KR20110017762A - Emboss roll and manufacturing method thereof, and method for manufacturing decoration sheet using emboss roll - Google Patents

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Abstract

PURPOSE: A compression and dehydration apparatus of a livestock excretion, an emboss roll manufacturing method and a decoration sheet manufacturing method using the emboss roll are provided to supply the decoration sheet having soft texture. CONSTITUTION: A mask pattern is formed in a recess pattern and a block part pattern. A first register photosensitive film is coated on the surface of a roll(S2). A block pattern is removed on the first register photosensitive film. A second register photosensitive film is coated on the recess pattern. The second register photosensitive film removes the surface. A third register photosensitive film is coated on a surface of a first chrome layer.

Description

엠보스 롤, 엠보스 롤 제조 방법, 및 엠보스 롤을 이용한 데코레이션 시트 제조 방법{EMBOSS ROLL AND MANUFACTURING METHOD THEREOF, AND METHOD FOR MANUFACTURING DECORATION SHEET USING EMBOSS ROLL}EMBOSS ROLL AND MANUFACTURING METHOD THEREOF, AND METHOD FOR MANUFACTURING DECORATION SHEET USING EMBOSS ROLL}

본 발명은 엠보스 롤, 엠보스 롤 제조 방법, 및 엠보스 롤을 이용한 데코레이션 시트 제조 방법에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 하나의 엠보스 롤에 엠보스 부위에 따라 상이한 광택을 가지는 엠보스 롤, 및 이를 제조하는 엠보스 롤 제조방법에 관한 것이며, 엠보스 롤을 이용하여 무광 및 유광 처리된 데코레이션 시트를 제조하는 데코레이션 시트 제조 방법에 관한 것이다. The present invention relates to an embossing roll, an embossing roll manufacturing method, and a decoration sheet manufacturing method using the embossing roll. More specifically, an embossing roll having different gloss according to the embossing portion in one embossing roll, And it relates to an embossing roll manufacturing method for manufacturing the same, and relates to a decoration sheet manufacturing method for producing a matte and glossy treated decorative sheet using the embossing roll.

엠보스가 있는 데코레이션 시트는 PVC 또는 올레핀계 수지층 시트에 인쇄를 하여 투명층을 적층하고 표면에 요철이 있는 엠보스를 부여하여 나무, 석재 등과 같이 자연질감과 유사한 효과를 재현하여 제조되는 시트이며, 건축물 내장재, 가구, 가전제품의 표면재 등에 다양하게 이용되고 있다. Decorative sheet with emboss is a sheet made by printing on PVC or olefin resin layer sheet, laminating transparent layers and giving emboss with irregularities on the surface to reproduce effects similar to natural textures such as wood and stone. It is widely used in interior materials, furniture, and surface materials of home appliances.

이때 사용되는 엠보스 패턴은, 나무무늬, 석재무늬, 추상무늬 등이 대표적이며, 엠보스의 무늬에 따라 다양한 질감의 표현이 가능하지만, 나무 무늬와 석재무늬 등의 질감을 재현할 때 광택의 차이를 효과적으로 표현하는 것에 어려움이 있 다. 이에 따라 엠보스 심도를 다르게 하기 위하여 부식심도를 조정하거나 센드블라스트로 조면화하여 광택 차이를 재현하기도 하였으나 오목부에서만 광택차이를 구현하기 어렵고 광택의 차이를 크게 하지 못하는 어려움이 있었다. At this time, the embossed pattern is representative of wood pattern, stone pattern and abstract pattern, and various textures can be expressed according to the embossed pattern, but the difference in luster when reproducing the texture of wood pattern and stone pattern, etc. It is difficult to express effectively. Accordingly, the gloss difference was reproduced by adjusting the depth of corrosion or roughening with sendblast in order to change the emboss depth, but it was difficult to realize the difference in gloss only in the concave portion, and there was a difficulty in not increasing the gloss difference.

오목부에 착색잉크를 충진하여 입체감을 표현하는 와이핑 공법으로 나뭇결 도관부에 잉크를 충진하여 단면의 깊이감, 거칠어진 느낌을 재현할 수 있다고 하지만, 잉크의 색상차이에 의한 도관부의 색상차이만 가능하고 광택의 차이를 구분하는 것에 어려움이 있어 사실적 느낌을 효과적으로 재현하는 것이 어려워 표현이 단조로운 문제점이 있었다. 즉, 기존의 엠보스를 사용하는 데코레이션 시트는 엠보스 부위에 따라 광택의 차이를 표현할 수 없어, 데코레이션 시트 상에 엠보스에 의한 효과로서 원근감이나 입체감을 표현하는 어려움이 있었다.It is a wiping method that fills the concave with colored ink to express the three-dimensional effect, and it is possible to reproduce the depth and roughness of the cross section by filling the wood grain conduit with the ink, but only the color difference of the conduit is possible due to the color difference of the ink. There is a difficulty in distinguishing the difference between the gloss, and it is difficult to effectively reproduce the realistic feeling, which has a monotonous problem of expression. That is, the decoration sheet using the conventional embossing can not express the difference in gloss according to the embossed portion, there was a difficulty in expressing perspective or three-dimensional feeling as an effect of the emboss on the decoration sheet.

따라서, 본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로서, 본 발명의 제 1 목적은, 하나의 엠보스 롤에 오목부 및 볼록부에 따라 상이한 광택을 가진 엠보스 롤을 제조하는 것을 목적으로 한다.Accordingly, the present invention has been made to solve the above problems, the first object of the present invention is to produce an embossing roll having different gloss according to the concave portion and the convex portion in one embossing roll. It is done.

본 발명의 제 2 목적은, 본 발명의 실시예에 따라 제조된 엠보스 롤을 이용하여, 데코레이션 시트에 엠보스 처리를 하여 나무 무늬, 추상 무늬 등의 입체감을 표현하는데 있어, 기존의 시트보다 사실적 질감 및 입체감을 가진 데코레이션 시트를 제공함을 목적으로 한다. The second object of the present invention is to emboss the decoration sheet by using the embossing roll manufactured according to the embodiment of the present invention, and to express the three-dimensional effect such as a tree pattern, an abstract pattern, and the like. An object of the present invention is to provide a decoration sheet having a texture and three-dimensional effect.

본 발명은, (a) 시트상 오목부 패턴과 시트상 볼록부 패턴을 포함하는 마스크 패턴을 형성하는 단계; (b) 롤의 표면에 제 1 레지스터 감광막을 도포하는 단계; (c) 제 1 레지스터 감광막에서 시트상 볼록부 패턴에 대응되는 부분을 제거하는 단계; (d) 제 1 레지스터 감광막이 일부 제거됨으로써 노출된 롤의 표면을 부식액에 의해 부식시켜 오목부를 형성하는 단계; (e) 제 1 레지스터 감광막을 롤의 미부식 표면으로부터 제거하고, 제 2 레지스터 감광막을 미부식 표면 및 오목부에 도포하는 단계; (f) 오목부에 도포된 제 2 레지스터 감광막을 제거하고, 오목부에 제 1 크롬 도금층을 형성하는 단계; (g) 제 2 레지스터 감광막을 미부식 표면으로부터 제거하고, 제 3 레지스터 감광막을 미부식 표면 및 제 1 크롬 도금층의 표면에 도포하는 단계; (h) 미부식 표면에 위치한 제 3 레지스터 감광막을 제거하고, 미부식 표면에 제 1 크롬 도금층과 광택이 상이한 제 2 크롬 도금층을 형성하는 단계; 및 (i) 제 3 레지스터 감광막을 제 1 크롬 도금층으로부터 제거하는 단계를 포함한다. The present invention comprises the steps of: (a) forming a mask pattern comprising a sheet-like concave portion pattern and a sheet-like convex portion pattern; (b) applying a first resist photoresist film to the surface of the roll; (c) removing a portion of the first register photosensitive film corresponding to the sheet-like convex portion pattern; (d) etching the surface of the exposed roll by partially removing the first resist photoresist to form a recess; (e) removing the first resist photoresist film from the uncorrosive surface of the roll and applying the second resist photoresist film to the uncorrosive surface and the concave; (f) removing the second resist photosensitive film applied to the recessed portion, and forming a first chromium plating layer on the recessed portion; (g) removing the second resist photoresist film from the uncorrosive surface and applying a third resist photoresist film to the uncorrosive surface and the surface of the first chromium plating layer; (h) removing the third resist photoresist film located on the uncorrosive surface and forming a second chromium plating layer having a different gloss from the first chromium plating layer on the uncorrosive surface; And (i) removing the third resistor photosensitive film from the first chromium plating layer.

