KR20040036607A - Colored photosensitive resin compositions - Google Patents

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KR20040036607A
KR20040036607A KR1020030074108A KR20030074108A KR20040036607A KR 20040036607 A KR20040036607 A KR 20040036607A KR 1020030074108 A KR1020030074108 A KR 1020030074108A KR 20030074108 A KR20030074108 A KR 20030074108A KR 20040036607 A KR20040036607 A KR 20040036607A
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다케베가즈오
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스미또모 가가꾸 고교 가부시끼가이샤
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Abstract

PURPOSE: Provided is a colored photosensitive resin composition, which shows high sensitivity even under high concentration of coloring agent, forms colored pixels having a tapered shape at end portions, and permits an ITO film formed on pixels not to be disconnected. CONSTITUTION: The colored photosensitive resin composition comprises: (A) a binder resin; (B) a photopolymerizable monomer including (b10) at least one monomer selected from the group consisting of (meth)acrylic monomers having two (meth)acryl groups in the same molecule and vinyl ether monomers having two vinyl ether groups in the same molecule, and (b20) a (meth)acrylic monomer having 5 or more (meth)acryl groups in the same molecule; (C) a photopolymerization initiator; (D) a coloring agent; and (E) a solvent.

Description

착색 감광성 수지 조성물{Colored photosensitive resin compositions}Colored photosensitive resin compositions

본 발명은 자외선 경화형 잉크 또는 감광성 내식막 등에 널리 이용되고 있는 감광성 수지 조성물에 관한 것이며, 특히, 컬러 액정 표시 장치 또는 촬상 소자 등에 사용되는 착색 화상(이하, 화소라고 하는 경우가 있다)을 형성하기 위한 내식막에 적합한 착색 감광성 수지 조성물에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION Field of the Invention The present invention relates to photosensitive resin compositions widely used in ultraviolet curable inks, photoresists, and the like, and in particular, for forming colored images (hereinafter referred to as pixels) for use in color liquid crystal displays or imaging devices. It is related with the coloring photosensitive resin composition suitable for a resist.

컬러 액정 표시 장치 또는 촬상 소자 등에 있어서의 컬러 필터는 통상, 유리 또는 실리콘 웨이퍼 등의 기판 위에 적, 녹 및 청의 삼원색 화소를 형성함으로써 제조되고 있다. 또한, 통상적으로 이들 화소 사이를 차광하기 위한 블랙 매트릭스가 설치된다. 또한, 이러한 각 색의 화소를 형성하기 위해서는, 블랙 매트릭스가 형성된 기판 위에 각 색에 상당하는 안료를 함유하는 내식막 용액을 스핀 피복기에 의해 균일하게 도포한 후, 가열 건조(예비베이킹)하여, 이의 도막을 노광, 현상하는 방법이 채용되고 있으며, 이러한 조작을 컬러 필터에 필요한 색마다 반복함으로써, 각 색의 화상을 수득하고 있다. 이러한 내식막으로서, 안료 및 결합제 수지와 함께 광중합성 단량체 및 광중합 개시제를 함유하는 감광성 수지 조성물이 많이 사용되고 있다. 또한, 블랙 매트릭스의 형성에도 흑색 안료를 함유하는 감광성 수지 조성물을 사용하는 경우가 있다.The color filter in a color liquid crystal display device, an image pick-up element, etc. is normally manufactured by forming red, green, and blue primary colors pixel on the board | substrate, such as glass or a silicon wafer. In addition, a black matrix is usually provided to shield light between these pixels. In addition, in order to form the pixel of each color, the resist solution containing the pigment corresponding to each color is uniformly apply | coated by a spin coater on the board | substrate with a black matrix, and then heat-drying (prebaking), The method of exposing and developing a coating film is employ | adopted, and the image of each color is obtained by repeating this operation for every color required for a color filter. As such a resist, many photosensitive resin compositions containing a photopolymerizable monomer and a photoinitiator together with pigment and binder resin are used. Moreover, the photosensitive resin composition containing a black pigment may be used also for formation of a black matrix.

이러한 내식막에 사용되는 광중합성 단량체는 컬러 필터를 제작하는 데 필요한 특성 및 품질을 좌우한다는 점에서, 감도, 현상성, 해상성 및 밀착성이 양호한 컬러 필터용 광중합성 조성물로서, 중합성 단량체가 동일 분자 내에 3 내지 4개의 (메트)아크릴기를 갖는 (메트)아크릴 단량체와 동일 분자 내에 5개 이상의 (메트)아크릴기를 갖는 (메트)아크릴 단량체와의 혼합물이 제안되어 있다(참조: 예를 들면, 일본 공개특허공보 제(평)10-319583호 등).The photopolymerizable monomer used in such a resist is a photopolymerizable composition for color filters having good sensitivity, developability, resolution, and adhesion, in that the photopolymerizable monomer used for manufacturing the color filter is determined. A mixture of a (meth) acryl monomer having 3 to 4 (meth) acryl groups in a molecule and a (meth) acryl monomer having 5 or more (meth) acryl groups in the same molecule has been proposed (see, for example, Japan Patent Publication No. 10-319583, etc.).

상기한 컬러 필터를 형성하는 경우, 통상적으로는 화소 위에 오버코트를 통해 ITO 막을 증착하기{참조: 예를 들면, 일본 공개특허공보 제(평)7-5319호, 일본 공개특허공보 제(평)7-128519호, 일본 공개특허공보 제2002-129307호, 특허청 "표준기술집 전기 유기 EL 스퍼터 증착법 이용 ITO 전극 제조법"[참조: [online], [갱신일 2002.6.28], [평성 15년 10월 2일 검색], 인터넷<URL: http://www.jpo.go.jp/shiryou/s_sonota/hyoujun_gi jutsu/yuuki_el/body_htm/d008In the case of forming the above-described color filter, it is usual to deposit an ITO film on the pixel via an overcoat (see, for example, Japanese Patent Laid-Open No. 7-5319 and Japanese Patent Laid-Open No. 7). -128519, Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2002-129307, Japan Patent Office "Standard ITO Electrode Fabrication Method Using Electro-Organic EL Sputter Deposition Method" [Reference] [online], [Date of update 2002.6.28], [February 15, 15, 2015] Sun search], Internet <URL: http://www.jpo.go.jp/shiryou/s_sonota/hyoujun_gi jutsu / yuuki_el / body_htm / d008

.htm>]}때문에, 화소가 열 이력을 받아도 문제는 생기지 않지만, 최근 컬러 필터의 생산성을 높이기 위해서, 오버코트를 생략하는 것이 요망되고 있다. 그러나, 오버코트를 생략하고, 화소 위에 ITO 막을 형성하면, 화소에 주름이 생기거나, ITO 막이 단선되거나 하는 문제가 있다(참조: 예를 들면, 일본 공개특허공보 제(평)9-292514호, 일본 공개특허공보 제2002-236210호 등)..htm>]}, even if the pixel receives a thermal history does not cause a problem, in order to increase the productivity of the color filter in recent years, it is desired to omit the overcoat. However, if the ITO film is formed on the pixel without omitting the overcoat, there is a problem that wrinkles occur in the pixel or the ITO film is disconnected (see, for example, Japanese Patent Laid-Open No. 9-292514, Japan). Published Patent Publication No. 2002-236210 and the like.

본 발명의 목적은 착색재를 고농도로 함유하더라도 고감도를 나타내는 착색 감광성 수지 조성물, 상기의 착색 감광성 수지 조성물을 사용하여 형성하는 착색 화소의 말단부의 형상이 순(順) 테이퍼 형상이 되며, 화소 위에 오버코트를 통하지 않고 ITO 막을 형성하더라도 상기의 ITO 막이 단선되지 않는 착색 감광성 수지 조성물, 및 상기의 착색 감광성 수지 조성물을 사용하는 고품질의 컬러 필터를 제공하는 것이다.An object of the present invention is that the shape of the end portion of the colored photosensitive resin composition exhibiting high sensitivity and the colored pixel formed by using the colored photosensitive resin composition, even if it contains a high concentration of colorant, becomes a tapered shape, and overcoats the pixel. It is to provide a colored photosensitive resin composition in which the ITO film is not disconnected even if an ITO film is formed without using a high-quality color filter using the colored photosensitive resin composition.

본 발명자는 예의 검토한 결과, 본 발명에 이르렀다.MEANS TO SOLVE THE PROBLEM This inventor came to this invention as a result of earnestly examining.

즉, 본 발명은 (A) 결합제 수지, (B) 동일 분자 내에 2개의 (메트)아크릴기를 갖는 (메트)아크릴 단량체 및 동일 분자 내에 2개의 비닐에테르기를 갖는 비닐에테르 단량체로 이루어진 그룹으로부터 선택된 1종 이상의 단량체(b10) 및 동일 분자 내에 5개 이상의 (메트)아크릴기를 갖는 (메트)아크릴 단량체(b20)을 포함하는 광중합성 단량체, (C) 광중합 개시제, (D) 착색재 및 (E) 용매를 함유하는 착색 감광성 수지 조성물, 당해 착색 감광성 수지 조성물을 기판 위에 도포하며, 도포된 착색 감광성 수지 조성물 층으로부터 휘발 성분을 제거하고 광마스크를 통해 상기한 층을 노광시키고, 현상하는 패턴의 형성 방법, 당해 패턴을 포함하는 컬러 필터 및 당해 컬러 필터를 장착한 액정 표시 장치를 제공한다.That is, the present invention is one selected from the group consisting of (A) binder resin, (B) a (meth) acryl monomer having two (meth) acryl groups in the same molecule and a vinyl ether monomer having two vinyl ether groups in the same molecule The photopolymerizable monomer containing the monomer (b10) and the (meth) acryl monomer (b20) which has 5 or more (meth) acryl groups in the same molecule, (C) photoinitiator, (D) coloring material, and (E) solvent The method of forming the pattern which coats the colored photosensitive resin composition containing this and this colored photosensitive resin composition on a board | substrate, removes a volatile component from the applied colored photosensitive resin composition layer, exposes the said layer through a photomask, and develops, Provided are a color filter including a pattern and a liquid crystal display device having the color filter.

본 발명의 착색 감광성 수지 조성물은 안료 분산 내식막으로서 사용될 수 있는 조성물로서, (A) 결합제 수지(이하, 성분(A)라고 한다), (B) 단량체(b10) 및 단량체(b20)을 포함하는 광중합성 단량체(이하, 성분(B)라고 한다), (C) 광중합 개시제(이하, 성분(C)라고 한다), (D) 착색재(이하, 성분(D)라고 한다) 및 (E) 용매(이하, 성분(E)라고 한다)를 함유하는 착색 감광성 수지 조성물(이하, 본 수지 조성물이라고 한다)이며,The colored photosensitive resin composition of this invention is a composition which can be used as a pigment dispersion resist, and contains (A) binder resin (henceforth component (A)), (B) monomer (b10), and monomer (b20). Photopolymerizable monomer (hereinafter referred to as component (B)), (C) photopolymerization initiator (hereinafter referred to as component (C)), (D) coloring material (hereinafter referred to as component (D)) and (E) solvent It is colored photosensitive resin composition (henceforth called this resin composition) containing (it is called a component (E) hereafter),

단량체(b10)은 동일 분자 내에 2개의 (메트)아크릴기를 갖는 (메트)아크릴 단량체 및 동일 분자 내에 2개의 비닐에테르기를 갖는 비닐에테르 단량체로 이루어진 그룹으로부터 선택된 1종 이상의 단량체이고, 단량체(b20)은 동일 분자 내에 5개 이상의 (메트)아크릴기를 갖는 (메트)아크릴 단량체이다.The monomer (b10) is at least one monomer selected from the group consisting of a (meth) acryl monomer having two (meth) acryl groups in the same molecule and a vinylether monomer having two vinyl ether groups in the same molecule, and the monomer (b20) is It is a (meth) acryl monomer which has 5 or more (meth) acryl groups in the same molecule.

통상적으로는 안료인 성분(D), 성분(A), 성분(C) 및 성분(B), 임의로 이외의 기타 첨가제(F)가 성분(E)에 용해되거나 분산되어 있다.Usually, component (D), component (A), component (C) and component (B) which are pigments, and other additives (F) other than this are melt | dissolved or disperse | distributed to component (E) normally.

