KR20020063480A - 두발 처리 촉진기 - Google Patents

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KR20020063480A
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가부시키가이샤 오히로 세이사쿠쇼
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Abstract

두발의 머리털이 난 언저리 부분 전체에 균등하게 열을 조사할 수 있는 두발 처리 촉진기를 제공한다. 두발의 머리 정상부에 열을 조사하는 대략 반원 원호상의 머리정상용 제1 히터 유닛(1)과, 머리털이 난 언저리 부분에 열을 조사하는 대략 반원 원호상의 언저리 부분용 제2 및 제3 히터 유닛(2, 3)을 구비하고, 본체 지지부(5)에 고정된 머리정상용 제1 히터 유닛(1)의 양 선단 부분에 언저리 부분용 제2 및 제3 히터 유닛(2, 3)의 각 선단 부분을 회전축(4a, 4b)으로 연결하고, 언저리 부분용 제2 및 제3 히터 유닛(2, 3)은 소정의 범위 내에서 회전가능하게 하였다. 또, 두발 처리 촉진기를 스탠드(10)의 선단 부분에 삽입한 채 바닥면 상에 설치하여 이동 가능하게 하였다.

Description

두발 처리 촉진기 {HAIR PROCESSING ACCELERATOR}
본 발명은, 이용원이나 미용실에서 두발의 파마, 염색, 건조 등의 처리를 할 때에, 두발에 열을 조사하여 이러한 처리를 촉진시키는 두발 처리 촉진기에 관한 것이다.
종래부터, 이용원이나 미용실에서 두발에 대하여 파마나 염색이나 건조 등의 처리를 하는 경우, 히터 등으로 두발에 열을 조사하여 이러한 처리의 진행을 촉진하고 있다. 그리고 두발에 열을 조사하는 장치로는, 일본국 특공평4-644호에 기재되어 있는 것으로서 링형 히터가 두부 주위를 회전하면서 열을 조사하여 두발을 가온하는 모발 처리 촉진 장치나, 일본국 특공평7-32729호에 기재되어 있는 장치로서 두부 양측면, 후부, 머리 정상부 등 각 부분에 열을 조사하는 분할된 복수의 히터가 두발을 가온하는 모발처리촉진제어장치 등이 있다.
그러나 두발에 대하여 파마나 염색의 처리를 하는 경우, 이 처리를 촉진하기 위해서는, 특히 머리털이 난 언저리 부분에 대하여 열을 조사할 필요가 있다. 이 점에 관해서, 일본국 특공평4-644호에 기재되어 있는 종래의 모발 처리 촉진 장치는, 링형 히터가 축을 중심으로 하여 편심 회전 운동을 하고 두부 주위를 회전하면서 두발을 가온하는 것이지, 두발 가장자리의 언저리 부분까지 균등하게 열이 조사되는 것이 아니었다. 또, 일본국 특공평7-32729호에 기재되어 있는 모발 처리 촉진 제어 장치에서도 마찬가지로, 두부 양측면, 후부에 있는 히터로는 머리털이 난 언저리 부분까지 균등하게 열을 조사하기에는 충분하지 않다. 또한, 일본국 특공평7-32729호에서는, 두발을 둘러싸도록 복수의 히터가 설치되어 광범위한 설치 공간이 필요하므로, 좁은 이용원이나 미용실에서는 수납할 수 없는 문제도 있다.
본 발명은 이러한 문제를 고려하여 이루어진 것으로, 두발 전체의 머리털이 난 언저리 부분에 균등하게 열을 조사하고, 수납시에는 설치 공간이 작아지는 두발 처리 촉진기를 제공하는 것을 과제로 한다.
도 1은 본 발명의 제1 실시예에 따른 사용시의 두발 처리 촉진기의 정면사시도.
도 2는 본 발명의 제1 실시예에 따른 사용시의 두발 처리 촉진기의 배면사시도.
도 3은 본 발명의 제1 실시예에 따른 사용시의 두발 처리 촉진기의 단면도.
도 4는 본 발명의 제1 실시예에 따른 사용시의 두발 처리 촉진기의 A-A'단면도.
