KR20080112474A - Method of manufacturing an electromagnetic wave-shielding sheet having a metal pattern - Google Patents

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KR20080112474A
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김경민
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Abstract

A manufacturing method of electromagnetic wave shielding sheet having metal pattern used in optical filter for display panel is provided to improve yield by reducing failure rate when being contacted with different functional film. A manufacturing method of electromagnetic wave shielding sheet comprises the following steps: a step for forming a negative pattern on a transparent high-molecular film using a metal pattern roll having a positive pattern(1); a step for photo-curing after filling the negative pattern of the transparent high-molecular film using a conductive paste(2); and a step for forming a metal pattern on a photo-cured conductor by electroplating the transparent high-molecular film(3).

Description

금속 패턴을 갖는 전자파 차폐 시트의 제조방법 {METHOD OF MANUFACTURING AN ELECTROMAGNETIC WAVE-SHIELDING SHEET HAVING A METAL PATTERN}Manufacturing method of electromagnetic shielding sheet having a metal pattern {METHOD OF MANUFACTURING AN ELECTROMAGNETIC WAVE-SHIELDING SHEET HAVING A METAL PATTERN}

도 1은 본 발명의 하나의 실시양태에 따른 금속 패턴을 갖는 전자파 차폐 시트의 제조 과정을 도시한 모식도이고,1 is a schematic diagram showing a manufacturing process of the electromagnetic shielding sheet having a metal pattern according to an embodiment of the present invention,

도 2는 본 발명에 사용되는 금속 패턴 롤의 양각 패턴에 따라 투명 고분자 필름에 형성된 다양한 음각 패턴 형태를 나타낸 것이며,Figure 2 shows the various intaglio pattern forms formed on the transparent polymer film according to the embossed pattern of the metal pattern roll used in the present invention,

도 3은 본 발명에 따라 제조된 전자파 차폐 시트가 반사 방지층과 합지된 형태의 일례를 나타낸 것이다. 3 shows an example of a form in which an electromagnetic shielding sheet manufactured according to the present invention is laminated with an antireflection layer.

본 발명은 디스플레이 패널용 광학 필터에 사용되는 금속 패턴을 갖는 전자파 차폐 시트의 제조방법에 관한 것이다. The present invention relates to a method for producing an electromagnetic wave shielding sheet having a metal pattern used in an optical filter for display panel.

최근, 정보화 사회가 급속하게 발달함에 따라 각종 전자 기기, 통신 장치, 예를 들면 음극선관(CRT), 액정 표시장치(LCD), 전기발광소자(EL), 플라즈마 디스 플레이 판넬(PDP) 또는 전계 방출 디스플레이(FED)등의 디스플레이 장치들이 각종 정보 제공용으로 사용되고 있다. 이러한 디스플레이 장치를 사용함으로써 이로부터 방사되는 전자파에 의한 기기 오작동 문제, 인체에 대한 악영향 등이 거론되어 왔으며, 이를 위한 가지각색의 전자파 차폐 시트(도전성 필름)가 개발되어 왔다.Recently, with the rapid development of the information society, various electronic devices, communication devices, such as cathode ray tube (CRT), liquid crystal display (LCD), electroluminescent device (EL), plasma display panel (PDP) or electric field emission Display devices such as a display (FED) are used for providing various information. By using such a display device, problems of device malfunction due to electromagnetic waves emitted therefrom, adverse effects on the human body, and the like have been mentioned, and various electromagnetic shielding sheets (conductive films) have been developed for this purpose.

예를 들면, 일본 특개평9-53030호, 특개평11-126024호, 일본 특허공개 제2000-294980호, 제2000-357414호, 제2000-329934호, 제2001-38843호, 제2001-47549호, 제2001-5l610호, 제2001-57110호 및 제2001-60416호 등에는, 은, 동, 니켈, 인듐 등의 도전성 금속 또는 도전성 금속 화합물을 스퍼터링법, 이온 플레이팅(ion plating)법, 이온 빔 어시스트법, 진공 증착법 또는 습식 코팅법에 의하여 투명수지 필름 기재 위에 금속 박막으로서 형성시키는 것을 포함하는 전자파 차폐 시트의 제조방법이 개시되어 있다. 그러나, 상기 방법들은 투명성을 유지할 수 있는 정도의 막 두께나 패턴을 미세선(fine line) 폭으로 제조할 경우, 도전층의 표면 저항이 너무 커지기 때문에 전자파 차단 효과가 작아지는 문제, 예를 들면, 300MHz 이상의 높은 주파수대에 걸쳐서 30dB 이상의 전자파 차단 효과를 얻는 것이 곤란한 문제가 있다. For example, Japanese Patent Laid-Open Nos. 9-53030, 11-126024, Japanese Patent Laid-Open Nos. 2000-294980, 2000-357414, 2000-329934, 2001-38843, 2001-47549 No. 2001-5l610, 2001-57110, 2001-60416, etc., sputtering method, ion plating method, and the like for a conductive metal or a conductive metal compound such as silver, copper, nickel, indium, A method for producing an electromagnetic wave shielding sheet comprising forming a metal thin film on a transparent resin film substrate by an ion beam assist method, a vacuum deposition method, or a wet coating method is disclosed. However, in the above methods, when a film thickness or a pattern capable of maintaining transparency is manufactured to have a fine line width, the surface resistance of the conductive layer becomes too large, so that the electromagnetic wave blocking effect is reduced. There is a problem that it is difficult to obtain an electromagnetic wave blocking effect of 30 dB or more over a high frequency band of 300 MHz or more.

