제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서, 트리알킬실릴 시아나이드가 화학식 II 의 화합물과의 반응 전 요오드화 알칼리 금속 및 임의로 요오드의 존재 하에 알칼리 금속 시아나이드 및 트리알킬실릴 클로라이드로부터 현장에서 제조되는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서, 화학식 II 의 화합물과 트리알킬실릴 시아나이드의 반응 후 쉽게 휘발될 수 있는 부생성물이 분리되고, 반면 화학식 III 의 화합물은 추가 정제 없이 화학식 IV 의 화합물과 추가로 반응되는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제 1 항 내지 제 6 항 중 어느 한 항에 있어서, 유기 양이온 Ma + 가 하기 화학식 (1) 내지 (8) 의 양이온의 군으로부터 선택되는 화학식 I 의 화합물이 제조되는 것을 특징으로 하는 방법:
[N(R)4]+ (1), [S(R)3]+ (2) 또는 [O(R)3]+ (3)
[식 중,
R 은 각 경우에서 서로 독립적으로 하기를 나타내고
- H (모든 치환기 R 은 동시에 H 일 수 없음),
- 1-20 개의 C 원자를 갖는 직쇄형 또는 분지형 알킬,
- 2-20 개의 C 원자 및 하나 이상의 이중 결합을 갖는 직쇄형 또는 분지형 알케닐,
- 2-20 개의 C 원자 및 하나 이상의 삼중 결합을 갖는 직쇄형 또는 분지형 알키닐,
- 3-7 개의 C 원자를 갖는 포화된, 부분적으로 또는 전체적으로 불포화된 시클로알킬 (이는 1-6 개의 C 원자를 갖는 알킬기로 치환될 수 있음),
하나 또는 두 개의 R 은 전체적으로 치환될 수 있고 및/또는 하나 이상의 R 은 할로겐에 의해 부분적으로 또는 -OR1, -NR1 * 2, -CN, -C(O)NR1 2, 또는 -SO2NR1 2 에 의해 부분적으로 치환될 수 있고,
라디칼 R 의 α-위치에 있지 않은 하나 또는 두 개의 비인접 탄소 원자는 -O-, -S-, -S(O)-, -SO2-, -N+R1 2-, -C(O)NR1-, -SO2NR1- 또는 -P(O)R1-; 또는
[P(R2)4]+ (4)
의 군으로부터 선택된 원자 및/또는 원자기로 대체될 수 있고,
식 중, R2 는 각 경우에서 서로 독립적으로 하기를 나타내고,
- H, NR1 * 2,
- 1 내지 20 개의 C 원자를 갖는 직쇄형 또는 분지형 알킬,
- 2-20 개의 C 원자 및 하나 이상의 이중 결합을 갖는 직쇄형 또는 분지형 알케닐,
- 2-20 개의 C 원자 및 하나 이상의 삼중 결합을 갖는 직쇄형 또는 분지형 알키닐,
- 3-7 개의 C 원자를 갖는 포화된, 부분적으로 또는 전체적으로 불포화된 시클로알킬 (이는 1-6 개의 C 원자를 갖는 알킬기로 치환될 수 있음),
하나 또는 두 개의 R2 는 전체적으로 치환될 수 있고 및/또는 하나 이상의 R2 는 할로겐에 의해 부분적으로 또는 -OR1, -CN, -C(O)NR1 2, -SO2NR1 2 에 의해 부분적으로 치환될 수 있고,
R2 의 α-위치에 있지 않은 하나 또는 두 개의 비인접 탄소 원자는 -O-, -S-, -S(O)-, -SO2-, -N+R1 2-, -C(O)NR1-, -SO2NR1-, 또는 -P(O)R1-; 또는
[C(NR3R4)(OR5)(NR6R7)]+ (5)
또는 [C(NR3R4)(SR5)(NR6R7)]+ (6),
