KR20120112795A - 저준위 레이저 치료 또는 다른 광원 치료를 위한 스캐닝 메커니즘 및 처리 방법 - Google Patents

Abstract

본 발명에 의하면, 치료 영역 위에 원하는 에너지 분배를 생성하기 위해 저준위 레이저와 같은 광원을 스캔하는 스캐닝 메카니즘이 제공된다. 광원은 각자 다른 파장과 각자 다른 에너지 분배를 갖는 다수의 빛 광선 생성기들을 포함할 수 있다. 스캐닝 메카니즘은 원하는 치료에 따라 다른 패턴들을 스캔하기 위해 프로그램될 수 있다.

Description

저준위 레이저 치료 또는 다른 광원 치료를 위한 스캐닝 메커니즘 및 처리 방법{Scanning Mechanism and Treatment Method for LLLT or other Light Source Therapy}

본 발명은 일반적으로 저준위 레이저 치료기에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 저준위 레이저 치료 장치의 사용을 위한 메카니컬 스캐닝 장치에 관한 것이다.

본 명세서는 미국 특허법 §119조에 따라, 저준위 레이저 치료 또는 다른 광원 치료를 위한 스캐닝 메커니즘 및 처치 방법의 명칭으로 2010년 1월 14일에 출원 미국 가출원 61/295,051호의 우선권을 주장한다.

사람이나 동물들을 치료하는데 빛을 사용하는 것은 잘 알려졌다. 선사시대 이래로 사람들은 병의 치료를 돕는데 태양으로부터의 빛을 사용해왔다. 20세기 중반에는 제2차 세계대전에서 부상당한 병사들을 치료하기 위해 집중된 빛을 사용하는 시도들이 있었다.

더 최근에는, 통증을 줄이고, 항염증을 증가시키고, 치료 과정을 증가시키고 피부를 젊게 하기 위한 치료에 레이저의 사용이 나타나고 있다. 자극된 발산의 양자 현상을 근간으로 하는 레이저가 환자들을 치료하기 위한 집중된 빛의 훌륭한 자원을 제공하였다. 레이저는 근본적으로 응집되고 단색의 선택된 강도의 사용을 허용한다. 이는 다양한 병에 대하여 사람들을 치료할 때 효과적인 것으로 밝혀졌다.

저준위 레이저 치료기(LLLT; low-level laser therapy)는 치료목적으로 사용되는 저출력의 레이저에서 방출되는 가시 적외선 또는 근적외선을 응용한 것이다. 현재 여러 종류의 저준위 레이저 치료기 장치가 있으며, 그 종류로는 인체의 작은 부위를 하나의 광원을 이용하여 치료하는 장치, 조금 더 큰 부위를 2개 또는 그 이상의 광원을 이용한 샤워(shower) 장치, 여러 광원을 이용하는 클러스터(cluster) 장치 등이 있으며, 이런 장치들은 서로 다른 파장과 에너지 분포를 가진다. 많은 경우에, 조금 더 넓은 부분의 인체를 치료하기 위한 경우에는 광원에서 발생하는 빔은 여러 각도로 분산되며, 간섭을 유지하지는 않는다.

저준위 레이저 치료 장치 및 다른 광원을 이용한 많은 치료들은 신체의 작은 부분이나 특정 부위에 대한 치료보다는, 좀 더 넓고 큰 범위의 인체 치료에 사용되어야 한다. 일반적으로, 치료사들은 치료 부위를 저준위 레이저 치료 장치, 다른 광원 장치 및 프로브를 손으로 직접 움직인다. 이런 스캔 방법은 빛/에너지가 각각의 치료부위에 적절히 적용되지 않아, 치료부위가 적절히 스캔이 되지 않는 결과를 초래하기도 한다.

본 발명은, 예를 들어, 빛의 분배 또는 다른 에너지가 치료 영역 위에 모든 비슷한 처치를 위해 동일한 방법으로 반복되거나 특정 치료 과정을 위해 개별적으로 디자인될 수 있는 저준위 레이저나 다른 광원 또는 초음파 에너지원 같은 에너지원을 이용하여 영역을 치료할 수 있는 장치 및 방법을 제공한다.