또한, 최근 전자파 차폐 시트의 수요가 확대되는 가운데, 저비용의 생산성이 높은 전자파 차폐 시트의 제조법이 요망되고 있다. 예를 들어, 일본 특공소42-23745호에는 할로겐화은 유제층과 할로겐화은 용제(은착염 형성재)를 응용하여, 은착염 확산 전사현상법(DTR 현상법)에 의하여 물리 현상 은(physically developed silver)으로 이루어진 도전층을 형성하는 기술이 개시되어 있다. 그러나, 상기 방 법으로는 전자파 차폐 시트에 요구되는, 전광선 투과율 50% 이상의 투광성과 표면 저항 10옴/스퀘어(10 Ω/square) 이하의 도전성을 동시에 만족시키기 어렵다. In addition, with the recent increase in the demand for electromagnetic wave shielding sheets, a method for producing an electromagnetic shielding sheet having high productivity at low cost has been desired. For example, Japanese Unexamined Patent Application No. 42-23745 uses a silver halide emulsion layer and a silver halide solvent (silver complex salt forming material), and is made of physically developed silver by the silver salt diffusion transfer phenomenon (DTR developing method). A technique for forming a conductive layer is disclosed. However, in this method, it is difficult to simultaneously satisfy the light transmittance of the total light transmittance of 50% or more and the conductivity of 10 ohm / square or less (10 Ω / square) required for the electromagnetic shielding sheet.

또한, 종래에 메쉬 형상의 금속층을 갖는 전자파 차폐 시트의 제조 방법으로서, 투명 플라스틱 기재(基材)에 접착제를 이용하여 금속박을 접합한 후에, 금속박을 화학적으로 에칭(포토리소그래피)하여 금속층에 메쉬 형상을 형성하는 방법이 알려져 있다. 그러나, 상기 방법은 메쉬의 패턴 정밀도는 좋지만, 이종 재료가 적층되어 있으므로 휨이 발생하기 쉬우며, 메쉬 형태로의 패터닝(포토리소그래피 공정)시 동박 표면에서의 반사에 의해 불량 패턴이 발생할 수 있다는 단점이 있다. 또한, 메쉬 개구부의 접착제의 표면에 금속박의 거칠기가 전사되어 요철 형상으로 남아 있으므로, 상기 거칠기에서 광이 난반사하여 메쉬 개구부의 투명성이 악화되는 결점이 있으며, 전자파 차폐 시트와 다른 광학 필터를 적층하는 공정에서는, 전자파 차폐 시트의 개구부가 오목해져 있어서, 접착제 또는 점착제를 이용하여 직접 광학 필터를 적층할 경우, 메쉬 개구부 내에 기포가 혼입하여 혼입된 기포의 광 산란에 의해 복합 필터의 투명성이 악화될 우려가 있다. Moreover, as a manufacturing method of the electromagnetic wave shielding sheet which has a metal layer of a mesh form conventionally, after bonding a metal foil using an adhesive agent to a transparent plastic base material, a metal foil is chemically etched (photolithography) and mesh-shaped to a metal layer. A method of forming is known. However, the above method has good mesh pattern accuracy, but it is easy to cause warpage because different materials are laminated, and a bad pattern may occur due to reflection on the copper foil surface during patterning in a mesh form (photolithography process). There is this. In addition, since the roughness of the metal foil is transferred to the surface of the adhesive of the mesh openings and remains in an uneven shape, there is a disadvantage that light is diffused by the roughness and the transparency of the mesh openings is deteriorated, and the process of laminating an electromagnetic shielding sheet and another optical filter. In this case, the opening of the electromagnetic shielding sheet is concave, and when the optical filter is directly laminated using an adhesive or an adhesive, there is a fear that the transparency of the composite filter may be deteriorated due to light scattering of bubbles mixed by bubbles in the mesh openings. have.

전자파 차폐 시트를 제조하는 또 다른 방법으로서, 투명 필름 상에 금속층을 증착하고 메쉬 형태로 패터닝한 다음, 그 위에 흑화 처리 등의 표면처리를 행하여 전자파 차폐 시트를 제조하는 방법이 알려져 있다. 상기 방법은 미세 패턴인 메쉬가 전기도금 처리시 저항 역할을 함으로써 분상(粉狀) 도금이 될 뿐만 아니라, 균일한 도금이 얻어지기 어렵다는 단점을 갖는다.As another method of manufacturing an electromagnetic shielding sheet, a method of manufacturing an electromagnetic shielding sheet is known by depositing a metal layer on a transparent film, patterning it in a mesh form, and then performing a surface treatment such as a blackening treatment thereon. The method has a disadvantage in that a fine pattern mesh plays a role in resistance during electroplating and not only powder plating but also uniform plating is difficult to obtain.

