KR20060118519A - 활성 에너지선 경화형 광학 재료용 조성물 - Google Patents

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Abstract

과제
얻어지는 경화물이 고굴절률이고 또한 고광선 투과율을 가지며, 저흡수율인 활성 에너지선 경화형 광학 재료용 조성물의 제공.
해결 수단
식 (1) 로 표시되는 디(메트)아크릴레이트 (A) 그리고 식 (2) 로 표시되는 모노(메트)아크릴레이트 또는/및 식 (3) 으로 표시되는 모노(메트)아크릴레이트 (B) 로 이루어지는 활성 에너지선 경화형 광학 재료용 조성물. 당해 조성물을 형틀에 도포하거나 또는 흘려 넣은 후, 활성 에너지선을 조사하는 광학 재료의 제조 방법.
Figure 112006037544115-PCT00007
[R1 및 R3 은 각각 독립하여, 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, R2 및 R4 는 각각 독립하여, 수소 원자, 메틸기 또는 에틸기를 나타내고, R5∼R8 은 각각 독립하여, 수소 원자, 메틸기 또는 브롬 원자를 나타내고, l 및 m 은 각각 독립하여, 1∼6 의 정수를 나타낸다.]
Figure 112006037544115-PCT00008
[R9 는 수소 원자 또는 메틸기를 나타낸다.]
Figure 112006037544115-PCT00009
[R10 은 수소 원자 또는 메틸기를 나타낸다.]
광학 재료용 조성물

Description

활성 에너지선 경화형 광학 재료용 조성물{ACTINIC ENERGY RAY CURABLE COMPOSITION FOR OPTICAL MATERIAL}
본 발명은 활성 에너지선 경화형 광학 재료용 조성물에 관한 것으로, 활성 에너지선 경화형 조성물, 그리고 렌즈 시트 및 플라스틱 렌즈 등의 광학 재료 기술 분야에 속하는 것이다.
종래, 프레넬 렌즈및 렌티큘러 렌즈 등의 렌즈 시트는 프레스법 및 캐스트법등의 방법에 의해 성형하여 제조되었다.
그러나, 전자의 프레스법은 가열, 가압 및 냉각의 사이클로 제조하기 때문에, 생산성이 나쁘다는 문제가 있었다. 또한, 후자의 캐스트법은 금형에 모노머를 따라 넣어 중합하기 때문에 제작 시간이 오래 걸림과 함께 금형이 여러 개 필요하기 때문에, 제조 비용이 증가된다는 문제가 있었다.
한편, 활성 에너지선 경화형 조성물은 빠른 경화성을 가져, 생산성이 우수하기 때문에, 상기 문제를 해결하기 위해서 렌즈 시트 제조용의 활성 에너지선 경화형 조성물에 대해서, 여러 가지 제안이 이루어져 있다 (예를 들어, 특허 문헌 1∼동 6).
그러나, 종래의 활성 에너지선 경화형 조성물은 굴절률 및 투명성의 관점에 서 불충분하여, 이 점을 개량하기 위해, 비스페놀형 디(메트)아크릴레이트와 방향족 고리를 갖는 모노(메트)아크릴레이트를 병용한 조성물이 검토되고 있다 (예를 들어, 특허 문헌 7 및 동 8).
특허 문헌 1 : 일본 공개특허공보 소61-177215호 (특허청구의 범위)
특허 문헌 2 : 일본 공개특허공보 소61-248707호 (특허청구의 범위)
특허 문헌 3 : 일본 공개특허공보 소61-248708호 (특허청구의 범위)
특허 문헌 4 : 일본 공개특허공보 소63-163330호 (특허청구의 범위)
특허 문헌 5 : 일본 공개특허공보 소63-167301호 (특허청구의 범위)
특허 문헌 6 : 일본 공개특허공보 소63-199302호 (특허청구의 범위)
특허 문헌 7 : 일본 공개특허공보 평9-87336호 (특허청구의 범위)
특허 문헌 8 : 특허 3397448 공보 (특허 청구의 범위)
발명의 개시
발명이 해결하고자 하는 과제
그러나, 광학 용도에서 사용되는 활성 에너지선 경화형 조성물에 있어서, 상기한 조성물은 프로젝션 텔레비전 등의 박형화에서 요구되는 것과 같은, 더욱 고도의 굴절률 및 투명성이 요구되는 용도에서는 불충분한 것이었다.
또한, 광학 용도에서 사용되는 활성 에너지선 경화형 조성물에는 이들 광학 특성에 추가하여, 얻어지는 경화물의 치수 안정성이 요구된다. 즉, 경화물의 흡수율이 높은 경우, 시간 경과적으로 흡수함으로써 치수 변화를 일으켜, 광학 특성에 불균일 발생하거나, 부재의 박리·변형을 일으키는 경우가 있다.