성분(A)는 알칼리 용해성을 가지며, 또한 착색재의 분산매로서 작용한다. 성분(A)로서, 불포화 카복실산으로부터 유도되는 구성 단위를 포함하는 중합체를 포함하는 수지가 바람직하고, 불포화 카복실산 및 이와 공중합 가능한 다른 단량체를 중합시켜 수득되는 공중합체를 포함하는 수지가 보다 바람직하다.Component (A) has alkali solubility and acts as a dispersion medium of a coloring material. As component (A), the resin containing the polymer containing the structural unit derived from unsaturated carboxylic acid is preferable, and the resin containing the copolymer obtained by superposing | polymerizing unsaturated carboxylic acid and the other monomer copolymerizable with this is more preferable.

상기 불포화 카복실산으로부터 유도되는 구성 단위로서는, 구체적으로 아크릴산으로부터 유도되는 구성 단위 및 메타크릴산으로부터 유도되는 구성 단위를 들 수 있다. 아크릴산 및 메타크릴산은 각각 단독으로 또는 양자를 조합하여 사용할 수 있다. 또한, 이러한 아크릴산 또는 메타크릴산 이외에, 크로톤산, 이타콘산, 말레산, 푸마르산 등의 다른 불포화 카복실산 및 불포화 카복실산 무수물로 이루어진 그룹으로부터 선택된 1종 이상의 카복실산을 병용할 수 있다. 또한, α-(하이드록시메틸)아크릴산과 같은 동일 분자 중에 하이드록시기 및 카복실기를 함유하는 단량체를 병용할 수 있다.Specific examples of the structural unit derived from the unsaturated carboxylic acid include structural units derived from acrylic acid and structural units derived from methacrylic acid. Acrylic acid and methacrylic acid can be used individually or in combination of each. In addition to such acrylic acid or methacrylic acid, one or more carboxylic acids selected from the group consisting of other unsaturated carboxylic acids such as crotonic acid, itaconic acid, maleic acid and fumaric acid and unsaturated carboxylic anhydrides may be used in combination. Moreover, the monomer containing a hydroxyl group and a carboxyl group can be used together in the same molecule like (alpha)-(hydroxymethyl) acrylic acid.

상기 불포화 카복실산으로부터 유도되는 구성 단위와 공중합 가능한 구성 단위로서는, 바람직하게는 아크릴산에스테르로부터 유도되는 구성 단위를 들 수 있다.As a structural unit copolymerizable with the structural unit guide | induced from the said unsaturated carboxylic acid, Preferably, the structural unit guide | induced from an acrylate ester is mentioned.

아크릴산에스테르로서는 아크릴레이트 화합물을 들 수 있고, 구체적으로는 메틸(메트)아크릴레이트, 에틸(메트)아크릴레이트, 부틸(메트)아크릴레이트, 벤질(메트)아크릴레이트, 2-하이드록시에틸(메트)아크릴레이트, 아미노에틸(메트)아크릴레이트 등의 불포화 카복실산의 치환되지 않거나 치환된 알킬에스테르; 사이클로펜틸(메트)아크릴레이트, 사이클로헥실(메트)아크릴레이트, 메틸사이클로헥실(메트)아크릴레이트, 사이클로헵틸(메트)아크릴레이트, 사이클로옥틸(메트)아크릴레이트, 멘틸(메트)아크릴레이트, 사이클로펜테닐(메트)아크릴레이트, 사이클로헥세닐(메트)아크릴레이트, 사이클로헵테닐(메트)아크릴레이트, 사이클로옥테닐(메트)아크릴레이트, 멘타디에닐(메트)아크릴레이트, 이소보닐(메트)아크릴레이트, 피나닐(메트)아크릴레이트, 트리사이클로데실(메트)아크릴레이트, 트리사이클로데실옥시에틸(메트)아크릴레이트, 아다만틸(메트)아크릴레이트, 노르보르네닐(메트)아크릴레이트, 피네닐(메트)아크릴레이트, 디사이클로펜테닐(메트)아크릴레이트, 디사이클로펜테닐옥시에틸(메트)아크릴레이트 등의 불포화 카복실산과 지환식기를 포함하는 알콜과의 에스테르; 글리시딜(메트)아크릴레이트 등의 불포화 카복실산글리시딜에스테르; 옥세탄(메트)아크릴레이트 등의 불포화 카복실산옥세탄에스테르: 올리고에틸렌글리콜모노알킬(메트)아크릴레이트 등의 글리콜류의 모노포화카복실산에스테르 등을 들 수 있으며, 바람직하게는 메틸(메트)아크릴레이트, 벤질(메트)아크릴레이트를 들 수 있다.An acrylate compound is mentioned as an acrylate ester, Specifically, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) Unsubstituted or substituted alkyl esters of unsaturated carboxylic acids such as acrylates and aminoethyl (meth) acrylates; Cyclopentyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, methylcyclohexyl (meth) acrylate, cycloheptyl (meth) acrylate, cyclooctyl (meth) acrylate, menthyl (meth) acrylate, cyclopen Tenyl (meth) acrylate, cyclohexenyl (meth) acrylate, cycloheptenyl (meth) acrylate, cyclooctenyl (meth) acrylate, mentadienyl (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate , Pinanyl (meth) acrylate, tricyclodecyl (meth) acrylate, tricyclodecyloxyethyl (meth) acrylate, adamantyl (meth) acrylate, norbornenyl (meth) acrylate, pineneyl ( It contains unsaturated carboxylic acid and alicyclic group, such as meth) acrylate, dicyclopentenyl (meth) acrylate, and dicyclopentenyloxyethyl (meth) acrylate. Esters of an alcohol; Unsaturated carboxylic acid glycidyl esters such as glycidyl (meth) acrylate; Unsaturated carboxylic acid oxetane esters such as oxetane (meth) acrylate: monosaturated carboxylic acid esters of glycols such as oligoethylene glycol monoalkyl (meth) acrylate, and the like, and preferably methyl (meth) acrylate, Benzyl (meth) acrylate is mentioned.

상기 공중합체에 있어서, 불포화 카복실산 및 아크릴산에스테르와 공중합 가능한 다른 단량체를 사용할 수도 있다. 당해 다른 단량체로서는, 스티렌, α-메틸스티렌 등의 비닐톨루엔 등의 방향족 비닐 화합물; 아세트산비닐, 프로피온산비닐 등의 카복실산비닐에스테르; (메트)아크릴로니트릴, α-클로로아크릴로니트릴 등의 시안화 비닐 화합물; N-페닐말레이미드 등의 말레이미드 화합물 등을 들 수 있다.In the said copolymer, you may use the other monomer copolymerizable with unsaturated carboxylic acid and acrylic acid ester. As said other monomer, Aromatic vinyl compounds, such as vinyltoluene, such as styrene and (alpha) -methylstyrene; Carboxylic acid vinyl esters, such as vinyl acetate and a vinyl propionate; Vinyl cyanide compounds such as (meth) acrylonitrile and α-chloroacrylonitrile; Maleimide compounds, such as N-phenylmaleimide, etc. are mentioned.

이들은 성분(A)를 제조함에 있어서, 각각 단독으로 사용할 수 있고, 2종 이상을 조합하여 사용할 수도 있다.In manufacturing component (A), these can be used individually, respectively and can also be used in combination of 2 or more type.

또한, 필요에 따라 아크릴산에스테르 이외의 불포화 화합물을 병용할 수도 있다.Moreover, you may use together unsaturated compounds other than acrylate ester as needed.

이러한 다른 구성 단위 중에서도, (메트)아크릴산에스테르, 특히 (메트)아크릴산의 치환되지 않거나 치환된 알킬에스테르 또는 (메트)아크릴산과 지환식기를 포함하는 알콜과의 에스테르가 유리하게 사용된다.Among these other structural units, (meth) acrylic acid esters, particularly unsubstituted or substituted alkyl esters of (meth) acrylic acid or esters of (meth) acrylic acid with alcohols containing alicyclic groups, are advantageously used.

성분(A)에 있어서, 불포화 카복실산으로부터 유도되는 구성 단위는 상기 공중합체의 전체 구성 단위 중, 통상 10 내지 50질량%, 바람직하게는 15 내지 40질량%의 범위로 존재시키는 것이 바람직하다. 불포화 카복실산으로부터 유도되는 구성 단위가 상기 기준으로 10 내지 50질량%이면, 현상액에 대한 용해성이 충분하기 때문에, 미노광부의 기판 위에 잔사가 발생하지 않고, 또한 현상시에 노광부의 화소 부분의 막 감소가 발생하지 않으며, 화소 전체가 박리되지 않는 경향이 있어 바람직하다.In component (A), it is preferable to make the structural unit derived from unsaturated carboxylic acid exist in the range of 10-50 mass% normally, Preferably it is 15-40 mass% in all the structural units of the said copolymer. If the constituent unit derived from the unsaturated carboxylic acid is 10 to 50% by mass based on the above reference, since the solubility in the developing solution is sufficient, no residue occurs on the substrate of the unexposed part, and at the time of development, the film reduction of the pixel portion of the exposed part is reduced. It does not generate | occur | produce, and since the whole pixel does not tend to peel, it is preferable.

성분(A)는 폴리스티렌 환산 중량평균분자량이 10,000 내지 100,000의 범위인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 15,000 내지 50,000의 범위이다. 성분(A)의 중량평균분자량이 10,000 내지 100,000의 범위이면, 현상시에 막 감소가 발생하기 어려우며, 또한 현상시에 비화소 부분의 누락성이 양호한 경향이 있어 바람직하다.The component (A) preferably has a polystyrene reduced weight average molecular weight in the range of 10,000 to 100,000, more preferably in the range of 15,000 to 50,000. If the weight average molecular weight of the component (A) is in the range of 10,000 to 100,000, film reduction is unlikely to occur at the time of development, and there is a tendency for good non-pixel fractionality at the time of development to be favorable.

성분(A)는 본 수지 조성물의 전체 고형분량에 대하여, 통상 5 내지 90질량%, 바람직하게는 10 내지 70질량%의 범위로 함유된다. 성분(A)가 상기의 기준으로 5 내지 90질량%이면, 현상액에 대한 용해성이 충분하고, 비화소 부분의 기판 위에 현상 잔사가 발생하기 어려우며, 또한 현상시에 노광부의 화소 부분의 막 감소가 발생하기 어려우며, 비화소 부분의 누락성이 양호한 경향이 있어 바람직하다. 한편, 본 발명에 있어서, 본 수지 조성물의 전체 고형분이란 본 수지 조성물로부터 성분(E)를 제거한 전체 성분을 의미한다.The component (A) is contained in the range of usually 5 to 90% by mass, preferably 10 to 70% by mass, based on the total solids of the present resin composition. If the component (A) is 5 to 90% by mass based on the above criteria, the solubility in the developer is sufficient, development residues are less likely to occur on the substrate of the non-pixel portion, and film reduction of the pixel portion of the exposed portion occurs during development. It is difficult to carry out, and it is preferable because the missing property of a non-pixel part tends to be favorable. In addition, in this invention, the total solid of this resin composition means the all components which removed the component (E) from this resin composition.

본 수지 조성물에 포함되는 성분(B)는 빛 및 하기의 성분(C)의 작용으로 중합할 수 있는 화합물이고, 단량체(b10)과 단량체(b20)을 함유한다.Component (B) contained in this resin composition is a compound which can superpose | polymerize by the action of light and the following component (C), and contains monomer (b10) and monomer (b20).

