KR20090052887A - 내화성 금속 용기의 산화 피팅을 최소화 하기 위한 방법 및장치 - Google Patents

내화성 금속 용기의 산화 피팅을 최소화 하기 위한 방법 및장치 Download PDF

Info

Publication number
KR20090052887A
KR20090052887A KR1020097006559A KR20097006559A KR20090052887A KR 20090052887 A KR20090052887 A KR 20090052887A KR 1020097006559 A KR1020097006559 A KR 1020097006559A KR 20097006559 A KR20097006559 A KR 20097006559A KR 20090052887 A KR20090052887 A KR 20090052887A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
metal
oxide gas
metal oxide
container
barrier layer
Prior art date
Application number
KR1020097006559A
Other languages
English (en)
Inventor
폴 리차드 그르제식
데이비드 엠. 리네만
윌리암 비 Ⅲ 매팅글리
Original Assignee
코닝 인코포레이티드
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 코닝 인코포레이티드 filed Critical 코닝 인코포레이티드
Publication of KR20090052887A publication Critical patent/KR20090052887A/ko

Links

Images

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B5/00—Melting in furnaces; Furnaces so far as specially adapted for glass manufacture
    • C03B5/16—Special features of the melting process; Auxiliary means specially adapted for glass-melting furnaces
    • C03B5/42—Details of construction of furnace walls, e.g. to prevent corrosion; Use of materials for furnace walls
    • C03B5/43—Use of materials for furnace walls, e.g. fire-bricks
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B5/00—Melting in furnaces; Furnaces so far as specially adapted for glass manufacture
    • C03B5/02—Melting in furnaces; Furnaces so far as specially adapted for glass manufacture in electric furnaces, e.g. by dielectric heating
    • C03B5/027—Melting in furnaces; Furnaces so far as specially adapted for glass manufacture in electric furnaces, e.g. by dielectric heating by passing an electric current between electrodes immersed in the glass bath, i.e. by direct resistance heating
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B5/00—Melting in furnaces; Furnaces so far as specially adapted for glass manufacture
    • C03B5/16—Special features of the melting process; Auxiliary means specially adapted for glass-melting furnaces
    • C03B5/42—Details of construction of furnace walls, e.g. to prevent corrosion; Use of materials for furnace walls
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C4/00—Coating by spraying the coating material in the molten state, e.g. by flame, plasma or electric discharge
    • C23C4/04—Coating by spraying the coating material in the molten state, e.g. by flame, plasma or electric discharge characterised by the coating material
    • C23C4/10—Oxides, borides, carbides, nitrides or silicides; Mixtures thereof
    • C23C4/11—Oxides
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/24—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.]
    • Y10T428/24802—Discontinuous or differential coating, impregnation or bond [e.g., artwork, printing, retouched photograph, etc.]
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/26—Web or sheet containing structurally defined element or component, the element or component having a specified physical dimension
    • Y10T428/263—Coating layer not in excess of 5 mils thick or equivalent
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]
    • Y10T428/31678—Of metal

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • Manufacture And Refinement Of Metals (AREA)
  • Coating By Spraying Or Casting (AREA)
  • Joining Of Glass To Other Materials (AREA)
  • Surface Treatment Of Glass (AREA)

Abstract

본 발명은 유리 제조 시스템의 구성요소인 내부 내화성(refractory) 금속으로부터 가속된 금속 손실을 감소하는 방법에 관한 것이다. 본 발명에 따른 방법은희생 금속 부재의 산화 증기로 상기 구성 요소를 둘러싸는 자유 부피(free volume) 영역이 포화된 희생 금속 부재를 이용하는 것을 특징으로 한다.
내화성 금속, 희생 금속, 산화, 부식, 산화 피팅