본 발명자는 얻어지는 경화물이 고굴절률이고 또한 고광선 투과율을 가지며,나아가 흡수율이 적은 치수 안정성이 우수한 활성 에너지선 경화형 광학 재료용 조성물을 찾아내기 위해 예의 검토했다.
과제를 해결하기 위한 수단
본 발명자는 상기 서술한 과제를 해결하기 위해서 여러 가지로 연구한 결과, 특정 2종의 (메트)아크릴레이트를 함유하는 조성물이, 활성 에너지선에 의한 경화가 빠르고, 또, 그 경화물이 고굴절률이고, 광선 투과율이 우수하다는 것을 발견하고, 본 발명을 완성했다.
이하, 본 발명을 상세히 설명한다.
또한, 본 명세서에 있어서는 아크릴레이트 또는 메타크릴레이트를 (메트)아크릴레이트로 나타낸다.
본 발명은 후술하는 일반식 (1) 로 표시되는 디(메트)아크릴레이트 (A) 그리고 후술하는 일반식 (2) 로 표시되는 모노(메트)아크릴레이트 또는/및 후술하는 일반식 (3) 으로 표시되는 모노(메트)아크릴레이트 (B) 로 이루어지며, (A) 성분 및 (B) 성분의 합계량을 기준으로 하여, (A) 성분을 10∼90질량% 및 (B) 성분을 90∼10질량% 함유하는 활성 에너지선 경화형 광학 재료용 조성물에 관한 것이다.
이하, 각각의 성분에 관해서 설명한다.
1. (A) 성분
(A) 성분은 하기 일반식 (1) 로 표시되는 디(메트)아크릴레이트이다.
Figure 112006037544115-PCT00001
[식 (1) 에 있어서, R1 및 R3 은 각각 독립하여, 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, R2 및 R4 는 각각 독립하여, 수소 원자, 메틸기 또는 에틸기를 나타내고, R5∼R8 은 각각 독립하여, 수소 원자, 메틸기 또는 브롬 원자를 나타내고, l 및 m 은 각각 독립하여, 1∼6 의 정수를 나타낸다.]
R1 및 R3 으로는 조성물이 경화성이 우수한 것이 되기 때문에, 모두 수소 원자가 바람직하다. R2 및 R4 로는 얻어지는 경화물의 굴절률이 우수하기 때문에, 모두 수소 원자가 바람직하다. R5∼R8 로는 R5∼R8 모두가 수소 원자인 것, R5 가 수소 원자이고 R6 이 메틸기이고, 또한 R7 이 수소 원자이고, R8 이 메틸기인 것, 그리고 R5 가 수소 원자이고 R6 이 브롬 원자이고, 또한 R7 이 수소 원자이고, R8 이 브롬 원자인 것이 (A) 성분을 제조할 때의 수율이 높고, 나아가 얻어지는 경화물의 굴절률이 우수하기 때문에 바람직하다.
l 및 m 으로는 1∼3 의 것이 얻어지는 경화물의 굴절률이 우수하기 때문에 바람직하다.
(A) 성분의 구체예로는 비스(4-메타크릴록시에톡시페닐)술파이드, 비스(4-아크릴록시에톡시페닐)술파이드, 비스(4-메타크릴록시디에톡시페닐)술파이드, 비스(4-아크릴록시디에톡시페닐)술파이드, 비스(4-메타크릴록시트리에톡시페닐)술파이드, 비스(4-아크릴록시트리에톡시페닐)술파이드, 비스(4-메타크릴록시디에톡시-3-메틸페닐)술파이드, 비스(4-아크릴록시디에톡시-3-메틸페닐)술파이드, 비스(4-메타크릴록시에톡시-3-브로모페닐)술파이드, 비스(4-아크릴록시에톡시-3-브로모페닐)술파이드, 비스(4-메타크릴록시디에톡시-3-브로모페닐)술파이드 및 비스(4-아크릴록시디에톡시-3-브로모페닐)술파이드 등을 들 수 있다.
이들 중에서도, 경화성이 우수하다는 점에서, 비스(4-아크릴록시에톡시페닐)술파이드, 비스(4-아크릴록시디에톡시페닐)술파이드, 비스(4-아크릴록시에톡시-3-메틸페닐)술파이드 및 비스(4-아크릴록시디에톡시-3-메틸페닐)술파이드가 보다 바람직하다.
(A) 성분은 1종 또는 2종 이상을 병용할 수 있다.
2. (B) 성분
(B) 성분은 하기 일반식 (2) 로 표시되는 (메트)아크릴레이트 [이하 (B-1) 성분이라고 한다] 또는/및 하기 일반식 (3) 으로 표시되는 모노(메트)아크릴레이트[이하 (B-2) 성분이라고 한다] 이고, 조성물의 경화물에 고굴절률 및 낮은 흡수율을 부여하여, 조성물을 취급하기 쉬운 액상으로 하는 성분이다.
Figure 112006037544115-PCT00002
[식 (2) 에 있어서, R9 는 수소 원자 또는 메틸기를 나타낸다.]
