KR20100087003A - 이방성막용 아조 화합물 - Google Patents

Abstract

광범위한 색표현이 가능한 편광막에 유용한 주로 단파장 영역에 흡수를 갖는 이방성막용 아조 화합물을 제공한다. 막 중에 있어서의 최대 흡수 파장이, 하기 식 (1) 로 나타내는 파장 λ(k) ㎚ 보다 짧은 아조 화합물로서, 분자의 주흡수축과 분자 장축이 이루는 각도 (θ) 가 1.5 도 이하를 갖는 이방성막용 아조 화합물. (식 (1) 중, 상수 A, B, C, D 및 δλ 는, 이하의 값을 갖는다. A = -18.069 B = 40.645 C = 0.79764 D = -2.0793 δλ = 67 k 는, 아조 화합물 분자의 장단축비를 나타낸다)

Description

이방성막용 아조 화합물{AZO COMPOUND FOR ANISOTROPIC FILMS}

본 발명은, 조광 소자나 액정 소자 (LCD), 유기 일렉트로 루미네선스 소자 (OLED) 등의 발광형 표시 소자, 터치 패널 등의 입출력 소자에 구비되는 편광판 등에 유용한 이방성막용 아조 화합물에 관한 것이다.

최근, LCD 등의 평면형 디스플레이는 텔레비전 수상기에 널리 사용되도록 되어, 종래의 CRT 를 사용한 텔레비전으로 바뀌려고 하고 있다. 또, 현재의 텔레비전 시스템인 NTSC (National Television System Committee)(전미 텔레비전 방송 방식 표준화 위원회가 책정한 아날로그 텔레비전 표준 방식) 의 색재현성은, CRT 의 형광체 특성을 기준으로 결정된 것으로, 실재하는 물체의 색의 약 절반밖에 표현할 수 없다는 문제가 있었다. 한편, 디지털 카메라나 캠코더 등의 촬상 장치는, NTSC 로 정의된 범위보다 광범위한 색표현 (색재현) 이 최근 가능해지고, 그 정보를 보다 정확하게 재현하는 확장 색공간에 대응한 디스플레이가 요망되고 있다.

이와 같은 배경에서, LCD 등의 CRT 를 대신하는 평면형 디스플레이는, 원리상 CRT 보다 고채도색의 표현이 가능한 디바이스이고, 평면형 디스플레이가 갖는 고기능성을 살린 신(新)동영상용 확장 색공간의 규격화가 진행되어 왔다. 그 결과, 국제 규격 IEC61966-2-4 로서 「동영상용 확장 색역 YCC 색공간 (Extended-gamut YCC color space for video application-xyYCC)」이 발행되었다.

xyYCC 색공간은, 실재하는 물체 색의 거의 전부를 표현할 수 있는 규격이고, 이로써 선명한 물체의 소재감이나 입체감까지도 표현할 수 있게 되었다.

그러나, 확장된 색공간 정보를 종래의 LCD 에서 표시하고자 했을 경우, LCD 에 사용되는 각종 부재의 특성이 충분하지 않기 때문에, xyYCC 색공간에 대응한 디스플레이를 구축하기 위해 몇 가지의 개량이 진행되고 있다.

그 예로서,

(1) RGB 3 원색의 색순도가 양호한 백라이트의 채용,

(2) RGB 3 원색에 보색을 더한 마이크로 컬러 필터의 채용 등을 들 수 있다.

(1) 의 대표적인 수단으로서는 LED 의 채용이나 냉음극관에 사용되는 형광체의 발광 파장의 최적화이고, (2) 에서는 옐로우, 시안을 추가한 마이크로 컬러 필터의 채용을 들 수 있다 (특허문헌 1, 2 등 참조).

이와 같이, LCD 의 색재현성을 지배하는 인자는, 발광에 관계하는 부재나 가시광 파장 영역에 흡수를 갖는 부재인데, 마이크로 컬러 필터와 동일하게 가시광 파장 영역에 흡수를 갖는 편광 필름에 대해서는, 아직 충분한 검토가 진행되지 않은 상황에 있다.

xyYCC 확장 색공간에 대한 대응에는, 백라이트나 마이크로 컬러 필터의 개량 내용으로부터 추정되는 바와 같이, 가시광 파장 영역의 양단부에 해당하는 단파장 영역과 장파장 영역의 특성을 개선하는 것이 필요하다.

그러나, 종래의 편광 필름은, 가시광 파장 영역에서의 흡광도나 이색성 등의 광학 특성이 일정하지 않기 때문에, 특정한 파장이나 색에 있어서의 콘트라스트비가 저하되는 문제가 있었다. 특히, 청색광의 보색인 단파장 영역 (380 ㎚ ∼ 500 ㎚) 의 이색성이 낮기 때문에, 청색광의 색순도가 저하되어, 색재현성을 충분히 얻지 못하는 경우가 있었다.

또, 확장 색공간 대응 디스플레이 이외에도, 액정 프로젝터나 차재용 액정 패널인 경우에는, 고온시의 내구성 문제로부터 요오드가 아니고, 이색성을 갖는 유기 화합물이 사용되고 있다. 그러나, 단파장 영역에 흡수를 갖는 화합물은, 분자 구조의 일반적인 특징으로서, 장파장 영역에 흡수를 갖는 화합물보다 π 공액의 확산이 작은, 요컨대 분자 길이가 짧은 경향이 있다. 통상적으로, 이색성 화합물에서 충분한 애스펙트비를 얻기 위해서는, 분자 길이가 긴 것이 필요해지기 때문에, 이들을 양립시키는 것이 어렵다. 이것에서 기인하여, 지금까지 사용되어 온 편광 필름에서는 단파장 영역의 이색성이 낮아, 여기에서도 단파장 영역에서 높은 이색성을 갖는 화합물의 개발이 요망되었다. 또, 이들 용도에서는, 액자 고장 혹은 액자 불균일로 불리는, 온습도 변화에 수반되는 필름의 수축 등에서 기인하는 결함이 발생되는 문제가 있기 때문에, 고온시의 내구성이 필요해지는 것, 또, 이 문제를 해결하는 변성 폴리비닐알코올 (폴리비닐알코올 유도체) 등의 고분자 재료와 이색성 물질의 조합이 중요해지고 있는 것으로부터도 신규한 이색성 화합물의 개발이 요망되었다.

예를 들어, 특허문헌 3 에서는, Direct Yellow44 등을 사용하여, 단파장 영역의 흡수 특성의 개량을 시도하고 있는데, 이들 색소에서는 높은 이색성을 발현시키기 어렵다는 문제가 있었다.

일본 공개특허공보 제2007-73290호 일본 공개특허공보 제2007-25285호 일본 공개특허공보 소62-70802호

본 발명은, 광범위한 색표현이 가능한 편광막에 유용한 주로 단파장 영역에 흡수를 갖고, 내구성이 우수한 이방성막용 아조 화합물을 제공하는 것, 특히 그 아조 화합물의 최대 흡수 파장에서의 이색비가 요오드 등보다 높은 아조 화합물을 제공하는 것을 과제로 한다.

본 발명자들이 예의 검토한 결과, 막 중에 있어서의 최대 흡수 파장이, 하기 식 (1) 로 나타내는 파장 λ(k) ㎚ 보다 짧은 아조 화합물로서, 또한, 분자의 주흡수축과 분자 장축이 이루는 각도 (θ) 가 1.5 도 이하인 색소를 사용함으로써, 상기 과제를 해결할 수 있는 것을 알 수 있어 본 발명에 도달하였다.

즉, 본 발명은, 이하의 요지를 갖는 것이다.

(1) 막 중에 있어서의 최대 흡수 파장이, 하기 식 (1) 로 나타내는 파장 λ(k) ㎚ 보다 짧은 아조 화합물로서, 분자의 주흡수축과 분자 장축이 이루는 각도 (θ) 가 1.5 도 이하를 갖는 것을 특징으로 하는, 이방성막용 아조 화합물.

[수학식 1]

(식 (1) 중, 상수 A, B, C, D 및 δλ 는, 이하의 값을 갖는다.

A = -18.069

B = 40.645

C = 0.79764

D = -2.0793

δλ = 67

k 는, 아조 화합물 분자의 장단축비를 나타낸다)

(2) 분자 내에 하기 식 (i) 로 나타내는 구조를 갖는 것을 특징으로 하는, 상기 (1) 에 기재된 이방성막용 아조 화합물.

[화학식 1]

(식 (i) 중, Ar₁ 은 치환기를 갖고 있어도 되는 방향족 탄화수소기를 나타낸다)

(3) 분자 내에 하기 식 (ii) 로 나타내는 구조를 갖는 것을 특징으로 하는, 상기 (1) 에 기재된 이방성막용 아조 화합물.

[화학식 2]

(식 (ii) 중, Ar₂ 는 치환기를 가지고 있어도 되는 방향족 탄화수소기를 나타낸다)

(4) 막 중에 있어서의 최대 흡수 파장이 350 ∼ 500 ㎚ 인 것을 특징으로 하는, 상기 (1) ∼ (3) 중 어느 하나에 기재된 이방성막용 아조 화합물.

본 발명에 의하면, 주로 단파장 영역에서 이색성이 높고, 내구성이 우수한 아조 화합물을 함유하는 이방성막을 제공할 수 있고, 그 이방성막은, 광 흡수의 이방성을 이용하여, 직선 편광, 원 편광, 타원 편광 등을 얻는 편광막으로서 기능하는 것 외에, 굴절률 이방성이나 전도 이방성 등의 각종 이방성막으로서 기능화가 가능해져, 다양한 용도에 적용할 수 있는 편광 소자를 제공할 수 있다.

