KR20010085989A - 변위 장치 - Google Patents

변위 장치 Download PDF

Info

Publication number
KR20010085989A
KR20010085989A KR1020017005525A KR20017005525A KR20010085989A KR 20010085989 A KR20010085989 A KR 20010085989A KR 1020017005525 A KR1020017005525 A KR 1020017005525A KR 20017005525 A KR20017005525 A KR 20017005525A KR 20010085989 A KR20010085989 A KR 20010085989A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
magnets
type
magnet
type magnet
displacement device
Prior art date
Application number
KR1020017005525A
Other languages
English (en)
Other versions
KR100673804B1 (ko
Inventor
프리센페트러스씨.엠.
컴프터조한씨.
페이즈넨버그안토니우스티.에이.
루프스트라에릭알.
Original Assignee
에이에스엠 리소그라피 비.브이.
요트.게.아. 롤페즈
코닌클리케 필립스 일렉트로닉스 엔.브이.
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 에이에스엠 리소그라피 비.브이., 요트.게.아. 롤페즈, 코닌클리케 필립스 일렉트로닉스 엔.브이. filed Critical 에이에스엠 리소그라피 비.브이.
Publication of KR20010085989A publication Critical patent/KR20010085989A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR100673804B1 publication Critical patent/KR100673804B1/ko

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01BMEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B7/00Measuring arrangements characterised by the use of electric or magnetic techniques
    • G01B7/004Measuring arrangements characterised by the use of electric or magnetic techniques for measuring coordinates of points
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70691Handling of masks or workpieces
    • G03F7/70758Drive means, e.g. actuators, motors for long- or short-stroke modules or fine or coarse driving
    • HELECTRICITY
    • H02GENERATION; CONVERSION OR DISTRIBUTION OF ELECTRIC POWER
    • H02KDYNAMO-ELECTRIC MACHINES
    • H02K41/00Propulsion systems in which a rigid body is moved along a path due to dynamo-electric interaction between the body and a magnetic field travelling along the path
    • H02K41/02Linear motors; Sectional motors
    • H02K41/03Synchronous motors; Motors moving step by step; Reluctance motors
    • H02K41/031Synchronous motors; Motors moving step by step; Reluctance motors of the permanent magnet type
    • HELECTRICITY
    • H02GENERATION; CONVERSION OR DISTRIBUTION OF ELECTRIC POWER
    • H02KDYNAMO-ELECTRIC MACHINES
    • H02K2201/00Specific aspects not provided for in the other groups of this subclass relating to the magnetic circuits
    • H02K2201/18Machines moving with multiple degrees of freedom
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S414/00Material or article handling
    • Y10S414/135Associated with semiconductor wafer handling

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Combustion & Propulsion (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Linear Motors (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Reciprocating, Oscillating Or Vibrating Motors (AREA)
  • Details Of Measuring And Other Instruments (AREA)

Abstract

위치 장치는 X 방향 및 Y 방향으로 제 2 부분(2)에 대해 상대적으로 이동가능한 제 1 부분을 포함하고, 상기 제 1 부분(1)은 자석들의 시스템(3)이 각각 X 방향 및 Y 방향에 대해 평행하게 연장하는 열(7)들 및 행(8)들의 패턴을 따라 정렬되는 캐리어(5)를 포함한다. 각 열 및 행에서 자석들은 핼배크 배열을 따라 정렬되는데 즉, 각 열(7) 및 각 행(8)에서 연속적인 자석들의 자기 방향이 시계 방향으로 90°회전한다. 제 2 부분(2)은 +45°의 차감된(offect) 각도를 갖는 하나의 타입 및 X 방향에 대해 -45°차감을 갖는 상이한 타입인 두 가지 타입의 전기 코일들(C1,C2)을 갖는 전기 코일 시스템(4)을 포함한다. 자석 구성은 매우 장한 자계를 일의킨다.