Figure 112006037544115-PCT00003
[식 (3) 에 있어서, R10 은 수소 원자 또는 메틸기를 나타낸다.]
(B-1) 성분의 구체예로는 예를 들어, o-페닐페닐(메트)아크릴레이트, m-페닐페닐(메트)아크릴레이트 및 p-페닐페닐(메트)아크릴레이트를 들 수 있다.
이들 중에서도, 실온에서 액상이어서 취급하기 쉽고, 입수하기 쉽다는 점에서, o-페닐페닐(메트)아크릴레이트가 바람직하다.
또한, 본 발명의 (B-1) 성분과 다른, 페닐기를 1개 갖는 (메트)아크릴레이트나, 알킬렌옥사이드기를 갖는 화합물은 조성물의 경화물이 고굴절률을 갖지 않기 때문에, 흡수율도 높아져 버린다.
(B-2) 성분의 구체예로는 예를 들어, p-쿠밀페놀(메트)아크릴레이트 등을 들 수 있다.
또한, 본 발명의 (B-2) 성분과 다른, 페닐기를 1개 갖는 (메트)아크릴레이트는 조성물의 경화물이 고굴절률을 갖지 않게 된다.
(B-1) 성분 및 (B-2) 성분은 모두 1종 또는 2종 이상을 병용할 수 있다.
(B-1) 성분 및 (B-2) 성분을 병용하는 경우의 비율로는 (B-1) 성분 10∼90 질량% 및 (B-2) 성분 90∼10질량% 가 바람직하다.
3. 기타 성분
본 발명의 조성물은 활성 에너지선의 조사에 의해 경화되는 것이지만, 이 경우의 활성 에너지선으로는 전자선, 가시광선 및 자외선 등을 들 수 있다. 이들 중에서도, 특별한 장치를 필요로 하지 않고, 간편하기 때문에, 가시광선 또는 자외선이 바람직하다.
가시광선 또는 자외선 경화형 조성물로 하는 경우, 조성물에 광중합 개시제를 배합한다. 또한, 전자선 경화형 조성물로 하는 경우에는 광중합 개시제를 반드시 배합할 필요는 없다.
광중합 개시제 [이하 (C) 성분이라고 한다] 의 구체예로는 벤조인, 벤조인메틸에테르 및 벤조인프로필에테르 등의 벤조인 ; 아세토페논, 2,2-디메톡시-2-페닐아세토페논, 2,2-디에톡시-2-페닐아세토페논, 1,1-디클로로아세토페논, 1-히드록시시클로헥실페닐케톤, 2-메틸-1-[4-(메틸티오)페닐]-2-모르폴리노-프로판-1-온 및 N,N-디메틸아미노아세토페논 등의 아세토페논 ; 2-메틸안트라퀴논, 1-클로로안트라퀴논 및 2-아밀안트라퀴논 등의 안트라퀴논 ; 2,4-디메틸티오크산톤, 2,4-디에틸티오크산톤, 2-클로로티오크산톤 및 2,4-디이소프로필티오크산톤 등의 티오크산톤 ; 아세토페논디메틸케탈 및 벤질디메틸케탈 등의 케탈 ; 벤조페논, 메틸벤조페논, 4,4'-디클로로벤조페논, 4,4'-비스디에틸아미노벤조페논, 미힐러즈케톤 및 4-벤조일-4'-메틸디페닐설파이드 등의 벤조페논 ; 및 2,4,6-트리메틸벤조일디페닐포스핀옥사이드 등을 들 수 있다.
(C) 성분은 단독으로 사용해도 되고, 2종 이상을 병용해도 된다.
(C) 성분에는 필요에 따라 광증감제를 병용할 수 있다. 광증감제로는 N,N-디메틸아미노벤조산에틸에스테르, N,N-디메틸아미노벤조산이소아밀에스테르, 트리에틸아민 및 트리에탄올아민 등을 들 수 있다.
(C) 성분의 바람직한 배합 비율로는 (A) 성분 및 (B) 성분과의 합계량 100질량부에 대하여, 후술하는 불포화기 함유 화합물을 배합하는 경우에는 (A) 성분, (B) 성분 및 불포화기 함유 화합물의 합계량 100질량부에 대하여, 0.05∼12질량부가 바람직하고, 보다 바람직하게는 0.1∼5질량부이다.
본 발명의 조성물에는 필요에 따라, (A) 및 (B) 성분 이외의 불포화기 함유 화합물을 배합할 수 있다.