도 1 은 본 발명의 이방성막용 아조 화합물 및 비교예 화합물의 이색비를, 요오드의 이색비와 비교한 그래프이다.

발명을 실시하기 위한 최선의 형태

이하에 본 발명의 이방성막용 아조 화합물의 실시형태를 상세하게 설명한다.

이하에 기재하는 구성 요건의 설명은, 본 발명의 실시형태의 일례 (대표예) 이고, 본 발명은 이들의 내용에 특정은 되지 않는다.

본 발명의 아조 화합물은 이방성막에 바람직하게 사용된다.

이방성막이란, 색소 등의 화합물을 함유하는 막의 두께 방향 및 임의의 직교하는 면내 2 방향의 입체 좌표계에서의 합계 3 방향에서 선택되는 임의의 2 방향에서의 전자기학적 성질에 이방성을 갖는 막이다. 전자기학적 성질로서는, 흡수, 굴절 등의 광학적 성질, 저항, 용량 등의 전기적 성질 등을 들 수 있다. 흡수, 굴절 등의 광학적 이방성을 갖는 막으로서는, 예를 들어, 직선 편광막, 원 편광막, 위상차막, 도전 이방성막 등이 있다.

본 명세서에서 간단히 이방성막이라고 하는 경우에는, 본 발명의 이방성막용 아조 화합물을 함유하는 층을 가리키고, 통상적으로, 이 층에는 추가로 저분자 재료 및/또는 고분자 재료를 함유하는데, 예를 들어 본 발명의 이방성막용 아조 화합물만으로 구성되는 층이어도 된다.

본 발명의 이방성막용 아조 화합물은, 이른바 색소로서의 기능도 갖는 화합물로서, 본 발명의 이방성막용 아조 화합물을 함유하는 이방성막은, 색소막으로서도 기능할 수 있는 것이다. 또한, 여기에서 말하는 색소란, 일반적으로, 가시광 파장 영역에서 흡수를 갖는 화합물을 의미한다.

본 발명의 이방성막용 아조 화합물을 사용하여 제조된 이방성막은, 주된 효과로서 흡수 이방성을 갖는 기능성막에 사용되는 것이 바람직하고, 편광막에 사용되는 것이 보다 바람직하다.

본 발명의 이방성막용 아조 화합물은, 막 중에 있어서의 최대 흡수 파장이, 하기 식 (1) 로 나타내는 파장 λ(k) ㎚ 보다 짧은 아조 화합물로서, 분자의 주흡수축과 분자 장축이 이루는 각도 (θ) 가 1.5 도 이하인 값을 갖는 것을 특징으로 한다.

[식 (1)]

먼저, 식 (1) 에 대해 설명한다.

[수학식 2]

<A, B>

상기 식 (1) 중, 상수 A, B 는 진공 중의 폴리키스아조벤젠에 대한 Robin-Simpson 식의 상수와 동일한 것으로, 이하의 값을 갖는다.

A = -18.069

B = 40.645

여기에서, Robin-Simpson 식이란, 하기 식 (2) 로 나타내고, 하기 비특허문헌 1 및 2 에 기재되어 있는 폴리키스아조벤젠의 흡수 파장 (λ) 과 아조기의 수 (n+1) 의 관계식이다.

(Robin-Simpson 식)

[수학식 3]

비특허문헌 1 : M.B.Robin, W.T.Simpson,"Assignment of Electronic Transitions in Azo Dye Prototypes", Journal of Chemical Physics, 36(3), 580-588, (1962).

비특허문헌 2 : 토비타 미치히코, 「색채 과학」, 마루젠 (1998).

<C, D>

상기 식 (1) 중, 상수 C, D 는, 폴리키스아조벤젠의 장단축비와 아조기 수의 관계에 관한 상수이다.

하기 표에 있는 바와 같이, 폴리키스아조벤젠의 아조기의 수를 매겨, 전술과 동일한 계산으로 분자 장단축비를 계산하였다.

아조기 수 (n+1)	1	2	3	4	5
장단축비 (k)	2.612	3.856	5.110	6.369	7.624

상수 C, D 는, 장단축비 (k) 와 아조기 수 (n+1) 의 관계를 1 차 함수 n = Ck + D 로 최소 자승법으로 피트함으로써 구해진다.

C = 0.79764

D = -2.0793

<δλ>

상기 식 (1) 중, 상수 δλ 는, 치환기 및 막과 아조 화합물과의 상호 작용에 의한 표준적인 흡수 파장 변화에 상당하며, 이하의 값을 갖는다.

δλ = 67

이와 같이, 식 (1) 의 우변 제 1 항은, 폴리키스아조벤젠의 장단축비와 흡수 파장의 관계식 그 자체이다.

비특허문헌 2 에 기재되어 있는 바와 같이, 전자 공여성 치환기여도 전자 수용성 치환기여도 치환기가 치환되면 흡수 파장이 장파장 이동하는 것, 또한, 벤젠 고리를 나프탈렌 고리로 바꾸어도 흡수 파장이 장파장 이동하는 것으로 알려져 있다. 이것으로부터도, 폴리키스아조벤젠과 동일한 장단축비를 갖는 아조 화합물이 폴리키스아조벤젠의 흡수 파장보다 짧은 흡수 파장을 갖는 것은, 원리적으로 곤란하다고 생각되었다.

이 과제를 해결하기 위해, 예를 들어 특허문헌 3 (일본 공개특허공보 소62-70802호) 에 기재된 Direct Yellow44 와 같이, 2 개의 아조 화합물을 비공액 결합으로 연결함으로써, 장단축비를 크게 하면서도 흡수 파장을 짧게 할 수 있는 것이 알려져 있다. 그러나, 전술한 바와 같이, 이 화합물은 높은 이색성을 발현시키기 어렵다는 문제가 있었다.

<k>

k 는 아조 화합물 분자의 장단축비를 나타낸다. 본 발명에서 말하는 분자 장단축비란 이하의 순서대로 얻어지는 계산값이다.

1. 유리산의 형태를 갖는 아조 화합물 분자의 기저 상태의 구조 최적화를 실시한다. 분자의 전자 상태 계산에는 기저 상태에 대해 PBE0 범함수를 사용한 밀도 범함수 (DFT) 법을 채용하고, 수직 여기 상태에 대해서는 PBE0 범함수를 사용한 시간 의존 밀도 범함수 (TDDFT) 법을 채용한다. 기저 상태·수직 여기 상태 계산에는 기저 함수로서 6-31G* 를 사용한다 (이하, 이것을 「TDDFT(PBE0)/6-31G* 레벨로 구한 수직 여기 상태」라고 한다). 모든 전자 상태 계산은, 양자 화학 계산 프로그램 「Gaussian03」(Gaussian 사 제조) 을 이용하여 실행한다.

2. 얻어진 기저 상태의 최적화 구조에서, 원점을, 각 원자의 질량을 등가로 간주했을 때의 중심으로 이동하고, 각 원자의 질량을 등가로 간주한 관성 모멘트 (질량 등가 관성 모멘트라고 부른다) 를 정의하여, 질량 등가 관성 텐서가 대각화되도록 분자를 회전하고, 질량 등가 관성 주축계 ((X_i ^P, Y_i ^P, Z_i ^P), i = 원자)·주관성 텐서를 결정한다. 여기에서 질량 등가 관성 반경 (R_X, R_Y, R_Z) 은 이하의 식 (3) 과 같이 정의한다.

[수학식 4]

3. 어느 주축을 중심으로 한 질량 등가 관성 반경 중, 최대값을 분자 장축 길이 (L)·그 주축을 단축 방향, 최소값을 분자 단축 길이 (S)·그 주축을 장축 방향으로 정의한다.

4. L/S 로부터 분자 장단축비 (k) 를 결정한다.

장단축비 (k) 는, 통상적으로 2 ∼ 8 정도의 값을 갖는 것이고, 바람직하게는 4 ∼ 8 정도의 값인 것이다.

[최대 흡수 파장]

본 발명에서는, 본 발명의 이방성막용 아조 화합물의 막 중에 있어서의 최대 흡수 파장이, 상기 식 (1) 로 나타내는 파장 λ(k) ㎚ 보다 짧은 것을 특징으로 한다.

여기에서, 막 중에 있어서의 최대 흡수 파장의 측정 방법으로서는, 예를 들어, 이하의 방법을 들 수 있다.

a. 이방성막의 제조

증류수에 본 발명의 이방성막용 아조 화합물 (바람직하게는 염형) 을 첨가하고 교반하여 염색액으로 한다. 염색액에, 흡수 파장에 영향을 미치지 않는, 염색을 촉진하기 위한 보조제 (예를 들어, 황산나트륨 등) 를 첨가해도 된다. 폴리비닐알코올 필름을 염색액에 침지시켜 염색하고, 잉여의 염료를 세정한 후, 붕산수용액 중에서 6 배로 연신한다. 연신 후, 잉여의 붕산을 세정하여 건조시킴으로써 이방성막을 얻는다.