Description

변위 장치{Displacement device}
이러한 변위 장치는 US 제5,886,432호에 개시되어 있으며, 특히 집적회로들을 제조하기 위한 웨이퍼 스테퍼(stepper)에 이용될 수 있다. 본 장치는 X 및 Y 방향에서 매우 정확하고 빠른 변위가 이루어지게 한다. 또한, X 및 Y 방향에 대해 수직으로 Z 방향에서 작은 변위들이 또한 가능하다. 변위는 위상 및 코일을 통하는 전류의 크기에 의존한다. 자석의 시스템에서, 소위 할배크(Halbach) 자석의 구성이 이용된다. 이 구성에서, 일련의 자석들의 자성들은 병렬된 자석 쌍의 각 자석의 자화 방향이 다른 자석에 대해 90°까지 회전되도록 자화된다. 이러한 자석 구성을 사용함으로써 서로에 대해 코일들 측 상에 보다 강한 자계를 유도하여 서로에 대한 부분들을 변위하기 위한 보다 큰 힘을 유도한다. US 제 5,886,432에서, 할배크 원리에 따른 많은 인접한 자석들의 행(column)들이 이용된다. 자석들의 행들 간의 거리는 자석의 폭과 같다. 결국, 행들 간에 공기가 있다.
본 발명은 수직으로 적어도 X 방향 및 Y 방향에서 서로에 대해 변위될 수 있는 제 1 부분(1) 및 제 2 부분(2)을 포함하는 변위 장치에 관한 것으로, 제 1 부분(1)은, X 방향 및 Y 방향에 대해 실질적으로 평행하게 연장하며, 자석들의 시스템(3)이 X 방향에 대해 평행하게 연장하는 열(7)들의 패턴과 Y 방향에 대해 평행하게 연장하는 행(8)들의 패턴 및 열들 사이 및 행들 사이에 제공되는 같은 거리에 따라 확보되고, 캐리어(5)에 대해 직각으로 연장하고 제 2 부분(2)을 향하는 자화 방향을 갖는 제 1 타입 자석(N)들 및 캐리어(5)에 대해 직각으로 연장하고 제 2 부분(2)으로부터 멀어지는 자화 방향을 갖는 제 2 타입 자석(Z)들이 각각의 열(7) 및 각각의 행(8)에서 교대로 정렬되며, 제 3 타입 자석(H)이 병렬된 상기 제 1 타입 자석(N) 및 제 2 자석 타입 자석(Z)의 각 쌍 사이의 각각의 행(7)에 정렬되며, 여기서 제 3 타입 자석이 Y 방향에 대해 평행하게 연장하고 제 1 타입 자석(N)을 향하는 자화 방향을 갖는, 캐리어(5)를 포함하는 반면, 제 2 부분(2)에는, 자석들의 시스템의 자계 내에 위치되고 실질적으로 X 방향으로 45°의 각도를 갖는 전류 도전체(9)들을 갖는 적어도 하나의 제 1 타입의 전기 코일(C1) 및 자석들의 시스템의 자계 내에 또한 위치되고 실질적으로 X 방향으로 45°의 각도를 갖는 전류도전체(10)들을 갖는 적어도 하나의 제 2 타입의 전기 코일(C2)을 포함하는 전기 코일 시스템(4)이 제공되고, 전류 도전체들은 제 1 전기 코일(C1)의 전류 도전체(9)들에 수직으로 연장한다.
도 1은 자석들의 시스템 및 전기 코일 시스템을 포함하는 변위 장치의 도식적인 평면도.
도 2는 도 1의 상세한 평면도.
도 3은 도 1에 도시된 변위 장치의 단면도.
도 4는 구성성분 배치 기기에서 도 1의 변위 장치의 응용 예를 도시하는 도면.
도 5는 집적회로들의 리소그래피 제조를 위한 웨이퍼 스테퍼에서 도 1에 도시된 변위 장치의 응용 예를 도시하는 도면.
본 발명의 목적은 자석들의 시스템을 최적화함으로써 제 1 문단에 따른 변위 장치를 향상시키는 것이다.
이를 달성하기 위해, 본 발명에 따른 변위 장치는 제 1 부분의 자석들의 각열에서 제 3 타입 자석이 또한 제 1 및 제 2 타입의 병렬된 자석들의 각 쌍 사이에 정렬되고, 제 3 타입 자석이 X 방향으로 평행하게 연장하는 자화 방향을 가지며 제 1 타입 자석 쪽을 향하는 것을 특징으로 한다.
이러한 자석들의 구성은 본 발명에 따라 자석들의 행들 간의 공간이 보다 효과적인 자석들의 구성을 하는 임의의 패턴에 따라 정렬되므로, 미국 제 5,886,432호에 따른 자석들의 시스템을 이용하여 얻어진 자계에 비해, 표면적당 더욱 큰 자계를 유도한다. 실제로, 자석들의 할배크 구성은 이제 X 방향 및 Y 방향의 두 방향에서 얻어진다.
변위 장치의 향상은 제 1 및 제 2 타입 자석들이 측면들을 갖는 이상적인 정사각형 모양을 가지며, 제 3 타입 자석들이 측면들을 갖는 직사각형이라는 점에서 달성되며, 따라서, 제 3 타입 자석들의 가장 긴 측면들은 제 1 및 제 2 타입 자석의 측면들 상에 접하고 제 1 및 제 2 타입 자석의 측면들의 길이와 동일하며, 제 3 타입 자석의 가장 짧은 측면의 치수 대 가장 긴 측면의 치수의 비는 0.25와 0.5 사이의 범위이다. 이 자석들의 구성은 더욱 강한 자계를 일으킨다.
부분들이 전류의 정류(commutation), 즉 전류 도전체에서 위치의존(place-dependent) 전류를 이용하는 코일들을 통과하는 전류를 적절히 유도함으로써 서로에 대해 변위될 때, 이동가능 부분은 X-Y 평면에서 진동하는 움직임을 한다고 알려져 있다. 비록 진동이 매우 작다고는 하지만, 이것은 변위 장치가 의도되는 웨이퍼 스테퍼와 같은 응용에서와 높은 정밀도가 요구되는 구성성분(component) 배치(placement) 기기에서 장애가 될 수 있다. 이는 전류 도전체 위로 자계의 분포가 코일의 변위 동안 바뀌어 전류 도전체 및 제 2 부분 상에 작용된 가변 토크를 얻는다는 사실에 의해 일어난다. 이 진동하는 움직임들은 본 발명에 따른 변위 장치에 사용된 전기 코일이 n 위상 전류 시스템(여기서, n≥2)에 의해 각각 제공되는 각 타입에 대한 두 세트의 코일들을 포함한다는 점에서 감소될 수 있는데, 유효 자계에 놓여진 전류 도전체들의 길이 방향을 보면, 코일들의 한 세트는 자석들의 극(pole) 간격(pitch)의 절반과 같은 거리를 넘어 코일들의 다른 세트로 이동하며, 여기서 자석들의 극 간격은 동일 타입의 자석들, 즉 N 및 Z의 중앙 지점들이 위치되는 두 개의 인접한 대각선들 간의 거리로서 정의된다. 이에 대한 예는 코일에서 로렌츠(Lorentz) 힘들의 합이 최소 토크만을 일으킨다는 것이다.