당해 불포화기 함유 화합물로는 예를 들어, 페녹시에틸(메트)아크릴레이트, 카르비톨(메트)아크릴레이트, N-비닐카프로락톤, 아크릴로일모르폴린, 글리시딜(메트)아크릴레이트, 2-히드록시에틸(메트)아크릴레이트, 2-히드록시프로필(메트)아크릴레이트, 1,4-부탄디올모노(메트)아크릴레이트, 1,6-헥산디올디(메트)아크릴레이트, 노난디올디아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 2-히드록시-3-페닐옥시프로필(메트)아크릴레이트, 트리브로모페닐(메트)아크릴레이트, 2,2-비스(4-(메트)아크릴로일옥시에톡시페닐)-프로판, 2,2-비스(4-(메트)아크릴로일옥시디에톡시페닐)-프로판, 2,2-비스(4-(메트)아크릴로일옥시트리에톡시페닐)-프로판, 에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 트리브로모페닐옥시에틸(메트)아크릴레이트, 트리메틸올프로판트리(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨테트라(메트)아크릴레이트, 비스페놀 A 형 에폭시 수지의 디(메트)아크릴레이트, 각종 폴리우레탄폴리(메트)아크릴레이트 및 폴리에스테르폴리(메트)아크릴레이트 등을 들 수 있다.
불포화기 함유 화합물의 바람직한 배합 비율은 조성물 중에 0∼50질량% 범위이다.
상기 성분 이외에도, 필요에 따라, 안료, 염료, 소포제(消泡劑), 레벨링제, 무기 필러, 유기 필러 및 광안정제, 산화 방지제 및 자외선 흡수제 등을 배합할 수도 있다. 또한, 필요에 따라, 산화 방지제, 광안정제, 자외선 흡수제 및 중합 금지제 등을 소량 첨가해도 된다.
본 발명의 조성물은 더욱 경화를 진행시킬 목적으로, 조성물에 열중합 개시제를 배합하여, 활성 에너지선 조사 후에 가열시킬 수도 있다.
열중합 개시제로는 여러 가지 화합물을 사용할 수 있으며, 유기 과산화물 및 아조계 개시제가 바람직하다.
유기 과산화물의 구체예로는 1,1-비스(t-부틸퍼옥시)2-부틸시클로헥산, 1,1-비스(t-헥실퍼옥시)-3,3,5-트리메틸시클로헥산, 1,1-비스(t-헥실퍼옥시)시클로헥산, 1,1-비스(t-부틸퍼옥시)-3,3,5-트리메틸시클로헥산, 1,1-비스(t-부틸퍼옥시)시클로헥산, 2,2-비스(4,4-디-부틸퍼옥시시클로헥실)프로판, 1,1-비스(t-부틸퍼옥시)시클로도데칸, t-헥실퍼옥시이소프로필모노카보네이트, t-부틸퍼옥시말레산, t-부틸퍼옥시-3,5,5-트리메틸헥사노에이트, t-부틸퍼옥시라우레이트, 2,5-디메틸-2,5-디(m-톨루오일퍼옥시)헥산, t-부틸퍼옥시이소프로필모노카보네이트, t-부틸퍼옥시2-에틸헥실모노카보네이트, t-헥실퍼옥시벤조에이트, 2,5-디-메틸-2,5-디(벤조일퍼옥시)헥산, t-부틸퍼옥시아세테이트, 2,2-비스(t-부틸퍼옥시)부탄, t-부틸퍼옥시벤조에이트, n-부틸-4,4-비스(t-부틸퍼옥시)발레레이트, 디-t-부틸퍼옥시이소프탈레이트, α,α-비스(t-부틸퍼옥시)디이소프로필벤젠, 디쿠밀퍼옥사이드, 2,5-디메틸-2,5-디(t-부틸퍼옥시)헥산, t-부틸쿠밀퍼옥사이드, 디-t-부틸퍼옥사이드, p-메탄하이드로퍼옥사이드, 2,5-디메틸-2,5-디(t-부틸퍼옥시)헥신-3, 디이소프로필벤젠하이드로옥사이드, t-부틸트리메틸실릴퍼옥사이드, 1,1,3,3-테트라메틸부틸하이드로퍼옥사이드, 쿠멘하이드로퍼옥사이드, t-헥실하이드로퍼옥사이드 및 t-부틸하이드로퍼옥사이드 등을 들 수 있다.
아조계 화합물의 구체예로는 1,1'-아조비스(시클로헥산-1-카르보니트릴), 2-(카르바모일아조)이소부티로니트릴, 2-페닐아조-메톡시-2,4-디메틸발레로니트릴, 아조디-t-옥탄 및 아조디-t-부탄 등을 들 수 있다.
이들은 단독으로 사용해도 되고, 2종 이상을 병용해도 된다. 또한, 유기 과산화물은 환원제와 조합함으로써 레독스 반응으로 할 수도 있다.
4. 활성 에너지선 경화형 광학 재료용 조성물
본 발명은 상기 (A) 성분과 (B) 성분을 필수로 하는 것이다.
(A) 성분 및 (B) 성분의 비율은 (A) 성분 및 (B) 성분의 합계량을 기준으로 하여, (A) 성분이 10∼90질량% 이고, (B) 성분이 90∼10질량% 이고, 바람직하게는(A) 성분이 30∼90질량% 이고, (B) 성분이 70∼10질량% 이다. (A) 성분의 비율이 10질량% 보다 적으면, 원하는 굴절률을 얻을 수 없게 되고, 한편, (A) 성분의 비율이 90질량% 를 초과하면, 실온에서 조성물이 고체가 되어 버리는 경우가 있어, 작업성에 문제를 일으킨다.