의 군으로부터 선택된 원자 및/또는 원자기로 대체될 수 있고,
식 중,
R3 내지 R7 각각은 서로 독립적으로 하기를 나타내고,
- H, NR1 * 2,
- 1 내지 20 개의 C 원자를 갖는 직쇄형 또는 분지형 알킬,
- 2-20 개의 C 원자 및 하나 이상의 이중 결합을 갖는 직쇄형 또는 분지형 알케닐,
- 2-20 개의 C 원자 및 하나 이상의 삼중 결합을 갖는 직쇄형 또는 분지형 알키닐,
- 3-7 개의 C 원자를 갖는 포화된, 부분적으로 또는 전체적으로 불포화된 시클로알킬 (이는 1-6 개의 C 원자를 갖는 알킬기로 치환될 수 있음),
하나 이상의 치환기 R3 내지 R7 은 할로겐에 의해 부분적으로 또는 전체적으로, 또는 -OH, -OR1, -CN, -C(O)NR1 2, -SO2NR1 2 에 의해 부분적으로 치환될 수 있고,
R3 내지 R7 의 α-위치에 있지 않은 하나 또는 두 개의 비인접 탄소 원자는 -O-, -S-, -S(O)-, -SO2-, -N+R1 2-, -C(O)NR1-, -SO2NR1- 또는 -P(O)R1-; 또는
[C(NR8R9)(NR10R11)(NR12R13)]+ (7),
의 군으로부터 선택되는 원자 및/또는 원자기로 대체될 수 있고,
R8 내지 R13 각각은 서로 독립적으로 하기를 나타내고,
- H, NR1 * 2,
- 1 내지 20 개의 C 원자를 갖는 직쇄형 또는 분지형 알킬,
- 2-20 개의 C 원자 및 하나 이상의 이중 결합을 갖는 직쇄형 또는 분지형 알케닐,
- 2-20 개의 C 원자 및 하나 이상의 삼중 결합을 갖는 직쇄형 또는 분지형 알키닐,
- 3-7 개의 C 원자를 갖는 포화된, 부분적으로 또는 전체적으로 불포화된 시클로알킬 (이는 1-6 개의 C 원자를 갖는 알킬기로 치환될 수 있음),
하나 이상의 치환기 R8 내지 R13 은 할로겐에 의해 부분적으로 또는 전체적으로, 또는 -OR1, -CN, -C(O)NR1 2, -SO2NR1 2 에 의해 부분적으로 치환될 수 있고,
R8 내지 R13 의 α-위치에 있지 않은 하나 또는 두 개의 비인접 탄소 원자는 -O-, -S-, -S(O)-, -SO2-, -N+R1 2-, -C(O)NR1-, -SO2NR1- 또는 -P(O)R1-; 또는
[HetN]+ (8),
의 군으로부터 선택되는 원자 및/또는 원자기로 대체될 수 있고,
[HetN]+ 는 하기를 포함하는 군으로부터 선택되는 헤테로시클릭 양이온이고,
식 중, 치환기 R1' 내지 R4' 각각은 서로 독립적으로 하기를 나타내고,
- R1' 및 R4' 가 동시에 H 일 수 없는 제한을 갖는 H,
- 불소화되거나 과불소화될 수 있는, 1-20 개의 C 원자를 갖는 직쇄형 또는 분지형 알킬,
- 불소화되거나 과불소화될 수 있는, 2-20 개의 C 원자 및 하나 이상의 이중 결합을 갖는 직쇄형 또는 분지형 알케닐,
- 불소화되거나 과불소화될 수 있는, 2-20 개의 C 원자 및 하나 이상의 삼중 결합을 갖는 직쇄형 또는 분지형 알키닐,
- 1-6 개의 C 원자를 갖는 알킬기에 의해 치환될 수 있는 3-7 개의 C 원자를 갖는 포화된, 부분적으로 또는 전체적으로 불포화된 시클로알킬,
- 포화된, 부분적으로 또는 전체적으로 불포화된 헤테로아릴, 헤테로아릴-C1-C6-알킬 또는 아릴-C1-C6-알킬,
치환기 R1', R2', R3' 및/또는 R4' 는 서로 고리계를 형성할 수 있고,