전류 도전체가 유효 자계 내에 위치하게되는 코일들의 전류 도전체들의 길이가 대략 자석들의 극 간격의 k 배와 같다면 더 이로우며, 여기서 k는 2, 4, 6,...., 이고 자석들의 극 간격은 동일 타입 자석들의 중앙 지점들이 위치되는 두 개의 인접한 대각선들 간의 거리로서 정의된다. 전류 도전체들의 길이 방향에서의 움직임은 자계의 합이 실질적으로 일정하게 되도록 하여, 그 결과 세기(strength)의 변동들이 감소한다.
본 발명의 여러 특성들이 아래에 상술된 실시예를 참조하여 설명된다.
도 1은 자석들의 시스템(3)에 의해 형성된 제 1 부분(1) 및 전기 코일 시스템(4)에 의해 형성된 제 2 부분(2)을 포함하는 변위 장치를 도식적으로 도시한다. 자석들은 캐리어(5) 위에 고정되고 코일 시스템은 코일 블록(6) 위에 고정된다. 제 1 부분 및 제 2 부분은 서로에 대해 움직일 수 있다. 일반적으로, 정지 부분은 자석들을 갖는 캐리어(5)에 의해 형성되고, 움직일 수 있는 부분은 코일 블록(6)에 의해 형성된다.
자석들은 아래에 상술된 방식으로 캐리어(5) 상에 정렬되는데, 즉 자석들은 X 방향으로 평행하게 연장하는 열(7)들의 패턴 및 Y 방향으로 평행하게 연장하는 행(8)들의 패턴으로 정렬되면, 이 열들간의 공간 및 행들간의 공간은 동일하다. 각각의 열(7) 및 각각의 행(8)에서, 제 1 타입 자석(N) 및 제 2 타입 자석(Z)이 교대로 정렬된다. 제 1 타입 자석(N)들은 캐리어에 대해 직각으로 연장하고 전기 코일 시스템을 갖는 제 2 부분 쪽을 향하는 자화 방향을 갖는 반면, 제 2 타입 자석들(Z)은 캐리어에 대해 직각으로 연장하고 전기 코일 시스템을 갖는 제 2 부분으로부터 멀어지는 자화 방향을 갖는다. 각각의 열 및 각각의 행에서, 제 3 타입자석(H)은 제 1 타입 자석(N) 및 제 2 타입 자석(Z)의 각 쌍 사이에 정렬된다. 행(8)들 사이에 위치되는 제 3 타입 자석(H)들의 자화 방향은 Y 방향에 평행하게 연장하고 인접한 제 1 타입 자석(N)을 향하는 반면, 열(7)들 사이에 위치되는 제 3 타입 자석(H)들의 자화 방향은 X 방향에 평행하게 연장하고 인접한 제 1 타입 자석을 향한다. 상이한 타입의 자석들(N, Z, H)은 화살표로 나타내어진다. 전기 코일 시스템(4)에는 자석들의 유효 자계에 위치되는 전류 도전체(9)들이 X 방향에 대해 45°의 각도를 갖는 제 1 타입(C1) 중 적어도 하나의 코일이 제공되며, 상기 전기 코일 시스템에는 또한 자석들의 유효 자계에 위치되고 X 방향에 대해 45°의 각도를 포함하며 제 1 타입의 코일(C1)의 전류 도전체(9)들에 대해 직각으로 연장하는 전류 도전체(10)들을 갖는 제 2 타입의 코일(C2) 중 적어도 하나가 제공된다. 표현 "유효 자계에서의 전류 도전체들"은 코일의 그 부분, 즉 일반적으로 전류 도전체들의 가지(branch)가 자석들의 자계 내에 위치되고, 유효 로렌츠 힘이 코일의 움직임을 일으키는 상기 부분 상에 작용된다는 의미로 취해진 것이다.
코일들이 자석들의 시스템에서 움직이는 방식은 도 2를 참조로 아래에서 상술된다. 참조 번호들(91, 92, 101, 102)은 각각 자석들의 자계에 제공되는 코일(C1및 C2)들의 전류 도전체들을 나타낸다. 전류 도전체(91)는 주로 문자 N으로 지시된 자석들의 자계에 위치된다. 이들 자석(N)들의 자화 방향은 위를 향하는, 즉 자석들의 시스템에 대해 직각을 가리키고, 전류 도전체(91)를 향하는 화살표로서 나타내어진다. 자계 방향은 화살표(B1)로서 나타내어진다. 전기 전류가 화살표(I1)로 나타낸 방향으로 전류 도전체(91)를 통해 흐를 때, 힘(F1)은 관련 화살표로 나타낸 방향으로 전류 도전체 상에 작용하고, 그 결과 전류 도전체는 화살표(F1) 방향으로 움직이기 시작할 것이다. 전류 도전체(92)는 참조번호 Z인 자석들의 자계에 주로 위치된다. 이들 자석(Z)들의 자화 방향은 자석들의 아래쪽, 즉 시스템에 대해 직각을 가리키고 전류 도전체(92)로부터 멀어지는 화살표(B2)로서 나타내어진다. 전기 전류가 화살표(I2)를 따라 전류 도전체(92)를 통해 흐를 때, 즉, 전류(I1)에 대해 반대 방향으로 흐를 때, 관련 화살표에 의해 지시된 방향의 힘(F2)은 전류 도전체(92) 상에 작용하고, 그 결과 전류 도전체(92)가 화살표에 의해 지시된 방향 즉, 화살표(F1)와 동일한 방향으로 움지이기 시작할 것이다. 동일한 방식으로, 전류 도전체들(91및 92)에 대해 직각으로 정렬되는 전류 도전체(101및 102)는 화살표(I3및 I4)에 따른 전류에서 자석들(N 및 Z)의 자계의 영향하에서 화살표(F3및 F4)에 의해 지시된 방향으로 연장하는 힘을 받는다. 물론 전류 도전체들에서 전류가 역전되면, 전류 도전체 상에 힘이 작용하고, 전류 도전체의 움직임은 또한 역전된다. 도 3에서, 힘들의 이 내부작용이 또한 도시된다.
전류 도전체(9, 10)의 부분들(11)은 또한 제 3 타입 자석(H)들 위 및 /또는 자석들이 존재하지 않는 부분들 위에 즉, 제 1 타입 자석(N)들 및 제 2 타입자석(Z)들 사이에(도 2의 왼쪽 아래를 보라) 존재한다. 전류 도전체들의 이들 부분들은 평균 방향이 X-Y 평면에 대해 실질적으로 평행하게 연장하는 자계(B) 내에 위치된다. 전류(I)가 이 전류 도전체를 통해 흐를 때, 전류 도전체의 상술한 부분들은 X-Y 평면에 대해 직각인 방향 즉, Z 방향의 힘(F)이 작용한다. 자석들에 대한 전류 도전체의 위치 및 전류의 방향에 의존하여, 힘이 자석들을 향하거나 자석으로부터 멀어지게 된다. 힘이 자석으로부터 멀어지는 방향이면, 이때 이 힘은 공중부양(levitation) 힘(F1) 즉, 전류 도전체가 자석들로부터 멀어지게 하는 힘으로서 언급된다. 이러한 힘은 코일 및 자석들 간에 움직임관계를 제공하기 위해 사용될 수 있다.