본 발명의 일 실시예에서, 장치는 광원과, 상기 광원에 결합하고 상기 광원에 원하는 동작을 분배하기 위해 적용되는 스캐닝 메커니즘을 포함한다. 상기 스캐닝 메커니즘은 광선(light beam), 또는 특정 치료 부위에 필요한 에너지를 제공하거나 넓은 치료 영역을 커버하기 위해 다수의 선택된 치료 영역들 위에 각각 다른 에너지 분배를 갖는 다른 광원들이나 다른 파장들을 적용하는 빔(beam)들을 회전시키는 전기 모터가 될 수 있다. 광원은 예를 들어, 레이저 다이오드와 같은 레이저를 포함할 수 있다. 다른 실시예에서, 상기 광원은 각 광원이 다른 파장을 갖는 광선을 발생시켜 복합 간섭성 광선을 제공하는 둘 또는 그 이상의 광원들을 포함할 수 있다.

본 발명의 또 다른 실시예는 치료부위에 필요한 에너지 분산 패턴을 미리 결정하여, 치료 부위를 통해 빛 광선을 발생하고 스캐닝할 수 있는 치료 기술을 포함한다는 것이다. 빛 광선을 스캐닝하는 것은 빛 광선을 생산하는 광원을 회전시키는 것과 넓은 범위의 치료부위를 위한 빛 광선이나 광선들을 스캔하기 위한 두 공간으로 빛을 이동하는 것을 포함한다. 다른 실시예에서, 광원은, 다수의 순차적 방사 단위 영역들의 치료 영역에 다수의 단위 영역들 각각에 둘 또는 그 이상의 광선들 각각에 대응하는 에너지 분배를 제공하는 둘 또는 그 이상의 광선들을 제공하는 광원을 스캐닝하는 광원들의 클러스트가 될 수 있다.

본 발명의 다른 실시예에서, 그 안에 형성된 다수의 장착 포인트를 갖는 지지판을 포함한 장치가 제공된다. 지지판은 반강체(semi-rigid plate) 또는 치료 영역의 표면에 미리 결정된 에너지 분배 패턴을 형성하기 위해 장착 포인트들의 선택된 것들에 장착된 다수의 광원 모듈을 갖는 웹이 될 수 있다. 광원 모듈의 배열에 제어 신호들과 전원을 제공하기 위해 컨트롤러와 지지판에 결합된 전원 공급기를 포함한다.

도 1은 본 발명에 따라 처치 영역 위에 원형 에너지 분포를 생성하기 위한 회전 메커니즘의 사시도이다.
도 2는 저준위 레이저 치료기 또는 다른 광원 장치의 선형에너지 분산을 보여주는 그래프이며, 본 발명에 따라 회전 메커니즘을 이용한 본 장치의 선형 에너지 분산이다.
도 3은 본 발명에 따라 서로 다른 파장을 가진 두 개의 광원을 이용한 스캔 메커니즘 사시도이다.
도 4는 본 발명에 따라 저준위 레이저 치료기 또는 다른 광원 장치를 이용한 스캔 메커니즘을 X-Y프로그램을 보여주는 사시도이다.
도 5A, 5B 그리고 5C는 본 발명에 따라 발생할 수 있는 에너지 분산패턴을 보여주는 도식표들이다.
도 6은 본 발명에 따라 처치 영역 위에 필요한 에너지 분산 패턴을 매뉴얼데로 생성할 수 있는 장치의 도식이다.
본 발명의 이러한 실시예들은 이하에서 상세하게 설명될 것이다. 개념들, 기능들 및 이득들이 청구되는 발명, 또는 다른 실시예에서 조합되는 다양한 실시예에서 독립적으로 얻어질 수 있다. 다수의 도면에서 동일한 번호와 동일한 표식은 동일한 구성요소를 나타낸다.

