JPS6141471A - レ−ザ−光線治療器 - Google Patents
レ−ザ−光線治療器Info
- Publication number
- JPS6141471A JPS6141471A JP16358984A JP16358984A JPS6141471A JP S6141471 A JPS6141471 A JP S6141471A JP 16358984 A JP16358984 A JP 16358984A JP 16358984 A JP16358984 A JP 16358984A JP S6141471 A JPS6141471 A JP S6141471A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- laser beam
- laser
- light
- irradiation
- affected area
- Prior art date
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- Granted
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- Laser Surgery Devices (AREA)
- Radiation-Therapy Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
「産業上の利用分野」
この発明は特定波長域のレーザー光線をリウマチ、関節
炎等の患部処照射するとと忙よって治療するレーザー光
線治療器に関するものである。
炎等の患部処照射するとと忙よって治療するレーザー光
線治療器に関するものである。
「従来の技術」
近年、特定の波長域、すなわち赤色可視光域および近赤
外線域に属する光線’ｔ ＩＪウマチ、関節炎等の患部
に照射すると、病状の好転が見・られることが知見され
、この原理を利用した光線治療器が提案されている。従
来知られている光線治療器は、光源を赤外線裸電球また
は炭素アーク光とし、これらの光源からの光線を所定距
離はなした患部に直接照射する構造のものである。
外線域に属する光線’ｔ ＩＪウマチ、関節炎等の患部
に照射すると、病状の好転が見・られることが知見され
、この原理を利用した光線治療器が提案されている。従
来知られている光線治療器は、光源を赤外線裸電球また
は炭素アーク光とし、これらの光源からの光線を所定距
離はなした患部に直接照射する構造のものである。
「発明が解決しようとする問題点」
従来の光線治療器の光源は、赤外線裸電球または炭素ア
ークであり、その発生光線は自然放出光であるため、種
々波長の光線の集りであり、しかも位相の整然とした波
は１０１〜１０１秒程度で、長さにして１ｍ（らいしか
続かず、このような切れ切れの波の集りである。そのた
め、従来の光線治療器には、光源に所定量の電圧を印加
しても、発生する光線中に含まれる治療に好適な波長の
光線量が比較的少なく、シかもその指向性、集束度が低
く、被照射部（患部）に与えるエネルギーも少なく、有
効光線の照射効率が低く、所要の効果を得るためのラン
ニングコストが高いという欠点がある。さらに、この従
来の光線治療器においては、効果的な集光装置が設けら
れていないので、より一層照射効率の低下につながって
いる。
ークであり、その発生光線は自然放出光であるため、種
々波長の光線の集りであり、しかも位相の整然とした波
は１０１〜１０１秒程度で、長さにして１ｍ（らいしか
続かず、このような切れ切れの波の集りである。そのた
め、従来の光線治療器には、光源に所定量の電圧を印加
しても、発生する光線中に含まれる治療に好適な波長の
光線量が比較的少なく、シかもその指向性、集束度が低
く、被照射部（患部）に与えるエネルギーも少なく、有
効光線の照射効率が低く、所要の効果を得るためのラン
ニングコストが高いという欠点がある。さらに、この従
来の光線治療器においては、効果的な集光装置が設けら
れていないので、より一層照射効率の低下につながって
いる。
この発明は上記事情に鑑みてなされたもので、有効光線
の照射効率が高く、かつランニングコストの安価な光線
治療器を提供することを目的とするものである。
の照射効率が高く、かつランニングコストの安価な光線
治療器を提供することを目的とするものである。
ｒ問題点を解決するための手段」
この発明に係るレーザー光線治療器は、照射治療に有効
な赤色可視光域、または赤色可視光域および近赤外線域
の波長のレーザー光線（ビーム）を発するレーザー発生
装置と、このレーザー発生装置からのレーザー光束のビ
ーム径を拡径するビーム・エキスパンダーと、このビー
ム・エキスパンダーによって拡径されたレーザー光束を
被照射部に向けて集束させる集光レンズと、上記レーザ
ー発生装置の出力と照射時間を制御して被照射部に連続
して与えるエネルギーｆ６０ｍＷ／ｍｍ３ないし６０Ｗ
／ｍ−に調整する制御装置とから構成したものである。
な赤色可視光域、または赤色可視光域および近赤外線域
の波長のレーザー光線（ビーム）を発するレーザー発生
装置と、このレーザー発生装置からのレーザー光束のビ
ーム径を拡径するビーム・エキスパンダーと、このビー
ム・エキスパンダーによって拡径されたレーザー光束を
被照射部に向けて集束させる集光レンズと、上記レーザ
ー発生装置の出力と照射時間を制御して被照射部に連続