또 다른 방법으로서, 스크린 인쇄를 이용하여 격자 모양 패턴으로 전자파 차 폐층을 형성하는 방법이 알려져 있는데, 이 방법은 인쇄판 사(紗)의 그물코와의 간섭에 의한 무아레(moire), 미세선의 단선이나 굵은 선 등, 인쇄 불량이 발생하기 쉬워 정밀한 인쇄가 용이하지 않으므로 전자파 차폐의 성능이나 투시성이 저하되는 문제가 발생하기 쉽다.As another method, a method of forming an electromagnetic shielding layer in a lattice pattern using screen printing is known, which is a moire caused by interference with a mesh of a printing plate, a disconnection or a thick line of fine lines. Since printing defects, such as a line, are easy to generate | occur | produce and precise printing is not easy, the problem which the performance and transparency of electromagnetic wave shielding fall easily occurs.

본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로서, 본 발명의 목적은 고전도도의 금속 패턴을 가지며, 다른 기능성 필름과의 접합시 기포 혼입 등에 의한 투광성 저하를 가져오지 않는 우수한 성능의 전자파 차폐 시트를 재현성 있게 경제적으로 제조할 수 있는 방법을 제공하는 것이다.The present invention has been made to solve the above problems, an object of the present invention has a high-conductivity metal pattern, and excellent electromagnetic shielding that does not lead to a decrease in light transmittance due to bubble mixing when bonding with other functional films It is to provide a method for producing a sheet reproducibly and economically.

상기 목적을 달성하기 위하여, 본 발명은 (1) 양각 패턴을 갖는 금속 패턴 롤을 이용하여 투명 고분자 필름에 음각 패턴을 형성하는 단계; (2) 상기 단계 (1)에서 얻은 투명 고분자 필름의 음각을 도전성 페이스트로 충진한 후 광경화시키는 단계; 및 (3) 상기 단계 (2)에서 얻은 투명 고분자 필름을 전기 도금 처리하여 광경화된 도전체 위에 금속 패턴을 형성하는 단계를 포함하는, 전자파 차폐 시트의 제조방법을 제공한다.In order to achieve the above object, the present invention comprises the steps of (1) forming a negative pattern on the transparent polymer film using a metal pattern roll having an embossed pattern; (2) photocuring after filling the intaglio of the transparent polymer film obtained in step (1) with a conductive paste; And (3) electroplating the transparent polymer film obtained in step (2) to form a metal pattern on the photocured conductor.

이하, 본 발명에 대하여 보다 상세히 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail.

본 발명의 전자파 차폐 시트의 제법은, 투명 고분자 필름에 음각 패턴을 형성한 후, 음각 패턴을 도전체로 충진시키고 그 위에 전기 도금에 의한 금속 패턴을 성장시키는 것을 특징으로 한다. The manufacturing method of the electromagnetic wave shielding sheet of this invention is characterized by forming a negative pattern on a transparent polymer film, filling a negative pattern with a conductor, and growing a metal pattern by electroplating on it.

본 발명의 하나의 실시양태에 따라 금속 패턴 롤을 이용하여 전자파 차폐 시트를 제조하는 방법을 도 1에 나타내었으며, 이를 참조로 하여 본 발명의 전자파 차폐 시트의 제조 공정을 구체적으로 설명하면 다음과 같다.A method of manufacturing an electromagnetic shielding sheet using a metal pattern roll according to an embodiment of the present invention is shown in FIG. 1, and the manufacturing process of the electromagnetic shielding sheet of the present invention will be described in detail with reference to the following. .

(1) 금속 패턴 롤을 이용하여 투명 고분자 필름에 음각 패턴을 형성하는 단계(1) forming an intaglio pattern on the transparent polymer film using a metal pattern roll

우선, 양각 패턴을 갖는 금속 패턴 롤에 열을 가한 후 이를 이용하여 투명 고분자 필름에 원하는 음각 패턴을 형성한다.First, heat is applied to a metal pattern roll having an embossed pattern, and then a desired intaglio pattern is formed on the transparent polymer film by using the heat.

본 발명에 사용되는 투명 고분자 필름은 통상적으로 사용되는 유리 또는 플라스틱 필름으로서 투광성, 산란도 및 색편차 등의 광학 특성에 부합하는 것이 적합하다. 플라스틱 필름으로는 폴리에틸렌 테레프탈레이트(PET), 폴리에틸렌(PE), 폴리프로필렌(PP), 폴리염화비닐(PVC) 또는 폴리카보네이트(PC) 필름 등이 바람직하다. 상기 투명 고분자 필름의 두께는 특별히 한정되지 않지만, 통상적으로 100 내지 250㎛가 바람직하다.The transparent polymer film used in the present invention is suitably suited to optical properties such as light transmittance, scattering degree, and color deviation as glass or plastic films commonly used. As the plastic film, polyethylene terephthalate (PET), polyethylene (PE), polypropylene (PP), polyvinyl chloride (PVC), polycarbonate (PC) film, or the like is preferable. Although the thickness of the said transparent polymer film is not specifically limited, Usually, 100-250 micrometers is preferable.