단량체(b10)에 있어서, 동일 분자 내에 2개의 (메트)아크릴기를 갖는 (메트)아크릴 단량체로서는, 에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 디에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 트리에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 1,3-부티렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 1,4-부탄디올디(메트)아크릴레이트, 1,6-헥산디올디(메트)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜디(메트)아크릴레이트, 프로필렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 디프로필렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 트리프로필렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 폴리프로필렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 2-하이드록시-1,3-디아크릴옥시프로판, 2,2-비스[4-(아크릴옥시에톡시)페닐]프로판, 2,2-비스[4-(아크릴옥시디에톡시)페닐]프로판, 비스페놀 A의 비스(아크릴로일옥시에틸)에테르, 비스페놀 A형 에폭시 수지의 (메트)아크릴산 개질물, 3-메틸펜탄디올디(메트)아크릴레이트, 2-하이드록시-3-아크릴로일옥시프로필메타크릴레이트, 디메틸올트리사이클로데칸디(메트)아크릴레이트 등을 들 수 있으며, 바람직하게는 디메틸올트리사이클로데칸디(메트)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜디(메트)아크릴레이트, 비스페놀 A형 에폭시 수지의 (메트)아크릴산 개질물을 들 수 있으며, 보다 바람직하게는 디메틸올트리사이클로데칸디아크릴레이트, 네오펜틸글리콜디아크릴레이트, 비스페놀 A형 에폭시 수지의 아크릴산 개질물을 들 수 있다.In the monomer (b10), examples of the (meth) acryl monomer having two (meth) acryl groups in the same molecule include ethylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, and triethylene glycol di (meth). ) Acrylate, polyethylene glycol di (meth) acrylate, 1,3-butylene glycol di (meth) acrylate, 1,4-butanedioldi (meth) acrylate, 1,6-hexanedioldi (meth) acrylic Latene, neopentyl glycol di (meth) acrylate, propylene glycol di (meth) acrylate, dipropylene glycol di (meth) acrylate, tripropylene glycol di (meth) acrylate, polypropylene glycol di (meth) acrylate , 2-hydroxy-1,3-diacryloxypropane, 2,2-bis [4- (acryloxyethoxy) phenyl] propane, 2,2-bis [4- (acryloxydiethoxy) phenyl] propane Bis (acryloyloxyethyl) ether of bisphenol A, bis (Meth) acrylic acid modifier of Nol-type epoxy resin, 3-methylpentanediol di (meth) acrylate, 2-hydroxy-3-acryloyloxypropyl methacrylate, dimethylol tricyclodecanedi (meth) Acrylate etc. are mentioned, Preferably, the (meth) acrylic-acid modification of a dimethylol tricyclodecane di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, and a bisphenol-A epoxy resin is mentioned, More preferably, acrylic acid modified | denatured of dimethylol tricyclodecane diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, and a bisphenol-A epoxy resin is mentioned.

단량체(b10)에 있어서, 동일 분자 내에 2개의 비닐에테르기를 갖는 비닐에테르 단량체로서는, 에틸렌글리콜디비닐에테르, 디에틸렌글리콜디비닐에테르, 트리에틸렌글리콜디비닐에테르, 폴리에틸렌글리콜디비닐에테르, 1,3-부틸렌글리콜디비닐에테르, 1,4-부탄디올디비닐에테르, 1,6-헥산디올디비닐에테르, 1,4-사이클로헥산디올디비닐에테르, 네오펜틸글리콜디비닐에테르, 프로필렌글리콜디비닐에테르, 디프로필렌글리콜디비닐에테르, 트리프로필렌글리콜디비닐에테르, 폴리프로필렌글리콜디비닐에테르, 2-하이드록시-1,3-디비닐옥시프로판, 2,2-비스[4-(비닐옥시에톡시)페닐]프로판, 2,2-비스[4-(비닐옥시디에톡시)페닐]프로판, 3-메틸펜탄디올디비닐에테르, 디메틸올트리사이클로데칸디비닐에테르, 하이드로퀴논의 디비닐에테르화물, 비스페놀 A의 디비닐에테르화물 등을 들 수 있으며, 바람직하게는 1,4-부탄디올디비닐에테르, 1,4-사이클로헥산디올디비닐에테르, 하이드로퀴논의 디비닐에테르화물, 비스페놀 A의 디비닐에테르화물을 들 수 있으며, 보다 바람직하게는 1,4-부탄디올디비닐에테르, 하이드로퀴논의 디비닐에테르화물, 비스페놀 A의 디비닐에테르화물을 들 수 있다.In the monomer (b10), as a vinyl ether monomer which has two vinyl ether groups in the same molecule, ethylene glycol divinyl ether, diethylene glycol divinyl ether, triethylene glycol divinyl ether, polyethylene glycol divinyl ether, 1,3 -Butylene glycol divinyl ether, 1, 4- butanediol divinyl ether, 1, 6- hexanediol divinyl ether, 1, 4- cyclohexanediol divinyl ether, neopentyl glycol divinyl ether, propylene glycol divinyl ether , Dipropylene glycol divinyl ether, tripropylene glycol divinyl ether, polypropylene glycol divinyl ether, 2-hydroxy-1,3-divinyloxypropane, 2,2-bis [4- (vinyloxyethoxy) Phenyl] propane, 2,2-bis [4- (vinyloxydiethoxy) phenyl] propane, 3-methylpentanedioldivinylether, dimethyloltricyclodecanedivinylether, divinyl etherate of hydroquinone, bisphenol A Divi of And ethers. Preferably, 1, 4- butanediol divinyl ether, 1, 4- cyclohexanediol divinyl ether, divinyl etherate of hydroquinone, and divinyl etherate of bisphenol A are mentioned. More preferably, 1, 4- butanediol divinyl ether, the divinyl etherate of hydroquinone, and the divinyl etherate of bisphenol A are mentioned.

단량체(b20)으로서는, 디펜타에리트리톨펜타(메트)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨헥사(메트)아크릴레이트 또는 쿄에이샤가가쿠(주)제의 UA-306H, UA-306T, UA-306I 등의 우레탄아크릴레이트를 들 수 있으며, 바람직하게는 디펜타에리트리톨펜타아크릴레이트, 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트를 들 수 있다.As a monomer (b20), dipentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, and UA-306H, UA-306T, UA-306I made from Kyoeisha Chemical Co., Ltd., etc. The urethane acrylate is mentioned, Preferably, dipentaerythritol pentaacrylate and dipentaerythritol hexaacrylate are mentioned.

상기한 단량체(b10) 및 단량체(b20)의 분자량은 1,000 미만인 것이 바람직하고, 800 미만인 것이 보다 바람직하다. 상기한 각 단량체 성분의 분자량이 상기 범위내이면, 균일한 도막이 수득되기 때문에 바람직하다. 단지, 상기한 각 단량체 성분의 분자량이 1,000를 초과하는 경우에도, 균일한 도막이 수득되는 것이면, 사용하는 데는 지장이 없다. 한편, 본 발명에 있어서, 단량체(b10) 및 단량체(b20)의 분자량이란, 해당하는 단량체가 분자량 분포를 갖지 않는 경우(예: 에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 디에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 에틸렌글리콜디비닐에테르, 디에틸렌글리콜디비닐에테르, 하이드로퀴논의 디비닐에테르화물, 디펜타에리트리톨펜타(메트)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨헥사(메트)아크릴레이트 등)에는 통상의 분자량(분자를 구성하는 원자의 원자량의 합)을 의미하며, 분자량 분포를 갖는 중합체인 경우(예: 비스페놀 A형 에폭시 수지의 (메트)아크릴산 개질물, 우레탄아크릴레이트 등)에는, 중량평균분자량(폴리스티렌을 표준품으로 하여, 겔 침투 크로마토그래피에 의해 구한 값)을 의미한다.It is preferable that it is less than 1,000, and, as for the molecular weight of said monomer (b10) and monomer (b20), it is more preferable that it is less than 800. If the molecular weight of each said monomer component is in the said range, since a uniform coating film is obtained, it is preferable. However, even when the above-mentioned molecular weight of each monomer component exceeds 1,000, if a uniform coating film is obtained, there will be no problem in using it. In the present invention, the molecular weight of the monomer (b10) and the monomer (b20) means that the corresponding monomer does not have a molecular weight distribution (for example, ethylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylic). Ethylene glycol divinyl ether, diethylene glycol divinyl ether, divinyl ether compounds of hydroquinone, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate) (The sum of the atomic weights of the atoms constituting the molecule), and in the case of a polymer having a molecular weight distribution (for example, a (meth) acrylic acid modifier of a bisphenol-A epoxy resin, a urethane acrylate, etc.), a weight average molecular weight (polystyrene Value obtained by gel permeation chromatography as a standard product).

기타, 본 발명의 효과를 손상하지 않을 정도로 기타 일작용성 단량체 또는 기타 다작용성 단량체를 사용할 수 있다. 기타 일작용성 단량체의 구체적인 예로서는, 노닐페닐카비톨아크릴레이트, 2-하이드록시-3-페녹시프로필아크릴레이트, 2-에틸헥실카비톨아크릴레이트, 2-하이드록시에틸아크릴레이트, N-비닐피롤리돈 등을 들 수 있다. 기타 다작용성 단량체의 구체적인 예로서는, 트리메틸올프로판트리(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨트리(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨테트라(메트)아크릴레이트 등을 들 수 있다.In addition, other monofunctional monomers or other multifunctional monomers may be used to the extent that the effects of the present invention are not impaired. Specific examples of other monofunctional monomers include nonylphenylcarbitol acrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl acrylate, 2-ethylhexyl carbitol acrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, and N-vinylpi A ralidone etc. are mentioned. Specific examples of other multifunctional monomers include trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, and the like.

성분(B)는 본 수지 조성물 중의 성분(A) 및 성분(B)의 합계 100질량부에 대하여, 통상 1 내지 60질량부, 바람직하게는 5 내지 50질량부의 범위로 함유된다. 성분(B)의 함량이 상기의 기준으로 1 내지 60질량부의 범위이면, 화소부의 강도, 패턴 형상 또는 평활성이 양호해지는 경향이 있어 바람직하다.A component (B) is contained in 1-60 mass parts normally with respect to a total of 100 mass parts of a component (A) and a component (B) in this resin composition, Preferably it contains in the range of 5-50 mass parts. If the content of component (B) is in the range of 1 to 60 parts by mass based on the above criteria, the intensity, pattern shape or smoothness of the pixel portion tends to be good, which is preferable.

또한, 단량체(b10)과 단량체(b20)의 사용 비율은 이들 단량체의 합계를 100질량부로 한 경우, 단량체(b10)을 10 내지 90질량부의 범위로 하는 것이 바람직하고, 15 내지 80질량부의 범위가 보다 바람직하다. 사용 비율이 상기 범위내이면, 순 테이퍼 형상이 수득되기 때문에 바람직하다.Moreover, when the sum total of these monomers makes 100 mass parts of monomers (b10) and a monomer (b20), it is preferable to make monomer (b10) into the range of 10-90 mass parts, and the range of 15-80 mass parts is More preferred. If the use ratio is within the above range, since the net taper shape is obtained, it is preferable.

다음에, 본 수지 조성물에 포함되는 성분(C)가 비이미다졸 화합물, 트리아진 화합물 및 아세토페논 화합물로 이루어진 그룹으로부터 선택된 1종 이상을 함유하는 광중합 개시제이면, 수득되는 착색 감광성 수지 조성물은 보다 고감도로 되어 바람직하다.Next, if the component (C) contained in this resin composition is a photoinitiator containing 1 or more types chosen from the group which consists of a biimidazole compound, a triazine compound, and an acetophenone compound, the coloring photosensitive resin composition obtained will be more sensitive. It is preferable to become.

또한, 성분(C), 특히 트리아진 화합물, 아세토페논 화합물 및 비이미다졸 화합물로 이루어진 그룹으로부터 선택된 1종 이상을 함유하는 광중합 개시제 이외에, 광중합 개시 조제(C-1)(이하, 성분(C-1)이라 한다)를 병용함으로써, 수득되는 착색 감광성 수지 조성물은 더욱 고감도로 되며, 이것을 사용하여 컬러 필터를 형성할 때의 생산성이 향상되기 때문에, 바람직하다.Further, in addition to the photopolymerization initiator containing at least one selected from the group consisting of component (C), in particular, a triazine compound, an acetophenone compound and a biimidazole compound, the photopolymerization initiation assistant (C-1) (hereinafter referred to as component (C- By using 1) together), the coloring photosensitive resin composition obtained becomes more sensitive, and since productivity at the time of forming a color filter using this improves, it is preferable.