하나 이상의 치환기 R1' 내지 R4' 는 할로겐에 의해 부분적으로 또는 전체적으로, 또는 -OR1, -CN, -C(O)NR1 2, -SO2NR1 2 에 의해 부분적으로 치환될 수 있고, 그러나 R1' 내지 R4' 는 동시에 할로겐에 의해 전체적으로 치환될 수 없고, 치환기 R1' 내지 R4' 의 헤테로원자에 결합하지 않는 하나 또는 두 개의 비인접 탄소 원자는 -O-, -S-, -S(O)-, -SO2-, -N+R1 2-, -C(O)NR1-, -SO2NR1-, 또는 -P(O)R1- 의 군으로부터 선택되는 원자 및/또는 원자기로 대체될 수 있고;
R1 은 H, 비-, 부분적 또는 과불소화된 C1- 내지 C6-알킬, C3- 내지 C7-시클로알킬, 비치환된 또는 치환된 페닐을 나타내고, R1 * 은 비-, 부분적 또는 과불소화된 C1- 내지 C6-알킬, C3- 내지 C7-시클로알킬, 비치환된 또는 치환된 페닐을 나타냄]. - 화학식 III 의 화합물의 제조방법으로,
Me+ [B(Rf)(CN)x(F)y]- III,
[식 중, Me+ 는 리튬, 칼륨, 나트륨, 세슘 또는 루비듐염이고, Rf 는 1 내지 4 개의 C 원자를 갖는 선형 또는 분지형 과불소화된 알킬기, C6F5, C6H5, 부분적으로 불소화된 페닐, 또는 1 내지 4 개의 C 원자를 갖는 퍼플루오로알킬기 (퍼플루오로알킬기는 서로 독립적으로 선택됨) 에 의해 단- 또는 이치환된 페닐을 나타내고,
x 는 1, 2 또는 3 이고,
y 는 0, 1 또는 2 이고, 및
x+y = 3 임],
화학식 II 의 알칼리 금속염과 트리알킬실릴 시아나이드 (트리알킬실릴 시아나이드의 알킬기는 각 경우에서 서로 독립적으로 1 내지 4 개의 C 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알킬기임) 와의 반응에 의한 방법:
Me+ [B(Rf)F3]- II,
[식 중, Me+ 및 Rf 는 상기에서 언급한 의미를 갖음]. - 제 8 항에 있어서, 화학식 III 의 화합물 (x = 1, y = 2 임) 의 제조를 위한 반응이 10 ℃ 내지 110 ℃ 의 온도에서 또는 100 W 의 마이크로파를 조사하여 수행되고, 화학식 III 의 화합물 (x = 2, y = 1 임) 의 제조를 위한 반응이 115 내지 200 ℃ 의 온도에서 또는 200 W 의 마이크로파를 조사하여 수행하고, 또는 화학식 III 의 화합물 (x = 3, y = 0 임) 의 제조를 위한 반응이 200 W 초과의 마이크로파를 조사하여 수행되는 것을 특징으로 하는 방법.
- 화학식 III 의 염:
Ma + [B(Rf)(CN)x(F)y]a - I,
[식 중, Ma + 는 리튬, 칼륨, 나트륨, 세슘 또는 루비듐염이고,
Rf 는 1 내지 4 개의 C 원자를 갖는 선형 또는 분지형 과불소화된 알킬기, C6F5, C6H5, 부분적으로 불소화된 페닐, 또는 1 내지 4 개의 C 원자를 갖는 퍼플루오로알킬기에 의해 단- 또는 이치환된 페닐 (퍼플루오로알킬기는 서로 독립적으로 선택됨) 을 나타내고,
a 는 1 이고,
x 는 1, 2 또는 3 이고,
y 는 0, 1 또는 2 이고, Rf = C6H5 에 대해 0 은 제외되고,