도 5는 본 발명의 제1 실시예에 따른 두발 처리 촉진기의 언저리 부분용 제2 및 제3 히터 유닛을 회전시켜 동일 평면 상에서 대략 원 형상으로 했을 때의 정면도.
도 6은 본 발명의 제1 실시예에 따라 수납 상태에 있는 두발 처리 촉진기의 정면사시도.
도 7은 본 발명의 제1 실시예에 따른 두발 처리 촉진기의 히터 유닛의 위치 조정시의 측면도.
이러한 과제를 해결하기 위하여 본 발명의 제1항의 두발 처리 촉진기는, 본체 지지부에 고정된 두발의 머리 정상 부분에 열을 조사하는 대략 반원 원호상의 머리정상용 제1 히터를 가지는 머리정상용 제1 히터 유닛과, 그 양 선단 부분 각각이 상기 머리정상용 제1 히터 유닛의 각 선단 부분에 회전가능하게 연결된 두발의 좌우측면의 머리털이 난 언저리 부분에 열을 조사하는 대략 반원 원호상의 언저리 부분용 제2 및 제3 히터를 가지는 언저리 부분용 제2 및 제3 히터 유닛을 구비한다.
또, 본 발명의 제2항의 두발 처리 촉진기는, 제1항의 두발 처리 촉진기로서, 두발 처리 촉진기 본체가 상기 두발 처리 촉진기 본체에 연결된 지지 막대를 통하여 스탠드의 선단부에 삽입되고, 스탠드와 함께 바닥면을 이동할 수 있도록 한다.
또, 본 발명의 제3항의 두발 처리 촉진기는, 제2항의 두발 처리 촉진기로서, 두발 처리 촉진기 본체가 지지 막대에 대하여 지지축을 중심으로 전후로 경사 이동 가능하도록 하고, 지지축의 회전을 잠금으로써 두발 처리 촉진기의 전후 경사 이동 위치를 고정 가능하도록 한 것이다.
또, 본 발명의 제4항의 두발 처리 촉진기는, 제1항 내지 제3항 중 어느 하나의 두발 처리 촉진기로서, 언저리 부분용 제2 및 제3 히터 유닛이, 제2 및 제3 히터 유닛이 상기 머리정상용 제1 히터 유닛에 대하여 각각 대략 45도를 이루는 면 내에 있는 상태와, 제2 및 제3 히터 유닛이 동일 평면 상에 위치하여 대략 원 형상을 만드는 상태의 사이에서 각각 회전가능하고, 회전가능 범위 내의 원하는 고정 위치에서 각각 두발의 좌우측면에 대하여 열을 조사하도록 한 것이다.
또, 본 발명의 제5항의 두발 처리 촉진기는, 제4항의 두발 처리 촉진기로서, 언저리 부분용 제2 및 제3 히터 유닛이, 제2 및 제3 히터 유닛이 상기 머리정상용 제1 히터 유닛에 대하여 대략 45도를 이루는 면 내에 있는 상태로부터, 제2 및 제3 히터 유닛이 제1 히터 유닛이 위치하는 면과 평행하고 또한 서로 평행한 평면상에 위치하는 상태로 회전하여, 수납 상태로 될 수 있다.
(제1 실시예)
이하, 도 1 내지 도 7을 이용하여 본 제1 실시예에 따른 두발 처리 촉진기에 대해 설명한다.
먼저, 도 1 내지 도 3을 이용하여 본 제1 실시예에서의 두발 처리 촉진기의 구조에 대하여 설명한다. 도 1은 본 제1 실시예에 따라 사용 상태에 있는 두발 처리 촉진기의 정면사시도이며, 도 2는 그 배면사시도, 도 3은 그 두발 처리부의 단면도이다.
도면에서, 본 제1 실시예의 두발 처리 촉진기는, 두발의 머리 정상부에 열을 조사하는 머리정상용 제1 히터 유닛(1)의 양측에 언저리 부분용 제2 및 제3 히터유닛(2, 3)을 설치하여 이루어지는 두발 처리부(20)를 가진다. 제2 및 제3 히터 유닛(2, 3)은 회전축(4a, 4b)을 중심으로 머리정상용 제1 히터 유닛(1)에 대하여 소정의 범위 내에서 회전가능하게 연결되어 있으며 두발의 좌우 측면의 언저리 부분에 열을 조사한다. 두발 처리부(20)는 지지 막대(9)를 통하여 스탠드(10)의 선단에 삽입되고, 이것을 바닥면 상의 임의의 위치에 설치한다.
