KR20070033249A

KR20070033249A - UV light irradiation device and light cleaning device

Info

Publication number: KR20070033249A
Application number: KR1020060077018A
Authority: KR
Inventors: 요시타카 후지타
Original assignee: 하리슨 도시바 라이팅 가부시키가이샤
Priority date: 2005-09-21
Filing date: 2006-08-16
Publication date: 2007-03-26
Also published as: TWI322435B; TW200727309A; CN1937102A; JP2007088116A

Abstract

대기 중에서 워크에 진공 자외광을 조사할 때에, 진공 자외광의 감쇠를 억제함과 함께, 오존 및 활성 산소의 농도를 적절히 관리할 수 있는 자외광 조사장치 및 이것을 이용한 광 세정장치를 제공한다.When irradiating a vacuum ultraviolet light to a workpiece in air, the ultraviolet light irradiation apparatus which can suppress attenuation of vacuum ultraviolet light, and can manage ozone and active oxygen concentration suitably, and the light cleaning device using the same are provided.

자외광 조사장치(UVE)는, 진공 자외광을 발생하는 엑시머 방전램프(EXL)와, 엑시머 방전램프를 점등하는 고주파 점등회로(HFI)와, 엑시머 방전램프의 진공 자외광 조사 방향을 향하여 워크(W)의 주위에 불활성 가스 리치(rich) 분위기를 형성하는 불활성 가스 분위기 형성수단(IGB)과, 워크의 이동 방향을 따라서 불활성 가스 분위기 형성 위치와 떨어진 위치에서 엑시머 방전램프의 진공 자외광 조사 방향을 향하여 워크의 주위에 산소 가스 리치 분위기를 형성하는 산소 가스 분위기 형성수단(O₂B)을 구비하고 있다.The ultraviolet light irradiation apparatus (UVE) includes an excimer discharge lamp (EXL) for generating vacuum ultraviolet light, a high frequency lighting circuit (HFI) for lighting the excimer discharge lamp, and a workpiece for the vacuum ultraviolet light irradiation direction of the excimer discharge lamp ( Inert gas atmosphere forming means (IGB) which forms an inert gas rich atmosphere around W) and the vacuum ultraviolet light irradiation direction of the excimer discharge lamp at a position away from the inert gas atmosphere forming position along the moving direction of the workpiece. And oxygen gas atmosphere forming means (O ₂ B) for forming an oxygen gas rich atmosphere around the workpiece.

유전체, 배리어, 방전램프, 광 세정장치 Dielectric, Barrier, Discharge Lamp, Light Cleaner

Description

자외광 조사장치 및 광 세정장치{ULTRAVIOLET IRRADIATION APPARATUS AND LIGHT ASHING APPARATUS} Ultraviolet light irradiating device and light cleaning device {ULTRAVIOLET IRRADIATION APPARATUS AND LIGHT ASHING APPARATUS}

도 1은 본 발명의 자외광 조사장치 및 광 세정장치를 실시하기 위한 제 1 형태를 나타내는 개념도이다. BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS It is a conceptual diagram which shows the 1st form for implementing the ultraviolet light irradiation apparatus and light cleaning apparatus of this invention.

도 2는 마찬가지로 자외광 조사장치의 일부 단면의 정면도이다.2 is a front view of a partial cross section of the ultraviolet light irradiation apparatus similarly.

도 3은 마찬가지로 발광관의 일부 절흠(切欠) 정면도이다.3 is a partially broken front view of the light emitting tube in the same manner.

도 4는 마찬가지로 발광관 및 그 지지부 및 급전부를 나타내는 정면도 및 좌우 측면도이다.4 is a front view and a left and right side view similarly showing the light emitting tube, its supporting portion, and its power feeding portion.

도 5는 본 발명에 있어서의 광 세정효과를 비교예의 광 세정효과와 비교하여 나타내는 그래프이다.5 is a graph showing the light cleaning effect in the present invention in comparison with the light cleaning effect of the comparative example.

도 6은 본 발명의 자외광 조사장치 및 광 세정장치를 실시하기 위한 제 2 형태를 나타내는 자외광 조사장치 및 이것을 구비한 광 세정장치의 개념도이다.6 is a conceptual diagram of an ultraviolet light irradiation device and a light cleaning device including the same, showing a second embodiment for implementing the ultraviolet light irradiation device and the light cleaning device of the present invention.

도 7은 본 발명의 자외광 조사장치 및 광 세정장치를 실시하기 위한 제 3 형태를 나타내는 자외광 조사장치 및 이것을 구비한 광 세정장치의 개념도이다.7 is a conceptual diagram of an ultraviolet light irradiation device and a light cleaning device including the same, showing a third embodiment for carrying out the ultraviolet light irradiation device and the light cleaning device of the present invention.

도 8은 본 발명의 자외광 조사장치(UVE) 및 광 세정장치(LW)를 실시하기 위한 제 4 형태에 있어서의 유전체 배리어 방전램프(EXL)를 나타내는 주요부의 정면도이다.FIG. 8: is a front view of the principal part which shows the dielectric barrier discharge lamp EXL in 4th form for implementing the ultraviolet light irradiation apparatus UVE and the light cleaning apparatus LW of this invention.

<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명><Explanation of symbols for the main parts of the drawings>

BC : 본체 케이스 D : 워크(W)의 반송 방향 BC: main body case D: conveyance direction of workpiece (W)

EXL : 유전체 배리어 방전램프 HFI : 고주파 점등회로 EXL: Dielectric barrier discharge lamp HFI: High frequency lighting circuit

IGB : 불활성 가스 분위기 형성수단 LT : 발광관IGB: Inert gas atmosphere forming means LT: Light emitting tube

LW : 광 세정장치 LW: Light Cleaner

O₂B : 산소 가스 분위기 형성수단 MB : 광 세정장치 본체O ₂ B: oxygen gas atmosphere forming means MB: optical cleaning device

OE : 외부 전극 산소 취출수단 OE: external electrode oxygen extraction means

R1 : 불활성 가스 리치의 분위기 영역R1: atmosphere region of inert gas rich

R2 : 산소 가스 리치의 분위기 영역R2: atmosphere area of oxygen gas rich

SM : 지지 기구 TM : 워크 반송 기구SM: Support Mechanism TM: Work Carrying Mechanism

UVE : 자외광 조사장치 W : 워크UVE: UV light irradiation device W: Work

본 발명은, 자외광 조사장치 및 이것을 이용한 광 세정장치에 관한 것이다.The present invention relates to an ultraviolet light irradiation device and a light cleaning device using the same.

크세논 등의 희(希)가스 또는 희가스의 할로겐화물 등을 무성 방전 즉 유전체 배리어 방전을 실시하게 하여, 고유의 단색에 가까운 방사를 발생시키는 엑시머 방전램프 즉, 유전체 배리어 방전램프는 수많은 문헌에 기재되어 종래로부터 알려 져 있다. 유전체 배리어 방전에 있어서는, 펄스 형상(狀)의 전류가 흐른다. 이 펄스 형상의 전류는 고속의 전자류를 가지며, 또한, 휴지 기간이 많기 때문에, 크세논 등의 자외광을 내는 물질을 일시적으로 분자 상태(엑시머 상태)로 결합시켜, 그것이 기저 상태로 되돌아올 때에 재흡수가 적은 단파장 자외광을 효율적으로 방출한다. 한편, 크세논의 경우, 172nm를 중심 파장으로 하는 반값폭이 넓은 분자 발광을 한다. 파장 172nm의 자외선은, 그 에너지가 저압 수은 램프로부터 얻어지는 파장 185nm나 254nm의 자외선보다 큰 것과 함께, 분해하고자 하는 유기 화합물의 결합 에너지보다 크다. 이 때문에, 파장 172nm의 자외선을 조사함으로써, 상기 유기 화합물의 결합을 절단하고, 분해하여 제거할 수 있다. 또한, 파장 172nm의 자외광 조사를 대기 분위기 중에서 실시함으로써, 대기중의 산소가 분해하여 활성 산소를 생성하여, 결합이 절단된 유기 화합물이 활성 산소와 반응하여, 탄산 가스(CO₂)나 물(H₂O)등을 생성시키므로, 유기 화합물의 제거가 용이해진다. 따라서, 유전체 배리어 방전램프는, 진공 자외광 조사장치 및 이것을 이용하는 광 세정장치용의 광원으로서 매우 효과적이다.Excimer discharge lamps, i.e., dielectric barrier discharge lamps, which allow a rare gas such as xenon or a halide of a rare gas or the like to be subjected to a silent discharge, that is, a dielectric barrier discharge, to generate radiation close to a unique monochromatic color, that is, a dielectric barrier discharge lamp has been described in numerous literatures. It is known from the prior art. In the dielectric barrier discharge, a pulse current flows. This pulse-shaped current has a high-speed electron flow and has a lot of rest periods. Thus, an ultraviolet light-emitting substance such as xenon is temporarily bonded to a molecular state (excimer state) and re-created when it returns to the ground state. Efficiently emit short wavelength ultraviolet light with low absorption. On the other hand, in the case of xenon, molecular light emission with a wide half-value width having 172 nm as the center wavelength is performed. Ultraviolet light with a wavelength of 172 nm is larger than the binding energy of the organic compound to be decomposed, while its energy is larger than ultraviolet light with a wavelength of 185 nm or 254 nm obtained from a low pressure mercury lamp. For this reason, the bond of the said organic compound can be cut | disconnected, decomposed | disassembled, and removed by irradiating the ultraviolet-ray with a wavelength of 172nm. In addition, by performing ultraviolet light irradiation having a wavelength of 172 nm in an atmospheric atmosphere, oxygen in the atmosphere decomposes to generate active oxygen, and the organic compound whose bond is cleaved reacts with the active oxygen, so that carbon dioxide (CO ₂ ) or water ( H ₂ O) and the like are produced, so that the removal of the organic compound becomes easy. Therefore, the dielectric barrier discharge lamp is very effective as a light source for a vacuum ultraviolet light irradiation device and a light cleaning device using the same.