본 발명의 (c) 또는 (f) 단계는, 시트상 오목부 패턴의 위치 정보에 따라 레이저를 조사하여 제 1 또는 제 2 레지스터 감광막을 경화시키는 단계; 및 제 1 또는 제 2 레지스터 감광막 중 레이저가 조사되지 않은 영역이 현상액에 의해 제거하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다. Step (c) or (f) of the present invention comprises the steps of: irradiating a laser according to the positional information of the sheet-like recess pattern to cure the first or second register photoresist film; And removing the area of the first or second register photosensitive film not irradiated with the laser by the developer.

(h) 단계는, 시트상 볼록부 패턴의 위치 정보에 따라 제 3 레지스터 감광막에 레이저를 조사하여 제 3 레지스터 감광막을 경화시키는 단계; 및 3 레지스터 감광막이 레이저가 조사되지 않은 영역에서 현상액에 의해 제거하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.Step (h) comprises irradiating a laser to the third register photosensitive film according to the positional information of the sheet-like convex pattern to cure the third register photosensitive film; And removing the third resist photoresist film by the developer in the region where the laser is not irradiated.

한편, 본 발명은, (a) 시트상 오목부 패턴과 시트상 볼록부 패턴을 포함하는 마스크 패턴을 형성하는 단계; (b) 롤의 표면에 제 1 레지스터 감광막을 도포하는 단계; (c) 제 1 레지스터 감광막에서 시트상 볼록부 패턴에 대응되는 부분을 제거하는 단계; (d) 제 1 레지스터 감광막이 일부 제거됨으로써 노출된 롤의 표면을 부식액에 의해 부식시켜 제 1 오목부를 형성하는 단계; (e) 제 1 레지스터 감광막을 롤의 미부식 표면으로부터 제거하고, 제 2 레지스터 감광막을 미부식 표면 및 제 1 오목부에 도포하는 단계; (f) 제 1 오목부에 위치된 제 2 레지스터 감광막의 일부를 제거하는 단계; (g) 제 2 레지스터 감광막이 일부 제거됨으로써 노출된 제 1 오목부의 표면을 부식액에 의해 부식시켜 제 1 오목부 상에 제 2 오목부를 형성하는 단계; (h) 제 2 레지스터 감광막을 미부식 표면 및 제 1 오목부로부터 제거하고, 제 3 레지스터 감광막을 미부식 표면, 제 1 오목부 및 제 2 오목부에 도포하는 단계; (i) 제 1 및 2 오목부에 도포된 제 3 레지스터 감광막을 제거하고, 제 1 및 2 오목부에 제 1 크롬 도금층을 형성하는 단계; (j) 제 3 레지스터 감광막을 미부식 표면으로부터 제거하고, 제 4 레지스터 감광막을 미부식 표면 및 제 1 크롬 도금층의 표면에 도포하는 단계; (k) 미부식 표면에 위치한 제 4 레지스터 감광막을 제거하고, 미부식 표면에 제 1 크롬 도금층과 광택이 상이한 제 2 크롬 도금층을 형성하는 단계; 및 (l) 제 4 레지스터 감광막을 제 1 크롬 도금층으로부터 제거하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.On the other hand, the present invention, (a) forming a mask pattern including a sheet-like recess pattern and the sheet-like convex pattern; (b) applying a first resist photoresist film to the surface of the roll; (c) removing a portion of the first register photosensitive film corresponding to the sheet-like convex portion pattern; (d) etching the surface of the roll exposed by partial removal of the first resist photoresist film with a corrosion solution to form a first recess; (e) removing the first resist photoresist film from the uncorrosive surface of the roll and applying a second resist photoresist film to the uncorrosive surface and the first recess; (f) removing a portion of the second register photosensitive film located in the first recessed portion; (g) forming a second recessed portion on the first recessed portion by etching the surface of the first recessed portion exposed by partial removal of the second resist photoresist film with a corrosion solution; (h) removing the second resist photoresist film from the uncorrosive surface and the first recess, and applying the third resist photoresist film to the uncorrosive surface, the first recess and the second recess; (i) removing the third resistor photosensitive film applied to the first and second recesses, and forming a first chromium plating layer on the first and second recesses; (j) removing the third resist photoresist film from the uncorrosive surface and applying the fourth resist photoresist film to the uncorrosive surface and the surface of the first chromium plating layer; (k) removing the fourth resistor photoresist film located on the uncorrosive surface and forming a second chromium plating layer having a different gloss from the first chromium plating layer on the uncorrosive surface; And (l) removing the fourth resistor photosensitive film from the first chromium plating layer.

(c), (f) 또는 (i) 단계는, 시트상 오목부 패턴의 위치 정보에 따라 레이저를 조사하여 제 1, 2 또는 3 레지스터 감광막을 경화시키는 단계; 및 제 1, 2 또는 3 레지스터 감광막 중 레이저가 조사되지 않은 영역이 현상액에 의해 제거하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.Step (c), (f) or (i) comprises: irradiating a laser according to the positional information of the sheet-like recess pattern to cure the first, second or third resist photosensitive film; And removing the area of the first, second, or third register photosensitive film not irradiated with the laser by the developer.

(k) 단계는, 시트상 볼록부 패턴의 위치 정보에 따라 제 4 레지스터 감광막에 레이저를 조사하여 제 4 레지스터 감광막을 경화시키는 단계; 및 제 4 레지스터 감광막이 레이저가 조사되지 않은 영역에서 현상액에 의해 제거하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.The step (k) may include: irradiating a laser to the fourth register photosensitive film according to the positional information of the sheet-like convex pattern to cure the fourth register photosensitive film; And removing the fourth resist photoresist film by the developer in the region where the laser is not irradiated.

한편, 제 1 크롬 도금층은 크롬 도금법에 의해 롤을 음극으로 하여 40℃ 내지 80℃의 전해도금온도에서 크롬도금된, 유광 또는 반광 크롬 도금층인 것을 특징으로 한다. 반면, 제 2 크롬 도금층은 크롬 도금법에 의해 롤을 음극으로 하여 15℃ 내지 40℃의 전해도금온도에서 크롬도금된, 무광 크롬 도금층인 것을 특징으로 한다.On the other hand, the first chromium plating layer is characterized in that the polished or semi-glossy chromium plating layer chromium plated at an electroplating temperature of 40 ℃ to 80 ℃ using a roll as a cathode by the chromium plating method. On the other hand, the second chromium plating layer is characterized by being a matt chromium plating layer chromium plated at an electroplating temperature of 15 ° C to 40 ° C using a roll as a cathode by the chromium plating method.

한편, 본 발명은, 본 방법에 의해 제조된 엠보스 롤을 사용한 데코레이션 시트의 제조방법에 있어서, (a) 인쇄층, 및 인쇄층 상부에 위치된 필름층을 포함하는 기재 시트 위로 엠보스 롤이 롤링되어, 기재 시트의 필름층 상에는 오목부에 대응하여 시트상 볼록부가 형성되고, 미부식 표면에 대응하여 시트상 오목부가 형성되되, 엠보스 롤에 의해 시트상 볼록부는 유광 또는 반광 처리되고, 시트상 오목부는 무광 처리되는 롤링 공정; 및 (b) 롤링 공정에 의해 기재 시트가 가열 및 압입되어 인쇄층과 필름층이 합지되는 합지 공정을 포함한다. On the other hand, the present invention, in the method for producing a decoration sheet using the embossing roll produced by the method, (a) embossing roll on the substrate sheet comprising a printing layer and a film layer located above the printing layer Rolled to form a sheet-like convex portion corresponding to the concave portion on the film layer of the base sheet, and to form a sheet-like concave portion corresponding to the uncorroded surface, the sheet-like convex portion is polished or semi-glossy by an embossing roll, The image recess is a rolling process of being matt; And (b) a lamination step in which the base sheet is heated and press-fitted by the rolling step so that the print layer and the film layer are laminated.