Description

내화성 금속 용기의 산화 피팅을 최소화 하기 위한 방법 및 장치{METHOD AND APPARATUS FOR MINIMIZING OXIDATION PITTING OF REFRACTORY METAL VESSELS}
본 출원은 발명의 명칭이 "내화성 금속 용기의 산화 피팅을 최소화 하기 위한 방법 및 장치(Method and Apparatus For Minimizing Oxidation Pitting of Refactory Metal Vessels)인 2006년 8월 31일에 출원된 미국 특허 출원 제11/513,869호의 우선권을 주장한다.
본 발명은 용융 유리(molten glass)와 접촉되는 내화성 금속 용기(refrractory metal vessels)의 산화를 감소시키는 방법에 관한 것으로, 특히, 유리 제조 공정에서의 배관(piping) 및 다른 내화성 금속 용기의 가속된 산소 피팅(pitting)에 관한 것이다.
형성된 유리는 흔히 상대적으로 불활성한 물질로 간주된다. 사실, 유리 용기는 주로 다양한 산업에서 컨테이너로서 제공된다. 그러나, 상기 유리 제조 공정동안 상기 유리는 매우 높은 온도(일정 경우, 1600 ℃를 초과하는)로 이동된다. 온도가 이렇게 높은 경우, 상기 유리는 그 자체로 상당히 부식성(corrosive)이 되고, 따라서 배관 및 격납(containment)의 부식-방지 시스템이 요구된다. 또한, 상기 높은 온도는 많은 물질의 빠른 부식(corrosion)을 초래한다. 특히 관심은 상기 물질 의 산화이다. 부식성 산화는 상기 물질의 장애를 일으킬 수 있고, 상기 산화 생성물은 상기 유리를 오염시킬 수 있다. 이러한 이유에서, 대부분의 용융 유리용 격납 및 이송 시스템은 백금을 포함하나 백금 자체로 제한되지 않는, 로듐, 이리듐 및 팔라듐을 포함하는 백금족 금속 및 이들의 합금으로 제조된 용기와 같은 산화 저항 내화성 금속인 고 용융 온도로부터 제조된 용기에 의존한다. 백금족 금속은 산화에 저항력이 있고, 용융 유리의 용기로의 선택을 매력적으로 만들기 위한 충분하게 높은 용융 온도를 갖는다.
그러나, 이러한 장점에도 불구하고, 일반적으로 사용되는 백금 및 이들의 합금과 같은 상기 백금족 금속은 매우 비싼 경향을 보이므로, 모든 노력이 상기 금속의 전반적인 사용에 제한을 만든다. 하나의 비용 절감 방법은 다른 방법을 통하여 구조적 강도를 제공하면서, 상기 용기의 내화성 금속 부분을 실용적으로 얇게 만드는 것이다. 예를 들어, 최근 유리 제조 공정에 사용되는 많은 내화성 금속 용기가 종종 "캐스터블(castable)"이라고 언급되는 세라믹 자켓(jacket)에 넣어진다. 상기 캐스터블은 몇몇 기능을 제공한다. 언급한 것처럼, 상기 캐스터블은 상기 용기에 기계적 강도를 제공한다. 둘째로, 상기 캐스터블은 또한 상기 용기 및 주변 대기(ambient atmosphere) 사이의 접촉을 제한한다. 비록 낮은 온도에서 산화에 대한 저항성을 갖지만, 높은 온도(예를 들어 약 1000 ℃를 초과하는 온도)에서, 백금족 금속과 같이 내화성 어플리케이션에 사용되는 대부분의 귀금속은 그럼에도 불구하고 산화의 여지가 있다.
일정 예에서, 상기 용기(들)를 부식으로부터 보호하기 위한 추가적인 대안 은 상기 용기보다 높은 상기 캐스터블 및 상기 용기 사이의 일차 코팅을 포함한다. 상기 캐스터블의 경우에 있어서는, 상기 코팅은 세라믹 물질을 갖는 경향이 있다.
상기의 예방조치에도 불구하고, 심지어 백금족 금속으로 제조된 내화성 금속 용기는 산화에 견디지 못하고, 결국 장애를 일으킨다. 장애를 일으킨 내화성 금속 용기에 대한 조사는 특히 기계적인 쇼크, 결합 영역, 및 상기 시스템의 다른 높은 스트레스의 영역에서 상기 캐스터블, 및/또는 상기 세라믹 코팅이 크래킹(cracking)이 나기 쉬울수 있다는 것을 알아내었다. 상기 크랙(cracks)은 상기 캐스터블/코팅을 통하여 상기 내화성 금속 용기의 표면으로 더욱 확장될 수 있고, 이러한 것은 용기의 외부 표면의 국부적인 산화를 일으킬 수 있다. 이러한 산화는 일반적 표면의 부식율과 비교하여 상당히 가속되고, 상기 용기 벽의 산소 피팅(pitting)을 초래한다. 결국, 이러한 피팅은 상기 용기의 빠른 장애를 초래한다.
요구되는 것은 용융 유리의 이동 및 고정에 사용되는 내화성 금속 용기(들)의 가속된 산소 피팅을 줄이는 방법과, 이에 의하여 상기 용기의 수명을 증가시키는 것이다.
본 발명의 목적은 용융 유리의 이동 또는 고정에 사용되는 용기의, 용기의 제조에 사용되는 내화성(refractory) 금속의 가속된 산소 피팅(pitting)에 의한 장애를 감소시키는 방법을 제공하는 것이다. 본 발명의 또 다른 목적은 내화성 금속의 산화 피팅에 저항성을 갖고, 사용가능한 수명이 늘어난, 내화성 금속을 포함하는 용기를 제공하는 것이다.
본 발명은 쉽게 이해될 것이고, 다른 목적, 특성, 세부적인 것 및 장점은 이하의 주어진 상세한 설명에서 첨부된 도면과 함께 제한없이 더 명확히 이해될 것이다. 모든 그러한 추가적 시스템, 방법의 특징 및 장점은 본 명세서 내에서 포함될 것이고, 본 발명의 범위에 포함되고, 첨부된 청구항에 의하여 보호될 것이다.
본 발명의 일구체예에 따르면, 유리 제조 시스템은 용융 유리(molten glass)의 이동(conveying) 또는 고정(holding)을 위한, 루테늄, 로듐, 팔라듐, 오스뮴, 이리듐, 백금, 레늄, 몰리브데넘, 및 이들의 합금으로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 금속을 포함하는 내부층, 상기 내부층의 적어도 일부분과 인접하는 배리어층(barrier layer), 상기 배리어층에 인접한 금속 산화물 가스 소스(source)를 포함하는 용기를 포함하고, 여기서 상기 소스는 루테늄, 로듐, 팔라듐, 오스뮴, 이리듐, 백금, 및 레늄으로 이루어진 그룹으로 부터 선택되는 금속을 포함하고, 상기 금속 산화물 가스 소스는 내부층으로부터 분리된 것을 특징으로 하는 것을 개시한다.
본 발명의 다른 구체예에서, 용융 유리의 이동 또는 고정을 위한 용기는, 루테늄, 로듐, 팔라듐, 오스뮴, 이리듐, 백금, 레늄, 몰리브데넘, 및 이들의 합금으로 이루어진 그룹으로부터 선택된 금속을 포함하는 상기 용융 유리와의 접촉을 위한 내부층, 상기 내부층에 인접한 배리어층, 금속 산화물 가스의 형성을 위한 배리어층의 적어도 일부와 인접한 희생 금속 부재(sacrificial metal member)를 포함하고, 상기 희생 금속 부재는 루테늄, 로듐, 팔라듐, 오스뮴, 이리듐, 백금, 레늄, 몰리브데넘, 및 이들의 합금으로 이루어진 그룹으로부터 선택된 금속인 것을 특징으로 하는 것으로 설명된다.