구체적으로는 예를 들어, 증류수에 본 발명의 이방성막용 아조 화합물을 첨가하고 교반 용해하여 염색액으로 하고, 폴리비닐알코올 필름 (OPL 필름, 니혼 합성 화학 공업사 제조, 막두께 75 ㎛) 을 50 ℃ 의 염색액에 침지하여 염색한다. 이 때, 염색액 중의 아조 화합물 농도 및 염색 시간은, 얻어지는 이방성막의 최대 흡수 파장에서의 단체 투과율이 35 % 내지 50 % 사이가 되는 농도 및 시간으로 조정하는데, 염색액 중의 아조 화합물 농도는 0.01 ∼ 1 중량%, 염색 시간은 30 초 ∼ 10 분의 범위 내에서 조정한다. 염색 후, 50 ℃ 의 수욕에서 잉여의 염료를 세정한 후, 50 ℃ 의 4 중량% 붕산 수용액 중에서 6 배로 연신한다. 연신 후, 실온의 수욕 중에서 잉여의 붕산을 세정하고, 송풍 건조시킴으로써 이방성막을 얻는다.

b. 이방성막의 최대 흡수 파장의 측정

프리즘 편광자를 입사 광학계에 배치한 분광 광도계로, 이방성막의 투과율을 측정한 후, 다음 식 Az 가 최대가 되는 파장을 최대 흡수 파장으로 한다. 프리즘 편광자를 입사 광학계에 배치한 분광 광도계로서는, 예를 들어, 시마즈 제작소사 제조 자외·가시·근적외 분광 광도계 SolidSpec-3700 등을 들 수 있다.

이색비 (D) = Az/Ay

Az = -log(Tz)

Ay = -log(Ty)

Tz : 이방성막의 흡수축 방향의 편광에 대한 투과율

Ty : 이방성막의 편광축 방향의 편광에 대한 투과율

본 발명의 아조 화합물의 막 중에 있어서의 최대 흡수 파장은, 통상적으로 350 ㎚ 이상이고, 바람직하게는 380 ㎚ 이상이고, 또, 통상적으로 500 ㎚ 이하이고, 바람직하게는 480 ㎚ 이하이다.

또, 본 발명에서, 이 최대 흡수 파장은, 상기 식 (1) 로 나타내는 파장 λ(k) ㎚ 보다 짧은 것인데, 그 차는 바람직하게는 10 ㎚ 이상, 보다 바람직하게는 20 ㎚ 이상, 특히 바람직하게는 30 ㎚ 이상이다.

[각도 (θ)]

상기 서술한 바와 같이, 특허문헌 3 (일본 공개특허공보 소62-70802호) 에 기재된 Direct Yellow44 는, 이 색소의 막 중에 있어서의 최대 흡수 파장이 상기 식 (1) 로 나타내는 파장 λ(k) ㎚ 보다 짧은 색소임에도 불구하고, 높은 이색비를 얻을 수 없었다.

본 발명자들의 검토 결과, 아조 화합물의 막 중에 있어서의 최대 흡수 파장이, 상기 식 (1) 로 나타내는 파장 λ(k) ㎚ 보다 짧을 뿐만 아니라, 또한, 분자의 주흡수축과 분자의 장축이 이루는 각도 (θ) 를 규정함으로써, 이색비가 높은 아조 화합물을 얻을 수 있는 것을 알 수 있었다.

본 발명에서 말하는, 분자 장축과 분자 주흡수축이 이루는 각도 (θ) 란 이하의 순서대로 얻어지는 계산값이다.

전술과 동일하게 TDDFT(PBE0)/6-31G* 레벨로 구한 수직 여기 상태 내에서, 여기 파장이 200 ㎚ 보다 장파장 영역 또한 기저 상태와의 사이의 진동자 강도가 최대인 수직 여기 상태와 기저 상태와의 사이의 전이 모멘트의 방향을 주흡수축으로 하고, 이 주흡수축과 분자 장축 방향 사이가 이루는 각도를 θ 로 정의한다.

θ 는 1.5 도 이하이면 되는데, 바람직하게는 1.0 도 이하, 더욱 바람직하게는 0.5 도 이하이다.

θ 가 상한을 초과하면, 분자가 배향되어 있어도 이색성이 낮아지는 등의 문제가 있어 바람직하지 않다.

[본 발명의 이방성막용 아조 화합물]

막 중에 있어서의 최대 흡수 파장이, 상기 식 (1) 로 나타내는 파장 λ(k) ㎚ 보다 짧은 아조 화합물로서, 분자의 주흡수축과 분자 장축이 이루는 각도 (θ) 가 1.5 도 이하인 값을 갖는 본 발명의 이방성막용 아조 화합물을 얻기 위한 방법으로서는, 특별히 제한은 없지만, 예를 들어, 이하와 같은 방법을 들 수 있다.

·아조 화합물의 분자 내에 아미드 결합 (-NH-CO-) 을 도입한다.

·아조 화합물의 분자 내에 -NH-CO-CH₂=CH₂- 기를 도입한다.

·술포기 등의 치환기를 분자 장축을 따라 도입한다.

·아조-하이드라존 호변이성에서의 하이드라존체 생성을 억제시킨다.

이하, 본 발명의 이방성막용 아조 화합물을 더욱 구체적으로 설명한다.

또한, 본 명세서에서 치환기를 갖고 있어도 된다는 것은, 치환기를 1 또는 2 이상 갖고 있어도 된다는 것을 의미한다. 또, 본 명세서에서 「치환기의 총 탄소수」라는 경우에는, 그 치환기 중에 함유되는 탄소 원자의 수를 나타내고, 그 치환기가 추가적인 치환기를 갖고 있는 경우에는, 추가적인 치환기에 함유되는 탄소수도 포함한 모든 탄소수이다.

<본 발명의 이방성막용 아조 화합물의 적합예>

본 발명의 이방성막용 아조 화합물로서는, 특히 아조기를 1 ∼ 4 개 갖는 화합물이 바람직하고, 1 ∼ 3 개를 갖는 화합물이 보다 바람직하다.

또, 본 발명의 이방성막용 아조 화합물은, 하기 식 (i) 및/또는 (ii) 로 나타내는 부분 구조를 갖는 아조 화합물인 것이 바람직하다.

[화학식 3]

(식 (i) 중, Ar₁ 은 치환기를 갖고 있어도 되는 방향족 탄화수소기를 나타낸다)

[화학식 4]

(식 (ii) 중, Ar₂ 는 치환기를 갖고 있어도 되는 방향족 탄화수소기를 나타낸다)

Ar₁ 의 방향족 탄화수소기로서는, 페닐렌기 또는 나프틸렌기 등을 들 수 있다.

또, Ar₂ 의 방향족 탄화수소기로서는, 페닐기 또는 나프틸기 등을 들 수 있다.

이들 방향족 탄화수소기가 갖고 있어도 되는 치환기로서는, 술포기, 카르복시기, 수산기, 니트로기, 치환기를 갖고 있어도 되는 알콕시기, 아미노기, 치환기를 갖고 있어도 되는 알킬아미노기, 치환기를 갖고 있어도 되는 아릴아미노기, 치환기를 갖고 있어도 되는 아실아미노기, 치환기를 갖고 있어도 되는 알킬기, 치환기를 갖고 있어도 되는 알케닐기, 카르바모일기, 치환기를 갖고 있어도 되는 알킬카르바모일기, 치환기를 갖고 있어도 되는 아릴카르바모일기, 술파모일기, 치환기를 갖고 있어도 되는 알킬술파모일기, 치환기를 갖고 있어도 되는 아릴술파모일기, 치환기를 갖고 있어도 되는 페닐기, 치환기를 갖고 있어도 되는 아릴옥시기 등을 들 수 있다.

Ar₁, Ar₂ 의 방향족 탄화수소기의 치환기로서의 알콕시기는, 치환기의 총 탄소수가 통상적으로 1 이상, 통상적으로 6 이하, 바람직하게는 4 이하이다. 그 알콕시기로 치환되어 있어도 되는 기로서는, 알콕시기, 수산기, 할로겐 원자, 술포기 및 카르복시기 등을 들 수 있다.

알콕시기의 구체예로서는, 메톡시기, 에톡시기, n-프로폭시기, n-부톡시기, 하이드록시에톡시기, 2,3-디하이드록시프로폭시기 등의 치환기를 갖고 있어도 되는 알콕시기를 들 수 있고, 특히 치환기를 갖고 있어도 되는 저급 알콕시기가 바람직하다.

Ar₁, Ar₂ 의 방향족 탄화수소기의 치환기로서의 알킬아미노기는, -NR⁴¹R⁴² 로 나타내고, R⁴¹ 은 치환기를 갖고 있어도 되는 알킬기를 나타내고, R⁴² 는 수소 원자 또는 치환기를 갖고 있어도 되는 알킬기를 나타낸다. 그 알킬기는, 치환기의 총 탄소수가 통상적으로 1 이상, 통상적으로 10 이하, 바람직하게는 7 이하이다. 그 알킬기로 치환하고 있어도 되는 기로서는, 치환기를 갖고 있어도 되는 페닐기, 탄소수가 1 내지 4 인 알콕시기, 수산기, 술포기, 카르복시기 및 할로겐 원자 등을 들 수 있다. 그 페닐기로 치환되어 있어도 되는 기로서는, 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬기, 탄소수 1 ∼ 4 의 알콕시기, 술포기, 카르복시기, 수산기 등을 들 수 있다. 그 알킬아미노기의 구체예로서는, 메틸아미노기, 에틸아미노기, 프로필아미노기, 디메틸아미노기, 벤질아미노기, 4-카르복시벤질아미노기 등을 들 수 있다.