한편, 본 발명의 실시예에 따라 제조된 엠보스 롤은, 시트에 형성되는 시트상 오목부 패턴과 시트상 볼록부 패턴에 각각 대응되는 볼록부와 오목부가 표면에 형성되되, 오목부에는 유광 또는 반광인 제 1 크롬 도금층이 코팅되고, 볼록부에는 무광인 제 2 크롬 도금층이 코팅된 것을 특징으로 한다. On the other hand, the embossing roll manufactured according to the embodiment of the present invention, the convex portion and the concave portion corresponding to the sheet-like concave portion pattern and the sheet-shaped convex portion pattern formed on the sheet are formed on the surface, the concave portion is glossy or The semi-glossy first chromium plating layer is coated, and the convex portion is coated with a matte second chromium plating layer.

상기와 같이 구성된 본 발명은 다음과 같은 효과가 있다.The present invention configured as described above has the following effects.

본 발명의 제 1 효과는, 하나의 엠보스 롤에 오목부 및 볼록부에 따라 상이한 광택을 가진 엠보스 롤을 제조하는 것이다. A first effect of the present invention is to produce an embossing roll having different gloss depending on the concave and convex portions in one embossing roll.

본 발명의 제 2 효과는, 본 발명의 실시예에 따라 제조된 엠보스 롤을 이용하여, 데코레이션 시트에 엠보스 처리를 하여 나무 무늬, 추상 무늬 등의 입체감을 표현하는데 있어, 기존의 시트보다 사실적 질감 및 입체감을 가진 데코레이션 시트를 제조하는 것이다.The second effect of the present invention is to emboss the decoration sheet by using the embossing roll manufactured according to the embodiment of the present invention to express the three-dimensional effect such as the tree pattern, the abstract pattern, etc., and is more realistic than the conventional sheet. It is to produce a decoration sheet having a texture and three-dimensional impression.

이하, 첨부 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 상세하게 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

제 1 First 실시예Example

도 1은 엠보스 롤의 제조 공정에 대한 개략도이고, 도 2는 도 1의 제조 공정에 따른 순서도이다. 도 3은 시트상 오목부 패턴 및 시트상 볼록부 패턴을 가진 마스크 패턴이다. 도 4는 본 실시예에 따라 제조된 엠보스 롤의 단면도이다. 이하에서는, 도 1 내지 도 4를 참조하여, 엠보스 부위에 따라 상이한 광택을 가지는 엠보스 롤의 제조 공정에 대해 설명하기로 한다. 1 is a schematic diagram of a manufacturing process of the embossing roll, Figure 2 is a flow chart according to the manufacturing process of FIG. 3 is a mask pattern having a sheet-like concave portion pattern and a sheet-like convex portion pattern. 4 is a cross-sectional view of an embossing roll manufactured according to the present embodiment. Hereinafter, with reference to FIGS. 1-4, the manufacturing process of the embossing roll which has a different gloss according to an embossing part is demonstrated.

우선, 엠보스 롤을 제조하기 위하여, S1 단계에서는, 도 3에 도시된 바와 같이 시트상 오목부 패턴(11) 및 시트상 볼록부 패턴(12)을 가진 마스크 패턴을 형성한다. S1 단계에서 사용되는 마스크 패턴으로는 나무 무늬, 추상 무늬, 또는 석재 무늬 등 다양한 패턴이 사용될 수 있으며, 본 실시예에 의해 한정되지는 않는다. 본 실시예에서는 도 3에 도시된 바와 같이, 시트상 오목부 패턴(11)인 도관부 및 시트상 볼록부 패턴(12)인 비도관부를 가진 나무 무늬 패턴을 마스크 패턴으로 한다.First, in order to manufacture an embossing roll, in step S1, as shown in FIG. 3, the mask pattern which has the sheet-shaped recessed part pattern 11 and the sheet-like convex part pattern 12 is formed. As the mask pattern used in the step S1, various patterns such as a tree pattern, an abstract pattern, or a stone pattern may be used, but are not limited by this embodiment. In this embodiment, as shown in Fig. 3, a wood pattern having a conduit portion, which is a sheet-like recess pattern 11, and a non-conduit portion, which is a sheet-shaped convex portion pattern 12, is used as a mask pattern.

S1 단계에서, 마스크 패턴은 다음의 과정에 의해 형성된다. 우선, 도관부 및 비도관부를 가진 천연 목재가 감광성 필름으로 촬영된다. 촬영된 필름은 제판 스캐 너를 사용하여 스캐닝된 후, 광전 변환한다. 이를 디지털 신호로 읽어낸 후, 컴퓨터 하드 디스크에 기억시킨다. 또는, 디지털 카메라를 이용하여 직접 촬영한 디지털 데이터를 직접 입력한다. 상술한 과정에 의해 도관부에 해당하는 시트상 오목부 패턴(11), 및 비도관부에 해당하는 시트상 볼록부 패턴(12)에 대한 위치 정보가 컴퓨터에 입력되고, 이러한 데이터로부터 시트상 오목부 패턴(11) 및/또는 시트상 볼록부 패턴(12)을 추출하여, 롤(105)의 원주에 맞춰 엔드리스 가공하여 마스크 패턴을 형성한다. 한편, 엠보스 롤(100)을 제조하기 위하여, 실린더형 철재 롤(105)이 준비된다. In step S1, the mask pattern is formed by the following process. First, natural wood having conduits and non-conduits is photographed with a photosensitive film. The photographed film is scanned using a plate making scanner and then photoelectrically converted. This is read as a digital signal and stored in a computer hard disk. Or, directly input digital data photographed directly using a digital camera. By the above-described process, positional information about the sheet-like recess pattern 11 corresponding to the conduit portion and the sheet-like protrusion pattern 12 corresponding to the non-conduit portion is input to the computer, and from such data, the sheet-like recess pattern (11) and / or the sheet-shaped convex part pattern 12 are extracted, and endless processing is carried out to the circumference of the roll 105, and a mask pattern is formed. On the other hand, in order to manufacture the embossing roll 100, the cylindrical steel roll 105 is prepared.

마스크 패턴이 준비되면, 롤(105)의 표면에 제 1 레지스터 감광막(101)이 균일하게 도포된다(S2 단계). When the mask pattern is prepared, the first register photosensitive film 101 is uniformly applied to the surface of the roll 105 (step S2).

이어서, 제 1 레지스터 감광막(101a)이 도포된 롤(105)의 표면상에서 시트상 볼록부 패턴(12)에 대응되는 부분이 제거된다(S3 단계). 상세하게는, 컴퓨터에 입력된 시트상 오목부의 패턴(11)의 위치 정보에 따라 레이저가 롤(105)의 표면상에 조사되어, 제 1 레지스터 감광막(101a)이 경화된다. 제 1 레지스터 감광막(101a)이 경화된 영역은 롤(105)의 표면상의 시트상 오목부 패턴(11)에 대응되는 영역이다. 이어서, 레이저가 조사되지 않은 영역의 제 1 레지스터 감광막(101a)은 제 1 현상액에 의해 제거된다. 반면, 도 2의 S3과 같이 경화된 제 1 레지스터 감광막(101a)은 롤(105)의 표면에서 잔존한다. 레이저 조사는 직접 노광 장치에 의한다. 본 실시예에서, 제 1 현상액은 약염기인 탄산나트륨이 바람직하다. Next, the part corresponding to the sheet-shaped convex part pattern 12 is removed on the surface of the roll 105 to which the 1st resist photosensitive film 101a was apply | coated (step S3). In detail, a laser is irradiated on the surface of the roll 105 according to the positional information of the pattern 11 of the sheet-shaped recessed part input into the computer, and the 1st resist photosensitive film 101a is hardened | cured. The region where the first resistor photosensitive film 101a is cured is a region corresponding to the sheet-like recess pattern 11 on the surface of the roll 105. Subsequently, the first register photosensitive film 101a in the region not irradiated with laser is removed by the first developer. On the other hand, the first resist photosensitive film 101a cured as in S3 of FIG. 2 remains on the surface of the roll 105. Laser irradiation is by direct exposure apparatus. In this embodiment, the first developer is preferably sodium carbonate, which is a weak base.