본 수지 조성물에 있어서 사용되는 광중합 개시제(C)에 포함되는 트리아진 화합물로서는, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-(4-메톡시페닐)-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-(4-메톡시나프틸)-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-피페로닐-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-(4-메톡시스티릴)-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-[2-(5-메틸푸란-2-일)에테닐]-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-[2-(푸란-2-일)에테닐]-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-[2-(4-디에틸아미노-2-메틸페닐)에테닐]-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-[2-(3,4-디메톡시페닐)에테닐]-1,3,5-트리아진 등을 들 수 있고, 아세토페논 화합물로서는, 디에톡시아세토페논, 2-하이드록시-2-메틸-1-페닐프로판-1-온, 벤질디메틸케탈, 2-하이드록시-1-[4-(2-하이드록시에톡시)페닐]-2-메틸프로판-1-온, 1-하이드록시사이클로헥실페닐케톤, 2-메틸-1-(4-메틸티오페닐)-2-모르폴리노프로판-1-온, 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)부탄-1-온, 2-하이드록시-2-메틸-1-[4-(1-메틸비닐)페닐]프로판-1-온의 올리고머 등을 들 수 있고, 비이미다졸 화합물로서는, 2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐비이미다졸, 2,2'-비스(2,3-디클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐비이미다졸(예: 일본 공개특허공보 제(평)6-75372호 및 일본 공개특허공보 제(평)6-75373호 등), 2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐비이미다졸, 2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라(알콕시페닐)비이미다졸, 2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라(디알콕시페닐)비이미다졸, 2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라(트리알콕시페닐)비이미다졸(예: 일본 특허공보 제(소)48-38403호 및 일본 공개특허공보 제(소)62-174204호 등), 4,4',5,5'-위치의 페닐기가 카보알콕시기에 의해 치환되어 있는 이미다졸 화합물(일본 공개특허공보 제(평)7-10913호 등)을 들 수 있고, 바람직하게는 2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐비이미다졸, 2,2'-비스(2,3-디클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐비이미다졸을 들 수 있다.As a triazine compound contained in the photoinitiator (C) used in this resin composition, 2, 4-bis (trichloromethyl) -6- (4-methoxyphenyl) -1,3,5-triazine, 2,4-bis (trichloromethyl) -6- (4-methoxynaphthyl) -1,3,5-triazine, 2,4-bis (trichloromethyl) -6-piperonyl-1, 3,5-triazine, 2,4-bis (trichloromethyl) -6- (4-methoxystyryl) -1,3,5-triazine, 2,4-bis (trichloromethyl) -6 -[2- (5-methylfuran-2-yl) ethenyl] -1,3,5-triazine, 2,4-bis (trichloromethyl) -6- [2- (furan-2-yl) Ethenyl] -1,3,5-triazine, 2,4-bis (trichloromethyl) -6- [2- (4-diethylamino-2-methylphenyl) ethenyl] -1,3,5- Triazine, 2,4-bis (trichloromethyl) -6- [2- (3,4-dimethoxyphenyl) ethenyl] -1,3,5-triazine, etc. are mentioned, As an acetophenone compound, , Diethoxyacetophenone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, benzyldimethyl ketal, 2-hydroxy-1- [4- (2-hydroxy Ethoxy) phenyl] -2-methylpropan-1-one, 1-hydroxycyclohexylphenylketone, 2-methyl-1- (4-methylthiophenyl) -2-morpholinopropan-1-one, 2 -Benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) butan-1-one, 2-hydroxy-2-methyl-1- [4- (1-methylvinyl) phenyl] propane-1- And other oligomers. Examples of the biimidazole compound include 2,2'-bis (2-chlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole and 2,2'-bis. (2,3-dichlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole (e.g., JP-A-6-75372 and JP-A6- 75373, etc.), 2,2'-bis (2-chlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2'-bis (2-chlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetra (alkoxyphenyl) biimidazole, 2,2'-bis (2-chlorophenyl) -4,4', 5,5'-tetra (dialkoxyphenyl) biimidazole, 2 , 2'-bis (2-chlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetra (trialkoxyphenyl) biimidazole (e.g., Japanese Patent Publication 48-38403 and JP-A-62-174204, etc.), imidazole compounds in which the phenyl group at the 4,4 ', 5,5'-position is substituted by a carboalkoxy group (JP-A-A) (Pyeong) 7-10913, etc.), and preferably 2,2'-bis (2-chlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2' -Bis (2,3-dichlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole.

또한, 본 발명의 효과를 손상하지 않을 정도이면, 이 분야에서 통상 사용되고 있는 광중합 개시제 등을 병용할 수 있으며, 예를 들면, 벤조인계, 벤조페논계, 티오크산톤계, 안트라센계 및 기타 개시제를 들 수 있다. 보다 구체적으로는, 이하와 같은 화합물을 들 수 있으며, 이들을 각각 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.Moreover, as long as it does not impair the effect of this invention, the photoinitiator etc. which are normally used in this field can be used together, For example, a benzoin type, a benzophenone type, thioxanthone type, anthracene type, and other initiators are used. Can be mentioned. More specifically, the following compounds are mentioned, These can be used individually or in combination of 2 or more types, respectively.

(a) 벤조인계(a) Benzoin series

벤조인, 벤조인메틸에테르, 벤조인에틸에테르, 벤조인이소프로필에테르, 벤조인이소부틸에테르 등.Benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin isobutyl ether and the like.

(b) 벤조페논계(b) benzophenone series

벤조페논, o-벤조일벤조산메틸, 4-페닐벤조페논, 4-벤조일-4'-메틸디페닐설파이드, 3,3',4,4'-테트라(3급 부틸퍼옥시카보닐)벤조페논, 2,4,6-트리메틸벤조페논 등.Benzophenone, methyl o-benzoylbenzoate, 4-phenylbenzophenone, 4-benzoyl-4'-methyldiphenylsulfide, 3,3 ', 4,4'-tetra (tert-butylperoxycarbonyl) benzophenone, 2,4,6-trimethylbenzophenone and the like.

(c) 티오크산톤계(c) thioxanthones

2-이소프로필티오크산톤, 4-이소프로필티오크산톤, 2,4-디에틸티오크산톤, 2,4-디클로로티오크산톤, 1-클로로-4-프로폭시티오크산톤 등.2-isopropyl thioxanthone, 4-isopropyl thioxanthone, 2,4-diethyl thioxanthone, 2,4-dichloro thioxanthone, 1-chloro-4-propoxy thioxanthone, and the like.

(d) 안트라센계(d) anthracene

9,10-디메톡시안트라센, 2-에틸-9,10-디메톡시안트라센, 9,10-디에톡시안트라센, 2-에틸-9,10-디에톡시안트라센 등.9,10-dimethoxyanthracene, 2-ethyl-9,10-dimethoxyanthracene, 9,10-diethoxyanthracene, 2-ethyl-9,10-diethoxyanthracene and the like.

(e) 기타(e) other

2,4,6-트리메틸벤조일디페닐포스핀옥사이드, 10-부틸-2-클로로아크리돈, 2-에틸안트라퀴논, 벤질, 9, 10-페난트렌퀴논, 캄포르퀴논, 페닐글리옥실산메틸, 티타노센 화합물 등.2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, 10-butyl-2-chloroacridone, 2-ethylanthraquinone, benzyl, 9, 10-phenanthrenequinone, camphorquinone, methyl phenylglyoxylate , Titanocene compounds and the like.

또한, 성분(C)에 성분(C-1)을 조합하여 사용하는 경우의 성분(C-1)로서는, 아민 화합물, 티올기 함유 화합물 및 특정한 카복실산 화합물이 바람직하고, 아민 화합물은 방향족 아민 화합물이 보다 바람직하다. 이의 구체적인 예로서는, 트리에탄올아민, 메틸디에탄올아민, 트리이소프로판올아민 등의 지방족 아민 화합물, 4-디메틸아미노벤조산메틸, 4-디메틸아미노벤조산에틸, 4-디메틸아미노벤조산이소아밀, 4-디메틸아미노벤조산 2-에틸헥실, 벤조산 2-디메틸아미노에틸, N,N-디메틸파라톨루이딘, 4,4'-비스(디메틸아미노)벤조페논(통칭, 미힐러 케톤), 4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논과 같은 방향족 아민 화합물을 들 수 있으며, 티올기 함유 화합물은 분자 중에 티올기를 갖는 화합물이고, 티올기를 한개 갖는 티올 화합물로서, 2-머캅토벤조티아졸, 2-머캅토벤조옥사졸 등, 지방족기에 티올기를 수개 갖는 지방족 다작용성 티올 화합물의 예로서는, 헥산디티올, 데칸디티올, 1,4-디메틸머캅토벤젠, 부탄디올비스티오프로피오네이트, 부탄디올비스티오글리콜레이트, 에틸렌글리콜비스티오글리콜레이트, 트리메틸올프로판트리스티오글리콜레이트, 부탄디올비스티오프로피오네이트, 트리메틸올프로판트리스티오프로피오네이트, 트리메틸올프로판트리스티오글리콜레이트, 펜타에리트리톨테트라키스티오프로피오네이트, 펜타에리트리톨테트라키스티오글리콜레이트, 트리스하이드록시에틸트리스티오프로피오네이트 및 그 외에, 다가 하이드록시 화합물의 티오글리콜레이트, 티오프로피오네이트 등을 들 수 있으며, 바람직하게는 트리메틸올프로판트리스티오프로피오네이트, 트리메틸올프로판트리스티오글리콜레이트 및 펜타에리트리톨테트라키스티오프로피오네이트를 들 수 있다. 특정한 카복실산 화합물로서는, 페닐티오아세트산, 메틸페닐티오아세트산, 에틸페닐티오아세트산, 메틸에틸페닐티오아세트산, 디메틸페닐티오아세트산, 메톡시페닐티오아세트산, 디메톡시페닐티오아세트산, 클로로페닐티오아세트산, 디클로로페닐티오아세트산, N-페닐글리신, 페녹시아세트산, 나프틸티오아세트산, N-나프틸글리신, 나프톡시아세트산 등을 들 수 있다.Moreover, as a component (C-1) in the case of using a component (C-1) in combination with a component (C), an amine compound, a thiol group containing compound, and a specific carboxylic acid compound are preferable, and an amine compound is an aromatic amine compound. More preferred. Specific examples thereof include aliphatic amine compounds such as triethanolamine, methyldiethanolamine and triisopropanolamine, methyl 4-dimethylaminobenzoate, ethyl 4-dimethylaminobenzoate, isoamyl 4-dimethylaminobenzoate, and 4-dimethylaminobenzoic acid. Ethylhexyl, 2-dimethylaminoethyl benzoate, N, N-dimethylparatoluidine, 4,4'-bis (dimethylamino) benzophenone (commonly known as Michler's ketone), 4,4'-bis (diethylamino) Aromatic amine compounds, such as benzophenone, A thiol group containing compound is a compound which has a thiol group in a molecule | numerator, As a thiol compound which has one thiol group, 2-mercaptobenzothiazole, 2-mercaptobenzoxazole, etc., Examples of aliphatic multifunctional thiol compounds having several thiol groups in the aliphatic group include hexanedithiol, decandithiol, 1,4-dimethylmercaptobenzene, butanediolbisthiopropionate, and butanediolbisthioglycolide. , Ethylene glycol bisthioglycolate, trimethylol propane tristhioglycolate, butanediol bisthio propionate, trimethylol propane tristyopiopioneate, trimethylolpropane tristhioglycolate, pentaerythritol tetrakistioplopionate, Pentaerythritol tetrakisthioglycolate, tris hydroxyethyl tristyoplopionate and the like, and thioglycolate, thiopropionate of a polyhydric hydroxy compound, and the like, and preferably trimethylolpropane tristyoff Cypionate, trimethylol propane tristhioglycolate, and pentaerythritol tetrakistiopionate are mentioned. Specific carboxylic acid compounds include phenylthioacetic acid, methylphenylthioacetic acid, ethylphenylthioacetic acid, methylethylphenylthioacetic acid, dimethylphenylthioacetic acid, methoxyphenylthioacetic acid, dimethoxyphenylthioacetic acid, chlorophenylthioacetic acid and dichlorophenylthioacetic acid. , N-phenylglycine, phenoxyacetic acid, naphthylthioacetic acid, N-naphthylglycine, naphthoxyacetic acid, etc. are mentioned.

성분(C)의 양은 성분(A) 및 성분(B)의 합계 100질량부에 대하여, 통상 0.1 내지 40질량부, 바람직하게는 1 내지 30질량부이다. 또한, 성분(C-1)의 양은 성분(A) 및 성분(B)의 합계 100질량부에 대하여, 통상 0.1 내지 50질량부, 바람직하게는 1 내지 40질량부의 범위이다.The quantity of a component (C) is 0.1-40 mass parts normally with respect to a total of 100 mass parts of a component (A) and a component (B), Preferably it is 1-30 mass parts. In addition, the quantity of component (C-1) is 0.1-50 mass parts normally with respect to a total of 100 mass parts of a component (A) and a component (B), Preferably it is the range of 1-40 mass parts.

성분(C)의 합계량이 상기 범위내이면, 착색 감광성 수지 조성물이 고감도로 되어, 당해 착색 감광성 수지 조성물을 사용하여 형성한 화소부의 강도 또는 상기한 화소의 표면에서의 평활성이 양호해지는 경향이 있어 바람직하다.When the total amount of component (C) is in the said range, a coloring photosensitive resin composition becomes high sensitivity, and there exists a tendency for the intensity | strength of the pixel part formed using the said coloring photosensitive resin composition or smoothness in the surface of the said pixel to become favorable, and it is preferable. Do.