유전체 배리어 방전램프로서, 가늘고 긴 관 형상의 기밀 용기를 이용하여 유전체 배리어 방전을 실시하는 유전체 배리어 방전램프가 알려져 있다(특허문헌 1 참조). 특허문헌 1에 기재되어 있는 유전체 배리어 방전램프는, 가늘고 긴 기밀 용기, 이 기밀 용기 내의 축 방향으로 연재하는 내부 전극 및 기밀 용기 내에 봉입된 엑시머 생성 가스를 구비한 발광관을 형성하고, 냉각 기능을 가짐과 함께 기밀 용기의 바깥면의 일부가 끼워맞춤하도록 오목하게 들어간 알루미늄제의 등체(燈體)를 외부 전극으로서 기밀 용기의 바깥면에 맞닿게 하여, 기밀 용기의 관 축방향을 따라서 일정한 유전체 배리어 방전을 일으킴과 함께, 발광관으로부터 발생하는 열을 신속하게 방산시켜 발광 효율을 높은 상태로 유지하도록 구성되어 있다. 또한, 외부 전극과 기밀 용기를 서로 밀접시키기 위해서, 양자를 압접(壓接)하도록 구성하고 있다.As a dielectric barrier discharge lamp, a dielectric barrier discharge lamp which performs a dielectric barrier discharge using an elongated tubular hermetic container is known (see Patent Document 1). The dielectric barrier discharge lamp described in Patent Literature 1 forms a light-emitting tube having an elongated hermetic container, an internal electrode extending in the axial direction in the hermetic container, and an excimer-generating gas enclosed in the hermetic container, thereby providing a cooling function. And a dielectric barrier made of aluminum recessed so that a part of the outer surface of the hermetic container fits with the outer surface of the hermetic container as an external electrode, the dielectric barrier being constant along the tube axis direction of the hermetic container. In addition to causing discharge, the heat generated from the light emitting tube is quickly dissipated to maintain the high luminous efficiency. Moreover, in order to make an external electrode and an airtight container close mutually, it is comprised so that both may be crimped.

상술한 종래의 이러한 종류의 유전체 배리어 방전램프를 이용하여 자외선 조사를 실시하는 경우, 피조사물의 큰 면적화에 수반하여 더욱 기다란 유전체 배리어 방전램프가 개발되어, 그 유효 길이가 1m를 넘는 것이 이용되게 되었다. 이러한 기다란 유전체 배리어 방전램프를 이용하면, 예를 들면 큰 면적의 액정기판의 애싱, 감광성 수지의 경화 및 살균 등의 다양한 공업적 응용이 가능하게 된다.When ultraviolet irradiation is performed using this type of conventional dielectric barrier discharge lamp described above, a longer dielectric barrier discharge lamp is developed with a larger area of the irradiated object, so that an effective length of more than 1 m is used. It became. By using such an elongated dielectric barrier discharge lamp, various industrial applications, such as ashing of a large area liquid crystal substrate, hardening and sterilization of the photosensitive resin, are possible.

가늘고 긴 유전체 배리어 방전램프를 이용한 광조사장치 즉 자외광 조사장치도 알려져 있다(예를 들면, 특허문헌 2 참조). 이 자외광 조사장치는, 본체 케이스의 아랫면 개구부에 광추출창을 배열설치하고, 내부에 유전체 배리어 방전램프를 금속 블록과 조합하여 수납하고, 본체 케이스의 내부에 질소 등의 불활성 가스를 유통시키면서 유전체 배리어 방전램프를 점등시켜 진공 자외광의 감쇠를 억제하도록 구성되어 있다. 그리고, 자외광 조사장치를 대기중에서 광 세정장치 등의 광원으로서 사용한다.A light irradiation apparatus using an elongated dielectric barrier discharge lamp, that is, an ultraviolet light irradiation apparatus, is also known (see Patent Document 2, for example). The ultraviolet light irradiation apparatus arranges light extraction windows in the lower opening of the main body case, accommodates the dielectric barrier discharge lamp in combination with a metal block, and distributes the inert gas such as nitrogen inside the main body case while distributing an inert gas. The barrier discharge lamp is turned on to suppress attenuation of vacuum ultraviolet light. The ultraviolet light irradiation device is used as a light source such as a light cleaning device in the atmosphere.

[특허문헌 1] 일본 특허공개공보 2003-197152호[Patent Document 1] Japanese Patent Laid-Open No. 2003-197152

[특허문헌 2] 일본 특허공개공보 2002-168999호[Patent Document 2] Japanese Patent Laid-Open No. 2002-168999

종래의 자외광 조사장치는, 본체 케이스내에 있어서의 진공 자외광의 감쇠를 억제할 수 있다. 그러나, 자외광 조사장치와 진공 자외광이 조사되는 것에 의해 처리되는 워크와의 사이에는 대기가 존재하기 때문에, 진공 자외광이 워크에 조사될 때까지의 동안에 대기에 의한 감쇠를 수반한다. 이 감쇠는, 진공 자외광 조사의 효과를 저감시키기 때문에, 무시할 수 없다고 하는 문제가 있다.The conventional ultraviolet light irradiation apparatus can suppress the attenuation of the vacuum ultraviolet light in the main body case. However, since an atmosphere exists between the ultraviolet light irradiation apparatus and the workpiece processed by being irradiated with the vacuum ultraviolet light, it is accompanied by attenuation by the atmosphere until the vacuum ultraviolet light is irradiated to the workpiece. This attenuation reduces the effect of vacuum ultraviolet light irradiation, so there is a problem that it cannot be ignored.

또한, 광 세정장치는, 워크에 진공 자외광을 조사하여 유기물의 분해를 실시하기 위해서 사용되지만, 그 광 세정효과를 높이기 위해서는, 오존 및 활성 산소의 농도를 적절히 관리하는 것이 바람직하다.In addition, although the optical cleaning apparatus is used in order to irradiate a vacuum ultraviolet light to a workpiece | work and decompose | disassemble an organic substance, in order to raise the optical cleaning effect, it is preferable to manage ozone and active oxygen concentration suitably.

그런데, 종래의 광 세정장치에서는, 상기의 관리가 곤란하기 때문에 워크의 광세정을 효율적으로 실시할 수 없다고 하는 문제도 있다.By the way, in the conventional optical cleaning device, since the said management is difficult, there also exists a problem that light cleaning of a workpiece cannot be performed efficiently.

본 발명은, 대기중에서 워크에 진공 자외광을 조사할 때에, 진공 자외광의 감쇠를 억제함과 함께, 오존 및 활성 산소의 농도를 적절히 관리할 수 있는 자외광 조사장치 및 이것을 이용한 광 세정장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.The present invention provides an ultraviolet light irradiation apparatus and an optical cleaning device using the same, which can suppress the attenuation of the vacuum ultraviolet light and appropriately manage the concentration of ozone and active oxygen when irradiating the vacuum ultraviolet light to the workpiece in the atmosphere. It aims to provide.

본 발명의 자외광 조사장치는, 진공 자외광을 발생하는 엑시머 방전램프와; 엑시머 방전램프를 점등하는 고주파 점등회로와; 엑시머 방전램프의 진공 자외광 조사방향을 향하여 워크의 주위에 불활성 가스 리치 분위기를 형성하는 불활성 가스 분위기 형성수단과; 워크의 이동 방향을 따라서 불활성 가스 분위기 형성 위치와 떨어진 위치에서 엑시머 방전램프의 진공 자외광 조사 방향을 향하여 워크의 주 위에 산소 가스 리치 분위기를 형성하는 산소 가스 분위기 형성수단을 구비하고 있는 것을 특징으로 하고 있다.An ultraviolet light irradiation apparatus of the present invention, the excimer discharge lamp for generating a vacuum ultraviolet light; A high frequency lighting circuit for lighting the excimer discharge lamp; Inert gas atmosphere forming means for forming an inert gas rich atmosphere around the workpiece toward the vacuum ultraviolet light irradiation direction of the excimer discharge lamp; And an oxygen gas atmosphere forming means for forming an oxygen gas rich atmosphere on the periphery of the work in a direction away from the inert gas atmosphere forming position along the moving direction of the work toward the vacuum ultraviolet light irradiation direction of the excimer discharge lamp. have.

본 발명의 광 세정장치는, 광 세정장치 본체와; 광 세정장치 본체에 배열설치된 제 1 항에 기재된 자외선 조사장치를 구비하고 있는 것을 특징으로 하고 있다.An optical cleaning device of the present invention includes: an optical cleaning device main body; The ultraviolet irradiation device of Claim 1 arrange | positioned at the optical washing | cleaning apparatus main body is provided, It is characterized by the above-mentioned.

[발명을 실시하기 위한 최선의 형태]Best Mode for Carrying Out the Invention

이하에 도면을 참조하여 본 발명을 실시하기 위한 제 1 형태를 설명한다.EMBODIMENT OF THE INVENTION Below, with reference to drawings, the 1st aspect for implementing this invention is demonstrated.

도 1 내지 도 4는, 본 발명의 자외광 조사장치 및 광 세정장치를 실시하기 위한 제 1 형태를 나타내고, 도 1은 개념도, 도 2는 자외광 조사장치의 일부 단면 정면도, 도 3은 발광관의 일부 절흠 정면도, 도 4는 발광관 및 그 지지부 및 급전부를 나타내는 정면도 및 좌우 측면도이다.1 to 4 show a first embodiment for implementing the ultraviolet light irradiation device and the light cleaning device of the present invention, FIG. 1 is a conceptual view, FIG. 2 is a partial cross-sectional front view of the ultraviolet light irradiation device, and FIG. 3 is light emission. A partially broken front view of the tube, FIG. 4 is a front view and a left and right side view showing the light emitting tube, its supporting portion, and its feeding section.