S4 단계에서는, 도 1에 도시된 S3의 롤(105)의 표면에 부식액이 도포되어, 오목부(120)가 형성된다. 반면, 제 1 레지스터 감광막(101a)이 경화되어 부식액에 의해 부식되지 않은 미부식 표면(110)은 오목부(110)에 대응하여 볼록한 형상이다. 한편, 부식액으로는 염화 제 2 철 또는 염화 제 2 동이 사용될 수 있다. 부식은 롤(105)의 표면상에서 불규칙적으로 진행된다.In step S4, a corrosion solution is applied to the surface of the roll 105 of S3 shown in FIG. 1, and the recessed part 120 is formed. On the other hand, the uncorroded surface 110 that is hardened by the first resist photoresist film 101a and is not corroded by the corrosion solution has a convex shape corresponding to the recess 110. On the other hand, ferric chloride or cupric chloride may be used as the corrosion solution. Corrosion proceeds irregularly on the surface of the roll 105.

S5 단계에서, 도 1에 도시된 S4에서 잔존하는 제 1 레지스터 감광막(101a)이 미부식 표면(110)에서 제 2 현상액에 의해 제거된다. 이어서, 도 1의 S5에 도시된 바와 같이 제 2 레지스터 감광막(101b)이 미부식 표면(110) 및 오목부(120)에 균일하게 도포된다. 본 실시예에서, 제 2 현상액은 강염기인 수산화나트륨이 바람직하다. In step S5, the first resist photoresist film 101a remaining in S4 shown in FIG. 1 is removed by the second developer from the uncorrosive surface 110. Subsequently, as shown in S5 of FIG. 1, the second register photosensitive film 101b is uniformly applied to the uncorroded surface 110 and the recess 120. In this embodiment, the second developer is preferably sodium hydroxide which is a strong base.

S6 단계에서, 제 2 레지스터 감광막(101b)이 오목부(120)에서 제거된다. 상세하게는, 시트상 오목부 패턴(11)의 위치 정보에 따라 레이저가 제 2 레지스터 감광막(101b)에 조사되어, 미부식 표면(110)에서 제 2 레지스터 감광막이 경화된 후, 레이저가 조사되지 않은 영역의 제 2 레지스터 감광막(101b)이 제 1 현상액에 의해 제거된다. In step S6, the second register photosensitive film 101b is removed from the recess 120. Specifically, the laser is irradiated to the second register photosensitive film 101b according to the positional information of the sheet-shaped recess pattern 11, and after the second resist photosensitive film is cured on the uncorrosive surface 110, the laser is not irradiated. The second register photosensitive film 101b in the unoccupied region is removed by the first developer.

이어서, S6 단계에서는 도 1의 S6에 도시된 바와 같이 오목부(120)에 제 1 크롬 도금층(131)이 형성된다. 제 1 크롬 도금층(131)은 크롬 도금법에 의해 오목부(120) 표면상에 형성된다. 크롬 도금법은, 황산기가 포함된 무수크롬산 용액에서 크롬을 환원하는 것으로 무수크롬산(CrO3)과 황산(H2SO4) 및 기타 첨가제로 이루어진 도금욕에서 롤(105)을 음극으로 하여 전해도금되는 방식이다. 이러한 크롬도금 법에 의해 크롬이 석출되어, 롤(105)의 표면에 피복되면서 크롬도금층이 형성된다. 이때, 전해도금온도는 40℃ 내지 80℃이다. 제 1 크롬 도금층(131)은 반사 효과가 있는 유광 또는 반광 크롬 도금층이다. 이러한 제 1 크롬도금층(131)에 의해, 오목부(120)의 표면은 외부의 영향에 의해 손상되는 것이 방지된다.Subsequently, in step S6, as shown in S6 of FIG. 1, the first chromium plating layer 131 is formed in the recess 120. The first chromium plating layer 131 is formed on the surface of the recess 120 by the chromium plating method. In the chromium plating method, chromium is reduced in a solution of chromic anhydride containing sulfuric acid group, which is electroplated using a roll 105 as a cathode in a plating bath made of chromic anhydride (CrO 3 ), sulfuric acid (H 2 SO 4 ) and other additives. That's the way. Chromium is deposited by such a chromium plating method, and the chromium plating layer is formed while being coated on the surface of the roll 105. At this time, the electroplating temperature is 40 ℃ to 80 ℃. The first chromium plating layer 131 is a shiny or semi-glossy chromium plating layer having a reflection effect. By the first chromium plating layer 131, the surface of the recess 120 is prevented from being damaged by external influences.

S7 단계에서, 도 1의 S6의 미부식 표면(110)에서 제 2 레지스터 감광막(101b)이 제 2 현상액에 의해 제거된다. 이어서, 도 1의 S7에 도시된 바와 같이 제 3 레지스터 감광막(101c)이 미부식 표면(110) 및 제 1 크롬 도금층(131)의 표면에 균일하게 도포된다.In step S7, the second resist photoresist film 101b is removed by the second developer at the uncorrosive surface 110 of S6 of FIG. 1. Subsequently, as shown in S7 of FIG. 1, the third resistor photosensitive film 101c is uniformly applied to the uncorroded surface 110 and the surface of the first chromium plating layer 131.

S8 단계에서는, 미부식 표면(110)에 크롬을 도금하기 위하여, 미부식 표면(110)에 도포된 제 3 레지스터 감광막(101c)을 제거한다. 상세하게는, 시트상 볼록부 패턴(12)의 위치 정보에 따라 레이저가 제 3 레지스터 감광막(101c)에 조사되어, 레이저 조사된 제 1 크롬 도금층(131)의 표면상의 제 3 레지스터 감광막(101c)이 경화된 후, 레이저가 조사되지 않은 미부식 표면(110)에서 제 3 레지스터 감광막(101c)이 제 1 현상액에 의해 제거되는 것이다. In step S8, in order to plate chromium on the uncorrosive surface 110, the third resist photoresist film 101c applied to the uncorrosive surface 110 is removed. Specifically, the laser is irradiated to the third register photosensitive film 101c according to the positional information of the sheet-like convex pattern 12, and the third register photosensitive film 101c on the surface of the first chromium plating layer 131 irradiated with the laser is irradiated. After this curing, the third resist photosensitive film 101c is removed by the first developer on the uncorrosive surface 110 where the laser is not irradiated.

이어서, S8 단계에서는 도 1의 S8에 도시된 바와 같이 미부식 표면(110)에 제 2 크롬 도금층(132)이 형성된다. 제 2 크롬 도금층(132)의 크롬 도금법은 제 1 크롬 도금층의 도금법과 같으나, 제 2 크롬 도금층의 전해도금온도는 15℃ 내지 40℃이다. 제 2 크롬 도금층(132)은 제 1 크롬 도금층(131)과 광택이 상이하다. 제 2 크롬 도금층(132)은 난반사 효과가 높은 무광 크롬 도금층이다. 미부식 표면(110)은 제 2 크롬 도금층(131)으로 인하여 외부의 영향에 의해 손상되는 것이 방지된 다.Subsequently, in step S8, a second chromium plating layer 132 is formed on the uncorrosive surface 110 as shown in S8 of FIG. 1. The chromium plating method of the second chromium plating layer 132 is the same as the plating method of the first chromium plating layer, but the electroplating temperature of the second chromium plating layer is 15 ° C to 40 ° C. The second chromium plating layer 132 is different from the first chromium plating layer 131 in gloss. The second chromium plating layer 132 is a matt chromium plating layer having high diffuse reflection effect. The uncorrosive surface 110 is prevented from being damaged by external influences due to the second chromium plating layer 131.