음각 패턴 형성을 위해 사용되는 양각 미세선 패턴을 갖는 금속 패턴 롤은 통상적인 방법으로 제조하여 사용할 수 있다. 금속 패턴 롤의 양각 패턴의 형태는 도 2에 나타낸 바와 같이, 삼각형(a), 반원형(b) 또는 사각형(c)일 수 있으며, 각각의 패턴 형상은 시인성, 전자파 차폐능 및 도금 증착층의 균일도 등에 영향을 주 므로 원하는 물성에 따라서 적절히 선택할 수 있다. 내마모성과 표면 균일도를 향상시키기 위하여, 본 발명에 사용되는 금속 패턴 롤의 표면은 크롬이나 니켈로 도금하는 것이 바람직하다.Metal pattern rolls having an embossed fine line pattern used for the formation of the intaglio pattern may be manufactured and used by conventional methods. The shape of the embossed pattern of the metal pattern roll may be triangular (a), semi-circular (b) or square (c), as shown in Figure 2, each pattern shape is visibility, electromagnetic shielding ability and uniformity of the plating deposition layer Since it affects, etc., it can be appropriately selected according to the desired physical properties. In order to improve wear resistance and surface uniformity, the surface of the metal pattern roll used in the present invention is preferably plated with chromium or nickel.

본 발명에서는, 미세선 패터닝 된 금속 패턴 롤을 150 내지 210 ℃ 정도로 가열한 후 가열된 금속 패턴 롤을 투명 고분자 필름에 접촉시켜 원하는 음각 패턴을 형성할 수 있다. 고분자 필름에 형성되는 음각의 폭은 5 내지 50 ㎛가, 음각의 깊이는 3 내지 30 ㎛ 가 바람직하고, 음각 간의 간격(즉, 메쉬 형상 개구부의 폭)은 150 내지 500 ㎛가 바람직하다. 이때 음각의 깊이가 3 ㎛ 미만인 경우 도금되는 입자가 고루게 분산되지 않고 충분한 전자파 차폐능을 확보하기 곤란하며, 30 ㎛를 초과하는 경우에는 금속 패턴 롤에서 발생하는 열에 의해 투명 고분자 필름의 휨 현상이 발생할 뿐만 아니라, 필터 제조시 투광도를 확보할 수 없는 문제가 있다. 또한, 금속 패턴 롤에서 발생하는 열에 의한 투명 고분자 필름의 휨을 방지하기 위하여, 투명 고분자 필름의 음각 형성면의 반대면에 냉각 장치를 위치시킬 수 있다. In the present invention, the fine patterned metal pattern roll may be heated to about 150 to 210 ° C., and then the heated metal pattern roll may be contacted with the transparent polymer film to form a desired negative pattern. The width of the intaglio formed on the polymer film is preferably 5 to 50 µm, the depth of the intaglio is preferably 3 to 30 µm, and the interval between the intaglio (that is, the width of the mesh-shaped opening) is preferably 150 to 500 µm. In this case, when the depth of the intaglio is less than 3 μm, the particles to be plated are not uniformly dispersed and it is difficult to secure sufficient electromagnetic shielding ability. When the thickness of the intaglio is more than 30 μm, the warpage phenomenon of the transparent polymer film is caused by heat generated from the metal pattern roll Not only occurs, there is a problem that can not ensure the light transmittance in the filter manufacturing. In addition, in order to prevent warping of the transparent polymer film due to heat generated in the metal pattern roll, the cooling device may be located on the opposite side of the intaglio forming surface of the transparent polymer film.

(2) 투명 고분자 필름의 음각을 도전체로 충진시키는 단계(2) filling the intaglio of the transparent polymer film with a conductor

상기 단계 (1)에서 얻은 투명 고분자 필름의 음각을 통상적인 방법에 의해 도전성 페이스트로 충진한 후 자외선 경화기 등을 통과시켜 충진된 도전성 페이스트를 광경화(광중합)시킨다.The intaglio of the transparent polymer film obtained in the step (1) is filled with the conductive paste by a conventional method, and then passed through an ultraviolet curing machine or the like to photocure (photopolymerize) the filled conductive paste.

본 발명에 사용되는 도전성 페이스트는 5 내지 50 중량%의 광중합형 수지, 40 내지 90 중량%의 금속 분말 및 0.5 내지 10 중량%의 광개시제를 포함한다.The conductive paste used in the present invention contains 5 to 50% by weight of the photopolymerizable resin, 40 to 90% by weight of the metal powder and 0.5 to 10% by weight of the photoinitiator.

또한, 상기 도전성 페이스트는 0.1 내지 10 중량%의 아크릴계 모노머, 0.1 내지 5 중량%의 침전 방지제 또는 도전성 안료 1 내지 10 중량%를 추가로 포함할 수 있다. In addition, the conductive paste may further include 0.1 to 10% by weight of the acrylic monomer, 0.1 to 5% by weight of the precipitation inhibitor or the conductive pigment 1 to 10% by weight.

본 발명에 사용되는 광중합형 수지로는 폴리우레탄 수지, 폴리아크릴레이트 수지 또는 이들의 혼합물을 들 수 있다.As a photopolymer type resin used for this invention, a polyurethane resin, a polyacrylate resin, or a mixture thereof is mentioned.

금속 분말은 100 nm 내지 2 ㎛ 크기, 바람직하게는 250nm 내지 1㎛ 크기를 가질 수 있으며, 이의 구체적인 예로는 구리(Cu), 알루미늄(Al), 니켈(Ni), 은(Ag), 철(Fe), 아연(Zn), 금(Cu), 백금(Pt), 크롬(Cr), 카드뮴(Cd), 텅스텐 (W) 및 이들의 합금을 들 수 있다.The metal powder may have a size of 100 nm to 2 μm, preferably 250 nm to 1 μm, and specific examples thereof include copper (Cu), aluminum (Al), nickel (Ni), silver (Ag), and iron (Fe). ), Zinc (Zn), gold (Cu), platinum (Pt), chromium (Cr), cadmium (Cd), tungsten (W) and alloys thereof.