제 1 타입 자석(N) 및 제 2 타입 자석(Z)은 정사각형 모양이다. 제 3 타입 자석(H)은 직사각형이고 자석(H)의 가장 긴 측면(12)들이 자석(N) 및 자석(Z)의 측면(13)들 상에 접하며, 가장 짧은 측면(14)의 치수 및 가장긴 측면(12)의 치수 사이의 비는 0.25 및 0.50 사이의 범위에 놓이도록 치수가 정해진다. 이는 최적의 분석으로 밝혀진 것으로서 자석 시스템의 단위 면적당 자계의 가장 큰 세기의 결과이다.
도 3은 세 개의 코일들 중 두 세트들 즉, 전류 도전체들(91a, 91b, 91c)과 복귀 전류 도전체들(92a, 92b, 92c)을 갖는 제 1 세트(C11) 및 전류 도전체(93a, 93b, 93c) 및 복귀 전류 도전체(94a, 94b, 94c)를 갖는 제 2 세트(C21)를 도시한다. 두 코일들의 세트들 모두는 3 상 전류 시스템에 의해 제공된다. 전류 도전체들의 길이 방향으로 보면, 세 개의 전류 도전체들의 제 1 세트(C11)는 3개의 전류 도전체들의 제 2 세트(C21)에 대해 대략 자석들의 극 간격(16)의 절반인 거리(15)를 넘어 이동한다. 자석들의 극 간격(16)은 각각 동일 타입 자석들(N 및 Z)의 중앙 지점들(17 및 18)이 위치되는 두 개의 인접한 대각선들간의 거리를 의미하는 것으로서 취해진다. 이러한 조치가 취해지지 않으면, 가변 토크가 변위 동안 전류 운반 코일들의 두 세트 모두에 작용하여, 토크는 정지 부분에 대한 Z 축 주변의 움직이는 부분(코일 블록 또는 자석들을 갖는 캐리어)의 일종의 진동하는 움직임을 일으킨다. 서로에 대해 코일 세트들의 변위에 의해, 이 진동의 영향은 다른 세트의 토크에 대해 보상하는 코일들의 두 세트들 중 한 세트에서 토크가 발현하기 때문에 실질적으로 감소된다.
전류 도전체들의 길이(19)는 대략 자석들의 극 간격(16)의 k 배와 같도록 선택되며, k는 2의 배수이다. 결과적으로, 길이 방향으로 전류 도전체가 움직일 때, 자계의 합은 대략 상수가 된다. 이는 전류 도전체 상에 작용된 힘의 영향이 보다 작아지게 한다. 이 응용은 코일들 및 위상들에 의존하지 않는다.
도 4는 구성성분 배치 기기에서 변위 장치의 응용 예를 도시한다. 정지 부분(1)은 자석들의 시스템(3)이 정렬되고, 기기 프레임(20)에 단단하게 부착되는 캐리어(5)에 의해 형성된다. 자석들은 아래쪽으로 즉, 인쇄된 회로 기판(21) 방향으로 향해진다. 자석들의 바로 아래, 코일 시스템이 제공되는 코일 블록(6)을 갖는 움직일 수 있는 부분(2)이 있다. 배치 헤드(23)는 움직일 수 있는 부분(2)에 부착된다. 배치 헤드에는 예를 들어, 구성성분들이 피더(feeder)(도시되지 않음)로부터 집어 올려지고 그후에 인쇄된 회로 기판 상에 위치됨으로써 그리핑(griping) 요소 또는 흡입 피펫(suction pipette)(24)이 제공된다. 배치 헤드에는 Z 방향의 움직임 및 Z 축(φ 움직임)에 대한 회전을 일으키기 위해 개별 모터(25)가 부가적으로 제공될 수 있다. 전류가 적절하게 방향을 바꾸면, 배치 헤드는 X-Y 평면에서 임의의 요구된 위치에 도달할 수 있고, 그래서 인쇄된 회로 기판 상의 요구된 위치에 구성성분을 놓이게 할 수 있다. 철 플래이트(iron plate)(26)는 또한 코일 블록(6)에 자석들 방향의 힘이 작용된 결과로서 코일(6)에 부착된다. 코일을 통해 전류가 흐를 때, 공중부양 힘은 철 플래이트 및 코일 블록 상의 자석들에 의해 작용된 인력에 대해 보상하도록 한다. 결국, 코일을 통해 전류가 흐르지 않으면, 공중부양 힘을 작용하지 않고, 코일 블록은 자석에 대해 끌어당겨져서, 배치 헤드가 자동으로 부착된다. 결과적으로, 배치 헤드의 개별 움직임관계 및 부착은 필요치 않다.
도 5는 집적회로들의 리소그래피 제조를 위해 웨이퍼 스테퍼에서 변위 장치의 응용 예를 도시한다. 웨이퍼 스테퍼는 변위 장치(31)를 지지하는 프레임(30), 초점 장치(32), 마스크 홀더(33) 및 방사원(radiation source)(34)을 포함한다. 방사원(34)에는 광원(35)이 제공된다. 마스크 홀더(33) 상에 마스크(36)가 위치될 수 있고, 여기에는 집적 반도체 회로의 패턴이 제공된다. 초점 장치에는 광학 축(38)을 갖는 광학 렌즈 시스템(37)이 제공된다. 식별 장치(39)는 또한 프레임(30)에 부착된다. 변위 장치(31)는 자석들의 시스템(4)이 제공되는 캐리어(5)를 포함한다. 캐리어(5)는 프레임(30)에 부착된다. 변위 장치는 또한 각각의 반도체 기판(42 및43)들이 각각 위치될 수 있는 각각의 기판 홀더(40 및 41)를 갖는 제 1 및 제 2 코일 블록(6a 및 6b)을 각각 포함한다. 기판 홀더들을 갖는 코일 블록들은 독립적으로 자석들의 시스템을 넘어 X-Y 평면 내의 임의 위치로 전달될 수 있다. 이는 부하 및 무부하 위치(도시되지 않음)로부터 기판 홀더를 움직이고 부하 및 무부하 위치에 기판 홀더를 움직이는 것과 같이 동작은 이점을 가지며, 식별 위치(식별 장치(39) 아래) 및 조명 위치(초점 장치(32) 아래)는 동시에 그리고 완전히 독립적으로 실행될 수 있어, 보다 큰 출력이 얻어진다. 또한 이 구성에서, 공중부양 힘은 기판 홀더가 자석 표면에 대해 지지된 움직임관계가 되도록 할 수 있다.

Claims (6)

  1. 적어도 수직으로 X 방향 및 Y 방향에서 서로에 대해 변위될 수 있는 제 1 부분(1) 및 제 2 부분(2)을 포함하며, 상기 제 1 부분(1)은, X 방향에 대해 실질적으로 평행하게 연장하며, 열(7)들의 패턴이 X 방향에 대해 평행하게 연장하고 행(8)들의 패턴이 Y 방향에 대해 평행하게 연장하며, 같은 거리가 상기 열 사이 및 행들 사이에 제공되며, 상기 캐리어(5)에 대해 직각으로 연장하고 상기 제 2 부분(2)을 향하는 자화 방향을 갖는 제 1 타입 자석(N)들 및 캐리어(5)에 대해 직각으로 연장하고 상기 제 2 부분(2)으로부터 멀어지는 자화 방향을 갖는 제 2 타입 자석(Z)들이 각각의 열(7) 및 각각의 행(8)에서 교대로 정렬되며, 제 3 타입 자석(H)이 병렬된 상기 제 1 타입 자석(N) 및 제 2 자석 타입 자석(Z)의 각 쌍 사이의 각각의 행(7)에 정렬되며, 여기서 제 3 타입 자석이 Y 방향에 대해 평행하게 연장하고 상기 제 1 타입 자석(N)을 향하는 자화 방향을 갖는, 캐리어(5)를 포함하는 반면, 상기 제 2 부분(2)에는 자석들의 시스템의 자계 내에 위치되고 실질적으로 X 방향으로 45°의 각도를 갖는 전류 도전체(9)들을 갖는 적어도 하나의 제 1 타입의 전기 코일(C1) 및 자석들의 시스템의 자계 내에 또한 위치되고 실질적으로 X 방향으로 45°의 각도를 갖는 전류 도전체(10)들을 갖는 적어도 하나의 제 2 타입의 전기 코일(C2)을 포함하는 전기 코일 시스템(4)이 제공되고, 상기 전류 도전체들은 상기 제 1 전기 코일(C1)의 전류 도전체(9)들에 수직으로 연장하는 변위 장치에 있어서,
    상기 제 1 부분(1)의 자석들의 각 열(7)에서, 또한 제 3 타입 자석(H)이 병렬된 상기 제 1 타입 자석(N) 및 제 2 타입 자석(Z)의 각 쌍 사이에 정렬되고, 상기 제 3 타입 자석은 상기 X 방향에 대해 평행하게 연장하고 상기 제 1 타입 자석(N)을 향하는 자화 방향을 갖는 것을 특징으로 하는, 변위 장치.
  2. 제 1항에 있어서, 상기 제 1 타입 자석(N) 및 제 2 타입 자석(Z)은 측면들(13)을 갖는 이상적인 정사각형 모양을 갖고, 상기 제 3 타입 자석(H)들은 측면들(12, 14)을 갖는 직사각형 모양이고, 상기 제 3 타입의 자석(H)의 가장 긴 측면들(12)이 상기 제 1 타입 자석(N) 및 제 2 타입 자석(Z)의 측면들(13) 상에 접하고 상기 제 1 타입 자석 및 제 2 타입 자석의 측면들(13)과 거의 같은 길이이며, 상기 제 3 타입 자석(H)의 가장 짧은 측면(14)의 치수 대 가장 긴 측면(12)의 치수의 비는 0.25 및 0.5 사이의 범위인 것을 특징으로 하는, 변위 장치.
  3. 제 1 항 또는 제 2항에 있어서, 각각의 전기 코일(C1, C2)은 n 위상 전류 시스템에 의해 각각이 제공된 두 세트들(C11, C12)을 포함하며, 여기서 n≥2 이고, 유효 자계 내에 위치된 상기 전류 도전체(91a-94c)의 길이 방향으로 보면, 코일들의 한 세트는 상기 자석들의 극 간격의 절반과 거의 같은 거리를 넘어 코일들의 다른 세트(C12)에 대해 이동되고, 상기 자석들의 상기 극 간격은 두 개의 인접한 대각선들 간의 거리가 동일한 타입 자석들(N 및 Z)의 각 중앙 지점들(17 및 18)이 위치되는것으로서 정의되는 것을 특징으로 하는, 변위 장치.
  4. 제 1항 내지 제 3항 중 어느 한 항에 있어서, 전류 도전체들이 상기 유효 자계 내에 위치되는 상기 코일들의 상기 전류 도전체들(9, 10)의 길이(19)는 상기 자석들의 상기 극 간격(16)의 k배와 거의 같고, 여기서 k는 2, 4, 6,...,이고 상기 자석들의 상기 극 간격(16)은 두 인접한 대각선들 간의 거리가 동일한 타입의 자석들(N 및 Z)의 각 중앙 지점들(17 및 18)이 위치되는 것으로서 정의되는 것을 특징으로 하는, 변위 장치.
  5. 인쇄된 회로 기판(21) 상에 구성성분들(22)을 배치하기 위한 배치 헤드(23) 및 기기 프레임(20)을 포함하는 구성요소 배치 기기로서, 배치 헤드는 청구항 제 1 항 내지 제 4항 중 어느 한 항에서 청구된 바와 같이 변위 장치에 의해 변위될 수 있고, 상기 변위 장치의 정지 부분(1)은 상기 기기 프레임(20)에 확보되는 반면, 상기 배치 헤드는 상기 변위 장치의 움직일 수 있는 부분(2)에 확보되는, 구성요소 배치 기기.
  6. 프레임(30), 방사원(radiation source)(34), 마스크 홀더(mask holder)(33) 및 기판 홀더(40, 41)를 포함하는 반도체 기판(42, 43) 상의 집적회로들의 제조용 리소그래피 장치로서, 마스크 홀더는 청구항 제 1 항 내지 제 4항 중 어느 한 항에 청구된 바와 같이 변위 장치에 의해 변위 될 수 있고, 상기 변위 장치의 정지 부분의 상기 캐리어(5)는 상기 프레임(30)에 확보되는 반면, 상기 기판 홀더(40, 41)는 코일 블록(6a, 6b)을 갖는 상기 움직일 수 있는 부분에 확보되는, 리소그래피 장치.
KR1020017005525A 1999-09-02 2000-08-15 변위 장치 KR100673804B1 (ko)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
EP99202847.2 1999-09-02
EP99202847 1999-09-02

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20010085989A true KR20010085989A (ko) 2001-09-07
KR100673804B1 KR100673804B1 (ko) 2007-01-25

Family

ID=8240599

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020017005525A KR100673804B1 (ko) 1999-09-02 2000-08-15 변위 장치

Country Status (7)

Country Link
US (2) US6531793B1 (ko)
EP (1) EP1135846B1 (ko)
JP (1) JP4562336B2 (ko)
KR (1) KR100673804B1 (ko)
DE (1) DE60035572T2 (ko)
TW (1) TWI248718B (ko)
WO (1) WO2001018944A1 (ko)