S9 단계에서, 도 1의 S9에 도시된 바와 같이 제 1 크롬 도금층(131)에 잔존하는 제 3 레지스터 감광막(101c)이 제 2 현상액에 의해 제거된다. 이에 따라, 롤(105)의 표면에는, 미부식 표면(110)에는 무광인 제 2 크롬 도금층(132)이 형성되고, 오목부(120)에는 유광 또는 반광인 제 1 크롬 도금층(131)이 형성된다. In step S9, as shown in S9 of FIG. 1, the third register photosensitive film 101c remaining in the first chromium plating layer 131 is removed by the second developer. As a result, a matte second chromium plating layer 132 is formed on the uncorrosive surface 110 on the surface of the roll 105, and a first chromium plating layer 131 that is glossy or semi-glossy is formed on the recess 120. do.

한편, 상술한 S1 단계 내지 S9 단계에 의해 도 4에 도시된 바와 같은 엠보스 롤(100)이 제조된다. On the other hand, the embossing roll 100 as shown in FIG. 4 is manufactured by the above-described steps S1 to S9.

엠보스 롤(100)은 시트에 형성되는 도 3의 시트상 오목부 패턴(11)에 대응되는 볼록부(110; 롤의 미부식 표면) 및 시트상 볼록부 패턴(12)에 대응되는 오목부(120)를 포함한다. The embossing roll 100 has a convex portion 110 (an uncorrosive surface of the roll) and a concave portion corresponding to the sheet-shaped convex portion pattern 12 corresponding to the sheet-shaped concave portion pattern 11 of FIG. 3 formed on the sheet. 120.

오목부(120)에는 반사효과가 있으며 유광 또는 반광인 제 1 크롬 도금층(131)이 형성되고, 볼록부(110)에는 난반사 효과가 있으며 무광인 제 2 크롬 도금층(132)이 형성된다. 따라서, 엠보스 롤(100)은 볼록부(110) 및 오목부(120)에 따라 상이한 광택을 가진다. 또한, 엠보스 롤(100)은 크롬 도금층에 의해 외부 영향에 의해 손상되는 것이 방지된다.The concave portion 120 has a reflective effect and a first chromium plating layer 131 that is glossy or semi-glossy, and the convex portion 110 has a diffuse reflection effect and a matt chromium second layer 132. Thus, the emboss roll 100 has different gloss depending on the convex portion 110 and the concave portion 120. In addition, the emboss roll 100 is prevented from being damaged by an external influence by the chromium plating layer.

또한, 엠보스 롤(100)을 사용하여 데코레이션 시트 제조시 기존의 데코레이션 시트보다 사실적 및 입체적 질감을 재현할 수 있다. 데코레이션 시트에 대해서는 후술하기로 한다. In addition, the embossing roll 100 may be used to reproduce the realistic and three-dimensional texture than the existing decoration sheet when manufacturing the decoration sheet. The decoration sheet will be described later.

이제까지는 본 발명의 제 1 실시예에 대하여 설명하였다.So far, the first embodiment of the present invention has been described.

이하부터는, 본 발명의 제 2 실시예에 따른 엠보스 롤의 제조방법에 대하여, 도 5 및 도 6을 참조하여 설명하기로 한다.Hereinafter, a method of manufacturing an embossing roll according to a second embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 5 and 6.

제 2 2nd 실시예Example

도 5는 본 발명의 제 2 실시예에 따른 엠보스 롤의 제조 공정에 대한 개략도이고, 도 6은 도 5의 제조 공정에 따른 순서도이다. 본 실시예는 엠보스가 다단으로 형성되어, 상술한 제 1 실시예보다 더욱 입체감을 주는 엠보스 롤의 제조 방법에 관한 것이다. 이하에서는, 본 발명의 제 2 실시예에 따라, 도 5 및 도 6을 참조하여, 엠보스 롤의 제조공정에 대해 설명하기로 한다. 다만, 상술한 제 1 실시예의 S1, S2 및 S3 단계와 동일한 공정인 S1' 단계, S2' 단계, 및 S3' 단계에 대해서는 반복적인 설명을 생략하기로 한다. 또한, 본 실시예는 상술한 제 1 실시예와 레이저 조사 방식 및 레지스터 감광막 제거 방식이 동일하다. Figure 5 is a schematic diagram of a manufacturing process of the embossing roll according to the second embodiment of the present invention, Figure 6 is a flow chart according to the manufacturing process of FIG. This embodiment relates to a method for producing an embossing roll in which the emboss is formed in multiple stages, which gives a three-dimensional appearance more than in the above-described first embodiment. Hereinafter, according to the second embodiment of the present invention, the manufacturing process of the embossing roll will be described with reference to FIGS. 5 and 6. However, repeated descriptions of steps S1 ', S2', and S3 'which are the same processes as steps S1, S2, and S3 of the above-described first embodiment will be omitted. In addition, the present embodiment has the same laser irradiation method and resist photoresist film removal method as the first embodiment described above.

이하에서는, 상술한 제 1 실시예와 상이한 S4'단계 내지 S12' 단계에 대하여 설명하기로 한다. Hereinafter, steps S4 'to S12' different from those of the first embodiment will be described.

S1' 단계 내지 S3' 단계에 의해, 롤(205)의 표면상에 시트상 오목부 패턴(11)에 대응되는 부분만이 제 1 레지스터 감광막(201a)의 경화에 의해 잔존하면, 롤의 표면에 부식액을 도포한다. 부식액이 도포되면, 제 1 레지스터 감광막(201a)이 제거된 부분이 부식되어 제 1 오목부(221)가 형성된다(S4' 단계). 한편, 부식액으로는 염화 제 2 철 또는 염화 제 2 동이 사용될 수 있다. 제 1 현상액은 탄산나트륨이 사용되고, 제 2 현상액은 수산화나트륨이 사용되는 것이 바람직하다.If only the part corresponding to the sheet-shaped recess pattern 11 on the surface of the roll 205 by the hardening of the 1st resist photosensitive film 201a by S1 'step-S3' step is carried out on the surface of a roll, Apply the caustic solution. When the corrosion solution is applied, the portion where the first resistor photosensitive film 201a is removed is corroded to form a first recess 221 (step S4 '). On the other hand, ferric chloride or cupric chloride may be used as the corrosion solution. It is preferable that sodium carbonate is used for a 1st developing solution, and sodium hydroxide is used for a 2nd developing solution.

S5' 단계에서, 도 5의 S4'에 잔존하는 제 1 레지스터 감광막(201a)이 제 2 현상액에 의해 미부식 표면(210)에서 제거된 후, 제 2 레지스터 감광막(201b)이 S5'에 도시된 바와 같이 미부식 표면(210) 및 제 1 오목부(221)에 균일하게 도포된다. In step S5 ', after the first resist photoresist film 201a remaining in S4' of FIG. 5 is removed from the uncorrosive surface 210 by the second developer, the second resist photoresist film 201b is shown in S5 '. As is uniformly applied to the uncorrosive surface 210 and the first recess 221.

S6' 단계에서, 제 1 오목부(221)에 위치된 제 2 레지스터 감광막(201b)의 일부가 제거된다. 상세하게는, 시트상 오목부 패턴(11) 및 시트상 볼록부 패턴(12) 중 다단 볼록부를 제외한 영역의 위치 정보에 따라 제 2 레지스터 감광막(201b)에 레이저가 조사되어, 레이저가 조사된 영역의 제 2 레지스터 감광막(201b)이 경화된 후, 레이저가 조사되지 않은 영역의 제 2 레지스터 감광막(201b)이 제 1 현상액에 의해 제거되며, 이는 도 4의 S6'에 도시된 바와 같다. 레이저 조사는 상술한 제 1 실시예와 같이 직접 노광 장치에 의한다. In step S6 ′, a part of the second register photosensitive film 201b positioned in the first recess 221 is removed. Specifically, the laser is irradiated to the second register photosensitive film 201b according to the positional information of the region except the multi-stage convex portion among the sheet-shaped concave portion pattern 11 and the sheet-shaped convex portion pattern 12, and the laser irradiated region. After the second resist photosensitive film 201b of is cured, the second resist photosensitive film 201b in the region not irradiated with laser is removed by the first developer, as shown in S6 'of FIG. Laser irradiation is by direct exposure apparatus as in the first embodiment described above.