Ar₁, Ar₂ 의 방향족 탄화수소기의 치환기로서의 아릴아미노기는, -NR⁴³R⁴⁴ 로 나타내고, R⁴³ 은 치환기를 갖고 있어도 되는 페닐기 또는 치환기를 갖고 있어도 되는 나프틸기를 나타내고, R⁴⁴ 는 수소 원자, 치환기를 갖고 있어도 되는 알킬기, 치환기를 갖고 있어도 되는 페닐기 또는 치환기를 갖고 있어도 되는 나프틸기를 나타낸다. 그 알킬기의 바람직한 치환기의 총 탄소수, 갖고 있어도 되는 치환기의 예는, 상기 R⁴¹ 및 R⁴² 의 알킬기인 경우에 예시된 것과 동일하다. 그 페닐기는, 치환기의 총 탄소수가 통상적으로 6 이상, 통상적으로 12 이하, 바람직하게는 8 이하이다. 그 나프틸기는, 치환기의 총 탄소수가 통상적으로 10 이상, 통상적으로 14 이하, 바람직하게는 12 이하이다. 그 페닐기 및 그 나프틸기로 치환되어 있어도 되는 기로서는, 탄소수가 1 내지 4 인 알킬기, 탄소수가 1 내지 4 인 알콕시기, 수산기, 술포기, 카르복시기 및 할로겐 원자 등을 들 수 있다. 그 아릴아미노기의 구체예로서는, 페닐아미노기, 페닐메틸아미노기, 4-술포페닐아미노기 등을 들 수 있다.

Ar₁, Ar₂ 의 방향족 탄화수소기의 치환기로서의 아실아미노기는, -NH-COR⁴⁵ 로 나타내고, R⁴⁵ 는 치환기를 갖고 있어도 되는 알킬기, 치환기를 갖고 있어도 되는 알콕시기, 치환기를 갖고 있어도 되는 알케닐기, 또는 치환기를 갖고 있어도 되는 페닐기를 나타낸다. 그 알킬기 및 그 알콕시기는, 각각, 치환기의 총 탄소수가 통상적으로 1 이상, 통상적으로 6 이하, 바람직하게는 4 이하이다. 그 알케닐기는, 치환기의 총 탄소수가 통상적으로 2 이상, 통상적으로 12 이하, 바람직하게는 10 이하이다. 그 페닐기는, 치환기의 총 탄소수가 통상적으로 6 이상, 통상적으로 10 이하, 바람직하게는 8 이하이다. 그 알킬기, 그 알콕시기, 그 알케닐기 및 그 페닐기로 치환되어 있어도 되는 기로서는, 탄소수가 1 내지 4 인 알킬기, 탄소수가 1 내지 4 인 알콕시기, 수산기, 술포기, 카르복시기 및 할로겐 원자 등을 들 수 있다. 그 아실아미노기의 구체예로서는, 아세틸아미노기, 벤조일아미노기, 4-카르복시벤조일아미노기, 푸마로일아미노기 등을 들 수 있다.

Ar₁, Ar₂ 의 방향족 탄화수소기의 치환기로서의 알킬기는, 치환기의 총 탄소수가 통상적으로 1 이상, 통상적으로 6 이하, 바람직하게는 4 이하이다. 그 알킬기로 치환되어 있어도 되는 기로서는, 탄소수가 1 내지 4 인 알콕시기, 수산기, 할로겐 원자, 술포기 및 카르복시기 등을 들 수 있다.

그 알킬기의 구체예로서는, 메틸기, 에틸기 등을 들 수 있고, 특히 치환기를 갖고 있어도 되는 저급 알킬기가 바람직하다.

Ar₁, Ar₂ 의 방향족 탄화수소기의 치환기로서의 알케닐기는, 치환기의 총 탄소수가 통상적으로 2 이상, 통상적으로 12 이하, 바람직하게는 10 이하이다. 그 알케닐기로 치환되어 있어도 되는 기로서는, 탄소수가 1 내지 4 인 알킬기, 페닐기, 술포기가 치환된 페닐기 및 카르복시기 등을 들 수 있다.

그 알케닐기의 구체예로서는, 트랜스-2-카르복시에테닐기, 트랜스-2-(2-술포 페닐)에테닐기 등을 들 수 있다.

Ar₁, Ar₂ 의 방향족 탄화수소기의 치환기로서의 알킬카르바모일기는, -CO-NHR⁴⁶ 으로 나타내고, R⁴⁶ 은 치환기를 갖고 있어도 되는 알킬기를 나타낸다. 그 알킬기의 바람직한 치환기의 총 탄소수, 갖고 있어도 되는 치환기의 예는, 상기 R⁴¹ 및 R⁴² 의 알킬기인 경우에 예시한 것과 동일하다. 그 알킬카르바모일기의 구체예로서는, 메틸카르바모일기, 에틸카르바모일기 등을 들 수 있다.

Ar₁, Ar₂ 의 방향족 탄화수소기의 치환기로서의 아릴카르바모일기는, -CO-NHR⁴⁷ 로 나타내고, R⁴⁷ 은 치환기를 갖고 있어도 되는 페닐기 또는, 치환기를 갖고 있어도 되는 나프틸기를 나타낸다. 그 페닐기 및 나프틸기의 바람직한 치환기의 총 탄소수, 갖고 있어도 되는 치환기의 예는, 상기 R⁴³ 및 R⁴⁴ 의 페닐기 및 나프틸기의 경우에 예시된 것과 동일하다. 그 아릴카르바모일기의 구체예로서는 페닐카르바모일기, 나프틸카르바모일기 등을 들 수 있다.

Ar₁, Ar₂ 의 방향족 탄화수소기의 치환기로서의 알킬술파모일기는, -CO-NHR⁶⁸ 로 나타내고, R⁶⁸ 은 치환기를 갖고 있어도 되는 알킬기를 나타낸다. 그 알킬기의 바람직한 치환기의 총 탄소수, 갖고 있어도 되는 치환기의 예는, 상기 R⁴¹ 및 R⁴² 의 알킬기의 경우에 예시된 것과 동일하다. 그 알킬술파모일기의 구체예로서는, 메틸술파모일기, 에틸술파모일기 등을 들 수 있다.

Ar₁, Ar₂ 의 방향족 탄화수소기의 치환기로서의 아릴술파모일기는, -CO-NHR⁶⁹ 로 나타내고, R⁶⁹ 는 치환기를 갖고 있어도 되는 페닐기 또는, 치환기를 갖고 있어도 되는 나프틸기를 나타낸다. 그 페닐기 및 나프틸기의 바람직한 치환기의 총 탄소수, 갖고 있어도 되는 치환기의 예는, 상기 R⁴³ 및 R⁴⁴ 의 페닐기 및 나프틸기의 경우에 예시한 것과 동일하다. 그 아릴술파모일기의 구체예로서는 페닐술파모일기, 나프틸술파모일기 등을 들 수 있다.

Ar₁, Ar₂ 의 방향족 탄화수소기의 치환기로서의 페닐기는, 치환기의 총 탄소수가 통상적으로 6 이상, 통상적으로 10 이하, 바람직하게는 8 이하이다. 그 페닐기로 치환되어 있어도 되는 기로서는, 탄소수가 1 내지 4 인 알콕시기, 수산기, 술포기 및 카르복시기 등을 들 수 있다.

치환기를 갖고 있어도 되는 페닐기의 구체예로서는, 페닐기, 3-술포페닐기, 4-술포페닐기 등을 들 수 있다.

Ar₁, Ar₂ 의 방향족 탄화수소기의 치환기로서의 아릴옥시기는, 치환기의 총 탄소수가 통상적으로 6 이상, 통상적으로 12 이하, 바람직하게는 10 이하이다. 그 아릴옥시기를 구성하는 아릴기로서는, 페닐기, 나프틸기가 바람직하다. 이 아릴옥시기가 갖고 있어도 되는 치환기로서는, 탄소수가 1 내지 4 인 알킬기, 탄소수가 1 내지 4 인 알콕시기, 카르복시기, 술포기, 수산기 등을 들 수 있다.

치환기를 갖고 있어도 되는 아릴옥시기의 구체예로서는, 페녹시기, 2-나프톡시기, p-톨릴옥시기, p-메톡시페녹시기, o-카르복시페녹시기 등을 들 수 있다.

<분자량>

본 발명의 이방성막용 아조 화합물의 분자량으로서는, 유리산의 형태로, 1500 이하가 바람직하고, 1300 이하가 보다 바람직하고, 1200 이하가 특히 바람직하다.

또한, 이방성막용 아조 화합물은, 통상적으로 수용성의 화합물이다.

<염형에 대해>

본 발명의 이방성막용 아조 화합물은, 유리산의 형태 (유리산형) 그대로 사용해도 되고, 산기의 일부가 염형으로 되어 있는 것이어도 된다. 또, 염형의 화합물과 유리산형의 화합물이 혼재하고 있어도 된다. 또, 제조시에 염형으로 얻어진 경우에는 그대로 사용해도 되고, 원하는 염형으로 변환시켜도 된다. 염 교환 방법으로서는, 공지된 방법을 임의로 사용할 수 있고, 예를 들어 이하의 방법을 들 수 있다.

(1) 염형으로 얻어진 화합물의 수용액에 염산 등의 강산을 첨가하고, 화합물을 유리산의 형태로 산석 (酸析) 시킨 후, 원하는 카운터 이온을 갖는 알칼리 용액 (예를 들어 수산화나트륨 수용액, 수산화리튬 수용액) 으로 화합물의 산성기를 중화시켜 염교환하는 방법.

(2) 염형으로 얻어진 화합물의 수용액에, 원하는 카운터 이온을 갖는 대과잉의 중성염 (예를 들어 염화나트륨, 염화리튬) 을 첨가하여, 염석 케이크의 형태로 염교환을 실시하는 방법.