Families Citing this family (67)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI248718B (en) * 1999-09-02 2006-02-01 Koninkl Philips Electronics Nv Displacement device
TW498368B (en) * 2000-05-23 2002-08-11 Koninkl Philips Electronics Nv Displacement device
TW591342B (en) 2000-11-30 2004-06-11 Asml Netherlands Bv Lithographic projection apparatus and integrated circuit manufacturing method using a lithographic projection apparatus
EP1286222A1 (en) * 2001-08-22 2003-02-26 ASML Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
KR100548714B1 (ko) 2001-08-22 2006-02-02 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. 리소그래피장치 및 상기 장치용 모터
US6927505B2 (en) 2001-12-19 2005-08-09 Nikon Corporation Following stage planar motor
US20040247787A1 (en) * 2002-04-19 2004-12-09 Mackie Neil M. Effluent pressure control for use in a processing system
JP2004085440A (ja) * 2002-08-28 2004-03-18 Yaskawa Electric Corp Dna自動増幅解析装置
JPWO2004075268A1 (ja) * 2003-02-19 2006-06-01 株式会社ニコン 移動方法、露光方法及び露光装置、並びにデバイス製造方法
JP2005253179A (ja) * 2004-03-03 2005-09-15 Canon Inc 位置決め装置、露光装置およびデバイス製造方法
US7534395B2 (en) * 2004-04-27 2009-05-19 Beckman Coulter, Inc. Hysteresis compensation system
US7368838B2 (en) * 2004-11-02 2008-05-06 Nikon Corporation High efficiency voice coil motor
KR20070099609A (ko) * 2005-01-17 2007-10-09 코닌클리케 필립스 일렉트로닉스 엔.브이. 이동 디바이스
US7459808B2 (en) * 2005-11-15 2008-12-02 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and motor
US7541699B2 (en) * 2005-12-27 2009-06-02 Asml Netherlands B.V. Magnet assembly, linear actuator, planar motor and lithographic apparatus
US7675201B2 (en) * 2006-07-25 2010-03-09 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus with planar motor driven support
US7592760B2 (en) * 2006-09-11 2009-09-22 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
US7348752B1 (en) * 2006-09-20 2008-03-25 Asml Netherlands B.V. Stage apparatus and lithographic apparatus
US20080148875A1 (en) * 2006-12-20 2008-06-26 Asml Netherlands B.V. Inspection method and apparatus, lithographic apparatus, lithographic processing cell and device manufacturing method
US20080252151A1 (en) * 2007-04-03 2008-10-16 Nikon Corporation Two degree of freedom movers with overlapping coils
DE102007024602A1 (de) 2007-05-25 2008-11-27 Etel S.A. Planarmotor
US8823294B2 (en) 2007-06-27 2014-09-02 Brooks Automation, Inc. Commutation of an electromagnetic propulsion and guidance system
KR101496654B1 (ko) 2007-06-27 2015-02-27 브룩스 오토메이션 인코퍼레이티드 리프트 능력 및 감소된 코깅 특성들을 가지는 전동기 고정자
CN101790673B (zh) 2007-06-27 2013-08-28 布鲁克斯自动化公司 用于自轴承电机的位置反馈
US8283813B2 (en) 2007-06-27 2012-10-09 Brooks Automation, Inc. Robot drive with magnetic spindle bearings
CN102007366B (zh) 2007-06-27 2014-06-18 布鲁克斯自动化公司 多维位置传感器
US9752615B2 (en) * 2007-06-27 2017-09-05 Brooks Automation, Inc. Reduced-complexity self-bearing brushless DC motor
EP2165405A2 (en) 2007-07-02 2010-03-24 ETH Zürich Wireless resonant magnetic actuation for untethered microrobots
KR20100056468A (ko) 2007-07-17 2010-05-27 브룩스 오토메이션 인코퍼레이티드 챔버 벽들에 일체화된 모터들을 갖는 기판 처리 장치
JP2009136136A (ja) 2007-09-26 2009-06-18 Asml Netherlands Bv 合成キャリヤを有するローレンツアクチュエータを有するリソグラフィ装置
NL1036516A1 (nl) * 2008-03-05 2009-09-08 Asml Netherlands Bv Lithographic apparatus and method.
TWI359344B (en) * 2008-03-25 2012-03-01 Univ Nat Taiwan A six degree of freedom precise positioning system
NL1036860A1 (nl) * 2008-04-23 2009-10-26 Asml Netherlands Bv Lithographic apparatus and device manufacturing method.
US20100090545A1 (en) * 2008-10-09 2010-04-15 Binnard Michael B Planar motor with wedge shaped magnets and diagonal magnetization directions
US8492934B2 (en) * 2009-03-23 2013-07-23 Nikon Corporation Coil variations for an oval coil planar motor
US9048717B2 (en) * 2009-09-16 2015-06-02 Ecoharvester, Inc. Multipolar electromagnetic generator
US8324998B2 (en) * 2009-09-16 2012-12-04 Ecoharvester, Inc. Wireless switch with multipolar electromagnetic generator
US8593016B2 (en) 2010-12-03 2013-11-26 Sri International Levitated micro-manipulator system
US9647523B2 (en) 2010-12-03 2017-05-09 Sri International Levitated-micro manipulator system
NL2008379A (en) * 2011-03-30 2012-10-02 Asml Netherlands Bv Planar motor and lithographic apparatus comprising such planar motor.
US9030057B2 (en) * 2011-06-24 2015-05-12 Nikon Corporation Method and apparatus to allow a plurality of stages to operate in close proximity
KR20140084238A (ko) 2011-10-27 2014-07-04 더 유니버시티 오브 브리티쉬 콜롬비아 변위 장치 및 변위 장치의 제조, 사용 그리고 제어를 위한 방법
WO2013143777A2 (en) 2012-03-27 2013-10-03 Asml Netherlands B.V. Substrate table system, lithographic apparatus and substrate table swapping method
NL2008935C2 (nl) * 2012-06-04 2013-12-05 Mi Partners B V Positioneerinrichting voor een waferchuck.
DE102012014812A1 (de) 2012-07-26 2014-01-30 Etel S.A. Vorrichtung zum Testen von Wafern
ITMI20121546A1 (it) 2012-09-18 2014-03-19 Medacta Int Sa Piano adattatore per tavolo chirurgico, in particolare per operazioni di sostituzione dell¿anca con approccio anteriore
CN103066894B (zh) * 2012-12-12 2015-05-20 清华大学 一种六自由度磁悬浮工件台
EP3014219B1 (en) 2013-08-06 2017-10-11 The University Of British Columbia Displacement devices and methods and apparatus for detecting and estimating motion associated with same
CN105684108A (zh) * 2013-09-04 2016-06-15 Ckd株式会社 电磁致动器用电枢线圈、电磁致动器、曝光装置及器件制造方法
WO2015179962A1 (en) 2014-05-30 2015-12-03 The University Of British Columbia Displacement devices and methods for fabrication, use and control of same
EP3584913B1 (en) 2014-06-07 2023-08-02 The University of British Columbia Systems for controllably moving multiple moveable stages in a displacement device
EP3155712A4 (en) 2014-06-14 2018-02-21 The University Of British Columbia Displacement devices, moveable stages for displacement devices and methods for fabrication, use and control of same
EP2963790B1 (en) 2014-06-30 2019-06-26 Dr. Johannes Heidenhain GmbH XY-Table
EP2963497B1 (en) 2014-06-30 2019-10-16 Dr. Johannes Heidenhain GmbH Drive for an XY-Table and XY-Table
CN105811730B (zh) * 2014-12-30 2018-06-29 上海微电子装备(集团)股份有限公司 一种六自由度直线电机
US10861627B2 (en) 2015-04-20 2020-12-08 Sri International Microrobot and microrobotic train self-assembly with end-effectors
CN107852082B (zh) 2015-07-06 2020-05-26 不列颠哥伦比亚大学 用于在位移装置上可控制地移动一个或多个可移动台的方法和***
US11368060B2 (en) * 2015-07-29 2022-06-21 Chevron U.S.A. Inc. Motors including tessellating semi-Halbach stators
WO2017076561A1 (en) * 2015-11-05 2017-05-11 Asml Netherlands B.V. Magnet array, electric coil device, displacement system, lithographic apparatus and device manufacturing method
WO2017109013A1 (en) * 2015-12-22 2017-06-29 Koninklijke Philips N.V. Method and apparatus for manufacturing 1d and 2d multipole magnet array's
CN113428597B (zh) 2016-10-05 2022-11-15 莱特拉姆有限责任公司 线性电机输送机***
EP3619149A4 (en) 2017-05-02 2021-01-13 Laitram, L.L.C. TRAY CONVEYOR DRIVEN BY A BRUSHLESS DC MOTOR
WO2018236469A1 (en) 2017-06-19 2018-12-27 Laitram, L.L.C. TRANSPORTER MONORAIL WITH TRAYS
CN111051227B (zh) 2017-09-13 2022-08-16 莱特拉姆有限责任公司 带有无源导轨的单轨托盘输送机
CN109991814B (zh) * 2017-12-29 2020-07-21 广东极迅精密仪器有限公司 一种位移装置
US10807803B2 (en) 2018-01-31 2020-10-20 Laitram, L.L.C. Hygienic low-friction magnetic tray and conveyor
US10654660B2 (en) 2018-01-31 2020-05-19 Laitram, L.L.C. Hygienic magnetic tray and conveyor