본 형태에 있어서, 자외광 조사장치(UVE)는, 유전체 배리어 방전램프(EXL), 고주파 점등회로(HFI), 불활성가스 분위기 형성수단(IGB) 및 산소 가스 분위기 형성수단(O₂B)를 구비하고 있다. 또한, 광 세정장치(LW)는 광 세정장치 본체(MB) 및 자외광 조사장치(UVE)로 이루어진다. In this embodiment, the ultraviolet light irradiation apparatus UVE includes a dielectric barrier discharge lamp EXL, a high frequency lighting circuit HFI, an inert gas atmosphere forming means IGB, and an oxygen gas atmosphere forming means O ₂ B. Doing. In addition, the light cleaning device LW includes a light cleaning device main body MB and an ultraviolet light irradiation device UVE.

<자외광 조사장치(UVE)> <UV light irradiation device>

(유전체 배리어 방전램프(EXL)에 대하여) (About dielectric barrier discharge lamp (EXL))

자외광 조사장치(UVE)는, 소요 광량의 진공 자외광을 발생시키기 위해서, 원하는 수의 유전체 배리어 방전램프(EXL)를 구비할 수 있다. 복수의 유전체 배리어 방전램프(EXL)를 구비할 경우, 그들을 원하는 형태로 배열시킬 수 있고, 예를 들면 관축이 인접하도록 병렬한 형태로 하면, 최소한의 면적 내에 다수의 유전체 배리어 방전램프(EXL)를 배치할 수 있다.The ultraviolet light irradiation apparatus UVE can include a desired number of dielectric barrier discharge lamps EXL in order to generate vacuum ultraviolet light of a required amount of light. When a plurality of dielectric barrier discharge lamps EXL are provided, they can be arranged in a desired shape. For example, when a plurality of dielectric barrier discharge lamps EXL are arranged in parallel so as to have adjacent tube axes, a plurality of dielectric barrier discharge lamps EXL can be provided within a minimum area. Can be placed.

유전체 배리어 방전램프(EXL)는, 기밀 용기(1), 엑시머 형성 가스, 내부 전극(2) 및 외부 전극(OE)를 구비하고 있다. 한편, 기밀 용기(1), 엑시머 형성 가스 및 내부 전극(2)은, 미리 조립되어 일체화된 발광관(LT)을 구성하고 있다. 발광관(LT)에는, 도 3에 나타낸 바와 같이, 그 양단에 한 쌍의 급전부(3A,3B) 및 한 쌍의 지지부(5,5)가 장착되어 있다.The dielectric barrier discharge lamp EXL includes an airtight container 1, an excimer forming gas, an internal electrode 2, and an external electrode OE. On the other hand, the airtight container 1, the excimer formation gas, and the internal electrode 2 comprise the light emitting tube LT previously assembled and integrated. As shown in FIG. 3, a pair of feed sections 3A and 3B and a pair of support sections 5 and 5 are attached to the light emitting tube LT.

기밀 용기(1)는, 자외선 투과성의 재료로 이루어지며, 가늘고 긴 방전 공간(1a)이 내부에 형성되어 있다. 예를 들면, 가늘고 긴 관의 양단이 봉지되어 내부에 원기둥형상의 방전 공간(1a)이 형성된 구조로 할 수 있다. 또한, 후술하는 제 2 형태에 있어서와 마찬가지로, 2중의 가늘고 긴 관의 양단을 봉지하는 것에 의해서 내부에 원통형상의 가늘고 긴 방전공간(1a')이 형성된 구조로 할 수도 있다. 자외선 투과성의 재료로서는, 일반적으로 합성 석영 유리를 이용하여 제작된다. 그러나, 본 발명에 있어서는, 이용하고자 하는 파장의 자외선에 대해서 투과성을 가지고 있으면 어떠한 재료로 구성해도 좋다.The airtight container 1 is made of an ultraviolet ray permeable material, and an elongated discharge space 1a is formed therein. For example, it can be set as the structure in which both ends of an elongate tube are sealed and the columnar discharge space 1a was formed inside. In addition, similarly to the second embodiment described later, by sealing both ends of the double elongated tube, a cylindrical elongated discharge space 1a 'can be formed inside. As an ultraviolet-ray transparent material, it is generally produced using synthetic quartz glass. However, in this invention, as long as it has transparency to the ultraviolet-ray of the wavelength to use, you may comprise with what kind of material.

또한, 기밀 용기(1)는, 필요한 자외선량을 확보하기 위해 다수의 유전체 배리어 방전램프(EXL)를 비교적 좁은 간격으로 병렬로 배치하여 사용하는 것을 허용하기 때문에, 직선성이 뛰어난 직관(直管)인 것이 바람직하지만, 다소 만곡하고 있어도 지장은 없다. 실제로, 가늘고 긴 관을 형성할 때에 다소의 만곡이 발생하기 쉽고, 예를 들면 전체 길이 약 1200mm에 대하여 최대 1mm 정도 이하의 만곡이 형성될 수 있다. 그러나, 이 정도의 만곡은, 거의 직관으로서 허용된다.In addition, since the airtight container 1 permits the use of a plurality of dielectric barrier discharge lamps EXL in parallel at relatively narrow intervals in order to secure the required amount of ultraviolet rays, a straight pipe having excellent linearity is provided. Although it is preferable, there is no obstacle even if it is curved somewhat. In fact, some curvature tends to occur when forming an elongated tube, for example, a curvature of up to about 1 mm or less with respect to a total length of about 1200 mm can be formed. However, this degree of curvature is almost acceptable as intuition.

엑시머 생성 가스로서는, 크세논(Xe), 크립톤(Kr), 아르곤(Ar) 또는 헬륨(He)등의 희가스의 1종 또는 복수종의 혼합 혹은 희가스 할로겐화물, 예를 들면 XeCl, KrCl 등을 이용할 수 있다. 한편, 희가스 할로겐화물을 봉입하는 경우, 희가스와 불소(F), 염소(Cl), 브롬(Br) 또는 요오드(I) 등의 할로겐을 봉입하여, 기밀 용기(1)의 내부에서 할로겐 화물이 생성되도록 하여도 좋다. 또한, 엑시머 생성 가스에 더하여 엑시머를 생성하지 않는 가스, 예를 들면 네온(Ne) 등을 혼합하는 것도 경우에 따라서는 허용된다.As the excimer generated gas, one kind or a plurality of mixed or rare gas halides of rare gases such as xenon (Xe), krypton (Kr), argon (Ar) or helium (He), for example, XeCl, KrCl and the like can be used. have. On the other hand, when the rare gas halide is encapsulated, the rare gas and halogen such as fluorine (F), chlorine (Cl), bromine (Br) or iodine (I) are encapsulated to generate halides in the airtight container 1. You may make it possible. In addition, it is also acceptable in some cases to mix a gas which does not generate an excimer, for example neon (Ne), in addition to the excimer generating gas.

내부 전극(2)은, 기밀 용기(1)의 벽면을 사이에 두고 외부 전극(OE)과 대향하도록 배열설치된다. 그러나, 내부 전극(2)은 기밀 용기(1)의 방전 공간(1a) 내에 노출하도록 봉입되어 있는 형태 및 예를 들면 기밀 용기(1)의 안쪽에 있어서 방전 공간(1a)의 외부에 배열설치된 형태 중의 어느 하나라도 좋다. 후자의 형태의 경우, 예를 들면 기밀 용기(1)가 2중관 구조이며, 내부 전극(2)은, 기밀 용기(1)의 중심축측에 형성된 통형상의 벽면을 따라서 배열설치된다. 따라서, 본 발명에 있어서, 내부 전극(2)이란, 기밀 용기(1)를 외부에서 본 경우에 상대적으로 기밀 용기(1)의 안쪽에 배열설치되는 전극인 것을 의미한다고 이해해야 할 것이다. The inner electrode 2 is arranged so as to face the outer electrode OE with the wall surface of the hermetic container 1 interposed therebetween. However, the internal electrode 2 is enclosed so as to be exposed in the discharge space 1a of the airtight container 1 and, for example, arranged in the outside of the discharge space 1a inside the airtight container 1. Any of these may be sufficient. In the latter form, for example, the airtight container 1 has a double tube structure, and the internal electrodes 2 are arranged along the cylindrical wall surface formed on the central axis side of the airtight container 1. Therefore, in this invention, it should be understood that the internal electrode 2 means the electrode arrange | positioned inside the airtight container 1 relatively, when the airtight container 1 is seen from the outside.

이상의 설명으로부터 이해할 수 있듯이, 본 발명에 있어서, 내부 전극(2)은, 기밀 용기(1)의 내부에, 그 관 축방향의 거의 전체 길이 즉 램프의 유효길이의 전체에 걸쳐서 유전체 배리어 방전을 발생하도록 배열설치된 전극, 바람직하게는 관 축방향으로 긴 전극이면, 그 나머지는 어떤 구성이라도 좋다. 한편, 도 2 및 도 4에 있어서, 내부 전극(2)은 도시를 생략하고 있다.As can be understood from the above description, in the present invention, the internal electrode 2 generates a dielectric barrier discharge over the entire length of the tube axial direction, that is, the effective length of the lamp, inside the hermetic container 1. As long as it is an electrode arrange | positioned so that it may be preferably an electrode long in a tube axial direction, the remainder may be any structure. 2 and 4, the internal electrode 2 is not shown.

도 3에 나타내는 내부 전극(2)의 바람직한 구성예에 대하여 설명한다. 즉, 이 내부 전극(2)은, 다수의 독립된 메쉬 형상 부분(2b)이 기밀 용기(1)의 축 방향으로 분산 배치되고, 또한, 주위에 각각 공극을 사이에 두고 배열설치된 구성의 메쉬형상을 이루고 있는 것과 함께, 연결 부분(2a)을 통하여 접속하여 일체화된 구조가 되어 있어, 기밀 용기(1)의 내부에 삽입된 상태로 배열설치되는 구성을 구비하고 있다. 이러한 내부 전극(2)을 이용함으로써, 자외선 발생량을 상대적으로 많이 할 수 있다. 한편, 메쉬 형상 부분(2b)은, 둘레방향에 대해서 연속하고 있어도 좋고, 분단하고 있어도 좋다.The preferable structural example of the internal electrode 2 shown in FIG. 3 is demonstrated. That is, this internal electrode 2 has the mesh shape of the structure by which the many independent mesh-shaped part 2b was arrange | positioned disperse | distributed to the axial direction of the airtight container 1, and was arrange | positioned so that the space | interval was each arranged through the space | interval. In addition, the structure is connected to each other via the connecting portion 2a to form an integrated structure, and has a configuration in which it is arranged in a state of being inserted into the airtight container 1. By using such an internal electrode 2, the amount of ultraviolet rays generated can be relatively high. On the other hand, the mesh-shaped part 2b may be continuous with respect to the circumferential direction, and may be segmented.

