KR20090026321A - 플라즈마 처리 장치, 포커스링, 포커스링 부품 및 플라즈마처리 방법 - Google Patents
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Abstract
Description
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- 처리 챔버 내에 배치된 탑재대 상에 피처리 기판을 탑재하고, 고주파 전압을 인가하는 것에 의해 처리 챔버 내에 플라즈마를 발생시켜, 피처리 기판을 처리하는 플라즈마 처리 장치로서,상기 탑재대 상에 탑재된 피처리 기판의 주위를 둘러싸도록 배치되는 포커스링을 구비하고,상기 포커스링은, 상기 탑재대 상에 탑재된 피처리 기판의 주위 외측에 배치된 도전성 재료로 이루어지는 외측 링부와, 상기 탑재대 상에 탑재된 피처리 기판의 주연부 아래쪽에 소정의 간격을 두고 배치된 도전성 재료로 이루어지는 내측 링부를 구비하며,상기 탑재대 상에 탑재된 피처리 기판의 외주연과 상기 내측 링부의 최외주연의 차가 2∼2.5㎜로 되도록 형성되고,상기 내측 링부와 상기 탑재대 사이는 전기적으로 절연되어 있는것을 특징으로 하는 플라즈마 처리 장치.
- 제 1 항에 있어서,상기 외측 링부와 상기 내측 링부는 전기적으로 도통하고 있고, 상기 외측 링부와 상기 탑재대 사이는 절연되어 있는 것을 특징으로 하는 플라즈마 처리 장 치.
- 제 2 항에 있어서,상기 외측 링부 및 상기 내측 링부와 상기 탑재대의 사이에 절연 부재가 배치되어 있는 것을 특징으로 하는 플라즈마 처리 장치.
- 제 2 항에 있어서,상기 외측 링부와 상기 내측 링부는, 일체적으로 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 플라즈마 처리 장치.
- 제 4 항에 있어서,상기 탑재대 상에 탑재된 피처리 기판의 외주면과 그것에 대향하는 상기 포커스링의 내주면과의 간격은, 상기 내측 링부의 상면과 상기 탑재대 상에 탑재된 피처리 기판의 주연부의 하면과의 간격보다 넓은 것을 특징으로 하는 플라즈마 처리 장치.
- 제 2 항에 있어서,상기 외측 링부 및 상기 내측 링부는, 그라운드에 대하여 전기적으로 절연되어 있는 것을 특징으로 하는 플라즈마 처리 장치.
- 제 6 항에 있어서,상기 외측 링부 및 상기 내측 링부와 그라운드 사이의 정전 용량을 가변으로 구성한 것을 특징으로 하는 플라즈마 처리 장치.
- 제 6 항에 있어서,상기 외측 링부 및 상기 내측 링부에 가변 직류 전원을 전기적으로 접속한 것을 특징으로 하는 플라즈마 처리 장치.
- 제 1 항에 있어서,상기 외측 링부와 상기 내측 링부는 전기적으로 절연되어 있는 것을 특징으로 하는 플라즈마 처리 장치.
- 제 9 항에 있어서,상기 외측 링부는 상기 탑재대에 전기적으로 도통하고 있는 것을 특징으로 하는 플라즈마 처리 장치.
- 제 1 항 내지 제 10 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 외측 링부의 상면은, 상기 탑재대 상에 탑재된 피처리 기판의 주위에 배치된, 외측을 향하여 점차로 높아지는 경사면부와, 상기 경사면부의 외측에 연속하여 형성된 수평면부를 갖는 것을 특징으로 하는 플라즈마 처리 장치.
- 제 1 항에 있어서,상기 외측 링부와 상기 내측 링부를 구성하는 도전성 재료는, Si, C, SiC 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 플라즈마 처리 장치.
- 고주파 전압을 인가하는 것에 의해 처리 챔버 내에 플라즈마를 발생시켜, 피처리 기판을 처리하는 플라즈마 처리 장치에 있어서, 상기 처리 챔버 내에 배치된 탑재대 상의 피처리 기판의 주위를 둘러싸도록 배치되는 포커스링으로서,상기 탑재대 상에 탑재된 피처리 기판의 주위 외측에 배치되는 도전성 재료로 이루어지는 외측 링부와,상기 탑재대 상에 탑재된 피처리 기판의 주연부 아래쪽에 소정의 간격을 두고 배치되는 도전성 재료로 이루어지는 내측 링부를 구비하고,상기 탑재대 상에 탑재된 피처리 기판의 외주연과 상기 내측 링부의 최외주연의 차가 2∼2.5㎜로 되도록 형성되고,상기 내측 링부와 상기 탑재대 사이는 전기적으로 절연되어 있는것을 특징으로 하는 포커스링.
- 제 13 항에 있어서,상기 외측 링부와 상기 내측 링부는 전기적으로 도통하고 있고, 상기 외측 링부 및 상기 내측 링부와 상기 탑재대 사이를 절연하기 위한 절연 부재를 구비하는 것을 특징으로 하는 포커스링.
- 제 14 항에 있어서,상기 외측 링부와 상기 내측 링부는 일체적으로 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 포커스링.
- 제 15 항에 있어서,상기 탑재대 상에 탑재된 피처리 기판의 외주면에 대향하는 내주면에 오목부가 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 포커스링.