Family Cites Families (71)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US23927A (en) * 1859-05-10 Photo-litho
US20684A (en) * 1858-06-22 Improvement in sewing-machines
JPS58175020A (ja) 1982-04-05 1983-10-14 Telmec Co Ltd 二次元精密位置決め装置
US4518918A (en) 1982-09-28 1985-05-21 Sprague Electric Company Ferromagnetic article detector with dual Hall-sensors
JPS61109637A (ja) 1984-10-31 1986-05-28 Hitachi Ltd テ−ブル装置
US4647802A (en) 1985-06-13 1987-03-03 Hewlett-Packard Company Variable reluctance motor with reduced torque ripple
JPS61288769A (ja) * 1985-06-13 1986-12-18 Amada Co Ltd 平面形リニア直流モ−タ
US4654571A (en) 1985-09-16 1987-03-31 Hinds Walter E Single plane orthogonally movable drive system
US4949043A (en) 1988-04-18 1990-08-14 Resonance Research Inc. Apparatus for rendering a static magnetic field uniform
US4893071A (en) 1988-05-24 1990-01-09 American Telephone And Telegraph Company, At&T Bell Laboratories Capacitive incremental position measurement and motion control
JP2803221B2 (ja) * 1989-09-19 1998-09-24 松下電器産業株式会社 Ic実装装置及びその方法
US5157296A (en) 1990-12-20 1992-10-20 Massachusetts Institute Of Technology Bearing for use in high resolution precision control device
JP2716884B2 (ja) 1991-07-12 1998-02-18 住友重機械工業株式会社 平面モータ装置
US5196745A (en) 1991-08-16 1993-03-23 Massachusetts Institute Of Technology Magnetic positioning device
JP3216157B2 (ja) 1991-08-29 2001-10-09 松下電器産業株式会社 精密1段6自由度ステージ
US5334892A (en) 1992-12-22 1994-08-02 Anorad Corporation Positioning device for planar positioning
JPH0767284A (ja) 1993-08-27 1995-03-10 Sanyo Electric Co Ltd モータの軸受装置
JP2908249B2 (ja) 1994-08-10 1999-06-21 住友重機械工業株式会社 平面モータ装置
US5631618A (en) 1994-09-30 1997-05-20 Massachusetts Institute Of Technology Magnetic arrays
DE4436865A1 (de) 1994-10-17 1996-08-08 Pasim Mikrosystemtechnik Gmbh Modularer Planarläufer und Verfahren zu seiner Herstellung
US5723917A (en) * 1994-11-30 1998-03-03 Anorad Corporation Flat linear motor
TW318255B (ko) * 1995-05-30 1997-10-21 Philips Electronics Nv
US5925956A (en) 1995-06-30 1999-07-20 Nikon Corporation Stage construction incorporating magnetically levitated movable stage
US5847480A (en) 1995-11-03 1998-12-08 The Regents Of The University Of California Passive magnetic bearing element with minimal power losses
US5699621A (en) 1996-02-21 1997-12-23 Massachusetts Institute Of Technology Positioner with long travel in two dimensions
US5777402A (en) 1996-06-24 1998-07-07 Anorad Corporation Two-axis motor with high density magnetic platen
JPH09308218A (ja) 1996-05-10 1997-11-28 Canon Inc リニアモータ及びこれを用いたステージ装置や露光装置
DE19631106A1 (de) 1996-08-01 1998-02-05 Heinz Peter Brandstetter Statorplatte oder Statorelement
US6066998A (en) 1996-09-12 2000-05-23 Massachusetts Institute Of Technology Magnetic actuator with long travel in one direction
US6222614B1 (en) 1996-12-06 2001-04-24 Nikon Corporation Exposure elements with a cable-relaying support
EP0866375A3 (en) 1997-03-17 2000-05-24 Nikon Corporation Article positioning apparatus and exposing apparatus having the same
FR2761518B1 (fr) 1997-04-01 1999-05-28 Suisse Electronique Microtech Moteur planaire magnetique et micro-actionneur magnetique comportant un tel moteur
US6441514B1 (en) 1997-04-28 2002-08-27 Ultratech Stepper, Inc. Magnetically positioned X-Y stage having six degrees of freedom
US5886432A (en) * 1997-04-28 1999-03-23 Ultratech Stepper, Inc. Magnetically-positioned X-Y stage having six-degrees of freedom
JP3155936B2 (ja) 1997-06-26 2001-04-16 キヤノン株式会社 リニアモータとステージ装置及びこれを用いた走査型露光装置やデバイス製造方法
AU8037098A (en) * 1997-07-18 1999-02-10 Nikon Corporation Exciting unit, linear or planar motor using the unit, stage device using the motor, and aligner using the device
WO1999010970A1 (fr) 1997-08-21 1999-03-04 Nikon Corporation Dispositif de positionnement, unite d'entrainement et aligneur equipe d'un tel dispositif
US6114119A (en) * 1997-08-29 2000-09-05 Wisconsin Alumni Research Foundation Transglutaminase and gene encoding same
JP4164905B2 (ja) 1997-09-25 2008-10-15 株式会社ニコン 電磁力モータ、ステージ装置および露光装置
US6003230A (en) 1997-10-03 1999-12-21 Massachusetts Institute Of Technology Magnetic positioner having a single moving part
JP4042073B2 (ja) 1997-12-26 2008-02-06 株式会社ニコン 平面型モータ、ステージ装置、及び露光装置
TW448488B (en) 1998-03-19 2001-08-01 Nippon Kogaku Kk Planar motor apparatus, base stage apparatus, exposure apparatus as well as its manufacturing method, and the equipment as well as its manufacturing method
AU3168499A (en) 1998-04-10 1999-11-01 Nikon Corporation Linear motor having polygonal coil unit
JP4088728B2 (ja) 1998-07-09 2008-05-21 株式会社ニコン 平面モータ装置、駆動装置及び露光装置
US6252234B1 (en) 1998-08-14 2001-06-26 Nikon Corporation Reaction force isolation system for a planar motor
US6097114A (en) 1998-08-17 2000-08-01 Nikon Corporation Compact planar motor having multiple degrees of freedom
US6215260B1 (en) 1998-08-28 2001-04-10 Northern Magnetics, Inc. Controlling movement of linear induction motor
US6188147B1 (en) 1998-10-02 2001-02-13 Nikon Corporation Wedge and transverse magnet arrays
US6262503B1 (en) 1998-10-15 2001-07-17 Massachusetts Institute Of Technology Method and apparatus for cooling current carrying coil
JP2000138279A (ja) 1998-10-29 2000-05-16 Nikon Corp ステージ装置及び露光装置
US6208045B1 (en) 1998-11-16 2001-03-27 Nikon Corporation Electric motors and positioning devices having moving magnet arrays and six degrees of freedom
US6147421A (en) 1998-11-16 2000-11-14 Nikon Corporation Platform positionable in at least three degrees of freedom by interaction with coils
JP4134406B2 (ja) 1998-12-04 2008-08-20 株式会社ニコン 平面モータ装置及び露光装置
TW439116B (en) 1998-12-16 2001-06-07 Nippon Kogaku Kk Platen motor device and assembly method thereof, platen motor device driving method, stage device and driving method thereof, exposure device and method thereof, and device and production method thereof
US6104108A (en) * 1998-12-22 2000-08-15 Nikon Corporation Wedge magnet array for linear motor
AU2324200A (en) 1999-02-04 2000-08-25 Nikon Corporation Flat motor device and its driving method, stage device and its driving method, exposure apparatus and exposure method, and device and its manufacturing method
US6127749A (en) 1999-02-10 2000-10-03 Nikon Corporation Of Japan Two-dimensional electric motor
US6114781A (en) 1999-02-26 2000-09-05 Nikon Corporation Cooling system for a linear or planar motor
TW466542B (en) 1999-02-26 2001-12-01 Nippon Kogaku Kk A stage device and a method of manufacturing same, a position controlling method, an exposure device and a method of manufacturing same, and a device and a method of manufacturing same
JP4407774B2 (ja) * 1999-04-26 2010-02-03 株式会社ニコン モータ装置及びモータ装置の組み立て方法、並びに露光装置
US6175169B1 (en) 1999-05-03 2001-01-16 Ralph L. Hollis, Jr. Closed-loop planar linear motor with integral monolithic three-degree-of-freedom AC-magnetic position/orientation sensor
US6285097B1 (en) 1999-05-11 2001-09-04 Nikon Corporation Planar electric motor and positioning device having transverse magnets
US6144119A (en) 1999-06-18 2000-11-07 Nikon Corporation Planar electric motor with dual coil and magnet arrays
US6351041B1 (en) 1999-07-29 2002-02-26 Nikon Corporation Stage apparatus and inspection apparatus having stage apparatus
TWI248718B (en) * 1999-09-02 2006-02-01 Koninkl Philips Electronics Nv Displacement device
US6271606B1 (en) 1999-12-23 2001-08-07 Nikon Corporation Driving motors attached to a stage that are magnetically coupled through a chamber
US6313550B1 (en) 2000-02-02 2001-11-06 Nikon Corporation Coil mounting and cooling system for an electric motor
US6316849B1 (en) 2000-02-22 2001-11-13 Paul Konkola Methods and apparatus involving selectively tailored electromagnetic fields
US6437463B1 (en) 2000-04-24 2002-08-20 Nikon Corporation Wafer positioner with planar motor and mag-lev fine stage
US6445093B1 (en) 2000-06-26 2002-09-03 Nikon Corporation Planar motor with linear coil arrays
US6452292B1 (en) 2000-06-26 2002-09-17 Nikon Corporation Planar motor with linear coil arrays