따라서, 본 발명에 있어서, 내부 전극(2)이 메쉬 형상을 이루고 있는 경우, 그 메쉬 형상 부분(2b)은, 구체적으로는 예를 들면 링형상, 스파이럴(spiral)형상 또는 코일형상 혹은 그물코 형상 등을 이루고 있는 것이 허용된다.Therefore, in the present invention, when the internal electrode 2 has a mesh shape, the mesh part 2b is specifically a ring shape, a spiral shape or a coil shape or a mesh shape, for example. It is allowed to achieve.

다음에, 내부 전극(2)이 석영 유리로 이루어진 기밀 용기(1)의 내부에 배열설치되는 경우의 지지 구조 및 급전구조에 대하여 설명한다. 내부 전극(2)을 기밀 용기(1)내에 봉착하려면, 도 3에 나타낸 바와 같이, 봉착 금속박(1b1)을 이용한 봉착 구조를 채용할 수 있다. 즉, 내부 전극(2)의 연결 부분(2a)의 양단(兩端)을 잡아 늘여 형성된 직선 형상의 단부(2c)를 봉착 금속박(1b1)에 용접 등에 의해 접속하여, 내부 전극(2)을 기밀 용기(1) 내에 삽입하고 나서, 단부(端部)의 석영 유리를 가열하여 연화 상태로 하여 봉착 금속박(1b1)의 위로부터 핀치 시일 한다. 그 렇게 하면, 기밀 용기(1)의 단부에 봉지부(1b)가 형성되고 내부 전극(2)이 소정의 위치에 지지된다. Next, the supporting structure and the power feeding structure in the case where the internal electrode 2 is arranged inside the hermetic container 1 made of quartz glass will be described. In order to seal the internal electrode 2 in the airtight container 1, as shown in FIG. 3, the sealing structure using the sealing metal foil 1b1 can be employ | adopted. That is, the linear end 2c formed by holding both ends of the connection part 2a of the internal electrode 2 and extending it is connected to the sealing metal foil 1b1 by welding etc., and the internal electrode 2 is airtight. After inserting into the container 1, the quartz glass of the edge part is heated, it is made into the softened state, and it pinches the seal from the sealing metal foil 1b1. By doing so, the sealing part 1b is formed in the edge part of the airtight container 1, and the internal electrode 2 is supported by a predetermined position.

급전부(3A,3B)는, 내부 전극(2)에 대해서 유전체 배리어 방전에 필요한 전류를 공급하기 위한 급전단을 구성하는 것이다. 그리고, 급전부(3A,3B)는, 각각 막대형상을 이루고 있고, 내단이 기밀 용기(1)의 양단에 형성된 봉지부(1b)에 매설된 몰리브덴박(1b1)에 용접되고, 기단이 기밀 용기(1)의 양단에 형성된 봉지부(1b)로부터 외부의 관 축방향으로 돌출하고 있다. 또한, 급전부(3B)는, 후술하는 지지부(5)의 내부에 있어서, 각각 급전선(4)에 체결되어 접속되어 있다. 그러나, 급전부(3A)는, 후술하는 캡체(5a') 내에서 노출하지만, 급전을 받지 않도록 되어 있다. 한편, 급전선(4)은, 후술하는 고주파 점등회로(HFI)의 출력단에 접속하고 있다.The feed sections 3A and 3B constitute a feed stage for supplying a current required for dielectric barrier discharge to the internal electrode 2. The feed sections 3A and 3B each have a rod shape, and the inner end is welded to the molybdenum foil 1b1 embedded in the encapsulation section 1b formed at both ends of the airtight container 1, and the base end is an airtight container. It protrudes in the outer tube axial direction from the sealing part 1b formed in both ends of (1). Moreover, the feed part 3B is fastened and connected to the feed line 4 in the inside of the support part 5 mentioned later, respectively. However, although the feed part 3A is exposed in the cap body 5a 'mentioned later, it does not receive a power supply. On the other hand, the feed line 4 is connected to the output terminal of the high frequency lighting circuit HFI mentioned later.

지지부(5)는, 도 4에 나타낸 바와 같이, 각각 한 쌍의 바닥이 있는 통형상의 캡체(5a,5a'), 체결 링(5b,5b), 부착 아암(5c,5c'), 완충 스프링(5d), 단자판겸 부착 금구(5e) 및 부착 볼트(5f)를 구비하고 있다. 한편, 도 4에 있어서, (a)는 일부 절흠 정면도, (b)는 좌측면도, (c)는 우측면도이다.As shown in FIG. 4, the support part 5 has a pair of bottom-shaped cylindrical cap bodies 5a and 5a ', fastening rings 5b and 5b, attachment arms 5c and 5c', and a shock absorbing spring, respectively. 5d, the terminal plate, the mounting bracket 5e, and the mounting bolt 5f are provided. In addition, in FIG. 4, (a) is a partial notch front view, (b) is a left side view, (c) is a right side view.

한 쌍의 캡체(5a,5a')는, 발광관(LT)의 양단부를 포위한다. 그리고, 도 4에 있어서 오른쪽의 캡체(5a)는, 그 바닥부에 내부 전극(2)에 접속하는 급전선(4)을, 세라믹 부쉬(5a1)를 사이에 두고 절연 관계로 삽입관통하는 삽입관통구멍을 가지고 있다. 캡체(5a')는, 발광관(LT)의 도 1의 좌단부를 지지하기 위해서만 발광관(LT)의 단부를 포위하고 있다. 한편, 캡체(5a,5a')는, 금속 및 절연체의 어느 것으로 형성해도 좋고, 또한 원하는 바에 따라 내면을 절연체로 라이닝한 금속제로 할 수 도 있다.The pair of cap bodies 5a and 5a 'surrounds both ends of the light emitting tube LT. In FIG. 4, the right side cap body 5a inserts a feed line 4 connected to the internal electrode 2 at its bottom portion in an insulating relationship with a ceramic bush 5a1 interposed therebetween. Have The cap body 5a 'surrounds the end of the light emitting tube LT only to support the left end of FIG. 1 of the light emitting tube LT. The caps 5a and 5a 'may be formed of any of a metal and an insulator, or may be made of metal with an inner surface lined with an insulator as desired.

체결 링(5b)은, 캡체(5a,5a')의 각각의 통로단에 배열설치되어 있고, 캡체(5a,5a')를 기밀 용기(1)의 단부에 고정하고 있다.The fastening ring 5b is arranged in each passage end of the cap 5a, 5a ', and fixes the cap 5a, 5a' to the end of the airtight container 1.

한 쌍의 부착 아암(5c,5c')은, 캡체(5a)의 측면으로부터 도면에 있어서 위쪽으로 돌출하여 나사로 지지부에 고정되도록 구성되어 있고, 발광관(LT)를 도 2에 나타내는 위치 규정 아암(8)에 캡체(5a)의 윗면이 맞닿은 상태로 부착 아암(5c)을 이용하여 도시하지 않은 고정 부분에 부착된다. 부착 아암(5c)은, 캡체(5a)에 절연 관계로 부착된다. 한편, 위치 규정 아암(8)은, 도 2에 나타낸 바와 같이, 외부 전극(OE)의 관 축방향 양단으로부터 기밀 용기(1)의 단부 방향으로 연재하여 발광관(LT), 따라서 기밀 용기(1)의 부착 위치를 규정한다. 또한 부착 아암(5c)은, 금속 및 절연체중의 어느 것으로 형성해도 좋고, 또한 원하는 바에 따라 중간에 절연물을 개재시킨 구조로서 부착 위치와의 사이를 절연한 구조로 할 수도 있다.The pair of attachment arms 5c and 5c 'protrude upward from the side surface of the cap 5a and are configured to be fixed to the supporting portion with screws. 8) is attached to a fixed portion (not shown) using the attachment arm 5c in a state where the upper surface of the cap body 5a abuts. The attachment arm 5c is attached to the cap body 5a in an insulating relationship. On the other hand, as shown in FIG. 2, the positioning arm 8 extends in the end direction of the hermetic container 1 from both ends of the tube axial direction of the external electrode OE to extend the light emitting tube LT, and thus the hermetic container 1. The attachment position of) is specified. The attachment arm 5c may be formed of any of metals and insulators, and may have a structure insulated between the attachment positions as desired by interposing an insulator in between.

완충 스프링(5d)은, 부착 아암(5c)과 후술하는 단자판 겸 부착 금구(5e)와의 사이에 개재하고 있고, 발광관(LT)을 완충적으로 지지한다.The buffer spring 5d is interposed between the attachment arm 5c and the terminal plate and mounting bracket 5e described later, and buffers the light emitting tube LT.

단자판 겸 부착 금구(5e)는, 발광관(LT)을 부착함과 함께, 우측단쪽에서는 급전선(4)이 접속하고 있어, 단자판을 겸하고 있다.The terminal plate and mounting bracket 5e attaches the light emitting tube LT, and the feed line 4 is connected at the right end side, and serves as a terminal plate.

부착 볼트(5f)는, 단자판 겸 부착 금구(5e)를 고정 위치에 부착한다.The mounting bolt 5f attaches the terminal plate and the mounting bracket 5e to the fixed position.