x+y = 3 임]. - 제 10 항에 있어서, 칼륨 트리플루오로메틸트리시아노보레이트, 칼륨 펜타플루오로에틸트리시아노보레이트, 칼륨 헵타플루오로프로필트리시아노보레이트, 칼륨 트리플루오로메틸디시아노플루오로보레이트, 칼륨 펜타플루오로에틸디시아노플루오로보레이트, 칼륨 헵타플루오로프로필디시아노플루오로보레이트, 칼륨 트리플루오로메틸모노시아노디플루오로보레이트, 칼륨 펜타플루오로메틸모노시아노디플루오로보레이트, 칼륨 헵타플루오로프로필모노시아노디플루오로보레이트, 칼륨 노나플루오로부틸모노시아노디플루오로보레이트, 칼륨 펜타플루오로페닐트리시아노보레이트, 칼륨 펜타플루오로페닐디시아노플루오로보레이트, 칼륨 펜타플루오로페닐모노시아노디플루오로보레이트, 칼륨 페닐디시아노플루오로보레이트, 칼륨 페닐모노시아노디플루오로보레이트, 칼륨 p-플루오로페닐트리시아노보레이트, 칼륨 p-플루오로페닐디시아노플루오로보레이트, 칼륨 p-플루오로페닐모노시아노디플루오로보레이트, 칼륨 3,5-비스(트리플루오로메틸)페닐트리시아노보레이트, 칼륨 3,5-비스(트리플루오로메틸)페닐디시아노플루오로보레이트 또는 칼륨 3,5-비스(트리플루오로메틸)페닐모노시아노디플루오로보레이트, 리튬 트리플루오로메틸트리시아노보레이트, 리튬 펜타플루오로에틸트리시아노보레이트, 리튬 헵타플루오로프로필트리시아노보레이트, 리튬 트리플루오로메틸디시아노플루오로보레이트, 리튬 펜타플루오로에틸디시아노플루오로보레이트, 리튬 헵타플루오로프로필디시아노플루오로보레이트, 리튬 트리플루오로메틸모노시아노디플루오로보레이트, 리튬 펜타플루오로메틸모노시아노디플루오로보레이트, 리튬 헵타플루오로프로필모노시아노디플루오로보레이트, 리튬 노나플루오로부틸모노시아노디플루오로보레이트, 리튬 펜타플루오로페닐트리시아노보레이트, 리튬 펜타플루오로페닐디시아노플루오로보레이트, 리튬 펜타플루오로페닐모노시아노디플루오로보레이트, 리튬 페닐디시아노플루오로보레이트, 리튬 페닐모노시아노디플루오로보레이트, 리튬 p-플루오로페닐트리시아노보레이트, 리튬 p-플루오로페닐디시아노플루오로보레이트, 리튬 p-플루오로페닐모노시아노디플루오로보레이트, 리튬 3,5-비스(트리플루오로메틸)페닐트리시아노보레이트, 리튬 3,5-비스(트리플루오로메틸)페닐디시아노플루오로보레이트 또는 리튬 3,5-비스(트리플루오로메틸)페닐모노시아노디플루오로보레이트, 나트륨 트리플루오로메틸트리시아노보레이트, 나트륨 펜타플루오로에틸트리시아노보레이트, 나트륨 헵타플루오로프로필트리시아노보레이트, 나트륨 트리플루오로메틸디시아노플루오로보레이트, 나트륨 펜타플루오로에틸디시아노플루오로보레이트, 나트륨 헵타플루오로프로필디시아노플루오로보레이트, 나트륨 트리플루오로메틸모노시아노디플루오로보레이트, 나트륨 펜타플루오로메틸모노시아노디플루오로보레이트, 나트륨 헵타플루오로프로필모노시아노디플루오로보레이트, 나트륨 노나플루오로부틸모노시아노디플루오로보레이트, 나트륨 펜타플루오로페닐트리시아노보레이트, 나트륨 펜타플루오로페닐디시아노플루오로보레이트, 나트륨 펜타플루오로페닐모노시아노디플루오로보레이트, 나트륨 페닐디시아노플루오로보레이트, 나트륨 페닐모노시아노디플루오로보레이트, 나트륨 p-플루오로페닐트리시아노보레이트, 나트륨 p-플루오로페닐디시아노플루오로보레이트, 나트륨 p-플루오로페닐모노시아노디플루오로보레이트, 나트륨 3,5-비스(트리플루오로메틸)페닐트리시아노보레이트, 나트륨 3,5-비스(트리플루오로메틸)페닐디시아노플루오로보레이트 또는 나트륨 3,5-비스(트리플루오로메틸)페닐모노시아노디플루오로보레이트, 세슘 트리플루오로메틸트리시아노보레이트, 세슘 펜타플루오로에틸트리시아노보레이트, 세슘 헵타플루오로프로필트리시아노보레이트, 세슘 트리플루오로메틸디시아노플루오로보레이트, 세슘 펜타플루오로에틸디시아노플루오로보레이트, 세슘 헵타플루오로프로필디시아노플루오로보레이트, 세슘 트리플루오로메틸모노시아노디플루오로보레이트, 세슘 