또한, 성분(C) 이외에, 성분(C-1)의 양이 상기의 범위내이면, 수득되는 착색 감광성 수지 조성물의 감도가 더욱 높아져 상기의 착색 감광성 수지 조성물을 사용하여 형성하는 컬러 필터의 생산성이 향상되는 경향이 있어 바람직하다.Moreover, in addition to component (C), when the quantity of component (C-1) is in the said range, the sensitivity of the coloring photosensitive resin composition obtained will become high further, and the productivity of the color filter formed using said coloring photosensitive resin composition will become It is preferable because it tends to be improved.

성분(D)는 통상 안료이며, 안료 분산 내식막에 통상 사용되는 유기 안료 또는 무기 안료일 수 있다. 무기 안료로서는 금속 산화물 또는 금속 착염과 같은 금속 화합물을 들 수 있으며, 구체적으로는 철, 코발트, 알루미늄, 카드뮴, 납, 구리, 티탄, 마그네슘, 크롬, 아연, 안티몬 등의 금속의 산화물 또는 복합금속 산화물을 들 수 있다. 또한, 유기 안료 및 무기 안료로서는, 구체적으로 컬러 인덱스(Colour Index)[참조: The Society of Dyers and Colourists 출판]에서 피그먼트(Pigment)로 분류되어 있는 화합물을 들 수 있다. 보다 구체적으로는, 이하와 같은 컬러 인덱스(C.I.) 번호의 화합물을 들 수 있지만, 이들에 한정되는 것은 아니다.Component (D) is usually a pigment and may be an organic pigment or an inorganic pigment commonly used in pigment dispersion resists. Examples of the inorganic pigments include metal compounds such as metal oxides and metal complex salts. Specifically, oxides or composite metal oxides of metals such as iron, cobalt, aluminum, cadmium, lead, copper, titanium, magnesium, chromium, zinc and antimony Can be mentioned. Moreover, as an organic pigment and an inorganic pigment, the compound specifically classified by Pigment in the Color Index (The Society of Dyers and Colourists) is mentioned. More specifically, although the compound of the following color index (C.I.) numbers is mentioned, It is not limited to these.

C.I. 피그먼트 옐로우 20, 24, 31, 53, 83, 86, 93, 94, 109, 110, 117, 125, 137, 138, 139, 147, 148, 150, 153, 154, 166 및 173;C.I. Pigment yellow 20, 24, 31, 53, 83, 86, 93, 94, 109, 110, 117, 125, 137, 138, 139, 147, 148, 150, 153, 154, 166 and 173;

C.I. 피그먼트 오렌지 13, 31, 36, 38, 40, 42, 43, 51, 55, 59, 61, 64, 65 및 71;C.I. Pigment orange 13, 31, 36, 38, 40, 42, 43, 51, 55, 59, 61, 64, 65 and 71;

C.I. 피그먼트 레드 9, 97, 105, 122, 123, 144, 149, 166, 168, 176, 177, 180, 192, 215, 216, 224, 242 및 254;C.I. Pigment Red 9, 97, 105, 122, 123, 144, 149, 166, 168, 176, 177, 180, 192, 215, 216, 224, 242 and 254;

C.I. 피그먼트 바이올렛 14, 19, 23, 29, 32, 33, 36, 37 및 38;C.I. Pigment violet 14, 19, 23, 29, 32, 33, 36, 37 and 38;

C.I. 피그먼트 블루 15(15:3, 15:4, 15:6 등), 21, 22, 28, 60 및 64;C.I. Pigment blue 15 (15: 3, 15: 4, 15: 6, etc.), 21, 22, 28, 60, and 64;

C.I. 피그먼트 그린 7, 10, 15, 25, 36 및 47;C.I. Pigment green 7, 10, 15, 25, 36 and 47;

C.I. 피그먼트 브라운 28;C.I. Pigment brown 28;

C.I. 피그먼트 블랙 1 및 7 등.C.I. Pigment black 1 and 7 and the like.

성분(D)는 각각 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다. 성분(D)는 본 수지 조성물 중의 전체 고형분량을 기준으로, 통상 5 내지 60질량%, 바람직하게는 10 내지 55질량%의 범위로 함유된다. 성분(D)의 함량이 상기 기준으로 5 내지 60질량부의 범위이면, 박막으로 해도 화소의 색농도가 충분하고, 현상시에 비화소부의 누락성이 저하되지 않기 때문에, 잔사가 발생하기 어려운 경향이 있어 바람직하다.A component (D) can be used individually or in combination of 2 types or more, respectively. A component (D) is contained in the range of 5-60 mass% normally, Preferably it is 10-55 mass% based on the total solid amount in this resin composition. If the content of the component (D) is in the range of 5 to 60 parts by mass based on the above criteria, even if it is a thin film, the color concentration of the pixel is sufficient, and since the omission property of the non-pixel portion is not lowered at the time of development, the residue tends not to occur. It is preferable.

성분(E)는 이 분야에서 사용되고 있는 여러 가지 것일 수 있다. 이의 구체적인 예로서는, 에틸렌글리콜모노메틸에테르, 에틸렌글리콜모노에틸에테르, 에틸렌글리콜모노프로필에테르, 에틸렌글리콜모노부틸에테르 등의 에틸렌글리콜모노알킬에테르류;Component (E) can be any of those used in the art. Specific examples thereof include ethylene glycol monoalkyl ethers such as ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monopropyl ether, and ethylene glycol monobutyl ether;

디에틸렌글리콜디메틸에테르, 디에틸렌글리콜디에틸에테르, 디에틸렌글리콜디프로필에테르, 디에틸렌글리콜디부틸에테르 등의 디에틸렌글리콜디알킬에테르류;Diethylene glycol dialkyl ethers such as diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol dipropyl ether and diethylene glycol dibutyl ether;

메틸셀로솔브아세테이트, 에틸셀로솔브아세테이트 등의 에틸렌글리콜알킬에테르아세테이트류;Ethylene glycol alkyl ether acetates such as methyl cellosolve acetate and ethyl cellosolve acetate;

프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노프로필에테르아세테이트, 메톡시부틸아세테이트, 메톡시펜틸아세테이트 등의 알킬렌글리콜알킬에테르아세테이트류:Alkylene glycol alkyl ether acetates, such as a propylene glycol monomethyl ether acetate, a propylene glycol monoethyl ether acetate, a propylene glycol monopropyl ether acetate, a methoxy butyl acetate, and a methoxy pentyl acetate:

벤젠, 톨루엔, 크실렌, 메시틸렌 등의 방향족 탄화수소류;Aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene and mesitylene;

메틸에틸케톤, 아세톤, 메틸아밀케톤, 메틸이소부틸케톤, 사이클로헥산온 등의 케톤류;Ketones such as methyl ethyl ketone, acetone, methyl amyl ketone, methyl isobutyl ketone and cyclohexanone;

에탄올, 프로판올, 부탄올, 헥산올, 사이클로헥산올, 에틸렌글리콜, 글리세린 등의 알콜류;Alcohols such as ethanol, propanol, butanol, hexanol, cyclohexanol, ethylene glycol and glycerin;

3-에톡시프로피온산에틸, 3-메톡시프로피온산메틸 등의 에스테르류;Esters such as ethyl 3-ethoxypropionate and methyl 3-methoxypropionate;

γ-부티로락톤 등의 사이클릭 에스테르류 등을 들 수 있다.Cyclic ester, such as (gamma) -butyrolactone, etc. are mentioned.

이러한 성분(E)는 각각 단독으로 또는 2종류 이상을 혼합하여 사용할 수 있다.These components (E) can be used individually or in mixture of 2 or more types, respectively.

성분(E)의 함량은 본 수지 조성물 전체의 양을 기준으로, 60 내지 90질량%, 바람직하게는 70 내지 85질량%이다. 성분(E)의 함량이 상기 기준으로 60 내지 90질량%의 범위이면, 도포성이 양호해지는 경향이 있어 바람직하다.The content of component (E) is 60 to 90 mass%, preferably 70 to 85 mass%, based on the amount of the entire resin composition. If content of a component (E) is the range of 60-90 mass% on the said reference | standard, there exists a tendency for applicability | paintability to become favorable and it is preferable.

본 수지 조성물에는, 필요에 따라서, 충전제, 기타 중합체 화합물, 안료 분산제, 밀착 촉진제, 산화방지제, 자외선 흡수제, 응집 방지제 등의 첨가제(F)(이하, 성분(F)라고 한다)를 혼합 사용할 수 있다.If necessary, additives (F) (hereinafter referred to as component (F)), such as fillers, other polymer compounds, pigment dispersants, adhesion promoters, antioxidants, ultraviolet absorbers, and anti-agglomerates, may be used in the present resin composition. .

충전제로서는, 구체적으로 유리, 실리카, 알루미나 등을, 기타 중합체 화합물로서는, 구체적으로 폴리비닐알콜, 폴리아크릴산, 폴리에틸렌글리콜모노알킬에테르, 폴리플루오로알킬아크릴레이트 등을 사용할 수 있다.As a filler, glass, silica, alumina, etc. can be specifically used, and as other polymer compounds, polyvinyl alcohol, polyacrylic acid, polyethyleneglycol monoalkylether, polyfluoroalkylacrylate, etc. can be used specifically ,.

안료 분산제로서는 시판 중인 안료 분산제를 사용할 수 있으며, 예를 들면, 실리콘계, 불소계, 에스테르계, 양이온계, 음이온계, 비이온계, 양쪽성 등의 계면활성제 등을 들 수 있으며, 각각 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용된다. 상기의 계면활성제의 예로서는, 폴리옥시에틸렌알킬에테르류, 폴리옥시에틸렌알킬페닐에테르류, 폴리에틸렌글리콜디에스테르류, 소르비탄 지방산 에스테르류, 지방산 개질된 폴리에스테르류, 3급 아민 개질된 폴리우레탄류, 폴리에틸렌이민류 등 외에, 상품명으로 KP[제조원: 신에츠가가쿠고교(주)], 폴리플로우[제조원: 쿄에가가쿠(주)], 에프톱[제조원: 토켐프로덕츠], 메가팍스[제조원: 다이니혼잉크가가쿠고교(주)], 플로라이드[제조원: 스미토모스리엠(주)], 아사히가이드[제조원: 아사히가라스(주)], 사프론[제조원: 아사히가라스(주)], 소르스파스[제조원: 제네카(주)], EFKA[제조원: EFKA CHEMICALS], PB821[제조원: 아지노모토(주)] 등을 들 수 있다.Commercially available pigment dispersants may be used as the pigment dispersant. Examples of the pigment dispersants include surfactants such as silicone, fluorine, ester, cationic, anionic, nonionic, and amphoteric compounds. It is used in combination of species or more. Examples of the surfactants include polyoxyethylene alkyl ethers, polyoxyethylene alkyl phenyl ethers, polyethylene glycol diesters, sorbitan fatty acid esters, fatty acid modified polyesters, tertiary amine modified polyurethanes, In addition to polyethyleneimine and the like, KP [manufacturer: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.], polyflow [manufacturer: Kyoeegaku Co., Ltd.], F-top [manufacturer: Tochem Products], megafax [manufacturer: Dai Nihon Ink Chemical Co., Ltd.], Floride [manufacturer: Sumitomos Reem], Asahiguide [manufacturer: Asahigarasu], saffron [manufacturer: Asahigarasu], Sor Sparse [manufacturer: Geneka Co., Ltd.], EFKA [manufacturer: EFKA CHEMICALS], PB821 [manufacturer: Ajinomoto Co., Ltd.] etc. are mentioned.

밀착 촉진제로서는, 구체적으로 비닐트리메톡시실란, 비닐트리에톡시실란, 비닐트리스(2-메톡시에톡시)실란, N-(2-아미노에틸)-3-아미노프로필메틸디메톡시실란, N-(2-아미노에틸)-3-아미노프로필트리메톡시실란, 3-아미노프로필트리에톡시실란, 3-글리시독시프로필트리메톡시실란, 3-글리시독시프로필메틸디메톡시실란, 2-(3,4-에폭시사이클로헥실)에틸트리메톡시실란, 3-클로로프로필메틸디메톡시실란, 3-클로로프로필트리메톡시실란, 3-메타크릴로일옥시프로필트리메톡시실란, 3-머캅토프로필트리메톡시실란 등을 들 수 있다.Specific examples of the adhesion promoter include vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, vinyltris (2-methoxyethoxy) silane, N- (2-aminoethyl) -3-aminopropylmethyldimethoxysilane, and N-. (2-aminoethyl) -3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, 2- ( 3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, 3-chloropropylmethyldimethoxysilane, 3-chloropropyltrimethoxysilane, 3-methacryloyloxypropyltrimethoxysilane, 3-mercaptopropyl Trimethoxysilane etc. are mentioned.