또한, 자외선 광개시제로는 상업적으로 수득 가능한 시바가이기(Ciba Geigy)사의 이가큐어(Irgacure)#184 (하이드록시사이클로헥실페닐케톤), 이가큐어#907 (2-메틸-1-[4-(메틸티오)페닐]-2-모폴리노-프로판-1-온), 이가큐어#500 (하이드록시케톤과 벤조페논), 이가큐어#651 (벤질디메틸케톤), 다로큐어(Darocure)#1173(2-하이드록시-2-메틸-1-페닐-프로판-1-온), 다로큐어#116, CGI#1800 (비스아실포스핀옥사이드) 또는 CGI#1700 (비스아실포스핀옥사이드)을 사용할 수 있다. In addition, as an ultraviolet photoinitiator, commercially available Irgacure # 184 (hydroxycyclohexylphenyl ketone) of Ciba Geigy, Igacure # 907 (2-methyl-1- [4- (methyl Thio) phenyl] -2-morpholino-propan-1-one), Igacure # 500 (hydroxyketone and benzophenone), Igacure # 651 (benzyldimethylketone), Darocure # 1173 (2 -Hydroxy-2-methyl-1-phenyl-propan-1-one), Darocure # 116, CGI # 1800 (bisacylphosphine oxide) or CGI # 1700 (bisacylphosphine oxide) can be used.

상기 아크릴계 모노머는 작업성을 높이기 위해 점도 조절을 위해 사용되는 것으로, 1 내지 6 관능 아크릴계 모노머가 바람직하며, 이의 대표적인 예로는, 이소보닐아크릴레이트(IBOA), 1,4-부탄디올 디아크릴레이트, 1,6-헥산디올디아크릴레 이트, 에톡실화된 펜타에리스리톨 테트라아크릴레이트(ethoxylated pentaerythritol tetraacrylate), 에톡실화된 노닐페놀 아크릴레이트, 2-페녹시에틸 아크릴레이트, 에톡실화된 비스페놀 A 디아크릴레이트, 페녹시에틸아크릴레이트, 페녹시디에틸렌글리콜아크릴레이트, 이소보닐메타아크릴레이트, 비스페놀 에톡실레이트 디아크릴레이트, 에톡실레이트 페놀 모노아크릴레이트, 트리프로필렌글리콜 디아크릴레이트, 트리메틸프로판 트리아크릴레이트(TMPTA), 에틸렌옥사이드 부가형 트리에틸올프로판 트리아크릴레이트(ethyleneoxide-addition triethylolpropane triacrylate), 펜타에리스리톨 테트라아크릴레이트(PETA), 메탈릭 디아크릴레이트(metallic diacrylate), 3관능 아크릴레이트 에스터(trifunctional acrylate ester), 3관능 메타크릴레이트 에스터(trifunctional methacrylate ester) 또는 이들의 혼합물 등이 있다.The acrylic monomer is used for viscosity control in order to increase workability, 1 to 6 functional acrylic monomer is preferable, and representative examples thereof, isobornyl acrylate (IBOA), 1,4-butanediol diacrylate, 1 , 6-hexanediol diacrylate, ethoxylated pentaerythritol tetraacrylate, ethoxylated nonylphenol acrylate, 2-phenoxyethyl acrylate, ethoxylated bisphenol A diacrylate, phenoxy Cethyl acrylate, phenoxydiethylene glycol acrylate, isobornyl methacrylate, bisphenol ethoxylate diacrylate, ethoxylate phenol monoacrylate, tripropylene glycol diacrylate, trimethylpropane triacrylate (TMPTA), Ethylene oxide addition type triethylol propane triacrylate (ethyleneox ide-addition triethylolpropane triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate (PETA), metallic diacrylate, trifunctional acrylate ester, trifunctional methacrylate ester or their Mixtures and the like.

침전 방지제는 금속의 침전으로 인한 작업성 저하를 개선하기 위하여 사용되는 것으로서, 이의 대표적인 예로는 상업적으로 수득가능한 빅케미사의 Disperbyk-103, Disperbyk-108, Disperbyk-110, Disperbyk-111 또는 Disperbyk-180 등을 사용할 수 있다.Precipitation inhibitors are used to improve the deterioration of workability due to precipitation of metals. Representative examples thereof include commercially obtainable BIC Chemi's Disperbyk-103, Disperbyk-108, Disperbyk-110, Disperbyk-111, or Disperbyk-180. Can be used.

전도성 카본 블랙 및 흑연 등의 도전성 안료는 시인성 확보를 위한 흑화 처리시 사용되는 것으로서, 형성된 전도성 패턴을 흑화 처리하는 종래 기술과는 달리, 본 발명에서는 상기 도전성 안료를 광중합형 수지에 첨가하여 도전성 페이스트 자체에 흑화 처리를 할 수 있다. Conductive pigments such as conductive carbon black and graphite are used in the blackening treatment to ensure visibility, and unlike the prior art of blackening the formed conductive pattern, in the present invention, the conductive pigment is added to the photopolymerized resin to form the conductive paste itself. Blackening treatment can be performed.