본 발명의 또 다른 구체예에서, 용융 유리와 접촉을 위한 용기의 산화 피팅의 감소를 위한 방법은 루테늄, 로듐, 팔라듐, 오스뮴, 이리듐, 백금, 레늄, 몰리브데넘, 및 이들의 합금으로 이루어진 그룹으로부터 선택된 금속으로 형성된 내부층을 포함하는 용기를 제공하는 단계를 포함하고, 추가적으로 상기 내부층의 표면과 인접한 배리어 물질, 상기 배리어 물질과 인접한 영역을 금속 산화물 가스로 포화시키는 단계를 더 포함하고, 여기서 상기 금속 산화물 가스의 금속은 루테늄, 로듐, 팔라듐, 오스뮴, 이리듐, 백금, 레늄, 및 몰리브데넘으로 이루어진 그룹으로부터 선택되고, 상기 금속 산화물 가스의 소스는 상기 내부층으로부터 분리된 것을 특징으로 하는 것이 개시된다.
본 발명은 쉽게 이해될 것이고, 다른 목적, 특성, 세부적인 것 및 장점은 이하의 주어진 상세한 설명에서 첨부된 도면과 함께 제한없이 더 명확히 이해될 것이다. 모든 그러한 추가적 시스템, 방법의 특징 및 장점은 본 명세서 내에서 포함될 것이고, 본 발명의 범위에 포함되고, 첨부된 청구항에 의하여 보호될 것이다.
이하의 상세한 설명에서, 제한이 아닌 설명의 목적으로, 구체적 설명을 개시한 실시예가 본 발명의 충분한 이해를 위하여 설명될 것이다. 그러나, 본 발명이 여기에서 설명된 구체적인 설명으로부터 출발된 다른 구체예로 실시할 수 있음은 본 발명의 공개에 따른 이익을 갖는 당업자에게 명백할 것이다. 또한, 잘알려진 장치, 방법, 및 물질의 설명은 본 발명의 설명을 명확히 하기 위하여 생략할 수 있다. 마지막으로, 어디에 적용되던지, 동일한 참고 번호를 동일한 구성 요소에 언급한다.
유리 제조 산업에서 사용되는 배관(piping) 및 다른 용기(예를 들어, 청징 용기(fining vessel), 교반 챔버(stir chamber), 기타등등)는 주로 높은 용융 온도, 산화 저항성 내화성 금속으로부터 제조된다. 이러한 금속은 전형적으로 이른바 귀금속(precious or noble metals)이고, 따라서 고비용이다. 내화성 금속으로서 특히 중요한 것은 백금족 금속이다: 루테늄, 로듐, 팔라듐, 오스뮴, 이리듐, 및 백금, 및 이들의 합금. 화학적 공격에 대한 이들의 저항성 및 이들의 매우 높은 온도 퍼포먼스는 다양한 내화성 어플리케이션에 백금족의 광범위한 사용을 불러 일으켜왔다. 그러나, 여기서 설명된 방법은 예를 들어, 몰리브데넘 또는 레늄, 또는 이들의 합금과 같은 다양한 전이 금속을 포함하는 다른 비-백금족 금속에 적용할 수 있음이 이해되어야 한다.
도 1에 도시된 것은 액정 디스플레이(LCDs), 유기 발광 다이오드(OLED) 디스플레이 및 이와 같은 것의 제조와 같은 유리 시트의 제조에 사용되는 전형적인 다운드로우(downdraw) 유리 제조 시스템(10)이다. 도 1에서 도시된 시스템은, 용융 유리(13)을 형성하기 위한 용융 탱크(melting tank) 또는 용융기(12), 용융기와 파이닝 용기 연결기(14), 파이닝 용기(16), 파이닝 용기와 교반기 연결기(18), 교반기(20), 교반기와 다운커머(downcomer) 연결기(22), 다운커머(24), 및 유리 시트(28)가 인발(drawn)되는 형성 웨지(forming wedge)(아이소파이프(isopipe))(26)를 포함한다.
상기 용융기 및 상기 아이소파이프(isopipe)가 전형적으로 내화성 세라믹 물질로 형성되는 반면, 상기 용융기 및 상기 아이소파이프 사이의 이송 시스템 중 많은 부분은 내화성 금속 성분을 포함한다. 이들은 다양한 연결 파이프(14), (18), (22), 파이너(finer)(16), 교반기(stirrer)(20) 및 다운커머(downcomer)(24)를 포함한다. 이들 금속 성분 중 많은 것은, 상기 내화성 금속 성분에 강도 및 강직(rigidity)를 제공하는 세라믹 물질 구조에 넣어진다. 그러나, 종종 “캐스터블(castable)"로서 언급되는 이 자켓은 다양한 내화성 금속 용기의 외부 표면의 산화를 늦추는 반면, 그럼에도 불구하고, 전형적으로 작은 크랙(cracks)의 형태로, 부서지기 쉽고, 기계적 손상에 영향을 받기 쉽다. 상기 크랙은 상기 캐스터블의 표면에 걸쳐 동시에 나타날 수 있으나, 구성 요소 사이의 조인트(joint)와 같이 높은 스트레스의 영역에 집중되는 경향이 있다. 상기 캐스터블 자켓의 크랙은 상기 자켓의 보호 능력을 돌파하고, 그 결과로 상기 크랙의 바로 근접한 곳에서 상기 내화성 금속 용기의 빠른 산화를 유도한다. 이러한 이유로, 유리 제조 시스템의 상기 내화성 금속 성분은 상기 내화성 금속의 산화를 최소화하기 위하여 알루미나(alumina) 또는 지르코니아(zirconia)와 같은 추가적인 세라믹 코팅(배리어층)으로 더 코팅될 수 있다. 물론 본 발명의 적용은 다운드로(downdraw) 방식의 유리 형성에 제한되는 것이 아니고, 내화성 금속 용기의 부식 보호가 요구되는 어떠한 어플리케이션에도 사용될 수 있음에 유념하여야 한다.
상기에 지적한 예방조치에 불구하고, 2차코팅이 크래킹에 영향을 받기 쉬울수 있고, 상기 용기 표면의 전반적인 부식을 예방하는데 효과적인 반면, 상기 2차코팅은 사실 일정 경우에 산소 피팅을 일으킴에 의하여(즉, 선택적이고 가속된 산화를 통한 상기 내화성 금속 표면의 피팅) 상기 내화성 금속 용기 표면의 부식을 악화시킨다.
예를 들어, 산화물로서 1200℃ 이상에서 백금의 휘발은 상기 백금이 노출된 산소의 분압과 비례한다. 열역학적으로, 상기 금속, 산소, 및 산화물 가스 사이의 평형은
xM +1/2yO2 ↔ MxOy (1)
로서 표현될 수 있고, 여기서 M은 상기 금속을 나타낸다.
상기 평형 상수 K는
k = p(MxOy)/(p(O2)1/2ya(M)x) (2)
로서 쓰여질 수 있고, 여기서 a(M)은 상기 금속 M의 활동도이고, p는 분압을 나타낸다.
불활성 운반 가스의 정상(steady), 측정된 흐름이 일정 온도를 유지하는 내화성 금속 표본(specimen)을 지날 때, 상기 금속의 기체는 상기 기체의 분압에 따른 비율로 제거된다. 낮은 유량에서, 상기 운반 가스 및 상기 표본 사이의 접촉 시간이 길어지므로 상기 운반 가스는 상기 기체로 포화되기 쉽다. 만일, 유량의 범위를 넘어 동일한 질량의 휘발성 금속 종이 주어진 부피의 가스로 이동된다면, 상기 운반 가스는 완벽히 포화된 것으로 간주된다. 다른 방법으로, 만일 질량 손실이 유량에 직접 비례한다면, 가스는 불포화된다.