S7' 단계에서, 제 2 레지스터 감광막(201b)이 제거된 부분에 부식액이 도포되어, 제 2 오목부(222)가 형성되며, 이는 도 3의 S7'에 도시된 바와 같다. In step S7 ', a corrosion solution is applied to a portion where the second resistor photosensitive film 201b is removed to form a second recessed portion 222, as shown in S7' of FIG.

S8' 단계에서, S7'에 잔존하는 제 2 레지스터 감광막(201b)이 미부식 표면(210) 및 제 1 오목부(221)에서 제 2 현상액에 의해 제거된다. 이어서, S8'에 도시된 바와 같이 제 3 레지스터 감광막(201c)이 미부식 표면(210), 제 1 오목부(221) 및 제 2 오목부(222)에 균일하게 도포된다. In step S8 ', the second register photoresist film 201b remaining in S7' is removed by the second developer at the uncorrosive surface 210 and the first recess 221. Then, as shown at S8 ', the third register photosensitive film 201c is uniformly applied to the uncorroded surface 210, the first concave portion 221 and the second concave portion 222.

S9' 단계에서, 제 3 레지스터 감광막(201c)이 제 1 오목부(221) 및 제 2 오목부(222)에서 제 1 현상액에 의해 제거된다. 이어서, 제 1 크롬 도금층(231)이 제 1 오목부(221) 및 제 2 오목부(222)에 형성된다. 제 1 크롬 도금층(231)은 상술한 제 1 실시예와 동일한 조건 및 방법으로 도금된다. 제 1 크롬 도금층(231)은 반사 효과가 있는 유광 또는 반광 크롬 도금층이다. In step S9 ′, the third register photosensitive film 201c is removed by the first developer in the first concave portion 221 and the second concave portion 222. Subsequently, a first chromium plating layer 231 is formed in the first concave portion 221 and the second concave portion 222. The first chromium plating layer 231 is plated under the same conditions and methods as those of the first embodiment described above. The first chromium plating layer 231 is a glossy or semi-glossy chromium plating layer having a reflection effect.

S10' 단계에서, 도 5의 S9'에 잔존하는 제 3 레지스터 감광막(201c)이 제 2 현상액에 의해 제거된다. 이어서, 도 5의 S10'에 도시된 바와 같이 제 4 레지스터 감광막(201d)이 미부식 표면(210) 및 제 1 크롬 도금층 표면(231)상에 도포된다. In step S10 ', the third register photosensitive film 201c remaining in S9' of FIG. 5 is removed by the second developer. Subsequently, a fourth register photosensitive film 201d is applied on the uncorrosive surface 210 and the first chromium plating layer surface 231 as shown in S10 'of FIG.

S11' 단계에서, 미부식 표면(210)에 위치된 제 4 레지스터 감광막(201d)이 제거된다. 상세하게는, 시트상 볼록부 패턴(12)의 위치 정보에 따라 레이저가 제 1 및 제 2 오목부(221, 222)에 형성된 제 1 크롬 도금층(231) 표면에 도포된 제 4 레지스터 감광막(201d)에 조사되어, 제 1 크롬 도금층(231) 표면에 도포된 제 4 레지스터 감광막(201d)이 경화된 후, 레이저가 조사되지 않은 영역인 미부식 표면(210)의 제 4 레지스터 감광막(201d)이 제 1 현상액에 의해 제거되는 것이다. In a step S11 ′, the fourth register photosensitive film 201d positioned on the uncorrosive surface 210 is removed. Specifically, according to the positional information of the sheet-shaped convex pattern 12, a fourth resistor photosensitive film 201d coated with a laser on the surface of the first chromium plating layer 231 formed in the first and second concave portions 221 and 222. ), And after the fourth resist photosensitive film 201d applied to the surface of the first chromium plating layer 231 is cured, the fourth resist photosensitive film 201d of the uncorrosive surface 210, which is a region where the laser is not irradiated, It is removed by the first developer.

이어서, S11' 단계에서는 도 5의 S11'에 도시된 바와 같이 미부식 표면(210)에 제 2 크롬 도금층(232)이 형성된다. 제 2 크롬 도금층(232)은 상술한 제 1 실시예의 제 2 크롬 도금층(132)과 동일한 조건 및 방법으로 도금된다. 제 2 크롬 도금층(232)은 무광 크롬 도금층이다. 따라서, 제 2 크롬 도금층(232)은 제 1 크롬 도금층(231)과 상이한 광택을 가진다. Subsequently, in step S11 ′, a second chromium plating layer 232 is formed on the uncorrosive surface 210 as shown in S11 ′ of FIG. 5. The second chromium plating layer 232 is plated under the same conditions and methods as the second chromium plating layer 132 of the first embodiment described above. The second chrome plating layer 232 is a matt chrome plating layer. Therefore, the second chromium plating layer 232 has a different gloss than the first chromium plating layer 231.

마지막 단계(S12' 단계)로서, 제 1 크롬 도금층(231)의 표면에 잔존하는 제 4 레지스터 감광막(201d)을 제 2 현상액을 사용하여 제거한다. 이에 따라, 롤(205)의 표면에는, 미부식 표면(210)에는 무광인 제 2 크롬 도금층(232)이 형성되고, 오목부(221, 222)에는 유광 또는 반광인 제 1 크롬 도금층(231)이 형성된다. As a final step (S12 'step), the fourth register photosensitive film 201d remaining on the surface of the first chromium plating layer 231 is removed using a second developer. As a result, a matte second chromium plating layer 232 is formed on the surface of the roll 205 and the first chromium plating layer 231 is glossy or semi-glossy on the recesses 221 and 222. Is formed.

이제까지는 본 발명의 제 2 실시예에 대하여 설명하였다.So far, the second embodiment of the present invention has been described.

이하부터는, 본 발명에 따른 데코레이션 시트 제조 방법에 대하여, 도 7을 참조하여 설명하기로 한다.Hereinafter, the decoration sheet manufacturing method which concerns on this invention is demonstrated with reference to FIG.

데코레이션decoration 시트 제조 방법 Sheet manufacturing method

본 실시예는 상술한 제 1 실시예 또는 제 2 실시예에 의해 제조된 엠보스 롤을 이용하여, 데코레이션 시트를 제조하는 데코레이션 시트 제조방법에 관한 것이다. 도 7은 본 발명의 실시예에 따라 제조된 엠보스 롤을 사용하여 제조된 데코레이션 시트의 단면도이다. 이하에서는 도 7을 참조하여 엠보스 부위에 따라 상이한 광택을 가지는 데코레이션 시트의 제조 공정에 대하여 설명하기로 한다. This embodiment relates to a decoration sheet manufacturing method for manufacturing a decoration sheet by using the embossing roll manufactured according to the first embodiment or the second embodiment described above. 7 is a cross-sectional view of a decoration sheet manufactured using an embossing roll manufactured according to an embodiment of the present invention. Hereinafter, a manufacturing process of a decoration sheet having different gloss according to the embossed portion will be described with reference to FIG. 7.

우선, 필름층(10) 및 필름층(10)의 하부에 위치된 인쇄층(20)을 포함하는 기재 시트 위로 엠보스 롤(100)이 롤링되면서, 가열 및 압입되어 필름층(10)과 인쇄층(20)이 합지된다. 이에 따라 엠보스를 가진 데코레이션 시트(50)가 제조된다.First, the emboss roll 100 is rolled onto the substrate sheet including the film layer 10 and the print layer 20 positioned below the film layer 10, and is heated and press-fitted to print with the film layer 10. Layer 20 is laminated. Thereby, the decoration sheet 50 with embossing is manufactured.