또, 두발 처리부(20)는 상기 지지 막대(9)에 대하여 지지축(6)을 중심으로 전후로 경사 이동시킬 수 있는 것으로, 지지축 잠금 브래킷(8)에 고정된 손잡이(7)를 상방으로 들어 올려 지지축(6)이 회전하지 않도록 잠금으로써, 두발 처리부(20)의 전후경사 이동 위치를 고정한다.
이하, 도 3 내지 도 6을 이용하여 두발 처리부(20)의 각 부분에 대하여 상세하게 설명한다. 도 4는 도 1의 두발 처리부의 A-A'선 단면도이며, 도 5는 본 제1 실시예에 따른 두발 처리 촉진기의 언저리 부분용 제2 및 제3 히터 유닛을 회전시켜 대략 원 형상으로 하였을 때의 두발 처리부의 평면도이며, 도 6은 본 제1 실시예에서의 두발 처리 촉진기를 수납상태로 하였을 때의 두발 처리부의 정면사시도이다.
도 4에서, 각 히터 유닛(1, 2, 3)은, 두발에 열을 조사하는 히터(11, 12, 12), 그 히터의 열이 더욱 광범위하게 도달하도록 하는 반사판(14a, 14b, 14c), 히터(11, 12, 13) 및 반사판(14a, 14b, 14c)의 프레임인 히터 커버(19a, 19b, 19c)로 이루어지며, 도 3에 도시한 바와 같이 회전축(4a, 4b)으로 연결되어 있다.
먼저, 각 히터 유닛의 연결 부분에 대해 설명한다. 도 3에서, 17a 및 17b는언저리 부분용 제2 히터 유닛(12)의 양 선단 부분에 설치되어 있는 제1 회전 브래킷이고, 18a 및 18b는 언저리 부분용 제3 히터 유닛(13)의 양 선단 부분에 설치되어 있는 제2 회전 브래킷이며, 제1 및 제2 회전 브래킷(17a, 17b, 18a, 18b)이 맞물려 양쪽 히터 유닛(2, 3)을 연결한다. 회전축(4a, 4b)은 회전 브래킷(17a, 17b, 18a, 18b)의 중심축으로서 설치되고, 회전축(4a, 4b)의 선단 부분에는 제1 및 제2 회전 브래킷(17a, 17b, 18a, 18b)을 스토퍼(15a, 15b)로 밀어 위치를 고정하는 용수철형의 와셔(16a, 16b)가 설치되어 있다. 양쪽 히터 유닛(2, 3)은 머리정상용 제1 히터 유닛(1)에 대하여 소정의 범위에서 회전가능하게 연결되어 있지만, 그 회전가능한 범위는, 도 1 및 도 2에 나타낸 바와 같이 양쪽 언저리 부분용 히터 유닛(2, 3)이 머리정상용 제1 히터 유닛(1)에 대하여 대략 45도를 이루는 면 내에 있는 상태로부터, 도 5에 나타낸 바와 같이, 양쪽 히터 유닛(2, 3)이 동일 평면 상에 위치하여 대략 원 형상을 만드는 상태까지의 사이의 범위이며, 양쪽 히터 유닛(2, 3)은 회전가능 범위 내의 원하는 위치에서 두발에 대하여 열을 조사한다. 또한, 언저리 부분용 제2 및 제3 히터 유닛(2, 3)을, 도 5에 나타낸 바와 같이 양쪽 언저리 부분용 히터 유닛(2, 3)이 동일 평면상에 위치하여 대략 원 형상을 만드는 상태로부터, 도 6에 나타낸 바와 같이 양쪽 히터 유닛(2, 3)이 머리정상용 제1 히터 유닛(1)과 평행하고 또한 서로 평행한 평면상에 위치하는 상태로 회전시킴으로써 본 발명의 두발 처리 촉진기를 수납 상태로 할 수 있다.