그렇게 해서, 캡체(5a,5a')가 절연체제 또는 절연체로 라이닝한 금속제이거나, 부착 아암(5c,5c')를 부착 위치와의 사이가 절연되는 구조로 하거나, 혹은 위치 규정 아암(8) 자체 또는 상기 아암(8)과 지지부(5)의 사이를 절연하는 것에 의 해서, 급전부(3A,3B)와의 사이에 코로나 방전이 발생하기 때문에, 유전체 배리어 방전램프로부터의 자외선 방사가 저감하는 것을 억제할 수 있다.Thus, the caps 5a and 5a 'are made of an insulator or a metal lined with an insulator, or the attachment arms 5c and 5c' are insulated from the attachment position or the position defining arm 8 itself. Alternatively, since the corona discharge is generated between the feeding portions 3A and 3B by insulating between the arm 8 and the supporting portion 5, the reduction of ultraviolet radiation from the dielectric barrier discharge lamp is suppressed. can do.

외부 전극(OE)은, 적어도 램프의 유효길이의 부분에 있어서, 기밀 용기(1)의 바깥면에 그 관 축방향을 따라서 밀접하거나, 또는 적절한 틈새를 유지하며 연재하도록 배열설치되어 있는 것과 함께, 내부 전극(2)에 대향하여, 외부 전극(OE) 및 내부 전극(2)의 협동에 의해서, 적어도 기밀 용기(1)의 하나의 벽면을 유전체로 하는 유전체 배리어 방전을 기밀 용기(1)의 방전 공간(1a)내에 발생하도록 작용한다.The external electrode OE is arranged on the outer surface of the airtight container 1 at least part of the effective length of the lamp so as to be in close contact along the axial direction of the tube or to extend while maintaining an appropriate gap. Opposite to the inner electrode 2, by the cooperation of the outer electrode OE and the inner electrode 2, a dielectric barrier discharge having at least one wall surface of the hermetic container 1 as a dielectric discharges the hermetic container 1. It acts to occur in the space 1a.

또한, 외부 전극(OE)은, 강성을 구비한 구성 및 구부림성을 구비한 구성의 어느 것이라도 좋다. 전자의 경우, 도전성 금속으로 이루어진 열용량이 큰 블록형상을 이룬 도시한 바와 같은 외부 전극(OE)이 된다. 따라서, 종래에 등체(燈體)라고 칭하고 있던 부재를, 원하는 바에 따라 그대로 외부 전극으로서 이용하는 것이 가능하다. 이 경우, 종래 이용하고 있던 알루미늄제의 박판(Al)을 외부 전극(OE)이 기밀 용기(1)와의 사이에 끼워 지지하는 구조를 채용할 수 있다. 또한, 유전체 배리어 방전이 발생하고 있는 영역의 기밀 용기(1) 부분을 냉각하기 위해서, 외부 전극(OE)에 냉각 수단(도시하지 않음)을 배열설치할 수 있다. 이 경우, 냉각 수단은, 어떠한 구성이어도 좋지만, 냉매가 내부로 통류하는 냉각수로를 외부 전극(OE)에 외부부착하거나, 또는 내부에 일체로 형성하거나 하여 부설하는 것이 바람직하다. 또한, 외부 전극(OE)은, 연속한 면형상 또는 메쉬형상의 어느 상태를 이루고 있어도 좋다. 한편, 메쉬 형상이란, 그물코 형상, 펀칭형상, 격자형상 등을 이루고 있는 것을 말한다. In addition, the external electrode OE may be any of the structure with rigidity, and the structure with bendability. In the former case, the external electrode OE as shown in the block shape having a large heat capacity made of a conductive metal is formed. Therefore, it is possible to use the member which was conventionally called the equivalence as it is as an external electrode as desired. In this case, a structure in which the external electrode OE is sandwiched between the hermetic container 1 and the thin plate Al made of aluminum conventionally used can be adopted. Moreover, in order to cool the part of the airtight container 1 of the area | region where the dielectric barrier discharge generate | occur | produces, cooling means (not shown) can be arrange | positioned at the external electrode OE. In this case, the cooling means may be of any configuration, but it is preferable that the cooling water passage through which the refrigerant flows inside is externally attached to the external electrode OE or integrally formed inside. In addition, the external electrode OE may be in any state of a continuous surface shape or a mesh shape. In addition, a mesh shape means what has comprised the mesh | net shape, the punching shape, the grid | lattice shape, etc.

(고주파 점등회로HFI) (High frequency lighting circuit HFI)

고주파 점등회로(HFI)는, 유전체 배리어 방전램프(EXL)의 내부 전극(2)과 외부 전극 (OE)과의 사이에 고주파 전압을 인가하여, 유전체 배리어 방전램프(EXL)를 부세(付勢)하여 점등한다. 또한, 고주파 점등회로(HFI)는, 병렬 인버터를 주체로서 구성되어 있으며, 그 고주파 출력은, 그 높은 전위측이 급전선(4,4)을 통하여 유전체 배리어 방전램프(EXL)에 있어서의 발광관(LT)의 한 쌍의 급전부(3B)에, 또한 낮은 전위측이 외부전극(OE)에, 각각 인가된다.The high frequency lighting circuit HFI applies a high frequency voltage between the internal electrode 2 and the external electrode OE of the dielectric barrier discharge lamp EXL to bias the dielectric barrier discharge lamp EXL. Lights up. In addition, the high frequency lighting circuit (HFI) mainly comprises a parallel inverter, and the high frequency output has the high potential side of the light emitting tube (D) in the dielectric barrier discharge lamp (EXL) through the feed lines (4, 4). The low potential side is applied to the pair of feed sections 3B of LT, respectively, to the external electrode OE.

또한, 고주파 점등회로(HFI)는, 고주파 발생수단을 포함하고, 고주파 전압을 발생하여 유전체 배리어 방전램프(EXL)에, 그 점등에 필요한 고주파 전력을 공급한다. 한편, 고주파는, 10kHz 이상, 바람직하게는 100kHz∼2MHz의 반복 주파수의 펄스 전압이다. 고주파 점등회로(HFI)가 펄스 전압을 출력하는 경우, 예를 들면 구형파(矩形波) 출력의 인버터를 이용함으로써, 구형파의 펄스를 얻을 수 있다.The high frequency lighting circuit HFI includes a high frequency generating means, generates a high frequency voltage, and supplies the high frequency power required for the lighting to the dielectric barrier discharge lamp EXL. On the other hand, the high frequency is 10 kHz or more, preferably a pulse voltage of a repetition frequency of 100 kHz to 2 MHz. When the high frequency lighting circuit HFI outputs a pulse voltage, for example, a square wave pulse can be obtained by using an inverter having a square wave output.

(불활성 가스 분위기 형성수단(IGB)에 대하여) (Inert gas atmosphere forming means (IGB))

불활성 가스 분위기 형성수단(IGB)은, 진공 자외광이 조사되는 워크(W)의 주위에 불활성 가스 리치의 분위기 영역(R1)을 형성하여 높은 조도의 진공 자외광 조사를 실시함으로써, 워크(W)의 세정 능력을 높이는 수단이다. 불활성 가스로는, 질소나 아르곤 등의 희가스류 등을 이용할 수 있다.The inert gas atmosphere forming means IGB forms the inert gas rich atmosphere region R1 around the workpiece W to which the vacuum ultraviolet light is irradiated, and performs the irradiation of the vacuum ultraviolet light of high illuminance, thereby the work W It is a means to increase the washing ability of the. As the inert gas, rare gases such as nitrogen and argon can be used.

한편, 워크가 연속적으로 이송되고 있는 과정에서, 진공 자외광의 조사를 받도록 하는 구성의 경우에는, 미리 소정의 위치에 불활성 가스 리치의 분위기 영역(R1)을 형성하도록 구성하면 좋다. 그렇게 하면, 워크(W)가 이송되어 불활성 가 스 리치의 분위기 영역(R1)내에 들어갔을 때에, 워크(W)의 주위에 불활성 가스 리치의 분위기가 형성된다.On the other hand, in the case where the workpiece is continuously conveyed, in the case of the configuration in which vacuum ultraviolet light is irradiated, the inert gas rich atmosphere region R1 may be formed at a predetermined position in advance. Then, when the workpiece | work W is conveyed and entered in the atmosphere area | region R1 of inert gas rich, the atmosphere of inert gas rich is formed around the workpiece | work W. As shown in FIG.

불활성 가스 리치의 분위기는, 대기보다 불활성 가스의 농도가 높아지고 있는 분위기이며, 적당한 수단을 이용하여 해당 분위기를 형성하는 것이 허용된다. 예를 들면, 불활성 가스 분출수단이나 불활성 가스 가둠 수단 등을 이용하여 불활성 가스 리치의 분위기를 형성할 수 있다.The atmosphere of the inert gas rich is an atmosphere in which the concentration of the inert gas is higher than that of the atmosphere, and it is allowed to form the atmosphere by appropriate means. For example, an inert gas rich atmosphere can be formed by using an inert gas ejection means, an inert gas confinement means, or the like.

한편, 불활성 가스 리치의 분위기중에 있어서의 불활성 가스의 농도가 높을수록 진공 자외광의 감쇠가 적어지기 때문에, 높은 조도의 진공 자외광 조사를 실시할 수 있으므로 바람직하다. 그러나, 불활성 가스 농도가 대기중의 불활성 가스 농도보다 높은 것이면, 대기중에서 진공 자외광 조사를 실시하는 경우보다 진공 자외광의 감쇠가 저감하고, 따라서 상대적으로 높은 조도의 진공 자외광 조사를 실시할 수 있으므로, 효과적이다.On the other hand, since the attenuation of the vacuum ultraviolet light decreases as the concentration of the inert gas in the atmosphere of the inert gas rich decreases, the vacuum ultraviolet light irradiation of high illuminance can be performed, which is preferable. However, if the concentration of the inert gas is higher than the concentration of the inert gas in the atmosphere, the attenuation of the vacuum ultraviolet light is reduced as compared with the case of performing the vacuum ultraviolet light irradiation in the atmosphere, and thus, the vacuum ultraviolet light irradiation of relatively high illumination can be performed. Therefore, it is effective.