이론에 의하여 경계를 지우려는 의도 없이, 낮은 흐름 또는 준 정적(quasi static) 조건 하에서, 상기 내화성 금속 산화물은 “평형” 손실율을 제공하는 상기 테스트 표본 주위의 부피에서 포화되고, 이러한 방식에서 상기 금속의 손실은 상기 가스의 유량에 직접적으로 비례한다고 여겨진다. 상기 가스가 포화된 채로 남아있는 한, 상기 금속 손실 양은 얼마나 빨리 상기 포화된 가스가 제거되는가의 함수로 남는다. 유량이 증가할수록, 금속 산화물 기체가 상기 표본을 둘러싼 부피의 포화를 유지할 수 없는 지점에 도달할 수 있고, 상기 방식은 “비-평형” 방식으로 대체된다. 비-평형 방식에서 상기 금속 손실율은 표면 탈착률과 같은 다른 매커니즘에의하여 결정된다. 상기 비-평형 손실율은 가스 유량에 독립적이나, 설정된 구조에 의존한다: (1) 상기 내화성 금속 표면 상의 자유 공간 부피(free space volume); 및 (2) 열린, 비차단된 상기 자유 공간 부피와 인접한 금속 표면 영역의 양.
더 넓은 노출된 금속 표면 면적 및 더 작은 자유 공간 부피를 갖는 내화성 금속 표본은 포화된 환경을 더 쉽게 유지하고, 비-평형 금속 손실 방식으로 대체되기 전에 더 높은 가스 유량을 요한다. 대조적으로, 비차단된 금속 표면의 면적에 비하여 더 넓은 자유 공간 부피는 심지어 낮은 가스 유량에서도 비-평형 금속 손실율로 대체될 것이다. 이러한 후자의 경우는 크랙(cracks)이 보호 세라믹층에 존재하는 경우를 대표한다. 크랙은 상기 비-평형율에서 금속 손실을 촉진하는 노출된 금속의 작은 영역을 나타낸다. 따라서 상기 금속 손실율이 또한 상기 언급된 구조적인 설정 변수에 의존하므로, 동일한 온도, 유량 및 산소 분압 하의 두 표본이 매우 다른 금속 손실율을 가질 수 있다. 사실, 보호 세라믹 코팅에 의하여 덮힌 내화성 금속 용기(예를 들어 백금 로듐 합금)은 상기 세라믹 코팅이 크랙이 발생한 부분에서 상기 용기의 보호되지 않은 영역에 비하여 5배 높은 금속 손실을 겪을 수 있다. 이러한 높은 손실율은 “비-평형 손실 방식”에서 상기 크랙을 둘러싼 환경에 의한 것으로 여겨진다. 이러한 금속 손실은 내화성 금속을 포함하는 용융 유리를 위한 실제 용기의 일부분을 보여주는 도 2를 관찰함에 의하여 볼 수 있다. 도 2에서 보이는 것은 배리어층(32)으로 코팅되고, 자켓(42)(도 2에서는 나타나지 않음. 예를 들어 도 3A-3D를 참조)으로 지지되는 작동 파이너(working finer)(16)의 실제 내부 내화성 금속층(백금-로듐 합금)(30)의 일부분의 단면도이다. 도 2의 예에서, 배리어층(32)는 세라믹 배리어층이다. 크랙(36)은 배리어층(32)를 뚫고, 상기 내부 내화성 금속층(30)의 산화는 피트(38)에서 나타나는 것으로 볼 수 있다. 도 2에서 묘사된 산소 피팅은 약 1670 ℃에서 단지 30일 이후에 발생했고, 피트(38)은 거의 0.006인치(0.15 mm) 깊이이다.
본 발명의 구체예에 따르면, 상기 금속 손실을 더 느린 “평형”손실율 방식으로 가도록 하는 방법 및 상기 유리와 접촉하는 내화성 금속 층의 산화를 감소시키는 방법은 보호 코팅 위의 자유 공간 부피에 의하여 또는 배리어층이 내화성 금속의 산화물로 포화됨에 의하여 설명된다. 따라서, 이후에 배리어층에 형성될 수 있는 크랙은 아래 놓인 내화성 금속 내부층을 대기로 포화된 상기 내화성 금속 산화물에 노출한다.
도 3A는 용융 유리와의 접촉을 위한 내부 내화성 금속층(30), 내부 내화성 금속층의 산화를 방지하기 위한 보호 배리어층(32), 및 상기 내부층을 지지하고 경직도를 제공하기 위한 자켓 구조(42)를 포함하는 용융 유리의 이송에 사용되는 대표적인 용기(40)의 작은 영역의 단면도를 보여준다. 내부 내화성 금속층(30)은 바람직하게는 루테늄, 로듐, 팔라듐, 오스뮴, 이리듐, 백금, 레늄, 몰리브데넘, 또는 이들의 합금을 포함한다. 예를 들어, 내부층(30)은 주요 금속(예를 들어 백금, 약 70 중량% 및 80 중량% 사이의 양) 및 소수 금속(예를 들어, 로듐, 30 중량% 및 20 중량%의 양)으로 이루어진 백금 로듐 합금일 수 있다.
배리어층(32)은 내화성 금속층(30)의 외부 표면(44)과 인접하여 배치된다. 배리어층(32)은 화염 분사된 또는 플라즈마 분사된 내화성 산화물, 또는 상기 내화성 금속 내부층의 산화 보호를 제공하려는 목적의 어떤 다른 코팅일 수 있다. 예를 들어, 배리어층(32)는 알루미나 또는 지르코니아를 포함할 수 있다. 자켓 구조(42)는 배리어층(32)에 인접하여 배치되고, 대부분은 배리어층(32)과 저촉한다. 자켓 구조(42)는 바람직하게는 슬러리 캐스팅(slurry casting)에 적합한 내화성 산화물로부터 형성된다. 적합한 내화성 산화물은 예를 들어, 알루미나 또는 지르코니아일 수 있다.
도 3A는 내부층(30)을 배리어층(32) 및 자켓(42) 사이의 공극(interstitial void)(48) 내에 포함된 대기(46)에 노출시키는 배리어층(32)의 크랙(36)을 보여준다. 도 3B는 산화를 통하여 용기(40)의 내부층(30)의 내화성 금속의 가속된 손실을 일으키는 대기 내에 포함된 산소의 효과 및 이어서 일어나는 피트(38)의 형성을 도시한다.
본 발명의 구체예 및 도 3C에서 묘사된 것에 따르면 용기(40)은, 배리어층(32) 및 자켓(42) 사이에 존재하는 자유 부피 공간(즉, 빈 공간(48))에 상기 희생 부재 금속의 산화물을 제조하고, 이에 의하여 상기 산화물로 부피(48)를 포화시키기 위하여 대기(46)에 산소의 존재에서 희생 금속 부재(50)이 이용 가능하도록, 배리어층(32) 및 자켓(42) 사이에 제공되는 희생 금속 부재(50)이 제공된다. 본 발명의 실시는 효과적인 평형 조건은 내부층(30)으로부터 내화성 금속의 손실, 및 상기 식(1)에 따라 내부층(30)으로 상기 금속 손실의 역전 사이에 존재하는 도 3D에 도시된 결과를 만들 수 있다. 상기 결과는 본 발명의 이득이 없이 일어날 수 있는 산화와 비교하여 내부층(30)의 산화를 상당히 감소시킨다. 이것은 도 3B 및 도 3D의 산화 피팅의 상대적인 크기를 비교함에 의하여 알 수 있다.
비록 도 3A 내지 3D가 배리어층(32)의 크랙을 보여주지만, 상기 크랙(또는 배리어층(32)의 브리치(breach)의 다른 형태)의 존재가 본 발명의 미리 존재하는(pre-existing) 조건이 아님이 이해되어야할 것이다. 즉, 본 발명은 상기 배리어층의 브리치의 경우에 상기 용기를 보호하기 위해 제공되는 구체예를 포함한다.