다음에, 두발 처리부(20)와 지지 막대(9)의 연결 부분에 대해 설명한다. 도 4에서, 지지축(6)에는 두발 처리부(20)의 섀시(92, 93) 중 지지축 측 섀시(92)와지지축 잠금 볼트(81)가 고정되어 있고, 지지축 잠금 볼트(81)가 적절한 세기로 단단히 조이고 있는 지지축 잠금 브래킷(8)에는 손잡이(7)가 고정되어 있다. 지지 막대(9)는 내부에 스프링(91)을 갖추고 있으며, 스프링(91)의 한쪽 끝은 지지 막대(9)에, 다른 쪽 끝은 지지축(6)에 고정되어 있다. 이 스프링(91)은 스프링의 반발력으로 섀시(92)가 고정되어 있는 지지축(6)을 바깥쪽으로 밀어내고, 이로 상기 지지축(6)에 고정되어 있는 지지축 잠금 볼트(81)가 섀시(93) 쪽으로 끌려 오도록 하여 지지 막대(9)에 대하여 두발 처리부(20)의 섀시(92, 93)를 누름으로써, 두발 처리부(20)가 전방으로 쓰러지는 것을 방지한다. 또, 두발 처리부(20)를 지지축(6)에 대하여 전후로 경사 이동시킨 후에 그 위치에서 움직이지 않도록 잠그는 경우, 손잡이(7)를 위쪽으로 들어 올리면, 지지축 잠금 브래킷(8)이 지지축 볼트(81)에 더욱 단단히 조여지고, 이로 인해 지지축 잠금 브래킷(8)과 지지축(6)이 각각 섀시(93, 92) 측에 단단히 조여지고, 그 마찰력에 의해 두발 처리부(20)의 위치를 잠글 수 있다.
또 본체 지지부(5)에는, 도 2에 도시한 바와 같은 본 두발 처리 촉진기의 조작반(50)이 장착되어 있다. 조작반(50) 상의 각 스위치에 대해 설명하면, 51은 열을 조사하는 시간을 설정하는 타이머 설정용 스위치, 52는 서비스를 받고 있는 사람이 서비스 내용을 선택하는 모드 설정용 스위치, 53은 서비스를 받는 사람의 두발에 대하여 열 조사를 시작 또는 정지시키는 시작/정지(START/STOP) 스위치, 54는 히터의 온도를 설정하는 온도 설정용 스위치, 55는 두발 처리 촉진기의 전원을 넣는 전원 ON/OFF 스위치이다.
다음에, 도 7을 이용하여, 앞서 설명한 바와 같은 구조를 가지는 본 실시예에 따른 두발 처리 촉진기를 사용하여, 서비스를 받는 사람의 두발에 열을 조사할 때의 동작에 대해 설명한다. 도 7(a)는 본 실시예에 따른 두발 처리 촉진기의 두발 처리부(20)의 각 히터 유닛 위치를 조정하기 전의 측면도이며, 도 7(b)는 본 실시예에 따른 두발 처리 촉진기서 두발 처리부(20)의 위치를 조정할 때의 측면도이며, 도 7(c)는 본 실시예에 따른 두발 처리 촉진기에서 언저리 부분용 제2 및 제3 히터 유닛(2, 3)의 위치를 조정할 때의 측면도이다.
먼저, 미용사(도시하지 않음)는 도 7(a)에 나타낸 본 발명에 따른 두발 처리 촉진기의 두발 처리부(20)가 상방 유지 위치 (Y0)에 있는 두발 처리 촉진기를 이미용 의자에 앉아 서비스를 받는 사람(도시하지 않음)의 뒤에 설치한다.
그런 다음에, 미용사는 도 7(a)의 상방 유지 위치(Y0)에 있는 상기 두발 처리부(20)를 도 7(b)의 원하는 위치인 실선 위치(Y1)까지 경사 이동한다.