도 1의 형태에 있어서, 불활성 가스 분위기 형성수단(IGB)은, 불활성 가스 분출수단으로 이루어진다. 이 수단에 의하면, 대기 공간으로부터 특별히 격벽 등으로 나누지 않고, 예를 들면 워크의 위쪽에 배열설치된 노즐 등으로 불활성 가스를 바람직하게는 워크(W)를 향하여 분출시키는 것만으로, 불활성 가스 리치의 분위기 영역(R1)을 형성할 수 있다.In the form of FIG. 1, inert gas atmosphere formation means IGB consists of inert gas blowing means. According to this means, the inert gas is preferably blown out toward the workpiece W, for example, by a nozzle or the like arranged above the workpiece, rather than being divided into a partition wall or the like from the air space, thereby providing an inert gas rich atmosphere region. (R1) can be formed.

또한, 불활성 가스 분위기 형성수단(IGB)은, 유전체 배리어 방전램프(EXL)와 일체화되어 있어도 좋고, 분리되어 있어도 좋다. 불활성 가스 분위기 형성수단(IGB)에 불활성 가스 취출구를 배열설치하는 경우, 상기 취출구는 단일이어도 좋 고, 복수라도 좋다. The inert gas atmosphere forming means IGB may be integrated with the dielectric barrier discharge lamp EXL or may be separated. In the case where the inert gas outlets are arranged in the inert gas atmosphere forming means IGB, the outlets may be single or plural.

또한, 상기 조사 에리어의 일부에 불활성 가스 리치의 분위기 영역(R1)을 형성한다. 불활성 가스 리치의 분위기 영역(R1)의 상기 조사 에리어의 전체에 대한 비율은 특별히 한정되지 않는다. 예를 들면, 도 1에 나타낸 바와 같이, 거의 반정도로 할 수 있다. 그러나, 원하는 바에 따라 반이상으로 하거나, 반이하로 하거나, 경우에 따라서는 가변으로 할 수도 있다.In addition, an inert gas rich atmosphere region R1 is formed in a part of the irradiation area. The ratio with respect to the whole said irradiation area of the atmosphere area | region R1 of inert gas rich is not specifically limited. For example, as shown in FIG. 1, it can be made about half. However, if desired, it may be made more than half, less than half, or in some cases variable.

(산소 가스 분위기 형성수단(O₂B)에 대하여) (About oxygen gas atmosphere forming means (O ₂ B))

산소 가스 분위기 형성수단(O₂B)은, 워크(W)의 주위에 산소 가스 리치의 분위기의 영역(R2)을 형성하여, 진공 자외광 조사에 있어서, 오존 및 활성 산소의 농도를 원하는 정도로 커지도록 관리하는 수단이다. 그리고, 유전체 배리어 방전램프(EXL)로부터 조사되는 진공 자외광이 산소 가스 분위기 형성수단(O₂B)에 의해 형성된 산소 리치의 분위기 영역(R2)속을 통과할 때에, 산소 분자를 해리·결합시켜 오존을 발생시키거나, 활성 산소를 생성시키거나 함으로써, 자외광 조사장치(UVE)에 의한 워크(W)의 세정 능력을 높이도록 작용한다.The oxygen gas atmosphere forming means (O ₂ B) forms the region R2 in the atmosphere of the oxygen gas rich around the work W, and increases the concentration of ozone and active oxygen to a desired degree in vacuum ultraviolet light irradiation. Is a means of management. When the vacuum ultraviolet light emitted from the dielectric barrier discharge lamp EXL passes through the oxygen-rich atmosphere region R2 formed by the oxygen gas atmosphere forming means O ₂ B, oxygen molecules are dissociated and bound. By generating ozone or generating active oxygen, it acts to increase the cleaning ability of the work W by the ultraviolet light irradiation device UVE.

한편, 워크(W)가 연속적으로 이송되고 있는 과정에서 진공 자외광의 조사를 받도록 하는 구성인 경우에는, 미리 소정의 위치에 산소 가스 리치의 분위기 영역(R2)을 형성하도록 구성하면 좋다. 그렇게 하면, 워크(W)가 이송되어 산소 가스 리치의 분위기 영역(R2)내에 들어갔을 때에, 워크(W)의 주위에 산소 가스 리치의 분위기가 형성된다.On the other hand, in the case of the structure which receives the irradiation of vacuum ultraviolet light in the process in which the workpiece | work W is continuously conveyed, what is necessary is just to comprise so that the atmospheric region R2 of oxygen gas rich may be previously formed in a predetermined position. Then, when the workpiece | work W is conveyed and entered in the atmospheric region R2 of oxygen gas rich, the atmosphere of oxygen gas rich is formed around the workpiece | work W. As shown in FIG.

산소 가스 분위기 형성수단(O₂B)에 의해 형성되는 산소 리치의 분위기중의 산소 가스는, 워크(W)의 표면 근방에 있어서 산소 100%뿐만 아니라, 불활성 가스가 혼합하고 있어도 좋다. 그러나, 공기보다 산소 농도가 높은 것에 의해, 오존 및 활성 산소의 원하는 농도 관리가 용이해진다. The oxygen gas in the oxygen rich atmosphere formed by the oxygen gas atmosphere forming means O ₂ B may be mixed with not only 100% oxygen but also an inert gas in the vicinity of the surface of the workpiece W. However, higher oxygen concentration than air makes it easier to manage the desired concentration of ozone and active oxygen.

산소 가스 리치의 분위기 영역(R2)을 형성하기 위해서, 산소 가스 분위기 형성수단(O₂B)을 적당한 수단을 이용하여 구성할 수 있다.In order to form the oxygen gas rich atmosphere region R2, the oxygen gas atmosphere forming means (O ₂ B) can be configured using a suitable means.

또한, 산소 가스 분위기 형성수단(O₂B)은, 유전체 배리어 방전램프(EXL)와 일체화되어 있어도 좋고, 분리되어 있어도 좋다. 산소 가스 분위기 형성수단(O₂B)의 산소 가스 취출구는, 단일이어도 좋고, 복수라도 좋다.The oxygen gas atmosphere forming means (O ₂ B) may be integrated with the dielectric barrier discharge lamp EXL or may be separated. The oxygen gas outlet of the oxygen gas atmosphere forming means (O ₂ B) may be single or plural.

또한, 산소 가스 리치의 분위기 영역(R2)의 상기 조사 에리어의 전체에 대한 비율은 특별히 한정되지 않는다. 예를 들면, 도 1에 나타낸 바와 같이, 거의 반정도로 할 수 있다. 그러나, 원하는 바에 따라 반이하로 하거나, 반이상으로 하거나, 경우에 따라서는 가변으로 할 수도 있다.In addition, the ratio with respect to the said irradiation area whole of the atmospheric region R2 of oxygen gas rich is not specifically limited. For example, as shown in FIG. 1, it can be made about half. However, if desired, it may be less than half, more than half, or in some cases variable.

그리고 또한, 산소 가스 분위기 형성수단(O₂B)은, 바람직하게는 워크(W)의 진공 자외광 조사 에리어의 상대적으로 종단부측 즉 불활성 가스 취출수단(IGB)의 하류측에 배치된다. 그러나, 원하는 바에 따라 상기의 반대의 배치라도 좋다. 또한, 불활성 가스 분위기 형성수단 (IGB) 및 산소 가스 분위기 형성수단(O₂B)를 각각 복수 배열설치하는 것도 허용되고, 워크(W)의 이동 방향에 따라서 교대로 배치할 수도 있다.In addition, the oxygen gas atmosphere forming means (O ₂ B) is preferably arranged on the relatively end side of the vacuum ultraviolet light irradiation area of the work W, i.e., downstream of the inert gas extracting means (IGB). However, the above arrangement may be reversed as desired. Moreover, it is also permissible to arrange _two or more inert gas atmosphere formation means (IGB) and oxygen gas atmosphere formation means (O2B), and can also arrange | position alternately according to the moving direction of the workpiece | work W. As shown in FIG.

(자외광 조사장치(UVE)의 그 외의 구성에 대하여) (Other configurations of ultraviolet light irradiation device (UVE))

자외광 조사장치(UVE)의 그 외의 구성으로서, 이상 설명한 유전체 배리어 방전램프(EXL), 불활성 가스 분위기 형성수단(IGB) 및 산소 가스 분위기 형성수단(O₂B)을 내부에 수납하여, 이들 각 요소를 소정의 위치 관계로 유지하는 본체 케이스(BC)를 구비할 수 있다. 한편, 고주파 점등회로(HFI)는 그 외의 구성요소와는 떨어진 위치에 배치할 수 있다. 그러나, 본체 케이스(BC)내에 수납하는 등 다른 구성요소와 같은 위치에 배열설치할 수 있음은 물론이다.As another configuration of the ultraviolet light irradiation apparatus UVE, the dielectric barrier discharge lamp EXL, the inert gas atmosphere forming means IGB, and the oxygen gas atmosphere forming means O ₂ B described above are housed therein, and each of these is housed. The main body case BC which keeps an element in a predetermined positional relationship can be provided. On the other hand, the high frequency lighting circuit HFI can be arranged at a position away from other components. However, of course, it can be arranged in the same position as other components, such as storing in the main body case BC.

<광 세정장치(LW)><Light cleaning device (LW)>

(광 세정장치 본체(MB)에 대하여) (About the optical cleaner main body MB)

광 세정장치 본체(MB)는, 광 세정장치(LW)로부터 자외광 조사장치(UVE)를 제외한 나머지 부분을 의미한다. 그리고, 예를 들면 자외광 조사장치(UVE)의 지지 기구(SM), 및 워크 반송 기구(TM) 및 제어반 등을 광 세정장치 본체(MB)가 포함하고 있는 것이 허용된다.The light cleaning device main body MB means the rest of the light cleaning device LW except the ultraviolet light irradiation device UVE. For example, it is permissible that the optical cleaning device main body MB includes the support mechanism SM of the ultraviolet light irradiation apparatus UVE, the work conveyance mechanism TM, the control panel, and the like.