희생 금속 부재(50)는 내부층(30), 바람직하게는 루테늄, 로듐, 팔라듐, 오스뮴, 이리듐, 백금, 레늄, 및 이들의 합금으로부터 선택되는 금속을 포함하는 구성 금속을 갖는다. 희생 부재(50)은 배리어층(32)에 인접하여 배치된 금속 시트의 형태일 수 있고, 또는 희생 금속 부재(50)은 예를 들어, 메쉬(mesh) 또는 스크린, 페이스트(paste) 또는 박(foil)일 수 있다. 만일 내부층(30)이 합금이라면, 희생 금속 부재(50)는 내부층 합금의 주요 성분과 동일한 주요 성분을 포함하여야 한다. 예를 들어, 내부층(30)이 80%의 백금과 20%의 로듐 합금인 경우에, 상기 희생 금속 부재의 주요 성분은 백금이어야 한다. 희생 금속 부재(50)의 중량 퍼센트 구성은 그러나 내부층(30)의 조성과 동일할 필요는 없다. 이러한 특정 예에서, 상기 희생 금속 부재는 100% 백금일 수 있다.
상기 희생 금속 부재가 과도하게 두꺼울 필요는 없고, 예를 들어 약 50마이크론 두께 미만일 수 있다. 그러나, 비록 고가이기는 하나, 상기 희생 금속 부재 또는 부재들은 수백 마이크론, 또는 그 이상의 두께를 가질 수 있다. 바람직하게, 상기 희생 금속 부재가 특히 층 형태라면, 약 500 ㎛ 두께 미만이다.
사실, 상기 희생 금속 부재의 형태 및 배치는 아래 놓인 내부 내화성 금속층(30)을 산화에 노출시킬 수 있는 크랙을 발생시키기 쉬운 배리어층(32)에 가깝게 위치한 상기 희생 금속 부재를 제공하는 능력, 및 상기 추가적인 금속의 추가되는 비용 사이에서 상충된다. 이상적으로, 하나는 희생 금속 부재층에서 전체 시스템을 둘러쌀 수 있고, 따라서 어떠한 점에서도 크랙을 방지할 수 있다. 그러나, 이러한 실시는 추가적이고, 일반적으로 고가의 내화성 금속의 비용에 대한 부담이 있다. 이 때문에, 금속 메쉬를 사용하는 것, 또는 크랙이 가장 일어나기 쉬운 영역(예를 들어, 변화(transition) 조인트(joints)/결합(coupling), 진동 또는 다른 기계적 쇼크가 일어나기 쉬운 영역, 기타 등등)에만 상기 희생 금속부재를 적용하는 것에 의한 충분한 표면적 범위를 유지하면서도 희생 금속 부재의 양을 감소하는 것을 포함하는, 몇몇의 해결 방안이 적용된다. 이들 두 원리는 상호 배타적인 것이 아니고, 동시에 적용될 수도 있다. 즉, 크래킹이 일어나기 쉬운 선택된 고위험 영역에 적용되는 상기 희생 금속 부재(50)는, 도 4에 묘사된 것처럼 전반적으로 보호된 표면 면적을 최대화하면서 필요한 희생 금속 부재의 양을 최소화하는 금속 메쉬일 수 있다.
상기 희생 금속 부재는 상기 금속의 형태 및 조성에 따라 많은 방법에로 적용될 수 있다. 예를 들어, 앞서 설명된 것처럼 상기 금속은 층일 수 있고, 플라즈마 분사, 화염 분사, 스퍼터링(sputtering), 또는 심지어 포일층으로서 둘러 싸는 것에 의하여 적용될 수 있다.
도 5에서 설명된 다른 변형예에서, 상기 희생 금속 부재는 불연속(discontinuous)일 수 있다. 그러므로, 희생 금속 부재(50)는 예를 들어, 배리어층(32)의 표면에 배열된 금속의 불연속한 “점(dots)"으로 적용될 수 있다. 이러한 점은 거시적(macroscopic)이거나, 또는 그럼에도 불구하고 불연속한 코팅을 형성하는 분사된 미립자와 같이 미시적(microscopic)일 수 있다. 도 5는 배리어층(32)에 적용된 희생 금속의 점들을 나타내는 원근법에 의한 원통형 용기의 단면도를 보여준다. 전형적으로, 이러한 점들 사이의 간격은 상기 점들의 두께와 비슷하여야 한다. 또한, 비록 더 간단한 적용 방법이지만, 상기 희생 금속 부재가 직접적 및/또는 밀접하게 배리어층(32)와 접촉할 필요는 없다. 상기 희생 금속 부재가 내부층(30)의 내화성 금속과 접촉하게 될 수 있는대기에 노출되는 것만이 요구된다. 따라서, 희생 금속 부재(50)는 예를 들어 도 6에서 보이는 것과 같이 자켓(42)의 물질 내에 혼합되거나 그렇지 않으면 분산된 금속 입자의 형태(예를 들어 파우더)일 수 있다. 그러나, 상기 희생 내화성 금속 입자의 벌크(bulk)가 자켓 물질내에 넣어지고, 상기 배리어층에 인접한 금속의 산화물을 발생하기 위한 자유 산소와 반응하는 것에 이용할 수 없기 때문에, 상기 방법은 일반적으로 보다 덜 바람직한 대안이다.
도 7에서 설명된 본 발명의 또 다른 구체예에서, 도 7에서 도시된 밀봉체 내의 대기(54)는 대기 제어기(56)에 의하여 조절되어 산소의 분압을 감소시킬 수 있는 밀봉체(52)를 갖는 파이너(16)과 같이, 희생 금속 부재의 사용은 내화성 용기를 둘러싸는 것과 결합될 수 있다. 상기 용기(도 7에서 파이너(16))를 둘러싸는 밀봉체(52) 내의 대기에서 산소의 감소 또는 제거, 및 자켓(42) 및 배리어층(32) 사이의 벌어진(interstitial) 자유 공간 영역을 금속 산화물 가스로 포화시키는 것은 만일 있다면, 단지 작은 량의 산소가 상기 용기의 내화성 금속 내부층의 산화에 이용된다는 것을 보장한다. 예를 들어, 대기 제어기(56)은 대기(54)의 이슬점을 제어하는 장치로 알려진 것일 수 있다.
상기 설명된 본 발명의 구체예들, 특히“바람직한” 구체예들은 다만 실시의 가능한예이고, 단지 본 발명의 원리를 명확히 이해하도록 설명된 것임에 유념하여야한다. 많은 변형 및 변경이 본 발명의 사상과 범위를 벗어나지 않고 상기 설명된 본 발명의 구체예에서 만들어 질 수 있다. 모든 이러한 변형 및 변경은 본 공개 및 본 발명의 범위 내에 포함되는 것이고, 첨부된 청구항에 의하여 보호된다.
도 1은 내화성 금속 성분을 포함하는 유리 제조 시스템의 단면도이다.
도 2는 합금의 가속된 산화(피팅)를 나타내는, 도 1에서 도시된 것과 같은 유리 제조 시스템에서 사용되는 백금 로듐 합금 용기의 일부의 단면도이다.
도 3A 내지 3B는 본 발명에 의하지 않은 용융 유리와 접촉을 위한 대표적인 용기의 단면도(도 3A), 및 상기 용기로부터 내화성 금속의 가속된 손실을 나타내는 단면도(도 3B)이다.
도 3C 내지 3D는 본 발명에 의한 이점을 갖는 대표적인 용기의 일부분의 담면도(도 3C), 및 도 3B의 용기와 비교하여 금속 손실의 양이 매우 감소된 것을 나타내는 단면도(도 3D)이다.
도 4는 희생 금속 부재가 와이어 메수의 형태인 용융 유리(단면으로보이는)와 접촉을 위한 용기의 일부분의 개략도이다.
도 5는 희생 금속 부재가 "도트(dots)" 형태인 용융 유리(단면으로보이는)와 접촉을 위한 용기의 일부분의 개략도이다.
도 6은 희생 금속 부재가 지지 자켓 내에 분포된 금속 입자의 형태인 용융 유리(단면으로보이는)와 접촉을 위한 용기의 일부분의 개략도이다.
도 7은 시스템의 일부가 밀봉체 내에서 밀봉체 내의 산소의 분압을 제어하는 것을 포함하는 유리 제조 시스템의 단면도이다.