이하의 설명에서 참조는 그것을 구성하는 도면과 함께 이루어지며, 특정한 실시예들을 나타내는 방법으로 설명이 수행된다. 이러한 실시예들은 본 설명을 통해 일반 기술자들이 실행하기에 충분히 상세하게 설명되며, 본 발명의 정신이나 범위로부터 벗어나지 않고 다양한 개시 발명의 변환이 만들어질 수 있으며 다른 실시도 실행될 수 있다. 따라서, 이하의 상세한 설명은 제한적이지 않다.

도 1에서, 본 발명에 따라 치료 영역 위에 원형 에너지 분포를 생성하기 위한 스캐닝 메카니즘이 나타난다. 가요성 암(flexible arm)(101)은 베이스(109)에 그 끝단이 결합된다. 예를 들어, 전기 모터와 같은 스캐닝 메카니즘(103)은 상기 가요성 암(101)의 반대 끝단에 연결되어 상기 암(101)에 의해 지지된다. 몇 실시예에서, 가요성 암(flexible arm)(101)은 전기적 전선을 갖는 가요성 튜브와 파워 케이블(도시되지 않음)이 배선될 수 있다. 공급원(105)는 스캐닝 메카니즘(103)에 연결된다. 스캐닝 메카니즘(103)은 원하는 방법으로 광원(105)에 동작을 수행하도록 적용된다. 예를 들어, 한 실시예에서, 스캐닝 메카니즘(103)은 그 축에 대하여 빛 광선(107)의 축에 대하여 광원(105)을 회전시킨다. 광원(105)은 저준위 레이저 또는 치료될 원하는 영역(111)을 조사하기 위한 빛 광선(107)을 생성하는 다른 적절한 광원이 될 수 있다. 스캐닝 메카니즘(103)은 치료 영역 위로 원하는 에너지 분배를 제공하기 위한 빛 광선(107)에 의해 치료 영역(111)이 스캔되도록 광원(105)를 회전시키거나 아니면 이동시킨다. 이하에서 사용되는, 용어 "광원"은 에너지 광선 또는 저준위 레이저 치료기의 동작동안 치료 영역에 에너지를 제공하는 광선들의 소스를 지정하기 위해 사용된다. 빛 에너지가 본 발명에서 예로 사용될 때, 용어 "광원"은 예를 들어, 초음파 에너지 소스와 같은 적절한 에너지 소스를 참조할 수 있다. 또한, 이하에서 용어 "스캐닝" 또는 "스캔된"은 스피닝(spining), 회전(rotating), 진동(vibrating), 슬라이딩(sliding), 발진(oscillating) 및 유사한 것과 같은 모든 동작을 포함하는 것으로 사용된다.

한 실시예에서, 광원(105)은 광원(105)에 적용된 레이저 다이오드로부터 렌즈(도시되지 않음)에 의해 직접적으로 같은 방향으로 시준되는 확장된 단색 간섭성의 레이저 광선(107)의 출력을 제공하는 저준위 레이저를 포함한다. 저준위 레이저 치료 장치의 효과는 레이저 빛의 파장의 특정화된 설정에 제한되어 나타난다. 비록 연구가 이러한 영역 바깥의 몇 파장들이 유용한 것을 나타내더라도 일반적인 파장은 범위 600 내지 1000 나노미터(적외선에 가까운 적색)이다. 저준위 레이저 치료기에 사용되는 일반적인 레이저 평균 출력은 1 내지 500 밀리와트(㎽)의 범위 내에 있다. 1 내지 100 와트(W) 범위의 몇 고출력 레이저들이 사용될 수 있으며, 짧은 펄스 폭이 치료 영역에 출력을 제한다. 일반적인 평균 광선 방사는 평방 10 밀리와트(㎽/㎠) 내지 평방 5 와트(W/㎠)이다. 일반적으로 평균적인 레이저 다이오드 광선은 그 넓이를 따라 약 5 내지 7 도(°) 및 길이를 따라 약 30 내지 40 도(°)의 분산을 갖는다. 일반적으로, 렌즈는 광선을 좁은 광선에 맞추기 위해 사용된다. 본 발명의 다른 실시예에서, 확장된 광선(107)의 결과는 저준위 레이저 치료기를 사용하기 위한 레이저 다이오드 발산을 위해 적용되는 기본적으로 공통 위상 내의 빛 광선을 갖는 기본적으로 간섭성의 빛이다. 몇 실시예에서, 광원(105)은 가시적 적외선 광선일 수 있는 단색 레이저 광선(107)을 제공한다. 몇 실시예에서, 레이저 광선(107)의 파장은 800 내지 900 나노미터(㎚)가 될 수 있다. 다른 형태로, 이하에서 참조로 사용되는 미국 특허 출원 번호 2009년 8월 4일 "손에 들 수 있는 저준위 레이저 치료 장치"로 출원된 12/534,878호는 예를 들어 가로 3 내지 6 센티미터, 세로 0.5 내지 1 센티의 넓은 영역을 치료하려고 일 방향으로 확장된 광선을 형성하는 렌즈(도시되지 않음)를 사용하는 것을 설명한다.

몇 가지 실시예에서, 단색 레이저 광선(107)은 눈에 보이지 않는 광선과, 가시광선 예를 들어, LED(도시되지 않음)가 눈에 보이지 않는 레이저 광선(107)에 결합하기 위해 보충적으로 가시 광선을 제공하는 광원(105)에 결합할 수 있다. 몇 실시예에서, 가시 광선은 눈에 보이지 않는 레이저 광선과 함께 동시에 발생할 수 있거나, 가시 광선이 레이저 광선(107)을 둘러싸는 영역을 조사할 수 있다.

몇 가지 실시예에서, 광원(105)은 그룹 또는 예를 들어, 레이저들과 같은 둘 또는 그 이상의 광원들의 클러스터가 될 수 있다. 이러한 각 광원은 클러스터에서 다른 광원들과 분리되어 독립적일 수 있다. 각 광원은 다른 파장에서 분리된 빛의 광선을 발생하고, 클러스터에서 다른 광원들 각각보다 크거나 작은 출력의 광선을 제공할 수 있다. 스캐닝 메카니즘(103)은 어떤 주어진 시간에 원하는 에너지 분배를 제공할 수 있는 다른 파장과 출력을 가지는 에너지 광선으로 치료 영역의 각 특정 단위 영역을 조사하는 광원(105) 클러스터를 분당 2회전과 같이 천천히 회전시키는 전기 모터가 될 수 있다. 치료 영역의 각 특정 단위 영역은 클러스터의 회전 비율의 기능으로 주어진 시간 주기 동안 발생한 에너지 광선들이 차례로 조사된다.

도 2를 참조하면, 저준위 레이저 치료기 또는 다른 광원 장치의 선형에너지 분산을 보여주는 그래프이며, 본 발명에 따라 회전 메커니즘을 이용한 본 장치의 선형 에너지 분산이 나타난다. 곡선(201)은 회전하지 않을 때, 빛 광선(107)의 긴 영역을 따라 빛 광선의 치료 영역을 넘어서는 에너지 분배를 나타낸다. 모터(103)를 사용하여, 빛 광선(107)이 회전하는 중일 때, 곡선(203)은 회전하는 빛 광선(107)에 의해 치료 영역(111) 위에 발생하는 에너지 분배를 나타낸다. 빛 광선(107)의 회전은 치료 영역(111)을 지나 많은 단일 에너지 분배를 발생한다.

도 3을 참조하면, 본 발명에 따라 서로 다른 파장을 가진 두 개의 광원을 이용한 스캔 메커니즘이 나타난다. 광원 모듈(303)은 모터(301)에 연결된다. 모터(301)는 원하는 치료 영역(315)을 스캔하기 위해 원하는 방법으로 규칙적으로 광원 모듈(303)에 동작을 제공하기 위해 적용된다. 예를 들어, 모터(301)는 곡선(203)에 의해 도시된 것과 비슷하게 에너지 분배를 갖는 치료 영역(315)을 조사하기 위해 빛 광선(311)의 축에 대하여 광원 모듈(303)을 회전시킬 수 있다. 다른 파장들의 둘 또는 그 이상의 광원들(305, 307)이 광원 모듈(303)의 몸체에 장착된다. 광원들(305, 307)은 각각 다른 파장을 갖는 레이저 광선(306, 308)을 생성하는 예를 들어, 레이저 다이오드와 같은 레이저가 될 수 있으며, 예를 들어, 광원 모듈(303)은 635 나노미터(㎚)의 파장을 갖는 광선을 발산하는 하나의 레이저(305)와 808 나노미터(㎚)의 파장을 갖는 광선을 발산하는 제2 레이저(307)를 결합할 수 있다. 러한 레이저들(305, 307) 둘 다 밝은 적색인 빛 광선을 발산할 것이지만, 그것들이 적외선 영역의 근처에 있기 때문에, 그것들의 빛은 거의 보이지 않을 것이다. 두 레이저 광선(306, 308)들은 예를 들어,이색 빔 스플리터, 이색 프리즘 또는 반 회색 거울과 같은 출력 커플러(309)에 유도된다. 출력 커플러(309)는 두 파장의 빛을 포함하는 빔(311)을 제공하기 위해 두 레이저 광선(306, 308)을 합친다. 한 실시예에서, 레이저들(305, 307)은 빛이 어떤 주어진 시간에서 단지 하나의 파장일 수 있게 각각 진동할 수 있다. 다른 형태로, 레이저들(305, 307)은 빛이 어떤 주어진 시간에서 동일한 파장일 수 있게 동시에 진동할 수 있다.

도 4를 참조하면, 본 발명에 따라 저준위 레이저 치료기 또는 다른 광원 장치를 이용한 X-Y프로그램 가능한 스캔 메커니즘이 나타난다. X-Y 스캐닝 메카니즘(400)은 베이스 바(base bar) 또는 레일(rail)(401) 및 상기 베이스 레일(401)에 가로질러 위치하는 암(arm)(405)을 포함한다. 암(405)은 이동가능한 마운트(mount)(403)에 의해 베이스 레일(401)에 이동가능하게 장착된다. 암(405)은 모터 또는 이동 가능한 마운트(403) 내에 결합된 다른 수단(도시되지 않음)에 의해 예를 들어, 슬라이딩과 같은 것에 의해, 베이스 레일(401)을 따라 앞,뒤로 이동한다. 광원 모듈(413)은 이동 가능한 마운트(407)에 의해 암(405)에 이동가능하게 장착된다. 유사하게, 광원 모듈(413)은 모터 또는 이동 가능한 마운트(403) 내에 결합된 다른 수단(도시되지 않음)에 의해 예를 들어, 슬라이딩과 같은 것에 의해, 암(405)을 따라 앞,뒤로 이동한다. X-Y 스캐너(400)는 연속적 벡터 그래픽을 정의하거나 그리기 위해 동작의 두 축("X" 및 "Y")들에서 동작하는 X-Y 플로터에 유사한 것이다. 암(405)이 "X" 축일 때, 베이스 레일(401)은 "Y" 축으로 다루어진다. 이미 알려진 바와 같이, X-Y 스캐너(400)는 미리 결정된 거리에서 치료 영역을 조사하기 위해 치료 영역(411) 위에 원하는 패턴에 광원 모듈(105)을 이동시키기 위해 이동 가능한 마운트들(403, 407) 내에 결합되는 모터 또는 다른 수단들에 계속 위치 명령들을 제공하기 위해 프로그램된 컴퓨터에 의해 자동으로 동작할 수 있다. 프레임(409)은 치료 영역(411)을 정의하는 베이스 레일(401)에 결합한다.