음각에 도전성 페이스트가 충진된 투명 고분자 필름에 대해 광을 조사하면, 도전성 페이스트에 함유되어 있는 광개시제가 자외선 에너지를 받아 자유 라디칼을 형성하고 광중합형 수지 내의 이중 결합을 공격하여 중합을 유도할 수 있다. 이때 광원으로는 D 타입 전구(파장 365nm)를 사용할 수 있으며, 광량은 600 mJ/㎠ 내지 2,000 mJ/㎠ 범위인 것이 바람직하다. When the light is irradiated to the transparent polymer film filled with the conductive paste in the intaglio, the photoinitiator contained in the conductive paste receives ultraviolet energy to form free radicals and attack the double bond in the photopolymerizable resin to induce polymerization. At this time, the light source may be a D-type bulb (wavelength 365nm), the amount of light is preferably in the range of 600 mJ / ㎠ to 2,000 mJ / ㎠.

또한, 광경화시 투명 고분자 필름과 도전성 페이스트와의 부착성을 높이기 위하여, 도전성 페이스트로의 음각 충진에 앞서, 투명 고분자 필름을 통상의 방법으로 코로나 또는 플라즈마 처리하여 막 밀착성을 증가시킬 수 있다.In addition, in order to increase the adhesion between the transparent polymer film and the conductive paste during photocuring, the film adhesiveness may be increased by corona or plasma treatment of the transparent polymer film in a conventional manner prior to the negative filling of the conductive paste.

(3) 전기 도금처리하여 금속 패턴을 형성하는 단계(3) electroplating to form a metal pattern

마지막 단계는 상기 단계 (2)에서 얻은 투명 고분자 필름을 통상적인 방법으로 무전해 또는 전해 전기 도금 처리하여 광경화된 도전체 위에 금속 결정을 성장시켜 원하는 금속 패턴을 형성하는 단계이다.The last step is to electrolessly or electrolytically electroplate the transparent polymer film obtained in step (2) to grow metal crystals on the photocured conductor to form a desired metal pattern.

전기 도금에 사용되는 재료로는, 후막으로 도금이 용이하고, 도전성이 우수하며, 비용이 저렴한 동, 은, 니켈 또는 이들의 합금을 사용하는 것이 바람직하다. 전해 전기 도금 처리는 예를 들어, 황산동 또는 황산 등을 주성분으로 하는 도금욕(전해액) 중에 상기 단계 (2)에서 얻은 고분자 필름을 침지하고, 10 내지 40℃에서 음극전류 밀도 1 내지 20 Å/dm2, 바람직하게는 5 내지 15Å/dm2로 통전함으로써 수행할 수 있다. 이때 사용되는 전류는 직류 또는 펄스 전류를 사용할 수 있다. 전해액 중의 동, 은, 니켈 또는 이들의 합금의 농도는 0.1 내지 20g/m2, 바람직하게 는 0.5 내지 5g/m2 이다. 전해액의 pH는 0.1 내지 2.0 범위가 바람직하며, pH가 2.0 이상인 경우에는 표면 처리되지 않은 면이 변색되거나 전해액이 침전되어 액의 안정성이 저하될 수 있다. 도금 시간은 1 내지 30초가 바람직하나, 전해액의 농도 또는 전류 밀도 등에 따라 상기 범위 외에도 가능하다. 또한, 금속 합금 전기 도금층을 형성하는 경우에는, 금속 합금을 포함하는 황화물을 황산구리 용액에 용해시킨 도금욕 중에서 상기와 같은 방법으로 전기 도금할 수 있다. As a material used for electroplating, it is preferable to use copper, silver, nickel, or an alloy thereof as a thick film for easy plating, excellent conductivity, and low cost. In electrolytic electroplating, for example, the polymer film obtained in the step (2) is immersed in a plating bath (electrolyte) containing copper sulfate or sulfuric acid as a main component, and the cathode current density is 1 to 20 mA / dm at 10 to 40 ° C. 2 , preferably 5 to 15 kV / dm 2 . At this time, the current used may be a direct current or a pulse current. The concentration of copper, silver, nickel or alloys thereof in the electrolyte is 0.1 to 20 g / m 2 , preferably 0.5 to 5 g / m 2 . The pH of the electrolyte is preferably in the range of 0.1 to 2.0, and when the pH is 2.0 or more, the untreated surface may be discolored or the electrolyte may precipitate, thereby lowering the stability of the solution. The plating time is preferably 1 to 30 seconds, but may be possible in addition to the above range depending on the concentration or current density of the electrolyte. Moreover, when forming a metal alloy electroplating layer, it can electroplate by a method similar to the above in the plating bath in which the sulfide containing a metal alloy was melt | dissolved in the copper sulfate solution.

상기와 같은 방법에 의해 투명 고분자 필름 상에 형성되는 금속 패턴의 높이는 1 ㎛ 내지 5 ㎛ 범위가 바람직하며, 금속 패턴 높이가 1 ㎛ 미만일 경우, 하부 도전체와의 충분한 부착력을 확보하기 어렵고 원하는 전자파 차폐능을 확보할 수 없으며, 금속 패턴의 높이가 5 ㎛를 초과할 경우, 투광율이 떨어지고 표시화면의 흐름이 커지게 되므로 바람직하지 않다. The height of the metal pattern formed on the transparent polymer film by the above method is preferably in the range of 1 μm to 5 μm, and when the height of the metal pattern is less than 1 μm, it is difficult to secure sufficient adhesion with the lower conductor and to shield desired electromagnetic waves. If the height of the metal pattern exceeds 5 mu m, the light transmittance falls and the flow of the display screen becomes large, which is not preferable.