(3) 염형으로 얻어진 화합물의 수용액을, 강산성 양이온 교환 수지로 처리하고, 화합물을 유리산의 형태로 산석시킨 후, 원하는 카운터 이온을 갖는 알칼리 용액 (예를 들어 수산화나트륨 수용액, 수산화리튬 수용액) 으로 화합물의 산성기를 중화시켜 염교환하는 방법.

(4) 미리 원하는 카운터 이온을 갖는 알칼리 용액 (예를 들어 수산화나트륨 수용액, 수산화리튬 수용액) 으로 처리한 강산성 양이온 교환 수지에, 염형으로 얻어진 화합물의 수용액을 작용시켜, 염교환을 실시하는 방법.

또, 본 발명의 이방성막용 아조 화합물의 산성기가 유리산형을 취할지, 염형을 취할지는, 화합물의 pKa 와 화합물 용액의 pH 에 의존한다. 그로 인해, 본 발명의 이방성막용 아조 화합물의 산성기는, 유리산형, 어느 염형, 산성기가 2 개 있는 경우에는 유리산형과 염형의 혼합 또는 2 종류 이상의 염형의 혼합 등, 다양한 형을 취할 수 있다. 특히, 이방성막 중에서의 아조 화합물의 산성기는, 후술하는 이방성막용 조성물의 바람직한 pH 나 이방성막용 아조 화합물을 함유한 기재의 해리성 염을 함유하는 용액에서의 처리의 영향을 받아, 이방성막을 제조하는 공정에서 사용한 것과는 상이한 염형을 하고 있는 것도 있을 수 있다.

상기의 염형의 예로서는, Na, Li, K 등의 알칼리 금속의 염, 알킬기 혹은 하이드록시알킬기로 치환되어 있어도 되는 암모늄의 염, 또는 유기아민의 염을 들 수 있다.

유기 아민의 예로서, 탄소수 1 ∼ 6 의 저급 알킬아민, 하이드록시 치환된 탄소수 1 ∼ 6 의 저급 알킬아민, 카르복시 치환된 탄소수 1 ∼ 6 의 저급 알킬아민 등을 들 수 있다.

이들 염형의 경우, 그 종류는 1 종류에 한정되지 않고 복수종 혼재하고 있어도 된다. 또, 화합물의 1 분자 내에 복수종 혼재해도 되고, 조성물 중에 복수종 혼재하고 있어도 된다.

본 발명의 이방성막용 아조 화합물의 산성기의 바람직한 형으로서는, 아조 화합물의 제조 공정, 후술하는 이방성막용 조성물의 내용이나 바람직한 pH 등에 따라 상이한데, 물에 대해 고용해도가 필요한 경우 (예를 들어, 기재로의 아조 화합물의 이행능을 높이기 위해, 이방성막용 조성물 중에서 높은 화합물 농도가 필요한 경우 등) 에는, 리튬염, 트리에틸아민염, 수용성기가 치환된 유기 아민염이거나, 또는 이들 염을 분자 중에 1 이상 갖는 것이 바람직하다. 한편, 물에 대해 저용해도가 필요한 경우 (예를 들어, 아조 화합물의 제조 공정에서 화합물 용액으로부터 그 아조 화합물을 석출시키고자 하는 경우 등) 에는, 유리산의 형, 나트륨염, 칼륨염, 칼슘염 등의 알칼리토금속염이거나, 또는 이들 염을 분자 중에 1 이상 갖는 것이 바람직하다.

<본 발명의 이방성막용 아조 화합물의 구체예>

본 발명의 이방성막용 아조 화합물의 구체예를 이하에 나타내는데, 본 발명은 이들에 한정되는 것은 아니다. 또, 이하의 구체예는, 유리산의 형태로 기재한다.

[화학식 5]

[화학식 6]

<이방성막용 아조 화합물의 합성 방법>

본 발명의 이방성막용 아조 화합물은, 그 자체 주지된 방법에 따라 제조할 수 있다.

예를 들어 상기 예시 화합물 No.(I-7) 로 나타내는 아조 화합물은 하기 (1) ∼ (3) 의 공정에 따라 제조할 수 있다.

(1) 4-아미노-4'-니트로스틸벤-2,2'-디술폰산나트륨을 N-메틸-2-피롤리돈에 실온에서 용해시키고, 계피산클로라이드와 탄산나트륨을 첨가하고, 실온에서 2 시간 아실화를 실시한다. 반응 종료 후, 물에 배출하여, 염석에 의해 아실화물을 꺼낸다.

(2) 얻어진 아실화물을 물에 용해시키고 60 ∼ 70℃ 로 승온시켜, 수황화나트륨을 첨가하여 환원 반응을 실시한다. 반응 종료 후 실온까지 강온시켜, 염석에 의해 환원된 화합물을 꺼낸다.

(3) 얻어진 화합물을 통상적인 방법 {예를 들어 호소다 유타카 저 「신염료 화학」(쇼와 48년 12월 21일, 기보당 발행) 제 396 페이지 ∼ 제 409 페이지 등 참조} 에 따라 디아조화하고, 페놀에 커플링시킴으로써 상기 예시 화합물 No.(I-7) 로 나타내는 아조 화합물이 얻어진다.

[이방성막용 조성물]

이방성막을 제조할 때, 이방성막용 조성물을 사용할 수 있다.

이방성막용 조성물은, 본 발명의 이방성막용 아조 화합물과, 통상적으로 추가로 용제를 함유하고, 본 발명의 화합물이 용제에 용해 혹은 분산된 것이다.

이 조성물 중 또는 이하에 상세히 서술하는 이방성막에서, 본 발명의 이방성막용 아조 화합물을 2 종 이상 조합하여 사용하거나, 요오드나 공지된 이색성 화합물 등의 다른 이색성 물질을 조합하여 사용할 수도 있다. 또한, 제조되는 이방성막에 원하는 성능을 부여하거나, 제조에 바람직한 조성물로 하기 위해, 여러 가지 용제, 첨가제 등을 적절하게 조합하여 사용할 수 있다. 나아가서는 배향을 저하시키지 않을 정도로 자외선 흡수 화합물이나 근적외선 흡수 화합물 등의 다른 화합물과 혼합하여 사용할 수 있다. 이로써, 이방성막의 내구성의 향상, 색상의 보정, 편광 성능의 향상을 도모함과 함께, 각종 색상을 갖는 이방성막을 제조할 수 있다.

이방성막용 조성물에 사용하는 용제로서는, 물, 물 혼화성이 있는 유기 용제, 혹은 이들 혼합물이 적합하다. 유기 용제의 구체예로서는, 메틸알코올, 에틸알코올, 이소프로필알코올 등의 알코올류 ; 에틸렌글리콜, 디에틸렌글리콜, 글리세린 등의 다가 알코올류 ; 메틸셀로솔브, 에틸셀로솔브 등의 셀로솔브류 ; N-메틸피롤리돈, N,N-디메틸포름아미드 등의 비프로톤성 용제 ; 등의 단독 또는 2 종 이상의 혼합 용제를 들 수 있다.

이들 용제에 본 발명의 이방성막용 아조 화합물을 용해시키는 경우의 농도로서는, 화합물의 용해성이나 회합 상태의 형성 농도에도 의존하는데, 바람직하게는 0.001 중량% 이상, 보다 바람직하게는 0.01 중량% 이상, 바람직하게는 10 중량% 이하, 보다 바람직하게는 5 중량% 이하, 특히 바람직하게는 1 중량% 이하이다.

또, 이방성막용 조성물은, 화합물의 용해성 향상 등을 위해, 필요에 따라 계면 활성제 등의 첨가제를 첨가할 수 있다. 계면 활성제로서는, 아니온계, 카티온계, 노니온계 모두 사용할 수 있다. 그 첨가 농도는 통상적으로 0.01 중량% 이상, 10 중량% 이하가 바람직하다.

또한, 본 발명에 관련된 이방성막용 조성물은, 기재에 대한 염착성 등의 향상을 위해, 필요에 따라 첨가제를 사용할 수 있다. 구체적으로는, 아사하라 테루조 편 「신염료 가공 강좌 제 7 권 염색 II」교리츠 출판 주식회사, 1972년 6월 15일 발행, 233 페이지 내지 251 페이지나 야마시타 유우야, 네모토 요시로 공저 「고분자 활성제와 염색 보조제의 계면 화학」주식회사 세이분도 신코우샤, 1963년 9월 5일 발행, 94 페이지 내지 173 페이지 등에 기재된 섬유용 염색에 사용되는 염색 보조제, 및 그 수법이나 전술한 계면 활성제, 알코올류, 글리콜류, 우레아, 염화나트륨, 황산나트륨 등의 무기염 등이다. 그 첨가 농도는 통상적으로 0.01 중량% 이상, 10 중량% 이하가 바람직하다.

[이방성막]

본 발명의 이방성막용 아조 화합물을 사용하여 이방성막을 제조할 수 있다.

이 이방성막은, 본 발명의 이방성막용 아조 화합물 외에, 필요에 따라 그 밖의 화합물, 예를 들어, 공지된 청색 이색성 염료, 요오드 등이나 상기와 같은 계면 활성제 등의 첨가제를 함유하고 있어도 된다. 물론, 본 발명의 이방성막용 아조 화합물인 아조 화합물끼리를 조합하여 함유하고 있어도 된다.

이방성막의 제조 방법으로서는, 다음의 (a) ∼ (d) 방법 등을 들 수 있다.

