KR20040093137A - 금속 및 합금에 세라믹 코팅을 형성하는 방법과 장치, 및이 방법으로 제조되는 코팅 - Google Patents
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Abstract
Description
Claims (28)
- 제1 전극이 장착되어 있고 수계 알칼리성 전해질이 채워져 있으며, 또 다른 전극에 접속된 물품(article)이 침지되어 있는 전해조에서, 금속 및 합금 상에 세라믹 코팅을 형성하는 방법으로서,상기 방법이 플라즈마 방전 상태(plasma-discharge regime)에서 수행될 수 있도록 상기 전극에 펄스형 전류(pulsed current)가 인가되고,상기 방법은,i) 소정의 주파수 범위를 가진 전류의 고주파 2극성 펄스(high-frequency bipolar pulse)를 상기 전극에 공급하는 단계; 및ii) 음향 진동(acoustic vibration)의 주파수 범위가 상기 전류 펄스의 주파수 범위와 중첩되도록 소정의 음파 주파수(sonic frequency) 범위에서 상기 전해질 내에 음향 진동을 발생시키는 단계를 포함하는 세라믹 코팅 형성 방법.
- 제1항에 있어서,상기 코팅이 Mg, Al, Ti, Nb, Ta, Zr, Hf 등의 금속 및 이들의 합금, Al-Be, Ti-Al, Ni-Ti, Ni-Al, Ti-Nb, Al-Zr, Al-Al2O3, Mg-Al2O3등의 화합물 및 복합체 상에 형성되는 것을 특징으로 하는 세라믹 코팅 형성 방법.
- 제1항 또는 제2항에 있어서,각각의 상기 전류 펄스가, 상기 펄스의 총 지속시간의 10% 이하의 시간에 걸쳐 최대치까지DML 급격한 전류의 초기 증가에 이어서 전류의 급격한 감소 후, 상기 최대치의 50% 이하로 전류의 점진적인 감소를 포함하는 형태를 갖는 것을 특징으로 하는 세라믹 코팅 형성 방법.
- 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,상기 음향 진동이, 상기 전해질을 공기로 공기역학적 포화(aerodynamic saturation)에 이르게 하는 것을 특징으로 하는 세라믹 코팅 형성 방법.
- 제4항에 있어서,상기 전해질에 산소 또는 공기를 공급하는 것을 특징으로 하는 세라믹 코팅 형성 방법.
- 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서,상기 전해질 내에 초분산(ultra-disperse) 고체 입자를 도입하고 상기 음향 진동을 이용하여 안정한 하이드로졸(hydrosol)을 형성하는 단계를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 세라믹 코팅 형성 방법.
- 제6항에 있어서,상기 고체 입자가 0.5㎛ 이하의 크기를 가진 것을 특징으로 하는 세라믹 코팅 형성 방법.
- 제6항 또는 제7항에 있어서,상기 고체 입자가 금속의 산화물, 붕소화물(boride), 탄화물(carbide), 질화물(nitride), 규화물(silicide) 및 황화물(sulphide)의 형태인 화합물을 포함하는 것을 특징으로 하는 세라믹 코팅 형성 방법.
- 제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서,상기 플라즈마 방전 상태가 플라즈마-전해질 산화 상태(plasma-electrolytic oxidation regime)인 것을 특징으로 하는 세라믹 코팅 형성 방법.
- 제1항 내지 제9항 중 어느 한 항에 있어서,상기 세라믹 코팅이 2∼10㎛/분의 속도로 형성되는 것을 특징으로 하는 세라믹 코팅 형성 방법.
- 제1항 내지 제10항 중 어느 한 항에 있어서,상기 물품에 인가되는 상기 전류가 3∼200A/d㎡의 전류 밀도를 가지는 것을 특징으로 하는 세라믹 코팅 형성 방법.
- 제11항에 있어서,상기 물품에 인가되는 상기 전류가 10∼60A/d㎡의 전류 밀도를 가지는 것을 특징으로 하는 세라믹 코팅 형성 방법.
- 제1항 내지 제12항 중 어느 한 항에 있어서,상기 전류 펄스가 500Hz 이상의 펄스 연속 주파수(pulse succession frequency)를 가지는 것을 특징으로 하는 세라믹 코팅 형성 방법.