롤링 공정에 의해, 필름층(10) 상에는 엠보스 롤(100)의 오목부(120)에 대응하여 시트상 볼록부(12')가 형성되고, 엠보스 롤의 볼록부(110)에 대응하여 시트상 오목부(11')가 형성된다. 아울러, 롤링 공정에 의해, 데코레이션 시트(50)는 시트상 오목부(11')가 무광 처리되고, 시트상 볼록부(12')가 유광 또는 반광 처리된다. 이에 따라, 데코레이션 시트(50)는 시트상 오목부(11') 및 시트상 볼록부(12')에 따라 상이한 광택을 가져, 기존의 데코레이션 시트보다 나무 무늬를 표현함에 있어 사실적 질감을 표현할 수 있고, 또한 입체감도 재현할 수 있다. 본 실시예에서, 데코레이션 시트(50)의 평면도는 도 3의 마스크 패턴과 동일하다. By the rolling process, the sheet-like convex part 12 'is formed on the film layer 10 corresponding to the recessed part 120 of the embossing roll 100, and corresponding to the convex part 110 of the embossing roll. The sheet-like recess 11 'is formed. In addition, by the rolling process, the sheet-like recessed part 11 'is matted and the sheet-shaped convex part 12' is polished or semi-glossed by the rolling process. Accordingly, the decoration sheet 50 has a different gloss according to the sheet-shaped recess 11 'and the sheet-shaped convex portion 12', and can express a realistic texture in expressing the wood pattern than the existing decorative sheet. In addition, the three-dimensional effect can be reproduced. In this embodiment, the top view of the decoration sheet 50 is the same as the mask pattern of FIG.

한편, 기재 시트의 재료로는 통상적으로, 올레핀계 열가소성 엘라스터머 등의 폴리올레핀계 수지, 폴리염화비닐 수지, 아크릴 수지, 열가소성 폴리에스텔 수지, ABS 등의 열가소성 수지 등이 사용될 수 있다. 데코레이션 시트의 용도로는 가구 등의 표면재, 벽, 천정, 장식용품 등의 건축물의 내장재, 문, 창틀 등의 창호의 표면재, 가전제품의 표면재, 차량, 선박재 등의 내장재 등에 사용된다. On the other hand, as the material of the base sheet, a polyolefin resin such as an olefinic thermoplastic elastomer, a polyvinyl chloride resin, an acrylic resin, a thermoplastic polyester resin, or a thermoplastic resin such as ABS can be used. The decorative sheet is used for surface materials such as furniture, interior materials of buildings such as walls, ceilings and decorative articles, surface materials of windows and doors such as doors and window frames, surface materials of home appliances, interior materials such as vehicles and ship materials.

위에 설명된 예시적인 실시예는 제한적이기보다는 본 발명의 모든 관점들 내에서 설명적인 것이 되도록 의도되었다. 따라서 본 발명은 본 기술 분야의 숙련된 자들에 의하여 본 명세서 내에 포함된 설명들로부터 얻어질 수 있는 많은 변형 및 상세한 실행이 가능하다. 다음의 청구범위에 의하여 한정된 바와 같이 이러한 모든 변형 및 변경은 본 발명의 범위 및 사상 내에 있는 것으로 고려되어야 한다.The exemplary embodiments described above are intended to be illustrative, not limiting, in all aspects of the invention. Accordingly, the present invention is capable of many modifications and detailed implementations which may be obtained from those contained within the specification by those skilled in the art. All such modifications and variations are to be considered as within the scope and spirit of the invention as defined by the following claims.

도 1은 본 발명의 제 1 실시예에 따른 엠보스 롤의 제조 공정에 대한 개략도이다.1 is a schematic diagram of a manufacturing process of an embossing roll according to a first embodiment of the present invention.

도 2는 도 1의 제조 공정에 따른 순서도이다.2 is a flow chart according to the manufacturing process of FIG.

도 3은 시트상 오목부 패턴 및 시트상 볼록부 패턴을 가진 마스크 패턴이다. 3 is a mask pattern having a sheet-like concave portion pattern and a sheet-like convex portion pattern.

도 4는 본 실시예에 따라 제조된 엠보스 롤의 단면도이다.4 is a cross-sectional view of an embossing roll manufactured according to the present embodiment.

도 5는 본 발명의 제 2 실시예에 따른 엠보스 롤의 제조 공정에 대한 개략도이다.5 is a schematic view of a manufacturing process of the embossing roll according to the second embodiment of the present invention.

도 6은 도 5의 제조 공정에 따른 순서도이다.6 is a flow chart according to the manufacturing process of FIG.

도 7은 본 발명에 따라 제조된 엠보스 롤을 사용하여 제조된 데코레이션 시트의 단면도이다. 7 is a cross-sectional view of a decoration sheet manufactured using an embossing roll made according to the present invention.

Claims (10)