(a) 연신한 폴리비닐알코올 등의 고분자 기재를, 본 발명의 이방성막용 아조 화합물을 함유하는 용액 (이방성막용 조성물) 등으로 염색하는 방법.

(b) 폴리비닐알코올 등의 고분자 기재를, 본 발명의 이방성막용 아조 화합물을 함유하는 용액 (이방성막용 조성물) 등으로 염색한 후, 연신하는 방법.

(c) 폴리비닐알코올 등의 고분자 기재를, 본 발명의 이방성막용 아조 화합물을 함유하는 용액 (이방성막용 조성물) 등의 용액에 용해시키고, 필름 형상으로 성막한 후에 연신하는 방법.

(d) 본 발명의 이방성막용 아조 화합물을 적당한 용제에 용해시키고, 성막용 (이방성막 형성용) 조성물을 조제하고, 이 성막용 조성물을 사용하여 유리판 등의 각종 기재 표면에 습식 성막법으로 성막하고, 성막용 조성물 중에 함유되는 이방성막용 아조 화합물을 배향·적층시키는 방법.

본 발명에서는 상기 (a) ∼ (d) 중 어느 것을 사용해도 되는데, (a) ∼ (c) 중 어느 것을 사용하는 것이 특히 바람직하다.

이하에, 본 발명의 이방성막용 아조 화합물을 사용하여 이방성막을 제조하는 방법에 대해 설명하는데, 특히, 본 발명의 이방성막용 아조 화합물에서 바람직하게 사용되는 상기 (a) ∼ (c) 중 어느 방법에 의해 이방성막을 제조하는 경우에 대해 상세히 서술한다.

또한, 상기 (d) 방법에 의해 이방성막을 제조하는 방법이나, 그 경우에 사용되는 성막용 조성물에 대해서는, 공지된 방법 및 조성물을 적절히 사용할 수 있는데, 예를 들어, 국제 공개 제2006/107035호 팜플렛 등에 기재된 방법 및 조성물 등을 들 수 있다.

본 발명의 이방성막용 아조 화합물을 사용하여, 이방성막을 형성하는 경우, 예를 들어 상기 (a) ∼ (c) 중 어느 방법에서도, 본 발명의 이방성막용 아조 화합물을 적당한 용제에 용해시켜 사용한다. 용제로서는, 상기 이방성막용 조성물에 함유하는 용제를 들 수 있다.

또한, 상기 (a), 및 (b) 방법에서의 이방성막용 아조 화합물 용액으로 염색하는 기재나, 상기 (c) 방법에서 이방성막용 아조 화합물과 함께 연신되어 이루어지는 기재로서는, 폴리비닐알코올계의 수지, 폴리아세트산비닐 수지, 에틸렌/아세트산비닐 (EVA) 수지, 나일론 수지, 폴리에스테르 수지 등을 들 수 있다. 그 중에서도, 폴리비닐알코올 등, 이방성막용 아조 화합물과의 친화성이 높은 고분자 재료가 바람직하다.

폴리비닐알코올의 종류로서는, 일반적으로 고분자량 또한 고비누화도인 것이, 편광도나 이색성 등의 광학 특성의 관점에서 바람직한데, 온습도에 의한 수축으로 인한 결함을 억제하는 것이나 광학 특성과 내환경 성능의 양립을 도모하는 등의 목적으로부터, 이색성 물질의 종류와 폴리비닐알코올의 비누화도나 변성도 (소수성 공중합 성분비) 를 적절히 조정한 폴리비닐알코올 유도체를 선택할 수 있다.

고분자 재료와 이방성막용 아조 화합물의 상호 작용을 제어하는 구체적 수법으로서는, 고분자 재료와 이방성막용 아조 화합물의 각각에 프로톤 공여성의 -OH, -NH₂, -NHR, -NHCO-, -NHCONH- 등에 대해, 프로톤 수용성의 -N=N-, -OH, -NH₂, -NRR', -OR, -CN, -C≡C- 및 페닐기나 나프틸기 등의 방향 고리를 관능기로서 조합시킴으로써, 유효한 것으로 할 수 있다 (R 및 R' 는 임의의 치환기이다). 또한 관능기의 밀도를 조정함으로써, 이색성이나 염착성 향상에 효과를 얻을 수 있다.

상기 (a) ∼ (c) 방법에서의, 염색 및 성막 그리고 연신은, 일반적인 하기 방법으로 실시할 수 있다.

상기의 이방성막용 조성물 및 필요에 따라 염화나트륨, 황산나트륨 등의 무기염, 계면 활성제 등의 염색 보조제를 첨가한 염욕 중에, 통상적으로 35 ℃ 이상, 통상적으로 80 ℃ 이하에서, 통상적으로 10 분 이하, 고분자 필름을 침지시켜 염색하고, 이어서 필요에 따라 붕산 처리하여 건조시킨다. 혹은, 고분자 중합체를 물 및/또는 알코올, 글리세린, 디메틸포름아미드 등의 친수성 유기 용매에 용해시키고, 본 발명에 관련된 이방성막용 조성물을 첨가하여 원액 염색을 실시하고, 이 염색 원액을 유연법, 용액 도포법, 압출법 등에 의해 성막하여 염색 필름을 제조한다. 용매에 용해시키는 고분자 중합체의 농도로서는, 고분자 중합체의 종류에 따라서 상이하기도 하지만, 통상적으로 5 중량% 이상, 바람직하게는 10 중량% 이상 정도이고, 통상적으로 30 중량% 이하, 바람직하게는 20 중량% 이하 정도이다. 또, 용매에 용해되는 이방성막용 아조 화합물의 농도로서는, 고분자 중합체에 대해 통상적으로 0.1 중량% 이상, 바람직하게는 0.8 중량% 이상 정도이고, 통상적으로 5 중량% 이하, 바람직하게는 2.5 중량% 이하 정도이다.

상기와 같이 하여 염색 및 성막하여 얻어진 미연신 필름은, 적당한 방법에 의해 1 축 방향으로 연신된다. 연신 처리함으로써 이방성막용 아조 화합물 분자가 배향되어 이색성이 발현된다. 1 축으로 연신하는 방법으로서는, 습식법으로 인장하여 연신시키는 방법, 건식법으로 인장하여 연신시키는 방법, 건식법으로 롤간 압축 연신시키는 방법 등이 있고, 어느 방법을 이용하여 실시해도 된다. 연신 배율은 2 배 이상, 9 배 이하로 실시되는데, 고분자 중합체로서 폴리비닐알코올 및 그 유도체를 사용한 경우에는 3 배 이상, 6 배 이하의 범위가 바람직하다.

연신 배향 처리한 후에, 그 연신 필름의 내구성 향상과 편광도 향상의 목적으로 붕산 처리한다. 붕산 처리에 의해, 이방성막의 광선 투과율과 편광도가 향상된다. 붕산 처리의 조건으로서는, 사용하는 친수성 고분자 중합체 및 이방성막용 아조 화합물의 종류에 따라 상이한데, 일반적으로는 붕산 농도로서는, 통상적으로 1 중량% 이상, 바람직하게는 5 중량% 이상 정도이고, 통상적으로 15 중량% 이하, 바람직하게는 10 중량% 이하 정도이다. 또, 처리 온도로서는 통상적으로 30 ℃ 이상, 바람직하게는 50 ℃ 이상이고, 통상적으로 80 ℃ 이하의 범위에 있는 것이 바람직하다. 붕산 농도가 1 중량% 미만이거나, 처리 온도가 30 ℃ 미만인 경우에는, 처리 효과가 작아지는 경우가 있고, 또, 붕산 농도가 15 중량% 를 초과하거나, 처리 온도가 80 ℃ 이상을 초과하는 경우에는 이방성막이 취약해져 바람직하지 않는 경우가 있다.

(a) ∼ (c) 중 어느 방법에 의해 얻어지는 이방성막의 막두께는 통상적으로 50 ㎛ 이상, 특히 80 ㎛ 이상이고, 200 ㎛ 이하가 바람직하고, 특히 100 ㎛ 이하인 것이 바람직하다.

본 발명의 이방성막용 아조 화합물을 함유하는 이방성막은, 광흡수의 이방성을 이용하여, 직선 편광, 원 편광, 타원 편광 등을 얻는 편광막으로서 기능하는 것 외에, 막형성 프로세스와 기재나 이방성막용 아조 화합물을 함유하는 조성물의 선택에 의해, 굴절률 이방성이나 전도 이방성 등의 각종 이방성막으로서 기능화가 가능해져, 여러 가지 종류의, 다양한 용도에 적용할 수 있는 편광 소자로 할 수 있다.

이방성막을 편광 소자로서 사용하는 경우, 상기 (a) ∼ (d) 중 어느 것으로 대표되는 방법으로 제조된 이방성막 그 자체를 사용해도 되고, 또 그 이방성막 상에 보호층, 점착층, 반사 방지층, 위상차층 등, 여러 가지 기능을 갖는 층을 적층 형성하여 적층체로서 사용해도 된다.

본 발명의 이방성막을 기판 상에 형성하여 편광 소자로서 사용하는 경우, 형성된 이방성막 그 자체를 사용해도 되고, 또 상기와 같은 보호층 외에, 점착층 혹은 반사 방지층, 배향막, 위상차 필름으로서의 기능, 휘도 향상 필름으로서의 기능, 반사 필름으로서의 기능, 반투과 반사 필름으로서의 기능, 확산 필름으로서의 기능 등의 광학 기능을 갖는 층 등, 여러 가지 기능을 갖는 층을 습식 성막법 등에 의해 적층 형성하여 적층체로서 사용해도 된다.