펜타플루오로메틸모노시아노디플루오로보레이트, 세슘 헵타플루오로프로필모노시아노디플루오로보레이트, 세슘 노나플루오로부틸모노시아노디플루오로보레이트, 세슘 펜타플루오로페닐트리시아노보레이트, 세슘 펜타플루오로페닐디시아노플루오로보레이트, 세슘 펜타플루오로페닐모노시아노디플루오로보레이트, 세슘 페닐디시아노플루오로보레이트, 세슘 페닐모노시아노디플루오로보레이트, 세슘 p-플루오로페닐트리시아노보레이트, 세슘 p-플루오로페닐디시아노플루오로보레이트, 세슘 p-플루오로페닐모노시아노디플루오로보레이트, 세슘 3,5-비스(트리플루오로메틸)페닐트리시아노보레이트, 세슘 3,5-비스(트리플루오로메틸)페닐디시아노플루오로보레이트 또는 세슘 3,5-비스(트리플루오로메틸)페닐모노시아노디플루오로보레이트, 루비듐 트리플루오로메틸트리시아노보레이트, 루비듐 펜타플루오로에틸트리시아노보레이트, 루비듐 헵타플루오로프로필트리시아노보레이트, 루비듐 트리플루오로메틸디시아노플루오로보레이트, 루비듐 펜타플루오로에틸디시아노플루오로보레이트, 루비듐 헵타플루오로프로필디시아노플루오로보레이트, 루비듐 트리플루오로메틸모노시아노디플루오로보레이트, 루비듐 펜타플루오로메틸모노시아노디플루오로보레이트, 루비듐 헵타플루오로프로필모노시아노디플루오로보레이트, 루비듐 노나플루오로부틸모노시아노디플루오로보레이트, 루비듐 펜타플루오로페닐트리시아노보레이트, 루비듐 펜타플루오로페닐디시아노플루오로보레이트, 루비듐 펜타플루오로페닐모노시아노디플루오로보레이트, 루비듐 페닐디시아노플루오로보레이트, 루비듐 페닐모노시아노디플루오로보레이트, 루비듐 p-플루오로페닐트리시아노보레이트, 루비듐 p-플루오로페닐디시아노플루오로보레이트, 루비듐 p-플루오로페닐모노시아노디플루오로보레이트, 루비듐 3,5-비스(트리플루오로메틸)페닐트리시아노보레이트, 루비듐 3,5-비스(트리플루오로메틸)페닐디시아노플루오로보레이트 또는 루비듐 3,5-비스(트리플루오로메틸)페닐모노시아노디플루오로보레이트로부터 선택되는 염.
- 화학식 III 의 화합물 또는 제 11 항에 따른 화합물을 포함하는 전해질:
Ma + [B(Rf)(CN)x(F)y]a - I,
[식 중, Ma + 는 리튬, 칼륨, 나트륨, 세슘 또는 루비듐염이고,
Rf 는 1 내지 4 개의 C 원자를 갖는 선형 또는 분지형 과불소화된 알킬기, C6F5, C6H5, 부분적으로 불소화된 페닐, 또는 1 내지 4 개의 C 원자를 갖는 퍼플루오로알킬기에 의해 단- 또는 이치환된 페닐 (퍼플루오로알킬기는 서로 독립적으로 선택됨) 을 나타내고, a 는 1 이고, x 는 1, 2 또는 3 이고, y 는 0, 1 또는 2 이고, 및 x+y 는 3 임]. - 화학식 III 의 화합물 또는 제 11 항에 따른 화합물 또는 제 12 항에 따른 전해질을 함유하는 전기화학전지:
Ma + [B(Rf)(CN)x(F)y]a - I,
[식 중, Ma + 는 리튬, 칼륨, 나트륨, 세슘 또는 루비듐염이고,
Rf 는 1 내지 4 개의 C 원자를 갖는 선형 또는 분지형 과불소화된 알킬기, C6F5, C6H5, 부분적으로 불소화된 페닐, 또는 1 내지 4 개의 C 원자를 갖는 퍼플루오로알킬기에 의해 단- 또는 이치환된 페닐 (퍼플루오로알킬기는 서로 독립적으로 선택됨) 을 나타내고, a 는 1 이고, x 는 1, 2 또는 3 이고, y 는 0, 1 또는 2 이고, 및 x+y 는 3 임]. - 제 13 항에 있어서, 리튬 이온 배터리, 리튬 이온 커패시터 또는 리튬 배터리인 것을 특징으로 하는 전기화학전지.