Claims (20)

  1. 루테늄, 로듐, 팔라듐, 오스뮴, 이리듐, 백금, 레늄, 몰리브데넘 및 이들의 합금으로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 금속을 포함하는 내부층을 포함하는 용융 유리(molten glass)와 접촉하는 용기;
    상기 내부층의 적어도 일부분과 인접하는 배리어층(barrier layer); 및
    상기 배리어층과 인접한, 루테늄, 로듐, 팔라듐, 오스뮴, 이리듐, 백금, 레늄, 및 몰리브데넘으로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 금속을 포함하는, 금속 산화물 가스 소스(source);
    를 포함하며, 상기 금속 산화물 가스 소스는 상기 내부층으로부터 분리된 유리 제조 시스템.
  2. 청구항 1에 있어서, 상기 배리어층은 세라믹을 포함하는 것을 특징으로 하는 유리 제조 시스템.
  3. 청구항 1에 있어서, 상기 내부층의 금속 및 상기 금속 산화물 가스 소스는 동일한 조성을 갖는 것을 특징으로 하는 유리 제조 시스템.
  4. 청구항 1에 있어서, 상기 금속 산화물 가스 소스는 상기 배리어층에 접촉되는 것을 특징으로 하는 유리 제조 시스템.
  5. 청구항 2에 있어서, 상기 금속 산화물 가스 소스는 불연속(discontinuous)인 것을 특징으로 하는 유리 제조 시스템.
  6. 청구항 1에 있어서, 상기 용기는 밀봉체(enclosure) 내에 밀봉되어 있고, 상기 밀봉체 내의 산소 분압이 제어되는 것을 특징으로 하는 유리 제조 시스템.
  7. 청구항 1에 있어서, 상기 금속 산화물 가스 소스는 상기 용기의 적어도 일부분에 배치된 것을 특징으로 하는 유리 제조 시스템.
  8. 청구항 7에 있어서, 상기 층의 두께는 500 ㎛ 미만인 것을 특징으로 하는 유리 제조 시스템.
  9. 청구항 1에 있어서, 상기 금속 산화물 가스 소스는 와이어 메쉬(wire mesh)를 포함하는 것을 특징으로 하는 유리 제조 시스템.
  10. 청구항 1에 있어서, 상기 금속 산화물 가스 소스는 상기 배리어층에 배치된 자켓(jaket)에 포함되는 것을 특징으로 하는 유리 제조 시스템.
  11. 루테늄, 로듐, 팔라듐, 오스뮴, 이리듐, 백금, 레늄, 몰리브테넘, 및 이들의 합금으로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 금속으로 형성된 내부층을 포함하고, 상기 내부층의 표면에 인접한 배리어 물질을 더 포함하는, 이송(conveying) 또는 고정(holding) 용융 유리용 용기를 제공하는 단계; 및
    상기 배리어 물질과 인접한 영역에, 루테늄, 로듐, 팔라듐, 오스뮴, 이리듐, 백금, 레늄, 및 몰리브데넘으로 이루어진 그룹으로부터 선택된 금속의 금속 산화물 가스를 포화(saturating)시키는 단계;
    를 포함하며, 상기 금속 산화물 가스 소스는 상기 내부층과 분리된, 유리 제조 시스템의 용기의 피팅 산화(oxidation pitting)를 감소시키는 방법.
  12. 청구항 11에 있어서, 상기 배리어 물질은 알루미나 또는 지르코니아를 포함하는 것을 특징으로 하는 용기의 피팅 산화를 감소시키는 방법.
  13. 청구항 11에 있어서, 상기 금속 산화물 가스 소스는 상기 배리어 물질의 적어도 일부분에 인접한 희생 금속 부재(sacrificial metal member)인 것을 특징으로 하는 용기의 피팅 산화를 감소시키는 방법.
  14. 청구항 11에 있어서, 상기 방법은 상기 용기를 둘러싼 대기의 산소 분압을 제어하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 용기의 피팅 산화를 감소시키는 방법.
  15. 루테늄, 로듐, 팔라듐, 오스뮴, 이리듐, 백금, 레늄, 몰리브데넘, 및 이들의 합금으로 이루어진 그룹으로부터 선택된 금속을 포함하는 용융 유리와 접촉하기 위한 내부층;
    상기 내부층에 인접한 배리어층; 및
    상기 배리어층의 적어도 일부분에 인접한 금속 산화물 가스를 형성하기 위한 , 루테늄, 로듐, 팔라듐, 오스뮴, 이리듐, 백금, 레늄, 몰리브데넘, 및 이들의 합금으로 이루어진 그룹으로부터 선택된 희생 금속 부재;
    를 포함하는 용융 유리와의 접촉을 위한 용기.
  16. 청구항 15에 있어서, 상기 희생 금속 부재는 불연속적인 것을 특징으로 하는 용융 유리와의 접촉을 위한 용기.
  17. 청구항 15에 있어서, 상기 희생 금속 부재는 와이어 메쉬인 것을 특징으로 하는 용융 유리와의 접촉을 위한 용기.
  18. 청구항 15에 있어서, 상기 희생 금속 부재는 500 ㎛ 이하의 두께를 갖는 층을 갖는 것을 특징으로 하는 용융 유리와의 접촉을 위한 용기.
  19. 청구항 15에 있어서, 상기 배리어층은 세라믹 물질인 것을 특징으로 하는 용융 유리와의 접촉을 위한 용기.
  20. 청구항 15에 있어서, 상기 용융 유리와의 접촉을 위한 용기는 상기 용기의 경직성을 제공하기 위하여 상기 배리어층을 둘러싸는 자켓(jacket) 물질을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 용융 유리와의 접촉을 위한 용기.
KR1020097006559A 2006-08-31 2007-08-30 내화성 금속 용기의 산화 피팅을 최소화 하기 위한 방법 및장치 KR20090052887A (ko)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US11/513,869 2006-08-31
US11/513,869 US20080057275A1 (en) 2006-08-31 2006-08-31 Method and apparatus for minimizing oxidation pitting of refractory metal vessels