본 발명의 조성물은 상기 (A) 및 (B) 성분, 필요에 따라 그 밖의 성분을 통상적인 방법에 따라서, 교반·혼합하여 제조할 수 있다.
(A) 성분 또는 (C) 성분이 고체인 경우에는 필요에 따라, 교반·혼합한 후 가열해도 되며, 50∼100℃ 가 바람직하다.
본 발명의 조성물을 사용하는 광학 재료의 제조 방법은 통상적인 방법에 따르면 되며, 예를 들어 조성물을 소정의 형상을 갖는 형틀에 도포하거나 또는 흘려 넣은 후, 필요에 따라 이 위에 투명 기판을 놓고, 활성 에너지선을 조사하여 조성물을 경화시킨 후, 형틀로부터 경화물을 떼내는 방법 등을 들 수 있다.
활성 에너지선으로는 전자선, 가시광선 및 자외선 등을 들 수 있다. 이들 중에서도, 특별한 장치를 필요로 하지 않고, 간편하기 때문에, 가시광선 또는 자외선이 바람직하다. 자외선 조사 장치로는 고압 수은등 등을 들 수 있다.
활성 에너지선의 조사량 및 조사 시간 등은 사용하는 조성물 및 용도에 따라, 적절히 설정하면 된다.
본 발명의 조성물은 굴절률 (25℃) 이 통상 1.59 이상, 바람직하게는 1.60 이상을 갖는 고굴절률의 경화물을 얻을 수 있다. 나아가, 당해 경화물은 투명성도 우수하다.
이렇게, 본 발명 조성물의 경화물은 고굴절률 또한 투명성을 갖기 때문에, 프레넬 렌즈, 렌티큘러 렌즈 및 프리즘 시트 등의 렌즈 시트 그리고 플라스틱 렌즈 등의 여러 가지 광학 재료에 사용할 수 있다.
렌즈 시트로 더욱 상세하게는 비디오 프로젝터, 프로젝션 텔레비전 및 액정디스플레이 등의 용도를 들 수 있다.
본 발명의 조성물을 사용하여 렌즈 시트를 제조하는 예에 관해서 설명한다.
비교적 막 두께가 얇은 렌즈 시트를 제조하는 경우에는 본 발명의 조성물을 원하는 렌즈 형상을 갖는 스템퍼라고 불리우는 형틀에 도포하고, 그 조성물의 층을 형성하고, 그 층 위에 투명 기판을 접착시킨다.
이어서, 투명 기판 측으로부터 활성 에너지선을 조사하여, 조성물을 경화시키고, 이후에 금형으로부터 박리시킨다.
한편, 비교적 막 두께가 두꺼운 렌즈 시트를 제조하는 경우에는 원하는 렌즈 형상을 갖는 형틀과 투명 기판 사이에, 본 발명의 조성물을 흘려 넣는다.
이어서, 투명 기판 측으로부터 활성 에너지선을 조사하여, 조성물을 경화시키고, 이후에 금형으로부터 박리시킨다.
상기 투명 기판으로는 수지 기판이 바람직하며, 구체예로는 메타크릴 수지, 폴리카보네이트 수지, 메타크릴산메틸-스틸렌 수지 및 스티렌 수지 등의 시트 형상의 것을 사용할 수 있다.
상기 형틀로는 그 재질은 특별히 한정되지 않는데, 예를 들어 놋쇠 및 니켈 등의 금속 및 에폭시 수지 등의 수지를 들 수 있다. 형틀의 수명이 길다는 점에서, 금속제의 금형이 바람직하다.
이후에 본 발명의 조성물을 사용하여, 플라스틱 렌즈를 제조하는 예에 관해서 설명한다.
예를 들어, 본 발명의 조성물을 적어도 편면이 투명한 경면 연마한 형틀에 주입하고, 활성 에너지선을 조사하고 경화시켜, 이형함으로써 얻는 방법 등을 들 수 있다.
이 경우의 형틀로는 유리, 플라스틱, 또는 이들을 조합한 2장의 경면이 연마된 몰드형과, 가소화 염화 비닐 및 에틸렌-아세트산 비닐 공중합체 등의 열가소성 수지제의 개스킷 외에, 2장의 몰드형을 쪼이는 크램프 등과 조합하여 구성된 것 등을 들 수 있다.
이 경우의 활성 에너지선의 조사는 형틀의 편면 또는 양면에 실시하면 된다. 또한, 활성 에너지선의 조사와 가열을 조합할 수도 있다.