위에서 언급한 바와 같이, 광원 모듈(413)은 빛 광선(415)을 제공하기 위해 하나 또는 그 이상의 레이저들(도시되지 않음)과 같은 하나 또는 그 이상의 광원들을 결합할 수 있다. 한 실시예에서, 광원 모듈(415)은 635 나노미터(㎚)의 파장을 갖는 광선을 발산하는 제1 레이저(305)와 808 나노미터(㎚)의 파장을 갖는 광선을 발산하는 제2 레이저를 결합할 수 있다. 광원 모듈(413)은 두 파장을 갖는 빛 에너지를 포함하는 빛 광선(415)을 발생한다. 다른 실시예에서, 종래에 알려진 바와 같이, 광원 모듈(413)은 다른 파장들을 갖는 클러스터 내에 장착된 셋 또는 그 이상의 레이저들을 결합할 수 있다. 다른 실시예에서, 광원 모듈(413)은 크거나 작은 수의 빛 광선들을 발생할 수 있다.

도 5를 참조하면, 본 발명에 따라 발생할 수 있는 에너지 분산패턴을 보여주는 그래프 세트를 나타낸다. 스캐닝 메카니즘(400)에 장착된 광원 모듈(413)을 사용하여, 광원(415)은 광선에 결합된 파장들 중의 하나로 치료 영역(411)의 표면에서 넓고 다양한 원하는 에너지 분배 패턴을 생성할 수 있다. 곡선(510)은 치료 영역(411)의 각 영역에 예상적으로 동등한 에너지를 제공하는 분배를 나타낸다. 곡선(520)은 긴 상처나 흉터와 같은 넓은 영역의 치료를 위한 에너지 분배를 나타낸다. 곡선(530)은 치료 영역(411)에서 원형 에너지 분배를 나타낸다.

도 6을 참조하면, 본 발명에 따라 처치 영역 위에 필요한 에너지 분산 패턴을 매뉴얼대로 생성할 수 있는 장치의 도식이 나타난다. 다른 실시예에서, 장치(600)는 치료 영역(도시되지 않음) 위에 원하는 에너지 분배 패턴을 제공하기 위해 배열된 예를 들어 저준위 레이저와 같은 원하는 또는 관습적인 광원을 사용자가 디자인하거나 생성할 수 있도록 한다. 광원의 배열은 특정 질병을 치료하기 위해 환자의 분석 중에 관습적 배열로 디자인된 배열로서 또는 표준적인 저준위 레이저 치료 과정의 일부로서 미리 결정될 수 있다. 가요성인, 예를 들어 반강체(semi-rigid) 벨트 또는 웹과 같은, 지지판(601)은 광원들의 원하는 배열을 형성하기 위해 하나 또는 그 이상의 장착 포인트들(603)에 하나 또는 그 이상의 광원 모듈들(도시되지 않음)의 장착을 가능하게 하는 장착 포인트들(603)의 배열을 포함한다. 배열에서의 각 광원들(503)은 치료 영역의 표면에 원하는 에너지 분배 패턴을 형성하기 위해 평행하고, 간섭성의 빛 광선들을 제공하는 광학제품을 포함한다. 장착 포인트들(603)은 지지판(601)에 형성된 슬롯들 또는 원형 구멍들, 또는 장착 포인트들(603)에서 지지판(601)에 결합된 예를 들어, 장착 브라켓들, 또는 적절한 장착 장치들이 될 수 있다. 지지판(601)의 프레임(605)은 광원 모듈들 배열의 제어와 전원을 제공하기 위해 전기적 전선, 연결 및 다른 지원 회로를 포함한다. 지지판(601)이 평평하고 사각 판으로 나타날 때, 지지판(601)은 예를 들어 원형 또는 정사각형과 같은 다른 모양과 구성 또한 가질 수 있고, 치료 영역 위에 원하는 에너지 분배 패턴을 얻기 위해 휘어질 수도 있다. 컨트롤러와 전원 공급 모듈(607)은 케이블링(609)을 통해 광원 모듈들 배열에 전원과 제어신호들을 제공한다.

광원 배열들을 구성하기 위해 사용된 광원 모듈들은 빛 광선을 발생하기 위해 예를 들어 다이오드 레이저들과 같은 레이저들을 사용할 수 있다. 몇 실시예에서, 광원 모듈은 단색 레이저 광선을 제공할 것이다. 다른 실시예에서, 광원 모듈(105)은 다른 파장을 갖는 빛 광선을 각각 생성하는 둘 또는 그 이상의 레이저들을 결합할 수 있다. 한 실시예에서, 각 광원 모듈은 한 쌍의 레이저들을 결합하고, 제1 레이저는 635 나노미터(㎚)의 파장을 갖는 광선을 발산하고, 제2 레이저는 808 나노미터(㎚)의 파장을 갖는 광선을 발산한다. 다른 실시예에서, 광원 모듈은 레이저에 의해 생성된 레이저 광선이 넓은 영역, 예를 들어 치료 영역의 표면에서 가로 3 내지 6 센티미터, 세로 0.5 내지 1 센티의 영역을 치료하려고 일 방향으로 확장된 광선을 형성하는 렌즈를 사용함으로써 형성되는 레이저를 포함한다.

지지판(601)은 치료 영역 위에 원하는 에너지 분배 패턴을 제공하기 위해 치료 영역에 상대적인 위치의 광원 모듈 배열을 유지하는 지지 구조(도시되지 않음)에 장착될 수 있다. 다른 형태로, 지지판(601)은 위에서 언급한 스캐닝 메카니즘(100)과 같은 스캐닝 메카니즘에 장착될 수 있다. 비슷하게, 지지판(601)은 위에서 언급한 X-Y 스캐너 메카니즘(400) 내에 이동가능한 마운트(407)에 장착될 수 있다.

다른 실시예에서, 지지판(601)은 광원 모듈들의 배열을 형성하는 장착 포인트들(603)의 각각에 장착되는 광원 모듈을 포함한다. 컨트롤러와 전원 공급 모듈(607)은 케이블링(609)을 통해 광원 모듈들 배열에 전원과 제어신호를 제공한다. 컨트롤러(607)는 치료 영역 위에 미리 결정된 에너지 분배 패턴들을 제공하기 위해 광원들의 선택된 것들을 온 또는 오프 스위칭할 수 있도록 프로그램된다.

본 발명의 방법들과 장치들이 다양한 실시예의 용어들에서 설명되었다. 이러한 실시예들은 본 설명을 통해 일반 기술자들이 실행하기에 충분히 상세하게 설명되며, 본 발명의 정신이나 범위로부터 벗어나지 않고 다양한 개시 발명의 변환이 만들어질 수 있으며 다른 실시도 실행될 수 있다. 본 발명이 특정의 바람직한 실시예를 설명하고 있지만, 다른 실시예들이 관련 분야의 일반적 기술자에게 분명하고, 실시예를 포함하여 이상에서 제공하지 않은 모든 개념들 또한 본 발명의 범주 내에 있다.

Claims (27)

1. 광원; 및
   상기 광원에 장착되어 원하는 동작을 구현하기 위해 적용되는 스캐닝 메카니즘
   을 포함하는 장치.
   
2. 제1항에 있어서, 상기 원하는 동작은 광원의 회전을 포함하는 장치.
   
3. 제1항에 있어서, 상기 광원은 레이저(laser)를 포함하는 장치.
   
4. 제1항에 있어서, 상기 광원은 각 광원이 다른 파장을 갖는 빛 광선을 발생하는 2 또는 그 이상의 광원을 포함하는 장치.
   
5. 제4항에 있어서, 상기 광원은 간섭성의 빛 광선들을 발생하는 장치.
   
6. 제1항에 있어서, 상기 스캐닝 메카니즘은 X-Y 스캐너를 포함하는 장치.
   
7. 제6항에 있어서, 상기 스캐닝 메카니즘은 원하는 치료 과정에 따라 치료 영역의 표면에 대해 원하는 에너지 분배 패턴으로 제공하기 위해 다른 패턴들의 광원을 이동하도록 프로그램될 수 있는 장치.
   
8. 제6항에 있어서, 상기 스캐닝 메카니즘은 광원을 회전하도록 프로그램되어 있는 장치.
   
9. 제1항에 있어서, 상기 스캐닝 메카니즘은 전기 모터를 포함하는 장치.
   
10. 빛 광선을 발생하는 단계; 및
    치료 영역에 원하는 에너지 분배 패턴을 제공하기 위해 미리 결정된 패턴의 치료 영역을 건너 빛 광선을 스캐닝하는 단계
    를 포함하여 이루어지는 처리 방법.
    
11. 제10항에 있어서, 상기 빛 광선을 스캐닝하는 단계는 빛 광선을 회전하는 단계를 포함하는 처리 방법.
    
12. 제10항에 있어서, 상기 빛 광선을 스캐닝하는 단계는 상기 빛 광선을 두 공간으로 이동하는 단계를 포함하는 처리 방법.
    
13. 제10항에 있어서, 상기 빛 광선은 광원에 의해 발생하는 처리 방법.
    
14. 제13항에 있어서, 상기 광원은 레이저를 포함하는 처리 방법.
    
15. 제13항에 있어서, 상기 광원은 각 광원이 다른 파장을 갖는 빛 광선을 발생하는 2 또는 그 이상의 광원을 포함하는 처리 방법.
    
16. 제15항에 있어서, 다수의 단위 영역들 각각에 2 또는 그 이상의 빛 광선들의 각각에 대응하는 에너지 분배를 제공하기 위해 치료 영역의 다수의 단위 영역들에 2 또는 그 이상의 빛 광선들로 순차적으로 조사하기 위해 광원을 스캐닝하는 단계를 더욱 포함하는 처리 방법.
    
17. 제13항에 있어서, 광원은 광원들의 클러스터(cluster)를 포함하는 처리 방법.
    
18. 제15항에 있어서, 상기 광원은 간섭성의 빛 광선들을 발생하는 처리 방법.
    
19. 지지판;
    상기 지지판에 형성되는 다수의 장착 포인트들; 및
    하나 또는 그 이상의 상기 장착 포인트들에서 상기 지지판 위에 장착된 적어도 하나의 광원 모듈
    을 포함하여 이루어지는 장치.
    
20. 제19항에 있어서, 상기 장착 포인트들은 상기 지지판에 형성된 슬롯(slot)들을 포함하는 장치.
    
21. 제19항에 있어서, 미리 정해진 패턴으로 하나 또는 그 이상의 장착 포인트들에 상기 지지판 위에 장착되는 다수의 광원 모듈을 더욱 포함하는 장치.
    
22. 제21항에 있어서, 광원 모듈의 배열에 제어신호와 전원을 제공하기 위해 컨트롤러와 지지판에 연결된 전원 공급 모듈을 더욱 포함하는 장치.
    
23. 제19항에 있어서, 컨트롤러와 지지판에 연결된 전원 공급 모듈을 더욱 포함하는 장치.
    
24. 제19항에 있어서, 상기 지지판은 반강체 판(semi-rigid plate)을 포함하는 장치.
    
25. 제19항에 있어서, 상기 각 장착 포인트들에 장착된 광원을 더욱 포함하는 장치.
    
26. 제25항에 있어서, 광원 모듈의 배열에 제어신호와 전원을 제공하기 위해 컨트롤러와 지지판에 연결된 전원 공급 모듈을 더욱 포함하는 장치.
    
27. 제26항에 있어서, 상기 컨트롤러는 치료 영역 위에 미리 정해진 에너지 분배 패턴들을 제공하기 위해 광원들 중 선택된 것들을 온/오프 스위칭하기 위해 프로그램되어 있는 장치.

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