して与えるエネルギーｆ６０ｍＷ／ｍｍ３ないし６０Ｗ
／ｍ−に調整する制御装置とから構成したものである。
「１作 用」
上記構成によれば、光源がレーザー発生装置であるので
、治療に最適な波長の光線のみを選択的に発生させるこ
とができ、しかもその光束は位相のそろった、いわゆる
コヒーレントなもので、指向性、集束度が高く、その結
果、所定の印加電力に対し、密度の高い、効率的な照射
が可能となる。
、治療に最適な波長の光線のみを選択的に発生させるこ
とができ、しかもその光束は位相のそろった、いわゆる
コヒーレントなもので、指向性、集束度が高く、その結
果、所定の印加電力に対し、密度の高い、効率的な照射
が可能となる。
また、ビーム・エキスパンダーおよび集光レンズの組合
わせにより照射に好適な照度の光束を得ることができ、
照射効率を一層高めることができる。
わせにより照射に好適な照度の光束を得ることができ、
照射効率を一層高めることができる。
しかも制御装置により治療に最適な光エネルギーを患部
に照射することが可能である。
に照射することが可能である。
以下、この発明を実施例によりさらに詳しく説明する。
「実施例」
この実施例のレーザー光線治療器は、図に示すように、
レーザー発生装置１、ビーム・エキスパンダー２、集光
レンズ３、スキャニング装置４および制御装置５とから
構成されている。
レーザー発生装置１、ビーム・エキスパンダー２、集光
レンズ３、スキャニング装置４および制御装置５とから
構成されている。
上記レーザー発生装置１は、赤色可視光域、または赤色
可視光域および近赤外線域にある波長のレーザービーム
を発生することのできる装置である。赤色可視光域のレ
ーザービーム発生源としては、波長０．６３２μｍの赤
色レーザービームを出すＨｅ ： Ｎ ｅガスレーザー
があり、近赤外線域のレーザービーム発生源としては、
波長０．６５〜１、０７１ ｍのレーザービームを出す
Ｉ ｎ Ｇ ａ Ｐや、波長α７〜１．０μｍのレーザ
ービームを出すＡＩＧｉａＡｓなどの半導体レーザーが
ある。発生するレーザービームは赤色可視光域のもので
も、近赤外線域のものでも治療効果があるので、どちら
を使用してもよいが、装置の製造や保守のときに光源が
発振しているかどうかを一目で確認し、調整や位置合せ
を容易にするために近赤外線域のレーザービームを使用
する時には赤色可視光域のレーザービームを同時に使用
することが必要である。なお、先に赤色可視光域のレー
ザービームと近赤外線域のレーザービームとは共に治療
効果があると述べたが、それぞれの治療効果は、疾患の
種類や部位によって互いにある程度の差があることが最
近判明してきている。従って、広範囲の治療効果を得よ
うとする場合は、赤色可視光域のレーザービームと近赤
外線域のレーザービームとを同時に発生できるように装
置を構成する必要がある。
可視光域および近赤外線域にある波長のレーザービーム
を発生することのできる装置である。赤色可視光域のレ
ーザービーム発生源としては、波長０．６３２μｍの赤
色レーザービームを出すＨｅ ： Ｎ ｅガスレーザー
があり、近赤外線域のレーザービーム発生源としては、
波長０．６５〜１、０７１ ｍのレーザービームを出す
Ｉ ｎ Ｇ ａ Ｐや、波長α７〜１．０μｍのレーザ
ービームを出すＡＩＧｉａＡｓなどの半導体レーザーが
ある。発生するレーザービームは赤色可視光域のもので
も、近赤外線域のものでも治療効果があるので、どちら
を使用してもよいが、装置の製造や保守のときに光源が
発振しているかどうかを一目で確認し、調整や位置合せ
を容易にするために近赤外線域のレーザービームを使用
する時には赤色可視光域のレーザービームを同時に使用
することが必要である。なお、先に赤色可視光域のレー
ザービームと近赤外線域のレーザービームとは共に治療
効果があると述べたが、それぞれの治療効果は、疾患の
種類や部位によって互いにある程度の差があることが最
近判明してきている。従って、広範囲の治療効果を得よ
うとする場合は、赤色可視光域のレーザービームと近赤
外線域のレーザービームとを同時に発生できるように装
置を構成する必要がある。
上記ビーム・エキスパンダー２は、治療を目的とする照
射に好適な照度を得るために集光レンズ３によって上記
レーザービームを集光させた場合、発生時のビーム径が
小さいため（Ｈｅ ： Ｎ ｅガスレーザーでは（Ｌ８
３龍〆）、集光スポットが小さくなり過ぎるのを防止す
るためのもので、周知のように焦点距離の異なる２つの
凸レンズを組合せてビーム＠を拡径する装置である。Ｈ
ｅ：Ｎｅガスレーザーの場合のこのビーム・エキスパン
ダー２の拡径率は５〜１０倍としておけば、好適な照度
を得るために集光した後の焦点スポット径をα１〜［Ｌ
Ｄｌｇ、ｇ程度に抑えることができる。
射に好適な照度を得るために集光レンズ３によって上記
レーザービームを集光させた場合、発生時のビーム径が
小さいため（Ｈｅ ： Ｎ ｅガスレーザーでは（Ｌ８
３龍〆）、集光スポットが小さくなり過ぎるのを防止す
るためのもので、周知のように焦点距離の異なる２つの
凸レンズを組合せてビーム＠を拡径する装置である。Ｈ
ｅ：Ｎｅガスレーザーの場合のこのビーム・エキスパン
ダー２の拡径率は５〜１０倍としておけば、好適な照度
を得るために集光した後の焦点スポット径をα１〜［Ｌ
Ｄｌｇ、ｇ程度に抑えることができる。