발명의 효과
본 발명의 조성물은 실온에서의 작업성이 우수한 것이며, 얻어지는 경화물은 고굴절률이고, 게다가 광선 투과율도 양호하고, 더욱이 흡수율이 낮은 치수 안정성이 우수한 것이 된다. 따라서, 본 발명의 조성물은 고굴절률, 고광선 투과율 및 치수 안정성 등이 요구되는 렌즈 시트 및 플라스틱 렌즈 등의 광학부재에 바람직하게 사용할 수 있다.
발명을 실시하기 위한 최선의 형태
본 발명의 조성물은 (A) 성분 10∼90질량% 및 (B) 성분 90∼10질량% 를 필수로 하는 것이다. (A) 성분으로는 조성물의 경화물이 고굴절률이 되기 때문에, R1 및 R3 모두 수소 원자인 디아크릴레이트가 바람직하다. 조성물로는 (C) 성분을 함유하는 것이 바람직하다.
또한, 본 발명은 상기 서술한 조성물을 소정의 형상을 갖는 형틀에 도포하거나 또는 흘려 넣은 후, 활성 에너지선을 조사하는 광학 재료의 제조 방법이다.
이하에 실시예 및 비교예를 들어, 본 발명을 더욱 구체적으로 설명한다.
또한, 이하에 있어서, 「부」라는 것은 질량부를 의미한다.
○실시예 및 비교예
표 1 에 나타내는 각 성분을 통상적인 방법에 따라서 교반·혼합하여, 미리 80℃ 로 유지한 건조기 중에서, 고체상의 광중합 개시제를 15분에 걸쳐 가열 용해시켜, 자외선 경화형 조성물을 조정했다.
얻어진 조성물을 바코터를 사용하여, 실온에서 OPP 필름 상에 막 두께 30㎛ 로 도포했다. 이것을 컨베어 스피드 10m/분, 램프 높이 10㎝, 출력 80W/㎝ 의 고압 수은 램프로 자외선 조사를 2회 실시하여, 경화시켰다.
얻어진 경화물을 아래의 방법에 따라서 평가했다. 그 결과를 표 2 에 나타낸다.
(1) 작업성
경화물을 제작할 때의 조성물이 취급하기 쉬운 정도를 평가했다. 실온에서 액체인 것을 ○, 고체 또는 페이스트상인 것을 ×로 했다.
(2) 굴절률
경화물의 굴절률 (25℃ 에서의 나트륨 D 선을 사용한 측정치) 을 (주)아타고 제조 아베 굴절계 DR-M2 에 의해 측정했다.
(3) 광선 투과율
파장 400㎚ 에서의 경화물의 광선 투과율을 닛폰 분광(주) 제조 V-550 에 의해 측정했다.
(4) 흡수율
유리 평판의 사방에 수지판을 놓아, 두께 0.4㎜ 의 공간부를 형성했다. 그 공간부에 얻어진 조성물을 채운 후, 유리 평판을 놓았다.
이것에, 상기와 동일한 조건으로 자외선을 조사했다. 경화 후, 유리 평판을 제거하여, 두께 0.4㎜ 의 경화물 시트를 얻었다.
얻어진 경화물 시트를 5㎝×5㎝ 로 잘라내어, 이것을 시험편으로 했다.
이 시험편을 질소 중, 210℃ 에서 1시간 가열하여, 경화물을 완전히 건조시킨 후에, 데시케이터 중에서 방냉하고, 시험편을 칭량하였다 (W1). 이어서 시험편을 80℃ 의 증류수에 20시간 침지하고, 꺼낸 후에 시험편 표면의 물을 가볍게 닦어 내고 칭량하여 (W2), 다음 식으로부터 흡수율을 산출했다.
흡수율(%) = 100×(W2-W1)/W1
조성물 (부)
(A) (B) 기타 (C)
BAEPS o-PPA p-CPA M-211B M-400 POA TO-1463 lrg184
실시예 1 50 50 5
" 2 70 30 5
" 3 80 20 5
" 4 70 25 5 5
" 5 70 20 10 5
" 6 50 50 5
" 7 70 30 5
" 8 80 20 5
비교예 1 50 50 5
" 2 100 5
" 3 20 80 5
" 4 50 50 5
" 5 70 30 5
" 6 80 20 5
또한, 표 1 의 약호는 이하의 의미를 나타낸다.