여기서, 그 구체적인 경사 이동 동작에 대해 설명하면, 두발 처리부(20)를 도 7(a)의 위치(Y0)로부터 도 7(b)의 실선 위치(Y1)까지 이동하는 경우, 먼저, 미용사는 손잡이(7)를 도 7(a)의 잠금 위치로부터 해제 위치로 내려서 두발 처리부(20)의 잠금을 해제한다. 다음에, 미용사는 서비스를 받는 사람의 머리의 위치에 해당하는 도 7(b)의 실선위치(Y1)까지 두발 처리부(20)를 앞으로 경사 이동시켜서 실선위치(Y1)에 도달했을 때, 손잡이(7)를 잠금 위치로 올려 두발 처리부(20)의 경사 이동 위치를 고정한다.
이와 같이 하여, 두발 처리부(20)의 위치를 고정한 후, 미용사는, 도 7(c)의이점쇄선 위치(y1)에 있는 언저리 부분용 제2 및 제3 히터 유닛(2, 3)이 실선 위치(y2)에 위치하도록, 양쪽 히터 유닛(2, 3)을 회전축(4)을 중심으로 회전한다.
구체적인 회전 동작에 대해 설명하면, 언저리 부분용 제2 및 제3 히터 유닛을 도 7(c)의 이점쇄선 위치(y1)로부터 실선 위치(y2)로 이동하는 경우, 우선 미용사는 도 7(c)의 이점쇄선 위치(y1)에 와셔(16)로 고정되어 있는 제2 및 제3 히터 유닛(2, 3)을 손으로 들어 올리면서 회전한다. 그리고 도 7(c)의 실선 위치(y2)까지 이동시키면 손을 떼고, 양쪽 히터 유닛(2, 3)을 그 위치(y2)에서 고정한다.
이상과 같이 하여, 두발 처리부(20)와 양쪽 언저리 부분용 히터 유닛(2, 3)의 위치를 조정한 후, 미용사는 본 발명의 두발 처리 촉진기에 전원을 연결하고, 조작반(50) 상의 전원 ON/OFF 스위치(55)를 눌러서 두발 처리 촉진기에 전원을 넣어, 서비스를 받는 사람이 받고 있는 서비스 내용, 예를 들면 두발의 파마나 염색, 또는 트리트먼트(treatment) 등을 모드 설정용 스위치(52)로 선택한다. 이 모드 설정용 스위치(52)는, 예를 들면 스위치(52)로 서비스 내용이 파마인 것을 선택하면, 파마 처리의 진행을 촉진시키는 데 적당한 히터의 온도나 열 조사 시간이 자동으로 설정되도록 되어 있다.
그리고 전술한 바와 같이 히터의 온도나 조사 시간의 설정을 종료한 후, 미용사는 시작/정지(START/STOP) 스위치(53)를 눌러, 서비스를 받는 사람의 두발에 대한 열 조사를 개시한다.
두발 처리 촉진기의 히터에 의해, 서비스를 받는 사람의 두발에 열이 조사되기 시작하여, 서비스를 받는 사람이 그 뜨거움을 견디지 못하고 이를 미용사에게호소한 경우, 미용사는 온도 설정용 스위치(54)를 눌러 히터의 온도를 서비스를 받는 사람이 바라는 온도가 될 때까지 내린다. 또, 히터의 온도를 내림에 따라, 열의 조사 시간을 길게 하여야 하는 경우, 미용사는 타이머 설정용 스위치(51)를 눌러 시간을 연장한다. 이와 같이, 모드 설정용 스위치(52)로 설정된 온도나 조사 시간 이외의 온도나 시간도, 미용사가 온도 설정용 스위치(54)나 타이머 설정용 스위치(51)를 눌러 설정할 수 있다.
설정 시간이 경과하면, 두발 처리 촉진기의 히터가 자동적으로 꺼지고 이에 따라, 서비스를 받는 사람의 두발에 대한 열의 조사가 종료한다. 그 후, 미용사는 전원 ON/OFF 스위치(55)를 눌러, 두발 처리 촉진기의 전원을 차단하고 두발 처리부(20)를 다시 상방 유지 위치(YO)로 회전한 후, 두발 처리 촉진기를 서비스를 받는 사람의 뒤로부터 서비스를 행할 때에 방해가 되지 않는 별도의 장소로 이동한다.