상술한 바와 같이 제조된 본 발명의 금속 패턴이 형성된 전자파 차폐 시트는 전광선 투과율이 80% 이상이고, 헤이즈가 5% 이하이며, 표면 저항이 0.5 Ω/sq 이하이다. The electromagnetic shielding sheet having the metal pattern of the present invention prepared as described above has a total light transmittance of 80% or more, a haze of 5% or less, and a surface resistance of 0.5 Ω / sq or less.

본 발명에 따라 제조된 전자파 차폐 시트를 이용하여 통상의 방법에 따라 반사방지층과 합지하여 디스플레이 패널용 광학 필터를 제공할 수 있다. 예를 들면, 도 3에 도시한 바와 같이, 본 발명에 따른 투명 고분자 필름(4) 상에 금속 패턴(3)이 형성된 전자파 차폐 시트(5)를 통상의 점착제층(2)을 사용하여 기능층으로서 예를 들어, 반사방지층(1)과 합지하여 광학 필터를 제조할 수 있다.Using the electromagnetic shielding sheet manufactured according to the present invention, it is possible to provide an optical filter for a display panel by laminating with an antireflection layer according to a conventional method. For example, as shown in FIG. 3, the electromagnetic wave shielding sheet 5 in which the metal pattern 3 was formed on the transparent polymer film 4 which concerns on this invention was made into the functional layer using the normal adhesive layer 2. FIG. As an example, the optical filter can be manufactured by laminating with the antireflection layer 1.

또한, 광학 필터를 구성하는 전자파 차폐 시트의 편평한 투명 고분자 필름면에 점착제를 도포한 후 이 점착제층을 디스플레이 패널 본체의 유리에 부착시켜 디스플레이 패널을 형성할 수 있다. Moreover, after apply | coating an adhesive to the flat transparent polymer film surface of the electromagnetic wave shielding sheet which comprises an optical filter, this adhesive layer can be affixed on the glass of a display panel main body, and can form a display panel.

이와 같이, 본 발명에 따른 금속 패턴을 포함하는 전자파 차폐 시트의 제조방법은 기존의 방법에 비해 빠르고 효율적으로 고전도도의 금속 패턴을 형성할 수 있으며, 양산성 및 재현성이 뛰어나다. 또한, 이와 같이 제조된 본 발명의 전자파 차폐 시트를 사용하면, 다른 기능성 필름과의 접합시 불량률을 낮출 수 있어 경제적으로 디스플레이 소자에 용이하게 적용시킬 수 있다. As such, the method of manufacturing the electromagnetic shielding sheet including the metal pattern according to the present invention can form a metal pattern of high conductivity even more quickly and efficiently than the existing method, and has excellent mass productivity and reproducibility. In addition, by using the electromagnetic wave shielding sheet of the present invention prepared as described above, it is possible to lower the defect rate when bonding with other functional film can be easily applied to the display element economically.

상기한 바와 같이, 본 발명에 따른 금속 패턴을 포함하는 전자파 차폐 시트의 제조방법은 기존의 방법에 비해 빠르고 효율적으로 고전도도의 금속 패턴을 형성할 수 있으며, 양산성 및 재현성이 뛰어나다. 또한, 이와 같이 제조된 본 발명의 전자파 차폐 시트를 사용하면 다른 기능성 필름과의 접합시 불량률을 낮출 수 있어 경제적으로 디스플레이 소자에 용이하게 적용시킬 수 있다. As described above, the method of manufacturing the electromagnetic shielding sheet including the metal pattern according to the present invention can form a metal pattern of high conductivity even more quickly and efficiently than the conventional method, and is excellent in mass production and reproducibility. In addition, using the electromagnetic wave shielding sheet of the present invention prepared as described above can lower the defect rate when bonding with other functional film can be easily applied to the display element economically.

Claims (16)