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR20090052887A true KR20090052887A (ko) 2009-05-26

Family

ID=39136591

Family Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020097006559A KR20090052887A (ko) 2006-08-31 2007-08-30 내화성 금속 용기의 산화 피팅을 최소화 하기 위한 방법 및장치
KR1020097006177A KR20090043597A (ko) 2006-08-31 2007-08-30 귀금속 유리 전달 시스템을 위한 열 분사된 내화성 산화물코팅

Family Applications After (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020097006177A KR20090043597A (ko) 2006-08-31 2007-08-30 귀금속 유리 전달 시스템을 위한 열 분사된 내화성 산화물코팅

Country Status (6)

Country Link
US (1) US20080057275A1 (ko)
JP (3) JP2010502550A (ko)
KR (2) KR20090052887A (ko)
CN (2) CN101668875B (ko)
TW (2) TWI359117B (ko)
WO (2) WO2008027482A2 (ko)

Families Citing this family (34)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8256951B2 (en) 2006-12-21 2012-09-04 Corning Incorporated Stirrers for minimizing erosion of refractory metal vessels in a glass making system
WO2010024940A2 (en) * 2008-08-29 2010-03-04 Corning Incorporated Protective coating and method
US20100126225A1 (en) * 2008-11-25 2010-05-27 Josh Ding Method for homogenizing a glass melt
US8375748B2 (en) * 2009-08-26 2013-02-19 Nippon Electric Glass Co., Ltd. Glass manufacturing container, glass manufacturing apparatus with the same and glass manufacturing method using glass manufacturing apparatus
JP5655425B2 (ja) * 2009-08-26 2015-01-21 日本電気硝子株式会社 ガラス製造用容器、それを備えるガラス製造装置及びそれを用いたガラスの製造方法
TW201210967A (en) * 2010-06-29 2012-03-16 Avanstrate Inc Production device of glass panel and production method using the same
US10421681B2 (en) * 2010-07-12 2019-09-24 Corning Incorporated Alumina isopipes for use with tin-containing glasses
TWI537231B (zh) 2010-07-12 2016-06-11 康寧公司 高靜態疲勞的氧化鋁隔離管
WO2012017963A1 (ja) * 2010-08-04 2012-02-09 旭硝子株式会社 溶融ガラスの導管構造とそれを備えた減圧脱泡装置および溶融ガラスの減圧脱泡方法とガラス製品の製造方法
DE102010047898B4 (de) * 2010-10-11 2013-06-06 Heraeus Materials Technology Gmbh & Co. Kg Bauteil aus Platin oder einer Platinlegierung und Verfahren zur Abdampfraten-Verringerung von Bauteilen aus Platin oder Platinlegierungen
JP2012132071A (ja) * 2010-12-22 2012-07-12 Tanaka Kikinzoku Kogyo Kk 高温装置の揮発損失防止方法
JP2012184147A (ja) * 2011-03-08 2012-09-27 Nippon Electric Glass Co Ltd ガラス製造用容器
WO2012133107A1 (ja) * 2011-03-28 2012-10-04 旭硝子株式会社 溶融ガラス保持用耐火物、および、溶融ガラス保持用耐火物を用いたガラス製造装置、ならびに、該ガラス製造装置を用いたガラス製造方法
JP5840531B2 (ja) * 2011-04-28 2016-01-06 Hoya株式会社 ガラスの製造方法、プレス成形用ガラス素材の製造方法及び光学素子の製造方法
JP2013095638A (ja) * 2011-11-01 2013-05-20 Nippon Electric Glass Co Ltd ガラス製造装置及びそれを用いたガラスの製造方法
US9073771B2 (en) * 2012-06-15 2015-07-07 Corning Incorporated Integral capsule for blister suppression in molten glass
JP6099037B2 (ja) * 2012-10-24 2017-03-22 ＡｖａｎＳｔｒａｔｅ株式会社 ガラス板製造装置、およびこの装置を用いたガラス板の製造方法
US20140123710A1 (en) * 2012-11-02 2014-05-08 David Myron Lineman Apparatus and method for minimizing platinum group metal particulate inclusion in molten glass
CN104087890B (zh) * 2014-07-18 2017-01-25 郑州高端装备与信息产业技术研究院有限公司 用于制备泥浆泵缸套陶瓷涂层内衬的方法
CN104313527B (zh) * 2014-10-22 2017-02-08 福耀集团（上海）汽车玻璃有限公司 一种提高汽车玻璃凹模耐磨性能的方法
US9856163B2 (en) 2015-04-15 2018-01-02 Owens-Brockway Glass Container Inc. Nanocomposite material
WO2017217281A1 (ja) * 2016-06-17 2017-12-21 旭硝子株式会社 セラミックス被膜付部材およびそれを用いたガラス製品の生産設備
KR102412297B1 (ko) * 2016-11-08 2022-06-24 코닝 인코포레이티드 고온의 유리 용융 용기
JP6641317B2 (ja) * 2017-03-02 2020-02-05 不二越機械工業株式会社 単結晶製造装置
JP7341999B2 (ja) * 2017-12-01 2023-09-11 コーニング インコーポレイテッド ガラスを製造するための装置および方法
CN112313181B (zh) * 2018-04-20 2022-07-15 康宁公司 用于在玻璃制造工艺中控制含氧气氛的设备和方法
GB201809561D0 (en) * 2018-06-11 2018-07-25 Johnson Matthey Plc Coating composition, method of coating, coated product and use
CN109133578A (zh) * 2018-08-08 2019-01-04 东旭科技集团有限公司 用于玻璃制造的加热装置及其制造方法、玻璃制造设备
US12037282B2 (en) * 2018-11-01 2024-07-16 Corning Incorporated Strengthened glass articles with reduced delayed breakage and methods of making the same
US11912608B2 (en) 2019-10-01 2024-02-27 Owens-Brockway Glass Container Inc. Glass manufacturing
US20220388886A1 (en) * 2020-08-14 2022-12-08 Owens-Brockway Glass Container Inc. Cast cullet-based layer on wall Panel for a Melter
CN212894495U (zh) * 2020-07-09 2021-04-06 河北科技大学 一种有机废弃物资源化处理***
EP4200260A1 (en) * 2020-08-24 2023-06-28 Corning Incorporated Minimizing crystalline rhodium-platinum defect formation in glass manufactured in precious metal systems
CN113637962B (zh) * 2021-08-08 2024-02-09 中山市旭辉玻璃制品有限公司 一种防爆钢化玻璃用镀银***