산화방지제로서는, 구체적으로 2,2'-티오비스(4-메틸-6-3급 부틸페놀), 2,6-디-3급 부틸-4-메틸페놀 등을 들 수 있다.Specific examples of the antioxidant include 2,2'-thiobis (4-methyl-6-tertiary butylphenol), 2,6-di-tert-butyl butyl-4-methylphenol, and the like.

자외선 흡수제로서는, 구체적으로 2-(3-3급 부틸-2-하이드록시-5-메틸페닐)-5-클로로벤조트리아졸, 알콕시벤조페논 등을 들 수 있다.Specifically as a ultraviolet absorber, 2- (3-tert-butyl-2-hydroxy-5-methylphenyl) -5-chlorobenzotriazole, alkoxy benzophenone, etc. are mentioned.

기타 중합체 화합물로서는, 구체적으로 에폭시 수지 등의 열경화성 수지 또는 폴리에스테르, 폴리우레탄 등의 열가소성 수지를 들 수 있다.As another polymer compound, thermosetting resins, such as an epoxy resin, or thermoplastic resins, such as polyester and a polyurethane, are mentioned specifically ,.

또한, 응집제로서는, 구체적으로 폴리아크릴산나트륨 등을 들 수 있다Moreover, as a flocculant, sodium polyacrylate etc. are mentioned specifically ,.

본 수지 조성물은, 예를 들면 아래와 같이 제조할 수 있다. 즉, 성분(D)를 미리 성분(E)와 혼합하고, 성분(D)의 평균 입자 직경이 0.2㎛ 이하 정도가 될 때까지, 비드 밀 등을 사용하여 분산시킨다. 이때, 필요에 따라, 안료 분산제가 사용되며, 또한 성분(A)의 일부 또는 전부를 배합하는 경우도 있다. 수득된 분산액(밀 베이스)에 성분(A)의 나머지, 성분(B) 및 성분(C), 필요에 따라 사용되는 기타 성분, 추가로 필요에 의해 추가의 성분(E)를 소정의 농도가 되도록 첨가하여 목적하는 본 수지 조성물을 수득한다.This resin composition can be manufactured as follows, for example. That is, component (D) is previously mixed with component (E) and dispersed using a bead mill or the like until the average particle diameter of the component (D) is about 0.2 µm or less. Under the present circumstances, a pigment dispersant is used as needed and may mix | blend one part or all part of component (A). In the obtained dispersion (mill base), the remainder of component (A), components (B) and (C), other components to be used as necessary, and further components (E) as necessary, to a predetermined concentration. It is added and the desired present resin composition is obtained.

이렇게 제조된 본 수지 조성물은, 예를 들면 이하와 같이 기재 위에 도포하고, 광경화 및 현상을 실시하여 블랙 매트릭스 또는 착색 화상으로 할 수 있다.The present resin composition thus prepared can be applied onto a substrate, for example, as described below, and subjected to photocuring and development to obtain a black matrix or colored image.

우선, 본 수지 조성물을 기판(통상적으로는 유리) 위에 스핀 피복하고, 가열 건조(예비베이킹)시킴으로써 용매를 제거하고 평활한 도막을 수득한다. 이때 도막의 두께는 약 1 내지 3㎛ 정도이다.First, the present resin composition is spin-coated on a substrate (usually glass) and heat dried (prebaked) to remove the solvent to obtain a smooth coating film. At this time, the thickness of a coating film is about 1-3 micrometers.

이렇게 수득된 도막에, 목적하는 블랙 매트릭스 또는 화상을 형성하기 위한 네가마스크를 통해 자외선을 조사한다. 이때, 노광부 전체에 균일하게 평행 광선을 조사하며, 또한 마스크와 기판의 위치가 정확하게 일치하도록 마스크 얼라이너(Mask Aligner) 등의 장치를 사용하는 것이 바람직하다.The coating film thus obtained is irradiated with ultraviolet rays through a black mask or a negative mask for forming an image. At this time, it is preferable to use an apparatus such as a mask aligner so as to irradiate the parallel light beam uniformly to the entire exposure portion and to exactly match the position of the mask and the substrate.

또한, 그 다음, 경화가 종료된 도막을 묽은 알칼리 수용액에 접촉시켜 비노광부를 용해시키고 현상함으로써, 목적하는 블랙 매트릭스 또는 화상이 수득된다. 현상 후, 필요에 따라서 150 내지 230℃에서 10 내지 60분 정도 후경화(후베이킹)시킬 수 있다.Furthermore, the desired black matrix or image is obtained by then contacting a diluted alkali aqueous solution by dissolving and developing the non-exposed part after completion | finish of hardening. After image development, it can be post-cured (post-baking) about 10 to 60 minutes at 150-230 degreeC as needed.

패턴화 노광 후의 현상에 사용하는 현상액은 통상 알칼리성 화합물과 계면활성제를 포함하는 수용액이다. 알칼리성 화합물은 무기 및 유기 알칼리성 화합물 중의 하나이다.The developing solution used for image development after patterned exposure is the aqueous solution containing an alkaline compound and surfactant normally. The alkaline compound is one of inorganic and organic alkaline compounds.

무기 알칼리성 화합물의 구체적인 예로서는, 수산화나트륨, 수산화칼륨, 인산수소2나트륨, 인산2수소나트륨, 인산수소2암모늄, 인산2수소암모늄, 인산2수소칼륨, 신남산나트륨, 신남산칼륨, 탄산나트륨, 탄산칼륨, 탄산수소나트륨, 탄산수소칼륨, 붕산나트륨, 붕산칼륨, 암모니아 등을 들 수 있다.Specific examples of the inorganic alkaline compound include sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium hydrogen phosphate, sodium dihydrogen phosphate, ammonium hydrogen phosphate, ammonium dihydrogen phosphate, potassium dihydrogen phosphate, sodium cinnamic acid, potassium cinnamic acid, sodium carbonate, potassium carbonate And sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate, sodium borate, potassium borate, ammonia and the like.

또한, 유기 알칼리성 화합물의 구체적인 예로서는, 테트라메틸암모늄하이드록사이드, 2-하이드록시에틸트리메틸암모늄하이드록사이드, 모노메틸아민, 디메틸아민, 트리메틸아민, 모노에틸아민, 디에틸아민, 트리에틸아민, 모노이소프로필아민, 디이소프로필아민, 에탄올아민 등을 들 수 있다. 이러한 무기 및 유기 알칼리성 화합물은 각각 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다. 알칼리 현상액 중의 알칼리성 화합물의 바람직한 농도는 0.01 내지 10질량%의 범위이고, 보다 바람직하게는 0.03 내지 5질량%이다.As specific examples of the organic alkaline compound, tetramethylammonium hydroxide, 2-hydroxyethyltrimethylammonium hydroxide, monomethylamine, dimethylamine, trimethylamine, monoethylamine, diethylamine, triethylamine, mono Isopropylamine, diisopropylamine, ethanolamine, etc. are mentioned. These inorganic and organic alkaline compounds can be used individually or in combination of 2 types or more, respectively. The concentration of the alkaline compound in the alkaline developer is in the range of 0.01 to 10% by mass, more preferably 0.03 to 5% by mass.

알칼리 현상액 중의 계면활성제는 비이온계 계면활성제, 음이온계 계면활성제 또는 양이온계 계면활성제 중의 하나일 수 있다.The surfactant in the alkaline developer may be one of a nonionic surfactant, anionic surfactant, or cationic surfactant.

비이온계 계면활성제의 구체적인 예로서는, 폴리옥시에틸렌알킬에테르, 폴리옥시에틸렌아릴에테르, 폴리옥시에틸렌알킬아릴에테르, 기타 폴리옥시에틸렌 유도체, 옥시에틸렌/옥시프로필렌 블록 공중합체, 소르비탄 지방산 에스테르, 폴리옥시에틸렌 소르비탄 지방산 에스테르, 폴리옥시에틸렌 소르비톨 지방산 에스테르, 글리세린 지방산 에스테르, 폴리옥시에틸렌 지방산 에스테르, 폴리옥시에틸렌알킬아민 등을 들 수 있다.Specific examples of nonionic surfactants include polyoxyethylene alkyl ethers, polyoxyethylene aryl ethers, polyoxyethylene alkylaryl ethers, other polyoxyethylene derivatives, oxyethylene / oxypropylene block copolymers, sorbitan fatty acid esters, and polyoxy Ethylene sorbitan fatty acid ester, polyoxyethylene sorbitol fatty acid ester, glycerin fatty acid ester, polyoxyethylene fatty acid ester, polyoxyethylene alkylamine and the like.

음이온계 계면활성제의 구체적인 예로서는, 라우릴알콜황산에스테르나트륨 또는 올레일알콜황산에스테르나트륨과 같은 고급 알콜황산에스테르염류, 라우릴황산나트륨 또는 라우릴황산암모늄과 같은 알킬황산염류, 도데실벤젠설폰산나트륨 또는 도데실나프탈렌설폰산나트륨과 같은 알킬아릴설폰산염류 등을 들 수 있다.Specific examples of the anionic surfactant include higher alcohol sulfate ester salts such as sodium lauryl alcohol sulfate or sodium oleyl alcohol sulfate, alkyl sulfates such as sodium lauryl sulfate or ammonium lauryl sulfate, sodium dodecylbenzenesulfonate or Alkyl aryl sulfonates, such as sodium dodecyl naphthalene sulfonate, etc. are mentioned.

양이온계 계면활성제의 구체적인 예로서는, 스테아릴아민염산염 또는 라우릴트리메틸암모늄클로라이드와 같은 아민염 또는 4급 암모늄염 등을 들 수 있다.Specific examples of the cationic surfactant include amine salts such as stearylamine hydrochloride or lauryltrimethylammonium chloride, or quaternary ammonium salts.

이러한 계면활성제는 각각 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.These surfactant can be used individually or in combination of 2 types or more, respectively.

알칼리 현상액 중의 계면활성제의 농도는 통상 O.01 내지 10질량%의 범위, 바람직하게는 0.05 내지 8질량%, 보다 바람직하게는 0.1 내지 5질량%이다.The concentration of the surfactant in the alkaline developer is usually in the range of 0.01 to 10% by mass, preferably 0.05 to 8% by mass, more preferably 0.1 to 5% by mass.

이상과 같은 본 수지 조성물의 도포, 건조, 수득된 건조 도막으로의 패턴화 노광 및 현상과 같은 각 공정을 경유하여 본 수지 조성물 중의 착색재의 색에 상당하는 화소 또는 블랙 매트릭스가 수득되며, 또한 이러한 조작을 컬러 필터에 필요한 색의 수만큼 반복함으로써, 컬러 필터가 수득된다. 즉, 컬러 필터는 통상 블랙 매트릭스 및 적, 녹 및 청의 삼원색 화소를 기판 위에 배치한 것이지만, 특정 색에 상당하는 착색재를 포함하는 본 수지 조성물을 사용하여 상기와 같이 조작함으로써, 이러한 색의 블랙 매트릭스 또는 화소를 수득하며, 다른 색에 대해서도 목적하는 색에 상당하는 착색재를 포함하는 본 수지 조성물을 사용하여 동일한 조작을 실시하여 블랙 매트릭스 및 삼원색 화소를 기판 위에 배치할 수 있다. 물론, 블랙 매트릭스 및 삼원색 중의 1색, 2색 또는 3색에만 본 수지 조성물을 적용하는 것도 가능하다. 또한, 차광층인 블랙 매트릭스는, 예를 들면, 크롬층 등으로 형성되는 경우도 있기 때문에, 이 경우에는 물론, 블랙 매트릭스의 형성에 본 수지 조성물을 사용할 필요는 없다.Pixels or black matrices corresponding to the color of the colorant in the present resin composition are obtained via respective processes such as the above-described application of the present resin composition, drying, and patterned exposure and development to the obtained dry coating film. The color filter is obtained by repeating the number of colors necessary for the color filter. That is, although the color filter normally arranges the black matrix and the three primary color pixels of red, green, and blue on a board | substrate, it operates as mentioned above using this resin composition containing the coloring material corresponded to a specific color, and it is a black matrix of such a color. Alternatively, a black matrix and three primary color pixels can be disposed on a substrate by obtaining the pixel and performing the same operation using the present resin composition containing a coloring material corresponding to the desired color for other colors. Of course, it is also possible to apply this resin composition only to one color, two colors, or three colors of a black matrix and three primary colors. In addition, since the black matrix which is a light shielding layer may be formed by a chromium layer etc., for example, in this case, it is not necessary to use this resin composition for formation of a black matrix.

