KR20030091737A - 막두께 측정방법 및 장치 - Google Patents
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Abstract
Description
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- 막 상에 단일파장 광을 조사하는 단계와;표면과 후면에 의하여 반사되는 광들의 간섭광의 세기를 측정하는 단계와;단일파장 광의 파수가 변동시켜 가면서 간섭광의 세기를 그려서 측정 스펙트럼을 취득하는 단계와;미리 정해져 있는 함수를 이용하여 상정된 두께에 기초하여 근사 스펙트럼을 생성하는 단계와;측정 스펙트럼과 근사 스펙트럼 사이의 오차를 계산하는 단계; 및상정된 두께를 변화시켜 가면서 오차가 최소가 되는 상정된 두께의 값을 검출하고, 그 값을 막두께로 결정하는 단계를 포함하는 막두께 측정방법.
- 제1항에 있어서,근사 스펙트럼은 여러 개의 기저 스펙트럼들의 선형 합에 의하여 생성되고, 상기 기저 스펙트럼들은 상정된 두께의 함수인 것을 특징으로 하는 막두께 측정방법.
- 제2항에 있어서,기저 스펙트럼들은 각각 다음의함수에 의하여 표현됨을 특징으로 하는 막두께 측정방법.
- 제1항에 있어서,막은 여러 개의 두께를 가지고;여러 개의 두께는 근사 스펙트럼을 생성하는 단계에서 상정되며;오차 계산은 여러 개의 상정된 두께의 모든 조합에 대하여 수행되고; 또한막두께는 오차가 극소일 때의 값에 의하여 결정됨을 특징으로 하는 막두께 측정방법.
- 제4항에 있어서,근사 스펙트럼은 여러 개의 기저 스펙트럼의 선형 합에 의하여 생성되는데, 여기서 기저 스펙트럼은 상정된 두께의 함수인 것을 특징으로 하는 막두께 측정방법.
- 제5항에 있어서,기저 스펙트럼들은 각각 다음의함수에 의하여 표현됨을 특징으로 하는 막두께 측정방법.
- 막 상에 단일파장 광을 조사하는 수단과;막의 표면과 후면에 의하여 반사되는 광들의 간섭광의 세기를 측정하는 포토디텍터와;단일파장 광의 파수를 변동시켜 가면서 간섭광의 세기를 그려서 측정 스펙트럼을 생성하는 수단과;미리 정해져 있는 함수를 이용하여 상정된 두께에 기초하여 근사 스펙트럼을 생성하는 수단과;측정 스펙트럼과 근사 스펙트럼 사이의 오차를 계산하는 수단; 및상정된 두께를 변화시켜 가면서 오차가 최소가 되는 상정된 두께의 값을 검출하고, 그 값을 막두께로 결정하는 수단으로 구성되는 막두께 측정장치.
- 제7항에 있어서,근사 스펙트럼 생성 수단은 여러 개의 기저 스펙트럼들의 선형 합에 의하여 근사 스펙트럼을 생성하고, 상기 기저 스펙트럼들은 상정된 두께의 함수인 것을 특징으로 하는 막두께 측정장치.
- 제8항에 있어서,기저 스펙트럼들은 각각 다음의함수에 의하여 표현됨을 특징으로 하는 막두께 측정장치.
- 제7항에 있어서,근사 스펙트럼 생성 수단은 여러 개의 상정된 두께를 이용하여 근사 스펙트럼을 생성하고; 또한오차 계산 수단은 여러 개의 상정된 두께의 모든 조합에 대하여 오차 계산을 수행하고; 또한두께 결정 수단은 오차가 극소일 때의 상정된 두께의 조합으로써 두께를 결정함을 특징으로 하는 막두께 측정장치.
- 제10항에 있어서,근사 스펙트럼은 여러 개의 기저 스펙트럼들의 선형 합에 의하여 생성되고, 상기 기저 스펙트럼들은 상정된 두께의 함수인 것을 특징으로 하는 막두께 측정장치.
- 제11항에 있어서,기저 스펙트럼들은 각각 다음의함수에 의하여 표현됨을 특징으로 하는 막두께 측정장치.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JPJP-P-2002-00147107 | 2002-05-22 | ||
JP2002147107A JP3928478B2 (ja) | 2002-05-22 | 2002-05-22 | 膜厚測定方法及び膜厚測定装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20030091737A true KR20030091737A (ko) | 2003-12-03 |
KR100779128B1 KR100779128B1 (ko) | 2007-11-23 |
Family
ID=29545162
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020030032445A KR100779128B1 (ko) | 2002-05-22 | 2003-05-22 | 막두께 측정방법 및 장치 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7002693B2 (ko) |
JP (1) | JP3928478B2 (ko) |
KR (1) | KR100779128B1 (ko) |
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KR102235962B1 (ko) | 2020-07-29 | 2021-04-05 | 주식회사 지디에스이엔지 | 가스누설 감지기의 시스템 및 가스누설 감지기의 감지오류를 최소화하는 방법 |
KR102235964B1 (ko) | 2020-07-29 | 2021-04-05 | 주식회사 지디에스이엔지 | 가스누설 감지 장치 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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CN103363909B (zh) * | 2012-03-26 | 2018-01-02 | 上海华虹宏力半导体制造有限公司 | 一种基于反射光谱拟合的快速钴硅化合物质量检测方法 |
US9581433B2 (en) | 2013-12-11 | 2017-02-28 | Honeywell Asca Inc. | Caliper sensor and method using mid-infrared interferometry |
KR102497215B1 (ko) | 2016-05-16 | 2023-02-07 | 삼성전자 주식회사 | 계측 설비의 스펙트럼 보정방법, 및 그 스펙트럼 보정방법을 기반으로 하는 소자의 계측방법과 제조방법 |
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JP7245801B2 (ja) | 2020-02-06 | 2023-03-24 | 株式会社日立ハイテク | 膜厚検査装置 |
WO2021184175A1 (en) | 2020-03-17 | 2021-09-23 | Yangtze Memory Technologies Co., Ltd. | Methods and systems for semiconductor structure thickness measurement |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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2002
- 2002-05-22 JP JP2002147107A patent/JP3928478B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
2003
- 2003-05-19 US US10/440,198 patent/US7002693B2/en not_active Expired - Lifetime
- 2003-05-22 KR KR1020030032445A patent/KR100779128B1/ko active IP Right Grant
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KR102235964B1 (ko) | 2020-07-29 | 2021-04-05 | 주식회사 지디에스이엔지 | 가스누설 감지 장치 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP3928478B2 (ja) | 2007-06-13 |
US7002693B2 (en) | 2006-02-21 |
KR100779128B1 (ko) | 2007-11-23 |
US20030218758A1 (en) | 2003-11-27 |
JP2003344024A (ja) | 2003-12-03 |
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A201 | Request for examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
AMND | Amendment | ||
E601 | Decision to refuse application | ||
J201 | Request for trial against refusal decision | ||
AMND | Amendment | ||
E801 | Decision on dismissal of amendment | ||
B601 | Maintenance of original decision after re-examination before a trial | ||
S901 | Examination by remand of revocation | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
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FPAY | Annual fee payment |
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FPAY | Annual fee payment |
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FPAY | Annual fee payment |
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FPAY | Annual fee payment |
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FPAY | Annual fee payment |
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FPAY | Annual fee payment |
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