이들 광학 기능을 갖는 층은, 예를 들어 이하와 같은 방법에 의해 형성할 수 있다.

위상차 필름으로서의 기능을 갖는 층은, 예를 들어 일본 공개특허공보 평2-59703호, 일본 공개특허공보 평4-230704호 등에 기재된 연신 처리를 실시하거나, 일본 공개특허공보 평7-230007호 등에 기재된 처리를 실시하거나 함으로써 형성할 수 있다.

또, 휘도 향상 필름으로서의 기능을 갖는 층은, 예를 들어 일본 공개특허공보 제2002-169025호나 일본 공개특허공보 제2003-29030호에 기재되는 바와 같은 방법으로 미세 구멍을 형성하거나, 혹은, 선택 반사의 중심 파장이 상이한 2 층 이상의 콜레스테릭 액정층을 중첩함으로써 형성할 수 있다.

반사 필름 또는 반투과 반사 필름으로서의 기능을 갖는 층은, 증착이나 스퍼터링 등으로 얻어진 금속 박막을 사용하여 형성할 수 있다.

확산 필름으로서의 기능을 갖는 층은, 상기의 보호층에 미립자를 함유하는 수지 용액을 코팅함으로써 형성할 수 있다.

또, 위상차 필름이나 광학 보상 필름으로서의 기능을 갖는 층은, 디스코틱 액정성 화합물, 네마틱 액정성 화합물 등의 액정성 화합물을 도포하여 배향시킴으로써 형성할 수 있다.

본 발명의 이방성막용 아조 화합물을 사용한 이방성막은, 광범위한 색표현이 가능하고, 고내열성의 편광 소자를 얻을 수 있다는 점에서, 액정 디스플레이나 유기 EL 디스플레이뿐만 아니라 액정 프로젝터나 차재용 표시 패널 등, 고내열성이 요구되는 용도에도 바람직하게 사용할 수 있다.

실시예

다음으로, 실시예에 의해 본 발명을 더욱 구체적으로 설명하는데, 본 발명은 그 요지를 넘지 않는 한 이하의 실시예에 한정되는 것은 아니다.

또한, 이하의 실시예 중에서, 이색비는, 프리즘 편광자를 입사 광학계에 배치한 분광 광도계로 이방성막의 투과율을 측정한 후, 다음 식에 의해 계산하였다.

이색비 (D) = Az/Ay

Az = -log(Tz)

Ay = -log(Ty)

Tz : 이방성막의 흡수축 방향의 편광에 대한 투과율

Ty : 이방성막의 편광축 방향의 편광에 대한 투과율

또, 최대 흡수 파장은, 이 Az 가 최대가 되는 파장으로 하여 구하였다.

본 발명의 이방성막용 아조 화합물 중, 상기 구체예의 아조 화합물의 장단축비 (k) 및 식 (1) 로 계산되는 파장 λ(k) ㎚ 와 폴리비닐알코올 필름 중에서의 최대 흡수 파장 λmax (PVA), 분자 장축과 분자 흡수축이 이루는 각도 (θ) 를 이하의 표에 정리하였다.

[실시예 1]

증류수 100 중량부에 화합물 No.(I-1) 의 구조를 갖는 이방성막용 아조 화합물의 나트륨염 0.05 중량부와 무수 황산나트륨 0.02 중량부를 첨가하여 교반 용해시켜 염색액으로 하였다. 폴리비닐알코올 필름 (OPL 필름, 니혼 합성 화학 공업사 제조, 막두께 75 ㎛) 을, 50 ℃ 의 염색액에 1 분간 침지시켜 염색하고, 50 ℃ 의 수욕에서 잉여의 염료를 세정한 후, 50 ℃ 의 4 중량% 붕산 수용액 중에서 6 배로 연신하였다. 연신 후, 실온의 수욕 중에서 잉여의 붕산을 세정하고, 송풍 건조시킴으로써 이방성막을 얻었다.

[화학식 7]

이 이방성막의 최대 흡수 파장은 415 ㎚ 이고, 그 파장에서의 단체 투과율은 41 %, 이색비는 49.3 이었다. 이것으로부터, 동일한 흡수 파장에서 비교하면 요오드와 동등 이상의 이색성을 갖고 있는 것을 알 수 있고, 본 발명의 이방성막용 아조 화합물은, 도 1 에 나타내는 바와 같이 요오드와 동등 정도 이상의 이색성을 갖는 아조 화합물인 것을 알 수 있었다.

[실시예 2]

화합물 No.(I-1) 대신에, 화합물 No.(I-2) 의 이방성막용 아조 화합물의 나트륨염을 사용한 것 이외에는, 실시예 1 과 동일한 방법을 이용하여 이방성막을 얻었다.

[화학식 8]

이 이방성막의 최대 흡수 파장은 410 ㎚ 이고, 그 파장에서의 단체 투과율은 47 %, 이색비는 45.2 였다. 이것으로부터, 동일한 흡수 파장에서 비교하면 요오드와 동등 이상의 이색성을 갖고 있는 것을 알 수 있고, 본 발명의 이방성막용 아조 화합물은, 도 1 에 나타내는 바와 같이 요오드와 동등 정도 이상의 이색성을 갖는 아조 화합물인 것을 알 수 있었다.

[실시예 3]

화합물 No.(I-1) 대신에, 화합물 No.(I-3) 의 이방성막용 아조 화합물의 나트륨염을 사용한 것 이외에는, 실시예 1 과 동일한 방법을 이용하여 이방성막을 얻었다.

[화학식 9]

이 이방성막의 최대 흡수 파장은 395 ㎚ 이고, 그 파장에서의 단체 투과율은 40 %, 이색비는 35.7 이었다. 이것으로부터, 동일한 흡수 파장에서 비교하면 요오드와 동등 이상의 이색성을 갖고 있는 것을 알 수 있고, 본 발명의 이방성막용 아조 화합물은, 도 1 에 나타내는 바와 같이 요오드와 동등 정도 이상의 이색성을 갖는 아조 화합물인 것을 알 수 있었다.

[실시예 4]

화합물 No.(I-1) 대신에, 화합물 No.(I-4) 의 이방성막용 아조 화합물의 나트륨염을 사용한 것 이외에는, 실시예 1 과 동일한 방법을 이용하여 이방성막을 얻었다.

[화학식 10]

이 이방성막의 최대 흡수 파장은 395 ㎚ 이고, 그 파장에서의 단체 투과율은 44 %, 이색비는 32.2 였다. 이것으로부터, 동일한 흡수 파장에서 비교하면 요오드와 동등 이상의 이색성을 갖고 있는 것을 알 수 있고, 본 발명의 이방성막용 아조 화합물은, 도 1 에 나타내는 바와 같이 요오드와 동등 정도 이상의 이색성을 갖는 아조 화합물인 것을 알 수 있었다.

[실시예 5]

화합물 No.(I-1) 대신에, 화합물 No.(I-5) 의 이방성막용 아조 화합물의 나트륨염을 사용한 것과, 염색 시간을 10 분으로 한 것 이외에는, 실시예 1 과 동일한 방법을 이용하여 이방성막을 얻었다.

[화학식 11]

이 이방성막의 최대 흡수 파장은 420 ㎚ 이고, 그 파장에서의 단체 투과율은 44 %, 이색비는 46.7 이었다. 이것으로부터, 동일한 흡수 파장에서 비교하면 요오드와 동등한 이색성을 갖고 있는 것을 알 수 있고, 본 발명의 이방성막용 아조 화합물은, 도 1 에 나타내는 바와 같이 요오드와 동등한 이색성을 갖는 아조 화합물인 것을 알 수 있었다.

[실시예 6]

화합물 No.(I-1) 대신에, 화합물 No.(I-6) 의 이방성막용 아조 화합물의 나트륨염을 사용한 것과, 염색 시간을 5 분으로 한 것 이외에는, 실시예 1 과 동일한 방법을 이용하여 이방성막을 얻었다.

[화학식 12]

이 이방성막의 최대 흡수 파장은 420 ㎚ 이고, 그 파장에서의 단체 투과율은 41 %, 이색비는 47.1 이었다. 이것으로부터, 동일한 흡수 파장에서 비교하면 요오드와 동등한 이색성을 갖고 있는 것을 알 수 있고, 본 발명의 이방성막용 아조 화합물은, 도 1 에 나타내는 바와 같이 요오드와 동등한 이색성을 갖는 아조 화합물인 것을 알 수 있었다.

[실시예 7]

화합물 No.(I-1) 대신에, 화합물 No.(I-7) 의 이방성막용 아조 화합물의 나트륨염을 사용한 것 이외에는, 실시예 1 과 동일한 방법을 이용하여 이방성막을 얻었다.

[화학식 13]

이 이방성막의 최대 흡수 파장은 415 ㎚ 이고, 그 파장에서의 단체 투과율은 41.1 %, 이색비는 60.7 이었다. 이것으로부터, 동일한 흡수 파장에서 비교하면 요오드보다 높은 이색성을 갖고 있는 것을 알 수 있고, 본 발명의 이방성막용 아조 화합물은, 도 1 에 나타내는 바와 같이 요오드와 동등 정도 이상의 이색성을 갖는 아조 화합물인 것을 알 수 있었다.

[실시예 8]

화합물 No.(I-1) 대신에, 화합물 No.(I-8) 의 이방성막용 아조 화합물의 나트륨염을 사용한 것 이외에는, 실시예 1 과 동일한 방법을 이용하여 이방성막을 얻었다.

[화학식 14]

이 이방성막의 최대 흡수 파장은 415 ㎚ 이고, 그 파장에서의 단체 투과율은 41.0 %, 이색비는 57.9 였다. 이것으로부터, 동일한 흡수 파장에서 비교하면 요오드보다 높은 이색성을 갖고 있는 것을 알 수 있고, 본 발명의 이방성막용 아조 화합물은, 도 1 에 나타내는 바와 같이 요오드와 동등 정도 이상의 이색성을 갖는 아조 화합물인 것을 알 수 있었다.

[실시예 9]

화합물 No.(I-1) 대신에, 화합물 No.(I-9) 의 이방성막용 아조 화합물의 나트륨염을 사용한 것 이외에는, 실시예 1 과 동일한 방법을 이용하여 이방성막을 얻었다.

[화학식 15]

이 이방성막의 최대 흡수 파장은 420 ㎚ 이고, 그 파장에서의 단체 투과율은 42.5 %, 이색비는 81.4 였다. 이것으로부터, 동일한 흡수 파장에서 비교하면 요오드보다 높은 이색성을 갖고 있는 것을 알 수 있고, 본 발명의 이방성막용 아조 화합물은, 도 1 에 나타내는 바와 같이 요오드와 동등 정도 이상의 이색성을 갖는 아조 화합물인 것을 알 수 있었다.

[비교예 1]

화합물 No.(I-1) 대신에, 하기 식 (A) 로 나타내는 「크리소페닌」(CI-24895, 토쿄 화성사 제조) 을 탈염 정제하여 사용한 것 이외에는, 실시예 1 과 동일한 방법을 이용하여 이방성막을 얻었다.

[화학식 16]

이 이방성막의 최대 흡수 파장은 455 ㎚ 이고, 그 파장에서의 단체 투과율은 41.3 %, 이색비는 42.3 이었다. 이것으로부터, 도 1 에 나타내는 바와 같이 동일한 흡수 파장에서 비교하면 요오드보다 낮은 이색성인 것을 알 수 있었다.

또한, 크리소페닌의 장단축비는 4.903, 분자 장축과 분자 흡수축이 이루는 각도 (θ) 가 0.4 도로 작았지만, 상기 식 (1) 에서 계산되는 파장 λ(k) 은 448 ㎚ 로, 폴리비닐알코올 필름 중의 최대 흡수 파장 455 ㎚ 쪽이 긴 값을 나타냈다.

[비교예 2]

화합물 No.(I-1) 대신에, 하기 식 (B) 로 나타내는 「Direct Yellow 44」(CI-29000, 토쿄 화성사 제조) 를 탈염 정제하여 사용한 것 이외에는, 실시예 1 과 동일한 방법을 이용하여 이방성막을 얻었다.

[화학식 17]

이 이방성막의 최대 흡수 파장은 415 ㎚ 이고, 그 파장에서의 단체 투과율은 43.2 %, 이색비는 38.5 였다. 이것으로부터, 도 1 에 나타내는 바와 같이 동일한 흡수 파장에서 비교하면 요오드보다 낮은 이색성인 것을 알 수 있었다.

또한, Direct Yellow 44 의 장단축비는 4.551 이고, 상기 식 (1) 에서 계산되는 파장 λ(k) 는 441 ㎚ 로, 폴리비닐알코올 필름 중의 최대 흡수 파장 415 ㎚ 쪽이 짧았지만, 분자 장축과 분자 흡수축이 이루는 각도 (θ) 가 1.9 도로 1.5 도보다 컸다.

[비교예 3]

화합물 No.(I-1) 대신에, 하기 식 (C) 로 나타내는 「Congo Red」(CI-22120, 토쿄 화성사 제조) 를 탈염 정제하여 사용한 것 이외에는, 실시예 1 과 동일한 방법을 이용하여 이방성막을 얻었다.

[화학식 18]

이 이방성막의 최대 흡수 파장은 530 ㎚ 이고, 그 파장에서의 단체 투과율은 40.1 %, 이색비는 49.0 이었다. 이것으로부터, 도 1 에 나타내는 바와 같이 동일한 흡수 파장에서 비교하면 요오드보다 낮은 이색성인 것을 알 수 있었다.

또한, Congo Red 의 장단축비는 3.829 이고, 상기 식 (1) 에서 계산되는 파장 λ(k) 는 425 ㎚ 로, 폴리비닐알코올 필름 중의 최대 흡수 파장 530 ㎚ 쪽이 길고, 또한, 분자 장축과 분자 흡수축이 이루는 각도 (θ) 가 2.0 도로 1.5 도보다 컸다.

[비교예 4]

화합물 No.(I-1) 대신에, 하기 식 (D) 로 나타내는 「Brilliant Yellow」(CI-24890, 토쿄 화성사 제조) 를 탈염 정제하여 사용한 것 이외에는, 실시예 1 과 동일한 방법을 이용하여 이방성막을 얻었다.

[화학식 19]

이 이방성막의 최대 흡수 파장은 430 ㎚ 이고, 그 파장에서의 단체 투과율은 38.8 %, 이색비는 40.3 이었다. 이것으로부터, 도 1 에 나타내는 바와 같이 동일한 흡수 파장에서 비교하면 요오드보다 낮은 이색성인 것을 알 수 있었다.

또한, Brilliant Yellow 의 장단축비는 3.750, 분자 장축과 분자 흡수축이 이루는 각도 (θ) 가 0.4 도로 작았지만, 상기 식 (1) 에서 계산되는 파장 λ(k) 는 423 ㎚ 로, 폴리비닐알코올 필름 중의 최대 흡수 파장 430 ㎚ 쪽이 긴 값을 나타냈다.

[비교예 5]

화합물 No.(I-1) 대신에, 하기 식 (E) 로 나타내는 「Stilbazo」(토쿄 화성사 제조) 를 탈염 정제하여 사용한 것 이외에는, 실시예 1 과 동일한 방법을 이용하여 이방성막을 얻었다.

[화학식 20]

이 이방성막의 최대 흡수 파장은 445 ㎚ 이고, 그 파장에서의 단체 투과율은 38.2 %, 이색비는 33.0 이었다. 이것으로부터, 도 1 에 나타내는 바와 같이 동일한 흡수 파장에서 비교하면 요오드보다 낮은 이색성인 것을 알 수 있었다.

또한, Stilbazo 의 장단축비는 3.699, 분자 장축과 분자 흡수축이 이루는 각도 (θ) 가 1.0 도로 작았지만, 상기 식 (1) 에서 계산되는 파장 λ(k) 은 422 ㎚ 로, 폴리비닐알코올 필름 중의 최대 흡수 파장 445 ㎚ 쪽이 긴 값을 나타냈다.

[참고예 1]

이색성은, 가시광 파장 영역의 어느 파장이어도 높은 것이 바람직한데, 비교 대상으로서 요오드형 편광판의 이색성과 동등 이상이면 충분히 가치가 있다고 생각된다. 하기 표는, 비특허문헌 3 으로부터 발췌한 요오드의 흡수 파장과 이색비의 관계이다.

상기의 값과, 실시예 1 ∼ 9 의 본 발명의 이방성막용 아조 화합물의 이색비로부터, 본 발명의 이방성막용 아조 화합물은, 편광막 등에 유용한 충분한 이색성을 갖는 것을 알 수 있다.

산업상 이용가능성

본 발명의 이방성막용 아조 화합물을 사용한 이방성막은, 광범위한 색표현이 가능하고, 고내열성의 편광 소자를 얻을 수 있어, 액정 디스플레이나 유기 EL 디스플레이뿐만 아니라 액정 프로젝터나 차재용 표시 패널 등으로서 산업상 유용하다.

또한, 2007년 11월 28일에 출원된 일본 특허 출원 2007-307599호의 명세서, 특허 청구 범위, 도면 및 요약서의 전체 내용을 여기에 인용하여, 본 발명의 명세서의 개시로서 도입하는 것이다.

Claims (4)

1. 막 중에 있어서의 최대 흡수 파장이, 하기 식 (1) 로 나타내는 파장 λ(k) ㎚ 보다 짧은 아조 화합물로서, 분자의 주흡수축과 분자 장축이 이루는 각도 (θ) 가 1.5 도 이하를 갖는 것을 특징으로 하는, 이방성막용 아조 화합물.
   [수학식 1]
   

   

   
   (식 (1) 중, 상수 A, B, C, D 및 δλ 는, 이하의 값을 갖는다.
   A = -18.069
   B = 40.645
   C = 0.79764
   D = -2.0793
   δλ = 67
   k 는, 아조 화합물 분자의 장단축비를 나타낸다)
2. 제 1 항에 있어서,
   분자 내에 하기 식 (i) 로 나타내는 구조를 갖는 것을 특징으로 하는, 이방성막용 아조 화합물.
   [화학식 1]
   

   

   
   (식 (i) 중, Ar₁ 은 치환기를 갖고 있어도 되는 방향족 탄화수소기를 나타낸다)
3. 제 1 항에 있어서,
   분자 내에 하기 식 (ii) 로 나타내는 구조를 갖는 것을 특징으로 하는, 이방성막용 아조 화합물.
   [화학식 2]
   

   

   
   (식 (ii) 중, Ar₂ 는 치환기를 가지고 있어도 되는 방향족 탄화수소기를 나타낸다)
4. 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
   막 중에 있어서의 최대 흡수 파장이 350 ∼ 500 ㎚ 인 것을 특징으로 하는, 이방성막용 아조 화합물.

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