또한, 본 수지 조성물을 사용하여 제조된 컬러 필터는 면 내부의 막 두께 차가 작으며, 예를 들면, 막 두께가 1 내지 3㎛이며, 면 내부의 막 두께차를 0.15㎛ 이하, 또는 0.05㎛ 이하로 할 수 있다.Moreover, the color filter manufactured using this resin composition has a small film thickness difference inside a plane, for example, has a film thickness of 1-3 micrometers, and the film thickness difference inside a plane is 0.15 micrometer or less, or 0.05 micrometer or less. You can do

또한, 수득된 화소 위에 오버코트를 통하지 않고, ITO 막을 형성할 수 있다. ITO 막은, 예를 들면 비특허문헌 1에 기재된 조건을 적절하게 검토함으로써 형성할 수 있다.Further, an ITO film can be formed on the obtained pixel without passing through an overcoat. The ITO film can be formed by appropriately examining the conditions described in Non-Patent Document 1, for example.

따라서, 이렇게 수득되는 컬러 필터는 순 테이퍼 형상의 화소 패턴을 가지며, 이를 컬러 액정 표시 장치에 삽입함으로써, 우수한 품질의 액정 패널을 고수율로 제조할 수 있다.Therefore, the color filter thus obtained has a pixel pattern of a forward tapered shape, and by inserting it into the color liquid crystal display device, a liquid crystal panel of excellent quality can be manufactured in high yield.

상기에서, 본 발명의 실시 형태에 대해 설명하였지만, 상기에 기재된 본 발명의 실시 형태는 어디까지나 예시이며, 본 발명의 범위는 이러한 실시 형태에 한정되지 않는다. 본 발명의 범위는 특허청구범위로 나타내어지며, 또한 특허청구범위의 기재와 균등한 의미 및 범위 내에서의 모든 변형태를 포함하는 것이다. 이하, 실시예에 의해 본 발명을 보다 상세하게 설명하지만, 본 발명은 이러한 실시예에 의해 한정되는 것은 아니다. 실시예 중, 함량 내지 사용량을 나타내는 % 및 부는 특별히 언급하지 않는 한, 질량 기준이다.As mentioned above, although embodiment of this invention was described, embodiment of this invention described above is an illustration to the last, and the scope of this invention is not limited to such embodiment. The scope of the invention is indicated by the claims, and includes all modifications within the meaning and range equivalent to the description of the claims. EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention in detail, this invention is not limited by these Examples. In the examples,% and parts representing the content to the amount used are based on mass unless otherwise specified.

실시예 1Example 1

표 1에 기재된 각 성분 중, 미리 안료 및 안료 분산제의 합계량이 안료, 안료 분산제 및 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트와의 혼합물에 대하여 20질량%가 되도록 혼합하고, 비드 밀을 사용하여 안료를 충분히 분산시키고, 여기에 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트의 잔량을 포함하는 나머지 성분을 가하고 혼합하여 착색 감광성 수지 조성물을 수득한다.In each component of Table 1, it mixes previously so that the total amount of a pigment and a pigment dispersing agent may be 20 mass% with respect to the mixture with a pigment, a pigment dispersing agent, and a propylene glycol monomethyl ether acetate, and fully disperse | distributes a pigment using a bead mill The remaining components including the remaining amount of propylene glycol monomethyl ether acetate are added thereto and mixed to obtain a colored photosensitive resin composition.

착색 안료(D)C.I. 피그먼트 그린 36C.I. 피그먼트 옐로우 150Color Pigment (D) C.I. Pigment Green 36C.I. Pigment Yellow 150 7.17부3.07부Part 7.17 결합제 수지(A)벤질메타크릴레이트/메타크릴산 공중합체(질량 조성비 80/20, 폴리스티렌 환산 중량평균분자량: 35,000)Binder resin (A) benzyl methacrylate / methacrylic acid copolymer (mass composition ratio 80/20, polystyrene equivalent weight average molecular weight: 35,000) 4.55부Part 4.55 광중합성 단량체(B)디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트(분자량: 547)(KAYARAD DPHA, 제조원: 니혼카야쿠(주))디메틸올트리사이클로데칸디아크릴레이트(분자량: 304)(KAYARAD R-684, 제조원: 니혼카야쿠(주))Photopolymerizable monomer (B) dipentaerythritol hexaacrylate (molecular weight: 547) (KAYARAD DPHA, manufacturer: Nihon Kayaku Co., Ltd.) dimethylol tricyclodecane diacrylate (molecular weight: 304) (KAYARAD R-684, Manufacturer: Nihon Kayaku Co., Ltd. 1.70부0.57부Part 1.70 광중합 개시제(C)2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐비이미다졸(비이미다졸, 제조원: 쿠로가네카세이(주))4,4'-디(N,N-디에틸아미노)-벤조페논(EAB-F, 제조원: 호도가야가가쿠고교(주))펜타에리트리톨테트라키스티오프로피오네이트Photoinitiator (C) 2,2'-bis (2-chlorophenyl) -4,4 ', 5,5'- tetraphenylbiimidazole (biimidazole, a manufacturer: Kuroganekasei Co., Ltd.) 4,4' -Di (N, N-diethylamino) -benzophenone (EAB-F, manufacturer: Hodogaya Chemical Co., Ltd.) pentaerythritol tetrakistioplopionate 0.61부0.12부0.45부Part 0.61 Part 0.12 Part 0.45 용매(E)프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트Solvent (E) propylene glycol monomethyl ether acetate 79.00부Part 79.00 첨가제(F)안료 분산제(폴리에스테르계)스미-에폭시(Sumi-epoxy) ESCN-195XL(제조원: 스미또모 가가꾸 고교(주))Additive (F) Pigment Dispersant (Polyester) Sumi-epoxy ESCN-195XL (Manufacturer: Sumitomo Chemical Industries, Ltd.) 2.36부0.38부Part 2.36

2인치 각의 코닝사제 #7059 유리 기판을 중성 세제, 물 및 알콜로 순차적으로 세정한 후 건조시킨다. 이러한 유리 기판 위에, 위에서 제조한 감광성 수지액(표 1)을 스핀 피복한 다음, 클린오븐 중에서 100℃에서 3분 동안 예비베이킹한다. 냉각후, 이의 내식막 도포 기판과 석영 유리제 광마스크(투과율을 1 내지 100%의 범위에서 계단형으로 변화시키는 패턴과 1 내지 50μ의 라인/스페이스 패턴을 갖는다)와의 간격을 100㎛로 하고, 우시오덴키(주)제 초고압 수은 램프(형 번호: USH-250D)를 사용하여 대기 분위기하에 100mJ/㎠의 노광량으로 광 조사한다. 그 후, 비이온계 계면활성제 0.12%와 수산화칼륨 0.04%를 포함하는 수계 현상액에 상기 도막을 실온에서 소정 시간 동안 침지시켜 현상하고, 물로 세척한 후, 220℃에서 30분 동안 후베이킹하여 화소를 수득한다. 수득된 결과를 표 2에 기재한다. 수득된 화소 위에 오버코트를 통하지 않고 ITO 막을 형성한다. ITO 막의 형성은 아네르바(주)제 증착 장치(형 번호: SPF-530H)를 사용하며, 스퍼터링 온도 120℃, 증착 속도 50nm/분으로 3분 동안 ITO 스퍼터링한 후, 상압의 클린오븐 중에서 230℃에서 40분 동안 어닐 처리하여 ITO 막을 형성한다. 주사 전자현미경에 의한 화소 단면 관찰에 의해 ITO 막이 단선되어 있지 않음을 확인한다.Corning's # 7059 glass substrate, each 2 inches in length, was washed sequentially with neutral detergent, water, and alcohol and dried. On this glass substrate, the photosensitive resin liquid (Table 1) prepared above was spin-coated, and then prebaked for 3 minutes at 100 ° C in a clean oven. After cooling, the space between the resist coating substrate and the quartz glass photomask (having a step changing the transmittance stepwise in the range of 1 to 100% and a line / space pattern of 1 to 50 µ) was set to 100 µm, and Ushio Light is irradiated at an exposure dose of 100 mJ / cm 2 under an atmosphere using a Denki Corporation ultra-high pressure mercury lamp (type number: USH-250D). Thereafter, the coating film was immersed in an aqueous developer containing 0.12% of a nonionic surfactant and 0.04% of potassium hydroxide at room temperature for a predetermined time, developed with water, washed with water, and then backbaked at 220 ° C. for 30 minutes. To obtain. The results obtained are shown in Table 2. On the obtained pixel, an ITO film is formed without overcoat. The formation of the ITO film was carried out using an anerva deposition device (type No .: SPF-530H), sputtering at 120 ° C. for 3 minutes at a deposition rate of 50 nm / min, and then 230 ° C. in an atmospheric clean oven. Anneal for 40 minutes at to form an ITO film. By observing the pixel cross section by the scanning electron microscope, it is confirmed that the ITO film is not disconnected.

실시예 2Example 2

실시예 1에서, 디메틸올트리사이클로데칸디아크릴레이트를 네오펜틸글리콜디아크릴레이트(분자량: 212)로 변경하는 것 이외에는, 실시예 1과 동일한 조작을 실시한다. 수득된 결과를 표 2에 기재한다. 수득된 화소 위에 오버코트를 통하지 않고 형성된 ITO 막은 단선되어 있지 않았다.In Example 1, operation similar to Example 1 is performed except having changed dimethylol tricyclodecane diacrylate into neopentyl glycol diacrylate (molecular weight: 212). The results obtained are shown in Table 2. The ITO film formed without overcoat on the obtained pixel was not disconnected.

실시예 3Example 3

실시예 1에서, 디메틸올트리사이클로데칸디아크릴레이트를 비스페놀 A의 디글리시딜에테르화물의 아크릴산 개질물[제조원: 쿄에샤가가쿠(주); 에폭시에스테르 3000A; 분자량: 484)로 변경하는 것 이외에는, 실시예 1과 동일한 조작을 실시한다. 수득된 결과를 표 2에 기재한다. 수득된 화소 위에 오버코트를 통하지 않고, 형성된 ITO 막은 단선되어 있지 않다.In Example 1, dimethylol tricyclodecanediacrylate was converted to an acrylic acid modifier of diglycidyl etherate of bisphenol A [manufactured by Kyoeshi Chemical Co., Ltd .; Epoxy ester 3000A; The same operation as in Example 1 was carried out except that the molecular weight was changed to 484). The results obtained are shown in Table 2. Without overcoat on the obtained pixel, the formed ITO film is not disconnected.

비교예 1Comparative Example 1

실시예 1에서, 디메틸올트리사이클로데칸디아크릴레이트를 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트[KAYARAD DPHA, 제조원: 니혼카야쿠(주)]로 변경하는 것 이외에는, 실시예 1과 동일한 조작을 실시한다. 수득된 결과를 표 2에 기재한다. 수득된 화소 위에 오버코트를 통하지 않고 ITO 막을 형성하면, 주사 전자현미경에 의한 화소 단면 관찰에 의해, 역(逆) 테이퍼 부분에 ITO 막이 막으로 형성되지 않고, ITO 막이 단선되어 있다.In Example 1, operation similar to Example 1 is performed except changing dimethylol tricyclodecane diacrylate to dipentaerythritol hexaacrylate (KAYARAD DPHA, Nihon Kayaku Co., Ltd.). The results obtained are shown in Table 2. When the ITO film is formed on the obtained pixel without passing through an overcoat, the ITO film is not formed in the reverse tapered portion by the scanning electron microscope, and the ITO film is disconnected.

비교예 2Comparative Example 2

실시예 1에 있어서, 디메틸올트리사이클로데칸디아크릴레이트를 펜타에리트리톨테트라아크릴레이트로 변경하는 것 이외에는, 실시예 1과 동일한 조작을 실시한다. 수득된 결과를 표 2에 기재한다. 수득된 화소 위에 오버코트를 통하지 않고 ITO 막을 형성하면, 주사 전자현미경에 의한 화소 단면 관찰에 의해 역 테이퍼 부분에 ITO 막이 막으로 형성되지 않고, ITO 막이 단선되어 있다.In Example 1, operation similar to Example 1 is performed except changing dimethylol tricyclodecane diacrylate to pentaerythritol tetraacrylate. The results obtained are shown in Table 2. When the ITO film is formed on the obtained pixel without passing through the overcoat, the ITO film is not formed in the reverse tapered portion by the observation of the pixel cross section by the scanning electron microscope, and the ITO film is disconnected.