(1) 양각 패턴을 갖는 금속 패턴 롤을 이용하여 투명 고분자 필름에 음각 패턴을 형성하는 단계; (1) forming an intaglio pattern on the transparent polymer film using a metal pattern roll having an embossed pattern; (2) 상기 단계 (1)에서 얻은 투명 고분자 필름의 음각을 도전성 페이스트로 충진한 후 광경화시키는 단계; 및 (2) photocuring after filling the intaglio of the transparent polymer film obtained in step (1) with a conductive paste; And (3) 상기 단계 (2)에서 얻은 투명 고분자 필름을 전기 도금 처리하여 광경화된 도전체 위에 금속 패턴을 형성하는 단계(3) electroplating the transparent polymer film obtained in step (2) to form a metal pattern on the photocured conductor 를 포함하는, 전자파 차폐 시트의 제조방법.A manufacturing method of an electromagnetic shielding sheet comprising a. 제1항에 있어서, The method of claim 1, 상기 단계 (1)의 금속 패턴 롤이 크롬 또는 니켈로 도금된 표면을 갖는 것을 특징으로 하는, 전자파 차폐 시트의 제조방법. The method of manufacturing an electromagnetic shielding sheet, characterized in that the metal pattern roll of step (1) has a surface plated with chromium or nickel. 제1항에 있어서, The method of claim 1, 상기 단계 (1)의 음각이 5 내지 50 ㎛의 폭 및 3 내지 30 ㎛의 깊이를 갖는 것을 특징으로 하는, 전자파 차폐 시트의 제조방법. Method of producing an electromagnetic shielding sheet, characterized in that the intaglio of the step (1) has a width of 5 to 50 ㎛ and a depth of 3 to 30 ㎛. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 단계 (1)의 음각 패턴이 음각 간에 150 내지 500 ㎛의 간격을 갖는 것을 특징 으로 하는, 전자파 차폐 시트의 제조방법.The intaglio pattern of step (1) is characterized in that the interval between the intaglio 150 to 500 ㎛, manufacturing method of the electromagnetic shielding sheet. 제1항에 있어서, The method of claim 1, 상기 단계 (2)의 도전성 페이스트가 5 내지 50 중량%의 광중합형 수지, 40 내지 90 중량%의 금속 분말 및 0.5 내지 10 중량%의 광개시제를 포함하는 것을 특징으로 하는, 전자파 차폐 시트의 제조방법.The conductive paste of step (2) is characterized in that it comprises 5 to 50% by weight of the photopolymerizable resin, 40 to 90% by weight of the metal powder and 0.5 to 10% by weight of the photoinitiator, the manufacturing method of the electromagnetic shielding sheet. 제5항에 있어서, The method of claim 5, 상기 금속 분말이 100 nm 내지 2 ㎛ 크기를 갖는 구리(Cu), 알루미늄(Al), 니켈(Ni), 은(Ag), 철(Fe), 아연(Zn), 금(Cu), 백금(Pt), 크롬(Cr), 카드뮴(Cd), 텅스텐 (W) 또는 이들의 합금인 것을 특징으로 하는, 전자파 차폐 시트의 제조방법.The metal powder is copper (Cu), aluminum (Al), nickel (Ni), silver (Ag), iron (Fe), zinc (Zn), gold (Cu), platinum (Pt) having a size of 100 nm to 2 ㎛ ), Chromium (Cr), cadmium (Cd), tungsten (W) or an alloy thereof. 제5항에 있어서, The method of claim 5, 상기 광중합형 수지가 폴리우레탄 수지, 폴리아크릴레이트 수지 또는 이들의 혼합물인 것을 특징으로 하는, 전자파 차폐 시트의 제조방법.The method for producing an electromagnetic wave shielding sheet, wherein the photopolymerizable resin is a polyurethane resin, a polyacrylate resin, or a mixture thereof. 제5항에 있어서, The method of claim 5, 상기 도전성 페이스트가 도전성 안료 1 내지 10 중량%를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는, 전자파 차폐 시트의 제조방법.The conductive paste further comprises 1 to 10% by weight of a conductive pigment, the electromagnetic shielding sheet manufacturing method. 제5항에 있어서, The method of claim 5, 상기 도전성 페이스트가 아크릴계 모노머 0.1 내지 10 중량%를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는, 전자파 차폐 시트의 제조방법.The conductive paste further comprises 0.1 to 10% by weight of an acrylic monomer, the electromagnetic shielding sheet manufacturing method. 제1항에 있어서, The method of claim 1, 상기 단계 (2)의 충진에 앞서, 투명 고분자 필름을 코로나 또는 플라즈마 처리하는 것을 특징으로 하는, 전자파 차폐 시트의 제조방법.Prior to the filling of the step (2), characterized in that the transparent polymer film is corona or plasma treatment, the method of manufacturing an electromagnetic shielding sheet. 제1항에 있어서, The method of claim 1, 상기 단계 (3)의 전기 도금 처리시 동, 은, 니켈 또는 이들의 합금을 포함하는 전해액을 사용하는 것을 특징으로 하는, 전자파 차폐 시트의 제조방법.In the electroplating process of the step (3), an electrolytic solution containing copper, silver, nickel or an alloy thereof is used, the method of manufacturing an electromagnetic shielding sheet. 제11항에 있어서, The method of claim 11, 상기 전해액 중의 동, 은, 니켈 또는 이들의 합금의 농도가 0.1 내지 20g/m2임을 특징으로 하는, 전자파 차폐 시트의 제조방법.The concentration of copper, silver, nickel or their alloys in the electrolyte solution is 0.1 to 20g / m 2 , the method for producing an electromagnetic shielding sheet. 제1항에 있어서, The method of claim 1, 상기 단계 (3)에서 형성되는 금속 패턴이 1 ㎛ 내지 5 ㎛의 높이를 갖는 것을 특징으로 하는, 전자파 차폐 시트의 제조방법. Method for producing an electromagnetic shielding sheet, characterized in that the metal pattern formed in the step (3) has a height of 1 ㎛ to 5 ㎛. 제1항의 방법에 의해 제조된 전자파 차폐 시트.Electromagnetic shielding sheet produced by the method of claim 1. 제14항의 전자파 차폐 시트를 포함하는 광학 필터.An optical filter comprising the electromagnetic shielding sheet of claim 14. 제15항의 광학 필터를 포함하는 디스플레이 패널. A display panel comprising the optical filter of claim 15.
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KR20170006469A (en) * 2015-07-08 2017-01-18 (주)뉴옵틱스 Conductive sheet and method of producting the same

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