- 제 14 항에 있어서,상기 외측 링부 및 상기 내측 링부와 그라운드 사이의 정전 용량을 가변으로 하게 하기 위한 정전 용량 가변 수단을 구비하는 것을 특징으로 하는 포커스링.
- 제 14 항에 있어서,상기 외측 링부 및 상기 내측 링부에 전기적으로 접속된 가변 직류 전원을 구비하는 것을 특징으로 하는 포커스링.
- 제 13 항에 있어서,상기 외측 링부와 상기 내측 링부를 전기적으로 절연시키는 절연 부재를 구비하는 것을 특징으로 하는 포커스링.
- 제 19 항에 있어서,상기 외측 링부는, 상기 탑재대에 전기적으로 도통하여 설치되는 것을 특징으로 하는 포커스링.
- 제 13 항에 있어서,상기 외측 링부의 상면은, 상기 탑재대 상에 탑재된 피처리 기판의 주위에 배치된, 외측을 향하여 점차로 높아지는 경사면부와, 상기 경사면부의 외측에 연속하여 형성된 수평면부를 갖는 것을 특징으로 하는 포커스링.
- 제 13 항에 있어서,상기 외측 링부와 상기 내측 링부를 구성하는 도전성 재료는, Si, C, SiC 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 포커스링.
- 청구항 13 내지 22 중 어느 한 항에 기재된 포커스링과, 상기 처리 챔버 내에서 상기 탑재대 상의 피처리 기판의 주위를 둘러싸도록 상기 포커스링을 배치시키는 지지 부재로 이루어지는 것을 특징으로 하는 포커스링 부품.
- 청구항 1에 기재된 플라즈마 처리 장치를 이용하는 플라즈마 처리 방법으로서,상기 탑재대 상에 탑재된 피처리 기판의 주연부 아래쪽에, 상기 플라즈마로 생성된 이온을 피처리 기판의 주연부 하면을 향해서 가속시키는 전계를 형성함으로써, 이온을 피처리 기판의 주연부 하면에 충돌시키는 것을 특징으로 하는 플라즈마 처리 방법.
- 제 24 항에 있어서,상기 전계는 피처리 기판과 내측 링부 사이에 전위차를 인가하는 것에 의해 형성되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 처리 방법.
- 제 24 항에 있어서,상기 전계의 강도를 변경하는 것에 의해, 피처리 기판의 주연부 하면에 대한 이온의 충돌량을 조정하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 처리 방법.
- 제 24 항에 있어서,상기 전계 중의 등전위면이, 상기 탑재대 상에 탑재된 피처리 기판의 외주면으로부터 외측에서는 조(粗)하고, 상기 탑재대 상에 탑재된 피처리 기판의 주연부의 아래쪽에서는 밀(密)한 것을 특징으로 하는 플라즈마 처리 방법.
- 처리 챔버 내에 배치된 탑재대 상에 피처리 기판을 탑재하고, 고주파 전압을 인가하는 것에 의해 처리 챔버 내에 플라즈마를 발생시켜, 피처리 기판을 처리하는 플라즈마 처리 장치로서,상기 탑재대 상에 탑재된 피처리 기판의 주위를 둘러싸도록 배치되는 포커스링을 구비하고,상기 포커스링은, 상기 탑재대 상에 탑재된 피처리 기판의 주위 외측에 배치된 도전성 재료로 이루어지는 외측 링부와, 상기 탑재대 상에 탑재된 피처리 기판의 주연부 아래쪽에 소정의 간격을 두고 배치된 도전성 재료로 이루어지는 내측 링부를 구비하며,상기 내측 링부와 상기 탑재대 사이는 절연 부재에 의해 전기적으로 절연되어 있고,상기 탑재대에 대하여 상기 절연 부재로 절연되어 있는 상기 외측 링부에, 그라운드에 전기적으로 접속된 제 2 도전성 부재를 근접시켜 배치하고,상기 외측 링부와 상기 제 2 도전성 부재 사이에 제 2 절연 부재를 마련한것을 특징으로 하는 플라즈마 처리 장치.
- 고주파 전압을 인가하는 것에 의해 처리 챔버 내에 플라즈마를 발생시켜, 피처리 기판을 처리하는 플라즈마 처리 장치에 있어서, 상기 처리 챔버 내에 배치된 탑재대 상의 피처리 기판의 주위를 둘러싸도록 배치되는 포커스링으로서,상기 탑재대 상에 탑재된 피처리 기판의 주위 외측에 배치되는 도전성 재료로 이루어지는 외측 링부와,상기 탑재대 상에 탑재된 피처리 기판의 주연부 아래쪽에 소정의 간격을 두고 배치되는 도전성 재료로 이루어지는 내측 링부를 구비하고,상기 내측 링부와 상기 탑재대 사이는 절연 부재에 의해 전기적으로 절연되어 있고,상기 탑재대에 대하여 상기 절연 부재로 절연되어 있는 상기 외측 링부에, 그라운드에 전기적으로 접속된 제 2 도전성 부재를 근접시켜 배치하고,상기 외측 링부와 상기 제 2 도전성 부재 사이에 제 2 절연 부재를 마련한것을 특징으로 하는 포커스링.
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