비교예 3Comparative Example 3

실시예 1에 있어서, 디메틸올트리사이클로데칸디아크릴레이트를 트리메틸올프로판트리아크릴레이트로 변경하는 것 이외에는, 실시예 1과 동일한 조작을 실시한다. 수득된 결과를 표 2에 기재한다. 수득된 화소 위에 오버코트를 통하지 않고, ITO 막을 형성하면, 주사 전자현미경에 의한 화소 단면 관찰에 의해 역 테이퍼부분에 ITO 막이 막으로 형성되지 않고, ITO 막이 단선되어 있다.In Example 1, operation similar to Example 1 is performed except changing dimethylol tricyclodecane diacrylate to trimethylol propane triacrylate. The results obtained are shown in Table 2. If an ITO film is formed on the obtained pixel without passing through an overcoat, the ITO film is not formed in the reverse tapered portion by the observation of the pixel cross section by the scanning electron microscope, and the ITO film is disconnected.

실시예 4Example 4

실시예 1에 있어서, 디메틸올트리사이클로데칸디아크릴레이트를 비스페놀 A의 디비닐에테르화물[BPA-DEVE; 제조원: 닛소마루젠케미칼(주); 분자량 368]로 변경하는 것 이외에는, 실시예 1과 동일한 조작을 실시한다. 수득된 결과를 표 3에 기재한다. 수득된 화소 위에 오버코트를 통하지 않고 형성된 ITO 막은 단선되어 있지 않다.In Example 1, dimethylol tricyclodecane diacrylate was used as the divinyl ether compound of bisphenol A [BPA-DEVE; Manufacturer: Nisso Maruzen Chemical Co., Ltd .; Except for changing to molecular weight 368, the same operation as in Example 1 is performed. The results obtained are shown in Table 3. The ITO film formed without overcoat on the obtained pixel is not disconnected.

실시예 5Example 5

실시예 4에 있어서, 비스페놀 A의 디비닐에테르화물을 하이드로퀴논의 디비닐에테르화물[HQ-DEVE; 제조원: 닛소마루젠케미칼(주)]로 변경하는 것 이외에는, 실시예 4와 동일한 조작을 실시한다. 수득된 결과를 표 3에 기재한다. 수득된 화소 위에 오버코트를 통하지 않고 형성된 ITO 막은 단선되어 있지 않다.In Example 4, the divinyl etherate of bisphenol A is divinyl etherate of hydroquinone [HQ-DEVE; Manufacture: Nisso Maruzen Chemical Co., Ltd.] The same operation as in Example 4 is performed. The results obtained are shown in Table 3. The ITO film formed without overcoat on the obtained pixel is not disconnected.

실시예 6Example 6

실시예 4에 있어서, 비스페놀 A의 디비닐에테르화물을 1,4-부탄디올의 디비닐에테르화물[부탄디올-1,4-디비닐 에테르, 제조원: 바스프(BASF)]로 변경하는 것 이외에는, 실시예 4와 동일한 조작을 실시한다. 수득된 결과를 표 3에 기재한다. 수득된 화소 위에 오버코트를 통하지 않고 형성된 ITO 막은 단선되어 있지 않다.Example 4 except having changed the divinyl etherate of bisphenol A into the divinyl etherate of 1, 4- butanediol [butanediol- 1, 4- divinyl ether, a BASF (manufacturer: BASF)]. Perform the same operation as in 4. The results obtained are shown in Table 3. The ITO film formed without overcoat on the obtained pixel is not disconnected.

실시예 1Example 1 실시예 2Example 2 실시예 3Example 3 비교예 1Comparative Example 1 비교예 2Comparative Example 2 비교예 3Comparative Example 3 감도*1(mJ/cm2)Sensitivity * 1 (mJ / cm 2 ) 4.84.8 9.09.0 6.06.0 2.52.5 2.52.5 2.52.5 패턴 형상*2Pattern shape * 2 ○○ ○○ ○○ ×× ×× ×× 종합 판정Total judgment ○○ ○○ ○○ ×× ×× ×× *1: 현상하더라도 표면 거칠음이 없는 패턴을 형성하기 위해 필요한 최저 필요 노광량을 나타낸다.*2: 노광량 30mJ/㎠로 노광시키고, 현상 및 후베이킹(220℃ ×20분) 후의 화소 단면을 주사 전자현미경으로 관찰한다(역 테이퍼 형상이 아닌 형상: 0; 역 테이퍼 형상: ×).* 1: The minimum required exposure amount necessary for forming a pattern with no surface roughness even when developed is shown. * 2: A cross section of the pixel after exposure and post-baking (220 DEG C x 20 minutes) is exposed at an exposure dose of 30 mJ / cm &lt; 2 &gt; (The shape which is not an inverse taper shape: 0; an inverse taper shape: x).

실시예 4Example 4 실시예 5Example 5 실시예 6Example 6 감도*1(mJ/cm2)Sensitivity * 1 (mJ / cm 2 ) 6.06.0 10.510.5 7.57.5 패턴 형상*2Pattern shape * 2 ○○ ○○ ○○ 종합 판정Total judgment ○○ ○○ ○○ *1: 현상하더라도 표면 거칠음이 없는 패턴을 형성하기 위해 필요한 최저 필요 노광량을 나타낸다.*2: 노광량 30mJ/㎠로 노광시키고, 현상 및 후베이킹(220℃ ×20분) 후의 화소 단면을 주사 전자현미경으로 관찰한다(역 테이퍼 형상이 아닌 형상: 0; 역 테이퍼 형상: ×).* 1: The minimum required exposure amount necessary for forming a pattern with no surface roughness even when developed is shown. * 2: A cross section of the pixel after exposure and post-baking (220 DEG C x 20 minutes) is exposed at an exposure dose of 30 mJ / cm &lt; 2 &gt; (The shape which is not an inverse taper shape: 0; an inverse taper shape: x).

표 2 및 수득된 결과로부터, 본 수지 조성물에 상응하는 실시예 1 내지 실시예 3의 착색 감광성 수지 조성물에서는, 고감도로 순 테이퍼 형상의 패턴이 수득되며, 후베이킹 후의 표면 평활성이 양호하다는 것을 알 수 있다. 한편, 비교예 1 내지 비교예 3의 착색 감광성 수지 조성물에서는, 감도는 양호하지만, 순 테이퍼 형상이 수득되지 않음을 알 수 있다.From Table 2 and the obtained results, it can be seen that in the colored photosensitive resin compositions of Examples 1 to 3 corresponding to the present resin composition, a net tapered pattern was obtained with high sensitivity, and the surface smoothness after postbaking was good. have. On the other hand, in the coloring photosensitive resin composition of the comparative examples 1 thru | or 3, although a sensitivity is favorable, it turns out that a net taper shape is not obtained.

또한, 표 3 및 수득된 결과로부터, 본 수지 조성물에 상응하는 실시예 4 내지 실시예 6의 착색 감광성 수지 조성물에서는, 순 테이퍼 형상의 패턴이 수득됨을 알 수 있다.In addition, from Table 3 and the obtained results, it can be seen that in the colored photosensitive resin composition of Examples 4 to 6 corresponding to the present resin composition, a net tapered pattern is obtained.

본 수지 조성물에 의해 수득되는 착색 화소는 순 테이퍼 형상으로 되기 때문에 바람직하며, 이러한 순 테이퍼 형상의 화소 위에 오버코트를 통하지 않고 직접 ITO 막을 형성하더라도 ITO 막이 단선되지 않는다. 따라서, 본 수지 조성물을 안료 분산 내식막으로서 사용하여 컬러 필터를 제작하는 경우, 생산성이 우수하며, 또한 고품질의 컬러 필터를 수득할 수 있다.Since the colored pixel obtained by this resin composition turns into a forward taper shape, even if an ITO film | membrane is formed directly on this pure tapered pixel pixel without overcoat, an ITO film | membrane does not disconnect. Therefore, when producing a color filter using this resin composition as a pigment dispersion resist, it is excellent in productivity and a high quality color filter can be obtained.

따라서, 본 발명의 착색 감광성 수지 조성물은 컬러 액정 표시 장치 또는 촬상 소자 등에 사용되는 착색 화상을 형성하기 위한 내식막에 적합한 착색 감광성 수지 조성물이다.Therefore, the coloring photosensitive resin composition of this invention is a coloring photosensitive resin composition suitable for the resist for forming the colored image used for a color liquid crystal display device, an imaging element, etc.

Claims (10)

(A) 결합제 수지, (B) 동일 분자 내에 2개의 (메트)아크릴기를 갖는 (메트)아크릴 단량체 및 동일 분자 내에 2개의 비닐에테르기를 갖는 비닐에테르 단량체로 이루어진 그룹으로부터 선택된 1종 이상의 단량체(b10) 및 동일 분자 내에 5개 이상의 (메트)아크릴기를 갖는 (메트)아크릴 단량체(b20)을 포함하는 광중합성 단량체, (C) 광중합 개시제, (D) 착색재 및 (E) 용매를 함유하는 착색 감광성 수지 조성물.(A) at least one monomer selected from the group consisting of a binder resin, (B) a (meth) acryl monomer having two (meth) acryl groups in the same molecule and a vinyl ether monomer having two vinylether groups in the same molecule (b10) And a photopolymerizable monomer comprising a (meth) acryl monomer (b20) having five or more (meth) acryl groups in the same molecule, a (C) photopolymerization initiator, (D) a coloring material and a (E) solvent. Composition. 제1항에 있어서, 단량체(b10) 및 단량체(b20)의 분자량이 1,000보다 작은 착색 감광성 수지 조성물.The coloring photosensitive resin composition of Claim 1 whose molecular weight of a monomer (b10) and a monomer (b20) is smaller than 1,000. 제1항 또는 제2항에 있어서, 단량체(b10) 및 단량체(b20)의 합계를 100질량부로 할 경우, 단량체(b10)의 양이 10 내지 90질량부인 착색 감광성 수지 조성물.The coloring photosensitive resin composition of Claim 1 or 2 whose quantity of a monomer (b10) is 10-90 mass parts when the sum total of a monomer (b10) and a monomer (b20) is 100 mass parts. 제1항 내지 제3항 중의 어느 한 항에 있어서, 광중합 개시제(C)가 트리아진 화합물, 아세토페논 화합물 및 비이미다졸 화합물로 이루어진 그룹으로부터 선택된 1종 이상을 포함하여 이루어진 광중합 개시제인 착색 감광성 수지 조성물.The coloring photosensitive resin of any one of Claims 1-3 whose photoinitiator (C) is a photoinitiator containing 1 or more types chosen from the group which consists of a triazine compound, an acetophenone compound, and a biimidazole compound. Composition. 제1항 내지 제4항 중의 어느 한 항에 있어서, 결합제 수지(A)가 불포화 카복실산으로부터 유도되는 구성 단위를 포함하는 중합체인 착색 감광성 수지 조성물.The coloring photosensitive resin composition of any one of Claims 1-4 whose binder resin (A) is a polymer containing the structural unit derived from unsaturated carboxylic acid. 제5항에 있어서, 결합제 수지(A)가 불포화 카복실산으로부터 유도되는 구성 단위와 (메트)아크릴레이트 화합물로부터 유도되는 구성 단위를 포함하는 공중합체인 착색 감광성 수지 조성물.The coloring photosensitive resin composition of Claim 5 whose binder resin (A) is a copolymer containing the structural unit derived from an unsaturated carboxylic acid, and the structural unit derived from a (meth) acrylate compound. 제1항 내지 제6항 중의 어느 한 항에 있어서, 광중합 개시 조제(C-1)을 추가로 함유하는 착색 감광성 수지 조성물.The coloring photosensitive resin composition of any one of Claims 1-6 which further contains a photoinitiation start adjuvant (C-1). 제1항 내지 제7항 중의 어느 한 항에 따르는 착색 감광성 수지 조성물을 기판 위에 도포하고, 도포된 착색 감광성 수지 조성물 층으로부터 휘발 성분을 제거하고, 광마스크를 통해 당해 층을 노광시키고 현상하는 패턴의 형성 방법.The pattern which applies the coloring photosensitive resin composition of any one of Claims 1-7 on a board | substrate, removes a volatile component from the applied coloring photosensitive resin composition layer, and exposes and develops this layer through a photomask. Forming method. 제8항에 따르는 방법으로 형성된 패턴을 포함하는 컬러 필터.A color filter comprising a pattern formed by the method according to claim 8. 제9항에 따르는 컬러 필터를 장착한 액정 표시 장치.A liquid crystal display device comprising the color filter according to claim 9.
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