Family Cites Families (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2947114A (en) * 1957-05-09 1960-08-02 Engelhard Ind Inc Composite material
GB1190266A (en) * 1966-04-20 1970-04-29 Johnson Matthey Co Ltd Improvements in and relating to Sheathed Metals
US3929440A (en) * 1973-11-30 1975-12-30 Gen Electric Co Ltd Manufacture of laser glass
SE8000480L (sv) * 1979-02-01 1980-08-02 Johnson Matthey Co Ltd Artikel lemplig for anvendning vid hoga temperaturer
AU8804882A (en) * 1981-09-08 1983-03-17 Johnson Matthey Public Ltd. Co. Noble metal layered metallic composites
JPH01201033A (ja) * 1988-02-04 1989-08-14 Canon Inc 溶融装置及び溶融容器
US4846865A (en) * 1988-03-15 1989-07-11 Owens-Corning Fiberglas Corporation Clad precious metal bushing and method for making
US5312470A (en) * 1993-02-22 1994-05-17 Owens-Corning Fiberglas Technology Inc. Apparatus for producing glass fibers
GB9405934D0 (en) * 1994-03-25 1994-05-11 Johnson Matthey Plc Coated article
AT1669U1 (de) * 1996-11-22 1997-09-25 Plansee Ag Oxidationsschutzschicht für refraktärmetalle
US5879427A (en) * 1997-10-16 1999-03-09 Ppg Industries, Inc. Bushing assemblies for fiber forming
JP2000302457A (ja) * 1999-04-23 2000-10-31 Asahi Glass Co Ltd 高温溶融物を流す導管構造
DE19944270B4 (de) * 1999-09-15 2005-09-15 Schott Ag Verfahren zum Abschirmen von Oberflächen von Werkzeugen der Glasherstellung und der Glasverarbeitung und Werkzeug
DE19955827B4 (de) * 1999-11-20 2005-03-31 Schott Ag Verfahren zur Unterdrückung der Bildung von O2-Gasblasen an der Kontaktfläche zwischen einer Glasschmelze und Edelmetall
US6739155B1 (en) * 2000-08-10 2004-05-25 General Electric Company Quartz making an elongated fused quartz article using a furnace with metal-lined walls
US6422861B1 (en) * 2000-11-20 2002-07-23 General Electric Company Quartz fusion furnace and method for forming quartz articles
JP4646395B2 (ja) * 2000-12-19 2011-03-09 株式会社フルヤ金属 ガラス溶融処理用金属材料及びその製造方法
US6993936B2 (en) * 2003-09-04 2006-02-07 Corning Incorporated System and method for suppressing the formation of oxygen inclusions and surface blisters in glass sheets and the resulting glass sheets
US20050202270A1 (en) * 2004-03-10 2005-09-15 Skoog Andrew J. Powder coating of gas turbine engine components
DE102004015577B4 (de) * 2004-03-30 2012-08-23 Schott Ag Verfahren zum Herstellen von Glas unter Vermeidung von Blasen an Edelmetallbauteilen

Also Published As

Publication number Publication date
WO2008027482A3 (en) 2008-05-08
CN101511743A (zh) 2009-08-19
TWI359117B (en) 2012-03-01
CN101668875A (zh) 2010-03-10
CN101668875B (zh) 2011-11-16
WO2008027480A2 (en) 2008-03-06
WO2008027482A2 (en) 2008-03-06
JP2013100228A (ja) 2013-05-23
WO2008027480A3 (en) 2009-10-22
KR20090043597A (ko) 2009-05-06
TWI363810B (en) 2012-05-11
JP2010502549A (ja) 2010-01-28
CN101511743B (zh) 2012-06-13
TW200902457A (en) 2009-01-16
US20080057275A1 (en) 2008-03-06
TW200835814A (en) 2008-09-01
JP2010502550A (ja) 2010-01-28

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR20090052887A (ko) 내화성 금속 용기의 산화 피팅을 최소화 하기 위한 방법 및장치
KR101371575B1 (ko) 유리 용탕의 균질화 방법
EP2692703B1 (en) Molten glass holding refractory, glass manufacturing apparatus using molten glass holding refractory and method for manufacturing glass using glass manufacturing apparatus
JP2017100941A (ja) ガラスの清澄化方法およびシステム
JP4992713B2 (ja) 減圧脱泡装置の上昇管または下降管のバックアップ構造
JP5654351B2 (ja) キャスタブル材料を備えたガラス製造のための耐食性架台
KR101641746B1 (ko) 용융 유리 반송 설비 요소 및 유리 제조 장치
US20080148779A1 (en) Backup structure for hollow tube made of platinum or a platinum alloy
JPH05339082A (ja) 被覆されたセラミック製品
KR101493179B1 (ko) 유리 기판의 제조 방법, 유리 기판 제조 장치
US20170341965A1 (en) Method for producing a glass product and glass product obtained by the method
US10656024B2 (en) Molten material thermocouple methods and apparatus
JP7314761B2 (ja) 溶融ガラスの搬送装置、ガラス物品の製造設備、およびガラス物品の製造方法
DE102006041106B4 (de) Elektrodensystem für Glasschmelzöfen
Gupta et al. Ongoing Investigation of Oxy‐Fuel Firing Impact on Corrosion of Nonglass Contact Refractories, Part 2
KR102205156B1 (ko) 유리 용융물용 도관, 유리 용융물용 용기, 그들의 제조 방법, 유리 물품 제조 장치 및 유리 물품 제조 방법
CN102515476B (zh) 用于生产含锡玻璃的氧化铝等压管
Coupland et al. New developments in stirrer technology
CN102515476A (zh) 用于生产含锡玻璃的氧化铝等压管

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E90F Notification of reason for final refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right