(a) 시트상 오목부 패턴과 시트상 볼록부 패턴을 포함하는 마스크 패턴을 형성하는 단계;(a) forming a mask pattern including a sheet-like concave portion pattern and a sheet-like convex portion pattern; (b) 롤의 표면에 제 1 레지스터 감광막을 도포하는 단계;(b) applying a first resist photoresist film to the surface of the roll; (c) 상기 제 1 레지스터 감광막에서 상기 시트상 볼록부 패턴에 대응되는 부분을 제거하는 단계;(c) removing portions of the first resist photoresist corresponding to the sheet-shaped convex pattern; (d) 상기 제 1 레지스터 감광막이 일부 제거됨으로써 노출된 상기 롤의 표면을 부식액에 의해 부식시켜 오목부를 형성하는 단계;(d) etching the surface of the roll exposed by partial removal of the first resist photoresist film with a corrosion solution to form a recess; (e) 상기 제 1 레지스터 감광막을 상기 롤의 미부식 표면으로부터 제거하고, 제 2 레지스터 감광막을 상기 미부식 표면 및 상기 오목부에 도포하는 단계;(e) removing the first resist photoresist film from the uncorrosive surface of the roll and applying a second resist photoresist film to the uncorrosive surface and the concave; (f) 상기 오목부에 도포된 상기 제 2 레지스터 감광막을 제거하고, 상기 오목부에 제 1 크롬 도금층을 형성하는 단계; (f) removing the second resist photoresist film applied to the concave portion, and forming a first chromium plating layer on the concave portion; (g) 상기 제 2 레지스터 감광막을 상기 미부식 표면으로부터 제거하고, 제 3 레지스터 감광막을 상기 미부식 표면 및 상기 제 1 크롬 도금층의 표면에 도포하는 단계;(g) removing the second resist photoresist film from the uncorrosive surface and applying a third resist photoresist film to the uncorroded surface and the surface of the first chromium plating layer; (h) 상기 미부식 표면에 위치한 상기 제 3 레지스터 감광막을 제거하고, 상기 미부식 표면에 제 1 크롬 도금층과 광택이 상이한 제 2 크롬 도금층을 형성하는 단계; 및(h) removing the third resist photoresist film located on the uncorrosive surface and forming a second chromium plating layer having a different gloss from the first chromium plating layer on the uncorrosive surface; And (i) 상기 제 3 레지스터 감광막을 상기 제 1 크롬 도금층으로부터 제거하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 엠보스 롤 제조 방법.(i) removing the third resist photoresist film from the first chromium plating layer. 제 1 항에 있어서, 상기 (c) 또는 (f) 단계는,The method of claim 1, wherein step (c) or (f) comprises: 상기 시트상 오목부 패턴의 위치 정보에 따라 레이저를 조사하여 상기 제 1 또는 제 2 레지스터 감광막을 경화시키는 단계; 및Irradiating a laser according to the positional information of the sheet-shaped recess pattern to cure the first or second resist photoresist film; And 상기 제 1 또는 제 2 레지스터 감광막 중 상기 레이저가 조사되지 않은 영역이 현상액에 의해 제거하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 엠보스 롤 제조 방법.And removing a region of the first or second register photosensitive film not irradiated with the laser by a developing solution. 제 1 항에 있어서, 상기 (h) 단계는,According to claim 1, wherein (h) step, 상기 시트상 볼록부 패턴의 위치 정보에 따라 상기 제 3 레지스터 감광막에 레이저를 조사하여 상기 제 3 레지스터 감광막을 경화시키는 단계; 및Irradiating a laser to the third register photosensitive film according to the positional information of the sheet-like convex pattern to cure the third register photosensitive film; And 상기 레이저가 조사되지 않은 영역에서 상기 제 3 레지스터 감광막이 현상액에 의해 제거하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 엠보스 롤 제조 방법.And removing the third resist photoresist film by a developer in an area where the laser is not irradiated. (a) 시트상 오목부 패턴과 시트상 볼록부 패턴을 포함하는 마스크 패턴을 형성하는 단계;(a) forming a mask pattern including a sheet-like concave portion pattern and a sheet-like convex portion pattern; (b) 롤의 표면에 제 1 레지스터 감광막을 도포하는 단계;(b) applying a first resist photoresist film to the surface of the roll; (c) 상기 제 1 레지스터 감광막에서 상기 시트상 볼록부 패턴에 대응되는 부분을 제거하는 단계;(c) removing portions of the first resist photoresist corresponding to the sheet-shaped convex pattern; (d) 상기 제 1 레지스터 감광막이 일부 제거됨으로써 노출된 상기 롤의 표면을 부식액에 의해 부식시켜 제 1 오목부를 형성하는 단계;(d) etching the surface of the roll exposed by partial removal of the first resist photoresist film with a corrosion solution to form a first recess; (e) 상기 제 1 레지스터 감광막을 상기 롤의 미부식 표면으로부터 제거하고, 제 2 레지스터 감광막을 상기 미부식 표면 및 상기 제 1 오목부에 도포하는 단계;(e) removing the first resist photoresist film from the uncorrosive surface of the roll and applying a second resist photoresist film to the uncorroded surface and the first recessed portion; (f) 상기 제 1 오목부에 위치된 상기 제 2 레지스터 감광막의 일부를 제거하는 단계;(f) removing a portion of said second resist photoresist film located in said first recessed portion; (g) 상기 제 2 레지스터 감광막이 일부 제거됨으로써 노출된 상기 제 1 오목부의 표면을 부식액에 의해 부식시켜 상기 제 1 오목부 상에 제 2 오목부를 형성하는 단계;(g) forming a second recessed portion on the first recessed portion by etching the surface of the first recessed portion exposed by partial removal of the second resist photoresist film with a corrosion solution; (h) 상기 제 2 레지스터 감광막을 상기 미부식 표면 및 상기 제 1 오목부로부터 제거하고, 제 3 레지스터 감광막을 상기 미부식 표면, 상기 제 1 오목부 및 상기 제 2 오목부에 도포하는 단계; (h) removing the second resist photoresist film from the uncorrosive surface and the first recess, and applying a third resist photoresist film to the uncorroded surface, the first recess and the second recess; (i) 상기 제 1 및 2 오목부에 도포된 상기 제 3 레지스터 감광막을 제거하고, 상기 제 1 및 2 오목부에 제 1 크롬 도금층을 형성하는 단계; (i) removing the third resistor photoresist applied to the first and second recesses, and forming a first chromium plating layer on the first and second recesses; (j) 상기 제 3 레지스터 감광막을 상기 미부식 표면으로부터 제거하고, 제 4 레지스터 감광막을 상기 미부식 표면 및 상기 제 1 크롬 도금층의 표면에 도포하는 단계;(j) removing the third resist photoresist film from the uncorrosive surface and applying a fourth resist photoresist film to the uncorrosive surface and the surface of the first chromium plating layer; (k) 상기 미부식 표면에 위치한 상기 제 4 레지스터 감광막을 제거하고, 상기 미부식 표면에 제 1 크롬 도금층과 광택이 상이한 제 2 크롬 도금층을 형성하는 단계; 및(k) removing the fourth resist photoresist film on the uncorrosive surface and forming a second chromium plating layer having a different gloss from the first chromium plating layer on the uncorrosive surface; And (l) 상기 제 4 레지스터 감광막을 상기 제 1 크롬 도금층으로부터 제거하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 엠보스 롤 제조 방법.(l) removing the fourth resistor photoresist film from the first chromium plating layer. 제 4 항에 있어서, 상기 (c), (f) 또는 (i) 단계는,The method of claim 4, wherein step (c), (f) or (i) comprises: 상기 시트상 오목부 패턴의 위치 정보에 따라 레이저를 조사하여 상기 제 1, 2 또는 3 레지스터 감광막을 경화시키는 단계; 및Irradiating a laser according to positional information of the sheet-like recess pattern to cure the first, second or third resist photoresist film; And 상기 제 1, 2 또는 3 레지스터 감광막 중 상기 레이저가 조사되지 않은 영역이 현상액에 의해 제거하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 엠보스 롤 제조 방법.And removing a region of the first, second, or third register photosensitive film not irradiated with the laser with a developer. 제 4 항에 있어서, 상기 (k) 단계는,The method of claim 4, wherein step (k) comprises: 상기 시트상 볼록부 패턴의 위치 정보에 따라 상기 제 4 레지스터 감광막에 레이저를 조사하여 상기 제 4 레지스터 감광막을 경화시키는 단계; 및Irradiating a laser to the fourth register photosensitive film according to the positional information of the sheet-like convex pattern to cure the fourth register photosensitive film; And 상기 레이저가 조사되지 않은 영역에서 상기 제 4 레지스터 감광막이 현상액에 의해 제거하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 엠보스 롤 제조 방법.And removing the fourth resist photoresist film with a developer in a region where the laser is not irradiated. 제 1 항 또는 제 4 항에 있어서, The method according to claim 1 or 4, 상기 제 1 크롬 도금층은 크롬 도금법에 의해 상기 롤을 음극으로 하여 40℃ 내지 80℃의 전해도금온도에서 크롬도금된, 유광 또는 반광 크롬 도금층인 것을 특징으로 하는 엠보스 롤 제조 방법.The first chromium plating layer is an embossed roll manufacturing method, characterized in that the chromium plating layer, the gloss or semi-glossy chromium plating layer chromium plated at an electroplating temperature of 40 ℃ to 80 ℃ by using the roll as a cathode by the chromium plating method. 제 1 항 또는 제 4 항에 있어서, The method according to claim 1 or 4, 상기 제 2 크롬 도금층은 크롬 도금법에 의해 상기 롤을 음극으로 하여 15℃ 내지 40℃의 전해도금온도에서 크롬도금된, 무광 크롬 도금층인 것을 특징으로 하는 엠보스 롤 제조 방법.And the second chromium plating layer is a matte chromium plating layer chromium plated at an electroplating temperature of 15 ° C to 40 ° C using the roll as a cathode by a chromium plating method. 제 1 항 또는 제 4 항의 방법에 의해 제조된 엠보스 롤을 사용한 데코레이션 시트의 제조방법에 있어서,In the manufacturing method of the decoration sheet using the embossing roll manufactured by the method of Claim 1 or 4, (a) 인쇄층 및 상기 인쇄층 상부에 위치된 필름층을 포함하는 기재 시트 위로 상기 엠보스 롤이 롤링되어, 상기 기재 시트의 상기 필름층상에는 상기 오목부에 대응하여 시트상 볼록부가 형성되고, 상기 미부식 표면에 대응하여 시트상 오목부가 형성되며, 상기 엠보스 롤에 의해 상기 시트상 볼록부는 유광 또는 반광 처리 되고, 상기 시트상 오목부는 무광 처리되는 롤링 공정; 및(a) the embossing roll is rolled onto a substrate sheet including a printing layer and a film layer located above the printing layer, and a sheet-shaped convex portion is formed on the film layer of the substrate sheet corresponding to the recessed portion, A rolling process in which a sheet-like recess is formed corresponding to the uncorrosive surface, the sheet-shaped convex portion is polished or semi-glossy by the embossing roll, and the sheet-shaped recess is matted; And (b) 상기 롤링 공정에 의해 상기 기재 시트가 가열 및 압입되어 인쇄층과 필름층이 합지되는 합지 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 데코레이션 시트 제조방법. and (b) a lamination step in which the base sheet is heated and press-fitted by the rolling step so that the print layer and the film layer are laminated. 시트에 형성되는 시트상 오목부 패턴과 시트상 볼록부 패턴에 각각 대응되는 볼록부와 오목부가 표면에 형성되되,Convex portions and concave portions respectively corresponding to the sheet-like concave portion pattern and the sheet-like convex portion pattern formed on the sheet are formed on the surface, 상기 오목부에는 유광 또는 반광인 제 1 크롬 도금층이 코팅되고, 상기 볼록부에는 무광인 제 2 크롬 도금층이 코팅된 것을 특징으로 하는 엠보스 롤.The embossed roll, characterized in that the concave portion is coated with a first chromium plating layer that is glossy or semi-gloss, and the convex portion is coated with a matte chrome plating layer.
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