Also Published As

Publication number Publication date
TWI248718B (en) 2006-02-01
EP1135846A1 (en) 2001-09-26
DE60035572D1 (de) 2007-08-30
WO2001018944A1 (en) 2001-03-15
JP4562336B2 (ja) 2010-10-13
DE60035572T2 (de) 2008-04-10
US6531793B1 (en) 2003-03-11
JP2003509992A (ja) 2003-03-11
US20030155821A1 (en) 2003-08-21
EP1135846B1 (en) 2007-07-18
KR100673804B1 (ko) 2007-01-25
US6879063B2 (en) 2005-04-12

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100673804B1 (ko) 변위 장치
US6847134B2 (en) Displacement device
US6445093B1 (en) Planar motor with linear coil arrays
KR20070099609A (ko) 이동 디바이스
US6144119A (en) Planar electric motor with dual coil and magnet arrays
KR20020019953A (ko) 변위 장치
US20020117903A1 (en) Linear motor and stage apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method using the same
US20100090545A1 (en) Planar motor with wedge shaped magnets and diagonal magnetization directions
US6998737B2 (en) Lithographic apparatus and device manufacturing method
KR100573670B1 (ko) 상호 120°각도를 이루는 3개의 코일 시스템을 갖는 위치결정디바이스 및 이러한 위치결정 디바이스를 포함하는 전사 디바이스
US6479991B1 (en) Stage mechanism, exposure apparatus and device manufacturing method in which a coil unit of a driving mechanism is moved substantially in synchronism with a stage
KR100291500B1 (ko) 리니어모우터와 이것을 사용한 스테이지장치 및 노광장치
RU2037944C1 (ru) Линейный двигатель и позицирующее устройство, содержащее по меньшей мере один линейный двигатель
JPH0522924A (ja) 平面モータ装置
KR20090121252A (ko) 펄스 모터, 위치 결정 장치, 노광 장치 및 디바이스 제조 방법
JP2000014119A (ja) リニアモータ
RU2108650C1 (ru) Устройство для стыковки пластин сборных статоров планарных шаговых электродвигателей

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20130114

Year of fee payment: 7

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20140110

Year of fee payment: 8

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20150109

Year of fee payment: 9

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20160108

Year of fee payment: 10

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20170106

Year of fee payment: 11

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20180105

Year of fee payment: 12