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| EP10000427.4 | 2010-01-18 | ||
| EP10000427 | 2010-01-18 | ||
| PCT/EP2011/000090 WO2011085966A1 (de) | 2010-01-18 | 2011-01-12 | Verfahren zur herstellung von perfluoralkylcyano- oder perfluoralkylcyanofluorboraten |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR20120131160A true KR20120131160A (ko) | 2012-12-04 |
Family
ID=43608877
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1020127021544A KR20120131160A (ko) | 2010-01-18 | 2011-01-12 | 퍼플루오로알킬시아노? 또는 퍼플루오로알킬시아노플루오로보레이트의 제조방법 |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (2) | US8927757B2 (ko) |
| EP (1) | EP2526107A1 (ko) |
| JP (1) | JP5810097B2 (ko) |
| KR (1) | KR20120131160A (ko) |
| CN (1) | CN102712661B (ko) |
| WO (1) | WO2011085966A1 (ko) |
Families Citing this family (21)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE102008021271A1 (de) | 2008-04-29 | 2010-01-28 | Merck Patent Gmbh | Reaktive ionische Flüssigkeiten |
| CN102712659B (zh) * | 2010-01-18 | 2015-09-30 | 默克专利有限公司 | 电解质配制剂 |
| US9058935B2 (en) * | 2011-07-15 | 2015-06-16 | Merc Patent Gmbh | Compounds containing alkyl-cyano-borate or alkyl-cyano-fluoroborate anions |
| DE102013009959A1 (de) | 2013-06-14 | 2014-12-31 | Julius-Maximilians-Universität Würzburg | Verfahren zur Herstellung von Salzen mit Hydridocyanoborat-Anionen |
| CN109755044A (zh) * | 2013-07-12 | 2019-05-14 | Ioxus公司 | 用于电化学装置的稳定性增强添加剂 |
| DE102013013502A1 (de) | 2013-08-16 | 2015-03-12 | Julius-Maximilians-Universität Würzburg | Hexacyanodiborate |
| JP6692014B2 (ja) * | 2013-12-13 | 2020-05-13 | 日本化薬株式会社 | イオン液体を含む光波長変換要素およびその光波長変換要素を含む物品 |
| DE102013021029A1 (de) | 2013-12-17 | 2015-07-02 | Julius-Maximilians-Universität Würzburg | Kobaltkomplexsalze |
| DE102014008130A1 (de) | 2014-06-06 | 2015-12-17 | Julius-Maximilians-Universität Würzburg | Verfahren zur Herstellung von Tetracyanoboratsalzen |
| DE102014011089A1 (de) | 2014-07-30 | 2016-02-04 | Julius-Maximilians-Universität Würzburg | Verfahren zur Herstellung von Salzen mit Hydridocyanoborat-Anionen |
| JP6050290B2 (ja) * | 2014-08-06 | 2016-12-21 | トヨタ自動車株式会社 | フッ化物イオン電池用電解液およびフッ化物イオン電池 |
| DE102014014967A1 (de) | 2014-10-14 | 2016-04-14 | Julius-Maximilians-Universität Würzburg | Verfahren zur Herstellung von Verbindungen mit Monofluorotricyanoborat-Anionen |
| DE102014016583A1 (de) | 2014-11-11 | 2016-05-12 | Julius-Maximilians-Universität Würzburg | Verfahren zur Herstellung von Perfluoralkylfluoroboratsalzen |
| DE102014016681A1 (de) | 2014-11-12 | 2016-05-12 | Julius-Maximilians-Universität Würzburg | Verfahren zur Herstellung von Salzen mit Hydridocyanoborat-Anionen |
| DE102015006493A1 (de) | 2015-05-22 | 2016-11-24 | Julius-Maximilians-Universität Würzburg | Polymere enthaltend polymerisierte ionische Flüssigkeiten und deren Anwendung in Membranen |