지지 기구(SM)는, 진공 자외광이 반송되는 워크(W)에 조사하도록 자외광 조사장치(UVE)를 소정의 위치에 지지하는 수단이다. 또한, 지지 기구(SM)는, 자외광 조사장치(UVE)의 유전체 배리어 방전램프(EXL)의 관 축방향을 워크(W)의 이동 방향에 대해서 직교하는 방향으로 지지하는 것이 바람직하다. 유전체 배리어 방전램프(EXL)는, 그 관 축방향으로 비교적 균일한 조도 분포를 부여시키는 것이 용이하 므로, 자외광 조사장치(UVE)를 상기의 방향으로 지지함으로써, 워크(W)에 진공 자외광을 균일하게 조사하기 쉬워지기 때문이다.The support mechanism SM is a means which supports the ultraviolet light irradiation apparatus UVE in a predetermined position so that the ultraviolet-ray light may be irradiated to the workpiece | work W conveyed. Moreover, it is preferable that the support mechanism SM supports the tube axial direction of the dielectric barrier discharge lamp EXL of the ultraviolet light irradiation apparatus UVE in the direction orthogonal to the moving direction of the workpiece | work W. As shown in FIG. Since the dielectric barrier discharge lamp EXL can easily provide a relatively uniform illuminance distribution in the tube axial direction, the vacuum ultraviolet light is applied to the work W by supporting the ultraviolet light irradiation device UVE in the above direction. It is because it becomes easy to irradiate it uniformly.

워크 반송 기구(TM)는, 자외광 조사장치(UVE)에 대해서 워크(W)를 상대적으로 이동시켜, 진공 자외광을 조사시키는 이동 수단이다. 도 1에 나타내는 형태에 있어서는, 롤러 반송기구에 의해 구성되어 있다.The workpiece conveyance mechanism TM is a moving means which irradiates a vacuum ultraviolet light by moving the workpiece | work W relatively with respect to the ultraviolet light irradiation apparatus UVE. In the form shown in FIG. 1, it is comprised by the roller conveyance mechanism.

제어반(도시하지 않음)은, 광 세정장치(LW) 전체를 소요로 제어한다.A control panel (not shown) controls the entire light cleaning device LW as required.

<자외광 조사장치(UVE) 및 광 세정장치(LW)의 동작><Operation of Ultraviolet Light Irradiation Device (UVE) and Light Cleaner (LW)>

자외광 조사장치(UVE)는, 다음과 같이 동작한다. 즉, 유전체 배리어 방전램프(EXL)가 고주파 점등회로(HFI)의 고주파 출력단의 한쪽, 예를 들면 고압측 출력단이 급전선(4)을 경유하여 내부 전극(2)으로부터 외부로 도출된 급전부(3B)에 접속된다. 그리고, 예를 들면 저압(접지)측 출력단이 외부 전극(OE)의 일단(一端)에 접속되어 있다.The ultraviolet light irradiation device UVE operates as follows. That is, the dielectric barrier discharge lamp EXL is one of the high frequency output terminals of the high frequency lighting circuit HFI, for example, the high voltage side output terminal is fed to the outside from the internal electrode 2 via the feed line 4B. ) Is connected. For example, the low voltage (ground) output terminal is connected to one end of the external electrode OE.

따라서, 도시하지 않은 입력 전원이 투입되면, 고주파 점등회로(HFI)는, 고주파 펄스 전압을 발생하고, 그 고주파 펄스 전압이 내부 전극(2)과, 이것에 기밀 용기(1)의 벽면을 사이에 두고 대향하고 있는 외부 전극(OE)과의 사이에 인가된다. 그 결과, 유전체 배리어 방전이 기밀 용기(1)의 내부에 발생한다. 이 유전체 배리어 방전에 의해서, 크세논의 엑시머에 의해 172nm을 중심 파장으로 하는 진공 자외광이 발생한다. 진공 자외광은, 기밀 용기(1)의 벽면을 투과하여 외부로 도출된다. 외부로 도출된 진공 자외광을 워크(W)에 조사하는 등 각각의 목적에 따라 이용할 수 있다.Therefore, when input power not shown is inputted, the high frequency lighting circuit HFI generates a high frequency pulse voltage, and the high frequency pulse voltage is interposed between the internal electrode 2 and the wall surface of the airtight container 1. It is applied between the external electrodes OE facing each other. As a result, dielectric barrier discharge occurs inside the hermetic container 1. By this dielectric barrier discharge, vacuum ultraviolet light having a center wavelength of 172 nm is generated by the excimer of xenon. The vacuum ultraviolet light passes through the wall surface of the hermetic container 1 and is led out. It can be used in accordance with the respective purposes, such as irradiating the vacuum ultraviolet light emitted to the workpiece (W).

또한 자외광 조사장치(UVE)는, 진공 자외광의 조사에 더하여 불활성 가스 분위기 형성수단(IGB) 및 산소 가스 분위기 형성수단(O₂B)의 각각으로부터 불활성 가스, 예를 들면 산소 가스가 불어 나감으로써, 진공 자외광의 조사 영역속에 불활성 가스 리치의 분위기 영역(R1) 산소 가스 리치의 분위기 영역(R2)이 화살표 D로 나타내는 워크(W)의 반송 방향을 따라서 서로 떨어진 위치에 형성된다.In addition, the ultraviolet light irradiation apparatus UVE blows inert gas, for example, oxygen gas, from each of the inert gas atmosphere forming means IGB and the oxygen gas atmosphere forming means O ₂ B in addition to the irradiation of the vacuum ultraviolet light. As a result, the atmosphere region R2 of the oxygen gas rich atmosphere region R1 of the inert gas rich is formed at a position separated from each other along the conveyance direction of the workpiece W indicated by the arrow D in the vacuum ultraviolet light irradiation region.

불활성 가스 리치의 분위기 영역(R1)에 있어서는, 진공 자외광의 감쇠가 효과적으로 억제되므로, 높은 조도의 진공 자외광 조사에 의해서 워크(W)의 세정 효과가 증진한다.In the atmosphere region R1 of the inert gas rich, the attenuation of the vacuum ultraviolet light is effectively suppressed, so that the cleaning effect of the work W is enhanced by the irradiation of the vacuum ultraviolet light of high illuminance.

다음에, 워크(W)는, 더 반송되어 산소 가스 리치의 분위기 영역(R2)에 도달하면, 이번에는 이 영역(R2)내에서 산소가 진공 자외광 조사를 받는 것으로 산소 분자의 해리, 결합에 의해서 오존이 형성되거나 활성 산소가 생성되거나 하므로, 산소 농도를 제어함으로써, 오존량 및 활성 산소량을 원하는 높은 값으로 관리하는 것에 의해서 워크(W)의 세정효과를 향상시키는 것이 가능하게 된다.Next, when the workpiece | work W is conveyed further and it reaches | attains the atmospheric region R2 of oxygen gas rich, this time, oxygen is vacuum-ultraviolet-irradiated in this region R2, and it dissociates and bonds with oxygen molecule | numerator. Since ozone is formed or active oxygen is generated by this, by controlling the oxygen concentration, it is possible to improve the cleaning effect of the work W by managing the ozone amount and the active oxygen amount at a desired high value.

이상의 작용에 의해서, 자외광 조사장치(UVE) 및 광 세정장치(LW)의 진공 자외광의 조사효과를 높일 수 있다. 또한, 오존과 활성 산소에 의한 세정 효과가 부가되므로, 광 세정효과를 높일 수 있다.By the above effect, the irradiation effect of the vacuum ultraviolet light of the ultraviolet light irradiation apparatus UVE and the light cleaning device LW can be improved. In addition, since the cleaning effect by ozone and active oxygen is added, the light cleaning effect can be enhanced.

다음에, 도 5를 참조하여, 본 발명에 있어서의 광 세정효과를 비교예의 광 세정효과와 비교하면서 설명한다.Next, with reference to FIG. 5, the light cleaning effect in this invention is demonstrated, comparing with the light cleaning effect of a comparative example.

도 5는, 본 발명에 있어서의 광 세정효과를 비교예의 광 세정효과와 비교하 여 나타내는 그래프이다. 도면에 있어서, 가로축은 광조사 시간(초)을, 세로축은 접촉각(°)을, 각각 나타낸다. 또한, 도면중의 곡선 A는 본 발명, 곡선 B는 비교예를 각각 나타낸다. 한편, 비교예는, 대기중에서 진공 자외광 조사를 실시했을 경우이다.5 is a graph showing the light cleaning effect in the present invention compared with the light cleaning effect of the comparative example. In the figure, the horizontal axis represents light irradiation time (seconds) and the vertical axis represents contact angle (°), respectively. In addition, curve A in this figure shows this invention, and curve B shows a comparative example, respectively. On the other hand, a comparative example is a case where vacuum ultraviolet light irradiation is performed in air | atmosphere.

도면으로부터 이해할 수 있듯이, 본 발명에 있어서는, 조사시간 5초에 접촉각이 5°까지 저하한다. 이에 비해서, 비교예에서는, 접촉각이 5°까지 저하하는데 8초간의 광조사를 실시할 필요가 있다.As can be understood from the figure, in the present invention, the contact angle drops to 5 ° in 5 seconds of irradiation time. On the other hand, in a comparative example, although a contact angle falls to 5 degrees, it is necessary to perform light irradiation for 8 second.

이하, 도 6 내지 도 8을 참조하여 본 발명의 자외광 조사장치 및 광 세정장치의 다른 형태에 대하여 설명한다. 한편, 각 도면에 있어서, 도 1 내지 도 4와 동일한 부분에 대해서는 동일 부호를 부여하여 설명을 생략한다.6 to 8, another embodiment of the ultraviolet light irradiation device and the light cleaning device of the present invention will be described. In addition, in each drawing, the same code | symbol is attached | subjected about the same part as FIG. 1 thru | or FIG. 4, and description is abbreviate | omitted.

도 6은, 본 발명의 자외광 조사장치 및 광 세정장치를 실시하기 위한 제 2 형태를 나타내는 자외광 조사장치 및 이것을 구비한 광 세정장치의 개념도이다.6 is a conceptual diagram of an ultraviolet light irradiation device and a light cleaning device including the same, showing a second embodiment for implementing the ultraviolet light irradiation device and the light cleaning device of the present invention.