上記スキャニング装置４は、上記［Ｌ１〜１０１龍ダの
レーザービームを患部に満遍なく照射するためのもので
、照射方向を決定するＹ軸、Ｙ軸をそれぞれ担当する２
つの反射鏡と、これら反射鏡をそれぞれ独立に変位させ
るためのマイクロモータとから構成されており、これら
マイクロモータの駆動制御は制御装置５によって行なわ
れるように構成されている。このスキャニング装置４の
ビーム照射方法は、まず患部の中心にビームの焦点がく
るように距離を設定し、患部の面積に応じて可動範囲を
０〜５０ｍｍｐまで調整し、舗巻状にスキャンすること
により行なう。スキャンスピードは、例えば１〜５０
Ｈｚで可変とし、照射時間は疾患の種類、部位等に応じ
て１秒ないし３０分の範囲で調整可能とする。
レーザービームを患部に満遍なく照射するためのもので
、照射方向を決定するＹ軸、Ｙ軸をそれぞれ担当する２
つの反射鏡と、これら反射鏡をそれぞれ独立に変位させ
るためのマイクロモータとから構成されており、これら
マイクロモータの駆動制御は制御装置５によって行なわ
れるように構成されている。このスキャニング装置４の
ビーム照射方法は、まず患部の中心にビームの焦点がく
るように距離を設定し、患部の面積に応じて可動範囲を
０〜５０ｍｍｐまで調整し、舗巻状にスキャンすること
により行なう。スキャンスピードは、例えば１〜５０
Ｈｚで可変とし、照射時間は疾患の種類、部位等に応じ
て１秒ないし３０分の範囲で調整可能とする。
上記制御装置５は光源の出力（ｍＷ）および発振時間（
照射時間）の制御と、上記スキャニング装置４の駆動を
制御するもので、患部への連続照射エネルギーが６ ｏ
ｍＷ／ｍＪ 〜６０ Ｗ／ｍｔｉｌとなるようにプロ
グラムが組まれてなるものである。この６０ｍＷ／ｍｒ
ＰＩ〜６ＤＷ／ｍ［ｌｌという照射エネルギー値は、臨
床実験の結果決定されたもので、良好な治療効果が得ら
れるエネルギー値である。なお、６０ Ｗ ／ ｍ％と
いう上限値は、患者にあつい等の不快感を与えない限界
値である。ここで、発生ビームエネルギーレベルｉｊ、
約２ ｍ Ｗカラ約５０ ｍＷで可変であり、これにビ
ーム径と照射時間のそれぞれを変数として、疾患の種類
、状況、部位に応じて、上記照射エネルギー値を決定す
る。
照射時間）の制御と、上記スキャニング装置４の駆動を
制御するもので、患部への連続照射エネルギーが６ ｏ
ｍＷ／ｍＪ 〜６０ Ｗ／ｍｔｉｌとなるようにプロ
グラムが組まれてなるものである。この６０ｍＷ／ｍｒ
ＰＩ〜６ＤＷ／ｍ［ｌｌという照射エネルギー値は、臨
床実験の結果決定されたもので、良好な治療効果が得ら
れるエネルギー値である。なお、６０ Ｗ ／ ｍ％と
いう上限値は、患者にあつい等の不快感を与えない限界
値である。ここで、発生ビームエネルギーレベルｉｊ、
約２ ｍ Ｗカラ約５０ ｍＷで可変であり、これにビ
ーム径と照射時間のそれぞれを変数として、疾患の種類
、状況、部位に応じて、上記照射エネルギー値を決定す
る。
なお、上記実施例においては、スキャニング装置による
スキャンを渦巻状に行なうようにしたが、ξれは一般に
患部が立体面であることを考慮して構成したものである
。従って、患部が平面に近い場合には従来頻用されてい
る水平スキャン方式により照射するようにしてもよい。
スキャンを渦巻状に行なうようにしたが、ξれは一般に
患部が立体面であることを考慮して構成したものである
。従って、患部が平面に近い場合には従来頻用されてい
る水平スキャン方式により照射するようにしてもよい。
また、上記実施例においては、患部が体表面あるいは体
表面に近い組織である場合を想定して説明したが、患部
が溝膜などの比較的深部の組織である場合は、図に示す
ように集光レンズ３からのビームを光学系ファイバー６
を介して直接患部に導き、照射するように構成するとよ
い。
表面に近い組織である場合を想定して説明したが、患部
が溝膜などの比較的深部の組織である場合は、図に示す
ように集光レンズ３からのビームを光学系ファイバー６
を介して直接患部に導き、照射するように構成するとよ
い。
「効果」
以上説明したように、この発明に係るレーザー光線治療
器によれば、光源がレーザー発生装置であるので、治療
に最適な波長の光線のみを選択的に発生させることがで
き、しかもその光束は位相のそろった、いわゆるコヒー
レントなもので、指向性、集束度が高く、その結果、所
定の印加電力に対し、密度の高い、効率的な照射が可能
となる。
器によれば、光源がレーザー発生装置であるので、治療
に最適な波長の光線のみを選択的に発生させることがで
き、しかもその光束は位相のそろった、いわゆるコヒー
レントなもので、指向性、集束度が高く、その結果、所
定の印加電力に対し、密度の高い、効率的な照射が可能
となる。
また、ビーム・エキスパンダーおよび集光レンズの組合
わせにより照射に好適な照度の光束を得ることができ、
照射効率を一層高めることができる。
わせにより照射に好適な照度の光束を得ることができ、
照射効率を一層高めることができる。
しかも制御装置により治療に最適な光エネルギーを患部
に照射することが可能である。
に照射することが可能である。
図はこの発明の一実施例を示す概略構成図である０
Claims (1)
- 赤色可視光域、または赤色可視光域および近赤外線域の
波長のレーザー光束を発するレーザー発生装置と、この
レーザー発生装置から発せられたレーザー光束を拡径す
るビーム・エキスパンダーと、このビーム・エキスパン