- 제13항에 있어서,상기 펄스 연속 주파수가 1,000∼10,000Hz 범위인 것을 특징으로 하는 세라믹 코팅 형성 방법.
- 금속 및 합금 상에 세라믹 코팅을 형성하기 위한 장치로서,상기 장치는, 전극을 구비한 전해조, 상기 전극에 펄스형 전류를 보내는 공급원(supply source), 및 적어도 하나의 음향 진동 발생기를 포함하고,i) 상기 공급원은, 소정의 주파수 범위를 가진 전류의 고주파 2극성 펄스를 상기 전극에 공급하도록 되어 있고,ii) 상기 적어도 하나의 음향 진동 발생기는, 상기 전해조에 수용되어 있을 때, 전해질 내에 음향 진동을 발생하도록 되어 있으며, 상기 음향 진동은 상기 전류 펄스의 주파수 범위와 중첩되는 소정의 음파 주파수 범위를 가지는세라믹 코팅 형성 장치.
- 제15항에 있어서,상기 공급원은, 상기 각각의 전류 펄스가, 상기 펄스의 총 지속시간의 10% 이하의 시간에 걸쳐 최대치까지의 급격한 전류의 초기 증가에 이어서 전류의 급격한 감소 후, 상기 최대치의 50% 이하로 전류의 점진적인 감소를 포함하는 형태를 갖도록 되어 있는 것을 특징으로 하는 세라믹 코팅 형성 장치.
- 제15항 또는 제16항에 있어서,상기 적어도 하나의 음향 진동 발생기가 전해질의 유동을 위한 적어도 하나의 입구를 가진 공기역학적 공진기(resonator)인 것을 특징으로 하는 세라믹 코팅 형성 장치.
- 제17항에 있어서,상기 적어도 하나의 공기역학적 공진기에 의해 발생되는 음향 진동이 상기 공기역학적 공진기의 입구에서 전해질의 유동 압력을 변경함으로써 제어되는 것을 특징으로 하는 세라믹 코팅 형성 장치.
- 제1항 내지 제14항 중 어느 한 항의 방법에 따라 금속 또는 합금 상에 형성된 세라믹 코팅.
- 제15항 내지 제18항 중 어느 한 항의 장치를 이용하여 금속 또는 합금 상에 형성된 세라믹 코팅.
- 제19항 또는 제20항에 있어서,상기 코팅이 총 코팅 두께의 14% 이하를 포함하는 외부 다공층(porous layer)을 가진 것을 특징으로 하는 세라믹 코팅.
- 플라즈마 방전 공정을 이용하여 금속 또는 합금 상에 형성된 세라믹 코팅으로서,상기 코팅이 총 코팅 두께의 14% 이하를 포함하는 외부 다공층을 가진 것을 특징으로 하는 세라믹 코팅.
- 제21항 또는 제22항에 있어서,상기 외부 다공층이 총 코팅 두께의 10% 이하를 포함하는 것을 특징으로 하는 세라믹 코팅.
- 제24항에 있어서,상기 외부 다공층이 총 코팅 두께의 8% 이하를 포함하는 것을 특징으로 하는세라믹 코팅.
- 제19항 내지 제24항 중 어느 한 항에 있어서,상기 세라믹 코팅이 0.6∼2.1㎛의 낮은 조도(roughness)(Ra)를 갖는 표면을 구비한 것을 특징으로 하는 세라믹 코팅.
- 플라즈마 방전 공정을 이용하여 금속 또는 합금 상에 형성된 세라믹 코팅으로서,상기 세라믹 코팅이 0.6∼2.1㎛의 낮은 조도(Ra)를 갖는 표면을 구비한 것을 특징으로 하는 세라믹 코팅.
- 제19항 내지 제26항 중 어느 한 항에 있어서,상기 세라믹 코팅이 500∼2,100HV의 마이크로경도(microhardness)를 갖는 고밀도 미정질(dense microcrystalline) 구조를 구비한 것을 특징으로 하는 세라믹 코팅.
- 제19항 내지 제27항 중 어느 한 항에 있어서,전체 두께의 합이 2∼150㎛인 것을 특징으로 하는 세라믹 코팅.
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