또, 이용원이나 미용실의 영업을 종료하여 본 두발 처리 촉진기를 수납하는 경우에는, 언저리 부분용 제2 및 제3 히터 유닛(2, 3)을 도 7(c)에 나타낸 실선 위치(y2)로부터 도 6에 나타낸 머리정상용 제1 히터 유닛(1)이 위치하는 면과 평행한 면 상에 각각이 위치하는 상태까지 이동시켜서 본 발명의 두발 처리 촉진기를 설치 공간을 작게 한 수납 상태로 할 수 있다.
이상과 같이, 본 실시예에서의 두발 처리 촉진기는 서비스를 받는 사람의 두발의 머리 정상부분에 열을 조사하는 머리정상용 제1 히터 유닛(1)의 양측에, 두발의 좌우측면에 열을 조사하는 언저리 부분용 제2 및 제3 히터 유닛(2, 3)을 갖추고, 양쪽 언저리 부분용 히터 유닛(2, 3)을 소정의 범위에서 회전가능하게 하였으며, 두발 처리부(20)도 지지축(6)을 중심으로 전후로 회전가능하게 했기 때문에, 미용사가 서비스를 받는 사람의 머리의 위치에 맞도록 각 히터(11, 12, 13)의 위치를 조정할 수 있고, 서비스를 받는 사람의 두발에 대하여 파마나 염색 등을 할 때에 머리털이 난 언저리 부분 전체에 대하여 균등하게 열을 조사할 수 있다.
또, 본 실시예에 따르면, 스탠드(10)의 선단에 두발 처리부(20)를 삽입하여 바닥면 상에 설치하도록 했기 때문에, 본 발명의 두발 처리 촉진기를 임의의 위치에 설치할 수 있다.
또, 본 실시예에서의 두발 처리 촉진기는, 작업종료 후 언저리 부분용 제2 및 제3 히터 유닛(2, 3)이 회전축(4a, 4b)을 중심으로 회전하여 머리정상용 제1 히터 유닛(1)의 위치하는 면과 평행이고, 양쪽 언저리 부분용 히터 유닛(2, 3)이 서로 평행한 평면 상에 위치하는 수납 상태로 될 수 있기 때문에, 본 발명의 두발 처리 촉진기의 설치 면적을 작게 하고, 좁은 이용원이나 미용실이라도 수납 장소에 곤란을 겪지 않는 효과가 있다.
제1항의 두발 처리 촉진기에 따르면, 본체 지지부에 고정된 두발의 머리 정상 부분에 열을 조사하는 대략 반원 원호상의 머리정상용 제1 히터를 가지는 머리정상용 제1 히터 유닛과, 그 양 선단 부분 각각이 머리정상용 제1 히터 유닛의 각 선단 부분에 회전가능하게 연결되어 두발의 좌우 측면의 언저리 부분에 열을 조사하는 대략 반원 원호상의 언저리 부분용 제2 및 제3 히터를 가지는 언저리 부분용제2 및 제3 히터 유닛을 구비하도록 하였기 때문에, 서비스를 받는 사람의 머리털이 난 언저리 부분 전체에 열을 조사할 수 있다.
또, 제2항의 두발 처리 촉진기에 따르면, 제1항의 두발 처리 촉진기로서, 두발 처리 촉진기 본체가 두발 처리 촉진기 본체에 연결된 지지 막대를 통하여 스탠드의 선단부에 삽입되고, 스탠드와 함께 바닥면을 이동할 수 있도록 하였기 때문에, 본 발명의 두발 처리 촉진기를 임의의 위치에 설치할 수 있다.
또, 제3항의 두발 처리 촉진기에 따르면, 제2항의 두발 처리 촉진기로서, 두발 처리 촉진기 본체를 상기 지지 막대에 대하여 지지축을 중심으로 전후로 경사 이동 가능하고, 지지축의 회전을 잠금으로써, 두발 처리 촉진기의 전후경사 이동위치를 고정할 수 있도록 하였기 때문에, 서비스를 받는 사람의 머리 위치에 맞추어 본 발명의 두발 처리 촉진기 본체를 전후로 이동시키고, 서비스를 받는 사람의 두발의 머리 정상부분에 열을 충분히 조사할 수 있다.