ダーによつて拡径されたレーザー光束を被照射部に向け
て集束させる集光レンズと、上記レーザー発生装置の出
力と照射時間を制御して被照射部に連続して与えるエネ
ルギーを６０ｍＷ／ｍｍ＾３ないし６０Ｗ／ｍｍ＾３に
調整する制御装置とを具備してなるレーザー光線治療器
。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16358984A JPS6141471A (ja) | 1984-08-03 | 1984-08-03 | レ−ザ−光線治療器 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16358984A JPS6141471A (ja) | 1984-08-03 | 1984-08-03 | レ−ザ−光線治療器 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6141471A true JPS6141471A (ja) | 1986-02-27 |
| JPH0356748B2 JPH0356748B2 (ja) | 1991-08-29 |
Family
ID=15776786
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16358984A Granted JPS6141471A (ja) | 1984-08-03 | 1984-08-03 | レ−ザ−光線治療器 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6141471A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH05293189A (ja) * | 1992-04-23 | 1993-11-09 | Kogaku Denshi Kk | レーザ光を用いた刺激方法およびその装置 |
| JP2013517037A (ja) * | 2010-01-14 | 2013-05-16 | ミハエル・シュローサー | Ｌｌｌｔまたは他の光源治療のためのスキャニング機構および治療方法 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS52152684A (en) * | 1976-06-12 | 1977-12-19 | Oshiro Toshio | Method and device for irradiating curing laser light ray |
| JPS5552766A (en) * | 1978-10-13 | 1980-04-17 | Fuji Photo Optical Co Ltd | Photoostimulus treatment device |
| JPS57139329A (en) * | 1981-02-25 | 1982-08-28 | Osada Electric | Laser handpiece with sensor apparatus |
-
1984
- 1984-08-03 JP JP16358984A patent/JPS6141471A/ja active Granted
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS52152684A (en) * | 1976-06-12 | 1977-12-19 | Oshiro Toshio | Method and device for irradiating curing laser light ray |
| JPS5552766A (en) * | 1978-10-13 | 1980-04-17 | Fuji Photo Optical Co Ltd | Photoostimulus treatment device |
| JPS57139329A (en) * | 1981-02-25 | 1982-08-28 | Osada Electric | Laser handpiece with sensor apparatus |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH05293189A (ja) * | 1992-04-23 | 1993-11-09 | Kogaku Denshi Kk | レーザ光を用いた刺激方法およびその装置 |
| JP2013517037A (ja) * | 2010-01-14 | 2013-05-16 | ミハエル・シュローサー | Ｌｌｌｔまたは他の光源治療のためのスキャニング機構および治療方法 |
| US10898723B2 (en) | 2010-01-14 | 2021-01-26 | Michael Schlosser | Scanning mechanism and treatment method for LLLT or other light source therapy device |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0356748B2 (ja) | 1991-08-29 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |