KR20090116708A - 초음파 세정방법 - Google Patents

Abstract

본 발명의 1의 태양에 관한 초음파 세정방법에서는 용존가스가 존재하는 세정액에 초음파를 조사하여 피세정물을 세정할 경우에 있어서, 적어도 0.2msec 이상 연속적으로 초음파를 조사하는 공정과, 적어도 0.1msec 이상 초음파의 조사를 정지하는 공정을 소정주기로 반복한다. 그에 따라 초음파의 투과를 저해하는 조대기포의 발생을 방지할 수 있어 세정에 기여하는 래디컬을 효율적으로 발생시켜 피세정물을 효율적으로 세정할 수 있다.

초음파 세정, 유리기판, 반도체 웨이퍼, 세정액, 세정용 헤드.

Description

초음파 세정방법{ULTRASONIC CLEANING METHOD}

본 발명은 초음파 세정방법에 관한 것으로서, 특히 액정표시장치용 유리기판이나 포토마스크용 유리기판, 광디스크용 기판, 반도체 웨이퍼 등 기판의 세정에 사용되는 초음파 세정방법에 관한 것이다.

액정표시장치나 반도체의 제조 공정에는 유리기판이나 반도체 웨이퍼 등의 기판을 높은 청정도로 세정하는 것이 요구되는 공정이 있다. 이러한 공정에서는 종래, 약품을 이용한 세정과 초순수물을 이용한 린스를 되풀이하는 방법이 채택되고 있었다.

그러나, 이러한 방법으로 유리기판이나 반도체 웨이퍼 등의 기판을 세정하면, 약품이나 초순수물이 대량으로 필요하게 된다고 하는 문제가 있었다.

이 때문에, 최근에는 초음파를 이용해서 세정하는 방법이 널리 채용되고 있고, 그 세정 효과를 높이는 방법도 여러 가지 제안되어 있다. 예를 들면, 특허문헌 1에서는 세정액 중에 기능성의 가스를 용해시켜 이 기능성의 가스를 용해시킨 세정 액에 초음파를 조사하여 기판에 공급하는 방법이 제안되어 있다. 이 방법에 의하면, 세정액 중의 용존가스와 캐비티(cavity)의 생성압괴효과(生成壓壞效果)에 의해 반응성이 높은 래디컬을 발생시킬 수 있어 기판상의 오염물을 효과적으로 분해 제 거할 수 있다.

특허문헌:특허 3521393호 공보

그렇지만, 특허문헌 1에 기재한 기술과 같이 가스를 용해시킨 세정액에 초음파를 연속해서 조사하면, 시간의 경과와 함께 세정액 중에 대량의 기포가 발생하고, 또, 몇 개의 기포가 거품이 서로 결합해서 거칠고 큰 거품도 포함되게 되고, 이 발생한 대량인 기포의 영향으로 세정 효과가 저감한다고 하는 문제가 있다. 즉, 세정액 중에 대량의 거품이 발생하면, 초음파가 이 거품에서 산란되어 그 투과 성능이 저감하고, 그 결과 래디컬의 생성 효율이 저하하여 세정 효과가 저감한다. 특히 최근에는 기판에의 데미지를 고려해서 MHz 오더의 초음파가 사용되고 있기 때문에 종래의 저 주파(0.1MHz정도)에서는 문제로 되지 않던 기포 직경에서도 세정 효과가 저감한다고 하는 문제가 있다.

본 발명은 이러한 실정을 감안하여 이루어진 것으로, 피세정물을 효율적으로 세정할 수 있는 초음파세정 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.

본 발명의 제1의 태양은 상기 목적을 달성하기 위해 초음파를 조사한 세정 액으로 피세정물을 세정하는 초음파 세정방법에 있어서, 적어도 0.2msec 이상 연속적으로 초음파를 조사하는 공정과, 적어도 0.1msec 이상 초음파의 조사를 정지하는 공정을 소정주기(초음파 조사시간 + 초음파조사 정지시간)로 되풀이하는 것을 특징으로 하는 초음파세정 방법을 제공한다.

제1의 태양에 의하면, 초음파의 조사와 정지가 반복해 행하여져 적어도 0.2msec 이상 연속해서 초음파의 조사가 행하여진 후, 적어도 0.1msec 이상 조사가 정지된다. 이와 같이 적어도 0.1msec 이상의 조사 정지기간을 마련해서 주기적으로 초음파를 조사함으로써 초음파의 투과를 저해하는 대량의 기포 발생을 방지할 수 있고, 효율적으로 피세정물을 세정할 수 있다. 즉, 대량의 기포가 발생하면, 그것 자신이 초음파의 투과를 저해하지만, 게다가 대량으로 발생한 기포가 서로 결합함으로써 조대화(粗大化)하면, 더욱 초음파의 투과를 저해한다. 그러나, 적어도 0.1msec 이상의 조사 정지기간을 마련함으로써 그 조사 정지기간 동안에 발생한 미세기포를 세정액 중에 재용해시킬 수 있다. 그에 따라 초음파의 투과를 저해하는 조대기포(粗大氣泡)의 형성을 방지할 수 있고, 래디컬을 효율적으로 생성하여 피세정물을 효율적으로 세정할 수 있다. 또한, 적어도 0.2msec 이상의 조사기간을 마련함으로써 캐비테이션(cavitation)을 충분히 성장시켜 큰 래디컬 생성 효과를 얻을 수 있다.

이와 같이 본 발명의 제1의 태양에 의하면, 초음파의 투과를 저해하는 조대기포(粗大氣泡)의 발생을 방지하여 세정액 중에 효율적으로 초음파 에너지를 입력할 수 있고, 세정에 기여하는 래디컬을 효율적으로 발생시킬 수 있다. 그에 따라 피세정물을 효율적으로 세정할 수 있다. 또한, 소정의 간격으로 초음파를 조사하기 위해 연속해서 초음파를 조사하는 경우에 비해 투입하는 에너지를 낮게 할 수 있다. 게다가 연속해서 초음파를 조사하는 경우에 비해 세정액의 온도상승을 억제할 수 있어 세정액의 가스 용해도를 높게 유지할 수 있다. 이 때문에 초음파를 연속해서 조사할 경우에 비해 세정액에의 가스의 재용해를 촉진할 수 있다.

본 발명의 제2의 태양은 상기 목적을 달성하기 위해 제1의 태양에 있어서 상기 되풀이의 주기를 0.3msec이상, 500msec 미만으로 하는 것을 특징으로 한다.

제2의 태양에 의하면, 초음파의 조사와 정지의 되풀이 주기가 0.3msec이상, 500msec 미만으로 설정된다. 적어도 0.2msec 이상 연속해서 초음파가 조사되고, 적어도 0.1msec 이상 조사가 정지되므로 되풀이의 주기는 적어도 0.3msec 이상 필요하게 된다. 한편, 주기를 바꾸어서 세정 성능에 영향을 미치는 중요한 파라미터인 래디컬의 발생 상황을 보면, 주기를 500msec 정도로 까지 증가하면, 분명히 래디컬 발생량이 저하하게 된다(도8참조). 이는 주기가 길어지면, 그 중에서 초음파가 연속으로 조사되고 있는 시간이 길어져 대량의 기포 발생과, 그들 기포의 결합에 의한 조대화(粗大化)의 영향으로 초음파의 투과가 저해되어 도리어 래디컬의 발생이 저하하기 때문이다. 또한, 웨이퍼 상의 입자세정 효과를 주기를 변화시켜 조절하게 되는데 주기 500msec 정도가 되면, 효과가 떨어지기 시작하는 것이 확인되었다(도9참조). 따라서, 이 범위 내에서 입자ㆍ유기오염 등의 오염 대상에 따라서 주기를 설정함으로써 최적인 세정 조건을 설정할 수 있다.

본 발명의 제3의 태양은 상기 목적을 달성하기 위해 제1 또는 제2의 태양에 있어서 상기 세정액에 조사하는 초음파를 집속시키는 것을 특징으로 한다.

제3의 태양에 의하면, 초음파를 집속시킴으로써 집속초점 근방에서 효율적으로 세정에 기여하는 래디컬을 발생시킬 수 있다. 한편, 이와 같이 초음파를 집속시키면, 집속초점 근방에서 캐비티(cavity)가 집중해서 생성되기 때문에 조대기포가 형성되기 쉬워진다. 그러나 초음파의 조사 정지를 최적으로 행함으로써 조대기포의 발생을 방지할 수 있어 세정에 기여하는 래디컬을 효율적으로 발생시킬 수 있다.

본 발명에 관한 초음파 세정방법에 의하면, 피세정물을 효율적으로 세정할 수 있다.

도 1은 초음파 세정장치의 일예를 나타낸 모식도,

도 2는 세정용 헤드의 개략구성을 나타낸 정면 단면도,

도 3은 세정용 헤드의 개략구성을 나타낸 측면 단면도,

도 4A는 초음파연속 조사시에 있어서의 조대기포 생성과정(캐비티(cavity) 발생기(發生期))의 설명도,

도 4B는 초음파연속 조사시에 있어서의 조대기포 생성과정(캐비티(cavity) 생성효과 최대기(生成效果 最大期))의 설명도,

도 4C는 초음파연속 조사시에 있어서의 조대기포 생성과정(초음파 투과저해기(超音波 透過阻害期)의 설명도,

도 5는 초음파 조사방법의 설명도,

도 6A는 초음파 세정방법의 작용(캐비티(cavity) 발생기) 설명도,

도 6B는 초음파 세정방법의 작용(캐비티(cavity) 생성효과 최대기) 설명도,

도 6C는 초음파 세정방법의 작용(캐비티(cavity) 용해기) 설명도,

도 7은 DUTY비와 래디컬 발생량의 관계를 나타낸 그래프,

도 8은 주기와 래디컬 발생량의 관계를 나타낸 그래프(입력 100W, DUTY 0.5),

도 9는 주기와 세정 효과의 관계를 나타낸 그래프,

도 10은 초음파 세정장치의 다른 예를 나타낸 모식도이다.

〈도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명〉

10 : 초음파 세정장치 12 : 세정용 헤드

14 : 세정액 토출구 16 : 초음파 진동자

18 : 음향렌즈 20 : 탈기막 모듈

22 : 가스 용해막 모듈 30 : 피세정물

32 : 세정조 34 : 세정액

36 : 초음파 진동자 C : 유리기판

이하, 첨부 도면을 따라서 본 발명에 관한 초음파 세정방법의 바람직한 실시의 형태에 대해서 상세하게 설명한다.

도 1은 본 발명에 관한 초음파 세정방법을 실시하기 위한 초음파세정 장치의 일예를 나타낸 모식도이다.

이 초음파세정 장치(10)는 예를 들면 액정표시장치용 대형 유리기판의 세정 장치로서 구성되어 수평으로 반송되는 유리기판(G)의 표면에 초음파를 조사한 세정 액을 공급하여 유리기판(G)을 세정한다.

유리기판(G)의 반송은 예를 들면 컨베이어에 의해 행하여져 그 컨베이어의 윗쪽에 설치된 세정용 헤드(12)로부터 초음파가 조사된 세정액이 커튼 형상으로 공급된다.

도 2, 도 3은 각각 세정용 헤드(12)의 개략 구성을 나타낸 정면 단면도와 측면 단면도이다.

동 도면에 나타낸 바와 같이 세정용 헤드(12)는 선다니 테이퍼 형상으로 가공된 가로로 긴 상자형 형상으로 형성되어 있어 그 선단(하단)에 슬릿(slit) 형상의 세정액 토출구(14)가 형성되어 있다.

세정용 헤드(12)의 내주부(內周部) 천장면에는 판상의 초음파 진동자(16)가 달려 있고, 그 초음파 진동자(16)의 하면(下面)에는 음향 렌즈(18) 달려 있다. 초음파 진동자(16)로부터 발진된 초음파는 이 음향 렌즈(18)에 의해 소정의 집속 초점에 집속되어 세정액에 조사된다. 이와 같이 초음파를 집속시킴으로써 집속 초점근방에서 효율적으로 세정에 기여하는 래디컬을 발생시킬 수 있다. 따라서 이 집속 초점은 유리기판(G)의 표면 근방에 설정하는 것이 바람직하다.

세정용 헤드(12)의 측면에는 공급구(12A)가 형성되어 있어 이 공급구(12A)로부터 세정용 헤드 내에 세정액이 공급된다. 세정액으로는 예를 들면 초 순수한 물이 이용되어 도시하지 않은 공급원으로부터 탈기막(脫氣膜) 모듈(20), 가스 용해막 모듈(22)을 통해서 공급구(12A)에 공급된다.

탈기막(脫氣膜) 모듈(20)은 세정액 중에 용해하여 있는 여분인 가스를 탈기(脫氣) 하고, 이 탈기막 모듈(20)로 탈기 한 세정액에 가스 용해막 모듈(22)로 기능성의 가스를 용해시켜 공급구(12A)에 공급한다. 이와 같이 세정액 중에 용해하여 있는 여분인 가스를 탈기 후, 기능성의 가스를 공급하고, 수중에 용존시킴으로써 세정에 기여하는 가스의 용존양을 증가시킬 수 있어 세정 효율을 한층 향상시킬 수 있다.

한편 용존시키는 가스에 대해서는 특히 한정되지 않는다.

또한, 이와 같이 탈기한 세정액에 기능성의 가스를 용해시키는 구성에 대신해 세정액에 공기를 포화시키는 구성으로 하여도 된다.

공급구(12A)로부터 세정용 헤드 내에 공급된 세정액은 초음파 진동자(16)로부터 초음파가 조사되어 세정액 토출구(14)로부터 커튼 형상으로 토출된다.

유리기판(G)은 세정액 토출구(14)를 직교하도록 반송되어 그 세정액 토출구( 14)의 하부를 통과할 때 세정액 토출구(14)로부터 토출된 세정액이 표면에 공급되어 표면이 세정된다.

이상과 같이 구성된 초음파 세정장치(10)의 작용은 다음과 같다.

세정 대상의 유리기판(G)은 도시하지 않은 컨베이어에 의해 소정의 반송 경로를 수평으로 반송된다. 그리고 세정용 헤드(12)의 하부를 통과할 때 세정액 토출구(14)로부터 커튼 형상으로 토출되는 세정액이 표면에 공급되어 표면이 세정된다.

이 세정액은 도시하지 않은 공급원으로부터 공급되어 이 공급원으로부터 공급된 세정액이 탈기막 모듈(20)에서 탈기 후, 가스 용해막 모듈(22)에서 기능성의 가스가 용해되어 세정용 헤드(12)에 공급된다. 세정용 헤드(12)에 공급된 세정액은 초음파 진동자(16)에서 초음파를 조사시킨 후, 세정액 토출구(14)로부터 토출되어 유리기판(G)에 공급된다.

그런데, 상기한 바와 같이 유리기판(G)은 초음파가 조사된 세정액이 공급되어 세정되지만, 이 세정액에 조사하는 초음파를 연속해서 조사하면, 시간의 경과와 함께 세정액 중에 조대(粗大)한 기포가 발생하고, 이 발생한 조대기포의 영향으로 세정 효과가 저감해 버린다.

즉, 용존가스가 존재하는 세정액에 초음파를 연속으로 조사하면, 세정액 중에 미세한 기포가 발생한다(도 4A 참조). 발생한 미세한 거포군은 시간의 경과와 함께 증가해(도 4B 참조), 기포끼리 서로 결합하여 조대(粗大)한 기포를 형성한다(도 4C 참조). 기체와 액체에서는 밀도 및 매체 중을 전해지는 음속도 크게 다르기 때문에 이 경계면에서의 투과 성능은 현저하게 저하한다. 이 때문에 조사한 초음파는 이러한 조대기포에 의해 산란된다. 이 때문에 초음파 진동자(16)로부터 발진한 초음파는 초음파를 발진하는 면으로부터 멀어짐에 따라 세정액 중에 발생한 조대기포의 영향으로 감쇠한다. 이 결과 세정에 기여하는 래디컬을 발생할 수 없게 되고, 세정 효과가 저감한다.

그래서 본 실시 형태의 초음파 세정장치(10)에서는 주기적으로 초음파의 조사를 정지하여 조대기포의 발생을 방지한다. 즉, 도 5에 나타낸 바와 같이 조사와 정지를 소정주기로 반복하면서 초음파를 조사한다. 이때 조사기간(A)은 적어도 0.2msec 이상으로 설정하고, 조사 정지기간은 적어도 0.1msec 이상으로 설정한다.

이와 같이 적어도 0.1msec 이상의 조사 정지기간을 마련함으로써 초음파 조사중에 발생한 미세기포를 조사정지 중에 세정액 중에 재용해시킬 수 있어 조대기포의 발생을 효과적으로 방지할 수 있다. 즉, 상기한 바와 같이 조대기포는 초음파의 조사중에 발생한 미세한 기포군이 시간의 경과와 함께 증가하여 서로 결합함으로써 형성되지만(도 4A 내지 도 4C참조), 적어도 0.1msec 이상의 조사정지 기간을 마련함으로써 초음파 조사중에 발생한 미세기포를 조사정지 중에 세정액 중에 재용해시킬 수 있어 조대기포의 발생을 미연에 방지할 수 있다(도 6A 내지 도 6C 참조).

그에 따라 초음파 진동자(16)로부터 발진시킨 초음파를 효율적으로 투과시킬 수 있어 세정에 기여하는 래디컬을 효율적으로 생성할 수 있게 된다. 즉, 초음파가 조대기포에 저해될 일 없이 투과함으로써 세정액 중에는 효율적으로 캐비티(cavity)의 생성ㆍ압괴(壓壞)가 반복되게 된다. 이 압괴(壓壞)한 캐비티(cavity)로부터는 수소 래디컬(Hㆍ)이나 히드록시래디컬(OHㆍ)이 생성되어 이들 래디컬은 기판 표면상에 초음파의 음향류(音響流)를 타서 혼합 후 공급된다. 기판 표면상에 공급된 래디컬은 초음파 진동의 효과를 겸해서 기판 표면상에 존재하는 오염물과 반응해 분해 제거한다.

이와 같이 적어도 0.1msec 이상의 조사 정지기간을 마련함으로써 초음파의 투과를 저해하는 조대기포의 발생을 효과적으로 방지할 수 있어 세정에 기여하는 래디컬을 효율적으로 생성하여 유리기판(G)를 효율적으로 세정할 수 있다.

도 7은 주기를 1msec로 하여 DUTY비를 변화시켜 래디컬의 발생량을 검출하는 실험을 했을 때의 실험결과의 그래프이다.

동 도면에 나타낸 바와 같이 연속적으로 초음파를 조사하면(DUTY비=1의 경우), 세정에 기여하는 래디컬은 대부분 발생하지 않게 되지만, 주기적으로 조사를 정지(적어도 0.1msec 이상 정지)함으로써 세정에 기여하는 래디컬을 생성할 수 있는 것을 확인할 수 있다. 본 예의 경우 DUTY비 0.5∼0.7의 범위(정지기간 0.3∼ 0.5msec)에서 래디컬의 발생량이 최대로 되는 것을 확인할 수 있었다.

또한 조사기간은 적어도 0.2msec 이상으로 함으로써 캐비티(cavity)를 최대한으로 성장시킬 수 있다.

따라서 조사와 정지의 주기(= 조사기간 + 조사 정지기간)은 적어도 0.3msec이상이 필요하게 된다.

한편, 주기를 변화시켜 세정 성능에 영향을 미치는 중요한 파라미터인 래디컬의 발생상황을 보면, 주기를 500msec 정도로 까지 증가하면, 분명히 래디컬 발생량이 저하해 온다(도 8 참조). 주기가 길어지면, 그 중에서 초음파가 연속으로 조사되고 있는 시간이 길어져 기포의 대량 발생과 그들 기포의 결합에 의한 조대화의 영향으로 초음파의 투과가 저해되어 도리어 래디컬의 발생이 저하하기 때문이다.

또한 웨이퍼 상의 입자세정 효과를 주기를 변화시켜서 조사한바, 주기 500msec 정도로 되면, 효과가 떨어지기 시작하고 있는 것이 확인되었다(도 9 참조). 따라서 이 범위 내에서 입자ㆍ유기오염 등의 오염 대상에 따라서 주기를 설정함으로써 최적인 세정 조건을 설정할 수 있다.

이상 설명한 바와 같이 본 실시 형태의 초음파 세정방법에 의하면, 용존가스가 존재하는 세정액에 초음파를 조사할 경우에 있어서, 주기적으로 초음파의 조사를 정지함으로써 초음파의 투과를 저해하는 조대기포의 발생을 방지할 수 있어 세정에 기여하는 래디컬을 효율적으로 생성할 수 있다. 그에 따라 유리기판(G)을 효율적으로 세정할 수 있다.

또한 최근에는 기판에의 데미지를 고려하여 MHz오더의 초음파를 이용하는 메 가소닉 세정이 주류가 되고 있어 조사하는 초음파의 파장이 짧아지고 있기 때문에 종래의 저주파(0.1MHz 정도)에서는 문제로 되지 않았던 기포직경에서도 투과를 저해한다고 하는 문제가 있지만, 본 실시 형태의 초음파 세정방법과 같이 적절하게 정지기간을 마련하여 주기적으로 초음파를 조사함으로써 MHz오더의 초음파를 채용한 경우에 있어서도 초음파의 투과를 저해하는 기포의 발생을 방지할 수 있어 효율적으로 피세정물을 세정할 수 있다.

또한 이와 같이 주기적으로 초음파의 조사를 정지함으로써 연속으로 초음파를 조사할 경우에 비하여 투입하는 에너지를 낮게 할 수 있다.

또한 세정액의 온도상승을 억제할 수 있고, 세정액의 가스 용해도를 높게 유지할 수 있다. 그에 따라 초음파를 연속적으로 조사할 경우에 비하여 세정액 중에의 가스의 재용해를 촉진할 수 있다.

더구나 반도체의 미세 패턴에 대한 데미지가 적은 초음파의 주파수범위는 1MHz ∼ 3MHz 정도이며, 래디컬의 발생에 적합한 초음파의 주파수범위는 0.3MHz ∼1MHz 이다.

또한 본 실시의 형태에서는 세정액 중에 조사하는 초음파를 음향렌즈(18)에 의해 집속시키는 구성으로 하고 있지만, 집속시키지 않고 조사하여도 된다. 초음파를 집속시킴으로써 집속초점 근방에서 세정에 기여하는 래디컬을 효율적으로 발생시킬 수 있어 세정 효과를 한층 높일 수 있다.

한편 이와 같이 초음파를 집속시키면, 집속초점 근방에서 캐비티(cavity)가 집중하여 생성되기 때문에 조대기포가 형성되기 쉬워지지만, 본 실시 형태의 세정 방법과 같이 초음파의 조사정지를 최적으로 행함으로써 조대기포의 발생을 방지할 수 있어 세정에 기여하는 래디컬을 효율적으로 발생시킬 수 있다.

또한 본 실시의 형태에서는 음향렌즈를 이용하여 초음파 진동자로부터 발진된 초음파를 소정의 집속초점에 집속시키고 있지만, 초음파를 집속시키는 구성은 이것에 한정되는 것이 아니다. 예를 들면 초음파 진동자의 초음파를 발진시키는 면의 형상을 원호 형상으로 형성(초음파 진동자의 형상을 소위 토이(홈통)형으로 형성한다)하는 것에 의해서도 소정의 집속초점에 초음파를 집속시킬 수 있다. 이 경우 음향렌즈는 불필요하게 된다.

또한 초음파를 집속시키는 경우 라인 상으로 집속시켜도 되고, 한점에 집속시키도록 하여도 된다.

또한 본 실시의 형태에서는 수평으로 반송되는 유리기판(G)에 대하여 윗쪽에서 초음파를 조사한 세정액을 커튼 형상으로 공급하여 유리기판(G)을 세정하는 구성으로 하고 있지만, 유리기판(G)에 대하여 아래쪽에서 초음파를 조사한 세정액을 커튼 형상으로 공급하여 유리기판(G)을 세정하는 구성으로 하여도 된다.

또한 수직한 자세로 보유된 유리기판의 표면을 수직으로 하강하는 세정 헤드로 주사함으로써 유리기판의 표면에 초음파가 조사된 세정액을 공급하여 유리기판의 표면을 세정하는 구성으로 하여도 된다.

또한 본 발명은 도 10에 나타낸 바와 같이 피세정물(30)을 세정조에 침지시켜 세정하는 경우에도 마찬가지로 적용할 수 있다. 즉, 피세정물(30)을 세정조(32)에 저류된 세정액(34) 중에 침지시켜 이 세정액(34)에 세정조(32)의 하부에 설치된 초음파 진동자(36; 세정조 내에 설치되어도 된다)로 초음파 진동을 주어서 세정하는 경우에도 마찬가지로 적용할 수 있다. 이 경우 한번에 대량의 유리기판을 세정할 수 있다.

또한 본 실시의 형태와 같이 세정 헤드로부터 토출한 세정액을 유리기판(G)의 표면에 공급하여 세정하는 구성의 경우 다품종 혹은 소량의 세정 대상을 높은 청정도로 세정할 때에 적합하다.

또한 본 실시의 형태에서는 액정표시장치용 대형 유리기판을 세정할 경우를 예로 설명했지만, 본 발명의 적용은 이것에 한정되는 것이 아니고, 포토마스크용 유리기판이나 광디스크용 기판, 반도체 웨이퍼 등의 기판을 세정하는 경우는 물론 다른 피세정물을 세정하는 경우에도 마찬가지로 적용할 수 있다.

Claims (3)

1. 초음파를 조사한 세정액으로 피세정물을 세정하는 초음파 세정방법에 있어서,

   적어도 0.2msec 이상 연속적으로 초음파를 조사하는 공정과, 적어도 0.1msec이상 초음파의 조사를 정지하는 공정을 소정주기로 반복하여 실행하는 것을 특징으로 하는 초음파 세정방법.
2. 제 1항에 있어서, 상기 반복의 주기를 0.3msec 이상, 500msec 미만으로 하는 것을 특징으로 하는 초음파 세정방법.
3. 제 1항 또는 제 2항에 있어서, 상기 세정액에 조사하는 초음파를 집속시키는 것을 특징으로 하는 초음파 세정방법.

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