본 형태에 있어서, 자외광 조사장치(UVE)는, 활성 가스 분위기 형성수단(IGB)이 차폐 구조 타입의 불활성 가스 가둠 수단으로 이루어진다. 불활성 가스 가둠 수단은, 불활성 가스 취출수단에 더하여 둘러쌈 수단(E)을 구비하고 있다. 둘러쌈 수단(E)은, 불활성 가스 취출수단으로부터 불어 나간 불활성 가스가 외부로 누출되기 어렵도록 외부와의 사이를 차폐하는 격벽을 형성하는 구조이지만, 워크(W)의 출입을 허용하도록 구성되어 있다. 그리고, 격벽은, 예를 들면 본체 케이스(BC)로부터 흘러내린 커텐형상 내지 흘러내림 벽형상을 이루고 있고, 불활성 가스 리치의 분위기 영역(R1)을 포위하고 있다.In this embodiment, the ultraviolet light irradiation apparatus UVE includes the inert gas confinement means of the shielding structure type active gas atmosphere forming means IGB. The inert gas confining means is provided with the enclosing means E in addition to the inert gas extracting means. Enclosure means E is a structure which forms the partition which shields between the outside so that the inert gas blown out from the inert gas extraction means may be less leaked to the outside, but it is comprised so that entry / exit of the workpiece | work W may be allowed. . The partition walls form, for example, a curtain shape or a falling wall shape flowing down from the main body case BC, and surrounds the atmosphere region R1 of the inert gas rich.

또한 둘러쌈 수단(E)은, 분위기의 누출에 대해서는 이것을 가능한 한 저지하고 있지만, 워크(W)의 출입을 허용하도록 구성되어 있다. 둘러쌈 수단(E)이 커텐형상을 이루고 있는 경우 워크(W)의 출입시에 둘러쌈 수단(E)이 그 유연성에 기초하여 변형한다. 또한, 흘러내림 벽형상을 이루고 있는 경우에는, 워크(W)의 출입에 연동하여 둘러쌈 수단(E)이 워크(W)의 출입을 가능하게 하는 정도로 상하 동작하거나 미리 하부에 워크(W)가 출입용의 틈새를 형성하거나 해 둘 수 있다. In addition, although the enclosure means E prevents this as much as possible about the leak of the atmosphere, it is comprised so that entry | exit of the workpiece | work W may be allowed. When the enclosing means E forms the curtain shape, the enclosing means E deforms on the basis of the flexibility when the work W enters and exits. In addition, in the case of forming a falling wall, the work W is moved up and down to a degree that allows the enclosing means E to enter and exit the work W in conjunction with the entry and exit of the work W. A gap for entrance and exit can be formed or left.

그렇게 해서, 본 형태에 의하면, 둘러쌈 수단(E)을 구비하고 있는 것에 의해, 불활성 가스의 사용량을 억제함과 함께, 불활성 가스 농도를 높게 하기 쉬워진다.Thus, according to this embodiment, by providing the enclosing means (E), while suppressing the usage-amount of inert gas, it becomes easy to make inert gas concentration high.

도 7은, 본 발명의 자외광 조사장치 및 광 세정장치를 실시하기 위한 제 3 형태를 나타내는 자외광 조사장치 및 이것을 구비한 광 세정장치의 개념도이다.7 is a conceptual diagram of an ultraviolet light irradiation device and a light cleaning device including the same, showing a third embodiment for carrying out the ultraviolet light irradiation device and the light cleaning device of the present invention.

본 형태에 있어서, 자외광 조사장치(UVE)는, 활성 가스 분위기 형성수단(IGB)이 챔버구조로 이루어진다. 챔버 구조는, 불활성 가스 리치의 분위기 영역(R1)이 챔버 즉 기밀실(SC) 내에 형성된다. 기밀실(SC)은, 그 내부가 불활성 가스를 충만시키기 위해서 외부와의 사이가 비교적 높은 기밀 구조가 되어 있다. 그리고, 내부에 유전체 배리어 방전램프(EXL)가 배열설치되어 있다. 또한, 워크(W)의 출입을 허용할 정도로 작은 출입구(도시하지 않음)가 배열설치되고, 게다가 해당 출입구는 셔터에 의해 폐쇄되도록 구성되어 있다.In this embodiment, the ultraviolet light irradiation apparatus UVE has an active gas atmosphere forming means IGB having a chamber structure. In the chamber structure, the inert gas rich atmosphere region R1 is formed in the chamber, that is, the hermetic chamber SC. The airtight chamber SC has a relatively high airtight structure with the outside in order for the inside to fill an inert gas. The dielectric barrier discharge lamp EXL is arranged inside. In addition, an entrance (not shown) small enough to allow entry and exit of the work W is arranged, and the entrance and exit is configured to be closed by a shutter.

한편, 불활성 가스는, 기밀실(SC)내에 적당한 수단에 의해 불활성 가스 공급원으로부터 공급된다. 도시한 형태에서는, 불활성 가스가 불활성 가스 분출수단에 의해 공급되도록 구성되어 있다.On the other hand, the inert gas is supplied from the inert gas supply source by appropriate means in the hermetic chamber SC. In the illustrated embodiment, the inert gas is configured to be supplied by the inert gas blowing means.

도 8은, 본 발명의 자외광 조사장치(UVE) 및 광 세정장치(LW)를 실시하기 위한 제 4 형태에 있어서의 유전체 배리어 방전램프(EXL)를 나타내는 주요부 정면도이다.FIG. 8: is a principal part front view which shows the dielectric barrier discharge lamp EXL in 4th form for implementing the ultraviolet light irradiation apparatus UVE and the light cleaning apparatus LW of this invention.

본 형태는, 유전체 배리어 방전램프(EXL)의 단자판 겸 부착 금구(5e)와 급전선(4)의 접속부의 산화를 방지하기 위해서, 불활성 가스 분사수단(IGS)를 구비하고 있는 점에서 제 1 형태와 다르다. 유전체 배리어 방전램프(EXL)에 있어서는, 그 점등중에 단자판 겸 부착 금구(5e)와 급전선(4)의 접속부의 온도가 비교적 고온이 되기 때문에, 산화하여 도통이 나빠지기 쉽다. 따라서, 본 형태에 있어서는, 상기 부위의 산화를 방지하기 위해서, 불활성 가스 분사수단(IGS)을 배열설치하고, 점등중 상기의 부위에 불활성 가스, 예를 들면 질소를 내뿜도록 구성되어 있다.This embodiment is provided with an inert gas ejection means (IGS) in order to prevent oxidation of the connecting portion between the terminal plate and the mounting bracket 5e of the dielectric barrier discharge lamp EXL and the feed line 4. different. In the dielectric barrier discharge lamp EXL, since the temperature of the connecting portion between the terminal plate and the mounting bracket 5e and the feed line 4 becomes relatively high during its lighting, oxidation and conduction tend to be poor. Therefore, in this embodiment, in order to prevent oxidation of the said site | part, the inert gas injection means IGS is arrange | positioned and it is comprised so that inert gas, for example, nitrogen may be blown out at said site | part during lighting.

본 발명에 있어서는, 불활성 가스 분위기 형성수단 및 산소 가스 분위기 형성수단을 구비하고 있으므로, 불활성 가스 분위기 형성수단에 의해서 워크의 주위에 형성된 불활성 가스 리치 분위기 중에서 감쇠가 적은 강한 진공 자외광이 조사되고, 또한 산소 가스 분위기 형성수단에 의해서 워크의 주위에 형성된 오존 및 활성 산소의 농도가 적절히 관리된 산소 가스 리치 분위기 중에서 진공 자외광이 조사되므로, 광 세정효과가 높아진다.In the present invention, since the inert gas atmosphere forming means and the oxygen gas atmosphere forming means are provided, strong vacuum ultraviolet light with low attenuation is irradiated in the inert gas rich atmosphere formed around the workpiece by the inert gas atmosphere forming means, and Since the vacuum ultraviolet light is irradiated in the oxygen gas rich atmosphere in which the concentration of ozone and active oxygen formed around the work by the oxygen gas atmosphere forming means is properly managed, the light cleaning effect is increased.

따라서, 본 발명에 의하면, 진공 자외광의 감쇠를 억제함과 함께, 오존 및 활성 산소의 농도를 적절히 관리하는 것이 용이한 자외광 조사장치 및 이것을 이용 한 광 세정장치를 제공할 수 있다.Therefore, according to this invention, the ultraviolet light irradiation apparatus which can suppress the attenuation of vacuum ultraviolet light, and manages concentration of ozone and active oxygen suitably, and the light cleaning device using this can be provided.

Claims

진공 자외광을 발생하는 엑시머 방전램프와;An excimer discharge lamp for generating vacuum ultraviolet light;

상기 엑시머 방전램프를 점등하는 고주파 점등회로와;A high frequency lighting circuit for lighting the excimer discharge lamp;

상기 엑시머 방전램프의 진공 자외광 조사방향을 향하여 워크의 주위에 불활성 가스 리치 분위기를 형성하는 불활성 가스 분위기 형성수단과;Inert gas atmosphere forming means for forming an inert gas rich atmosphere around the workpiece toward the vacuum ultraviolet light irradiation direction of the excimer discharge lamp;

상기 워크의 이동 방향을 따라서 불활성 가스 분위기 형성 위치와 떨어진 위치에 있어서 엑시머 방전램프의 진공 자외광 조사 방향을 향하여 워크의 주위에 산소 가스 리치 분위기를 형성하는 산소 가스 분위기 형성수단을 구비하는 것을 특징으로 하는, 자외광 조사장치.And an oxygen gas atmosphere forming means for forming an oxygen gas rich atmosphere around the work in a direction away from the inert gas atmosphere forming position along the moving direction of the work toward the vacuum ultraviolet light irradiation direction of the excimer discharge lamp. Ultraviolet light irradiation apparatus made.

광 세정장치 본체와;An optical cleaning device main body;

상기 광 세정장치 본체에 배열설치된 제 1 항에 기재된 자외광 조사장치를 구비하는 것을 특징으로 하는, 광 세정장치.An ultraviolet light irradiation device according to claim 1, which is arranged in the optical cleaning device main body.