또, 제4항의 두발 처리 촉진기에 따르면, 제1항 내지 제3항 중 어느 하나의 두발 처리 촉진기로서, 언저리 부분용 제2 및 제3 히터 유닛은, 언저리 부분용 제2 및 제3 히터 유닛이 머리정상용 제1 히터 유닛에 대하여 각각 대략 45도를 이루는 면 내에 있는 상태와, 언저리 부분용 제2 및 제3 히터 유닛이 동일 평면 상에 위치하여 대략 원 형상을 만드는 상태의 사이에서 각각 회전가능하고, 회전가능 범위 내의 원하는 고정 위치에서 각각 두발의 좌우 측면에 대하여 열을 조사하도록 했기 때문에, 서비스를 받는 사람의 머리의 위치에 맞추어 양쪽 언저리 부분용 히터위치를 조정하여, 서비스를 받는 사람의 머리털이 난 언저리 부분에 균일하게 열을 조사할 수 있다.
또, 제5항의 두발 처리 촉진기에 따르면, 제4항의 두발 처리 촉진기로서, 언저리 부분용 제2 및 제3 히터 유닛은, 제2 및 제3 히터 유닛이 머리정상용 제1 히터 유닛에 대하여 대략 45도를 이루는 면 내에 있는 상태로부터, 제2 및 제3 히터 유닛이 머리정상용 제1 히터 유닛이 위치하는 면과 평행하고 또한 서로 평행한 평면상에 위치하는 상태로 회전되어 수납 상태가 될 수 있도록 하였기 때문에, 두발 처리 촉진기의 설치 공간을 작게 하고, 본 발명의 두발 처리 촉진기를 수납할 때 장소를 차지하지 않도록 할 수 있다.

Claims (5)

  1. 본체 지지부에 고정되어 두발의 머리 정상부분에 열을 조사하는 대략 반원 원호상의 머리정상용 제1 히터를 가지는 머리정상용 제1 히터 유닛과,
    그 양 선단 부분 각각이 상기 제1 히터 유닛의 각 선단 부분에 회전가능하게 연결되어 상기 두발의 좌우 측면의 머리털이 난 언저리 부분에 열을 조사하는 대략 반원 원호상의 언저리 부분용 제2 및 제3 히터를 가지는 언저리 부분용 제2 및 제3 히터 유닛
    을 포함하는 두발 처리 촉진기.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 두발 처리 촉진기의 본체가 상기 두발 처리 촉진기 본체에 연결된 지지 막대를 통하여 스탠드의 선단부에 삽입되고, 상기 스탠드와 함께 바닥면 상을 이동할 수 있는 두발 처리 촉진기.
  3. 제2항에 있어서,
    상기 두발 처리 촉진기의 본체가 지지축을 중심으로 상기 지지 막대에 대하여 전후로 경사 이동 가능하고, 상기 지지축의 회전을 잠금으로써 상기 두발 처리 촉진기의 전후 경사 이동 위치를 고정할 수 있는 두발 처리 촉진기.
  4. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 제2 및 제3 히터 유닛은,
    상기 제2 및 제3 히터 유닛이 상기 제1 히터 유닛에 대하여 각각 대략 45도를 이루는 면 내에 있는 상태와, 상기 제2 및 제3 히터 유닛이 동일 평면 상에 위치하여 상기 제2 및 제3 히터 유닛으로 대략 원 형상을 만드는 상태의 사이에서 각각 회전가능하고, 상기 회전가능한 범위 내의 원하는 고정 위치에서 상기 두발의 좌우 측면에 대하여 각각 열을 조사하는 두발 처리 촉진기.
  5. 제4항에 있어서,
    상기 제2 및 제3 히터 유닛은,
    상기 제2 및 제3 히터 유닛이 상기 제1 히터 유닛에 대하여 대략 45도를 이루는 면 내에 있는 상태로부터, 상기 제2 및 제3 히터 유닛이 상기 제1 히터 유닛이 위치하는 면과 평행하고 서로 평행한 평면 상에 위치하는 상태로 회전하여 수납 상태가 될 수 있는 두발 처리 촉진기.
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