·BAEPS : 비스(4-아크릴옥시에톡시페닐)술파이드
·o-PPA : o-페닐페닐아크릴레이트
·p-CPA : p-쿠밀페닐아크릴레이트
·M-211B : 비스페놀 A 에틸렌옥사이드 4몰 변성 디아크릴레이트, 도아합성(주) 제조 알로닉스 M-211B
·M-400 : 디펜타에리트리톨펜타 및 헥사아크릴레이트의 혼합물, 도아합성(주) 제조 알로닉스 M-400
·POA : 페녹시에틸아크릴레이트
·TO-1463 : o-페닐페놀에틸렌옥사이드 1몰 부가물의 아크릴레이트, 도아합성(주) 제조 알로닉스 TO-1463
·Irg184 : 1-히드록시시클로헥실페닐케톤, 치바 스페셜리티 케미컬즈 제조 이르가큐어 184
평가 결과
작업성 굴절률 광선 투과율 (%) 흡수율 (%)
실시예 1 ○ 1.6110 95 0.41
" 2 ○ 1.6093 96 0.49
" 3 ○ 1.6070 95 0.50
" 4 ○ 1.6039 96 0.55
" 5 ○ 1.6008 96 0.57
" 6 ○ 1.5992 96 0.35
" 7 ○ 1.6011 97 0.48
" 8 ○ 1.6021 97 0.58
비교예 1 ○ 1.5831 95 1.28
" 2 ×
" 3 ○ 1.5720 96 1.50
" 4 ○ 1.5750 97 1.20
" 5 ○ 1.6046 97 0.72
" 6 ○ 1.6058 96 0.80
표 2 로부터 명확하듯이, 본 발명의 조성물은 작업성이 뛰어나며, 그 경화물의 굴절률은 1.59 이상의 고굴절률이고, 광선 투과율도 양호하고, 흡수율도 낮은 것이었다.
한편, (A) 성분을 함유하지만, 페닐기를 분자 중에 하나밖에 갖고 있지 않은 (B) 성분과 다른 페녹시에틸아크릴레이트를 함유하는 조성물 (비교예 1) 을 사용한 경우에는 고굴절률이고 흡수율이 낮은 경화물이 얻어지지 않았다. 또한, (A) 성분만을 사용한 조성물 (비교예 2) 은 실온에서 고체이기 때문에 작업성이 나쁘고, 경화물을 얻을 수 없었다. 또, (B) 성분을 함유하지만, (A) 성분을 함유하지 않은 조성물 (비교예 3 및 동 4) 은 고굴절률이고 흡수율이 낮은 경화물이 얻어지지 않았다. 더욱이, 본 발명의 (B) 성분과는 다른 알킬렌옥사이드 단위를 갖는 것을 사용한 조성물 (비교예 5 및 동 6) 은 작업성 및 굴절률 등의 광학 물성이 뛰어나지만, 흡수율이 낮은 경화물이 얻어지지 않았다.
○응용예 (렌즈 시트의 제조)
실시예 1∼동 8 에서 얻어진 조성물을 사용하여, 렌즈 형상을 갖는 금형에 흘려 넣고, 그 위에 투명 기판인 메타크릴 수지판으로 끼웠다.
투명 기판 측으로부터 상기와 같은 조건으로 자외선을 조사하여 조성물을 경화시켰다.
경화 후의 경화물을 금형으로부터 떼어낸 결과, 목적하는 형상을 하여, 상기한 대로의 광학 물성 등이 우수한 렌즈 시트를 얻을 수 있었다.
본 발명의 조성물은 활성 에너지선 경화형 광학 재료용 조성물로서, 비디오 프로젝터, 프로젝션 텔레비전 및 액정 디스플레이 등에 사용하는 프레넬 렌즈 및 렌티큘러 렌즈 등의 렌즈 시트, 그리고 플라스틱 렌즈 등으로 대표되는, 고굴절률 및 고광선 투과율이 요구되는 광학 부재에 바람직하게 사용할 수 있다.

Claims (4)

  1. 하기 일반식 (1) 로 표시되는 디(메트)아크릴레이트 (A) 그리고 하기 일반식 (2) 로 표시되는 모노(메트)아크릴레이트 또는/및 하기 일반식 (3) 으로 표시되는 모노(메트)아크릴레이트 (B) 로 이루어지고, (A) 성분 및 (B) 성분의 합계량을 기준으로 하여, (A) 성분을 10∼90질량% 및 (B) 성분을 90∼10질량% 함유하는 것을 특징으로 하는 활성 에너지선 경화형 광학 재료용 조성물.
    Figure 112006037544115-PCT00004
    [식 (1) 에 있어서, R1 및 R3 은 각각 독립하여, 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, R2 및 R4 는 각각 독립하여, 수소 원자, 메틸기 또는 에틸기를 나타내고, R5∼R8 은 각각 독립하여, 수소 원자, 메틸기 또는 브롬 원자를 나타내고, l 및 m 은 각각 독립하여, 1∼6 의 정수를 나타낸다.]
    Figure 112006037544115-PCT00005
    [식 (2) 에 있어서, R9 는 수소 원자 또는 메틸기를 나타낸다.]
    Figure 112006037544115-PCT00006
    [식 (3) 에 있어서, R10 은 수소 원자 또는 메틸기를 나타낸다.]
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 일반식 (1) 에 있어서, R1 및 R3 이 모두 수소 원자를 갖는 디아크릴레이트인 활성 에너지선 경화형 광학 재료용 조성물.
  3. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    추가로 광중합 개시제 (C) 를 함유하는 것을 특징으로 하는 활성 에너지선 경화형 광학 재료용 조성물.