| DE102016001344A1 (de) | 2015-09-10 | 2017-03-16 | Julius-Maximilians-Universität Würzburg | Verfahren zur Herstellung von Kaliummonofluorotricyanoborat |
| DE102015016400A1 (de) | 2015-12-18 | 2017-06-22 | Julius-Maximilians-Universität Würzburg | Verfahren zur Herstellung von Salzen mit Perfluoralkyltricyanoboratanionen oder Tetracyanoboratanionen |
| DE102016009846A1 (de) | 2016-08-16 | 2018-02-22 | Julius-Maximilians-Universität Würzburg | Fluoralkylhydrido- und Fluoralkylcyanohydridoborate |
| DE102016010488A1 (de) | 2016-08-30 | 2018-03-01 | Julius-Maximilians-Universität Würzburg | Verbindungen mit ein-, bis- und mehrfach geladenen schwach koordinierenden Anionen |
| JP2021141101A (ja) * | 2020-03-02 | 2021-09-16 | 日清紡ホールディングス株式会社 | 蓄電デバイス用電解液およびイオン液体 |
| CN114181240B (zh) * | 2021-12-28 | 2023-09-22 | 山东海科创新研究院有限公司 | 一种双草酸硼酸锂的制备方法 |
Family Cites Families (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE10216996A1 (de) | 2002-04-16 | 2003-10-30 | Merck Patent Gmbh | Verfahren zur Perfluoralkylierung mittels Tris(perfluoralkyl)phosphinoxiden |
| DE10216998A1 (de) | 2002-04-18 | 2003-11-13 | Merck Patent Gmbh | Verfahren zur Herstellung von Perfluoralkylphosphinen und deren Verwendung als Perfluoralkylierungsreagenzien |
| DE10306617A1 (de) | 2003-02-14 | 2004-08-26 | Merck Patent Gmbh | Salze mit Cyanoborat-Anionen |
| DE102004051278A1 (de) * | 2004-10-21 | 2006-04-27 | Merck Patent Gmbh | Neue borhaltige starke Säuren, deren Herstellung und Verwendung |
| JPWO2008102661A1 (ja) | 2007-02-03 | 2010-05-27 | 東洋化成工業株式会社 | トリアルキルシリルニトリルの製造方法 |
| CN101232080B (zh) | 2007-12-29 | 2012-11-07 | 中国科学院长春应用化学研究所 | 共熔室温离子液体及其制法和应用 |
| CN102712659B (zh) * | 2010-01-18 | 2015-09-30 | 默克专利有限公司 | 电解质配制剂 |
-
2011
- 2011-01-12 WO PCT/EP2011/000090 patent/WO2011085966A1/de active Application Filing
- 2011-01-12 EP EP11700796A patent/EP2526107A1/de not_active Withdrawn
- 2011-01-12 CN CN201180006410.1A patent/CN102712661B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2011-01-12 JP JP2012548373A patent/JP5810097B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2011-01-12 KR KR1020127021544A patent/KR20120131160A/ko not_active Application Discontinuation
- 2011-01-12 US US13/522,526 patent/US8927757B2/en not_active Expired - Fee Related
-
2014
- 2014-11-18 US US14/546,661 patent/US9175021B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP5810097B2 (ja) | 2015-11-11 |
| CN102712661B (zh) | 2016-02-17 |
| US20150166588A1 (en) | 2015-06-18 |
| US8927757B2 (en) | 2015-01-06 |
| EP2526107A1 (de) | 2012-11-28 |
| US20120309981A1 (en) | 2012-12-06 |
| JP2013517231A (ja) | 2013-05-16 |
| US9175021B2 (en) | 2015-11-03 |
| RU2012135091A (ru) | 2014-02-27 |
| WO2011085966A1 (de) | 2011-07-21 |
| CN102712661A (zh) | 2012-10-03 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| WITN | Application deemed withdrawn, e.g. because no request for examination was filed or no examination fee was paid |