  4. 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 기재된 조성물을 소정의 형상을 갖는 형틀에 도포하거나 또는 흘려 넣은 후, 활성 에너지선을 조사하는 광학 재료의 제조 방법.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20150031464A (ko) * 2012-07-12 2015-03-24 쇼와 덴코 가부시키가이샤 공중합체, 단량체 조성물, 수지 용액 및 수지막

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TW200809398A (en) * 2006-08-11 2008-02-16 Eternal Chemical Co Ltd Photosensitive resin composition
US8839798B2 (en) * 2008-04-18 2014-09-23 Medtronic, Inc. System and method for determining sheath location
TW201132657A (en) * 2009-12-18 2011-10-01 Toagosei Co Ltd Active energy line cured-type composition for optical component
JP5827853B2 (ja) * 2011-09-27 2015-12-02 株式会社ダイセル 組成物及びその硬化物
US9512247B2 (en) 2011-09-27 2016-12-06 Kaneka Corporation (Meth)acryloyl-terminated polyisobutylene polymer, method for producing the same, and active energy ray-curable composition
US9708424B2 (en) 2011-09-27 2017-07-18 Kaneka Corporation (Meth)acryloyl-terminated polyisobutylene polymer, method for producing the same, and active energy ray-curable composition
JP6256021B2 (ja) * 2014-01-15 2018-01-10 東亞合成株式会社 光学フィルム又はシート形成用活性エネルギー線硬化型組成物及び光学フィルム又はシート

Family Cites Families (21)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61127712A (ja) * 1984-11-27 1986-06-16 Mitsui Toatsu Chem Inc 高屈折率レンズ用樹脂
JPS61177215A (ja) 1985-02-02 1986-08-08 Mitsubishi Electric Corp フレネルレンズの製造方法
JPS61248707A (ja) 1985-04-26 1986-11-06 Pioneer Electronic Corp フレネルレンズの製造方法
JPS61248708A (ja) 1985-04-26 1986-11-06 Pioneer Electronic Corp フレネルレンズの製造方法
JP2823016B2 (ja) 1986-12-25 1998-11-11 ソニー株式会社 透過型スクリーンの製造方法
JPS63167301A (ja) 1986-12-27 1988-07-11 Asahi Chem Ind Co Ltd 透過型スクリ−ン
JPS63199302A (ja) 1987-02-16 1988-08-17 Pioneer Electronic Corp フレネルレンズ
JPH01180854A (ja) * 1988-01-14 1989-07-18 Canon Inc 光学用アクリル酸エステル
JPH04202308A (ja) * 1990-11-30 1992-07-23 Mitsubishi Rayon Co Ltd プラスチックレンズ用組成物
JP3363990B2 (ja) * 1994-03-29 2003-01-08 三菱レイヨン株式会社 プラスチックレンズ成形用組成物及びそれを用いたプラスチックレンズ
JP3397448B2 (ja) 1994-05-30 2003-04-14 日本化薬株式会社 紫外線硬化型透過型スクリーン用樹脂組成物及びその硬化物
US5969867A (en) * 1994-10-18 1999-10-19 Mitsubishi Rayon Company Ltd. Active energy ray-curable composition and lens sheet
JPH08208775A (ja) * 1995-02-07 1996-08-13 Nippon Kayaku Co Ltd 樹脂組成物、レンズ用組成物及びその硬化物
JPH0987336A (ja) 1995-09-19 1997-03-31 Mitsubishi Rayon Co Ltd 活性エネルギー線硬化性組成物、レンズシートおよびバックライト
JP3670747B2 (ja) * 1996-02-27 2005-07-13 Ｊｓｒ株式会社 光学部材作成用液状硬化性樹脂組成物
JPH11349645A (ja) 1998-06-11 1999-12-21 Mitsubishi Rayon Co Ltd 活性エネルギー線硬化性樹脂組成物および光学シート
JPH11349615A (ja) 1998-06-11 1999-12-21 Mitsubishi Rayon Co Ltd 活性エネルギー線硬化性樹脂組成物および光学シート
JP2000001519A (ja) 1998-06-12 2000-01-07 Tokuyama Corp 重合性組成物
JP2002293826A (ja) * 2001-03-28 2002-10-09 Toagosei Co Ltd 活性エネルギー線硬化型樹脂シート形成用組成物
CN100503733C (zh) * 2002-01-25 2009-06-24 住友电木株式会社 透明复合材料组合物
CN100549052C (zh) * 2004-02-17 2009-10-14 东亚合成株式会社 活性能量线固化型光学材料用组合物

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20150031464A (ko) * 2012-07-12 2015-03-24 쇼와 덴코 가부시키가이샤 공중합체, 단량체 조성물, 수지 용액 및 수지막

Also Published As

Publication number Publication date
JPWO2005044882A1 (ja) 2007-05-17
JP4892974B2 (ja) 2012-03-07
JP5556766B2 (ja) 2014-07-23
US7799844B2 (en) 2010-09-21
KR101141094B1 (ko) 2012-05-03
JP2011256395A (ja) 2011-12-22
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